KR20220165521A - 전도성 메시 구조체 및 이를 포함하는 안테나 소자 - Google Patents
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Abstract
단위셀들을 포함하며, 단위셀들로부터 얻어진 무게중심 분포의 공간 주파수 스펙트럼에서 적어도 한 쌍의 기대칭인 피크점이 나타나도록 형성되며 반복 단위를 포함하지 않는 전도성 메시 구조체가 개시된다. 전도성 메시 구조체의 사용을 통하여 패턴 및 모아레의 시인이 억제될 수 있다.
Description
본 발명은 전도성 메시 구조체에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 단위셀을 포함하는 전도성 메시 구조체 및 이를 포함하는 안테나 소자에 관한 것이다.
최근, 투명 전극에 대한 수요가 증가하고 있다. 투명 전극은 터치스크린 등에 사용될 수 있다. 투명 전극에 가장 많이 사용되는 소재는 인듐과 주석의 산화물인 ITO(Indium Tin Oxide)이다.
다만, 인듐은 매장량이 적고, 중국 등 일부 국가에서만 생산되므로, ITO를 포함하는 투명 전극은 생산 비용이 높다는 한계점을 갖는다. 또한, ITO를 포함하는 투명 전극은 저항값이 일정하지 않다는 추가적인 단점을 갖고 있다.
ITO를 대체하기 위하여 메탈 메시(Metal Mesh), 나노 와이어(Ag Nanowire), 탄소나노튜브(CNT), 그래핀(Graphene) 등이 활발하게 연구되고 있다. 메탈 메시는 생산 비용이 저렴하고 전기 전도성이 높다는 장점을 가지고 있다. 가령, 특허 문헌 1은 메탈 메시를 이용한 투명 디스플레이를 개시한다.
다만, 불투명한 소재를 사용한 메시는 관측자에 의하여 시인될 수 있으며, 화상을 왜곡할 수 있다는 근본적인 한계점을 가진다.
본 발명의 일 과제는 광학적 특성이 우수한 전도성 메시 구조체를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 과제는 광학적 특성이 우수한 전도성 메시 구조체를 포함하는 방사체를 제공하는 것이다.
1. 다각형 단위셀들을 포함하며, 상기 단위셀들의 무게중심 분포의 푸리에 변환을 통해 획득되는 공간 주파수 스펙트럼에서 적어도 한 쌍 이상의 기대칭인 피크점이 나타나며, 상기 단위셀들 중 적어도 2 이상의 단위셀들이 포함되도록 소정의 사이즈의 영역들이 선택될 때 동일한 패턴 형상이 반복되지 않는 랜덤성을 갖는, 전도성 메시 구조체.
2. 위 1에 있어서, 상기 피크점은 하기 식 1에 의해서 정의되는 상기 공간 주파수 스펙트럼의 영역 내에 존재하는, 전도성 메시 구조체:
[식 1]
(식 1에서, x 및 y는 각각 상기 공간 주파수 스펙트럼 상의 수평축 및 수직축을 의미하며, x, y, a, b의 단위는 각각 CPM(Cyclic Per Millimeter)이고, 1≤a≤47, 1≤b≤47임).
3. 위 2에 있어서, 식 1 중, 1≤a≤32, 1≤b≤32인, 전도성 메시 구조체.
4. 위 3에 있어서, 식 1 중, 5≤a≤32, 5≤b≤32인, 전도성 메시 구조체.
5. 위 1에 있어서, 공간 주파수 스펙트럼의 수직 방향 단면들로부터 획득되는 공간 주파수에 따른 강도 그래프들이 획득되며, 상기 기대칭인 한 쌍의 피크점들을 포함하도록 절단된 제1 강도 그래프에서 상기 피크점들은 특정 문턱 강도(T1) 이상의 강도를 가지며, 상기 피크점들이 포함되지 않도록 절단된 적어도 하나의 제2 강도 그래프에 포함된 피크들은 모두 상기 특정 문턱 강도 미만의 강도를 갖는, 전도성 메시 구조체.
6. 위 5에 있어서, 상기 특정 문턱 강도는 강도 그래프의 평균 강도의 1.10 배 이상인, 전도성 메시 구조체.
7. 위 5에 있어서, 상기 특정 문턱 강도는 130인, 전도성 메시 구조체.
8. 위 5에 있어서, 상기 제1 강도 그래프는 상기 단위셀들의 연결 방향의 추세선을 반영하며, 상기 제2 강도 그래프는 상기 랜덤성을 반영하는, 전도성 메시 구조체.
9. 위 1에 있어서, 상기 단위셀들 중 인접한 두 단위셀들이 공유하는 모서리는 보로노이(Voronoi) 방식에 따라 결정된, 전도성 메시 구조체.
10. 위 1에 따른 전도성 메시 구조체로 형성된 방사체를 포함하는, 안테나 소자.
11. 위 10에 있어서, 상기 방사체 주변에 배열되며 상기 전도성 메시 구조체로 형성된 더미 메시 패턴을 더 포함하는, 안테나 소자.
본 발명의 실시예들에 따르면, 소정의 조건을 만족하는 전도성 메시 구조체는 사용자에게 시인되지 않을 수 있다. 그리하여, 실시예에 따르는 전도성 메시 구조체에 의하여 투과광의 광학적 특성이 훼손되는 것이 억제될 수 있다.
또한, 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 소정의 조건을 만족하는 전도성 메시 구조체는 사용자에게 시인되지 않으며 모아레의 발생이 억제될 수 있다. 그리하여, 실시예에 따르는 전도성 메시 구조체는 투과광의 광학적 특성을 훼손하지 않고, 전도성 메시 구조체를 투과한 광이 간섭 현상 등에 의하여 왜곡되지 않을 수 있다.
또한, 방사체 등은 실시예들에 따른 전도성 메시 구조체를 포함하여 인장 강도 등의 기계적 물성과 전기 전도성이 동시에 향상될 수 있으며, 전도성 메시 구조체는 전도층으로서 기능할 수 있다.
