KR20220116555A - 간섭성 레이저 빔을 결합하기 위한 장치, 레이저 시스템 및 방법 - Google Patents
간섭성 레이저 빔을 결합하기 위한 장치, 레이저 시스템 및 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20220116555A KR20220116555A KR1020227026176A KR20227026176A KR20220116555A KR 20220116555 A KR20220116555 A KR 20220116555A KR 1020227026176 A KR1020227026176 A KR 1020227026176A KR 20227026176 A KR20227026176 A KR 20227026176A KR 20220116555 A KR20220116555 A KR 20220116555A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- laser beam
- grid
- arrangement
- coherent laser
- phase
- Prior art date
Links
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 title claims abstract description 206
- 230000008878 coupling Effects 0.000 title claims abstract description 30
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000003491 array Methods 0.000 claims abstract description 27
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 49
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 22
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 21
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 6
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2383—Parallel arrangements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1086—Beam splitting or combining systems operating by diffraction only
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1086—Beam splitting or combining systems operating by diffraction only
- G02B27/1093—Beam splitting or combining systems operating by diffraction only for use with monochromatic radiation only, e.g. devices for splitting a single laser source
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/12—Beam splitting or combining systems operating by refraction only
- G02B27/123—The splitting element being a lens or a system of lenses, including arrays and surfaces with refractive power
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0071—Beam steering, e.g. whereby a mirror outside the cavity is present to change the beam direction
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
- H01S3/06754—Fibre amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10053—Phase control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1307—Stabilisation of the phase
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/06—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the phase of light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Lasers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
Description
도 1b는 증폭된 시드 레이저 빔이 장치에 공급되는 도 1a와 유사한 레이저 시스템의 개략도.
도 1c는 시드 레이저 빔을 증폭시키는 데 이용되는 간섭성 레이저 빔을 결합하기 위한 추가 장치를 포함하는, 도 1b와 유사한 레이저 시스템의 개략도.
도 2는 2개의 마이크로렌즈 어레이를 가진 마이크로렌즈 배열체 및 인커플링 광학 수단을 포함하는, 도 1a 내지 도 1c의 레이저 시스템의 빔 결합 유닛을 도시한 도면.
도 3a 및 도 3b는 회절된 단일 레이저 빔을 생성하기 위한 각각 연관된 추가 위상을 갖는 5개의 간섭성 레이저 빔의 1차원 배치를 도시한 도면.
도 4a 및 도 4b는 도 3a 및 3b에 도시된 위상의 사용 시 빔 결합 유닛의 원거리장을 도시한 도면.
도 5a 및 도 5b는 결합된 레이저 빔이 2개의 서로 다른 회절 차수로 회절되도록, 간섭성 레이저 빔의 위상이 선택된 도 2의 빔 결합 유닛의 원거리장을 도시한 도면.
도 6a 내지 도 6c는 각각의 2차원 그리드 배열체 내에 그리드 위치들이 배치된 3개의 빔 결합 유닛을 도시한 도면.
도 7은 단일 또는 복수의 회절된 레이저 빔을 생성하기 위한 각각 연관된 추가 위상을 갖는 간섭성 레이저 빔의 5 x 5의 2차원 배치를 도시한 도면.
도 8은 결합된 레이저 빔이 정확히 하나의 회절 차수로 회절되도록 위상이 선택된 빔 결합 유닛의 원거리장을 도시한 도면.
도 9는 2개의 결합된 레이저 빔이 2개의 서로 다른 회절 차수로 회절되도록 위상이 선택된 빔 결합 유닛의 원거리장을 도시한 도면.
Claims (16)
- 복수의 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 결합하기 위한 장치(5)로서,
입력 레이저 빔(9)을 복수의 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)으로 분할하기 위한 분할 유닛(4),
간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M) 중 하나의 각각의 위상(δφa+Δφa; δφa,b+Δφa,b)을 조정하기 위한 복수의 위상 조정 유닛(6.1, ..., 6.N) 및
그리드 배열체(16)의 복수의 그리드 위치(8.1, ..., 8.N; 8.1.1, ..., 8.N.M)에서 나오는 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 결합하기 위한 빔 결합 유닛(10)을 포함하고, 상기 빔 결합 유닛(10)은 적어도 2개의 마이크로렌즈 어레이(17a, 17b)를 가진 마이크로렌즈 배열체(11)를 구비하는 장치에 있어서,
간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 0차 회절 차수(B0)가 아닌 회절 차수(Bk,x, Bk,y; Bk,x,1, Bk,y,1, Bk,x,2, Bk,y,2)로 회절된 적어도 하나의 레이저 빔(12, 12a, 12b)으로 결합하기 위해, 그리드 배열체(16) 내에 각각의 그리드 위치(8.1 , ..., 8.N; 8.1.1 , ..., 8.N.M)의 배치에 따라 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M) 중 하나의 각각의 위상(δφa +Δφa; δφa,b + Δφa,b)을 조정하도록 설계된 및/또는
적어도 하나의 결합된 레이저 빔(12, 12a, 12b)이 회절되는 회절 차수(Bk,x Bk,y)를 변경하기 위해, 그리드 배열체(16) 내에 각각의 그리드 위치(8.1, ..., 8.N; 8.1.1, ..., 8.N.M)의 배치에 따라 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M) 중 하나의 각각의 위상(δφa + Δφa; δφa,b + Δφa,b)을 변동시키도록 설계된 제어 유닛(15)을 특징으로 하는 장치. - 제 1 항에 있어서, 상기 제어 유닛(15)은 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M) 중 하나의 각각의 위상(δφa + Δφa; δφa,b + Δφa,b)을 조정하도록 설계되고, 상기 위상은 빔 결합 유닛(10)이 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 0차 회절 차수(B0)로 또는 0차 회절 차수(B0)가 아닌 회절 차수(Bk,x, Bk,y)로 회절된 레이저 빔(12)으로 결합하는 각각의 기본 위상(δφa; δφa,b)과 추가 위상(Δφa; Δφa,b)으로 구성되는 것인 장치.
- 제 2 항에 있어서, 제 1 방향(X)을 따라 그리드 위치(8.1, ..., 8.N)가 배치되고, 제어 유닛(15)은, 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N)을 제 1 방향(X)으로 0차 회절 차수(B0)가 아닌 회절 차수(Bk,x)로 회절된 하나의 결합된 레이저 빔(12)으로 결합하기 위해 제 1 방향(X)으로 a번째 그리드 위치(8.1, ..., 8.N)에서 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N)의 각각의 추가 위상(Δφa)을 조정하도록 설계되고, 상기 위상은,
,
에 의해 주어지고, 여기서 N은 제 1 방향(X)을 따라 배치된 그리드 위치(8.1, ..., 8.N)의 개수를 나타내고, Bk,x는 음 또는 양의 정수를 나타내는 것인 장치. - 제 3 항에 있어서, 그리드 배열체(16) 내에 추가로, 바람직하게 제 1 방향에 대해 수직인 제 2 방향(Y)을 따라 그리드 위치(8.1.1, ..., 8.N.M)가 배치되고, 제어 유닛(15)은, 간섭성 레이저 빔(3.1.1, ..., 3.N.M)을 제 1 방향(X)으로 0차 회절 차수(B0)가 아닌 회절 차수(Bk,x)로 및 제 2 방향(Y)으로 0차 회절 차수(B0)가 아닌 회절 차수(Bk,y)로 회절된 하나의 결합된 레이저 빔(12)으로 결합하기 위해 제 1 방향(X)을 따라 a번째 그리드 위치(8.1.1, ..., 8.N.M)에서 및 제 2 방향(Y)을 따라 b번째 그리드 위치(8.1.1, ..., 8.N.M)에서 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N)의 추가 위상(Δφa,b)을 조정하도록 설계되고, 상기 추가 위상은,
에 의해 주어지고, 여기서 M은 제 2 방향(Y)으로 그리드 위치(8.1.1, ..., 8.N.M)의 개수를 나타내고, Bk,y는 양 또는 음의 정수를 나타내는 것인 장치. - 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 입력 레이저 빔(9)을 복수의 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)으로 분할하기 위한 분할 유닛(4)은 바람직하게 2개의 추가 마이크로렌즈 어레이(17'a, 17'b)를 가진 추가 마이크로렌즈 배열체로서 설계되고, 상기 제어 유닛(15)은, 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 제 1 방향(X)으로 0차 회절 차수(B0)가 아닌 회절 차수(Bk,x)로 및 바람직하게 제 2 방향(Y)으로 0차 회절 차수(B0)가 아닌 회절 차수(Bk,y)로 회절된 하나의 결합된 레이저 빔(12)으로 결합하기 위해 기본 위상(δφa; δφa,b)의 두 배를 조정하도록 설계되는 것인 장치.
- 제 2 항에 있어서, 상기 제어 유닛(15)은, 결합된 제 1 레이저 빔(12a)이 회절되는 제 1 회절 차수(Bk,x,1, Bk,y,1)를 변경하기 위해 및/또는 결합된 제 2 레이저 빔(12b)이 회절되는 제 2 회절 차수(Bk,x,2, Bk,y,2)를 변경하기 위해 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)의 각각의 추가 위상(Δφa; Δφa,b)을 변동시키도록 설계되는 것인 장치.
- 제 2 항 또는 제 6 항에 있어서, 상기 제어 유닛(15)은, 서로 다른 회절 차수(B0, B-1,x, ...)로 회절된 적어도 2개의 결합된 레이저 빔(12a, 12b)의 미리 정해진, 특히 상이한 출력(ρ0, ρ-1, ...)을 생성하기 위해 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)의 각각의 추가 위상(Δφa)을 조정하도록 설계되는 것인 장치.
- 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 방향(X)을 따라 그리드 배열체(16) 내에 그리드 위치(8.1, ..., 8.N)가 배치되고, 상기 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N)과 마이크로렌즈 배열체(11)는 하기 조건을 충족하고;
N = ρx 2/(λL fE),
여기서 N은 제 1 방향(X)을 따라 배치된 그리드 위치(8.1, ..., 8.N)의 개수를 나타내고, ρx는 제 1 방향(X)으로 각각의 마이크로렌즈 어레이(17a, 17b)의 마이크로렌즈(20a, 20b; 20a-20c)의 그리드 간격을 나타내고, λL은 레이저 파장을 나타내며, fE는 마이크로렌즈 배열체(11)의 초점 거리를 나타내는 것인 장치. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치는, 제 1 방향(X)으로 인접한 간섭성 레이저 빔(3.1, 3.2; 3.2, 3.3)을 미리 정해진 각도차(δθx)로 마이크로렌즈 배열체(11) 내로 인커플링하도록 설계되고, 상기 각도차에 대해 다음이 적용되며;
δθx = λL /ρx,
여기서 λL은 레이저 파장을 나타내고, ρx는 제 1 방향(X)으로 각각의 마이크로렌즈 어레이(17a, 17b; 17a-17c)의 마이크로렌즈(17a, 17b;,17a-17c)의 마이크로 렌즈(20a, 20b; 20a-20c) 그리드 간격을 나타내는 것인 장치. - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 상기 마이크로렌즈 배열체(11) 내로 인커플링하기 위한 인커플링 광학 수단(18)을 더 포함하고, 상기 인커플링 광학 수단(18)은 복수의 간섭성 레이저 빔을 마이크로렌즈 배열체(11)로 포커싱하기 위한 적어도 하나의 포커싱 유닛, 특히 적어도 하나의 포커싱 렌즈(19)를 구비하는 것인 장치.
- 제 10 항에 있어서, 제 1 방향(X)을 따라 인접한 그리드 위치(8.1, ..., 8.N; 8.1.1, ..., 8.N.M)는 라인을 따라 배치되고 서로 간격(δx)을 가지며, 상기 간격은,
δx = λL f2/ρx,
에 의해 주어지고, 여기서 λL은 레이저 파장을 나타내고, f2는 포커싱 유닛(19)의 초점 거리를 나타내며, ρ는 제 1 방향(X)으로 각각의 마이크로렌즈 어레이(17a, 17b; 17a-17c)의 마이크로렌즈(20a, 20b; 20a-20c)의 그리드 간격을 나타내는 것인 장치. - 레이저 시스템(1)으로서, 시드 레이저 빔(2a)을 생성하기 위한 시드 레이저 소스(2) 및 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 장치(5)를 포함하고, 상기 시드 레이저 빔(2a)은 바람직하게 장치(5)의 분할 유닛(4)의 입력 레이저 빔(9)을 형성하는 것인 레이저 시스템.
- 제 12 항에 있어서, 복수의 추가 간섭성 레이저 빔(3.1', ..., 3.N')을 결합하기 위한 추가 장치(5')를 더 포함하고, 상기 추가 장치는
시드 레이저 빔(2a)을 복수의 추가 간섭성 레이저 빔(3.1', ..., 3.N')으로 분할하기 위한 추가 분할 유닛(4'),
추가 간섭성 레이저 빔(3.1', ..., 3.N') 중 하나의 각각의 위상(δφa)을 조정하기 위한 복수의 추가 위상 조정 유닛(6.1', ..., 6.N'),
추가 그리드 배열체(16')의 복수의 추가 그리드 위치(8.1', .., 8.N')에서 나오는 추가 간섭성 레이저 빔(3.1', ..., 3.N')을 결합하기 위한 추가 빔 결합 유닛(10') 및
추가 제어 유닛(15')을 포함하고,
상기 추가 빔 결합 유닛(10')은 적어도 2개의 추가 마이크로렌즈 어레이(17'a, 17'b)를 가진 추가 마이크로렌즈 배열체(11')를 구비하고, 상기 추가 제어 유닛(15')은, 추가 간섭성 레이저 빔(3.1', ..., 3.N')을 장치(5)의 분할 유닛(4)의 입력 레이저 빔(9)을 형성하며 0차 회절 차수(B0)로 또는 0차 회절 차수(B0)가 아닌 회절 차수(Bk,x, Bk,y)로 회절된 레이저 빔(12')으로 결합하기 위해, 추가 그리드 배열체(16') 내에 각각의 추가 그리드 위치(8.1', ..., 8.N')의 배치에 따라 추가 간섭성 레이저 빔(3.1', ..., 3.N') 중 하나의 각각의 위상(δφa)을 조정하도록 설계되는 것인 레이저 시스템. - 특히 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 장치(5)를 이용해서 복수의 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 결합하기 위한 방법으로서,
그리드 배열체(16) 내에 배치된 복수의 그리드 위치(8.1, ..., 8.N; 8.1.1, ..., 8.N.M)에서 나오는 복수의 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 적어도 2개의 마이크로렌즈 어레이(17a, 17b; 17a-17c)를 가진 마이크로렌즈 배열체(11) 내로 인커플링하는 단계 및 마이크로렌즈 배열체(11)에서 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 결합하는 단계를 포함하는 방법에 있어서,
간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 0차 회절 차수(B0)가 아닌 적어도 하나의 회절 차수(Bk,x, Bk,y; Bk,x,1, Bk,y,1, Bk,x,2, Bk,y,2)로 회절된 적어도 하나의 레이저 빔(12, 12a, 12b)으로 결합하기 위해 그리드 배열체(16) 내에 각각의 그리드 위치(8.1, ..., 8.N; 8.1.1, ..., 8.N.M)의 배치에 따라 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M) 중 하나의 각각의 위상(δφa + Δφa; δφa,b + Δφa,b)을 조정하는 단계 및/또는 적어도 하나의 결합된 레이저 빔(12, 12a, 12b)이 회절되는 회절 차수(Bk,x, Bk,y)를 변경하기 위해, 그리드 배열체(16) 내에 각각의 그리드 위치(8.1, ..., 8.N; 8.1.1, ..., 8.N.M)의 배치에 따라 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)의 각각의 위상(δφa + Δφa; δφa,b + Δφa,b)을 변동시키는 단계를 특징으로 하는 방법. - 제 14 항에 있어서, 빔 결합 유닛(10)이 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 0차 회절 차수(B0)로 또는 0차 회절 차수(B0)가 아닌 회절 차수(Bk,x, Bk,y)로 회절된 하나의 레이저 빔(12)으로 결합하는 각각의 기본 위상(δφa; δφa,b)으로부터, 결합된 제 1 레이저 빔(12a)이 회절되는 제 1 회절 차수(Bk,x,1, Bk,y,2)를 변경하기 위해 및/또는 결합된 제 2 레이저 빔(12b)이 회절되는 제 2 회절 차수(Bk,x,2, Bk,y,2)를 변경하기 위해 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)의 각각의 추가 위상(Δφa,b; Δφa,b)을 변동시키는 단계를 더 포함하는 것인 방법.
- 제 14 항 또는 제 15 항에 있어서,
빔 결합 유닛(10)이 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)을 0차 회절 차수(B0)로 또는 0차 회절 차수(B0)가 아닌 회절 차수(Bk,x, Bk,y)로 회절된 하나의 레이저 빔(12)으로 결합하는 각각의 기본 위상(δφa; δφa,b)으로부터, 서로 다른 회절 차수(B0, B-1,x, ...)로 회절된 적어도 2개의 결합된 레이저 빔(12a, 12b)의 미리 정해진, 특히 상이한 출력(ρ0, ρ-1, ...)을 생성하기 위해 간섭성 레이저 빔(3.1, ..., 3.N; 3.1.1, ..., 3.N.M)의 각각의 추가 위상(Δφa)을 조정하는 단계를 더 포함하는 것인 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102020200444.7 | 2020-01-15 | ||
DE102020200444.7A DE102020200444A1 (de) | 2020-01-15 | 2020-01-15 | Vorrichtung, Lasersystem und Verfahren zur Kombination von kohärenten Laserstrahlen |
PCT/EP2021/050461 WO2021144250A1 (de) | 2020-01-15 | 2021-01-12 | Vorrichtung, lasersystem und verfahren zur kombination von kohärenten laserstrahlen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220116555A true KR20220116555A (ko) | 2022-08-23 |
KR102688778B1 KR102688778B1 (ko) | 2024-07-25 |
Family
ID=74191720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020227026176A KR102688778B1 (ko) | 2020-01-15 | 2021-01-12 | 간섭성 레이저 빔을 결합하기 위한 장치, 레이저 시스템 및 방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220360036A1 (ko) |
EP (1) | EP4091017A1 (ko) |
KR (1) | KR102688778B1 (ko) |
CN (1) | CN114981710B (ko) |
DE (1) | DE102020200444A1 (ko) |
WO (1) | WO2021144250A1 (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2023514486A (ja) * | 2020-02-18 | 2023-04-06 | ヴァルカンフォームズ インコーポレイテッド | 光フェーズドアレイビームステアリングを利用した付加製造システム及び関連する方法 |
DE102021207809A1 (de) | 2021-07-21 | 2023-01-26 | Trumpf Laser Gmbh | Vorrichtung zur Kombination von kohärenten Laserstrahlen und Lasersystem |
WO2024197214A1 (en) | 2023-03-22 | 2024-09-26 | Carbon, Inc. | Combination additive and subtractive manufacturing methods and apparatus for light polymerizable resins |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070201795A1 (en) * | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Northrop Grumman Corporation | Coherent fiber diffractive optical element beam combiner |
US20130107343A1 (en) * | 2010-06-02 | 2013-05-02 | Civan Advanced Technologies Ltd. | Coherent optical amplifier |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7756169B2 (en) * | 2008-01-23 | 2010-07-13 | Northrop Grumman Systems Corporation | Diffractive method for control of piston error in coherent phased arrays |
DE102008017947A1 (de) * | 2008-04-09 | 2009-10-15 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung, Anordnung und Verfahren zur Homogenisierung zumindest teilweise kohärenten Laserlichts |
US9851571B1 (en) * | 2016-07-28 | 2017-12-26 | Coherent, Inc. | Apparatus for generating a line-beam from a diode-laser array |
US20180269648A1 (en) * | 2017-03-19 | 2018-09-20 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Generation of arbitrary time-space distribution phase-coherent discretized laser beams |
DE102018211971A1 (de) * | 2018-07-18 | 2020-01-23 | Trumpf Laser Gmbh | Vorrichtung, Lasersystem und Verfahren zur Kombination von kohärenten Laserstrahlen |
-
2020
- 2020-01-15 DE DE102020200444.7A patent/DE102020200444A1/de active Pending
-
2021
- 2021-01-12 CN CN202180009611.0A patent/CN114981710B/zh active Active
- 2021-01-12 EP EP21700037.1A patent/EP4091017A1/de active Pending
- 2021-01-12 KR KR1020227026176A patent/KR102688778B1/ko active IP Right Grant
- 2021-01-12 WO PCT/EP2021/050461 patent/WO2021144250A1/de unknown
-
2022
- 2022-07-13 US US17/863,420 patent/US20220360036A1/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070201795A1 (en) * | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Northrop Grumman Corporation | Coherent fiber diffractive optical element beam combiner |
US20130107343A1 (en) * | 2010-06-02 | 2013-05-02 | Civan Advanced Technologies Ltd. | Coherent optical amplifier |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2021144250A1 (de) | 2021-07-22 |
KR102688778B1 (ko) | 2024-07-25 |
DE102020200444A1 (de) | 2021-07-15 |
CN114981710A (zh) | 2022-08-30 |
CN114981710B (zh) | 2024-09-13 |
US20220360036A1 (en) | 2022-11-10 |
EP4091017A1 (de) | 2022-11-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11796720B2 (en) | Apparatus, laser system and method for combining coherent laser beams | |
KR102688783B1 (ko) | 간섭성 레이저 빔을 결합하기 위한 장치, 레이저 시스템 및 방법 | |
KR102688778B1 (ko) | 간섭성 레이저 빔을 결합하기 위한 장치, 레이저 시스템 및 방법 | |
KR101547714B1 (ko) | 빔 형성 장치 | |
US11454792B2 (en) | Light microscope and method for providing structured illumination light | |
US11294192B2 (en) | Optically monolithic beam shaper array with compact tiles | |
US11681152B2 (en) | Coherent beam combining (CBC) fiber laser amplifier system | |
US10444526B2 (en) | Optical pulse combiner comprising diffractive optical elements | |
US11681151B2 (en) | Hybrid coherent beam combining (CBC) and spectral beam combining (SBC) fiber laser amplifier system | |
US11698537B2 (en) | Spectrally combined fiber laser amplifier system and method | |
US11932567B2 (en) | System and method for fabricating an optical element | |
US11909167B2 (en) | Systems and methods for coherent beam combining |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0105 | International application |
Patent event date: 20220727 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20231013 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20240528 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20240723 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20240723 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |