KR20220094016A

KR20220094016A - 승강 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Info

Publication number: KR20220094016A
Application number: KR1020200185265A
Authority: KR
Inventors: 김학준; 김동겸; 김남규
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2020-12-28
Filing date: 2020-12-28
Publication date: 2022-07-05

Abstract

본 발명은 처리 용기에 고정 결합되는 브라켓과; 일단이 상기 브라켓에 결합되어 상기 처리 용기를 승강시키는 이동축과; 상기 이동축에 동력을 공급하는 구동기를 포함하고, 상기 이동축은, 고정 부재와; 상기 고정 부재에 대하여 승강 이동되는 이동 부재와; 상기 고정 부재와 상기 이동 부재 간에 연결되는 케이블 부재를 포함하고, 상기 이동 부재에는, 상기 이동 부재가 승강 이동됨에 따라 상기 케이블 부재의 곡률 변화 방향을 따라 상기 케이블 부재를 가이드하는 결합편이 제공되는 승강 유닛에 관한 것이다.

Description

승강 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{LIFTING UNIT AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING THE SAME}

본 발명은 승강 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

반도체 소자를 제조하기 위해서는 세정, 증착, 사진, 식각, 그리고 이온주입 등과 같은 다양한 공정이 수행된다. 이러한 공정들 중 사진 공정은 기판의 표면에는 포토 레지스트와 같은 감광액을 도포하여 막을 형성하는 도포 공정, 기판에 형성된 막에 회로 패턴을 전사하는 노광 공정, 노광 처리된 영역 또는 그 반대 영역에서 선택적으로 기판 상에 형성된 막을 제거하는 현상 공정을 포함한다.

도 1은 기판에 포토 레지스트를 도포하는 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 내부 공간을 가지는 처리 용기(2), 내부 공간에서 기판(W)을 지지하는 지지 유닛(3), 그리고 지지 유닛(3)에 놓인 기판(W) 상으로 포토 레지스트를 공급하는 노즐(4)을 가진다.

처리 용기(2)는 지지 유닛(3)을 감싸도록 제공되는 내측 컵(2-1)과, 내측 컵(2-1)의 외측에서 내측 컵(2-1)을 감싸도록 제공되는 외측 컵(2-2)를 가진다. 처리 용기(2)에는 처리 용기(2)와 지지 유닛(3) 간의 상대 높이를 조절하는 승강 유닛(5)이 설치된다. 승강 유닛(5)은 처리 용기(2)의 외벽에 결합되는 브라켓(6)과, 승강 유닛(5)에 동력을 제공하는 구동부(7)와, 브라켓(6)과 구동부(7)를 연결하고, 구동부(7)로부터 동력을 제공받아 승강 또는 하강 운동하는 이동축(8)을 포함한다.

도 2는 도 1의 승강 유닛의 이동축을 보여주는 단면도이다. 도 2의 (a)는 이동축(8)이 하강된 상태를 도시한 단면도이고, 도 2의 (b)는 이동축(8)이 승강된 상태를 도시한 단면도이다. 도 2를 참조하면, 이동축(8)은 고정 부재(8-1)와, 처리 용기(2)의 외벽에 결합되어 처리 용기(2)와 함께 승하강되는 이동 부재(8-2)와, 고정 부재(8-1)와 이동 부재(8-2)를 연결하는 케이블(8-3)을 포함한다. 구동부(7)로부터 동력이 전달되면 이동 부재(8-2)와, 이동 부재(8-2)에 연결되는 케이블(8-3)은 고정 부재(8-1)에 대하여 승강 또는 하강된다. 케이블(8-3)이 승하강되는 과정에서, 케이블(8-3)이 이동 부재(8-2)의 모서리 혹은 꼭지점(P1)에 반복적으로 충돌 또는 접촉되거나, 이동 부재(8-2)의 모서리 혹은 꼭지점(P1) 부근에서 이동 부재(8-2)에 의해 케이블(8-3)이 지지되지 못하므로 반복되는 변형이 발생하여 단선이 쉽게 발생되는 문제가 있다. 또한, 이 경우, 승강 유닛(8)의 수명이 단축되는 문제가 있다.

본 발명은 케이블 부재의 구동시 곡률 변화에 따른 피로 응력을 최소화할 수 있는 승강 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.

또한, 본 발명은 케이블 부재의 구동시 케이블 부재와 이동 부재 간의 간섭을 최소화할 수 있는 승강 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명은 처리 용기를 승강시키는 승강 유닛을 개시한다.

승강 유닛은 처리 용기에 고정 결합되는 브라켓과; 일단이 상기 브라켓에 결합되어 상기 처리 용기를 승강시키는 이동축과; 상기 이동축에 동력을 공급하는 구동기를 포함하고, 상기 이동축은, 고정 부재와; 상기 고정 부재에 대하여 승강 이동되는 이동 부재와; 상기 고정 부재와 상기 이동 부재 간에 연결되는 케이블 부재를 포함하고, 상기 이동 부재에는, 상기 이동 부재가 승강 이동됨에 따라 상기 케이블 부재의 곡률 변화 방향을 따라 상기 케이블 부재를 가이드하는 결합편이 제공될 수 있다.

상기 이동 부재는, 상기 고정 부재와 대향하는 제1면과, 상기 제1면의 반대편에 제공되는 제2면과, 상기 제1면과 상기 제2면을 연결하는 제3면을 포함하고, 상기 결합편은 상기 제1면에 제공될 수 있다.

상기 이동 부재의 상기 제3면은 경사면으로 제공될 수 있다.

상기 경사면은, 아래로 갈수록 상기 이동 부재의 상기 제1면으로부터 상기 제2면을 향하는 방향으로 하향 경사지게 제공될 수 있다.

상기 결합편은, 상기 이동 부재에 제공되는 힌지축과, 상기 힌지축에 힌지 결합되어 상기 힌지축을 중심으로 소정 각도로 회전 가능하도록 상기 제1면에 결합되는 베이스와, 상기 베이스로부터 돌출되고, 내부에 상기 케이블 부재가 관통되는 홀이 형성되며, 상기 베이스와 함께 회전되는 돌출부를 포함할 수 있다.

상기 결합편은 상기 경사면의 적어도 일부와 중첩되게 제공될 수 있다.

상기 케이블 부재와 상기 경사면 사이의 거리는 아래로 갈수록 커지도록 제공될 수 있다.

상기 이동 부재는, 상기 이동 부재의 상기 제1면에 제공되고, 상기 케이블의 일단부를 고정하는 고정편을 더 포함하고, 상기 고정편은 상기 결합편보다 높은 위치에 제공될 수 있다.

상기 베이스는, 상기 이동 부재가 승강 이동됨에 따라 상기 케이블 부재의 곡률 변화 방향을 따라 소정 각도로 회전될 수 있다.

본 발명은 기판을 처리하는 장치를 개시한다.

기판 처리 장치는 내부 공간을 가지는 처리 용기와; 상기 내부 공간 내에서 기판을 지지 및 회전시키는 지지판을 가지는 지지 유닛과; 상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 액 공급 유닛과, 상기 처리 용기에 결합되어 상기 처리 용기를 승강 이동시키는 승강 유닛을 포함하되, 상기 승강 유닛은, 처리 용기에 고정 결합되는 브라켓과; 일단이 상기 브라켓에 결합되어 상기 처리 용기를 승강시키는 이동축과; 상기 이동축에 동력을 공급하는 구동기를 포함하고, 상기 이동축은, 고정 부재와; 상기 고정 부재에 대하여 승강 이동되는 이동 부재와; 상기 고정 부재와 상기 이동 부재 간에 연결되는 케이블 부재를 포함하고, 상기 이동 부재는, 상기 고정 부재와 대향하는 제1면과, 상기 제1면의 반대편에 제공되는 제2면과, 상기 제1면과 상기 제2면을 연결하며 경사면으로 제공되는 제3면을 포함하고, 상기 경사면은, 아래로 갈수록 상기 이동 부재의 상기 제1면으로부터 상기 제2면을 향하는 방향으로 하향 경사지게 제공된다.

