KR20220160478A - Organometallic compounds and organic light emitting diode comprising the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 유기금속 화합물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 인광 특성을 가지는 유기금속 화합물 및 이를 포함하는 유기전계발광소자에 관한 것이다.The present invention relates to an organometallic compound, and more particularly, to an organometallic compound having phosphorescent properties and an organic electroluminescent device including the same.
표시장치가 다양한 분야에 적용됨에 따라 관심이 높아지고 있다. 이러한 표시소자 중 하나로서 유기전계발광소자(organic light emitting diode, OLED)를 포함하는 유기 발광 표시장치의 기술이 빠른 속도로 발전하고 있다.As display devices are applied to various fields, interest is increasing. The technology of an organic light emitting display device including an organic light emitting diode (OLED) as one of such display devices is rapidly developing.
유기전계발광소자는 양극과 음극 사이에 형성된 발광층에 전하를 주입하면 전자와 정공이 쌍을 이루어 여기자(엑시톤)을 형성한 후, 여기자의 에너지를 빛으로 방출하는 소자이다. 유기발광다이오드는 기존의 디스플레이 기술에 비해 저 전압 구동이 가능하고 전력소모가 비교적 적으며, 뛰어난 색감을 가질 뿐만 아니라, 플랙서블 기판 적용이 가능하여 다양한 활용이 가능하며, 표시 장치의 크기를 자유롭게 조절할 수 있다는 장점을 가지고 있다.An organic light emitting device is a device that emits energy of the excitons as light after injecting charge into a light emitting layer formed between an anode and a cathode to form excitons (excitons) by pairing electrons and holes. Compared to existing display technologies, organic light emitting diodes can be driven at a lower voltage, consume relatively less power, have excellent color, and can be used in various ways by applying a flexible substrate, and the size of the display device can be freely adjusted. It has the advantage of being able to
유기전계발광소자(organic light emitting diode, OLED)는 액정디스플레이(liquid crystal display, LCD)에 비해 시야각, 명암비 등이 우수하고 백라이트가 불필요하여 경량 및 초박형이 가능하다. 유기전계발광소자는 음극(전자 주입 전극; cathode)과 양극(정공 주입 전극; anode) 사이에 복수의 유기물 층, 예컨대 정공 주입층, 정공 수송층, 정공 수송보조층, 전자 차단층, 발광층, 전자 전달층 등이 배치되어 형성된다.Organic light emitting diodes (OLEDs) have excellent viewing angles and contrast ratios compared to liquid crystal displays (LCDs) and do not require a backlight, so they can be lightweight and ultra-thin. An organic light emitting device includes a plurality of organic material layers between a cathode (electron injection electrode) and an anode (hole injection electrode), such as a hole injection layer, a hole transport layer, a hole transport auxiliary layer, an electron blocking layer, a light emitting layer, and electron transfer. Layers and the like are arranged and formed.
이러한 유기전계발광소자 구조에서 두 전극 사이에 전압을 걸어주게 되면 음극과 양극으로부터 각각 전자와 정공이 주입되며, 발광층에서 생성된 엑시톤(exciton)이 바닥 상태로 떨어지면서 빛이 나게 된다. In this organic light emitting device structure, when a voltage is applied between the two electrodes, electrons and holes are injected from the cathode and anode, respectively, and excitons generated in the light emitting layer fall to the ground state and emit light.
유기전계발광소자에 사용되는 유기 재료는 크게 발광 재료와 전하 수송 재료로 구분될 수 있다. 발광 재료는 유기전계발광소자의 발광 효율을 결정하는 중요한 요인으로서, 발광 재료는 양자 효율이 높고, 전자와 정공의 이동도가 우수하여야 하며, 발광층에 균일하고 안정적으로 존재하여야 한다. 발광재료는 발색광에 따라 청색, 적색, 녹색 등의 발광 재료로 구분되며, 발색 재료로서 색 순도의 증가와 에너지 전이를 통한 발광 효율을 증가시키기 위하여 호스트(host), 도펀트(dopant)로 사용한다.Organic materials used in organic light emitting devices can be largely classified into light emitting materials and charge transport materials. The light emitting material is an important factor determining the luminous efficiency of the organic light emitting device, and the light emitting material must have high quantum efficiency, excellent mobility of electrons and holes, and must exist uniformly and stably in the light emitting layer. Light emitting materials are classified into blue, red, green, etc. light emitting materials according to the color light, and are used as a host and dopant to increase color purity and luminous efficiency through energy transfer. .
유기전계발광소자에 대하여, 낮은 구동전압, 높은 효율, 장수명에 대한 개발이 지속적으로 요구되고 있다. 또한, OLED 표시장치에서 넓은 CIE 색좌표 영역을 포함할 수 있는 고순도의 컬러를 표현할 수 있는 발광 재료에 대한 요구도 높아지고 있으며, 특히 컬러필터를 이용하는 백색 유기발광다이오드의 경우 우수한 발광 효율과 고순도의 컬러를 나타내는 발광 물질의 필요성이 더욱 크다.For organic light emitting devices, there is a continuous demand for development of low driving voltage, high efficiency, and long lifespan. In addition, demand for light emitting materials capable of expressing high-purity colors that can include a wide CIE color coordinate range in OLED display devices is also increasing. The need for light emitting materials to display is even greater.
그러나, 색순도가 높아질수록(CIE 색좌표 X값이 커질수록) 시감도가 떨어지기 때문에, 동일한 내부양자효율로는 높은 발광효율을 얻기 어려운 문제가 있기 때문에, 낮은 구동전압, 높은 효율, 장수명이면서도 우수한 색순도를 구현할 수 있는 인광 발광 재료에 대한 개발이 요구된다.However, since the visibility decreases as the color purity increases (the CIE color coordinate X value increases), it is difficult to obtain high luminous efficiency with the same internal quantum efficiency. Development of a phosphorescent light emitting material that can be implemented is required.
따라서, 본 발명의 목적은 구동전압, 효율 및 수명이 개선될 뿐만 아니라, 색순도를 향상시켜 고색순도 및 고휘도를 구현할 수 있는 유기금속 화합물과 이를 유기 발광층에 적용한 유기전계발광소자를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an organometallic compound capable of realizing high color purity and high luminance by improving driving voltage, efficiency, and lifespan, and an organic light emitting device applying the same to an organic light emitting layer.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있고, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 이해될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects and advantages of the present invention not mentioned above can be understood by the following description and will be more clearly understood by the examples of the present invention. It will also be readily apparent that the objects and advantages of the present invention may be realized by means of the instrumentalities and combinations thereof set forth in the claims.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 I로 표시되는 신규한 구조의 유기금속 화합물 및 이를 발광층 도펀트에 적용한 유기전계발광소자를 제공한다. In order to solve the above problems, the present invention provides an organometallic compound having a novel structure represented by the following formula (I) and an organic light emitting device using the organic metal compound as a dopant for a light emitting layer.
[화학식 I] [Formula I]
상기 화학식 I에서,In the above formula I,
M은 중앙 배위 금속으로서, 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 레늄(Re), 루테늄(Ru), 오스뮴(Os), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 백금(Pt) 및 금(Au)으로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고;M is a central coordination metal, molybdenum (Mo), tungsten (W), rhenium (Re), ruthenium (Ru), osmium (Os), rhodium (Rh), iridium (Ir), palladium (Pd), platinum (Pt) ) and may be one selected from the group consisting of gold (Au);
R은 X1 및 X2에 연결되어 형성된 융합 고리(fused ring)이고; R is a fused ring formed by connecting X 1 and X 2 ;
R1 및 R2는 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고;R 1 and R 2 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted A substituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, a substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy It may be one selected from the group consisting of an amino group, a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
Y는 BR3, CR3R4, C=O, CNR3, SiR3R4, NR3, PR3, AsR3, SbR3, P(O)R3, P(S)R3, P(Se)R3, As(O)R3, As(S)R3, As(Se)R3, Sb(O)R3, Sb(S)R3, Sb(Se)R3, O, S, Se, Te, SO, SO2, SeO, SeO2, TeO 및 TeO2로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고;Y is BR 3 , CR 3 R 4 , C=O, CNR 3 , SiR 3 R 4 , NR 3 , PR 3 , AsR 3 , SbR 3 , P(O)R 3 , P(S)R 3 , P( Se)R 3 , As(O)R 3 , As(S)R 3 , As(Se)R 3 , Sb(O)R 3 , Sb(S)R 3 , Sb(Se)R 3 , O, S , Se, Te, SO, SO 2 , SeO, SeO 2 , TeO and TeO 2 It may be one selected from the group consisting of;
R3 및 R4는 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고;R 3 and R 4 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted A substituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, a substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy It may be one selected from the group consisting of an amino group, a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
X3 내지 X6은 각각 독립적으로 CR5 및 N 중에서 선택되는 하나일 수 있고; X 3 to X 6 may each independently be one selected from CR 5 and N;
X3 내지 X6의 인접하는 치환기는 융합하여 고리를 형성할 수 있고, 상기 고리는 C5-C6의 탄소고리(carbon ring) 또는 헤테로고리(heterocylclic ring)일 수 있고;Adjacent substituents of X 3 to X 6 may be fused to form a ring, and the ring may be a C5-C6 carbon ring or a heterocyclic ring;
X7 내지 X10은 각각 독립적으로 CR6 및 N 중에서 선택되는 하나일 수 있고;X 7 to X 10 may each independently be one selected from CR 6 and N;
R5 및 R6는 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고; R 5 and R 6 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted A substituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, a substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy It may be one selected from the group consisting of an amino group, a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
는 두 자리 리간드(bidentate ligand)일 수 있고; can be a bidentate ligand;
m은 1, 2 또는 3의 정수, n은 0, 1 또는 2의 정수, m+n은 금속 M의 산화수일 수 있다.m may be an integer of 1, 2 or 3, n may be an integer of 0, 1 or 2, and m+n may be an oxidation number of metal M.
본 발명에 따른 유기금속 화합물의 유기전계발광소자의 발광층 도펀트에 적용함으로써, 유기전계발광소자의 구동전압, 효율 및 수명 특성을 향상시킬 수 있다.By applying the organometallic compound according to the present invention to the dopant of the light emitting layer of the organic light emitting device, driving voltage, efficiency and lifetime characteristics of the organic light emitting device can be improved.
또한, 본 발명에 따른 유기금속 화합물의 유기전계발광소자의 발광층 도펀트에 적용함으로써, 유기전계발광소자의 색순도를 향상시켜 고색순도 및 고휘도를 구현할 수 있다.In addition, by applying the organometallic compound according to the present invention to the dopant of the light emitting layer of the organic light emitting device, the color purity of the organic light emitting device can be improved to realize high color purity and high luminance.
본 명세서의 효과는 이상에서 언급한 효과에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과는 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Effects of the present specification are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 유기금속 화합물이 발광층에 적용된 유기전계발광소자를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 유기전계발광소자가 적용된 유기발광 표시장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 3 및 도 4는 각각 본 발명의 실시예 12의 화합물 42 및 실시예 22의 화합물 145를 적용한 유기전계발광소자의 발광 파장 및 반치폭을 플롯팅한 그래프이며, 세로축은 발광세기(photoluminescence (PL) intensity), 가로축은 파장(wavelength, nm)을 의미한다.
도 5는 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 2개의 발광부를 구비하는 텐덤 구조이면서, 상기 화학식 I로 표시되는 유기금속 화합물을 포함하는 유기전계발광소자를 개략적으로 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically illustrating an organic light emitting device in which an organometallic compound according to an exemplary embodiment of the present invention is applied to a light emitting layer.
2 is a cross-sectional view schematically illustrating an organic light emitting display device to which an organic light emitting device according to an exemplary embodiment of the present invention is applied.
3 and 4 are graphs plotting the emission wavelength and full width at half maximum of an organic light emitting device to which Compound 42 of Example 12 and Compound 145 of Example 22 are applied, respectively, and the vertical axis is the photoluminescence (PL) intensity), and the horizontal axis means wavelength (nm).
5 is a cross-sectional view schematically illustrating an organic light emitting device having a tandem structure including two light emitting units according to an exemplary embodiment of the present invention and including an organometallic compound represented by Chemical Formula I.
전술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 후술되며, 이에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 상세한 설명을 생략한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 구성요소를 가리키는 것으로 사용된다.The above objects, features and advantages will be described later in detail with reference to the accompanying drawings, and accordingly, those skilled in the art to which the present invention belongs will be able to easily implement the technical spirit of the present invention. In describing the present invention, if it is determined that the detailed description of the known technology related to the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to indicate the same or similar components.
본 명세서를 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. In describing the present specification, if it is determined that a detailed description of related known technologies may unnecessarily obscure the gist of the present specification, the detailed description will be omitted.
본 명세서에서 구성 요소를 '포함한다', '갖는다', '이루어진다', '배치한다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. In this specification, when 'includes', 'has', 'consists of', 'arranges', etc. is used for a component, other parts may be added unless 'only' is used. In the case where a component is expressed in the singular, the case including the plural is included unless otherwise explicitly stated.
본 명세서에서 구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the components in this specification, it is interpreted as including the error range even if there is no separate explicit description.
본 명세서에서 구성 요소의 "상부 (또는 하부)" 또는 구성요소의 "상 (또는 하)"에 임의의 구성이 배치된다는 것은, 임의의 구성이 상기 구성 요소의 상면 (또는 하면)에 접하여 배치되는 것뿐만 아니라, 상기 구성 요소와 상기 구성 요소 상에 (또는 하에) 배치된 임의의 구성 사이에 다른 구성이 개재될 수 있음을 의미할 수 있다.In this specification, the arrangement of an arbitrary element on the "upper (or lower)" or "upper (or lower)" of a component means that an arbitrary element is placed in contact with the upper (or lower) surface of the component. In addition, it may mean that other components may be interposed between the component and any component disposed on (or under) the component.
본 명세서에서 사용된 용어 '헤테로(hetero)'는 이들 방향족(aromatic) 또는 지환족(alicyclic) 고리를 구성하는 탄소 원자 중 1개 이상, 예를 들어 1 내지 5개의 탄소 원자가 N, O, S 및 이들의 조합으로 구성되는 군에서 선택된 하나 이상의 헤테로 원자로 치환된 것을 의미한다.As used herein, the term 'hetero' means that one or more of the carbon atoms constituting these aromatic or alicyclic rings, for example, 1 to 5 carbon atoms are N, O, S and It means substituted with one or more heteroatoms selected from the group consisting of combinations thereof.
이하에서는, 본 발명에 따른 유기금속 화합물의 구조 및 제조예와 이를 포함하는 유기전계발광소자를 설명하도록 한다.Hereinafter, the structure and manufacturing example of the organometallic compound according to the present invention and an organic light emitting device including the same will be described.
본 발명의 일 구현예에 따른 유기금속 화합물은, 2-페닐퀴놀린(2-phenylquinoline)의 기본 골격 구조에 5원(5-membered) 융합 고리를 추가로 도입시킨 구조가 중앙 배위 금속에 결합하는 구조를 주 리간드로서 포함하는 것을 특징으로 한다. 상기 2-페닐퀴놀린에 추가로 도입된 5원 융합 고리는 본 발명의 [화학식 I]의 구조에서 R에 해당한다. In the organometallic compound according to one embodiment of the present invention, a structure in which a 5-membered fused ring is additionally introduced into the basic skeleton of 2-phenylquinoline is bonded to a central coordination metal. It is characterized in that it contains as a main ligand. The 5-membered fused ring additionally introduced into the 2-phenylquinoline corresponds to R in the structure of [Formula I] of the present invention.
이와 같은 구조의 유기금속 화합물을 발광층의 도펀트로 적용함으로써, 유기금속 화합물 분자 내에 강직성을 부여하여 반치폭이 좁아진 결과 색순도를 향상시킬 수 있고, 또한, 비발광 재결합 과정을 감소시켜 발광 효율 및 수명을 개선할 수 있다. By applying the organometallic compound having such a structure as a dopant of the light emitting layer, rigidity is imparted to the molecule of the organometallic compound, and as a result of a narrow half-width, color purity can be improved, and luminous efficiency and lifespan can be improved by reducing a non-emission recombination process. can do.
상기와 같은 특징을 가진 본 발명에 따른 유기금속 화합물은 하기 화학식 I로 표시될 수 있다.The organometallic compound according to the present invention having the above characteristics may be represented by the following formula (I).
[화학식 I] [Formula I]
상기 화학식 I에서,In the above formula I,
M은 중앙 배위 금속으로서, 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 레늄(Re), 루테늄(Ru), 오스뮴(Os), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 백금(Pt) 및 금(Au)으로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고;M is a central coordination metal, molybdenum (Mo), tungsten (W), rhenium (Re), ruthenium (Ru), osmium (Os), rhodium (Rh), iridium (Ir), palladium (Pd), platinum (Pt) ) and may be one selected from the group consisting of gold (Au);
R은 X1 및 X2에 연결되어 형성된 융합 고리(fused ring)이고; R is a fused ring formed by connecting X 1 and X 2 ;
R1 및 R2는 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고;R 1 and R 2 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted A substituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, a substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy It may be one selected from the group consisting of an amino group, a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
Y는 BR3, CR3R4, C=O, CNR3, SiR3R4, NR3, PR3, AsR3, SbR3, P(O)R3, P(S)R3, P(Se)R3, As(O)R3, As(S)R3, As(Se)R3, Sb(O)R3, Sb(S)R3, Sb(Se)R3, O, S, Se, Te, SO, SO2, SeO, SeO2, TeO 및 TeO2로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고;Y is BR 3 , CR 3 R 4 , C=O, CNR 3 , SiR 3 R 4 , NR 3 , PR 3 , AsR 3 , SbR 3 , P(O)R 3 , P(S)R 3 , P( Se)R 3 , As(O)R 3 , As(S)R 3 , As(Se)R 3 , Sb(O)R 3 , Sb(S)R 3 , Sb(Se)R 3 , O, S , Se, Te, SO, SO 2 , SeO, SeO 2 , TeO and TeO 2 It may be one selected from the group consisting of;
R3 및 R4는 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고;R 3 and R 4 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted A substituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, a substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy It may be one selected from the group consisting of an amino group, a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
X3 내지 X6은 각각 독립적으로 CR5 및 N 중에서 선택되는 하나일 수 있고; X 3 to X 6 may each independently be one selected from CR 5 and N;
X3 내지 X6의 인접하는 치환기는 융합하여 고리를 형성할 수 있고, 상기 고리는 C5-C6의 탄소고리(carbon ring) 또는 헤테로고리(heterocylclic ring)일 수 있고;Adjacent substituents of X 3 to X 6 may be fused to form a ring, and the ring may be a C5-C6 carbon ring or a heterocyclic ring;
X7 내지 X10은 각각 독립적으로 CR6 및 N 중에서 선택되는 하나일 수 있고;X 7 to X 10 may each independently be one selected from CR 6 and N;
R5 및 R6는 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고; R 5 and R 6 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted A substituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, a substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy It may be one selected from the group consisting of an amino group, a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
는 두 자리 리간드(bidentate ligand)일 수 있고; can be a bidentate ligand;
m은 1, 2 또는 3의 정수, n은 0, 1 또는 2의 정수, m+n은 금속 M의 산화수일 수 있다.m may be an integer of 1, 2 or 3, n may be an integer of 0, 1 or 2, and m+n may be an oxidation number of metal M.
본 발명의 일 구현예에 따른 유기금속 화합물은, 주 리간드인 화학식 I에서 X1 및 X2에 R(5원 융합 고리)이 결합되는 방향에 따라 하기 화학식 II-1 및 화학식 II-2로 이루어진 군에서 선택된 하나의 구조일 수 있다.An organometallic compound according to an embodiment of the present invention is composed of the following Formula II-1 and Formula II-2 according to the direction in which R (5-membered fused ring) is bonded to X 1 and X 2 in Formula I, which is a main ligand. It may be one structure selected from the group.
[화학식 II-1] [Formula II-1]
[화학식 II-2] [Formula II-2]
상기 화학식 II-1 및 화학식 II-2에서, In Formula II-1 and Formula II-2,
Y, R1 내지 R2, X3 내지 X10, , m 및 n은 상기에서 기재된 정의와 동일하다.Y, R 1 to R 2 , X 3 to X 10 , , m and n have the same definitions as described above.
본 발명의 일 구현예에 따른 유기금속 화합물인 화학식 I에 있어서, 화학식 I의 2-페닐퀴놀린에서 페닐기 부분에 추가 융합 고리가 형성되는 것이 보다 바람직하며, 이와 같은 추가 융합 고리 도입으로 인해, 유기금속 화합물 분자 내에 강직성을 부여하여 반치폭이 좁아진 결과 색순도를 향상시킬 수 있다. 구체적으로는, 하기 화학식 III-1 및 화학식 III-2로 이루어진 군에서 선택된 하나의 구조일 수 있다. In the organometallic compound of Formula I according to one embodiment of the present invention, it is more preferable that an additional fused ring is formed at the phenyl group portion of 2-phenylquinoline of Formula I, and due to the introduction of such an additional fused ring, organometallic As a result of narrowing the full width at half maximum by imparting rigidity to the compound molecule, color purity can be improved. Specifically, it may be one structure selected from the group consisting of Chemical Formula III-1 and Chemical Formula III-2.
[화학식 III-1] [Formula III-1]
[화학식 III-2] [Formula III-2]
상기 화학식 III-1 및 화학식 III-2에서, In Formula III-1 and Formula III-2,
X11 내지 X14는 각각 독립적으로 CR7 및 N 중에서 선택되는 하나일 수 있고; X 11 to X 14 may each independently be one selected from CR 7 and N;
R7은 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고;R 7 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted C3 -C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, substituted or unsubstituted C3-C20 Cyclic alkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy group, amino group , It may be one selected from the group consisting of a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
Y, R1 내지 R2, X5 내지 X10, , m 및 n은 상기에서 기재된 정의와 동일하다.Y, R 1 to R 2 , X 5 to X 10 , , m and n have the same definitions as described above.
본 발명의 일 구현예에 따른 유기금속 화합물은, 중앙 배위 금속에 보조 리간드로서, 두 자리 리간드를 적용할 수 있다. 본 발명의 두 자리 리간드는 전자 주개(electron donor)를 포함하는데, 전자주개 보조 리간드는 중앙 배위 금속의 전자 밀도를 증가시켜 MLCT(metal to ligand charge transfer)의 에너지를 감소시키고 T1 state에의 3MLCT의 기여도 비율을 증가시키는 작용을 한다. 결과적으로 본 발명의 유기화합물을 포함하는 유기전계발광소자는 높은 발광 효율 및 높은 외부 양자 효율 등의 향상된 발광 특성을 구현할 수 있다.In the organometallic compound according to one embodiment of the present invention, a bidentate ligand may be applied as an auxiliary ligand to the central coordination metal. The bidentate ligand of the present invention includes an electron donor, and the electron donor auxiliary ligand increases the electron density of the central coordination metal to reduce the energy of metal to ligand charge transfer (MLCT) and 3 MLCT to the T 1 state. It acts to increase the contribution ratio of As a result, the organic electroluminescent device including the organic compound of the present invention can implement improved light emitting characteristics such as high light emitting efficiency and high external quantum efficiency.
원자 번호가 큰 이리듐(Ir)이나 백금(Pt) 금속 착물을 사용하면 상온에서도 효율적으로 인광을 얻을 수 있으므로, 본 발명의 일 구현예에 따른 유기금속 화합물은, 중앙 배위 금속(M)이 이리듐(Ir) 또는 백금(Pt) 중 어느 하나인 것이 바람직하고, 이리듐(Ir)인 것이 보다 바람직하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. Since phosphorescence can be efficiently obtained even at room temperature by using an iridium (Ir) or platinum (Pt) metal complex having a large atomic number, in the organometallic compound according to an embodiment of the present invention, the central coordination metal (M) is iridium ( It is preferably any one of Ir) or platinum (Pt), and more preferably iridium (Ir), but is not limited thereto.
본 발명의 화학식 I로 표시되는 화합물의 구체예는 하기 화합물 1 내지 화합물 291로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있지만, 화학식 I의 정의에 속하는 것이라면 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the compound represented by Formula I of the present invention may be one selected from the group consisting of
. .
본 발명 일 구현예에 따르면, 본 발명의 상기 화학식 I로 표시되는 유기금속 화합물은 적색 인광 물질 또는 녹색 인광 물질로서 사용될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the organometallic compound represented by Formula I of the present invention may be used as a red phosphor or a green phosphor.
본 발명의 일 구현예에 따른 도 1을 참조하면, 제1 전극(110); 상기 제1 전극(110)과 마주보는 제2 전극(120); 및 상기 제1 전극(110) 및 제2 전극(120) 사이에 배치되는 유기층(130);을 포함하는 유기전계발광소자를 제공할 수 있다. 상기 유기층(130)은 발광층(160)을 포함하고, 상기 발광층(160)은 화학식 I로 표시되는 유기금속 화합물을 포함할 수 있다. 또한, 유기전계발광소자에서, 제1 전극(110) 및 제2 전극(120) 사이에 배치되는 유기층(130)은 제1 전극(110)으로부터 순차적으로 정공주입층(140, hole injection layer; HIL), 정공수송층(150, hole transfer layer; HTL), 발광층(160, emission material layer, EML), 전자수송층(170, electron transfer lyer; ETL) 및 전자주입층(180, electron injection layer, EIL)을 포함하는 구조일 수 있다. 상기 전자주입층(180) 상에 제2 전극(120)을 형성하고, 그 위에 보호막(도시되어 있지 않음)을 형성할 수 있다. Referring to Figure 1 according to an embodiment of the present invention, the
제1 전극(110)은 양극일 수 있으며, 일함수 값이 비교적 큰 도전성 물질인 ITO, IZO, 주석-산화물 또는 아연-산화물로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The
제2 전극(120)은 음극일 수 있으며, 일함수 값이 비교적 적은도전성 물질인 Al, Mg, Ca, Ag 또는 이들의 합금이나 조합을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The
정공주입층(140)은 제1 전극(110)과 정공수송층(150) 사이에 위치할 수 있다. 정공주입층(140) 재료는 MTDATA, CuPc, TCTA, NPB(NPD), HATCN, TDAPB, PEDOT/PSS, N-(비페닐-4-일)-9,9-디메틸-N-(4-(9-페닐-9H-카바졸-3-일)페닐)-9H-루오렌-2-아민, NPNPB(N,N’-diphenyl-N,N’-di[4-(N,N-diphenyl-amino)phenyl]benzidine) 등으로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물을 포함할 수 있고, 바람직하게는 NPNPB를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The
정공수송층(150)은 제1 전극(110)과 발광층(160) 사이에서 발광층에 인접하여 위치한다. 정공수송층(150)은 TPD, NPD, CBP, N-(비페닐-4-일)-9,9-디메틸-N-(4-(9-페닐-9H-카바졸-3-일)페닐)-9H-플루오렌-2-아민, N-(비페닐-4-일)-N-(4-(9-페닐-9H-카바졸-3-일)페닐)비페닐)-4-아민 등으로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The
본 발명에 따르면, 발광층(160)은 호스트와 소자의 발광 효율 등을 향상시키기 위하여 화학식 I로 표시되는 유기금속 화합물이 도펀트로 도핑되어 형성될 수 있다. 발광층(160)은 호스트 물질에 본 발명의 화학식 I의 유기금속 화합물이 약 1 내지 30 중량% 첨가되어 적용될 수 있으며, 녹색 또는 적색으로 발광하는 물질로 사용될 수 있다. According to the present invention, the light emitting layer 160 may be formed by doping the organometallic compound represented by Formula I as a dopant in order to improve the light emitting efficiency of the host and the device. The light emitting layer 160 may be applied by adding about 1 to 30% by weight of the organometallic compound of Formula I of the present invention to a host material, and may be used as a material that emits green or red light.
예컨대, 발광층(160)은 CBP(carbazole biphenyl), mCP(1,3-bis(carbazol-9-yl) 등으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나의 호스트 물질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the light emitting layer 160 may include any one host material selected from the group consisting of CBP (carbazole biphenyl), mCP (1,3-bis (carbazol-9-yl), etc., but is not limited thereto. .
발광층(160)과 제2 전극(120) 사이에는 전자수송층(170)과 전자주입층(180)이 순차적으로 적층될 수 있다. 전자수송층(170)의 재료는 높은 전자 이동도가 요구되는데, 원활한 전자 수송을 통하여 발광층에 전자를 안정적으로 공급할 수 있다.An
예컨대, 전자수송층(170)의 재료는 Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum), Liq(8-hydroxyquinolinolatolithium), PBD(2-(4-biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4oxadiazole), TAZ(3-(4-biphenyl)4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole), spiro-PBD, BAlq(bis(2-methyl-8-quinolinolate)-4-(phenylphenolato)aluminium), SAlq, TPBi(2,2',2-(1,3,5-benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole), 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 페난트롤린(phenanthroline), 벤족사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole), ZADN(2-[4-(9,10-Di-2-naphthalen2-yl-2-anthracen-2-yl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzoimidazole) 등으로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물을 포함할 수 있고, 바람직하게는 ZADN을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the material of the
전자주입층(180)은 전자의 주입을 원활하게 하는 역할을 하며, 전자주입 층의 재료는 Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq, SAlq 등으로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또는, 전자주입층(180)은 금속화합물로 이루어질 수 있으며, 금속화합물은 예를 들어 Liq, LiF, NaF, KF, RbF, CsF, FrF, BeF2, MgF2, CaF2, SrF2, BaF2 및 RaF2로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. The
본 발명에 따른 유기전계발광소자는 유기발광 표시장치 및 유기전계발광소자를 적용한 조명 장치 등에 활용될 수 있다. 일 구현예로, 도 2는 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 유기전계발광소자가 적용된 유기발광 표시장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.The organic light emitting device according to the present invention may be used in an organic light emitting display device and a lighting device to which the organic light emitting device is applied. As an embodiment, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device to which an organic light emitting device according to an exemplary embodiment of the present invention is applied.
도 2에 도시된 바와 같이, 유기발광 표시장치(3000)는 기판(3010)과, 유기전계발광소자(4000)와, 유기전계발광소자(4000)를 덮는 인캡슐레이션 필름(3900)을 포함할 수 있다. 기판(3010) 상에는 구동 소자인 구동 박막트랜지스터(Td)와, 구동 박막트랜지스터(Td)에 연결되는 유기전계발광소자(4000)가 위치한다.As shown in FIG. 2 , the organic light emitting
도시하지 않았으나, 기판(3010) 상에는 서로 교차하여 화소영역을 정의하는 게이트 배선과 데이터 배선, 게이트 배선 및 데이터 배선 중 어느 하나와 평행하게 이격되어 연장되는 파워 배선, 게이트 배선 및 데이터 배선에 연결되는 스위칭 박막트랜지스터, 파워 배선 및 스위칭 박막트랜지스터의 일 전극에 연결되는 스토리지 캐패시터가 더 형성된다.Although not shown, on the
구동 박막트랜지스터(Td)는 스위칭 박막트랜지스터에 연결되며, 반도체층(3100)과, 게이트 전극(3300)과, 소스 전극(3520)과 드레인 전극(3540)을 포함한다.The driving thin film transistor Td is connected to the switching thin film transistor and includes a
반도체층(3100)은 기판(3010) 상에 형성되며, 산화물 반도체 물질로 이루어지거나 다결정 실리콘으로 이루어질 수 있다. 반도체층(3100)이 산화물 반도체 물질로 이루어질 경우 반도체층(3100) 하부에는 차광패턴(도시하지 않음)이 형성될 수 있으며, 차광패턴은 반도체층(3100)으로 빛이 입사되는 것을 방지하여 반도체층(3010)이 빛에 의해 열화되는 것을 방지한다. 이와 달리, 반도체층(3100)은 다결정 실리콘으로 이루어질 수도 있으며, 이 경우 반도체층(3100)의 양 가장자리에 불순물이 도핑되어 있을 수 있다.The
반도체층(3100) 상부에는 절연물질로 이루어진 게이트 절연막(3200)이 기판(3010) 전면에 형성된다. 게이트 절연막(3200)은 실리콘산화물 또는 실리콘질화물과 같은 무기절연물질로 이루어질 수 있다.A
게이트 절연막(3200) 상부에는 금속과 같은 도전성 물질로 이루어진 게이트 전극(3300)이 반도체층(3100)의 중앙에 대응하여 형성된다. 게이트 전극(3300)은 스위칭 박막트랜지스터에 연결된다.A
게이트 전극(3300) 상부에는 절연물질로 이루어진 층간 절연막(3400)이 기판(3010) 전면에 형성된다. 층간 절연막(3400)은 실리콘산화물이나 실리콘질화물과 같은 무기 절연물질로 형성되거나, 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene)이나 포토아크릴(photo-acryl)과 같은 유기 절연물질로 형성될 수 있다.An interlayer insulating
층간 절연막(3400)은 반도체층(3100)의 양측을 노출하는 제1 및 제2 반도체층 콘택홀(3420, 3440)을 갖는다. 제1 및 제2 반도체층 콘택홀(3420, 3440)은 게이트 전극(3300)의 양측에 게이트 전극(3300)과 이격되어 위치한다.The
층간 절연막(3400) 상에는 금속과 같은 도전성 물질로 이루어지는 소스 전극(3520)과 드레인 전극(3540)이 형성된다. 소스 전극(3520)과 드레인 전극(3540)은 게이트 전극(3300)을 중심으로 이격되어 위치하며, 각각 제1 및 제2 반도체층 콘택홀(3420, 3440)을 통해 반도체층(3100)의 양측과 접촉한다. 소스 전극(3520)은 파워 배선(미도시)에 연결된다.A
반도체층(3100)과, 게이트 전극(3300), 소스 전극(3520), 드레인 전극(3540)은 구동 박막트랜지스터(Td)를 이루며, 구동 박막트랜지스터(Td)는 반도체층(3100)의 상부에 게이트 전극(3300), 소스 전극(3520) 및 드레인 전극(3540)이 위치하는 코플라나(coplanar) 구조를 가진다.The
이와 달리, 구동 박막트랜지스터(Td)는 반도체층의 하부에 게이트 전극이 위치하고 반도체층의 상부에 소스 전극과 드레인 전극이 위치하는 역 스태거드(inverted staggered) 구조를 가질 수 있다. 이 경우, 반도체층은 비정질 실리콘으로 이루어질 수 있다. 한편, 스위칭 박막트랜지스터(미도시)는 구동 박막트랜지스터(Td)와 실질적으로 동일한 구조를 가질 수 있다.In contrast, the driving thin film transistor Td may have an inverted staggered structure in which a gate electrode is positioned below the semiconductor layer and a source electrode and a drain electrode are positioned above the semiconductor layer. In this case, the semiconductor layer may be made of amorphous silicon. Meanwhile, the switching thin film transistor (not shown) may have substantially the same structure as that of the driving thin film transistor Td.
한편, 유기발광 표시장치(3000)는 발광다이오드(4000)에서 생성된 빛을 흡수하는 컬러 필터(3600)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 컬러 필터(3600)는 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 및 백색(W) 광을 흡수할 수 있다. 이 경우, 광을 흡수하는 적색, 녹색 및 청색의 컬러 필터 패턴이 각각의 화소영역 별로 분리되어 형성될 수 있으며, 이들 각각의 컬러 필터 패턴은 흡수하고자 하는 파장 대역의 빛을 방출하는 유기전계발광소자(4000) 중의 유기층(4300)과 각각 중첩되게 배치될 수 있다. 컬러 필터(3600)를 채택함으로써, 유기발광 표시장치(3000)는 풀-컬러를 구현할 수 있다.Meanwhile, the organic light emitting
예를 들어, 유기발광 표시장치(3000)가 하부 발광 타입인 경우, 유기전계발광소자(4000)에 대응하는 층간 절연막(3400) 상부에 광을 흡수하는 컬러 필터(3600)가 위치할 수 있다. 선택적인 실시형태에서, 유기발광 표시장치(3000)가 상부 발광 타입인 경우, 컬러 필터는 유기전계발광소자(4000)의 상부, 즉 제2 전극(4200) 상부에 위치할 수도 있다. 일례로, 컬러 필터(3600)는 2 내지 5 ㎛의 두께로 형성될 수 있다. For example, when the organic light emitting
한편, 구동 박막트랜지스터(Td)의 드레인 전극(3540)을 노출하는 드레인 콘택홀(3720)을 갖는 보호층(3700)이 구동 박막트랜지스터(Td)를 덮으며 형성된다.Meanwhile, a
보호층(3700) 상에는 드레인 콘택홀(3720)을 통해 구동 박막트랜지스터(Td)의 드레인 전극(3540)에 연결되는 제1 전극(4100)이 각 화소 영역 별로 분리되어 형성된다.On the
제1 전극(4100)은 양극(anode)일 수 있으며, 일함수 값이 비교적 큰 도전성 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제1 전극(410)은 ITO. IZO 또는 ZnO와 같은 투명 도전성 물질로 이루어질 수 있다.The
한편, 유기발광 표시장치(3000)가 상부 발광 방식(top-emission type)인 경우, 제1 전극(4100) 하부에는 반사전극 또는 반사층이 더욱 형성될 수 있다. 예를 들어, 반사전극 또는 반사층은 알루미늄(Al), 은(Ag), 니켈(Ni), 알루미늄-팔라듐-구리(aluminum-paladium-copper: APC) 합금 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.Meanwhile, when the organic light emitting
보호층(3700) 상에는 제1 전극(4100)의 가장자리를 덮는 뱅크층(3800)이 형성된다. 뱅크층(3800)은 화소영역에 대응하여 제1 전극(4100)의 중심을 노출시킨다.A
제1 전극(4100) 상에는 유기층(4300)이 형성되고, 필요에 따라 유기전계발광소자(4000)는 탠덤 구조를 가질 수 있다.An
유기층(4300)이 형성된 기판(3010) 상부로 제2 전극(4200)이 형성된다. 제2 전극(4200)은 표시영역의 전면에 위치하며 일함수 값이 비교적 작은 도전성 물질로 이루어져 캐소드(cathode)로 이용될 수 있다. 예를 들어, 제2 전극(4200)은 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 알루미늄-마그네슘 합금(AlMg) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.A
제1 전극(4100), 유기층(4300) 및 제2 전극(4200)은 유기전계발광소자(4000)를 이룬다.The
제2 전극(4200) 상에는, 외부 수분이 유기전계발광소자(4000)로 침투하는 것을 방지하기 위해, 인캡슐레이션 필름(encapsulation film, 3900)이 형성된다. 도시하지 않았으나, 인캡슐레이션 필름(3900)은 제1 무기층과, 유기층과 무기층이 순차 적층된 삼중층 구조를 가질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.An
본 발명의 유기전계발광소자는 텐덤(tandom) 구조를 가지는 백색 발광다이오드일 수 있다. 본 발명의 일 구현예에 따른 텐덤 유기전계발광소자의 경우, 단일 발광소자(EL Unit)가 전하생성층(CGL, Charge Generation Layer)에 의해 2개 이상 연결된 구조로 형성될 수 있다. 상기 유기전계발광소자는 기판 상에 서로 대항된 제1 전극 및 제2 전극과 상기 제1 및 제2 전극 사이에 적층되어 특정한 파장대의 빛을 방사하는 발광층을 가지는 2개 이상의 복수의 발광부(스택; stack)을 포함할 수 있다. 이 때, 발광층 중 하나 이상은 본 발명에 따른 화학식 I로 표시되는 유기금속 화합물을 도펀트로서 포함할 수 있다. 텐덤 구조에서의 복수 개의 발광부는 N형(N-type) 전하 생성층 및 P형(P-type) 전하 생성층으로 이루어진 전하 생성층(CGL)과 연결될 수 있다.The organic light emitting device of the present invention may be a white light emitting diode having a tandem structure. In the case of a tandem organic light emitting device according to an embodiment of the present invention, a single light emitting device (EL Unit) may be formed in a structure in which two or more are connected by a charge generation layer (CGL). The organic light emitting device includes a first electrode and a second electrode facing each other on a substrate and two or more plurality of light emitting units (stack) having a light emitting layer stacked between the first and second electrodes to emit light in a specific wavelength range. ; stack). At this time, at least one of the light emitting layers may include an organometallic compound represented by Formula I according to the present invention as a dopant. The plurality of light emitting units in the tandem structure may be connected to a charge generating layer (CGL) composed of an N-type charge generating layer and a P-type charge generating layer.
본 발명의 일 구현예인 도 5는 2개의 발광부를 가지는 텐덤 구조의 유기전계발광소자를 개략적으로 도시한 단면도이다. 도 5에 도시한 바와 같이, 본 발명의 유기전계발광소자(100)는 서로 마주하는 제1 전극(110) 및 제2 전극(120)과, 제1 전극(110)과 제2 전극(120) 사이에 위치하는 유기층(230)을 포함한다. 유기층(230)은 제1 전극(110)과 제2 전극(120) 사이에 위치하며 제1 발광층(161)을 포함하는 제1 발광부(ST1, 240)와, 제1 발광부(240)와 제2 전극(120) 사이에 위치하며 제2 발광층(162)를 포함하는 제2 발광부(ST2, 250)와, 제1 및 제2 발광부(240, 250) 사이에 위치하는 전하생성층(CGL, 260)을 포함한다. 상기 전하생성층은 N형 전하생성층(191) 및 P형 전하생성층(192)를 포함할 수 있다.5, which is an embodiment of the present invention, is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting device having a tandem structure having two light emitting units. As shown in FIG. 5, the organic
또한, 본 발명의 일 구현예에 따른 유기전계발광소자는 3개의 발광부를 가지는 텐덤 구조의 유기전계발광소자일 수 있고, 나아가, 제1 전극 및 제2 전극 사이에는 4개 이상의 발광부와 3개 이상의 전하생성층이 배치될 수도 있다.In addition, the organic light emitting device according to one embodiment of the present invention may be a tandem organic light emitting device having three light emitting units, and furthermore, four or more light emitting units and three light emitting units are provided between the first electrode and the second electrode. The above charge generation layer may be disposed.
이하 본 발명의 합성예 및 실시예를 설명한다. 그러나, 하기 실시예는 본 발명의 일 실시예일뿐 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, synthesis examples and examples of the present invention will be described. However, the following examples are only examples of the present invention, but are not limited thereto.
합성예synthesis example
<화합물 A1의 제조><Preparation of Compound A1>
Step 1) 화합물 A1-1의 제조Step 1) Preparation of Compound A1-1
반응 용기에 2-bromothiophene (25.6g, 157.14mmol), 2-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)aniline (41.6g, 190.01mmol), Pd(PPh3)4 (9.2g, 7.92 mmol)와 NaHCO3 (39.9g, 288.76mmol)을 1,4-dioxane (500ml)과 증류수 (100ml)에 용해하여 15시간 동안 환류하였다. 반응 종결 후 상온으로 식힌 뒤 MC(methylene chloride)와 증류수를 이용하여 추출하였다. 유기층에 MgSO4를 넣어 수분 제거한 뒤, 감압여과하여 용매를 제거하였다. Hexane과 MC로 컬럼 크로마토그래피하여 화합물 A1-1 (26.8g, 수율 96%)을 얻었다. 2-bromothiophene (25.6g, 157.14mmol), 2-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)aniline (41.6g, 190.01mmol), Pd( PPh 3 ) 4 (9.2g, 7.92 mmol) and NaHCO 3 (39.9g, 288.76mmol) were dissolved in 1,4-dioxane (500ml) and distilled water (100ml) and refluxed for 15 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature and extracted using MC (methylene chloride) and distilled water. After water was removed by adding MgSO 4 to the organic layer, the solvent was removed by filtration under reduced pressure. Column chromatography with hexane and MC gave compound A1-1 (26.8g, yield 96%).
MS (m/z) : 175.25MS (m/z): 175.25
Step 2) 화합물 A1-2의 제조Step 2) Preparation of Compound A1-2
반응 용기에 A1-1 (26.8g, 152.64mmol), ethyl chloroforamte (5.16ml, 53.92mmol)와 K2CO3 (40.6g, 305.28mmol)을 클로로폼 (500ml)에 용해하여 18시간 동안 환류하였다. 반응 종결 후 상온으로 식힌 뒤 MC와 증류수를 이용하여 추출하였다. 유기층에 MgSO4를 넣어 수분 제거한 뒤, 감압여과하여 용매를 제거하였다. Hexane과 MC로 컬럼크로마토그래피하여 화합물 A1-2 (36.71g, 수율 97%)을 얻었다. A1-1 (26.8g, 152.64mmol), ethyl chloroforme (5.16ml, 53.92mmol) and K2CO3 (40.6g, 305.28mmol) were dissolved in chloroform (500ml) in a reaction vessel and refluxed for 18 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature and extracted using MC and distilled water. After water was removed by adding MgSO 4 to the organic layer, the solvent was removed by filtration under reduced pressure. Hexane and MC were subjected to column chromatography to obtain compound A1-2 (36.71 g, yield 97%).
MS (m/z) : 247.31MS (m/z): 247.31
Step 3) 화합물 A1의 제조Step 3) Preparation of Compound A1
반응 용기에 A1-2 (33.3g, 134.9mmol), POCl3 (126ml, 1346.89mmol)와 TEA 30ml를 넣고 16시간 동안 환류하였다. 반응액을 상온으로 식힌 뒤, MC와 증류수를 이용하여 추출하였다. 유기층에 MgSO4를 넣어 수분 제거한 뒤, 감압여과하여 용매를 제거하였다. 혼합물을 EA에 용해하여 실리카겔 필터 후 감압여과하여 용매를 제거하였다. 얻어진 고체를 hexane으로 슬러리하여 아이보리색 고체 형태의 화합물 A1(11.2g, 수율 38%)를 얻었다.A1-2 (33.3g, 134.9mmol), POCl3 (126ml, 1346.89mmol) and 30ml of TEA were added to the reaction vessel and refluxed for 16 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, extraction was performed using MC and distilled water. After water was removed by adding MgSO 4 to the organic layer, the solvent was removed by filtration under reduced pressure. The mixture was dissolved in EA and filtered under reduced pressure after a silica gel filter to remove the solvent. The obtained solid was slurried with hexane to obtain Compound A1 (11.2 g, yield 38%) in the form of an ivory solid.
MS (m/z) : 219.69MS (m/z): 219.69
<화합물 A2의 제조><Preparation of Compound A2>
Step 1) 화합물 A2-1의 제조Step 1) Preparation of Compound A2-1
반응 용기에 2-methylfuran (30.1g, 366.626mol)을 chloroform에 용해하여 -20℃로 온도를 내린 뒤 NBS (65.3g, 366.626mmol)를 천천히 적가하였다. 반응액을 상온으로 올린 뒤, 30분동안 교반한다. 반응 종결 후 MC와 증류수를 이용하여 추출하였다. 유기층에 MgSO4를 넣어 수분 제거한 뒤, 감압여과하여 용매를 제거하였다. 혼합물을 hexane에 용해하여 실리카겔 필터하여 투명한 액상 형태의 화합물 A2-1(39g, 수율 66%)을 얻었다. After dissolving 2-methylfuran (30.1 g, 366.626 mol) in chloroform in the reaction vessel, the temperature was lowered to -20 ° C, and NBS (65.3 g, 366.626 mmol) was slowly added dropwise. After raising the reaction solution to room temperature, it was stirred for 30 minutes. After completion of the reaction, extraction was performed using MC and distilled water. After water was removed by adding MgSO 4 to the organic layer, the solvent was removed by filtration under reduced pressure. The mixture was dissolved in hexane and filtered through silica gel to obtain compound A2-1 (39g, yield 66%) in a transparent liquid form.
MS (m/z) : 161.00MS (m/z) : 161.00
Step 2) 화합물 A2-2의 제조Step 2) Preparation of Compound A2-2
반응 용기에 A2-1 (33.2g, 206.40mmol), 2-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)aniline (54.3g, 247.68mmol), Pd(PPh3)4 (11.9g, 10.32mmol)와 NaHCO3 (85.6g, 619.19mmol)을 1,4-dioxane (500ml)과 증류수 (100ml)에 용해하여 15시간 동안 환류하였다. 반응 종결 후 상온으로 식힌 뒤 MC와 증류수를 이용하여 추출하였다. 유기층에 MgSO4를 넣어 수분 제거한 뒤, 감압여과하여 용매를 제거하였다. Hexane과 MC로 컬럼 크로마토그래피하여 화합물 A2-2 (17.7g, 수율 49%)을 얻었다. A2-1 (33.2g, 206.40mmol), 2-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)aniline (54.3g, 247.68mmol), Pd( PPh 3 ) 4 (11.9g, 10.32mmol) and NaHCO 3 (85.6g, 619.19mmol) were dissolved in 1,4-dioxane (500ml) and distilled water (100ml) and refluxed for 15 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature and extracted using MC and distilled water. After water was removed by adding MgSO 4 to the organic layer, the solvent was removed by filtration under reduced pressure. Column chromatography with hexane and MC gave compound A2-2 (17.7g, yield 49%).
MS (m/z) : 173.21MS (m/z): 173.21
Step 3) 화합물 A2-3의 제조Step 3) Preparation of Compound A2-3
반응 용기에 A2-2 (17.7g, 102.02mmol), ethyl chloroforamte (11.7ml, 122.42mmol)와 K2CO3 (28.2g, 204.03mmol)을 클로로폼 (300ml)에 용해하여 18시간 동안 환류하였다. 반응 종결 후 상온으로 식힌 뒤 MC와 증류수를 이용하여 추출하였다. 유기층에 MgSO4를 넣어 수분 제거한 뒤, 감압여과하여 용매를 제거하였다. Hexane과 MC로 컬럼크로마토그래피하여 화합물 A2-3 (20.6g, 수율 82%)을 얻었다. A2-2 (17.7g, 102.02mmol), ethyl chloroforme (11.7ml, 122.42mmol) and K 2 CO 3 (28.2g, 204.03mmol) were dissolved in chloroform (300ml) and refluxed for 18 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature and extracted using MC and distilled water. After water was removed by adding MgSO 4 to the organic layer, the solvent was removed by filtration under reduced pressure. Hexane and MC were subjected to column chromatography to obtain compound A2-3 (20.6 g, yield 82%).
MS (m/z) : 245.27MS (m/z): 245.27
Step 4) 화합물 A2의 제조Step 4) Preparation of Compound A2
반응 용기에 A2-3(20.6g, 83.99mmol), POCl3 (78.5ml, 839.89mmol)와 TEA 20ml를 넣고 16시간 동안 환류하였다. 반응액을 상온으로 식힌 뒤, MC와 증류수를 이용하여 추출하였다. 유기층에 MgSO4를 넣어 수분 제거한 뒤, 감압여과하여 용매를 제거하였다. 혼합물을 EA에 용해하여 실리카겔 필터 후 감압여과하여 용매를 제거하였다. 얻어진 고체를 hexane으로 슬러리하여 아이보리색 고체 형태의 화합물 A2(8.4g, 수율 46%)를 얻었다.A2-3 (20.6g, 83.99mmol), POCl 3 (78.5ml, 839.89mmol) and TEA (20ml) were added to the reaction vessel and refluxed for 16 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, extraction was performed using MC and distilled water. After water was removed by adding MgSO 4 to the organic layer, the solvent was removed by filtration under reduced pressure. The mixture was dissolved in EA and filtered under reduced pressure after a silica gel filter to remove the solvent. The obtained solid was slurried with hexane to obtain Compound A2 (8.4 g, yield 46%) in the form of an ivory solid.
