KR20220098460A - Coil member and camera module having the same - Google Patents

Coil member and camera module having the same Download PDF

Info

Publication number
KR20220098460A
KR20220098460A KR1020210000211A KR20210000211A KR20220098460A KR 20220098460 A KR20220098460 A KR 20220098460A KR 1020210000211 A KR1020210000211 A KR 1020210000211A KR 20210000211 A KR20210000211 A KR 20210000211A KR 20220098460 A KR20220098460 A KR 20220098460A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pattern
layer
wiring
patterns
wiring pattern
Prior art date
Application number
KR1020210000211A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이승진
오정훈
윤형규
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to KR1020210000211A priority Critical patent/KR20220098460A/en
Priority to US18/255,290 priority patent/US20240006945A1/en
Priority to PCT/KR2022/000075 priority patent/WO2022146127A1/en
Priority to TW111100285A priority patent/TW202242920A/en
Priority to CN202280009018.0A priority patent/CN116670792A/en
Publication of KR20220098460A publication Critical patent/KR20220098460A/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F27/00Details of transformers or inductances, in general
    • H01F27/28Coils; Windings; Conductive connections
    • H01F27/2804Printed windings
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02KDYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/035DC motors; Unipolar motors
    • H02K41/0352Unipolar motors
    • H02K41/0354Lorentz force motors, e.g. voice coil motors
    • H02K41/0356Lorentz force motors, e.g. voice coil motors moving along a straight path
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/57Mechanical or electrical details of cameras or camera modules specially adapted for being embedded in other devices
    • H04N5/2257
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F27/00Details of transformers or inductances, in general
    • H01F27/28Coils; Windings; Conductive connections
    • H01F27/2804Printed windings
    • H01F2027/2814Printed windings with only part of the coil or of the winding in the printed circuit board, e.g. the remaining coil or winding sections can be made of wires or sheets

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)

Abstract

A coil member according to an embodiment comprises: a substrate which includes a first surface and a second surface opposite to the first surface; and a circuit pattern which is disposed on at least one of the first surface and the second surface, and includes a wiring pattern, a plating pattern, and a dummy pattern. The distance between adjacent circuit patterns increases as the width of the circuit pattern increases.

Description

코일 부재 및 이를 포함하는 카메라 모듈{COIL MEMBER AND CAMERA MODULE HAVING THE SAME}Coil member and camera module including the same

실시예는 코일 부재 및 이를 포함하는 카메라 모듈에 관한 것이다.The embodiment relates to a coil member and a camera module including the same.

각종 휴대단말기의 보급이 널리 일반화되고, 무선 인터넷 서비스가 상용화됨에 따라 휴대단말기와 관련된 소비자들의 요구도 다양화되고 있는바, 이에 따라 다양한 종류의 부가장치들이 휴대단말기에 장착되고 있다.As various types of portable terminals are widely distributed and wireless Internet services are commercialized, consumer demands related to portable terminals are also diversifying. Accordingly, various types of additional devices are being installed in portable terminals.

그 중에서 피사체를 사진이나 동영상으로 촬영하여 그 이미지데이터를 저장한 후 필요에 따라 이를 편집 및 전송할 수 있는 대표적인 것이 카메라 모듈이다.Among them, a camera module is a representative example that can take a photo or video of a subject, store the image data, and edit and transmit it as needed.

근래 노트형 퍼스널 컴퓨터, 카메라 폰, PDA, 스마트, 토이(toy) 등의 다종다양한 멀티미디어 분야, 나아가서는 감시 카메라나 비디오 테이프 레코더의 정보단말 등의 화상입력기기용으로 소형의 카메라 모듈의 수요가 높아지고 있다.In recent years, the demand for compact camera modules is increasing for use in various multimedia fields such as notebook personal computers, camera phones, PDA, smart devices, toys, etc., and for image input devices such as information terminals of surveillance cameras and video tape recorders. .

종래의 카메라 모듈은 F.F(Fixed Focus) 타입, A.F(Auto Focus)타입, OIS(Optical Image Stabilization)타입 등의 카메라 모듈로 대별될 수 있다.Conventional camera modules may be roughly classified into camera modules such as a fixed focus (F.F) type, an auto focus (A.F) type, and an optical image stabilization (OIS) type.

한편, 상기 OIS 타입의 경우에는 손떨림 방지 기능을 구현하기 위한 구성요소로서 회로기판 상에 배치되는 코일 부재를 포함할 수 있다.Meanwhile, in the case of the OIS type, a coil member disposed on a circuit board may be included as a component for implementing an anti-shake function.

이러한 코일 부재는 기판 상에 복수의 회로 패턴을 배치하여 형성할 수 있다. 자세하게, 상기 회로 패턴은 신호, 및 전류가 전달되는 배선 패턴, 회로 패턴의 도금층을 형성하기 위한 도금 패턴 및 다른 패턴과 단선되는 더미 패턴을 포함할 수 있다.Such a coil member may be formed by disposing a plurality of circuit patterns on a substrate. In detail, the circuit pattern may include a wiring pattern through which signals and currents are transmitted, a plating pattern for forming a plating layer of the circuit pattern, and a dummy pattern disconnected from other patterns.

이러한 배선 패턴, 회로 패턴 및 더미 패턴들은 서로 패턴 크기, 형상이 다를 수 있다. 또한, 복수의 배선 패턴들끼리, 복수의 회로 패턴들끼리, 복수의 더미 패턴들끼리도 서로 패턴 크기 및 형상이 다를 수 있다.These wiring patterns, circuit patterns, and dummy patterns may have different pattern sizes and shapes. Also, a plurality of wiring patterns, a plurality of circuit patterns, and a plurality of dummy patterns may have different pattern sizes and shapes.

한편, 상기 회로 패턴들은 도금선과 연결되고, 전해 도금을 통해 도금층이 형성되어 형성될 수 있다. 이때, 회로 패턴의 폭에 따라 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 크기가 달라질 수 있다. 이에 따라, 회로 패턴들 사이의 간격을 모두 동일하게 형성하는 경우, 회로 패턴의 도금층의 크기 차이에 의해 인접하는 회로 패턴들이 서로 연결되어 쇼트가 발생되는 문제점이 있다.Meanwhile, the circuit patterns may be connected to a plating line, and a plating layer may be formed through electrolytic plating. In this case, the size of the plating layer formed by the plating process may vary according to the width of the circuit pattern. Accordingly, when all the intervals between the circuit patterns are formed to be the same, there is a problem in that the adjacent circuit patterns are connected to each other due to the difference in the size of the plating layer of the circuit pattern, thereby causing a short circuit.

따라서, 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있는 코일 부재 및 이를 포함하는 카메라 모듈이 요구된다.Accordingly, there is a need for a coil member capable of solving the above problems and a camera module including the same.

실시예는 향상된 신뢰성을 가지는 코일 부재 및 이를 포함하는 카메라 모듈을 제공하고자 한다.An embodiment is to provide a coil member having improved reliability and a camera module including the same.

실시예에 따른 코일 부재는, 제 1 면 및 상기 제 1 면과 반대되는 제 2 면을 포함하는 기판; 상기 제 1 면 및 상기 제 2 면 중 적어도 하나의 면 상에 배치되고, 배선 패턴, 도금 패턴 및 더미 패턴을 포함하는 회로 패턴을 포함하고, 인접하는 회로 패턴의 간격은 상기 회로 패턴의 폭의 크기가 클수록 증가한다.A coil member according to an embodiment includes: a substrate including a first surface and a second surface opposite to the first surface; a circuit pattern disposed on at least one of the first surface and the second surface and including a circuit pattern including a wiring pattern, a plating pattern, and a dummy pattern, wherein an interval between adjacent circuit patterns is a size of a width of the circuit pattern increases as is larger.

실시예에 따른 코일 부재는 배선 패턴, 더미 패턴 및 도금 패턴을 포함하는 회로 패턴 폭의 크기에 따라서 회로 패턴들의 간격을 다르게 할 수 있다.The coil member according to the embodiment may have different intervals between the circuit patterns according to the width of the circuit pattern including the wiring pattern, the dummy pattern, and the plating pattern.

즉, 폭이 큰 회로 패턴들 사이의 간격을 폭이 작은 회로 패턴들 사이의 간격보다 더 크게 형성할 수 있다.That is, the interval between the circuit patterns having a large width may be formed to be larger than the interval between the circuit patterns having a small width.

이에 따라, 배선 패턴, 더미 패턴 및 도금 패턴의 회로 패턴을 형성할 때 도금 공정에 따른 회로 패턴들 사이의 쇼트를 방지할 수 있다.Accordingly, when the circuit pattern of the wiring pattern, the dummy pattern, and the plating pattern is formed, it is possible to prevent a short circuit between the circuit patterns according to the plating process.

자세하게, 도금 공정에 의해 형성되는 도금층은 씨드가 되는 씨드층의 크기에 따라 그 크기가 달라질 수 있다. 즉, 씨드층의 크기 즉, 폭, 두께 및 면적이 클수록 비례하여 도금층의 폭, 두께 및 면적이 증가될 수 있다.In detail, the size of the plating layer formed by the plating process may vary depending on the size of the seed layer serving as the seed. That is, as the size of the seed layer increases, that is, the width, thickness, and area of the plating layer may be proportionally increased.

이에 따라, 모든 회로 패턴들의 간격을 동일하거나 유사하게 하는 경우, 폭, 두께 및 면적이 큰 회로 패턴들에 형성되는 도금층은 다른 영역보다 더 크게 형성되므로, 인접하는 회로 패턴들끼리 연결되어 회로 패턴들이 쇼트될 수 있다.Accordingly, when all circuit patterns have the same or similar spacing, the plating layer formed on the circuit patterns having a large width, thickness, and area is formed to be larger than other regions, so that adjacent circuit patterns are connected to each other so that the circuit patterns are can be shorted.

이에 따라, 실시예에 따른 코일 부재는 회로 패턴들의 크기에 따라 인접하는 회로 패턴들의 간격을 조절함으로써, 회로 패턴의 크기 차이에 따른 회로 패턴의 쇼트를 방지할 수 있다.Accordingly, the coil member according to the embodiment may prevent a short circuit of a circuit pattern due to a difference in the size of the circuit pattern by adjusting the spacing between the adjacent circuit patterns according to the size of the circuit patterns.

따라서, 실시예에 따른 코일 부재는 회로 패턴의 쇼트를 방지하여 향상된 신뢰성을 가질 수 있다.Accordingly, the coil member according to the embodiment may prevent short circuiting of the circuit pattern and thus have improved reliability.

도 1은 실시예에 따른 코일 부재의 하면도를 도시한 도면이다.
도 2는 실시예에 따른 코일 부재의 상면도를 도시한 도면이다.
도 3은 도 1의 A 영역을 확대한 확대도를 도시한 도면이다.
도 4는 도 3의 B-B' 영역을 절단한 단면도를 도시한 도면이다.
도 5 내지 도 7은 실시예에 따른 코일 부재의 회로 패턴의 제조 공정을 설명하기 위한 단면도를 도시한 도면들이다.
도 8은 도 1의 C 영역을 확대한 확대도를 도시한 도면이다.
도 9는 도 8의 D-D' 영역을 절단한 단면도를 도시한 도면이다.
도 10은 도 1의 E 영역을 확대한 확대도를 도시한 도면이다.
도 11은 도 10의 F-F' 영역을 절단한 단면도를 도시한 도면이다.
도 12는 실시예에 따른 코일 부재를 포함하는 카메라 모듈의 사시도를 도시한 도면이다.
1 is a view showing a bottom view of a coil member according to an embodiment.
2 is a view showing a top view of a coil member according to an embodiment.
FIG. 3 is an enlarged view showing an enlarged area A of FIG. 1 .
FIG. 4 is a view showing a cross-sectional view taken along region BB′ of FIG. 3 .
5 to 7 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a circuit pattern of a coil member according to an embodiment.
FIG. 8 is a view showing an enlarged view of region C of FIG. 1 .
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a region DD′ of FIG. 8 .
FIG. 10 is an enlarged view showing an enlarged area E of FIG. 1 .
11 is a view illustrating a cross-sectional view taken along a region FF′ of FIG. 10 .
12 is a diagram illustrating a perspective view of a camera module including a coil member according to an embodiment.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 기술 사상은 설명되는 일부 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 기술 사상 범위 내에서라면, 실시예들간 그 구성 요소들 중 하나 이상을 선택적으로 결합, 치환하여 사용할 수 있다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the technical spirit of the present invention is not limited to some embodiments described, but may be implemented in various different forms, and within the scope of the technical spirit of the present invention, one or more of the components may be selected between embodiments. It can be combined and substituted for use.

또한, 본 발명의 실시예에서 사용되는 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는, 명백하게 특별히 정의되어 기술되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일반적으로 이해될 수 있는 의미로 해석될 수 있으며, 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥상의 의미를 고려하여 그 의미를 해석할 수 있을 것이다. In addition, terms (including technical and scientific terms) used in the embodiments of the present invention may be generally understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs, unless specifically defined and described explicitly. It may be interpreted as a meaning, and generally used terms such as terms defined in advance may be interpreted in consideration of the contextual meaning of the related art.

또한, 본 발명의 실시예에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함할 수 있고, “A 및(와) B, C중 적어도 하나(또는 한개이상)”로 기재되는 경우 A, B, C로 조합할 수 있는 모든 조합 중 하나이상을 포함할 수 있다. In addition, the terms used in the embodiments of the present invention are for describing the embodiments and are not intended to limit the present invention. In the present specification, the singular form may also include the plural form unless otherwise specified in the phrase, and when it is described as “at least one (or more than one) of A and (and) B, C”, it can be combined with A, B, and C. It may include one or more of all possible combinations.

또한, 본 발명의 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등으로 한정되지 않는다. In addition, in describing the components of the embodiment of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are only for distinguishing the component from other components, and are not limited to the essence, order, or order of the component by the term.

그리고, 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 '연결', '결합' 또는 '접속'된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 결합 또는 접속되는 경우뿐만 아니라, 그 구성 요소와 그 다른 구성요소 사이에 있는 또 다른 구성 요소로 인해 '연결', '결합' 또는 '접속'되는 경우도 포함할 수 있다. And, when it is described that a component is 'connected', 'coupled' or 'connected' to another component, the component is not only directly connected, coupled or connected to the other component, but also with the component It may also include a case of 'connected', 'coupled' or 'connected' due to another element between the other elements.

또한, 각 구성 요소의 " 상(위) 또는 하(아래)"에 형성 또는 배치되는 것으로 기재되는 경우, 상(위) 또는 하(아래)는 두 개의 구성 요소들이 서로 직접 접촉되는 경우뿐만 아니라 하나 이상의 또 다른 구성 요소가 두 개의 구성 요소들 사이에 형성 또는 배치되는 경우도 포함한다. In addition, when it is described as being formed or disposed on "above (above) or under (below)" of each component, the top (above) or bottom (below) is one as well as when two components are in direct contact with each other. Also includes a case in which another component as described above is formed or disposed between two components.

또한 “상(위) 또는 하(아래)”으로 표현되는 경우 하나의 구성 요소를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In addition, when expressed as “up (up) or down (down)”, it may include the meaning of not only the upward direction but also the downward direction based on one component.

이하, 도면들을 참조하여, 실시예에 따른 코일 부재를 설명한다.Hereinafter, a coil member according to an embodiment will be described with reference to the drawings.

도 1은 실시예에 따른 코일 부재의 하면도를 도시한 도면이고, 도 2는 실시예에 따른 코일 부재의 상면도를 도시한 도면이다.1 is a view showing a bottom view of the coil member according to the embodiment, Figure 2 is a view showing a top view of the coil member according to the embodiment.

상기 코일 부재(1000)는 기판(100) 및 상기 기판(100) 상에 배치되는 회로 패턴을 포함할 수 있다.The coil member 1000 may include a substrate 100 and a circuit pattern disposed on the substrate 100 .

상기 기판(100)은 연성 기판일 수 있다. 즉, 상기 기판(100)은 연성 플라스틱을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(100)은 폴리이미드(polyimide, PI) 기판일 수 있다. 다만, 실시예는 이에 제한되지 않고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate, PEN)과 같은 고분자 물질로 구성된 기판일 수 있다.The substrate 100 may be a flexible substrate. That is, the substrate 100 may include a flexible plastic. For example, the substrate 100 may be a polyimide (PI) substrate. However, the embodiment is not limited thereto, and may be a substrate made of a polymer material such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN).

상기 기판(100)은 절연 기판일 수 있다. 즉, 상기 기판(100)은 다양한 회로 패턴들을 지지하는 절연 기판일 수 있다. The substrate 100 may be an insulating substrate. That is, the substrate 100 may be an insulating substrate supporting various circuit patterns.

상기 기판(100)은 20㎛ 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(100)은 25㎛ 내지 75㎛의 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(100)은 30㎛ 내지 40㎛의 두께를 가질 수 있다. 상기 기판(100)의 두께가 100㎛를 초과하는 경우, 전체적인 코일 부재의 두께가 증가할 수 있다. 또한, 상기 기판(100)의 두께가 20㎛ 미만인 경우, 상기 기판(100)이 코일 전극을 형성하는 공정에서 상기 기판(100)이 열/압력 등에 취약할 수 있다.The substrate 100 may have a thickness of 20 μm to 100 μm. For example, the substrate 100 may have a thickness of 25 μm to 75 μm. For example, the substrate 100 may have a thickness of 30 μm to 40 μm. When the thickness of the substrate 100 exceeds 100 μm, the overall thickness of the coil member may increase. In addition, when the thickness of the substrate 100 is less than 20 μm, the substrate 100 may be vulnerable to heat/pressure, etc. in the process of forming the coil electrode of the substrate 100 .

상기 기판(100)에는 횰(h)이 형성될 수 있다. 자세하게, 상기 기판(100)의 중앙 영역에는 상기 기판(100)을 관통하는 홀(h)이 형성될 수 있다. 상기 홀(h)은 상기 코일 부재(1000)를 카메라 모듈에 적용할 때, 상기 카메라 모듈의 구동, 일례로, 센싱홀 등의 역할을 할 수 있다.A layer h may be formed on the substrate 100 . In detail, a hole h passing through the substrate 100 may be formed in the central region of the substrate 100 . When the coil member 1000 is applied to the camera module, the hole h may serve as a driving of the camera module, for example, a sensing hole.

상기 회로 패턴은 상기 기판(100) 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 회로 패턴은 상기 기판(100)의 양면 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 회로 패턴은 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 및 상기 제 1 면(1S)과 반대되는 제 2 면(2S) 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 회로 패턴은 상기 제 1 면(1S) 상에 배치되는 제 1 회로 패턴 및 상기 제 2 면(2S) 상에 배치되는 제2 회로 패턴을 포함할 수 있다.The circuit pattern may be disposed on the substrate 100 . In detail, the circuit pattern may be disposed on both surfaces of the substrate 100 . That is, the circuit pattern may be disposed on the first surface 1S of the substrate 100 and the second surface 2S opposite to the first surface 1S. That is, the circuit pattern may include a first circuit pattern disposed on the first surface 1S and a second circuit pattern disposed on the second surface 2S.

또는, 상기 회로 패턴은 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 또는 상기 제 1 면(1S)과 반대되는 제 2 면(2S) 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 회로 패턴은 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 및 상기 제 1 면(1S)과 반대되는 제 2 면(2S) 중 적어도 하나의 면 상에 배치될 수 있다.Alternatively, the circuit pattern may be disposed on the first surface 1S of the substrate 100 or on the second surface 2S opposite to the first surface 1S. That is, the circuit pattern may be disposed on at least one of the first surface 1S of the substrate 100 and the second surface 2S opposite to the first surface 1S.

상기 회로 패턴은 복수 종류의 패턴을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 회로 패턴은 패턴의 역할, 위치 및 연결 관계에 따라 복수 종류의 패턴을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 회로 패턴은 배선 패턴, 도금 패턴 및 더미 패턴을 포함할 수 있다.The circuit pattern may include a plurality of types of patterns. In detail, the circuit pattern may include a plurality of types of patterns according to roles, positions, and connection relationships of the patterns. In detail, the circuit pattern may include a wiring pattern, a plating pattern, and a dummy pattern.

또한, 상기 회로 패턴은 서로 다른 크기 및 형상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 회로 패턴은 서로 다른 길이, 서로 다른 면적, 서로 다른 두께로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 배선 패턴들끼리, 상기 도금 패턴들끼리, 상기 더미 패턴들끼리는 서로 다른 크기 및 형상으로 형성될 수 있다. 또는, 상기 배선 패턴, 상기 도금 패턴 및 상기 더미 패턴은 서로 다른 크기 및 형상으로 형성될 수 있다.In addition, the circuit patterns may be formed in different sizes and shapes. For example, the circuit patterns may have different lengths, different areas, and different thicknesses. For example, the wiring patterns, the plating patterns, and the dummy patterns may have different sizes and shapes. Alternatively, the wiring pattern, the plating pattern, and the dummy pattern may be formed in different sizes and shapes.

상기 회로 패턴은 상기 회로 패턴의 크기에 따라 패턴들끼리 서로 다른 간격으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 서로 다른 크기를 가지는 패턴들 사이의 간격을 서로 동일하거나 유사한 크기를 가지는 패턴들 사이의 간격과 다르게 형성할 수 있다.The circuit pattern may be disposed at different intervals between the patterns according to the size of the circuit pattern. For example, the spacing between patterns having different sizes may be formed differently from the spacing between patterns having the same or similar sizes.

상기 회로 패턴들의 간격에 대해서는 이하에서 상세하게 설명한다.The spacing between the circuit patterns will be described in detail below.

상기 배선 패턴(210, 220)은 제 1 배선 패턴(210) 및 제 2 배선 패턴(220)을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 배선 패턴(210, 220)은 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 상에 배치되는 제 1 배선 패턴(210) 및 상기 기판(100)의 제2 면(2S) 상에 배치되는 제 2 배선 패턴(220)을 포함할 수 있다. The wiring patterns 210 and 220 may include a first wiring pattern 210 and a second wiring pattern 220 . In detail, the wiring patterns 210 and 220 are disposed on the first wiring pattern 210 disposed on the first surface 1S of the substrate 100 and on the second surface 2S of the substrate 100 . A second wiring pattern 220 may be included.

여기서, 상기 기판(100)의 제 1 면(1S)은 상기 코일 부재(1000)가 배치되는 카메라 모듈의 인쇄회로기판과 마주보는 면으로 정의될 수 있고, 상기 기판(100)의 제 2 면(2S)은 상기 제 1 면(1S)과 반대되는 면으로 정의될 수 있다.Here, the first surface 1S of the substrate 100 may be defined as a surface facing the printed circuit board of the camera module on which the coil member 1000 is disposed, and the second surface of the substrate 100 ( 2S) may be defined as a surface opposite to the first surface 1S.

상기 제 1 배선 패턴(210)은 상기 코일 부재(1000)의 하면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 배선 패턴(210)은 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 상에서 폐루프 형상의 코일 형상으로 배치될 수 있아. 즉, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 상에 배치되는 제 1 코일 패턴일 수 있다.The first wiring pattern 210 may be disposed on a lower surface of the coil member 1000 . The first wiring pattern 210 may be disposed in a coil shape of a closed loop shape on the first surface 1S of the substrate 100 . That is, the first wiring pattern 210 may be a first coil pattern disposed on the first surface 1S of the substrate 100 .

상기 제 1 배선 패턴(210)은 배선부(211) 및 패드부(212a 212b)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 배선 패턴(210)은 상기 패드부(212a 212b)를 통해 상기 코일 부재(1000)의 하부에 배치되는 인쇄회로기판과 전기적으로 연결될 수 있디. 상기 패드부(212a 212b)는 복수 개로 형성될 수 있으며, 실시예가 도 1 및 도 2의 패드부 개수로 제한되지 않는다.The first wiring pattern 210 may include a wiring part 211 and a pad part 212a 212b. The first wiring pattern 210 may be electrically connected to a printed circuit board disposed under the coil member 1000 through the pad part 212a 212b. The pad parts 212a 212b may be formed in plurality, and the embodiment is not limited to the number of pad parts shown in FIGS. 1 and 2 .

상기 제 2 배선 패턴(220)은 상기 코일 부재(1000)의 상면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 배선 패턴(220)은 상기 기판(100)의 제 2 면(2S) 상에서 폐루프 형상의 코일 형상으로 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 2 배선 패턴(220)은 상기 기판(100)의 제 2 면(2S) 상에 배치되는 제 2 코일 패턴일 수 있다.The second wiring pattern 220 may be disposed on the upper surface of the coil member 1000 . The second wiring pattern 220 may be disposed in a coil shape of a closed loop shape on the second surface 2S of the substrate 100 . That is, the second wiring pattern 220 may be a second coil pattern disposed on the second surface 2S of the substrate 100 .

상기 제 1 배선 패턴(210) 및 상기 제 2 배선 패턴(220)은 서로 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 배선 패턴(210) 및 상기 제 2 배선 패턴(220)은 상기 기판(100)에 형성되는 비아홀들을 통해 서로 연결될 수 있다.The first wiring pattern 210 and the second wiring pattern 220 may be connected to each other. In detail, the first wiring pattern 210 and the second wiring pattern 220 may be connected to each other through via holes formed in the substrate 100 .

자세하게, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 제 1-1 연결 영역 및 제 1-2 연결 영역을 포함할 수 있다. 상기 제 1-1 연결 영역에는 제 1 비아홀(V1)이 형성되고, 상기 제 1-2 연결 영역에는 제 2 비아홀(V2)이 형성될 수 있다.In detail, the first wiring pattern 210 may include a 1-1 connection region and a 1-2 connection region. A first via hole V1 may be formed in the 1-1 connection region, and a second via hole V2 may be formed in the 1-2 connection region.

또한, 상기 제 2 배선 패턴(220)은 제 2-1 연결 영역 및 제 2-2 연결 영역을 포함할 수 있다. 상기 제 2-1 연결 영역에는 상기 제 1 비아홀(V1)이 형성되고, 상기 제 2-2 연결 영역에는 상기 제 2 비아홀(V2)이 형성될 수 있다.Also, the second wiring pattern 220 may include a 2-1 th connection region and a 2-2 th connection region. The first via hole V1 may be formed in the 2-1 connection region, and the second via hole V2 may be formed in the 2-2 connection region.

상기 제 1 비아홀(V1) 또는 상기 제 2 비아홀(V2)은 각각 하나 혹은 2개 이상으로 형성될 수 있다. 상기 제 1 비아홀(v1) 또는 상기 제 2 비아홀(V2)이 복수개로 형성되는 경우 공정 중 어느 하나의 비아홀에서 연결 불량이 발생되어도 다른 비아홀에서 연결 가능하므로, 이에 따른 코일 부재의 특성 불량을 최소화할 수 있다. One or two or more of the first via hole V1 or the second via hole V2 may be formed, respectively. When a plurality of the first via hole v1 or the second via hole V2 is formed, even if a connection defect occurs in any one of the via holes during the process, it can be connected in the other via hole, thereby minimizing the characteristic defect of the coil member. can

또한, 복수개의 비아홀을 형성하기 위해 상기 연결 영역의 배선 패턴은 페루프를 형성하는 배선 패턴 보다 폭이 넓게 형성될 수 있다. 이를 통해 상기 제 1 배선 패턴과 상기 제 2 배선 패턴을 상기 연결 영역을 통해 연결할 때 상기 제 1 배선 패턴, 상기 연결 영역 및 상기 2 배선 패턴이 연결되지 않는 얼라인 불량을 예방할 수 있다.Also, in order to form a plurality of via holes, the wiring pattern of the connection region may be formed to be wider than the wiring pattern forming the loop. Accordingly, when the first wiring pattern and the second wiring pattern are connected through the connection region, an alignment defect in which the first wiring pattern, the connection region, and the second wiring pattern are not connected can be prevented.

상기 제 1 배선 패턴(210)은 제 1 패드부(212a) 및 제 2 패드부(212b)를 포함할 수 있다. 상기 인쇄회로기판과 연결되는 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 상의 상기 제 1 패드부(212a)에서 신호가 전달되면, 상기 신호는 상기 제 1 배선 패턴(210)을 따라 외측에서 내측으로 코일 형상으로 상기 제 1-1 연결 영역까지 전달되고, 상기 제 1-1 연결 영역에서 상기 제 1 비아홀(V1)을 통해 상기 제 2 면(2S)의 상기 제 2-1 연결 영역으로 전달될 수 있다.The first wiring pattern 210 may include a first pad part 212a and a second pad part 212b. When a signal is transmitted from the first pad part 212a on the first surface 1S of the substrate 100 connected to the printed circuit board, the signal is transmitted from the outside along the first wiring pattern 210 to the inside. is transmitted to the 1-1 connection area in a coil shape, and is transmitted from the 1-1 connection area to the 2-1 connection area of the second surface 2S through the first via hole V1. can

이어서, 상기 신호는 상기 제 2 배선 패턴(220)을 따라 내측에서 외측으로 코일 형상으로 상기 제 2-2 연결 영역까지 전달되고, 상기 제 2 비아홀(V2)을 통해 상기 제 1 면(1S)의 상기 제 1-2 연결 영역으로 전달될 수 있다. 이어서, 상기 신호는 상기 제 1 배선 패턴(220)을 따라 상기 제 2 패드부(212b)로 전달되어, 상기 인쇄회로기판으로 다시 신호가 전달될 수 있다.Subsequently, the signal is transmitted from the inside to the outside in a coil shape along the second wiring pattern 220 to the 2-2 connection area, and is formed on the first surface 1S through the second via hole V2. It may be transferred to the 1-2 connection area. Subsequently, the signal may be transmitted to the second pad part 212b along the first wiring pattern 220 , and the signal may be transmitted back to the printed circuit board.

상기 제 1 패드부(212a) 또는 제 2 패드부(212b)는 각각 하나 혹은 2개 이상의 패드부로 형성될 수 있다. 다시 말해, 상기 제 1 패드부(212a) 또는 제 2 패드부(212b)는 복수 개로 형성될 수 있다. 이를 통해, 상기 패드부와 인쇄 회로 기판을 연결할 때 발생할 수 있는 접촉 불량을 방지할 수 있다.Each of the first pad part 212a or the second pad part 212b may be formed of one or two or more pad parts. In other words, the first pad part 212a or the second pad part 212b may be formed in plurality. Through this, it is possible to prevent contact failure that may occur when the pad part and the printed circuit board are connected.

상기 도금 패턴은 상기 배선 패턴과 연결될 수 있다. 상기 도금 패턴은 상기 코일 부재를 제조한 후 상기 기판(100) 상에 잔류하는 도금선의 일부 일 수 있다.상기 도금 패턴은 상기 배선 패턴에 전류를 전달하여 상기 배선 패턴의 도금층을 형성할 수 있다. The plating pattern may be connected to the wiring pattern. The plating pattern may be a portion of the plating line remaining on the substrate 100 after the coil member is manufactured. The plating pattern may transmit a current to the wiring pattern to form a plating layer of the wiring pattern.

상기 도금 패턴은 제 1 도금 패턴 및 제 2 도금 패턴을 포함할 수 있다. 상기 도금 패턴은 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 상에 배치되고, 제 1-1 도금 패턴(311) 및 제 1-2 도금 패턴(312)을 포함하는 제 1 도금 패턴과 상기 기판(100)의 제 2 면(2S) 상에 배치되고, 제 2-1 도금 패턴(321) 및 제 2-2 도금 패턴(322)을 포함하는 제 2 도금 패턴을 포함할 수 있다.The plating pattern may include a first plating pattern and a second plating pattern. The plating pattern is disposed on the first surface 1S of the substrate 100 and includes a first plating pattern including a 1-1 plating pattern 311 and a 1-2 plating pattern 312 and the substrate. A second plating pattern disposed on the second surface 2S of ( 100 ) and including a 2-1 th plating pattern 321 and a 2 - 2 th plating pattern 322 may be included.

또는, 상기 도금 패턴은 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 상에 배치되고, 제 1-1 도금 패턴(311) 및 제 1-2 도금 패턴(312) 중 적어도 하나를 포함하는 제 1 도금 패턴 또는 상기 기판(100)의 제 2 면(2S) 상에 배치되고, 제 2-1 도금 패턴(321) 및 제 2-2 도금 패턴(322) 중 적어도 하나를 포함하는 제 2 도금 패턴을 포함할 수 있다. 즉, 상기 도금 패턴은 제 1 도금 패턴 및 제 2 도금 패턴 중 적어도 하나의 도금 패턴을 포함할 수 있다Alternatively, the plating pattern is disposed on the first surface 1S of the substrate 100 and includes at least one of a 1-1 plating pattern 311 and a 1-2 plating pattern 312 . a plating pattern or a second plating pattern disposed on the second surface 2S of the substrate 100 and including at least one of a 2-1 plating pattern 321 and a 2-2 plating pattern 322; may include That is, the plating pattern may include at least one of a first plating pattern and a second plating pattern.

상기 제 1-1 도금 패턴(311) 및 상기 제 1-2 도금 패턴(312)은 상기 제 1 배선 패턴(210)과 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1-1 도금 패턴(311) 및 상기 제 1-2 도금 패턴(312)은 상기 제 1 배선 패턴(210) 중 최외곽에 배치되는 제 1 배선 패턴(210)과 연결될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 상기 제 1-1 도금 패턴(311) 및 상기 제 1-2 도금 패턴(312)을 통하여 전달되는 전류에 의한 전해 도금 공정을 통해 형성되는 도금층을 포함할 수 있다.The 1-1 plating pattern 311 and the 1-2 plating pattern 312 may be connected to the first wiring pattern 210 . In detail, the 1-1 plating pattern 311 and the 1-2 plating pattern 312 may be connected to a first wiring pattern 210 disposed at an outermost portion of the first wiring patterns 210 . Accordingly, the first wiring pattern 210 includes a plating layer formed through an electrolytic plating process using a current transmitted through the 1-1 plating pattern 311 and the 1-2 plating pattern 312 . can do.

또한, 상기 제 2-1 도금 패턴(321) 및 상기 제 2-2 도금 패턴(322)은 상기 제 2 배선 패턴(220)과 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2-1 도금 패턴(321) 및 상기 제 2-2 도금 패턴(322)은 상기 제 2 배선 패턴(220) 중 최외곽에 배치되는 제 2 배선 패턴(220)과 연결될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 배선 패턴(220)은 상기 제 2-1 도금 패턴(321) 및 상기 제 2-2 도금 패턴(322)을 통하여 전달되는 전류에 의한 전해 도금 공정을 통해 형성되는 도금층을 포함할 수 있다.In addition, the 2-1 th plating pattern 321 and the 2-2 th plating pattern 322 may be connected to the second wiring pattern 220 . In detail, the 2-1 th plating pattern 321 and the 2-2 th plating pattern 322 may be connected to a second wiring pattern 220 disposed at an outermost portion of the second wiring patterns 220 . Accordingly, the second wiring pattern 220 includes a plating layer formed through an electrolytic plating process using a current transmitted through the 2-1 plating pattern 321 and the 2-2 plating pattern 322 . can do.

상기 제 1 도금 패턴은 상기 기판(100)의 끝단까지 연장하여 배치될 수 있다. 또는, 상기 제 1 도금 패턴은 상기 기판(100)의 끝단에서 더 돌출되도록 연장하여 배치될 수 있다.The first plating pattern may be disposed to extend to an end of the substrate 100 . Alternatively, the first plating pattern may be disposed to extend to further protrude from the end of the substrate 100 .

또한, 상기 제 2 도금 패턴은 상기 기판(100)의 끝단까지 연장하여 배치될 수 있다. 또는, 상기 제 2 도금 패턴은 상기 기판(100)의 끝단에서 더 돌출되도록 연장하여 배치될 수 있다.In addition, the second plating pattern may be disposed to extend to an end of the substrate 100 . Alternatively, the second plating pattern may be disposed to extend to further protrude from the end of the substrate 100 .

상기 더미 패턴(410, 420)은 제 1 더미 패턴(410) 및 제 2 더미 패턴(420)을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 더미 패턴(410, 420)은 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 상에 배치되는 제 1 더미 패턴(410) 및 상기 기판(100)의 제 2 면(2S) 상에 배치되는 제 2 더미 패턴(420)을 포함할 수 있다.The dummy patterns 410 and 420 may include a first dummy pattern 410 and a second dummy pattern 420 . In detail, the dummy patterns 410 and 420 are disposed on the first dummy pattern 410 disposed on the first surface 1S of the substrate 100 and the second surface 2S of the substrate 100 . A second dummy pattern 420 may be included.

상기 제 1 더미 패턴(410) 및 상기 제 2 더미 패턴(420)은 각각 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 및 제 2 면(2S) 상에서 상기 배선 패턴(210, 220) 및 상기 도금 패턴이 배치되지 않는 영역 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 1 더미 패턴(410) 및 상기 제 2 더미 패턴(420)은 상기 배선 패턴(210, 220) 및 상기 도금 패턴과 이격하여 배치될 수 있다.The first dummy pattern 410 and the second dummy pattern 420 are the wiring patterns 210 and 220 and the plating on the first surface 1S and the second surface 2S of the substrate 100, respectively. It may be disposed on an area where the pattern is not disposed. That is, the first dummy pattern 410 and the second dummy pattern 420 may be disposed to be spaced apart from the wiring patterns 210 and 220 and the plating pattern.

또한, 상기 제 1 더미 패턴(410) 및 상기 제 2 더미 패턴(420)은 다른 패턴들 연결되지 않고, 단선되어 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 1 더미 패턴(410) 및 상기 제 2 더미 패턴(420)으로는 신호가 전달되지 않을 수 있다. 즉, 상기 제 1 더미 패턴(410) 및 상기 제 2 더미 패턴(420)으로는 신호가 전달되지 않고, 상기 제 1 더미 패턴(410) 및 상기 제 2 더미 패턴(420)은 상기 기판(100)의 양면 상에 배치되어 상기 배선 패턴들간의 단선을 방지하고, 상기 배선 패턴들을 형성할 때 얼라인 마크 등의 역할등을 할 수 있다.Also, the first dummy pattern 410 and the second dummy pattern 420 may be disconnected from other patterns and may be disposed. That is, a signal may not be transmitted to the first dummy pattern 410 and the second dummy pattern 420 . That is, no signal is transmitted to the first dummy pattern 410 and the second dummy pattern 420 , and the first dummy pattern 410 and the second dummy pattern 420 are connected to the substrate 100 . It is disposed on both sides of the to prevent disconnection between the wiring patterns, and can serve as an alignment mark when forming the wiring patterns.

상기 배선 패턴(210, 220), 상기 도금 패턴(310, 320) 및 상기 더미 패턴(410, 420) 상에는 각각 보호층(510, 520)이 배치될 수 있다. 상기 보호층(510, 520)은 상기 배선 패턴(210, 220), 상기 도금 패턴(310, 320) 및 상기 더미 패턴(410, 420)을 감싸면서 배치될 수 있다. 이에 의해 상기 배선 패턴을 외부의 수분, 공기 등에 의한 산화를 방지하고 배선 패턴의 탈막을 방지할 수 있다.Protective layers 510 and 520 may be disposed on the wiring patterns 210 and 220 , the plating patterns 310 and 320 , and the dummy patterns 410 and 420 , respectively. The protective layers 510 and 520 may be disposed while surrounding the wiring patterns 210 and 220 , the plating patterns 310 and 320 , and the dummy patterns 410 and 420 . Accordingly, it is possible to prevent oxidation of the wiring pattern by external moisture, air, or the like, and to prevent film removal of the wiring pattern.

상기 보호층(510, 520)은 배선 패턴을 일부 노출하며 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 보호층(510, 520)은 상기 배선부(211) 상에는 배치되고, 상기 패드부(212a, 212b) 상에는 배치되지 않을 수 있다. 즉, 상기 보호층(300)은 상기 패드부(212a, 212b) 를 노출하며 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 즉, 상기 코일 부재의 하면에 배치되는 상기 배선 패턴은 상기 패드부(212a, 212b)를 통해 상기 코일 부재가 배치되는 카메라 모듈의 인쇄회로기판의 단자와 연결될 수 있다. 즉, 상기 보호층(510, 520)은 상기 기판의 제 2 면(2S) 상에는 전면으로 형성되고, 상기 제 1 면(1S) 상에는 상기 배선 패턴의 패드부(212a, 212b)를 제외한 영역 상에 모두 배치될 수 있다. The protective layers 510 and 520 may be disposed to partially expose the wiring pattern. In detail, the protective layers 510 and 520 may be disposed on the wiring part 211 , but may not be disposed on the pad parts 212a and 212b. That is, the protective layer 300 may be disposed to expose the pad portions 212a and 212b. Accordingly, the wiring pattern disposed on the first surface 1S of the substrate 100, that is, the lower surface of the coil member, is a printed circuit of the camera module on which the coil member is disposed through the pad parts 212a and 212b. It may be connected to the terminal of the board. That is, the protective layers 510 and 520 are formed as the entire surface on the second surface 2S of the substrate, and on the first surface 1S on the region except for the pad portions 212a and 212b of the wiring pattern. All can be placed.

상기 보호층(510, 520)은 제 1 보호층(510) 및 제 2 보호층(520)을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 보호층(510, 520)은 상기 기판(100)의 제 1 면(1S) 상에 배치되는 제 1 보호층(510) 및 상기 기판(100)의 제 2 면(2S) 상에 배치되는 제 2 보호층(520)을 포함할 수 있다.The passivation layers 510 and 520 may include a first passivation layer 510 and a second passivation layer 520 . In detail, the protective layers 510 and 520 are disposed on the first protective layer 510 disposed on the first surface 1S of the substrate 100 and the second surface 2S of the substrate 100 . A second protective layer 520 may be included.

상기 제 1 보호층(510) 및 상기 제 2 보호층(520)은 서로 다른 두께로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 보호층(510)은 상기 제 2 보호층(520)보다 얇은 두께로 배치될 수 있다. 즉, 상기 배선 패턴의 패드부가 배치되는 상기 기판의 일면(1S) 상에 배치되는 상기 제 1 보호층(510)은 상기 패드부와 인쇄회로기판의 단자를 연결하기 위해 상기 제 2 보호층(520)보다 얇은 두께로 배치될 수 있다.The first passivation layer 510 and the second passivation layer 520 may be disposed to have different thicknesses. For example, the first passivation layer 510 may be disposed to have a thickness smaller than that of the second passivation layer 520 . That is, the first protective layer 510 disposed on the one surface 1S of the substrate on which the pad part of the wiring pattern is disposed is the second protective layer 520 to connect the pad part and the terminal of the printed circuit board. ) may be disposed with a thinner thickness.

예를 들어, 상기 보호층(510, 520)의 두께는 10㎛ 내지 40㎛일 수 있고, 상기 범위에서 상기 제 1 보호층(510)은 상기 제 2 보호층(520)보다 얇은 두께로 배치될 수 있다.For example, the thickness of the protective layers 510 and 520 may be 10 μm to 40 μm, and in the above range, the first protective layer 510 may be disposed to have a thickness smaller than that of the second protective layer 520 . can

그러나, 실시예가 이에 제한되지는 않고, 상기 기판의 제 2 보호층(520)의 두께를 얇게 형성하여 상기 제 1 보호층 및 상기 제 2 보호층의 두께를 동일하거나 유사하게 형성할수도 있다.However, the embodiment is not limited thereto, and the thickness of the second passivation layer 520 of the substrate may be reduced to have the same or similar thicknesses of the first passivation layer and the second passivation layer.

상기 보호층(510, 520)의 두께가 40㎛ 초과하는 경우에는 상기 코일 부재의 두께가 증가할 수 있다. 상기 보호층(510, 520)의 두께가 10㎛ 미만인 경우에는 코일 부재의 배선 패턴의 신뢰성이 저하될 수 있다.When the thickness of the protective layers 510 and 520 exceeds 40 μm, the thickness of the coil member may increase. When the thickness of the protective layers 510 and 520 is less than 10 μm, the reliability of the wiring pattern of the coil member may be deteriorated.

상기 보호층(510, 520)은 절연 물질을 포함할 수 있다. 상기 보호층(510, 520)은 배선 패턴의 표면을 보호하기 위해 도포된 후 가열하여 경화될 수 있는 다양한 물질을 포함할 수 있다. The protective layers 510 and 520 may include an insulating material. The protective layers 510 and 520 may include various materials that may be applied to protect the surface of the wiring pattern and then cured by heating.

상기 보호층(510, 520)은 레지스트(resist)층일 수 있다. 예를 들어, 상기 보호층(510, 520)은 유기고분자 물질을 포함하는 솔더 레지스트층일 수 있다. 일례로, 상기 보호층(510, 520)은 에폭시 아크릴레이트 계열의 수지를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 보호층(510, 520)은 수지, 경화제, 광 개시제, 안료, 용매, 필러, 첨가제, 아크릴 계열의 모노머 등을 포함할 수 있다. 다만, 실시 예는 이에 제한되지 않고, 상기 보호층(510, 520)은 포토 솔더 레지스트층, 커버레이(cover-lay) 및 고분자 물질 중 어느 하나일 수 있음은 물론이다.The protective layers 510 and 520 may be resist layers. For example, the protective layers 510 and 520 may be a solder resist layer including an organic polymer material. For example, the protective layers 510 and 520 may include an epoxy acrylate-based resin. In detail, the protective layers 510 and 520 may include a resin, a curing agent, a photoinitiator, a pigment, a solvent, a filler, an additive, an acryl-based monomer, and the like. However, embodiments are not limited thereto, and the protective layers 510 and 520 may be any one of a photo-solder resist layer, a cover-lay, and a polymer material.

앞서 설명하였듯이, 상기 회로 패턴들은 서로 다른 크기로 형성되고, 서로 다른 간격으로 이격할 수 있다. 자세하게, 상기 회로 패턴들은 서로 다른 폭, 두께 및 면적을 가지면서 형성되고, 상기 회로 패턴들은 서로 다른 간격을 가지는 영역을 포함할 수 있다.As described above, the circuit patterns may have different sizes and may be spaced apart from each other at different intervals. In detail, the circuit patterns may be formed to have different widths, thicknesses, and areas, and the circuit patterns may include regions having different intervals.

즉, 실시예에 따른 회로 패턴들 중 인접하는 회로 패턴들 사이의 간격은 회로 패턴들의 폭에 따라 변화할 수 있다. 자세하게, 실시예에 따른 코일 부재는 인접하는 회로 패턴들 사이의 간격은 상기 회로 패턴들의 폭의 크기가 클 수록 커질 수 있다. 즉, 실시예에 따른 코일 부재는 인접하는 회로 패턴들 사이의 간격은 상기 회로 패턴들의 폭의 크기에 비례할 수 있다.That is, an interval between adjacent circuit patterns among circuit patterns according to the embodiment may vary according to widths of the circuit patterns. In detail, in the coil member according to the embodiment, the interval between adjacent circuit patterns may increase as the width of the circuit patterns increases. That is, in the coil member according to the embodiment, a distance between adjacent circuit patterns may be proportional to a width of the circuit patterns.

이하, 도 3 내지 도 11을 참조하여, 회로 패턴들의 간격을 상세하게 설명한다.Hereinafter, intervals between circuit patterns will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 11 .

도 3은 도 1의 A 영역의 확대도를 도시한 도면이다. 즉, 도 3은 도 1에서 상기 제 1 배선 패턴(210)의 일 영역의 확대도를 도시한 도면이다. 이하에서는 상기 제 1 배선 패턴(210)을 중심으로 설명하지만, 이하의 설명은 상기 제 2 배선 패턴(220)에도 동일하게 적용될 수 있다.FIG. 3 is an enlarged view of area A of FIG. 1 . That is, FIG. 3 is an enlarged view of one region of the first wiring pattern 210 in FIG. 1 . Hereinafter, the first wiring pattern 210 will be mainly described, but the following description may be equally applied to the second wiring pattern 220 .

도 3을 참조하면, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 서로 이격하여 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 하나의 배선 패턴이 코일 형상으로 배치되므로, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 코일 형상으로 형성하기 위한 이격 영역을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3 , the first wiring patterns 210 may be disposed to be spaced apart from each other. In detail, since one wiring pattern is disposed in a coil shape in the first wiring pattern 210 , the first wiring pattern 210 may include a spaced region for forming a coil shape.

도 3을 참조하면, 상기 제 1 배선 패턴은 서로 이격하여 배치되는 제 1-1 배선 패턴(201) 및 제 1-2 배선 패턴(202)을 포함할 수 있다. 상기 제 1-1 배선 패턴(201) 및 상기 제 1-2 배선 패턴(202)은 상기 기판(100) 상에서 서로 연결되어 배치되지만, 제 1 배선 패턴이 전체적으로 코일 형상으로 배치되므로 서로 이격하여 배치될 수 있다.Referring to FIG. 3 , the first wiring pattern may include a 1-1 wiring pattern 201 and a 1-2 wiring pattern 202 disposed to be spaced apart from each other. The 1-1 wiring pattern 201 and the 1-2 wiring pattern 202 are connected to each other on the substrate 100, but since the first wiring pattern is entirely arranged in a coil shape, they may be spaced apart from each other. can

상기 제 1-1 배선 패턴(201) 및 상기 제 1-1 배선 패턴(202)은 서로 다른 크기를 가질 수 있다. 자세하게, 상기 제 1-1 배선 패턴(201) 및 상기 제 1-2 배선 패턴(102)은 서로 다른 폭으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1-1 배선 패턴(201)은 제 1 폭(w1)을 가지고, 상기 제 1-2 배선 패턴(202)은 제 2 폭을 가질 수 있고, 상기 제 1 폭(w1)은 상기 제 2 폭(w2)보다 작을 수 있다.The 1-1 wiring pattern 201 and the 1-1 wiring pattern 202 may have different sizes. In detail, the 1-1 wiring pattern 201 and the 1-2 wiring pattern 102 may be formed to have different widths. For example, the 1-1 wiring pattern 201 may have a first width w1 , the 1-2 wiring pattern 202 may have a second width, and the first width w1 may be provided. may be smaller than the second width w2.

상기 제 1 배선 패턴(210)은 제 1 폭(w1)을 가지는 영역과 제 2 폭(w2)을 가지는 영역을 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 코일 방향으로 연장하면서 폭의 크기가 가변화될 수 있다. 도 3에서는 제 1 폭(w1) 및 제 2 폭(w2)만을 도시하였으나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 상기 코일 방향으로 연장하면서 다양한 크기의 폭으로 변화될 수 있다.The first wiring pattern 210 may include a region having a first width w1 and a region having a second width w2. That is, the width of the first wiring pattern 210 may be variably changed while extending in the coil direction. Although only the first width w1 and the second width w2 are illustrated in FIG. 3 , the embodiment is not limited thereto, and the first wiring pattern 210 may be changed to various widths while extending in the coil direction. can

상기 제 1 배선 패턴(210)이 다양한 크기의 폭을 가지면서 코일 방향으로 연장하므로, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 패턴들의 크기에 따라 다양한 간격을 가질 수 있다.Since the first wiring pattern 210 has a width of various sizes and extends in the coil direction, the first wiring pattern 210 may have various intervals according to the sizes of the patterns.

자세하게, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 제 1 간격(s1) 및 제 2 간격(s2)을 가질 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 상기 제 1 폭(w1)을 가지는 제 1-1 배선 패턴(202)들 사이의 제 1 간격(s1) 및 상기 제 1 폭(w1)을 가지는 제 1-1 배선 패턴(201)과 상기 제 2 폭(w2)을 가지는 제 1-2 배선 패턴(202) 사이의 제 2 간격(s2)을 가질 수 있다.In detail, the first wiring pattern 210 may have a first interval s1 and a second interval s2. In detail, the first wiring pattern 210 includes a first interval s1 between the 1-1 wiring patterns 202 having the first width w1 and a first interval s1 having the first width w1. A second interval s2 may be provided between the −1 wiring pattern 201 and the first and second wiring patterns 202 having the second width w2.

이때, 상기 제 1 간격(s1) 및 제 2 간격(s2)의 크기는 다를 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 간격(s1)의 크기는 상기 제 2 간격(s2)의 크기보다 작을 수 있다. 즉, 서로 다른 크기의 폭을 가지는 배선 패턴들 사이의 간격은 서로 동일한 크기의 폭을 가지는 배선 패턴들 사이의 간격보다 클 수 있다.In this case, the sizes of the first interval s1 and the second interval s2 may be different. In detail, the size of the first interval s1 may be smaller than the size of the second interval s2. That is, an interval between wiring patterns having different widths may be greater than an interval between wiring patterns having the same width.

이에 따라, 서로 이격하는 배선 패턴들이 서로 접촉되어 연결되는 것을 방지하여 배선 패턴들끼리의 쇼트를 방지할 수 있다.Accordingly, it is possible to prevent the wiring patterns spaced apart from each other from being in contact with each other to prevent a short circuit between the wiring patterns.

상기 제 1 배선 패턴(210)의 제 1 간격(s1) 및 제 2 간격(s2)은 상기 제 1 배선 패턴(210)의 층구조와 관계될 수 있다.The first interval s1 and the second interval s2 of the first wiring pattern 210 may be related to the layer structure of the first wiring pattern 210 .

도 4는 도 3의 B-B' 영역을 절단한 단면도를 도시한 도면이고, 도 5 내지 도 7은 상기 제 1 배선 패턴(210)의 제조 공정을 설명하기 위한 도면들이다.FIG. 4 is a cross-sectional view taken along region B-B' of FIG. 3 , and FIGS. 5 to 7 are views for explaining a manufacturing process of the first wiring pattern 210 .

도 4를 참조하면, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 복수의 층을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 복수의 전도층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 상기 기판(100) 상에서 순차적으로 적층되어 배치되는 제 1 층(L1), 제 2 층(L2), 제 3 층(L3) 및 제 4 층(L4)을 포함할 수 있다. 도 4에서는 상기 제 1 배선 패턴(210)을 중심으로 설명하였으나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 제 2 배선 패턴(220), 상기 도금 패턴 및 상기 더미 패턴도 상기 제 1 배선 패턴(210)의 층구조와 동일하게 제 1 층(L1), 제 2 층(L2), 제 3 층(L3) 및 제 4 층(L4)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4 , the first wiring pattern 210 may include a plurality of layers. In detail, the first wiring pattern 210 may include a plurality of conductive layers. For example, the first wiring pattern 210 may include a first layer (L1), a second layer (L2), a third layer (L3), and a fourth layer (L3) sequentially stacked on the substrate 100 . L4) may be included. In FIG. 4 , the first wiring pattern 210 has been mainly described, but the embodiment is not limited thereto, and the second wiring pattern 220 , the plating pattern, and the dummy pattern are also the first wiring pattern 210 . It may include a first layer (L1), a second layer (L2), a third layer (L3), and a fourth layer (L4) as in the layer structure of the.

상기 제 1 층(L1)은 상기 기판(100) 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 층(L1)은 상기 기판(100)과 직접 접촉하며 배치될 수 있다.The first layer L1 may be disposed on the substrate 100 . In detail, the first layer L1 may be disposed in direct contact with the substrate 100 .

상기 제 1 층(L1)은 다층으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 층(L1)은 니켈, 크롬 및 티타늄 중 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 1 층(L1)은 니켈층, 크롬층 및 티타늄 층 중 적어도 하나의 층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 층(L1)은 니켈층 및 상기 니켈층 상의 크롬층을 포함할 수 있다. The first layer L1 may be formed in multiple layers. For example, the first layer L1 may include at least one of nickel, chromium, and titanium. That is, the first layer L1 may include at least one of a nickel layer, a chromium layer, and a titanium layer. For example, the first layer L1 may include a nickel layer and a chromium layer on the nickel layer.

상기 제 1 층(L1)은 무전해 도금 또는 스퍼터링 공정을 통해 형성될 수 있다. 상기 제 1 층(L1)은 박막의 얇은 두께로 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 층(L1)은 20㎚ 이하의 두께로 배치될 수 있다.The first layer L1 may be formed through an electroless plating or sputtering process. The first layer L1 may be disposed to have a thin thickness. In detail, the first layer L1 may be disposed to a thickness of 20 nm or less.

상기 제 1 층(L1)은 상기 제 1 층(L1) 상에 배치되는 제 2 층(L2)과 상기 기판(100)의 밀착력을 향상시키는 층일 수 있다. 예를 들어, 상기 니켈층은 상기 상기 기판(100)과 밀착력이 좋을 수 있고, 상기 크롬층은 상기 니켈층 및 상기 제 2 층(L2)과 밀착력이 좋을 수 있다. 이에 따라, 상기 기판(100) 상에 배치되는 제 2 층(L2)의 밀착력을 향상시킬 수 있다.The first layer L1 may be a layer that improves adhesion between the second layer L2 disposed on the first layer L1 and the substrate 100 . For example, the nickel layer may have good adhesion to the substrate 100 , and the chromium layer may have good adhesion to the nickel layer and the second layer L2 . Accordingly, the adhesion of the second layer L2 disposed on the substrate 100 may be improved.

상기 제 2 층(L2)은 상기 제 1 층(L1) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 층(L2)은 상기 제 1 층(L1)과 동일하거나 다른 물질을 포함할 수 있다, 자세하게, 상기 제 2 층(L2)은 전도성이 우수한 금속 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 층(L2)은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 은(Ag), 몰리브덴(Mo). 금(Au), 티타튬(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함하는 금속층을 포함할 수 있다. 바람직하게, 상기 제 2 층(L2)은 구리를 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 2 층(L2)은 구리층일 수 있다.The second layer L2 may be disposed on the first layer L1 . The second layer L2 may include the same or different material as the first layer L1 . Specifically, the second layer L2 may include a metal material having excellent conductivity. For example, the second layer L2 may be copper (Cu), aluminum (Al), chromium (Cr), nickel (Ni), silver (Ag), or molybdenum (Mo). It may include a metal layer including at least one of gold (Au), titanium (Ti), and alloys thereof. Preferably, the second layer L2 may include copper. That is, the second layer L2 may be a copper layer.

상기 제 2 층(L2)은 무전해 도금을 통해 형성될 수 있다. 상기 제 2 층(L2)은 상기 제 1 층(L1)보다 두꺼운 두께로 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 층(L2)은 0.1㎛ 내지 1㎛의 두께로 배치될 수 있다.The second layer L2 may be formed through electroless plating. The second layer L2 may be disposed to have a thickness greater than that of the first layer L1 . In detail, the second layer L2 may be disposed to have a thickness of 0.1 μm to 1 μm.

상기 제 3 층(L3)은 상기 제 2 층(L2) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 3 층(L3)은 상기 제 2 층(L2)과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 층(L2) 및 상기 제 3 층(L3)은 모두 구리를 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 3 층(L3)은 구리층일 수 있다. 상기 배선 패턴(210, 220)에서 동일 물질을 포함하는 상기 제 2 층(L2)과 상기 제 3 층(L3)은 각 층의 결의 차이에 의해 구분될 수 있다.The third layer L3 may be disposed on the second layer L2 . The third layer L3 may include the same material as the second layer L2 . For example, both the second layer L2 and the third layer L3 may include copper. That is, the third layer L3 may be a copper layer. In the wiring patterns 210 and 220 , the second layer L2 and the third layer L3 including the same material may be distinguished by a difference in the grains of the respective layers.

상기 제 3 층(L3)은 상기 제 2 층(L2)을 씨드층으로 하여 전해 도금을 통해 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 2 층(L2)은 상기 제 3 층(L3)의 전해 도금을 위한 씨드층일 수 있고, 상기 제 3 층(L3)은 상기 전해 도금을 통해 형성되는 도금층일 수 있다. 상기 제 3 층(L3)은 상기 제 1 층(L1) 및 상기 제 2 층(L2)보다 두꺼운 두께로 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 층(L3)은 20㎛ 내지 50㎛의 두께로 배치될 수 있다.The third layer L3 may be formed through electrolytic plating using the second layer L2 as a seed layer. That is, the second layer L2 may be a seed layer for electrolytic plating of the third layer L3 , and the third layer L3 may be a plating layer formed through the electrolytic plating. The third layer L3 may be disposed to have a thickness greater than that of the first layer L1 and the second layer L2 . In detail, the third layer L3 may be disposed to have a thickness of 20 μm to 50 μm.

상기 제 4 층(L4)은 상기 제 3 층(L3) 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 4 층(L4)은 상기 제 3 층(L3)의 측면 및 상면과 접촉하며 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 4 층(L4)은 상기 기판(100)과 이격하면서, 상기 제 3 층(L3)의 측면 및 상면과 접촉하며 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 4 층(L4)은 상기 기판(100)과 이격하여 배치될 수 있다.The fourth layer L4 may be disposed on the third layer L3 . In detail, the fourth layer L4 may be disposed in contact with side surfaces and upper surfaces of the third layer L3 . In detail, the fourth layer L4 may be disposed while being spaced apart from the substrate 100 and in contact with the side and top surfaces of the third layer L3 . That is, the fourth layer L4 may be disposed to be spaced apart from the substrate 100 .

이에 따라, 앞서 설명한 상기 보호층(510, 520)은 상기 배선 패턴(210, 220), 상기 도금 패턴(310, 320) 및 상기 더미 패턴(410, 420)의 내측에도 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 보호층(510, 520)은 상기 기판(100)과 상기 배선 패턴(210, 220), 상기 도금 패턴(310, 320) 및 상기 더미 패턴(410, 420) 사이에도 배치될 수 있다. 더 자세하게, 상기 보호층(510, 520)은 상기 기판(100)과 상기 배선 패턴(210, 220), 상기 도금 패턴(310, 320) 및 상기 더미 패턴(410, 420)의 제 4 층(L4) 사이에도 배치될 수 있다.Accordingly, the protective layers 510 and 520 described above may also be disposed inside the wiring patterns 210 and 220 , the plating patterns 310 and 320 , and the dummy patterns 410 and 420 . In detail, the protective layers 510 and 520 may also be disposed between the substrate 100 and the wiring patterns 210 and 220 , the plating patterns 310 and 320 , and the dummy patterns 410 and 420 . In more detail, the protective layers 510 and 520 are the fourth layers L4 of the substrate 100 , the wiring patterns 210 and 220 , the plating patterns 310 and 320 , and the dummy patterns 410 and 420 . ) can also be placed between

상기 배선 패턴(210, 220), 상기 도금 패턴(310, 320) 및 상기 더미 패턴(410, 420)의 제 4 층(L4)은 상기 기판(100)과는 이격하고, 상기 제 3 층(L3)의 측면 및 상면에만 배치되므로, 상기 보호층(510, 520)은 상기 보호층(510, 520)은 상기 기판(100)과 상기 배선 패턴(210, 220), 상기 도금 패턴(310, 320) 및 상기 더미 패턴(410, 420)의 제 4 층(L4) 사이에서 상기 제 3 층(L3) 및 상기 제 4 층(L4)과 접촉하며 배치될 수 있다.A fourth layer L4 of the wiring patterns 210 and 220, the plating patterns 310 and 320, and the dummy patterns 410 and 420 is spaced apart from the substrate 100, and the third layer L3 ), the protective layers 510 and 520, the protective layers 510 and 520, the substrate 100, the wiring patterns 210 and 220, and the plating patterns 310 and 320. and between the fourth layer L4 of the dummy patterns 410 and 420 , in contact with the third layer L3 and the fourth layer L4 .

이에 따라, 상기 보호층(510, 520)의 면적을 향상시킬 수 있고, 상기 보호층(510, 520)이 상기 회로 패턴 즉, 상기 제 4 층(L4)에 의해 지지되는 구조로 배치되어, 상기 보호층(510, 520)의 탈막을 방지할 수 있다.Accordingly, the area of the passivation layers 510 and 520 can be improved, and the passivation layers 510 and 520 are arranged in a structure supported by the circuit pattern, that is, the fourth layer L4. It is possible to prevent film removal of the protective layers 510 and 520 .

상기 제 4 층(L2)은 상기 제 2 층(L2) 및 상기 제 3 층(L3)과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 층(L2), 상기 제 3 층(L3) 및 상기 제 4 층(L4)은 모두 구리를 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 4 층(L4)은 구리층일 수 있다.The fourth layer L2 may include the same material as the second layer L2 and the third layer L3. For example, the second layer L2 , the third layer L3 , and the fourth layer L4 may all include copper. That is, the fourth layer L4 may be a copper layer.

상기 제 4 층(L4)은 상기 전해 도금을 통해 형성되는 도금층일 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 층(L3)을 형성한 후, 다시 도금선을 통해 전류를 인가하여 제 4 층(L4)을 형성할 수 있다. 상기 제 4 층(L4)은 1회 이상의 도금 공정을 통해 형성될 수 있으며, 도금 공정의 횟수에 따라, 상기 제 4 층(L4)에는 서로 다른 결을 가지는 복수의 층들일 형성될 수 있다.The fourth layer L4 may be a plating layer formed through the electrolytic plating. In detail, after the third layer L3 is formed, a current may be applied again through the plating line to form the fourth layer L4 . The fourth layer L4 may be formed through one or more plating processes, and a plurality of layers having different textures may be formed on the fourth layer L4 according to the number of plating processes.

상기 제 4 층(L4)은 상기 제 3 층(L3)보다 작은 두께로 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 4 층(L4)은 5㎛ 내지 15㎛의 두께로 배치될 수 있다.The fourth layer L4 may be disposed to have a smaller thickness than the third layer L3 . In detail, the fourth layer L4 may be disposed to have a thickness of 5 μm to 15 μm.

한편, 상기 회로 패턴들 중 상기 배선 패턴(210, 220)은 제 5 층을 더 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 5 층은 상기 배선 패턴의 패드부(212a, 212b) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 5 층은 상기 제 4 층(L4) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 5 층은 상기 패드부 상에 배치되어, 상기 코일 부재와 상기 인쇄회로기판의 단자를 연결할 때, 접착을 용이하게 할 수 있다.Meanwhile, among the circuit patterns, the wiring patterns 210 and 220 may further include a fifth layer. In detail, the fifth layer may be disposed on the pad portions 212a and 212b of the wiring pattern. The fifth layer may be disposed on the fourth layer L4. The fifth layer may be disposed on the pad part to facilitate adhesion when the coil member and the terminal of the printed circuit board are connected.

상기 제 5 층은 상기 제 2층 내지 4 층과 동일하거나 다른 물질을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 5 층(L5)은 주석(Sn)을 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 5 층은 주석층을 포함할 수 있다. 또는, 상기 제 5 층은 구리 및 주석을 모두 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 5 층은 상기 제 4 층(L4)에서 상기 제 5 층(L5)의 상면 방향으로 연장하면서 주석의 함량이 높아질 수 있다.The fifth layer may include the same or different material from the second to fourth layers. In detail, the fifth layer L5 may include tin (Sn). That is, the fifth layer may include a tin layer. Alternatively, the fifth layer may include both copper and tin. For example, the fifth layer may have an increased content of tin while extending from the fourth layer L4 to the upper surface direction of the fifth layer L5.

상기 제 5 층은 상기 제 2~4층의 두께보다 작을 수 있다. 자세하게, 상기 제 5 층의 두께는 0.3㎛ 내지 0.8㎛일 수 있다.The fifth layer may be smaller than the thickness of the second to fourth layers. In detail, the thickness of the fifth layer may be 0.3 μm to 0.8 μm.

상기 제 1 배선 패턴(210)의 층 구조 중 상기 제 3 층(L3) 및 상기 제 4 층(L4)은 전해 도금을 통해 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 3 층(L3) 및 상기 제 4 층(L4)은 도금층일 수 있다.Among the layer structures of the first wiring pattern 210 , the third layer L3 and the fourth layer L4 may be formed through electrolytic plating. That is, the third layer L3 and the fourth layer L4 may be plating layers.

이때, 상기 도금 공정을 통해 상기 제 1 배선 패턴(210)의 두께 및 폭은 모두 증가되고, 이에 의해, 상기 도금 공정 중 인접하는 제 1 배선 패턴(210)들이 서로 연결되어 쇼트될 수 있다.In this case, both the thickness and the width of the first wiring pattern 210 are increased through the plating process, and thus, adjacent first wiring patterns 210 may be connected to each other and short-circuited during the plating process.

자세하게, 상기 제 1-1 배선 패턴(201)과 상기 제 1-2 배선 패턴(202)은 폭 및 두께가 상이할 수 있다. 즉, 상기 제 1-1 배선 패턴(201)과 상기 제 1-2 배선 패턴(202)은 서로 폭이 다르므로, 제 4 층(L4)을 도금 공정에 의해 형성할 때 배선 패턴의 폭의 크기 차이에 따라 배선 패턴의 두께도 함께 변화될 수 있다.In detail, the 1-1 wiring pattern 201 and the 1-2 wiring pattern 202 may have different widths and thicknesses. That is, since the 1-1 wiring pattern 201 and the 1-2 wiring pattern 202 have different widths, the width of the wiring pattern when the fourth layer L4 is formed by a plating process is According to the difference, the thickness of the wiring pattern may also be changed.

즉, 상기 제 1-2 배선 패턴(202)의 제 3 층(L3)의 폭은 상기 제 1-1 배선 패턴(201)의 제 3 층의 폭보다 크므로, 상기 제 1-2 배선 패턴(202) 상에서 상기 제 4 층이 상기 제 1-1 배선 패턴(201) 상에서 상기 제 4 층보다 폭 및 두께가 더 크게 형성될 수 있다.That is, since the width of the third layer L3 of the 1-2 wiring pattern 202 is greater than the width of the third layer of the 1-1 wiring pattern 201, the width of the first 1-2 wiring pattern ( 202), the fourth layer may be formed to have a greater width and thickness than the fourth layer on the 1-1 wiring pattern 201 .

따라서, 폭이 서로 다른 패턴이 인접하는 영역에서는 도금층의 크기 차이에 의해 제 4 층 형성시 인접하는 패턴들이 쇼트될 수 있다.Accordingly, in the region where patterns having different widths are adjacent to each other, the adjacent patterns may be shorted when the fourth layer is formed due to the difference in the size of the plating layer.

이에 따라, 실시예에 따른 코일 부재는 상기 폭이 다른 패턴들 사이의 간격을 폭이 동일 유사한 패턴들 사이의 간격보다 더 크게 하여 이에 따른 쇼트를 방지할 수 있다.Accordingly, in the coil member according to the embodiment, the spacing between the patterns having different widths may be larger than the spacing between the patterns having the same width, thereby preventing a short circuit.

도 5 내지 도 7은 제 1 배선 패턴의 제조 공정을 설명하기 위한 도면이다. 5 to 7 are views for explaining a manufacturing process of the first wiring pattern.

도 5 를 참조하면, 상기 기판(100) 상에 제 1 층(L1) 및 제 2 층(L2)이 배치될 수 있다. 상기 제 1 층(L1) 및 상기 제 2 층(L2)은 도금, 스퍼터링 공정에 의해 상기 기판(100)의 전면 상에 배치될 수 있다.Referring to FIG. 5 , a first layer L1 and a second layer L2 may be disposed on the substrate 100 . The first layer L1 and the second layer L2 may be disposed on the entire surface of the substrate 100 by plating and sputtering processes.

이어서, 도 6을 참조하면, 상기 기판(100) 상에 제 3 층(L3)이 형성될 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 층(L3)은 상기 제 2 층(L2) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 3 층(L3)은 전해 도금을 통하여 형성될 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 층(L3)은 상기 도금 패턴을 통해 전류가 전달되고, 상기 제 2 층(L2)을 씨드층으로 하여 도금층으로 형성될 수 있다.Subsequently, referring to FIG. 6 , a third layer L3 may be formed on the substrate 100 . In detail, the third layer L3 may be disposed on the second layer L2 . The third layer L3 may be formed through electroplating. In detail, the third layer L3 may be formed as a plating layer by passing a current through the plating pattern and using the second layer L2 as a seed layer.

상기 제 3 층(L3)을 형성한 후, 노광, 현상 및 플레쉬 에칭(제 2 층을 제거)하는 공정을 통해 상기 제 3 층(L3)은 코일 패턴 형상으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 제 1 폭(w1)을 가지는 제 1-1 배선 패턴(201) 및 제 2 폭(w2)을 가지는 제 1-2 배선 패턴(202)을 가지는 코일 패턴 형상으로 형성될 수 있아.After the third layer L3 is formed, the third layer L3 may be formed in a coil pattern shape through exposure, development, and flash etching (removing the second layer). That is, the first wiring pattern 210 is a coil pattern having a 1-1 wiring pattern 201 having a first width w1 and a 1-2 wiring pattern 202 having a second width w2. can be formed into a shape.

자세하게, 코일 형상으로 배치되는 상기 제 1 배선 패턴(210)은 제 1 배선 패턴의 위치, 제 1 배선 패턴의 방향에 따라 서로 폭이 다른 영역을 하나 또는 적어도 2개 이상 포함할 수 있다.In detail, the first wiring pattern 210 disposed in a coil shape may include one or at least two or more regions having different widths depending on the position of the first wiring pattern and the direction of the first wiring pattern.

이때, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 배선 패턴들의 폭에 따라 서로 다른 간격을 가지도록 형성할 수 있아. 자세하게, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 상기 제 1-1 배선 패턴(201)들 사이의 제 1 간격(s1)과 상기 제 1-1 배선 패턴(201)과 상기 제 1-2 배선 패턴(202) 사이의 제 2 간격(s2)을 가질 수 있다. 상기 제 2 간격(s2)은 상기 제 1 간격(s1)보다 클 수 있다.In this case, the first wiring patterns 210 may be formed to have different intervals according to the widths of the wiring patterns. In detail, the first wiring pattern 210 includes a first interval s1 between the 1-1 wiring patterns 201 and the 1-1 wiring pattern 201 and the 1-2 wiring patterns ( 202) may have a second interval s2 between them. The second interval s2 may be greater than the first interval s1.

이에 따라, 이하에서 설명하는 제 4 층(L4) 형성시 상기 제 1-1 배선 패턴(201)과 상기 제 1-2 배선 패턴(202)의 도금층의 폭의 차이에 의해 상기 제 1-1 배선 패턴(201)과 상기 제 1-2 배선 패턴(202)에서 쇼트가 발생하는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, when the fourth layer L4 to be described below is formed, the 1-1 wiring is caused by a difference in the width of the plating layer of the 1-1 wiring pattern 201 and the 1-2 wiring pattern 202 . It is possible to prevent a short circuit from occurring in the pattern 201 and the first and second wiring patterns 202 .

자세하게, 도 7을 참조하면, 상기 제 3 층(L3) 상에 상기 제 4 층(L4)이 형성될 수 있다. 자세하게, 상기 제 4 층(L4)은 상기 제 3 층(L3)을 감싸면서 배치될 수 있다. 상기 제 4 층(L4)은 상기 제 3 층(L3)과 동일한 공정에 의해 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 4층(L4)은 전해 도금을 통하여 형성될 수 있다.In detail, referring to FIG. 7 , the fourth layer L4 may be formed on the third layer L3 . In detail, the fourth layer L4 may be disposed while surrounding the third layer L3. The fourth layer L4 may be formed by the same process as the third layer L3 . That is, the fourth layer L4 may be formed through electroplating.

상기 제 4 층(L4)은 상기 제 1 배선 패턴의 폭의 크기에 따라 다른 폭으로 형성될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1-1 배선 패턴(201)과 상기 제 1-2 배선 패턴(202)은 서로 폭이 다르므로, 전해 도금으로 형성되는 도금층인 상기 제 4 층(L4)의 폭도 서로 다를 수 있다. 즉, 상기 제 1-2 배선 패턴(202)은 상기 제 1-1 배선 패턴(201)보다 폭이 크므로, 도금 패턴을 통해 인가되는 전류의 양이 많으므로, 상기 제 1-1 배선 패턴(201)보다 더 큰 폭을 가지는 도금층이 형성될 수 있다.The fourth layer L4 may be formed to have a different width according to the width of the first wiring pattern. In detail, since the 1-1 wiring pattern 201 and the 1-2 wiring pattern 202 have different widths, the width of the fourth layer L4, which is a plating layer formed by electroplating, may also be different. . That is, since the 1-2 wiring pattern 202 has a larger width than the 1-1 wiring pattern 201, the amount of current applied through the plating pattern is large, and thus the 1-1 wiring pattern ( 201), a plating layer having a larger width may be formed.

즉, 상기 제 1-2 배선 패턴(202)의 제 4 층은 상기 제 1-1 배선 패턴(201)의 제 4 층보다 더 큰 도금층으로 형성되므로 배선 패턴의 폭 및 두께가 더 클 수 있다.That is, since the fourth layer of the 1-2 wiring pattern 202 is formed of a larger plating layer than the fourth layer of the 1-1 wiring pattern 201 , the width and thickness of the wiring pattern may be larger.

즉, 상기 제 1-1 배선 패턴(201)은 제 1 폭(w1) 및 제 1 두께(T1)를 가지고, 상기 제 1-2 배선 패턴(202)은 상기 제 1 폭(w1)보다 큰 제 2 폭(w2) 및 상기 제 1 두께(T1)보다 큰 제 2 두께(T2)를 가질 수 있다.That is, the 1-1 wiring pattern 201 has a first width w1 and a first thickness T1, and the 1-2 wiring pattern 202 has a first width greater than the first width w1. It may have a second width w2 and a second thickness T2 greater than the first thickness T1 .

이에 따라, 상기 제 1 간격(s1)과 상기 제 2 간격(s2)을 동일하게 형성하는 경우, 서로 다른 폭을 가지는 패턴들 사이의 제 2 간격(s2)에서 서로 다른 크기를 가지는 도곰층의 형성에 의해 인접하는 배선 패턴들끼리 연결되어 쇼트가 발생할 수 있다.Accordingly, when the first interval s1 and the second interval s2 are formed to be the same, the formation of the guide layer having different sizes in the second interval s2 between patterns having different widths is formed. A short circuit may occur because adjacent wiring patterns are connected to each other.

따라서, 상기 제 2 간격(s2)은 상기 제 1 간격(s1)보다 더 크게 형성함으로써, 상기 제 4 층(L4)을 형성할 때, 서로 다른 크기의 폭을 가지는 인접하는 배선 패턴들이 쇼트되는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, by forming the second gap s2 to be larger than the first gap s1, when the fourth layer L4 is formed, adjacent wiring patterns having different widths are prevented from being shorted. can be prevented

이에 따라, 실시예에 따른 코일 부재는 회로 패턴을 형성할 때, 서로 선폭이 다른 패턴들에서의 도금층 크기 차이에 의한 패턴들의 쇼트를 방지할 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 코일 부재는 회로 패턴들의 쇼트를 방지하여 코일 부재의 전기적 특성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Accordingly, when the coil member according to the embodiment forms a circuit pattern, it is possible to prevent short circuiting of patterns due to a difference in plating layer size in patterns having different line widths. Accordingly, the coil member according to the embodiment may prevent short circuiting of circuit patterns, thereby improving electrical characteristics and reliability of the coil member.

도 8은 도 1의 C 영역의 확대도를 도시한 도면이다. 즉, 도 8은 도 1에서 상기 제 1 배선 패턴(210)과 상기 제 1 더미 패턴(410)이 인접하는 영역의 확대도를 도시한 도면이다. 이하에서는 상기 제 1 배선 패턴(210) 및 상기 제 1 더미 패턴(410)을 중심으로 설명하지만, 이하의 설명은 상기 제 2 배선 패턴(220) 및 상기 제 2 더미 패턴(420)에도 동일하게 적용될 수 있다.FIG. 8 is an enlarged view of region C of FIG. 1 . That is, FIG. 8 is an enlarged view of an area where the first wiring pattern 210 and the first dummy pattern 410 are adjacent to each other in FIG. 1 . Hereinafter, the first wiring pattern 210 and the first dummy pattern 410 will be mainly described, but the following description will be equally applied to the second wiring pattern 220 and the second dummy pattern 420 . can

도 8을 참조하면, 상기 제 1 배선 패턴(210)과 상기 제 1 더미 패턴(410)은 서로 이격하여 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 1 배선 패턴(210)과 상기 제 1 더미 패턴(410)은 서로 전기적으로 연결되지 않도록 물리적으로 이격하여 배치될 수 있다.Referring to FIG. 8 , the first wiring pattern 210 and the first dummy pattern 410 may be disposed to be spaced apart from each other. That is, the first wiring pattern 210 and the first dummy pattern 410 may be physically spaced apart from each other so as not to be electrically connected to each other.

상기 제 1 배선 패턴(210)과 상기 제 1 더미 패턴(410)은 서로 다른 형상으로 배치될 수 있다. 상기 제 1 배선 패턴(210)과 상기 제 1 더미 패턴(410)은 서로 다른 크기로 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 1 배선 패턴(210)과 상기 제 1 더미 패턴(410)은 서로 다른 폭 및 두께를 가질 수 있다.The first wiring pattern 210 and the first dummy pattern 410 may be disposed in different shapes. The first wiring pattern 210 and the first dummy pattern 410 may have different sizes. That is, the first wiring pattern 210 and the first dummy pattern 410 may have different widths and thicknesses.

도 9를 참조하면, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 제 3 폭(w3)을 가지고, 상기 제 1 더미 패턴(410)은 제 4 폭(w4)을 가질 수 있다. 상기 제 3 폭(w3)과 상기 제 4 폭(w4)은 서로 다를 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 폭(w3)은 상기 제 4 폭(w4)보다 작을 수 있다. 즉, 상기 제 1 더미 패턴(410)의 폭은 상기 제 1 배선 패턴의 폭보다 클 수 있다.Referring to FIG. 9 , the first wiring pattern 210 may have a third width w3 , and the first dummy pattern 410 may have a fourth width w4 . The third width w3 and the fourth width w4 may be different from each other. In detail, the third width w3 may be smaller than the fourth width w4. That is, the width of the first dummy pattern 410 may be greater than the width of the first wiring pattern.

또한, 상기 제 1 배선 패턴(210)은 제 3 두께(T3)를 가지고, 상기 제 1 더미 패턴(410)은 제 4 두께(T4)을 가질 수 있다. 상기 제 3 두께(T3)와 상기 제 4 두께(T4)는 서로 다를 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 두께(T3)는 상기 제 4 두께(T4)보다 작을 수 있다. 즉, 상기 제 1 더미 패턴(410)의 두께는 상기 제 1 배선 패턴의 두께보다 클 수 있다.Also, the first wiring pattern 210 may have a third thickness T3 , and the first dummy pattern 410 may have a fourth thickness T4 . The third thickness T3 and the fourth thickness T4 may be different from each other. In detail, the third thickness T3 may be smaller than the fourth thickness T4 . That is, the thickness of the first dummy pattern 410 may be greater than the thickness of the first wiring pattern.

또한, 상기 제 1 배선 패턴(210)들 사이의 간격(s3)과 상기 제 1 배선 패턴(210)과 상기 제 1 더미 패턴(410) 사이의 간격(s4)은 서로 다를 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 간격(s3)은 상기 제 4 간격(s4) 보다 작을 수 있다. 즉, 상기 제 1 배선 패턴(210)과 상기 제 1 더미 패턴(410) 사이의 간격은 상기 제 1 배선 패턴(210)들 사이의 간격보다 클 수 있다.Also, the interval s3 between the first wiring patterns 210 and the interval s4 between the first wiring patterns 210 and the first dummy pattern 410 may be different from each other. In detail, the third interval s3 may be smaller than the fourth interval s4. That is, the interval between the first wiring pattern 210 and the first dummy pattern 410 may be greater than the interval between the first wiring patterns 210 .

이에 따라, 실시예에 따른 코일 부재는 배선 패턴 및 더미 패턴을 형성할 때, 서로 선폭이 다른 패턴들에서의 도금층 크기 차이에 의한 패턴들의 쇼트를 방지할 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 코일 부재는 배선 패턴과 더미 패턴 사이에서의 쇼트를 방지하여 코일 부재의 전기적 특성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Accordingly, the coil member according to the embodiment may prevent short circuiting of patterns due to a difference in plating layer size in patterns having different line widths when forming the wiring pattern and the dummy pattern. Accordingly, the coil member according to the embodiment may prevent a short circuit between the wiring pattern and the dummy pattern, thereby improving electrical characteristics and reliability of the coil member.

한편, 상기 제 4 간격(s4)은 상기 제 2 간격(s2)보다 클 수 있다. 또한, 상기 제 1 간격(s1)과 상기 제 3 간격(s3)은 동일하거나 유사할 수 있다.Meanwhile, the fourth interval s4 may be larger than the second interval s2. Also, the first interval s1 and the third interval s3 may be the same or similar.

즉, 상기 제 1 더미 패턴(410)의 폭이 상기 제 1 배선 패턴(210)의 폭보다 더 크므로, 상기 제 4 층(L4)에 의해 형성되는 상기 제 1 더미 패턴(410)의 도금층은 상기 제 1 배선 패턴의 도금층보다 더 클 수 있다.That is, since the width of the first dummy pattern 410 is greater than the width of the first wiring pattern 210 , the plating layer of the first dummy pattern 410 formed by the fourth layer L4 is It may be larger than the plating layer of the first wiring pattern.

이에 따라, 회로 패턴의 폭에 따라 인접하는 패턴들의 간격도 달라질 수 있다. 즉, 회로 패턴의 폭이 커질수록 인접하는 패턴들 사이의 간격도 더 커지므로, 상기 제 4 간격(s4)은 상기 제 3 간격(S3)보다 더 크게 형성되고, 이에 의해 인접하는 회로 패턴들 사이의 쇼트를 방지할 수 있다.Accordingly, the spacing between adjacent patterns may vary according to the width of the circuit pattern. That is, as the width of the circuit pattern increases, the interval between adjacent patterns also increases, so that the fourth interval s4 is formed to be larger than the third interval S3, thereby forming a space between the adjacent circuit patterns. short circuit can be prevented.

도 10은 도 1의 E 영역의 확대도를 도시한 도면이고 도 11은 도 10의 F-F' 영역을 절단한 단면도이다. 즉, 도 10은 도 1에서 상기 제 1 더미 패턴(410)들이 인접하는 영역의 확대도를 도시한 도면이다. 이하에서는 상기 제 1 더미 패턴(410)을 중심으로 설명하지만, 이하의 설명은 상기 제 2 더미 패턴(420)에도 동일하게 적용될 수 있다.FIG. 10 is an enlarged view of region E of FIG. 1 , and FIG. 11 is a cross-sectional view taken along region F-F′ of FIG. 10 . That is, FIG. 10 is an enlarged view of an area adjacent to the first dummy patterns 410 in FIG. 1 . Hereinafter, the first dummy pattern 410 will be mainly described, but the following description may be equally applied to the second dummy pattern 420 .

도 10 및 도 11을 참조하면, 인접하는 제 1 더미 패턴(410)들은 서로 이격하여 배치될 수 있다. 상기 제 1 더미 패턴(410)들은 적절하게 이격하여 배치됨으로써, 상기 제 1 더미 패턴(410)과 인접한 다른 회로 패턴의 두께 균일성을 향상시킬 수 있다.10 and 11 , adjacent first dummy patterns 410 may be disposed to be spaced apart from each other. Since the first dummy patterns 410 are appropriately spaced apart from each other, thickness uniformity of other circuit patterns adjacent to the first dummy pattern 410 may be improved.

이에 따라, 상기 제 1 더미 패턴(410)은 서로 이격하여 배치되는 제 1-1 더미 패턴(401) 및 제 1-2 더미 패턴(402)을 포함할 수 있다.Accordingly, the first dummy pattern 410 may include a 1-1 dummy pattern 401 and a 1-2 dummy pattern 402 spaced apart from each other.

상기 제 1-1 더미 패턴(401)은 제 5 폭(w5)을 가지고, 상기 제 1-2 더미 패턴(402)은 제 6 폭(w6)을 가질 수 있다. 또한, 상기 제 1-1 더미 패턴(401)은 제 5 두께(T5)을 가지고, 상기 제 1-2 더미 패턴(402)은 제 6 두께(T6)을 가질 수 있다.The 1-1 dummy pattern 401 may have a fifth width w5 , and the 1-2 dummy pattern 402 may have a sixth width w6 . Also, the 1-1 dummy pattern 401 may have a fifth thickness T5 , and the 1-2 dummy pattern 402 may have a sixth thickness T6 .

한편, 상기 제 1-1 더미 패턴(401) 및 상기 제 1-2 더미 패턴(402) 상에는 제 1 호호충(510)이 배치되며, 이때, 제 1 보호층(510)은 두께가 다른 영역을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 더미 패턴이 배치되지 않는 상기 제 1-1 더미 패턴(401) 및 상기 제 1-2 더미 패턴(402) 사이의 제 1 보호층(510)의 두께(T7)는 다른 영역의 제 1 보호층(510)에 비해 두께가 작을 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1-1 더미 패턴(401) 및 상기 제 1-2 더미 패턴(402) 사이의 제 1 보호층(510)은 오목한 형상으로 형성될 수 있다.On the other hand, the first arc worm 510 is disposed on the 1-1 dummy pattern 401 and the 1-2 dummy pattern 402, and in this case, the first protective layer 510 covers regions having different thicknesses. may include In detail, the thickness T7 of the first protective layer 510 between the 1-1 dummy pattern 401 and the 1-2 dummy pattern 402 in which the dummy pattern is not disposed is the first in the other region. A thickness of the protective layer 510 may be smaller than that of the protective layer 510 . Accordingly, the first protective layer 510 between the 1-1 dummy pattern 401 and the 1-2 dummy pattern 402 may be formed in a concave shape.

상기 제 5 폭(w5) 및 상기 제 6 폭(w6)은 상기 제 1 폭(w1) 내지 제 3 폭(w3) 중 적어도 하나의 폭보다 클 수 있다. 또한, 상기 제 5 두께(T5) 및 상기 제 6 두께(T6)는 상기 제 1 두께(T1) 내지 제 3 두께(T3) 중 적어도 하나의 두께보다 클 수 있다.The fifth width w5 and the sixth width w6 may be greater than at least one of the first width w1 to the third width w3. Also, the fifth thickness T5 and the sixth thickness T6 may be greater than at least one of the first thickness T1 to the third thickness T3 .

또한, 상기 제 1-1 더미 패턴(401)과 상기 제 1-2 더미 패턴(402)은 제 5 간격(s5)으로 이격할 수 있다.Also, the 1-1 dummy pattern 401 and the 1-2 dummy pattern 402 may be spaced apart from each other by a fifth interval s5.

상기 제 5 간격(s5)은 상기 제 1 간격(s1), 상기 제 2 간격(s2), 상기 제 3 간격(s3) 및 상기 제 4 간격(s4) 중 적어도 하나의 간격보다 클 수 있다.The fifth interval s5 may be greater than at least one of the first interval s1, the second interval s2, the third interval s3, and the fourth interval s4.

즉, 상기 제 1 배선 패턴(210)보다 폭이 큰 더미 패턴들 사이의 간격은 다른 회로 패턴들 사이의 간격보다 더 클 수 있다.That is, an interval between the dummy patterns having a width greater than that of the first wiring pattern 210 may be greater than an interval between other circuit patterns.

이에 따라, 실시예에 따른 코일 부재는 복수의 더미 패턴을 형성할 때, 더미 패턴들에 형성되는 도금층 크기 차이에 의한 더미 패턴들의 쇼트를 방지할 수 있다. 자세하게, 더미 패턴들은 다른 회로 패턴들보다 폭이 더 크므로, 다른 회로 패턴들에 비해 제 4 층의 폭 및 두께가 더 크게 형성될 수 있다.Accordingly, the coil member according to the embodiment may prevent shorting of the dummy patterns due to a difference in the size of the plating layer formed on the dummy patterns when forming the plurality of dummy patterns. In detail, since the dummy patterns have a greater width than other circuit patterns, the width and thickness of the fourth layer may be larger than those of the other circuit patterns.

이에 따라, 상기 더미 패턴들 사이의 제 5 간격을 다른 간격들보다 더 크게 형성함으로서, 더미 패턴들을 형성할 때, 인접하는 더미 패턴들의 쇼트를 방지할 수 있다.Accordingly, by forming the fifth interval between the dummy patterns to be larger than other intervals, it is possible to prevent shorting of adjacent dummy patterns when forming the dummy patterns.

따라서, 실시예에 따른 코일 부재는 더미 패턴들 사이에서의 쇼트를 방지하여 코일 부재의 회로 패턴의 두께 균일성을 보다 향상시킬 수 있다.Accordingly, the coil member according to the embodiment may prevent a short circuit between the dummy patterns, thereby further improving the thickness uniformity of the circuit pattern of the coil member.

실시예에 따른 코일 부재는 배선 패턴, 더미 패턴 및 도금 패턴의 폭에 따라서 간격을 다르게 할 수 있다.The coil members according to the embodiment may have different spacings according to widths of the wiring pattern, the dummy pattern, and the plating pattern.

즉, 폭이 큰 패턴들 사이의 간격을 패턴의 폭이 작은 패턴들 사이의 간격보다 더 크게 형성할 수 있다.That is, the interval between the patterns having a large width may be formed to be larger than the interval between the patterns having a small width.

이에 따라, 배선 패턴, 더미 패턴 및 도금 패턴의 회로 패턴을 형성할 때 도금 공정에 따른 패턴들 사이의 쇼트를 방지할 수 있다.Accordingly, when a circuit pattern of the wiring pattern, the dummy pattern, and the plating pattern is formed, it is possible to prevent a short circuit between the patterns according to the plating process.

자세하게, 도금 공정에 의해 형성되는 도금층은 씨드가 되는 씨드층의 크기에 따라 그 크기가 달라질 수 잇다. 즉, 씨드층의 크기 즉, 폭, 두께 및 면적이 클수록 비례하여 도금층의 폭, 두께 및 면적이 증가될 수 있다.In detail, the size of the plating layer formed by the plating process may vary depending on the size of the seed layer serving as the seed. That is, as the size of the seed layer increases, that is, the width, thickness, and area of the plating layer may be proportionally increased.

이에 따라, 모든 회로 패턴들의 간격을 동일하거나 유사하게 하는 경우, 폭, 두께 및 면적이 큰 회로 패턴들에 형성되는 도금층은 다른 영역보다 더 크게 형성되므로, 인접하는 패턴들끼리 연결되어 회로 패턴들이 쇼트될 수 있다.Accordingly, when all circuit patterns have the same or similar spacing, the plating layer formed on the circuit patterns having a large width, thickness, and area is formed to be larger than other regions, so that the adjacent patterns are connected to each other so that the circuit patterns are short-circuited. can be

이에 따라, 실시예에 따른 코일 부재는 회로 패턴들의 크기에 따라 인접하는 회로 패턴들의 간격을 조절함으로써, 회로 패턴의 크기 차이에 따른 회로 패턴의 쇼트를 방지할 수 있다.Accordingly, the coil member according to the embodiment may prevent a short circuit of a circuit pattern due to a difference in the size of the circuit pattern by adjusting the spacing between the adjacent circuit patterns according to the size of the circuit patterns.

따라서, 실시예에 따른 코일 부재는 회로 패턴의 쇼트를 방지하여 향상된 신뢰성을 가질 수 있다.Accordingly, the coil member according to the embodiment may prevent short circuiting of the circuit pattern and thus have improved reliability.

이하, 도 12를 참조하여, 실시예에 따른 코일 부재를 포함하는 카메라 모듈을 설명한다. 도 12는 실시예에 따른 카메라 모듈의 결합 사시도를 도시한 도면이다.Hereinafter, a camera module including a coil member according to an embodiment will be described with reference to FIG. 12 . 12 is a view showing a combined perspective view of a camera module according to an embodiment.

도 12를 참조하면, 실시예에 따른 카메라 모듈(10)은 커버캔(1100), 제 1 가동자(1200), 제 2 가동자(1300), 고정자(1400), 베이스(1500) 및 탄성유닛(1600)을 포함할 수 있다. 또한, 도 15에는 도시되지 않았으나, 실시예에 따른 카메라 모듈(10)은 인쇄회로기판, IR 필터, 이미지 센서 등을 더 포함할 수 있다.12 , the camera module 10 according to the embodiment includes a cover can 1100 , a first mover 1200 , a second mover 1300 , a stator 1400 , a base 1500 , and an elastic unit. (1600). In addition, although not shown in FIG. 15 , the camera module 10 according to the embodiment may further include a printed circuit board, an IR filter, an image sensor, and the like.

상기 커버캔(1100)은 상기 탄성유닛(1600), 상기 제 1 가동자(1200), 상기 고정자(1400) 및 상기 제 2 가동자(1300)를 수용하여 상기 베이스(1500)에 장착됨으로써 렌즈구동모터의 외관을 형성한다. 구체적으로, 상기 커버캔(1100)은 내측면이 상기 베이스(1500)의 측면부 일부 또는 전부와 밀착하여 상기 베이스(1500)에 장착되며, 외부의 충격으로부터 내부 구성 요소를 보호함과 동시에 외부 오염물질 침투방지 기능을 가진다.The cover can 1100 accommodates the elastic unit 1600 , the first mover 1200 , the stator 1400 and the second mover 1300 , and is mounted on the base 1500 to drive a lens. Forms the exterior of the motor. Specifically, the cover can 1100 is mounted on the base 1500 in close contact with a part or all of the side surface of the cover can 1100, and protects internal components from external impacts and at the same time external contaminants It has anti-penetration function.

또한, 상기 커버캔(1100)은 핸드폰 등에 의해 발생하는 외부의 전파 간섭으로부터 렌즈구동모터 또는 카메라모듈의 구성요소를 보호하는 기능도 수행해야 한다. 따라서, 상기 커버캔(1100)은 금속재로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the cover can 1100 should also perform a function of protecting the lens driving motor or the components of the camera module from external interference generated by a mobile phone or the like. Therefore, the cover can 1100 is preferably formed of a metal material.

상기 커버캔(1100)은 이하에서 설명하는 요크부 자체로 구현되거나, 상기 요크부를 내측에 몰딩 처리하여 고정할 수 있다. 또한, 상기 커버캔(1100)의 상측면은 렌즈부(미도시)가 노출되는 개구부(1110)가 형성되고, 상기 커버캔(1100)의 상측면 하단부에는 상기 커버캔(1100) 내측으로 절곡 형성된 이너요크(미도시)가 형성될 수 있다. 이러한 이너요크는 상기 보빈(1210)에 형성된 요입부(1213)에 위치될 수 있다. 이경우, 상기 이너요크는 상기 요크부의 상측면 개구부 주위의 모서리에 배치되거나, 측면에 배치될수 있으며, 상기 보빈의 요입부는 대응되는 위치에 형성될 수 있다.The cover can 1100 may be implemented as a yoke unit itself, which will be described below, or may be fixed by molding the yoke unit on the inside. In addition, an opening 1110 through which a lens unit (not shown) is exposed is formed on the upper side of the cover can 1100 , and the lower end of the upper side of the cover can 1100 is bent inside the cover can 1100 . An inner yoke (not shown) may be formed. This inner yoke may be located in the concave portion 1213 formed in the bobbin 1210 . In this case, the inner yoke may be disposed at a corner around the opening on the upper side of the yoke portion or may be disposed on the side, and the concave portion of the bobbin may be formed at a corresponding position.

또한, 상기 커버캔(1100)은 하단부 각각의 면에 적어도 하나 이상 연장 형성된 체결편(1120)이 형성될 수 있으며, 상기 베이스(1500)에는 상기 체결편(1120)이 삽입되는 체결홈(1520)이 형성되어 렌즈구동모터의 더욱 견고한 밀폐 기능 및 체결 기능을 구현할 수 있다. 또한, 체결편과 체결홈은 별도로 없을수도 있으며, 둘 중에 하나만 형성될 수도 있다.In addition, the cover can 1100 may have at least one fastening piece 1120 extending on each side of the lower end thereof, and the base 1500 has a fastening groove 1520 into which the fastening piece 1120 is inserted. By forming this, it is possible to implement a more robust sealing function and fastening function of the lens driving motor. In addition, the fastening piece and the fastening groove may not be separate, or only one of the two may be formed.

한편, 상기 제 1 가동자(1200)는 렌즈부(미도시)를 이동시키기 위해 상기 렌즈부 측면에 배치된다. 이러한 상기 제 1 가동자(1200)는 상기 렌즈부를 고정하는 보빈(1210)과, 상기 보빈(1210)의 외주면에 구비된 제 1 코일 부재(1220)를 포함한다.Meanwhile, the first mover 1200 is disposed on the side of the lens unit to move the lens unit (not shown). The first mover 1200 includes a bobbin 1210 for fixing the lens unit, and a first coil member 1220 provided on an outer circumferential surface of the bobbin 1210 .

상기 렌즈부(미도시)는 한 개 이상의 렌즈(미도시)가 구비된 렌즈 배럴일 수 있으며, 이에 한정하지 않고, 렌즈를 지지할 수 있는 홀더 구조라면 어느 것이든 포함될 수 있다.The lens unit (not shown) may be a lens barrel provided with one or more lenses (not shown), but is not limited thereto, and any holder structure capable of supporting the lens may be included.

상기 보빈(1210)의 내주면은 렌즈부 외주면과 결합되어 상기 렌즈부를 고정한다. 또한, 상기 보빈(1210)은 상기 제 1 코일 부재(1220)가 권선되거나 장착되는 것을 가이드하는 가이드부(1211)가 외주면에 형성될 수 있다. 이러한 가이드부(1211)는 상기 보빈(1210)의 외측면과 일체형으로 형성될 수 있으며, 상기 보빈(1210)의 외측면을 따라 연속적으로 형성되거나 소정 간격으로 이격되어 형성될 수 있다.An inner circumferential surface of the bobbin 1210 is coupled to an outer circumferential surface of the lens unit to fix the lens unit. In addition, the bobbin 1210 may have a guide portion 1211 guiding the winding or mounting of the first coil member 1220 may be formed on an outer circumferential surface of the bobbin 1210 . The guide part 1211 may be integrally formed with the outer surface of the bobbin 1210 , and may be formed continuously along the outer surface of the bobbin 1210 or may be formed to be spaced apart from each other at predetermined intervals.

또한, 상기 보빈(1210)의 상측면 및 하측면에는 상기 베이스(1500)의 상측에 상기 보빈(1210)이 지지할수 있도록 구비되는 상측 스프링(1710) 또는 하측 스프링(1720)이 체결되는 스프링 체결돌기(1212)가 형성될 수 있다.In addition, on the upper and lower surfaces of the bobbin 1210 , an upper spring 1710 or a lower spring 1720 provided on the upper side of the base 1500 to support the bobbin 1210 or a spring fastening protrusion to which the lower spring 1720 is fastened. 1212 may be formed.

또한, 상기 보빈(1210)에는 상기 커버캔(1000)의 이너요크가 상기 보빈(1210)과 상기 보빈(1210)에 권선된 제 1 코일부(1220) 사이에 위치할 수 있도록 외주면에 형성된 요입부(1213)를 더 포함할 수 있다.In addition, in the bobbin 1210 , the inner yoke of the cover can 1000 may be positioned between the bobbin 1210 and the first coil unit 1220 wound around the bobbin 1210 . (1213) may be further included.

또한, 상기 제 1 코일 부재(1220)는 상기 가이드부(1211)에 가이드 되어 상기 보빈(1210)의 외측면에 권선될 수도 있으나, 4 개의 개별적인 코일이 상기 보빈(210)의 외측면에 90°간격으로 배치될 수도 있다. 이러한 제 1 코일 부재(220)는 후술할 인쇄회로기판(미도시)에서 인가되는 전원을 받아 전자기장을 형성할 수 있다.In addition, the first coil member 1220 may be guided by the guide part 1211 and wound on the outer surface of the bobbin 1210 , but four individual coils are positioned at 90° to the outer surface of the bobbin 210 . They may be arranged at intervals. The first coil member 220 may receive power applied from a printed circuit board (not shown) to be described later to form an electromagnetic field.

한편, 상기 제 2 가동자(300)는 상기 제 1 가동자(200)의 측면에 상기 제 1 가동자(200)와 대향되어 위치하며, 상기 제 1 코일 부재(1220)와 대향되게 배치된 마그넷부(1310)와, 상기 마그넷부(1310)가 고정되는 하우징(1320)을 포함할 수 있다.Meanwhile, the second mover 300 is positioned opposite to the first mover 200 on a side surface of the first mover 200 , and a magnet disposed to face the first coil member 1220 . It may include a unit 1310 and a housing 1320 to which the magnet unit 1310 is fixed.

구체적으로, 상기 마그넷부(1310)는 상기 제 1 코일 부재(1220)의 외측면에 대응되는 위치에 배치될 수 있도록 상기 하우징(1320)에 접착제 등으로 장착되며, 상기 하우징(1320) 내부에서 4개의 모서리에 등 간격으로 장착되어 내부 체적의 효율적인 사용을 도모할 수 있다.Specifically, the magnet part 1310 is mounted on the housing 1320 with an adhesive or the like so as to be disposed at a position corresponding to the outer surface of the first coil member 1220, and is It is mounted at equal intervals on the corners of the dog to promote efficient use of the internal volume.

상기 하우징(1320)은 렌즈구동모터의 외관을 형성하는 커버캔(1100)의 내측면과 대응되는 형상으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 하우징(1320)은 절연재질로 형성되고, 생산성을 고려하여 사출물로서 이루어질 수 있으며, 상기 하우징(1320)은 OIS구동을 위해 움직이는 부분으로써 상기 커버캔(1100)과는 일정거리 이격되어 배치될 수 있다.The housing 1320 may be formed in a shape corresponding to the inner surface of the cover can 1100 forming the exterior of the lens driving motor. In addition, the housing 1320 is formed of an insulating material, and may be made as an injection molding product in consideration of productivity, and the housing 1320 is a moving part for OIS driving and is spaced apart from the cover can 1100 by a certain distance. can be

실시예에서, 상기 하우징(1320)은 커버캔(1100)의 형상에 대응하여 일정거리 이격하여 육면체 형상으로 형성되며, 상, 하측이 개방되어 상기 제 1 가동자(1200)를 지지할 수 있다. 또한, 상기 하우징(1320)은 측면에 상기 마그넷부(1310)와 대응되는 형상으로 형성되는 마그넷부 체결홀(1311) 또는 마그넷부 체결홈을 포함할 수 있다.In an embodiment, the housing 1320 is formed in a hexahedral shape spaced apart by a predetermined distance corresponding to the shape of the cover can 1100 , and the upper and lower sides are opened to support the first mover 1200 . In addition, the housing 1320 may include a magnet part fastening hole 1311 or a magnet part fastening groove formed in a shape corresponding to the magnet part 1310 on the side surface.

또한, 상기 하우징(1320)의 상측면에는 소정 간격 돌출 형성되어 외부 충격 시 상기 커버캔(1100)의 상측면에 접함으로써 충격을 흡수할 수 있는 스토퍼(1312)가 적어도 두 개 이상 형성될 수 있다. 이러한 스토퍼(1312)는 상기 하우징(1320)과 일체형으로 형성될 수 있다.In addition, at least two stoppers 1312 that are formed to protrude at a predetermined interval from the upper surface of the housing 1320 so as to be in contact with the upper surface of the cover can 1100 in case of external impact to absorb the impact may be formed. . The stopper 1312 may be integrally formed with the housing 1320 .

또한, 상기 하우징(320)의 상측면 및 하측면에는 후술할 베이스(500)의 상측에 상기 하우징(320)을 지지할 수 있도록 구비되는 상측 스프링(1710) 또는 하측 스프링(1720)이 체결되는 스프링 체결돌기(1313)가 형성될 수 있다.In addition, an upper spring 1710 or a lower spring 1720 provided to support the housing 320 on the upper side of the base 500 to be described later is fastened to the upper and lower surfaces of the housing 320 . A fastening protrusion 1313 may be formed.

한편, 상기 고정자(1400)는 상기 제 2 가동자(1300)를 이동시키기 위해 상기 제 2 가동자(1300)의 하측에 대향되어 위치하며, 상기 렌즈부와 대응되는 관통홀(1411, 1421)이 중앙에 형성된다.On the other hand, the stator 1400 is positioned opposite to the lower side of the second mover 1300 in order to move the second mover 1300, and has through-holes 1411 and 1421 corresponding to the lens unit. formed in the center

구체적으로, 상기 고정자(1400)는 상기 마그넷부(1310)의 하측에 대향되게 위치되는 상기 제 2 코일 부재(1410)와, 상기 제 2 코일 부재(1410)를 상측면에 배치하여 전원을 인가하고, OIS 칩이 실장되는 기판을 포함하며, 상기 기판은 인쇄회로기판(Printed Circuit Board, 1420)일 수 있다. 즉, 상기 제 2 코일 부재(1410)가 앞서 도 1 내지 도 13에서 설명한 코일 부재일 수 있다.Specifically, in the stator 1400, the second coil member 1410 positioned opposite to the lower side of the magnet unit 1310 and the second coil member 1410 are disposed on the upper side to apply power and , and a board on which the OIS chip is mounted, and the board may be a printed circuit board (Printed Circuit Board, 1420). That is, the second coil member 1410 may be the coil member described above with reference to FIGS. 1 to 13 .

상기 제 2 코일 부재(1410)는 상기 베이스(1500) 상측에 구비된 인쇄회로기판(1420)에 실장되거나, 플렉서블 인쇄회로기판 또는 기판상에 형성될 수 있으며, 상기 렌즈부(미도시)의 광 신호를 통과시키기 위해 중앙에 관통홀(1411)이 형성되어 있다. 한편, 렌즈구동모터의 소형화, 구체적으로, 광축 방향인 z축 방향으로의 높이를 낮게 하는 것을 고려할 때, 상기 제 2 코일 부재(1410)는 패턴 코일(patterned coil)인 FP(Fine Pattern) 코일로 형성되어 상기 플렉서블 인쇄회로기판 상에 배치될 수 있다.The second coil member 1410 may be mounted on a printed circuit board 1420 provided on an upper side of the base 1500 or formed on a flexible printed circuit board or a substrate, and the light of the lens unit (not shown) A through hole 1411 is formed in the center to pass the signal. On the other hand, when considering the miniaturization of the lens driving motor, specifically, the lowering of the height in the z-axis direction, which is the optical axis direction, the second coil member 1410 is a FP (Fine Pattern) coil that is a patterned coil. It may be formed and disposed on the flexible printed circuit board.

상기 플렉서블 인쇄회로기판(1420)은 상기 제 2 코일 부재(1410)에 전원을 인가하기 위해 상기 베이스(1500) 상측면에 구비될 수 있으며, 상기 제 2 코일 부ㅈ재410)의 관통홀(1411)과 대응되는 관통홀(1421)이 형성되어 있다. 또한, 상기 인쇄회로기판(1420)은 일단 또는 대향하는 양단이 절곡되어 상기 베이스(1500) 하측으로 돌출되는 단자부(1422)를 포함하며, 이러한 단자부(1422)로써 외부전원을 공급받을 수 있다.The flexible printed circuit board 1420 may be provided on the upper surface of the base 1500 to apply power to the second coil member 1410 , and a through hole 1411 of the second coil member 410 . ) and corresponding through-holes 1421 are formed. In addition, the printed circuit board 1420 includes a terminal portion 1422 having one end or opposite ends bent and protruding downward from the base 1500 , and external power may be supplied through the terminal portion 1422 .

또한, 실시예는 상기 마그넷부(1310)의 위치와 대응되도록 상기 인쇄회로기판(1420)의 하측면 또는 상측면에 실장되는 홀 센서부(미도시)를 더 포함할 수 있다.In addition, the embodiment may further include a hall sensor unit (not shown) mounted on the lower or upper surface of the printed circuit board 1420 to correspond to the position of the magnet unit 1310 .

상기 홀센서부는 상기 마그넷부(310)의 이동을 감지하기 위해 인가되는 전압과 코일에 흐르는 전류의 세기 및 위상을 센싱하며, 인쇄회로기판(1420)와 상호 작용하여 상기 액추에이터를 정밀하게 제어하기 위해 구비된다.The hall sensor unit senses the strength and phase of the voltage applied to detect the movement of the magnet unit 310 and the current flowing through the coil, and interacts with the printed circuit board 1420 to precisely control the actuator. provided

상기 홀센서부는 상기 마그넷부(1310)와 광축 방향을 기준으로 일직선상에 구비될 수 있으며, x축 및 y축의 변위를 감지하여야 하므로, 상기 홀센서부는 상기 인쇄회로기판(1420)의 모서리 중 인접한 두 개의 모서리에 각각 구비된 두 개의 홀센서를 포함할 수 있으며, 상기 베이스(1500)에는 상기 홀센서를 수용할 수 있는 홀센서 수용홈(1540)이 형성될 수 있다. 또한 상기 홀센서는 1개 이상 구비될 수 있다.The hall sensor unit may be provided on a straight line with respect to the magnet unit 1310 and the optical axis direction, and has to detect displacements in the x-axis and y-axis, so that the hall sensor unit is adjacent to the edge of the printed circuit board 1420. It may include two Hall sensors provided at two corners, respectively, and a Hall sensor accommodating groove 1540 capable of accommodating the Hall sensor may be formed in the base 1500 . In addition, one or more Hall sensors may be provided.

이러한 홀센서부는 상기 마그넷부(1310) 보다 제 2 코일 부재(1410)에 인접하게 구비되나, 마그넷부에서 형성되는 자기장의 세기가 코일에서 형성되는 전자기장의 세기보다 몇 백배 큰 것을 감안하면, 마그넷부(1310)의 이동 감지에 있어 제 2 코일 부재(410)의 영향은 고려 대상이 되지 않는다.Although the hall sensor unit is provided closer to the second coil member 1410 than the magnet unit 1310, considering that the strength of the magnetic field formed in the magnet unit is several hundred times greater than the strength of the electromagnetic field formed in the coil, the magnet unit The influence of the second coil member 410 in detecting the movement of the 1310 is not considered.

이러한 제 1 가동자(1200), 제 2 가동자(1300) 및 고정자(1400)의 독립적 또는 유기적 상호 작용에 의해 렌즈부가 전 방향으로 이동되어 상기 제 1 가동자(1200), 상기 제 2 가동자(1300)의 상호작용으로 피사체의 화상 초점을 포커싱하고, 제 2 가동자(1300) 및 고정자(1400)의 상호작용으로 손떨림 등을 보정할 수 있게 된다.The lens unit is moved in all directions by the independent or organic interaction of the first mover 1200, the second mover 1300, and the stator 1400, so that the first mover 1200 and the second mover The image focus of the subject is focused through the interaction of 1300 , and hand shake and the like can be corrected by the interaction of the second mover 1300 and the stator 1400 .

한편, 상기 베이스(1500)는 상기 고정자(1400) 및 제2 가동자(1300)를 지지하며, 상기 관통홀(1411, 1421)에 대응되는 중공홀(1510)이 중앙에 형성된다.Meanwhile, the base 1500 supports the stator 1400 and the second mover 1300 , and a hollow hole 1510 corresponding to the through holes 1411 and 1421 is formed in the center.

이러한 베이스(1500)는 이미지 센서(미도시)를 보호하는 센서홀더 기능을 수행할 수 있으며 동시에 IR 필터(미도시)를 위치시키기 위해 구비될 수 있다. 이 경우, 상기 IR 필터는 상기 베이스(1500)의 중앙에 형성된 중공홀(510)에 장착될 수 있으며, 적외선 필터(Infrared Ray Filter)가 구비될 수 있다. 또한, 상기 IR 필터는 예를 들어, 필름 재질 또는 글래스 재질로 형성될 수 있으며, 촬상면 보호용 커버유리, 커버 글래스 등의 평판 형상의 광학적 필터에 적외선 차단 코팅 물질 등이 배치될 수도 있다. 또한, 상기 베이스외에 추가로 상기 베이스 하부에 별도의 센서홀더가 위치할 수 있다.The base 1500 may function as a sensor holder to protect an image sensor (not shown) and may be provided to simultaneously position an IR filter (not shown). In this case, the IR filter may be mounted in the hollow hole 510 formed in the center of the base 1500, and an infrared filter may be provided. In addition, the IR filter may be formed of, for example, a film material or a glass material, and an infrared blocking coating material may be disposed on a plate-shaped optical filter such as a cover glass for protecting an imaging surface or a cover glass. In addition, in addition to the base, a separate sensor holder may be positioned under the base.

또한, 상기 베이스(1500)는 상측 모서리에 돌출되어 상기 커버캔(1100)의 내측면과 면접하는 또는 결합하는 한 개 이상의 고정돌기(530)가 형성될 수 있으며, 이러한 고정돌기(1530)는 상기 커버캔(1100)의 체결을 용이하게 가이드 함과 동시에 체결 후 견고한 고정을 꾀할 수 있게 한다. 또한 상기 고정돌기는 두개 이상 형성될 수도 있다.In addition, the base 1500 may be formed with one or more fixing protrusions 530 protruding from the upper corner to face or combine with the inner surface of the cover can 1100, and these fixing protrusions 1530 are It facilitates the fastening of the cover can 1100 and at the same time makes it possible to achieve firm fixation after fastening. In addition, two or more fixing protrusions may be formed.

또한, 상기 베이스(1500)는 상기 커버캔(1100)의 체결편(1120)이 삽입되는 체결홈(1520)이 형성될 수 있다. 이러한 체결홈(520)은 상기 체결편(1120)의 길이에 대응하는 형상으로 상기 베이스(1500) 외측면에 국부적으로 형성되거나, 상기 체결편(1120)을 포함한 상기 커버캔(1100) 하단의 소정 부분이 삽입될 수 있도록 상기 베이스(1500) 외측면에 전체적으로 형성될 수 있다In addition, the base 1500 may be formed with a fastening groove 1520 into which the fastening piece 1120 of the cover can 1100 is inserted. The fastening groove 520 is formed locally on the outer surface of the base 1500 in a shape corresponding to the length of the fastening piece 1120 , or a predetermined bottom of the cover can 1100 including the fastening piece 1120 . It may be formed entirely on the outer surface of the base 1500 so that the part can be inserted.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. Features, structures, effects, etc. described in the above embodiments are included in at least one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to one embodiment. Furthermore, features, structures, effects, etc. illustrated in each embodiment can be combined or modified for other embodiments by those of ordinary skill in the art to which the embodiments belong. Accordingly, the contents related to such combinations and modifications should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.In addition, although the embodiments have been described above, these are merely examples and do not limit the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains are exemplified above in a range that does not depart from the essential characteristics of the present embodiment. It can be seen that various modifications and applications that have not been made are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be implemented by modification. And differences related to these modifications and applications should be construed as being included in the scope of the present invention defined in the appended claims.

Claims (10)

제 1 면 및 상기 제 1 면과 반대되는 제 2 면을 포함하는 기판;
상기 제 1 면 및 상기 제 2 면 중 적어도 하나의 면 상에 배치되고, 배선 패턴, 도금 패턴 및 더미 패턴을 포함하는 회로 패턴을 포함하고,
인접하는 회로 패턴의 간격은 상기 회로 패턴의 폭의 크기가 클수록 증가하는 코일 부재.
a substrate comprising a first surface and a second surface opposite to the first surface;
and a circuit pattern disposed on at least one of the first surface and the second surface, the circuit pattern including a wiring pattern, a plating pattern, and a dummy pattern;
An interval between adjacent circuit patterns increases as the width of the circuit pattern increases.
제 1항에 있어서,
상기 배선 패턴은 인접하는 제 1-1 배선 패턴 및 제 1-2 배선 패턴을 포함하고,
상기 제 1-1 배선 패턴의 제 1 폭은 상기 제 1-2 배선 패턴의 제 2 폭보다 작고,
상기 제 1-1 배선 패턴과 상기 제 1-2 배선 패턴 사이의 제 2 간격은 상기 제 1-1 배선 패턴들 사이의 제 1 간격보다 큰 코일 부재.
The method of claim 1,
The wiring pattern includes adjacent 1-1 wiring patterns and 1-2 wiring patterns,
A first width of the 1-1 wiring pattern is smaller than a second width of the 1-2 wiring pattern;
A second interval between the 1-1 wiring pattern and the 1-2 wiring pattern is greater than a first interval between the 1-1 wiring patterns.
제 2항에 있어서,
상기 제 1-1 배선 패턴은 제 1 두께를 가지고, 상기 제 1-2 배선 패턴은 제 2 두께를 가지고,
상기 제 2 두께는 상기 제 1 두께보다 큰 코일 부재.
3. The method of claim 2,
The 1-1 wiring pattern has a first thickness, and the 1-2 wiring pattern has a second thickness,
The second thickness is greater than the first thickness of the coil member.
제 2항에 있어서,
상기 배선 패턴과 더미 패턴은 서로 이격하여 배치되고,
상기 제 1-1 배선 패턴의 제 1 폭은 상기 더미 패턴의 제 4 폭보다 작고,
상기 배선 패턴과 상기 더미 패턴 사이의 제 4 간격은 상기 제 1-1 배선 패턴들 사이의 제 1 간격보다 큰 코일 부재.
3. The method of claim 2,
The wiring pattern and the dummy pattern are disposed to be spaced apart from each other,
a first width of the 1-1 wiring pattern is smaller than a fourth width of the dummy pattern;
A fourth interval between the wiring pattern and the dummy pattern is greater than a first interval between the 1-1 wiring patterns.
제 4항에 있어서,
상기 제 4 간격은 상기 제 2 간격보다 큰 코일 부재.
5. The method of claim 4,
The fourth gap is greater than the second gap.
제 2항에 있어서,
상기 제 1-1 배선 패턴은 제 1 두께를 가지고, 상기 더미 패턴은 제 4 두께를 가지고,
상기 제 4 두께는 상기 제 1 두께보다 큰 코일 부재.
3. The method of claim 2,
The 1-1 wiring pattern has a first thickness, and the dummy pattern has a fourth thickness,
The fourth thickness is greater than the first thickness of the coil member.
제 4항에 있어서,
상기 더미 패턴은 서로 이격하여 배치되는 제 1-1 더미 패턴 및 제 1-2 더미 패턴을 포함하고,
상기 제 1-1 더미 패턴과 상기 제 1-2 더미 패턴은 제 5 간격으로 이격하여 배치되고,
상기 제 5 간격은 상기 제 1 간격, 상기 제 2 간격, 상기 제 3 간격 및 상기 제 4 간격 중 적어도 하나의 간격보다 큰 코일 부재.
5. The method of claim 4,
The dummy pattern includes a 1-1 dummy pattern and a 1-2 dummy pattern disposed to be spaced apart from each other,
The 1-1 dummy pattern and the 1-2 dummy pattern are spaced apart from each other at a fifth interval,
The fifth interval is greater than at least one of the first interval, the second interval, the third interval, and the fourth interval.
제 7항에 있어서,
상기 제 1-1 더미 패턴은 제 5 폭 및 제 5 두께를 가지고,
상기 제 1-2 더미 패턴은 제 6 폭 및 제 6 두께를 가지고,
상기 제 5 폭 및 상기 제 6 폭은 상기 제 1 폭, 상기 제 2 폭 및 제 3 폭 중 적어도 하나의 폭보다 크고,
상기 제 5 두께 및 상기 제 6 두께는 상기 제 1 두께, 상기 제 2 두께 및 제 3 두께 중 적어도 하나의 두께보다 큰 코일 부재.
8. The method of claim 7,
The 1-1 dummy pattern has a fifth width and a fifth thickness,
The 1-2 dummy patterns have a sixth width and a sixth thickness,
The fifth width and the sixth width are greater than at least one of the first width, the second width, and the third width;
The fifth thickness and the sixth thickness are greater than at least one of the first thickness, the second thickness, and the third thickness.
렌즈부를 이동시키기 위해 상기 렌즈부 측면에 배치된 제 1 가동자;
상기 제 1 가동자의 측면에 상기 제 1 가동자와 대향되어 위치하는 제 2 가동자;
상기 제 2 가동자를 이동시키기 위해 상기 제 2 가동자의 하측에 대향되어 위치하며, 상기 렌즈부와 대응되는 관통홀이 중앙에 형성되는 고정자;
상기 고정자 및 제 2 가동자를 지지하며, 상기 제 2 가동자의 관통홀에 대응되는 중공홀이 중앙에 형성되는 베이스를 포함하고,
상기 고정자는 회로기판 및 상기 회로기판 상에 배치되는 코일 부재를 포함하고,
상기 코일 부재는,
제 1 면 및 상기 제 1 면과 반대되는 제 2 면을 포함하는 기판;
상기 제 1 면 및 상기 제 2 면 중 적어도 하나의 면 상에 배치되고, 배선 패턴, 도금 패턴 및 더미 패턴을 포함하는 회로 패턴을 포함하고,
인접하는 회로 패턴의 간격은 상기 회로 패턴의 폭의 크기가 클수록 증가하는 카메아 모듈.
a first mover disposed on a side surface of the lens unit to move the lens unit;
a second mover positioned opposite to the first mover on a side surface of the first mover;
a stator positioned opposite to a lower side of the second mover to move the second mover and having a through-hole corresponding to the lens unit formed in the center;
and a base supporting the stator and the second mover and having a hollow hole in the center corresponding to the through hole of the second mover;
The stator includes a circuit board and a coil member disposed on the circuit board,
The coil member,
a substrate comprising a first surface and a second surface opposite to the first surface;
and a circuit pattern disposed on at least one of the first surface and the second surface, the circuit pattern including a wiring pattern, a plating pattern, and a dummy pattern;
The interval between adjacent circuit patterns increases as the width of the circuit pattern increases.
제 9항에 있어서,
상기 배선 패턴은 인접하는 제 1-1 배선 패턴 및 제 1-2 배선 패턴을 포함하고,
상기 제 1-1 배선 패턴의 제 1 폭은 상기 제 1-2 배선 패턴의 제 2 폭보다 작고,
상기 제 1-1 배선 패턴과 상기 제 1-2 배선 패턴 사이의 제 2 간격은 상기 제 1-1 배선 패턴들 사이의 제 1 간격보다 크고,
상기 배선 패턴과 더미 패턴은 서로 이격하여 배치되고,
상기 제 1-1 배선 패턴의 제 1 폭은 상기 더미 패턴의 제 4 폭보다 작고,
상기 배선 패턴과 상기 더미 패턴 사이의 제 4 간격은 상기 제 1-1 배선 패턴들 사이의 제 1 간격보다 크고,
상기 더미 패턴은 서로 이격하여 배치되는 제 1-1 더미 패턴 및 제 1-2 더미 패턴을 포함하고,
상기 제 1-1 더미 패턴과 상기 제 1-2 더미 패턴은 제 5 간격으로 이격하여 배치되고,
상기 제 5 간격은 상기 제 1 간격, 상기 제 2 간격, 상기 제 3 간격 및 상기 제 4 간격 중 적어도 하나의 간격보다 큰 카메라 모듈.
10. The method of claim 9,
The wiring pattern includes adjacent 1-1 wiring patterns and 1-2 wiring patterns,
A first width of the 1-1 wiring pattern is smaller than a second width of the 1-2 wiring pattern;
a second interval between the 1-1 wiring pattern and the 1-2 wiring pattern is greater than a first interval between the 1-1 wiring patterns;
The wiring pattern and the dummy pattern are disposed to be spaced apart from each other,
a first width of the 1-1 wiring pattern is smaller than a fourth width of the dummy pattern;
a fourth interval between the wiring pattern and the dummy pattern is greater than a first interval between the 1-1 wiring patterns;
The dummy pattern includes a 1-1 dummy pattern and a 1-2 dummy pattern disposed to be spaced apart from each other,
The 1-1 dummy pattern and the 1-2 dummy pattern are spaced apart from each other at a fifth interval,
The fifth interval is greater than at least one of the first interval, the second interval, the third interval, and the fourth interval.
KR1020210000211A 2021-01-04 2021-01-04 Coil member and camera module having the same KR20220098460A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210000211A KR20220098460A (en) 2021-01-04 2021-01-04 Coil member and camera module having the same
US18/255,290 US20240006945A1 (en) 2021-01-04 2022-01-04 Coil member and camera module comprising same
PCT/KR2022/000075 WO2022146127A1 (en) 2021-01-04 2022-01-04 Coil member and camera module comprising same
TW111100285A TW202242920A (en) 2021-01-04 2022-01-04 Coil member and camera module including the same
CN202280009018.0A CN116670792A (en) 2021-01-04 2022-01-04 Coil component and camera module comprising same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210000211A KR20220098460A (en) 2021-01-04 2021-01-04 Coil member and camera module having the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220098460A true KR20220098460A (en) 2022-07-12

Family

ID=82419923

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210000211A KR20220098460A (en) 2021-01-04 2021-01-04 Coil member and camera module having the same

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR20220098460A (en)
CN (1) CN116670792A (en)

Also Published As

Publication number Publication date
CN116670792A (en) 2023-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9661213B2 (en) Camera module
KR102174068B1 (en) Camera Module
KR102653487B1 (en) Camera Module
KR102117094B1 (en) Camera Module
KR20220098460A (en) Coil member and camera module having the same
KR20210045202A (en) Coil member for correcting hand-shake and camera module having the same
JP7469500B2 (en) Coil board for image stabilization
CN114631305B (en) Coil component for correcting hand shake and camera module with coil component
KR20220087226A (en) Coil member and camera module having the same
US20240006945A1 (en) Coil member and camera module comprising same
US20240079174A1 (en) Coil member and camera module comprising same
KR20220098438A (en) Coil member and camera module having the same
CN114258626B (en) Image stabilization coil component and camera module comprising same
KR102669307B1 (en) Coil member for correcting hand-shake and camera module having the same
KR20210045197A (en) Coil member for correcting hand-shake and camera module having the same
KR102471211B1 (en) Camera Module
CN218446151U (en) Optical element driving mechanism
KR102245305B1 (en) Camera Module
KR20230144979A (en) Camera Module
CN117406376A (en) Optical element driving mechanism

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination