KR20220156966A - fixed abrasive buff - Google Patents
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Abstract
중앙 허브 및 중앙 허브에 부착된 복수의 패브릭 층을 갖는 고정 연마 버프를 제공하는 것을 포함하는 시스템 및 방법. 연마 조성물은 패브릭 층 전체에 걸쳐 분산되고 중합체 결합제 및 중합체 결합제에 분산된 복수의 연마 입자를 포함한다. 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리의 연마 입자의 함량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리의 연마 입자의 함량보다 높다. A system and method comprising providing a fixed abrasive buff having a central hub and a plurality of fabric layers attached to the central hub. The abrasive composition is dispersed throughout the fabric layer and includes a polymeric binder and a plurality of abrasive particles dispersed in the polymeric binder. A content of abrasive particles at an outer edge of the plurality of fabric layers is higher than a content of abrasive particles at an inner edge of the plurality of fabric layers.
Description
통상적인 버프 및 버핑 휠(총칭하여 "버프")은 특히 다양한 금속, 플라스틱, 세라믹으로 형성된 구성요소를 연마하는 데 사용된다. Conventional buffs and buffing wheels (collectively "buffs") are used to abrade, among others, components formed from a variety of metals, plastics, and ceramics.
이러한 통상적인 버프는 일반적으로 고정된 연마재가 없으며 다양한 재료(예를 들어 금속, 플라스틱, 세라믹 등)로 형성된 구성요소를 연마하거나 표면 마감하기 위한 소위 버핑 공정에서 일반적으로 사용된다. 고정된 연마재를 포함하는 대신 연마 버핑 에멀젼 또는 화합물이 통상적인 버프의 작업 표면에 외부적으로 도포되고 연마 작업 중에 주기적으로 다시 도포된다. 이러한 통상적인 버프는 높은 유지 및 세정 비용, 버핑 중 많은 재료 낭비, 연마 버핑 에멀젼 또는 화합물의 반복적인 재도포로 인한 더 긴 버핑 시간, 연마 버핑 에멀젼 또는 화합물의 폐기와 관련된 비용 및 우려를 포함하는 다양한 단점을 갖는다. 따라서, 향상된 연마 처리 성능, 효율성 및 개선된 표면 품질을 제공하는 개선된 고정 연마 버프에 대한 요구가 계속 존재한다.These conventional buffs are generally free of fixed abrasives and are commonly used in so-called buffing processes for polishing or surface finishing components formed of various materials (eg metals, plastics, ceramics, etc.). Instead of including a fixed abrasive, an abrasive buffing emulsion or compound is applied externally to the working surface of a conventional buff and periodically re-applied during the grinding operation. These conventional buffs suffer from a variety of disadvantages, including high maintenance and cleaning costs, waste of a lot of material during buffing, longer buffing times due to repeated reapplication of the abrasive buffing emulsion or compound, and costs and concerns associated with disposal of the abrasive buffing emulsion or compound. have Accordingly, a need continues to exist for improved fixed abrasive buffs that provide improved abrasive processing performance, efficiency, and improved surface quality.
요약 summary
일 양태에서, 본 발명은 일반적으로 중앙 허브, 중앙 허브에 부착된 복수의 패브릭 층 및 복수의 패브릭 층 전체에 배치되거나 내부에 매립된 연마 조성물을 포함하는 고정된 연마 버프에 관한 것이다. 연마 조성물은 중합체 결합제 및 중합체 결합제에 분산된 복수의 연마 입자를 포함한다. 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리의 연마 입자의 함량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리의 연마 입자의 함량보다 높을 수 있다.In one aspect, the present invention generally relates to a fixed abrasive buff comprising a central hub, a plurality of fabric layers attached to the central hub, and an abrasive composition disposed throughout or embedded within the plurality of fabric layers. An abrasive composition includes a polymeric binder and a plurality of abrasive particles dispersed in the polymeric binder. The content of abrasive particles at the outer edges of the plurality of fabric layers may be higher than the content of abrasive particles at the inner edges of the plurality of fabric layers.
구체예의 특징 및 이점이 달성되고 더욱 상세하게 이해될 수 있도록, 더욱 구체적인 설명이 첨부된 도면에 도시된 구체예들을 참조하여 더욱 구체적으로 이루어질 수 있다. 그러나, 도면은 일부 구체예만을 도시하고, 따라서 다른 동등하게 효과적인 구체예가 있을 수 있으므로 범위를 제한하는 것으로 간주되어서는 안 된다.
도 1은 본 발명의 일 구체예에 따른 고정 연마 버프의 이미지이다.
도 2는 본 발명의 일 구체예에 따른 고정 연마 버프 형성 방법(200)의 흐름도이다.
도 3A는 본 발명의 일 구체예에 따른 연마 조성물로 코팅하기 전에 회전 장치에 장착된 코팅되지 않은 버프의 이미지이다.
도 3B는 본 발명의 일 구체예에 따른 연마 조성물에 침지되고 그 내에서 회전하는 코팅되지 않은 버프의 이미지이다.
도 3C는 본 발명의 일 구체예에 따른 연마 조성물로 코팅되고 이로부터 제거되는 고정 연마 버프의 이미지이다.
도 3D는 본 발명의 일 구체예에 따른 과잉 연마 조성물을 제거하기 위해 스피닝한 후 연마 조성물로 코팅된 고정 연마 버프의 이미지이다.
도 4A는 본 발명의 일 구체예에 따른 가압 공기 전달 장치를 갖는 기기를 보여준다.
도 4B는 본 발명의 일 구체예에 따른 가압 공기 전달 장치의 이미지를 보여준다.
도 5A는 연마 조성물이 없는 사용된 대조 연마 버프의 이미지이다.
도 5B는 본 발명의 일 구체예에 따른 사용된 샘플 고정 연마 버프의 이미지이다.
도 6A는 연마 조성물이 없는 대조 연마 버프에 의해 버핑된 황동 패널의 이미지이다.
도 6B는 본 발명의 일 구체예에 따른 샘플 고정 연마 버프에 의해 버핑된 황동 패널의 이미지이다.
도 7은 대조 고정 연마 버프 및 샘플 고정 연마 버프의 일 구체예의 표면 마감(Ra) 대 시간의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다.
도 8은 대조 고정 연마 버프 및 샘플 고정 연마 버프의 일 구체예의 표면 마감(Rz) 대 시간의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다.
도 9는 대조 고정 연마 버프 및 샘플 고정 연마 버프의 일 구체예의 누적 재료 제거 대 시간의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다.
도 10은 대조 고정 연마 버프 및 샘플 고정 연마 버프의 일 구체예의 표면 마감(Ra) 대 시간의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다.
도 11은 대조 고정 연마 버프 및 샘플 고정 연마 버프의 일 구체예의 표면 마감(Rz) 대 시간의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다.
도 12는 대조 고정 연마 버프 및 샘플 고정 연마 버프의 일 구체예의 누적 재료 제거 대 시간의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다.
도 13은 대조 고정 연마 버프 및 샘플 고정 연마 버프의 일 구체예의 요구 동력 대 시간의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다.
도 14는 샘플 스트립이 제거된, 해체된 샘플 고정 연마 버프의 이미지를 보여준다.
상이한 도면에서 동일한 참조 기호의 사용은 유사하거나 동일한 항목을 나타낸다. In order that the features and advantages of the embodiments may be achieved and understood in more detail, a more specific description may be made with reference to the embodiments shown in the accompanying drawings. However, the drawings illustrate only some embodiments and, therefore, should not be considered limiting in scope as there may be other equally effective embodiments.
1 is an image of a fixed abrasive buff according to one embodiment of the present invention.
2 is a flow diagram of a
3A is an image of an uncoated buff mounted on a rotary device prior to coating with an abrasive composition according to one embodiment of the present invention.
3B is an image of an uncoated buff immersed in and spinning in an abrasive composition according to one embodiment of the present invention.
3C is an image of a fixed abrasive buff coated with and removed from an abrasive composition according to one embodiment of the present invention.
3D is an image of a fixed abrasive buff coated with an abrasive composition after spinning to remove excess abrasive composition according to one embodiment of the present invention.
4A shows a device having a pressurized air delivery device according to one embodiment of the present invention.
4B shows an image of a pressurized air delivery device according to one embodiment of the present invention.
5A is an image of a control abrasive buff used without an abrasive composition.
5B is an image of a used sample fixing abrasive buff according to one embodiment of the present invention.
6A is an image of a brass panel buffed by a control abrasive buff without an abrasive composition.
6B is an image of a brass panel buffed with a sample fixing abrasive buff in accordance with one embodiment of the present invention.
7 shows a chart providing comparative data of surface finish (Ra) versus time for one embodiment of a control set abrasive buff and a sample set abrasive buff.
8 shows a chart providing comparative data of surface finish (Rz) versus time for one embodiment of a control set abrasive buff and a sample set abrasive buff.
9 shows a chart providing comparative data of cumulative material removal versus time for one embodiment of a control set abrasive buff and a sample set abrasive buff.
10 shows a chart providing comparative data of surface finish (Ra) versus time for one embodiment of a control set abrasive buff and a sample set abrasive buff.
11 shows a chart providing comparative data of surface finish (Rz) versus time for one embodiment of a control set abrasive buff and a sample set abrasive buff.
12 shows a chart providing comparative data of cumulative material removal versus time for one embodiment of a control set abrasive buff and a sample set abrasive buff.
13 shows a chart providing comparative data of power requirements versus time for one embodiment of a control set abrasive buff and a sample set abrasive buff.
14 shows an image of a disassembled sample fixing abrasive buff with the sample strip removed.
The use of the same reference signs in different drawings indicates similar or identical items.
바람직한 구체예의 상세한 설명 DETAILED DESCRIPTION OF PREFERRED EMBODIMENTS
고정 연마 버프fixed abrasive buff
도 1은 본 발명의 일 구체예에 따른 고정 연마 버프(100)의 이미지를 보여준다. 고정 연마 버프(100)는 일반적으로 중앙 허브(102), 중앙 허브(102)에 부착된 복수의 패브릭 층(104) 및 복수의 패브릭 층(104) 전체에 배치되거나 내부에 매립된 연마 조성물(106)을 포함한다. 연마 조성물(106)은 중합체 결합제 및 중합체 결합제에 분산된 복수의 연마 입자를 포함한다. 연마 조성물(106)은 일반적으로, 연마 조성물(106)(연마 입자 포함)이 고정 연마 버프(100)의 복수의 패브릭 층(104) 각각의 섬유 내로 및 섬유 사이에 침투하도록, 복수의 패브릭 층(104) 전체에 배치되거나 내부에 매립될 수 있다.1 shows an image of a fixed
고정 연마 버프 형성 방법How to form a fixed abrasive buff
도 2는 본 발명의 일 구체예에 따른 고정 연마 버프(100) 형성 방법(200)의 흐름도를 보여준다. 방법(200)은 중앙 허브(102) 및 중앙 허브(102)에 부착된 복수의 패브릭 층(104)을 포함하는 코팅되지 않은 버프를 제공함으로써 블록(202)에서 시작할 수 있다. 방법(200)은 코팅되지 않은 버프를 중합체 결합제 및 복수의 연마 입자를 갖는 연마 조성물(106)에 적어도 부분적으로 침지함으로써 블록(204)에서 계속될 수 있다. 방법(200)은 연마 조성물(106) 내에서 버프를 회전시킴으로써 블록(206)에서 계속될 수 있다. 2 shows a flow chart of a
방법(200)은 복수의 패브릭 층(104)에 압력을 가하여 복수의 패브릭 층(104)이 코팅 과정 동안 패브릭 층 각각을 서로 분리시키거나 벌어지게 함으로써 블록(208)에서 계속될 수 있다. 일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)의 벌어짐은 복수의 패브릭 층(104)이 서로 벌어지거나 분리되도록 복수의 패브릭 층(104)을 향해 반경 방향으로 가압 공기를 적용하거나 지향시킴으로써 달성될 수 있다. 일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)의 벌어짐은 복수의 패브릭 층(104)이 서로 벌어지거나 분리되도록 연마 조성물(106)이 들어 있는 용기의 측벽에 대해 복수의 패브릭 층(104)을 가압함으로써 달성될 수 있다.The
일부 구체예에서, 블록(206 및 208)의 단계는 복수의 패브릭 층(104)을 연마 조성물(106)로 코팅하여 고정 연마 버프(100)를 형성하기 위해 연마 조성물(106) 내에서 버프를 회전시키면서, 복수의 패브릭 층(104)이 서로 벌어지거나 분리되도록 복수의 패브릭 층(104)에 압력을 연속으로 가하기 위해, 동시에 수행될 수 있다. 일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)을 연마 조성물(106)로 코팅하기 위한 연마 조성물(106) 내의 버프 회전은 복수의 패브릭 층(104)의 중앙 허브(102)에 인접한 내측 가장자리에서의 연마 조성물(106)의 농도, 함량 및/또는 중량과 비교하여, 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 연마 조성물(106)의 더 높은 농도, 더 높은 함량 및/또는 더 높은 부가 또는 총 중량을 야기할 수 있다. 일부 구체예에서, 방법(200)은 고정 연마 버프(100)의 복수의 패브릭 층(104)으로의 연마 조성물(106)의 더 우수한 침투를 야기할 수 있다. In some embodiments, the steps of
방법(200)은 고정 연마 버프(100)를 연마 조성물(106)로부터 제거하고, 과잉 연마 조성물(106)을 스핀 오프하기 위해 고정 연마 버프(100)를 회전시킴으로써 블록(210)에서 계속될 수 있다. 일부 구체예에서, 고정 연마 버프(100)는 연마 조성물(106)로부터 완전히 제거되고 과잉 연마 조성물의 제거를 용이하게 하기 위해 제어된 속도로 회전될 수 있다. 적어도 하나의 비제한적인 구체예에서, 회전 속도는 본 명세서의 구체예에서 설명된 바와 같이 고정 연마 버프(100)의 다른 특징을 용이하게 하도록 제어될 수 있다. The
방법(200)은 고정 연마 버프(100) 상의 연마 조성물(106)을 경화함으로써 블록(212)에서 계속될 수 있다. 일부 구체예에서, 연마 조성물(106) 경화는 연마 조성물(106)이 경화 및/또는 고화되기에 충분한 시간을 허용하는 것을 포함할 수 있다. 다른 구체예에서, 연마 조성물(106) 경화는 고정 연마 버프(100)에 열을 가하는 것(예를 들어 베이킹 등)과 같이 건조를 가속하거나 경화를 유도하는 공정을 포함할 수 있다. 특정 이론에 얽매이지 않고, 예를 들어 복수의 패브릭 층(104)에 압력을 가하는 공정을 포함하지만 이에 제한되지 않는 하나 이상의 공정 단계는 주어진 층에서 연마 입자의 특정 분포뿐만 아니라 층간 연마 입자 분포의 차이를 용이하게 할 수 있다.The
도 3A 내지 3D는 고정 연마 버프(100) 형성에서 일 구체예의 다양한 단계를 보여준다. 도 3A는 본 발명의 일 구체예에 따른, 중앙 허브(102) 및 중앙 허브(102)에 부착된 복수의 패브릭 층(104)을 포함하는 코팅되지 않은 버프를 보여준다. 코팅되지 않은 버프는 중앙 허브(102)를 통해 회전 장치에 장착되고 연마 조성물(106)이 들어 있는 고정 용기 위에 현수된다. 도 3B는 복수의 패브릭 층(104)을 연마 조성물(106)로 코팅하기 위해 연마 조성물(106)에 침지되고 회전되는 버프를 보여준다. 복수의 패브릭 층(104)은 또한 복수의 패브릭 층(104)이 서로 벌어지거나 분리되도록 연마 조성물(106)이 들어 있는 고정 용기의 측벽에 대해 가압된다. 그러나, 다른 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)이 연마 조성물(106)을 통해 회전하면서 서로 벌어지거나 분리되도록, 가압 공기가 연마 조성물(106) 밖에서 회전하는 복수의 패브릭 층(104)의 일부에 반경 방향으로 적용될 수 있다. 도 3C는 연마 조성물(106)로부터 제거된 고정 연마 버프(100)를 보여준다. 도 3D는 과잉 연마 조성물(106)을 제거하기 위해 고정 연마 버프(100)를 스피닝한 후 연마 조성물(106)로 코팅된 고정 연마 버프(100)를 보여준다. 경화되면, 고정 연마 버프는 가공물을 연마하거나 표면 마감하기 위한 버핑 공정에서 사용할 준비가 될 것이다.3A-3D show the various stages of one embodiment in forming a fixed
도 4A는 복수의 패브릭 층(104)이 연마 조성물(106)을 통해 회전 장치(154)에 의해 회전되는 동안 서로 벌어지거나 분리되도록, 복수의 패브릭 층(104)의 일부에 압축 공기를 적용하거나 지향시키는 가압 공기 전달 장치(152)를 갖는 기기(150)를 보여준다. 코팅되지 않은 버프는 중앙 허브(102)를 통해 회전 장치(154)에 장착되고 연마 조성물(106) 내에 적어도 부분적으로 현수될 수 있다. 가압 공기 전달 장치(152)는 공기 압축기 또는 다른 압축 공기 전달 장치에 연결될 수 있다. 가압 공기 전달 장치(152)는 복수의 패브릭 층(104)이 연마 조성물(106)을 통해 회전하면서 서로 벌어지거나 분리되도록, 가압 공기를 연마 조성물(106) 밖에서 회전하는 복수의 패브릭 층(104)의 일부에 반경 방향으로 적용하거나 지향시킬 수 있고, 이는 복수의 패브릭 층(104)의 중앙 허브(102)에 인접한 내측 가장자리에서의 연마 조성물(106)의 농도, 함량 및/또는 중량과 비교하여 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 연마 조성물(106)의 더 높은 농도, 더 높은 함량 및/또는 더 높은 중량을 야기할 수 있다. 도 4B는 본 발명의 일 구체예에 따른 가압 공기 전달 장치(152)의 이미지를 보여준다. 나타난 구체예에서, 가압 공기 전달 장치(152)는 복수의 공기 전달 구멍을 포함한다. 그러나, 가압 공기 전달 장치(152)의 공기 전달 구멍의 수는 고정 연마 버프(100)의 너비, 직경, 패브릭 층(104)의 수 또는 다른 특징에 기초하여 선택될 수 있음이 이해될 것이다. FIG. 4A applies or directs compressed air to portions of the plurality of
연마 그레인 또는 입자 분포Abrasive grain or particle distribution
일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)을 연마 조성물(106)로 코팅하기 위한 연마 조성물(106) 내의 버프 회전은 복수의 패브릭 층(104)의 중앙 허브(102)에 인접한 내측 가장자리에서의 연마 조성물(106)의 농도, 함량 및/또는 중량과 비교하여, 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 연마 조성물(106)의 더 높은 농도, 더 높은 함량 및/또는 더 높은 중량을 야기할 수 있다. 이는 가공물의 표면 마감의 대부분이 일어나는 고정 연마 버프(100)의 복수의 패브릭 층(104)의 외주에 더 많은 연마 입자가 배치되기 때문에 유리한 표면 마감 특징을 제공할 수 있다. In some embodiments, the buff rotation within the polishing
일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 복수의 패브릭 층(104)의 중앙 허브(102)에 인접한 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량보다 높을 수 있다. 일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량보다 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 50% 이상 더 높을 수 있다. 일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량보다 300% 이하, 200% 이하, 100% 이하, 90% 이하, 80% 이하, 70% 이하, 60% 이하 또는 50% 이하 더 높을 수 있다. 또한, 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 임의의 이러한 최소값 및 최대값 사이, 예컨대 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량보다 10% 이상 내지 300% 이하 더 높거나, 심지어 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량보다 50% 이상 내지 100% 이하 더 높을 수 있음이 이해될 것이다. 예를 들어, 일 구체예에서, 외측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 0.639 그램일 수 있고, 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 0.307 그램일 수 있다. 백분율은 다음 공식을 사용하여 계산된다: (0.639-0.307)/0.639 = 0.52%. 따라서, 이 구체예에서, 외측 가장자리에서의 함량은 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 함량보다 52% 더 높다.In some embodiments, the content of abrasive particles at the outer edges of the plurality of
일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량은 복수의 패브릭 층(104)의 중앙 허브(102)에 인접한 내측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량보다 더 높을 수 있다. 일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량은 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량보다 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 50% 이상 더 높을 수 있다. 일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량은 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량보다 300% 이하, 200% 이하, 100% 이하, 90% 이하, 80% 이하, 70% 이하, 60% 이하 또는 50% 이하 더 높을 수 있다. 또한, 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량은 임의의 이러한 최소값 및 최대값 사이, 예컨대 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량보다 10% 이상 내지 300% 이하 더 높거나, 심지어 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량보다 50% 이상 내지 100% 이하 더 높을 수 있음이 이해될 것이다. 예를 들어, 일 구체예에서, 외측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량은 1.295 그램일 수 있고, 내측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량은 0.623 그램일 수 있다. 계산 (1.295-0.623)/1.295 = 0.52%. 따라서, 이 구체예에서, 외측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량은 내측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 부가 중량보다 52% 더 높다.In some embodiments, the added weight of the polishing
일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 고정 연마 버프(100)의 총 중량은 복수의 패브릭 층(104)의 중앙 허브(102)에 인접한 내측 가장자리에서의 총 중량보다 높을 수 있다. 일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 고정 연마 버프(100)의 총 중량은 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 총 중량보다 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 50% 이상 더 높을 수 있다. 일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 고정 연마 버프(100)의 총 중량은 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 총 중량보다 300% 이하, 200% 이하, 100% 이하, 90% 이하, 80% 이하, 70% 이하, 60% 이하 또는 50% 이하 더 높을 수 있다. 또한, 복수의 패브릭 층(104)의 외측 가장자리에서의 고정 연마 버프의 총 중량(100)은 임의의 이러한 최소값 및 최대값 사이, 예컨대 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 고정 연마 버프의 총 중량(100)보다 10% 이상 내지 300% 이하 더 높거나, 심지어 복수의 패브릭 층(104)의 내측 가장자리에서의 고정 연마 버프의 총 중량(100)보다 50% 이상 내지 100% 이하 더 높을 수 있음이 이해될 것이다. 예를 들어, 일 구체예에서, 외측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 총 중량은 1.901 그램일 수 있고, 내측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 총 중량은 1.229 그램일 수 있다. 계산 (1.901-1.229)/1.901 = 0.32%. 따라서, 이 구체예에서, 외측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 총 중량은 내측 가장자리에서의 연마 조성물(104)의 총 중량보다 32% 더 높다.In some embodiments, the total weight of the set
패브릭 층fabric layer
복수의 패브릭 층(104)은 일반적으로, 직조 패브릭, 비직조 패브릭 또는 이들의 조합을 포함하는 임의의 수의 다양한 재료로 제조될 수 있다. 패브릭 층(104)은 복수의 섬유 또는 얀, 예컨대 천연 섬유 또는 얀, 합성 섬유 또는 얀 또는 이들의 조합으로부터 형성될 수 있다. 천연 섬유 또는 얀은 하나 이상의 유형의 천연 섬유를 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 천연 섬유 또는 얀은 셀룰로스 섬유 또는 얀, 면 섬유 또는 얀, 아마 섬유 또는 얀, 대마 섬유 또는 얀, 황마 섬유 또는 얀, 모시 섬유 또는 얀, 사이잘 섬유 또는 얀, 리넨 섬유 또는 얀, 실크 섬유 또는 얀 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 특정 구체예에서, 천연 섬유 또는 얀은 본질적으로 면 섬유 또는 얀으로 이루어질 수 있다. 합성 섬유 또는 얀은 하나 이상의 유형의 합성 섬유 또는 얀을 포함할 수 있다. 일 구체예에서, 합성 섬유 또는 얀은 유리 섬유 또는 얀, 중합체 섬유 또는 얀 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 특정 구체예에서, 중합체 섬유 또는 얀은 아크릴 섬유 또는 얀, 나일론 섬유 또는 얀, 올레핀 섬유 또는 얀, 폴리에스테르 섬유 또는 얀, 레이온 섬유 또는 얀, 모달 섬유 또는 얀 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 특정 구체예에서, 합성 섬유는 본질적으로 폴리에스테르 섬유로 이루어진다. 또 다른 특정 구체예에서, 합성 섬유는 본질적으로 나일론 섬유로 이루어진다.The plurality of
일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)은 직조 패브릭을 포함할 수 있다. 직조 패브릭은 경사 및 위사와 같은 복수의 얀을 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 연마 조성물은 경사 및 위사 얀 사이와 같이 얀 내에 또는 얀 사이에 적어도 부분적으로 배치될 수 있다. 또한, 일부 구체예에서, 연마 조성물은 패브릭의 제1 면으로부터 패브릭의 제2 면까지 얀 사이의 패브릭을 통해 배치될 수 있다.In some embodiments, plurality of
일부 구체예에서, 복수의 패브릭 층(104)은 비직조 패브릭을 포함한다. 본 명세서에서 사용된 용어 "부직포"는 편직 패브릭에서와 같이 식별 가능한 방식이 아니라 얽힌(interlaid) 개별 섬유의 구조를 갖는 웹을 지칭한다. 특정 구체예에서, 비직조 패브릭은 스펀본드 섬유의 스펀본드(spunbond) 패브릭("스펀레이드(spunlaid)" 패브릭으로도 알려짐), 멜트블로운(meltblown) 섬유의 멜트블로운 패브릭 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 연마 조성물은 비직조 웹의 섬유 내에 또는 사이에 적어도 부분적으로 배치될 수 있다 또한, 일부 구체예에서, 연마 조성물은 패브릭의 제1 면으로부터 패브릭의 제2 면까지 웹의 섬유 사이의 비직조 패브릭을 통해 배치될 수 있다.In some embodiments, plurality of
패브릭 층의 수number of fabric layers
고정 연마 버프(100)는 일반적으로 복수의 패브릭 층(104)에 의해 형성된다. 일부 구체예에서, 고정 연마 버프(100)는 2 개 이상의 층, 4 개 이상의 층, 6 개 이상의 층, 8 개 이상의 층, 10 개 이상의 층, 12 개 이상의 층, 15 개 이상의 층, 20 개 이상의 층 또는 25 개 이상의 층을 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 고정 연마 버프(100)는 100 개 이하의 층, 50 개 이하의 층, 25 개 이하의 층, 20 개 이하의 층, 15 개 이하의 층 또는 12 개 이하의 층을 포함할 수 있다. 또한, 고정 연마 버프(100)는 임의의 이러한 최소값 및 최대값 사이, 예컨대 2 개 이상의 층 내지 30 개 이하의 층의 복수의 패브릭 층(104)을 포함할 수 있음이 이해될 것이다.The fixed
연마 조성물polishing composition
연마 조성물(106)은 일반적으로 중합체 결합제 및 중합체 결합제에 분산된 복수의 연마 입자를 포함할 수 있다. 연마 조성물(106)은 일반적으로, 연마 조성물(106)(연마 입자 포함)이 고정 연마 버프(100)의 복수의 패브릭 층(104) 각각의 섬유 내로 및 섬유 사이에 침투하도록, 복수의 패브릭 층(104) 전체에 배치되거나 내부에 매립될 수 있다. 연마 조성물(106)은 고정 연마 버프(100)에 적용될 수 있고 유익한 부가 중량을 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 연마 조성물(106)의 부가 중량은 15 그램 이상, 16 그램 이상, 17 그램 이상, 18 그램 이상, 19 그램 이상, 20 그램 이상, 21 그램 이상, 22 그램 이상, 23 그램 이상, 24 그램 이상 또는 25 그램 이상일 수 있다.The
중합체 결합제polymer binder
중합체 결합제는 일반적으로 단일 중합체 또는 중합체의 블렌드로부터 형성될 수 있다. 일부 구체예에서, 중합체 결합제는 에폭시 조성물, 아크릴 조성물, 페놀 조성물, 폴리우레탄 조성물, 페놀 조성물, 폴리실록산 조성물, 아크릴 라텍스 조성물, 열경화성 고무 조성물, 열경화성 엘라스토머 조성물, 스티렌 부타디엔 고무 조성물, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 조성물, 폴리부타디엔 조성물 또는 이들의 조합으로 형성될 수 있다. 일부 구체예에서, 중합체 결합제는 자가-가교 카르복실화 스티렌-부타디엔 조성물을 포함할 수 있다. 다른 구체예에서, 중합체 결합제는 카르복실화 아크릴 조성물을 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 중합체 결합제는 하나 이상의 활성 충전제 입자, 첨가제, 하나 이상의 반응 성분 또는 중합체 성분, 증점제, 용매, 가소제, 사슬 이동제, 촉매, 소포제, 안정화제, 분산제, 경화제, 유동성 개질제, 반응 매개체 및 분산액의 유동성에 영향을 미치는 제제, 또는 이들의 임의의 조합을 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 중합체 결합제는 경화 후에 유연성일 수 있어, 복수의 패브릭 층(104)이 부드러운 "드레이프(drape)"로도 알려진 "부드러운" 감촉을 가지므로, 복수의 패브릭 층(104)이 만졌을 때 부드러움을 느끼고, 유연하고, 가공물 주위에서 정합성이다.Polymeric binders can generally be formed from a single polymer or a blend of polymers. In some embodiments, the polymer binder is an epoxy composition, an acrylic composition, a phenolic composition, a polyurethane composition, a phenolic composition, a polysiloxane composition, an acrylic latex composition, a thermoset rubber composition, a thermoset elastomer composition, a styrene butadiene rubber composition, an acrylonitrile-butadiene rubber composition, a polybutadiene composition, or a combination thereof. In some embodiments, the polymeric binder may include a self-crosslinking carboxylated styrene-butadiene composition. In another embodiment, the polymeric binder may include a carboxylated acrylic composition. In some embodiments, the polymeric binder is one or more active filler particles, additives, one or more reactive components or polymeric components, thickeners, solvents, plasticizers, chain transfer agents, catalysts, antifoams, stabilizers, dispersants, curing agents, rheology modifiers, reaction mediators, and agents that affect the fluidity of the dispersion, or any combination thereof. In some embodiments, the polymer binder can be pliable after curing such that the plurality of
중합체 결합제는 유리한 연마 특성에 기여할 수 있는 바람직한 유리 전이 온도(Tg)를 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 중합체 결합제는 -30°C 이상, -25°C 이상, -20°C 이상 또는 -15°C 이상의 유리 전이 온도를 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 중합체 결합제는 60°C 이하, 50°C 이하, 40°C 이하, 30°C 이하, 20°C 이하, 10°C 이하, 0°C 이하 또는 -1°C 이하의 유리 전이 온도를 포함할 수 있다. 또한, 중합체 결합제는 임의의 이러한 최소값 및 최대값 사이, 예컨대 -30°C 이상 내지 30°C 이하의 유리 전이 온도를 포함할 수 있음이 이해될 것이다.The polymeric binder may include a desirable glass transition temperature (Tg), which may contribute to advantageous abrasive properties. In some embodiments, the polymeric binder may comprise a glass transition temperature of -30°C or higher, -25°C or higher, -20°C or higher, or -15°C or higher. In some embodiments, the polymeric binder is glass at 60°C or less, 50°C or less, 40°C or less, 30°C or less, 20°C or less, 10°C or less, 0°C or less, or -1°C or less. Transition temperature may be included. It will also be appreciated that the polymeric binder may include a glass transition temperature between any of these minimum and maximum values, such as greater than -30°C and less than or equal to 30°C.
연마 조성물 중의 중합체 결합제의 양은 변할 수 있다. 일부 구체예에서, 연마 조성물은 10 wt.% 이상 중합체 결합제, 15 wt.% 이상, 20 wt.% 이상, 25 wt.% 이상, 35 wt.% 이상 또는 50 wt.% 이상 중합체 결합제를 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 연마 조성물은 80 wt.% 이하 중합체 결합제, 75 wt.% 이하, 70 wt.% 이하, 65 wt.% 이하, 60 wt.% 이하, 55 wt.% 이하, 50 wt.% 이하, 40 wt.% 이하, 35 wt.% 이하 또는 30 wt.% 이하 중합체 결합제를 포함할 수 있다. 또한, 연마 조성물 중의 중합체 결합제의 양은 임의의 이러한 최소값 및 최대값 사이, 예컨대 10 wt.% 이상 내지 80 wt.% 이하 중합체 결합제일 수 있음이 이해될 것이다.The amount of polymeric binder in the polishing composition can vary. In some embodiments, the polishing composition may include at least 10 wt.% polymer binder, at least 15 wt.%, at least 20 wt.%, at least 25 wt.%, at least 35 wt.%, or at least 50 wt.% polymer binder. can In some embodiments, the polishing composition contains up to 80 wt.% polymeric binder, up to 75 wt.%, up to 70 wt.%, up to 65 wt.%, up to 60 wt.%, up to 55 wt.%, up to 50 wt.% or less, 40 wt.% or less, 35 wt.% or less, or 30 wt.% or less of the polymeric binder. It will also be appreciated that the amount of polymeric binder in the polishing composition can be between any of these minimum and maximum values, such as greater than 10 wt.% and less than or equal to 80 wt.% polymeric binder.
연마 입자abrasive grain
연마 입자는 본질적으로 단일상인 무기 재료, 예컨대 알루미나, 실리콘 카바이드, 실리카, 세리아 및/또는 더 경질의 고성능 초연마 입자, 예컨대 입방정계 보론 니트라이드 및 다이아몬드를 포함할 수 있다. 또한, 연마 입자는 거시구조 및 특정 3차원 구조를 포함하는 엔지니어링된 연마재를 포함할 수 있다. 응집체는 연마 응집체 및/또는 비연마 응집체를 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 응집체는 복합 미립자 재료를 포함할 수 있고, 이는 휘발 또는 증발을 통한 액체 담체의 제거를 포함하는 슬러리 처리 경로를 통해 형성되어, 소성되지 않은 ("그린") 응집체를 남길 수 있고, 이는 선택적으로 고온 처리(즉, 소성, 소결)를 거쳐 사용 가능한 소성된 응집체를 형성한다.The abrasive particles may include inorganic materials that are essentially single-phase, such as alumina, silicon carbide, silica, ceria, and/or harder, high-performance superabrasive particles, such as cubic boron nitride and diamond. Abrasive particles may also include engineered abrasives that include macrostructures and specific three-dimensional structures. The agglomerates may include abrasive agglomerates and/or non-abrasive agglomerates. In some embodiments, agglomerates may include multiparticulate material, which may be formed via a slurry processing pathway that includes removal of the liquid carrier through volatilization or evaporation, leaving uncalcined ("green") agglomerates; , which is optionally subjected to high temperature treatment (ie calcining, sintering) to form usable calcined agglomerates.
연마 입자는 실리카, 알루미나(용융 또는 소결), 지르코니아, 르코니아/알루미나 산화물, 지르코늄 실리케이트, 실리콘 카바이드, 가넷, 다이아몬드, 입방정 보론 니트라이드, 실리콘 니트라이드, 세리아, 티타늄 디옥사이드, 티타늄 디보라이드, 보론 카바이드, 틴 옥사이드, 텅스텐 카바이드, 티타늄 카바이드, 아이언 옥사이드, 크로미아, 플린트, 에머리 또는 이들의 조합을 포함하는 연마 입자 중 임의의 하나 또는 연마 입자의 조합으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 연마 입자 및/또는 응집체는 실리카, 알루미나, 지르코니아, 실리콘 카바이드, 실리콘 니트라이드, 보론 니트라이드, 가넷, 다이아몬드, 공융합 알루미나 지르코니아, 세리아, 티타늄 디보라이드, 보론 카바이드, 플린트, 에머리, 알루미나 니트라이드, 및 이들의 블렌드로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 특정 구체예에서, 연마 입자는 본질적으로 실리콘 카바이드로 이루어진다.Abrasive particles are silica, alumina (fused or sintered), zirconia, riconia/alumina oxide, zirconium silicate, silicon carbide, garnet, diamond, cubic boron nitride, silicon nitride, ceria, titanium dioxide, titanium diboride, boron carbide , tin oxide, tungsten carbide, titanium carbide, iron oxide, chromia, flint, emery, or any one or combination of abrasive particles including a combination thereof. For example, abrasive particles and/or agglomerates may be silica, alumina, zirconia, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, garnet, diamond, eutectic alumina zirconia, ceria, titanium diboride, boron carbide, flint, emery, alumina nitride, and blends thereof. In certain embodiments, the abrasive particles consist essentially of silicon carbide.
연마 입자의 평균 입자 크기는 변할 수 있다. 연마 입자의 입자 크기는 일반적으로 연마 입자의 가장 긴 치수로 지정된다. 일반적으로, 입자 크기의 범위 분포가 있다. 일부 구체예에서, 연마 입자는 5 마이크로미터 이상, 10 마이크로미터 이상, 15 마이크로미터 이상, 20 마이크로미터 이상 또는 25 마이크로미터 이상의 평균 입자 크기를 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 연마 입자는 1500 마이크로미터 이하, 1000 마이크로미터 이하, 750 마이크로미터 이하, 500 마이크로미터 이하, 250 마이크로미터 이하, 100 마이크로미터 이하 또는 50 마이크로미터 이하의 평균 입자 크기를 포함할 수 있다. 또한, 연마 입자는 임의의 이러한 최소값 및 최대값 사이, 예컨대 5 마이크로미터 내지 1500 마이크로미터 이하 또는 심지어 10 마이크로미터 이상 내지 50 마이크로미터 이하의 평균 입자 크기를 포함할 수 있음이 이해될 것이다.The average particle size of the abrasive particles can vary. The grain size of an abrasive grain is generally specified as the longest dimension of the abrasive grain. Generally, there is a range distribution of particle sizes. In some embodiments, the abrasive particles can comprise an average particle size of 5 microns or greater, 10 microns or greater, 15 microns or greater, 20 microns or greater, or 25 microns or greater. In some embodiments, the abrasive particles may comprise an average particle size of 1500 microns or less, 1000 microns or less, 750 microns or less, 500 microns or less, 250 microns or less, 100 microns or less, or 50 microns or less. have. It will also be appreciated that the abrasive particles may comprise an average particle size between any of these minimum and maximum values, such as from 5 microns to 1500 microns or even from 10 microns to 50 microns or less.
연마 조성물 중의 연마 입자의 양은 또한 변할 수 있다. 일부 구체예에서, 연마 조성물은 10 wt.% 이상 연마 입자, 15 wt.% 이상, 20 wt.% 이상, 25 wt.% 이상, 30 wt.% 이상, 35 wt.% 이상, 40 wt.% 이상, 45 wt.% 이상, 50 wt.% 이상, 55 wt.% 이상 또는 60 wt.% 이상 연마 입자를 포함할 수 있다. 일부 구체예에서, 연마 조성물은 75 wt.% 이하 연마 입자, 70 wt.% 이하, 65 wt.% 이하, 60 wt.% 이하, 55 wt.% 이하 또는 50 wt.% 이하 연마 입자를 포함할 수 있다. 연마 입자는 위에 언급된 임의의 최소값 또는 최대값의 범위 내에 있을 수 있다. 또한, 연마 조성물 중의 연마 입자의 양은 임의의 이러한 최소값 및 최대값 사이, 예컨대 10 wt.% 이상 내지 75 wt.% 이하 연마 입자일 수 있음이 이해될 것이다.The amount of abrasive particles in the polishing composition can also vary. In some embodiments, the abrasive composition comprises at least 10 wt.% abrasive particles, at least 15 wt.%, at least 20 wt.%, at least 25 wt.%, at least 30 wt.%, at least 35 wt.%, at least 40 wt.% or more, 45 wt.% or more, 50 wt.% or more, 55 wt.% or more, or 60 wt.% or more of abrasive particles. In some embodiments, the abrasive composition may comprise no more than 75 wt.% abrasive particles, no more than 70 wt.%, no more than 65 wt.%, no more than 60 wt.%, no more than 55 wt.%, or no more than 50 wt.% abrasive particles. can The abrasive grain may fall within any of the minimum or maximum ranges noted above. It will also be appreciated that the amount of abrasive particles in the abrasive composition can be between any of these minimum and maximum values, such as greater than 10 wt.% and less than or equal to 75 wt.% abrasive particles.
실시예Example
샘플 고정 연마 버프는 본원에 개시된 방법에 따라 제조되었다. 두 가지 다른 연마 조성물이 사용되었다. 제1 미경화 연마 조성물은 아래 표 1에 나타난다. 일부 구성요소에 대한 범위가 제공되지만 조성물의 구성요소는 총 100%이다.Sample fixation polishing buffs were prepared according to the methods disclosed herein. Two different polishing compositions were used. A first uncured polishing composition is shown in Table 1 below. Although ranges are provided for some components, the components of the composition total 100%.
제2 미경화 연마 조성물이 아래 표 2에 나타난다. 제2 연마 조성물은 약 50% 더 적은 연마 입자을 포함함이 주목될 것이다. 일부 구성요소에 대한 범위가 제공되지만 조성물의 구성요소는 총 100%이다.A second uncured abrasive composition is shown in Table 2 below. It will be noted that the second abrasive composition contains about 50% less abrasive particles. Although ranges are provided for some components, the components of the composition total 100%.
샘플 고정 연마 버프 S1은 복수의 패브릭 층이 벌어지도록 복수의 패브릭 층에 압력을 가하는 단계 및 버프를 연마 조성물 내에서 회전시켜 버프를 제1 연마 조성물로 코팅하는 단계를 포함하는 본원에 개시된 방법에 따라 제조되었다. 대조 샘플 C1은 복수의 패브릭 층에 압력을 가하지 않고 통상적인 방법에 따라 제조되었다. 샘플의 결과적인 중량이 아래 표 3에 나타난다.A sample fixed abrasive buff S1 is prepared according to the method disclosed herein comprising applying pressure to a plurality of fabric layers to spread the plurality of fabric layers apart, and coating the buff with a first abrasive composition by rotating the buff in the abrasive composition. was manufactured Control sample C1 was prepared according to the conventional method without applying pressure to the plurality of fabric layers. The resulting weight of the sample is shown in Table 3 below.
(그램)(gram)
버프 중량buff weight
(그램)(gram)
(그램)(gram)
샘플 S1은 대조 샘플 C1보다 더 높은 중량의 연마 조성물을 가졌다. 이는 적어도 부분적으로, 복수의 패브릭 층이 벌어지게 하는, 복수의 패브릭 층에 압력을 가한 것에 기인할 수 있다.Sample S1 had a higher weight abrasive composition than control sample C1. This may be due, at least in part, to the application of pressure to the plurality of fabric layers causing the plurality of fabric layers to spread apart.
추가 샘플 버프가 생성되었다. 모든 샘플은 동일한 면직물 버프로 시작했다. 대조 샘플("C1")은 연마 조성물로 코팅되지 않은 채로 남아 있었고, 대신 버핑 동안 6000-7000 SFPM에서 버프에 외부적으로 적용된 연마 버핑 화합물을 사용했다. 사용된 대조 샘플 C1은 버핑 후 도 5A에 나타난다. 샘플 S1은 동일한 면직물 버프를 사용하여 제조되었고 표 1의 제1 연마 조성물로 본원에 개시된 방법에 따라 코팅되었다. 사용된 샘플 S1은 버핑 후 도 5B에 나타난다. Additional sample buffs were created. All samples started with the same cotton fabric buff. The control sample (“C1”) remained uncoated with the polishing composition and instead used an abrasive buffing compound externally applied to the buff at 6000-7000 SFPM during buffing. The control sample C1 used is shown in Figure 5A after buffing. Sample S1 was prepared using the same cotton buff and coated according to the methods disclosed herein with the first abrasive composition of Table 1. Sample S1 used is shown in Figure 5B after buffing.
샘플(C1, S1)은 6 인치 너비, 24 인치 길이 및 0.125 인치 두께인 황동 패널에서 테스트되었다. C1에 의해 버핑된 결과적인 황동 패널이 도 6A에 나타나나. S1에 의해 버핑된 결과적인 황동 패널이 도 6B에 나타나나. 주목할 만하게도, S1에 의해 버핑된 표면 마감은 더 우수한 표면 마감을 갖는 것으로 보인다.Samples (C1, S1) were tested on brass panels that were 6 inches wide, 24 inches long and 0.125 inches thick. The resulting brass panel buffed by C1 is shown in FIG. 6A. The resulting brass panel buffed by S1 is shown in Figure 6B. Notably, the surface finish buffed by S1 appears to have a better surface finish.
도 7은 C1 및 S1의 표면 마감(Ra)의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다. 가장 주목할 만하게도, S1은 훨씬 더 우수한 표면 마감(Ra)을 달성했다. 도 8은 C1 및 S1의 표면 마감(Rz)의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다. 가장 주목할 만하게도, S1은 훨씬 더 우수한 표면 마감(Rz)을 달성했다. 도 9는 C1 및 S1의 누적 재료 제거(그램으로 측정됨)의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다. 가장 주목할 만하게도, S1은 훨씬 더 높은 누적 재료 제거를 가졌다. 놀랍게도 그리고 유익하게도, S1은 표면 마감(Ra 및 Rz 모두) 및 누적 재료 제거율 모두에서 C1을 능가했다. 7 shows a chart providing comparative data of surface finish (Ra) of C1 and S1. Most notably, S1 achieved a much better surface finish (Ra). 8 shows a chart providing comparative data of surface finish (Rz) of C1 and S1. Most notably, S1 achieved a much better surface finish (Rz). 9 shows a chart providing comparative data of C1 and S1 cumulative material removal (measured in grams). Most notably, S1 had a much higher cumulative material removal. Surprisingly and beneficially, S1 outperformed C1 in both surface finish (both Ra and Rz) and cumulative material removal.
여덟 개의 추가 샘플 고정 연마 면 버프를 생성하고 본원에 개시된 방법에 따라 연마 조성물로 코팅했다. 샘플 고정 연마 버프는 연마 조성물 및 연마 그레인 또는 입자의 중량에 대해 테스트되지 않고 분석되었다. 결과는 아래 표 4에 나타난다.Eight additional sample fixed abrasive surface buffs were produced and coated with the abrasive composition according to the methods disclosed herein. Sample fixed abrasive buffs were analyzed without testing for abrasive composition and weight of abrasive grains or particles. The results are shown in Table 4 below.
(그램)(gram)
(lb./ream)(lb./ream)
(그램)(gram)
(그램)(gram)
테스트는 추가 고정 연마 버프에 대해 수행되었다. 대조 샘플 C2는 면직물 버프를 사용하고 연마 조성물로 코팅하지 않은 채로 남아 있었다. 대조 샘플 C3은 직조 면 버프를 사용하고 버프의 형성 전에 연마 조성물을 층에 도포함으로써 통상적인 방법에 따라 제조되었다. 샘플 고정 연마 버프 S2는 비직조 버프를 사용했고 연마 화합물로 코팅되지 않은 채로 남아 있었다. 샘플 고정 연마 버프 S3은 비직조 버프를 사용했고, 복수의 패브릭 층이 벌어지도록 복수의 패브릭 층에 압력을 가하는 단계 및 버프를 연마 조성물 내에서 회전시켜 버프를 제1 연마 조성물로 코팅하는 단계를 포함하는 본원에 개시된 방법에 따라 제조되었다.Testing was conducted on additional fixed abrasive buffs. Control sample C2 used a cotton cloth buff and remained uncoated with the polishing composition. Control sample C3 was prepared according to a conventional method using a woven cotton buff and applying an abrasive composition to the layer prior to formation of the buff. Sample Fixed Abrasive Buff S2 used a non-woven buff and was left uncoated with the abrasive compound. The sample fixed polishing buff S3 used a non-woven buff, including applying pressure to a plurality of fabric layers to spread the plurality of fabric layers apart, and coating the buff with a first polishing composition by rotating the buff in the polishing composition. was prepared according to the method disclosed herein.
샘플 C2, C3, S2 및 S3은 실질적으로 유사한 황동 가공물에서 테스트되었다. C2 및 S2는 버핑 중에 버프에 적용된 바 컴파운드(bar compound)를 사용하여 테스트되었다. C3 및 S3은 제조된 그대로 테스트되었다. Samples C2, C3, S2 and S3 were tested on substantially similar brass workpieces. C2 and S2 were tested using a bar compound applied to the buff during buffing. C3 and S3 were tested as manufactured.
도 10은 C2, C3, S2 및 S3의 표면 마감(Ra)의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다. 가장 주목할 만하게도, S3은 C2, C3 및 S2에 비해 훨씬 더 우수한 표면 마감(Ra)을 달성했다. 추가적으로, S3은 또한 C2, C3 및 S2에 비해 훨씬 짧은 시간에 더 우수한 표면 마감을 달성했다. 10 shows a chart providing comparative data of surface finish (Ra) of C2, C3, S2 and S3. Most notably, S3 achieved significantly better surface finish (Ra) compared to C2, C3 and S2. Additionally, S3 also achieved a better surface finish in a much shorter time compared to C2, C3 and S2.
도 11은 C2, C3, S2 및 S3의 표면 마감(Rz)의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다. 가장 주목할 만하게도, S3은 C2, C3 및 S2에 비해 훨씬 더 우수한 표면 마감(Rz)을 달성했다. 추가적으로, S3은 또한 C2, C3 및 S2에 비해 훨씬 짧은 시간에 더 우수한 표면 마감을 달성했다.11 shows a chart providing comparative data of surface finish (Rz) of C2, C3, S2 and S3. Most notably, S3 achieved a significantly better surface finish (Rz) compared to C2, C3 and S2. Additionally, S3 also achieved a better surface finish in a much shorter time compared to C2, C3 and S2.
도 12는 C2, C3, S2 및 S3의 누적 재료 제거(그램으로 측정됨)의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다. 가장 주목할 만하게도, S3은 C2, C3 및 S2에 비해 훨씬 더 높은 누적 재료 제거를 가졌다. 12 shows a chart providing comparative data of cumulative material removal (measured in grams) of C2, C3, S2 and S3. Most notably, S3 had a much higher cumulative material removal compared to C2, C3 and S2.
도 13은 C2, C3, S2 및 S3의 요구 동력(마력(Hp)으로 측정됨)의 비교 데이터를 제공하는 차트를 보여준다. 가장 주목할 만하게도, S3은 C2, C3 및 S2에 비해 더 높은 누적 재료 제거를 달성하면서 원하는 표면 마감(Ra 및 Rz 모두)을 달성하는 데 훨씬 더 적은 동력이 필요했다. 따라서, S3은 이러한 결과를 달성하기 위해 훨씬 더 적은 동력을 필요로 하면서 표면 마감(Ra 및 Rz 모두) 및 누적 재료 제거율 모두에서 C2, C3 및 S2를 능가했다.13 shows a chart providing comparative data on the power requirements (measured in horsepower (Hp)) of C2, C3, S2 and S3. Most notably, S3 required significantly less power to achieve the desired surface finish (both Ra and Rz) while achieving higher cumulative material removal compared to C2, C3 and S2. Thus, S3 outperformed C2, C3 and S2 in both surface finish (both Ra and Rz) and cumulative material removal rate while requiring significantly less power to achieve these results.
샘플 S3은 샘플 중의 코팅 및 연마 그레인 또는 입자의 양의 비교를 위해 제출되었다. 0.5 인치 너비(원주 방향으로 측정됨) 및 1.25 인치 길이(반경 방향으로 측정됨)의 샘플 스트립을 도 14에 나타난 바와 같은 해체된 샘플 S3으로부터 절단했다. 샘플 스트립의 샘플 중량 평균을 구하고 기록했다. 이러한 샘플 스트립은 샘플 스트립이 섭씨 450 도에서 10 시간 동안 소위 "연소" 과정을 거쳐 분석되었다.Sample S3 was submitted for comparison of the amount of coating and abrasive grains or particles in the samples. A sample strip 0.5 inch wide (measured circumferentially) and 1.25 inch long (measured radially) was cut from disassembled sample S3 as shown in FIG. 14 . The sample weight average of the sample strip was obtained and recorded. These sample strips were analyzed by subjecting the sample strips to a so-called "burning" process at 450 degrees Celsius for 10 hours.
중량 손실을 기록했다. 샘플 스트립은 연소 과정 후 약간의 무기 잔류물(K-Cl 상)을 갖는 것으로 나타났다. 연마 그레인(SiC 그레인)의 정확한 양을 찾기 위해, 연소 과정에서 남은 회분을 10 부피%의 염산(HCl)으로 처리했다. 남아 있는 연마 그레인의 양을 기록했다. 결과는 아래 표5에 나타난다.Weight loss was recorded. The sample strip appeared to have some inorganic residue (K-Cl phase) after the burning process. To find the exact amount of abrasive grains (SiC grains), the ash remaining from the combustion process was treated with 10% by volume hydrochloric acid (HCl). The amount of remaining abrasive grain was recorded. The results are shown in Table 5 below.
(g)(g)
(g)(g)
(g)(g)
(g)(g)
(g)(g)
(g)(g)
표 5에 나타낸 바와 같이, 외측 가장자리는 더 높은 전체 중량 및 더 높은 전체 연마 조성물 코팅을 가졌다. 그 결과, 외측 가장자리는 내측 가장자리에서의 연마 그레인의 농도(0.4289 g)에 비해 외측 가장자리에서의 더 높은 그레인 농도(0.8972 g)를 가졌다. 가장 주목할 만하게도, 외측 가장자리는 테스트된 샘플 S3에 대해 외측 가장자리에서 약 52.19% 더 높은 농도를 포함했다. As shown in Table 5, the outer edge had a higher overall weight and higher overall abrasive composition coating. As a result, the outer edge had a higher grain concentration at the outer edge (0.8972 g) compared to the concentration of abrasive grain at the inner edge (0.4289 g). Most notably, the outer edge contained approximately 52.19% higher concentration at the outer edge for the tested sample S3.
하기 구체예 중 하나 이상을 포함할 수 있는 연마 용품의 구체예가 본원에 개시되어 있음이 이해될 것이다:It will be appreciated that embodiments of abrasive articles are disclosed herein that may include one or more of the following embodiments:
구체예 1. 다음을 포함하는 고정 연마 버프: 중앙 허브; 중앙 허브에 부착된 복수의 패브릭 층; 및 중합체 결합제 및 중합체 결합제에 분산된 복수의 연마 입자를 포함하는 연마 조성물, 여기서 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량보다 더 높음.
구체예 2. 구체예 1에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량보다 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 50% 이상 더 높은 고정 연마 버프.
구체예 3. 구체예 1에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 조성물의 부가 중량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 연마 조성물의 부가 중량보다 더 높은 고정 연마 버프.
구체예 4. 구체예 3에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 조성물의 부가 중량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 연마 조성물의 부가 중량보다 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 50% 이상 더 높은 고정 연마 버프.
구체예 5. 구체예 1에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 고정 연마 버프의 총 중량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 총 중량보다 더 높은 고정 연마 버프.Embodiment 5 The fixed abrasive buff of
구체예 6. 구체예 5에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 고정 연마 버프의 총 중량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 총 중량보다 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 50% 이상 더 높은 고정 연마 버프.Embodiment 6 The method of Embodiment 5, wherein the total weight of the fixed abrasive buff at the outer edge of the plurality of fabric layers is 10% or more, 15% or more, 20% or more than the total weight at the inner edge of the plurality of fabric layers, Fixed abrasive buffs higher than 25%, 30%, 35%, 40%, 45%, or 50% higher.
구체예 7. 구체예 1 내지 6 중 어느 하나에 있어서, 내측 가장자리는 중앙 허브에 인접하고, 외측 가장자리는 중앙 허브로부터 반경 방향으로 가장 멀리 있는 고정 연마 버프. Embodiment 7. The fixed abrasive buff of any one of
구체예 8. 구체예 1에 있어서, 복수의 패브릭 층은 직조 패브릭, 비직조 패브릭 또는 이들의 조합을 포함하는 고정 연마 버프.Embodiment 8. The fixed abrasive buff of
구체예 9. 구체예 8에 있어서, 복수의 패브릭 층은 2 개 이상의 층, 4 개 이상의 층, 6 개 이상의 층, 8 개 이상의 층, 10 개 이상의 층, 12 개 이상의 층, 15 개 이상의 층, 20 개 이상의 층 또는 25 개 이상의 층 내지 100 개 이하의 층, 50 개 이하의 층, 25 개 이하의 층, 20 개 이하의 층, 15 개 이하의 층 또는 12 개 이하의 층을 포함하는 고정 연마 버프.Embodiment 9 The method of embodiment 8, wherein the plurality of fabric layers is at least 2 layers, at least 4 layers, at least 6 layers, at least 8 layers, at least 10 layers, at least 12 layers, at least 15 layers, Fixed polishing comprising 20 or more layers or 25 or more layers to 100 or less layers, 50 or less layers, 25 or less layers, 20 or less layers, 15 or less layers, or 12 or less layers buff.
구체예 10. 구체예 1에 있어서, 연마 조성물은 복수의 패브릭 층 각각 상에 또는 내에 분산되는 고정 연마 버프.Embodiment 10. The set abrasive buff of
구체예 11. 구체예 1에 있어서, 연마 조성물은 다음을 포함하는 고정 연마 버프: 10 wt.% 내지 80 wt.%의 중합체 결합제; 및 20 wt.% 내지 90 wt.%의 연마 입자.
구체예 12. 구체예 11에 있어서, 중합체 결합제는 자가-가교 카르복실화 스티렌-부타디엔 조성물을 포함하는 고정 연마 버프.Embodiment 12. The set abrasive buff of
구체예 13. 구체예 11에 있어서, 연마 입자는 실리콘 카바이드를 포함하는 고정 연마 버프.Embodiment 13. The fixed abrasive buff of
구체예 14. 구체예 13에 있어서, 연마 입자는 5 마이크로미터 이상, 10 마이크로미터 이상, 15 마이크로미터 이상, 20 마이크로미터 이상 또는 25 마이크로미터 이상의 평균 입자 크기를 포함하는 고정 연마 버프. Embodiment 14. The fixed abrasive buff of Embodiment 13, wherein the abrasive particles comprise an average particle size of 5 micrometers or greater, 10 micrometers or greater, 15 micrometers or greater, 20 micrometers or greater, or 25 micrometers or greater.
구체예 15. 구체예 14에 있어서, 연마 입자는 500 마이크로미터 이하, 250 마이크로미터 이하, 100 마이크로미터 이하 또는 50 마이크로미터 이하의 평균 입자 크기를 포함하는 고정 연마 버프.Embodiment 15. The fixed abrasive buff of embodiment 14, wherein the abrasive particles comprise an average particle size of 500 microns or less, 250 microns or less, 100 microns or less, or 50 microns or less.
구체예 16. 다음 단계를 포함하는 고정 연마 버프 형성 방법: 중앙 허브 및 중앙 허브에 부착된 복수의 패브릭 층을 포함하는 코팅되지 않은 버프를 제공하는 단계; 복수의 패브릭 층이 벌어지도록 복수의 패브릭 층에 압력을 가하는 단계; 및 버프를 연마 조성물 내에서 회전시켜 버프를 연마 조성물로 코팅하는 단계.Embodiment 16. A method of forming a fixed abrasive buff comprising: providing an uncoated buff comprising a central hub and a plurality of fabric layers attached to the central hub; applying pressure to the plurality of fabric layers to spread the plurality of fabric layers apart; and coating the buff with the polishing composition by rotating the buff in the polishing composition.
구체예 17. 구체예 16에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량보다 더 높은 방법.Embodiment 17 The method of Embodiment 16, wherein the content of abrasive particles at the outer edge of the plurality of fabric layers is higher than the content of abrasive particles at the inner edge of the plurality of fabric layers.
구체예 18. 구체예 17에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량보다 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 50% 이상 더 높은 방법.Embodiment 18. The method of Embodiment 17, wherein the abrasive particle content at the outer edge of the plurality of fabric layers is 10% or more, 15% or more, 20% or more than the abrasive particle content at the inner edge of the plurality of fabric layers, 25% or more, 30% or more, 35% or more, 40% or more, 45% or more, or 50% or more higher.
구체예 19. 구체예 16 내지 18 중 어느 하나에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 조성물의 부가 중량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 연마 조성물의 부가 중량보다 더 높은 방법.Embodiment 19 The method of any one of embodiments 16-18, wherein the added weight of the polishing composition at the outer edge of the plurality of fabric layers is higher than the added weight of the polishing composition at the inner edge of the plurality of fabric layers.
구체예 20. 구체예 19에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 조성물의 부가 중량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 연마 조성물의 부가 중량보다 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 50% 이상 더 높은 방법.Embodiment 20 The method of Embodiment 19, wherein the added weight of the polishing composition at the outer edge of the plurality of fabric layers is 10% or more, 15% or more, 20% greater than the added weight of the polishing composition at the inner edge of the plurality of fabric layers. Higher than, 25% or higher, 30% or higher, 35% or higher, 40% or higher, 45% or higher, or 50% or higher.
구체예 21. 구체예 16 내지 20 중 어느 하나에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 고정 연마 버프의 총 중량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 총 중량보다 더 높은 방법.Embodiment 21 The method of any of embodiments 16-20, wherein a total weight of the set abrasive buff at the outer edges of the plurality of fabric layers is greater than a total weight at the inner edges of the plurality of fabric layers.
구체예 22. 구체예 21에 있어서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 고정 연마 버프의 총 중량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 총 중량보다 10% 이상, 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 50% 이상 더 높거나 이들의 조합인 방법.Embodiment 22 The method of Embodiment 21, wherein the total weight of the fixed abrasive buff at the outer edge of the plurality of fabric layers is 10% or more, 15% or more, 20% or more than the total weight at the inner edge of the plurality of fabric layers, 25% or more, 30% or more, 35% or more, 40% or more, 45% or more, or 50% or more, or combinations thereof.
구체예 23. 구체예 16 내지 22 중 어느 하나에 있어서, 복수의 패브릭 층에 압력을 가하는 단계는 가압 공기를 복수의 패브릭 층을 향해 적용함으로써, 복수의 패브릭 층을 연마 조성물이 들어 있는 용기의 측벽에 대해 가압함으로써 또는 이들의 조합에 의해 달성되는 방법.Embodiment 23. The method of any one of embodiments 16-22, wherein applying pressure to the plurality of fabric layers comprises applying pressurized air toward the plurality of fabric layers, thereby injecting the plurality of fabric layers onto a sidewall of a container containing the polishing composition. or by a combination thereof.
구체예 24. 구체예 16 내지 23 중 어느 하나에 있어서, 고정 연마 버프를 연마 조성물로부터 제거하는 단계; 고정 연마 버프를 회전시켜 과잉 연마 조성물을 스핀 오프하는 단계; 및 고정 연마 버프 상에서 연마 조성물을 경화시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.Embodiment 24 The method of any one of Embodiments 16 to 23, comprising: removing the fixed abrasive buff from the polishing composition; spinning off the excess abrasive composition by rotating the fixed abrasive buff; and curing the polishing composition on the fixed abrasive buff.
구체예 25. 구체예 1 내지 15 중 어느 하나의 고정 연마 버프 또는 구체예 16 내지 24 중 어느 하나의 방법, 여기서 연마 조성물의 부가 중량은 15 그램 이상, 16 그램 이상, 17 그램 이상, 18 그램 이상, 19 그램 이상, 20 그램 이상, 21 그램 이상, 22 그램 이상, 23 그램 이상, 24 그램 이상 또는 25 그램 이상임. Embodiment 25. The fixed abrasive buff of any one of
이러한 기재된 설명은 최상의 모드를 포함하는 구체예를 개시하고 또한 당업자가 본 발명을 만들고 사용할 수 있도록 하는 예를 사용한다. 특허 가능한 범위는 청구범위에 의해 정의되며, 당업자에게 발생하는 다른 예를 포함할 수 있다. 이러한 다른 예는 청구범위의 문자 그대로의 언어와 다르지 않은 구조적 요소를 갖는 경우, 또는 청구범위의 문자 그대로의 언어와 비실질적인 차이가 있는 등가의 구조적 요소를 포함하는 경우, 청구범위의 범위 내에 있는 것으로 의도된다.This written description discloses embodiments, including the best mode, and also uses examples that will enable those skilled in the art to make and use the present invention. The patentable scope is defined by the claims and may include other examples that occur to one skilled in the art. Such other examples are within the scope of the claims if they have structural elements that do not differ from the literal language of the claims, or if they include equivalent structural elements with insubstantial differences from the literal languages of the claims. it is intended
일반적인 설명 또는 예에서 위에 설명된 모든 활동이 필요한 것은 아니며, 특정 활동의 일부가 필요하지 않을 수 있고, 설명된 것에 추가하여 하나 이상의 추가 활동이 수행될 수 있음에 유의하라. 또한, 활동이 나열되는 순서가 반드시 수행되는 순서는 아니다.Note that not all of the activities described above are required in the general description or example, some of the specific activities may not be required, and one or more additional activities may be performed in addition to those described. Also, the order in which activities are listed is not necessarily the order in which they are performed.
전술한 명세서에서, 개념은 특정 구체예를 참조하여 설명되었다. 그러나, 당업자는 이하의 청구범위에 제시된 발명의 범위에서 벗어나지 않고 다양한 수정 및 변경이 이루어질 수 있음을 인식한다. 따라서, 명세서 및 도면은 제한적인 의미보다는 예시적인 의미로 간주되어야 하며, 그러한 모든 수정은 발명의 범위 내에 포함되는 것으로 의도된다.In the foregoing specification, concepts have been described with reference to specific embodiments. However, one skilled in the art recognizes that various modifications and changes can be made without departing from the scope of the invention as set forth in the claims below. Accordingly, the specification and drawings are to be regarded in an illustrative rather than restrictive sense, and all such modifications are intended to be included within the scope of the invention.
본원에서 사용되는 용어 "포함하다(comprises)", "포함하는(comprising)", "포함하다(includes)", "포함하는(including)", "가지다(has)", "갖는(having)" 또는 이의 다른 변형은 비배타적인 포함을 포함하도록 의도된다. 예를 들어, 특징들의 목록을 포함하는 공정, 방법, 물품, 또는 장치는 반드시 그러한 특징에만 한정되지 않으며, 그러한 공정, 방법, 물품, 또는 장치에 대해 명시적으로 열거되지 않거나 고유하지 않은 다른 특징을 포함할 수 있다. 또한 달리 명시적으로 언급되지 않은 한, "또는"은 포괄적-또는을 지칭하며 배타적-또는을 지칭하지 않는다. 예를 들어, 조건 A 또는 B는 다음 중 어느 하나에 의해 충족된다: A가 참 (또는 존재함) 및 B가 거짓 (또는 존재하지 않음), A가 거짓 (또는 존재하지 않음) 및 B가 참 (또는 존재함), 그리고 A 및 B 모두가 참 (또는 존재함).As used herein, the terms "comprises", "comprising", "includes", "including", "has", "having" or other variations thereof are intended to include a non-exclusive inclusion. For example, a process, method, article, or device that includes a list of features is not necessarily limited to only those features, but may include other features not explicitly listed or unique to such process, method, article, or device. can include Also, unless expressly stated otherwise, “or” refers to an inclusive-or and not an exclusive-or. For example, a condition A or B is satisfied by any one of the following: A is true (or exists) and B is false (or does not exist), A is false (or does not exist) and B is true (or exists), and both A and B are true (or exist).
또한, "하나(a)" 또는 "하나(an)"의 사용은 본원에 기재된 요소 및 구성요소를 설명하기 위해 사용된다. 이는 단지 편의상 그리고 본 발명의 범위의 일반적인 의미를 제공하기 위해 수행된다. 이 설명은 하나 또는 최소 하나를 포함하도록 읽혀져야 하며, 단수는 달리 의미하는 것이 명백하지 않는 한 복수를 또한 포함한다.Also, the use of “a” or “an” is used to describe elements and components described herein. This is done for convenience only and to give a general sense of the scope of the present invention. This description should be read to include one or at least one, and the singular also includes the plural unless it is clear to the contrary.
이점, 기타 장점, 및 문제에 대한 해결책은 특정 구체예와 관련하여 위에 설명되었다. 그러나, 이점, 장점, 문제에 대한 해결책 및, 임의의 이점, 장점, 또는 해결책을 발생시키거나 더 두드러지게 만들 수 있는 임의의 특징(들)은 임의의 또는 모든 청구항의 중요하거나, 필요하거나, 필수적인 특징으로 해석되어서는 안된다.Advantages, other advantages, and solutions to problems have been described above with respect to specific embodiments. However, an advantage, advantage, solution to a problem, and any feature(s) that can give rise to or make any advantage, advantage, or solution significant, necessary, or essential to any or all claims. It should not be interpreted as a characteristic.
명세서를 읽은 후, 당업자는 명료함을 위해, 별도의 구체예의 맥락에서 본 명세서에 설명된 특정 특징이 단일 구체예에서 조합되어 제공될 수도 있음을 이해할 것이다. 반대로, 간결성을 위해, 단일 구체예의 맥락에서 설명된 다양한 특성이 또한 별개로 또는 임의의 하위조합으로 제공될 수 있다. 또한, 범위에 언급된 값에 대한 참조는 해당 범위 내의 각각의 모든 값이 포함된다.After reading the specification, skilled artisans will understand that, for clarity, certain features that are described herein in the context of separate embodiments may also be provided in combination in a single embodiment. Conversely, for brevity, various features that are described in the context of a single embodiment can also be provided separately or in any subcombination. Further, references to values stated in ranges include each and every value within that range.
Claims (15)
중앙 허브;
중앙 허브에 부착된 복수의 패브릭 층; 및
중합체 결합제 및 중합체 결합제에 분산된 복수의 연마 입자를 포함하는 연마 조성물로서, 복수의 패브릭 층의 외측 가장자리에서의 연마 입자의 함량은 복수의 패브릭 층의 내측 가장자리에서의 연마 입자의 함량보다 더 높은 연마 조성물.Fixed abrasive buffs that include:
central hub;
a plurality of fabric layers attached to the central hub; and
An abrasive composition comprising a polymeric binder and a plurality of abrasive particles dispersed in the polymeric binder, wherein the abrasive content of the abrasive particles at the outer edge of the plurality of fabric layers is higher than the content of abrasive particles at the inner edge of the plurality of fabric layers. composition.
10 wt.% 내지 80 wt.%의 중합체 결합제; 및
20 wt.% 내지 90 wt.%의 연마 입자.The fixed abrasive buff of claim 1, wherein the abrasive composition comprises:
10 wt.% to 80 wt.% of a polymeric binder; and
20 wt.% to 90 wt.% of abrasive particles.
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