MS (m/z) : 217.65MS (m/z): 217.65
<화합물 B1의 제조><Preparation of Compound B1>
반응 용기에 A1 (11g, 50.07mmol), (3,5-dimethylphenyl)boronic acid (8.3g, 55.08mmol), Pd(PPh3)4 (5.7g, 5.01mmol)와 K2CO3 (13.8g, 100.14mmol)을 1,4-dioxane (150ml)과 증류수 (30ml)에 용해하여 16시간 동안 환류하였다. 반응 종결 후 상온으로 식힌 뒤 MC와 증류수를 이용하여 추출하였다. 유기층에 MgSO4를 넣어 수분 제거한 뒤, 감압여과하여 용매를 제거하였다. Hexane과 MC로 컬럼 크로마토그래피하여 화합물 B1 (10.6g, 수율 73%)을 얻었다. A1 (11g, 50.07mmol), (3,5-dimethylphenyl)boronic acid (8.3g, 55.08mmol), Pd(PPh 3 ) 4 (5.7g, 5.01mmol) and K 2 CO 3 (13.8g, 100.14mmol) was dissolved in 1,4-dioxane (150ml) and distilled water (30ml) and refluxed for 16 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature and extracted using MC and distilled water. After water was removed by adding MgSO 4 to the organic layer, the solvent was removed by filtration under reduced pressure. Column chromatography with hexane and MC gave compound B1 (10.6 g, yield 73%).
MS (m/z) : 289.39MS (m/z): 289.39
<화합물 B2의 제조><Preparation of Compound B2>
반응 용기에 A2 (8g, 36.77mmol), 2-(4-(tert-butyl)naphthalen-2-yl)-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane (12.5g, 40.43mmol), Pd(PPh3)4 (4.2g, 3.68mmol)와 K2CO3 (10.2g, 73.51mmol)을 1,4-dioxane (120ml)과 증류수 (24ml)에 용해하여 16시간 동안 환류하였다. 반응 종결 후 상온으로 식힌 뒤 MC와 증류수를 이용하여 추출하였다. 유기층에 MgSO4를 넣어 수분 제거한 뒤, 감압여과하여 용매를 제거하였다. Hexane과 MC로 컬럼 크로마토그래피하여 화합물 B2 (9.8g, 수율 73%)을 얻었다. A2 (8 g, 36.77 mmol), 2-(4-(tert-butyl)naphthalen-2-yl)-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane (12.5 g, 40.43 mmol), Pd(PPh 3 ) 4 (4.2g, 3.68mmol) and K 2 CO 3 (10.2g, 73.51mmol) were dissolved in 1,4-dioxane (120ml) and distilled water (24ml) and refluxed for 16 hours. . After completion of the reaction, the mixture was cooled to room temperature and extracted using MC and distilled water. After water was removed by adding MgSO 4 to the organic layer, the solvent was removed by filtration under reduced pressure. Column chromatography with hexane and MC gave compound B2 (9.8g, yield 73%).
MS (m/z) : 365.47MS (m/z): 365.47
<화합물 42의 제조><Preparation of Compound 42>
화합물 C1의 제조Preparation of compound C1
반응 용기에 B1 (10g, 34.55mmol), 2-ethoxyethanol 200ml, 증류수 66ml를 넣고 1시간 동안 질소 버블링한 후 IrCl3, H2O (6.1g, 15.71mmol)을 첨가하고 24시간동안 환류하였다. 반응이 종결된 후 온도를 천천히 상온으로 내리고 생성된 고체를 필터하였다. 필터된 고체를 methanol로 씻어주고 건조하여 화합물 C1 (10.1g, 수율 80 %)을 얻었다. B1 (10g, 34.55mmol), 200ml of 2-ethoxyethanol, and 66ml of distilled water were added to the reaction container, and nitrogen was bubbled for 1 hour. Then, IrCl 3 and H 2 O (6.1g, 15.71mmol) were added and refluxed for 24 hours. After the reaction was completed, the temperature was slowly lowered to room temperature, and the resulting solid was filtered. The filtered solid was washed with methanol and dried to obtain compound C1 (10.1g, yield 80%).
화합물 42의 제조Preparation of compound 42
반응 용기에 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol), 300ml의 2-ethoxyethanol을 넣고 24시간 동안 천천히 교반하였다. 반응이 완료된 후 반응물에 dichloromethane을 넣어 반응 생성물을 녹인 후 dichloromethane과 증류수로 추출하였다. MgSO4를 이용하여 유기층의 물을 제거하고 필터 후 감압하여 용매를 제거하였다. Hexane과 dichloromethane으로 컬럼 크로마토그래피하여 화합물 42 (5.2g, 수율 43%)를 얻었다. C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na 2 CO 3 (13g, 122.46mmol), and 300ml of 2-ethoxyethanol were added to the reaction vessel and 24 Stir gently for an hour. After the reaction was completed, dichloromethane was added to the reactant to dissolve the reaction product, and then extracted with dichloromethane and distilled water. After removing water from the organic layer using MgSO 4 and filtering, the solvent was removed under reduced pressure. Column chromatography with hexane and dichloromethane gave compound 42 (5.2g, yield 43%).
MS (m/z) : 966.28MS (m/z) : 966.28
<화합물 5의 제조><Preparation of Compound 5>
화합물 C3의 제조Preparation of compound C3
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B3 (6.0g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol )를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C3 (6.4g, 수율 83 %)을 얻었다.B3 (6.0g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) instead of B1 (10g, 34.55mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of Compound C1 Compound C3 (6.4g, yield 83%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 5의 제조Preparation of compound 5
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C3 (6.4g, 4.15mmol), pentane-2,4-dione (4.2g, 41.50mmol), Na2CO3 (8.8g, 83mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 5 (3.5g, 수율 50 %)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na 2 CO 3 (13g, 122.46mmol) instead of C3 (6.4g, 4.15mmol), pentane-2,4-dione (4.2g, 41.50mmol), and Na 2 CO 3 (8.8g, 83mmol) were used, but Compound 5 (3.5g, 50% yield) was obtained in the same manner. .
MS (m/z) : 836.22MS (m/z) : 836.22
<화합물 7의 제조><Preparation of Compound 7>
화합물 C4의 제조Preparation of compound C4
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B4 (5.8g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol )를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C4 (5.3g, 수율 70 %)을 얻었다.B4 (5.8g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) instead of B1 (10g, 34.55mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of Compound C1 Compound C4 (5.3g, yield 70%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 7의 제조Preparation of compound 7
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C4 (5.3g, 3.50mmol), pentane-2,4-dione (3.5g, 35.00mmol), Na2CO3 (7.4g, 70mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 7 (2.3g, 수율 40 %)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C4 ( 5.3 g , 5.3 g, 3.50mmol), pentane-2,4-dione (3.5g, 35.00mmol), and Na 2 CO 3 (7.4g, 70mmol) were used, but Compound 7 (2.3g, 40% yield) was obtained in the same manner. .
MS (m/z) : 816.14MS (m/z) : 816.14
<화합물 8의 제조><Preparation of Compound 8>
화합물 C5의 제조Preparation of compound C5
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B5 (7.0g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol )를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C5 (6.7g, 수율 78 %)을 얻었다.B5 (7.0g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) instead of B1 (10g, 34.55mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of compound C1 Compound C5 (6.7g, yield 78%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 8의 제조Preparation of compound 8
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C5 (6.7g, 3.90mmol), pentane-2,4-dione (3.9g, 39.00mmol), Na2CO3 (8.3g, 78mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 8 (3.0g, 수율 41 %)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C5 (6.7g, 6.7g , 3.90mmol), pentane-2,4-dione (3.9g, 39.00mmol), and Na 2 CO 3 (8.3g, 78mmol) were used, but Compound 8 (3.0g, 41% yield) was obtained in the same manner. .
MS (m/z) : 924.24MS (m/z) : 924.24
<화합물 10의 제조><Preparation of Compound 10>
화합물 C6의 제조Preparation of compound C6
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol) 대신 B6 (6.0g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C6 (6.4g, 수율 83 %)을 얻었다.B6 (6.0g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) instead of B1 (10g, 34.55mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of Compound C1 Compound C6 (6.4g, yield 83%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 10의 제조Preparation of compound 10
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C6 (6.4g, 4.15mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (8.8g, 41.50mmol), Na2CO3 (8.8g, 83mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 10 (3.4g, 수율 43 %)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C6 (6.4g, 6.4g , 4.15mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (8.8g, 41.50mmol), and Na 2 CO 3 (8.8g, 83mmol) were used, but Compound 10 (3.4g, yield 43) was obtained in the same manner. %) was obtained.
MS (m/z) : 948.35MS (m/z) : 948.35
<화합물 11의 제조><Preparation of Compound 11>
화합물 C7의 제조Preparation of compound C7
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B7 (6.0g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C7 (6.4g, 수율 83 %)을 얻었다.B7 (6.0g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) instead of B1 (10g, 34.55mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of Compound C1 Compound C7 (6.4g, yield 83%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 11의 제조Preparation of compound 11
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C7 (6.4g, 4.15mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (10.0g, 41.50mmol), Na2CO3 (8.8g, 83mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 11 (3.4g, 수율 42 %)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C7 ( 6.4g , 6.4g , 4.15mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (10.0g, 41.50mmol), and Na 2 CO 3 (8.8g, 83mmol) were used, but Compound 11 was prepared in the same manner. (3.4 g, yield 42%) was obtained.
MS (m/z) : 976.38MS (m/z) : 976.38
<화합물 15의 제조><Preparation of Compound 15>
화합물 C8의 제조 Preparation of compound C8
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B8 (6.0g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C8 (6.4g, 수율 83 %)을 얻었다.B8 (6.0g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) instead of B1 (10g, 34.55mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of Compound C1 Compound C8 (6.4g, yield 83%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 15의 제조Preparation of compound 15
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C8 (6.4g, 4.15mmol), (E)-4-(isopropylimino)pentan-2-one (5.9g, 41.50mmol), Na2CO3 (8.8g, 83mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 15 (2.9g, 수율 40 %)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C8 (6.4g, 6.4g , 4.15mmol), (E)-4-(isopropylimino)pentan-2-one (5.9g, 41.50mmol), and Na 2 CO 3 (8.8g, 83mmol) were used, but Compound 15 (2.9g , yield 40%) was obtained.
MS (m/z) : 877.29MS (m/z): 877.29
<화합물 16의 제조><Preparation of Compound 16>
화합물 C9의 제조Preparation of compound C9
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B9 (6.0g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C9 (6.4g, 수율 83 %)을 얻었다.B9 (6.0g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) instead of B1 (10g, 34.55mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of Compound C1 Compound C9 (6.4g, yield 83%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 16의 제조Preparation of compound 16
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C9 (6.4g, 4.15mmol), (E)-N,N'-diisopropylbenzimidamide (8.5g, 41.50mmol), Na2CO3 (8.8g, 83mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 16 (2.9g, 수율 37 %)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na 2 CO 3 (13g, 122.46mmol) instead of C9 (6.4g, 4.15mmol), (E) -N,N'-diisopropylbenzimidamide (8.5g, 41.50mmol), and Na 2 CO 3 (8.8g, 83mmol) were used, but Compound 16 (2.9g, yield 37%) was obtained in the same manner. ) was obtained.
MS (m/z) : 940.33MS (m/z): 940.33
<화합물 19의 제조><Preparation of Compound 19>
화합물 C10의 제조Preparation of compound C10
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B10 (7.2g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C10 (6.6g, 수율 75 %)을 얻었다.B1 (10g, 34.55mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of compound C1 B10 (7.2g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) was used Compound C10 (6.6g, yield 75%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 19의 제조Preparation of compound 19
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C10 (6.6g, 3.75mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (9.0g, 37.50mmol), Na2CO3 (7.9g, 75mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 19 (3.3g, 수율 41%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na 2 CO 3 (13g, 122.46mmol) instead of C10 (6.6g, 3.75mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (9.0g, 37.50mmol), and Na 2 CO 3 (7.9g, 75mmol) were used, but Compound 19 was prepared in the same manner. (3.3 g, yield 41%) was obtained.
MS (m/z) : 1088.50MS (m/z) : 1088.50
<화합물 21의 제조><Preparation of Compound 21>
화합물 C11의 제조Preparation of compound C11
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B11 (7.4g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C11 (6.7g, 수율 74 %)을 얻었다.B1 (10g, 34.55mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of compound C1 instead of B11 (7.4g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) Compound C11 (6.7g, yield 74%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 21의 제조Preparation of compound 21
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C11 (6.7g, 3.70mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (8.9g, 37.00mmol), Na2CO3 (7.8g, 74mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 21 (3.4g, 수율 41%)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na 2 CO 3 (13g, 122.46mmol) instead of C11 (6.7g, 3.70mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (8.9g, 37.00mmol), and Na 2 CO 3 (7.8g, 74mmol) were used, but Compound 21 was prepared in the same manner. (3.4 g, yield 41%) was obtained.
MS (m/z) : 1104.60MS (m/z) : 1104.60
<화합물 28의 제조><Preparation of Compound 28>
화합물 C12의 제조Preparation of compound C12
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B12 (8.2g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C12 (6.8g, 수율 70 %)을 얻었다.B1 (10g, 34.55mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of compound C1 B12 (8.2g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) was used Compound C12 (6.8g, yield 70%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 28의 제조Preparation of compound 28
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C12 (6.8g, 3.50mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (8.4g, 35.00mmol), Na2CO3 (7.4g, 70mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 28 (3.3g, 수율 40%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na 2 CO 3 (13g, 122.46mmol) instead of C12 (6.8g, 3.50mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (8.4g, 35.00mmol), and Na 2 CO 3 (7.4g, 70mmol) were used, but Compound 28 was prepared in the same manner. (3.3 g, yield 40%) was obtained.
MS (m/z) : 1172.60MS (m/z) : 1172.60
<화합물 32의 제조><Preparation of Compound 32>
화합물 C13의 제조Preparation of compound C13
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B13 (5.7g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C13 (5.1g, 수율 68 %)을 얻었다.B1 (10g, 34.55mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of compound C1 B13 (5.7g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) was used Compound C13 (5.1 g, yield 68%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 32의 제조Preparation of compound 32
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C13 (5.1g, 3.40mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (7.2g, 34.00mmol), Na2CO3 (7.2g, 68mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 32 (2.5g, 수율 40%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na 2 CO 3 (13g, 122.46mmol) instead of C13 (5.1g, Compound 32 ( 2.5 g, yield 40 %) was obtained.
MS (m/z) : 924.30MS (m/z) : 924.30
<화합물 83의 제조><Preparation of Compound 83>
화합물 C14의 제조Preparation of compound C14
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B14 (7.2g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C14 (6.6g, 수율 75 %)을 얻었다.B1 (10g, 34.55mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of compound C1 B14 (7.2g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) was used Compound C14 (6.6g, yield 75%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 83의 제조Preparation of compound 83
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C14 (6.6g, 3.75mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (9.0g, 37.50mmol), Na2CO3 (7.9g, 75mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 83 (3.3g, 수율 41%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na 2 CO 3 (13g, 122.46mmol) instead of C14 (6.6g, 3.75mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (9.0g, 37.50mmol), and Na 2 CO 3 (7.9g, 75mmol) were used, but Compound 83 was prepared in the same manner. (3.3 g, yield 41%) was obtained.
MS (m/z) : 1088.50MS (m/z) : 1088.50
<화합물 115의 제조><Preparation of Compound 115>
화합물 C15의 제조Preparation of compound C15
화합물 C1의 제조 방법에서 B1 (10g, 34.55mmol), IrCl3.H2Ox (6.1g, 15.71mmol ) 대신 B15 (7.6g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C15 (6.6g, 수율 72 %)을 얻었다.B1 (10g, 34.55mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (6.1g, 15.71mmol) in the preparation method of compound C1 B15 (7.6g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) was used Compound C15 (6.6g, yield 72%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 115의 제조Preparation of compound 115
화합물 42의 제조 방법에서 C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na2CO3 (13g, 122.46mmol) 대신 C15 (6.6g, 3.60mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (8.7g, 36.00mmol), Na2CO3 (7.9g, 75mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 115 (3.1g, 수율 39%)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C1 (10.1g, 6.28mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (12.7g, 59.64mmol), Na 2 CO 3 (13g, 122.46mmol) instead of C15 (6.6g, 3.60mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (8.7g, 36.00mmol), and Na 2 CO 3 (7.9g, 75mmol) were used, but Compound 115 was prepared in the same manner. (3.1 g, yield 39%) was obtained.
MS (m/z) : 1088.50MS (m/z) : 1088.50
<화합물 145의 제조><Preparation of Compound 145>
화합물 C2의 제조Preparation of compound C2
반응 용기에 B2 (9g, 24.63mmol), 2-ethoxyethanol 200ml, 증류수 66ml를 넣고 1시간 동안 질소 버블링한 후 IrCl3,H2O (4.3g, 11.19mmol)을 첨가하고 24시간동안 환류하였다. 반응이 종결된 후 온도를 천천히 상온으로 내리고 생성된 고체를 필터하였다. 필터된 고체를 methanol로 씻어주고 건조하여 화합물 C2 (4.9g, 수율 46 %)을 얻었다. B2 (9g, 24.63mmol), 200ml of 2-ethoxyethanol, and 66ml of distilled water were added to the reaction container, and nitrogen was bubbled for 1 hour. Then, IrCl 3 ,H 2 O (4.3g, 11.19mmol) was added and refluxed for 24 hours. After the reaction was completed, the temperature was slowly lowered to room temperature, and the resulting solid was filtered. The filtered solid was washed with methanol and dried to obtain compound C2 (4.9g, yield 46%).
화합물 145의 제조Preparation of compound 145
반응 용기에 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol), 200ml의 2-ethoxyethanol을 넣고 24시간 동안 천천히 교반하였다. 반응이 완료된 후 반응물에 dichloromethane을 넣어 반응 생성물을 녹인 후 dichloromethane과 증류수로 추출하였다. MgSO4를 이용하여 유기층의 물을 제거하고 필터 후 감압하여 용매를 제거하였다. Hexane과 dichloromethane으로 컬럼 크로마토그래피하여 화합물 145 (2.7g, 수율 60%)를 얻었다. C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol), and 200ml of 2-ethoxyethanol were added to the reaction vessel. Stir gently for 24 hours. After the reaction was completed, dichloromethane was added to the reactant to dissolve the reaction product, and then extracted with dichloromethane and distilled water. After removing water from the organic layer using MgSO 4 and filtering, the solvent was removed under reduced pressure. Column chromatography with hexane and dichloromethane gave compound 145 (2.7g, yield 60%).
MS (m/z) : 1132.46MS (m/z): 1132.46
<화합물 131의 제조><Preparation of Compound 131>
화합물 C16의 제조Preparation of compound C16
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol ) 대신 B16 (7.7g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C16 (4.1g, 수율 44 %)을 얻었다.B16 (7.7g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) instead of B2 (9g, 24.63mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol) in the preparation method of compound C2 Compound C16 (4.1g, yield 44%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 131의 제조Preparation of compound 131
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C16 (4.1g, 2.20mmol), pentane-2,4-dione (2.2g, 22.00mmol), Na2CO3 (4.7g, 44mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 131 (2.8g, 수율 65%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C16 (4.1g) , 2.20mmol), pentane-2,4-dione (2.2g, 22.00mmol), and Na 2 CO 3 (4.7g, 44mmol), but compound 131 (2.8g, yield 65%) was obtained in the same manner. Got it.
MS (m/z) : 992.32MS (m/z) : 992.32
<화합물 135의 제조><Preparation of Compound 135>
화합물 C17의 제조Preparation of compound C17
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol ) 대신 B17 (6.9g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C17 (3.4g, 수율 40 %)을 얻었다.B17 (6.9g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) instead of B2 (9g, 24.63mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol) in the preparation method of compound C2 Compound C17 (3.4g, yield 40%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 135의 제조Preparation of compound 135
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C17 (3.4g, 2.00mmol), pentane-2,4-dione (2.0g, 20.00mmol), Na2CO3 (4.2g, 40mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 135 (2.0g, 수율 55%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C17 (3.4g) , 2.00mmol), pentane-2,4-dione (2.0g, 20.00mmol), and Na 2 CO 3 (4.2g, 40mmol) were used, but Compound 135 (2.0g, yield 55%) was obtained in the same manner. Got it.
MS (m/z) : 916.17MS (m/z): 916.17
<화합물 136의 제조><Preparation of Compound 136>
화합물 C18의 제조Preparation of compound C18
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol ) 대신 B18 (8.1g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C18 (4.1g, 수율 43 %)을 얻었다.In the preparation method of compound C2, B18 (8.1g, 22mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) were used instead of B2 (9g, 24.63mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol). Compound C18 (4.1g, yield 43%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 136의 제조Preparation of compound 136
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C18 (4.1g, 2.15mmol), pentane-2,4-dione (2.2g, 21.50mmol), Na2CO3 (4.6g, 43mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 136 (2.7g, 수율 62%)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C18 (4.1g) , 2.15mmol), pentane-2,4-dione (2.2g, 21.50mmol), and Na 2 CO 3 (4.6g, 43mmol), but Compound 136 (2.7g, yield 62%) was obtained in the same manner. Got it.
MS (m/z) : 1024.27MS (m/z) : 1024.27
<화합물 138의 제조><Preparation of Compound 138>
화합물 C19의 제조Preparation of compound C19
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol ) 대신 B19 (7.7g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C19 (4.1g, 수율 44 %)을 얻었다.B2 (9g, 24.63mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol) in the preparation method of compound C2 B19 (7.7g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) was used Compound C19 (4.1g, yield 44%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 138의 제조Preparation of compound 138
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C19 (4.1g, 2.20mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (4.7g, 22.00mmol), Na2CO3 (4.7g, 44mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 138 (3.0g, 수율 61%)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C19 (4.1g) Compound 138 (3.0 g , yield 61%) was obtained.
MS (m/z) : 1104.44MS (m/z): 1104.44
<화합물 139의 제조><Preparation of Compound 139>
화합물 C20의 제조Preparation of compound C20
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol) 대신 B20 (7.7g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C20 (4.1g, 수율 44 %)을 얻었다.In the preparation method of compound C2, B20 (7.7g, 22mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) were used instead of B2 (9g, 24.63mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol). Compound C20 (4.1g, yield 44%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 139의 제조Preparation of compound 139
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C20 (4.1g, 2.20mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (5.3g, 22.00mmol), Na2CO3 (4.7g, 44mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 139 (3.0g, 수율 60%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C20 (4.1g) , 2.20mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (5.3g, 22.00mmol), and Na 2 CO 3 (4.7g, 44mmol) were used, but the compound was prepared in the same manner. 139 (3.0 g, yield 60%) was obtained.
MS (m/z) : 1132.47MS (m/z): 1132.47
<화합물 143의 제조><Preparation of Compound 143>
화합물 C21의 제조Preparation of compound C21
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol) 대신 B21 (7.7g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C21 (4.1g, 수율 44 %)을 얻었다.In the preparation method of compound C2, B21 (7.7g, 22mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) were used instead of B2 (9g, 24.63mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol). Compound C21 (4.1g, yield 44%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 143의 제조Preparation of compound 143
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C21 (4.1g, 2.20mmol), (E)-4-(isopropylimino)pentan-2-one (3.1g, 22.00mmol), Na2CO3 (4.7g, 44mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 143 (2.4g, 수율 52%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C21 (4.1g) Compound 143 ( 2.4 g, yield 52%) was obtained.
MS (m/z) : 1033.38MS (m/z) : 1033.38
<화합물 144의 제조><Preparation of Compound 144>
화합물 C22의 제조Preparation of compound C22
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol) 대신 B22 (7.7g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C22 (4.1g, 수율 44 %)을 얻었다.B2 (9g, 24.63mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol) in the preparation method of compound C2 B22 (7.7g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) was used Compound C22 (4.1g, yield 44%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 144의 제조Preparation of compound 144
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C22 (4.1g, 2.20mmol), (E)-N,N'-diisopropylbenzimidamide (4.5g, 22.00mmol), Na2CO3 (4.7g, 44mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 144 (1.9g, 수율 40%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C22 (4.1g) , 2.20mmol), (E) -N,N'-diisopropylbenzimidamide (4.5g, 22.00mmol), and Na 2 CO 3 (4.7g, 44mmol), except for using Compound 144 (1.9g, yield 40). %) was obtained.
MS (m/z) : 1096.39MS (m/z): 1096.39
<화합물 147의 제조><Preparation of Compound 147>
화합물 C23의 제조Preparation of compound C23
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol) 대신 B23 (9.0g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C23 (5.2g, 수율 50%)을 얻었다.B2 (9g, 24.63mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol) in the preparation method of compound C2 B23 (9.0g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) was used Compound C23 (5.2g, yield 50%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 147의 제조Preparation of compound 147
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C23 (5.2g, 2.50mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (6.0g, 25.00mmol), Na2CO3 (5.3g, 50mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 147 (3.6g, 수율 58%)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C23 (5.2g) , 2.50mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (6.0g, 25.00mmol), and Na 2 CO 3 (5.3g, 50mmol), except for using the same compound method. 147 (3.6 g, yield 58%) was obtained.
MS (m/z) : 1244.60MS (m/z): 1244.60
<화합물 149의 제조><Preparation of Compound 149>
화합물 C24의 제조Preparation of compound C24
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol) 대신 B24 (9.2g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C24 (5.2g, 수율 49%)을 얻었다.In the method for preparing compound C2, B24 (9.2g, 22mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) were used instead of B2 (9g, 24.63mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol). Compound C24 (5.2 g, yield 49%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 149의 제조Preparation of compound 149
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C24 (5.2g, 2.45mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (5.9g, 24.50mmol), Na2CO3 (5.2g, 49mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 149 (3.5g, 수율 57%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C24 (5.2g) , 2.45mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (5.9g, 24.50mmol), and Na 2 CO 3 (5.2g, 49mmol), except for using the same compound method. 149 (3.5 g, yield 57%) was obtained.
MS (m/z) : 1266.74MS (m/z) : 1266.74
<화합물 156의 제조><Preparation of Compound 156>
화합물 C25의 제조Preparation of compound C25
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol) 대신 B25 (9.9g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C25 (5.8g, 수율 52%)을 얻었다.In the preparation method of compound C2, B25 (9.9g, 22mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) were used instead of B2 (9g, 24.63mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol). Compound C25 (5.8g, yield 52%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 156의 제조Preparation of compound 156
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C25 (5.8g, 2.60mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (6.2g, 26.00mmol), Na2CO3 (5.5g, 52mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 156 (4.1g, 수율 60%)를 얻었다.In the preparation method of Compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C25 (5.8g) , 2.60mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (6.2g, 26.00mmol), and Na 2 CO 3 (5.5g, 52mmol), except for using the same compound method. 156 (4.1 g, yield 60%) was obtained.
MS (m/z) : 1328.69MS (m/z): 1328.69
<화합물 160의 제조><Preparation of Compound 160>
화합물 C26의 제조Preparation of compound C26
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol) 대신 B26 (8.1g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C26 (3.7g, 수율 38%)을 얻었다.B2 (9g, 24.63mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol) in the preparation method of compound C2 B26 (8.1g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) was used Compound C26 (3.7g, yield 38%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 160의 제조Preparation of compound 160
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C26 (3.7g, 1.90mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (4.0g, 19.00mmol), Na2CO3 (4.0g, 38mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 160 (2.2g, 수율 50%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C26 (3.7g) , 1.90mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (4.0g, 19.00mmol), and Na 2 CO 3 (4.0g, 38mmol) were used, but Compound 160 (2.2g, yield) was obtained in the same manner. 50%) was obtained.
MS (m/z) : 1136.45MS (m/z): 1136.45
<화합물 177의 제조><Preparation of Compound 177>
화합물 C27의 제조Preparation of compound C27
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol) 대신 B27 (8.4g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C27 (4.7g, 수율 48%)을 얻었다.In the method for preparing compound C2, B27 (8.4g, 22mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) were used instead of B2 (9g, 24.63mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol). Compound C27 (4.7 g, yield 48%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 177의 제조Preparation of compound 177
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C27 (4.7g, 2.40mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.1g, 24.00mmol), Na2CO3 (5.1g, 48mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 177 (3.1g, 수율 55%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C27 (4.7g) , 2.40mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.1g, 24.00mmol), and Na 2 CO 3 (5.1g, 48mmol), but using the same method as Compound 177 (3.1g, yield) 55%) was obtained.
MS (m/z) : 1164.43MS (m/z): 1164.43
<화합물 211의 제조><Preparation of Compound 211>
화합물 C28의 제조Preparation of compound C28
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol) 대신 B28 (9.0g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C28 (4.6g, 수율 44%)을 얻었다.In the preparation method of compound C2, B28 (9.0g, 22mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) were used instead of B2 (9g, 24.63mmol) and IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol). Compound C28 (4.6g, yield 44%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 211의 제조Preparation of compound 211
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C28 (4.6g, 2.20mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (5.3g, 22.00mmol), Na2CO3 (4.7g, 44mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 211 (3.4g, 수율 62%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C28 (4.6g) , 2.20mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (5.3g, 22.00mmol), and Na 2 CO 3 (4.7g, 44mmol) were used, but the compound was prepared in the same manner. 211 (3.4 g, yield 62%) was obtained.
MS (m/z) : 1244.60MS (m/z): 1244.60
<화합물 245의 제조><Preparation of Compound 245>
화합물 C29의 제조Preparation of compound C29
화합물 C2의 제조 방법에서 B2 (9g, 24.63mmol), IrCl3.H2Ox (4.3g, 11.19mmol) 대신 B29 (9.6g, 22mmol), IrCl3.H2Ox (3.5g, 10mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 C29 (5.1g, 수율 47%)을 얻었다.B2 (9g, 24.63mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (4.3g, 11.19mmol) in the preparation method of compound C2 B29 (9.6g, 22mmol), IrCl 3 .H 2 Ox (3.5g, 10mmol) was used Compound C29 (5.1 g, yield 47%) was obtained in the same manner except for the above.
화합물 245의 제조Preparation of compound 245
화합물 42의 제조 방법에서 C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na2CO3 (5.3g, 49.92mmol) 대신 C29 (5.1g, 2.35mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (5.6g, 23.50mmol), Na2CO3 (5.0g, 47mmol)를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 화합물 245 (3.7g, 수율 60%)를 얻었다.In the preparation method of compound 42, C2 (4.9g, 2.56mmol), 3,7-diethylnonane-4,6-dione (5.3g, 24.98mmol), Na 2 CO 3 (5.3g, 49.92mmol) instead of C29 (5.1g) , 2.35mmol), 3,7-diethyl-3,7-dimethylnonane-4,6-dione (5.6g, 23.50mmol), and Na 2 CO 3 (5.0g, 47mmol), except for using the same compound method. 245 (3.7 g, yield 60%) was obtained.
MS (m/z) : 1298.69MS (m/z): 1298.69
실시예Example
<실시예 1><Example 1>
ITO (인듐 주석 산화물)가 1,000Å두께로 박막 코팅된 유리 기판을 세척한 후, 이소프로필 알코올, 아세톤, 메탄올 등의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시켰다. The glass substrate coated with ITO (indium tin oxide) to a thickness of 1,000 Å was washed, ultrasonically washed with a solvent such as isopropyl alcohol, acetone, or methanol, and dried.
준비된 ITO 투명 전극 위에 정공 주입 재료로 HI-1을 60 nm 두께로 열 진공 증착한 후, 정공 수송 재료로 NPB를 80 nm 두께로 열 진공 증착하였다. 수송 재료 위에 발광층으로 도펀트는 화합물 5, 호스트는 CBP를 사용하였고, 도핑농도는 5%, 두께는 30 nm로 열 진공 증착하였다. 발광층 위에 ET-1 : Liq (1:1) (30 nm)을 전자 수송층과 전자 주입층의 재료로 열 진공 증착한 후, 100 nm 두께의 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하여, 유기전계발광소자를 제작하였다. 상기 실시예 1에서 사용한 재료는 다음과 같다.HI-1 was thermally vacuum deposited to a thickness of 60 nm as a hole injection material on the prepared ITO transparent electrode, and then NPB was thermally vacuum deposited to a thickness of 80 nm as a hole transport material. Compound 5 as a dopant and CBP as a host were used as the light emitting layer on the transport material, and thermal vacuum deposition was performed at a doping concentration of 5% and a thickness of 30 nm. ET-1: Liq (1:1) (30 nm) was thermally vacuum deposited on the light emitting layer as a material for the electron transport layer and the electron injection layer, and then 100 nm thick aluminum was deposited to form a cathode to form an organic light emitting device. produced. The materials used in Example 1 are as follows.
상기 재료에서 HI-1은 NPNPB이고, 상기 ET-1은 ZADN이다.In the material, HI-1 is NPNPB and ET-1 is ZADN.
<실시예 2> <Example 2>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 7을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 7 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 3> <Example 3>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 8을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 8 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 4><Example 4>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 10을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 10 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 5> <Example 5>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 11을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 11 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 6><Example 6>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 15를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 15 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 7><Example 7>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 16을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다.An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 16 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 8><Example 8>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 19를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 19 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 9><Example 9>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 21을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 21 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 10><Example 10>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 28을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 28 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 11><Example 11>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 32를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다.An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 32 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 12><Example 12>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 42를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 42 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 13><Example 13>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 83을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 83 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 14><Example 14>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 115를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 115 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 15><Example 15>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 131을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 131 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 16><Example 16>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 135를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 135 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 17><Example 17>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 136을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 136 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 18> <Example 18>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 138을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 138 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 19><Example 19>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 139를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 139 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 20> <Example 20>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 143을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 143 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 21><Example 21>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 144를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다.An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 144 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 22><Example 22>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 145를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 145 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 23> <Example 23>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 147을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 147 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 24> <Example 24>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 149를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 149 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 25> <Example 25>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 156을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 156 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 26> <Example 26>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 160을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 160 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 27> <Example 27>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 177을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 177 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 28> <Example 28>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 211을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 211 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 29> <Example 29>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 245를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 245 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 30> <Example 30>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 257을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 257 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 31> <Example 31>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 258을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 258 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 32><Example 32>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 259를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 259 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 33> <Example 33>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 260을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that
<실시예 34><Example 34>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 261을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 261 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 35><Example 35>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 262를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다.An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 262 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 36><Example 36>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 263을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 263 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 37><Example 37>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 264를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 264 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 38><Example 38>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 265를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 265 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 39><Example 39>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 266을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다.An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 266 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 40><Example 40>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 267을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 267 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 41><Example 41>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 268을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 268 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 42><Example 42>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 269를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 269 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 43><Example 43>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 270을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 270 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 44><Example 44>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 271을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 271 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 45><Example 45>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 272를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 272 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 46> <Example 46>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 273을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 273 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 47><Example 47>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 274를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 274 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 48> <Example 48>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 275를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 275 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 49><Example 49>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 276을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다.An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 276 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 50><Example 50>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 277을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 277 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 51> <Example 51>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 278을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 278 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 52> <Example 52>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 279를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 279 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 53> <Example 53>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 280을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 280 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 54> <Example 54>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 281을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 281 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 55> <Example 55>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 282를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 282 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 56> <Example 56>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 283을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 283 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 57> <Example 57>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 284를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 284 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 58> <Example 58>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 285를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 285 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 59> <Example 59>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 286을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 286 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 60> <Example 60>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 287을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 287 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 61> <Example 61>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 288을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 288 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 62> <Example 62>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 289를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 289 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 63> <Example 63>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 290을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 290 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<실시예 64> <Example 64>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 화합물 291을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다. An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Compound 291 was used instead of Compound 5 in Example 1.
<비교예 1><Comparative Example 1>
상기 실시예 1에서 화합물 5 대신 하기 구조의 RD를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제작하였다.An organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that RD having the following structure was used instead of Compound 5 in Example 1.
실험예Experimental Example
실시예 1~64 및 비교예 1에서 각각 제조된 유기전계발광소자를 외부전력 공급원에 연결하였으며, 전류 공급원 및 광도계를 사용하여 실온에서 소자 특성을 평가하였다. The organic light emitting devices prepared in Examples 1 to 64 and Comparative Example 1, respectively, were connected to an external power source, and device characteristics were evaluated at room temperature using a current source and a photometer.
구체적으로, 10mA/cm2의 전류로 구동 전압, 외부양자효율(EQE), 수명 특성(LT95), 반치폭 및 aspect ratio를 측정하였으며, 그 결과를 하기 표 1 및 표 2에 나타냈다. Specifically, the driving voltage, external quantum efficiency (EQE), lifetime characteristics (LT95), full width at half maximum and aspect ratio were measured with a current of 10 mA/cm 2 , and the results are shown in Tables 1 and 2 below.
상기 aspect ratio는 (금속을 중심으로 분자내 장축 길이(N-Metal-N 방향))/(금속을 중심으로 분자내 장축과 수직인 단축 길이)로 계산되며, 가우시안 분자계산 프로그램(Gaussian 16)을 통한 분자 내 원자간 거리 계산에 의해 측정하였다.The aspect ratio is calculated as (the length of the long axis in the molecule centered on the metal (N-Metal-N direction)) / (the length of the short axis perpendicular to the long axis in the molecule centered on the metal), and the Gaussian molecular calculation program (Gaussian 16) It was measured by calculating the interatomic distance in the molecule through
LT95 수명이란 디스플레이 요소가 최초 밝기의 5%를 잃는데 걸리는 시간을 말한다. LT95는 가장 충족시키기 어려운 고객 사양으로, 디스플레이의 이미지 번인(burn in) 현상 발생 여부를 결정한다.LT95 lifetime is the time it takes for a display element to lose 5% of its initial brightness. LT95 is the most difficult customer specification to meet, and determines whether or not image burn-in occurs on the display.
반치폭(Full Width at Half Maximum, FWHM)은 반치전폭이라고도 하며, 파장을 나타내는 곡선의 최대값의 1/2에 대응하는 파장폭을 의미한다(도 3 및 도 4 참조). 반치폭이 좁다는 것은 색의 순도가 높다는 것이며 이는 빛의 조합으로 원하는 색을 표현하는 구동 방식의 소자를 고효율로 구현할 수 있고 높은 색재현율을 얻을 수 있다는 것을 의미한다. Full Width at Half Maximum (FWHM) is also referred to as full width at half maximum, and means a wavelength width corresponding to 1/2 of the maximum value of a curve representing wavelengths (see FIGS. 3 and 4). A narrow half-width means that the purity of the color is high, which means that a drive-type device that expresses a desired color with a combination of light can be implemented with high efficiency and a high color reproduction rate can be obtained.
반치폭은 발광세기(photoluminescence (PL) intensity) 측정을 통하여 평가하였고, 측정 장비의 Model/Maker는 FS-5/Edinburgh Instruments이다.The full width at half maximum was evaluated through photoluminescence (PL) intensity measurement, and the Model/Maker of the measurement equipment was FS-5/Edinburgh Instruments.
(%, 상대값)driving voltage
(%, relative value)
(%, 상대값)EQE
(%, relative value)
(%, 상대값)LT95
(%, relative value)
(%, 상대값)half height
(%, relative value)
(%, 상대값)aspect ratio
(%, relative value)
(%,상대값)driving voltage
(%, relative value)
(%,상대값)EQE
(%, relative value)
(%, 상대값)LT95
(%, relative value)
(%, 상대값)half height
(%, relative value)
(%, 상대값)aspect ratio
(%, relative value)
본 발명의 비교예 1의 발광층 도펀트 화합물인 RD는 본 발명의 실시예 화합물과 달리 2-페닐퀴놀린에 추가 융합 고리가 형성되지 않은 구조라는 점에서 차이점이 있다. RD, which is a dopant compound for the light emitting layer of Comparative Example 1 of the present invention, is different from the compounds of Examples of the present invention in that an additional fused ring is not formed in 2-phenylquinoline.
표 1 및 표 2의 결과로부터 알 수 있는 것처럼, 본 발명의 실시예 1~64에서 사용한 유기금속 화합물을 발광층의 도펀트로 적용한 유기전계발광소자는, 비교예 1에 비하여 구동 전압이 낮아지고, 외부양자효율(EQE) 및 수명(LT95)이 향상되었으며, 반치폭도 좁아져 색순도가 향상되었다. As can be seen from the results of Tables 1 and 2, the organic light emitting device to which the organometallic compound used in Examples 1 to 64 of the present invention is applied as a dopant in the light emitting layer has a lower driving voltage than Comparative Example 1, and an external Quantum efficiency (EQE) and lifetime (LT95) were improved, and the full width at half maximum was narrowed, resulting in improved color purity.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 명세서는 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 명세서의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 명세서의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 명세서의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 명세서의 보호 범위는 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 명세서의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present specification have been described in more detail with reference to the accompanying drawings, the present specification is not necessarily limited to these embodiments, and may be variously modified and implemented without departing from the technical spirit of the present specification. . Therefore, the embodiments disclosed in this specification are not intended to limit the technical spirit of the present specification, but to explain, and the scope of the technical spirit of the present specification is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. The protection scope of this specification should be construed according to the claims, and all technical ideas within the equivalent range should be construed as being included in the scope of this specification.
100, 4000 : 유기전계발광소자
110, 4100 : 제1 전극
120, 4200 : 제2 전극
130, 230, 4300 : 유기층
140 : 정공주입층
150 : 정공수송층
151 : 제1 정공수송층
152 : 제2 정공수송층
160 : 발광층
161 : 제1 발광층
162 : 제2 발광층
170 : 전자수송층
171 : 제1 전자수송층
172 : 제2 전자수송층
180 : 전자주입층
191 : N형 전하생성층
192 : P형 전하생성층
240 : 제1 발광부 (ST1)
250 : 제1 발광부 (ST2)
260 : 전하생성층
3000 : 유기발광 표시장치
3010 : 기판
3100 : 반도체층
3200 : 게이트 절연막
3300 : 게이트 전극
3400 : 층간 절연막
3420, 3440 : 제1 및 제2 반도체층 콘택홀
3520 : 소스 전극
3540 : 드레인 전극
3600 : 컬러 필터
3700 : 보호층
3720 : 드레인 콘택홀
3800 : 뱅크층
3900 : 인캡슐레이션 필름100, 4000: organic light emitting device
110, 4100: first electrode
120, 4200: second electrode
130, 230, 4300: organic layer
140: hole injection layer
150: hole transport layer
151: first hole transport layer
152: second hole transport layer
160: light emitting layer
161: first light emitting layer
162: second light emitting layer
170: electron transport layer
171: first electron transport layer
172: second electron transport layer
180: electron injection layer
191: N-type charge generation layer
192: P-type charge generation layer
240: first light emitting part (ST1)
250: first light emitting part (ST2)
260: charge generation layer
3000: organic light emitting display device
3010: substrate
3100: semiconductor layer
3200: gate insulating film
3300: gate electrode
3400: interlayer insulating film
3420, 3440: first and second semiconductor layer contact holes
3520: source electrode
3540: drain electrode
3600: color filter
3700: protective layer
3720: drain contact hole
3800: bank layer
3900: encapsulation film
Claims (10)
[화학식 I]
상기 화학식 I에서,
M은 중앙 배위 금속으로서, 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 레늄(Re), 루테늄(Ru), 오스뮴(Os), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 백금(Pt) 및 금(Au)으로 이루어진 군에서 선택된 하나이고;
R은 X1 및 X2에 연결되어 형성된 융합 고리(fused ring)이고;
R1 및 R2는 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나이고;
Y는 BR3, CR3R4, C=O, CNR3, SiR3R4, NR3, PR3, AsR3, SbR3, P(O)R3, P(S)R3, P(Se)R3, As(O)R3, As(S)R3, As(Se)R3, Sb(O)R3, Sb(S)R3, Sb(Se)R3, O, S, Se, Te, SO, SO2, SeO, SeO2, TeO 및 TeO2로 이루어진 군에서 선택된 하나이고;
R3 및 R4는 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나이고;
X3 내지 X6은 각각 독립적으로 CR5 및 N 중에서 선택되는 하나이고;
X3 내지 X6의 인접하는 치환기는 융합하여 고리를 형성할 수 있고, 상기 고리는 C5-C6의 탄소고리(carbon ring) 또는 헤테로고리(heterocylclic ring)일 수 있고;
X7 내지 X10은 각각 독립적으로 CR6 및 N 중에서 선택되는 하나이고;
R5 및 R6는 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나이고;
는 두 자리 리간드(bidentate ligand)이고;
m은 1, 2 또는 3의 정수, n은 0, 1 또는 2의 정수, m+n은 금속 M의 산화수이다.
An organometallic compound represented by Formula I:
[Formula I]
In the above formula I,
M is a central coordination metal, molybdenum (Mo), tungsten (W), rhenium (Re), ruthenium (Ru), osmium (Os), rhodium (Rh), iridium (Ir), palladium (Pd), platinum (Pt) ) and one selected from the group consisting of gold (Au);
R is a fused ring formed by connecting X 1 and X 2 ;
R 1 and R 2 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted A substituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, a substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy one selected from the group consisting of an amino group, a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
Y is BR 3 , CR 3 R 4 , C=O, CNR 3 , SiR 3 R 4 , NR 3 , PR 3 , AsR 3 , SbR 3 , P(O)R 3 , P(S)R 3 , P( Se)R 3 , As(O)R 3 , As(S)R 3 , As(Se)R 3 , Sb(O)R 3 , Sb(S)R 3 , Sb(Se)R 3 , O, S , Se, Te, SO, SO 2 , SeO, SeO 2 , TeO and TeO 2 One selected from the group consisting of;
R 3 and R 4 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted A substituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, a substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy one selected from the group consisting of an amino group, a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
X 3 to X 6 are each independently selected from CR 5 and N;
Adjacent substituents of X 3 to X 6 may be fused to form a ring, and the ring may be a C5-C6 carbon ring or a heterocyclic ring;
X 7 to X 10 are each independently selected from CR 6 and N;
R 5 and R 6 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted A substituted C3-C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, a substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C3-C20 cycloalkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy one selected from the group consisting of an amino group, a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
is a bidentate ligand;
m is an integer of 1, 2 or 3, n is an integer of 0, 1 or 2, and m+n is an oxidation number of metal M.
상기 화학식 I로 표시되는 화합물은, 하기 화학식 II-1 및 화학식 II-2로 이루어진 군에서 선택된 하나의 구조로 표시되는 화합물인, 유기금속 화합물.
[화학식 II-1]
[화학식 II-2]
상기 화학식 II-1 및 화학식 II-2에서,
Y, R1 내지 R2, X3 내지 X10, , m 및 n은 청구항 1에 기재된 정의와 동일하다.
According to claim 1,
The compound represented by Formula I is a compound represented by one structure selected from the group consisting of Formula II-1 and Formula II-2, an organometallic compound.
[Formula II-1]
[Formula II-2]
In Formula II-1 and Formula II-2,
Y, R 1 to R 2 , X 3 to X 10 , , m and n are the same as the definitions described in claim 1.
상기 화학식 I로 표시되는 화합물은, 하기 화학식 III-1 및 화학식 III-2로 이루어진 군에서 선택된 하나의 구조로 표시되는 화합물인, 유기금속 화합물.
[화학식 III-1]
[화학식 III-2]
상기 화학식 III-1 및 화학식 III-2에서,
X11 내지 X14는 각각 독립적으로 CR7 및 N 중에서 선택되는 하나이고;
R7은 서로 독립적으로, 수소, 중수소, 할로겐, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미디노기, 히드라진기, 히드라존기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환된 C7-C20의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C20의 사이클알케닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 헤테로알케닐기, 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C3-C30의 헤테로아릴기, 알콕시기, 아미노기, 실릴기, 아실기, 카보닐기, 카르보산기, 에스터기, 니트릴기, 이소니트릴기, 술파닐기, 술피닐기, 술포닐기 및 포스피노기로 이루어진 군에서 선택된 하나이고;
Y, R1 내지 R2, X5 내지 X10, , m 및 n은 청구항 1에 기재된 정의와 동일하다.
According to claim 1,
The compound represented by Formula I is a compound represented by a structure selected from the group consisting of Formula III-1 and Formula III-2, an organometallic compound.
[Formula III-1]
[Formula III-2]
In Formula III-1 and Formula III-2,
X 11 to X 14 are each independently selected from CR 7 and N;
R 7 are each independently hydrogen, deuterium, halogen, hydroxyl group, cyano group, nitro group, amidino group, hydrazine group, hydrazone group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl group, substituted or unsubstituted C3 -C20 cycloalkyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkyl group, substituted or unsubstituted C7-C20 arylalkyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 alkenyl group, substituted or unsubstituted C3-C20 Cyclic alkenyl group, substituted or unsubstituted C1-C20 heteroalkenyl group, alkynyl group, substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, alkoxy group, amino group , One selected from the group consisting of a silyl group, an acyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid group, an ester group, a nitrile group, an isonitrile group, a sulfanyl group, a sulfinyl group, a sulfonyl group, and a phosphino group;
Y, R 1 to R 2 , X 5 to X 10 , , m and n are the same as the definitions described in claim 1.
상기 M은 이리듐(Ir)인, 유기금속 화합물.
According to claim 1,
Wherein M is iridium (Ir), an organometallic compound.
상기 화학식 I로 표시되는 화합물은, 하기 화합물 1 내지 화합물 291로 이루어진 군에서 선택된 하나인, 유기금속 화합물.
.
According to claim 1,
The compound represented by Formula I is one selected from the group consisting of compounds 1 to 291 below, an organometallic compound.
.
상기 화학식 I로 표시되는 화합물은, 적색 인광 물질 또는 녹색 인광 물질로 사용되는 것인, 유기금속 화합물.
According to claim 1,
The compound represented by Formula I is used as a red phosphorescent material or a green phosphorescent material, an organometallic compound.
상기 제1 전극과 마주보는 제2 전극; 및
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 배치되는 유기층;을 포함하고,
상기 유기층은 발광층을 포함하며,
상기 발광층은 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 유기금속 화합물을 포함하는, 유기전계발광소자.
a first electrode;
a second electrode facing the first electrode; and
An organic layer disposed between the first electrode and the second electrode,
The organic layer includes a light emitting layer,
The light emitting layer comprises an organometallic compound according to any one of claims 1 to 6, an organic electroluminescent device.
상기 유기금속 화합물은 상기 발광층의 도펀트로 사용되는 것인, 유기전계발광소자.
According to claim 7,
The organometallic compound is used as a dopant of the light emitting layer, an organic light emitting device.
상기 유기층은 정공주입층, 정공수송층, 전자수송층 및 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 더 포함하는 것인, 유기전계발광소자.
According to claim 7,
The organic layer further comprises at least one selected from the group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.
상기 기판에 위치하는 구동 소자; 및
상기 기판에 위치하며 상기 구동 소자에 연결되는 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 유기전계발광소자;를 포함하는 유기발광 표시장치.
Board;
a driving element located on the substrate; and
An organic light emitting display device comprising: an organic light emitting device according to any one of claims 7 to 9 positioned on the substrate and connected to the driving device.
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