KR20220148508A - Rotary plating device - Google Patents

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KR20220148508A
KR20220148508A KR1020210055636A KR20210055636A KR20220148508A KR 20220148508 A KR20220148508 A KR 20220148508A KR 1020210055636 A KR1020210055636 A KR 1020210055636A KR 20210055636 A KR20210055636 A KR 20210055636A KR 20220148508 A KR20220148508 A KR 20220148508A
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Abstract

The present invention relates to a rotary plating device for automating the entire process to perform plating quickly. In an embodiment, the rotary plating device comprises: a plating cell which has an inner space, in which an object to be plated is placed, and which is configured to be movable; a plating unit on which the plating cell is mounted and which fills the plating cell with a plating solution and performs plating while rotating the plating cell; a cleaning unit on which the plating cell moved from the plating unit is mounted and which fills the plating cell with a cleaning solution and performs cleaning while rotating the plating cell; and a transfer unit which holds the plating cell and moves the plating cell to the plating unit and the cleaning unit.

Description

회전식 도금장치{Rotary plating device}Rotary plating device

본 발명은 회전식 도금장치에 관한 것으로서 상세하게는 장착 및 탈착이 가능한 도금셀을 이동시키면서 도금작업을 수행하는 것이 가능한 회전식 도금장치와 관련된다.The present invention relates to a rotary plating apparatus, and more particularly, to a rotary plating apparatus capable of performing plating while moving a plating cell that can be mounted and detached.

일반적으로 작은 부품 등을 대량으로 도금하기 위하여 회전식 도금장치가 사용되고 있다. 이러한 회전식 도금장치는 도금셀의 내부에 피도금물을 넣고 도금액을 투입한 후 회전시키면서 도금작업이 수행된다.In general, a rotary plating apparatus is used for plating small parts and the like in large quantities. In such a rotary plating apparatus, the plating operation is performed while the object to be plated is put inside the plating cell, the plating solution is put in, and then rotated.

한편 회전식 도금장치에서 수행하는 도금작업은 피도금물을 세척하는 세척작업을 수반한다. 또한 도금작업은 하나의 도금액을 사용하여 수행되기도 하지만 복수의 도금액을 종류를 바꾸어 사용하여 수행될 수도 있다.On the other hand, the plating operation performed in the rotary plating apparatus involves the cleaning operation of washing the object to be plated. In addition, the plating operation may be performed using a single plating solution, but may also be performed using a plurality of plating solutions with different types.

이러한 경우 도금셀에 피도금물을 투입한 후 1차 도금작업을 수행하고 동일한 도금장치에서 세척작업이나 2차 도금작업이 이루어지게 된다. 이와 같은 도금장치가 대한민국 공개특허 제10-2019-0114727호에 제시되어 있다.In this case, after the object to be plated is put into the plating cell, the first plating operation is performed, and the cleaning operation or the secondary plating operation is performed in the same plating apparatus. Such a plating apparatus is presented in Korean Patent Laid-Open No. 10-2019-0114727.

하지만 종래기술에 따른 도금장치는 이러한 도금작업을 수행할 때 도금셀의 투입과 배출이 작업자에 의해 이루어지게 된다. 또한 1차 도금작업과 2차 도금작업 중 어느 하나의 도금작업이 시간을 많이 필요로 하는 경우 다음 도금작업을 하기 위해서는 그만큼 기다려야 하므로 공정이 빠르게 진행되기 어렵다.However, in the plating apparatus according to the prior art, the input and discharge of the plating cell is performed by an operator when performing such a plating operation. In addition, if any one of the primary plating operation and the secondary plating operation requires a lot of time, the process is difficult to proceed quickly because it has to wait that much for the next plating operation.

대한민국 공개특허 제10-2008-002786호 (2008.03.12)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2008-002786 (2008.03.12)

본 발명은 도금셀을 이동시키면서 개별 공정을 수행하는 장치에 장착하여 도금공정을 수행할 수 있으므로 전체적인 공정 자동화가 가능하며, 신속하게 도금공정을 수행할 수 있게 하는 도금장치를 제시한다.The present invention provides a plating apparatus capable of performing a plating process by mounting it on an apparatus for performing an individual process while moving a plating cell, thereby enabling overall process automation and promptly performing the plating process.

그 외 본 발명의 세부적인 목적은 이하에 기재되는 구체적인 내용을 통하여 이 기술분야의 전문가나 연구자에게 자명하게 파악되고 이해될 것이다. Other detailed objects of the present invention will be clearly grasped and understood by experts or researchers in the technical field through the specific contents described below.

위 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 실시예로, 내부에 형성된 공간에 피도금물이 투입되고 이동이 가능하도록 이루어지는 도금셀, 상기 도금셀이 장착되고 상기 도금셀에 도금액을 채워 회전시키면서 도금작업을 수행하는 도금유닛, 상기 도금유닛으로부터 이동된 상기 도금셀이 장착되고 상기 도금셀에 세척액을 채워 회전시키면서 세척작업을 수행하는 세척유닛 및 상기 도금셀을 파지하여 상기 도금유닛과 상기 세척유닛으로 이동시키는 이송유닛을 포함하는 회전식 도금장치를 제시한다.In order to solve the above problems, the present invention provides a plating cell in which an object to be plated is put into a space formed therein and can be moved, the plating cell is mounted, and the plating cell is filled with a plating solution and rotated to perform a plating operation performing a plating unit, a washing unit in which the plating cell moved from the plating unit is mounted and the plating cell is filled with a washing solution to perform a washing operation while rotating, and the plating cell holding the plating unit and the washing unit A rotary plating apparatus including a transfer unit is provided.

상기 도금셀은, 양 방향으로 연통되는 통 형상으로 이루어지고 내부가 하부로 갈수록 좁아지는 경사면으로 이루어지는 몸체부, 상기 몸체부의 하부를 덮도록 이루어지고 밑면에는 받침판과 장착 및 탈착이 가능하게 결합되는 복수의 홈이 형성되는 바닥부 및 상기 몸체부의 상부를 덮고 양 방향으로 연통되는 통 형상으로 이루어지며 하부로 갈수록 외주가 커지는 경사면을 구비하는 덮개부를 포함할 수 있다.The plating cell is made of a tubular shape communicating in both directions and has a body part having an inclined surface that becomes narrower toward the lower part, a plurality of parts that cover the lower part of the body part and are mounted and detachably coupled with a support plate on the bottom surface. It may include a bottom portion in which a groove is formed and a cover portion having a sloping surface that covers the upper portion of the body portion and communicates in both directions, and has an inclined surface whose outer periphery increases toward the lower portion.

이때 상기 바닥부는, 중앙에 원뿔 모양의 돌기가 형성된 제1플레이트 및 상기 제1플레이트의 하부에 배치되고 자석 또는 자성체가 장착되는 제1홈과 받침판의 핀과 결합되는 제2홈이 형성되는 제2플레이트를 포함하고, 핀 결합과 자력에 의해 받침판에 결합될 수 있다.In this case, the bottom portion includes a first plate having a conical protrusion formed in the center, a first groove disposed below the first plate and mounted with a magnet or a magnetic material, and a second groove coupled to the pin of the support plate. It includes a plate, and may be coupled to the support plate by pin coupling and magnetic force.

또한 상기 덮개부는, 원통형으로 이루어지고 피도금물이 투입되는 입구면, 상기 입구면으로부터 연장되고 하부로 갈수록 외주가 커지는 경사면 및 상기 경사면으로부터 연장되고, 상기 경사면의 단부로부터 수직으로 연장된 다음 수평으로 연장되어 경사면 단부에 단차홈이 형성되는 테두리면을 포함할 수 있다.In addition, the cover portion is made of a cylindrical shape, an entrance surface into which the object to be plated, an inclined surface extending from the entrance surface and increasing in outer periphery toward the bottom, and extending from the inclined surface, extending vertically from the end of the inclined surface, and then horizontally It may include an edge surface extending to form a stepped groove at the end of the inclined surface.

한편 상기 도금유닛은, 도금셀과 결합하는 핀을 구비하고 판 형상으로 이루어지는 안착부, 상기 안착부의 중심에 결합되어 상기 안착부를 회전시키는 축부, 작업대에 배치되고 도금셀이 배치된 하부의 일정 영역을 가리는 제1커버부, 연통되어 양 단부가 개방되는 공간을 갖고, 일단이 상기 제1커버부와 접촉하여 상기 도금셀의 상부 주변을 둘러싸도록 덮거나 덮힌 상태를 해제하도록 구동되는 제2커버부 및 애노드를 구비하고 상기 제2커버부의 다른 일단의 개방된 홀을 밀봉하도록 구동됨과 동시에 배관을 통해 도금액을 투입하여 도금작업을 수행하는 도금부를 포함할 수 있다.On the other hand, the plating unit includes a seating part having a plate shape and having a pin coupled to the plating cell, a shaft part coupled to the center of the seating part to rotate the seating part, and a predetermined area under the work bench where the plating cell is disposed. A first cover part to cover, a second cover part that communicates and has a space in which both ends are open, and one end is in contact with the first cover part and is driven to cover or release the covered state so as to surround the upper periphery of the plating cell; It may include a plating unit having an anode and driving to seal the open hole of the other end of the second cover unit, and at the same time injecting a plating solution through a pipe to perform a plating operation.

여기에서 상기 축부는 분할된 축이 연결되어 이루어지고 분할된 상기 축은 절연 커플링으로 서로 연결될 수 있다.Here, the shaft portion may be formed by connecting divided shafts, and the divided shafts may be connected to each other by an insulating coupling.

또한 상기 도금유닛은, 상기 제2커버부의 다른 일단의 개방된 홀을 밀봉하도록 구동됨과 동시에 회수노즐을 구비하여 상기 도금셀 내의 도금액을 회수하는 액회수부를 더 포함할 수 있다.In addition, the plating unit may further include a liquid recovery unit that is driven to seal the open hole at the other end of the second cover unit and includes a recovery nozzle to recover the plating solution in the plating cell.

이때 상기 액회수부는, 2차원 또는 3차원 이동이 가능한 이동체, 탄성부재가 개재되어 상기 이동체에 결합되고, 상기 제2커버부가 상기 도금셀의 상부 주변을 둘러싸도록 덮었을 때 상기 제2커버부의 상부의 개방된 홀에 결합되어 가압하는 가압체 및 상기 가압체 내부를 관통하여 상기 이동체에 결합되고 내부에 도금액을 회수하는 배관과 회수노즐이 구비되는 형성되는 작용체를 포함할 수 있다.In this case, the liquid recovery part is coupled to the movable body with a movable body capable of two-dimensional or three-dimensional movement and an elastic member interposed therebetween. It may include a pressurizing body coupled to the open hole of the pressurized body and passing through the inside of the pressurizing body to be coupled to the movable body and provided with a pipe and a recovery nozzle for recovering the plating solution therein.

한편 상기 세척유닛은, 도금셀과 결합하는 핀을 구비하고 판 형상으로 이루어지는 안착부, 상기 안착부의 중심에 결합되어 상기 안착부를 회전시키는 축부, 작업대에 배치되고 도금셀이 배치된 하부의 일정 영역을 가리는 제1커버부, 연통되어 양 단부가 개방되는 공간을 갖고, 일단이 상기 제1커버부와 접촉하여 상기 도금셀의 상부 주변을 둘러싸도록 덮거나 덮힌 상태를 해제하도록 구동되는 제2커버부 및 상기 제2커버부의 다른 일단의 개방된 홀을 밀봉하도록 구동됨과 동시에 상기 도금셀 내부에 세척액을 투입하는 한편 밀봉 상태에서 체척작업을 수행하는 세척부를 포함할 수 있다.On the other hand, the washing unit includes a seating part having a plate shape and having a pin coupled to the plating cell, a shaft part coupled to the center of the seating part to rotate the seating part, and a predetermined area under the work bench where the plating cell is disposed. A first cover part to cover, a second cover part that communicates and has a space in which both ends are open, and one end is in contact with the first cover part and is driven to cover or release the covered state so as to surround the upper periphery of the plating cell; The second cover unit may include a washing unit that is driven to seal the open hole of the other end and injects a washing solution into the plating cell while performing a sieving operation in a sealed state.

여기에서 상기 세척유닛은, 세척이 완료된 피도금물을 회수하는 회수부를 더 포함할 수 있다.Here, the washing unit may further include a recovery unit for recovering the plated object that has been washed.

한편 상기 이송유닛은, 상기 도금유닛과 상기 세척유닛이 배치되는 경로를 따라 설치되는 가이드부, 상기 가이드부에 결합되고 상기 가이드부를 따라 이동이 가능한 이송부 및 상기 이송부에 결합되고 그립퍼를 구비하여 상기 도금셀의 측부를 파지하는 그립퍼부를 포함할 수 있다.On the other hand, the transfer unit includes a guide part installed along a path in which the plating unit and the washing unit are arranged, a transfer part coupled to the guide part and movable along the guide part, and a gripper coupled to the transfer part and comprising a gripper. It may include a gripper portion for gripping the side of the cell.

여기에서 상기 그립퍼부는, 상기 이송부에 결합되고 상하 방향으로 구동이 가능한 구동체, 상기 구동체에 결합되고 서로 멀어지거나 좁혀지는 방향으로 이동이 가능한 한 쌍의 핑거체 및 상기 핑거체에 각각 결합되고 적어도 하나의 핑거체와는 탄성부재를 개재하여 결합되며 도금셀의 측부를 파지하여 잡아주는 파지체를 포함할 수 있다.Here, the gripper part may include a driving body coupled to the conveying part and capable of driving in the vertical direction, a pair of finger bodies coupled to the driving body and movable in a direction away from or narrowing from each other, and respectively coupled to the finger bodies and at least It is coupled with one finger body via an elastic member, and may include a gripping body for gripping and holding the side of the plating cell.

본 발명의 실시예에 따르면, 도금셀의 이동이 가능하고, 도금셀을 도금이나 세척 등 개별 작업을 수행하는 장치에 장착하여 사용할 수 있으므로, 전체적인 공정 자동화가 가능하고, 개별 작업을 수행하는 장치를 적절한 갯수로 적절한 위치에 배치하여 신속하게 도금공정을 수행할 수 있는 효과가 있다.According to an embodiment of the present invention, since the plating cell can be moved and the plating cell can be mounted and used in a device that performs an individual operation such as plating or washing, overall process automation is possible, and an apparatus for performing an individual operation is provided. There is an effect that the plating process can be performed quickly by arranging an appropriate number at an appropriate position.

그 외 본 발명의 효과들은 이하에 기재되는 구체적인 내용을 통하여, 또는 본 발명을 실시하는 과정 중에 이 기술분야의 전문가나 연구자에게 자명하게 파악되고 이해될 것이다. Other effects of the present invention will be clearly understood and understood by experts or researchers in the art through the specific details described below, or during the course of carrying out the present invention.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 회전식 도금장치의 사시도.
도 2는 도금유닛을 나타내는 사시도.
도 3은 도금유닛의 분해사시도.
도 4는 도금셀의 사시도.
도 5는 도금셀과 도금유닛의 안착부의 결합 관계를 나타내는 사시도.
도 6은 도금셀의 단면도.
도 7은 도금셀이 도금유닛의 안착부에 결합된 상태를 나타내는 측면도.
도 8은 도금유닛을 나타내는 측면도.
도 9는 도금유닛에서 도금액 투입 및 도금공정을 수행하는 작동도.
도 10은 도금유닛에서 도금액 흡입공정을 수행하는 작동도.
도 11은 세척유닛에서 세척액 투입 및 세척공정을 수행하는 작동도.
도 12는 세척유닛에서 도금액 세척액 흡입 및 피도금물 회수공정을 수행하는 작동도.
도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 회전식 도금장치의 사시도.
도 14는 도금셀을 이동시키는 이동유닛을 나타내는 도면.
1 is a perspective view of a rotary plating apparatus according to an embodiment of the present invention;
2 is a perspective view showing a plating unit;
3 is an exploded perspective view of the plating unit;
4 is a perspective view of a plating cell;
5 is a perspective view illustrating a coupling relationship between a plating cell and a seating part of a plating unit;
6 is a cross-sectional view of a plating cell.
7 is a side view showing a state in which a plating cell is coupled to a seating portion of a plating unit;
8 is a side view showing a plating unit;
9 is an operation diagram of a plating unit inputting a plating solution and performing a plating process;
10 is an operation diagram of performing a plating solution suction process in a plating unit;
11 is an operation diagram for performing a washing solution input and washing process in the washing unit.
12 is an operation diagram of a washing unit suctioning a plating solution washing liquid and performing a plated object recovery process;
13 is a perspective view of a rotary plating apparatus according to another embodiment of the present invention;
14 is a view showing a mobile unit for moving a plating cell.

상술한 본 발명의 특징 및 효과는 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이며, 그에 따라 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예들을 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다.The features and effects of the present invention described above will become more apparent through the following detailed description in relation to the accompanying drawings, and accordingly, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement the technical idea of the present invention. will be able Since the present invention can have various changes and can have various forms, specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 회전식 도금장치에 대해 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 본 명세서에서는 서로 다른 실시예라도 동일유사한 구성에 대해서는 동일유사한 참조번호를 부여하고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음한다.Hereinafter, a rotary plating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present specification, the same and similar reference numerals are assigned to the same and similar components in different embodiments, and the description is replaced with the first description.

본 발명의 실시예에 따른 도금장치는, 도금셀(10), 도금유닛(20), 세척유닛 및 이송유닛(40)을 포함한다.The plating apparatus according to the embodiment of the present invention includes a plating cell 10 , a plating unit 20 , a washing unit and a transfer unit 40 .

도금셀(10)은 내부에 형성된 공간에 피도금물이 투입되고 이동이 가능하도록 이루어진다. 이러한 도금셀은 도금유닛(20)에 장착된다. 도금유닛(20)은 도금셀(10)이 장착되고 도금셀(10)에 도금액을 채워 회전시키면서 도금작업을 수행한다.The plating cell 10 is made such that the object to be plated is put into the space formed therein and can be moved. These plating cells are mounted on the plating unit 20 . The plating unit 20 performs a plating operation while the plating cell 10 is mounted and the plating cell 10 is filled with a plating solution and rotated.

한편 세척유닛(20)은 도금유닛(10)과 별도의 유닛으로 이루어지고 도금셀(20)이 장착되며 도금액에 세척액을 채워 회전시키면서 세척작업을 수행한다.On the other hand, the washing unit 20 is composed of a unit separate from the plating unit 10, the plating cell 20 is mounted, and the plating solution is filled with a washing solution and rotated to perform a washing operation.

이송유닛(40)은 도금셀(10)을 파지하여 도금유닛(10)과 세척유닛(20)으로 이동시키면서 연속적인 작업을 수행하도록 한다.The transfer unit 40 holds the plating cell 10 and moves it to the plating unit 10 and the washing unit 20 to perform a continuous operation.

이와 같이 구성된 회전식 도금장치는 도금셀의 이동이 가능하고, 도금셀을 도금이나 세척 등 개별 작업을 수행하는 장치에 장착하여 사용할 수 있으므로, 전체적인 공정 자동화가 가능하고, 개별 작업을 수행하는 장치를 적절한 갯수로 적절한 위치에 배치하여 신속하게 도금공정을 수행할 수 있는 효과가 있다.The rotary plating device configured in this way can move the plating cell, and the plating cell can be mounted on a device that performs individual tasks such as plating or washing, so that the overall process can be automated, and the device for performing individual tasks can be used appropriately. There is an effect that the plating process can be performed quickly by arranging it at an appropriate position in number.

이하 각 부의 구성에 대하여 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the configuration of each part will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 회전식 도금장치의 사시도이고, 도 4는 이러한 회전식 도금장치에 채용된 도금셀의 사시도이며, 도 6은 도금셀의 단면도이다.1 is a perspective view of a rotary plating apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is a perspective view of a plating cell employed in the rotary plating apparatus, and FIG. 6 is a cross-sectional view of the plating cell.

도금셀(10)은 피도금물과 도금액이 투입되고 도금작업이 이루어지는 구성으로서 몸체부(11), 바닥부(12) 및 덮개부(13)를 포함하여 이루어진다.The plating cell 10 includes a body part 11 , a bottom part 12 and a cover part 13 as a configuration in which an object to be plated and a plating solution are put and a plating operation is performed.

몸체부(11)는 양 방향으로 연통되는 통 형상으로 이루어지고 내부가 하부로 갈수록 좁아지는 경사면(132)으로 이루어진다.The body portion 11 is formed in a cylindrical shape communicating in both directions and has an inclined surface 132 that is narrowed toward the bottom.

몸체부(11)는 내부 공간에 피도금물이 투입되어 위치하게 되고 도금액이 채워져 도금작업이 수행되는 주된 공간이 된다.The body portion 11 becomes a main space in which the plated object is placed in the inner space, and the plating solution is filled in the inner space to perform the plating operation.

도면을 참조하여 상세하게 설명하면 몸체부(11)는 원통형으로 이루어지고, 양측 단부에는 플랜지(111)가 형성된다. 양측 단부의 플랜지(111)에는 각각 몸체부(11)와 덮개부(13)가 결합된다. 몸체부(11)와 덮개부(13)는 체결부재에 의해 결합될 수 있다.When described in detail with reference to the drawings, the body portion 11 is formed in a cylindrical shape, and flanges 111 are formed at both ends. A body portion 11 and a cover portion 13 are coupled to the flanges 111 of both ends, respectively. The body portion 11 and the cover portion 13 may be coupled by a fastening member.

또한 몸체부(11)의 외주에는 서로 마주보는 적어도 한 쌍의 그립홈(112)이 형성된다. 본 실시예에서는 두 쌍의 그립홈(112)이 형성되어 총 4개의 그립홈(112)이 형성되어 있다. 쌍을 이루는 그립홈(112)은 서로 마주보도록 위치한다. 이송유닛(40)의 그립퍼부(43)는 이러한 그립홈(112)과 결합하여 미끄러짐이 없이 도금셀(10)을 용이하게 이동시키는 것이 가능하다.Also, at least one pair of grip grooves 112 facing each other are formed on the outer periphery of the body 11 . In this embodiment, two pairs of grip grooves 112 are formed to form a total of four grip grooves 112 . The pair of grip grooves 112 are positioned to face each other. The gripper part 43 of the transfer unit 40 is coupled with the grip groove 112 to facilitate the movement of the plating cell 10 without slipping.

그립홈(112)은 몸체부(11)의 외주에서 함몰되어 형성되며 그립홈(112)의 입구는 경사지도록 형성된다. 이에 따라 그립퍼부(43)가 경사진 면을 따라 가이드되면서 그립홈(112)에 결합될 수 있다.The grip groove 112 is formed by being depressed from the outer periphery of the body portion 11 , and the entrance of the grip groove 112 is formed to be inclined. Accordingly, the gripper part 43 may be coupled to the grip groove 112 while being guided along the inclined surface.

몸체부(11)는 내부가 하부로 갈수록 좁아지는 경사면(113)을 구비한다. 도금셀(10)은 회전하면서 내부의 피도금물을 도금하게 되는데 도금작업시 원심력에 의해 피도금물이 경사면(113)을 따라 나란하게 늘어설 수 있으므로 도금이 골고루 이루어질 수 있게 된다.The body portion 11 has an inclined surface 113 whose interior becomes narrower toward the lower portion. The plating cell 10 is rotated to plated the object to be plated inside. During the plating operation, the object to be plated can be arranged in parallel along the inclined surface 113 by centrifugal force during the plating operation, so that the plating can be performed evenly.

바닥부(12)는 몸체부(11)의 하부를 덮어 하부를 폐쇄하도록 이루어지고 밑면에는 결합을 위한 복수의 홈이 형성된다. 바닥부(12)는 도금셀(10)이 놓여지는 안착부(26)에 별도의 결속부재 없이 장착 및 탈착이 가능하게 결합된다.The bottom part 12 is made to cover the lower part of the body part 11 to close the lower part, and a plurality of grooves for coupling are formed on the bottom surface. The bottom part 12 is coupled to the mounting part 26 on which the plating cell 10 is placed so that it can be mounted and detached without a separate binding member.

상세하게 설명하면, 바닥부(12)는 도금셀(10)의 하부를 구성한다. 바닥부(12)는 후술하는 안착부(26)에 결합되어 안착부(26)의 상부에 놓여지게 된다.In detail, the bottom part 12 constitutes the lower part of the plating cell 10 . The bottom part 12 is coupled to a seating part 26 to be described later and is placed on the top of the seating part 26 .

바닥부(12)의 밑면에는 안착부(26)와 장착 및 탈착이 가능하게 결합하기 위한 복수의 홈이 형성되고 바닥부(12)와 안착부(26)의 결합은 핀과 핀홈의 결합 및 자력에 의한 결합으로 이루어질 수 있다.A plurality of grooves are formed on the bottom surface of the bottom part 12 to enable mounting and detachment with the seating part 26, and the coupling between the bottom part 12 and the seating part 26 is performed by coupling and magnetic force between the pin and the pin groove. It can be made by bonding by

구체적으로 바닥부(12)는 제1플레이트(121)와 제2플레이트(122)를 포함하여 이루어진다. 제1플레이트(121)는 중앙에 원뿔 모양의 돌기(128)가 형성되고 몸체부(11)와 함께 피도금물이나 도금액이 투입되는 공간을 형성한다.Specifically, the bottom part 12 includes a first plate 121 and a second plate 122 . The first plate 121 has a conical protrusion 128 formed in the center, and forms a space in which the object to be plated or the plating solution is put together with the body 11 .

도금작업시 피도금물이 중앙에 위치하는 경우 원심력의 영향을 받지 않아 그 자리에 머물게 되고 도금작업이 원활하게 이루어지지 않는다. 원뿔 모양의 돌기(128)에 의해 바닥부(12) 중앙에 피도금물이 위치하기 어렵게 되고 원심력에 의해 외측으로 이동하면서 도금작업이 원활하게 이루어질 수 있다.If the object to be plated is located in the center during plating, it is not affected by centrifugal force and stays there, and the plating operation is not performed smoothly. The conical protrusion 128 makes it difficult for the object to be plated at the center of the bottom 12, and the plating operation can be smoothly performed while moving outward by centrifugal force.

제2플레이트(122)는 제1플레이트(121)의 하부에 배치되고 자성체(127)가 장착되는 제1홈(123) 및 안착부(26)의 핀(262)과 결합되는 제2홈(124)이 형성된다. 이때 제1홈(123)에는 자성체 대신 자석이 장착될 수 있고 안착부(26)에 이에 대응하도록 자석 또는 자성체가 구비될 수 있다.The second plate 122 is disposed under the first plate 121 and includes a first groove 123 in which the magnetic body 127 is mounted and a second groove 124 coupled to the pin 262 of the seating portion 26 . ) is formed. In this case, a magnet may be mounted in the first groove 123 instead of a magnetic material, and a magnet or a magnetic material may be provided to correspond to the seating portion 26 .

도면을 참조하면 제1홈(123)은 제2플레이트(122)의 중앙 주위에 복수로 형성되고 자성체(127)가 결합된다. 이때 제2플레이트(122)는 자성체에 자력이 집중되는 한편 자력의 조절이 용이하도록 비자성체로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한 이러한 자성체(127)와 안착부(26)에 마련된 자석(265)에 의해 도금셀(10)이 안착부(26)에 장착 및 탈착이 가능하게 결합된다.Referring to the drawings, a plurality of first grooves 123 are formed around the center of the second plate 122 and magnetic bodies 127 are coupled thereto. At this time, the second plate 122 is preferably made of a non-magnetic material so that the magnetic force is concentrated on the magnetic material, while the magnetic force can be easily adjusted. In addition, the plating cell 10 is coupled to and detachably from the mounting unit 26 by the magnetic body 127 and the magnet 265 provided on the mounting unit 26 .

한편 제1홈(123)의 갯수와 제1홈(123)에 결합되는 자성체(127)의 갯수를 조정하여 자력을 조정함으로써 도금셀(10)과 안착부(26)의 결합력을 조절할 수 있다.Meanwhile, by adjusting the magnetic force by adjusting the number of the first grooves 123 and the number of magnetic bodies 127 coupled to the first grooves 123 , the coupling force between the plating cell 10 and the seating part 26 can be adjusted.

한편 제2홈(124)은 제1홈(123)의 주위에 복수가 형성될 수 있다. 제2홈(124)에는 안착부(26)에 구비된 핀(262)이 결합될 수 있다. 이에 따라 안착부(26)와 도금셀(10)의 핀 결합이 이루어지게 된다. 제2홈(124)과 핀(262)의 결합에 의해 도금셀(10)이 안착부(26)의 정확한 위치에 놓여질 수 있게 된다. 또한 핀(262)의 결합에 의해 안착부(26)의 회전 구동이 도금셀(10)에 전달될 수 있어 도금셀(10)이 회전할 수 있다.Meanwhile, a plurality of second grooves 124 may be formed around the first groove 123 . A pin 262 provided in the seating portion 26 may be coupled to the second groove 124 . Accordingly, the pin coupling between the mounting portion 26 and the plating cell 10 is achieved. By coupling the second groove 124 and the pin 262 , the plating cell 10 can be placed at the correct position of the seating part 26 . In addition, the rotational driving of the seating portion 26 may be transmitted to the plating cell 10 by the coupling of the pins 262 , so that the plating cell 10 may rotate.

한편 도시된 바와 같이 제2플레이트(122)에는 제1홈(123)과 제2홈(124) 외에도 제3홈(125)과 제4홈(126)이 형성될 수 있다.Meanwhile, as illustrated, in the second plate 122 , a third groove 125 and a fourth groove 126 may be formed in addition to the first groove 123 and the second groove 124 .

제3홈(125)은 제2플레이트(122)의 중앙에 비교적 넓은 면적으로 형성되고 구동기의 축(271)의 단부가 결합되게 된다. 본 실시예에서 구동기의 축(271)의 단부와 제3홈(125)의 결합에 의해 동력 전달이 이루어지지는 않지만 구동기의 축(271)의 단부와 제3홈(125)이 결합하면서 도금셀(10)이 중심에 위치하도록 가이드된다.The third groove 125 is formed in a relatively large area in the center of the second plate 122 and the end of the shaft 271 of the actuator is coupled thereto. In this embodiment, although power transmission is not made by the coupling of the end of the shaft 271 of the actuator and the third groove 125, the end of the shaft 271 of the actuator and the third groove 125 are coupled to the plating cell. (10) is guided to be located in the center.

제4홈(126)은 제2홈(124)의 외곽으로 원 형상으로 이어진 하나의 홈으로 이루어져 있다. 제4홈(126)이 형성됨에 따라 도금셀(10)의 전체적인 중량을 줄일 수 있고 적은 힘으로도 도금셀(10)을 빠르게 회전하도록 할 수 있다.The fourth groove 126 is formed of a single groove connected in a circular shape to the outside of the second groove 124 . As the fourth groove 126 is formed, the overall weight of the plating cell 10 can be reduced and the plating cell 10 can be rotated quickly even with a small force.

덮개부(13)는 몸체부(11)의 상부를 덮도록 이루어지고 양 방향으로 연통되는 통 형상으로 이루어지며 하부로 갈수록 외주가 커지는 경사면(132)을 구비한다.The cover part 13 is made to cover the upper part of the body part 11, is formed in a cylindrical shape communicating in both directions, and has an inclined surface 132 whose outer periphery increases toward the lower part.

상세하게 설명하면, 덮개부(13)는 몸체부(11)의 상부를 구성한다. 도면을 참조하면 덮개부(13)는, 입구면(131), 경사면(132) 및 테두리면(133)으로 이루어진다.In detail, the cover part 13 constitutes the upper part of the body part 11 . Referring to the drawings, the cover part 13 includes an entrance surface 131 , an inclined surface 132 , and an edge surface 133 .

입구면(131)은 원통형으로 이루어지고 피도금물이 투입되는 부분이다. 경사면(132)은 이러한 입구면(131)으로부터 연장되고 하부로 갈수록 외주가 커지는 형태를 가진다. 또한 테두리면(133)은 경사면(132)으로부터 연장되고, 경사면(132)의 단부로부터 수직으로 연장된 다음 수평으로 연장되어 경사면(132) 단부에 단차홈(134)이 형성되도록 이루어진다.The inlet surface 131 is formed in a cylindrical shape and is a part into which the object to be plated is put. The inclined surface 132 has a shape extending from the entrance surface 131 and increasing toward the lower portion of the periphery. Also, the edge surface 133 extends from the inclined surface 132 , vertically from the end of the inclined surface 132 , and then horizontally to form a stepped groove 134 at the inclined surface 132 .

이러한 단차홈(134)에 의해 도금작업시 또는 세척작업시 피도금물이 도금액이나 세척액을 따라 도금셀(10)의 외부로 빠져나오는 것이 방지된다. 즉 단차홈(134)이 없는 경우 원심력에 의해 도금액 또는 세척액이 도금셀(10)의 내측 벽면을 따라 상부로 이동할 수 있고 피도금물도 함께 도금셀(10)의 상부로 이동할 수 있는데 단차홈(134)이 이러한 이동을 방해하게 된다.The step groove 134 prevents the object to be plated from escaping to the outside of the plating cell 10 along with the plating solution or the cleaning solution during plating or cleaning. That is, when there is no step groove 134, the plating solution or the washing solution can move upward along the inner wall surface of the plating cell 10 by centrifugal force, and the object to be plated can also move to the top of the plating cell 10. 134) interferes with this movement.

한편 도시된 바와 같이 덮개부(13)의 입구면(131)에는 둘레 방향으로 간격을 두고 복수의 슬릿홀(135)이 형성될 수 있다. 또한 슬릿홀(135)에는 매쉬망이 구비될 수 있다. 상술한 바와 같이 도금액, 세척액 및 피도금물이 상부로 이동하는 현상에 따라 일부 피도금물이 입구면(131)까지도 이를 수 있는데 슬릿홀(135)의 매쉬망을 통해 피도금물의 이동을 매개하는 도금액이나 세척액이 빠져나가면서 피도금물이 도금셀(10) 하부로 낙하할 수 있다.Meanwhile, as illustrated, a plurality of slit holes 135 may be formed on the entrance surface 131 of the cover part 13 at intervals in the circumferential direction. In addition, a mesh network may be provided in the slit hole 135 . As described above, according to the phenomenon that the plating liquid, the washing liquid, and the object to be plated move upward, some objects to be plated may even reach the entrance surface 131 , but the movement of the object to be plated is mediated through the mesh network of the slit hole 135 . As the plating solution or the washing solution is discharged, the object to be plated may fall to the lower part of the plating cell 10 .

한편 덮개부(13)는 도시된 바와 같이 테두리면(133) 상부에 적층되는 보강판(136)이 더 구비될 수 있다. 보강판(136)과 테두리면(133)은 일체로 몸체부(11)와 결합되게 된다. 보강판(136)에 의해 몸체부(11)와 덮개부(13)의 결합상태가 더욱 견고하게 유지될 수 있다.Meanwhile, the cover part 13 may further include a reinforcing plate 136 stacked on the edge surface 133 as shown. The reinforcing plate 136 and the edge surface 133 are integrally coupled to the body 11 . The coupling state of the body portion 11 and the cover portion 13 may be more firmly maintained by the reinforcing plate 136 .

이와 같이 구성된 도금셀(10)은 이송유닛(40)을 이용하여 이동이 가능하고 개별 공정을 수행하는 장치에 장착하여 사용할 수 있다. 이에 따라 전체적인 공정 자동화가 가능하며, 신속하게 도금공정을 수행할 수 있다.The plating cell 10 configured as described above can be moved by using the transfer unit 40 and can be used by being attached to an apparatus for performing an individual process. Accordingly, the entire process can be automated, and the plating process can be performed quickly.

도금유닛은 도금작업이 수행되는 구성으로서, 장착유닛을 구성하는 안착부(26), 축부(27), 구동부(28)와 액의 비산을 방지하면서 도금작업을 수행하기 위한 제1커버부(21), 제2커버부(22), 밀봉부(23)를 포함하여 이루어진다. 이때 밀봉부(23)는 도금부(24)와 액회수부(25)의 형태를 가지고 실제적인 도금작업을 수행할 수 있도록 구성될 수 있다. 이러한 각 부분이 골격을 이루는 프레임(60)에 결합되어 배치될 수 있다. The plating unit is a configuration in which a plating operation is performed, and the seating part 26, the shaft part 27, and the driving part 28 constituting the mounting unit and the first cover part 21 for performing the plating operation while preventing the liquid from scattering. ), a second cover portion 22, and a sealing portion 23. At this time, the sealing part 23 may have the form of the plating part 24 and the liquid recovery part 25 and may be configured to perform an actual plating operation. Each of these parts may be arranged to be coupled to the frame 60 constituting the skeleton.

도 2는 도금유닛을 나타내는 사시도이고, 도 3은 도금유닛의 분해사시도이다. 도 5는 도금셀과 도금유닛의 안착부의 결합 관계를 나타내는 사시도이며, 도 7은 도금셀이 도금유닛의 안착부에 결합된 상태를 나타내는 측면도이다.2 is a perspective view showing the plating unit, and FIG. 3 is an exploded perspective view of the plating unit. 5 is a perspective view illustrating a coupling relationship between the plating cell and the mounting portion of the plating unit, and FIG. 7 is a side view illustrating the plating cell coupled to the mounting portion of the plating unit.

안착부(26)는 회전식 도금장치의 도금셀(10)이 장착되는 부분으로서 도면을 참조하면 받침판(261), 핀(262), 결합부재(263) 및 자석(265)을 포함하여 구성된다.The seating part 26 is a part on which the plating cell 10 of the rotary plating apparatus is mounted. Referring to the drawings, the seating part 26 includes a support plate 261 , a pin 262 , a coupling member 263 , and a magnet 265 .

받침판(261)은 편평한 판 형상으로 이루어지고 도금셀(10)이 놓여진다. 받침판(261)에 도금셀(10)이 놓여지면 받침판(261)의 상면과 도금셀(10)의 밑면은 서로 접촉하는 상태가 된다. 받침판(261)의 상부로는 복수의 핀(262)이 돌출되도록 배치된다. 이러한 핀(262)들은 도금셀(10)의 밑면에 형성된 복수의 제2홈(124)과 결합하게 된다. The support plate 261 has a flat plate shape and the plating cell 10 is placed thereon. When the plating cell 10 is placed on the support plate 261 , the upper surface of the support plate 261 and the bottom surface of the plating cell 10 are in contact with each other. A plurality of pins 262 are disposed to protrude from the upper portion of the support plate 261 . These pins 262 are coupled to the plurality of second grooves 124 formed on the bottom surface of the plating cell 10 .

한편 자석(265)은 도금셀(10)의 자성체(127)와 대응하도록 받침판(261)의 중앙 주위에 복수로 장착된다. 이때 받침판(261)은 자력이 집중되는 한편 자력의 조절이 용이하도록 비자성체로 이루어지는 것이 바람직하다.On the other hand, a plurality of magnets 265 are mounted around the center of the support plate 261 to correspond to the magnetic body 127 of the plating cell 10 . At this time, the support plate 261 is preferably made of a non-magnetic material so that the magnetic force is concentrated while the magnetic force is easily controlled.

또한 결합부재(263)의 일단은 받침판(261)의 중앙을 관통하여 받침판(261)의 상부로 돌출되고 도금셀(10)의 제3홈(125)과 결합된다. 결합부재(263)는 받침판(261)과 일체가 되도록 결합되고 결합부재(263)의 다른 일단은 구동부(28)와 연결된 축(271)이 결합된다. 이에 따라 축(271)이 회전하면 받침판(261)도 함께 회전하게 되며, 핀(262)과 자력에 의해 받침판(261)에 결합된 도금셀(10)을 회전시키게 된다.In addition, one end of the coupling member 263 penetrates through the center of the support plate 261 , protrudes above the support plate 261 , and is coupled to the third groove 125 of the plating cell 10 . The coupling member 263 is coupled to be integral with the support plate 261 , and the other end of the coupling member 263 is coupled to a shaft 271 connected to the driving unit 28 . Accordingly, when the shaft 271 rotates, the support plate 261 also rotates, and the plating cell 10 coupled to the support plate 261 by the pin 262 and magnetic force is rotated.

한편 결합부재(263)의 일단은 비교적 넓은 면적을 가지며 제3홈(125)의 바닥과 닿지 않고 다소 이격된 상태가 되도록 형성될 수 있다. 또한 결합부재(263)의 일단에는 함몰된 수용홈(264)이 형성된다. 수용홈(264)을 통해 체결부재(미도시)를 이용하여 결합부재(263)와 축(271)이 결합될 수 있다. Meanwhile, one end of the coupling member 263 has a relatively large area and may be formed to be spaced apart from the bottom of the third groove 125 without touching it. In addition, a recessed receiving groove 264 is formed at one end of the coupling member 263 . The coupling member 263 and the shaft 271 may be coupled using a coupling member (not shown) through the receiving groove 264 .

이러한 구성에 따라 안착부(26)는 받침판(261)의 중앙에 결합부재(263)가 돌출되어 위치하고 결합부재(263) 주위에 핀(262)이 돌출되어 배치되는 형태가 된다. 이에 따라 도금셀(10)은 결합부재(263) 및 핀(262)에 의해 가이드되면서 안정적으로 받침판(261)에 놓여지게 된다. 이때 받침판(261)과 도금셀(10)은 자력에 의해 결합되므로 결합이 견고한 한편 도금셀(10)의 이동도 가능해 진다.According to this configuration, the seating portion 26 has a shape in which the coupling member 263 protrudes from the center of the support plate 261 , and the pins 262 protrude around the coupling member 263 . Accordingly, the plating cell 10 is stably placed on the support plate 261 while being guided by the coupling member 263 and the pin 262 . At this time, since the support plate 261 and the plating cell 10 are coupled by magnetic force, the coupling is strong while the plating cell 10 can be moved.

한편 결합부재(263)가 축(271)의 일단과 결합되어 축 단부를 커버하는 한편 받침판(261)의 상부로 돌출된 형태를 가지므로 받침판(261)에 떨어진 도금액이나 세척액이 축(271)을 따라 이동하는 것을 방지할 수 있다.On the other hand, since the coupling member 263 is coupled to one end of the shaft 271 to cover the shaft end, and has a shape protruding to the upper portion of the support plate 261 , the plating solution or washing solution dropped on the support plate 261 is applied to the shaft 271 . movement can be prevented.

축부(27)는 안착부(26)의 중심에 결합되어 안착부(26)를 회전시킨다. 구체적으로 축부(27)의 축(271)의 일단은 안착부(26)의 결합부재(263)에 결합된다. 결합부재(263)가 받침판(261)과 일체가 되도록 결합되므로 축(271)의 회전은 결합부재(263)와 받침판(261)을 거쳐 도금셀(10)에 전달되고 도금셀(10)이 회전하도록 한다.The shaft portion 27 is coupled to the center of the seating portion 26 to rotate the seating portion 26 . Specifically, one end of the shaft 271 of the shaft portion 27 is coupled to the coupling member 263 of the seating portion 26 . Since the coupling member 263 is coupled to be integral with the support plate 261 , the rotation of the shaft 271 is transmitted to the plating cell 10 through the coupling member 263 and the support plate 261 , and the plating cell 10 rotates. let it do

한편 축부(27)는 분할된 축(271)들이 연결되어 이루어질 수 있다. 도면을 참조하면 축부(27)는 2개의 분할된 축(271)으로 이루어지고 분할된 2개의 축(271)은 커플링(272)으로 서로 연결된다. 이때 커플링(272)은 절연 기능을 가진 것을 사용하는 것이 바람직하다.On the other hand, the shaft portion 27 may be formed by connecting the divided shafts 271 . Referring to the drawings, the shaft portion 27 is composed of two divided shafts 271 , and the two divided shafts 271 are connected to each other by a coupling 272 . At this time, it is preferable to use the coupling 272 having an insulating function.

이는 구동부(28)를 보호하기 위함이다. 상세하게 설명하면 분할된 상부의 축에 캐소드(음극에 해당)가 연결되고 도금셀(10) 내에 채워지는 도금액에 애노드(양극에 해당)가 연결되어 통전되면서 전기도금이 이루어지는데 절연 기능을 가진 커플링(272)을 개재하여 분할된 축(271)으로 구성하면 구동부(28)로 도금에 사용되는 전류가 누설되는 것을 막을 수 있어 도금 품질의 저하를 방지할 수 있음과 동시에 구동부(28)의 손상을 방지할 수 있다.This is to protect the driving unit 28 . In detail, the cathode (corresponding to the negative electrode) is connected to the divided upper shaft, and the anode (corresponding to the positive electrode) is connected to the plating solution filled in the plating cell 10 to conduct electroplating. If the shaft 271 is divided with the ring 272 interposed therebetween, it is possible to prevent leakage of current used for plating to the driving unit 28, thereby preventing deterioration of plating quality and damage to the driving unit 28 at the same time. can prevent

한편 구동부(28)는 축부(27)에 연결되고 축부(27)가 회전하도록 동력을 발생시킨다. 구동부(28)로는 일반적으로 알려진 기어드모터를 사용할 수 있다.Meanwhile, the driving unit 28 is connected to the shaft portion 27 and generates power so that the shaft portion 27 rotates. As the driving unit 28, a generally known geared motor may be used.

제1커버부(21)는 도금셀(10)이 배치된 하부의 일정 영역을 가리는 구성으로서 이를 효과적으로 수행하기 위하여 수용체(211), 플랜지(212) 및 돌출체(213)를 포함하여 구성될 수 있다.The first cover part 21 is configured to cover a certain area under the plating cell 10 and may include a receiver 211, a flange 212, and a protrusion 213 to effectively perform this. have.

도 3과 도 8을 참조하면, 수용체(211)는 도금셀(10)의 하부에 위치하는 내측통(215)과 내측통(215)의 외곽을 둘러싸도록 형성되는 외측통(216)이 연결면(217)을 통해 하부에서 서로 이어져 도금셀(10)에서 비산되는 도금액을 수용한다.Referring to FIGS. 3 and 8 , the receptor 211 has an inner cylinder 215 positioned below the plating cell 10 and an outer cylinder 216 that is formed to surround the outer circumference of the inner cylinder 215 , and is a connection surface. The plating solution scattering from the plating cell 10 is received from the bottom through the 217 .

여기에서 수용체(211)에는 도금셀(10)로부터 비산되어 수용된 도금액을 배출하기 위한 배출관(214)이 형성될 수 있다.Here, a discharge pipe 214 for discharging the received plating solution scattered from the plating cell 10 may be formed in the receptor 211 .

도면을 참조하면, 외측통(216)과 내측통(215)의 하부는 타원 형상이 되도록 경사지게 이루어지고 이를 이어주는 연결면(215) 역시 일측으로 경사지도록 이루어진다. 또한 경사진 연결면(215)의 낮은 부분에 배출관(214)이 형성되어 있어 수용체(211)에 담긴 도금액은 자중에 의해 자연스럽게 배출관(214)으로 배출된다.Referring to the drawings, the lower portions of the outer tube 216 and the inner tube 215 are inclined to have an oval shape, and the connection surface 215 connecting them is also inclined to one side. In addition, since the discharge pipe 214 is formed in the lower part of the inclined connection surface 215 , the plating solution contained in the receptor 211 is naturally discharged to the discharge pipe 214 by its own weight.

이때 외측통(216)의 내경은 도금셀(10)의 외주보다 크게 형성하고 내측통(215)의 내경은 도금셀(10)의 하부의 외주보다 작게 함이 바람직하다. 이와 같은 구조에 의해 도금셀(10)의 하부의 테두리가 외측통(216)과 내측통(215)의 사이에 위치하게 되고 비산된 도금액은 전체적으로 수용체(211)에 수용되게 된다.In this case, it is preferable that the inner diameter of the outer cylinder 216 be larger than the outer periphery of the plating cell 10 , and the inner diameter of the inner cylinder 215 is smaller than the outer circumference of the lower portion of the plating cell 10 . With this structure, the lower edge of the plating cell 10 is positioned between the outer tube 216 and the inner tube 215 , and the scattered plating solution is received in the container 211 as a whole.

내측통(215)의 중앙으로는 구동부(28)와 연결되는 축(27)이 통과하여 도금셀(10)이 놓여진 안착부(26)와 결합하게 된다.A shaft 27 connected to the driving unit 28 passes through the center of the inner cylinder 215 and is coupled to the mounting unit 26 on which the plating cell 10 is placed.

플랜지(212)는 수용체(211)의 외측통(215)의 단부에서 외측통(215)과 수직한 방향으로 돌출되며 작업대(50)에 놓여진다. 플랜지(212)가 작업대에 놓여짐으로써 제1커버부(21)는 작업대(50)에 장착될 수 있다.The flange 212 protrudes from the end of the outer tube 215 of the receiver 211 in a direction perpendicular to the outer tube 215 and is placed on the work table 50 . As the flange 212 is placed on the workbench, the first cover part 21 may be mounted on the workbench 50 .

한편 돌출체(213)는 플랜지(212)로부터 수용체(211)와 반대 방향을 향해 일정 높이로 돌출되고 폐곡면을 이룬다. 돌출체(213)의 상부는 제2커버부(22)와 접촉하여 도금셀(10)의 주위는 외부와 차단되게 된다. 돌출체(213)의 상부와 제2커버부(22)(제2커버부의 플랜지(222))가 맞닿도록 하여 안정적인 공간 폐쇄가 가능하다.Meanwhile, the protrusion 213 protrudes from the flange 212 toward the opposite direction to the receptor 211 at a predetermined height and forms a closed curved surface. The upper portion of the protrusion 213 is in contact with the second cover portion 22 so that the periphery of the plating cell 10 is blocked from the outside. By making the upper portion of the protrusion 213 and the second cover portion 22 (the flange 222 of the second cover portion) in contact with each other, a stable space closure is possible.

한편 제2커버부(22)는 도금셀(10)이 배치된 상부의 영역을 가리는 구성으로서 연통되어 양 단부가 개방되는 공간을 갖고, 커버체(221), 플랜지(222) 및 결합체(223)를 포함하며, 전체적으로 상부가 개방된 돔 형상으로 이루어진다.On the other hand, the second cover part 22 is configured to cover the upper region where the plating cell 10 is disposed, and has a space in which both ends are open, the cover body 221 , the flange 222 and the assembly 223 . Including, as a whole, is made of a dome shape with an open top.

커버체(221)는 연통되어 양 단부가 개방되는 공간을 갖고 도금셀(10)의 상부 주변을 둘러싸도록 덮는다. 커버체(221)의 외측에는 연결부재(225)가 결합되고 연결부재의 일정 지점이 축 회전이 가능하게 결합되는 한편 연결부재(225)의 단부가 실린더 로드에 의해 회전이 가능하도록 연결된다. 이에 따라 실린더(226)가 작동하면 연결부재(225)는 단부가 상승하거나 하강하면서 축을 중심으로 회전되게 되고 연결부재에 결합된 커버체(221)도 회전함으로써 도금셀(10)의 상부 주변을 둘러싸도록 덮거나 덮힌 상태를 해제하도록 구동된다.The cover body 221 is connected to have a space in which both ends are open and covers the upper periphery of the plating cell 10 . A connecting member 225 is coupled to the outside of the cover body 221 , and a certain point of the connecting member is axially rotatably coupled while an end of the connecting member 225 is rotatably connected by a cylinder rod. Accordingly, when the cylinder 226 is operated, the connecting member 225 is rotated about its axis while the end is raised or lowered, and the cover body 221 coupled to the connecting member also rotates to surround the upper periphery of the plating cell 10 . It is driven to cover or release the covered state.

한편 커버체(221)에는, 도금작업시 도금셀(10)로부터 발생하여 커버체(221) 내부에 채워지는 가스를 배출하기 위한 배출관(224)이 형성될 수 있다.Meanwhile, in the cover body 221 , a discharge pipe 224 for discharging gas generated from the plating cell 10 and filled in the cover body 221 during plating may be formed.

플랜지(222)는 커버체(221)의 일측에 커버체(221)와 수직한 방향으로 돌출되어 형성되며 커버체(221)가 도금셀(10)을 덮었을 때 플랜지(222)의 밑면이 제1커버부(21)와 맞닿게 된다. 이때 커버체(221)의 끝단은 제1커버부(21)의 내측통(215)과 외측통(216)의 사이에 위치하게 된다. 한편 플랜지(222)의 상부에는 복수의 가이드블록(228)이 구비되어 커버체(221)가 정확한 위치에 놓여지도록 할 수 있다.The flange 222 is formed to protrude from one side of the cover body 221 in a direction perpendicular to the cover body 221 , and when the cover body 221 covers the plating cell 10 , the bottom surface of the flange 222 is the first. 1 is brought into contact with the cover part 21 . At this time, the end of the cover body 221 is positioned between the inner tube 215 and the outer tube 216 of the first cover part 21 . On the other hand, a plurality of guide blocks 228 are provided on the upper portion of the flange 222 so that the cover body 221 is placed in an accurate position.

결합체(223)는 커버체(221)의 다른 일측에 돌출되어 형성되고 커버체(221)의 방향으로 갈수록 좁아지는 경사면(229)을 갖는 홀이 형성된다. 이 홀에 밀봉부(23)가 결합되어 도금셀(10)의 상부의 공간은 완전하게 밀폐된다.The coupling body 223 is formed to protrude from the other side of the cover body 221 , and a hole having an inclined surface 229 that becomes narrower in the direction of the cover body 221 is formed. The sealing part 23 is coupled to this hole so that the upper space of the plating cell 10 is completely sealed.

한편 밀봉부(23)는 제2커버부(22)의 상부의 개방된 홀을 밀봉하도록 구동됨과 동시에 도금액 또는 세척액이 이동할 수 있는 유로를 구비한다. 밀봉부(23)는 이동체(231), 가압체(232) 및 작용체(233)를 포함하여 이루어지며 후술하는 도금부(24), 액회수부(25), 세척부(31)로 작용할 수 있다.Meanwhile, the sealing part 23 is driven to seal the open hole in the upper part of the second cover part 22 and has a flow path through which the plating solution or the cleaning solution can move. The sealing part 23 includes a movable body 231 , a pressing body 232 , and an action body 233 , and can act as a plating part 24 , a liquid recovery part 25 , and a washing part 31 to be described later. have.

이동체(231)는 2차원 또는 3차원 이동이 가능하여 작용체(233)를 제2커버부(22)의 홀 상부에 위치시키거나 가압체(232)가 홀에 결합되도록 이동시킬 수 있다. 이동체(231)는 작업대(50)의 하부에 위치한 상하 구동기와 회전 구동기에 의해 2차원 이동이 가능하다. 구체적으로 이동체(231)는 회전 구동에 의해 제2커버부(22)의 홀 상부로 위치 이동이 가능하며 상하 구동기에 의해 제2커버부(22)의 홀에 결합되도록 이동이 가능하다.The movable body 231 can move in two or three dimensions, so that the action body 233 can be positioned above the hole of the second cover part 22 or the pressing body 232 can be moved to be coupled to the hole. The movable body 231 is capable of two-dimensional movement by a vertical actuator and a rotation actuator located under the work table 50 . Specifically, the movable body 231 can be moved to the upper part of the hole of the second cover part 22 by rotational driving, and can be moved to be coupled to the hole of the second cover part 22 by a vertical actuator.

가압체(232)는 탄성부재(234)가 개재되어 이동체(231)에 결합되고, 제2커버부(22)가 도금셀(10)의 상부 주변을 둘러싸도록 덮었을 때 제2커버부(22)의 상부의 개방된 홀에 결합되어 가압한다. 밀봉부(23)가 홀에 결합된 상태에서 하부로 일정 거리를 이동하면 탄성부재(234)는 변형되면서 밀봉부(23)가 홈에 밀착되도록 한다.The pressing body 232 is coupled to the movable body 231 with an elastic member 234 interposed therebetween, and when the second cover part 22 is covered to surround the upper periphery of the plating cell 10, the second cover part 22 ) is coupled to the open hole in the upper part and pressurized. When the sealing part 23 is moved downward a predetermined distance in a state coupled to the hole, the elastic member 234 is deformed so that the sealing part 23 is in close contact with the groove.

한편 가압체(232)는 경사면이 형성되고 이 경사면에 실링부재(235)가 구비될 수 있다. 실링부재(235)는 경사면에 홈을 형성하고 장착될 수 있다. 상술한 제2커버부(22)의 개방된 홀에도 대응되는 경사면(229)이 형성되므로 각 경사면 사이에서 실링부재가 밀착되면서 가압체(232)와 제2커버부(22)가 결합될 수 있다.Meanwhile, the pressing body 232 may have an inclined surface, and a sealing member 235 may be provided on the inclined surface. The sealing member 235 may be mounted with a groove formed on the inclined surface. Since the inclined surface 229 corresponding to the open hole of the above-described second cover part 22 is also formed, the pressing body 232 and the second cover part 22 can be coupled to each other while the sealing member is in close contact between the inclined surfaces. .

작용체(233)는 가압체(232) 내부를 관통하여 이동체(231)에 결합되고 내부에 도금액 또는 세척액이 이동할 수 있는 유로가 형성된다. 작용체(233)는 도금액이 저장된 저장조 또는 세척액이 저장된 저장조와 연결되고 펌프의 구동에 의해 도금액 또는 세척액을 분출하거나 도금셀(10) 내부에 채워진 도금액 또는 세척액에 잠기도록 위치할 수 있는 노즐을 통해 도금액 또는 세척액을 흡입할 수 있다.The working body 233 passes through the inside of the pressing body 232 and is coupled to the movable body 231 , and a flow path through which the plating solution or the washing solution can move is formed therein. The working body 233 is connected to the storage tank in which the plating liquid is stored or the storage tank in which the washing liquid is stored, and ejects the plating liquid or the cleaning liquid by driving the pump, or through a nozzle that can be positioned to be immersed in the plating liquid or the cleaning liquid filled in the plating cell 10 The plating solution or cleaning solution can be sucked.

이러한 구성에 따라 도금셀(10)의 회전에 의해 도금작업 또는 세척작업이 수행될 때 도금액 또는 세척액이 도금셀(10)의 외부로 비산되더라도 제1커버부(21), 제2커버부(22) 및 밀봉부(23)에 의해 차단됨으로써 주변부의 오염을 방지할 수 있으며 이에 따라 제1커버부(21), 제2커버부(22) 및 밀봉부(23)는 비산방지구조를 이룬다.According to this configuration, even if the plating solution or the cleaning solution scatters to the outside of the plating cell 10 when the plating operation or the cleaning operation is performed by the rotation of the plating cell 10 , the first cover part 21 and the second cover part 22 ) and the sealing part 23 can prevent contamination of the surrounding area, and thus the first cover part 21, the second cover part 22 and the sealing part 23 form a scattering prevention structure.

상술한 밀봉부(23)는 도금유닛(20)에서 도금부(24)와 액회수부(25)의 구성을 가지고 도금작업과 액회수작업을 수행할 수 있으며 세척유닛(30)에서 세척부(31)의 구성을 가지고 세척작업을 수행할 수 있다.The above-described sealing unit 23 has the configuration of the plating unit 24 and the liquid recovery unit 25 in the plating unit 20 to perform plating and liquid recovery operations, and in the washing unit 30 , the washing unit ( 31), cleaning can be performed.

도 9는 도금유닛에서 도금액 투입 및 도금공정을 수행하는 작동도이고, 도 10은 도금유닛에서 도금액 흡입공정을 수행하는 작동도이다.9 is an operation diagram illustrating a plating solution input and a plating process in the plating unit, and FIG. 10 is an operation diagram illustrating a plating solution suction process in the plating unit.

도금부(24)는 상술한 밀봉부(23)의 기본 구성을 채용하여 이동체(231), 가압체(232) 및 작용체(233)를 포함하여 이루어진다. 다만 도금부(24)에서 작용체(233)는 도금작업을 수행하기 위한 제1작용체로서 제1작용체는, 애노드(241), 단자(242), 액공급유로(243) 및 액분출구(244)를 구비한다.The plating part 24 adopts the basic configuration of the sealing part 23 described above and includes a movable body 231 , a pressing body 232 , and a working body 233 . However, in the plating part 24, the acting body 233 is a first acting body for performing the plating operation, and the first acting body is an anode 241, a terminal 242, a liquid supply passage 243, and a liquid outlet ( 244) is provided.

단자(242)는 일단이 이동체(231)의 상부로 돌출되도록 작용체(233)에 내재되고 다른 일단은 애노드(241)에 연결된다. 애노드(241)는 작용체(233)의 일단에 구비되고 가압체(232)의 내측을 통과하여 배치된다. 애노드(241)는 도금작업시 도금셀(10)의 내부에 위지하게 된다. 애노드(241)는 속이 비어 있는 통 형상의 망으로 이루어진다. 도금작업은 단자(242)에 양극이 연결되고 안착부(26)를 회전시키는 축(27)에 음극이 연결되어 도금셀(10)이 통전되는 상태에서 이루어지게 된다.The terminal 242 is embedded in the working body 233 so that one end protrudes above the movable body 231 , and the other end is connected to the anode 241 . The anode 241 is provided at one end of the working body 233 and is disposed through the inside of the pressing body 232 . The anode 241 is positioned inside the plating cell 10 during the plating operation. The anode 241 is made of a hollow cylindrical mesh. The plating operation is performed in a state in which an anode is connected to the terminal 242 and a cathode is connected to a shaft 27 that rotates the seat 26 so that the plating cell 10 is energized.

액공급유로(243)는 제1작용체 내부에 형성되고 배관이 연결되어 도금액을 이동시키며 유로 끝에 형성된 액분출구(244)를 통해 도금액이 분출되도록 유도한다. 액분출구(244)는 제1작용체의 밑면에 형성되어 있고, 도금액은 애노드(241)의 내부공간을 통해 도금셀(10)에 채워지게 된다.The liquid supply passage 243 is formed inside the first acting body and connected to a pipe to move the plating liquid, and induces the plating liquid to be ejected through the liquid outlet 244 formed at the end of the passage. The liquid outlet 244 is formed on the lower surface of the first acting body, and the plating solution is filled in the plating cell 10 through the inner space of the anode 241 .

한편 액회수부(25) 역시 상술한 밀봉부(23)의 기본 구성을 채용하여 이동체(231), 가압체(232) 및 작용체(233)를 포함하여 이루어진다. 액회수부(25)에서 작용체(233)는 도금액을 회수하기 위한 제2작용체로서 제2작용체는, 회수노즐(251) 및 액회수유로(252)를 포함한다.Meanwhile, the liquid recovery unit 25 also includes a moving body 231 , a pressing body 232 , and an acting body 233 by adopting the basic configuration of the sealing unit 23 described above. In the liquid recovery unit 25 , the acting member 233 is a second acting member for recovering the plating solution, and the second acting member includes a recovery nozzle 251 and a liquid recovery passage 252 .

회수노즐(251)은 제2작용체의 하측면에서 길게 연장되도록 구비된다. 액회수유로(252)는 제2작용체의 내부에 형성되고 회수노즐(251)의 일단이 결합된다. 회수노즐(251)의 다른 일단은 액회수부(25)가 제2커버체(221)와 결합될 때 도금셀(10)의 내부에 위치하게 되고 도금액에 잠기게 된다. 이때 펌프의 작용에 의해 액회수유로(252)와 회수노즐(251)에 음압이 형성되면 도금셀(10) 내부에 채워져 있는 도금액을 흡입하여 회수하게 된다.The recovery nozzle 251 is provided to extend long from the lower surface of the second acting body. The liquid recovery passage 252 is formed inside the second acting body, and one end of the recovery nozzle 251 is coupled thereto. The other end of the recovery nozzle 251 is positioned inside the plating cell 10 when the liquid recovery part 25 is coupled to the second cover body 221 and is immersed in the plating solution. At this time, when a negative pressure is formed in the liquid recovery passage 252 and the recovery nozzle 251 by the action of the pump, the plating solution filled in the plating cell 10 is sucked and recovered.

도 11은 세척유닛에서 세척액 투입 및 세척공정을 수행하는 작동도이고, 도 12는 세척유닛에서 도금액 세척액 흡입 및 피도금물 회수공정을 수행하는 작동도이다.11 is an operational diagram of the washing unit inserting a washing solution and performing a washing process, and FIG. 12 is an operating diagram of performing a plating solution washing solution suction and plated object recovery process in the washing unit.

세척유닛(30)은 도금유닛(20)과 별도의 유닛으로 이루어지고 도금셀(10)이 장착되고 도금액에 세척액을 채워 회전시키면서 세척작업을 수행한다.The washing unit 30 is composed of a unit separate from the plating unit 20 , the plating cell 10 is mounted, and the plating solution is filled with a washing solution to perform washing while rotating.

세척유닛(30)의 전체적인 구성은 도금유닛(20)과 동일하다. 즉 세척유닛(30)은 장착유닛을 구성하는 안착부(26), 축부(27), 구동부(28)와 액의 비산을 방지하면서 세척작업을 수행하기 위한 제1커버부(21), 제2커버부(22), 밀봉부(23)를 포함하는 구성들이 프레임(60)에 결합되어 이루어진다. 이러한 측면에서 세척유닛(30)의 구성에 대한 설명은 상술한 도금유닛(20)의 구성에 대한 설명이 배치되지 않는 범위에서 적용될 수 있다.The overall configuration of the washing unit 30 is the same as that of the plating unit 20 . That is, the washing unit 30 includes the seating part 26, the shaft part 27, and the driving part 28 constituting the mounting unit and the first cover part 21 and the second cover part 21 for performing the washing operation while preventing the liquid from scattering. Components including the cover part 22 and the sealing part 23 are coupled to the frame 60 . In this respect, the description of the configuration of the washing unit 30 may be applied to the extent that the description of the configuration of the above-described plating unit 20 is not disposed.

한편 밀봉부(23)가 세척부(31)로 구성되어 도금셀(10)의 내부의 피도금물을 세척하는 작업을 수행할 수 있으며 피도금물을 회수하기 위한 회수부(32)를 더 포함할 수 있다.On the other hand, the sealing part 23 is composed of the washing part 31 so that it can perform the operation of washing the object to be plated inside the plating cell 10 and further includes a recovery part 32 for recovering the object to be plated. can do.

세척부(31)는 상술한 밀봉부(23)의 기본 구성을 채용하여 이동체(231), 가압체(232) 및 작용체(233)를 포함하여 이루어진다. 세척부(31)에서 작용체(233)는 세척작업을 수행하기 위한 제3작용체로서 제3작용체는, 액공급유로(311) 및 액분출구(312)를 구비한다.The cleaning unit 31 includes a movable body 231 , a pressing body 232 , and an action body 233 by adopting the basic configuration of the sealing unit 23 described above. In the washing unit 31 , the agent 233 is a third agent for performing a cleaning operation, and the third agent includes a liquid supply passage 311 and a liquid outlet 312 .

액공급유로(311)는 제3작용체의 내부에 형성되고 배관이 연결되어 세척액을 이동시키며 유로 끝에 형성된 액분출구(312)를 통해 세척액이 분출되도록 유도한다. 액분출구(312)는 제3작용체의 밑면에 형성되어 있고, 액분출구(312)는 세척부(31)가 제2커버체(221)와 결합될 때 도금셀(10)의 내부에 위치하게 되어 안정적으로 세척액이 도금셀(10)의 내부를 채우게 된다.The liquid supply passage 311 is formed inside the third acting body, and a pipe is connected to move the cleaning liquid, and induces the cleaning liquid to be ejected through the liquid outlet 312 formed at the end of the passage. The liquid outlet 312 is formed on the bottom surface of the third working body, and the liquid outlet 312 is positioned inside the plating cell 10 when the cleaning unit 31 is coupled to the second cover body 221 . Thus, the cleaning solution stably fills the inside of the plating cell 10 .

한편 액회수부(25)와 세척부(31)는 별도로 구성할 수도 있지만 구성을 같이 하고 두 가지 기능을 모두 수행할 수 있는 하나의 작용체를 채용할 수도 있다. 도면에 도시된 액회수부(25)와 세척부(31)의 작용체(233)는 회수노즐(251), 액회수유로(252), 액공급유로(311) 및 액분출구(312)를 모두 포함하여 구성된 형태로서 이러한 작용체(233)를 사용하는 경우 액회수부(25)와 세척부(31)로 각각 사용할 수도 있고 액회수부(25)와 세척부(31)를 겸용하여 사용할 수도 있다.On the other hand, the liquid recovery unit 25 and the washing unit 31 may be configured separately, but it is also possible to employ a single agent having the same configuration and performing both functions. The working body 233 of the liquid recovery unit 25 and the washing unit 31 shown in the drawing includes all of the recovery nozzle 251 , the liquid recovery passage 252 , the liquid supply passage 311 , and the liquid outlet 312 . In the case of using such an agent 233 as a form including, it may be used as the liquid recovery unit 25 and the washing unit 31, respectively, or may be used in combination with the liquid recovery unit 25 and the washing unit 31 .

액회수부(25)와 세척부(31)를 겸용하여 사용하는 경우 세척부(31)를 별도로 마련하지 않을 수 있다. 한편 이 경우 액회수유로(252)에 연결되는 배관을 분기시키고 분기된 배관에 밸브를 장착하여 도금액을 회수할 때와 세척액을 회수할 때 서로 다른 밸브가 열리도록 제어함으로써 도금액과 세척액을 각각 회수하도록 구성할 수도 있다.When the liquid recovery unit 25 and the washing unit 31 are used together, the washing unit 31 may not be separately provided. On the other hand, in this case, the pipe connected to the liquid recovery passage 252 is branched and a valve is installed in the branched pipe to control different valves to open when recovering the plating solution and the washing solution, thereby recovering the plating solution and the washing solution, respectively. It can also be configured.

회수부(32)는 도금이 완료된 피도금물을 회수하기 위한 구성으로서, 이동체(321)와 회수모듈(322)을 포함하여 이루어진다. 회수부(32)는 제2커버부(22)와 밀봉된 상태를 요구하지 않는다.The recovery unit 32 is a component for recovering a plated object that has been plated, and includes a moving body 321 and a recovery module 322 . The recovery part 32 does not require a sealed state with the second cover part 22 .

이동체(321)는 상하 및 회전 이동이 가능하여 회수모듈(322)을 제2커버부(22)의 홀 상부에 위치시키거나 회수모듈(322)이 도금셀(10)의 내부로 진입하도록 이동시킬 수 있다. 한편 회수모듈(322)은 직선 운동이 가능하도록 이루어지고 물 배관과 연결되어 물을 공급하는 공급부재(323)와 피도금물을 흡입하여 연결된 배관을 통해 회수하는 흡입부재(324)를 포함한다.The movable body 321 is movable up and down and rotationally, so that the recovery module 322 is positioned above the hole of the second cover part 22 or the recovery module 322 is moved to enter the inside of the plating cell 10 . can Meanwhile, the recovery module 322 includes a supply member 323 connected to a water pipe for supplying water and a suction member 324 for sucking the plated object and collecting it through the pipe connected to the water pipe to enable linear motion.

도면을 참조하면 공급부재(323)와 흡입부재(324)는 브래킷(325)에 결합되고 이 브래킷(325)은 이동체(321)에 구비되는 볼스크류에 결합되어 직선 운동이 가능하다. 또한 이동체(321)가 상승 및 하강하는 것이 가능하므로 회수모듈(322)이 도금셀(10)의 내부 영역을 자유롭게 이동하면서 피도금물을 회수하는 것이 가능하다.Referring to the drawings, the supply member 323 and the suction member 324 are coupled to the bracket 325 , and the bracket 325 is coupled to the ball screw provided in the movable body 321 to enable linear movement. In addition, since the movable body 321 can rise and fall, it is possible to collect the object to be plated while the recovery module 322 freely moves in the inner region of the plating cell 10 .

이러한 회수부(32)는 물을 공급하면서 물과 함께 피도금물을 흡입하여 회수하므로 피도금물 회수가 용이하고 공정의 자동화가 가능하다. 흡입된 물과 피도금물은 망을 구비하는 거름유닛(미도시)을 통해 분리될 수 있으며 이에 따라 도금이 완료된 피도금물을 회수하는 것이 가능하다.Since the recovery unit 32 sucks and recovers the object to be plated together with water while supplying water, the recovery of the object to be plated is easy and the process can be automated. The sucked water and the object to be plated may be separated through a filtering unit (not shown) having a mesh, and thus it is possible to recover the object to be plated after plating has been completed.

한편 도금유닛(20)과 세척유닛(30)은 각각으로 이루어진 모듈로 구성되거나 각 유닛이 합쳐져 하나의 모듈로 구성될 수 있고, 이러한 모듈들이 배치되어 도금작업을 수행하도록 구성할 수도 있다.On the other hand, the plating unit 20 and the washing unit 30 may be configured as a module consisting of each, or each unit may be combined to form a single module, and these modules may be arranged to perform a plating operation.

먼저 도금유닛(20)과 세척유닛(30)은 각각 프레임(60)과 작업대(50)를 달리하여 별도의 모듈로 구성되고 이러한 도금유닛과 세척유닛을 적절하게 배치하여 도금장치(100)를 구성할 수 있다. First, the plating unit 20 and the washing unit 30 are configured as separate modules with a different frame 60 and a work bench 50, respectively, and the plating unit 100 is configured by appropriately arranging the plating unit and the washing unit. can do.

예를 들어 도금유닛(20)의 공정시간이 세척유닛(30)의 2배 정도가 되는 경우 도금유닛(20) 2개에 세척유닛(30) 1개를 배치하고 도금셀(10)을 이동하면서 도금공정을 수행할 수 있고 이에 따라 공정시간을 단축하는 것이 가능하다.For example, when the processing time of the plating unit 20 is about twice that of the washing unit 30, one washing unit 30 is disposed in two plating units 20 and the plating cell 10 is moved while It is possible to perform a plating process, thereby shortening the process time.

한편 도금유닛(20)과 세척유닛(30)이 함께 프레임(60)과 작업대(50)를 같이 하여 하나의 모듈로 구성되고 이를 연속적으로 배치하여 도금장치(100)를 구성할 수도 있다.On the other hand, the plating unit 20 and the washing unit 30 together with the frame 60 and the workbench 50 are configured as one module, and the plating apparatus 100 may be configured by continuously disposing them.

예를 들어 2가지 서로 다른 도금이 연속적으로 필요한 경우 상술한 바와 같이 도금유닛(20)과 세척유닛(30)이 결합된 모듈을 2개 연속적으로 배치하고 도금셀(10)을 이동하면서 1차도금, 1차세척, 2차도금, 2차세척의 순서로 도금공정을 수행할 수도 있다. For example, when two different platings are continuously required, as described above, two modules in which the plating unit 20 and the washing unit 30 are combined are sequentially arranged and the plating cell 10 is moved while the primary plating is performed. , the plating process may be performed in the order of 1st washing, 2nd plating, 2nd washing.

이러한 형태의 도금장치가 도 13에 도시되어 있으며 도금유닛으로 이동하기 전 피도금물이 투입된 상태의 도금셀을 대기시키는 투입유닛과 세척이 완료된 도금셀이 배출되어 놓여지는 배출유닛이 구비될 수 있다.A plating apparatus of this type is shown in FIG. 13, and an input unit for waiting the plating cell in which the object to be plated is put in before moving to the plating unit and a discharge unit for discharging and placing the cleaned plating cell may be provided. .

