KR20220133748A - Flexible Metal Laminate and Method for Preparing the Same - Google Patents

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KR20220133748A KR1020210168741A KR20210168741A KR20220133748A KR 20220133748 A KR20220133748 A KR 20220133748A KR 1020210168741 A KR1020210168741 A KR 1020210168741A KR 20210168741 A KR20210168741 A KR 20210168741A KR 20220133748 A KR20220133748 A KR 20220133748A
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김광진
이인욱
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Abstract

The present invention relates to a soft metal laminate comprising: an insulation laminate including an insulation layer including a liquid crystal polymer and an adhesive layer formed on at least one surface of the insulation layer; and a metal layer formed on the insulation laminate. The adhesive force between the insulation layer and the metal layer is 0.4 kN/m or higher. The dielectric constant of the insulation laminate at 15 GHz is 3.1 or lower, and the dielectric tangent of the insulation laminate is 0.0014 or lower. The tensile strength of the soft metal laminate is 200 MPa or higher. The soft metal laminate of the present invention has an excellent adhesive force between the insulation layer and the metal layer to suppress peeling in a drilling process for forming a hole in the metal layer to easily manufacture an FPCB, has a low dielectric property even in a high frequency band to reduce signal loss rates, and has excellent mechanical properties and bending resistance to effectively manufacture an FPCB.

Description

연성 금속 적층체 및 이의 제조방법{Flexible Metal Laminate and Method for Preparing the Same}Flexible Metal Laminate and Method for Preparing the Same

본 발명은 연성 금속 적층체 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 금속층에 홀을 형성시키기 위한 드릴링 공정시 박리 현상이 억제되어 FPCB 제작이 용이하고, 고주파수 대역에서도 신호손실율이 저하되며, 기계적 특성 및 내굴곡성이 우수한 연성 금속 적층체 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible metal laminate and a method for manufacturing the same, and more particularly, the delamination phenomenon is suppressed during a drilling process for forming a hole in a metal layer, so that FPCB fabrication is easy, the signal loss rate is reduced even in a high frequency band, and the mechanical The present invention relates to a flexible metal laminate having excellent properties and resistance to bending, and a method for manufacturing the same.

최근 통신 및 차재용 시장은 4G에서 5G를 향하고 있으며, 그에 따른 각종 부품의 고성능화가 요구되고 있다. 5G의 경우 사용되는 주파수가 통신용은 기존 4G 최대 3.5GHz에서 5G 최대 28GHz, 차재용은 최대 70GHz까지 요구되고 있으며, 이에 따라 저 유전특성이 요구되고 있다. 이에 여러 산업계에서 유전특성을 낮추기 위한 재료 개발이 이루어지고 있다.Recently, the communication and vehicle-mounted markets are moving from 4G to 5G, and accordingly, high performance of various parts is required. In the case of 5G, the frequency used for communication is required from 4G up to 3.5GHz to 5G up to 28GHz, and for in-vehicle use up to 70GHz. Accordingly, low dielectric properties are required. Accordingly, various industries are developing materials for lowering dielectric properties.

연성 금속 적층체는 주로 연성 인쇄회로 기판(FPCB)의 기재로 사용되고, 그 외에 면 발열체 전자파 실드 재료, 플랫 케이블, 포장 재료 등에 사용되고 있다. 이러한 연성 금속 적층체 중에서도 연성 동박 적층체는 주로 폴리이미드층과 동박층으로 구성되는데, 폴리이미드층과 동박층 사이에 에폭시 접착제층이 존재하는가에 따라 접착형과 비접착형으로 나뉘기도 한다.Flexible metal laminates are mainly used as substrates for flexible printed circuit boards (FPCBs), and other surface heating element electromagnetic shielding materials, flat cables, packaging materials, and the like. Among these flexible metal laminates, the flexible copper foil laminate is mainly composed of a polyimide layer and a copper foil layer, and may be divided into an adhesive type and a non-adhesive type depending on whether an epoxy adhesive layer exists between the polyimide layer and the copper foil layer.

대한민국 공개특허 제10-2013-0027442호에는 제1금속층; 제1폴리이미드층; 상기 제1폴리이미드층 상에 형성된 불소수지가 분산된 폴리이미드층; 및 상기 불소수지가 분산된 폴리이미드층 상에 형성된 제2폴리이미드층;을 포함하고, 상기 불소수지가 분산된 폴리이미드층에서, 상기 불소수지의 단위 부피당 함량은 상기 폴리이미드층의 표면으로부터 전체 두께의 5 내지 10%의 깊이에서보다, 40 내지 60%의 깊이에서 더 크게 됨으로써, 금속층과의 접착력 및 유전특성이 향상된 연성 금속 적층판에 대하여 기재되어 있으나, 폴리이미드는 그 자체의 유전율이 높아 최근 요구되는 고속화 수준을 만족시키기 어려운 문제가 있다.Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2013-0027442 discloses a first metal layer; a first polyimide layer; a polyimide layer in which a fluororesin is dispersed formed on the first polyimide layer; and a second polyimide layer formed on the polyimide layer in which the fluororesin is dispersed; in the polyimide layer in which the fluororesin is dispersed, the content per unit volume of the fluororesin is the total amount from the surface of the polyimide layer. It has been described for a flexible metal laminate with improved adhesion and dielectric properties with a metal layer by being larger at a depth of 40 to 60% than at a depth of 5 to 10% of the thickness, but polyimide has a high dielectric constant of its own. There is a problem in that it is difficult to satisfy the required high-speed level.

따라서, 기존에 사용되던 폴리이미드 절연체보다 유전율과 유전손실계수가 더 낮은 절연체를 이용한 인쇄회로 기판의 개발이 요구되고 있는 실정이다.Accordingly, there is a demand for the development of a printed circuit board using an insulator having a lower dielectric constant and a dielectric loss coefficient than that of a conventional polyimide insulator.

이와 관련하여, 액정 폴리머로 이루어지는 필름과, 회로(도체 패턴)를 구성할 수 있는 금속층을 접착제층을 매개로 적층시킨 적층체가 알려져 있다. 이 적층체는, 다층화에 의해 FPCB를 형성할 수 있고, 그 경우에 배선의 고밀도화가 가능해서 가동이 넓은 이점을 갖고 있다.In this regard, a laminate is known in which a film made of a liquid crystal polymer and a metal layer capable of constituting a circuit (conductor pattern) are laminated via an adhesive layer. This laminate has the advantage that the FPCB can be formed by multilayering, and in that case, the wiring density can be increased, so that the operation is wide.

그러나, 액정 폴리머로 이루어지는 필름은 금속층과의 밀착력이 충분하지 않아 FPCB 제작을 위해 금속층에 홀을 형성시키기 위한 드릴링 공정시 박리 현상이 발생하는 문제점이 있었다.However, since the film made of the liquid crystal polymer does not have sufficient adhesion to the metal layer, there is a problem in that a peeling phenomenon occurs during a drilling process for forming a hole in the metal layer for manufacturing an FPCB.

한편, FPCB 제작이 보다 용이하도록 우수한 기계적 특성 및 내굴곡성을 가지는 연성 금속 적층체의 개발이 요구되고 있다.On the other hand, there is a demand for the development of a flexible metal laminate having excellent mechanical properties and bending resistance so that the FPCB can be manufactured more easily.

대한민국 공개특허 제10-2013-0027442호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2013-0027442

본 발명의 한 목적은 금속층에 홀을 형성시키기 위한 드릴링 공정시 박리 현상이 억제되어 FPCB 제작이 용이하고, 고주파수 대역에서도 신호손실율이 저하되며, 기계적 특성 및 내굴곡성이 우수한 연성 금속 적층체를 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a flexible metal laminate with excellent mechanical properties and flex resistance, which is easy to manufacture FPCB because peeling is suppressed during a drilling process for forming a hole in a metal layer, a signal loss rate is reduced even in a high frequency band, and excellent mechanical properties and bending resistance will be.

본 발명의 다른 목적은 상기 연성 금속 적층체의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing the flexible metal laminate.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 연성 금속 적층체를 이용한 프린트 배선판을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a printed wiring board using the flexible metal laminate.

한편으로, 본 발명은 액정 폴리머를 포함하는 절연층과 상기 절연층의 적어도 일면에 형성된 접착제층을 포함하는 절연 적층체, 및 상기 절연 적층체 상에 형성된 금속층을 포함하는 연성 금속 적층체로서, On the other hand, the present invention provides an insulating laminate comprising an insulating layer comprising a liquid crystal polymer and an adhesive layer formed on at least one surface of the insulating layer, and a flexible metal laminate comprising a metal layer formed on the insulating laminate,

상기 절연층과 금속층 간의 밀착력이 0.4 kN/m 이상이고, The adhesion between the insulating layer and the metal layer is 0.4 kN / m or more,

상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율은 3.1 이하이며 유전정접은 0.0014 이하이고, The dielectric constant at 15 GHz of the insulating laminate is 3.1 or less and the dielectric loss tangent is 0.0014 or less,

상기 연성 금속 적층체의 인장강도가 200 MPa 이상인 연성 금속 적층체를 제공한다.It provides a flexible metal laminate having a tensile strength of 200 MPa or more of the flexible metal laminate.

본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체는 상기 절연층의 MD 방향 연신율이 13% 이상이며, TD 방향 연신율이 16% 이상일 수 있다.In the flexible metal laminate according to the exemplary embodiment of the present invention, an elongation in the MD direction of the insulating layer may be 13% or more, and an elongation in a TD direction may be 16% or more.

본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체는 상기 연성 금속 적층체를 MD 및 TD 방향으로 각각 1R(R = 1mm)의 반경으로 180° 조건으로 굽혔다 펴는 동작을 반복하였을 때, 저항측정시 단선되는 반복 횟수가 210 이상일 수 있다.When the flexible metal laminate according to an embodiment of the present invention repeats the operation of bending and unfolding the flexible metal laminate at a radius of 1R (R = 1mm) in the MD and TD directions at 180°, disconnection during resistance measurement The number of repetitions performed may be 210 or more.

본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체는 상기 액정 폴리머를 포함하는 절연층을 열처리한 후 접착제층을 형성하고 금속층을 접합시켜 제조되는 것일 수 있다.The flexible metal laminate according to an embodiment of the present invention may be manufactured by heat-treating the insulating layer including the liquid crystal polymer, forming an adhesive layer, and bonding the metal layer.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 절연층의 열처리는 Tm 내지 Tm+10℃(Tm은 액정 폴리머의 융점임)의 온도에서 60 내지 360분 동안 수행될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the heat treatment of the insulating layer may be performed at a temperature of T m to T m +10°C (T m is the melting point of the liquid crystal polymer) for 60 to 360 minutes.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 접착제층은 산변성 폴리올레핀 수지를 포함하는 접착제 조성물로부터 형성될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the adhesive layer may be formed from an adhesive composition including an acid-modified polyolefin resin.

다른 한편으로, 본 발명은 On the other hand, the present invention

액정 폴리머를 포함하는 절연층을 열처리하는 단계;heat-treating the insulating layer including the liquid crystal polymer;

상기 열처리된 절연층의 적어도 일면에 접착제층을 형성시켜 절연 적층체를 수득하는 단계; 및forming an adhesive layer on at least one surface of the heat-treated insulating layer to obtain an insulating laminate; and

상기 절연 적층체 상에 금속층을 접합시키는 단계를 포함하는 연성 금속 적층체의 제조방법을 제공한다.It provides a method of manufacturing a flexible metal laminate comprising bonding a metal layer on the insulating laminate.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 금속층을 접합시키는 단계 이후에, 절연층과 금속층 간의 밀착력이 0.4 kN/m 이상이고, 상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율은 3.1 이하이며 유전정접은 0.0014 이하이고, 상기 연성 금속 적층체의 인장강도가 200 MPa 이상일 수 있다.In one embodiment of the present invention, after the step of bonding the metal layer, the adhesive force between the insulating layer and the metal layer is 0.4 kN/m or more, the dielectric constant at 15 GHz of the insulating laminate is 3.1 or less, and the dielectric loss tangent is 0.0014 or less, and , the tensile strength of the flexible metal laminate may be 200 MPa or more.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 금속층을 접합시키는 단계 이후에, 상기 연성 금속 적층체를 MD 및 TD 방향으로 각각 1R(R = 1mm)의 반경으로 180° 조건으로 굽혔다 펴는 동작을 반복하였을 때, 저항측정시 단선되는 반복 횟수가 210 이상일 수 있다.In one embodiment of the present invention, after the step of bonding the metal layer, bending and unfolding the flexible metal laminate at a radius of 1R (R = 1mm) in the MD and TD directions at 180° condition is repeated. The number of repetitions of disconnection during resistance measurement may be 210 or more.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 절연층의 열처리는 Tm 내지 Tm+10℃(Tm은 액정 폴리머의 융점임)의 온도에서 60 내지 360분 동안 수행될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the heat treatment of the insulating layer may be performed at a temperature of T m to T m +10°C (T m is the melting point of the liquid crystal polymer) for 60 to 360 minutes.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 절연층의 열처리는 폴리이미드 필름 지지체 상에서 수행될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the heat treatment of the insulating layer may be performed on a polyimide film support.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 열처리된 절연층의 MD 방향 연신율은 13% 이상이며, TD 방향 연신율은 16% 이상일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the MD direction elongation of the heat-treated insulating layer may be 13% or more, TD direction elongation may be 16% or more.

또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 연성 금속 적층체를 이용한 프린트 배선판을 제공한다.On the other hand, the present invention provides a printed wiring board using the flexible metal laminate.

본 발명의 연성 금속 적층체는 절연층과 금속층 간의 밀착력이 우수하여 금속층에 홀을 형성시키기 위한 드릴링(drilling) 공정시 박리 현상이 억제되어 FPCB 제작이 용이하고, 고주파수 대역에서도 저유전 특성을 가져 신호손실율이 저하될 뿐만 아니라 기계적 특성 및 내굴곡성이 우수하여 FPCB의 원활한 제작이 가능하다.The flexible metal laminate of the present invention has excellent adhesion between the insulating layer and the metal layer, and thus the peeling phenomenon is suppressed during the drilling process for forming a hole in the metal layer, so that the FPCB is easy to manufacture, and it has low dielectric properties even in a high frequency band. The loss ratio is lowered, and the mechanical properties and bending resistance are excellent, making it possible to manufacture FPCBs smoothly.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a flexible metal laminate according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 일 실시형태는 액정 폴리머를 포함하는 절연층과 상기 절연층의 적어도 일면에 형성된 접착제층을 포함하는 절연 적층체, 및 상기 절연 적층체 상에 형성된 금속층을 포함하는 연성 금속 적층체로서, An embodiment of the present invention provides an insulating laminate including an insulating layer containing a liquid crystal polymer and an adhesive layer formed on at least one surface of the insulating layer, and a flexible metal laminate including a metal layer formed on the insulating laminate,

상기 절연층과 금속층 간의 밀착력이 0.4 kN/m 이상이고, The adhesion between the insulating layer and the metal layer is 0.4 kN / m or more,

상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율은 3.1 이하이며 유전정접은 0.0014 이하이고, The dielectric constant at 15 GHz of the insulating laminate is 3.1 or less and the dielectric loss tangent is 0.0014 or less,

상기 연성 금속 적층체의 인장강도가 200 MPa 이상인 연성 금속 적층체에 관한 것이다.It relates to a flexible metal laminate having a tensile strength of 200 MPa or more of the flexible metal laminate.

본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체는 상기한 바와 같이 절연층으로서 액정 폴리머를 포함하는 절연층을 사용하고, 절연층이 접착제층을 통해 금속층과 접합된 구조를 가지면서 상기 절연층과 금속층 간의 밀착력이 0.4 kN/m 이상으로 제어되고, 상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율은 3.1 이하로, 유전정접은 0.0014 이하로 조절되며, 연성 금속 적층체의 인장강도를 200 MPa 이상으로 제어함으로써 금속층에 홀을 형성시키기 위한 드릴링(drilling) 공정시 박리 현상이 억제되어 FPCB 제작이 용이하고, 고주파수 대역에서도 신호손실율이 저하될 수 있으며, FPCB의 원활한 제작이 가능하다.As described above, the flexible metal laminate according to an embodiment of the present invention uses an insulating layer including a liquid crystal polymer as an insulating layer, and has a structure in which the insulating layer is bonded to the metal layer through an adhesive layer, and the insulating layer and the The adhesion between the metal layers is controlled to 0.4 kN/m or more, the dielectric constant at 15 GHz of the insulating laminate is controlled to 3.1 or less, and the dielectric loss tangent is controlled to 0.0014 or less, and the tensile strength of the flexible metal laminate is controlled to 200 MPa or more. During the drilling process for forming a hole in the metal layer, the peeling phenomenon is suppressed, so that the FPCB can be easily manufactured, the signal loss rate can be reduced even in the high frequency band, and the FPCB can be manufactured smoothly.

상기 절연층과 금속층 간의 밀착력은 절연층과 금속층 간의 결합력을 의미하며, 후술하는 실험예에 기재된 방법으로 측정될 수 있다.The adhesion between the insulating layer and the metal layer means the bonding force between the insulating layer and the metal layer, and may be measured by the method described in Experimental Examples to be described later.

상기 절연층과 금속층 간의 밀착력은 상술한 바와 같이 0.4 kN/m 이상, 예를 들어 0.4 내지 1.5 kN/m, 바람직하기로 0.6 kN/m 이상, 더욱 바람직하기로 1.0 kN/m 이상일 수 있다.As described above, the adhesion between the insulating layer and the metal layer may be 0.4 kN/m or more, for example, 0.4 to 1.5 kN/m, preferably 0.6 kN/m or more, and more preferably 1.0 kN/m or more.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 절연층과 금속층 간의 밀착력이 0.4 kN/m 미만이면 금속층에 홀을 형성시키기 위한 드릴링(drilling) 공정시 박리 현상이 발생할 수 있다.In one embodiment of the present invention, when the adhesion between the insulating layer and the metal layer is less than 0.4 kN/m, a peeling phenomenon may occur during a drilling process for forming a hole in the metal layer.

상기 유전율(dielectric constant)은 전하 사이에 전기장이 작용할 때, 그 전하 사이의 매질이 전기장에 미치는 영향을 나타내는 물리적 단위로서, 매질이 저장할 수 있는 전하량으로 볼 수도 있다.The dielectric constant (dielectric constant) is a physical unit indicating the effect of a medium between the charges on the electric field when an electric field acts between the charges, it can also be viewed as the amount of charge that the medium can store.

상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율은 후술하는 실험예에 기재된 방법에 따라 주파수 15GHz에서 측정한 값이다.The dielectric constant at 15 GHz of the insulating laminate is a value measured at a frequency of 15 GHz according to the method described in Experimental Examples to be described later.

상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율은 상술한 바와 같이 3.1 이하, 예를 들어 1 초과 3.1 이하일 수 있다. 상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율이 3.1 초과이면 15GHz와 같이 고주파수 대역에서 안테나 이득(Gain) 값을 낮춰 신호손실율이 증가하거나, 터치센서 등의 다른 소자의 구동에 영향을 줄 수 있다.The dielectric constant at 15 GHz of the insulating laminate may be 3.1 or less as described above, for example, more than 1 and 3.1 or less. If the dielectric constant at 15 GHz of the insulating laminate exceeds 3.1, the signal loss rate may increase by lowering the antenna gain value in a high frequency band such as 15 GHz, or may affect the driving of other devices such as a touch sensor.

상기 유전정접(dielectric tangent)은 유전체에 교류전압을 인가하였을 때 생기는 전력손실의 비율을 나타내는 단위로서, 일반적으로 탄젠트 델타(tangent δ)로 표기된다.The dielectric tangent (dielectric tangent) is a unit representing the ratio of power loss generated when an AC voltage is applied to the dielectric, and is generally expressed as tangent delta (tangent δ).

상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전정접은 후술하는 실험예에 기재된 방법에 따라 주파수 15GHz에서 측정한 값이다.The dielectric loss tangent at 15 GHz of the insulating laminate is a value measured at a frequency of 15 GHz according to the method described in Experimental Examples to be described later.

상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전정접은 상술한 바와 같이 0.0014 이하, 예를 들어 0 초과 0.0014 이하일 수 있다. 상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전정접이 0.0014 초과이면 15GHz와 같이 고주파수 대역에서 안테나 이득(Gain) 값을 낮춰 신호손실율이 증가하거나, 터치센서 등의 다른 소자의 구동에 영향을 줄 수 있다.The dielectric loss tangent at 15 GHz of the insulating laminate may be 0.0014 or less as described above, for example, more than 0 and 0.0014 or less. If the dielectric loss tangent at 15 GHz of the insulating laminate exceeds 0.0014, the signal loss rate may increase by lowering the antenna gain value in a high frequency band such as 15 GHz, or may affect the driving of other devices such as a touch sensor.

상기 인장강도는 재료의 세기를 나타내는 힘으로, 재료가 파단될 때까지 끌어당겼을 때 견뎌내는 최대 하중을 재료의 단면적으로 나눈 값으로 정의된다.The tensile strength is a force representing the strength of a material, and is defined as a value obtained by dividing the maximum load that the material withstands when pulled until fracture by the cross-sectional area of the material.

상기 연성 금속 적층체의 인장강도는 폭이 25mm인 연성 금속 적층체에 대하여 연신전 표점거리를 50mm로 하여 인장시험을 수행함으로써 측정될 수 있으며, 보다 구체적으로는 후술하는 실험예에 기재된 방법에 따라 측정될 수 있다.The tensile strength of the flexible metal laminate can be measured by performing a tensile test on a flexible metal laminate having a width of 25 mm with a gage distance of 50 mm before stretching, and more specifically, according to the method described in Experimental Examples to be described later. can be measured.

상기 연성 금속 적층체의 인장강도는 상술한 바와 같이 200 MPa 이상, 예를 들어 200 내지 400 MPa, 바람직하기로 200 내지 300 MPa일 수 있다. 상기 연성 금속 적층체의 인장강도가 200 MPa 미만이면 내굴곡성이 떨어질 수 있고, 400 MPa 초과이면 비틀림 및 외부 충격에 의한 깨짐이 발생할 수 있다.The tensile strength of the flexible metal laminate may be 200 MPa or more, for example, 200 to 400 MPa, preferably 200 to 300 MPa, as described above. If the tensile strength of the flexible metal laminate is less than 200 MPa, bending resistance may be deteriorated, and if it exceeds 400 MPa, cracking may occur due to torsion and external impact.

본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체는 상기 절연층의 MD 방향 연신율이 13% 이상이며, TD 방향 연신율이 16% 이상일 수 있다.In the flexible metal laminate according to the exemplary embodiment of the present invention, an elongation in the MD direction of the insulating layer may be 13% or more, and an elongation in a TD direction may be 16% or more.

연신율(elongation)은 인장시험에서 측정되어진 물질의 연성정도로서, 신율이라고도 한다. 연신율은 시험편을 연신시켜 파단된 후에 측정된 표점거리의 증가량을 연신전 표점거리로 나눈 값으로 정의된다.Elongation is the degree of ductility of a material measured in a tensile test, also called elongation. Elongation is defined as the value obtained by dividing the increase in gage distance measured after the specimen is stretched and fractured by the gage distance before stretching.

상기 절연층의 MD 방향 및 TD 방향의 연신율은 폭이 15mm인 절연층에 대하여 연신전 표점거리를 50mm로 하여 MD 방향 및 TD 방향으로 각각 인장시험을 수행함으로써 측정될 수 있으며, 보다 구체적으로는 후술하는 실험예에 기재된 방법에 따라 측정될 수 있다.The elongation in the MD direction and the TD direction of the insulating layer can be measured by performing tensile tests in the MD and TD directions, respectively, in the MD and TD directions with a gage distance of 50 mm before stretching for an insulating layer having a width of 15 mm, more specifically described later It can be measured according to the method described in the experimental example.

상기 절연층의 MD 방향 연신율은 13% 이상, 예를 들어 13 내지 30%, 바람직하기로 20 내지 30%일 수 있다. 상기 절연층의 MD 방향 연신율이 13% 미만이면 연성 금속 적층체 및/또는 이를 이용하여 제작된 FPCB의 내굴곡성이 떨어질 수 있고, 30% 초과이면 적층체의 두께 균일도 및 장력 제어가 어려울 수 있다.The MD direction elongation of the insulating layer may be 13% or more, for example, 13 to 30%, preferably 20 to 30%. If the elongation in the MD direction of the insulating layer is less than 13%, the flex resistance of the flexible metal laminate and/or the FPCB manufactured using the same may be deteriorated, and if it exceeds 30%, it may be difficult to control the thickness uniformity and tension of the laminate.

상기 절연층의 TD 방향 연신율은 16% 이상, 예를 들어 16 내지 30%, 바람직하기로 20 내지 30%일 수 있다. 상기 절연층의 TD 방향 연신율이 16% 미만이면 연성 금속 적층체 및/또는 이를 이용하여 제작된 FPCB의 내굴곡성이 떨어질 수 있고, 30% 초과이면 적층체의 두께 균일도 및 장력 제어가 어려울 수 있다.The TD direction elongation of the insulating layer may be 16% or more, for example, 16 to 30%, preferably 20 to 30%. If the elongation in the TD direction of the insulating layer is less than 16%, the flex resistance of the flexible metal laminate and/or the FPCB manufactured using the same may be deteriorated, and if it exceeds 30%, it may be difficult to control the thickness uniformity and tension of the laminate.

본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체는 상기 연성 금속 적층체를 MD 및 TD 방향으로 각각 1R(R = 1mm)의 반경으로 180° 조건으로 굽혔다 펴는 동작을 반복하였을 때, 저항측정시 단선되는 반복 횟수가 210 이상, 예를 들어 210 내지 400, 구체적으로 210 내지 300일 수 있다. 상기 연성 금속 적층체의 굽힘 반복 횟수가 210 미만이면 내굴곡성 저하로 회로의 단선이 발생할 수 있다.When the flexible metal laminate according to an embodiment of the present invention repeats the operation of bending and unfolding the flexible metal laminate at a radius of 1R (R = 1mm) in the MD and TD directions at 180°, disconnection during resistance measurement The number of repetitions may be 210 or more, for example, 210 to 400, specifically 210 to 300. If the number of repetitions of bending of the flexible metal laminate is less than 210, circuit breakage may occur due to deterioration in bending resistance.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a flexible metal laminate according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체는 절연층(100)의 양면에 형성된 제1접착제층(110) 및 제2접착제층(120)을 포함하는 절연 적층체(10) 상에, 제1금속층(20)과 제2금속층(30)이 적층된 구조를 갖는다. 도 1은 절연층(100)의 양면에 접착제층이 형성되고, 절연 적층체(10)의 양면에 금속층이 적층된 구조를 도시하지만, 절연 적층체(10)의 일면에만 금속층이 적층될 수도 있다.1, the flexible metal laminate according to an embodiment of the present invention is an insulating laminate including a first adhesive layer 110 and a second adhesive layer 120 formed on both surfaces of the insulating layer 100 ( 10), the first metal layer 20 and the second metal layer 30 have a stacked structure. 1 shows a structure in which an adhesive layer is formed on both sides of the insulating layer 100 and a metal layer is laminated on both sides of the insulating laminate 10 , but a metal layer may be laminated only on one side of the insulating laminate 10 . .

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 절연층은 액정 폴리머를 포함한다.In one embodiment of the present invention, the insulating layer includes a liquid crystal polymer.

구체적으로, 상기 절연층은 액정 폴리머(Liquid crystal polymer, LCP)를 포함하는 액정 폴리머 조성물의 경화물을 포함할 수 있다.Specifically, the insulating layer may include a cured product of a liquid crystal polymer composition including a liquid crystal polymer (LCP).

상기 액정 폴리머는 용융 시에 네마틱 결정성을 보이는 열가소성 플라스틱을 의미한다.The liquid crystal polymer refers to a thermoplastic plastic exhibiting nematic crystallinity upon melting.

상기 액정 폴리머는 저유전율 및 저 유전손실계수(dielectric loss tangent)를 갖는 것을 특징으로 함으로써, 프린트 배선판에 적용하는 경우 빠른 전송속도에서도 신호의 전송 손실이 최소화될 수 있는 이점이 있다. 또한, 상기 액정 폴리머는 저흡수성 및 저흡습율을 가짐으로써, 전기 특성의 변화가 적은 이점이 있다.Since the liquid crystal polymer has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, when applied to a printed wiring board, there is an advantage that a signal transmission loss can be minimized even at a high transmission speed. In addition, since the liquid crystal polymer has low water absorption and low moisture absorption, there is an advantage in that the change in electrical properties is small.

상기 액정 폴리머는 당해 기술분야에서 사용되는 것을 특별한 제한 없이 사용할 수 있으며, 바람직하게는 액정성 폴리에스테르일 수 있다.As the liquid crystal polymer, those used in the art may be used without particular limitation, and may preferably be liquid crystal polyester.

상기 액정성 폴리에스테르는 액정성 폴리에스테르아미드, 액정성 폴리에스테르에테르, 액정성 폴리에스테르카보네이트, 액정성 폴리에스테르이미드 등일 수 있다. 상기 액정성 폴리에스테르는 원료 단량체로서 방향족 화합물만을 사용하여 이루어진 전체 방향족 액정성 폴리에스테르인 것이 바람직하다.The liquid crystalline polyester may be a liquid crystalline polyester amide, a liquid crystalline polyester ether, a liquid crystalline polyester carbonate, or a liquid crystalline polyester imide. The liquid crystalline polyester is preferably a wholly aromatic liquid crystalline polyester made using only an aromatic compound as a raw material monomer.

상기 액정성 폴리에스테르의 예로는, 방향족 히드록시카르복실산과, 방향족 디카르복실산과, 방향족 디올, 방향족 히드록시아민 및 방향족 디아민으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 화합물이 중합(중축합)되어 있는 액정 폴리에스테르; 복수 종의 방향족 히드록시카르복실산이 중합되어 있는 액정 폴리에스테르; 방향족 디카르복실산과, 방향족 디올, 방향족 히드록시아민 및 방향족 디아민으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 화합물이 중합되어 있는 액정 폴리에스테르; 그리고 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르와 방향족 히드록시카르복실산이 중합되어 있는 액정 폴리에스테르를 들 수 있다. 여기서, 방향족 히드록시카르복실산, 방향족 디카르복실산, 방향족 디올, 방향족 히드록시아민 및 방향족 디아민은, 각각 독립적으로 그 일부 또는 전부를 대신하여 그 중합 가능한 유도체여도 된다.Examples of the liquid crystalline polyester include polymerization (polycondensation) of at least one compound selected from the group consisting of aromatic hydroxycarboxylic acid, aromatic dicarboxylic acid, aromatic diol, aromatic hydroxyamine and aromatic diamine. liquid crystalline polyester; liquid crystal polyester in which a plurality of types of aromatic hydroxycarboxylic acids are polymerized; liquid crystal polyester in which aromatic dicarboxylic acid and at least one compound selected from the group consisting of aromatic diol, aromatic hydroxylamine and aromatic diamine are polymerized; And liquid-crystalline polyester in which polyester, such as polyethylene terephthalate, and aromatic hydroxycarboxylic acid are superposed|polymerized is mentioned. Here, the aromatic hydroxycarboxylic acid, aromatic dicarboxylic acid, aromatic diol, aromatic hydroxyamine, and aromatic diamine may each independently represent a part or all of the aromatic diamine and may be a polymerizable derivative thereof.

방향족 히드록시카르복실산 및 방향족 디카르복실산과 같은 카르복실기를 갖는 화합물의 중합 가능한 유도체의 예로는, 카르복실기를 알콕시카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기로 변환시켜 이루어지는 유도체(에스테르라고도 함), 카르복실기를 할로포르밀기로 변환시켜 이루어지는 유도체(산 할로겐화물이라고도 함), 및 카르복실기를 아실옥시카르보닐기로 변환시켜 이루어지는 유도체(산 무수물이라고도 함)를 들 수 있다.Examples of the polymerizable derivative of a compound having a carboxyl group such as aromatic hydroxycarboxylic acid and aromatic dicarboxylic acid include a derivative obtained by converting a carboxyl group into an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group (also referred to as an ester), a carboxyl group into a haloformyl group derivatives formed by conversion (also referred to as acid halide) and derivatives formed by converting a carboxyl group to an acyloxycarbonyl group (also referred to as acid anhydrides) are mentioned.

방향족 히드록시카르복실산, 방향족 디올 및 방향족 히드록시아민과 같은 히드록실기를 갖는 화합물의 중합 가능한 유도체의 예로는, 히드록실기를 아실화하여 아실옥실기로 변환시켜 이루어지는 유도체(아실화물이라고도 함)를 들 수 있다. 방향족 히드록시아민 및 방향족 디아민과 같은 아미노기를 갖는 화합물의 중합 가능한 유도체의 예로는, 아미노기를 아실화하여 아실아미노기로 변환시켜 이루어지는 유도체(아실화물이라고도 함)를 들 수 있다.Examples of polymerizable derivatives of compounds having a hydroxyl group, such as aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic diols and aromatic hydroxylamines, include derivatives formed by acylating a hydroxyl group to convert it to an acyloxyl group (also referred to as an acylate). ) can be mentioned. Examples of the polymerizable derivative of a compound having an amino group such as aromatic hydroxylamine and aromatic diamine include a derivative (also referred to as an acylate) formed by acylating an amino group to convert it to an acylamino group.

예를 들어, 상기 액정성 폴리에스테르는 방향족 디아민에서 유래하는 반복 단위, 히드록실기를 갖는 방향족 아민에서 유래하는 반복 단위 또는 방향족 아미노산에서 유래하는 반복 단위를 적어도 1종 이상 포함하는 것일 수 있다.For example, the liquid crystalline polyester may include at least one repeating unit derived from an aromatic diamine, a repeating unit derived from an aromatic amine having a hydroxyl group, or a repeating unit derived from an aromatic amino acid.

상기 액정성 폴리에스테르가 상기 반복단위들을 포함하는 경우, 상기 액정성 폴리에스테르를 구성하는 모든 반복단위 전체 100 몰%에 대하여, 10 내지 35 몰%로 포함될 수 있다. 이는 상기 액정성 폴리에스테르가 상기 반복단위들을 2종 이상 포함하는 경우, 상기 2종 이상의 반복단위들 전체의 몰%가 10 내지 35 몰%라는 것을 의미할 수 있다.When the liquid crystalline polyester includes the repeating units, it may be included in an amount of 10 to 35 mol% based on 100 mol% of all repeating units constituting the liquid crystalline polyester. This may mean that, when the liquid crystalline polyester includes two or more kinds of the repeating units, the mol% of the total of the two or more kinds of repeating units is 10 to 35 mol%.

예를 들어, 상기 액정성 폴리에스테르는 방향족 히드록시카르복실산에서 유래한 반복단위; 방향족 디카르복실산에서 유래한 반복단위; 및 방향족 디아민, 히드록실기를 갖는 방향족 아민 또는 방향족 아미노산에서 유래하는 반복단위를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 액정성 폴리에스테르는 하기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 것일 수 있으며, 이들의 함량은 액정성 폴리에스테르를 구성하는 모든 반복단위 전체 100 몰%에 대하여, 각각 30 내지 80 몰%, 10 내지 35 몰% 및 10 내지 35 몰%일 수 있다.For example, the liquid crystalline polyester may include a repeating unit derived from an aromatic hydroxycarboxylic acid; repeating units derived from aromatic dicarboxylic acids; and a repeating unit derived from an aromatic diamine, an aromatic amine having a hydroxyl group, or an aromatic amino acid. Specifically, the liquid crystalline polyester may include repeating units represented by the following Chemical Formulas 1 to 3, and their content is from 30 to 100 mol% of all repeating units constituting the liquid crystalline polyester, respectively. 80 mol%, 10-35 mol% and 10-35 mol%.

[화학식 1][Formula 1]

-O-Ar1-CO--O-Ar 1 -CO-

(상기 화학식 1에서,(In Formula 1,

Ar1은 1,4-페닐렌, 2,6-나프탈렌 또는 4,4'-비페닐렌이다.)Ar 1 is 1,4-phenylene, 2,6-naphthalene, or 4,4'-biphenylene.)

[화학식 2][Formula 2]

-CO-Ar2-CO--CO-Ar 2 -CO-

(상기 화학식 2에서,(In Formula 2,

Ar2는 1,4-페닐렌, 1,3-페닐렌 또는 2,6-나프탈렌이다.)Ar 2 is 1,4-phenylene, 1,3-phenylene or 2,6-naphthalene.)

[화학식 3][Formula 3]

-X-Ar3-Y--X-Ar 3 -Y-

(상기 화학식 3에서,(In Formula 3,

X는 NH이고,X is NH;

Y는 O, NH 또는 C=O이며,Y is O, NH or C=O,

Ar3는 1,4-페닐렌 또는 1,3-페닐렌이다.)Ar 3 is 1,4-phenylene or 1,3-phenylene.)

상기 반복단위를 포함하는 액정성 폴리에스테르는 상기 방향족 히드록시카르복실산, 방향족 디카르복실산, 방향족 디아민, 히드록실기를 갖는 방향족 아민 또는 방향족 아미노산 대신, 에스테르 형성 성질을 갖는 유도체와 같은 이들의 에스테르 형성성 유도체를 사용하여 제조할 수도 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The liquid crystalline polyester including the repeating unit is a derivative of the above aromatic hydroxycarboxylic acid, aromatic dicarboxylic acid, aromatic diamine, aromatic amine or aromatic amino acid having a hydroxyl group, such as a derivative having an ester-forming property. It may be prepared using an ester-forming derivative, but is not limited thereto.

카르복실산기를 갖는 화합물의 에스테르 형성성 유도체로는 예를 들면, 당해 카르복실기가 폴리에스테르를 생성하는 반응을 촉진하도록, 산 염화물, 산 무수물 등의 반응 활성이 높은 기로 되어 있는 것이나, 당해 카르복실기가 에스테르 교환 반응에 의해 폴리에스테르를 생성하도록, 알코올류나 에틸렌글리콜 등과 에스테르를 형성하고 있는 것 등을 들 수 있다.As an ester-forming derivative of a compound having a carboxylic acid group, for example, a group having a high reaction activity such as an acid chloride or an acid anhydride so that the carboxyl group promotes a reaction to form a polyester, and the carboxyl group is an ester In order to produce|generate polyester by the exchange reaction, the thing which forms ester with alcohol, ethylene glycol, etc. are mentioned.

방향족 히드록실기를 갖는 화합물의 에스테르 형성성 유도체는 예를 들면, 당해 방향족 히드록실기가 에스테르 교환 반응에 의해 폴리에스테르를 생성하도록 카르복실산류와 에스테르를 형성하고 있는 것 등을 포함할 수 있다.The ester-forming derivative of the compound having an aromatic hydroxyl group may include, for example, those in which the aromatic hydroxyl group forms an ester with carboxylic acids to produce polyester by transesterification.

아미노기를 갖는 화합물의 에스테르 형성성 유도체는 예를 들면, 당해 아미노기가 에스테르 교환 반응에 의해 폴리에스테르를 생성하도록 카르복실산류와 에스테르를 형성하고 있는 것 등을 포함할 수 있다.The ester-forming derivative of the compound having an amino group may include, for example, one in which the amino group forms an ester with carboxylic acids to produce polyester by transesterification.

상기 화학식 1로 표시되는 반복단위는 구체적으로, p-히드록시벤조산, 2-히드록시-6-나프토산, 4-히드록시-4'-비페닐카르복실산 및 6-히드록시-2-나프탈렌카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상으로부터 유래하는 반복단위 등을 들 수 있다.The repeating unit represented by Formula 1 is specifically, p-hydroxybenzoic acid, 2-hydroxy-6-naphthoic acid, 4-hydroxy-4'-biphenylcarboxylic acid, and 6-hydroxy-2-naphthalene. and repeating units derived from at least one selected from the group consisting of carboxylic acids.

상기 화학식 1로 표시되는 반복단위의 함량은 이에 한정되는 것은 아니나, 이를 포함하는 액정성 폴리에스테르를 구성하는 반복단위 전체 100 몰%에 대하여, 30 내지 80 몰%, 바람직하게는 40 내지 70 몰%, 보다 바람직하게는 45 내지 65 몰%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 초과하는 경우 용매에 대한 용해성이 저하될 수 있으며, 상기 범위 미만으로 포함되는 경우 액정성을 나타내기 다소 어려울 수 있다.The content of the repeating unit represented by Formula 1 is not limited thereto, but based on 100 mol% of the total repeating units constituting the liquid crystalline polyester including the same, 30 to 80 mol%, preferably 40 to 70 mol% , more preferably 45 to 65 mol%. When it exceeds the above range, solubility in a solvent may decrease, and when included below the above range, it may be somewhat difficult to exhibit liquid crystallinity.

상기 화학식 2로 표시되는 반복단위는 구체적으로, 테레프탈산, 이소프탈산, 2,6-나프탈렌 디카르복실산 및 1,3-벤젠디카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상으로부터 유래하는 반복단위 등을 들 수 있다.The repeating unit represented by Formula 2 is specifically, a repeating unit derived from at least one selected from the group consisting of terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, and 1,3-benzenedicarboxylic acid. and the like.

상기 화학식 2로 표시되는 반복단위의 함량은 이에 한정되는 것은 아니나, 이를 포함하는 액정성 폴리에스테르를 구성하는 반복단위 전체 100 몰%에 대하여, 10 내지 35 몰%, 바람직하게는 15 내지 30 몰%, 보다 바람직하게는 17.5 내지 27.5 몰%로 포함될 수 있다. 상기 함량을 만족하는 경우 용매에 대한 용해성이 보다 향상될 수 있다.The content of the repeating unit represented by Formula 2 is not limited thereto, but based on 100 mol% of the total repeating units constituting the liquid crystalline polyester including the same, 10 to 35 mol%, preferably 15 to 30 mol% , more preferably 17.5 to 27.5 mol% may be included. When the above content is satisfied, solubility in a solvent may be further improved.

