KR20220060476A - Polyimide film WITH HIGH DIMENSIONAL STABILTY and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a polyimide film with excellent dimensional stability which has a thermal expansion coefficient of 1 ppm/℃ or more and 5 ppm/℃ or less, an elastic modulus of 9 GPa or more and 11.5 GPa or less, and a glass transition temperature of 340 ℃ or more and 400 ℃ or less and a preparation manufacturing thereof.

Description

높은 치수 안정성을 가지는 폴리이미드 필름 및 그 제조방법{Polyimide film WITH HIGH DIMENSIONAL STABILTY and manufacturing method thereof}Polyimide film with high dimensional stability and manufacturing method thereof

본 발명은 높은 치수 안정성을 가지는 폴리이미드 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 열적 치수 안정성과 수분에 대한 치수 안정성이 모두 높은 폴리이미드 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polyimide film having high dimensional stability, and more particularly, to a polyimide film having high thermal dimensional stability and high dimensional stability against moisture, and a method for manufacturing the same.

폴리이미드(polyimide, PI)는 강직한 방향족 주쇄와 함께 화학적 안정성이 매우 우수한 이미드 고리를 기초로 하여, 유기 재료들 중에서도 최고 수준의 내열성, 내약품성, 전기 절연성, 내화학성, 내후성을 가지는 고분자 재료이다. Polyimide (PI) is a polymer material with the highest level of heat resistance, chemical resistance, electrical insulation, chemical resistance, and weather resistance among organic materials based on an imide ring with excellent chemical stability along with a rigid aromatic main chain. am.

폴리이미드 필름은 전술한 특성들이 요구되는 다양한 전자 디바이스의 소재로서 각광받고 있다.The polyimide film is spotlighted as a material for various electronic devices requiring the above-described properties.

폴리이미드 필름이 적용되는 미소 전자 부품의 예로는 전자제품의 경량화와 소형화에 대응 가능하도록 회로 집적도가 높고 유연한 박형 회로기판을 들 수 있으며, 폴리이미드 필름은 특히 박형 회로기판의 절연필름으로 널리 이용되고 있다.Examples of microelectronic components to which the polyimide film is applied include thin circuit boards that have high circuit integration and are flexible to respond to weight reduction and miniaturization of electronic products. there is.

상기 박형 회로기판은, 절연필름 상에 금속박을 포함하는 회로가 형성되어 있는 구조가 일반적이며, 이러한 박형 회로기판을 넓은 의미로서 연성 금속박 적층판(Flexible Metal Foil Clad Laminate)이라 지칭하고 금속박으로 얇은 구리판을 이용할 때에는 보다 좁은 의미에서 연성 동박 적층판(Flexible Copper Clad Laminate; FCCL)으로 지칭하기도 한다.The thin circuit board generally has a structure in which a circuit including a metal foil is formed on an insulating film. In a broad sense, such a thin circuit board is called a Flexible Metal Foil Clad Laminate, and a thin copper plate is made of metal foil. When used, it is also referred to as Flexible Copper Clad Laminate (FCCL) in a narrower sense.

연성 금속박 적층판의 제조 방법으로는, 예를 들면 (i) 금속박 상에 폴리이미드의 전구체인 폴리아믹산을 유연(casting), 또는 도포한 후, 이미드화하는 캐스팅법, (ii) 스퍼터링(Sputtering)에 의해 폴리이미드 필름 상에 직접 금속층을 설치하는 메탈라이징법, 및 (iii) 열가소성 폴리이미드를 통해 폴리이미드 필름과 금속박을 열과 압력으로 접합시키는 라미네이트법을 들 수 있다.As a manufacturing method of a flexible metal foil laminate, for example, (i) a casting method in which polyamic acid, a precursor of polyimide, is cast or coated on a metal foil, and then imidized, (ii) sputtering a metallizing method in which a metal layer is directly provided on the polyimide film by the method;

특히, 메탈라이징법은 예를 들어, 20 내지 38 ㎛ 두께의 폴리이미드 필름상에 구리 등의 금속을 스퍼터링하여, 타이(Tie)층, 시드(Seed)층을 순차적으로 증착함으로써 연성 금속박 적층판을 생산하는 방법이며, 회로 패턴의 피치(pitch)가 35 ㎛ 이하인 초미세회로를 형성시키는데 유리한 점이 있으며, COF(chip on film)용 연성 금속박 적층판을 제조하는데 널리 사용되고 있다.In particular, the metallizing method produces a flexible metal foil laminate by sequentially depositing a tie layer and a seed layer by sputtering a metal such as copper on a polyimide film having a thickness of 20 to 38 μm, for example. This method has an advantage in forming ultra-fine circuits having a circuit pattern pitch of 35 μm or less, and is widely used in manufacturing flexible metal foil laminates for COF (chip on film).

메탈라이징법에 의한 연성 금속박 적층판에 사용되는 폴리이미드 필름은 높은 치수 안정성을 가져야 한다. 통상, 열팽창 계수로 나타내는 열적 치수 안정성으로 치수 안정성이 측정되고 있지만, 열적 치수 안정성 못지 않게 흡습팽창계수로 나타내는 수분에 대한 치수 안정성도 중요성이 점차 커지고 있다.The polyimide film used for the flexible metal foil laminate by the metallizing method should have high dimensional stability. In general, dimensional stability is measured by thermal dimensional stability expressed by thermal expansion coefficient, but dimensional stability to moisture expressed by hygroscopic expansion coefficient is increasingly important as well as thermal dimensional stability.

즉, 열적 치수 안정성과 수분에 대한 치수 안정성이 모두 우수한 폴리이미드 필름에 대한 요구가 증가하고 있으나, 실제 열팽창 계수가 낮은 열적 치수 안정성이 높은 구조의 폴리이미드 필름을 설계할 경우, 수분에 대한 치수 안정성이 낮아지는 문제점이 대두되고 있다.That is, there is an increasing demand for a polyimide film having both excellent thermal dimensional stability and dimensional stability against moisture. This lowering problem is emerging.

따라서, 높은 열적 치수 안정성과 수분에 대한 높은 치수 안정성이 양립할 수 있는 폴리이미드 필름이 절실히 요구되고 있다.Therefore, there is an urgent need for a polyimide film capable of achieving both high thermal dimensional stability and high dimensional stability against moisture.

이상의 배경기술에 기재된 사항은 발명의 배경에 대한 이해를 돕기 위한 것으로서, 이 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 이미 알려진 종래기술이 아닌 사항을 포함할 수 있다.Matters described in the above background art are intended to help the understanding of the background of the invention, and may include matters that are not already known to those of ordinary skill in the art to which this technology belongs.

대한민국 등록특허 제10-1375276호Republic of Korea Patent Registration No. 10-1375276 대한민국 공개특허공보 제2016-0002402호Republic of Korea Patent Publication No. 2016-0002402

이에 본 발명은 높은 열적 치수 안정성과 수분에 대한 높은 치수 안정성을 동시에 가지는 폴리이미드 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a polyimide film having both high thermal dimensional stability and high dimensional stability against moisture.

그러나, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problems to be solved by the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면은 열팽창계수가 1 ppm/℃ 이상, 5 ppm/℃ 이하이고, One aspect of the present invention for achieving the above object is that the coefficient of thermal expansion is 1 ppm / ℃ or more, 5 ppm / ℃ or less,

탄성율이 9 GPa 이상 11.5 GPa 이하이며,The modulus of elasticity is 9 GPa or more and 11.5 GPa or less,

유리전이온도가 340℃ 이상, 400℃ 이하인,The glass transition temperature is 340 ℃ or more and 400 ℃ or less,

폴리이미드 필름을 제공한다.A polyimide film is provided.

상기 폴리이미드 필름은 흡습팽창계수가 4 ppm/RH% 이상, 6 ppm/RH% 이하일 수 있다.The polyimide film may have a coefficient of hygroscopic expansion of 4 ppm/RH% or more and 6 ppm/RH% or less.

