KR20220161310A - Deposition mask, method for manufacturing deposition mask, and method for manufacturing display device - Google Patents

Deposition mask, method for manufacturing deposition mask, and method for manufacturing display device Download PDF

Info

Publication number
KR20220161310A
KR20220161310A KR1020227033224A KR20227033224A KR20220161310A KR 20220161310 A KR20220161310 A KR 20220161310A KR 1020227033224 A KR1020227033224 A KR 1020227033224A KR 20227033224 A KR20227033224 A KR 20227033224A KR 20220161310 A KR20220161310 A KR 20220161310A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
frame
mask
opening
shaped
back surface
Prior art date
Application number
KR1020227033224A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
아리후미 하시모토
Original Assignee
도판 인사츠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2021022158A external-priority patent/JP2021161535A/en
Application filed by 도판 인사츠 가부시키가이샤 filed Critical 도판 인사츠 가부시키가이샤
Publication of KR20220161310A publication Critical patent/KR20220161310A/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201Manufacture or treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • H01L51/0011
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

증착 마스크는, 마스크 프레임으로서, 제 1 표면, 제 1 표면과는 반대측의 제 1 이면, 및, 제 1 표면과 제 1 이면의 사이를 관통하는 제 1 개구부를 구비한 본체부, 및, 제 2 표면과 제 2 표면과는 반대측의 제 2 이면을 구비하는 프레임형상부로서, 제 2 표면과 제 2 이면의 사이를 관통하는 제 2 개구부를 구비하는 프레임형상부를 구비하고, 제 2 표면에 있어서의 제 2 개구부의 위치가 제 1 표면에 있어서의 제 1 개구부의 위치와 정합하도록 제 1 이면측에 있어서 프레임형상부를 본체부에 떼어내기 가능하게 장착하는 것이 가능하게 구성된 마스크 프레임과, 복수의 마스크 구멍을 가진 마스크부로서, 제 2 개구부를 덮도록, 제 2 이면에 접합된 마스크부를 구비한다.The deposition mask is a mask frame, and includes a first surface, a first back surface opposite to the first surface, a main body portion having a first opening penetrating between the first surface and the first back surface, and a second surface. A frame portion having a front surface and a second back surface opposite to the second surface, comprising a frame portion having a second opening penetrating between the second surface and the second back surface, A mask frame configured to detachably attach the frame-shaped portion to the main body on the first back side so that the position of the second opening matches the position of the first opening on the first surface, and a plurality of mask holes A mask portion having a mask portion bonded to the second back surface so as to cover the second opening portion.

Description

증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법Deposition mask, method for manufacturing deposition mask, and method for manufacturing display device

본 발명은 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a deposition mask, a method for manufacturing the deposition mask, and a method for manufacturing a display device.

유기 EL 표시 장치의 제조에 있어서, 유기 EL 표시 소자가 구비하는 유기 발광층의 형성에는, 진공 증착이 이용되고 있다. 진공 증착에 의해 유기 발광층을 형성할 때에는, 소정의 형상을 가진 유기 발광층을 증착 대상에 있어서의 소정의 위치에 형성하기 위해서, 증착 마스크가 사용되고 있다. 증착 마스크는, 복수의 마스크부와, 마스크 프레임을 구비하고 있다. 각 마스크부는, 복수의 마스크 구멍이 형성된 금속박이다. 복수의 마스크 구멍은, 유기 발광층의 형상 및 배치에 따른 형상 및 배치를 갖고 있다. 마스크 프레임은, 마스크 프레임에 장착된 마스크부에 대하여 증착 재료를 도달시키기 위한 프레임 구멍을 갖고 있다. 각 마스크부는, 서로 상이한 1 개의 프레임 구멍을 막도록, 마스크 프레임에 접합된다 (예를 들어, 특허문헌 1 을 참조).BACKGROUND OF THE INVENTION [0002] In the manufacture of organic EL display devices, vacuum evaporation is used to form organic light emitting layers included in organic EL display elements. When forming an organic light emitting layer by vacuum deposition, a deposition mask is used in order to form an organic light emitting layer having a predetermined shape at a predetermined position in a deposition target. The deposition mask includes a plurality of mask portions and a mask frame. Each mask part is a metal foil in which a plurality of mask holes were formed. The plurality of mask holes have a shape and arrangement according to the shape and arrangement of the organic light-emitting layer. The mask frame has a frame hole through which the evaporation material reaches the mask portion attached to the mask frame. Each mask part is bonded to the mask frame so as to close one frame hole different from each other (for example, refer to Patent Literature 1).

국제 공개 제2019/054462호International Publication No. 2019/054462

그런데, 마스크 프레임에 대한 마스크부의 접합에는, 예를 들어 용접이 사용된다. 용접이 마스크부의 접합에 사용된 경우에는, 마스크 프레임에는, 마스크부를 접합한 접합 자국이 형성된다. 접합 자국은, 마스크 프레임 중에서, 마스크부가 용접된 부분에 형성된 패임이다.By the way, welding is used for bonding of the mask part to the mask frame, for example. In the case where welding is used for joining the mask portion, the mask frame is formed with a joining mark where the mask portion is joined. The joining mark is a dent formed in a portion where the mask portion was welded in the mask frame.

한편, 1 개의 증착 마스크를 사용한 증착이 복수 회 실시되면, 마스크부의 일부가 변형하거나, 마스크부의 일부에 증착 재료가 퇴적하거나 하는 경우가 있다. 이 점에서, 상기 서술한 증착 마스크에서는, 교환의 필요가 발생한 마스크부만을 마스크 프레임으로부터 떼어내고, 마스크 프레임에 새로운 마스크부를 접합하는 것이 가능하기는 하다. 그러나, 마스크 프레임에는, 마스크부의 접합에 의해 접합 자국이 형성되어 있기 때문에, 접합 자국에 기인하여, 마스크 프레임에 대한 마스크부의 위치가 어긋나거나, 마스크 프레임에 대하여 마스크부가 접합되지 않거나 하는 것을 억제하기 위해서, 접합 자국에 대한 가공을 실시할 필요가 있다. 따라서, 접합 자국에 대한 가공이 필요하게 되는 분만큼, 마스크 프레임에 대한 마스크부의 재접합이 번잡하다.On the other hand, when vapor deposition using one deposition mask is performed a plurality of times, a part of the mask portion may be deformed or evaporation material may be deposited on a portion of the mask portion. In this respect, in the deposition mask described above, it is possible to remove only the mask portion that needs to be replaced from the mask frame and attach a new mask portion to the mask frame. However, since bonding scars are formed on the mask frame by bonding of the mask portion, in order to suppress the displacement of the mask portion relative to the mask frame or the mask portion not being bonded to the mask frame due to the bonding scar. , it is necessary to process the joint marks. Therefore, re-bonding of the mask portion to the mask frame is complicated by the amount of processing required for the bonding marks.

또한, 상기 서술한 과제는, 마스크부의 접합에 용접이 사용되는 경우에 한정되지 않고, 마스크부의 접합에 접착이 사용되는 경우에도 공통된다. 마스크부의 접합에 접착이 사용된 경우에는, 접합 자국으로서 접착층이 형성된다.In addition, the above-mentioned subject is not limited to the case where welding is used for joining the mask portion, but is common even when adhesion is used for joining the mask portion. When bonding is used for bonding the mask portion, an adhesive layer is formed as a bonding trace.

본 발명은, 마스크 프레임에 대한 마스크부의 재접합을 용이하게 하는 것을 가능하게 한 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a deposition mask capable of facilitating re-bonding of a mask portion to a mask frame, a method for manufacturing the deposition mask, and a method for manufacturing a display device.

상기 과제를 해결하기 위한 증착 마스크는, 마스크 프레임으로서, 제 1 표면, 상기 제 1 표면과는 반대측의 제 1 이면, 및, 상기 제 1 표면과 상기 제 1 이면의 사이를 관통하는 제 1 개구부를 구비한 본체부, 및, 제 2 표면과, 상기 제 2 표면과는 반대측의 제 2 이면을 구비하는 프레임형상부로서, 상기 제 2 표면과 상기 제 2 이면의 사이를 관통하는 제 2 개구부를 구비하는 프레임형상부를 구비하고, 상기 제 2 표면에 있어서의 상기 제 2 개구부의 위치가 상기 제 1 표면에 있어서의 상기 제 1 개구부의 위치와 정합하도록 상기 제 1 이면측에 있어서 상기 프레임형상부를 상기 본체부에 떼어내기 가능하게 장착하는 것이 가능하게 구성된 마스크 프레임과, 복수의 마스크 구멍을 가진 마스크부로서, 상기 제 2 개구부를 덮도록, 상기 제 2 이면에 접합된 상기 마스크부를 구비한다.A deposition mask for solving the above problems is a mask frame comprising a first surface, a first back surface opposite to the first surface, and a first opening penetrating between the first surface and the first back surface. A frame-shaped portion including a main body portion and a second surface and a second back surface opposite to the second surface, comprising a second opening penetrating between the second surface and the second back surface. and a frame portion on the first back surface side such that the position of the second opening on the second surface matches the position of the first opening on the first surface. a mask frame configured to be detachably attached to the mask portion; and a mask portion having a plurality of mask holes, the mask portion bonded to the second back surface so as to cover the second opening portion.

상기 과제를 해결하기 위한 증착 마스크의 제조 방법은, 제 2 표면과 제 2 이면의 사이를 관통하는 제 2 개구부를 가진 프레임형상부에 마스크부를 접합하는 것, 및, 제 1 표면과 제 1 이면의 사이를 관통하는 제 1 개구부를 가진 본체부에, 상기 프레임형상부를 장착하는 것을 포함한다. 상기 마스크부를 접합하는 것은, 상기 제 2 개구부를 덮도록 상기 제 2 이면에 상기 마스크부를 접합하는 것을 포함한다. 상기 프레임형상부를 장착하는 것은, 상기 제 2 표면에 있어서의 상기 제 2 개구부의 위치가 상기 제 1 표면에 있어서의 상기 제 1 개구부의 위치와 정합하도록 상기 제 1 이면측에 있어서 상기 프레임형상부를 상기 본체부에 떼어내기가 가능하게 장착하는 것을 포함한다.A method of manufacturing a deposition mask for solving the above problems includes bonding a mask portion to a frame shape having a second opening penetrating between a second surface and a second back surface, and and mounting the frame-shaped portion to a body portion having a first opening penetrating therebetween. Bonding the mask part includes bonding the mask part to the second back surface so as to cover the second opening. Attaching the frame-shaped portion is to attach the frame-shaped portion to the first back side so that the position of the second opening on the second surface matches the position of the first opening on the first surface. Including detachably attaching to the main body.

상기 과제를 해결하기 위한 표시 장치의 제조 방법은, 상기 증착 마스크의 제조 방법에 의해 제조된 증착 마스크를 사용하여 증착 대상에 패턴을 형성하는 것을 포함한다.A method of manufacturing a display device for solving the above problems includes forming a pattern on an object to be deposited using a deposition mask manufactured by the method for manufacturing a deposition mask.

상기 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 증착 마스크가 구비하는 마스크부를 새로운 마스크부로 교환할 때에는, 본체부로부터 떼어내는 것이 가능한 프레임형상부와 함께, 마스크부를 본체부로부터 떼어내는 것이 가능하다. 이에 따라, 프레임형상부에 대한 마스크부의 접합에 의해 프레임형상부에 형성된 접합 자국도 본체부로부터 제거된다. 그 때문에, 본체부에 대하여 새로운 프레임형상부를 장착하고, 또한, 새로운 프레임형상부에 대하여 새로운 마스크부를 접합함으로써, 증착 마스크를 얻는 것이 가능하다. 이와 같이, 마스크 프레임에 대하여 마스크부를 재접합할 때에, 마스크 프레임이 갖는 접합 자국에 대한 가공이 불필요하기 때문에, 마스크 프레임에 대한 마스크부의 재접합을 용이하게 할 수 있다.According to the deposition mask, the method for manufacturing the deposition mask, and the method for manufacturing the display device, when the mask portion of the deposition mask is replaced with a new mask portion, the mask portion is included in the main body together with the detachable frame portion from the main body portion. It is possible to detach from wealth. Accordingly, the bonding marks formed on the frame-shaped portion by bonding of the mask portion to the frame-shaped portion are also removed from the main body portion. Therefore, it is possible to obtain a deposition mask by attaching a new frame portion to the main body portion and bonding a new mask portion to the new frame portion. In this way, when rejoining the mask part to the mask frame, processing of the bonding scars of the mask frame is unnecessary, so that the rejoining of the mask part to the mask frame can be facilitated.

도 1 은, 제 1 실시형태에 있어서의 증착 마스크의 구조를 나타내는 사시도이다.
도 2 는, 도 1 이 나타내는 증착 마스크에 있어서의 구조의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 3 은, 도 2 가 나타내는 증착 마스크에 있어서의 구조의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 4 는, 도 2 가 나타내는 증착 마스크가 구비하는 마스크부의 구조를 나타내는 평면도이다.
도 5 는, 도 2 가 나타내는 증착 마스크가 구비하는 마스크부의 구조를 확대해서 나타내는 단면도이다.
도 6 은, 증착 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이다.
도 7 은, 증착 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이다.
도 8 은, 증착 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이다.
도 9 는, 증착 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이다.
도 10 은, 증착 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이다.
도 11 은, 증착 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이다.
도 12 는, 증착 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이다.
도 13 은, 도 12 가 나타내는 영역 A 를 확대해서 나타내는 단면도이다.
도 14 는, 증착 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이다.
도 15 는, 증착 마스크의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이다.
도 16 은, 증착 마스크의 작용을 설명하기 위한 작용도이다.
도 17 은, 증착 장치의 구성을 증착 마스크 및 증착 대상과 함께 모식적으로 나타내는 장치 구성도이다.
도 18 은, 제 2 실시형태에 있어서의 증착 마스크의 구조를 나타내는 평면도이다.
도 19 는, 도 18 이 나타내는 XIX-XIX 선을 따르는 구조를 나타내는 단면도이다.
도 20 은, 도 18 이 나타내는 고정부 및 고정부의 주변 구조를 나타내는 단면도이다.
도 21 은, 도 18 이 나타내는 XIX-XIX 선을 따르는 구조를 나타내는 단면도이다.
도 22 는, 도 18 이 나타내는 고정부 및 고정부의 주변 구조를 나타내는 단면도이다.
도 23 은, 제 3 실시형태에 있어서의 증착 마스크의 구조를 나타내는 평면도이다.
도 24 는, 도 23 이 나타내는 XXIV-XXIV 선을 따르는 구조를 나타내는 단면도이다.
도 25 는, 제 4 실시형태에 있어서의 증착 마스크의 구조를 나타내는 평면도이다.
도 26 은, 도 25 가 나타내는 XXVI-XXVI 선을 따르는 구조를 나타내는 단면도이다.
도 27 은, 제 5 실시형태에 있어서의 증착 마스크의 구조를 나타내는 평면도이다.
도 28 은, 도 27 이 나타내는 XXVIII-XXVIII 선을 따르는 구조를 나타내는 단면도이다.
1 is a perspective view showing the structure of a deposition mask in a first embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a part of the structure in the deposition mask shown in FIG. 1 .
Fig. 3 is a cross-sectional view showing a part of the structure of the deposition mask shown in Fig. 2;
FIG. 4 is a plan view showing the structure of a mask portion included in the deposition mask shown in FIG. 2 .
5 is an enlarged cross-sectional view showing the structure of a mask portion included in the deposition mask shown in FIG. 2 .
6 is a process chart for explaining a method for manufacturing a deposition mask.
7 is a process chart for explaining a method for manufacturing a deposition mask.
8 is a process chart for explaining a method for manufacturing a deposition mask.
9 is a process chart for explaining a method for manufacturing a deposition mask.
10 is a process chart for explaining a method for manufacturing a deposition mask.
11 is a process chart for explaining a method for manufacturing a deposition mask.
12 is a process chart for explaining a method for manufacturing a deposition mask.
Fig. 13 is an enlarged cross-sectional view of region A shown in Fig. 12 .
14 is a process chart for explaining a method for manufacturing a deposition mask.
15 is a process chart for explaining a method for manufacturing a deposition mask.
16 is a working diagram for explaining the working of the deposition mask.
Fig. 17 is an apparatus configuration diagram schematically showing the configuration of a deposition apparatus together with a deposition mask and an deposition target.
18 is a plan view showing the structure of a deposition mask in the second embodiment.
Fig. 19 is a cross-sectional view showing a structure taken along line XIX-XIX shown in Fig. 18;
Fig. 20 is a cross-sectional view showing the fixing part shown in Fig. 18 and the surrounding structure of the fixing part.
Fig. 21 is a cross-sectional view showing the structure along line XIX-XIX shown in Fig. 18;
Fig. 22 is a cross-sectional view showing the fixing part shown in Fig. 18 and the surrounding structure of the fixing part.
23 is a plan view showing the structure of the deposition mask in the third embodiment.
Fig. 24 is a cross-sectional view showing a structure along the line XXIV-XXIV shown in Fig. 23;
25 is a plan view showing the structure of the deposition mask in the fourth embodiment.
Fig. 26 is a cross-sectional view showing a structure along the line XXVI-XXVI shown in Fig. 25;
27 is a plan view showing the structure of a deposition mask in the fifth embodiment.
Fig. 28 is a cross-sectional view showing a structure along the line XXVIII-XXVIII shown in Fig. 27;

[제 1 실시형태] [First Embodiment]

도 1 내지 도 17 을 참조하여, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법의 제 1 실시형태를 설명한다. 이하에서는, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법을 차례로 설명한다.Referring to Figs. 1 to 17, a first embodiment of a deposition mask, a method for manufacturing the deposition mask, and a method for manufacturing a display device will be described. Hereinafter, a deposition mask, a method for manufacturing the deposition mask, and a method for manufacturing the display device will be sequentially described.

[증착 마스크] [Vapor deposition mask]

증착 마스크는, 마스크 프레임과 마스크부를 구비하고 있다. 마스크 프레임은, 본체부와 프레임형상부를 구비하고 있다. 본체부는, 표면, 표면과는 반대측의 이면, 및, 표면과 이면의 사이를 관통하는 제 1 관통공을 구비한다. 프레임형상부는, 표면, 표면과는 반대측의 이면, 및, 표면과 이면의 사이를 관통하는 제 2 관통공을 구비한다. 마스크 프레임은, 본체부의 표면에 대한 본체부의 이면측에 있어서, 제 2 개구부에 있어서의 표면의 개구가 제 1 개구부에 있어서의 표면의 개구와 대향하도록 프레임형상부를 본체부에 장착하는 것, 및, 프레임형상부를 본체부로부터 떼어내는 것이 가능하게 구성되어 있다. 마스크부는, 복수의 마스크 구멍을 가지며, 제 2 개구부를 덮도록 프레임형상부의 이면에 접합된다.The deposition mask includes a mask frame and a mask portion. The mask frame includes a body portion and a frame-shaped portion. The body portion includes a front surface, a rear surface opposite to the front surface, and a first through hole penetrating between the front surface and the rear surface. The frame portion includes a front surface, a rear surface opposite to the front surface, and a second through hole penetrating between the front surface and the rear surface. In the mask frame, on the back side of the body portion relative to the front surface of the body portion, the frame portion is attached to the body portion so that the opening of the surface of the second opening portion faces the opening of the surface of the first opening portion, and It is comprised so that the frame-shaped part can be removed from the body part. The mask portion has a plurality of mask holes and is bonded to the back surface of the frame-shaped portion so as to cover the second opening portion.

즉, 본체부는, 제 1 표면, 제 1 표면과는 반대측의 제 1 이면, 및, 제 1 표면과 제 1 이면의 사이를 관통하는 제 1 개구부를 구비한다. 프레임형상부는, 제 2 표면과, 제 2 표면과는 반대측의 제 2 이면을 구비한다. 프레임형상부는, 제 2 표면과 제 2 이면의 사이를 관통하는 제 2 개구부를 구비한다. 마스크 프레임은, 제 2 표면에 있어서의 제 2 개구부의 위치가 제 1 표면에 있어서의 제 1 개구부의 위치와 정합하도록 제 1 이면측에 있어서 프레임형상부를 본체부에 떼어내기 가능하게 장착하는 것이 가능하게 구성되어 있다.That is, the body portion includes a first surface, a first back surface opposite to the first surface, and a first opening penetrating between the first surface and the first back surface. The frame-shaped portion has a second surface and a second back surface opposite to the second surface. The frame-shaped portion has a second opening penetrating between the second surface and the second back surface. The mask frame can detachably attach the frame-shaped portion to the main body on the first back side so that the position of the second opening on the second surface matches the position of the first opening on the first surface. It is composed of

이하, 도 1 내지 도 5 를 참조하여, 제 1 실시형태의 증착 마스크를 설명한다. 도 1 은, 증착 마스크의 마스크 프레임이 구비하는 본체부의 이면과 대응하는 시점에서 본 증착 마스크의 사시 구조를 나타내고 있다.Hereinafter, the deposition mask of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 5 . Fig. 1 shows a perspective structure of a deposition mask viewed from a viewpoint corresponding to the back surface of a main body of a mask frame of the deposition mask.

도 1 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 (10) 는, 마스크 프레임 (11) 과, 복수의 마스크부 (12) 를 구비하고 있다. 마스크 프레임 (11) 은, 복수의 프레임 구멍 (11H) 을 갖고 있다. 각 마스크부 (12) 는, 서로 상이한 1 개의 프레임 구멍 (11H) 을 덮도록, 마스크 프레임 (11) 에 접합되어 있다.As FIG. 1 shows, the deposition mask 10 includes a mask frame 11 and a plurality of mask portions 12 . The mask frame 11 has a plurality of frame holes 11H. Each mask part 12 is bonded to the mask frame 11 so as to cover one frame hole 11H different from each other.

마스크 프레임 (11) 의 외형은, 예를 들어 사각형 형상을 갖고 있다. 마스크 프레임 (11) 은, 표면 (11F) 과, 표면 (11F) 과는 반대측의 이면 (11R) 을 구비하고 있다. 증착 마스크 (10) 가 증착 장치에 탑재되었을 때에, 마스크 프레임 (11) 의 이면 (11R) 이 증착 대상 (S) 과 대향하고, 이에 반해, 마스크 프레임 (11) 의 표면 (11F) 이 증착원과 대향한다. 마스크 프레임 (11) 의 이면 (11R) 과 대향하는 시점에서 보아, 마스크 프레임 (11) 의 외형은, 증착 대상 (S) 보다 크다. 또한, 도 1 이 나타내는 예에서는 마스크 프레임 (11) 의 외형이 증착 대상 (S) 보다 크지만, 마스크 프레임 (11) 의 외형은, 증착 대상 (S) 보다 작아도 된다.The outer shape of the mask frame 11 has, for example, a rectangular shape. The mask frame 11 includes a front surface 11F and a back surface 11R on the opposite side to the front surface 11F. When the deposition mask 10 is mounted on the deposition apparatus, the back surface 11R of the mask frame 11 faces the deposition target S, whereas the front surface 11F of the mask frame 11 faces the deposition source. confront Seen from a viewpoint facing the back surface 11R of the mask frame 11, the outer shape of the mask frame 11 is larger than the deposition target S. In the example shown in FIG. 1 , the outer shape of the mask frame 11 is larger than the object S for deposition, but the outer shape of the mask frame 11 may be smaller than the object S for deposition.

각 프레임 구멍 (11H) 은, 이면 (11R) 과 대향하는 시점에서 보아, 장방형상을 갖고 있다. 복수의 프레임 구멍 (11H) 은, 제 1 방향 (D1) 과, 제 1 방향 (D1) 에 직교하는 제 2 방향 (D2) 에 있어서, 동등한 간격을 띄우고 직사각형 격자상으로 늘어서 있다. 또한, 프레임 구멍 (11H) 은, 장방형상을 갖고 있지 않아도 된다. 예를 들어, 프레임 구멍 (11H) 은, 정방형상, 원형상, 및, 타원형상 등의 형상을 가져도 된다. 또, 복수의 프레임 구멍 (11H) 에는, 제 1 형상을 가진 프레임 구멍 (11H) 과 제 2 형상을 가진 프레임 구멍 (11H) 이 포함되어도 된다. 복수의 프레임 구멍 (11H) 은, 직사각형 격자상으로 늘어서 있지 않아도 된다. 예를 들어, 복수의 프레임 구멍 (11H) 은, 갈지자 형상으로 늘어서도 된다. 또, 복수의 프레임 구멍 (11H) 은, 제 1 방향 (D1) 및 제 2 방향 (D2) 의 적어도 일방에 있어서 불규칙하게 늘어서도 된다.Each frame hole 11H has a rectangular shape when viewed from a viewpoint facing the back surface 11R. The plurality of frame holes 11H are arranged in a rectangular lattice shape at equal intervals in the first direction D1 and the second direction D2 orthogonal to the first direction D1. In addition, the frame hole 11H does not have to have a rectangular shape. For example, the frame hole 11H may have shapes such as a square shape, a circular shape, and an elliptical shape. Further, the plurality of frame holes 11H may include frame holes 11H having a first shape and frame holes 11H having a second shape. The plurality of frame holes 11H need not be arranged in a rectangular lattice shape. For example, the plurality of frame holes 11H may line up in a staggered shape. In addition, the plurality of frame holes 11H may be arranged irregularly in at least one of the first direction D1 and the second direction D2.

마스크부 (12) 는, 마스크 프레임 (11) 의 이면 (11R) 과 대향하는 시점에서 보아, 프레임 구멍 (11H) 을 덮는 것이 가능한 형상 및 크기를 갖고 있다. 본 실시형태에 있어서, 마스크부 (12) 는, 장방형상을 갖고 있다. 마스크부 (12) 는, 1 개의 프레임 구멍 (11H) 에 대하여 1 개씩 장착되어 있다. 그 때문에, 증착 마스크 (10) 는, 프레임 구멍 (11H) 과 동수 (同數) 의 마스크부 (12) 를 구비하고 있다.The mask portion 12 has a shape and a size capable of covering the frame hole 11H when viewed from a viewpoint facing the back surface 11R of the mask frame 11 . In this embodiment, the mask part 12 has a rectangular shape. The mask part 12 is attached one by one with respect to one frame hole 11H. Therefore, the deposition mask 10 is provided with the mask portion 12 of the same number as the frame hole 11H.

마스크 프레임 (11) 및 마스크부 (12) 는, 금속제이다. 마스크 프레임 (11) 을 형성하는 금속과, 마스크부 (12) 를 형성하는 금속은, 동일한 것이 바람직하다. 이에 따라, 증착 마스크 (10) 의 선팽창 계수와 마스크부 (12) 의 선팽창 계수의 차가 작기 때문에, 증착 마스크 (10) 의 사용 시에 증착 마스크 (10) 가 가열되어도, 마스크부 (12) 가 변형되는 것이 억제된다. 결과적으로, 증착 마스크 (10) 를 사용하여 형성한 패턴의 위치에 있어서의 정밀도의 저하가 억제된다.The mask frame 11 and the mask part 12 are made of metal. The metal forming the mask frame 11 and the metal forming the mask portion 12 are preferably the same. Accordingly, since the difference between the linear expansion coefficient of the deposition mask 10 and the linear expansion coefficient of the mask portion 12 is small, even if the deposition mask 10 is heated during use of the deposition mask 10, the mask portion 12 is deformed. being inhibited As a result, a decrease in accuracy at the position of a pattern formed using the deposition mask 10 is suppressed.

마스크부 (12) 를 형성하는 재료에는, 철과 니켈을 주성분으로 하는 합금인 철-니켈계 합금을 사용할 수 있다. 마스크부 (12) 를 형성하는 재료는, 예를 들어, 30 질량% 이상의 니켈과, 잔여분의 철을 포함하는 합금이다. 마스크부 (12) 를 형성하는 재료는, 철-니켈계 합금 중에서도, 니켈을 36 질량% 포함하는 합금인 인바인 것이 바람직하다. 마스크부 (12) 를 형성하는 재료는, 니켈을 42 질량% 포함하는 합금인 42 얼로이여도 된다. 마스크부 (12) 는, 철 및 니켈에 더하여, 크롬, 망간, 탄소, 및, 코발트 등의 첨가물을 포함해도 된다.As the material forming the mask portion 12, an iron-nickel alloy, which is an alloy containing iron and nickel as main components, can be used. The material forming the mask portion 12 is, for example, an alloy containing 30% by mass or more of nickel and the balance of iron. The material forming the mask portion 12 is preferably invar, which is an alloy containing 36% by mass of nickel, among iron-nickel alloys. The material forming the mask portion 12 may be 42 alloy, which is an alloy containing 42% by mass of nickel. The mask part 12 may also contain additives, such as chromium, manganese, carbon, and cobalt, in addition to iron and nickel.

마스크부 (12) 를 형성하는 재료가 철-니켈-코발트계의 합금인 경우는, 당해 재료는, 철, 니켈, 및, 코발트를 주성분으로 하고, 또한, 예를 들어, 30 질량% 이상의 니켈, 3 질량% 이상의 코발트, 및, 잔여분의 철을 포함하는 합금이다. 철-니켈-코발트계 합금 중에서도, 32 질량% 의 니켈과 4 질량% 이상 5 질량% 이하의 코발트를 포함하는 합금, 즉 슈퍼 인바가, 마스크부 (12) 를 형성하기 위한 재료로서 바람직하다. 슈퍼 인바에 있어서, 32 질량% 의 니켈, 및, 4 질량% 이상 5 질량% 이하의 코발트에 대한 잔여분은, 주성분인 철 이외의 첨가물을 포함하는 경우가 있다. 첨가물은, 예를 들어, 크롬, 망간, 및, 탄소 등이다. 철-니켈-코발트계 합금에 포함되는 첨가물은, 최대 0.5 질량% 이하이다.When the material forming the mask portion 12 is an iron-nickel-cobalt-based alloy, the material has iron, nickel, and cobalt as main components, and has, for example, 30 mass% or more of nickel, It is an alloy containing 3% by mass or more of cobalt and the balance of iron. Among the iron-nickel-cobalt alloys, an alloy containing 32% by mass of nickel and 4% by mass or more and 5% by mass or less of cobalt, ie, super invar, is preferable as a material for forming the mask portion 12 . In the super invar, the balance of 32% by mass of nickel and 4% by mass or more and 5% by mass or less of cobalt may contain additives other than iron as the main component. Additives are, for example, chromium, manganese, and carbon. Additives contained in the iron-nickel-cobalt-based alloy are at most 0.5% by mass or less.

또한, 증착 대상 (S) 은, 유리 기판인 것이 바람직하다. 증착 대상 (S) 이 유리 기판인 경우에는, 마스크부 (12) 가 인바제인 것에 의해, 증착 대상 (S) 의 선팽창 계수와 마스크부 (12) 의 선팽창 계수의 차가 커지는 것이 억제된다. 또한, 증착 대상 (S) 은, 유리 기판과 수지층의 적층체여도 된다. 이 경우에는, 증착 대상 (S) 이 구비하는 수지층에 패턴이 형성되어도 된다. 또, 증착 대상 (S) 은, 수지 필름이어도 된다. 수지층 및 수지 필름을 형성하는 재료는, 예를 들어, 폴리이미드 수지인 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the vapor deposition object S is a glass substrate. When the evaporation object S is a glass substrate, the increase in the difference between the linear expansion coefficient of the evaporation object S and the mask portion 12 is suppressed because the mask portion 12 is made of Invar. In addition, the evaporation object S may be a laminate of a glass substrate and a resin layer. In this case, a pattern may be formed on the resin layer of the deposition target S. Moreover, the vapor deposition object S may be a resin film. It is preferable that the material which forms a resin layer and a resin film is polyimide resin, for example.

도 2 는, 마스크 프레임 (11) 의 이면 (11R) 에 직교하는 면을 따른 증착 마스크 (10) 의 단면 (斷面) 구조를 나타내고 있다. 도 2 는, 증착 마스크 (10) 의 단면 구조 중, 1 개의 프레임 구멍 (11H) 과 1 개의 마스크부 (12) 를 포함하는 부분의 구조만을 나타내고 있다.2 shows a cross-sectional structure of the deposition mask 10 along a plane orthogonal to the back surface 11R of the mask frame 11 . 2 shows only the structure of a portion including one frame hole 11H and one mask portion 12 among the cross-sectional structures of the deposition mask 10 .

도 2 가 나타내는 바와 같이, 마스크 프레임 (11) 은, 본체부 (11A) 와, 복수의 프레임형상부 (11B) 를 구비하고 있다. 본체부 (11A) 는, 표면 (11AF), 표면 (11AF) 과는 반대측의 이면 (11AR), 및, 복수의 제 1 개구부 (11AH) 를 구비하고 있다. 표면 (11AF) 은 제 1 표면의 일례이며, 이면 (11AR) 은 제 1 이면의 일례이다. 제 1 개구부 (11AH) 는, 표면 (11AF) 과 이면 (11AR) 의 사이를 관통하고 있다. 본체부 (11A) 는, 제 1 개구부 (11AH) 에 있어서의 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 에 있어서의 개구가 확개 (擴開) 된 단차부 (AH1) 를 갖고 있다.As FIG. 2 shows, the mask frame 11 is equipped with 11 A of main body parts, and the some frame-shaped part 11B. The body portion 11A includes a front surface 11AF, a rear surface 11AR opposite to the front surface 11AF, and a plurality of first openings 11AH. The front surface 11AF is an example of the first surface, and the rear surface 11AR is an example of the first rear surface. The first opening 11AH penetrates between the front surface 11AF and the rear surface 11AR. The body portion 11A has a stepped portion AH1 in which the opening in the back surface 11AR of the body portion 11A in the first opening portion 11AH is widened.

각 프레임형상부 (11B) 는, 서로 상이한 제 1 개구부 (11AH) 에 있어서의 표면 (11AF) 의 개구와 대향하는 제 2 개구부 (11BH) 를 구분짓도록 단차부 (AH1) 에 끼워 넣어지는 프레임형상을 갖고 있다. 바꿔 말하면, 각 프레임형상부 (11B) 의 제 2 개구부 (11BH) 의 표면 (11BF) 에 있어서의 위치는, 그 밖의 제 2 개구부 (11BH) 의 표면 (11BF) 에 있어서의 위치와 정합하는 제 1 개구부 (11AH) 의 표면 (11AF) 에 있어서의 위치와는 상이한 제 1 개구부 (11AH) 의 표면 (11AF) 에 있어서의 위치와 정합하고 있다.Each of the frame-shaped portions 11B is a frame shape fitted into the stepped portion AH1 so as to separate the opening of the surface 11AF in the first opening portion 11AH that is different from the other and the second opening portion 11BH facing each other. has In other words, the position on the surface 11BF of the second opening 11BH of each frame-shaped portion 11B matches the position on the surface 11BF of the other second openings 11BH. It matches the position on the surface 11AF of the first opening 11AH different from the position on the surface 11AF of the opening 11AH.

각 프레임형상부 (11B) 는, 표면 (11BF) 과 이면 (11BR) 을 구비하고 있다. 표면 (11BF) 은 제 2 표면의 일례이며, 이면 (11BR) 은 제 2 이면의 일례이다. 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 은, 단차부 (AH1) 와는 반대측에 노출된 노출면의 일례이다. 각 프레임형상부 (11B) 는, 본체부 (11A) 의 단차부 (AH1) 로부터의 떼어내기가 가능하게 구성되어 있다.Each frame-shaped portion 11B has a front surface 11BF and a rear surface 11BR. The front surface 11BF is an example of the second surface, and the rear surface 11BR is an example of the second rear surface. The rear surface 11BR of the frame-shaped portion 11B is an example of an exposed surface exposed on the opposite side to the stepped portion AH1. Each frame-shaped portion 11B is configured to be removable from the stepped portion AH1 of the main body portion 11A.

각 마스크부 (12) 는, 복수의 마스크 구멍 (12H) 을 갖고 있다. 각 마스크부 (12) 는, 서로 상이한 1 개의 프레임형상부 (11B) 가 가진 제 2 개구부 (11BH) 를 덮도록, 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 에 접합되어 있다. 바꿔 말하면, 각 마스크부 (12) 는, 그 밖의 마스크부 (12) 가 접합되는 프레임형상부 (11B) 와는 상이한 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 에 접합되어 있다. 마스크부 (12) 는, 예를 들어 용접에 의해 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 에 접합되어 있다.Each mask section 12 has a plurality of mask holes 12H. Each mask portion 12 is bonded to the back surface 11BR of the frame portion 11B so as to cover the second opening portion 11BH of the one frame portion 11B different from each other. In other words, each mask portion 12 is bonded to the back surface 11BR of the frame portion 11B that is different from the frame portion 11B to which the other mask portions 12 are bonded. The mask part 12 is joined to the back surface 11BR of the frame-shaped part 11B by welding, for example.

증착 마스크 (10) 가 구비하는 마스크부 (12) 를 새로운 마스크부 (12) 로 교환할 때에는, 본체부 (11A) 로부터 떼어내는 것이 가능한 프레임형상부 (11B) 와 함께, 마스크부 (12) 를 본체부 (11A) 로부터 떼어내는 것이 가능하다. 이에 따라, 프레임형상부 (11B) 에 대한 마스크부 (12) 의 접합에 의해 프레임형상부 (11B) 에 형성된 접합 자국도 본체부 (11A) 로부터 제거된다. 그 때문에, 본체부 (11A) 에 대하여 새로운 프레임형상부 (11B) 를 끼워 넣고, 또한, 새로운 프레임형상부 (11B) 에 대하여 새로운 마스크부 (12) 를 접합함으로써, 증착 마스크 (10) 를 얻는 것이 가능하다. 이와 같이, 마스크 프레임 (11) 에 대하여 마스크부 (12) 를 재접합할 때에, 마스크 프레임 (11) 이 갖는 접합 자국에 대한 가공이 불필요하기 때문에, 마스크 프레임 (11) 에 대한 마스크부 (12) 의 재접합을 용이하게 할 수 있다.When replacing the mask portion 12 provided in the deposition mask 10 with a new mask portion 12, the mask portion 12 together with the detachable frame portion 11B from the main body portion 11A It is possible to remove from the body part 11A. In this way, the bonding marks formed on the frame portion 11B by bonding of the mask portion 12 to the frame portion 11B are also removed from the main body portion 11A. Therefore, the deposition mask 10 is obtained by inserting a new frame portion 11B into the main body portion 11A and bonding a new mask portion 12 to the new frame portion 11B. It is possible. In this way, when rejoining the mask portion 12 to the mask frame 11, processing of the bonding marks of the mask frame 11 is unnecessary, so that the mask portion 12 to the mask frame 11 can facilitate recombination.

프레임형상부 (11B) 가 단차부 (AH1) 에 위치하기 때문에, 본체부 (11A) 가 단차부 (AH1) 를 갖지 않는 경우에 비해, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 마스크부 (12) 의 사이의 간극을 작게 하는 것이 가능하다. 그 때문에, 증착 마스크 (10) 가 증착 대상에 접했을 경우에, 증착 대상에 있어서 증착 마스크 (10) 가 접한 부분과 증착 마스크 (10) 가 접해 있지 않은 부분에 작용하는 힘의 차이를 작게 하는 것이 가능하다.Since the frame-shaped portion 11B is located on the stepped portion AH1, compared to the case where the body portion 11A does not have the stepped portion AH1, the back surface 11AR of the body portion 11A and the mask portion 12 ) can be made small. Therefore, when the deposition mask 10 is in contact with the deposition target, it is necessary to reduce the difference in force acting on the portion of the deposition target in contact with the deposition mask 10 and the portion to which the deposition mask 10 is not in contact. It is possible.

본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 대향하는 평면에서 보았을 때, 프레임형상부 (11B) 의 외형은 직사각형상을 가기며, 또한, 프레임형상부 (11B) 는, 직사각형상의 영역을 구획하고 있다. 프레임형상부 (11B) 는, 마스크부 (12) 가 접합되는 이면 (11BR) 과, 이면 (11BR) 과는 반대측의 표면 (11BF) 을 구비하고 있다. 이면 (11BR) 은, 표면 (11BF) 에 대하여 본체부 (11A) 의 표면 (11AF) 과는 반대측에 위치하는 면이다.When viewed from a plane facing the back surface 11AR of the body portion 11A, the outer shape of the frame portion 11B is rectangular, and the frame portion 11B defines a rectangular area. . The frame portion 11B includes a back surface 11BR to which the mask portion 12 is joined, and a surface 11BF on the opposite side to the back surface 11BR. The back surface 11BR is a surface located on the opposite side of the front surface 11BF to the front surface 11AF of the body portion 11A.

본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 직교하는 단면에 있어서, 프레임형상부 (11B) 의 제 2 개구부 (11BH) 는, 사다리꼴 형상을 갖고 있다. 한편, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 직교하는 단면에 있어서, 본체부 (11A) 의 각 제 1 개구부 (11AH) 는, 표면 (11AF) 에 개구하고, 또한, 사다리꼴 형상를 갖는 부분과, 이면 (11AR) 에 개구하고, 또한, 장방형상을 갖는 부분이 접속된 형상을 갖고 있다. 프레임형상부 (11B) 가 본체부 (11A) 의 단차부 (AH1) 에 끼워 넣어짐으로써, 본체부 (11A) 의 제 1 개구부 (11AH) 와, 프레임형상부 (11B) 의 제 2 개구부 (11BH) 에 의해, 1 개의 프레임 구멍 (11H) 이 형성된다. 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 직교하는 단면에 있어서, 프레임 구멍 (11H) 은 사다리꼴 형상을 갖고 있다.In a cross section orthogonal to the rear face 11AR of the body portion 11A, the second opening portion 11BH of the frame portion 11B has a trapezoidal shape. On the other hand, in a cross section orthogonal to the back surface 11AR of the body portion 11A, each first opening 11AH of the body portion 11A opens to the front surface 11AF and has a trapezoidal shape; It has a shape in which a portion having an opening in the back surface 11AR and a rectangular shape is connected. When the frame portion 11B is fitted into the stepped portion AH1 of the body portion 11A, the first opening portion 11AH of the body portion 11A and the second opening portion 11BH of the frame portion 11B ), one frame hole 11H is formed. In the cross section orthogonal to the rear face 11AR of the body portion 11A, the frame hole 11H has a trapezoidal shape.

또한, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 직교하는 단면에 있어서, 프레임 구멍 (11H) 은, 사다리꼴 형상 이외의 형상을 가져도 된다. 예를 들어, 프레임 구멍 (11H) 은, 표면 (11AF) 으로부터 이면 (11AR) 을 향해서 끝이 가늘어지는 반원호상을 가져도 되고, 직사각형상을 가져도 된다.In addition, in the cross section orthogonal to the back surface 11AR of the body portion 11A, the frame hole 11H may have a shape other than a trapezoidal shape. For example, the frame hole 11H may have a semicircular arc shape tapering from the front surface 11AF toward the rear surface 11AR, or may have a rectangular shape.

프레임 구멍 (11H) 은, 증착원으로부터 기화 또는 승화한 증착 재료의 통로이다. 프레임 구멍 (11H) 이 사다리꼴 형상, 바꿔 말하면, 본체부 (11A) 의 표면 (11AF) 으로부터 이면 (11AR) 을 향하는 방향을 따라 끝이 가늘어지는 형상을 가짐으로써, 마스크 프레임 (11) 에 의한 섀도우 효과를 억제하는 것이 가능하다.The frame hole 11H is a passage for an evaporation material vaporized or sublimated from an evaporation source. The frame hole 11H has a trapezoidal shape, in other words, a shape tapering along the direction from the front surface 11AF of the body portion 11A to the back surface 11AR, thereby providing a shadow effect by the mask frame 11 it is possible to suppress

본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 에 직교하는 단면에 있어서, 프레임형상부 (11B) 는, 본체부 (11A) 의 단차부 (AH1) 의 깊이 (D) 이상의 두께 (TB) 를 갖고 있다. 본 실시형태에서는, 본체부 (11A) 의 단차부 (AH1) 가 갖는 깊이 (D) 는, 프레임형상부 (11B) 가 갖는 두께 (TB) 에 동등하다. 본체부 (11A) 의 단차부 (AH1) 에 프레임형상부 (11B) 가 끼워 넣어졌을 경우에, 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 은 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 면일 (面一) 이다. 그 때문에, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 이 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 에 대하여 튀어 나오는 것이 억제되고, 이에 따라, 마스크부 (12) 와 증착 대상 (S) 의 사이에 간극이 형성되는 것이 억제된다.In a cross section orthogonal to the back surface 11AR of the body portion 11A, the frame-shaped portion 11B has a thickness TB equal to or greater than the depth D of the stepped portion AH1 of the body portion 11A. In this embodiment, the depth D of the stepped portion AH1 of the main body portion 11A is equal to the thickness TB of the frame-shaped portion 11B. When the frame portion 11B is fitted into the stepped portion AH1 of the body portion 11A, the back surface 11BR of the frame portion 11B is flush with the back surface 11AR of the body portion 11A ( face one). Therefore, the back surface 11AR of the main body portion 11A is suppressed from protruding from the back surface 11BR of the frame-shaped portion 11B, thereby preventing a gap between the mask portion 12 and the deposition target S. The formation of gaps is suppressed.

또한, 프레임형상부 (11B) 의 두께 (TB) 가 단차부 (AH1) 의 깊이 (D) 보다 큰 경우에는, 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 은 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 에 대하여 튀어 나와 있다. 그 때문에, 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 과 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 이 면일인 경우와 마찬가지로, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 이 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 에 대하여 튀어 나오는 것이 억제되고, 이에 따라, 마스크부 (12) 와 증착 대상 (S) 의 사이에 간극이 형성되는 것이 억제된다.Further, when the thickness TB of the frame portion 11B is greater than the depth D of the stepped portion AH1, the back surface 11BR of the frame portion 11B is the back surface 11AR of the body portion 11A. ) sticks out against. Therefore, similarly to the case where the rear surface 11BR of the frame portion 11B and the rear surface 11AR of the body portion 11A are flat, the rear surface 11AR of the body portion 11A is the same as that of the frame portion 11B. Protruding from the back surface 11BR is suppressed, and accordingly, formation of a gap between the mask portion 12 and the deposition target S is suppressed.

본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 직교하는 단면에 있어서, 프레임형상부 (11B) 의 두께 (TB) 는, 본체부 (11A) 의 두께 (TA) 보다 얇다. 본체부 (11A) 의 두께 (TA) 는, 예를 들어 5 ㎜ 이상 50 ㎜ 이하여도 된다. 프레임형상부 (11B) 의 두께 (TB) 는, 예를 들어 100 ㎛ 이상 10 ㎜ 이하여도 된다.In a cross section orthogonal to the back surface 11AR of the body portion 11A, the thickness TB of the frame-shaped portion 11B is smaller than the thickness TA of the body portion 11A. The thickness TA of the body portion 11A may be, for example, 5 mm or more and 50 mm or less. The thickness TB of the frame-shaped portion 11B may be, for example, 100 μm or more and 10 mm or less.

상기 서술한 마스크 프레임 (11) 의 표면 (11F) 은, 본체부 (11A) 의 표면 (11AF) 이다. 이에 비해, 마스크 프레임 (11) 의 이면 (11R) 은, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과, 각 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 에 의해 형성되어 있다.The surface 11F of the mask frame 11 described above is the surface 11AF of the main body portion 11A. In contrast, the rear surface 11R of the mask frame 11 is formed by the rear surface 11AR of the body portion 11A and the rear surface 11BR of each frame portion 11B.

또한, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 에 직교하는 단면에 있어서, 프레임형상부 (11B) 에 있어서 표면 (11BF) 과 이면 (11BR) 을 연결하는 측면은, 프레임형상부 (11B) 내, 또는, 프레임형상부 (11B) 의 두께 방향에 있어서, 프레임형상부 (11B) 에 대한 마스크부 (12) 측에 곡률 중심이 위치하는 곡률을 가져도 된다. 또, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 대향하는 시점에서 보아, 제 2 개구부 (11BH) 에 있어서의 이면 (11BR) 의 개구가 갖는 모서리부는, 당해 개구 내에 곡률 중심이 위치하는 곡률을 가져도 된다. 또, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 대향하는 시점에서 보아, 프레임형상부 (11B) 의 외연이 갖는 모서리부는, 프레임형상부 (11B) 내에 곡률 중심이 위치하는 곡률을 가져도 된다.In addition, in the cross section orthogonal to the back surface 11AR of the body portion 11A, the side surface connecting the front surface 11BF and the back surface 11BR in the frame portion 11B is within the frame portion 11B, Alternatively, in the thickness direction of the frame portion 11B, the curvature may be such that the center of curvature is located on the side of the mask portion 12 relative to the frame portion 11B. In addition, when viewed from a viewpoint facing the rear surface 11AR of the body portion 11A, the corner portion of the opening of the rear surface 11BR in the second opening portion 11BH has a curvature such that the center of curvature is located within the opening. can also In addition, as seen from the viewpoint facing the back surface 11AR of the body portion 11A, the corner portion of the outer edge of the frame portion 11B may have a curvature such that the center of curvature is located within the frame portion 11B.

또, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 대향하는 시점에서 보아, 단차부 (AH1) 의 내연이 갖는 모서리부는, 단차부 (AH1) 의 내연이 둘러싸는 영역 내에 곡률 중심이 위치하는 곡률을 가져도 된다. 또, 본체부 (11A) 의 표면 (11AF) 과 대향하는 시점에서 보아, 제 1 개구부 (11AH) 에 있어서의 표면 (11AF) 의 개구가 갖는 모서리부는, 당해 개구 내에 곡률 중심이 위치하는 곡률을 가져도 된다.In addition, when viewed from the viewpoint facing the back surface 11AR of the body portion 11A, the corner portion of the inner edge of the stepped portion AH1 has a curvature whose center of curvature is located within the region surrounded by the inner edge of the stepped portion AH1. You can have it. In addition, as viewed from a viewpoint facing the surface 11AF of the main body portion 11A, the corner portion of the opening of the surface 11AF in the first opening portion 11AH has a curvature such that the center of curvature is located within the opening. can also

각 모서리부가 곡률을 가짐으로써, 각 모서리부가 곡률을 갖지 않는 경우에 비해, 본체부 (11A) 에 대하여 프레임형상부 (11B) 를 끼워 넣을 때에, 본체부 (11A) 가 갖는 모서리부에 프레임형상부 (11B) 가 접촉하는 것에 기인한 손상이나, 프레임형상부 (11B) 가 갖는 모서리부에 본체부 (11A) 가 접촉하는 것에 기인한 손상이 억제된다.By having each corner portion curvature, compared to the case where each corner portion has no curvature, when the frame portion 11B is fitted into the body portion 11A, the corner portion of the body portion 11A is the frame portion. Damage due to contact of 11B and damage due to contact of main body portion 11A to the corner portion of frame-shaped portion 11B are suppressed.

마스크 프레임 (11) 은, 본체부 (11A) 에 프레임형상부 (11B) 를 고정시키는 고정부를 구비하는 것이 가능하다. 도 3 은, 고정부의 일례를 모식적으로 나타내고 있다. 고정부는, 본체부 (11A) 로부터의 떼어내기가 가능하게 프레임형상부 (11B) 를 본체부 (11A) 에 고정시킨다.The mask frame 11 can be equipped with a fixing part for fixing the frame-shaped part 11B to the main body part 11A. 3 schematically shows an example of a fixing part. The fixing portion fixes the frame-shaped portion 11B to the body portion 11A so that it can be removed from the body portion 11A.

프레임형상부 (11B) 가, 자성을 가진 금속에 의해 형성되는 경우에는, 본체부 (11A) 는, 본체부 (11A) 로부터의 떼어내기가 가능하게, 자기 흡착에 의해 프레임형상부 (11B) 를 본체부 (11A) 에 고정시키는 고정부를 구비하는 것이 가능하다. 이에 따라, 본체부 (11A) 에 대하여, 프레임형상부 (11B) 가 자기 흡착되기 때문에, 나사 등의 체결 부재를 사용하여 본체부 (11A) 에 대하여 프레임형상부 (11B) 를 고정시키는 경우에 비해, 본체부 (11A) 에 대한 프레임형상부 (11B) 의 위치에 있어서의 정밀도가 저하되기 어렵다.In the case where the frame portion 11B is formed of a metal having magnetism, the body portion 11A can be detached from the body portion 11A, and the frame portion 11B is held by magnetic attraction. It is possible to provide a fixing part fixed to the body part 11A. As a result, since the frame portion 11B is magnetically attracted to the body portion 11A, compared to the case where the frame portion 11B is fixed to the body portion 11A using fastening members such as screws. , the accuracy of the position of the frame-shaped portion 11B relative to the body portion 11A is less likely to decrease.

예를 들어, 도 3 이 나타내는 바와 같이, 본체부 (11A) 는, 본체부 (11A) 의 내부에 자석 (11AM) 을 구비할 수 있다. 자석 (11AM) 은, 예를 들어 영구자석이다. 자석 (11AM) 은, 제 1 상태와 제 2 상태를 갖는 것이 가능하다. 제 1 상태는, 자석 (11AM) 이 단차부 (AH1) 를 구획하는 면을 따라 위치하는 상태이며, 이에 따라, 자석 (11AM) 은, 자기 흡착에 의해 프레임형상부 (11B) 를 본체부 (11A) 에 고정시킨다. 한편, 제 2 상태는, 제 1 상태에 비해, 단차부 (AH1) 를 구획하는 면으로부터 자석 (11AM) 이 떨어진 상태이며, 자석 (11AM) 이 제 2 상태를 갖는 경우에는, 자석 (11AM) 은, 본체부 (11A) 에 대한 프레임형상부 (11B) 의 고정을 해제한다.For example, as FIG. 3 shows, 11 A of main-body parts can equip the inside of 11 A of main-body parts with magnet 11AM. The magnet 11AM is a permanent magnet, for example. The magnet 11AM can have a first state and a second state. The first state is a state in which the magnet 11AM is positioned along the plane partitioning the stepped portion AH1, whereby the magnet 11AM magnetically attracts the frame portion 11B to the body portion 11A. ) is fixed at On the other hand, the second state is a state in which the magnet 11AM is separated from the surface dividing the stepped portion AH1 compared to the first state, and when the magnet 11AM has the second state, the magnet 11AM , the fixation of the frame-shaped portion 11B to the body portion 11A is released.

그 때문에, 자석 (11AM) 이 제 1 상태인 경우에, 본체부 (11A) 에 프레임형상부 (11B) 를 고정시키는 것이 가능하다. 그리고, 자석 (11AM) 의 상태를 제 1 상태로부터 제 2 상태로 변경함으로써, 본체부 (11A) 에 고정된 프레임형상부 (11B) 를 본체부 (11A) 로부터 떼어내는 것이 가능하다.Therefore, when the magnet 11AM is in the first state, it is possible to fix the frame-shaped portion 11B to the body portion 11A. Then, by changing the state of the magnet 11AM from the first state to the second state, it is possible to remove the frame-shaped portion 11B fixed to the body portion 11A from the body portion 11A.

도 4 는, 프레임형상부 (11B) 에 접합되는 마스크부 (12) 의 평면 구조를 모식적으로 나타내고 있다. 도 5 는, 마스크부 (12) 가 넓어지는 평면과 직교하는 단면을 따른 마스크부 (12) 의 구조를 나타내고 있다.4 schematically shows a planar structure of the mask portion 12 bonded to the frame portion 11B. 5 shows the structure of the mask portion 12 along a cross section orthogonal to the plane in which the mask portion 12 spreads.

도 4 가 나타내는 바와 같이, 마스크부 (12) 는, 복수의 마스크 구멍 (12H) 이 형성된 마스크 영역 (12A) 과, 마스크 구멍 (12H) 을 갖지 않는 주변 영역 (12B) 을 구비하고 있다. 주변 영역 (12B) 은, 마스크 영역 (12A) 을 둘러싸고 있다. 주변 영역 (12B) 의 일부가, 프레임형상부 (11B) 에 접합되어 있다.As FIG. 4 shows, the mask part 12 is equipped with the mask area|region 12A in which the some mask hole 12H was formed, and the peripheral area|region 12B which does not have the mask hole 12H. The peripheral region 12B surrounds the mask region 12A. A part of the peripheral region 12B is joined to the frame-shaped portion 11B.

도 4 가 나타내는 예에서는, 마스크부 (12) 는, 마스크 영역 (12A) 을 1 개만 구비하고 있다. 또한, 마스크부 (12) 는, 복수의 마스크 영역 (12A) 을 구비해도 된다. 마스크부 (12) 가 복수의 마스크 영역 (12A) 을 구비하는 경우에는, 서로 이웃하는 마스크 영역 (12A) 은, 주변 영역 (12B) 에 의해 서로로부터 구분되어 있다. 또, 증착 마스크 (10) 가 구비하는 복수의 마스크부 (12) 전부에 있어서, 각 마스크부 (12) 가 갖는 마스크 영역 (12A) 의 수가 동일해도 된다. 혹은, 복수의 마스크부 (12) 에는, 제 1 수의 마스크 영역 (12A) 을 구비하는 마스크부 (12) 와, 제 2 수의 마스크 영역 (12A) 을 구비하는 마스크부 (12) 가 포함되어도 된다. 제 2 수는, 제 1 수와는 상이하다.In the example shown in FIG. 4 , the mask section 12 includes only one mask region 12A. Moreover, the mask part 12 may be provided with 12 A of several mask areas. When the mask section 12 includes a plurality of mask regions 12A, mask regions 12A adjacent to each other are separated from each other by peripheral regions 12B. In all of the plurality of mask portions 12 included in the deposition mask 10, the number of mask regions 12A of each mask portion 12 may be the same. Alternatively, even if the plurality of mask portions 12 include mask portions 12 provided with the first number of mask regions 12A and mask portions 12 provided with the second number of mask regions 12A, do. The second number is different from the first number.

도 5 가 나타내는 바와 같이, 마스크부 (12) 는, 표면 (12F) 과, 표면 (12F) 과는 반대측의 이면 (12R) 을 구비하고 있다. 표면 (12F) 은, 마스크 프레임 (11) 의 프레임 구멍 (11H) 이 구획하는 영역에 노출됨으로써, 증착 장치 내에 있어서 증착원과 대향하기 위한 면이다. 이면 (12R) 은, 증착 장치 내에 있어서, 증착 대상 (S) 과 접촉하기 위한 면이다.As FIG. 5 shows, the mask part 12 is equipped with the front surface 12F, and the back surface 12R on the opposite side to the front surface 12F. The surface 12F is a surface for facing an evaporation source in the evaporation apparatus by being exposed to a region partitioned by the frame hole 11H of the mask frame 11 . The back surface 12R is a surface for contacting the evaporation target S in the evaporation apparatus.

마스크부 (12) 는, 단일의 금속판으로 형성되어도 되고, 복수의 금속판으로 형성되어도 된다. 마스크부 (12) 가 복수의 금속판으로 형성되는 경우에는, 복수의 금속판이 마스크부 (12) 의 두께 방향에 있어서 겹쳐 쌓여 있다. 마스크 구멍 (12H) 을 구획하는 구멍측면은, 마스크부 (12) 의 두께 방향을 따른 단면에 있어서, 표면 (12F) 으로부터 이면 (12R) 을 향해서 끝이 가늘어지는 반원호상을 갖고 있다. 각 마스크 구멍 (12H) 은, 서로 이웃하는 마스크 구멍 (12H) 으로부터 떨어져 있다. 또한, 각 마스크 구멍 (12H) 은, 서로 이웃하는 마스크 구멍 (12H) 에 이어져 있어도 된다.The mask section 12 may be formed of a single metal plate or may be formed of a plurality of metal plates. In the case where the mask portion 12 is formed of a plurality of metal plates, the plurality of metal plates are piled up in the thickness direction of the mask portion 12 . The side face of the hole that divides the mask hole 12H has a semicircular arc shape tapering from the front surface 12F to the back surface 12R in a cross section along the thickness direction of the mask portion 12 . Each mask hole 12H is separated from the adjacent mask hole 12H. In addition, each mask hole 12H may be connected to the mask hole 12H adjacent to each other.

표면 (12F) 은, 마스크 프레임 (11) 의 프레임형상부 (11B) 에 접합되는 면이다. 표면 (12F) 은, 마스크 구멍 (12H) 의 개구인 표면 개구 (H1) 를 포함하고 있다. 이면 (12R) 은, 마스크 구멍 (12H) 의 개구인 이면 개구 (H2) 를 포함하고 있다. 표면 개구 (H1) 의 크기는, 표면 (12F) 과 대향하는 시점에서 보아, 이면 개구 (H2) 보다 크다. 각 마스크 구멍 (12H) 은, 증착원으로부터 기화 또는 승화한 증착 입자가 통과하는 통로이다. 증착원으로부터 기화 또는 승화한 증착 입자는, 표면 개구 (H1) 로부터 이면 개구 (H2) 를 향해서 마스크 구멍 (12H) 내를 진입한다. 마스크 구멍 (12H) 에 있어서, 표면 개구 (H1) 가 이면 개구 (H2) 보다 큰 것에 의해, 마스크부 (12) 를 향해서 비행하는 증착 입자로부터 증착 대상을 보았을 때에, 증착 마스크 (10) 에 의해 그림자가 되는 부분을 줄이는 것, 즉, 새도우 효과를 억제하는 것이 가능하다.The surface 12F is a surface bonded to the frame-shaped portion 11B of the mask frame 11 . The surface 12F includes a surface opening H1 that is an opening of the mask hole 12H. The back surface 12R includes a back surface opening H2 that is an opening of the mask hole 12H. The size of the front opening H1 is larger than that of the rear opening H2 when viewed from a viewpoint facing the front surface 12F. Each mask hole 12H is a passage through which vaporized or sublimated vaporized particles from the vapor source pass. Vapor deposition particles vaporized or sublimated from the deposition source enter the inside of the mask hole 12H from the front opening H1 toward the back opening H2. In the mask hole 12H, since the surface opening H1 is larger than the back surface opening H2, when the deposition target is viewed from the deposition particles flying toward the mask portion 12, the shadow is cast by the deposition mask 10. It is possible to reduce the portion that becomes , that is, to suppress the shadow effect.

마스크부 (12) 의 두께는, 예를 들어, 1 ㎛ 이상 15 ㎛ 이하이다. 이와 같은 얇은 마스크부 (12) 이면, 표면 개구 (H1) 로부터 들어가는 증착 입자에 대한 섀도우 효과를 억제하는 것이 가능하다.The thickness of the mask part 12 is 1 micrometer or more and 15 micrometers or less, for example. With such a thin mask portion 12, it is possible to suppress a shadow effect on deposited particles entering from the surface opening H1.

[증착 마스크의 제조 방법] [Method of manufacturing vapor deposition mask]

도 6 내지 도 15 를 참조하여, 증착 마스크 (10) 의 제조 방법을 설명한다.A method of manufacturing the deposition mask 10 will be described with reference to FIGS. 6 to 15 .

증착 마스크 (10) 의 제조 방법은, 표면 (11BF) 과 이면 (11BR) 의 사이를 관통하는 제 2 개구부 (11BH) 를 가진 프레임형상부 (11B) 에 마스크부 (12) 를 접합하는 것, 및, 표면 (11AF) 과 이면 (11AR) 의 사이를 관통하는 제 1 개구부 (11AH) 를 가진 본체부 (11A) 에, 제 2 개구부 (11BH) 를 가진 프레임형상부 (11B) 를 장착하는 것을 포함한다. 마스크부 (12) 를 접합하는 것은, 제 2 개구부 (11BH) 를 덮도록 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 에 마스크부 (12) 를 접합하는 것을 포함한다.A method of manufacturing the deposition mask 10 includes bonding the mask portion 12 to a frame portion 11B having a second opening 11BH penetrating between the front surface 11BF and the back surface 11BR, and , attaching the frame-shaped portion 11B having the second opening portion 11BH to the main body portion 11A having the first opening portion 11AH penetrating between the front surface 11AF and the rear surface 11AR. . Bonding the mask portion 12 includes bonding the mask portion 12 to the back surface 11BR of the frame-shaped portion 11B so as to cover the second opening portion 11BH.

프레임형상부 (11B) 를 장착하는 것은, 본체부 (11A) 의 표면 (11AF) 에 대한 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 측에 있어서, 제 2 개구부 (11BH) 의 표면 (11BF) 에 있어서의 개구가 제 1 개구부 (11AH) 에 있어서의 표면 (11AF) 의 개구와 대향하고, 또한, 본체부 (11A) 로부터의 떼어내기가 가능하게 프레임형상부 (11B) 를 장착하는 것을 포함한다. 즉, 프레임형상부 (11B) 를 장착하는 것은, 제 2 표면에 있어서의 제 2 개구부 (11BH) 의 위치가 제 1 표면에 있어서의 제 1 개구부 (11AH) 의 위치와 정합하도록 제 1 이면측에 있어서 프레임형상부 (11B) 를 본체부 (11A) 에 떼어내기 가능하게 장착하는 것을 포함한다. 이하, 도면을 참조하여, 증착 마스크 (10) 의 제조 방법을 보다 상세하게 설명한다.Attaching the frame-shaped portion 11B is on the back surface 11AR side of the body portion 11A relative to the front surface 11AF of the body portion 11A, and on the front surface 11BF of the second opening 11BH. is opposite to the opening of the surface 11AF in the first opening 11AH, and the frame-shaped portion 11B is attached so that it can be detached from the body portion 11A. That is, attaching the frame-shaped portion 11B to the first rear side so that the position of the second opening 11BH on the second surface matches the position of the first opening 11AH on the first surface. includes attaching the frame-shaped portion 11B to the body portion 11A in a detachable manner. Hereinafter, a method of manufacturing the deposition mask 10 will be described in more detail with reference to the drawings.

또한, 도 6 내지 도 11 에는, 마스크부 (12) 를 형성하기 위한 기재를 준비하는 공정으로부터 마스크부 (12) 를 형성할 때까지의 공정이 도시되어 있다. 또, 도 12 내지 도 15 에는, 마스크부 (12) 를 마스크 프레임 (11) 에 접합하는 공정으로부터, 마스크부 (12) 로부터 지지체를 떼어내는 공정까지가 도시되어 있다. 또한, 도 12 내지 도 15 에서는, 도시 편의상, 마스크 프레임 (11) 이 1 개의 프레임 구멍 (11H) 만을 갖고, 또한, 증착 마스크 (10) 가 1 개의 마스크부 (12) 를 갖는 구조로서 도시되어 있다.6 to 11 show steps from preparing a substrate for forming the mask portion 12 to forming the mask portion 12 . In addition, FIGS. 12 to 15 show steps from bonding the mask portion 12 to the mask frame 11 to the step of removing the support from the mask portion 12 . 12 to 15, for convenience of illustration, the mask frame 11 has only one frame hole 11H, and the deposition mask 10 has one mask portion 12. It is shown as a structure. .

도 6 내지 도 11 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 (10) 의 제조 방법에서는, 먼저, 마스크부 (12) 를 형성하기 위한 기재 (20) 가 준비된다 (도 6 참조). 마스크부 (12) 의 기재 (20) 는, 마스크부 (12) 를 형성하기 위한 금속판 (21) 과, 금속판 (21) 을 지지하기 위한 지지체 (22) 를 구비하고 있다. 지지체 (22) 는, 수지층 (22a) 및 유리 기판 (22b) 으로 형성되어 있다. 기재 (20) 에 있어서, 수지층 (22a) 이, 금속판 (21) 과 유리 기판 (22b) 사이에 끼워져 있다.As FIGS. 6 to 11 show, in the manufacturing method of the deposition mask 10, first, the substrate 20 for forming the mask portion 12 is prepared (see FIG. 6). The base material 20 of the mask part 12 is equipped with the metal plate 21 for forming the mask part 12, and the support body 22 for supporting the metal plate 21. The support body 22 is formed of the resin layer 22a and the glass substrate 22b. In the substrate 20, a resin layer 22a is sandwiched between a metal plate 21 and a glass substrate 22b.

상기 서술한 바와 같이, 금속판 (21) 은, 철-니켈계 합금으로 형성되어도 된다. 유리 기판 (22b) 은, 무알칼리 유리, 석영 유리, 결정화 유리, 붕규산 유리, 고규산 유리, 다공질 유리, 및, 소다라임 유리로 구성되는 군에서 선택되는 어느 1 개로 형성되어도 된다.As described above, the metal plate 21 may be formed of an iron-nickel alloy. The glass substrate 22b may be formed of any one selected from the group consisting of non-alkali glass, quartz glass, crystallized glass, borosilicate glass, high silica glass, porous glass, and soda lime glass.

이어서, 금속판 (21) 을 표면 (21F) 으로부터 에칭함으로써, 금속판 (21) 의 두께를 얇게 한다. 예를 들어, 금속판 (21) 의 두께를 에칭 전의 금속판 (21) 두께의 1/2 이하의 두께까지 줄이는 것이 가능하다 (도 7 참조). 그리고, 금속판 (21) 의 표면 (21F) 에 레지스트층 (PR) 이 형성된다 (도 8 참조). 레지스트층 (PR) 에 대한 노광, 및, 현상이 실시됨으로써, 표면 (21F) 에 레지스트 마스크 (RM) 가 형성된다 (도 9 참조).Next, the thickness of the metal plate 21 is made thin by etching the metal plate 21 from the surface 21F. For example, it is possible to reduce the thickness of the metal plate 21 to a thickness of 1/2 or less of the thickness of the metal plate 21 before etching (see Fig. 7). Then, a resist layer PR is formed on the surface 21F of the metal plate 21 (see Fig. 8). By performing exposure and development to the resist layer PR, a resist mask RM is formed on the surface 21F (see Fig. 9).

다음으로, 레지스트 마스크 (RM) 를 사용하여 금속판 (21) 이 표면 (21F) 으로부터 웨트 에칭된다. 이에 따라, 금속판 (21) 에 복수의 마스크 구멍 (12H) 이 형성된다 (도 10 참조). 금속판 (21) 의 웨트 에칭에서는, 표면 개구 (H1) 가 표면 (21F) 에 형성되고, 그 후에, 표면 개구 (H1) 보다 작은 이면 개구 (H2) 가 이면 (21R) 에 형성된다. 이어서, 레지스트 마스크 (RM) 가 표면 (21F) 으로부터 제거됨으로써, 마스크부 (12) 가 제조된다 (도 11 참조). 또한, 금속판 (21) 의 표면 (21F) 이, 마스크부 (12) 의 표면 (12F) 에 대응하고, 금속판 (21) 의 이면 (21R) 이, 마스크부 (12) 의 이면 (12R) 에 대응한다.Next, the metal plate 21 is wet etched from the surface 21F using the resist mask RM. Thereby, a plurality of mask holes 12H are formed in the metal plate 21 (see Fig. 10). In the wet etching of the metal plate 21, a surface opening H1 is formed in the front surface 21F, and then a back surface opening H2 smaller than the surface opening H1 is formed in the back surface 21R. Then, the resist mask RM is removed from the surface 21F, thereby manufacturing the mask portion 12 (see Fig. 11). In addition, the front surface 21F of the metal plate 21 corresponds to the front surface 12F of the mask part 12, and the back surface 21R of the metal plate 21 corresponds to the back surface 12R of the mask part 12. do.

기재 (20) 를 준비하는 공정 (도 6 참조) 에는, 금속판 (21) 과 유리 기판 (22b) 의 사이에 수지층 (22a) 을 끼우고, 수지층 (22a) 을 개재하여 금속판 (21) 과 유리 기판 (22b) 을 접합하는 공정이 포함된다. 금속판 (21), 수지층 (22a), 및, 유리 기판 (22b) 이 접합될 때에는, 먼저, 금속판 (21) 및 유리 기판 (22b) 의 각각이 갖는 면 중에서, 적어도 수지층 (22a) 과 접하는 면에 CB (Chemical bonding) 처리가 실시된다. 금속판 (21) 및 유리 기판 (22b) 에 있어서 CB 처리가 실시되는 면이 대상면이다. CB 처리에서는, 예를 들어, 대상면에 약액이 도포됨으로써, 수지층 (22a) 에 대하여 반응성을 갖는 관능기 등이 대상면에 부여된다. CB 처리에서는, 예를 들어 Si 계 화합물 등이 대상면에 부여된다.In the step of preparing the substrate 20 (see FIG. 6 ), a resin layer 22a is sandwiched between the metal plate 21 and the glass substrate 22b, and the metal plate 21 and the resin layer 22a are interposed therebetween. The process of bonding the glass substrate 22b is included. When the metal plate 21, the resin layer 22a, and the glass substrate 22b are bonded, first, among the surfaces each of the metal plate 21 and the glass substrate 22b have, at least in contact with the resin layer 22a. CB (Chemical bonding) treatment is performed on the surface. The surface on which the CB process is performed in the metal plate 21 and the glass substrate 22b is the target surface. In the CB treatment, for example, a functional group having reactivity with respect to the resin layer 22a is imparted to the target surface by applying a chemical liquid to the target surface. In the CB treatment, for example, a Si-based compound or the like is applied to the target surface.

그리고, 금속판 (21), 수지층 (22a), 및, 유리 기판 (22b) 을 기재된 순서로 겹친 후에, 이들을 열압착한다. 이 때에, 금속판 (21) 의 대상면과, 유리 기판 (22b) 의 대상면을, 수지층 (22a) 에 접촉시킨다. 이에 따라, 대상면에 부여된 관능기와, 수지층 (22a) 의 표면에 위치하는 관능기가 반응함으로써, 금속판 (21) 과 수지층 (22a) 이 접합되고, 또한, 유리 기판 (22b) 과 수지층 (22a) 이 접합된다.And after laminating the metal plate 21, the resin layer 22a, and the glass substrate 22b in the order of description, these are bonded by thermal compression. At this time, the target surface of the metal plate 21 and the target surface of the glass substrate 22b are brought into contact with the resin layer 22a. As a result, when the functional group provided to the target surface and the functional group located on the surface of the resin layer 22a react, the metal plate 21 and the resin layer 22a are bonded together, and furthermore, the glass substrate 22b and the resin layer (22a) is joined.

수지층 (22a) 은, 폴리이미드제인 것이 바람직하다. 이 경우에는, 금속판 (21) 의 선팽창 계수, 수지층 (22a) 의 선팽창 계수, 및, 유리 기판 (22b) 의 선팽창 계수가 동일한 정도이다. 그 때문에, 증착 마스크 (10) 를 제조하는 과정에 있어서, 금속판 (21), 수지층 (22a), 및, 유리 기판 (22b) 으로 형성되는 적층체가 가열되어도, 적층체를 형성하는 층간의 선팽창 계수의 차에 기인한 적층체의 휨이 억제된다.It is preferable that the resin layer 22a is made of polyimide. In this case, the linear expansion coefficient of the metal plate 21, the linear expansion coefficient of the resin layer 22a, and the linear expansion coefficient of the glass substrate 22b are about the same. Therefore, in the process of manufacturing the deposition mask 10, even if the laminate formed of the metal plate 21, the resin layer 22a, and the glass substrate 22b is heated, the linear expansion coefficient between the layers forming the laminate is heated. Warpage of the laminate due to the difference in is suppressed.

금속판 (21) 을 제조하는 방법에는, 전해 또는 압연이 사용된다. 이들 방법에 의해 얻어진 금속판 (21) 의 후처리로서, 연마나 어닐 등이 적절히 사용된다. 금속판 (21) 의 제조에 전해가 사용되는 경우에는, 전해에 사용되는 전극의 표면에 금속판 (21) 이 형성된다. 그 후, 전극의 표면으로부터 금속판 (21) 이 이형 (離型) 된다. 이에 따라, 금속판 (21) 이 제조된다. 상기 서술한 접합 공정에서는, 수지층 (22a) 을 개재하여 10 ㎛ 이상의 두께를 갖는 금속판 (21) 을 유리 기판 (22b) 에 접합하는 것이 바람직하다. 또한, 금속판 (21) 이 압연에 의해 제조되는 경우에는, 금속판 (21) 의 두께는 15 ㎛ 이상인 것이 바람직하다. 금속판 (21) 이 전해에 의해 제조되는 경우에는, 금속판 (21) 의 두께는 10 ㎛ 이상인 것이 바람직하다.Electrolysis or rolling is used for the method of manufacturing the metal plate 21. As a post-processing of the metal plate 21 obtained by these methods, polishing, annealing, etc. are used suitably. When electrolysis is used for manufacture of the metal plate 21, the metal plate 21 is formed on the surface of the electrode used for electrolysis. After that, the metal plate 21 is released from the surface of the electrode. In this way, the metal plate 21 is manufactured. In the bonding process mentioned above, it is preferable to bond the metal plate 21 which has a thickness of 10 micrometers or more to the glass substrate 22b via the resin layer 22a. Moreover, when the metal plate 21 is manufactured by rolling, it is preferable that the thickness of the metal plate 21 is 15 micrometers or more. When the metal plate 21 is manufactured by electrolysis, it is preferable that the thickness of the metal plate 21 is 10 micrometers or more.

금속판 (21) 에 레지스트 마스크 (RM) 를 형성하기 전에 금속판 (21) 의 두께를 줄이는 박판화 공정 (도 7 참조) 에서는, 웨트 에칭을 사용할 수 있다. 상기 서술한 바와 같이, 박판화 공정에서는, 박판화 후의 금속판 (21) 의 두께를 박판화 전의 금속판 (21) 의 두께의 1/2 이하로까지 줄이는 것이 가능하다. 그 때문에, 금속판 (21) 의 두께를, 마스크부 (12) 에 있어서의 두께의 2 배 이상으로 하는 것이 가능하다. 이에 따라, 마스크부 (12) 에 요구되는 두께가 상기 서술한 바와 같이 15 ㎛ 이하라고 하는 얇기이더라도, 금속판 (21) 이 유리 기판 (22b) 에 접합되기 전에 있어서, 증착 마스크 (10) 가 갖는 마스크부 (12) 보다 강성이 높은 금속판 (21) 을 사용할 수 있다. 그 때문에, 마스크부 (12) 와 동일한 두께를 가진 금속판 (21) 을 유리 기판 (22b) 에 접합하는 것에 비해서, 금속판 (21) 을 유리 기판 (22b) 에 접합하는 것이 보다 용이하다. 또한, 금속판 (21) 의 두께를 줄이는 공정은, 생략할 수 있다.In the thinning process of reducing the thickness of the metal plate 21 before forming the resist mask RM on the metal plate 21 (see Fig. 7), wet etching can be used. As described above, in the thinning process, it is possible to reduce the thickness of the metal plate 21 after thinning to 1/2 or less of the thickness of the metal plate 21 before thinning. Therefore, it is possible to make the thickness of the metal plate 21 twice or more of the thickness in the mask part 12. Accordingly, even if the thickness required for the mask portion 12 is as thin as 15 μm or less as described above, before the metal plate 21 is bonded to the glass substrate 22b, the mask that the deposition mask 10 has A metal plate 21 having higher rigidity than the portion 12 can be used. Therefore, it is easier to bond the metal plate 21 to the glass substrate 22b than to bond the metal plate 21 having the same thickness as the mask portion 12 to the glass substrate 22b. In addition, the process of reducing the thickness of the metal plate 21 can be omitted.

금속판 (21) 을 웨트 에칭함으로써 박판화 하기 위한 에칭액에는, 산성의 에칭액을 사용할 수 있다. 금속판 (21) 이 인바로 형성되는 경우에는, 에칭액은, 인바를 에칭하는 것이 가능한 에칭액이면 된다. 산성의 에칭액은, 예를 들어, 과염소산제2철액, 및, 과염소산제2철액과 염화제2철액의 혼합액 중 어느 것에 대하여, 과염소산, 염산, 황산, 포름산, 및, 아세트산 중 어느 것을 혼합한 용액이어도 된다. 표면 (21F) 을 에칭하는 방식에는, 딥식, 스프레이식, 및, 스핀식 중 어느 것을 사용할 수 있다.An acidic etchant can be used for the etchant for thinning the metal plate 21 by wet etching. When the metal plate 21 is formed from invar, the etchant may be any etchant capable of etching the invar. The acidic etchant may be, for example, a solution obtained by mixing any of perchloric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid, and acetic acid with either of the ferric perchlorate solution and the mixed solution of the ferric perchlorate solution and the ferric chloride solution. do. As a method of etching the surface 21F, any of a dip method, a spray method, and a spin method can be used.

금속판 (21) 에 복수의 마스크 구멍 (12H) 을 형성하기 위한 에칭 공정 (도 10 참조) 에서는, 에칭액으로서 산성의 에칭액을 사용할 수 있다. 금속판 (21) 이 인바로 형성될 때에는, 에칭액에는, 상기 서술한 박판화 공정에서 사용하는 것이 가능한 에칭액 중 어느 것을 사용할 수 있다. 마스크 구멍 (12H) 을 형성하기 위한 에칭의 방식에도, 박판화 공정에서 사용하는 것이 가능한 방식 중 어느 것을 사용할 수 있다.In the etching process for forming the plurality of mask holes 12H in the metal plate 21 (see Fig. 10), an acidic etchant can be used as the etchant. When the metal plate 21 is formed in bar, any of the etchants that can be used in the thinning process described above can be used for the etchant. As for the etching method for forming the mask hole 12H, any of the methods usable in the thinning process can be used.

또한, 기재 (20) 를 준비하는 공정은, 금속판 (21), 수지층 (22a), 및, 유리 기판 (22b) 을 서로 접합하기 전에, 금속판 (21) 에 있어서의 1 개의 면으로부터 금속판 (21) 을 박판화 하는 공정을 포함할 수 있다. 이 경우에는, 기재 (20) 를 준비하는 공정이 포함하는 박판화 공정이 제 1 박판화 공정이고, 기재 (20) 를 준비하는 공정의 후에 실시되는 박판화 공정이 제 2 박판화 공정이다.In addition, in the step of preparing the substrate 20, before bonding the metal plate 21, the resin layer 22a, and the glass substrate 22b to each other, the metal plate 21 is removed from one surface of the metal plate 21. ) may include a process of thinning. In this case, the thinning process included in the process of preparing the substrate 20 is the first thinning process, and the thinning process performed after the process of preparing the substrate 20 is the second thinning process.

제 1 박판화 공정에 있어서, 금속판 (21) 은, 제 1 면으로부터 에칭됨으로써 박판화 된다. 이에 반해, 제 2 박판화 공정에 있어서, 금속판 (21) 은, 제 1 면과는 상이한 제 2 면으로부터 에칭됨으로써 박판화 된다. 제 1 면이 에칭된 후에 얻어지는 면이, 금속판 (21) 에 있어서 수지층 (22a) 과 접합되는 면이며, 또한, CB 처리가 실시되는 면이다.In the first thinning step, the metal plate 21 is thinned by being etched from the first surface. On the other hand, in the second thinning step, the metal plate 21 is thinned by being etched from a second surface different from the first surface. The surface obtained after the 1st surface is etched is a surface bonded to the resin layer 22a in the metal plate 21, and is also a surface on which the CB process is performed.

금속판 (21) 의 제 1 면과 제 2 면의 양방을 에칭함으로써, 제 1 면과 제 2 면의 양방으로부터 금속판 (21) 의 잔류 응력을 조절하는 것이 가능하다. 이에 따라, 일방의 면만을 에칭하는 경우에 비해, 에칭 후에 있어서의 금속판 (21) 의 잔류 응력에 치우침이 생기는 것이 억제된다. 그 때문에, 금속판 (21) 으로부터 얻어진 마스크부 (12) 를 마스크 프레임 (11) 에 접합했을 경우에, 마스크부 (12) 에 주름이 발생하는 것이 억제된다. 금속판 (21) 에 있어서, 제 1 면의 에칭에 의해 얻어진 면이 마스크판의 이면 (12R) 에 대응하고, 제 2 면의 에칭에 의해 얻어진 면이 마스크부 (12) 의 표면 (12F) 에 대응한다.By etching both the first surface and the second surface of the metal plate 21, it is possible to adjust the residual stress of the metal plate 21 from both the first surface and the second surface. Thereby, compared with the case where only one surface is etched, the occurrence of bias in the residual stress of the metal plate 21 after etching is suppressed. Therefore, when the mask part 12 obtained from the metal plate 21 is joined to the mask frame 11, the generation of wrinkles in the mask part 12 is suppressed. In the metal plate 21, the surface obtained by etching the first surface corresponds to the back surface 12R of the mask plate, and the surface obtained by etching the second surface corresponds to the surface 12F of the mask section 12. do.

또한, 금속판 (21) 을 제 1 면으로부터 에칭할 때의 에칭량이 제 1 에칭량이고, 제 2 면으로부터 에칭할 때의 에칭량이 제 2 에칭량이다. 제 1 에칭량과 제 2 에칭량은, 동일해도 되고, 상이해도 된다. 제 1 에칭량과 제 2 에칭량이 상이한 경우에는, 제 1 에칭량이 제 2 에칭량보다 커도 되고, 제 2 에칭량이 제 1 에칭량보다 커도 된다. 단, 제 2 에칭량이 제 1 에칭량보다 큰 경우에는, 금속판 (21) 이 수지층 (22a) 과 유리 기판 (22b) 에 의해 지지된 상태에서의 에칭량이 보다 크기 때문에, 금속판 (21) 의 취급성이 좋고, 결과적으로, 금속판 (21) 의 에칭이 용이하다.In addition, the etching amount at the time of etching the metal plate 21 from the 1st surface is a 1st etching amount, and the etching amount at the time of etching from the 2nd surface is a 2nd etching amount. The 1st etching amount and the 2nd etching amount may be same or different. When the 1st etching amount and the 2nd etching amount differ, the 1st etching amount may be larger than the 2nd etching amount, and the 2nd etching amount may be larger than the 1st etching amount. However, since the etching amount in the state in which the metal plate 21 is supported by the resin layer 22a and the glass substrate 22b is larger when the 2nd etching amount is larger than the 1st etching amount, handling of the metal plate 21 The properties are good, and as a result, the metal plate 21 is easily etched.

도 12 내지 도 15 가 나타내는 바와 같이, 마스크 프레임 (11) 의 일부와 마스크부 (12) 일부가 접합된다 (도 12 참조). 이 때에, 각 마스크부 (12) 가 서로 상이한 프레임 구멍 (11H) 을 1 개씩 덮도록, 복수의 마스크부 (12) 가 단일의 마스크 프레임 (11) 에 접합된다. 그리고, 수지층 (22a) 으로부터 유리 기판 (22b) 이 떼어내진다 (도 14 참조). 이어서, 각 마스크부 (12) 로부터 수지층 (22a) 이 떼어내진다 (도 15 참조). 이에 따라, 상기 서술한 증착 마스크 (10) 가 얻어진다.As FIGS. 12 to 15 show, a part of the mask frame 11 and a part of the mask part 12 are joined (see FIG. 12). At this time, a plurality of mask portions 12 are bonded to the single mask frame 11 so that each mask portion 12 covers the frame holes 11H that are different from each other one by one. And the glass substrate 22b is peeled off from the resin layer 22a (refer FIG. 14). Next, the resin layer 22a is removed from each mask portion 12 (see Fig. 15). In this way, the deposition mask 10 described above is obtained.

도 12 가 나타내는 바와 같이, 마스크 프레임 (11) 의 일부와 마스크부 (12) 의 일부를 접합하는 공정에서는, 먼저, 마스크 프레임 (11) 이 준비된다. 이 때에, 본체부 (11A) 의 단차부 (AH1) 에 대하여 프레임형상부 (11B) 를 끼워 넣음으로써, 마스크 프레임 (11) 을 형성한다. 마스크 프레임 (11) 은, 인바제여도 되고, 인바 이외의 금속으로 형성되어도 된다. 인바 이외의 금속은, 예를 들어 스테인리스강이어도 된다. 본체부 (11A) 를 형성하기 위한 금속과, 프레임형상부 (11B) 를 형성하기 위한 금속은, 서로 동일해도 되고, 서로 상이해도 된다.As FIG. 12 shows, in the process of joining a part of the mask frame 11 and a part of the mask part 12, the mask frame 11 is prepared first. At this time, the mask frame 11 is formed by inserting the frame-shaped portion 11B into the stepped portion AH1 of the main body portion 11A. The mask frame 11 may be made of invar or may be formed of a metal other than invar. A metal other than invar may be, for example, stainless steel. The metal for forming the body portion 11A and the metal for forming the frame-shaped portion 11B may be the same as or different from each other.

마스크부 (12) 를 마스크 프레임 (11) 의 프레임형상부 (11B) 에 접합하는 공정 (도 12 참조) 에서는, 접합 방법으로서 레이저 용접을 사용할 수 있다. 유리 기판 (22b) 과 수지층 (22a) 을 통해서, 마스크부 (12) 중, 주변 영역 (12B) 에 포함되는 부분에 제 1 레이저 광선 (L1) 이 조사된다. 그 때문에, 유리 기판 (22b) 및 수지층 (22a) 은, 제 1 레이저 광선 (L1) 에 대한 투과성을 가질 필요가 있다. 바꿔 말하면, 제 1 레이저 광선 (L1) 은, 유리 기판 (22b) 및 수지층 (22a) 을 투과하는 것이 가능한 파장을 가질 필요가 있다. 제 2 개구부 (11BH) 의 가장자리를 따라 간헐적으로 제 1 레이저 광선 (L1) 이 조사됨으로써, 간헐적인 접합부가 형성된다. 한편, 제 2 개구부 (11BH) 의 가장자리를 따라 연속적으로 제 1 레이저 광선 (L1) 이 계속 조사됨으로써, 연속적인 접합부가 형성된다. 이에 따라, 마스크부 (12) 가 마스크 프레임 (11) 의 프레임형상부 (11B) 에 용착된다. 제 1 레이저 광선 (L1) 이 갖는 파장은, 355 ㎚ 인 것이 바람직하다.In the step of bonding the mask portion 12 to the frame portion 11B of the mask frame 11 (see Fig. 12), laser welding can be used as a bonding method. The 1st laser beam L1 is irradiated to the part included in the peripheral area|region 12B among the mask parts 12 through the glass substrate 22b and the resin layer 22a. Therefore, the glass substrate 22b and the resin layer 22a need to have transparency to the first laser beam L1. In other words, the first laser beam L1 needs to have a wavelength capable of transmitting through the glass substrate 22b and the resin layer 22a. By intermittently irradiating the first laser beam L1 along the edge of the second opening 11BH, an intermittent junction is formed. On the other hand, by continuously irradiating the first laser beam L1 along the edge of the second opening 11BH, a continuous junction is formed. In this way, the mask portion 12 is welded to the frame-shaped portion 11B of the mask frame 11 . The wavelength of the first laser beam L1 is preferably 355 nm.

도 13 은, 도 12 가 나타내는 영역 A 를 확대해서 나타내고 있다. 영역 A 에는, 프레임형상부 (11B) 에 대한 마스크부 (12) 의 용접에 의해 형성된 접합 자국이 포함되고, 도 13 에서는, 접합 자국이 모식적으로 도시되어 있다.FIG. 13 is an enlarged view of the area A shown in FIG. 12 . The region A includes junction scars formed by welding of the mask portion 12 to the frame-shaped portion 11B, and the junction scars are schematically shown in FIG. 13 .

도 13 이 나타내는 바와 같이, 각 프레임형상부 (11B) 는, 당해 프레임형상부 (11B) 에 대한 마스크부 (12) 의 용접에 의해 형성된 용접 자국 (11BW) 을 구비하고 있다. 프레임형상부 (11B) 에 대하여 마스크부 (12) 가 레이저 용접될 때에는 마스크부 (12) 및 프레임형상부 (11B) 에 대하여 제 1 레이저 광선 (L1) 이 조사된다. 마스크부 (12) 에 대하여 제 1 레이저 광선 (L1) 이 조사됨으로써, 마스크부 (12) 중에서 제 1 레이저 광선 (L1) 이 조사된 부위는, 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 으로부터 표면 (11BF) 을 향하는 방향을 따라 프레임형상부 (11B) 에 파고들도록 변형된다. 이에 따라, 프레임형상부 (11B) 에는, 마스크부 (12) 의 일부가 파고든 분만큼 패임이 형성된다. 즉, 프레임형상부 (11B) 가 갖는 용접 자국 (11BW) 은, 이면 (11BR) 에 형성된 패임이다.As FIG. 13 shows, each frame-shaped part 11B is equipped with the welding mark 11BW formed by welding the mask part 12 with respect to the said frame-shaped part 11B. When the mask portion 12 is laser welded to the frame portion 11B, the mask portion 12 and the frame portion 11B are irradiated with a first laser beam L1. By irradiating the mask portion 12 with the first laser beam L1, the portion of the mask portion 12 to which the first laser beam L1 is irradiated is from the back surface 11BR to the front surface of the frame-shaped portion 11B. It is deformed so as to penetrate into the frame-shaped portion 11B along the direction toward 11BF. As a result, a recess is formed in the frame-shaped portion 11B by the amount that a part of the mask portion 12 is dug into. That is, the weld marks 11BW of the frame-shaped portion 11B are dents formed on the back surface 11BR.

지지체 (22) 를 떼어내는 공정은, 제 1 공정 (도 14 참조) 과 제 2 공정 (도 15 참조) 을 포함하고 있다. 제 1 공정에서는, 수지층 (22a) 과 유리 기판 (22b) 의 계면에, 제 2 레이저 광선 (L2) 을 조사한다. 제 2 레이저 광선 (L2) 은, 유리 기판 (22b) 에 의해 투과되고, 또한, 수지층 (22a) 에 의해 흡수되는 파장을 갖는다. 이에 따라, 수지층 (22a) 으로부터 유리 기판 (22b) 을 떼어낸다. 제 2 레이저 광선 (L2) 이 갖는 파장은, 308 ㎚ 혹은 355 ㎚ 인 것이 바람직하다.The step of removing the support body 22 includes a first step (see Fig. 14) and a second step (see Fig. 15). In a 1st process, the 2nd laser beam L2 is irradiated to the interface of the resin layer 22a and the glass substrate 22b. The second laser beam L2 has a wavelength that is transmitted through the glass substrate 22b and absorbed by the resin layer 22a. In this way, the glass substrate 22b is removed from the resin layer 22a. The wavelength of the second laser beam L2 is preferably 308 nm or 355 nm.

제 1 공정에서는, 수지층 (22a) 과 유리 기판 (22b) 의 계면에 제 2 레이저 광선 (L2) 을 조사함으로써, 제 2 레이저 광선 (L2) 에 의한 열에너지를 수지층 (22a) 에 흡수시킨다. 이에 따라, 수지층 (22a) 이 가열됨으로써, 수지층 (22a) 과 유리 기판 (22b) 의 사이에 있어서의 화학적인 결합의 강도를 낮게 한다. 그리고, 유리 기판 (22b) 을 수지층 (22a) 으로부터 떼어낸다. 제 1 공정에서는, 접합부의 전체에 제 2 레이저 광선 (L2) 을 조사하는 것이 바람직하지만, 접합부의 전체에 있어서 유리 기판 (22b) 과 수지층 (22a) 의 사이에 있어서의 결합의 강도를 낮게 하는 것이 가능하면, 접합부의 일부에 제 2 레이저 광선 (L2) 을 조사해도 된다.In the first step, the resin layer 22a absorbs thermal energy from the second laser beam L2 by irradiating the second laser beam L2 to the interface between the resin layer 22a and the glass substrate 22b. Thereby, the strength of the chemical bond between the resin layer 22a and the glass substrate 22b is lowered by heating the resin layer 22a. Then, the glass substrate 22b is removed from the resin layer 22a. In the first step, it is preferable to irradiate the entire joint with the second laser beam L2, but to lower the strength of the bond between the glass substrate 22b and the resin layer 22a in the entire joint. If it is possible, you may irradiate a part of the joint part with the 2nd laser beam L2.

제 2 레이저 광선 (L2) 이 갖는 파장에 있어서, 유리 기판 (22b) 의 투과율이, 수지층 (22a) 의 투과율보다 높은 것이 바람직하다. 이에 따라, 유리 기판 (22b) 의 투과율이 수지층 (22a) 의 투과율보다 낮은 경우와 비교해서, 수지층 (22a) 중에서, 유리 기판 (22b) 과 수지층 (22a) 의 계면을 형성하는 부분이 가열되는 효율을 높일 수 있다.At the wavelength of the second laser beam L2, it is preferable that the transmittance of the glass substrate 22b is higher than that of the resin layer 22a. Thereby, compared with the case where the transmittance|permeability of the glass substrate 22b is lower than the transmittance|permeability of the resin layer 22a, the part which forms the interface of the glass substrate 22b and the resin layer 22a in the resin layer 22a is Heating efficiency can be increased.

상기 서술한 바와 같이, 수지층 (22a) 은 폴리이미드제인 것이 바람직하다. 수지층 (22a) 은, 폴리이미드 중에서도 유색의 폴리이미드에 의해 형성되는 것이 바람직하다. 유리 기판 (22b) 은 투명한 것이 바람직하다.As mentioned above, it is preferable that the resin layer 22a is made of polyimide. It is preferable that the resin layer 22a is formed of colored polyimide among polyimides. The glass substrate 22b is preferably transparent.

제 2 공정에서는, 제 1 공정의 후에, 약액 (LM) 을 사용하여 수지층 (22a) 을 용해함으로써, 마스크부 (12) 로부터 수지층 (22a) 을 떼어낸다. 약액 (LM) 에는, 수지층 (22a) 을 형성하는 재료를 용해할 수 있는 액체이고, 또한, 마스크부 (12) 를 형성하는 재료에 대한 반응성을 갖지 않는 액체를 사용할 수 있다. 약액 (LM) 에는, 예를 들어 알칼리성 용액을 사용할 수 있다. 알칼리성 용액은, 예를 들어 수산화나트륨 수용액이어도 된다. 또한, 도 15 에서는, 수지층 (22a) 과 약액 (LM) 을 접촉시키는 방법으로서 딥법을 예시하고 있지만, 수지층 (22a) 과 약액 (LM) 을 접촉시키는 방법에는, 스프레이식 및 스핀식을 사용하는 것도 가능하다.At the 2nd process, after the 1st process, the resin layer 22a is detached from the mask part 12 by melt|dissolving the resin layer 22a using chemical liquid LM. For the chemical liquid LM, a liquid capable of dissolving the material forming the resin layer 22a and having no reactivity to the material forming the mask portion 12 can be used. An alkaline solution can be used for the chemical liquid LM, for example. The alkaline solution may be, for example, an aqueous sodium hydroxide solution. In Fig. 15, a dip method is exemplified as a method of bringing the resin layer 22a into contact with the chemical liquid LM, but a spray method and a spin method are used for the method of bringing the resin layer 22a into contact with the chemical liquid LM. It is also possible to do

이와 같이, 마스크부 (12) 로부터 지지체 (22) 를 떼어내는 공정에서는, 제 1 공정에 의해 수지층 (22a) 으로부터 유리 기판 (22b) 을 떼어내고, 또한, 제 2 공정에 의해 마스크부 (12) 로부터 수지층 (22a) 을 떼어낸다. 그 때문에, 유리 기판 (22b), 수지층 (22a), 및, 마스크부 (12) 의 적층체에 가해진 외력에 의한 계면 파괴에 의해 마스크부 (12) 로부터 지지체 (22) 를 떼어내는 경우와 비교해서, 마스크부 (12) 에 작용하는 외력을 작게 할 수 있다. 이에 따라, 지지체 (22) 의 떼어내기에 기인한 마스크부 (12) 의 변형, 나아가서는, 마스크부 (12) 가 갖는 마스크 구멍 (12H) 의 변형이 억제된다.Thus, in the process of removing the support body 22 from the mask part 12, the glass substrate 22b is removed from the resin layer 22a in the first step, and the mask part 12 is removed in the second step. ) from which the resin layer 22a is removed. Therefore, compared with the case where the support body 22 is detached from the mask portion 12 by interface destruction by an external force applied to the laminate of the glass substrate 22b, the resin layer 22a, and the mask portion 12 Thus, the external force acting on the mask portion 12 can be reduced. Thereby, the deformation of the mask part 12 resulting from the removal of the support body 22, and consequently, the deformation of the mask hole 12H of the mask part 12 is suppressed.

또한, 프레임형상부 (11B) 에는, 상기 서술한 바와 같이, 본체부 (11A) 의 단차부 (AH1) 에 대하여 프레임형상부 (11B) 가 끼워 넣어진 후에 마스크부 (12) 가 접합되어도 되고, 본체부 (11A) 의 단차부 (AH1) 에 대하여 프레임형상부 (11B) 가 끼워 넣어지기 전에 마스크부 (12) 가 접합되어도 된다.Further, to the frame portion 11B, as described above, the mask portion 12 may be joined after the frame portion 11B is fitted into the stepped portion AH1 of the main body portion 11A, The mask portion 12 may be joined before the frame portion 11B is fitted into the stepped portion AH1 of the main body portion 11A.

[증착 마스크의 작용] [Action of deposition mask]

도 16 을 참조하여, 프레임형상부 (11B) 에 대하여 마스크부 (12) 가 용접된 증착 마스크 (10) 의 작용을 설명한다. 도 16 은, 마스크 프레임 (11) 의 본체부 (11A) 로부터, 마스크부 (12) 가 프레임형상부 (11B) 와 함께 떼어내지는 공정을 나타내고 있다.Referring to Fig. 16, the action of the deposition mask 10 to which the mask portion 12 is welded to the frame portion 11B will be described. Fig. 16 shows a step in which the mask section 12 is removed from the main body section 11A of the mask frame 11 together with the frame section 11B.

도 16 이 나타내는 바와 같이, 마스크 프레임 (11) 에 접합된 마스크부 (12) 를 새로운 마스크부 (12) 와 교환할 때에는, 마스크부 (12) 가, 프레임형상부 (11B) 와 함께 본체부 (11A) 로부터 떼어내진다. 그 때문에, 마스크 프레임 (11) 에 대한 마스크부 (12) 의 용접에 의해 형성된 용접 자국 (11BW) 은, 프레임형상부 (11B) 와 함께 본체부 (11A) 로부터 제거된다.As FIG. 16 shows, when replacing the mask part 12 bonded to the mask frame 11 with a new mask part 12, the mask part 12, together with the frame-shaped part 11B, the body part ( 11A) is removed. Therefore, weld marks 11BW formed by welding the mask portion 12 to the mask frame 11 are removed from the main body portion 11A together with the frame portion 11B.

마스크부 (12) 의 용접에 의해 마스크 프레임 (11) 에 형성된 용접 자국 (11BW) 은, 마스크 프레임 (11) 에 있어서 마스크부 (12) 가 접합되는 면에 형성된 패임이다. 그 때문에, 마스크 프레임 (11) 으로부터 용접 자국 (11BW) 을 제거하기 위해서는, 마스크 프레임 (11) 으로부터 용접 자국 (11BW) 을 제거하는 가공, 또는, 용접 자국 (11BW) 을 매립하는 가공이 필요하게 된다. 가공이 필요해지는 마스크부 (12) 이외의 마스크부 (12) 가, 마스크 프레임 (11) 에 대하여 접합된 상태에서, 이들 가공을 실시하는 것은 곤란하다. 그 때문에, 프레임형상부 (11B) 에 마스크부 (12) 가 용접되는 경우에는, 마스크 프레임 (11) 이 구비하는 프레임형상부 (11B) 에 마스크부 (12) 가 접합되는 것에 의한 효과를 보다 현저하게 얻을 수 있다.The weld mark 11BW formed on the mask frame 11 by welding the mask portion 12 is a dent formed on the surface of the mask frame 11 to which the mask portion 12 is joined. Therefore, in order to remove the welding scars 11BW from the mask frame 11, a process for removing the weld scars 11BW from the mask frame 11 or a process for embedding the weld scars 11BW is required. . It is difficult to perform these processes in a state where mask portions 12 other than the mask portion 12 requiring processing are bonded to the mask frame 11 . Therefore, when the mask part 12 is welded to the frame part 11B, the effect of joining the mask part 12 to the frame part 11B of the mask frame 11 is more remarkable. can be obtained

또한, 마스크 프레임 (11) 으로부터 용접 자국 (11BW) 을 제거하기 위해서, 마스크 프레임 (11) 중에서 용접 자국 (11BW) 을 포함하는 부분을 마스크 프레임 (11) 에 있어서의 그 이외의 부분으로부터 제거하는 경우에는, 프레임형상부 (11B) 가 구획하는 제 2 개구부 (11BH) 가 확개되는 경우도 있다. 이에 따라, 프레임형상부 (11B) 의 표면 (11BF) 과 대향하는 시점에서 보아, 프레임형상부 (11B) 가 구분짓는 제 2 개구부 (11BH) 의 크기가 바뀌어 버린다.In addition, in order to remove the welding scar 11BW from the mask frame 11, when removing the part containing the welding scar 11BW in the mask frame 11 from other parts in the mask frame 11 In some cases, the second opening 11BH partitioned by the frame-shaped portion 11B is widened. As a result, the size of the second opening 11BH partitioned by the frame portion 11B changes when viewed from a viewpoint facing the front surface 11BF of the frame portion 11B.

새로운 마스크부 (12) 를 마스크 프레임 (11) 에 접합할 때에는, 본체부 (11A) 에 프레임형상부 (11B) 를 끼워 넣은 후에, 프레임형상부 (11B) 에 대하여 마스크부 (12) 를 접합해도 된다. 이 경우에는, 프레임형상부 (11B) 와 함께 본체부 (11A) 에 장착된 마스크부 (12) 로부터 유리 기판 (22b) 및 수지층 (22a) 이 떼어내진다. 그 때문에, 마스크부 (12) 로부터 수지층 (22a) 을 떼어낼 때에는, 예를 들어, 마스크부 (12) 및 수지층 (22a) 만이 약액 (LM) 과 접촉하도록 마스크 프레임 (11) 을 고정시키는 것이 필요하다.When bonding the new mask part 12 to the mask frame 11, after fitting the frame part 11B into the body part 11A, even if the mask part 12 is joined to the frame part 11B. do. In this case, the glass substrate 22b and the resin layer 22a are removed from the mask portion 12 attached to the body portion 11A together with the frame portion 11B. Therefore, when removing the resin layer 22a from the mask portion 12, for example, fixing the mask frame 11 so that only the mask portion 12 and the resin layer 22a come into contact with the chemical liquid LM. need something

혹은, 프레임형상부 (11B) 에 대하여 마스크부 (12) 를 접합한 후에, 본체부 (11A) 에 프레임형상부 (11B) 를 끼워 넣어도 된다. 이 경우에는, 프레임형상부 (11B) 에 접합된 마스크부 (12) 로부터 유리 기판 (22b) 및 수지층 (22a) 이 떼어내진다. 그 때문에, 마스크부 (12) 로부터 수지층 (22a) 을 떼어낼 때에는, 예를 들어, 마스크부 (12) 및 수지층 (22a) 만이 약액 (LM) 과 접촉하도록 프레임형상부 (11B) 를 고정시키는 것이 필요하다.Alternatively, after bonding the mask portion 12 to the frame portion 11B, the frame portion 11B may be fitted into the main body portion 11A. In this case, the glass substrate 22b and the resin layer 22a are removed from the mask portion 12 bonded to the frame portion 11B. Therefore, when removing the resin layer 22a from the mask portion 12, the frame portion 11B is fixed so that, for example, only the mask portion 12 and the resin layer 22a come into contact with the chemical liquid LM. it is necessary to do

어느 경우라도, 프레임형상부 (11B) 에 대하여 마스크부 (12) 를 용접함으로써, 프레임형상부 (11B) 에 용접 자국 (11BW) 은 형성된다. 단, 프레임형상부 (11B) 의 용접 자국 (11BW) 은 교환 대상인 마스크부 (12) 와 함께 본체부 (11A) 로부터 제거되기 때문에, 마스크 프레임 (11) 에 대한 마스크부 (12) 의 재접합은 용이하다. 또, 이와 같이 마스크 프레임 (11) 에 대하여 마스크부 (12) 를 재접합함으로써, 1 개의 마스크 프레임 (11) 을 재이용하는 것이 가능하다.In either case, welding marks 11BW are formed in the frame portion 11B by welding the mask portion 12 to the frame portion 11B. However, since the weld marks 11BW of the frame-shaped portion 11B are removed from the body portion 11A together with the mask portion 12 to be replaced, rejoining of the mask portion 12 to the mask frame 11 is It's easy. In addition, by rejoining the mask portion 12 to the mask frame 11 in this way, it is possible to reuse one mask frame 11 .

[표시 장치의 제조 방법] [Method of manufacturing display device]

도 17 을 참조하여, 표시 장치의 제조 방법을 설명한다. Referring to FIG. 17 , a method of manufacturing a display device will be described.

표시 장치의 제조 방법은, 증착 마스크 (10) 의 제조 방법에 의해 제조된 증착 마스크 (10) 를 사용하여 증착 대상 (S) 에 패턴을 형성하는 것을 포함하고 있다. 이하, 증착 장치의 일례와 함께, 패턴을 형성하는 공정을 설명한다.The manufacturing method of the display device includes forming a pattern on the deposition target S using the deposition mask 10 manufactured by the deposition mask 10 manufacturing method. Hereinafter, a process of forming a pattern will be described along with an example of a deposition apparatus.

도 17 이 나타내는 바와 같이, 증착 장치 (30) 는, 증착 마스크 (10) 와, 증착 대상 (S) 을 수용하는 수용조 (31) 를 구비하고 있다. 수용조 (31) 는, 증착 대상 (S) 과 증착 마스크 (10) 를 수용조 (31) 내에 있어서의 소정의 위치에 유지하도록 구성되어 있다. 수용조 (31) 내에는, 증착 재료 (Mvd) 를 유지하는 유지부 (32) 와, 증착 재료 (Mvd) 를 가열하는 가열부 (33) 가 위치하고 있다. 유지부 (32) 에 유지되는 증착 재료 (Mvd) 는, 예를 들어 유기 발광 재료이다. 수용조 (31) 는, 증착 대상 (S) 과 증착 마스크 (10) 를, 증착 대상 (S) 과 유지부 (32) 의 사이에 증착 마스크 (10) 가 위치하고, 또한, 증착 마스크 (10) 와 유지부 (32) 가 대향하도록, 수용조 (31) 내에 위치시킨다. 증착 마스크 (10) 는, 마스크부 (12) 의 이면 (12R) 이 증착 대상 (S) 에 밀착된 상태에서, 수용조 (31) 내에 배치된다.As FIG. 17 shows, the vapor deposition apparatus 30 is equipped with the deposition mask 10 and the accommodation tank 31 which accommodates the deposition target S. The storage tank 31 is configured to hold the deposition target S and the deposition mask 10 at predetermined positions within the storage tank 31 . In the accommodating tank 31, the holding part 32 which holds the evaporation material Mvd, and the heating part 33 which heats the evaporation material Mvd are located. The evaporation material Mvd held by the holding portion 32 is, for example, an organic light emitting material. In the accommodation tank 31, the deposition mask 10 is positioned between the deposition target S and the deposition mask 10, and the deposition target S and the holding portion 32, and furthermore, the deposition mask 10 and It is placed in the container 31 so that the holding portions 32 face each other. The deposition mask 10 is disposed in the accommodation tank 31 in a state where the back surface 12R of the mask portion 12 is in close contact with the deposition target S.

패턴을 형성하는 공정에서는, 증착 재료 (Mvd) 가 가열부 (33) 에 의해 가열됨으로써, 증착 재료 (Mvd) 가 기화 또는 승화한다. 기화 또는 승화한 증착 재료 (Mvd) 는, 증착 마스크 (10) 의 마스크부 (12) 가 구비하는 마스크 구멍 (12H) 을 통과하여 증착 대상 (S) 에 부착된다. 이에 따라, 증착 마스크 (10) 가 갖는 마스크 구멍 (12H) 의 형상 및 위치에 대응한 형상을 갖는 유기층이, 증착 대상 (S) 에 있어서의 소정의 위치에 형성된다. 또한, 증착 재료 (Mvd) 는, 표시층의 화소 회로가 구비하는 화소 전극을 형성하기 위한 금속 재료 등이어도 된다.In the process of forming a pattern, the vapor deposition material (Mvd) vaporizes or sublimes by being heated by the heating part 33. The vaporized or sublimated evaporation material Mvd passes through the mask hole 12H of the mask portion 12 of the deposition mask 10 and adheres to the evaporation target S. As a result, an organic layer having a shape corresponding to the shape and position of the mask hole 12H of the deposition mask 10 is formed at a predetermined position in the deposition target S. In addition, the evaporation material Mvd may be, for example, a metal material for forming a pixel electrode included in a pixel circuit of the display layer.

이상 설명한 바와 같이, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법의 제 1 실시형태에 의하면, 이하에 기재된 효과를 얻을 수 있다.As described above, according to the first embodiment of the deposition mask, the method for manufacturing the deposition mask, and the method for manufacturing the display device, the effects described below can be obtained.

(1-1) 마스크 프레임 (11) 에 대하여 마스크부 (12) 를 재접합할 때에, 마스크 프레임 (11) 이 갖는 접합 자국에 대한 가공이 불필요하기 때문에, 마스크 프레임 (11) 에 대한 마스크부 (12) 의 재접합을 용이하게 할 수 있다.(1-1) When rejoining the mask portion 12 to the mask frame 11, processing of the bonding marks of the mask frame 11 is unnecessary, so the mask portion to the mask frame 11 ( 12) can be easily rejoined.

(1-2) 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 은 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 면일이기 때문에, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 이 프레임형상부 (11B) 의 이면 (11BR) 에 대하여 튀어 나오는 것이 억제되고, 이에 따라, 마스크부 (12) 와 증착 대상 (S) 의 사이에 간극이 형성되는 것이 억제된다.(1-2) Since the rear surface 11BR of the frame portion 11B is flush with the rear surface 11AR of the body portion 11A, the rear surface 11AR of the body portion 11A is the same as that of the frame portion 11B. Protruding from the back surface 11BR is suppressed, and accordingly, formation of a gap between the mask portion 12 and the deposition target S is suppressed.

(1-3) 본체부 (11A) 에 대하여, 프레임형상부 (11B) 가 자기 흡착되기 때문에, 나사 등의 체결 부재를 사용하여 본체부 (11A) 에 대하여 프레임형상부 (11B) 를 고정시키는 경우에 비해, 본체부 (11A) 에 대한 프레임형상부 (11B) 의 위치에 있어서의 정밀도가 저하되기 어렵다.(1-3) When the frame portion 11B is fixed to the body portion 11A using fastening members such as screws because the frame portion 11B is magnetically attracted to the body portion 11A. In contrast, the precision in the position of the frame-shaped portion 11B relative to the body portion 11A is less likely to decrease.

(1-4) 프레임형상부 (11B) 에 마스크부 (12) 가 용접되는 경우에는, 마스크 프레임 (11) 이 구비하는 프레임형상부 (11B) 에 마스크부가 접합됨으로써, 마스크부 (12) 의 재결합을 용이하게 할 수 있다는 효과를 보다 현저하게 얻을 수 있다.(1-4) When the mask portion 12 is welded to the frame portion 11B, the mask portion is joined to the frame portion 11B of the mask frame 11, thereby recombination of the mask portion 12 The effect of facilitating the can be obtained more remarkably.

(1-5) 프레임형상부 (11B) 가 단차부 (AH1) 에 위치하기 때문에, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 마스크부 (12) 의 사이의 간극을 작게 하고, 이에 따라, 증착 대상에 있어서 증착 마스크 (10) 가 접한 부분과 증착 마스크 (10) 가 접해 있지 않은 부분에 작용하는 힘의 차이를 작게 하는 것이 가능하다.(1-5) Since the frame-shaped portion 11B is located at the stepped portion AH1, the gap between the back surface 11AR of the main body portion 11A and the mask portion 12 is reduced, thereby evaporating It is possible to reduce a difference in force acting on a portion of the object in contact with the deposition mask 10 and a portion not in contact with the deposition mask 10 .

[제 1 실시형태의 변경예] [Example of modification of the first embodiment]

또한, 상기 서술한 제 1 실시형태는, 이하와 같이 변경하여 실시할 수 있다.In addition, 1st Embodiment mentioned above can be implemented with a change as follows.

[고정부] [fixed part]

·고정부는, 영구 자석을 구비하지 않아도 되며, 예를 들어 전자석을 구비해 된다. 혹은, 고정부는, 자기 흡착이 아니라, 예를 들어, 정전기력 및 진공 흡착 등에 의해, 본체부 (11A) 에 대하여 프레임형상부 (11B) 를 고정시켜도 된다. 또 혹은, 고정부는, 체결 부재에 의해, 본체부 (11A) 에 대하여 프레임형상부 (11B) 를 고정시켜도 된다. 또 혹은, 고정부는 인듐을 포함하는 본딩재여도 된다.· The fixing part does not need to be provided with a permanent magnet, and may be provided with, for example, an electromagnet. Alternatively, the fixing portion may fix the frame portion 11B to the main body portion 11A not by magnetic attraction, but by, for example, electrostatic force and vacuum attraction. Alternatively, the fixing portion may fix the frame portion 11B to the main body portion 11A with a fastening member. Alternatively, the fixing portion may be a bonding material containing indium.

·본체부 (11A) 는, 고정부를 갖지 않아도 된다. 이 경우이더라도, 본체부 (11A) 가 갖는 단차부 (AH1) 에 끼워 넣어진 프레임형상부 (11B) 에 대하여 마스크부 (12) 가 접합됨으로써, 상기 서술한 (1-1) 에 준한 효과를 얻을 수 있다.- 11 A of main body parts do not need to have a fixing part. Even in this case, by bonding the mask portion 12 to the frame portion 11B fitted into the stepped portion AH1 of the main body portion 11A, the effect similar to (1-1) described above can be obtained. can

[프레임형상부] [Frame shape part]

·본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 에 직교하는 단면에 있어서, 프레임형상부 (11B) 가 갖는 두께 (TB) 는, 본체부 (11A) 가 갖는 단차부 (AH1) 의 깊이 (D) 보다 작아도 된다. 이 경우이더라도, 본체부 (11A) 가 갖는 단차부 (AH1) 에 끼워 넣어진 프레임형상부 (11B) 에 대하여 마스크부 (12) 가 접합됨으로써, 상기 서술한 (1-1) 에 준한 효과를 얻을 수 있다.In a cross section orthogonal to the back surface 11AR of the body portion 11A, the thickness TB of the frame-shaped portion 11B is greater than the depth D of the stepped portion AH1 of the body portion 11A. It can be small. Even in this case, by bonding the mask portion 12 to the frame portion 11B fitted into the stepped portion AH1 of the main body portion 11A, the effect similar to (1-1) described above can be obtained. can

또 이 경우에는, 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 과 직교하는 단면에 있어서, 마스크부 (12) 의 이면 (12R) 이 본체부 (11A) 의 이면 (11AR) 으로부터 튀어 나와 있는 것이 바람직하다. 이에 따라, 마스크부 (12) 와 증착 대상 (S) 의 사이에 간극이 형성되는 것이 억제되고, 결과적으로, 증착 대상 (S) 에 형성되는 패턴의 형상에 있어서의 정밀도가 높아진다.In this case, it is preferable that the back surface 12R of the mask part 12 protrudes from the back surface 11AR of the main body part 11A in a cross section orthogonal to the back surface 11AR of the body part 11A. . Accordingly, formation of a gap between the mask portion 12 and the deposition target S is suppressed, and as a result, the accuracy of the shape of the pattern formed on the deposition target S is increased.

[본체부][Body part]

·본체부 (11A) 는, 제 1 개구부 (11AH) 를 1 개만 구비해도 된다. 이 경우에는, 증착 마스크 (10) 가, 1 개의 프레임형상부 (11B) 와 1 개의 마스크부 (12) 를 구비하면 된다. 이 경우이더라도, 본체부 (11A) 가 갖는 단차부 (AH1) 에 끼워 넣어진 프레임형상부 (11B) 에 대하여 마스크부 (12) 가 접합됨으로써, 상기 서술한 (1-1) 에 준한 효과를 얻을 수 있다.• The body portion 11A may include only one first opening 11AH. In this case, the deposition mask 10 should just be equipped with one frame-shaped part 11B and one mask part 12. Even in this case, by bonding the mask portion 12 to the frame portion 11B fitted into the stepped portion AH1 of the main body portion 11A, the effect similar to (1-1) described above can be obtained. can

·본체부 (11A) 는, 단차부 (AH1) 를 갖지 않아도 된다. 이 경우에는, 프레임형상부 (11B) 는, 본체부 (11A) 가 갖는 평탄한 이면 (11AR) 상에 위치하는 것이 가능하다. 이 경우이더라도, 마스크 프레임 (11) 이 본체부 (11A) 와 프레임형상부 (11B) 를 구비하기 때문에, 상기 서술한 (1-1) 에 준한 효과를 얻을 수 있다.- 11 A of main-body parts do not need to have step part AH1. In this case, the frame-shaped portion 11B can be positioned on the flat back surface 11AR of the body portion 11A. Even in this case, since the mask frame 11 includes the body portion 11A and the frame-shaped portion 11B, the effect similar to (1-1) described above can be obtained.

[접합] [join]

·프레임형상부 (11B) 에 대한 마스크부 (12) 의 접합에는, 레이저 용접에 한정되지 않고, 예를 들어, 저항 용접, 및, 초음파 용접 등을 사용해도 된다. 이들 중 어느 경우이더라도, 본체부 (11A) 가 갖는 단차부 (AH1) 에 끼워 넣어진 프레임형상부 (11B) 에 대하여 마스크부 (12) 가 접합됨으로써, 상기 서술한 (1-1) 에 준한 효과를 얻을 수 있다.• The bonding of the mask part 12 to the frame-shaped part 11B is not limited to laser welding, and resistance welding, ultrasonic welding, etc. may be used, for example. In any of these cases, when the mask portion 12 is joined to the frame portion 11B fitted into the stepped portion AH1 of the main body portion 11A, the effect similar to (1-1) described above is obtained. can be obtained.

·프레임형상부 (11B) 에 대한 마스크부 (12) 의 접합에는, 용접에 한정되지 않고, 접착을 사용해도 된다. 이 경우에는, 프레임형상부 (11B) 에 마스크부 (12) 를 접합한 접합 자국으로서 접착층이 형성된다. 프레임형상부 (11B) 에 대하여 마스크부 (12) 를 접착하고, 또한, 프레임형상부 (11B) 를 본체부 (11A) 에 끼워 넣음으로써, 접합 자국인 접착층이 형성된 프레임형상부 (11B) 를 새로운 프레임형상부 (11B) 로 교환함으로써, 본체부 (11A) 로부터 접착층을 제거하는 것이 가능하다.• Bonding of the mask portion 12 to the frame-shaped portion 11B is not limited to welding, and bonding may be used. In this case, an adhesive layer is formed as a bonding trace of bonding the mask portion 12 to the frame-shaped portion 11B. By adhering the mask portion 12 to the frame portion 11B and then inserting the frame portion 11B into the main body portion 11A, the frame portion 11B formed with the adhesive layer, which is a joining mark, is replaced with a new frame. By replacing with the shaped portion 11B, it is possible to remove the adhesive layer from the body portion 11A.

또한, 프레임형상부 (11B) 와 마스크부 (12) 의 접합에 접착이 사용되는 경우에는, 증착 마스크 (10) 가 탑재되는 증착 장치가, 증착 마스크 (10) 를 냉각시키는 냉각부를 구비하는 것이 바람직하다. 또, 프레임형상부 (11B) 와 마스크부 (12) 의 접합에 있어서의 강도, 및, 내열성을 높이는 관점에서는, 마스크부 (12) 는, 용접에 의해 프레임형상부 (11B) 에 접합되는 것이 바람직하다.In addition, when adhesion is used for joining the frame-shaped portion 11B and the mask portion 12, it is preferable that the vapor deposition apparatus on which the vapor deposition mask 10 is mounted has a cooling portion for cooling the vapor deposition mask 10. do. Further, from the viewpoint of increasing the strength and heat resistance of the bonding between the frame portion 11B and the mask portion 12, the mask portion 12 is preferably joined to the frame portion 11B by welding. do.

[제 2 실시형태] [Second Embodiment]

도 18 내지 도 22 를 참조하여, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법의 제 2 실시형태를 설명한다. 제 2 실시형태에서는, 제 1 실시형태와 비교해서, 프레임형상부를 본체부에 고정시키는 구조가 상이하다. 그 때문에 이하에서는, 이러한 상이점을 상세하게 설명하는 한편, 제 2 실시형태에 있어서 제 1 실시형태와 공통되는 구조에는 제 1 실시형태와 동일한 부호를 붙이고, 당해 구조의 상세한 설명을 생략한다.Referring to FIGS. 18 to 22 , a second embodiment of a deposition mask, a method for manufacturing the deposition mask, and a method for manufacturing a display device will be described. In 2nd Embodiment, compared with 1st Embodiment, the structure which fixes a frame-shaped part to a body part is different. Therefore, in the following, while these differences are described in detail, the same reference numerals as those in the first embodiment are assigned to structures common to those of the first embodiment in the second embodiment, and detailed descriptions of the structures are omitted.

[증착 마스크] [Vapor deposition mask]

도 18 은, 마스크 프레임의 이면과 대향하는 시점에서 본 증착 마스크의 구조를 나타내고 있다. 또한, 도 18 에는, 증착 마스크 중에서, 1 개의 제 1 개구부와 당해 제 1 개구부의 주변의 구조만이 도시되어 있다.Fig. 18 shows the structure of the deposition mask seen from the viewpoint facing the back surface of the mask frame. 18 shows only one first opening and a structure around the first opening in the deposition mask.

도 18 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 (40) 는, 마스크 프레임 (41) 과 마스크부 (12) 를 구비하고 있다. 마스크 프레임 (41) 은, 제 1 실시형태의 마스크 프레임 (11) 과 마찬가지로, 본체부 (41A) 와 프레임형상부 (41B) 를 구비하고 있다. 마스크 프레임 (41) 은, 고정부 (41C) 를 구비하고 있다. 고정부 (41C) 는, 본체부 (41A) 에 프레임형상부 (41B) 를 고정시킨다. 도 18 이 나타내는 예에서는, 마스크 프레임 (41) 이 3 개의 고정부 (41C) 를 구비하고 있다. 3 개의 고정부 (41C) 에 의해 프레임형상부 (41B) 를 본체부 (41A) 에 고정시키므로, 마스크부 (12) 가 넓어지는 평면 상에서의 프레임형상부 (41B) 의 위치를 높은 정밀도로 결정하는 것이 가능하다.As FIG. 18 shows, the deposition mask 40 includes a mask frame 41 and a mask portion 12 . The mask frame 41 is equipped with the main body part 41A and the frame-shaped part 41B similarly to the mask frame 11 of 1st Embodiment. The mask frame 41 is equipped with 41 C of fixing parts. The fixing part 41C fixes the frame part 41B to the body part 41A. In the example shown in FIG. 18, the mask frame 41 is provided with 41 C of three fixing parts. Since the frame portion 41B is fixed to the main body portion 41A by the three fixing portions 41C, the position of the frame portion 41B on the plane where the mask portion 12 spreads can be determined with high precision. it is possible

도 18 이 나타내는 예에서는, 프레임형상부 (41B) 의 외형은, 직사각형상을 갖고 있다. 고정부 (41C) 는, 프레임형상부 (41B) 에 있어서 대향하는 1 쌍의 변 중, 일방의 변에 있어서의 단부 (端部) 의 각각과, 타방의 변에 있어서의 중앙부에 각각 위치하고 있다. 고정부는, 제 1 위치 조정부의 일례이다.In the example shown in Fig. 18, the outer shape of the frame-shaped portion 41B has a rectangular shape. The fixing part 41C is respectively located at the end part of one side and the center part of the other side, among a pair of opposing sides of the frame-shaped part 41B. The fixing part is an example of the first position adjusting part.

도 19 는, 도 18 이 나타내는 XIX-XIX 선을 따르는 단면을 나타내고 있다. XIX-XIX 선은, 2 개의 고정부 (41C) 를 통과하는 선분이다.FIG. 19 is a cross section taken along line XIX-XIX shown in FIG. 18 . The line XIX-XIX is a line segment passing through the two fixing parts 41C.

도 19 가 나타내는 바와 같이, 본체부 (41A) 는, 제 1 실시형태의 본체부 (11A) 와 마찬가지로, 제 1 개구부 (41AH) 및 단차부 (AH1) 를 구비하고 있다. 제 1 개구부 (41AH) 는, 표면 (41AF) 과 이면 (41AR) 의 사이를 관통하고 있다. 본체부 (41A) 의 단차부 (AH1) 는, 이면 (41AR) 에 위치하는 패임이며, 또한, 이면 (41AR) 과 대향하는 평면에서 보았을 때, 제 1 개구부 (41AH) 를 둘러싸고 있다.As FIG. 19 shows, 41 A of main body parts are equipped with the 1st opening part 41AH and step part AH1 similarly to 11 A of main body parts of 1st Embodiment. The first opening 41AH penetrates between the front surface 41AF and the rear surface 41AR. The stepped portion AH1 of the main body portion 41A is a recess located on the back surface 41AR, and surrounds the first opening 41AH when viewed from a plane facing the rear surface 41AR.

프레임형상부 (41B) 는, 제 1 실시형태의 프레임형상부 (11B) 와 마찬가지로, 제 2 개구부 (41BH) 를 구비하고 있다. 제 2 개구부 (41BH) 는, 표면 (41BF) 과 이면 (41BR) 의 사이를 관통하고 있다. 제 2 개구부 (41BH) 는, 본체부 (41A) 의 표면 (41AF) 과 대향하는 시점에서 보아, 제 1 개구부 (41AH) 가 구획하는 영역 내에 위치하고 있다. 프레임형상부 (41B) 는, 고정구멍 (BH1) 을 추가로 구비하고 있다. 본 실시형태의 프레임형상부 (41B) 는, 고정부 (41C) 와 동수의 고정구멍 (BH1) 을 구비하고 있다. 각 고정구멍 (BH1) 은, 1 개의 고정부 (41C) 가 위치하는 것이 가능하게 구성되어 있다. 고정부 (41C) 는, 본체부 (41A) 로부터의 떼어내기가 가능하게 프레임형상부 (41B) 를 본체부 (41A) 에 고정시킨다.The frame portion 41B is provided with a second opening portion 41BH similar to the frame portion 11B of the first embodiment. The second opening 41BH penetrates between the front surface 41BF and the rear surface 41BR. The second opening 41BH is positioned within the region partitioned by the first opening 41AH when viewed from a viewpoint facing the front surface 41AF of the body portion 41A. The frame-shaped portion 41B is further equipped with a fixing hole BH1. The frame portion 41B of the present embodiment is provided with the same number of fixing holes BH1 as the fixing portion 41C. Each fixing hole BH1 is configured so that one fixing portion 41C can be located. The fixing part 41C fixes the frame-shaped part 41B to the main body part 41A so that it can be removed from the main body part 41A.

프레임형상부 (41B) 의 이면 (41BR) 에는, 마스크부 (12) 가 접합되어 있다. 제 1 실시형태, 및, 제 1 실시형태의 변경예에 있어서 마스크부 (12) 를 프레임형상부 (41B) 에 접합하는 방법 중 어느 것에 의해, 마스크부 (12) 는, 프레임형상부 (41B) 에 접합되어 있다.A mask portion 12 is bonded to the rear face 41BR of the frame portion 41B. In either of the first embodiment and the method of bonding the mask portion 12 to the frame portion 41B in the modified example of the first embodiment, the mask portion 12 is configured to form the frame portion 41B. is connected to

도 20 은, 마스크 프레임 (41) 중, 1 개의 고정부 (41C), 및, 당해 고정부 (41C) 의 주변 구조를 나타내고 있다. 20 shows one fixing part 41C in the mask frame 41 and the peripheral structure of the fixing part 41C.

도 20 이 나타내는 바와 같이, 고정부 (41C) 는, 나사부 (41C1) 와 흡착부 (41C2) 를 구비하고 있다. 고정구멍 (BH1) 을 구획하는 면에는, 나사부 (41C1) 가 나사 결합하는 도시되지 않는 홈이 형성되어 있다. 나사부 (41C1) 의 외주면은, 고정구멍 (BH1) 의 홈에 나사 결합하는 것이 가능한 형상을 갖고 있다. 나사부 (41C1) 는, 프레임형상부 (41B) 의 이면 (41BR) 으로부터 표면 (41BF) 을 향하는 방향을 따라 연장되는 봉상 (棒狀) 을 갖고 있다. 나사부 (41C1) 의 전체가 고정구멍 (BH1) 내에 위치하는 경우에, 나사부 (41C1) 에 있어서, 이면 (41BR) 으로부터의 거리가 작은 단부가 기단이고, 기단과는 반대측의 단부가 선단이다. 흡착부 (41C2) 는, 나사부 (41C1) 의 선단에 위치하고 있다.As FIG. 20 shows, 41 C of fixing parts are equipped with the screw part 41C1 and the suction part 41C2. A groove (not shown) into which the threaded portion 41C1 is screwed is formed on the surface partitioning the fixing hole BH1. The outer circumferential surface of the threaded portion 41C1 has a shape capable of being screwed into the groove of the fixing hole BH1. The threaded portion 41C1 has a rod shape extending along a direction from the back surface 41BR of the frame-shaped portion 41B toward the front surface 41BF. In the case where the entire threaded portion 41C1 is positioned within the fixing hole BH1, in the threaded portion 41C1, the end with a small distance from the back surface 41BR is the base end, and the end opposite to the base end is the tip. The suction part 41C2 is located at the tip of the screw part 41C1.

흡착부 (41C2) 는, 자석으로 형성되어 있다. 본체부 (41A) 는, 강자성체에 의해 형성된다. 혹은, 본체부 (41A) 의 일부로서, 흡착부 (41C2) 가 접하는 영역을 포함하는 부분이, 강자성체에 의해 형성된다. 이에 따라, 흡착부 (41C2) 가 본체부 (41A) 에 접했을 경우에, 흡착부 (41C2) 가 본체부 (41A) 에 고정되고, 이에 따라 프레임형상부 (41B) 가 본체부 (41A) 에 고정된다. 또한, 도 19 및 도 20 은, 흡착부 (41C2) 가 본체부 (41A) 로부터 떨어져 있는 상태로서, 프레임형상부 (41B) 가 본체부 (41A) 에 고정되어 있지 않은 상태를 나타내고 있다.The adsorption unit 41C2 is formed of a magnet. The body portion 41A is formed of a ferromagnetic material. Alternatively, a portion of the main body portion 41A, including a region in contact with the adsorption portion 41C2, is made of a ferromagnetic material. Accordingly, when the suction portion 41C2 is in contact with the body portion 41A, the suction portion 41C2 is fixed to the body portion 41A, and thus the frame-shaped portion 41B is attached to the body portion 41A. It is fixed. 19 and 20 show a state in which the adsorbing portion 41C2 is separated from the body portion 41A, and the frame portion 41B is not fixed to the body portion 41A.

[고정 방법] [fixation method]

도 19 내지 도 22 를 참조하여, 본체부 (41A) 에 대한 프레임형상부 (41B) 의 고정 방법을 설명한다.Referring to FIGS. 19 to 22, a method of fixing the frame-shaped portion 41B to the body portion 41A will be described.

도 19 및 도 20 이 나타내는 바와 같이, 프레임형상부 (41B) 가 본체부 (41A) 에 고정되어 있지 않은 상태에서는, 흡착부 (41C2) 가 본체부 (41A) 에 접하지 않도록, 고정부 (41C) 가 프레임형상부 (41B) 에 장착되어 있다. 고정부 (41C) 를 제 1 회전 방향으로 회전시킴으로써, 흡착부 (41C2) 를 프레임형상부 (41B) 의 표면 (41BF) 에 가깝게 하도록, 프레임형상부 (41B) 에 대한 고정부 (41C) 의 위치를 변경한다. 흡착부 (41C2) 가 프레임형상부 (41B) 의 표면 (41BF) 과 면일이 될 때까지 고정부 (41C) 를 회전시킴으로써, 흡착부 (41C2) 를 본체부 (41A) 에 접촉시키는 것이 가능하다. 이에 따라, 흡착부 (41C2) 가 갖는 자력에 의해, 프레임형상부 (41B) 를 본체부 (41A) 에 고정시키는 것이 가능하다.As shown in Figs. 19 and 20, in a state where the frame portion 41B is not fixed to the body portion 41A, the fixing portion 41C is prevented from coming into contact with the suction portion 41C2 to the body portion 41A. ) is attached to the frame-shaped portion 41B. By rotating the fixing part 41C in the first rotational direction, the position of the fixing part 41C with respect to the frame-shaped part 41B so as to bring the suction part 41C2 close to the surface 41BF of the frame-shaped part 41B. Change the By rotating the fixed portion 41C until the suction portion 41C2 is flush with the surface 41BF of the frame-shaped portion 41B, it is possible to bring the suction portion 41C2 into contact with the body portion 41A. Accordingly, it is possible to fix the frame-shaped portion 41B to the main body portion 41A by the magnetic force of the suction portion 41C2.

도 21 이 나타내는 바와 같이, 고정부 (41C) 를 추가로 제 1 회전 방향으로 회전시킴으로써, 나사부 (41C1) 의 선단을 프레임형상부 (41B) 의 표면 (41BF) 으로부터 돌출시키는 것이 가능하다.As Fig. 21 shows, by further rotating the fixing part 41C in the first rotational direction, it is possible to project the tip of the threaded part 41C1 from the surface 41BF of the frame-shaped part 41B.

도 22 가 나타내는 바와 같이, 프레임형상부 (41B) 의 표면 (41BF) 과 나사부 (41C1) 의 선단 사이의 거리가, 고정부 (41C) 의 돌출량이다. 돌출량이 작을수록, 프레임형상부 (41B) 의 이면 (41BR) 과 본체부 (41A) 의 이면 (41AR) 의 사이의 거리가 작아진다. 바꿔 말하면, 돌출량이 클수록, 프레임형상부 (41B) 의 이면 (41BR) 과 본체부 (41A) 의 이면 (41AR) 의 사이의 거리가 커진다. 이와 같이, 고정부 (41C) 에 의하면, 본체부 (41A) 의 두께 방향에 있어서, 본체부 (41A) 에 대한 프레임형상부 (41B) 의 위치를 제 1 위치와 제 2 위치의 사이에서 변경하는 것이 가능하다. 그 때문에, 복수의 프레임형상부 (41B) 사이에서의 두께의 편차에 기인한 마스크부 (12) 의 위치 어긋남을 고정부 (41C) 에 의해 억제하는 것이 가능하다.As Fig. 22 shows, the distance between the surface 41BF of the frame-shaped portion 41B and the tip of the threaded portion 41C1 is the amount of protrusion of the fixing portion 41C. The smaller the amount of protrusion, the smaller the distance between the rear surface 41BR of the frame-shaped portion 41B and the rear surface 41AR of the body portion 41A. In other words, the larger the protruding amount, the larger the distance between the rear surface 41BR of the frame-shaped portion 41B and the rear surface 41AR of the body portion 41A. Thus, according to the fixing part 41C, in the thickness direction of the body part 41A, the position of the frame-shaped part 41B with respect to the body part 41A is changed between the first position and the second position. it is possible Therefore, it is possible to suppress positional displacement of the mask portion 12 due to variation in thickness between the plurality of frame-shaped portions 41B by the fixing portion 41C.

또한, 프레임형상부 (41B) 를 본체부 (41A) 로부터 떼어낼 때에는, 고정부 (41C) 를 제 2 회전 방향으로 회전시키면 된다. 제 2 회전 방향은, 제 1 회전 방향과는 반대의 방향이다. 이에 따라, 나사부 (41C1) 의 선단을 고정구멍 (BH1) 내에 위치시킴으로써, 흡착부 (41C2) 와 본체부 (41A) 의 사이에 간극을 형성하는 것이 가능하다. 결과적으로, 본체부 (41A) 에 대한 프레임형상부 (41B) 의 고정을 해제하는 것이 가능하다.In addition, what is necessary is just to rotate the fixing part 41C in the 2nd rotation direction, when detaching the frame part 41B from the body part 41A. The second rotation direction is opposite to the first rotation direction. Accordingly, it is possible to form a gap between the suction portion 41C2 and the main body portion 41A by locating the tip of the threaded portion 41C1 in the fixing hole BH1. As a result, it is possible to release the fixation of the frame-shaped portion 41B to the body portion 41A.

이와 같이, 본 실시형태의 증착 마스크 (40) 에 의하면, 고정부 (41C) 에 의해, 프레임형상부 (41B) 를 본체부 (41A) 에 고정시키는 것이 가능하다. 나아가서는, 고정부 (41C) 에 의해, 프레임형상부 (41B) 의 이면 (41BR) 과 본체부 (41A) 의 이면 (41AR) 의 사이의 거리를 변경하는 것이 가능하다. 바꿔 말하면, 고정부 (41C) 에 의해, 마스크부 (12) 의 두께 방향에 있어서의 프레임형상부 (41B) 의 위치를 변경하는 것이 가능하다.In this way, according to the vapor deposition mask 40 of this embodiment, it is possible to fix the frame-shaped portion 41B to the body portion 41A by the fixing portion 41C. Furthermore, it is possible to change the distance between the rear surface 41BR of the frame-shaped portion 41B and the rear surface 41AR of the body portion 41A by the fixing portion 41C. In other words, it is possible to change the position of the frame-shaped portion 41B in the thickness direction of the mask portion 12 by the fixing portion 41C.

이상 설명한 바와 같이, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법의 제 2 실시형태에 의하면, 상기 서술한 (1-1), (1-3), (1-4) 에 더하여, 이하에 기재된 효과를 얻을 수 있다.As described above, according to the second embodiment of the deposition mask, the method for manufacturing the deposition mask, and the method for manufacturing the display device, the above-described (1-1), (1-3), and (1-4) In addition, the effects described below can be obtained.

(2-1) 고정부 (41C) 에 의해, 프레임형상부 (41B) 를 본체부 (41A) 에 고정시키는 것이 가능하다.(2-1) With the fixing part 41C, it is possible to fix the frame-shaped part 41B to the body part 41A.

(2-2) 고정부 (41C) 에 의해, 마스크부 (12) 의 두께 방향에 있어서의 프레임형상부 (41B) 의 위치를 변경하는 것이 가능하다. 그 때문에, 복수의 프레임형상부 (41B) 사이에서의 두께의 편차에 기인한 마스크부 (12) 의 위치 어긋남을 고정부 (41C) 에 의해 억제하는 것이 가능하다.(2-2) It is possible to change the position of the frame-shaped portion 41B in the thickness direction of the mask portion 12 by the fixing portion 41C. Therefore, it is possible to suppress positional displacement of the mask portion 12 due to variation in thickness between the plurality of frame-shaped portions 41B by the fixing portion 41C.

(2-3) 3 개의 고정부 (41C) 에 의해 프레임형상부 (41B) 를 본체부 (41A) 에 고정시킴으로써, 마스크부 (12) 가 넓어지는 평면 상에서의 프레임형상부 (41B) 의 위치를 높은 정밀도로 결정하는 것이 가능하다.(2-3) By fixing the frame portion 41B to the main body portion 41A with the three fixing portions 41C, the position of the frame portion 41B on the plane where the mask portion 12 spreads is adjusted. It is possible to determine with high precision.

[제 2 실시형태의 변경예] [Modified Example of the Second Embodiment]

이상 설명한 제 2 실시형태는, 이하와 같이 변경하여 실시할 수 있다. 2nd Embodiment demonstrated above can be implemented with a change as follows.

[고정부] [fixed part]

·마스크 프레임 (41) 은, 4 개 이상의 고정부 (41C) 를 구비해도 된다. 예를 들어, 마스크 프레임 (41) 이 4 개의 고정부 (41C) 를 구비하는 경우에는, 고정부 (41C) 는, 프레임형상부 (51B) 의 모서리부에 각각 위치해도 된다.• The mask frame 41 may be provided with 4 or more fixing parts 41C. For example, in the case where the mask frame 41 includes four fixing parts 41C, the fixing parts 41C may be respectively located at the corners of the frame-shaped part 51B.

·마스크 프레임 (41) 은, 고정부 (41C) 를 2 개만 구비해도 된다. 이 경우에는, 고정부 (41C) 는, 프레임형상부 (41B) 의 모서리부 중, 동일한 대각선 상에 위치하는 모서리부에 각각 위치해도 된다.• The mask frame 41 may be provided with only two fixing parts 41C. In this case, fixing part 41C may be respectively located in the corner part located on the same diagonal line among the corner parts of frame-shaped part 41B.

[제 3 실시형태] [Third Embodiment]

도 23 및 도 24 를 참조하여, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법의 제 3 실시형태를 설명한다. 제 3 실시형태에서는, 제 1 실시형태와 비교해서, 프레임형상부를 본체부에 고정시키는 구조가 상이하다. 그 때문에 이하에서는, 이러한 상이점을 상세하게 설명하는 한편, 제 3 실시형태에 있어서 제 1 실시형태와 공통되는 구조에는 제 1 실시형태와 동일한 부호를 붙이고, 당해 구조의 상세한 설명을 생략한다.Referring to FIGS. 23 and 24 , a third embodiment of a deposition mask, a method for manufacturing the deposition mask, and a method for manufacturing a display device will be described. In the third embodiment, compared to the first embodiment, the structure for fixing the frame-shaped portion to the main body is different. Therefore, in the following, while these differences are described in detail, the same reference numerals as those in the first embodiment are assigned to structures common to those of the first embodiment in the third embodiment, and detailed descriptions of the structures are omitted.

[증착 마스크] [Vapor deposition mask]

도 23 은, 마스크 프레임의 이면과 대향하는 시점에서 본 증착 마스크의 구조를 나타내고 있다. 또한, 도 23 에는, 증착 마스크 중에서, 1 개의 제 1 개구부와 당해 제 1 개구부의 주변의 구조만이 도시되어 있다.Fig. 23 shows the structure of the deposition mask seen from the viewpoint facing the back surface of the mask frame. 23 shows only one first opening and a structure around the first opening in the deposition mask.

도 23 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 (50) 는, 마스크 프레임 (51) 과 마스크부 (12) 를 구비하고 있다. 마스크 프레임 (51) 은, 제 1 실시형태의 마스크 프레임 (11) 과 마찬가지로, 본체부 (51A) 와 프레임형상부 (51B) 를 구비하고 있다. 본체부 (51A) 는, 제 1 개구부 (51AH) 를 갖고 있다. 도 23 이 나타내는 예에 있어서, 제 1 개구부 (51AH) 의 외형은, 직사각형상을 갖고 있다. 본체부 (51A) 는, 제 1 개구부 (51AH) 를 구획하는 측면으로부터 제 1 개구부 (51AH) 내에 돌출된 복수의 지지대 (51A1) 를 구비하고 있다. 지지대 (51A1) 는, 본체부 (51A) 의 이면 (51AR) 으로부터 표면 (51AF) 을 향하는 도중으로부터, 제 1 개구부 (51AH) 내에 돌출되어 있다.As FIG. 23 shows, the deposition mask 50 includes a mask frame 51 and a mask portion 12 . Like the mask frame 11 of the first embodiment, the mask frame 51 includes a body portion 51A and a frame portion 51B. The main body portion 51A has a first opening portion 51AH. In the example shown in FIG. 23 , the outer shape of the first opening part 51AH has a rectangular shape. The main body portion 51A is provided with a plurality of supports 51A1 protruding into the first opening portion 51AH from the side surface defining the first opening portion 51AH. The support base 51A1 protrudes from the back surface 51AR of the main body portion 51A toward the front surface 51AF, in the first opening 51AH.

도 23 이 나타내는 예에서는, 본체부 (51A) 는 1 개의 제 1 개구부 (51AH) 당 복수의 지지대 (51A1) 를 구비하고 있다. 본 예에서는, 본체부 (51A) 는, 1 개의 제 1 개구부 (51AH) 당 3 개의 지지대 (51A1) 를 구비하고 있다. 이면 (51AR) 과 대향하는 시점에서 보아, 제 1 개구부 (51AH) 가 갖는 모서리부 중, X 축에 있어서 서로 이웃하는 2 개의 모서리부에 지지대 (51A1) 가 각각 위치하고 있다. 나머지 지지대 (51A1) 는, X 축을 따라 연장되는 측면 중, 2 개의 모서리부가 위치하는 측면과 대향하는 측면의 중앙부에 위치하고 있다. 이면 (51AR) 과 대향하는 시점에서 보아, 각 지지대 (51A1) 는, 사각형상을 갖고 있다.In the example shown in Fig. 23, the main body portion 51A is provided with a plurality of support bases 51A1 per one first opening portion 51AH. In this example, the body portion 51A is provided with three support bases 51A1 per one first opening portion 51AH. As seen from a viewpoint facing the back surface 51AR, among the corner portions of the first opening portion 51AH, the support base 51A1 is respectively located at two corner portions adjacent to each other in the X axis. The remaining support stand 51A1 is located at the center of the side surface that faces the side surface on which the two corners are located, among the side surfaces extending along the X axis. Seen from a viewpoint facing the back surface 51AR, each support base 51A1 has a quadrangular shape.

본체부 (51A) 는, 제 1 개구부 (51AH) 를 구획하는 측면으로부터 제 1 개구부 (51AH) 내에 돌출된 복수의 고정편 (51A2) 을 추가로 구비하고 있다. 각 고정편 (51A2) 은, 본체부 (51A) 의 이면 (51AR) 으로부터 표면 (51AF) (도 24 참조) 을 향하는 도중으로부터, 제 1 개구부 (51AH) 내에 돌출되어 있다. 도 23 이 나타내는 예에서는, 제 1 개구부 (51AH) 를 구획하는 측면 중, Y 축을 따라 연장되는 측면의 각각으로부터, 1 쌍의 고정편 (51A2) 이, 제 1 개구부 (51AH) 내에 돌출되어 있다. 또, 제 1 개구부 (51AH) 를 구획하는 측면 중, X 축을 따라 연장되는 측면으로서, 지지대 (51A1) 가 위치하지 않는 측면의 중앙부로부터, 1 쌍의 고정편 (51A2) 이, 제 1 개구부 (51AH) 내에 돌출되어 있다.The main body portion 51A further includes a plurality of fixing pieces 51A2 protruding into the first opening portion 51AH from the side surface defining the first opening portion 51AH. Each fixing piece 51A2 projects from the back surface 51AR of the body portion 51A toward the front surface 51AF (see Fig. 24) in the first opening 51AH. In the example shown in FIG. 23 , a pair of fixing pieces 51A2 protrude into the first opening 51AH from each of the side surfaces extending along the Y-axis among the side surfaces defining the first opening 51AH. In addition, as a side surface extending along the X-axis among the side surfaces defining the first opening portion 51AH, a pair of fixing pieces 51A2 are positioned from the center of the side surface on which the support base 51A1 is not located, and the first opening portion 51AH ) protrudes from within.

프레임형상부 (51B) 는, X 축과, X 축에 직교하는 Y 축에 의해 규정되는 XY 평면 상에 위치하고 있다. XY 평면에 직교하는 축이, Z 축이다. 프레임형상부 (51B) 는, 프레임 본체 (51B1) 와 복수의 돌출편 (51B2) 을 구비하고 있다. 프레임 본체 (51B1) 는, 직사각형 프레임형상을 갖고 있다. 프레임형상부 (51B) 는, 제 1 개구부 (51AH) 내에 위치하고 있다. 각 돌출편 (51B2) 은, 프레임형상부 (51B) 의 표면 (51BF) (도 24 참조) 에 위치하고 있다. 각 돌출편 (51B2) 은, 프레임 본체 (51B1) 로부터 본체부 (51A) 의 표면 (51AF) 을 향해서 하방으로 연장되어 있다. 도 23 이 나타내는 예에서는, 프레임형상부 (51B) 는 3 개의 돌출편 (51B2) 을 구비하고 있다. 프레임형상부 (51B) 의 이면 (51BR) 과 대향하는 시점에서 보아, 1 쌍의 고정편 (51A2) 사이에 1 개의 돌출편 (51B2) 이 위치하고 있다. 또한, 도 23 에서는, 프레임형상부 (51B) 가 구획하는 제 2 개구부가, 마스크부 (12) 에 의해 덮여 있다.The frame-shaped portion 51B is positioned on an XY plane defined by an X axis and a Y axis orthogonal to the X axis. An axis orthogonal to the XY plane is the Z axis. The frame-shaped portion 51B includes a frame main body 51B1 and a plurality of projecting pieces 51B2. The frame main body 51B1 has a rectangular frame shape. The frame-shaped portion 51B is positioned within the first opening 51AH. Each protruding piece 51B2 is located on the surface 51BF (see Fig. 24) of the frame-shaped portion 51B. Each protruding piece 51B2 extends downward from the frame body 51B1 toward the front surface 51AF of the body portion 51A. In the example shown in Fig. 23, the frame-shaped portion 51B is provided with three projecting pieces 51B2. When viewed from the viewpoint facing the rear surface 51BR of the frame-shaped portion 51B, one protruding piece 51B2 is positioned between the pair of fixing pieces 51A2. In addition, in FIG. 23, the 2nd opening part partitioned by the frame-shaped part 51B is covered by the mask part 12. As shown in FIG.

도 24 는, 도 23 이 나타내는 XXIV-XXIV 선을 따르는 단면을 나타내고 있다.Fig. 24 shows a cross section along the line XXIV-XXIV shown in Fig. 23 .

도 24 가 나타내는 바와 같이, 마스크 프레임 (51) 은, X 축 조정용 나사 (51C), 고정용 나사 (51E), 및, Z 축 조정용 나사 (51F) 를 추가로 구비하고 있다. X 축에 있어서, 프레임형상부 (51B) 의 돌출편 (51B2) 은, 1 쌍의 고정편 (51A2) 사이에 끼워지고, 또한, X 축 조정용 나사 (51C) 와 고정용 나사 (51E) 사이에 끼워져 있다. X 축 조정용 나사 (51C) 는, 돌출편 (51B2) 을 1 쌍의 고정편 (51A2) 중 일방에 장착한다. 고정용 나사 (51E) 는, 돌출편 (51B2) 을 1 쌍의 고정편 (51A2) 중 타방에 장착한다. 돌출편 (51B2) 에 대한 X 축 조정용 나사 (51C) 의 조임량을 변경함으로써, X 축에 있어서의 프레임형상부 (51B) 의 위치를 변경하는 것이 가능하다.As Fig. 24 shows, the mask frame 51 is further equipped with 51 C of screws for X-axis adjustment, 51E of fixing screws, and 51F of screws for Z-axis adjustment. In the X-axis, the protruding piece 51B2 of the frame-shaped portion 51B is sandwiched between a pair of fixing pieces 51A2, and also between the X-axis adjusting screw 51C and the fixing screw 51E. is plugged in The screw 51C for X-axis adjustment attaches the projecting piece 51B2 to one of the pair of fixing pieces 51A2. The fixing screw 51E attaches the projecting piece 51B2 to the other of the pair of fixing pieces 51A2. It is possible to change the position of the frame portion 51B in the X axis by changing the tightening amount of the screw 51C for X axis adjustment to the projecting piece 51B2.

또한, 마스크 프레임 (51) 은, 2 개의 Y 축 조정용 나사 (51D) 와 2 개의 고정용 나사 (51E) 를 추가로 구비하고 있다 (도 23 참조). 나머지 돌출편 (51B2) 은 각각, Y 축에 있어서 1 쌍의 고정편 (51A2) 사이에 끼워지고, 또한, Y 축 조정용 나사 (51D) 와 고정용 나사 (51E) 사이에 끼워져 있다. Y 축 조정용 나사 (51D) 는, 돌출편 (51B2) 을 1 쌍의 고정편 (51A2) 중 일방에 장착한다. 고정용 나사 (51E) 는, 돌출편 (51B2) 을 1 쌍의 고정편 (51A2) 중 타방에 장착한다. 돌출편 (51B2) 에 대한 Y 축 조정용 나사 (51D) 의 조임량을 변경함으로써, Y 축에 있어서의 프레임형상부 (51B) 의 위치를 변경하는 것이 가능하다.Moreover, the mask frame 51 is further equipped with two Y-axis adjusting screws 51D and two fixing screws 51E (see Fig. 23). The remaining projecting pieces 51B2 are each sandwiched between a pair of fixing pieces 51A2 in the Y axis, and are also sandwiched between the Y axis adjusting screw 51D and the fixing screw 51E. The Y-axis adjusting screw 51D attaches the protruding piece 51B2 to one of the pair of fixing pieces 51A2. The fixing screw 51E attaches the projecting piece 51B2 to the other of the pair of fixing pieces 51A2. It is possible to change the position of the frame portion 51B in the Y-axis by changing the tightening amount of the Y-axis adjusting screw 51D to the projecting piece 51B2.

즉, 본 실시형태에서는, X 축 조정용 나사 (51C), Y 축 조정용 나사 (51D), 및, 고정용 나사 (51E) 에 의해, 제 2 위치 조정부의 일례가 구성되어 있다. 제 2 위치 조정부에 의하면, 프레임형상부 (51B) 가 넓어지는 평면에 있어서, 본체부 (51A) 에 대한 프레임형상부 (51B) 의 위치를 제 3 위치와 제 4 위치의 사이에 있어서 변경하는 것이 가능하다. 그 때문에, 복수의 프레임형상부 (51B) 사이에서의 제 2 개구부의 위치 어긋남을 제 2 위치 조정부에 의해 억제하는 것이 가능하다.That is, in this embodiment, an example of the 2nd position adjustment part is comprised by 51 C of X-axis adjusting screws, 51 D of Y-axis adjusting screws, and the fixing screw 51E. According to the second position adjusting unit, the position of the frame portion 51B with respect to the main body portion 51A is changed between the third position and the fourth position in the plane where the frame portion 51B spreads. It is possible. Therefore, it is possible to suppress the displacement of the second opening between the plurality of frame-shaped portions 51B by the second position adjusting portion.

Z 축 조정용 나사 (51F) 는, Z 축을 따라 연장되는 봉상을 갖고 있다. Z 축 조정용 나사 (51F) 는, Z 축을 따라 지지대 (51A1) 를 관통하는 관통공에 통과되고, 이에 따라, Z 축 조정용 나사 (51F) 가, 본체부 (51A) 에 장착된다. Z 축 조정용 나사 (51F) 가 프레임형상부 (51B) 에 접해 있는 상태에 있어서, Z 축 조정용 나사 (51F) 중, 프레임형상부 (51B) 에 접하고 있는 단부가 선단이고, 선단과는 반대측의 단부가 기단이다. Z 축 조정용 나사 (51F) 의 선단에는, 도시되지 않는 흡착부가 위치하고 있다. 흡착부는, 자석으로 형성되어 있다. 프레임형상부 (51B) 의 프레임 본체 (51B1) 는, 강자성체에 의해 형성된다. 혹은, 프레임 본체 (51B1) 의 일부로서, Z 축 조정용 나사 (51F) 가 접하는 영역을 포함하는 부분이, 강자성체에 의해 형성된다. 이에 따라, Z 축 조정용 나사 (51F) 가 프레임 본체 (51B1) 에 접했을 경우에, Z 축 조정용 나사 (51F) 에 프레임 본체 (51B1) 가 고정된다. Z 축 조정용 나사 (51F) 의 선단이 지지대 (51A1) 로부터 돌출하는 양을 변경함으로써, Z 축에 있어서의 프레임형상부 (51B) 의 위치를 변경하는 것이 가능하다. 즉, 본 실시형태에서는, Z 축 조정용 나사 (51F) 가 제 1 위치 조정부의 일례이다. Z 축 조정용 나사 (51F) 에 의하면, 본체부 (51A) 의 두께 방향, 즉 Z 축에 있어서, 복수의 프레임형상부 (51B) 사이에서의 두께의 편차에 기인한 마스크부 (12) 의 위치 어긋남을 Z 축 조정용 나사 (51F) 에 의해 억제하는 것이 가능하다.The screw 51F for Z-axis adjustment has a rod shape extending along the Z-axis. The screw 51F for Z-axis adjustment is passed through the through-hole passing through the support stand 51A1 along the Z-axis, and thereby the screw 51F for Z-axis adjustment is attached to the body portion 51A. In the state where the Z-axis adjusting screw 51F is in contact with the frame portion 51B, the end portion of the Z-axis adjusting screw 51F in contact with the frame portion 51B is the front end, and the end portion on the opposite side to the front end is the air mass. At the tip of the Z-axis adjusting screw 51F, a suction portion (not shown) is located. The adsorbing portion is formed of a magnet. The frame main body 51B1 of the frame-shaped portion 51B is formed of a ferromagnetic material. Alternatively, as part of the frame body 51B1, a portion including a region where the Z-axis adjusting screw 51F contacts is made of a ferromagnetic material. Thereby, when the Z-axis adjustment screw 51F contacts the frame body 51B1, the frame body 51B1 is fixed to the Z-axis adjustment screw 51F. By changing the amount by which the tip of the Z-axis adjusting screw 51F protrudes from the support base 51A1, it is possible to change the position of the frame portion 51B in the Z-axis. That is, in the present embodiment, the screw 51F for Z-axis adjustment is an example of the first position adjusting unit. According to the Z-axis adjusting screw 51F, in the thickness direction of the body portion 51A, that is, in the Z-axis, there is a positional displacement of the mask portion 12 due to variation in thickness among the plurality of frame-shaped portions 51B. can be suppressed by the Z-axis adjusting screw 51F.

[고정 방법] [fixation method]

이하, 본체부 (51A) 에 대한 프레임형상부 (51B) 의 고정 방법을 설명한다. 또한, 프레임형상부 (51B) 를 본체부 (51A) 에 고정시킬 때에는, 프레임형상부 (51B) 를 유지하는 유지대를 사용하는 것이 가능하다. 유지대는, 예를 들어, 본체부 (51A) 의 이면 (51AR) 과 대향하는 시점에서 보아, 제 1 개구부 (51AH) 중, 지지대 (51A1) 보다 내측의 영역에 위치하는 것이 가능하다. 유지대는, 재치부 (載置部) 와 승강부를 구비하고 있다. 재치부에는, 프레임형상부 (51B) 가 재치된다. 승강부는, Z 축에 있어서, 본체부 (51A) 에 대한 프레임형상부 (51B) 의 위치를 바꾸도록 재치부를 승강하는 것이 가능하게 구성되어 있다.Hereinafter, a method of fixing the frame-shaped portion 51B to the body portion 51A will be described. Further, when fixing the frame portion 51B to the main body portion 51A, it is possible to use a holder holding the frame portion 51B. The holder can be located, for example, in a region inside the support table 51A1 in the first opening part 51AH when viewed from the viewpoint facing the back surface 51AR of the main body portion 51A. The holding table has a mounting unit and a lifting unit. The frame-shaped portion 51B is mounted on the mounting portion. The lifting part is configured to be able to move the mounting part up and down so as to change the position of the frame-shaped part 51B with respect to the main body part 51A in the Z axis.

본 실시형태의 증착 마스크 (50) 에서는, 본체부 (51A) 에 프레임형상부 (51B) 를 고정시킬 때에는, 먼저, 프레임형상부 (51B) 를 유지대에 유지시킨 상태에서, 3 개의 Z 축 조정용 나사 (51F) 에 의해, Z 축에 있어서의 프레임형상부 (51B) 의 위치를 결정한다. 이 때에, 각 Z 축 조정용 나사 (51F) 가 지지대 (51A1) 로부터 돌출하는 양을 소정의 크기로 설정하고, 이어서, Z 축 조정용 나사 (51F) 에 대하여 프레임형상부 (51B) 를 고정시킨다. 그리고, 각 돌출편 (51B2) 을 고정용 나사 (51E) 를 사용하여 고정편 (51A2) 에 고정시킨다. 이어서, X 축 조정용 나사 (51C) 를 사용하여 프레임형상부 (51B) 의 돌출편 (51B2) 을 본체부 (51A) 의 고정편 (51A2) 에 고정시키면서, X 축에 있어서의 프레임형상부 (51B) 의 위치를 결정한다. 또, Y 축 조정용 나사 (51D) 를 사용하여 돌출편 (51B2) 을 고정편 (51A2) 에 고정시키면서, Y 축에 있어서의 프레임형상부 (51B) 의 위치를 결정한다. 이에 따라, XY 평면 상, 및, Z 축 상에 있어서의 소정의 위치에 있어서, 프레임형상부 (51B) 가 본체부 (51A) 에 고정된다.In the vapor deposition mask 50 of the present embodiment, when fixing the frame portion 51B to the main body portion 51A, first, in a state where the frame portion 51B is held on the holder, three Z-axis adjustments are performed. The screw 51F determines the position of the frame-shaped portion 51B in the Z axis. At this time, the amount by which each Z-axis adjusting screw 51F protrudes from the support base 51A1 is set to a predetermined size, and then the frame-shaped portion 51B is fixed to the Z-axis adjusting screw 51F. Then, each protruding piece 51B2 is fixed to the fixing piece 51A2 using a fixing screw 51E. Next, while fixing the protruding piece 51B2 of the frame portion 51B to the fixing piece 51A2 of the body portion 51A using the X-axis adjusting screw 51C, the frame portion 51B in the X axis ) to determine the location of Further, while fixing the projecting piece 51B2 to the fixing piece 51A2 using the Y-axis adjustment screw 51D, the position of the frame portion 51B in the Y-axis is determined. Accordingly, the frame portion 51B is fixed to the main body portion 51A at a predetermined position on the XY plane and on the Z axis.

또한, X 축 조정용 나사 (51C), Y 축 조정용 나사 (51D), 및, Z 축 조정용 나사 (51F) 를 프레임형상부 (51B) 로부터 떼어냄으로써, 본체부 (51A) 에 대한 프레임형상부 (51B) 의 고정을 해제하는 것이 가능하다.Further, by removing the X-axis adjusting screw 51C, the Y-axis adjusting screw 51D, and the Z-axis adjusting screw 51F from the frame-shaped portion 51B, the frame portion 51B relative to the body portion 51A ) can be unlocked.

이상 설명한 바와 같이, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법은, 상기 서술한 (1-1), (1-3), (1-4) 에 더하여, 이하에 기재된 효과를 얻을 수 있다.As described above, the deposition mask, the manufacturing method of the deposition mask, and the manufacturing method of the display device have the effects described below in addition to the above-described (1-1), (1-3), and (1-4). can be obtained.

(3-1) X 축 조정용 나사 (51C) 및 Y 축 조정용 나사 (51D) 를 사용하여, XY 평면 상에 있어서의 프레임형상부 (51B) 의 위치를 조정하는 것이 가능하다. 이에 따라, 복수의 프레임형상부 (51B) 사이에서의 제 2 개구부의 위치 어긋남을 억제하는 것이 가능하다.(3-1) It is possible to adjust the position of the frame portion 51B on the XY plane using the X-axis adjusting screw 51C and the Y-axis adjusting screw 51D. In this way, it is possible to suppress positional displacement of the second opening portion between the plurality of frame-shaped portions 51B.

(3-2) Z 축 조정용 나사 (51F) 를 사용하여, Z 축에 있어서의 프레임형상부 (51B) 의 위치를 조정하는 것이 가능하다. 이에 따라, 복수의 프레임형상부 (51B) 사이에서의 두께의 편차에 기인한 마스크부 (12) 의 위치 어긋남을 Z 축 조정용 나사 (51F) 에 의해 억제하는 것이 가능하다.(3-2) Using the Z-axis adjusting screw 51F, it is possible to adjust the position of the frame-shaped portion 51B in the Z-axis. Accordingly, it is possible to suppress positional displacement of the mask portion 12 due to variations in thickness among the plurality of frame-shaped portions 51B by means of the Z-axis adjusting screws 51F.

[제 3 실시형태의 변경예] [Modified example of the third embodiment]

이상 설명한 제 3 실시형태는, 이하와 같이 변경하여 실시할 수 있다. 3rd Embodiment demonstrated above can be implemented with a change as follows.

[지지대] [support fixture]

·본체부 (51A) 는, 4 개 이상의 지지대 (51A1) 를 구비해도 된다. 예를 들어, 본체부 (51A) 가 4 개의 지지대 (51A1) 를 구비하는 경우에는, 각 지지대 (51A1) 는, 제 1 개구부 (51AH) 의 모서리부로부터 돌출되어 있어도 된다. 또한, 본체부 (51A) 가 4 개 이상의 지지대 (51A1) 를 구비하는 경우에는, 마스크 프레임 (51) 은, 지지대 (51A1) 와 동수의 Z 축 조정용 나사 (51F) 를 구비해도 된다.- 51 A of main-body parts may be provided with 4 or more support bases 51 A1. For example, when main-body part 51A has four support bases 51A1, each support base 51A1 may protrude from the corner part of 1st opening part 51AH. In addition, when main-body part 51A is equipped with 4 or more support base 51A1, the mask frame 51 may be equipped with the same number of Z-axis adjustment screws 51F as support base 51A1.

·본체부 (51A) 의 지지대 (51A1) 는, 제 1 개구부 (51AH) 의 전체 둘레에 걸쳐서 제 1 개구부 (51AH) 에 돌출한 형상을 가져도 된다. 즉, 본체부 (51A) 는, 제 1 개구부 (51AH) 에 있어서의 본체부 (51A) 의 이면 (51AR) 의 개구가 확개된 단차부를 구비해도 된다.• The support base 51A1 of the main body portion 51A may have a shape protruding from the first opening portion 51AH over the entire circumference of the first opening portion 51AH. That is, the body portion 51A may include a stepped portion in which the opening of the rear face 51AR of the body portion 51A in the first opening portion 51AH is widened.

[커버][cover]

·증착 마스크 (50) 는, 지지대 (51A1), 고정편 (51A2), 및, 돌출편 (51B2) 을 덮는 커버를 구비해도 된다. 커버는, 본체부 (51A) 의 표면 (51AF) 과 대향하는 시점에서 보아, 지지대 (51A1), 고정편 (51A2), 및, 돌출편 (51B2) 을 덮는다. 이에 따라, 증착 마스크 (50) 가 증착 장치에 탑재되었을 경우에, 커버는, 증착원과, 지지대 (51A1), 고정편 (51A2), 및, 돌출편 (51B2) 과의 사이에 위치한다. 그 때문에, 지지대 (51A1), 고정편 (51A2), 및, 돌출편 (51B2) 에 증착 재료가 부착되는 것이 커버에 의해 억제된다. 이에 따라, X 축 조정용 나사 (51C), Y 축 조정용 나사 (51D), 고정용 나사 (51E), Z 축 조정용 나사 (51F) 에 증착 재료가 부착되는 것도 커버에 의해 억제된다.• The vapor deposition mask 50 may be provided with a cover covering the support base 51A1, the fixing piece 51A2, and the projecting piece 51B2. The cover covers the support base 51A1, the fixing piece 51A2, and the protruding piece 51B2 when viewed from a viewpoint facing the front surface 51AF of the body portion 51A. Accordingly, when the deposition mask 50 is mounted on the deposition apparatus, the cover is positioned between the deposition source, the support base 51A1, the fixing piece 51A2, and the protruding piece 51B2. Therefore, adhesion of the evaporation material to the support 51A1, the fixing piece 51A2, and the projecting piece 51B2 is suppressed by the cover. Accordingly, adhesion of evaporation material to the X-axis adjusting screw 51C, the Y-axis adjusting screw 51D, the fixing screw 51E, and the Z-axis adjusting screw 51F is also suppressed by the cover.

[제 4 실시형태] [Fourth Embodiment]

도 25 및 도 26 을 참조하여, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법의 제 4 실시형태를 설명한다. 제 4 실시형태에서는, 제 1 실시형태와 비교해서, 프레임형상부를 본체부에 고정시키는 구조가 상이하다. 그 때문에 이하에서는, 이러한 상이점을 상세하게 설명하는 한편, 제 4 실시형태에 있어서 제 1 실시형태와 공통되는 구조에는 제 1 실시형태와 동일한 부호를 붙이고, 당해 구조의 상세한 설명을 생략한다.Referring to Figs. 25 and 26, a fourth embodiment of a deposition mask, a method for manufacturing the deposition mask, and a method for manufacturing a display device will be described. In 4th Embodiment, compared with 1st Embodiment, the structure which fixes a frame-shaped part to a body part is different. Therefore, in the following, while these differences are described in detail, the same reference numerals as those in the first embodiment are assigned to structures common to those of the first embodiment in the fourth embodiment, and detailed descriptions of the structures are omitted.

[증착 마스크] [Vapor deposition mask]

도 25 는, 마스크 프레임의 이면과 대향하는 시점에서 본 증착 마스크의 구조를 나타내고 있다. 또한, 도 25 에는, 증착 마스크 중에서, 1 개의 제 1 개구부와 당해 제 1 개구부의 주변의 구조만이 도시되어 있다.Fig. 25 shows the structure of the deposition mask seen from the viewpoint facing the back surface of the mask frame. 25 shows only one first opening and a structure around the first opening in the deposition mask.

도 25 가 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 (60) 는, 마스크 프레임 (61) 과 마스크부 (12) 를 구비하고 있다. 마스크 프레임 (61) 은, 제 1 실시형태의 마스크 프레임 (11) 과 마찬가지로, 본체부 (61A) 와 프레임형상부 (61B) 를 구비하고 있다. 프레임형상부 (61B) 는, 프레임 본체 (61B1) 와 복수의 돌출편 (61B2) 을 구비하고 있다. 프레임 본체 (61B1) 는, 직사각형 프레임형상을 가지며, 마스크부 (12) 를 지지하는 것이 가능하게 구성되어 있다. 프레임 본체 (61B1) 는, X 축과, X 축에 직교하는 Y 축에 의해 규정되는 XY 평면 상에 위치하고 있다. XY 평면에 직교하는 축이, Z 축이다.As FIG. 25 shows, the deposition mask 60 includes a mask frame 61 and a mask part 12 . The mask frame 61 is equipped with the body part 61A and the frame shape part 61B similarly to the mask frame 11 of 1st Embodiment. The frame-shaped portion 61B includes a frame main body 61B1 and a plurality of projecting pieces 61B2. The frame main body 61B1 has a rectangular frame shape and is configured to be able to support the mask portion 12 . The frame main body 61B1 is positioned on the XY plane defined by the X axis and the Y axis orthogonal to the X axis. An axis orthogonal to the XY plane is the Z axis.

돌출편 (61B2) 은, 프레임 본체 (61B1) 의 가장자리로부터 가장자리보다 외측을 향해서 돌출되어 있다. 도 25 가 나타내는 예에서는, 프레임형상부 (61B) 는 3 개의 돌출편 (61B2) 을 구비하고 있다. 프레임형상부 (61B) 는, 프레임 본체 (61B1) 의 가장자리 중, X 축을 따라 연장되는 변으로부터 Y 축을 따라 연장되는 돌출편 (61B2) 을 구비하고 있다. 프레임형상부 (61B) 는, 프레임 본체 (61B1) 의 가장자리 중, Y 축을 따라 연장되는 일방의 변으로부터 X 축을 따라 연장되는 돌출편 (61B2) 과, 프레임 본체 (61B1) 의 가장자리 중, Y 축을 따라 연장되는 타방의 변으로부터 X 축을 따라 연장되는 돌출편 (61B2) 을 구비하고 있다.The projecting piece 61B2 protrudes outward from the edge of the frame body 61B1. In the example shown in Fig. 25, the frame-shaped portion 61B is provided with three projecting pieces 61B2. The frame-shaped portion 61B is provided with a protruding piece 61B2 extending along the Y-axis from a side extending along the X-axis among the edges of the frame main body 61B1. The frame-shaped portion 61B includes a protruding piece 61B2 extending along the X axis from one side extending along the Y axis among the edges of the frame body 61B1, and along the Y axis among the edges of the frame body 61B1. A protruding piece 61B2 extending along the X axis from the other extending side is provided.

본체부 (61A) 는, 지지부 (61A1) 와, 복수의 고정편 (61A2) 을 구비하고 있다. 지지부 (61A1) 는, 복수의 제 1 개구부 (61AH) 를 갖고 있다. 각 고정편 (61A2) 은, 지지부 (61A1) 에 지지되어 있다. 고정편 (61A2) 은, 제 1 개구부 (61AH) 의 둘레에 위치하고 있다. 각 고정편 (61A2) 에는, 1 개의 돌출편 (61B2) 이 고정된다. XY 평면과 대향하는 시점에서 보아, 프레임형상부 (61B) 가 본체부 (61A) 에 고정되어 있는 상태에 있어서, 각 고정편 (61A2) 은, 그 고정편 (61A2) 에 고정되는 돌출편 (61B2) 을 둘러싸는 U 자 형상을 갖고 있다. 고정편 (61A2) 에 돌출편 (61B2) 이 고정됨으로써, 지지부 (61A1) 가 프레임 본체 (61B1) 를 지지한다.61 A of main-body parts are provided with support part 61A1 and several fixing piece 61A2. The support part 61A1 has a plurality of first openings 61AH. Each fixing piece 61A2 is supported by the support part 61A1. The fixing piece 61A2 is positioned around the first opening 61AH. One protruding piece 61B2 is fixed to each fixing piece 61A2. When viewed from a viewpoint facing the XY plane, in a state where the frame portion 61B is fixed to the body portion 61A, each fixing piece 61A2 is a protruding piece 61B2 fixed to the fixing piece 61A2. ) has a U-shape surrounding it. By fixing projecting piece 61B2 to fixing piece 61A2, support part 61A1 supports frame main body 61B1.

마스크 프레임 (61) 은, X 축 조정용 나사 (61C), Y 축 조정용 나사 (61D), 및, 고정용 나사 (61E) 를 추가로 구비하고 있다. 도 25 가 나타내는 예에서는, 마스크 프레임 (61) 은, 1 개의 X 축 조정용 나사 (61C), 2 개의 Y 축 조정용 나사 (61D), 및, 3 개의 고정용 나사 (61E) 를 구비하고 있다.The mask frame 61 is further equipped with 61 C of X-axis adjusting screws, 61 D of Y-axis adjusting screws, and 61E of fixing screws. In the example shown in FIG. 25 , the mask frame 61 includes one X-axis adjusting screw 61C, two Y-axis adjusting screws 61D, and three fixing screws 61E.

X 축 조정용 나사 (61C) 는, 1 개의 고정용 나사 (61E) 와 함께, Y 축을 따라 연장되는 돌출편 (61B2) 을 당해 돌출편 (61B2) 을 둘러싸는 고정편 (61A2) 에 고정시킨다. X 축 조정용 나사 (61C) 및 고정용 나사 (61E) 는, X 축을 따라 돌출편 (61B2) 을 사이에 끼운 상태에서, 돌출편 (61B2) 을 고정편 (61A2) 에 고정시킨다. X 축 조정용 나사 (61C) 및 고정용 나사 (61E) 는 모두, 고정편 (61A2) 에 형성된 관통공을 구획하는 측면에 대하여 나사 결합하는 것이 가능한 형상을 가진 나사이다. X 축 조정용 나사 (61C) 의 조임량을 변경함으로써, X 축에 있어서의 돌출편 (61B2) 의 위치, 나아가서는 프레임형상부 (61B) 의 위치를 변경하는 것이 가능하다.The screw 61C for X-axis adjustment fixes the protruding piece 61B2 extending along the Y-axis to the fixing piece 61A2 surrounding the protruding piece 61B2 together with one fixing screw 61E. The X-axis adjusting screw 61C and the fixing screw 61E fix the protruding piece 61B2 to the fixing piece 61A2 in a state where the protruding piece 61B2 is sandwiched along the X-axis. Both the X-axis adjusting screw 61C and the fixing screw 61E are screws having a shape capable of being screwed into the side surface defining the through hole formed in the fixing piece 61A2. By changing the tightening amount of the X-axis adjusting screw 61C, it is possible to change the position of the protruding piece 61B2 in the X-axis and, consequently, the position of the frame portion 61B.

각 Y 축 조정용 나사 (61D) 는, 1 개의 고정용 나사 (61E) 와 함께, X 축을 따라 연장되는 돌출편 (61B2) 을 당해 돌출편 (61B2) 을 둘러싸는 고정편 (61A2) 에 고정시킨다. Y 축 조정용 나사 (61D) 및 고정용 나사 (61E) 는, Y 축에 있어서 돌출편 (61B2) 을 사이에 끼운 상태에서, 돌출편 (61B2) 을 고정편 (61A2) 에 고정시킨다. Y 축 조정용 나사 (61D) 및 고정용 나사 (61E) 는 모두, 고정편 (61A2) 에 형성된 관통공을 구획하는 측면에 대하여 나사 결합하는 것이 가능한 나사이다. Y 축 조정용 나사 (61D) 의 조임량을 변경함으로써, Y 축에 있어서의 돌출편 (61B2) 의 위치, 나아가서는 프레임형상부 (61B) 의 위치를 변경하는 것이 가능하다.Each Y-axis adjusting screw 61D fixes the protruding piece 61B2 extending along the X axis to the fixing piece 61A2 surrounding the protruding piece 61B2 together with one fixing screw 61E. The Y-axis adjusting screw 61D and the fixing screw 61E fix the protruding piece 61B2 to the fixing piece 61A2 in a state where the protruding piece 61B2 is sandwiched in the Y-axis. Both the Y-axis adjusting screw 61D and the fixing screw 61E are screws that can be screwed into the side surface defining the through hole formed in the fixing piece 61A2. By changing the tightening amount of the Y-axis adjusting screw 61D, it is possible to change the position of the protruding piece 61B2 in the Y-axis and, consequently, the position of the frame portion 61B.

즉, 본 실시형태에서는, X 축 조정용 나사 (61C), Y 축 조정용 나사 (61D), 및, 고정용 나사 (61E) 에 의해, 제 2 위치 조정부의 일례가 구성되어 있다. That is, in this embodiment, an example of the 2nd position adjustment part is comprised by 61 C of X-axis adjusting screws, 61 D of Y-axis adjusting screws, and the fixing screw 61E.

마스크 프레임 (61) 은, 복수의 Z 축 조정용 나사 (61F) 를 추가로 구비하고 있다. 도 25 가 나타내는 예에서는, 3 개의 Z 축 조정용 나사 (61F) 를 구비하고 있다. XY 평면과 대향하는 시점에서 보아, 1 개의 Z 축 조정용 나사 (61F) 는, 프레임 본체 (61B1) 의 가장자리 중, Y 축을 따라 연장되는 고정편 (61A2) 이 위치하는 부분의 근방에 위치하고 있다. 나머지의 Z 축 조정용 나사 (61F) 는, 프레임 본체 (61B1) 가 갖는 모서리부 중, X 축에 있어서 서로 이웃하는 2 개의 모서리부로서, 상기 서술한 1 개의 Z 축 조정용 나사 (61F) 가 위치하는 부분과 함께 삼각형을 형성하는 정부 (頂部) 에 각각 위치하고 있다.The mask frame 61 is further equipped with a plurality of Z-axis adjusting screws 61F. In the example shown in Fig. 25, three Z-axis adjusting screws 61F are provided. Seen from a viewpoint facing the XY plane, one Z-axis adjustment screw 61F is located near a portion of the edge of the frame body 61B1 where the fixing piece 61A2 extending along the Y-axis is located. The remaining Z-axis adjusting screws 61F are two corner portions adjacent to each other in the X axis among the corner portions of the frame body 61B1, and the above-described one Z-axis adjusting screw 61F is located. Each of them is located at the top of the triangle forming a triangle.

도 26 은, 도 25 가 나타내는 XXVI-XXVI 선을 따르는 단면을 나타내고 있다.Fig. 26 shows a cross section along the line XXVI-XXVI shown in Fig. 25 .

도 26 이 나타내는 바와 같이, 각 Z 축 조정용 나사 (61F) 는, 지지부 (61A1) 에 형성된 관통공에 장착된다. 각 Z 축 조정용 나사 (61F) 는, 나사부 (61F1) 와 흡착부 (61F2) 를 구비하고 있다. 나사부 (61F1) 는, Z 축을 따라 연장되는 봉상을 갖고 있다. Z 축 조정용 나사 (61F) 가 지지부 (61A1) 에 장착된 상태에 있어서, 나사부 (61F1) 의 단부 중, 프레임형상부 (61B) 로부터의 거리가 작은 단부가 선단이고, 선단과는 반대측의 단부가 기단이다. 흡착부 (61F2) 는, 나사부 (61F1) 의 선단에 위치하고 있다.As Fig. 26 shows, each Z-axis adjusting screw 61F is attached to a through hole formed in the support part 61A1. Each Z-axis adjusting screw 61F includes a screw portion 61F1 and a suction portion 61F2. The threaded portion 61F1 has a rod shape extending along the Z axis. In the state where the Z-axis adjustment screw 61F is attached to the support portion 61A1, among the ends of the screw portion 61F1, the end having a small distance from the frame-shaped portion 61B is the tip, and the end on the opposite side to the tip is it is a base The suction part 61F2 is located at the tip of the screw part 61F1.

흡착부 (61F2) 는, 자석으로 형성되어 있다. 프레임형상부 (61B) 의 프레임 본체 (61B1) 는, 강자성체에 의해 형성된다. 혹은, 프레임 본체 (61B1) 의 일부로서, 흡착부 (61F2) 가 접하는 영역을 포함하는 부분이, 강자성체에 의해 형성된다. 이에 따라, 흡착부 (61F2) 가 프레임 본체 (61B1) 에 접했을 경우에, 프레임 본체 (61B1) 에 흡착부 (61F2) 가 고정된다. Z 축 조정용 나사 (61F) 가 지지부 (61A1) 로부터 돌출하는 양을 변경함으로써, Z 축에 있어서의 프레임형상부 (61B) 의 위치를 변경하는 것이 가능하다. 즉, 본 실시형태에서는, Z 축 조정용 나사 (61F) 가 제 1 위치 조정부의 일례이다.The adsorbing portion 61F2 is formed of a magnet. The frame main body 61B1 of the frame-shaped portion 61B is formed of a ferromagnetic material. Alternatively, a portion of the frame main body 61B1 including a region in contact with the adsorption portion 61F2 is made of a ferromagnetic material. Thereby, when the adsorption part 61F2 touches the frame main body 61B1, the adsorption part 61F2 is fixed to the frame main body 61B1. By changing the amount by which the Z-axis adjustment screw 61F protrudes from the support portion 61A1, it is possible to change the position of the frame portion 61B in the Z-axis. That is, in this embodiment, the screw 61F for Z-axis adjustment is an example of the 1st position adjusting part.

[고정 방법] [fixation method]

이하, 본체부 (61A) 에 대한 프레임형상부 (61B) 의 고정 방법을 설명한다. 또한, 제 4 실시형태에서는, 프레임형상부 (61B) 를 본체부 (61A) 에 고정시킬 때에, 제 3 실시형태에 기재한 유지대와 동등한 유지대를 사용하는 것이 가능하다.Hereinafter, the fixing method of the frame-shaped part 61B to the body part 61A is explained. Further, in the fourth embodiment, when fixing the frame-shaped portion 61B to the body portion 61A, it is possible to use a holder equivalent to the holder described in the third embodiment.

본 실시형태의 증착 마스크 (60) 에서는, 본체부 (61A) 에 프레임형상부 (61B) 를 고정시킬 때에는, 먼저, 프레임형상부 (61B) 를 유지대에 유지시킨 상태에서, Z 축 조정용 나사 (61F) 가 지지부 (61A1) 로부터 돌출하는 양을 조정하고, Z 축 조정용 나사 (61F) 의 선단에 위치한 흡착부 (61F2) 를 프레임형상부 (61B) 에 흡착시킨다. 이에 따라, 3 개의 Z 축 조정용 나사 (61F) 에 의해, Z 축에 있어서의 프레임형상부 (61B) 의 위치를 결정한다. 그리고, 각 돌출편 (61B2) 을 고정용 나사 (61E) 를 사용하여 고정편 (61A2) 에 고정시킨다. 이어서, XY 평면 상에서의 프레임형상부 (61B) 의 위치를 1 개의 X 축 조정용 나사 (61C), 및, 2 개의 Y 축 조정용 나사 (61D) 를 사용하여 결정한다. 이에 따라, XY 평면 상, 및, Z 축 상의 소정의 위치에 있어서, 프레임형상부 (61B) 가 본체부 (61A) 에 고정된다. 또한, X 축 조정용 나사 (61C), Y 축 조정용 나사 (61D), 및, Z 축 조정용 나사 (61F) 를 프레임형상부 (61B) 로부터 떼어냄으로써, 본체부 (61A) 에 대한 프레임형상부 (61B) 의 고정을 해제하는 것이 가능하다.In the vapor deposition mask 60 of the present embodiment, when fixing the frame portion 61B to the main body portion 61A, first, in a state where the frame portion 61B is held on the holder, the Z-axis adjusting screw ( 61F) adjusts the protruding amount from the support portion 61A1, and the suction portion 61F2 located at the tip of the Z-axis adjusting screw 61F is attracted to the frame-shaped portion 61B. Accordingly, the position of the frame portion 61B in the Z axis is determined by the three Z axis adjusting screws 61F. And each projecting piece 61B2 is fixed to fixing piece 61A2 using the fixing screw 61E. Next, the position of the frame-shaped portion 61B on the XY plane is determined using one X-axis adjusting screw 61C and two Y-axis adjusting screws 61D. Thereby, the frame-shaped portion 61B is fixed to the main body portion 61A at predetermined positions on the XY plane and on the Z axis. Further, by removing the X-axis adjusting screw 61C, the Y-axis adjusting screw 61D, and the Z-axis adjusting screw 61F from the frame-shaped portion 61B, the frame portion 61B relative to the body portion 61A ) can be unlocked.

이상 설명한 바와 같이, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법의 제 4 실시형태에 의하면, 상기 서술한 (1-1), (1-3), (1-4) 에 더하여, 이하에 기재된 효과를 얻을 수 있다.As described above, according to the fourth embodiment of the deposition mask, the method for manufacturing the deposition mask, and the method for manufacturing the display device, the above-described (1-1), (1-3), and (1-4) In addition, the effects described below can be obtained.

(4-1) X 축 조정용 나사 (61C) 및 Y 축 조정용 나사 (61D) 를 사용하여, XY 평면 상에 있어서의 프레임형상부 (61B) 의 위치를 조정하는 것이 가능하다. 이에 따라, 복수의 프레임형상부 (61B) 사이에서의 제 2 개구부의 위치 어긋남을 억제하는 것이 가능하다.(4-1) It is possible to adjust the position of the frame portion 61B on the XY plane using the X-axis adjusting screw 61C and the Y-axis adjusting screw 61D. In this way, it is possible to suppress positional displacement of the second opening portion between the plurality of frame-shaped portions 61B.

(4-2) Z 축 조정용 나사 (61F) 를 사용하여, Z 축에 있어서의 프레임형상부 (61B) 의 위치를 조정하는 것이 가능하다. 이에 따라, 복수의 프레임형상부 (61B) 사이에서의 두께의 편차에 기인한 마스크부 (12) 의 위치 어긋남을 Z 축 조정용 나사 (61F) 에 의해 억제하는 것이 가능하다.(4-2) Using the Z-axis adjusting screw 61F, it is possible to adjust the position of the frame-shaped portion 61B in the Z-axis. Accordingly, it is possible to suppress positional displacement of the mask portion 12 due to variations in thickness among the plurality of frame-shaped portions 61B by means of the Z-axis adjustment screws 61F.

[제 4 실시형태의 변경예] [Modified Example of the 4th Embodiment]

이상 설명한 제 4 실시형태는, 이하와 같이 변경하여 실시할 수 있다. 4th Embodiment demonstrated above can be implemented with a change as follows.

[프레임형상부] [Frame shape part]

·프레임형상부 (61B) 는, 4 개 이상의 돌출편 (61B2) 을 구비해도 된다. 예를 들어, 프레임형상부 (61B) 가 4 개의 돌출편 (61B2) 을 구비하는 경우에는, 프레임형상부 (61B) 는, 프레임 본체 (61B1) 의 가장자리 중, X 축을 따라 연장되는 1 쌍의 변의 각각으로부터 2 개씩 돌출하는 돌출편 (61B2) 을 구비해도 된다. 이 경우에는, 본체부 (61A) 가, 돌출편 (61B2) 과 동수의 고정편 (61A2) 을 구비하면 된다.• The frame-shaped portion 61B may include four or more projecting pieces 61B2. For example, in the case where the frame portion 61B includes four protruding pieces 61B2, the frame portion 61B is one of a pair of edges extending along the X axis among the edges of the frame body 61B1. You may provide protruding pieces 61B2 protruding from each two at a time. In this case, the body portion 61A may be provided with the same number of fixing pieces 61A2 as the protruding pieces 61B2.

[Z 축 조정용 나사] [Screw for Z-axis adjustment]

·마스크 프레임 (61) 은, 4 개 이상의 Z 축 조정용 나사 (61F) 를 구비해도 된다. 예를 들어, 마스크 프레임 (61) 이 4 개의 Z 축 조정용 나사 (61F) 를 구비하는 경우에는, XY 평면과 대향하는 시점에서 보아, 프레임 본체 (61B1) 의 모서리부와 겹치는 위치에 Z 축 조정용 나사 (61F) 가 각각 위치해도 된다.• The mask frame 61 may be provided with 4 or more screws 61F for Z-axis adjustment. For example, when the mask frame 61 is provided with four Z-axis adjusting screws 61F, the Z-axis adjusting screws are positioned overlapping the corners of the frame body 61B1 when viewed from a viewpoint facing the XY plane. 61F may be located respectively.

[제 5 실시형태] [Fifth Embodiment]

도 27 및 도 28 을 참조하여, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법의 제 5 실시형태를 설명한다. 제 5 실시형태에서는, 제 1 실시형태와 비교해서, 프레임형상부를 본체부에 고정시키는 구조가 상이하다. 그 때문에 이하에서는, 이러한 상이점을 상세하게 설명하는 한편, 제 5 실시형태에 있어서 제 1 실시형태와 공통되는 구조에는 제 1 실시형태와 동일한 부호를 붙이고, 당해 구조의 상세한 설명을 생략한다.27 and 28, a fifth embodiment of a deposition mask, a method for manufacturing the deposition mask, and a method for manufacturing a display device will be described. In the fifth embodiment, compared to the first embodiment, the structure for fixing the frame-shaped portion to the main body is different. Therefore, in the following, while these differences are described in detail, the same reference numerals as those in the first embodiment are assigned to structures common to the first embodiment in the fifth embodiment, and detailed descriptions of the structures are omitted.

[증착 마스크] [Vapor deposition mask]

도 27 은, 마스크 프레임의 이면과 대향하는 시점에서 본 증착 마스크의 구조를 나타내고 있다. 또한, 도 27 에는, 증착 마스크 중에서, 1 개의 제 1 개구부와 당해 제 1 개구부의 주변의 구조만이 도시되어 있다.Fig. 27 shows the structure of the deposition mask seen from the viewpoint facing the back surface of the mask frame. 27 shows only one first opening and a structure around the first opening in the deposition mask.

도 27 이 나타내는 바와 같이, 증착 마스크 (70) 는, 마스크 프레임 (71) 과 마스크부 (12) 를 구비하고 있다. 마스크 프레임 (71) 은, 제 1 실시형태의 마스크 프레임 (11) 과 마찬가지로, 본체부 (71A) 와 프레임형상부 (71B) 를 구비하고 있다. 프레임형상부 (71B) 는, 직사각형 프레임형상을 갖고 있다. 프레임형상부 (71B) 는, X 축과, X 축에 직교하는 Y 축에 의해 규정되는 XY 평면 상에 위치하고 있다. XY 평면에 직교하는 축이, Z 축이다.As FIG. 27 shows, the deposition mask 70 includes a mask frame 71 and a mask portion 12 . Like the mask frame 11 of the first embodiment, the mask frame 71 includes a body portion 71A and a frame portion 71B. The frame-shaped portion 71B has a rectangular frame shape. The frame-shaped portion 71B is positioned on the XY plane defined by the X axis and the Y axis orthogonal to the X axis. An axis orthogonal to the XY plane is the Z axis.

본체부 (71A) 는, 제 1 개구부 (71AH) 를 갖고 있다. 본체부 (71A) 의 이면 (71AR) 과 대향하는 시점에서 보아, 제 1 개구부 (71AH) 의 외형은, 직사각형상을 갖고 있다. 상기 서술한 프레임형상부 (71B) 는, 이면 (71AR) 과 대향하는 시점에서 보아, 제 1 개구부 (71AH) 내에 위치하고 있다. 본체부 (71A) 는, 1 개의 제 1 개구부 (71AH) 당, 복수의 패임 (71A1) 을 구비하고 있다. 복수의 패임 (71A1) 은, X 축을 따라 제 1 개구부 (71AH) 를 사이에 두는 2 쌍의 패임 (71A1) 과, Y 축을 따라 제 1 개구부 (71AH) 를 사이에 두는 2 쌍의 패임 (71A1) 을 포함하고 있다. X 축을 따라 제 1 개구부 (71AH) 를 사이에 두는 2 쌍의 패임 (71A1) 에 있어서, 각 패임 (71A1) 은, 제 1 개구부 (71AH) 가 갖는 서로 상이한 모서리부와 서로 이웃하고 있다. Y 축을 따라 제 1 개구부 (71AH) 를 사이에 두는 2 쌍의 패임 (71A1) 에 있어서, 각 패임 (71A1) 은, 제 1 개구부 (71AH) 가 갖는 서로 상이한 모서리부와 서로 이웃하고 있다.The body portion 71A has a first opening 71AH. When viewed from a viewpoint facing the back surface 71AR of the body portion 71A, the outer shape of the first opening part 71AH has a rectangular shape. The frame-shaped portion 71B described above is positioned within the first opening 71AH when viewed from a viewpoint facing the back surface 71AR. The main body portion 71A is provided with a plurality of recesses 71A1 per first opening 71AH. The plurality of recesses 71A1 include two pairs of recesses 71A1 sandwiching the first opening 71AH along the X axis and two pairs of recesses 71A1 sandwiching the first opening 71AH along the Y axis. contains In the two pairs of recesses 71A1 sandwiching the first opening 71AH along the X-axis, each recess 71A1 is adjacent to a different corner portion of the first opening 71AH. In the two pairs of recesses 71A1 sandwiching the first opening 71AH along the Y-axis, each recess 71A1 is adjacent to a mutually different corner portion of the first opening 71AH.

마스크 프레임 (71) 은, 복수의 X 축 조정용 나사 (71C), 복수의 Y 축 조정용 나사 (71D), 및, 복수의 Z 축 조정부 (71E) 를 추가로 구비하고 있다. 도 27 이 나타내는 예에서는, 마스크 프레임 (71) 은, 4 개의 X 축 조정용 나사 (71C) 를 구비하고 있다.The mask frame 71 is further equipped with 71 C of X-axis adjustment screws, 71 D of Y-axis adjustment screws, and 71 E of Z-axis adjustment parts. In the example shown in FIG. 27 , the mask frame 71 is provided with four screws 71C for X-axis adjustment.

X 축 조정용 나사 (71C) 는, 프레임형상부 (71B) 의 모서리부에 1 개씩 장착되어 있다. 각 X 축 조정용 나사 (71C) 는, 프레임형상부 (71B) 의 모서리부로부터 프레임형상부 (71B) 바깥을 향해서 연장되는 봉상을 갖고 있다. X 축 조정용 나사 (71C) 에 있어서, 프레임형상부 (71B) 에 장착된 단부가 선단이고, 선단과는 반대측의 단부가 기단이다. X 축 조정용 나사 (71C) 의 도시되지 않은 선단은 구상 (球狀) 을 가지며, 프레임형상부 (71B) 에 형성된 홈 내에 유지된다. 그 때문에, X 축 조정용 나사 (71C) 의 선단은, 프레임형상부 (71B) 에는 고정되어 있지 않다. X 축 조정용 나사 (71C) 는, 제 1 개구부 (71AH) 와 패임 (71A1) 의 사이에 형성된 관통공을 통과하고, 이에 따라, X 축 조정용 나사 (71C) 가 본체부 (71A) 에 지지되어 있다. X 축 조정용 나사 (71C) 의 기단은, 패임 (71A1) 내에 위치하고 있다. X 축 조정용 나사 (71C) 가 패임 (71A1) 내에 돌출하는 양을 변경함으로써, X 축에 있어서의 프레임형상부 (71B) 의 위치를 변경하는 것이 가능하다. X 축 조정용 나사 (71C) 가 돌출하는 양은, X 축 조정용 나사 (71C) 의 조임량에 의해 변경하는 것이 가능하다.71 C of screws for X-axis adjustment are attached one by one to the corner part of frame-shaped part 71B. Each X-axis adjusting screw 71C has a rod shape extending from the corner of the frame portion 71B toward the outside of the frame portion 71B. In the X-axis adjustment screw 71C, the end attached to the frame-shaped portion 71B is the front end, and the end opposite to the front end is the base end. The tip (not shown) of the X-axis adjusting screw 71C has a spherical shape and is held in a groove formed in the frame-shaped portion 71B. Therefore, the tip of the X-axis adjustment screw 71C is not fixed to the frame-shaped portion 71B. The screw 71C for X-axis adjustment passes through the through hole formed between the first opening part 71AH and the recess 71A1, and thereby the screw 71C for X-axis adjustment is supported by the body portion 71A. . The base end of 71 C of screws for X-axis adjustment is located in recess 71A1. By changing the amount by which the X-axis adjusting screw 71C protrudes into the recess 71A1, it is possible to change the position of the frame-shaped portion 71B in the X-axis. The amount by which the X-axis adjusting screw 71C protrudes can be changed by the tightening amount of the X-axis adjusting screw 71C.

마스크 프레임 (71) 은, 4 개의 Y 축 조정용 나사 (71D) 를 구비하고 있다. Y 축 조정용 나사 (71D) 는, 프레임형상부 (71B) 의 모서리부에 1 개씩 장착되어 있다. 각 Y 축 조정용 나사 (71D) 는, 프레임형상부 (71B) 의 모서리부로부터 프레임형상부 (71B) 바깥을 향해서 연장되는 봉상을 갖고 있다. Y 축 조정용 나사 (71D) 에 있어서, 프레임형상부 (71B) 에 장착된 단부가 선단이고, 선단과는 반대측의 단부가 기단이다. Y 축 조정용 나사 (71D) 의 도시되지 않은 선단은 구상을 가지며, 프레임형상부 (71B) 에 형성된 홈 내에 유지된다. 그 때문에, Y 축 조정용 나사 (71D) 의 선단은, 프레임형상부 (71B) 에는 고정되어 있지 않다. Y 축 조정용 나사 (71D) 는, 제 1 개구부 (71AH) 와 패임 (71A1) 의 사이에 형성된 관통공을 통과하고, 이에 따라, Y 축 조정용 나사 (71D) 가 본체부 (71A) 에 지지되어 있다. Y 축 조정용 나사 (71D) 의 기단은, 패임 (71A1) 내에 위치하고 있다. Y 축 조정용 나사 (71D) 가 패임 (71A1) 내에 돌출하는 양을 변경함으로써, Y 축에 있어서의 프레임형상부 (71B) 의 위치를 변경하는 것이 가능하다. Y 축 조정용 나사 (71D) 가 돌출하는 양은, Y 축 조정용 나사 (71D) 의 조임량에 의해 변경하는 것이 가능하다.The mask frame 71 is provided with four Y-axis adjusting screws 71D. Each Y-axis adjusting screw 71D is attached to a corner of the frame-shaped portion 71B. Each Y-axis adjusting screw 71D has a rod shape extending from the corner of the frame portion 71B toward the outside of the frame portion 71B. In the Y-axis adjusting screw 71D, the end attached to the frame-shaped portion 71B is the front end, and the end opposite to the front end is the base end. The tip (not shown) of the Y-axis adjusting screw 71D has a spherical shape and is held in a groove formed in the frame-shaped portion 71B. Therefore, the tip of the Y-axis adjusting screw 71D is not fixed to the frame-shaped portion 71B. The Y-axis adjusting screw 71D passes through a through hole formed between the first opening part 71AH and the recess 71A1, and thus the Y-axis adjusting screw 71D is supported by the body portion 71A. . The base end of the Y-axis adjusting screw 71D is located in the recess 71A1. It is possible to change the position of the frame-shaped portion 71B in the Y-axis by changing the amount by which the Y-axis adjusting screw 71D protrudes into the recess 71A1. The amount by which the Y-axis adjusting screw 71D protrudes can be changed by the tightening amount of the Y-axis adjusting screw 71D.

즉, 본 실시형태에서는, X 축 조정용 나사 (71C), 및, Y 축 조정용 나사 (71D) 에 의해, 제 2 위치 조정부의 일례가 구성되어 있다.That is, in this embodiment, an example of the 2nd position adjustment part is comprised by 71 C of X-axis adjustment screws and 71 D of Y-axis adjustment screws.

도 28 은, 도 27 이 나타내는 XXVIII-XXVIII 선을 따르는 단면을 나타내고 있다. FIG. 28 is a cross section along the line XXVIII-XXVIII shown in FIG. 27 .

도 28 이 나타내는 바와 같이, 본체부 (71A) 는, 제 1 개구부 (71AH) 에 있어서의 본체부 (71A) 의 이면 (71AR) 의 개구가 확개된 단차부 (AH1) 를 구비하고 있다. 마스크 프레임 (71) 은, 4 개의 Z 축 조정부 (71E) 를 구비하고 있다. Z 축에 있어서, 단차부 (AH1) 를 구획하는 측면과 프레임형상부 (71B) 의 모서리부의 사이에, 1 개의 Z 축 조정부 (71E) 가 위치하고 있다.As Fig. 28 shows, the body portion 71A has a stepped portion AH1 in which the opening of the back surface 71AR of the body portion 71A in the first opening portion 71AH is widened. The mask frame 71 is provided with four Z-axis adjustment units 71E. In the Z-axis, one Z-axis adjusting portion 71E is positioned between the side surface that divides the step portion AH1 and the corner portion of the frame-shaped portion 71B.

각 Z 축 조정부 (71E) 는 탄성체이며, 예를 들어 스프링이다. Z 축 조정부 (71E) 는, Z 축 조정부 (71E) 상에 프레임형상부 (71B) 가 재치됨으로써, 프레임형상부 (71B) 로부터 부여된 하중에 따라 줄어든다. 그 때문에, Z 축에 있어서의 프레임형상부 (71B) 의 위치는, Z 축 조정부 (71E) 의 탄성력과, 프레임형상부 (71B) 가 Z 축 조정부 (71E) 에 부여하는 하중에 의해 정해진다. 또, Z 축 조정부 (71E) 에 부여되는 하중에는, 프레임형상부 (71B) 의 중량에 의한 하중 뿐만 아니라, 프레임형상부 (71B) 에 재치된 증착 대상에 의한 하중이 포함되어도 된다. 증착 대상은, 상기 서술한 바와 같이 예를 들어 유리 기판이다. 유리 기판에 있어서, 프레임형상부 (71B) 에 접하는 면에는, 유리 기판에 형성되는 화소를 다른 화소로부터 사이를 떼기 위한 뱅크가 형성되어 있다. 그 때문에, 프레임형상부 (51B) 에 유리 기판이 재치된 경우에는, 유리 기판이 갖는 뱅크를 통해서 유리 기판에 의한 하중이 Z 축 조정부 (71E) 에 부여된다.Each Z-axis adjustment unit 71E is an elastic body, such as a spring. The Z-axis adjusting portion 71E is reduced according to the load applied from the frame-shaped portion 71B by placing the frame portion 71B on the Z-axis adjusting portion 71E. Therefore, the position of the frame portion 71B in the Z axis is determined by the elastic force of the Z axis adjusting portion 71E and the load applied to the Z axis adjusting portion 71E by the frame portion 71B. In addition, the load applied to the Z-axis adjustment unit 71E may include not only a load due to the weight of the frame portion 71B, but also a load due to an evaporation target placed on the frame portion 71B. As described above, the vapor deposition target is, for example, a glass substrate. In the glass substrate, on a surface in contact with the frame-shaped portion 71B, a bank is formed to separate a pixel formed on the glass substrate from other pixels. Therefore, when a glass substrate is placed on the frame-shaped portion 51B, a load due to the glass substrate is applied to the Z-axis adjusting portion 71E through the bank of the glass substrate.

[고정 방법] [fixation method]

이하, 본체부 (71A) 에 대한 프레임형상부 (71B) 의 고정 방법을 설명한다. 또한, 제 5 실시형태에서는, 프레임형상부 (71B) 를 본체부 (71A) 에 고정시킬 때에, 제 3 실시형태에 기재한 유지대와 동등한 유지대를 사용하는 것이 가능하다.Hereinafter, a method of fixing the frame-shaped portion 71B to the body portion 71A will be described. Further, in the fifth embodiment, when fixing the frame portion 71B to the body portion 71A, it is possible to use a holding table equivalent to the holding table described in the third embodiment.

본 실시형태의 증착 마스크 (70) 에서는, 본체부 (71A) 에 프레임형상부 (71B) 를 고정시킬 때에는, 먼저, 프레임형상부 (71B) 를 유지대에 유지시킨 상태에서, 본체부 (71A) 에 장착된 X 축 조정용 나사 (71C), 및, Y 축 조정용 나사 (71D) 를 프레임형상부 (71B) 에 유지시킨다. 이어서, 패임 (71A1) 내에 X 축 조정용 나사 (71C) 가 돌출하는 양, 및, Y 축 조정용 나사 (71D) 가 돌출하는 양 중 적어도 일방을 조정한다. 이에 따라, XY 평면 상의 소정의 위치에 있어서, 프레임형상부 (71B) 를 본체부 (71A) 에 고정시킨다. 그리고, 프레임형상부 (71B) 로부터 유지대를 떼어냄으로써, 프레임형상부 (71B) 의 하중을 Z 축 조정부 (71E) 에 작용시킨다. 이에 따라, 프레임형상부 (71B) 는, Z 축에 있어서의 소정의 위치에 있어서, Z 축 조정부 (71E) 에 의해 지지된다. 또한, X 축 조정용 나사 (71C), 및, Y 축 조정용 나사 (71D) 를 프레임형상부 (71B) 로부터 떼어냄으로써, 본체부 (71A) 에 대한 프레임형상부 (71B) 의 고정을 해제하는 것이 가능하다.In the vapor deposition mask 70 of the present embodiment, when fixing the frame portion 71B to the body portion 71A, first, in a state where the frame portion 71B is held on the holder, the body portion 71A The X-axis adjusting screw 71C and the Y-axis adjusting screw 71D attached thereto are held by the frame-shaped portion 71B. Next, at least one of the protruding amount of the X-axis adjusting screw 71C and the protruding amount of the Y-axis adjusting screw 71D in the recess 71A1 is adjusted. Thereby, at a predetermined position on the XY plane, the frame-shaped portion 71B is fixed to the body portion 71A. Then, by removing the holder from the frame portion 71B, the load of the frame portion 71B is applied to the Z-axis adjusting portion 71E. Accordingly, the frame-shaped portion 71B is supported by the Z-axis adjusting portion 71E at a predetermined position along the Z-axis. Further, by removing the X-axis adjusting screw 71C and the Y-axis adjusting screw 71D from the frame portion 71B, it is possible to release the fixation of the frame portion 71B to the main body portion 71A. do.

이상 설명한 바와 같이, 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법, 및, 표시 장치의 제조 방법의 제 5 실시형태에 의하면, 상기 서술한 (1-1), (1-4) 에 더하여, 이하에 기재된 효과를 얻을 수 있다.As described above, according to the fifth embodiment of the deposition mask, the manufacturing method of the deposition mask, and the manufacturing method of the display device, in addition to the above-mentioned (1-1) and (1-4), the effect described below can be obtained.

(5-1) X 축 조정용 나사 (71C) 및 Y 축 조정용 나사 (71D) 를 사용하여, XY 평면 상에 있어서의 프레임형상부 (61B) 의 위치를 조정하는 것이 가능하다. 이에 따라, 복수의 프레임형상부 (71B) 사이에서의 제 2 개구부의 위치 어긋남을 억제하는 것이 가능하다.(5-1) It is possible to adjust the position of the frame portion 61B on the XY plane using the X-axis adjusting screw 71C and the Y-axis adjusting screw 71D. In this way, it is possible to suppress positional displacement of the second opening portion between the plurality of frame-shaped portions 71B.

[제 5 실시형태의 변경예] [Modified Example of the Fifth Embodiment]

또한, 상기 서술한 제 5 실시형태는, 이하와 같이 변경하여 실시할 수 있다.In addition, 5th Embodiment mentioned above can be implemented with a change as follows.

[X 축 조정용 나사] [Screw for X-axis adjustment]

·마스크 프레임 (71) 은, 3 개의 X 축 조정용 나사 (71C) 만을 가져도 된다. 이 경우에는, 상기 서술한 마스크 프레임 (71) 이 구비하는 4 개의 X 축 조정용 나사 (71C) 중 어느 것이 생략되어도 된다.• The mask frame 71 may have only three screws 71C for X-axis adjustment. In this case, any of the four X-axis adjusting screws 71C of the mask frame 71 described above may be omitted.

[Y 축 조정용 나사] [Screw for Y-axis adjustment]

·마스크 프레임 (71) 은, 3 개의 Y 축 조정용 나사 (71D) 만을 가져도 된다. 이 경우에는, 상기 서술한 마스크 프레임 (71) 이 구비하는 4 개의 Y 축 조정용 나사 (71D) 중 어느 것이 생략되어도 된다.• The mask frame 71 may have only three Y-axis adjusting screws 71D. In this case, any of the four Y-axis adjusting screws 71D of the mask frame 71 described above may be omitted.

10, 40, 50, 60, 70 : 증착 마스크
11, 41, 51, 61, 71 : 마스크 프레임
11A, 41A, 51A, 61A, 71A : 본체부
11AF, 11BF, 11F, 12F, 41AF, 41BF, 51AF, 51BF : 표면
11AH, 41AH, 51AH, 61AH, 71AH : 제 1 개구부
11AR, 11BR, 11R, 12R, 41AR, 41BR, 51AR, 51BR, 71AR : 이면
11B, 41B, 51B, 61B, 71B : 프레임형상부
11BH, 41BH : 제 2 개구부
12 : 마스크부
12H : 마스크 구멍
10, 40, 50, 60, 70: deposition mask
11, 41, 51, 61, 71: mask frame
11A, 41A, 51A, 61A, 71A: main body
11AF, 11BF, 11F, 12F, 41AF, 41BF, 51AF, 51BF: surface
11AH, 41AH, 51AH, 61AH, 71AH: 1st opening
11AR, 11BR, 11R, 12R, 41AR, 41BR, 51AR, 51BR, 71AR: back side
11B, 41B, 51B, 61B, 71B: frame shape
11BH, 41BH: 2nd opening
12: mask part
12H: mask hole

Claims (9)

증착 마스크로서,
마스크 프레임으로서,
제 1 표면, 상기 제 1 표면과는 반대측의 제 1 이면, 및, 상기 제 1 표면과 상기 제 1 이면의 사이를 관통하는 제 1 개구부를 구비한 본체부, 및,
제 2 표면과, 상기 제 2 표면과는 반대측의 제 2 이면을 구비하는 프레임형상부로서, 상기 제 2 표면과 상기 제 2 이면의 사이를 관통하는 제 2 개구부를 구비하는 프레임형상부를 구비하고,
상기 제 2 표면에 있어서의 상기 제 2 개구부의 위치가 상기 제 1 표면에 있어서의 상기 제 1 개구부의 위치와 정합하도록 상기 제 1 이면측에 있어서 상기 프레임형상부를 상기 본체부에 떼어내기 가능하게 장착하는 것이 가능하게 구성된 마스크 프레임과,
복수의 마스크 구멍을 가진 마스크부로서, 상기 제 2 개구부를 덮도록, 상기 제 2 이면에 접합된 상기 마스크부를 구비하는
증착 마스크.
As a deposition mask,
As a mask frame,
A body portion having a first surface, a first back surface opposite to the first surface, and a first opening penetrating between the first surface and the first back surface;
A frame-shaped portion having a second surface and a second back surface opposite to the second surface, comprising a frame-shaped portion having a second opening penetrating between the second surface and the second back surface;
The frame-shaped part is detachably attached to the main body on the first back side so that the position of the second opening on the second surface matches the position of the first opening on the first surface. A mask frame configured to be able to do;
A mask portion having a plurality of mask holes, comprising the mask portion bonded to the second back surface so as to cover the second opening portion.
deposition mask.
제 1 항에 있어서,
상기 마스크부는 복수의 마스크부 중 하나이고,
상기 본체부는, 복수의 제 1 개구부를 구비하고, 상기 제 1 개구부는, 상기 복수의 제 1 개구부 중 하나이고,
상기 마스크 프레임은, 복수의 프레임형상부를 구비하고, 상기 프레임형상부는, 상기 복수의 프레임형상부 중 하나이고,
각 프레임형상부의 상기 제 2 개구부의 상기 제 2 표면에 있어서의 위치는, 그 밖의 제 2 개구부의 상기 제 2 표면에 있어서의 위치와 정합하는 상기 제 1 개구부의 상기 제 1 표면에 있어서의 위치와는 상이한 상기 제 1 개구부의 상기 제 1 표면에 있어서의 위치와 정합하고,
각 마스크부는, 그 밖의 마스크부가 접합되는 프레임형상부와는 상이한 상기 프레임형상부의 상기 제 2 이면에 용접에 의해 접합되고,
각 프레임형상부는, 당해 프레임형상부에 대한 상기 마스크부의 용접에 의해 형성된 용접 자국을 구비하고, 상기 용접 자국은, 상기 제 2 이면에 형성된 패임인
증착 마스크.
According to claim 1,
The mask part is one of a plurality of mask parts,
The body portion includes a plurality of first openings, and the first opening is one of the plurality of first openings;
The mask frame includes a plurality of frame-shaped parts, and the frame-shaped part is one of the plurality of frame-shaped parts,
The position of the second opening of each frame-shaped part on the second surface matches the position of the first opening on the first surface matching the position of the other second openings on the second surface; matches the position on the first surface of the different first apertures,
Each mask part is joined by welding to the second back surface of the frame part different from the frame part to which the other mask parts are joined,
Each frame-shaped portion has a weld scar formed by welding the mask portion to the frame-shaped portion, and the weld scar is a recess formed on the second back surface.
deposition mask.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 프레임형상부는, 자성을 가진 금속에 의해 형성되어 있고,
상기 마스크 프레임은, 상기 본체부로부터의 떼어내기가 가능하게, 자기 흡착에 의해 상기 프레임형상부를 상기 본체부에 고정시키는 고정부를 추가로 구비하는
증착 마스크.
According to claim 1 or 2,
The frame-shaped portion is formed of a metal having magnetism,
The mask frame further includes a fixing portion for fixing the frame-shaped portion to the body portion by magnetic adsorption so that it can be detached from the body portion.
deposition mask.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 마스크 프레임은, 상기 본체부의 두께 방향에 있어서, 상기 본체부에 대한 상기 프레임형상부의 위치를 제 1 위치와 제 2 위치의 사이에 있어서 변경하는 것이 가능하게 구성된 제 1 위치 조정부를 구비하는
증착 마스크.
According to any one of claims 1 to 3,
The mask frame includes a first position adjusting unit configured to be able to change the position of the frame-shaped portion relative to the body portion between a first position and a second position in the thickness direction of the body portion.
deposition mask.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 마스크 프레임은, 상기 프레임형상부가 넓어지는 평면에 있어서, 상기 본체부에 대한 상기 프레임형상부의 위치를 제 3 위치와 제 4 위치의 사이에 있어서 변경하는 것이 가능하게 구성된 제 2 위치 조정부를 구비하는
증착 마스크.
According to any one of claims 1 to 4,
The mask frame includes a second position adjusting unit configured to be able to change the position of the frame-shaped portion relative to the main body between a third position and a fourth position in a plane in which the frame-shaped portion spreads.
deposition mask.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 본체부는, 상기 제 1 개구부의 상기 제 1 이면에 있어서의 개구가 확개된 단차부를 갖고,
상기 프레임형상부는, 상기 단차부에 위치하도록 구성되어 있는
증착 마스크.
According to any one of claims 1 to 5,
The body portion has a stepped portion in which an opening in the first back surface of the first opening portion is widened,
The frame shape is configured to be located in the stepped portion
deposition mask.
제 6 항에 있어서,
상기 프레임형상부는, 상기 제 2 이면에 직교하는 단면에 있어서, 상기 본체부의 상기 단차부의 깊이 이상의 두께를 갖는
증착 마스크.
According to claim 6,
The frame-shaped portion, in a cross section orthogonal to the second back surface, has a thickness equal to or greater than the depth of the stepped portion of the body portion.
deposition mask.
제 2 표면과 제 2 이면의 사이를 관통하는 제 2 개구부를 가진 프레임형상부에 마스크부를 접합하는 것, 및,
제 1 표면과 제 1 이면의 사이를 관통하는 제 1 개구부를 가진 본체부에, 상기 프레임형상부를 장착하는 것을 포함하고,
상기 마스크부를 접합하는 것은, 상기 제 2 개구부를 덮도록 상기 제 2 이면에 상기 마스크부를 접합하는 것을 포함하고,
상기 프레임형상부를 장착하는 것은, 상기 제 2 표면에 있어서의 상기 제 2 개구부의 위치가 상기 제 1 표면에 있어서의 상기 제 1 개구부의 위치와 정합하도록 상기 제 1 이면측에 있어서 상기 프레임형상부를 상기 본체부에 떼어내기 가능하게 장착하는 것을 포함하는
증착 마스크의 제조 방법.
Bonding a mask portion to a frame shape having a second opening penetrating between a second surface and a second back surface, and
Mounting the frame-shaped portion to a body portion having a first opening penetrating between the first surface and the first back surface;
Bonding the mask part includes bonding the mask part to the second back surface so as to cover the second opening,
Attaching the frame-shaped portion is to attach the frame-shaped portion to the first back side so that the position of the second opening on the second surface matches the position of the first opening on the first surface. Including detachably attaching to the main body
A method for manufacturing a deposition mask.
제 8 항에 기재된 증착 마스크의 제조 방법에 의해 제조된 증착 마스크를 사용하여 증착 대상에 패턴을 형성하는 것을 포함하는
표시 장치의 제조 방법.
Forming a pattern on a deposition target using a deposition mask manufactured by the method for manufacturing a deposition mask according to claim 8
A method for manufacturing a display device.
KR1020227033224A 2020-03-31 2021-03-31 Deposition mask, method for manufacturing deposition mask, and method for manufacturing display device KR20220161310A (en)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020065160 2020-03-31
JPJP-P-2020-065160 2020-03-31
JPJP-P-2021-022158 2021-02-15
JP2021022158A JP2021161535A (en) 2020-03-31 2021-02-15 Vapor deposition mask, manufacturing method of vapor deposition mask and manufacturing method of display device
PCT/JP2021/013916 WO2021201124A1 (en) 2020-03-31 2021-03-31 Vapor-deposition mask, method for manufacturing vapor-deposition mask, and method for manufacturing display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220161310A true KR20220161310A (en) 2022-12-06

Family

ID=77928553

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227033224A KR20220161310A (en) 2020-03-31 2021-03-31 Deposition mask, method for manufacturing deposition mask, and method for manufacturing display device

Country Status (4)

Country Link
KR (1) KR20220161310A (en)
CN (1) CN115398027A (en)
TW (1) TW202140820A (en)
WO (1) WO2021201124A1 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019054462A1 (en) 2017-09-15 2019-03-21 凸版印刷株式会社 Method for manufacturing deposition mask, method for manufacturing display device and deposition mask

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4396251B2 (en) * 2003-12-09 2010-01-13 凸版印刷株式会社 Manufacturing method of vapor deposition mask for organic EL
KR20070082317A (en) * 2006-02-16 2007-08-21 삼성전자주식회사 Mask and manufacturing method thereof
KR100741138B1 (en) * 2006-09-05 2007-07-19 삼성에스디아이 주식회사 Mask frame assembly for thin layer deposition and manufacturing method of organic light emitting display device thereused
TWM508803U (en) * 2013-11-20 2015-09-11 Applied Materials Inc A ceramic mask assembly for manufacturing organic light-emitting diode (OLED)
CN108034923B (en) * 2018-01-24 2020-06-05 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Mask assembly, mask frame and mask support frame

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019054462A1 (en) 2017-09-15 2019-03-21 凸版印刷株式会社 Method for manufacturing deposition mask, method for manufacturing display device and deposition mask

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021201124A1 (en) 2021-10-07
TW202140820A (en) 2021-11-01
CN115398027A (en) 2022-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109207919B (en) Vapor deposition mask, vapor deposition mask device, method for manufacturing vapor deposition mask, and method for manufacturing vapor deposition mask device
KR102471409B1 (en) Deposition mask device and method for manufacturing the deposition mask device
KR102109071B1 (en) Film forming mask
KR102148970B1 (en) Deposition mask production method and laser processing apparatus
WO2018110253A1 (en) Vapor deposition mask device and method for manufacturing vapor deposition mask device
KR102341448B1 (en) The manufacturing method of the deposition mask, and the method for manufacturing display device and deposition mask
CN101828250A (en) Aligning apparatus, bonding apparatus, laminated substrate manufacturing apparatus, exposure apparatus and aligning method
KR20070079924A (en) Mask film formation method and mask film formation apparatus
JP2014098196A (en) Method for manufacturing vapor deposition mask
CN111088473B (en) Alignment mask plate, alignment mechanism and preparation method of alignment mask plate
KR20200094094A (en) Vapor deposition mask and method of manufacture thereof, vapor deposition mask device and method of manufacture thereof, intermediate, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display device
US20210407800A1 (en) Method for manufacturing deposition mask, method for manufacturing display device, and deposition mask intermediate
KR20220161310A (en) Deposition mask, method for manufacturing deposition mask, and method for manufacturing display device
CN110819938B (en) Vapor deposition mask, vapor deposition mask device, method for manufacturing vapor deposition mask device, and vapor deposition method
JP2021161535A (en) Vapor deposition mask, manufacturing method of vapor deposition mask and manufacturing method of display device
JP2022165092A (en) Vapor deposition mask, method for manufacturing vapor deposition mask and method for manufacturing display device
JP2022050818A (en) Vapor deposition mask, manufacturing method of vapor deposition mask, and manufacturing method of display device
TW201011457A (en) Method for manufacturing photo mask assembly
KR20220014353A (en) Mask chuck and mask manufacturing apparatus comprising it