상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위는 구체적으로, 3-아미노페놀, 4-아미노페놀, 1,4-페닐렌디아민 및 1.3-페닐렌디아민으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상으로부터 유래된 반복단위 등을 들 수 있다.The repeating unit represented by Formula 3 is specifically, a repeating unit derived from at least one selected from the group consisting of 3-aminophenol, 4-aminophenol, 1,4-phenylenediamine and 1.3-phenylenediamine. can be heard

상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위의 함량은 이에 한정되는 것은 아니나, 이를 포함하는 액정성 폴리에스테르를 구성하는 반복단위 전체 100 몰%에 대하여, 10 내지 35 몰%, 바람직하게는 15 내지 30 몰%, 보다 바람직하게는 17.5 내지 27.5 몰%일 수 있다. 상기 범위를 초과하는 경우 액정성이 저하될 수 있으며, 상기 범위 미만으로 포함되는 경우 용매에 대한 용해성이 다소 저하될 수 있다.The content of the repeating unit represented by Formula 3 is not limited thereto, but based on 100 mol% of the total repeating units constituting the liquid crystalline polyester including the same, 10 to 35 mol%, preferably 15 to 30 mol% , more preferably 17.5 to 27.5 mol%. When it exceeds the above range, liquid crystallinity may be reduced, and when included below the above range, solubility in a solvent may be somewhat reduced.

상기 폴리에스테르는 당 업계에서 통상적으로 사용하는 충전제, 첨가제 또는 1종 이상의 열가소성 수지를 더 포함할 수도 있다. The polyester may further include fillers, additives, or one or more thermoplastic resins commonly used in the art.

상기 충전제는 예를 들면, 에폭시 수지 분말, 멜라민 수지 분말, 요소 수지 분말, 벤조구아나민 수지 분말 및 스티렌 수지와 같은 유기 충전제; 또는 실리카, 알루미나, 산화티탄, 지르코니아, 카올린, 탄산칼슘 및 인산칼슘과 같은 무기 충전제; 등을 들 수 있고, 상기 첨가제는 커플링제, 침강 방지제, UV 흡수제, 열 안정화제 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The fillers include, for example, organic fillers such as epoxy resin powder, melamine resin powder, urea resin powder, benzoguanamine resin powder and styrene resin; or inorganic fillers such as silica, alumina, titanium oxide, zirconia, kaolin, calcium carbonate and calcium phosphate; and the like, and the additive may include, but is not limited to, a coupling agent, an anti-settling agent, a UV absorber, a heat stabilizer, and the like.

상기 열가소성 수지는 예를 들면, 폴리프로필렌, 폴리아미드, 폴리페닐렌 술피드, 폴리에테르 케톤, 폴리카보네이트, 폴리에테르 술폰, 폴리페닐 에테르 및 이의 변성 중합체, 및 폴리에테르 이미드, 글리시딜 메타크릴레이트와 에틸렌의 공중합체와 같은 엘라스토머 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The thermoplastic resin is, for example, polypropylene, polyamide, polyphenylene sulfide, polyether ketone, polycarbonate, polyether sulfone, polyphenyl ether and modified polymers thereof, and polyether imide, glycidyl methacryl and an elastomer such as a copolymer of lactate and ethylene, but is not limited thereto.

전술한 액정 폴리머는 용매에 분산된 형태로 사용될 수 있으며, 이 때 사용되는 용매는 예를 들어, 비양성자성 용매일 수 있는데, 구체적으로 1-클로로부탄, 클로로벤젠, 1,1-디클로로에탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름 및 1,1,2,2-테트라클로로에탄과 같은 할로겐 용매; 디에틸 에테르, 테트라하이드로푸란 및 1,4-디옥산과 같은 에테르 용매; 아세톤 및 시클로헥사논과 같은 케톤 용매; 에틸 아세테이트와 같은 에스테르 용매; γ-부티로락톤과 같은 락톤 용매; 에틸렌 카보네이트 및 프로필렌 카보네이트와 같은 카보네이트 용매; 트리에틸아민 및 피리딘과 같은 아민 용매; 아세토니트릴 및 숙시노니트릴과 같은 니트릴 용매; N,N'-디메틸 포름아미드, N,N'-디메틸 아세토아미드, 테트라메틸우레아 및 N-메틸피롤리돈과 같은 아미드 용매; 니트로메탄 및 니트로벤젠과 같은 니트로 용매; 디메틸술폭시드 및 술폴란과 같은 술피드 용매; 및 헥사메틸포스포르아미드 및 트리-n-부틸포스페이트와 같은 포스페이트 용매 등을 들 수 있고, 바람직하게는 환경에 대한 영향을 고려하여 할로겐 원자를 포함하지 않는 용매를 사용할 수 있으며, 용해성의 관점에서는 쌍극자 모멘트가 3 내지 5인 용매를 사용할 수 있다. 상기 쌍극자 모멘트가 3 내지 5인 용매로는 예를 들어, N,N'-디메틸 포름아미드, N,N'-디메틸 아세토아미드, 테트라메틸우레아 및 N-메틸피롤리돈과 같은 아미드 용매, 및 γ-부티로락톤과 같은 락톤 용매 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 N,N'-디메틸 포름아미드, N,N'-디메틸 아세토아미드 및 N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The liquid crystal polymer described above may be used in a dispersed form in a solvent, and the solvent used in this case may be, for example, an aprotic solvent, specifically 1-chlorobutane, chlorobenzene, 1,1-dichloroethane, halogen solvents such as 1,2-dichloroethane, chloroform and 1,1,2,2-tetrachloroethane; etheric solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; ketone solvents such as acetone and cyclohexanone; ester solvents such as ethyl acetate; lactone solvents such as γ-butyrolactone; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; amine solvents such as triethylamine and pyridine; nitrile solvents such as acetonitrile and succinonitrile; amide solvents such as N,N'-dimethyl formamide, N,N'-dimethyl acetoamide, tetramethylurea and N-methylpyrrolidone; nitro solvents such as nitromethane and nitrobenzene; sulfide solvents such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and phosphate solvents such as hexamethylphosphoramide and tri-n-butyl phosphate. Preferably, in consideration of the environmental impact, a solvent containing no halogen atom may be used, and from the viewpoint of solubility, dipole Solvents having moments of 3 to 5 can be used. Examples of the solvent having a dipole moment of 3 to 5 include amide solvents such as N,N'-dimethyl formamide, N,N'-dimethyl acetoamide, tetramethylurea and N-methylpyrrolidone, and γ -Lactone solvents such as butyrolactone, and the like, preferably N,N'-dimethyl formamide, N,N'-dimethyl acetoamide and N-methylpyrrolidone, etc., but are limited thereto it is not

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 액정 폴리머의 함량은 조성물 중 고형분 전체 100 중량%에 대하여, 5 내지 50 중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 40 중량%, 보다 바람직하게는 20 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the content of the liquid crystal polymer may be included in an amount of 5 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight, more preferably 20 to 50% by weight, based on 100% by weight of the total solid content in the composition. It may be included in 40% by weight.

상기 액정 폴리머의 함량이 전술한 범위 미만일 경우 이를 포함하는 조성물의 도공 시 조성물이 흘러내리는 등 가공성에 문제가 발생할 수 있으며, 상기 범위를 초과하는 경우 점도의 향상으로 인해 도공 시 두께 조절이 다소 어려운 문제가 발생할 수 있다.If the content of the liquid crystal polymer is less than the above range, there may be problems in processability such as the composition flowing down during coating of the composition including the same. may occur.

상기 액정 폴리머 조성물은 전술한 성분들 이외에 무기 충전제 또는 계면 활성제를 더 포함할 수 있다. The liquid crystal polymer composition may further include an inorganic filler or a surfactant in addition to the above-mentioned components.

상기 무기 충전제의 종류는 당 업계에서 사용되는 것을 특별한 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들면, 실리카, 실리카 나이트라이드, 알루미나, 알루미늄 나이트라이드, 보론 나이트라이드 등을 들 수 있고, 바람직하게는 실리카 충진제, 예컨대 천연 실리카, 합성 실리카, 용융 실리카 등을 사용할 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이와 같이 본 발명의 액정 폴리머 조성물이 무기 충전제를 더 포함하는 경우, 불소계 수지로 인해 증가하는 열팽창계수를 현저하게 감소시킬 수 있어 내구성이 향상될 수 있는 이점이 있다.The kind of the inorganic filler may be used without particular limitation to those used in the art, for example, silica, silica nitride, alumina, aluminum nitride, boron nitride, etc., and preferably silica filler, For example, natural silica, synthetic silica, fused silica, etc. may be used, and these may be used alone or in combination of two or more. As such, when the liquid crystal polymer composition of the present invention further includes an inorganic filler, it is possible to significantly reduce the coefficient of thermal expansion due to the fluorine-based resin, so that durability can be improved.

상기 무기 충전제의 평균 입경은 본 발명에서 특별히 한정하는 것은 아니지만, 예를 들면 0.05 내지 20㎛, 바람직하게는 0.1 내지 10㎛, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5㎛일 수 있다. 상기 무기 충전제의 평균 입경이 상기 범위 미만인 경우 무기 충전제의 표면적이 증가하여 이로부터 제조되는 액정 폴리머층의 물성이 다소 저하되거나 분산제 등의 첨가제의 첨가량이 다소 증가되는 문제가 발생할 수 있고, 상기 범위를 초과하는 경우 액정 폴리머층의 표면 특성이 저하되거나 상기 폴리머층을 형성하기 위한 조성물의 분산성이 다소 저하되는 문제가 발생할 수 있다.The average particle diameter of the inorganic filler is not particularly limited in the present invention, but may be, for example, 0.05 to 20 µm, preferably 0.1 to 10 µm, and more preferably 0.1 to 5 µm. When the average particle diameter of the inorganic filler is less than the above range, the surface area of the inorganic filler increases, which may cause a problem in that the physical properties of the liquid crystal polymer layer prepared therefrom are slightly reduced or the amount of additives such as a dispersant is slightly increased, When it exceeds, the surface properties of the liquid crystal polymer layer may be lowered or the dispersibility of the composition for forming the polymer layer may be slightly lowered.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 무기 충전제는 조성물 중 고형분 전체 100 중량%에 대하여 20 내지 40 중량%로 포함될 수 있다. 상기 무기 충전제의 함량이 20 중량% 미만이면 열팽창계수가 상승할 수 있고, 무기 충전제 함량이 40 중량% 초과이면 유전특성이 저하될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the inorganic filler may be included in an amount of 20 to 40% by weight based on 100% by weight of the total solid content in the composition. If the content of the inorganic filler is less than 20% by weight, the coefficient of thermal expansion may increase, and if the content of the inorganic filler is more than 40% by weight, the dielectric properties may be reduced.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 계면활성제의 종류는 본 발명에서 특별히 한정하지는 않고, 당 업계에서 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있다. 상기 액정 폴리머 조성물이 계면활성제를 포함하는 경우 조성물 내 각 구성 성분들의 분산성을 보다 향상시킬 수 있는 이점이 있다.In one embodiment of the present invention, the type of the surfactant is not particularly limited in the present invention, and those used in the art may be used without limitation. When the liquid crystal polymer composition includes a surfactant, there is an advantage in that the dispersibility of each component in the composition can be further improved.

상기 계면활성제는 예를 들면, 불소계 계면활성제 또는 실리콘계 계면활성제 등을 들 수 있으며, 상기 불소계 계면활성제는 바람직하게는 비이온성 유기 계면활성제일 수 있다. 상기 불소계 계면활성제는 예를 들면, 시판품으로서 AGC 사의 AGC-71L, S-381, S-383, S-393, SC-101, Sc-105, KH-40, SA-100, S-611, S-386, S-221, S-231, S-243, S-420, S-651, 다이닛본 잉크 가가꾸 고교사의 메가피스 F-470, F-471, F-475, F-482 및/또는 F-489 등을 들 수 있고, 상기 실리콘계 계면활성제는 예를 들면, 시판품으로서 다우코닝 도레이 실리콘사의 DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA 및/또는 SH8400 등이 있다. 그리고 GE 도시바 실리콘사의 TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460 및/또는 TSF-4452 등을 들 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The surfactant may include, for example, a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant, and the fluorine-based surfactant may be preferably a nonionic organic surfactant. The fluorine-based surfactant is, for example, commercially available AGC-71L, S-381, S-383, S-393, SC-101, Sc-105, KH-40, SA-100, S-611, S -386, S-221, S-231, S-243, S-420, S-651, Megapiece F-470, F-471, F-475, F-482 and/or from Dainippon Ink Chemicals High School F-489 etc. are mentioned, For example, the said silicone surfactant includes DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, and/or SH8400 of Dow Corning Toray Silicones as a commercial item. And TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, and/or TSF-4452 manufactured by GE Toshiba Silicone, etc., may be used alone or in combination of two or more. .

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 절연층은 단일층 또는 다층 구조를 가질 수 있다.In one embodiment of the present invention, the insulating layer may have a single-layer or multi-layer structure.

상기 절연층의 두께는 5 내지 100㎛일 수 있고, 바람직하게는 5 내지 75㎛, 보다 바람직하게는 8 내지 50㎛일 수 있다. 상기 절연층의 두께가 상기 범위 미만일 경우 고주파 영역에서 전송 손실률이 다소 증가되는 문제가 발생할 수 있으며, 상기 범위를 초과하는 경우 제품의 박막화가 다소 어려운 문제가 발생할 수 있다.The thickness of the insulating layer may be 5 to 100 μm, preferably 5 to 75 μm, and more preferably 8 to 50 μm. If the thickness of the insulating layer is less than the above range, there may be a problem that the transmission loss rate is slightly increased in the high frequency region, and if it exceeds the above range, it may be difficult to thin the product.

상기 연성 금속 적층체는 상기 액정 폴리머를 포함하는 절연층을 열처리한 후 접착제층을 형성하고 금속층을 접합시켜 제조되는 것일 수 있다.The flexible metal laminate may be manufactured by heat-treating the insulating layer including the liquid crystal polymer, forming an adhesive layer, and bonding the metal layer.

상기 절연층의 열처리를 통해, 절연층과 금속층 간의 밀착력, 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율과 유전정접, 절연층의 MD 방향과 TD 방향의 연신율, 및 연성 금속 적층체의 인장강도와 내굴곡성을 상기한 범위로 조절할 수 있다.Through the heat treatment of the insulating layer, the adhesion between the insulating layer and the metal layer, the dielectric constant and dielectric loss tangent at 15 GHz of the insulating laminate, the elongation in the MD and TD directions of the insulating layer, and the tensile strength and bending resistance of the flexible metal laminate It can be adjusted in the above range.

상기 절연층의 열처리는 Tm 내지 Tm+10℃(Tm은 액정 폴리머의 융점임)의 온도, 예를 들어 293 내지 303℃에서 60 내지 360분 동안 수행될 수 있다.The heat treatment of the insulating layer may be performed at a temperature of T m to T m +10° C. (T m is the melting point of the liquid crystal polymer), for example, 293 to 303° C. for 60 to 360 minutes.

상기 절연층의 열처리 온도가 Tm 미만이면 절연층과 금속층 간의 밀착력, 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율과 유전정접, 절연층의 MD 방향과 TD 방향의 연신율, 및 연성 금속 적층체의 인장강도와 내굴곡성을 상기한 범위로 조절하기 어려울 수 있고, Tm+10℃ 초과이면 절연층에 블리스터가 발생하여 인장강도가 저하되거나, 절연층의 MD 방향과 TD 방향의 연신율을 상기한 범위로 조절하기 어려울 수 있다.When the heat treatment temperature of the insulating layer is less than T m , the adhesion between the insulating layer and the metal layer, the dielectric constant and dielectric loss tangent at 15 GHz of the insulating laminate, the elongation in the MD and TD directions of the insulating layer, and the tensile strength of the ductile metal laminate It may be difficult to adjust the flex resistance within the above range, and if T m exceeds +10℃, blisters occur in the insulating layer and the tensile strength is lowered, or the elongation in the MD and TD directions of the insulating layer is adjusted within the above range. It can be difficult to do.

상기 절연층의 열처리 시간이 60분 미만이면 절연층과 금속층 간의 밀착력, 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율과 유전정접, 절연층의 MD 방향과 TD 방향의 연신율, 및 연성 금속 적층체의 인장강도와 내굴곡성을 상기한 범위로 동시에 조절하기 어려울 수 있고, 360분 초과이면 절연층에 블리스터가 발생하여 인장강도가 저하되거나, 절연층의 MD 방향과 TD 방향의 연신율을 상기한 범위로 조절하기 어려울 수 있다.If the heat treatment time of the insulating layer is less than 60 minutes, the adhesion between the insulating layer and the metal layer, the dielectric constant and dielectric loss tangent at 15 GHz of the insulating laminate, the elongation in the MD and TD directions of the insulating layer, and the tensile strength of the ductile metal laminate It may be difficult to simultaneously control the flex resistance within the above range, and if it exceeds 360 minutes, blistering occurs in the insulating layer to lower the tensile strength, or it is difficult to adjust the elongation in the MD and TD directions of the insulating layer within the above range. can

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1접착제층(110) 및 제2접착제층(120)은 각각 독립적으로 산변성 폴리올레핀 수지를 포함하는 접착제 조성물로부터 형성될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first adhesive layer 110 and the second adhesive layer 120 may be each independently formed from an adhesive composition including an acid-modified polyolefin resin.

상기 산변성 폴리올레핀 수지는 카르복실기나 산무수물기 등의 산변성기로 변성된 폴리올레핀 수지이다.The acid-modified polyolefin resin is a polyolefin resin modified with an acid-modified group such as a carboxyl group or an acid anhydride group.

보다 구체적으로, 산변성 폴리올레핀 수지는 폴리올레핀 수지에 α,β-불포화 카르복실산 및 그 산무수물 중 적어도 1종을 그라프트함으로써 얻어지는 것이 바람직하다. 폴리올레핀 수지란, 에틸렌, 프로필렌, 부텐, 부타디엔, 이소프렌 등으로 예시되는 올레핀 모노머의 단독 중합, 또는 그 외의 모노머와의 공중합 및 얻어진 중합체의 수소화물이나 할로겐화물 등, 탄화수소 골격을 주체로 하는 중합체를 가리킨다. 즉, 산변성 폴리올레핀 수지는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 프로필렌-α-올레핀 공중합체 중 적어도 1종에, α,β-불포화 카르복실산 및 그 산무수물 중 적어도 1종을 그라프트함으로써 얻어지는 것이 바람직하다.More specifically, the acid-modified polyolefin resin is preferably obtained by grafting at least one of α,β-unsaturated carboxylic acid and an acid anhydride thereof to a polyolefin resin. Polyolefin resin refers to a polymer mainly having a hydrocarbon backbone, such as homopolymerization of olefin monomers exemplified by ethylene, propylene, butene, butadiene, isoprene, etc., or copolymerization with other monomers, and a hydride or halide of the obtained polymer. . That is, the acid-modified polyolefin resin is preferably obtained by grafting at least one of α,β-unsaturated carboxylic acid and its acid anhydride to at least one of polyethylene, polypropylene, and propylene-α-olefin copolymer. .

프로필렌-α-올레핀 공중합체는, 프로필렌을 주체로 하여 이것에 α-올레핀을 공중합한 것이다. α-올레핀으로서는, 예컨대, 에틸렌, 1-부텐, 1-헵텐, 1-옥텐, 4-메틸-1-펜텐, 초산비닐 등을 1종 또는 수종 이용할 수 있다. 이들 α-올레핀 중에서는, 에틸렌, 1-부텐이 바람직하다. 프로필렌-α-올레핀 공중합체의 프로필렌 성분과 α-올레핀 성분의 비율은 한정되지 않지만, 프로필렌 성분이 50 몰% 이상인 것이 바람직하고, 70 몰% 이상인 것이 보다 바람직하다.The propylene-α-olefin copolymer is obtained by copolymerizing propylene with α-olefin. As the α-olefin, for example, one or several types of ethylene, 1-butene, 1-heptene, 1-octene, 4-methyl-1-pentene, vinyl acetate and the like can be used. Among these ?-olefins, ethylene and 1-butene are preferable. The ratio of the propylene component to the α-olefin component of the propylene-α-olefin copolymer is not limited, but the propylene component is preferably 50 mol% or more, and more preferably 70 mol% or more.

α,β-불포화 카르복실산 및 그 산무수물 중 적어도 1종으로서는, 예컨대, 말레산, 이타콘산, 시트라콘산 및 이들의 산무수물을 들 수 있다. 이들 중에서도 산무수물이 바람직하고, 무수 말레산이 보다 바람직하다.Examples of at least one of α,β-unsaturated carboxylic acids and their acid anhydrides include maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, and acid anhydrides thereof. Among these, an acid anhydride is preferable and maleic anhydride is more preferable.

예를 들어, 상기 산변성 폴리올레핀 수지로는 무수 말레산 변성 폴리프로필렌, 무수 말레산 변성 프로필렌-에틸렌 공중합체, 무수 말레산 변성 프로필렌-부텐 공중합체, 무수 말레산 변성 프로필렌-에틸렌-부텐 공중합체 등을 들 수 있고, 이들 산변성 폴리올레핀 수지를 1 종류 또는 2 종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.For example, as the acid-modified polyolefin resin, maleic anhydride-modified polypropylene, maleic anhydride-modified propylene-ethylene copolymer, maleic anhydride-modified propylene-butene copolymer, maleic anhydride-modified propylene-ethylene-butene copolymer, etc. These are mentioned, These acid-modified polyolefin resin can be used 1 type or in combination of 2 or more types.

상기 산변성 폴리올레핀 수지의 산가는 100 내지 1000 당량/106 g일 수 있으며, 중량 평균 분자량(Mw)은 10,000∼180,000의 범위인 것이 바람직하다.The acid value of the acid-modified polyolefin resin may be 100 to 1000 equivalents/10 6 g, and the weight average molecular weight (Mw) is preferably in the range of 10,000 to 180,000.

상기 산변성 폴리올레핀 수지의 제조 방법으로는 예컨대 라디칼 그라프트 반응, 즉 주쇄가 되는 폴리머에 대하여 라디칼 발생제에 의해 라디칼종을 생성하고, 그 라디칼종을 중합 개시점으로 하여 불포화 카르복실산 및 산무수물을 그라프트 중합시키는 반응 등을 들 수 있다.As a method for producing the acid-modified polyolefin resin, for example, a radical graft reaction, that is, a radical generating agent is used to generate a radical species with respect to a polymer serving as a main chain, and the radical species is used as a polymerization initiation point to form an unsaturated carboxylic acid and an acid anhydride. and a reaction in which graft polymerization is carried out.

상기 라디칼 발생제로는, 특별히 한정되지 않지만, 유기 과산화물, 아조니트릴류 등을 사용하는 것이 바람직하다. 유기 과산화물로는 예를 들어 디-tert-부틸퍼옥시프탈레이트, tert-부틸히드로퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, tert-부틸퍼옥시벤조에이트, tert-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, tert-부틸퍼옥시피발레이트, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 디-tert-부틸퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드 등을 들 수 있고, 아조니트릴류로는 아조비스이소부티로니트릴, 아조비스이소프로피오니트릴 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as said radical generator, It is preferable to use organic peroxide, azonitrile, etc. Examples of organic peroxides include di-tert-butylperoxyphthalate, tert-butylhydroperoxide, dicumylperoxide, benzoylperoxide, tert-butylperoxybenzoate, tert-butylperoxy-2-ethylhexano. ate, tert-butyl peroxypivalate, methyl ethyl ketone peroxide, di-tert-butyl peroxide, lauroyl peroxide, and the like. Examples of azonitriles include azobisisobutyronitrile and azobisisopro. Pionitrile etc. are mentioned.

상기 접착제 조성물은 상기 산변성 폴리올레핀 수지 이외에, 카르복실기 함유 스티렌 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 에폭시 수지 등을 더 포함할 수 있다.The adhesive composition may further include, in addition to the acid-modified polyolefin resin, a carboxyl group-containing styrene resin, a polyphenylene ether resin, an epoxy resin, and the like.

상기 카르복실기 함유 스티렌 수지는 접착제 조성물의 밀착성을 높일 수 있으며, 방향족 비닐 화합물 단독 또는, 방향족 비닐 화합물과 공역 디엔 화합물의 블록 및/또는 랜덤 구조를 주체로 하는 공중합체, 또는 그 수소 첨가물을, 불포화 카르복실산으로 변성한 것이 바람직하다. 상기 방향족 비닐 화합물로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 스티렌, t-부틸스티렌, α-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 디비닐벤젠, 1,1-디페닐스티렌, N,N-디에틸-p-아미노에틸스티렌, 비닐톨루엔, p-제3부틸스티렌 등을 들 수 있다. 또한, 상기 공역 디엔 화합물로는, 예컨대, 부타디엔, 이소프렌, 1,3-펜타디엔, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등을 들 수 있다. 이들 방향족 비닐 화합물과 공역 디엔 화합물의 공중합체의 구체예로서는, 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 블록 공중합체(SEBS), 스티렌-에틸렌-프로필렌-스티렌 블록 공중합체(SEPS), 스티렌-에틸렌-에틸렌·프로필렌-스티렌 블록 공중합체(SEEPS) 등을 들 수 있다.The carboxyl group-containing styrene resin can increase the adhesiveness of the adhesive composition, and an aromatic vinyl compound alone or a copolymer mainly having a block and/or random structure of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound, or a hydrogenated product thereof Those modified with an acid are preferred. Although it does not specifically limit as said aromatic vinyl compound, For example, styrene, t-butylstyrene, alpha-methylstyrene, p-methylstyrene, divinylbenzene, 1,1-diphenylstyrene, N,N-diethyl-p- aminoethylstyrene, vinyltoluene, p-tert-butylstyrene, etc. are mentioned. Examples of the conjugated diene compound include butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, and 2,3-dimethyl-1,3-butadiene. Specific examples of copolymers of these aromatic vinyl compounds and conjugated diene compounds include styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS), styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEPS), styrene-ethylene-ethylene/ A propylene-styrene block copolymer (SEEPS) etc. are mentioned.

카르복실기 함유 스티렌 수지의 변성은, 예컨대, 스티렌 수지의 중합 시에, 불포화 카르복실산을 공중합시킴으로써 행할 수 있다. 또한, 스티렌 수지와 불포화 카르복실산을 유기 퍼옥사이드의 존재 하에 가열, 혼련함으로써 행할 수도 있다. 불포화 카르복실산으로서는, 특별히 한정되지 않고, 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 무수 말레산, 무수 이타콘산, 무수 푸마르산 등을 들 수 있다.Modification of a carboxyl group-containing styrene resin can be performed by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid at the time of superposition|polymerization of a styrene resin, for example. It can also be carried out by heating and kneading a styrene resin and an unsaturated carboxylic acid in the presence of an organic peroxide. It does not specifically limit as unsaturated carboxylic acid, Acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, fumaric acid anhydride, etc. are mentioned.

상기 카르복실기 함유 스티렌 수지의 산가는 10 내지 1000 당량/106 g일 수 있다.The acid value of the carboxyl group-containing styrene resin may be 10 to 1000 equivalents/10 6 g.

상기 카르복실기 함유 스티렌 수지의 함량은 산변성 폴리올레핀 수지 100 중량부에 대하여 95 내지 5 중량부인 것이 바람직하다.The content of the carboxyl group-containing styrene resin is preferably 95 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the acid-modified polyolefin resin.

상기 폴리페닐렌에테르 수지는 반복 단위로서 치환되거나 치환되지 않은 페녹시(phenoxy) 기를 포함하는 폴리머로서, 접착제 조성물의 내열성을 향상시키는 역할을 한다.The polyphenylene ether resin is a polymer including a substituted or unsubstituted phenoxy group as a repeating unit, and serves to improve the heat resistance of the adhesive composition.

상기 페녹시 기의 치환기로는 C1-C6의 알킬기, C2-C6의 알케닐기, C2-C6의 알키닐기, 아릴기, 아랄킬기 또는 C1-C6의 알콕시기 등을 예로 들 수 있다.As a substituent of the phenoxy group, a C 1 -C 6 alkyl group, a C 2 -C 6 alkenyl group, a C 2 -C 6 alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a C 1 -C 6 alkoxy group is selected. for example.

본 명세서에서 사용되는 C1-C6의 알킬기는 탄소수 1 내지 6개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 1가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, t-부틸, n-펜틸, n-헥실 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, C 1 -C 6 Alkyl group refers to a linear or branched monovalent hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl , i-butyl, t-butyl, n-pentyl, n-hexyl, and the like.

본 명세서에서 사용되는 C2-C6의 알케닐기는 하나 이상의 탄소-탄소 이중결합을 갖는 탄소수 2 내지 6개로 구성된 직쇄형 또는 분지형 불포화 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 에틸렌일, 프로펜일, 부텐일, 펜텐일 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, the C 2 -C 6 alkenyl group refers to a straight-chain or branched unsaturated hydrocarbon having 2 to 6 carbon atoms having one or more carbon-carbon double bonds, for example, ethyleneyl, propenyl, Tenyl, pentenyl, and the like are included, but are not limited thereto.

본 명세서에서 사용되는 C2-C6의 알키닐기는 하나 이상의 탄소-탄소 삼중결합을 갖는 탄소수 2 내지 6개로 구성된 직쇄형 또는 분지형 불포화 탄화수소를 의미하며, 아세틸렌일, 프로핀일, 부틴일 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, the C 2 -C 6 alkynyl group refers to a straight-chain or branched unsaturated hydrocarbon having 2 to 6 carbon atoms having at least one carbon-carbon triple bond, and acetylenyl, propynyl, butynyl, etc. included, but not limited to.

본 명세서에서 사용되는 아릴기는 아로메틱기와 헤테로아로메틱기 및 그들의 부분적으로 환원된 유도체를 모두 포함한다. 상기 아로메틱기는 5원 내지 15원의 단순 또는 융합 고리형이며, 헤테로아로메틱기는 산소, 황 또는 질소를 하나 이상 포함하는 아로메틱기를 의미한다. 대표적인 아릴기의 예로는 페닐, 나프틸, 피리디닐(pyridinyl), 푸라닐(furanyl), 티오페닐(thiophenyl), 인돌릴(indolyl), 퀴놀리닐(quinolinyl), 이미다졸리닐(imidazolinyl), 옥사졸릴(oxazolyl), 티아졸릴(thiazolyl), 테트라히드로나프틸 등이 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Aryl groups as used herein include both aromatic groups and heteroaromatic groups and partially reduced derivatives thereof. The aromatic group is a 5-membered to 15-membered simple or fused cyclic group, and the heteroaromatic group refers to an aromatic group containing at least one oxygen, sulfur or nitrogen. Examples of representative aryl groups include phenyl, naphthyl, pyridinyl, furanyl, thiophenyl, indolyl, quinolinyl, imidazolinyl, Oxazolyl, thiazolyl, tetrahydronaphthyl, and the like, but are not limited thereto.

본 명세서에서 사용되는 아랄킬기(aralkyl group)는 아릴기(방향족 탄화수소기)가 알킬기의 탄소에 치환되어 형성된 복합기를 의미하며, 예를 들어 벤질, 페네틸 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, the aralkyl group (aralkyl group) refers to a composite group formed by substituting an aryl group (aromatic hydrocarbon group) at the carbon of the alkyl group, and includes, for example, benzyl, phenethyl, etc., but is not limited thereto.

본 명세서에서 사용되는 C1-C6의 알콕시기는 탄소수 1 내지 6개로 구성된 직쇄형 또는 분지형 알콕시기를 의미하며, 메톡시, 에톡시, n-프로판옥시 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, the C 1 -C 6 alkoxy group refers to a straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and includes, but is not limited to, methoxy, ethoxy, n-propanoxy, and the like.

상기 폴리페닐렌에테르 수지로는 예를 들어 폴리(p-페닐렌 옥사이드)를 들 수 있다.The polyphenylene ether resin may include, for example, poly( p -phenylene oxide).

상기 폴리페닐렌에테르 수지는 수평균 분자량(Mn)이 500 내지 30,000, 바람직하기로는 500 내지 3,000일 수 있다.The polyphenylene ether resin may have a number average molecular weight (Mn) of 500 to 30,000, preferably 500 to 3,000.

상기 폴리페닐렌에테르 수지의 함량은 산변성 폴리올레핀 수지 100 중량부에 대하여 0.05 내지 200 중량부, 바람직하게는 1 내지 50 중량부일 수 있다.The content of the polyphenylene ether resin may be 0.05 to 200 parts by weight, preferably 1 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the acid-modified polyolefin resin.

상기 에폭시 수지는 경화제로서, 분자 중에 글리시딜기를 갖는 것이면, 특별히 한정되지 않고 사용 가능하다. 특히, 상기 에폭시 수지로는 분자 중에 2개 이상의 글리시딜기를 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로, 상기 에폭시 수지는 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄, 트리글리시딜파라아미노페놀, 테트라글리시딜비스아미노메틸시클로헥사논, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 사용할 수 있다. 바람직하게는, 상기 에폭시 수지는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지 또는 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지이다.The said epoxy resin is not specifically limited as long as it has a glycidyl group in a molecule|numerator as a hardening|curing agent, It can be used. In particular, the epoxy resin preferably has two or more glycidyl groups in the molecule. Specifically, the epoxy resin is a biphenyl type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a novolak type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, a dicyclopentadiene type epoxy resin, tetra From the group consisting of glycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylparaaminophenol, tetraglycidylbisaminomethylcyclohexanone, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine At least one selected may be used. Preferably, the said epoxy resin is a bisphenol A type epoxy resin, a novolak type epoxy resin, or a dicyclopentadiene type epoxy resin.

상기 에폭시 수지의 함량은 산변성 폴리올레핀 수지, 카르복실기 함유 스티렌 수지 및 폴리페닐렌에테르 수지의 합계량 100 중량부에 대하여 1 내지 30 중량부일 수 있다.The content of the epoxy resin may be 1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the acid-modified polyolefin resin, the carboxyl group-containing styrene resin, and the polyphenylene ether resin.

상기 접착제 조성물은 유기 용제를 더 포함할 수 있다. 상기 유기 용제는 접착제 조성물 내 성분들을 용해시키는 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 상기 유기 용제는 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 헥산, 헵탄, 옥탄, 데칸 등의 지방족계 탄화수소, 시클로헥산, 시클로헥센, 메틸시클로헥산, 에틸시클로헥산 등의 지환족 탄화수소, 트리클로로에틸렌, 디클로로에틸렌, 클로로벤젠, 클로로포름 등의 할로겐화 탄화수소, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, 펜탄올, 헥산올, 프로판디올, 페놀 등의 알코올계 용제, 아세톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 펜타논, 헥사논, 시클로헥사논, 이소포론, 아세토페논 등의 케톤계 용제, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브류, 초산메틸, 초산에틸, 초산부틸, 프로피온산메틸, 포름산부틸 등의 에스테르계 용제, 에틸렌글리콜모노n-부틸에테르, 에틸렌글리콜모노iso-부틸에테르, 에틸렌글리콜모노tert-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노iso-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노n-부틸에테르, 테트라에틸렌글리콜모노n-부틸에테르 등의 글리콜에테르계 용제 등을 사용할 수 있고, 이들 1종 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.The adhesive composition may further include an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited as long as it dissolves the components in the adhesive composition. For example, the organic solvent may be an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene or xylene, an aliphatic hydrocarbon such as hexane, heptane, octane or decane, an alicyclic hydrocarbon such as cyclohexane, cyclohexene, methylcyclohexane or ethylcyclohexane, or trichloro Halogenated hydrocarbons such as ethylene, dichloroethylene, chlorobenzene, and chloroform, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, pentanol, hexanol, propanediol, phenol, acetone, methyl isobutyl ketone, and methyl ethyl ketone , ketone solvents such as pentanone, hexanone, cyclohexanone, isophorone and acetophenone, cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, formic acid Ester solvents such as butyl, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol monoiso-butyl ether, ethylene glycol mono-tert-butyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monoiso-butyl ether, tri Glycol ether solvents, such as ethylene glycol mono-n-butyl ether and tetraethylene glycol mono-n-butyl ether, can be used, These 1 type, or 2 or more types can be used together.

상기 유기 용제의 함량은 산변성 폴리올레핀 수지, 카르복실기 함유 스티렌 수지 및 폴리페닐렌에테르 수지의 합계량 100 중량부에 대하여 100 내지 1000 중량부일 수 있다.The content of the organic solvent may be 100 to 1000 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the acid-modified polyolefin resin, the carboxyl group-containing styrene resin, and the polyphenylene ether resin.

상기 제1접착제층(110) 및 제2접착제층(120)의 두께는 각각 독립적으로 3 내지 30㎛, 바람직하게는 6 내지 15㎛일 수 있다. 상기 제1접착제층(110) 및 제2접착제층(120)의 두께가 3㎛ 미만이면 연성회로기판 제작 후 절연층과 금속층 간의 밀착력이 부족할 수 있고, 30㎛ 초과이면 연성회로기판의 내열성이 저하될 수 있다.The first adhesive layer 110 and the second adhesive layer 120 may each independently have a thickness of 3 to 30 μm, preferably 6 to 15 μm. If the thickness of the first adhesive layer 110 and the second adhesive layer 120 is less than 3 μm, the adhesion between the insulating layer and the metal layer may be insufficient after manufacturing the flexible circuit board, and when it exceeds 30 μm, the heat resistance of the flexible circuit board decreases. can be

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 액정 폴리머를 포함하는 절연층과 상기 절연층의 적어도 일면에 형성된 접착제층을 포함하는 절연 적층체의 두께는 10 내지 100㎛, 바람직하게는 25 내지 75㎛일 수 있다. 상기 절연 적층체의 두께가 10㎛ 미만이면 고주파 영역에서의 전송 손실률이 증가할 수 있고, 100㎛ 초과이면 곡률 반경이 증가할 수 있어 내굴곡성이 저하될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the thickness of the insulating laminate including the insulating layer containing the liquid crystal polymer and the adhesive layer formed on at least one surface of the insulating layer is 10 to 100㎛, preferably 25 to 75㎛ may be have. When the thickness of the insulating laminate is less than 10 μm, a transmission loss rate in a high frequency region may increase, and if it exceeds 100 μm, a radius of curvature may increase, thereby reducing bending resistance.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1금속층(20) 및 제2금속층(30)은 각각 독립적으로 구리, 철, 니켈, 티타늄, 알루미늄, 은 및 금으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 금속 또는 합금의 박막일 수 있으며, 바람직하게는 전기전도도가 우수하고, 가격이 저렴한 구리 박막, 즉 동박층일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 동박층은 전해에 의해 형성된 층이거나 압연에 의해 형성된 층일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first metal layer 20 and the second metal layer 30 are each independently one or more metals or alloys selected from the group consisting of copper, iron, nickel, titanium, aluminum, silver and gold. It may be a thin film of , preferably a copper thin film having excellent electrical conductivity and inexpensive price, that is, a copper foil layer, but is not limited thereto. The copper foil layer may be a layer formed by electrolysis or a layer formed by rolling.

상기 제1금속층(20) 및 제2금속층(30)의 두께는 본 발명에서 특별히 한정하는 것은 아니나, 예를 들어 각각 독립적으로 5 내지 50㎛, 바람직하게는 7 내지 15㎛의 두께일 수 있다. 상기 금속층들의 두께가 전술한 범위 미만인 경우 이를 포함하는 연성 금속 적층체에 발열 문제가 발생할 수 있으며, 상기 범위를 초과하는 경우 이를 포함하는 연성 금속 적층체의 굴곡성이 다소 저하되는 문제가 발생할 수 있다. The thickness of the first metal layer 20 and the second metal layer 30 is not particularly limited in the present invention, but may be, for example, each independently 5 to 50 μm, preferably 7 to 15 μm. If the thickness of the metal layers is less than the above range, a heat problem may occur in the flexible metal laminate including the same, and if it exceeds the above range, there may be a problem in that the flexibility of the flexible metal laminate including the same is slightly lowered.

본 발명의 일 실시형태는 상기 연성 금속 적층체의 제조방법에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to a method of manufacturing the flexible metal laminate.

본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체의 제조방법은 A method of manufacturing a flexible metal laminate according to an embodiment of the present invention

액정 폴리머를 포함하는 절연층을 열처리하는 단계;heat-treating the insulating layer including the liquid crystal polymer;

상기 열처리된 절연층의 적어도 일면에 접착제층을 형성시켜 절연 적층체를 수득하는 단계; 및forming an adhesive layer on at least one surface of the heat-treated insulating layer to obtain an insulating laminate; and

상기 절연 적층체 상에 금속층을 접합시키는 단계를 포함한다.and bonding a metal layer on the insulating laminate.

상기 절연층의 구성 성분, 층 구조, 두께, 열처리 조건 등은 상기 연성 금속 적층체에서 설명한 바와 동일하다.The constituent components, layer structure, thickness, heat treatment conditions, etc. of the insulating layer are the same as those described for the flexible metal laminate.

상기 절연층의 열처리 수단으로는 융점 이상의 온도에서 가열을 수행할 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 열롤, 열풍 가열로, 세라믹 히터, IR 가열로 또는 이들을 병용한 방법을 사용할 수 있으며, 특히 열풍 가열로를 사용할 수 있다.The heat treatment means for the insulating layer is not particularly limited as long as it can be heated at a temperature higher than or equal to the melting point, and for example, a hot roll, a hot air furnace, a ceramic heater, an IR furnace, or a method in which they are used in combination can be used. A hot air heating furnace may be used.

상기 절연층의 열처리는 폴리이미드 필름 지지체 상에서 수행될 수 있다. 폴리이미드 필름 지지체 상에서 절연층의 열처리를 수행함으로써 LCP를 포함하는 절연층의 변형을 막을 수 있다.The heat treatment of the insulating layer may be performed on a polyimide film support. Deformation of the insulating layer including the LCP can be prevented by performing heat treatment of the insulating layer on the polyimide film support.

상기 열처리된 절연층은 상기 연성 금속 적층체에서 설명한 바와 같이, MD 방향 연신율이 13% 이상이며, TD 방향 연신율이 16% 이상일 수 있다.As described in the flexible metal laminate, the heat-treated insulating layer may have an elongation in the MD direction of 13% or more and an elongation in the TD direction of 16% or more.

상기 접착제층의 구성 성분 및 두께 등은 상기 연성 금속 적층체에서 설명한 바와 동일하다.The components and thickness of the adhesive layer are the same as those described for the flexible metal laminate.

상기 접착제 조성물의 코팅 방법에 특별한 한정은 없고, 예를 들어 콤마 코터, 닥터 블레이드, 와이어바, 다이 코터, 그라비아 코터 등 여러 가지 코팅 방식을 이용할 수 있다.There is no particular limitation on the coating method of the adhesive composition, and for example, various coating methods such as a comma coater, a doctor blade, a wire bar, a die coater, and a gravure coater may be used.

상기 접착제 조성물의 건조는 100 내지 180℃, 바람직하게는 120 내지 150℃의 온도에서 30 내지 360초, 바람직하게는 150 내지 240초 동안 수행될 수 있다.Drying of the adhesive composition may be performed for 30 to 360 seconds, preferably 150 to 240 seconds at a temperature of 100 to 180 ℃, preferably 120 to 150 ℃.

상기 건조 온도가 100℃ 미만이면 접착제 조성물이 미건조될 수 있고, 180℃ 초과이면 오렌지필 등의 표면 외관 불량이 발생할 수 있다.If the drying temperature is less than 100 ℃, the adhesive composition may be undried, and if it exceeds 180 ℃, surface appearance defects such as orange peel may occur.

상기 건조 시간이 30초 미만이면 접착제 조성물이 미건조될 수 있고, 360초 초과이면 과열처리되어 외관 불량이 발생할 수 있다.If the drying time is less than 30 seconds, the adhesive composition may be undried, and if it is more than 360 seconds, overheat treatment may result in poor appearance.

상기 금속층의 구성 성분 및 두께 등은 상기 연성 금속 적층체에서 설명한 바와 동일하다.The components and thickness of the metal layer are the same as those described in the flexible metal laminate.

상기 절연 적층체와 금속층의 접합은 열융착을 수행할 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 열롤, 더블밸트프레스, 가열판 또는 이들을 병용한 방법을 사용할 수 있으며, 특히 상기 접합은 가열판 방식을 이용할 수 있다.The bonding of the insulating laminate and the metal layer is not particularly limited as long as thermal fusion can be performed, for example, a hot roll, a double belt press, a heating plate, or a method using a combination thereof may be used. In particular, the bonding is performed using a heating plate method can

상기 접합은 100 내지 200℃, 바람직하게는 120 내지 150℃의 온도에서, 1 내지 8MPa, 바람직하게는 2 내지 5MPa의 압력(면압)으로 수행될 수 있다.The bonding may be performed at a temperature of 100 to 200° C., preferably 120 to 150° C., and a pressure (surface pressure) of 1 to 8 MPa, preferably 2 to 5 MPa.

상기 접합 온도가 100℃ 미만이면 절연 적층체와 금속층 간의 밀착력이 저하될 수 있고, 200℃ 초과이면 절연층의 용융이 심화되어 오버플로우(overflow) 현상이 발생할 수 있다.When the bonding temperature is less than 100° C., the adhesion between the insulating laminate and the metal layer may be reduced, and if the bonding temperature is more than 200° C., the melting of the insulating layer may be deepened and an overflow phenomenon may occur.

상기 접합 압력이 1MPa 미만이면 절연 적층체와 금속층 간의 밀착력이 저하될 수 있고, 8MPa 초과이면 과압으로 인해 절연층 내부에 크랙이 발생하여 기계적 특성이 저하될 수 있다.If the bonding pressure is less than 1 MPa, the adhesion between the insulating laminate and the metal layer may be reduced, and if the bonding pressure is more than 8 MPa, cracks may occur inside the insulating layer due to overpressure, thereby reducing mechanical properties.

상기 접합은 승온시간 10~60분, 유지시간 30~90분, 하온시간 10~60분, 승압시간 1분 이내의 조건에서 수행될 수 있다.The bonding may be performed under the conditions of a temperature increase time of 10 to 60 minutes, a holding time of 30 to 90 minutes, a low temperature of 10 to 60 minutes, and a pressure increase time of 1 minute.

아울러, 상기 접합은 5kpa 이내의 진공도 조건 하에서 수행될 수 있다.In addition, the bonding may be performed under vacuum conditions within 5 kpa.

상기 금속층을 접합시키는 단계 이후에, 절연층과 금속층 간의 밀착력이 0.4 kN/m 이상이고, 상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율은 3.1 이하이며 유전정접은 0.0014 이하이고, 상기 연성 금속 적층체의 인장강도가 200 MPa 이상이다.After bonding the metal layer, the adhesion between the insulating layer and the metal layer is 0.4 kN/m or more, the dielectric constant at 15 GHz of the insulating laminate is 3.1 or less, and the dielectric loss tangent is 0.0014 or less, and the tensile strength of the flexible metal laminate The strength is 200 MPa or more.

아울러, 상기 금속층을 접합시키는 단계 이후에, 상기 연성 금속 적층체를 MD 및 TD 방향으로 각각 1R(R = 1mm)의 반경으로 180° 조건으로 굽혔다 펴는 동작을 반복하였을 때, 저항측정시 단선되는 반복 횟수가 210 이상일 수 있다.In addition, after the step of bonding the metal layer, when the bending and unfolding operation of the flexible metal laminate in the MD and TD directions at a radius of 1R (R = 1mm) in the 180° condition is repeated, disconnection is repeated during resistance measurement The number of times may be 210 or more.

상기 절연층과 금속층 간의 밀착력, 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율과 유전정접, 및 연성 금속 적층체의 인장강도와 내굴곡성은 상기 연성 금속 적층체에서 설명한 바와 동일하다.The adhesion between the insulating layer and the metal layer, the dielectric constant and dielectric loss tangent at 15 GHz of the insulating laminate, and the tensile strength and bending resistance of the flexible metal laminate are the same as those described in the flexible metal laminate.

본 발명의 일 실시형태에 따른 연성 금속 적층체는 절연층을 금속층과 접합시키기 전에 미리 특정 조건으로 열처리함으로써 상기 절연층과 금속층 간의 밀착력이 향상될 수 있으며, 이에 따라 금속층에 홀을 형성시키기 위한 드릴링(drilling) 공정시 박리 현상이 억제되어 FPCB 제작이 용이하고, 가혹 조건, 예를 들어 고온 및/또는 열충격 하에서 내구성을 확보할 수 있으며, 고주파수 대역에서도 낮은 유전율과 유전정접을 가져 FPCB 적용시 신호손실율의 증가를 방지할 수 있을 뿐만 아니라 기계적 특성이 우수하여 쉽게 성형이 가능하므로 FPCB의 보다 원활한 제작이 가능하다.In the flexible metal laminate according to an embodiment of the present invention, adhesion between the insulating layer and the metal layer may be improved by heat-treating the insulating layer under a specific condition in advance before bonding the insulating layer to the metal layer, and thus drilling for forming a hole in the metal layer Delamination is suppressed during the (drilling) process, so FPCB fabrication is easy, durability can be secured under severe conditions, such as high temperature and/or thermal shock, and has low dielectric constant and dielectric loss tangent even in high frequency bands, so signal loss rate when FPCB is applied In addition to preventing the increase of the FPCB, it also has excellent mechanical properties so that it can be easily molded.

본 발명의 일 실시형태는 상기 연성 금속 적층체를 이용한 프린트 배선판에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to a printed wiring board using the flexible metal laminate.

상기 프린트 배선판은 적층체의 적어도 하나의 금속층에 에칭 등을 통해 회로 패턴을 형성하여 제조될 수 있다.The printed wiring board may be manufactured by forming a circuit pattern on at least one metal layer of the laminate through etching or the like.

상기 프린트 배선판은 플렉서블 프린트 배선판일 수 있다.The printed wiring board may be a flexible printed wiring board.

이하, 실시예, 비교예 및 실험예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예, 비교예 및 실험예는 오직 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 국한되지 않는다는 것은 당업자에게 있어서 자명하다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples, Comparative Examples and Experimental Examples. These Examples, Comparative Examples, and Experimental Examples are only for illustrating the present invention, and it is apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예 1: 연성 금속 적층체의 제조Example 1: Preparation of a flexible metal laminate

LCP 필름(두께 25㎛, Tm 293℃, Chiyoda사)을 지지체로서 폴리이미드(PI) 필름(50㎛, 이형처리 PI, SKC 코오롱사) 상에 부착하여 열풍오븐기(Model-IPHH-202, Espec사)에 투입한 후 295℃에서 60분 동안 열처리하여 강화된 열처리 LCP 필름을 제조하였다.The LCP film (thickness 25㎛, T m 293℃, Chiyoda Corporation) was attached to the polyimide (PI) film (50㎛, release treatment PI, SKC Kolon Corporation) as a support and a hot air oven (Model-IPHH-202, Espec) G) and then heat-treated at 295° C. for 60 minutes to prepare a reinforced heat-treated LCP film.

상기 열처리 LCP 필름 상에 접착제 조성물(산변성 폴리올레핀 수지 함유 저유전용 접착제, 도요보, 산변성 폴리프로필렌 수지(MS-003B) 64.9 중량부, SEBS 수지(MS-003A) 27.8 중량부, 에테르 수지(MS-040A) 7.3 중량부 및 방향족 에폭시 수지(ME-08) 1.8 중량부 함유)을 도포하여 건조 후 접착제층의 두께가 12.5㎛인 접착제층을 양면으로 제조하여 절연 적층체를 얻었다.On the heat-treated LCP film, the adhesive composition (acid-modified polyolefin resin-containing low-oil adhesive, Toyobo, acid-modified polypropylene resin (MS-003B) 64.9 parts by weight, SEBS resin (MS-003A) 27.8 parts by weight, ether resin (MS) -040A) 7.3 parts by weight and aromatic epoxy resin (ME-08) containing 1.8 parts by weight) were applied and dried, and an adhesive layer having a thickness of 12.5 μm was prepared on both sides to obtain an insulating laminate.

상기 절연 적층체의 상면과 하면에 각각 동박 기재(두께 12㎛, 제조사 미쯔이, 제품명 SP-3)를 적층한 후, 진공프레스기(Kitagawa seiki사, Model-KVHC)에 투입한 후 온도 155℃, 유지시간 60분, 압력 3.5Mpa, 진공도 0.1Kpa 하에서 가압하여 연성 금속 적층체를 얻었다.After laminating a copper foil substrate (thickness 12㎛, manufacturer Mitsui, product name SP-3) on the upper and lower surfaces of the insulating laminate, respectively, put into a vacuum press (Kitagawa seiki, Model-KVHC), and then maintain a temperature of 155 ℃ A flexible metal laminate was obtained by pressurizing for 60 minutes, a pressure of 3.5 Mpa, and a vacuum degree of 0.1 Kpa.

실시예 2 내지 8 및 비교예 1 내지 15: 연성 금속 적층체의 제조Examples 2 to 8 and Comparative Examples 1 to 15: Preparation of flexible metal laminates

LCP 필름의 열처리 조건을 하기 표 1과 같이 제어하는 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 연성 금속 적층체를 제조하였다.A flexible metal laminate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the heat treatment conditions of the LCP film were controlled as shown in Table 1 below.

실험예: Experimental example:

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 연성 금속 적층체의 물성을 후술하는 방법으로 측정하고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.The physical properties of the flexible metal laminates prepared in Examples and Comparative Examples were measured by the method described below, and the results are shown in Table 1 below.

(1) 밀착력(1) Adhesion

연성 금속 적층체를 100mm×10mm 크기로 잘라 평가용 시편을 준비하였다. 절연층과 동박 간의 밀착력을 UTM(Shimadzu사) 측정기를 이용하여 박리각도 90˚, 시편 폭 10mm, 박리 속도 50mm/min의 조건으로 측정하였으며, 3개의 시편을 측정하여 평균값을 구하였다.A specimen for evaluation was prepared by cutting the flexible metal laminate into a size of 100 mm × 10 mm. The adhesion between the insulating layer and the copper foil was measured using a UTM (Shimadzu) measuring machine under the conditions of a peeling angle of 90˚, a specimen width of 10mm, and a peeling rate of 50mm/min, and the average value was obtained by measuring three specimens.

(2) 유전 특성(2) dielectric properties

상기 실시예 및 비교예의 연성 금속 적층체의 동박을 에칭한 후, 절연층과 접착제층으로 이루어진 절연 적층체에 대하여 온도 25℃ 및 습도 50% 조건에서 유전율 측정 장치(Anritsu 사, 제품명 MS46522B)를 사용해서 15GHz에서의 유전율(Dk)과 유전정접(Df) 값을 측정하였다.After etching the copper foil of the flexible metal laminates of Examples and Comparative Examples, a dielectric constant measuring device (Anritsu Corporation, product name MS46522B) was used at a temperature of 25° C. and a humidity of 50% for the insulating laminate consisting of an insulating layer and an adhesive layer. Thus, the dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) values at 15 GHz were measured.

(3) 연신율(3) elongation

상기 열처리 LCP 필름에 대하여 폭 15mm, 연신전 표점거리 50mm, 속도 50mm/min의 조건에서 Auto Graph (Shimadzu사) 측정기를 이용하여 MD 방향 및 TD 방향으로 각각 상기 열처리 LCP 필름이 파단될 때까지 인장 시험을 수행하여 연신율을 측정하였다.With respect to the heat-treated LCP film, using an Auto Graph (Shimadzu) measuring machine under the conditions of a width of 15 mm, a gage distance of 50 mm before stretching, and a speed of 50 mm/min. was performed to measure the elongation.

(4) 인장강도(4) Tensile strength

상기 실시예 및 비교예의 연성 금속 적층체를 100mm×25mm 크기로 잘라 평가용 시편을 준비하였다. 해당 시편을 UTM(Shimadzu社) 측정기를 이용하여 시편 폭 25mm, 속도 10mm/min, 표점거리 50mm의 조건으로 상기 연성 금속 적층체가 파단될 때까지 인장 시험을 수행하여 측정하였으며, 3개의 시편을 측정하여 평균값을 기재하였다.The flexible metal laminates of Examples and Comparative Examples were cut to a size of 100 mm × 25 mm to prepare a specimen for evaluation. The specimen was measured by performing a tensile test using a UTM (Shimadzu Corporation) measuring device under the conditions of a specimen width of 25 mm, a speed of 10 mm/min, and a gage distance of 50 mm until the flexible metal laminate was fractured, and three specimens were measured. Average values are reported.

(5) 내굴곡성(5) Flexural resistance

상기 실시예 및 비교예의 연성 금속 적층체를 100mm×20mm의 크기로 잘라 평가용 시편을 준비하였다. 폴딩기(CFT-120, Covotech)를 이용하여 MD 및 TD 방향으로 각각 1R(R = 1mm)의 반경으로 180° 조건으로 굽혔다 펴는 동작을 반복하였다. 저항측정을 통해 단선을 확인한 지점의 횟수를 측정하였으며, 3개의 시편의 평균값을 기재하였다.Specimens for evaluation were prepared by cutting the flexible metal laminates of Examples and Comparative Examples into a size of 100 mm×20 mm. Using a folding machine (CFT-120, Covotech), the bending and unfolding operation was repeated in the MD and TD directions, respectively, with a radius of 1R (R = 1mm) at 180°. The number of points where disconnection was confirmed through resistance measurement was measured, and the average value of three specimens was recorded.

구분division 온도 (℃)Temperature (℃) 시간 (min)time (min) 밀착력 (kN/m)Adhesion (kN/m) 유전 특성dielectric properties 연신율 (%)Elongation (%) 인장강도
(Mpa)
The tensile strength
(Mpa)
굴곡성
(횟수)
flexibility
(number)
DkDk DfDf MDMD TDTD MDMD TDTD 비교예1Comparative Example 1 280280 6060 0.20.2 3.13.1 0.00170.0017 10.210.2 10.910.9 289289 201201 198198 비교예2Comparative Example 2 120120 0.20.2 3.13.1 0.00170.0017 12.112.1 11.211.2 301301 225225 183183 비교예3Comparative Example 3 360360 0.20.2 3.13.1 0.00180.0018 1818 12.112.1 292292 199199 202202 비교예4Comparative Example 4 290290 6060 0.40.4 3.13.1 0.00160.0016 18.318.3 19.219.2 295295 249249 252252 비교예5Comparative Example 5 120120 0.40.4 3.13.1 0.00150.0015 22.122.1 23.123.1 289289 265265 261261 비교예6Comparative Example 6 180180 0.50.5 3.13.1 0.00150.0015 23.823.8 22.622.6 282282 259259 241241 비교예7Comparative Example 7 360360 0.50.5 3.13.1 0.00150.0015 22.122.1 22.822.8 281281 255255 242242 비교예8Comparative Example 8 295295 5050 0.70.7 3.13.1 0.00150.0015 22.122.1 21.421.4 294294 248248 251251 실시예1Example 1 6060 1.11.1 3.13.1 0.00140.0014 22.822.8 23.423.4 285285 255255 276276 실시예2Example 2 120120 1.11.1 3.13.1 0.00130.0013 28.228.2 27.527.5 282282 292292 272272 실시예3Example 3 180180 1.31.3 3.13.1 0.00120.0012 27.227.2 27.827.8 276276 268268 292292 실시예4Example 4 360360 1.31.3 3.03.0 0.00130.0013 26.826.8 26.726.7 268268 276276 268268 비교예9Comparative Example 9 400400 1.21.2 3.13.1 0.00150.0015 24.224.2 24.824.8 255255 261261 254254 비교예10Comparative Example 10 300300 5050 1.11.1 3.13.1 0.00150.0015 24.224.2 24.824.8 256256 238238 202202 실시예 5Example 5 6060 1.11.1 3.13.1 0.00130.0013 24.824.8 25.625.6 242242 242242 218218 실시예 6Example 6 120120 1.11.1 3.13.1 0.00140.0014 24.224.2 22.822.8 255255 228228 226226 실시예 7Example 7 180180 1.31.3 3.13.1 0.00140.0014 24.024.0 23.623.6 233233 232232 231231 실시예 8Example 8 360360 1.51.5 3.03.0 0.00130.0013 22.822.8 21.921.9 228228 232232 225225 비교예11Comparative Example 11 400400 1.51.5 3.13.1 0.00140.0014 19.219.2 18.718.7 191191 196196 201201 비교예12Comparative Example 12 310310 6060 1.11.1 3.13.1 0.00120.0012 18.218.2 16.816.8 188188 195195 208208 비교예13Comparative Example 13 120120 1.31.3 3.13.1 0.00130.0013 18.318.3 17.217.2 192192 183183 192192 비교예14Comparative Example 14 180180 1.41.4 3.13.1 0.00120.0012 15.515.5 16.216.2 155155 189189 188188 비교예15Comparative Example 15 360360 1.51.5 3.03.0 0.00120.0012 14.214.2 15.515.5 132132 181181 195195

상기 표 1을 통해, 액정 폴리머를 포함하는 절연층을 금속층과 접합시키기 전에 특정 조건으로 미리 열처리한 실시예 1 내지 8의 연성 금속 적층체는 절연층과 금속층 간의 밀착력이 우수하여 드릴링 공정시 박리 현상이 억제될 수 있으며, 인장강도 및 내굴곡성이 뛰어나 FPCB 성형 공정을 보다 원활하게 수행할 수 있을 것으로 나타났다. 아울러, 실시예 1 내지 8의 연성 금속 적층체는 고주파수 대역에서도 더욱 낮은 유전율과 유전정접을 가져 신호손실율이 저하될 수 있음을 알 수 있다.Referring to Table 1, the flexible metal laminates of Examples 1 to 8, which were previously heat-treated under specific conditions before bonding the insulating layer containing the liquid crystal polymer to the metal layer, had excellent adhesion between the insulating layer and the metal layer, so that peeling phenomenon during the drilling process This can be suppressed, and it has been shown that the FPCB molding process can be performed more smoothly due to its excellent tensile strength and bending resistance. In addition, it can be seen that the flexible metal laminates of Examples 1 to 8 have lower dielectric constant and dielectric loss tangent even in a high frequency band, so that the signal loss rate can be reduced.

반면, 비교예 1 내지 15의 연성 금속 적층체는 절연층과 금속층 간의 밀착력, 유전특성, 인장강도 및 내굴곡성을 동시에 확보할 수 없어, 드릴링 공정시 박리 현상이 발생하거나 고주파수 대역에서 신호손실율이 커지거나 FPCB의 성형 공정이 난해할 것으로 나타났다.On the other hand, in the flexible metal laminates of Comparative Examples 1 to 15, adhesion, dielectric properties, tensile strength, and bending resistance between the insulating layer and the metal layer cannot be secured at the same time. Otherwise, the molding process of FPCB was found to be difficult.

이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아님은 명백하다. 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.As the specific part of the present invention has been described in detail above, for those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains, it is clear that these specific techniques are only preferred embodiments, and the scope of the present invention is not limited thereto. do. Those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above contents.

따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 특허청구범위와 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.Accordingly, the substantial scope of the present invention will be defined by the appended claims and their equivalents.

100: 절연층 110: 제1접착제층
120: 제2접착제층 10: 절연 적층체
20: 제1금속층 30: 제2금속층
100: insulating layer 110: first adhesive layer
120: second adhesive layer 10: insulating laminate
20: first metal layer 30: second metal layer

Claims (13)

액정 폴리머를 포함하는 절연층과 상기 절연층의 적어도 일면에 형성된 접착제층을 포함하는 절연 적층체, 및 상기 절연 적층체 상에 형성된 금속층을 포함하는 연성 금속 적층체로서,
상기 절연층과 금속층 간의 밀착력이 0.4 kN/m 이상이고,
상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율은 3.1 이하이며 유전정접은 0.0014 이하이고,
상기 연성 금속 적층체의 인장강도가 200 MPa 이상인 연성 금속 적층체.
An insulating laminate comprising an insulating layer comprising a liquid crystal polymer, an adhesive layer formed on at least one surface of the insulating layer, and a metal layer formed on the insulating laminate, the flexible metal laminate comprising:
The adhesion between the insulating layer and the metal layer is 0.4 kN / m or more,
The dielectric constant at 15 GHz of the insulating laminate is 3.1 or less and the dielectric loss tangent is 0.0014 or less,
A flexible metal laminate having a tensile strength of 200 MPa or more of the flexible metal laminate.
제1항에 있어서, 상기 절연층의 MD 방향 연신율은 13% 이상이며, TD 방향 연신율은 16% 이상인 연성 금속 적층체.The flexible metal laminate according to claim 1, wherein the insulating layer has an elongation in the MD direction of 13% or more, and an elongation in the TD direction of 16% or more. 제1항에 있어서, 상기 연성 금속 적층체를 MD 및 TD 방향으로 각각 1R(R = 1mm)의 반경으로 180° 조건으로 굽혔다 펴는 동작을 반복하였을 때, 저항측정시 단선되는 반복 횟수가 210 이상인 연성 금속 적층체.The ductility of claim 1 , wherein when the flexible metal laminate is bent and unfolded at a radius of 1R (R = 1mm) in the MD and TD directions at 180°, the number of repetitions of disconnection during resistance measurement is 210 or more. metal laminate. 제1항에 있어서, 상기 연성 금속 적층체는 상기 액정 폴리머를 포함하는 절연층을 열처리한 후 접착제층을 형성하고 금속층을 접합시켜 제조되는 것인 연성 금속 적층체.The flexible metal laminate according to claim 1, wherein the flexible metal laminate is manufactured by heat-treating the insulating layer containing the liquid crystal polymer, forming an adhesive layer, and bonding the metal layers. 제4항에 있어서, 상기 절연층의 열처리는 Tm 내지 Tm+10℃(Tm은 액정 폴리머의 융점임)의 온도에서 60 내지 360분 동안 수행되는 연성 금속 적층체.The flexible metal laminate according to claim 4, wherein the heat treatment of the insulating layer is performed at a temperature of T m to T m +10°C (T m is the melting point of the liquid crystal polymer) for 60 to 360 minutes. 제1항에 있어서, 상기 접착제층은 산변성 폴리올레핀 수지를 포함하는 접착제 조성물로부터 형성되는 연성 금속 적층체.The flexible metal laminate according to claim 1, wherein the adhesive layer is formed from an adhesive composition comprising an acid-modified polyolefin resin. 액정 폴리머를 포함하는 절연층을 열처리하는 단계;
상기 열처리된 절연층의 적어도 일면에 접착제층을 형성시켜 절연 적층체를 수득하는 단계; 및
상기 절연 적층체 상에 금속층을 접합시키는 단계를 포함하는 연성 금속 적층체의 제조방법.
heat-treating the insulating layer including the liquid crystal polymer;
forming an adhesive layer on at least one surface of the heat-treated insulating layer to obtain an insulating laminate; and
and bonding a metal layer on the insulating laminate.
제7항에 있어서, 상기 금속층을 접합시키는 단계 이후에, 절연층과 금속층 간의 밀착력이 0.4 kN/m 이상이고, 상기 절연 적층체의 15GHz에서의 유전율은 3.1 이하이며 유전정접은 0.0014 이하이고, 상기 연성 금속 적층체의 인장강도가 200 MPa 이상인 제조방법.8. The method of claim 7, wherein, after the bonding of the metal layer, the adhesion between the insulating layer and the metal layer is 0.4 kN/m or more, the dielectric constant at 15 GHz of the insulating laminate is 3.1 or less, and the dielectric loss tangent is 0.0014 or less, and the A method for manufacturing a flexible metal laminate having a tensile strength of 200 MPa or more. 제7항에 있어서, 상기 금속층을 접합시키는 단계 이후에, 상기 연성 금속 적층체를 MD 및 TD 방향으로 각각 1R(R = 1mm)의 반경으로 180° 조건으로 굽혔다 펴는 동작을 반복하였을 때, 저항측정시 단선되는 반복 횟수가 210 이상인 제조방법.The resistance measurement according to claim 7, wherein after the step of bonding the metal layers, bending and unfolding the flexible metal laminate in the MD and TD directions at a radius of 1R (R = 1mm) at a 180° condition is repeated. A manufacturing method in which the number of repetitions during disconnection is 210 or more. 제7항에 있어서, 상기 절연층의 열처리는 Tm 내지 Tm+10℃(Tm은 액정 폴리머의 융점임)의 온도에서 60 내지 360분 동안 수행되는 제조방법.The method according to claim 7, wherein the heat treatment of the insulating layer is performed at a temperature of T m to T m +10°C (T m is the melting point of the liquid crystal polymer) for 60 to 360 minutes. 제7항에 있어서, 상기 절연층의 열처리는 폴리이미드 필름 지지체 상에서 수행되는 제조방법.The method according to claim 7, wherein the heat treatment of the insulating layer is performed on a polyimide film support. 제7항에 있어서, 상기 열처리된 절연층의 MD 방향 연신율은 13% 이상이며, TD 방향 연신율은 16% 이상인 제조방법.The method according to claim 7, wherein the heat-treated insulating layer has an elongation in the MD direction of 13% or more, and an elongation in the TD direction of 16% or more. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 연성 금속 적층체를 이용한 프린트 배선판.A printed wiring board using the flexible metal laminate according to any one of claims 1 to 6.
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Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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