상기 이동 부재에는, 상기 이동 부재가 승강 이동됨에 따라 상기 케이블 부재의 곡률 변화 방향을 따라 상기 케이블 부재를 가이드하는 결합편이 제공될 수 있다.

상기 지지 유닛은, 기판을 지지하는 지지판과; 상기 지지판을 회전시키는 회전축과; 상기 회전축에 결합되어 상기 회전축을 회전력을 제공하는 구동기를 포함하고, 상기 처리 용기는, 상기 내부 공간을 제공하는 외측 컵과; 상기 외측 컵과 이격되도록 상기 내부 공간에 배치되는, 그리고 상기 회전축 또는 상기 구동기를 감싸는 내측 컵을 포함하며, 상기 승강 유닛은 상기 외측 컵의 외벽에 제공될 수 있다.

상기 승강 유닛은, 상기 처리 용기와 상기 지지 유닛 간의 상대 높이를 조절할 수 있다.

본 발명은 기판을 처리하는 장치를 개시한다.

기판 처리 장치는 내부 공간을 가지는 처리 용기와; 상기 내부 공간 내에서 기판을 지지 및 회전시키는 지지판을 가지는 지지 유닛과; 상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 액 공급 유닛과, 상기 처리 용기에 결합되어 상기 처리 용기를 승강 이동시키는 승강 유닛을 포함하되, 상기 승강 유닛은, 처리 용기에 고정 결합되는 브라켓과; 일단이 상기 브라켓에 결합되어 상기 처리 용기를 승강시키는 이동축과; 상기 이동축에 동력을 공급하는 구동기를 포함하고, 상기 이동축은, 고정 부재와; 상기 고정 부재에 대하여 승강 이동되는 이동 부재와; 상기 고정 부재와 상기 이동 부재 간에 연결되는 케이블 부재를 포함하고, 상기 이동 부재는, 상기 고정 부재와 대향하는 제1면과, 상기 제1면의 반대편에 제공되는 제2면과, 상기 제1면과 상기 제2면을 연결하고 경사면으로 제공되는 제3면을 포함하고, 상기 이동 부재에는, 상기 이동 부재가 승강 이동됨에 따라 상기 케이블 부재의 곡률 변화 방향을 따라 상기 케이블 부재를 가이드하는 결합편이 제공되고, 상기 결합편은, 상기 이동 부재에 제공되는 힌지축과, 상기 힌지축에 힌지 결합되어 상기 힌지축을 중심으로 소정 각도로 회전 가능하도록 결합되는 베이스와, 상기 베이스로부터 돌출되고, 내부에 상기 케이블 부재가 관통되는 홀이 형성되며, 상기 베이스와 함께 회전되는 돌출부를 포함한다.

본 발명에 따르면, 케이블 부재의 구동시 곡률 변화에 따른 피로 응력을 최소화할 수 있다.

또한, 케이블 부재의 구동시 케이블 부재와 이동 부재 간의 간섭을 최소화할 수 있다.

또한, 케이블 부재의 유동성이 증대되어, 케이블 부재의 가동 범위 또는 곡률 변화 범위를 최대화할 수 있다.

또한, 케이블 부재의 단선을 최소화하여 승강 유닛의 수명이 증대될 수 있다.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.

도 1은 기판을 회전시키면서 액처리하는 일반적이 구조의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 승강 유닛의 일부분을 확대하여 보여주는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이다.
도 4는 도 3의 도포 블록 또는 현상 블록을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 5은 도 3의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 6은 도 5의 반송 로봇을 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 7은 도 5의 열 처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 8 도 5의 열 처리 챔버의 정면도이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 회전되는 기판에 액을 공급하여 기판을 처리하는 기판 처리 장치의 구조를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도 10은 도 9의 승강 유닛의 이동축를 보여주는 단면도다.
도 11은 도 10의 이동축의 고정 부재를 보여주는 사시도이다.
도 12 및 도 13은 도 10의 승강 유닛의 동작도이다.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.

어떤 구성요소를 '포함한다'는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.

용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. 또한, 본 명세서에서 "연결된다"라는 의미는 A 부재와 B 부재가 직접 연결되는 경우뿐만 아니라, A 부재와 B 부재의 사이에 C 부재가 개재되어 A 부재와 B 부재가 간접 연결되는 경우도 의미한다.

본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.

제어기(미도시)는 기판 처리 장치의 전체 동작을 제어할 수 있다. 제어기(미도시)는 CPU(Central Processing Unit), ROM(Read Only Memory) 및 RAM(Random Access Memory)을 포함할 수 있다. CPU는 이들의 기억 영역에 저장된 각종 레시피에 따라, 후술되는 액처리, 건조 처리 등의 원하는 처리를 실행한다. 레시피에는 프로세스 조건에 대한 장치의 제어 정보인 프로세스 시간, 프로세스 압력, 프로레스 온도, 각종 가스 유량 등이 입력되어 있다. 한편, 이들 프로그램이나 처리 조건을 나타내는 레시피는, 하드 디스크나 반도체 메모리에 기억되어도 좋다. 또한, 레시피는 CD-ROM, DVD 등의 가반성(可搬性)의 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체에 수용된 상태로 기억 영역의 소정 위치에 세트하도록 해도 좋다.

본 실시예의 장치는 원형 기판에 대해 사진 공정을 수행하는 데 사용될 수 있다. 특히 본 실시예의 장치는 노광장치에 연결되어 기판에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행하는 데 사용될 수 있다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않고, 기판을 회전시키면서 기판에 처리액을 공급하는 다양한 종류의 공정에 사용될 수 있다. 아래에서는 기판으로 웨이퍼가 사용된 경우를 예로 들어 설명한다.

이하에서는, 도 3 내지 도 13을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 설명한다.

도 3은는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 사시도이고, 도 4는 도 3의 도포 블록 또는 현상 블록을 보여주는 기판 처리 장치의 단면도이고, 도 5는 도 3의 기판 처리 장치의 평면도이다.

도 3 내지 도 5을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치(10)는 인덱스 모듈(100, index module), 처리 모듈(300, treating module), 그리고 인터페이스 모듈(500, interface module)을 포함한다. 일 실시예에 의하며, 인덱스 모듈(100), 처리 모듈(300), 그리고 인터페이스 모듈(500)은 순차적으로 일렬로 배치된다. 이하에서 인덱스 모듈(100), 처리 모듈(300), 그리고 인터페이스 모듈(500)이 배열된 방향을 제1 방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1 방향(12)과 수직한 방향을 제2 방향(14)이라 하고, 제1 방향(12) 및 제2 방향(14)에 모두 수직한 방향을 제3 방향(16)으로 정의한다.

인덱스 모듈(100)은 기판(W)이 수납된 용기(F)로부터 기판(W)을 처리 모듈(300)로 반송하고, 처리가 완료된 기판(W)을 용기(F)로 수납한다. 인덱스 모듈(100)의 길이 방향은 제2 방향(14)으로 제공된다. 인덱스 모듈(100)은 로드 포트(110)와 인덱스 프레임(130)을 가진다. 인덱스 프레임(130)을 기준으로 로드 포트(110)는 처리 모듈(300)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(F)는 로드 포트(110)에 놓인다. 로드 포트(110)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드 포트(110)는 제2 방향(14)을 따라 배치될 수 있다.

용기(F)로는 전면 개방 일체식 포드(Front Open Unified Pod, FOUP)와 같은 밀폐용 용기(F)가 사용될 수 있다. 용기(F)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드 포트(110)에 놓일 수 있다.

인덱스 프레임(130)의 내부에는 인덱스 로봇(132)이 제공된다. 인덱스 프레임(130) 내에는 길이 방향이 제2 방향(14)으로 제공된 가이드 레일(136)이 제공되고, 인덱스 로봇(132)은 가이드 레일(136) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(132)은 기판(W)이 놓이는 핸드를 포함하며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다.

처리 모듈(300)은 기판(W)에 대해 도포 공정 및 현상 공정을 수행할 수 있다. 처리 모듈(300)은 용기(F)에 수납된 기판(W)을 전달받아 기판 처리 공정을 수행할 수 있다. 처리 모듈(300)은 도포 블록(300a) 및 현상 블록(300b)을 가진다. 도포 블록(300a)은 기판(W)에 대해 도포 공정을 수행하고, 현상 블록(300b)은 기판(W)에 대해 현상 공정을 수행한다. 도포 블록(300a)은 복수 개가 제공되며, 이들은 서로 적층되게 제공된다. 현상 블록(300b)은 복수 개가 제공되며, 현상 블록(300b)들은 서로 적층되게 제공된다. 도 4의 실시 예에 의하면, 도포 블록(300a)은 2개가 제공되고, 현상 블록(300b)은 2개가 제공된다. 도포 블록(300a)들은 현상 블록(300b)들의 아래에 배치될 수 있다. 일 예에 의하면, 2개의 도포 블록(300a)들은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다. 또한, 2개의 현상 블록(300b)들은 서로 동일한 공정을 수행하며, 서로 동일한 구조로 제공될 수 있다.

도 5를 참조하면, 도포 블록(300a)은 열 처리 챔버(320), 반송 챔버(350), 액 처리 챔버(360), 그리고 버퍼 챔버(312, 316)를 가진다. 열 처리 챔버(320)는 기판(W)에 대해 열 처리 공정을 수행한다. 열 처리 공정은 냉각 공정 및 가열 공정을 포함할 수 있다. 액 처리 챔버(360)는 기판(W) 상에 액을 공급하여 액 막을 형성한다. 액 막은 포토레지스트 막 또는 반사 방지막일 수 있다. 반송 챔버(350)는 도포 블록(300a) 내에서 열 처리 챔버(320)와 액 처리 챔버(360) 간에 기판(W)을 반송한다.

반송 챔버(350)는 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 평행하게 제공된다. 반송 챔버(350)에는 반송 로봇(352)이 제공된다. 반송 로봇(352)은 열 처리 챔버(320), 액 처리 챔버(360), 그리고 버퍼 챔버(312, 316) 간에 기판을 반송한다. 일 예에 의하면, 반송 로봇(352)은 기판(W)이 놓이는 핸드를 가지며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)을 축으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 반송 챔버(350) 내에는 그 길이 방향이 제1 방향(12)과 평행하게 제공되는 가이드 레일(356)이 제공되고, 반송 로봇(352)은 가이드 레일(356) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다.

도 6은 반송 로봇의 핸드의 일 예를 보여주는 도면이다. 도 7을 참조하면, 핸드(352)는 베이스(352a) 및 지지돌기(352b)를 가진다. 베이스(352a)는 원주의 일부가 절곡된 환형의 링 형상을 가질 수 있다. 베이스(352a)는 기판(W)의 직경보다 큰 내경을 가진다. 지지돌기(352b)는 베이스(352a)로부터 그 내측으로 연장된다. 지지돌기(352b)는 복수 개가 제공되며, 기판(W)의 가장자리 영역을 지지한다. 일 예에 의하며, 지지돌기(352b)는 등간격으로 4개가 제공될 수 있다.

열 처리 챔버(320)는 복수 개로 제공된다. 열 처리 챔버(320)들은 제1 방향(12)을 따라 나열되게 배치된다. 열처리 챔버(320)들은 반송 챔버(350)의 일 측에 위치된다.

도 7은 도 5의 열 처리 챔버의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 8은 도 7의 열 처리 챔버의 정면도이다.

도 7과 도 8를 참조하면, 열 처리 챔버(320)는 하우징(321), 냉각 유닛(322), 가열 유닛(323), 그리고 반송 플레이트(324)를 가진다.

하우징(321)은 대체로 직육면체의 형상으로 제공된다. 하우징(321)의 측벽에는 기판(W)이 출입되는 반입구(미도시)가 형성된다. 반입구는 개방된 상태로 유지될 수 있다. 선택적으로 반입구를 개폐하도록 도어(도시되지 않음)가 제공될 수 있다. 냉각 유닛(322), 가열 유닛(323), 그리고 반송 플레이트(324)는 하우징(321) 내에 제공된다. 냉각 유닛(322) 및 가열 유닛(323)은 제2 방향(14)을 따라 나란히 제공된다. 일 예에 의하면, 냉각 유닛(322)은 가열 유닛(323)에 비해 반송 챔버(350)에 더 가깝게 위치될 수 있다.

냉각 유닛(322)은 냉각 판(322a)을 가진다. 냉각 판(322a)은 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가질 수 있다. 냉각 판(322a)에는 냉각 부재(322b)가 제공된다. 일 예에 의하면, 냉각 부재(322b)는 냉각 판(322a)의 내부에 형성되며, 냉각 유체가 흐르는 유로로 제공될 수 있다.

가열 유닛(323)은 가열 판(323a), 커버(323c), 그리고 히터(323b)를 가진다. 가열 판(323a)은 상부에서 바라볼 때 대체로 원형의 형상을 가진다. 가열 판(323a)은 기판(W)보다 큰 직경을 가진다. 가열 판(323a)에는 히터(323b)가 설치된다. 히터(323b)는 전류가 인가되는 발열 저항체로 제공될 수 있다. 가열 판(323a)에는 제3 방향(16)을 따라 상하 방향으로 구동 가능한 리프트 핀(323e)들이 제공된다. 리프트 핀(323e)은 가열 유닛(323) 외부의 반송 수단으로부터 기판(W)을 인수받아 가열 판(323a) 상에 내려놓거나 가열 판(323a)으로부터 기판(W)을 들어올려 가열 유닛(323) 외부의 반송 수단으로 인계한다. 일 예에 의하면, 리프트 핀(323e)은 3개가 제공될 수 있다. 커버(323c)는 내부에 하부가 개방된 공간을 가진다. 커버(323c)는 가열 판(323a)의 상부에 위치되며 구동기(323d)에 의해 상하 방향으로 이동된다. 커버(323c)가 이동되어 커버(323c)와 가열 판(323a)이 형성하는 공간은 기판(W)을 가열하는 가열 공간으로 제공된다.

반송 플레이트(324)는 대체로 원판 형상을 제공되고, 기판(W)과 대응되는 직경을 가진다. 반송 플레이트(324)의 가장자리에는 노치(324b)가 형성된다. 노치(324b)는 상술한 반송 로봇(352)의 핸드에 형성된 돌기(352b)와 대응되는 형상을 가질 수 있다. 또한, 노치(324b)는 핸드에 형성된 돌기(352b)와 대응되는 수로 제공되고, 돌기(352b)와 대응되는 위치에 형성된다. 핸드와 반송 플레이트(324)가 상하 방향으로 정렬된 위치에서 핸드와 반송 플레이트(324)의 상하 위치가 변경하면 핸드(354)와 반송 플레이트(324) 간에 기판(W)의 전달이 이루어진다. 반송 플레이트(324)는 가이드 레일(324d) 상에 장착되고, 구동기(324c)에 의해 가이드 레일(324d)을 따라 이동될 수 있다. 반송 플레이트(324)에는 슬릿 형상의 가이드 홈(324a)이 복수 개 제공된다. 가이드 홈(324a)은 반송 플레이트(324)의 끝 단에서 반송 플레이트(324)의 내부까지 연장된다. 가이드 홈(324a)은 그 길이 방향이 제2 방향(14)을 따라 제공되고, 가이드 홈(324a)들은 제1 방향(12)을 따라 서로 이격되게 위치된다. 가이드 홈(324a)은 반송 플레이트(324)와 가열 유닛(323) 간에 기판(W)의 인수인계가 이루어질 때 반송 플레이트(324)와 리프트 핀(323e)이 서로 간섭되는 것을 방지한다.

기판(W)의 냉각은 기판(W)이 놓인 반송 플레이트(324)가 냉각 판(322a)에 접촉된 상태에서 이루어진다. 냉각 판(322a)과 기판(W) 간에 열 전달이 잘 이루어지도록 반송 플레이트(324)는 열 전도성이 높은 재질로 제공된다. 일 예에 의하면, 반송 플레이트(324)는 금속 재질로 제공될 수 있다.

열 처리 챔버(320)들 중 일부의 열처리 챔버(320)에 제공된 가열 유닛(323)은 기판(W) 가열 중에 가스를 공급하여 포토레지스트의 기판(W) 부착율을 향상시킬 수 있다. 일 예에 의하면, 가스는 헥사메틸디실란(HMDS, hexamethyldisilane) 가스일 수 있다.

액 처리 챔버(360)는 복수 개로 제공된다. 액 처리 챔버(360)들 중 일부는 서로 적층되도록 제공될 수 있다. 액 처리 챔버(360)들은 반송 챔버(350)의 일 측에 배치된다. 액 처리 챔버(360)들은 제1 방향(12)을 따라 나란히 배열된다. 액 처리 챔버(360)들 중 어느 일부는 인덱스 모듈(100)과 인접한 위치에 제공된다. 이하, 이들 액 처리 챔버(360)를 전단 액 처리 챔버(362)(front liquid treating chamber)라 칭한다. 액 처리 챔버(360)들 중 다른 일부는 인터페이스 모듈(500)과 인접한 위치에 제공된다. 이하, 이들 액 처리 챔버(360)를 후단 액처리 챔버(364)(rear heat treating chamber)라 칭한다.

전단 액 처리 챔버(362)는 기판(W)상에 제1액을 도포하고, 후단 액 처리 챔버(364)는 기판(W) 상에 제2액을 도포한다. 제1액과 제2액은 서로 상이한 종류의 액일 수 있다. 일 실시 예에 의하면, 제1액은 반사 방지막이고, 제2액은 포토레지스트이다. 포토레지스트는 반사 방지막이 도포된 기판(W) 상에 도포될 수 있다. 선택적으로 제1액은 포토레지스트이고, 제2액은 반사 방지막일 수 있다. 이 경우, 반사 방지막은 포토레지스트가 도포된 기판(W) 상에 도포될 수 있다. 선택적으로 제1액과 제2액은 동일한 종류의 액이고, 이들은 모두 포토레지스트일 수 있다.

이하에서는, 본 발명의 공정 챔버들 중 회전하는 기판 상에 처리액을 공급하여 기판을 처리하는 기판 처리 장치의 구조에 대해 상세히 설명한다. 아래에서는 기판 처리 장치가 포토 레지스트를 도포하는 장치인 경우를 예로 들어 설명한다. 그러나, 기판 처리 장치는 회전하는 기판(W)에 보호막 또는 반사 방지막과 같은 막을 형성하는 장치일 수 있다. 또한, 선택적으로 기판 처리 장치는 기판(W)에 현상액과 같은 처리액을 공급하는 장치일 수 있다.

도 9는 본 발명의 실시예에 따른 회전되는 기판에 액을 공급하여 기판을 처리하는 기판 처리 장치의 구조를 개략적으로 보여주는 단면도이다.

도 9를 참조하면, 기판 처리 장치는 하우징(1100), 처리 용기(1200), 기판 지지 유닛(1400), 액 공급 유닛(1600), 그리고 배기 유닛(1900)을 포함한다.

하우징(1100)은 내부 공간(1120)을 가지는 직사각의 통 형상으로 제공된다. 하우징(1100)의 일측에는 개구(1102)가 형성된다. 개구(1102)는 기판(W)이 반출입되는 통로로 기능한다. 개구(1100)에는 도어(도시되지 않음)가 설치되며, 도어는 개구를 개폐한다.

하우징(1100)의 내부 공간(1120)에는 처리 용기(1200)가 제공된다. 처리 용기(1200)는 내부 공간(1280)을 가진다. 내부 공간(1280)은 상부가 개방되도록 제공된다.

지지 유닛(1400)은 처리 용기(1200)의 내부 공간(1280) 내에서 기판(W)을 지지한다. 지지 유닛(1400)은 지지판(1420), 회전축(1440), 그리고 구동기(1460)를 가진다. 지지판(1420)은 그 상부면이 원형으로 제공된다. 지지판(1420)은 기판(W)보다 작은 직경을 가진다. 지지판(1420)은 진공압에 의해 기판(W)을 지지하도록 제공된다. 선택적으로 지지판(1420)은 기판(W)을 지지하는 기계적 클램핑 구조를 가질 수 있다. 지지판(1420)의 저면 중앙에는 회전축(1440)이 결합되고, 회전축(1440)에는 회전축(1440)에 회전력을 제공하는 구동기(1460)가 제공된다. 구동기(1460)는 모터일 수 있다.

액 공급 유닛(1600)은 기판(W) 상에 처리액을 공급한다. 처리액을 포토 레지스트와 같은 도포액일 수 있다. 액 공급 유닛(1600)은 노즐(1620), 노즐 이동 부재(1640) 및 그리고 액 공급원(도시되지 않음)을 가진다. 노즐(1620)은 하나 또는 복수 개로 제공되며, 기판(W)으로 처리액을 토출한다. 노즐(1620)은 노즐 이동 부재(1640)에 지지된다. 노즐 이동 부재(1640)는 공정 위치 및 대기 위치 간에 노즐(1620)을 이동시킨다. 공정 위치에서 노즐(1620)은 지지판(1420)에 놓인 기판(W)으로 처리액을 공급하고, 처리액의 공급을 완료한 노즐(1620)은 대기 위치에서 대기한다. 대기 위치에서 노즐(1620)은 홈 포트(도면 미도시)에서 대기하며, 홈 포트는 하우징(1100) 내에서 처리 용기(1200)의 바깥쪽에 위치한다.

하우징(1100)의 상벽에는 내부 공간으로 하강기류를 공급하는 팬필터 유닛(1260)이 배치된다. 팬필터 유닛(1260)은 외부의 공기를 내부 공간으로 도입하는 팬과 외부의 공기를 여과하는 필터를 가진다.

하우징(1100)에서 처리 용기(1200)의 바깥쪽에는 처리 용기(1200)와 하우징(1100) 사이의 공간으로 공급되는 기류를 배기하는 배기관(1140)이 연결된다.

처리 용기(1200)는 외측 컵(1220)과 내측 컵(1240)을 가진다.

외측 컵(1220)은 지지 유닛(1400) 및 이에 지지된 기판(W)을 감싸도록 제공된다. 외측 컵(1220)은 바닥벽(1222), 측벽(1224), 그리고 상벽(1226)을 가진다. 외측 컵(1220)의 내부는 상술한 내부 공간(1280)으로 제공된다.

바닥벽(1222)은 원형으로 제공되며, 중앙에 개구를 가진다. 측벽(1224)은 바닥벽(1222)의 외측단으로부터 상부로 연장된다. 측벽(1224)은 링 형상으로 제공되며, 바닥벽(1222)에 수직하게 제공된다. 일 예에 의하면 측벽(1224)은 지지판(1420)의 상면과 동일 높이까지 연장되거나, 지지판(1420)의 상면보다 조금 낮은 높이까지 연장된다. 상벽(1226)은 링 형상을 가지며, 중앙에 개구를 가진다. 상벽(1226)은 측벽(1224)의 상단으로부터 외측 컵(1220)의 중심축을 향해 상향 경사지게 제공된다.

내측 컵(1240)은 외측 컵(1220)의 내측에 위치된다. 내측 컵(1240)은 내벽(1242), 외벽(1244), 그리고 상벽(1246)을 가진다. 내벽(1242)은 상하방향으로 관통된 관통공을 가진다. 내벽(1242)은 구동기(1460)를 감싸도록 배치된다. 내벽(1242)은 구동기(1460)가 처리 공간 내 기류에 노출되는 것을 최소화한다. 지지 유닛(1400)의 회전축(1440) 또는/및 구동기(1460)는 관통공을 통해 상하 방향으로 연장된다. 내벽(1242)의 하단은 외측 컵(1220)의 바닥벽(1222)에 위치될 수 있다. 외벽(1244)은 내벽(1242)과 이격되도록, 그리고 내벽(1242)을 감싸도록 배치된다. 외벽(1244)은 외측 컵(1220)의 측벽(1224)과 이격되게 위치된다. 내벽(1242)은 외측 컵(1220)의 바닥벽(1222)으로부터 상부로 이격되게 배치된다. 상벽(1246)은 외벽(1244)의 상단과 내벽(1242)의 상단을 연결한다. 상벽(1246)은 링 형상을 가지며, 지지판(1420)을 감싸도록 배치된다. 일 예에 의하면, 상벽(1246)은 위로 볼록한 형상을 가진다. 상벽(1246)은 외벽(1244)의 상단으로부터 회전축(1440)을 향해 상향 경사진 외측 상벽(1246a)과, 이로부터 내벽(1242)의 상단까지 하향 경사진 내측 상벽(1246b)을 가진다. 지지판(1420)은 내측 상벽(1246b)에 의해 둘러싸인 공간에 위치될 수 있다. 일 예에 의하면, 상벽(1226) 중 최정점은 지지판(1420)보다 외측에 위치되고, 지지 유닛(1400)에 지지된 기판(W)의 끝단보다 내측에 위치될 수 있다.

처리 용기(1200)의 내부 공간(1280)에는 기액 분리판(1230)이 제공될 수 있다. 기액 분리판(1230)은 외측 컵(1220)의 바닥벽(1222)으로부터 상부로 연장되게 제공될 수 있다. 기액 분리판(1230)은 링 형상으로 제공될 수 있다. 기액 분리판(1230)은 상부에서 바라볼 때 외측 컵(1220)의 측벽(1224)과 내측 컵(1240)의 외벽(1244) 사이에 위치될 수 있다. 선택적으로 기액 분리판(1230)은 상부에서 바라볼 때 내측 컵(1240)의 외벽(1244)과 중첩되게 위치되거나, 내측 컵(1240)의 외벽(1244)보다 내측에 위치될 수 있다. 일 예에 의하면, 기액 분리판(1230)의 상단은 내측 컵(1240)의 외벽(1244)의 하단보다 낮은 위치에 위치될 수 있다.

외측 컵(1220)의 바닥벽(1222)에는 처리액을 배출하는 배출관(1250)이 연결된다. 배출관(1250)은 외측 컵(1220)의 측벽(1224)과 내측 컵(1240)의 외벽(1244) 사이로 유입된 처리액을 처리 용기(1200)의 외부로 배출한다. 일 예에 의하면, 외측 컵(1220)의 측벽(1224)과 기액 분리판(1230) 사이의 공간은 처리액을 배출하는 배출 공간으로 제공되고, 배출관(1250)은 배출 공간에서 처리액을 배출하도록 제공된다. 외측 컵(1220)의 측벽(1224)과 내측 컵(1240)의 외벽(1244) 사이의 공간으로 흐르는 기류는 외측 컵(1220)의 측벽(1224)과 바닥벽(1222), 그리고 기액 분리판(1230)에 의해 둘러싸인 공간으로 유입되어 배기된다. 이 과정에서 기류 내에 함유된 처리액은 배출 공간에서 배출관(1250)을 통해 처리 용기(1200)의 외부로 배출되고, 기류는 처리 용기(1200)의 배기 유닛(1900)에 의해 배기된다.

배출관(1250)은 하나 또는 복수 개가 제공될 수 있다. 배출관(1250)이 복수 개가 제공되는 경우, 배출관(1250)은 내측 컵(1240)의 원주 방향을 따라 복수 개 제공될 수 있다.

기판 처리 장치(1000)은 승강 유닛(1700)을 포함한다. 승강 유닛(1700)은 처리 용기(1200)와 지지 유닛(1400) 간의 상대 높이를 조절한다. 승강 유닛(1700)은 처리 용기(1200)를 상하 방향으로 이동시킨다. 구체적으로, 승강 유닛(1700)은 지지판(1420)과 외측 컵(1220)의 상대 높이를 조절할 수 있다. 일 예에 의하면 승강 유닛(1700)은 외측 컵(1220)을 상하 방향으로 승하강시킬 있다. 예컨대, 지지판(1420)에 기판(W)을 로딩하거나 지지판(1420)으로부터 기판(W)을 언로딩할 때 기판(W)을 반송하는 반송부재가 외측 컵(1220)과 간섭하는 것을 방지하도록 지지판(1420)은 외측 컵(1220)의 상단보다 높은 높이에 위치한다. 또한, 공정을 진행시에는 기판(W)이 처리 공간 내에 위치하도록 지지판(1420)이 외측 컵(1220)의 상단부다 낮은 높이에 위치한다.

승강 유닛(1700)은 브라켓(1720), 이동축(1740), 그리고 구동기(1760)을 포함한다. 브라켓(1720)은 처리 용기(1200)와 이동축(1740)을 연결한다. 브라켓(1720)은 처리 용기(1200)의 외측 컵(1220)에 고정된다. 브라켓(1720)은 외측 컵(1220)의 측벽(1224)에 고정 설치된다. 이동축(1740)은 그 길이 방향이 상하 방향을 향하도록 제공된다. 이동축(1740)의 상단은 브라켓(1720)에 고정 결합된다. 이동축(1740)은 구동기(1760)로부터 동력을 제공받을 수 있다. 이동축(1740)은 구동기(1760)로부터 상하 방향으로 이동되고, 처리 용기(1200)는 이동축(1740)과 함께 승강 이동된다. 구동기(1760)은 이동축(1740)에 동력을 제공한다. 구동기(1760)은 이동축(1740)이 왕복 직선 운동 또는 승강 운동되도록 동력을 제공한다. 예건대, 구동기(1760)는 실린더 또는 모터일 수 있다.

도 10은 도 9의 승강 유닛의 이동축를 보여주는 단면도이고, 도 11은 도 10의 이동축의 고정 부재를 보여주는 사시도이고, 도 12 및 도 13은 도 10의 승강 유닛의 동작도이다.

도 10 및 도 11을 참고하면, 이동축(1740)은 고정 부재(1741), 이동 부재(1742), 그리고 케이블 부재(1746)를 포함한다. 고정 부재(1741)는 엘(L)자 브라켓으로 제공될 수 있다. 고정 부재(1741)는 처리 용기(1200)의 승강 또는 하강시에도 이동되지 않는다. 즉, 고정 부재(1741)는 처리 용기(1200)의 승강 또는 하강시에도 그 위치가 고정되게 제공된다. 고정 부재(1741)에는 케이블 부재(1746)의 일단이 고정 결합된다. 고정 부재(1741)의 상단에는 케이블 부재(1746)의 일단이 고정 결합된다. 고정 부재(1741)은 케이블 부재(1746)를 지지한다. 예건대, 도 12를 참고하면, 고정 부재(1741)은 처리 용기(1200) 또는 이동 부재(1742)가 하강할 경우, 고정 부재(1741)의 상하 방향으로의 길이만큼 케이블 부재(1746)을 지지할 수 있다. 또한, 도 13을 참고하면, 처리 용기(1200) 또는 이동 부재(1742)가 상승할 경우, 케이블 부재(1746)의 일단은 고정 부재(1741)의 상단에 고정되어 케이블 부재(1746)의 스트로크 길이(stroke length)를 제한할 수 있다. 즉, 고정 부재(1741)는 처리 용기(1200) 또는 이동 부재(1742)가 승하강됨에 따라 케이블 부재(1746)의 지지 및 스크로크 길이를 제한하고, 이를 통해, 케이블 부재(1746)가 반복 이동되더라도 케이블 부재(1746)의 변형 및 단선을 방지할 수 있다.

이동 부재(1742)는 구동기(1760)으로부터 동력을 제공받아 승강 이동된다. 이동 부재(1742)는 구동기(1760)으로부터 동력을 제공받아 처리 용기(1200)를 승강 이동시킨다. 즉, 처리 용기(1200)는 이동 부재(1742)와 함께 승강 또는 하강된다. 이동 부재(1742)에는 케이블 부재(1746)의 타단이 고정 결합된다. 이를 통해, 이동 부재(1742)의 승강 또는 하강 이동에 의해 케이블 부재(1746)의 타단도 함께 승강 또는 하강된다. 케이블 부재(1746)의 일단이 고정 부재(1741)에 고정되고, 타단이 이동 부재(1742)와 함께 이동됨에 따라 처리 용기(1200) 또는 이동 부재(1742)의 승하강 길이를 제한할 수 있다.

이동 부재(1742)는 고정 부재(1741)과 대향하는 제1면과, 제1면의 반대편에 배치되는 제2면과, 제1면와 제2면을 연결하는 제3면을 포함한다. 제1면에는 후술하는 고정편(1744)와 결합편(1745)가 상하 방향으로 이격되어 배치된다. 제1면은 고정 부재(1741)과 상하 방향에 수직한 수평 방향으로 이격되어 배치된다. 고정편(1744)은 케이블 부재(1746)의 타단을 고정한다. 일 예로, 고정편(1744)는 U자형 브라켓 형태로 제공될 수 있다. 고정편(1744)에 의해 케이블 부재(1746)이 이동 부재(1742)와 함께 승강 또는 하강이동 가능하다. 고정편(1744)는 결합편(1744)보다 높은 위치에 제공된다.

결합편(1745)은 이동 부재(1742)의 제1면 상에서 일정 각도로 회전 가능하게 제공된다. 도 11을 참조하면, 이동 부재(1742)는 이동 부재(1742)의 제1면에 결합되는 베이스(1745a)와, 베이스(1745a)로부터 돌출되고, 내부에 케이블 부재(1746)이 삽입 및 관통괴는 홀이 형성되는 돌출부(1745b)와, 베이스(1745a)에 제공되고 결합편(1745)의 회전 중심이 되는 힌지축(1745c)을 포함한다. 베이스(1745a)와 돌출부(1745b)는 힌지축(1745c)을 중심으로 함께 회전된다. 힌지축(1745c)는 베이스(1745a)와 이동 부재(1742)의 제1면 사이에 제공된다. 일 예로, 힌지축(1745c)은 이동 부재(1742)의 제1면 상에 형성되는 홈에 회전 가능하게 삽입될 수 있다.

이동 부재(1742)의 제3면에는 경사면(1743)이 형성된다. 경사면(1743)은 제2면의 끝단과 제1면의 끝단을 연결한다. 경사면(1743)은 제2면으로부터 제1면을 향하는 방향으로 상향 경사지게 제공된다. 경사면(1743) 상에서 제1면과 제2면 사이의 두께는, 이동 부재(1742)의 길이 방향을 따라 아래로 갈수록 얇아지도록 제공된다. 케이블 부재(1746)와 경사면(1743)과 경사면 사이의 거리는 이동 부재(1742)의 길이 방향을 따라 아래로 갈수록 증가되도록 제공된다. 이를 통해, 고정편(1744)에 고정되고, 결합편(1745)의 돌출부(1745b)의 홀을 관통한 케이블 부재(1746)가 이동 부재(1742)의 하단부 모서리와 반복 접촉, 충돌되어 단선되는 현상을 최소화할 수 있다.

베이스(1745a)의 적어도 일부는 경사면(1743)과 중첩되게 제공된다. 이를 통해, 결합편(1745)가 힌지축(1745c)를 중심으로 소정 간격 회전 가능하게 제공될 수 있다. 도 12는 처리 용기(1200) 또는 이동 부재(1742)가 가장 낮은 위치까지 하강했을 때의 이동축(1740)을 도시한 도면이고, 도 13은 처리 용기(1200) 또는 이동 부재(1742)가 가장 높은 위치까지 승강했을 때의 이동축(1740)을 도시한 도면이다. 도 12를 참조하면, 처리 용기(1200) 또는 이동 부재(1742)가 가낭 낮은 위치로 하강했을 경우, 결합편(1745)는 힌지축(1745c)를 중심으로 회전되지 않는다. 이때, 케이블 부재(1746)가 이동 부재(1742)의 제3면 또는 경사면(1743) 부근에서 휨 변형없이 평평한 상태를 유지한다. 도 13을 참고하면, 처리 용기(1200) 또는 이동 부재(1742)가 가장 높은 위치로 하강했을 경우, 케이블 부재(1746)은 경사면(1743)을 향하는 방향으로 휘어지게 된다. 이때, 결합편(1745)은 케이블 부재(1746)의 곡률이 변형되는 방향을 따나 힌지축(1745c)을 중심으로 소정 각도로 회전된다. 도 13을 참고하면, 결합편(1745)운 시계 방향으로 소정 간격 회전되어 돌출부(1745b)의 홀을 관통한 케이블 부재(1746)가 제3면 또는 경사면(1743)을 향하는 방향으로 휘어지더라도 케이블 부재(1746)에 가해지는 피로 응력을 최소화시킬 수 있어 단선을 최소화할 수 있다. 이 경우에도, 케이블 부재(1746)는 제3면 또는 경사면(1743)과 접촉되지 않으므로, 케이블 부재(1746)의 단선을 방지할 수 있다.

배기 유닛(1900)은 배기관을 포함한다. 배기관은 처리 용기(1200)의 배기 공간으로 유입된 기류를 처리 용기(1200)의 외부로 배기한다. 배기관에는 배기 공간 내의 기류를 강제 흡입하도록 압력 조절 부재(도시되지 않음)가 설치된다. 압력 조절 부재는 펌프일 수 있다.

다시 도 4 및 도 5를 참조하면, 전단 액 처리 챔버(362)는 기판(W)상에 제1액을 도포하고, 후단 액 처리 챔버(364)는 기판(W) 상에 제2액을 도포한다. 제1액과 제2액은 서로 상이한 종류의 액일 수 있다. 일 실시 예에 의하면, 제1액은 반사 방지막이고, 제2액은 포토레지스트이다. 포토레지스트는 반사 방지막이 도포된 기판(W) 상에 도포될 수 있다. 선택적으로 제1액은 포토레지스트이고, 제2액은 반사 방지막일 수 있다. 이 경우, 반사 방지막은 포토레지스트가 도포된 기판(W) 상에 도포될 수 있다. 선택적으로 제1액과 제2액은 동일한 종류의 액이고, 이들은 모두 포토레지스트일 수 있다.

현상 블록(300b)은 도포 블록(300a)과 동일한 구조를 가지며, 현상 블록(300b)에 제공된 액 처리 챔버는 기판 상에 현상액을 공급한다.

인터페이스 모듈(500)은 처리 모듈(300)을 외부의 노광 장치(700)와 연결한다. 인터페이스 모듈(500)은 인터페이스 프레임(510), 부가 공정 챔버(520), 인터페이스 버퍼(530), 그리고 인터페이스 로봇(550)을 가진다.

인터페이스 프레임(510)의 상단에는 내부에 하강기류를 형성하는 팬필터유닛이 제공될 수 있다. 부가 공정 챔버(520), 인터페이스 버퍼(530), 그리고 인터페이스 로봇(550)은 인터페이스 프레임(510)의 내부에 배치된다. 부가 공정 챔버(520)는 도포 블록(300a)에서 공정이 완료된 기판(W)이 노광 장치(700)로 반입되기 전에 소정의 부가 공정을 수행할 수 있다. 선택적으로 부가 공정 챔버(520)는 노광 장치(700)에서 공정이 완료된 기판(W)이 현상 블록(300b)으로 반입되기 전에 소정의 부가 공정을 수행할 수 있다. 일 예에 의하면, 부가 공정은 기판(W)의 에지 영역을 노광하는 에지 노광 공정, 또는 기판(W)의 상면을 세정하는 상면 세정 공정, 또는 기판(W)의 하면을 세정하는 하면 세정공정일 수 있다. 부가 공정 챔버(520)는 복수 개가 제공되고, 이들은 서로 적층되도록 제공될 수 있다. 부가 공정 챔버(520)는 모두 동일한 공정을 수행하도록 제공될 수 있다. 선택적으로 부가 공정 챔버(520)들 중 일부는 서로 다른 공정을 수행하도록 제공될 수 있다.

인터페이스 버퍼(530)는 도포 블록(300a), 부가 공정 챔버(520), 노광 장치(700), 그리고 현상 블록(300b) 간에 반송되는 기판(W)이 반송도중에 일시적으로 머무르는 공간을 제공한다. 인터페이스 버퍼(530)는 복수 개가 제공되고, 복수의 인터페이스 버퍼(530)들은 서로 적층되게 제공될 수 있다.

일 예에 의하면, 반송 챔버(350)의 길이 방향의 연장선을 기준으로 일 측면에는 부가 공정 챔버(520)가 배치되고, 다른 측면에는 인터페이스 버퍼(530)가 배치될 수 있다.

인터페이스 로봇(550)은 도포 블록(300a), 부가 공정 챔버(520), 노광 장치(700), 그리고 현상 블록(300b) 간에 기판(W)을 반송한다. 인터페이스 로봇(550)은 기판(W)을 반송하는 반송 핸드를 가질 수 있다. 인터페이스 로봇(550)은 1개 또는 복수 개의 로봇으로 제공될 수 있다. 일 예에 의하면, 인터페이스 로봇(550)은 제1로봇(552) 및 제2로봇(554)을 가진다. 제1로봇(552)은 도포 블록(300a), 부가 공정 챔버(520), 그리고 인터페이스 버퍼(530) 간에 기판(W)을 반송하고, 제2로봇(554)은 인터페이스 버퍼(530)와 노광 장치(700) 간에 기판(W)을 반송하고, 제2로봇(4604)은 인터페이스 버퍼(530)와 현상 블록(300b) 간에 기판(W)을 반송하도록 제공될 수 있다.

제1로봇(552) 및 제2로봇(554)은 각각 기판(W)이 놓이는 반송 핸드를 포함하며, 핸드는 전진 및 후진 이동, 제3 방향(16)에 평행한 축을 기준으로 한 회전, 그리고 제3 방향(16)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다.

본 발명은, 이동 부재(1742)의 하부면에 경사면(17432)을 제공하고, 이동 부재(1742)에 힌지 결합되어 케이블 부재(1746)의 곡률 변형 방향에 따라 케이블 부재(1746)를 가이드하는 결합편(1745)을 제공함으로써, 케이블 부재(1746)의 구동시 곡률 변화에 따른 피로 응력을 최소화할 수 있다. 또한, 케이블 부재(1746)의 구동시, 이동 부재(1742)의 경사면(1743)을 통해 케이블 부재(1746)와 이동 부재 간의 간섭을 최소화할 수 있다. 또한, 힌지 결합되는 결합편(1745)이 케이블 부재(1746)의 곡률 변형 방향에 맞춰 소정 각도로 회전됨에 따라 케이블 부재(1746)의 유동성이 증대되므로, 케이블 부재(1746)의 가동 범위 또는 곡률 변화 범위를 최대화할 수 있다. 또한, 경사면(1743)으로 인하여 케이블 부재(1746)의 구동시 이동 부재와 케이블 부재(1746) 간의 충돌 및/또는 접촉을 방지할 수 있어 케이블 부(1746)재의 단선을 방지할 수 있다. 또한, 케이블 부재(1746)의 구동시, 케이블 부재(1746)가 휘더라도 결합편(1745)이 케이블 부재(1746)의 휘는 방향에 다라 소정 각도록 회전되므로, 케이블 부재(1746)의 휨 변형을 최소화할 수 있어 케이블 부재(1746)의 단선을 방지할 수 있다. 또한, 케이블 부재(1746)의 단선을 방지함에 따라 승강 유닛(1700)의 수명이 증대될 수 있다.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.

1000: 기판 처리 장치
1100: 하우징 1200: 처리 용기
1400: 지지 유닛 1600: 액 공급 유닛
1700: 승강 유닛 1720: 브라켓
1740: 이동축 1741: 고정 부재
1742: 이동 부재 1743: 경사면
1744: 고정편 1745: 결합편
1746: 케이블 부재 1760: 구동기

Claims

처리 용기를 승강시키는 승강 유닛에 있어서,
처리 용기에 고정 결합되는 브라켓과;
일단이 상기 브라켓에 결합되어 상기 처리 용기를 승강시키는 이동축과;
상기 이동축에 동력을 공급하는 구동기를 포함하고,
상기 이동축은,
고정 부재와;
상기 고정 부재에 대하여 승강 이동되는 이동 부재와;
상기 고정 부재와 상기 이동 부재 간에 연결되는 케이블 부재를 포함하고,
상기 이동 부재에는,
상기 이동 부재가 승강 이동됨에 따라 상기 케이블 부재의 곡률 변화 방향을 따라 상기 케이블 부재를 가이드하는 결합편이 제공되는 승강 유닛.
제1항에 있어서,
상기 이동 부재는,
상기 고정 부재와 대향하는 제1면과, 상기 제1면의 반대편에 제공되는 제2면과, 상기 제1면과 상기 제2면을 연결하는 제3면을 포함하고,
상기 결합편은 상기 제1면에 제공되는 승강 유닛.
제2항에 있어서,
상기 이동 부재의 상기 제3면은 경사면으로 제공되는 승강 유닛.
제3항에 있어서,
상기 경사면은,
아래로 갈수록 상기 이동 부재의 상기 제1면으로부터 상기 제2면을 향하는 방향으로 하향 경사지게 제공되는 승강 유닛.
제2항에 있어서,
상기 결합편은,
상기 이동 부재에 제공되는 힌지축과,
상기 힌지축에 힌지 결합되어 상기 힌지축을 중심으로 소정 각도로 회전 가능하도록 상기 제1면에 결합되는 베이스와,
상기 베이스로부터 돌출되고, 내부에 상기 케이블 부재가 관통되는 홀이 형성되며, 상기 베이스와 함께 회전되는 돌출부를 포함하는 승강 유닛.
제3항에 있어서,
상기 결합편은 상기 경사면의 적어도 일부와 중첩되게 제공되는 승강 유닛.
제3항에 있어서,
상기 케이블 부재와 상기 경사면 사이의 거리는 아래로 갈수록 커지도록 제공되는 승강 유닛.
제2항에 있어서,
상기 이동 부재는,
상기 이동 부재의 상기 제1면에 제공되고, 상기 케이블의 일단부를 고정하는 고정편을 더 포함하고,
상기 고정편은 상기 결합편보다 높은 위치에 제공되는 승강 유닛.
제5항에 있어서,
상기 베이스는,
상기 이동 부재가 승강 이동됨에 따라 상기 케이블 부재의 곡률 변화 방향을 따라 소정 각도로 회전되는 승강 유닛.
기판을 처리하는 장치에 있어서,
내부 공간을 가지는 처리 용기와;
상기 내부 공간 내에서 기판을 지지 및 회전시키는 지지판을 가지는 지지 유닛과;
상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 액 공급 유닛과,
상기 처리 용기에 결합되어 상기 처리 용기를 승강 이동시키는 승강 유닛을 포함하되,
상기 승강 유닛은,
처리 용기에 고정 결합되는 브라켓과;
일단이 상기 브라켓에 결합되어 상기 처리 용기를 승강시키는 이동축과;
상기 이동축에 동력을 공급하는 구동기를 포함하고,
상기 이동축은,
고정 부재와;
상기 고정 부재에 대하여 승강 이동되는 이동 부재와;
상기 고정 부재와 상기 이동 부재 간에 연결되는 케이블 부재를 포함하고,
상기 이동 부재는,
상기 고정 부재와 대향하는 제1면과, 상기 제1면의 반대편에 제공되는 제2면과, 상기 제1면과 상기 제2면을 연결하며 경사면으로 제공되는 제3면을 포함하고,
상기 경사면은,
아래로 갈수록 상기 이동 부재의 상기 제1면으로부터 상기 제2면을 향하는 방향으로 하향 경사지게 제공되는 기판 처리 장치.
제10항에 있어서,
상기 이동 부재에는,
상기 이동 부재가 승강 이동됨에 따라 상기 케이블 부재의 곡률 변화 방향을 따라 상기 케이블 부재를 가이드하는 결합편이 제공되는 기판 처리 장치.
제11항에 있어서,
상기 결합편은,
상기 이동 부재에 제공되는 힌지축과,
상기 힌지축에 힌지 결합되어 상기 힌지축을 중심으로 소정 각도로 회전 가능하도록 상기 제1면에 결합되는 베이스와,
상기 베이스로부터 돌출되고, 내부에 상기 케이블 부재가 관통되는 홀이 형성되며, 상기 베이스와 함께 회전되는 돌출부를 포함하는 기판 처리 장치.
제12항에 있어서,
상기 베이스는,
상기 이동 부재가 승강 이동됨에 따라 상기 케이블 부재의 곡률 변화 방향을 따라 소정 각도로 회전되는 기판 처리 장치.
제12항에 있어서,
상기 결합편은 상기 경사면의 적어도 일부와 중첩되게 제공되는 기판 처리 장치.
제10항에 있어서,
상기 지지 유닛은,
기판을 지지하는 지지판과;
상기 지지판을 회전시키는 회전축과;
상기 회전축에 결합되어 상기 회전축을 회전력을 제공하는 구동기를 포함하고,
상기 처리 용기는,
상기 내부 공간을 제공하는 외측 컵과;
상기 외측 컵과 이격되도록 상기 내부 공간에 배치되는, 그리고 상기 회전축 또는 상기 구동기를 감싸는 내측 컵을 포함하며,
상기 승강 유닛은 상기 외측 컵의 외벽에 제공되는 기판 처리 장치.
제10항에 있어서,
상기 승강 유닛은,
상기 처리 용기와 상기 지지 유닛 간의 상대 높이를 조절하는 기판 처리 장치.
기판을 처리하는 장치에 있어서,
내부 공간을 가지는 처리 용기와;
상기 내부 공간 내에서 기판을 지지 및 회전시키는 지지판을 가지는 지지 유닛과;
상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 액 공급 유닛과,
상기 처리 용기에 결합되어 상기 처리 용기를 승강 이동시키는 승강 유닛을 포함하되,
상기 승강 유닛은,
처리 용기에 고정 결합되는 브라켓과;
일단이 상기 브라켓에 결합되어 상기 처리 용기를 승강시키는 이동축과;
상기 이동축에 동력을 공급하는 구동기를 포함하고,
상기 이동축은,
고정 부재와;
상기 고정 부재에 대하여 승강 이동되는 이동 부재와;
상기 고정 부재와 상기 이동 부재 간에 연결되는 케이블 부재를 포함하고,
상기 이동 부재는,
상기 고정 부재와 대향하는 제1면과, 상기 제1면의 반대편에 제공되는 제2면과, 상기 제1면과 상기 제2면을 연결하고 경사면으로 제공되는 제3면을 포함하고
상기 이동 부재에는,
상기 이동 부재가 승강 이동됨에 따라 상기 케이블 부재의 곡률 변화 방향을 따라 상기 케이블 부재를 가이드하는 결합편이 제공되고,
상기 결합편은,
상기 이동 부재에 제공되는 힌지축과,
상기 힌지축에 힌지 결합되어 상기 힌지축을 중심으로 소정 각도로 회전 가능하도록 결합되는 베이스와,
상기 베이스로부터 돌출되고, 내부에 상기 케이블 부재가 관통되는 홀이 형성되며, 상기 베이스와 함께 회전되는 돌출부를 포함하는 기판 처리 장치.