본 발명의 다른 측면은 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드(BPDA), 피로멜리틱디안하이드라이드(PMDA), 옥시디프탈릭안하이드라이드(ODPA) 및 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드(BTDA)로 이루어진 그룹에서 선택된 2종 이상을 포함하는 이무수물산 성분과, 파라페닐렌 디아민(PPD), m-톨리딘(m-tolidine), 옥시디아닐린(ODA) 및 1,3-비스아미노페녹시벤젠(TPE-R)으로 이루어진 그룹에서 선택된 2 종 이상을 포함하는 디아민 성분을 포함하는 폴리아믹산 용액을 이미드화 반응시켜 얻어지고,Another aspect of the present invention is biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), oxydiphthalic anhydride (ODPA) and benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) A dianhydride component comprising two or more selected from the group consisting of, paraphenylene diamine (PPD), m-tolidine, oxydianiline (ODA), and 1,3-bisaminophenoxybenzene (TPE-R) obtained by imidation reaction of a polyamic acid solution containing a diamine component containing two or more selected from the group consisting of,

상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 파라페닐렌 디아민의 함량이 10 몰% 이상 70 몰% 이하이고, 상기 m-톨리딘의 함량이 25 몰% 이상 80 몰% 이하인,Based on 100 mol% of the total content of the diamine component, the content of paraphenylene diamine is 10 mol% or more and 70 mol% or less, and the content of m-tolidine is 25 mol% or more and 80 mol% or less,

폴리이미드 필름을 제공한다.A polyimide film is provided.

상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 함량이 30 몰% 이상 60 몰% 이하이고, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드의 함량이 40 몰% 이상 60 몰% 이하일 수 있다.Based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component, the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or more and 60 mol% or less, and the content of the pyromellitic dianhydride is 40 mol% It may be more than 60 mol%.

또한, 상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 옥시디프탈릭안하이드라이드의 함량이 20 몰% 이하이고, 상기 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드의 함량이 30 몰% 이하이며, 상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 옥시디아닐린(ODA)의 함량이 20 몰% 이하이고, 상기 1,3-비스아미노페녹시벤젠의 함량이 20 몰% 이하일 수 있다.In addition, based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component, the content of the oxydiphthalic anhydride is 20 mol% or less, and the content of the benzophenonetetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or less, Based on 100 mol% of the total content of the diamine component, the content of oxydianiline (ODA) may be 20 mol% or less, and the content of 1,3-bisaminophenoxybenzene may be 20 mol% or less.

상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민의 몰비가 0.3 이상 2.5 이하이고, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드에 대한 상기 m-톨리딘의 몰비가 0.6 이상 1.5 이하일 수 있다.The molar ratio of the paraphenylene diamine to the biphenyltetracarboxylic dianhydride may be 0.3 or more and 2.5 or less, and the molar ratio of the m-tolidine to the pyromellitic dianhydride may be 0.6 or more and 1.5 or less.

또한, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민의 반응 몰비가 1.05 이상 1.2 이하이고, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민 및 상기 m-톨리딘의 반응 몰비가 0.9 이상 0.99 이하일 수 있다.In addition, the reaction molar ratio of the paraphenylene diamine to the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 1.05 or more and 1.2 or less, and the paraphenylene diamine and the m-tolidine to the pyromellitic dianhydride are The reaction molar ratio may be 0.9 or more and 0.99 or less.

본 발명의 또 다른 측면은 (a) 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드(BPDA), 피로멜리틱디안하이드라이드(PMDA), 옥시디프탈릭안하이드라이드(ODPA) 및 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드(BTDA)로 이루어진 그룹에서 선택된 2종 이상을 포함하는 이무수물산 성분과, 파라페닐렌 디아민(PPD), m-톨리딘(m-tolidine), 옥시디아닐린(ODA) 및 1,3-비스아미노페녹시벤젠(TPE-R)으로 이루어진 그룹에서 선택된 2 종 이상을 포함하는 디아민 성분을 유기 용매 중에서 중합하여 폴리아믹산을 제조하는 단계; 및Another aspect of the present invention is (a) biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), oxydiphthalic anhydride (ODPA) and benzophenonetetracarboxylic dianhydride A dianhydride component comprising two or more selected from the group consisting of ride (BTDA), paraphenylene diamine (PPD), m-tolidine, oxydianiline (ODA), and 1,3-bis preparing a polyamic acid by polymerizing a diamine component including at least two selected from the group consisting of aminophenoxybenzene (TPE-R) in an organic solvent; and

(b) 상기 폴리아믹산을 이미드화하는 단계;를 포함하고,(b) imidizing the polyamic acid;

상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 함량이 30 몰% 이상 60 몰% 이하이며, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드의 함량이 40 몰% 이상 60 몰% 이하이고,Based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component, the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or more and 60 mol% or less, and the content of the pyromellitic dianhydride is 40 mol% or more and 60 mol% or less,

상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 파라페닐렌 디아민의 함량이 10 몰% 이상 70 몰% 이하이고, 상기 m-톨리딘의 함량이 25 몰% 이상 80 몰% 이하인,Based on 100 mol% of the total content of the diamine component, the content of paraphenylene diamine is 10 mol% or more and 70 mol% or less, and the content of m-tolidine is 25 mol% or more and 80 mol% or less,

폴리이미드 필름의 제조방법을 제공한다.A method for manufacturing a polyimide film is provided.

본 발명의 또 다른 측면은 상기 폴리이미드 필름과 전기 전도성의 금속박을 포함하는, 연성 금속박 적층판을 제공한다.Another aspect of the present invention provides a flexible metal foil laminate comprising the polyimide film and an electrically conductive metal foil.

본 발명의 또 다른 측면은 상기 연성 금속박 적층판을 포함하는, 전자 부품을 제공한다.Another aspect of the present invention provides an electronic component comprising the flexible metal foil laminate.

본 발명은 이무수물산 및 디아민 성분의 조성비, 반응비 등이 조절된 폴리이미드 필름을 제공함으로써, 열적 치수 안정성과 수분에 대한 치수 안정성이 모두 우수한 폴리이미드 필름을 제공한다. The present invention provides a polyimide film excellent in both thermal dimensional stability and moisture dimensional stability by providing a polyimide film in which the composition ratio and reaction ratio of dianhydride and diamine components are controlled.

이러한 폴리이미드 필름은 우수한 치수 안정성 특성의 폴리이미드 필름이 요구되는 다양한 분야, 예를 들어, 메탈라이징법에 의해 제조되는 연성 금속박 적층판 또는 이러한 연성 금속박 적층판을 포함하는 전자 부품에 적용이 가능하다.Such a polyimide film is applicable to various fields requiring a polyimide film having excellent dimensional stability properties, for example, a flexible metal foil laminate manufactured by a metallizing method or an electronic component including such a flexible metal foil laminate.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The terms or words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to their ordinary or dictionary meanings, and the inventor may properly define the concept of the term in order to best describe his invention. Based on the principle that there is, it should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예의 구성은 본 발명의 가장 바람직한 하나의 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Accordingly, since the configuration of the embodiments described in the present specification is only one of the most preferred embodiments of the present invention and does not represent all the technical spirit of the present invention, various equivalents and modifications that can be substituted for them at the time of the present application It should be understood that examples may exist.

본 명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 구성 요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 구성 요소, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In this specification, the singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present specification, terms such as "comprise", "comprising" or "have" are intended to designate the existence of an embodied feature, number, step, element, or a combination thereof, but one or more other features or It should be understood that the existence or addition of numbers, steps, elements, or combinations thereof, is not precluded in advance.

본 명세서에서 "이무수물산"은 그 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 이무수물산이 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디아민과 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.As used herein, “dianhydride” is intended to include precursors or derivatives thereof, which may not technically be dianhydride acids, but will nevertheless react with a diamine to form a polyamic acid, which in turn is a polyamic acid can be converted into mids.

본 명세서에서 "디아민"은 그의 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디아민이 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디안하이드라이드와 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다As used herein, "diamine" is intended to include precursors or derivatives thereof, which may not technically be diamines, but will nevertheless react with dianhydrides to form polyamic acids, which in turn are polyamic acids. can be converted to mid

본 명세서에서 양, 농도, 또는 다른 값 또는 파라미터가 범위, 바람직한 범위 또는 바람직한 상한 값 및 바람직한 하한 값의 열거로서 주어지는 경우, 범위가 별도로 개시되는 지에 상관없이 임의의 한 쌍의 임의의 위쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값 및 임의의 아래쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값으로 형성된 모든 범위를 구체적으로 개시하는 것으로 이해되어야 한다.Where an amount, concentration, or other value or parameter is given herein as a range, a preferred range, or a recitation of a preferred upper value and a lower preferred value, any pair of any upper range limit, or any pair of upper range limits, whether or not ranges are separately disclosed. It is to be understood that the preferred values and any lower range limits or all ranges formed by the preferred values are specifically disclosed.

수치 값의 범위가 범위가 본 명세서에서 언급될 경우, 달리 기술되지 않는다면, 그 범위는 그 종점 및 그 범위 내의 모든 정수와 분수를 포함하는 것으로 의도된다. 본 발명의 범주는 범위를 정의할 때 언급되는 특정 값으로 한정되지 않는 것으로 의도된다.When a range of numerical values is recited herein, the range is intended to include the endpoints and all integers and fractions within the range, unless otherwise stated. It is intended that the scope of the invention not be limited to the particular values recited when defining the ranges.

본 발명의 일 구현예에 의한 폴리이미드 필름은 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드(BPDA), 피로멜리틱디안하이드라이드(PMDA), 옥시디프탈릭안하이드라이드(ODPA) 및 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드(BTDA)로 이루어진 그룹에서 선택된 2종 이상을 포함하는 이무수물산 성분과, 파라페닐렌 디아민(PPD), m-톨리딘(m-tolidine), 옥시디아닐린(ODA) 및 1,3-비스아미노페녹시벤젠(TPE-R)으로 이루어진 그룹에서 선택된 2 종 이상을 포함하는 디아민 성분을 포함하는 폴리아믹산 용액을 이미드화 반응시켜 얻어지고, 상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 함량이 30 몰% 이상 60 몰% 이하이며, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드의 함량이 40 몰% 이상 60 몰% 이하이고, 상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 파라페닐렌 디아민의 함량이 10 몰% 이상 70 몰% 이하이고, 상기 m-톨리딘의 함량이 25 몰% 이상 80 몰% 이하일 수 있다.The polyimide film according to an embodiment of the present invention is biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), oxydiphthalic anhydride (ODPA) and benzophenonetetracarboxylic A dianhydride component comprising two or more selected from the group consisting of dianhydride (BTDA), paraphenylene diamine (PPD), m-tolidine, oxydianiline (ODA), and 1,3 -It is obtained by imidization reaction of a polyamic acid solution containing a diamine component including two or more selected from the group consisting of bisaminophenoxybenzene (TPE-R), and based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component , wherein the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or more and 60 mol% or less, the content of the pyromellitic dianhydride is 40 mol% or more and 60 mol% or less, and the total amount of the diamine component is Based on the content of 100 mol%, the content of the paraphenylene diamine may be 10 mol% or more and 70 mol% or less, and the content of m-tolidine may be 25 mol% or more and 80 mol% or less.

바람직하게는 상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 함량이 30몰% 이상 55 몰% 이하이며, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드의 함량이 45 몰% 이상 55 몰% 이하일 수 있다.Preferably, based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component, the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or more and 55 mol% or less, and the content of the pyromellitic dianhydride is It may be 45 mol% or more and 55 mol% or less.

또한, 바람직하게는 상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 파라페닐렌 디아민의 함량이 15 몰% 이상 70 몰% 이하일 수 있다.In addition, preferably, based on 100 mol% of the total content of the diamine component, the content of the paraphenylene diamine may be 15 mol% or more and 70 mol% or less.

본 발명의 파라페닐렌 디아민은 강직한 모노머로 파라페닐렌 디아민의 함량이 증가함에 따라서 합성되는 폴리이미드는 더욱 선형의 구조를 가지게 되고, 폴리이미드의 기계적 특성의 향상에 기여한다.The paraphenylene diamine of the present invention is a rigid monomer, and as the content of paraphenylene diamine increases, the synthesized polyimide has a more linear structure, contributing to the improvement of the mechanical properties of the polyimide.

또한. m-톨리딘은 특히 소수성을 띄는 메틸기를 가지고 있어서 폴리이미드 필름의 수분에 대한 치수 안정성과 연관된 저흡습 특성에 기여한다.In addition. Since m-tolidine has a particularly hydrophobic methyl group, it contributes to the low moisture absorption properties related to the dimensional stability of the polyimide film against moisture.

본 발명의 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드로부터 유래된 폴리이미드 사슬은 전하이동착체(CTC: Charge transfer complex)라고 명명된 구조, 즉, 전자주게(electron donnor)와 전자받게(electron acceptor)가 서로 근접하게 위치하는 규칙적인 직선 구조를 가지게 되고 분자간 상호 작용(intermolecular interaction)이 강화된다.The polyimide chain derived from the biphenyltetracarboxylic dianhydride of the present invention has a structure called a charge transfer complex (CTC), that is, an electron donor and an electron acceptor. It has a regular linear structure positioned close to each other, and the intermolecular interaction is strengthened.

이러한 구조는 수분과의 수소결합을 방지하는 효과가 있으므로, 흡습률을 낮추는데 영향을 주어 수분에 대한 치수 안정성에 영향을 끼치는 폴리이미드 필름의 흡습성을 낮추는 효과를 극대화 할 수 있다.Since this structure has an effect of preventing hydrogen bonding with moisture, it is possible to maximize the effect of lowering the hygroscopicity of the polyimide film, which affects the dimensional stability of the polyimide film by affecting the lowering of the moisture absorption.

또한, 피로멜리틱디안하이드라이드는 상대적으로 강직한 구조를 가지는 이무수물산 성분으로 폴리이미드 필름에 적절한 탄성을 부여할 수 있는 점에서 바람직하다.In addition, pyromellitic dianhydride is a dianhydride component having a relatively rigid structure, and is preferable in that it can impart appropriate elasticity to the polyimide film.

폴리이미드 필름이 우수한 치수 안정성을 가지기 위해서는 이무수물산의 함량비가 중요하다. 예를 들어, 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 함량비가 감소할수록 상기 CTC 구조로 인한 낮은 흡습률을 기대하기 어려워지고, 수분에 대한 치수 안정성도 저하된다.In order for the polyimide film to have excellent dimensional stability, the content ratio of dianhydride is important. For example, as the content ratio of biphenyltetracarboxylic dianhydride decreases, it is difficult to expect a low moisture absorption rate due to the CTC structure, and dimensional stability with respect to moisture is also reduced.

또한, 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드는 방향족 부분에 해당하는 벤젠 고리를 2개 포함하는 반면에, 피로멜리틱디안하이드라이드는 방향족 부분에 해당하는 벤젠 고리를 1개 포함한다. In addition, biphenyltetracarboxylic dianhydride contains two benzene rings corresponding to the aromatic moiety, whereas pyromellitic dianhydride contains one benzene ring corresponding to the aromatic moiety.

이무수물산 성분에서 피로멜리틱디안하이드라이드 함량의 증가는 동일한 분자량을 기준으로 했을 때 분자 내의 이미드기가 증가하는 것으로 이해할 수 있으며, 이는 폴리이미드 고분자 사슬에 상기 피로멜리틱디안하이드라이드로부터 유래되는 이미드기의 비율이 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드로부터 유래되는 이미드기 대비 상대적으로 증가하는 것으로 이해할 수 있다. An increase in the pyromellitic dianhydride content in the dianhydride component can be understood as an increase in the imide group in the molecule based on the same molecular weight, which is a polyimide polymer chain derived from the pyromellitic dianhydride. It can be understood that the ratio of the group is relatively increased compared to the imide group derived from biphenyltetracarboxylic dianhydride.

즉, 피로멜리틱디안하이드라이드 함량의 증가는 폴리이미드 필름 전체에 대해서도, 이미드기의 상대적 증가로 볼 수 있고, 이로 인해 낮은 흡습률에 의한 수분에 대한 높은 치수 안정성은 기대하기 어려워진다.That is, the increase in the content of pyromellitic dianhydride can be viewed as a relative increase in imide groups for the entire polyimide film, and therefore, it is difficult to expect high dimensional stability against moisture due to low moisture absorption.

반대로, 피로멜리틱디안하이드라이드의 함량비가 감소하면 상대적으로 강직한 구조의 성분이 감소하게 되어, 폴리이미드 필름의 탄성이 소망하는 수준 이하로 저하될 수 있다.Conversely, when the content ratio of pyromellitic dianhydride is reduced, a component having a relatively rigid structure is decreased, and thus the elasticity of the polyimide film may be lowered to a desired level or less.

이러한 이유로 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 함량이 상기 범위를 상회하거나, 피로멜리틱디안하이드라이드의 함량이 상기 범위를 하회하는 경우, 폴리이미드 필름의 치수 안정성이 저하될 수 있다.For this reason, when the content of biphenyltetracarboxylic dianhydride exceeds the above range or the content of pyromellitic dianhydride is below the above range, dimensional stability of the polyimide film may be reduced.

반대로, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 함량이 상기 범위를 하회하거나, 피로멜리틱디안하이드라이드의 함량이 상기 범위를 상회하는 경우에도, 폴리이미드 필름의 치수 안정성에 악영향을 끼칠 수 있다.Conversely, even when the content of biphenyltetracarboxylic dianhydride is less than the above range or the content of pyromellitic dianhydride exceeds the above range, the dimensional stability of the polyimide film may be adversely affected. .

한편, 상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 옥시디프탈릭안하이드라이드의 함량이 20 몰% 이하이고, 상기 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드의 함량이 30 몰% 이하이며, 상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 옥시디아닐린(ODA)의 함량이 20 몰% 이하이고, 상기 1,3-비스아미노페녹시벤젠의 함량이 20 몰% 이하일 수 있다.On the other hand, based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component, the content of the oxydiphthalic anhydride is 20 mol% or less, and the content of the benzophenonetetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or less, Based on 100 mol% of the total content of the diamine component, the content of oxydianiline (ODA) may be 20 mol% or less, and the content of 1,3-bisaminophenoxybenzene may be 20 mol% or less.

상기 폴리이미드 필름의 조성에 있어서, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민의 몰비(=파라페닐렌 디아민의 몰%/비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 몰%)가 0.3 이상 2.5 이하이고, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드에 대한 상기 m-톨리딘의 몰비(=m-톨리딘의 몰%/피로멜리틱디안하이드라이드의 몰%)가 0.6 이상 1.5 이하일 수 있다.In the composition of the polyimide film, the molar ratio of the paraphenylene diamine to the biphenyltetracarboxylic dianhydride (=mol% of paraphenylene diamine/mol% of biphenyltetracarboxylic dianhydride) ) is 0.3 or more and 2.5 or less, and the molar ratio of m-tolidine to the pyromellitic dianhydride (=mol% of m-tolidine/mol% of pyromellitic dianhydride) may be 0.6 or more and 1.5 or less there is.

또한, 상기 폴리이미드 필름의 이무수물산 성분과 디아민 성분의 반응 몰비에 있어서, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민의 반응 몰비가 1.05 이상 1.2 이하이고, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민 및 상기 m-톨리딘의 반응 몰비가 0.9 이상 0.99 이하일 수 있다.In addition, in the reaction molar ratio of the dianhydride component and the diamine component of the polyimide film, the reaction molar ratio of the paraphenylene diamine to the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 1.05 or more and 1.2 or less, and the pyromellitic A reaction molar ratio of the paraphenylene diamine and the m-tolidine to the dianhydride may be 0.9 or more and 0.99 or less.

즉, 이무수물산 성분과 디아민 성분의 반응 과정에서 1 몰의 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드는 1.05 몰 이상 1.2 몰 이하의 파라페닐렌 디아민과 반응하고, 1 몰의 피로멜리틱디안하이드라이드는 0.9 몰 이상 0.99 몰 이하의 파라페닐렌 디아민 및 m-톨리딘과 반응할 수 있다.That is, in the course of the reaction between the dianhydride component and the diamine component, 1 mole of biphenyltetracarboxylic dianhydride reacts with 1.05 moles or more and 1.2 moles or less of paraphenylene diamine, and 1 mole of pyromellitic dianhydride is It can react with 0.9 mol or more and 0.99 mol or less of paraphenylene diamine and m-tolidine.

바람직하게는, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민 및 상기 m-톨리딘의 반응 몰비가 0.9 이상 0.95 이하일 수 있다.Preferably, the reaction molar ratio of the paraphenylene diamine and the m-tolidine to the pyromellitic dianhydride may be 0.9 or more and 0.95 or less.

한편, 상기 폴리이미드 필름의 열팽창계수가 1 ppm/℃ 이상, 5 ppm/℃ 이하이고, 탄성율이 9 GPa 이상 11.5 GPa 이하이며, 흡습팽창계수가 4 ppm/RH% 이상, 6 ppm/RH% 이하일 수 있다.On the other hand, the polyimide film has a coefficient of thermal expansion of 1 ppm/℃ or more and 5 ppm/℃ or less, an elastic modulus of 9 GPa or more and 11.5 GPa or less, and a hygroscopic expansion coefficient of 4 ppm/RH% or more and 6 ppm/RH% or less. can

또한, 상기 폴리이미드 필름의 유리전이온도는 340℃ 이상, 400℃ 이하일 수 있고, 바람직하게는 390℃ 미만일 수 있다.In addition, the glass transition temperature of the polyimide film may be 340 ℃ or more, 400 ℃ or less, preferably less than 390 ℃.

본 발명에서 폴리아믹산의 제조는 예를 들어,In the present invention, the preparation of the polyamic acid is, for example,

(1) 디아민 성분 전량을 용매 중에 넣고, 그 후 이무수물산 성분을 디아민 성분과 실질적으로 등몰이 되도록 첨가하여 중합하는 방법;(1) a method in which the whole amount of the diamine component is placed in a solvent, and then the dianhydride component is added so as to be substantially equimolar with the diamine component, followed by polymerization;

(2) 이무수물산 성분 전량을 용매 중에 넣고, 그 후 디아민 성분을 이무수물산 성분과 실질적으로 등몰이 되도록 첨가하여 중합하는 방법;(2) a method in which the entire amount of the dianhydride component is placed in a solvent, and then the diamine component is added so as to be substantially equimolar with the dianhydride component and polymerized;

(3) 디아민 성분 중 일부 성분을 용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대해서 이무수물산 성분 중 일부 성분을 약 95~105 몰%의 비율로 혼합한 후, 나머지 디아민 성분을 첨가하고 이에 연속해서 나머지 이무수물산 성분을 첨가하여, 디아민 성분 및 이무수물산 성분이 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법;(3) After putting some of the diamine components in the solvent, mixing some of the dianhydride components with respect to the reaction components in a ratio of about 95 to 105 mol%, then adding the remaining diamine components and successively with the remaining dianhydride acid a method of polymerization by adding a component so that the diamine component and the dianhydride component are substantially equimolar;

(4) 이무수물산 성분을 용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대해서 디아민 화합물 중 일부 성분을 95~105 몰%의 비율로 혼합한 후, 다른 이무수물산 성분을 첨가하고 계속되어 나머지 디아민 성분을 첨가하여, 디아민 성분 및 이무수물산 성분이 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법;(4) After putting the dianhydride component in the solvent, mixing some components of the diamine compound in a ratio of 95 to 105 mol% with respect to the reaction component, adding another dianhydride component, and then adding the remaining diamine components, a method of polymerization such that the diamine component and the dianhydride component are substantially equimolar;

(5) 용매 중에서 일부 디아민 성분과 일부 이무수물산 성분을 어느 하나가 과량이도록 반응시켜, 제1 조성물을 형성하고, 또 다른 용매 중에서 일부 디아민 성분과 일부 이무수물산 성분을 어느 하나가 과량이 되도록 반응시켜 제2 조성물을 형성한 후, 제1, 제2 조성물들을 혼합하고, 중합을 완결하는 방법으로서, 이 때 제1 조성물을 형성할 때 디아민 성분이 과잉일 경우, 제 2조성물에서는 이무수물산 성분을 과량으로 하고, 제1 조성물에서 이무수물산 성분이 과잉일 경우, 제2 조성물에서는 디아민 성분을 과량으로 하여, 제1, 제2 조성물들을 혼합하여 이들 반응에 사용되는 전체 디아민 성분과 이무수물산 성분이 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법 등을 들 수 있다.(5) reacting some diamine component and some dianhydride component in a solvent so that any one is in excess to form a first composition, and reacting some diamine component and some dianhydride component in another solvent so that any one is in excess After forming the second composition, the first and second compositions are mixed, and polymerization is completed. In this case, when the diamine component is excessive when the first composition is formed, the dianhydride component is excessively used in the second composition And, when the dianhydride component in the first composition is excessive, in the second composition, the diamine component is in excess, the first and second compositions are mixed and the total diamine component and the dianhydride component used in these reactions are substantially The method of superposing|polymerizing so that it may become equimolar, etc. are mentioned.

하나의 구체적인 예에서, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름의 제조방법은,In one specific example, the method for producing a polyimide film according to the present invention,

(a) 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드(BPDA), 피로멜리틱디안하이드라이드(PMDA), 옥시디프탈릭안하이드라이드(ODPA) 및 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드(BTDA)로 이루어진 그룹에서 선택된 2종 이상을 포함하는 이무수물산 성분과, 파라페닐렌 디아민(PPD), m-톨리딘(m-tolidine), 옥시디아닐린(ODA) 및 1,3-비스아미노페녹시벤젠(TPE-R)으로 이루어진 그룹에서 선택된 2 종 이상을 포함하는 디아민 성분을 유기 용매 중에서 중합하여 폴리아믹산을 제조하는 단계; 및(a) the group consisting of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), oxydiphthalic anhydride (ODPA) and benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) A dianhydride component comprising two or more selected from, paraphenylene diamine (PPD), m-tolidine, oxydianiline (ODA) and 1,3-bisaminophenoxybenzene (TPE- R) preparing a polyamic acid by polymerizing a diamine component comprising two or more selected from the group consisting of in an organic solvent; and

(b) 상기 폴리아믹산을 이미드화하는 단계;를 포함하고,(b) imidizing the polyamic acid;

상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 함량이 30 몰% 이상 60 몰% 이하이며, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드의 함량이 40 몰% 이상 60 몰% 이하이고,Based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component, the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or more and 60 mol% or less, and the content of the pyromellitic dianhydride is 40 mol% or more and 60 mol% or less,

상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 파라페닐렌 디아민의 함량이 10 몰% 이상 70 몰% 이하이고, 상기 m-톨리딘의 함량이 25 몰% 이상 80 몰% 이하인,Based on 100 mol% of the total content of the diamine component, the content of paraphenylene diamine is 10 mol% or more and 70 mol% or less, and the content of m-tolidine is 25 mol% or more and 80 mol% or less,

폴리이미드 필름의 제조방법일 수 있다.It may be a method of manufacturing a polyimide film.

본 발명에서는, 상기와 같은 폴리아믹산의 중합 방법을 임의(random) 중합 방식으로 정의할 수 있으며, 상기와 같은 과정으로 제조된 본 발명의 폴리아믹산으로부터 제조된 폴리이미드 필름은 치수 안정성을 높이는 본 발명의 효과를 극대화시키는 측면에서 바람직하게 적용될 수 있다.In the present invention, the polymerization method of the polyamic acid as described above can be defined as a random polymerization method, and the polyimide film prepared from the polyamic acid of the present invention prepared by the above process is the present invention that improves dimensional stability It can be preferably applied in terms of maximizing the effect of

다만, 상기 중합 방법은 앞서 설명한 고분자 사슬 내의 반복단위의 길이가 상대적으로 짧게 제조되므로, 이무수물산 성분으로부터 유래되는 폴리이미드 사슬이 가지는 각각의 우수한 특성을 발휘하기에는 한계가 있을 수 있다. 따라서, 본 발명에서 특히 바람직하게 이용될 수 있는 폴리아믹산의 중합 방법은 블록 중합 방식일 수 있다.However, in the polymerization method, since the length of the repeating unit in the above-described polymer chain is relatively short, there may be a limit in exhibiting excellent properties of the polyimide chain derived from the dianhydride component. Accordingly, the polymerization method of the polyamic acid that can be particularly preferably used in the present invention may be a block polymerization method.

한편, 폴리아믹산을 합성하기 위한 용매는 특별히 한정되는 것은 아니고, 폴리아믹산을 용해시키는 용매이면 어떠한 용매도 사용할 수 있지만, 아미드계 용매인 것이 바람직하다.On the other hand, the solvent for synthesize|combining a polyamic acid is not specifically limited, Any solvent can be used as long as it is a solvent in which a polyamic acid is dissolved, It is preferable that it is an amide type solvent.

구체적으로는, 상기 유기 용매는 유기 극성 용매일 수 있고, 상세하게는 비양성자성 극성 용매(aprotic polar solvent)일 수 있으며, 예를 들어, N,N-디메틸포름아미드(DMF), N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-피롤리돈(NMP), 감마 브티로 락톤(GBL), 디그림(Diglyme)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 필요에 따라 단독으로 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다. Specifically, the organic solvent may be an organic polar solvent, specifically an aprotic polar solvent, for example, N,N-dimethylformamide (DMF), N,N -Dimethylacetamide, N-methyl-pyrrolidone (NMP), gamma butyrolactone (GBL), may be at least one selected from the group consisting of Diglyme (Diglyme), but is not limited thereto. Or it can be used in combination of 2 or more types.

하나의 예에서, 상기 유기 용매는 N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드가 특히 바람직하게 사용될 수 있다.In one example, as the organic solvent, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide may be particularly preferably used.

또한, 폴리아믹산 제조 공정에서는 접동성, 열전도성, 코로나 내성, 루프 경도 등의 필름의 여러 가지 특성을 개선할 목적으로 충전재를 첨가할 수도 있다. 첨가되는 충전재는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직한 예로는 실리카, 산화티탄, 알루미나, 질화규소, 질화붕소, 인산수소칼슘, 인산칼슘, 운모 등을 들 수 있다.In addition, in the polyamic acid manufacturing process, a filler may be added for the purpose of improving various properties of the film, such as sliding properties, thermal conductivity, corona resistance, and loop hardness. The filler to be added is not particularly limited, but preferred examples thereof include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica, and the like.

충전재의 입경은 특별히 한정되는 것은 아니고, 개질하여야 할 필름 특성과 첨가하는 충전재의 종류과 따라서 결정하면 된다. 일반적으로는, 평균 입경이 0.05 내지 100 ㎛, 바람직하게는 0.1 내지 75 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 50 ㎛, 특히 바람직하게는 0.1 내지 25 ㎛이다.The particle size of the filler is not particularly limited, and may be determined according to the characteristics of the film to be modified and the type of filler to be added. Generally, the average particle diameter is 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 75 μm, more preferably 0.1 to 50 μm, particularly preferably 0.1 to 25 μm.

입경이 이 범위를 하회하면 개질 효과가 나타나기 어려워지고, 이 범위를 상회하면 표면성을 크게 손상시키거나, 기계적 특성이 크게 저하되는 경우가 있다.When the particle size is less than this range, the modifying effect becomes difficult to appear, and when the particle size exceeds this range, the surface properties may be greatly impaired or the mechanical properties may be greatly reduced.

또한, 충전재의 첨가량에 대해서도 특별히 한정되는 것은 아니고, 개질하여야 할 필름 특성이나 충전재 입경 등에 의해 결정하면 된다. 일반적으로, 충전재의 첨가량은 폴리이미드 100 중량부에 대하여 0.01 내지 100 중량부, 바람직하게는 0.01 내지 90 중량부, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 80 중량부이다.Moreover, it is not specifically limited also about the addition amount of a filler, What is necessary is just to determine by the film characteristic to be modified|reformed, a filler particle diameter, etc. In general, the added amount of the filler is 0.01 to 100 parts by weight, preferably 0.01 to 90 parts by weight, and more preferably 0.02 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of polyimide.

충전재 첨가량이 이 범위를 하회하면, 충전재에 의한 개질 효과가 나타나기 어렵고, 이 범위를 상회하면 필름의 기계적 특성이 크게 손상될 가능성이 있다. 충전재의 첨가 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지된 어떠한 방법을 이용할 수도 있다.When the filler addition amount is less than this range, the modifying effect by the filler is difficult to appear, and when it exceeds this range, the mechanical properties of the film may be greatly impaired. The method of adding a filler is not specifically limited, Any well-known method can also be used.

본 발명의 제조방법에서 폴리이미드 필름은 열 이미드화법 및 화학적 이미드화법에 의해서 제조될 수 있다.In the manufacturing method of the present invention, the polyimide film may be prepared by thermal imidization and chemical imidization.

또한, 열 이미드화법 및 화학적 이미드화법이 병행되는 복합 이미드화법에 의해서 제조될 수도 있다.Also, it may be prepared by a complex imidization method in which thermal imidization and chemical imidization are combined.

상기 열 이미드화법이란, 화학적 촉매를 배제하고, 열풍이나 적외선 건조기 등의 열원으로 이미드화 반응을 유도하는 방법이다.The thermal imidization method is a method in which a chemical catalyst is excluded and the imidization reaction is induced by a heat source such as hot air or an infrared dryer.

상기 열 이미드화법은 상기 겔 필름을 100 내지 600 ℃의 범위의 가변적인 온도에서 열처리하여 겔 필름에 존재하는 아믹산기를 이미드화할 수 있으며, 상세하게는 200 내지 500 ℃, 더욱 상세하게는, 300 내지 500 ℃에서 열처리하여 겔 필름에 존재하는 아믹산기를 이미드화할 수 있다.The thermal imidization method can imidize the amic acid group present in the gel film by heat-treating the gel film at a variable temperature in the range of 100 to 600 ° C., specifically 200 to 500 ° C., more specifically, The amic acid group present in the gel film can be imidized by heat treatment at 300 to 500 °C.

다만, 겔 필름을 형성하는 과정에서도 아믹산 중 일부(약 0.1 몰% 내지 10 몰%)가 이미드화될 수 있으며, 이를 위해 50 ℃ 내지 200 ℃의 범위의 가변적인 온도에서 폴리아믹산 조성물을 건조할 수 있고, 이 또한 상기 열 이미드화법의 범주에 포함될 수 있다.However, in the process of forming the gel film, some of the amic acid (about 0.1 mol% to 10 mol%) may be imidized, and for this purpose, the polyamic acid composition is dried at a variable temperature in the range of 50 ℃ to 200 ℃. and may also be included in the scope of the thermal imidization method.

화학적 이미드화법의 경우, 당업계에 공지된 방법에 따라 탈수제 및 이미드화제를 이용하여, 폴리이미드 필름을 제조할 수 있다.In the case of chemical imidization, a polyimide film may be prepared by using a dehydrating agent and an imidizing agent according to a method known in the art.

복합이미드화법의 한예로 폴리아믹산 용액에 탈수제 및 이미드화 제를 투입한 후 80 내지 200℃, 바람직하게는 100 내지 180℃에서 가열하여, 부분적으로 경화 및 건조한 후에 200 내지 400℃에서 5 내지 400 초간 가열함으로써 폴리이미드 필름을 제조할 수 있다.As an example of the complex imidization method, after adding a dehydrating agent and an imidizing agent to a polyamic acid solution, heating at 80 to 200° C., preferably 100 to 180° C., partially curing and drying, at 200 to 400° C. for 5 to 400 seconds A polyimide film can be manufactured by heating.

본 발명은, 상술한 폴리이미드 필름과 전기전도성의 금속박을 포함하는 연성 금속박 적층판을 제공한다.The present invention provides a flexible metal foil laminate comprising the above-described polyimide film and an electrically conductive metal foil.

사용하는 금속박으로는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 전자 기기 또는 전기 기기용도에 본 발명의 연성 금속박 적층판을 이용하는 경우에는, 예를 들면 구리 또는 구리 합금, 스테인레스강 또는 그의 합금, 니켈 또는 니켈 합금(42 합금도 포함함), 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속박일 수 있다.The metal foil to be used is not particularly limited, but when the flexible metal foil laminate of the present invention is used for electronic or electrical equipment applications, for example, copper or copper alloy, stainless steel or an alloy thereof, nickel or a nickel alloy (alloy 42) Also included), it may be a metal foil comprising aluminum or an aluminum alloy.

일반적인 연성 금속박 적층판에서는 압연 동박, 전해 동박이라는 구리박이 많이 사용되며, 본 발명에서도 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 이들 금속박의 표면에는 방청층, 내열층 또는 접착층이 도포되어 있을 수도 있다.In general flexible metal foil laminates, copper foils such as rolled copper foils and electrolytic copper foils are often used, and they can be preferably used in the present invention as well. Moreover, the antirust layer, the heat-resistant layer, or the adhesive layer may be apply|coated on the surface of these metal foils.

본 발명에서 상기 금속박의 두께에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 그 용도에 따라서 충분한 기능을 발휘할 수 있는 두께이면 된다.In the present invention, the thickness of the metal foil is not particularly limited, and may have a thickness capable of exhibiting a sufficient function according to its use.

본 발명에 따른 연성 금속박 적층판은, 상기 폴리이미드 필름의 적어도 한면에 금속박이 라미네이트된 구조일 수 있다. The flexible metal foil laminate according to the present invention may have a structure in which a metal foil is laminated on at least one surface of the polyimide film.

이하, 발명의 구체적인 제조예 및 실시예를 통해, 발명의 작용 및 효과를 보다 상술하기로 한다. 다만, 이러한 제조예 및 실시예는 발명의 예시로 제시된 것에 불과하며, 이에 의해 발명의 권리범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the action and effect of the invention will be described in more detail through specific preparation examples and examples of the invention. However, these manufacturing examples and examples are only presented as examples of the invention, and the scope of the invention is not limited thereby.

제조예: 폴리이미드 필름의 제조Preparation Example: Preparation of polyimide film

본 발명의 폴리이미드 필름은 다음과 같은 당업계에 공지된 통상적인 방법으로 제조될 수 있다. 먼저, 유기 용매에 전술한 이무수물산과 디아민 성분을 반응시켜 폴리아믹산 용액을 얻는다. The polyimide film of the present invention can be prepared by a conventional method known in the art as follows. First, a polyamic acid solution is obtained by reacting the above-described dianhydride acid with the diamine component in an organic solvent.

이때, 용매는 일반적으로 아미드계 용매로 비양성자성 극성 용매(Aprotic solvent), 예를 들어 N,N'-디메틸포름아마이드, N,N'-디메틸아세트아미드, N-메틸-피롤리돈, 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다.In this case, the solvent is generally an amide solvent, and an aprotic polar solvent, for example, N,N'-dimethylformamide, N,N'-dimethylacetamide, N-methyl-pyrrolidone, or Combinations of these may be used.

상기 이무수물산과 디아민 성분의 투입형태는 분말, 덩어리 및 용액 형태로 투입할 수 있으며 반응 초기에는 분말 형태로 투입하여 반응을 진행한 다음, 이후에는 중합 점도 조절을 위해 용액 형태로 투입하는 것이 바람직하다. The input form of the dianhydride and the diamine component may be in powder, lump, or solution form. At the beginning of the reaction, it is added in powder form to proceed with the reaction, and thereafter, it is preferable to input in the form of a solution to control polymerization viscosity. .

얻어진 폴리아믹산 용액은 이미드화 촉매 및 탈수제와 혼합되어 지지체에 도포될 수 있다. The obtained polyamic acid solution may be mixed with an imidization catalyst and a dehydrating agent and applied to a support.

사용되는 촉매의 예로는 3급 아민류(예컨대, 이소퀴놀린, β-피콜린, 피리딘 등)가 있고, 탈수제의 예로는 무수산이 있으나, 이에 제한되지 않는다. 또한, 상기에서 사용되는 지지체로는 유리판, 알루미늄박, 순환 스테인레스 벨트 또는 스테인레스 드럼 등을 들 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.Examples of the catalyst used include tertiary amines (eg, isoquinoline, β-picoline, pyridine, etc.), and examples of the dehydrating agent include, but are not limited to, acid anhydride. In addition, the support used in the above may include, but is not limited to, a glass plate, an aluminum foil, a circulation stainless belt or a stainless drum.

상기 지지체 상에 도포된 필름은 건조 공기 및 열처리에 의해 지지체 위에서 겔화된다. The film applied on the support is gelled on the support by dry air and heat treatment.

상기 겔화된 필름은 지지체에서 분리되어 열처리하여 건조 및 이미드화가 완료된다. The gelled film is separated from the support and heat-treated to complete drying and imidization.

상기 열처리를 마친 필름은 일정한 장력 하에서 열처리되어 제막 과정에서 발생한 필름 내부의 잔류응력이 제거될 수 있다. After the heat treatment, the film may be heat treated under a certain tension to remove residual stress inside the film generated during the film forming process.

구체적으로, 교반기 및 질소 주입·배출관을 구비한 반응기에 질소를 주입시키면서 DMF를 500 ml 투입하고, 반응기의 온도를 30 ℃로 설정한 후, 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드(BPDA), 피로멜리틱디안하이드라이드(PMDA), 옥시디프탈릭안하이드라이드(ODPA), 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드(BTDA), 파라페닐렌 디아민(PPD), m-톨리딘(m-tolidine), 옥시디아닐린(ODA) 및 1,3-비스아미노페녹시벤젠(TPE-R)을 조절된 조성비 및 정해진 순서대로 투입하여 완전히 용해시킨다. 이후, 질소 분위기하에서 40 ℃로 반응기의 온도를 올려 가열하면서 120분간 교반을 계속해주어 1차 반응 점도가 1,500cP인 폴리아믹산을 제조하였다. Specifically, 500 ml of DMF was added while injecting nitrogen into a reactor equipped with a stirrer and nitrogen injection/discharge tube, and the temperature of the reactor was set to 30 ° C., then biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), fatigue Melitic dianhydride (PMDA), oxydiphthalic anhydride (ODPA), benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA), paraphenylene diamine (PPD), m-tolidine (m-tolidine), jade Cydianiline (ODA) and 1,3-bisaminophenoxybenzene (TPE-R) are added in a controlled composition ratio and in a predetermined order to completely dissolve. Thereafter, stirring was continued for 120 minutes while heating the reactor by raising the temperature of the reactor to 40° C. under a nitrogen atmosphere to prepare a polyamic acid having a primary reaction viscosity of 1,500 cP.

이렇게 제조한 폴리아믹산을 최종 점도 100,000~120,000cP가 되도록 교반시켰다. The thus-prepared polyamic acid was stirred to have a final viscosity of 100,000 to 120,000 cP.

준비된 최종 폴리아믹산에 촉매 및 탈수제의 함량을 조절하여 첨가시킨 후, 어플리케이터를 이용하여 폴리이미드 필름을 제조하였다.After the catalyst and dehydrating agent were added to the prepared final polyamic acid by adjusting the content, a polyimide film was prepared using an applicator.

실시예 및 비교예Examples and Comparative Examples

하기 표 1에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 7에서의 이무수물산 성분 및 상기 디아민 성분의 함량을 조절하여, 제조예에 따라서 폴리이미드 필름을 제조하였다.As shown in Table 1 below, by controlling the contents of the dianhydride component and the diamine component in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 7, polyimide films were prepared according to Preparation Examples.

또한, 실시예 1 내지 7의 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드에 대한 파라페닐렌 디아민의 반응 몰비가 1.05 이상 1.2 이하, 피로멜리틱디안하이드라이드에 대한 파라페닐렌 디아민 및 상기 m-톨리딘의 반응 몰비가 0.9 이상 0.99 이하가 되도록 반응을 조절하였다.In addition, in Examples 1 to 7, the reaction molar ratio of paraphenylene diamine to biphenyltetracarboxylic dianhydride is 1.05 or more and 1.2 or less, and paraphenylene diamine and m-tolidine to pyromellitic dianhydride. The reaction was controlled so that the reaction molar ratio of was 0.9 or more and 0.99 or less.

이무수물산dianhydride 디아민diamine BPDABPDA PMDAPMDA ODPAODPA BTDABTDA m-Tolidinem-Tolidine PPDPPD ODAODA TPE-RTPE-R 실시예 1Example 1 5050 5050 -- -- 4040 6060 -- -- 실시예 2Example 2 5050 5050 -- -- 3535 6565 -- -- 실시예 3Example 3 4747 5353 -- -- 3535 6565 -- -- 실시예 4Example 4 4747 5353 -- -- 4040 6060 -- -- 실시예 5Example 5 4040 5050 1010 -- 7070 3030 -- -- 실시예 6Example 6 3030 5050 -- 2020 3030 7070 -- -- 실시예 7Example 7 5050 5050 -- -- 7575 1515 1010 -- 실시예 8Example 8 5050 5050 -- -- 7575 1515 -- 1010 비교예 1Comparative Example 1 5050 5050 -- -- 00 100100 -- -- 비교예 2Comparative Example 2 5050 5050 -- -- 1515 8585 -- -- 비교예 3Comparative Example 3 5050 5050 -- -- 6060 4040 -- -- 비교예 4Comparative Example 4 4040 6060 -- -- 100100 00 -- -- 비교예 5Comparative Example 5 2020 5050 3030 -- 8585 1515 -- -- 비교예 6Comparative Example 6 5050 5050 -- -- 8585 55 -- 1010 비교예 7Comparative Example 7 5050 5050 -- -- 1515 7575 1010 --

제조된 폴리이미드 필름의 탄성율, 열팽창계수(coefficient of thermal expansion, CTE), 흡습팽창계수(coefficient of hydroscopic expansion, CHE) 및 유리전이온도(Tg)를 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.The elastic modulus, coefficient of thermal expansion (CTE), coefficient of hydroscopic expansion (CHE) and glass transition temperature (Tg) of the prepared polyimide film were measured and shown in Table 2 below.

물성Properties 탄성율
(GPa)
modulus of elasticity
(GPa)
CTE
(ppm/℃)
CTE
(ppm/℃)
CHE
(ppm/RH%)
CHE
(ppm/RH%)
Tg
(℃)
Tg
(℃)
실시예 1Example 1 10.510.5 1.81.8 4.54.5 343343 실시예 2Example 2 9.59.5 4.44.4 5.35.3 353353 실시예 3Example 3 9.19.1 2.52.5 4.64.6 373373 실시예 4Example 4 10.310.3 1.61.6 4.34.3 382382 실시예 5Example 5 9.79.7 4.94.9 5.85.8 343343 실시예 6Example 6 9.39.3 2.22.2 5.75.7 370370 실시예 7Example 7 11.211.2 3.13.1 5.55.5 341341 실시예 8Example 8 11.111.1 3.53.5 5.85.8 342342 비교예 1Comparative Example 1 8.68.6 0.20.2 7.07.0 390390 비교예 2Comparative Example 2 9.09.0 1.51.5 6.56.5 410410 비교예 3Comparative Example 3 11.911.9 5.75.7 3.83.8 327327 비교예 4Comparative Example 4 11.711.7 6.06.0 5.95.9 295295 비교예 5Comparative Example 5 11.511.5 7.07.0 6.56.5 300300 비교예 6Comparative Example 6 12.212.2 2.12.1 5.05.0 310310 비교예 7Comparative Example 7 8.88.8 2.42.4 6.06.0 390390

(1) 탄성율 측정(1) Measurement of modulus of elasticity

모든 실시예 및 비교예에서 제조한 폴리이미드 필름의 탄성율은 인스트론 장비(Standard Instron testing apparatus)를 이용해 ASTM D 882 규정에 맞추어 3번을 테스트해 평균값을 취했다.The modulus of elasticity of the polyimide films prepared in all Examples and Comparative Examples was tested three times in accordance with ASTM D 882 regulations using a Standard Instron testing apparatus, and the average value was taken.