도 1은 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체로부터 얻어진 무게중심 분포의 공간 주파수 스펙트럼을 도시한 것이다.
도 2 및 도 3은 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체로부터 얻어진 공간 주파수 스펙트럼의 강도 그래프다.
도 4는 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체가 구비한 병렬성을 설명하는 개념도이다.
도 5 및 도 6은 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체를 간략화 하여 도시한 것이다.
도 7은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 소자를 나타내는 개략적인 평면도이다.
도 2 및 도 3은 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체로부터 얻어진 공간 주파수 스펙트럼의 강도 그래프다.
도 4는 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체가 구비한 병렬성을 설명하는 개념도이다.
도 5 및 도 6은 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체를 간략화 하여 도시한 것이다.
도 7은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 소자를 나타내는 개략적인 평면도이다.
본 명세서의 기재에 있어서, 용어 '기대칭'은 '우대칭'과 대비되는 개념으로서, 달리 '원점 대칭'으로 이해될 수 있다. 기대칭인 두 점은 원점을 기준으로 하여 각각 동일한 거리에 위치하며, 두 점의 데카르트 좌표는 그 부호만 반대인 것으로 이해될 수 있다.
또한, 본 명세서의 기재에 있어서, 용어 '피크점'은 그 경계가 명확하게 구별되는 점이다. 또한, 상기 경계는 피크점의 중심 및 경계까지의 방향과 무관하게 확인된다. 예를 들어, 일 방향에서는 경계가 확인되나 다른 방향에서는 명확한 경계가 확인되지 않는 점은 피크점의 예시라 할 수 없다.
또한, 본 명세서의 기재에 있어서, 용어 '공간 주파수 스펙트럼'은 전도성 메시 구조체의 무게중심 분포에 대하여 푸리에 변환을 적용하여 얻어지는 스펙트럼을 의미한다. 또한, 푸리에 변환은 패스트 푸리에 변환(Fast-Fourier Transform, FFT)를 포함한다.
또한, 본 명세서의 기재에 있어서, 용어 '공간 주파수(spatial frequency)'는 단위 길이당 화소값이 변화되는 수를 의미한다. 본 명세서의 각 기재에 있어서, 달리 명확하게 표현되지 않는 이상 공간 주파수의 단위는 CPM(Cycles Per Millimeter)이다.
또한, 본 명세서의 각 기재에 있어서, 용어 '강도 그래프'는 공간 주파수 스펙트럼으로부터 얻어지는 그래프로서, 공간 주파수 스펙트럼의 원점을 지나는 직선에 포함된 각 점에서 얻어지는 각 점의 밝기(회도)를 도시한 것이다. 따라서, 강도 그래프의 수평축(x 축)은 공간 주파수로 나타나며, 수직축(y 축)은 회도(gray value)로 나타날 수 있으며, 강도 그래프는 공간 주파수 스펙트럼의 단면도인 것으로 이해될 수 있다. 강도 그래프는 달리 회도 그래프라 칭해질 수 있다.
또한, 본 명세서의 각 기재에 있어서, 용어 '랜덤성'은 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀들 중 적어도 2 이상의 단위셀들이 포함되도록 소정의 영역들이 선택될 때 동일한 패턴의 형상이 반복되지 않는 것을 의미한다. 더욱 구체적으로, 서로 대비되는 소정의 영역에 포함된 단위셀들의 양상이 적어도 하나 이상 상이한 것을 의미한다.
이 때, 용어 '양상(樣相)'은 모서리 및 내각의 연결관계를 의미하고, 양상이 동일하다는 것은 모든 모서리의 상대적인 관계와 모든 내각의 상대적인 관계가 동일하다는 것을 의미한다.
또한, 본 명세서의 각 기재에 있어서, 용어 "연결 방향"은 단위셀들이 배열된 가상의 방향을 의미하며, 특정 방향의 추세선을 상정하였을 때, 상기 추세선을 따라 배열된 단위셀들의 너비가 유사한 것으로 나타나는 가상의 방향이다.
또한, 추세선은 "병렬성"에 기인하는 것으로 이해될 수 있다. 용어 '병렬성'은 둘 이상의 인접한 단위셀의 양상이 동일하지는 않으나, 그 크기가 유사한 단위셀들이 특정 방향(연결 방향)으로 배열되어 있는 것을 의미한다.
또한, 본 명세서의 각 기재에 있어서, 용어 '수렴 경향'은 조작 변수의 값이 증가함에 따라 종속 변수의 값이 임의의 회귀선에 수렴하려는 경향을 설명하기 위하여 사용될 수 있다.
또한, 본 명세서의 각 기재에 있어서, 용어 '필름'은 단일층 또는 다중층을 포함하며 비정형의 판상으로 형성된 기재를 의미한다.
본 발명의 실시예들은 다각형 단위셀들이 집합된 전도성 메시 구조체를 포함하며, 상기 전도성 메시 구조체의 무게 중심 분포의 푸리에 변환을 통해 획득되는 공간 주파수 스펙트럼에서 적어도 한 쌍의 기대칭인 피크점이 나타나는 전도성 메시 구조체를 개시한다.
전도성 메시 구조체는 선재가 연결되어 형성된 단위셀을 포함한다. 또한, 단위셀은 전도성 메시 구조체에 포함되며, 단위셀은 선재에 의하여 경계가 획정되는 다각형을 의미한다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 단위셀들의 무게중심 분포를 촬영한 화상으로부터 얻어진 공간 주파수 스펙트럼에서 적어도 한 쌍이 기대칭인 피크점이 나타나도록 패턴이 형성됨으로써, 패턴의 시인성이 억제될 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 전도성 메시 구조체는 상기 단위셀들 중 적어도 2 이상의 단위셀들이 포함되도록 소정의 사이즈의 영역들이 선택될 때 동일한 패턴 형상이 반복되지 않는 랜덤성을 가짐으로써, 전도성 메시 구조체의 시인이 더욱 억제되고 전도성 메시 구조체에 의한 모아레(Moire)의 발생이 억제될 수 있다.
무게중심 분포의 공간 주파수 스펙트럼을 분석하여 예시적인 실시예들에 따른 전도성 메시 구조체의 전체적인 경향성이 파악될 수 있다. 공간 주파수를 달리하여 전도성 메시 구조체의 무게중심 분포를 조사한 이미지에 푸리에 변환을 적용하여 공간 주파수 스펙트럼을 얻을 수 있다.
공간 주파수 스펙트럼의 수평축 및 수직축의 단위는 각각 공간 주파수이다. 한편, 공간 주파수 스펙트럼 상에 도시된 점의 농담은 특정 공간 주파수에 대한 대비 (contrast) 값을 의미한다.
이하 도면을 참고하여, 본 발명의 실시예들을 보다 구체적으로 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.
도 1은 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀들로부터 얻어진 무게중심 분포의 공간 주파수 스펙트럼을 도시한 것이다. 도 1에 따르면, 공간 주파수 스펙트럼은 등방적이며, 공간 주파수가 커질수록 통상적으로 밝기(강도)가 증가하는 것을 확인할 수 있다.
도 1의 공간 주파수 스펙트럼에 있어서, 수평축 및 수직축의 단위는 각각 CPM이다. 또한, 공간 주파수 스펙트럼의 중심은 공간 주파수의 값이 각각 0일 때를 도시한 것이고, 수평축 및 수직축의 최대값은 각각 62.5 CPM이다.
도 1을 참조하면, 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체로부터 유래된 피크점을 총 3 쌍 확인할 수 있다. 피크점의 인근에서 공간 주파수의 미미한 변화에 따른 농담의 변화가 급격하게 발생하므로, 어느 방향으로 보아도 피크점의 경계선은 뚜렷하게 확인될 수 있다. 또한, 각 쌍의 피크점은 공간 주파수 스펙트럼의 원점을 기준으로 하여 기대칭인 것을 확인할 수 있다.
예시적인 실시예들의 각 전도성 메시 구조체에 있어서, 피크점이 하기 식 1에 의해서 정의되는 공간 주파수 스펙트럼 상의 영역에서 나타나도록 형성된 전도성 메시 구조체가 포함될 수 있다.
[식 1]
식 1에서, x 및 y는 각각 상기 공간 주파수 스펙트럼 상의 수평축 및 수직축을 의미하며, x, y, a, b의 단위는 각각 CPM(Cyclic Per Millimeter)이고, 1≤a≤47, 1≤b≤47이다.
상기 공간 주파수 스펙트럼은 전도성 메시 구조체로부터 100 mm 이격된 거리에서 관측된 것일 수 있다. 또한, 특정 공간 주파수로부터 발생하는 시각적 자극은 대비 감도 함수(Contrast Sensitivity Function, CSF)로 표현될 수 있다.
100 mm 이격된 거리에서 관측이 이루어질 경우, 공간 주파수의 크기가 62.3 CPM을 초과하면, 공간 주파수를 육안으로 구별할 수 없을 정도로 대비 감도 함수의 상용 대수 값이 감소한다. 마찬가지로, 공간 주파수의 크기가 0 CPM에 가까울수록, 공간 주파수를 육안으로 구별할 수 없을 정도로 대비 감도 함수의 상용 대수 값이 감소한다.
반대로, 공간 주파수의 크기가 0.1 내지 60 CPM인 경우, 대비 감도 함수의 상용 대수 값이 소정 이상으로 측정되며 공간 주파수에 의한 시각적 자극이 육안으로 확인될 수 있다. 나아가, 1 내지 10 CPM의 공간 주파수 범위에서 상용 대수 값은 극대값을 가질 수 있다. 따라서, 1 내지 10 CPM 범위에서 공간 주파수가 확인되는 종래의 메시 구조체는 육안으로 쉽사리 시인된다.
반면, 상술한 영역 내에서 기대칭인 피크점이 나타나도록 전도성 메시 구조체가 형성됨으로써, 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀이 소정의 랜덤성을 확보하는 동시에 바람직한 크기로 형성될 수 있다. 그 결과, 전도성 메시 구조체의 시인성이 억제될 수 있으며, 미시인성의 평가 결과가 우수 이상일 수 있다. 그리하여, 상술한 전도성 메시 구조체는 투과광의 광학적 특성을 왜곡하지 않을 수 있다.
또한, 예시적인 실시예들의 각 전도성 메시 구조체에 있어서, 식 1의 a 및 b는 각각 독립적으로 1 내지 32(즉, 1≤a≤32, 1≤b≤32)인 것이 바람직하고, 3 내지 32(즉, 3≤a≤32, 3≤b≤32)인 것이 더욱 바람직하며, 각각 독립적으로 5 내지 32(즉, 5≤a≤32, 5≤b≤32)인 것이 가장 바람직하다.
예시적인 일부 실시예에 따르면, 각각 독립적으로 1 내지 32인 a 및 b에 의하여 결정되는 영역 내에 기대칭인 피크점이 포함되도록 전도성 메시 구조체가 형성됨으로써, 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀이 바람직한 크기로 형성되어 전도성 메시 구조체가 더욱 시인되지 않을 수 있다. 그리하여, 상술한 수치 범위가 만족됨으로써, 전도성 메시 구조체의 시인에 의한 광학적 특성의 왜곡이 더욱 억제될 수 있다.
또한, 예시적인 일부 실시예에 따르면, 각각 독립적으로 5 내지 32인 a 및 b에 의하여 결정되는 영역 내에 기대칭인 피크점이 포함되도록 전도성 메시 구조체가 형성됨으로써, 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀이 바람직한 크기로 형성되어 전도성 메시 구조체가 시인되지 않으면서도, 전도성 메시 구조체의 랜덤성이 충분히 확보되어 전도성 메시 구조체에 의한 모아레의 발생이 더욱 억제될 수 있다. 그리하여, 상술한 전도성 메시 구조체를 포함하는 방사체 등의 광학적 특성은 전도성 메시 구조체에 의하여 더욱 왜곡되지 않을 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀들의 경향성은 공간 주파수 스펙트럼을 통하여 분석될 수 있다. 또한, 공간 주파수 스펙트럼은 아래와 같은 방식으로 더욱 상세하게 분석될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 강도 그래프를 통하여 공간 주파수 스펙트럼의 원점을 지나는 직선에 따라 얻어지는 각 좌표의 강도를 도시할 수 있다. 강도 그래프의 수평축은 공간 주파수 스펙트럼의 원점으로부터의 거리이며, 강도 그래프의 수직축은 공간 주파수 스펙트럼의 특정 좌표에 도시된 점의 강도이다.
또한, 하나의 공간 주파수 스펙트럼에 대하여, 그 원점을 지나는 직선의 기울기를 달리하여, 다수의 강도 그래프를 얻을 수 있다. 예를 들면, 원점을 지나는 직선이 공간 주파수 스펙트럼 상에 표시된 피크점을 포함하도록 그 기울기를 결정하여, 피크점이 포함된 강도 그래프(제1 강도 그래프)를 얻을 수 있다. 또한, 원점을 지나는 직선이 공간 주파수 스펙트럼 상에 표시된 피크점을 포함하지 않도록 그 기울기를 결정하여, 피크점이 포함되지 않은 강도 그래프(제2 강도 그래프)를 얻을 수 있다.
또한, 제1 강도 그래프에서 상기 피크점들은 특정 문턱 강도(Threshold intensity 1, T1) 이상의 강도를 가지는 것으로 이해될 수 있다. 반대로, 제2 강도 그래프는 제2 강도 그래프에 포함된 모든 피크들의 강도가 모두 상기 특정 문턱 강도 미만인 강도 그래프로 이해될 수 있다.
특정 문턱 강도는 강도 그래프의 평균 강도의 1.10 배 이상일 수 있고, 1.12 배 이상일 수 있고, 1.14 배 이상일 수 있고, 1.18배 이상일 수 있다. 또한, 전도성 메시 구조체로 인하여 발생되는 모아레의 형성이 억제될 수 있다는 점에서, 특정 문턱 강도는 평균 강도의 1.12배 이상인 것이 바람직하다.
예시적인 일부 실시예에 있어서 특정 문턱 강도는 130일 수 있다. 기대칭인 한 쌍의 피크점에 기인하는 피크가 130 이상의 강도를 가지도록 전도성 메시 구조체가 형성됨으로써, 전도성 메시 구조체의 랜덤성과 단위셀의 병렬성이 동시에 획득될 수 있다. 그 결과, 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀들의 시인이 억제되는 동시에 병렬적으로 배치된 단위셀들로 인한 모아레의 발생 또한 억제될 수 있다.
도 2 및 도 3은 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체로부터 얻어진 공간 주파수 스펙트럼의 강도 그래프다. 도 2는 예시적인 실시예에 따른 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀들의 병렬성으로부터 기인하는 피크를 포함하는 제1 강도 그래프며, 도 3은 예시적인 실시예에 따른 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀들의 병렬성으로부터 기인하는 피크를 포함하지 않는 제2 강도 그래프이다. 도 3은 오로지 전도성 메시 구조체의 랜덤성을 반영하는 것으로 이해될 수 있다. 도 2 및 도 3에는 각각 특정 문턱 강도(T1)가 도시되어 있으며, 그 값은 130이다.
도 2는 실시예에 따른 전도성 메시 구조체부터 얻어지는 공간 주파수 스펙트럼의 원점 및 피크점을 지나는 직선에 포함된 각 점의 강도(회도, 0 내지 255 scale의 gray value)를 원점으로부터의 거리에 따라 도시한 것이다. 따라서, 도 2의 강도 그래프에는 실시예에 따른 전도성 메시 구조체의 병렬성이 반영된 것으로 이해될 수 있다.
또한, 도 3은 실시예에 따른 전도성 메시 구조체부터 얻어지는 공간 주파수 스펙트럼의 원점을 지나고 피크점은 지나지 않는 직선에 포함된 각 점의 강도를 원점으로부터의 거리에 따라 도시한 것이다. 따라서, 도 3의 강도 그래프에는 실시예에 따른 전도성 메시 구조체의 랜덤성만이 반영된 것으로 이해될 수 있다.
또한, 특정 문턱 강도 이상의 강도를 가지는 피크점들은 강도의 수렴 경향으로부터 벗어난 점인 것으로 이해될 수 있다.
도 2를 참조하면, CPM의 변화에 따른 강도의 수렴 경향으로부터 현저하게 벗어나며 문턱 강도를 상회하는 피크를 하나 이상 확인할 수 있다. 도 2에서, 수렴 경향으로부터 현저하게 벗어나는 피크는 그 문턱 강도 값이 130 이상인 것으로 나타난다. 또한, 이로부터 경계가 명확하게 구분되는 공간 주파수 그래프 상의 피크점의 존재가 재확인될 수 있다.
반면, 도 3을 참조하면, CPM의 변화에 따른 강도의 수렴 경향으로부터 현저하게 벗어나는 피크를 확인할 수 없다. 도 3의 피크는 모두 문턱 강도 이하인 것으로 나타난다. 피크점이 포함되지 않은 강도 그래프의 개형은 도 3의 개형과 유사하다.
또한, 공간 주파수 스펙트럼으로부터 얻어지는 대다수의 강도 그래프가 도 3과 유사하다는 점은 예시적인 실시예에 따른 전도성 메시 구조체가 반복 단위를 포함하지 않는다는 것을 시사한다.
예시적인 실시예들의 각 전도성 메시 구조체에 있어서, 전도성 메시 구조체는 단위셀들을 포함하며, 상기 전도성 메시 구조체의 공간 주파수 스펙트럼으로부터 얻어지는 적어도 하나의 강도 그래프는 상기 단위셀의 병렬성으로부터 기인하는 피크를 포함할 수 있다. 바꿔 말하자면, 적어도 하나의 강도 그래프는 단위셀의 연결 방향의 추세선을 반영할 수 있다.
도 4는 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체(50)가 구비한 병렬성을 설명하는 개념도이다.
도 4를 참조하면, 예시적인 실시예에 따른 전도성 메시 구조체는 다수의 단위셀(60)을 포함하는 것을 확인할 수 있다. 또한, 특정 영역의 단위셀들은 서로 평행한 두 추세선(70)이 지시하는 특정 방향으로 배열되어 있는 것을 확인할 수 있다. 도 4에 따르면, 추세선으로 표시된 영역에 포함된 단위셀은 서로 그 양상이 상이하나 그 크기가 유사하고 추세선이 표시된 방향으로 비교적 일정하게 배열된다.
한편, 상술한 바와 같은 병렬성으로 인하여 전도성 메시 구조체 로부터 얻어지는 공간 주파수 스펙트럼 상에 피크점이 형성되는 것으로 여겨진다. 특히, 공간 주파수 스펙트럼의 원점 및 피크점을 연결하는 직선은 상기 추세선과 직교할 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 전도성 메시 구조체의 공간 주파수 스펙트럼을 통하여, 일정한 추세선에 따라 배치된 단위셀들이 확인될 수 있으며, 이로부터 적어도 하나 이상의 병렬성이 유추될 수 있다.
또한, 본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 전도성 메시 구조체는 금속, 금속나노와이어, 금속산화물, 탄소나노튜브, 그래핀, 전도성 고분자 및 도전성 잉크에서 선택된 하나 이상의 전도성 물질로 형성될 수 있다.
상기 금속의 예시로서, 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 아연(Zn), 납(Pb), 팔라듐(Pd), 또는 몰리브덴(Mo) 등 중 어느 하나 또는 이들의 합금이 고려될 수 있다.
상기 금속산화물의 예시로서, 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 인듐징크틴옥사이드(IZTO), 알루미늄징크옥사이드(AZO), 갈륨징크옥사이드(GZO), 플로린틴옥사이드(FTO), 징크옥사이드(ZnO), 인듐틴옥사이드-은-인듐틴옥사이드(ITO-Ag-ITO), 인듐징크옥사이드-은-인듐징크옥사이드(IZO-Ag-IZO), 인듐징크틴옥사이드-은-인듐징크틴옥사이드(IZTO-Ag-IZTO) 및 알루미늄징크옥사이드-은-알루미늄징크옥사이드(AZO-Ag-AZO)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 금속산화물이 고려될 수 있다.
상기 전도성 고분자의 예시로서, PEDOT (poly(3,4-ethylenedioxythiophene) 및/또는 PEDOT:PSS(polystyrenesulfonate), 폴리이미드(Polyimide), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리티오펜(polythiophene), 폴리아세틸렌(polyacetylene), 및 폴리아닐린(polyaniline)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 전도성 고분자가 고려될 수 있다.
달리, 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체는 3.5cm X 3.5cm 면적에서 3,000 내지 122,500개의 교차점을 포함할 수 있고, 4,000 내지 123,000개의 교차점을 포함할 수 있다.
또한, 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체의 피치는 600 ㎛ 이하일 수 있고, 250 ㎛ 이하일 수 있다. 다만, 투과도 및 전도도를 고려하여 전도성 메시 구조체의 피치가 조정될 수 있다.
또한, 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체은 그 선폭이 10㎛ 이하일 수 있고, 7㎛ 이하일 수 있고, 5㎛ 이하일 수 있으며, 4㎛ 이하일 수 있고, 0.1㎛ 이상일 수 있다. 바람직하게는 상기 전도성 메시 구조체의 선폭은 0.1 내지 10㎛, 0.2 내지 7㎛, 0.3 내지 5㎛일 수 있다.
예를 들면, 전도성 메시 구조체의 선폭은 10㎛ 이하이고, 3.5cm X 3.5cm의 면적 내에서 상기 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀의 꼭지점의 수는 6,000 내지 245,000개일 수 있다. 또한, 전도성 메시 구조체의 선폭은 7㎛ 이하이고, 3.5cm X 3.5cm의 면적 내에서 상기 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀의 꼭지점의 수는 7,000 내지 60,000개일 수 있다. 또한, 전도성 메시 구조체의 선폭은 5㎛ 이하이고, 3.5cm X 3.5cm의 면적 내에서 상기 전도성 메시 구조체에 포함된 단위셀의 꼭지점의 수는 6,000 내지 45,000개일 수 있다.
상기 전도성 메시 구조체의 개구율, 즉 선재에 의하여 덮여지지 않는 면적 비율은 70% 이상일 수 있고, 85% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 전도성 메시 구조체의 개구율은 99.9% 이하일 수 있고, 99% 이하인 것이 바람직하며, 98% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 개구율이 상술한 수치범위를 만족함으로써, 전도성 메시 구조체의 미시인성이 훼손되지 않으면서도 전기 전도성의 확보가 가능하다.
또한, 전도성 메시 구조체의 선저항은 10 내지 25Ω인 것이 바람직하고, 15 내지 21Ω인 것이 더욱 바림직하다. 소정 이상의 필름 투과율을 확보할 수 있다는 관점에서 패턴의 선저항은 10Ω 이상인 것이 바람직하다. 반대로, 전도성 메시 구조체가 적용된 방사체 등의 감도가 충분히 확보될 수 있다는 관점에서 전도성 메시 구조체의 선저항은 21Ω 이하인 것이 바람직하다.
예시적인 실시예에 따르는 전도성 메시 구조체에 의하여, 각 단위셀들을 이루는 선의 쏠림 현상 등이 억제될 수 있고, 전도성 메시 구조체의 투과율이 균일하게 유지될 수 있다. 또한, 단위면적에 대한 선밀도가 일정하여 균일한 전기 전도성이 구현될 수 있다.
또한, 예시적인 실시예에 따른 전도성 메시 구조체는 유전층 상에 형성될 수 있다. 예시적인 일부 실시예에 있어서, 유전체의 광투과율은 60 이상인 것이 바람직하고, 70 이상인 것이 더욱 바람직하며, 80 이상인 것이 가장 바람직하다.
예시적인 실시예에 있어서, 유전층은 투명 수지 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 유전층은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 또는 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 수지; 염화비닐계 수지; 나일론, 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 수지; 이미드계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 술폰계 수지; 폴리에테르에테르케톤계 수지; 황화 폴리페닐렌계 수지; 비닐알코올계 수지; 염화비닐리덴계 수지; 비닐부티랄계 수지; 알릴레이트계 수지; 폴리옥시메틸렌계 수지; 에폭시계 수지; 우레탄계 또는 아크릴우레탄계 수지; 실리콘계 수지 등을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다.
전도성 물질의 증착을 통하여 전도성 메시 구조체를 형성하는 경우, 인쇄법, 또는 에칭 레지스트 패턴를 이용하는 방법 등의 활용이 고려될 수 있다.
또한, 본 발명에서는 상기 전도성 메시 구조체의 형성방법으로 직접 인쇄법을 택하여 사용할 수 있다. 이 때, 직접 인쇄법은 전도성 물질을 직접 유전층 상에 인쇄하여 패턴을 형성하는 방법이다. 직접 인쇄법의 예시로서, 그라비아 오프셋 인쇄, 스크린 인쇄, 리버스 오프셋 인쇄, 잉크젯 인쇄가 고려된다.
상기 인쇄법은 롤 대 롤(roll to roll) 방법, 롤 대 평판(roll to plate), 평판 대 롤(plate to roll) 또는 평판 대 평판(plate to plate) 방법을 통하여 수행될 수 있다.
또한, 전도성 물질은 입자 형태로 준비될 수 있다. 예를 들면, 순은 또는 구리로 된 입자 등이 인쇄법에 사용될 수 있으며, 은으로 코팅된 구리 입자의 사용이 고려될 수 있다.
또한, 전도성 메시 구조체의 형성을 위하여 포토리소그래피 공정의 적용이 고려될 수 있다. 예를 들면, 유전층의 일면에 전도성 물질 층을 형성하고, 그 위에 포토레지스트 층을 형성하고, 선택적인 노광 및 현상 공정을 통해 포토레지스트 패턴을 준비한다. 준비된 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 전도성 메시 구조체를 형성하고, 포토레지스트 층은 제거될 수 있다.
또한, 전도성 메시 구조체의 형성을 위하여 포토그래피 공정의 적용이 고려될 수 있다. 예를 들면, 유전층 상에 할로겐화 은이 포함된 감광재료를 도포한 후 상기 감광재료를 선택적으로 노광 및 현상함으로써, 전도성 메시 구조체가 형성될 수 있다.
또한, 전도성 메시 구조체의 전도도를 높이기 위하여 도금처리가 추가로 수행될 수 있다. 도금은 무전해 도금방법을 통하여 수행될 수 있다. 도금 재료로는 구리 또는 니켈이 사용될 수 있고, 복수 회의 도금이 수행될 수 있다.
또한, 전도성 메시 구조체의 재료를 유전층 상에 증착하는 방법이 고려될 수 있다. 이 때, 전도성 물질의 증착은 열 또는 전자빔에 의한 열 증착법 및 스퍼터(sputter)와 같은 PVD(physical vapor deposition) 방식을 통하여 수행될 수 있다. 또한, 유기금속(organometal) 재료를 이용한 CVD(chemical vapor deposition) 방식을 통하여 전도성 메시 구조체의 증착이 수행될 수 있다.
예시적인 실시예들의 각 전도성 메시 구조체에 있어서, 전도성 메시 구조체에 포함된 인접한 두 단위셀이 공유하는 모서리는 보로노이 방식에 따라 획정될 수 있다.
보로노이 방식에 따라 모서리를 획정하기 위하여 보로노이 다이어그램 제너레이터가 사용될 수 있다. 보로노이 다이어그램 제너레이터는 의사난수(pseudo-random number)를 생성하고 이를 토대로 평면 상에 임의의 위치에 둘 이상의 보로노이 점을 배치한다. 인접한 두 보로노이 점의 위치로부터 두 점이 공유하는 모서리의 양상이 결정된다.
보로노이 방식에 따라 모서리의 위치 및 길이가 결정됨으로써, 불규칙하며 반복 단위가 부재한 전도성 메시 구조체가 형성될 수 있다. 또한, 상기 전도성 메시 구조체는 병렬성을 더욱 구비할 수 있다.
또한, 예시적인 실시예들에 따른 전도성 메시 구조체는 투명 전극층으로 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 전도성 메시 구조체는 적층체에 포함되어 전극층으로서 기능할 수 있다. 또한, 상기 적층체는 기재, 광원, 편광층, 센서층, 접착층, 및/또는 보호층 등을 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 전도성 메시 구조체는 터치 센서의 터치센서층, 안테나의 방사층, 디지타이저의 전극층 등으로 사용될 수 있다.
본 명세서는 예시적인 실시예에 따른 전도성 메시 구조체로 형성된 방사체를 포함하는 안테나 소자를 추가적으로 개시한다. 또한, 예시적인 안테나 소자는 상기 방사체 주변에 배열되며 상기 전도성 메시 구조체로 형성된 더미 메시 패턴을 더 포함할 수 있다.
도 7은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 소자를 나타내는 개략적인 평면도이다. 도 7에 따르면, 안테나 소자는 유전층(90)의 상면 상에 형성된 안테나 유닛(140)을 포함할 수 있다.
또한, 안테나 유닛(140)은 상술한 전도성 메시 구조체(50)을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 안테나 유닛(140)은 방사체(150) 및 방사체(150)의 일 변 혹은 일 단부로부터 연장하는 전송 선로(155)를 포함할 수 있다.
일부 실시예들에 있어서, 안테나 유닛(140)은 방사체(150) 주변에 형성된 더미 메시 패턴(170)을 더 포함할 수 있다.
상술한 전도성 메시 구조체(50)을 포함하는 방사체(150) 및 더미 메시 패턴(170)이 형성됨으로써, 방사체(150) 및 더미 메시 패턴(170)에 포함된 전도성 메시 구조체(50)이 시인되는 것이 방지될 수 있다. 또한, 예시적인 실시예를 전도성 메시 구조체로 형성된 방사체(150) 및 더미 메시 패턴(170)에 의하여 모아레가 발생되는 것이 더욱 억제될 수 있다.
더미 메시 패턴(170)은 분리 영역(175)에 의해 방사체(150) 및 전송 선로(155)와 구분될 수 있다.
안테나 유닛(140)은 전송 선로(150)의 일단부와 연결된 신호 패드(160)를 포함할 수 있다. 신호 패드(160)는 예를 들면, 연성 인쇄 회로 기판(FPCB)을 통해 안테나 구동 집적 회로(IC) 칩과 전기적으로 연결될 수 있다. 이에 따라, 안테나 구동 IC 칩에 의해 신호 패드(160)를 통해 방사체(150)으로 급전 및 구동 신호가 인가될 수 있다.
일부 실시예들에 있어서, 신호 패드(160) 주변에는 그라운드 패드(162)가 배치될 수 있다. 예를 들면, 한 쌍의 그라운드 패드들(162)이 신호 패드(160)를 사이에 두고 전송 선로(155) 및 신호 패드(160)와 전기적, 물리적으로 분리되도록 배치될 수 있다.
그라운드 패드(162)에 의해 신호 패드(160) 주변에서의 노이즈가 흡수 또는 차폐될 수 있으며, 상기 FPCB의 상기 안테나 소자로의 본딩 공정이 보다 용이하게 수행될 수 있다.
이하, 실시예 및 비교예에 관하여 더욱 자세히 서술한다. 다만, 이하의 기재는 통상의 기술자의 이해를 돕기 위한 것이며, 본 발명의 청구범위를 제한하기 위한 것은 아님에 유의하여야 한다.
실시예 및 비교예
실시예 1 내지 8
단위셀들을 포함하는 전도성 메시 구조체를 제조하였다. 전도성 메시 구조체를 형성하기 위하여 동박을 우선 형성하였다. 동박 상에 패턴이 형성된 마스크를 위치하고, 선택적으로 동박을 식각하여 패턴을 형성하였다. 패턴은 보로노이 방식에 따라 결정되었으며, 패턴을 구성하는 모서리의 선폭은 약 3 ㎛였다. 또한, 메시 패턴이 형성된 전도성 메시 구조체와 외접하는 가상의 사각형의 면적은 30 mm X 30 mm였다. 피크점이 포함된 타원의 방정식(식 1)에서 a 및 b가 관찰되는 영역의 값은 하기 표 1과 같다. 하기 하한 및 상한의 단위는 모두 CPM이다.
| 실시예 | ||||||||
| 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | |
| a의 하한 | 32.07 | 15.83 | 3.58 | 9.11 | 1.98 | 11.70 | 5.64 | 1.12 |
| a의 상한 | 46.91 | 23.42 | 5.38 | 13.30 | 2.92 | 17.43 | 8.51 | 1.72 |
| b의 하한 | 32.07 | 15.83 | 3.58 | 9.11 | 1.98 | 11.70 | 5.64 | 1.12 |
| b의 상한 | 46.91 | 23.42 | 5.38 | 13.30 | 2.92 | 17.43 | 8.51 | 1.72 |
도 5는 및 도 6은 예시적인 실시예의 전도성 메시 구조체를 간략화 하여 도시한 것이다. 도 5는 실시예 2의 전도성 메시 구조체를 화상으로 촬영하고, 이로부터 전도성 메시 구조체만을 추출하여 간략하게 도시한 것이다. 도 6은 실시예 3의 전도성 메시 구조체를 화상으로 촬영하고, 이로부터 전도성 메시 구조체만을 추출하여 간략하게 도시한 것이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 예시적인 실시예에 따른 전도성 메시 구조체는 불규칙하며 반복 단위를 포함하지 않는 것을 확인할 수 있다. 또한, 예시적인 실시예에 따른 전도성 메시 구조체로부터 적어도 하나 이상의 병렬성이 확인될 수 있다.
비교예 1.
실시예 2의 전도성 메시 구조체 중 1 mm X 1 mm 면적의 사각형에 포함된 전도성 메시 구조체를 반복 단위로 기록하였다. 30 mm X 30 mm 면적을 채우도록 상기 반복 단위를 반복하여 형성하였다. 반복 단위는 서로 겹쳐지지 않도록 총 900번 형성되었다.
비교예 2.
실시예 3의 전도성 메시 구조체 중 1.7 mm X 1,7 mm 면적의 사각형에 포함된 전도성 메시 구조체를 반복 단위로 기록하였다. 30.6 mm X 30.6 mm 면적을 채우도록 반복 단위를 반복하여 형성하였다. 반복 단위는 서로 겹쳐지지 않도록 총 324번 형성되었다.
비교예 3.
전도성 메시 구조체 상에 단위셀의 각 모서리의 길이가 50 ㎛인 육각형 패턴이 반복되도록 메시를 형성하였다. 규칙적인 패턴이 형성된 전도성 메시 구조체의 면적은 30 mm X 30 mm였다.
시험예
1. 선저항, 투과율, 및 면적비의 평가
투명 기재 상에 실시예 및 비교예의 전도성 메시 구조체를 형성하고, 각 전도성 메시 구조체의 선 저항을 측정하였다. 측정된 선 저항은 하기 표 2와 같다.
그 후, 각 전도성 메시 구조체 상에 보호층을 적층하고 CM3700D(Minolta 사제)로 분석하여 투과율을 측정하였다. 측정된 투과율 값은 하기 표 2와 같다.
측정된 투과율을 토대로, 전도성 메시 구조체에 포함된 선재의 면적비를 산출하였다. 산출 결과는 하기 표 2와 같다.
| 투과율(%) | 선저항(Ω) | 면적비(%) | ||
| 실시예 | 1 | 80.67 | 14 | 12.31 |
| 2 | 86.31 | 18 | 6.18 | |
| 3 | 90,56 | 20 | 1.56 | |
| 4 | 88.69 | 19 | 3.60 | |
| 5 | 91.17 | 21 | 0.90 | |
| 6 | 87.69 | 18 | 4.68 | |
| 7 | 89.86 | 20 | 2.33 | |
| 8 | 91.47 | 21 | 0.58 | |
| 비교예 | 1 | 86.31 | 18 | 6.17 |
| 2 | 90,56 | 20 | 1.56 | |
| 3 | 85.43 | 18 | 7.15 | |
2. 전도성 메시 구조체의 미시인성 평가
실시예 및 비교예에 따라 얻어진 전도성 메시 구조체로부터 패턴이 관찰되는지 평가하였다. 평가 결과는 하기 표 3와 같다. 평가 준거는 다음과 같다.
◎ (탁월): 육안관찰시, 패턴이 시인되지 않음
○ (우수): 패턴이 육안으로 시인되나 왜곡이 발생하지 않음
Ⅹ (미달): 패턴이 명확하게 시인되며, 왜곡이 발생함
| 실시예 | 비교예 | ||||||||||
| 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 1 | 2 | 3 | |
| 결과 | ○ | ◎ | ○ | ◎ | ○ | ◎ | ◎ | ○ | Ⅹ | ○ | Ⅹ |
3. 모아레(Moire)의 시인성 평가
실시예 및 비교예에 따라 얻어진 전도성 메시 구조체로부터 모아레가 관찰되는지 평가하였다. 윈도우 커버가 제거된 휴대폰(갤럭시 S10, 삼성전자 제) 상에 각각의 전도성 메시 구조체를 부착하고, 육안으로 모아레가 관찰되는지 평가하였다. 평가 결과는 하기 표 4와 같다. 평가 준거는 다음과 같다.
○ : 모아레가 관찰되지 않음
Ⅹ : 모아레가 관찰됨
| 실시예 | 비교예 | ||||||||||
| 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 1 | 2 | 3 | |
| 결과 | Ⅹ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | Ⅹ | ○ | Ⅹ | Ⅹ |
표 3 및 표 4을 참조하면, 예시적인 실시예에 따른 전도성 메시 구조체가 유전층 상에 형성되어, 전도성 메시 구조체의 시인이 억제될 수 있다. 또한, 예시적인 일부 실시예에 따른 전도성 메시 구조체는 단위셀들이 시인되지 않을 뿐만 아니라, 모아레의 발생 또한 억제될 수 있다. 반면, 비교예에 따른 전도성 메시 구조체는 모아레의 발생이 억제될지라도 그 패턴은 육안으로 관찰될 수 있는 것으로 나타났다.
50: 전도성 메시 구조체
60: 단위셀
70: 추세선 90: 유전층
140: 안테나 유닛 150: 방사체
155: 전송 선로 160: 신호 패드
162: 그라운드 패드 170: 더미 메시 패턴
175: 분리 영역
70: 추세선 90: 유전층
140: 안테나 유닛 150: 방사체
155: 전송 선로 160: 신호 패드
162: 그라운드 패드 170: 더미 메시 패턴
175: 분리 영역
Claims (11)
- 다각형 단위셀들을 포함하며,
상기 단위셀들의 무게중심 분포의 푸리에 변환을 통해 획득되는 공간 주파수 스펙트럼에서 적어도 한 쌍 이상의 기대칭인 피크점이 나타나며,
상기 단위셀들 중 적어도 2 이상의 단위셀들이 포함되도록 소정의 사이즈의 영역들이 선택될 때 동일한 패턴 형상이 반복되지 않는 랜덤성을 갖는, 전도성 메시 구조체. - 청구항 1에 있어서, 상기 피크점은 하기 식 1에 의해서 정의되는 상기 공간 주파수 스펙트럼의 영역 내에 존재하는, 전도성 메시 구조체:
[식 1]
(식 1에서, x 및 y는 각각 상기 공간 주파수 스펙트럼 상의 수평축 및 수직축을 의미하며, x, y, a, b의 단위는 각각 CPM(Cyclic Per Millimeter)이고, 1≤a≤47, 1≤b≤47임). - 청구항 2에 있어서, 식 1 중, 1≤a≤32, 1≤b≤32인, 전도성 메시 구조체.
- 청구항 3에 있어서, 식 1 중, 5≤a≤32, 5≤b≤32인, 전도성 메시 구조체.
- 청구항 1에 있어서, 공간 주파수 스펙트럼의 수직 방향 단면들로부터 획득되는 공간 주파수에 따른 강도 그래프들이 획득되며,
상기 기대칭인 한 쌍의 피크점들을 포함하도록 절단된 제1 강도 그래프에서 상기 피크점들은 특정 문턱 강도(T1) 이상의 강도를 가지며,
상기 피크점들이 포함되지 않도록 절단된 적어도 하나의 제2 강도 그래프에 포함된 피크들은 모두 상기 특정 문턱 강도 미만의 강도를 갖는, 전도성 메시 구조체. - 청구항 5에 있어서, 상기 특정 문턱 강도는 강도 그래프의 평균 강도의 1.10 배 이상인, 전도성 메시 구조체.
- 청구항 5에 있어서, 상기 특정 문턱 강도는 130인, 전도성 메시 구조체.
- 청구항 5에 있어서, 상기 제1 강도 그래프는 상기 단위셀들의 연결 방향의 추세선을 반영하며, 상기 제2 강도 그래프는 상기 랜덤성을 반영하는, 전도성 메시 구조체.
- 청구항 1에 있어서, 상기 단위셀들 중 인접한 두 단위셀들이 공유하는 모서리는 보로노이(Voronoi) 방식에 따라 결정된, 전도성 메시 구조체.
- 청구항 1에 따른 전도성 메시 구조체로 형성된 방사체를 포함하는, 안테나 소자.
- 청구항 10에 있어서, 상기 방사체 주변에 배열되며 상기 전도성 메시 구조체로 형성된 더미 메시 패턴을 더 포함하는, 안테나 소자.
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