한편 1차도금과 2차도금에 시간의 차이에 있고 2차도금의 시간이 1차도금과 1차세척의 시간을 합친 시간과 비슷한 경우 2차도금에 대한 세척은 세척유닛을 더 마련하거나 별도의 장치에서 수행하는 등으로 운용이 가능하다. On the other hand, if there is a difference in time between the 1st plating and the 2nd plating, and the 2nd plating time is similar to the combined time of 1st plating and 1st washing, the washing for the 2nd plating can be done by installing an additional washing unit or It can be operated by performing on the device, etc.

이송유닛(40)은 도금셀(10)을 파지하여 도금유닛(20)과 세척유닛(30)으로 이동시키면서 연속적인 작업을 수행하도록 한다. 도 13과 도 14를 참조하면, 이송유닛(40)은, 가이드부(41), 이송부(42) 및 그립퍼부(43)를 포함한다.The transfer unit 40 holds the plating cell 10 and moves it to the plating unit 20 and the washing unit 30 to perform a continuous operation. 13 and 14 , the transfer unit 40 includes a guide unit 41 , a transfer unit 42 , and a gripper unit 43 .

가이드부(41)는 도금유닛과 세척유닛이 배치되는 경로를 따라 설치된다. 가이드부(41)로는 홈이 형성된 이송레일을 사용할 수 있다.The guide part 41 is installed along a path where the plating unit and the washing unit are arranged. As the guide part 41, a grooved transport rail may be used.

이송부(42)는 가이드부(41)에 결합되고 가이드부(41)를 따라 이동이 가능하다. 이송부(42)에는 이송레일의 홈에 결합하여 이송레일을 따라 이동하는 가이드블록(미도시)이 구비된다. 이송부(42) 내에는 그립퍼부(43)를 상하로 이동시키는 구동장치가 탑재될 수 있다. 구동장치는 실린더를 포함하여 이루어질 수 있다.The transfer unit 42 is coupled to the guide unit 41 and is movable along the guide unit 41 . The transfer unit 42 is provided with a guide block (not shown) coupled to the groove of the transfer rail to move along the transfer rail. A driving device for moving the gripper unit 43 up and down may be mounted in the transfer unit 42 . The driving device may include a cylinder.

그립퍼부(43)는 이송부(42)에 결합되고 그립퍼 수단을 구비하여 도금셀의 측부를 파지한다. 이를 위하여 그립퍼부(43)는 구동체(431), 핑거체(432) 및 파지체(433)를 포함하여 이루어질 수 있다.The gripper part 43 is coupled to the transfer part 42 and includes a gripper means to grip the side of the plating cell. To this end, the gripper part 43 may include a driving body 431 , a finger body 432 , and a gripping body 433 .

구동체(431)는 상하 방향으로 위치 이동이 가능하게 이루어진다. 구동체(431) 내부에는 핑거체(432)를 구동시키기 위한 구동장치가 탑재되고 구동장치는 한 쌍의 볼스크류를 포함하여 이루어질 수 있다.The driving body 431 is made to be movable in the vertical direction. A driving device for driving the finger body 432 is mounted inside the driving body 431 , and the driving device may include a pair of ball screws.

핑거체(432)는 구동체(431)에 결합되고 서로 멀어지거나 좁혀지는 방향으로 이동이 가능하게 이루어진다. 핑거체(432)는 한 쌍이 구비되어 개별적으로 구동체(431)에 탑재된 볼스크류에 연결되어 서로 멀어지거나 좁혀지는 방향으로 이동할 수 있다. 핑거체(432)는 도금셀(10)을 파지할 때 단부가 도금셀(10)의 측면에 위치할 수 있다.The finger body 432 is coupled to the driving body 431 and is made to move in a direction that is farther away from or narrowed from each other. A pair of finger bodies 432 is provided and individually connected to a ball screw mounted on the driving body 431 to move away from or narrowed from each other. An end of the finger body 432 may be located on a side surface of the plating cell 10 when gripping the plating cell 10 .

파지체(433)는 핑거체(432)에 각각 결합되고 적어도 하나의 핑거체(432)는 탄성부재(434)를 개재하여 결합되며 도금셀(10)의 측부를 파지하여 잡아준다. 파지체(433)는 도금셀(10)의 측부를 향하도록 핑거체(432)로부터 돌출되도록 결합되고, 적어도 하나의 파지체(433)가 핑거체(432)와 탄성부재(434)를 개재하여 결합됨으로써 도금셀(10)의 측부를 손상없이 견고하게 잡아줄 수 있다. 또한 도금셀(10)의 측부에 홈이 형성됨으로써 미끌어짐을 방지할 수 있다.The grippers 433 are respectively coupled to the finger bodies 432 , and at least one finger body 432 is coupled with an elastic member 434 interposed therebetween, and grips and holds the side of the plating cell 10 . The holding body 433 is coupled to protrude from the finger body 432 to face the side of the plating cell 10 , and at least one holding body 433 is interposed between the finger body 432 and the elastic member 434 . By being coupled, it is possible to firmly hold the side of the plating cell 10 without damage. In addition, by forming a groove on the side of the plating cell 10, it is possible to prevent slippage.

이와 같은 구성에 따라, 도금셀(10)의 이동이 가능하고, 도금셀(10)이 도금 또는 세척 등의 하나의 개별 작업을 수행하는 장치에 장착하여 사용할 수 있다. 이에 따라 전체적인 공정 자동화가 가능하고, 개별 작업을 수행하는 장치를 적절한 갯수로 적절한 위치에 배치하여 신속하게 도금공정을 수행할 수 있다.According to such a configuration, the plating cell 10 can be moved, and the plating cell 10 can be mounted and used in an apparatus for performing one individual operation such as plating or washing. Accordingly, the entire process can be automated, and the plating process can be performed quickly by arranging an appropriate number of devices for performing individual operations in an appropriate location.

상술한 도금장치는 다음과 같이 작동할 수 있다. The above-described plating apparatus may operate as follows.

이하에서는 도금유닛(20)과 세척유닛(30)이 각각 하나씩 구비된 도금장치의 작동에 대하여 설명한다. 다만, 이러한 설명은 도금유닛과 세척유닛이 복수로 결합된 형태의 다른 도금장치의 설명에도 적용될 수 있다.Hereinafter, the operation of the plating apparatus having each of the plating unit 20 and the washing unit 30 will be described. However, these descriptions may also be applied to descriptions of other plating apparatuses in which a plating unit and a washing unit are combined in plurality.

먼저 피도금물이 투입된 도금셀(10)을 이송유닛(40)이 파지하여 도금유닛(20)에 장착한다. 도금셀(10)에 형성된 그립홈(112)을 이송유닛(40)의 그립퍼부(43)가 파지함으로써 도금셀(10)은 안정적으로 파지될 수 있으며, 도금셀(10)은 핀과 자석에 의한 결합에 따라 안착부(26)의 정확한 위치에 견고하게 장착될 수 있다.First, the transfer unit 40 grips the plating cell 10 into which the object to be plated is put, and mounts it on the plating unit 20 . Since the gripper part 43 of the transfer unit 40 grips the grip groove 112 formed in the plating cell 10, the plating cell 10 can be stably gripped, and the plating cell 10 is attached to the pins and magnets. It can be firmly mounted at the correct position of the seating portion 26 according to the coupling.

도금셀(10)이 도금유닛(20)에 장착되면 제1커버부(21)와 제2커버부(22)에 의해 도금셀(10)을 감싸고 도금부(24)가 커버부의 상부 홀을 폐쇄한 상태에서 도금액을 투입한 후 도금셀(10)을 회전시켜 도금작업을 수행한다. 이어서 도금작업이 완료되면 액회수부(25)가 제2커버부(22)의 상부 홀을 폐쇄한 상태에서 도금액을 회수한다.When the plating cell 10 is mounted on the plating unit 20, the plating cell 10 is surrounded by the first cover part 21 and the second cover part 22, and the plating part 24 closes the upper hole of the cover part. After the plating solution is put in one state, the plating cell 10 is rotated to perform the plating operation. Then, when the plating operation is completed, the liquid recovery unit 25 recovers the plating solution in a state in which the upper hole of the second cover unit 22 is closed.

이어서 도금셀(10)을 세척유닛(30)으로 이동시킨다. 도금셀(10)을 도금유닛(20)에서 세척유닛(30)으로 이동시키는 것 역시 상술한 이송유닛(40)을 사용할 수 있다. Then, the plating cell 10 is moved to the washing unit 30 . Moving the plating cell 10 from the plating unit 20 to the washing unit 30 may also use the transfer unit 40 described above.

세척유닛(30)으로 이동된 도금셀(10)은 제1커버부(21)와 제2커버부(22)에 의해 도금셀(10)을 감싸고 세척부(31)가 제2커버부(22)의 상부의 홀을 폐쇄한 상태에서 세척액을 투입한 후 도금셀(10)을 회전시켜 세척작업을 수행한다. 이때 세척부(31)에 회수노즐(251)과 액회수유로(252)가 구비되어 있는 경우 세척작업이 종료된 후 세척액을 흡인하여 즉시 회수할 수 있다. The plating cell 10 moved to the washing unit 30 surrounds the plating cell 10 by the first cover unit 21 and the second cover unit 22 , and the washing unit 31 is connected to the second cover unit 22 . ) in the state in which the hole in the upper part is closed, the cleaning solution is put in, and then the plating cell 10 is rotated to perform the cleaning operation. At this time, if the cleaning unit 31 is provided with the recovery nozzle 251 and the liquid recovery passage 252, the cleaning solution can be suctioned and recovered immediately after the cleaning operation is finished.

또한 세척액을 회수한 후에는 회수부(32)를 작동시켜 도금이 완료된 피도금물을 회수할 수 있다. 피도금물이 회수되고 남은 도금셀(10)은 다시 이송유닛(40)에 의해 세척유닛으로부터 배출될 수 있다.In addition, after recovering the cleaning solution, the recovery unit 32 may be operated to recover the plated object on which the plating has been completed. The plating cell 10 remaining after the object to be plated is recovered may be discharged from the washing unit again by the transfer unit 40 .

상기와 같이 도금장치는 상기 설명된 실시예들의 구성과 방법이 한정되게 적용될 수 있는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.As described above, in the plating apparatus, the configuration and method of the above-described embodiments may not be limitedly applied, but all or part of each embodiment may be selectively combined so that various modifications may be made. .

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the detailed description of the present invention described above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art or those having ordinary knowledge in the art will have the spirit of the present invention described in the claims to be described later. And it will be understood that various modifications and variations of the present invention can be made without departing from the technical scope.

10 : 도금셀
11 : 몸체부 111 : 플랜지 112 : 그립홈 113 : 경사면
12 : 바닥부 121 : 제1플레이트 122 : 제2플레이트
123 : 제1홈 124 : 제2홈 125 : 제3홈 126 : 제4홈
127 : 자성체 128 : 돌기
13 : 덮개부 131 : 입구면 132 : 경사면 133 : 테두리면
134 : 단차홈 135 : 슬릿홀 136 : 보강판
20 : 도금유닛
21 : 제1커버부 211 : 수용체 212 : 플랜지 213 : 돌출체
214 : 배출관 215 : 내측통 216 : 외측통 217 : 연결면
22 : 제2커버부 221 : 커버체 222 : 플랜지 223 : 결합체
224 : 배출관 225 : 연결부재 226 : 실린더
228 : 가이드블록 229 : 경사면
23 : 밀봉부 231 : 이동체 232 : 가압체 233 : 작용체
234 : 탄성부재 235 : 실링부재
24 : 도금부 241 : 애노드 242 : 단자 243 : 액공급유로
244 : 액분출구
25 : 액회수부 251 : 회수노즐 252 : 액회수유로
26 : 안착부 261 : 받침판 262 : 핀 263 : 결합부재 264 : 수용홈
265 : 자석
27 : 축부 271 : 축 272 : 커플링
28 : 구동부
30 : 세척유닛
31 : 세척부 311 : 액공급유로 312 : 액분출구
32 : 회수부 321 : 이동체 322 : 회수모듈 323 : 공급부재
324 : 흡입부재 325 : 브래킷
40 : 이송유닛
41 : 가이드부 42 : 이송부 43 : 그립퍼부
431 : 구동체 432 : 핑거체 433 : 파지체 434 : 탄성부재
50 : 작업대 60 : 프레임 100 : 도금장치
10: plating cell
11: body 111: flange 112: grip groove 113: inclined surface
12: bottom 121: first plate 122: second plate
123: first groove 124: second groove 125: third groove 126: fourth groove
127: magnetic material 128: protrusion
13: cover 131: entrance surface 132: inclined surface 133: edge surface
134: step groove 135: slit hole 136: reinforcing plate
20: plating unit
21: first cover part 211: receptor 212: flange 213: protrusion
214: discharge pipe 215: inner tube 216: outer tube 217: connection surface
22: second cover part 221: cover body 222: flange 223: assembly
224: discharge pipe 225: connecting member 226: cylinder
228: guide block 229: inclined surface
23: sealing part 231: moving body 232: pressing body 233: working body
234: elastic member 235: sealing member
24: plating part 241: anode 242: terminal 243: liquid supply passage
244: liquid outlet
25: liquid recovery unit 251: recovery nozzle 252: liquid recovery passage
26: seating portion 261: support plate 262: pin 263: coupling member 264: receiving groove
265: magnet
27: shaft 271: shaft 272: coupling
28: drive unit
30: washing unit
31: washing unit 311: liquid supply passage 312: liquid outlet
32: recovery unit 321: movable body 322: recovery module 323: supply member
324: suction member 325: bracket
40: transfer unit
41: guide part 42: transfer part 43: gripper part
431: driving body 432: finger body 433: gripping body 434: elastic member
50: work table 60: frame 100: plating device

Claims (12)

내부에 형성된 공간에 피도금물이 투입되고 이동이 가능하도록 이루어지는 도금셀,
상기 도금셀이 장착되고 상기 도금셀에 도금액을 채워 회전시키면서 도금작업을 수행하는 도금유닛,
상기 도금유닛으로부터 이동된 상기 도금셀이 장착되고 상기 도금셀에 세척액을 채워 회전시키면서 세척작업을 수행하는 세척유닛 및
상기 도금셀을 파지하여 상기 도금유닛과 상기 세척유닛으로 이동시키는 이송유닛
을 포함하는 회전식 도금장치.
A plating cell in which the object to be plated is put into the space formed therein and can be moved;
a plating unit in which the plating cell is mounted and the plating cell is filled with a plating solution and rotated to perform a plating operation;
a washing unit in which the plating cell moved from the plating unit is mounted and the plating cell is filled with a washing solution and rotated to perform a washing operation;
A transfer unit holding the plating cell and moving it to the plating unit and the washing unit
A rotary plating device comprising a.
제1항에 있어서,
상기 도금셀은,
양 방향으로 연통되는 통 형상으로 이루어지고 내부가 하부로 갈수록 좁아지는 경사면으로 이루어지는 몸체부,
상기 몸체부의 하부를 덮도록 이루어지고 밑면에는 받침판과 장착 및 탈착이 가능하게 결합되는 복수의 홈이 형성되는 바닥부 및
상기 몸체부의 상부를 덮고 양 방향으로 연통되는 통 형상으로 이루어지며 하부로 갈수록 외주가 커지는 경사면을 구비하는 덮개부
를 포함하는 회전식 도금장치.
According to claim 1,
The plating cell is
A body portion consisting of a tubular shape communicating in both directions and having an inclined surface that becomes narrower toward the bottom,
a bottom portion formed to cover the lower portion of the body portion and having a plurality of grooves formed on the bottom surface thereof to be mounted and detachably coupled to the support plate; and
The cover part covers the upper part of the body part and has a tubular shape communicating in both directions and having an inclined surface whose outer periphery increases toward the lower part.
A rotary plating device comprising a.
제2항에 있어서,
상기 바닥부는,
중앙에 원뿔 모양의 돌기가 형성된 제1플레이트 및
상기 제1플레이트의 하부에 배치되고 자석 또는 자성체가 장착되는 제1홈과 받침판의 핀과 결합되는 제2홈이 형성되는 제2플레이트를 포함하고,
핀 결합과 자력에 의해 받침판에 결합되는 회전식 도금장치.
3. The method of claim 2,
the bottom part,
A first plate with a cone-shaped protrusion formed in the center, and
A second plate disposed under the first plate and having a first groove in which a magnet or a magnetic material is mounted and a second groove coupled to the pin of the support plate are formed,
A rotary plating device that is coupled to the base plate by pin coupling and magnetic force.
제2항에 있어서,
상기 덮개부는,
원통형으로 이루어지고 피도금물이 투입되는 입구면,
상기 입구면으로부터 연장되고 하부로 갈수록 외주가 커지는 경사면 및
상기 경사면으로부터 연장되고, 상기 경사면의 단부로부터 수직으로 연장된 다음 수평으로 연장되어 경사면 단부에 단차홈이 형성되는 테두리면
을 포함하는 회전식 도금장치.
3. The method of claim 2,
The cover part,
It is cylindrical in shape and the entrance surface into which the object to be plated is put;
an inclined surface extending from the entrance surface and having an outer periphery that increases toward the lower portion; and
An edge surface extending from the inclined surface, extending vertically from an end of the inclined surface, and then extending horizontally to form a stepped groove at the end of the inclined surface
A rotary plating device comprising a.
제1항에 있어서,
상기 도금유닛은,
도금셀과 결합하는 핀을 구비하고 판 형상으로 이루어지는 안착부,
상기 안착부의 중심에 결합되어 상기 안착부를 회전시키는 축부,
작업대에 배치되고 도금셀이 배치된 하부의 일정 영역을 가리는 제1커버부,
연통되어 양 단부가 개방되는 공간을 갖고, 일단이 상기 제1커버부와 접촉하여 상기 도금셀의 상부 주변을 둘러싸도록 덮거나 덮힌 상태를 해제하도록 구동되는 제2커버부 및
애노드를 구비하고 상기 제2커버부의 다른 일단의 개방된 홀을 밀봉하도록 구동됨과 동시에 배관을 통해 도금액을 투입하여 도금작업을 수행하는 도금부
를 포함하는 회전식 도금장치.
According to claim 1,
The plating unit is
A seating part having a pin coupled to the plating cell and having a plate shape;
A shaft portion coupled to the center of the seating portion to rotate the seating portion,
A first cover part disposed on the workbench and covering a certain area of the lower part where the plating cell is disposed;
a second cover part that communicates and has a space in which both ends are open, one end of which is in contact with the first cover part to surround the upper periphery of the plating cell, or a second cover part driven to release the covered state;
A plating unit having an anode and driven to seal an open hole at the other end of the second cover unit, and at the same time injecting a plating solution through a pipe to perform a plating operation
A rotary plating device comprising a.
제5항에 있어서,
상기 축부는 분할된 축이 연결되어 이루어지고 분할된 상기 축은 절연 커플링으로 서로 연결되는 회전식 도금장치.
6. The method of claim 5,
The shaft portion is made by connecting divided shafts, and the divided shafts are connected to each other by an insulating coupling.
제5항에 있어서,
상기 도금유닛은,
상기 제2커버부의 다른 일단의 개방된 홀을 밀봉하도록 구동됨과 동시에 회수노즐을 구비하여 상기 도금셀 내의 도금액을 회수하는 액회수부를 더 포함하는 회전식 도금장치.
6. The method of claim 5,
The plating unit is
and a liquid recovery part driving to seal the open hole of the other end of the second cover part and having a recovery nozzle to recover the plating solution in the plating cell.
제7항에 있어서,
상기 액회수부는,
2차원 또는 3차원 이동이 가능한 이동체,
탄성부재가 개재되어 상기 이동체에 결합되고, 상기 제2커버부가 상기 도금셀의 상부 주변을 둘러싸도록 덮었을 때 상기 제2커버부의 상부의 개방된 홀에 결합되어 가압하는 가압체 및
상기 가압체 내부를 관통하여 상기 이동체에 결합되고 내부에 도금액을 회수하는 배관과 회수노즐이 구비되는 형성되는 작용체
를 포함하는 회전식 도금장치.
8. The method of claim 7,
The liquid recovery unit,
A movable body capable of two-dimensional or three-dimensional movement;
a pressing body coupled to the movable body with an elastic member interposed therebetween and coupled to the open hole of the upper part of the second cover part to press when the second cover part covers the upper periphery of the plating cell;
A working body which penetrates through the inside of the pressurizing body and is coupled to the movable body and is provided with a pipe for recovering a plating solution and a recovery nozzle therein.
A rotary plating device comprising a.
제1항에 있어서,
상기 세척유닛은,
도금셀과 결합하는 핀을 구비하고 판 형상으로 이루어지는 안착부,
상기 안착부의 중심에 결합되어 상기 안착부를 회전시키는 축부,
작업대에 배치되고 도금셀이 배치된 하부의 일정 영역을 가리는 제1커버부,
연통되어 양 단부가 개방되는 공간을 갖고, 일단이 상기 제1커버부와 접촉하여 상기 도금셀의 상부 주변을 둘러싸도록 덮거나 덮힌 상태를 해제하도록 구동되는 제2커버부 및
상기 제2커버부의 다른 일단의 개방된 홀을 밀봉하도록 구동됨과 동시에 상기 도금셀 내부에 세척액을 투입하는 한편 밀봉 상태에서 체척작업을 수행하는 세척부
를 포함하는 회전식 도금장치.
According to claim 1,
The washing unit is
A seating part having a pin coupled to the plating cell and having a plate shape;
A shaft portion coupled to the center of the seating portion to rotate the seating portion,
A first cover part disposed on the workbench and covering a certain area of the lower part where the plating cell is disposed;
a second cover part that communicates and has a space in which both ends are open, one end of which is in contact with the first cover part to surround the upper periphery of the plating cell, or a second cover part driven to release the covered state;
A cleaning unit that is driven to seal the open hole of the other end of the second cover unit and injects a washing solution into the plating cell while performing a sieving operation in a sealed state
A rotary plating device comprising a.
제9항에 있어서,
상기 세척유닛은, 세척이 완료된 피도금물을 회수하는 회수부를 더 포함하는 회전식 도금장치.
10. The method of claim 9,
The washing unit may further include a recovery unit configured to recover a plated object that has been washed.
제1항에 있어서,
상기 이송유닛은,
상기 도금유닛과 상기 세척유닛이 배치되는 경로를 따라 설치되는 가이드부,
상기 가이드부에 결합되고 상기 가이드부를 따라 이동이 가능한 이송부 및
상기 이송부에 결합되고 그립퍼를 구비하여 상기 도금셀의 측부를 파지하는 그립퍼부
를 포함하는 회전식 도금장치.
According to claim 1,
The transfer unit is
a guide part installed along a path in which the plating unit and the washing unit are disposed;
a transfer unit coupled to the guide unit and movable along the guide unit; and
A gripper unit coupled to the transfer unit and provided with a gripper to grip the side of the plating cell
A rotary plating device comprising a.
제11항에 있어서,
상기 그립퍼부는,
상기 이송부에 결합되고 상하 방향으로 구동이 가능한 구동체,
상기 구동체에 결합되고 서로 멀어지거나 좁혀지는 방향으로 이동이 가능한 한 쌍의 핑거체 및
상기 핑거체에 각각 결합되고 적어도 하나의 핑거체와는 탄성부재를 개재하여 결합되며 도금셀의 측부를 파지하여 잡아주는 파지체
를 포함하는 회전식 도금장치.
12. The method of claim 11,
The gripper part,
A driving body coupled to the transfer unit and capable of being driven in the vertical direction;
A pair of finger bodies coupled to the driving body and movable in a direction to move away from or narrow from each other; and
A holding body coupled to each of the finger bodies and coupled to at least one finger body through an elastic member, and gripping and holding the side of the plating cell
A rotary plating device comprising a.
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005213596A (en) * 2004-01-29 2005-08-11 Ebara Corp Plating equipment and plating method
KR20080002786A (en) 2005-04-01 2008-01-04 스토케 에이에스 Fastening bracket
JP2008303419A (en) * 2007-06-06 2008-12-18 C Uyemura & Co Ltd Surface treatment system for workpiece
KR20130127067A (en) * 2012-05-14 2013-11-22 주식회사 포스코 Apparatus for removing dendrite from edge part and steel sheet plating installation
CN203923430U (en) * 2014-06-18 2014-11-05 肇庆市格朗自动化科技有限公司 The centrifugal electroplating machine of a kind of miniature electronic part
KR20160045367A (en) * 2014-10-17 2016-04-27 덕산하이메탈(주) Plating apparatus

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005213596A (en) * 2004-01-29 2005-08-11 Ebara Corp Plating equipment and plating method
KR20080002786A (en) 2005-04-01 2008-01-04 스토케 에이에스 Fastening bracket
JP2008303419A (en) * 2007-06-06 2008-12-18 C Uyemura & Co Ltd Surface treatment system for workpiece
KR20130127067A (en) * 2012-05-14 2013-11-22 주식회사 포스코 Apparatus for removing dendrite from edge part and steel sheet plating installation
CN203923430U (en) * 2014-06-18 2014-11-05 肇庆市格朗自动化科技有限公司 The centrifugal electroplating machine of a kind of miniature electronic part
KR20160045367A (en) * 2014-10-17 2016-04-27 덕산하이메탈(주) Plating apparatus

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