(2) 열팽창계수 측정(2) Measurement of coefficient of thermal expansion

열팽창 계수(CTE)는 TA사 열기계 분석기(thermomechanical analyzer) Q400 모델을 사용하였으며, 폴리이미드 필름을 폭 4 mm, 길이 20 mm로 자른 후 질소 분위기하에서 0.05 N의 장력을 가하면서, 10 ℃/min의 속도로 상온에서 400℃까지 승온 후 다시 10 ℃/min의 속도로 냉각하면서 50℃ 에서 200℃ 구간의 기울기를 측정하였다.The coefficient of thermal expansion (CTE) was measured using a Q400 thermomechanical analyzer from TA, and after cutting a polyimide film to 4 mm in width and 20 mm in length, while applying a tension of 0.05 N under a nitrogen atmosphere, 10 °C/min After raising the temperature from room temperature to 400 °C at a rate of

(3) 흡습팽창계수 측정(3) Measurement of hygroscopic expansion coefficient

흡습팽창계수(CHE)는 폴리이미드 필름이 느슨해지지 않도록 최저한의 가중을 건 상태(25mm ×150mm의 샘플에 대하여, 약 1g)로, 습도를 3 %RH로 조절하고 완전히 포화할 때까지 흡습시켜 치수를 계측하고, 그 후 90 %RH로 습도를 조정하여 마찬가지로 포화 흡습시킨 후 치수를 계측하고, 양자의 결과로부터 상대습도차 87% 당 습도 90 %RH에서 치수변화율을 측정하였다.The coefficient of hygroscopic expansion (CHE) is measured by adjusting the humidity to 3 %RH and absorbing moisture until completely saturated with the minimum weight applied to prevent the polyimide film from loosening (for a sample of 25 mm × 150 mm, about 1 g). After measuring, the humidity was adjusted to 90 %RH, and the size was measured after saturated moisture absorption in the same way, and the dimensional change rate was measured at 90%RH per 87% relative humidity difference from both results.

(4) 유리전이온도 측정(4) Glass transition temperature measurement

유리전이온도(Tg)는 DMA를 이용하여 각 필름의 손실 탄성률과 저장 탄성률을 구하고, 이들의 탄젠트 그래프에서 변곡점을 유리전이온도로 측정하였다.The glass transition temperature (T g ) was obtained by obtaining the loss modulus and storage modulus of each film using DMA, and the inflection point was measured as the glass transition temperature in their tangent graph.

측정 결과, 실시예 1 내지 8의 폴리이미드 필름은 열팽창계수가 1 ppm/℃ 이상, 5 ppm/℃ 이하이고, 탄성율이 9 GPa 이상 11.5 GPa 이하이며, 흡습팽창계수가 4 ppm/RH% 이상, 6 ppm/RH% 이하의 특성을 나타내었다.As a result of the measurement, the polyimide films of Examples 1 to 8 have a coefficient of thermal expansion of 1 ppm/℃ or more and 5 ppm/℃ or less, an elastic modulus of 9 GPa or more and 11.5 GPa or less, and a hygroscopic expansion coefficient of 4 ppm/RH% or more, 6 ppm/RH% or less was exhibited.

이에 비하여, m-톨리딘을 전혀 포함하지 않거나 소량(15 중량%) 포함하는 비교예 1 및 2의 경우, 열팽창계수 특성은 비교적 우수하였지만(1.5 ppm/℃ 이하), 흡습팽창계수가 6.5 ppm/RH% 이상으로 측정되어 실시예들에 비하여 수분에 대한 치수 안정성이 낮은 것을 알 수 있었다.In contrast, in Comparative Examples 1 and 2 containing no or a small amount (15% by weight) of m-tolidine at all, the thermal expansion coefficient properties were relatively excellent (1.5 ppm/℃ or less), but the hygroscopic expansion coefficient was 6.5 ppm/ It was measured at RH% or more, and it was found that the dimensional stability against moisture was lower than in the Examples.

한편, 디아민 성분으로 m-톨리딘을 소량(15 중량%) 사용하면서, 옥시디아닐린과 파라페닐렌 디아민을 함께 사용한 비교예 7은 탄성율이 9 GPa 미만으로 저하되는 것을 확인할 수 있었다.On the other hand, in Comparative Example 7 in which oxydianiline and paraphenylene diamine were used together while using a small amount (15% by weight) of m-tolidine as the diamine component, it was confirmed that the elastic modulus was lowered to less than 9 GPa.

이외에도, 비교예 2 내지 4의 경우, 유리전이온도가 실시예들의 유리전이온도에 비하여 낮거나 높은 것을 확인할 수 있었다.In addition, in the case of Comparative Examples 2 to 4, it was confirmed that the glass transition temperature was lower or higher than the glass transition temperature of Examples.

또한, m-톨리딘을 과도하게 포함하는 비교예 3 및 4의 경우, 흡습팽창계수 특성은 비교적 우수하였지만(5.9 ppm/RH% 이하), 열팽창계수가 5.7 ppm/℃ 이상으로 측정되어 실시예들에 비하여 열적 치수 안정성이 낮은 것을 알 수 있었다.In addition, in the case of Comparative Examples 3 and 4 containing excessively m-tolidine, the coefficient of hygroscopic expansion property was relatively excellent (5.9 ppm/RH% or less), but the coefficient of thermal expansion was measured to be 5.7 ppm/°C or more. It was found that the thermal dimensional stability was lower than that of .

한편, m-톨리딘을 과도하게 포함하면서, 이무수물산 성분으로 옥시디프탈릭안하이드라이드를 포함하는 비교예 5는 실시예들에 비하여 열적 치수 안정성이 저하되고 및 유리전이 온도가 낮아지는 것을 확인할 수 있었다(열팽창계수: 7.0 ppm/℃, 유리전이온도: 300℃).On the other hand, it can be seen that Comparative Example 5 including oxydiphthalic anhydride as a dianhydride component while excessively including m-tolidine has lowered thermal dimensional stability and lowered glass transition temperature compared to Examples. (coefficient of thermal expansion: 7.0 ppm/°C, glass transition temperature: 300°C).

m-톨리딘을 과도하게 포함하면서, 디아민 성분으로 1,3-비스아미노페녹시벤젠을 포함하는 비교예 6은 실시예들에 비하여 탄성율이 과도하게 커지면서(탄성율: 12.2 GPa), 유리전이온도가 낮아짐(유리전이온도: 310 ℃)을 확인할 수 있었다.Comparative Example 6 containing 1,3-bisaminophenoxybenzene as a diamine component while excessively containing m-tolidine had an excessively large elastic modulus compared to Examples (modulus of elasticity: 12.2 GPa), and a glass transition temperature It was confirmed that the lowering (glass transition temperature: 310 ℃).

따라서, 본원의 적절한 범위 내에서 제조된 실시예 1 내지 8의 폴리이미드 필름은 열적 치수 안정성 및 수분에 대한 치수 안정성이 모두 우수하였으나, 본원의 적절한 범위를 벗어나는 경우, 열적 치수 안정성 및 수분에 대한 치수 안정성을 양립시키기가 어렵다는 것을 확인할 수 있었다.Accordingly, the polyimide films of Examples 1 to 8 prepared within the appropriate range of the present application were excellent in both thermal dimensional stability and dimensional stability to moisture, but outside the appropriate range of the present application, thermal dimensional stability and dimensional stability to moisture It was confirmed that it was difficult to achieve both stability.

또한, 본원의 적절한 범위 내에서 제조된 실시예 1 내지 8의 폴리이미드 필름은 탄성율 및 유리전이온도도 각종 분야에 적용가능한 적절한 범위를 가지는 것을 확인할 수 있었다.In addition, it was confirmed that the polyimide films of Examples 1 to 8 prepared within the appropriate range of the present application had appropriate ranges applicable to various fields in terms of elastic modulus and glass transition temperature.

즉, 우수한 치수 안정성을 가지면서도, 응용 분야에 적용될 수 있는 다양한 조건을 모두 만족시키는 폴리이미드 필름은 본원의 적절한 범위 내에서 제조된 폴리이미드 필름임을 확인할 수 있었다.That is, it was confirmed that the polyimide film that has excellent dimensional stability and satisfies all the various conditions applicable to the application field is a polyimide film manufactured within the appropriate range of the present application.

본 발명인 폴리이미드 필름 및 폴리이미드 필름의 제조방법의 실시예는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 당업자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하는 바람직한 실시 예일 뿐, 전술한 실시 예에 한정되는 것은 아니므로 이로 인해 본 발명의 권리범위가 한정되는 것은 아니다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 당업자에게 있어 명백할 것이며, 당업자에 의해 용이하게 변경 가능한 부분도 본 발명의 권리범위에 포함됨은 자명하다.The embodiments of the polyimide film and the method of manufacturing the polyimide film according to the present invention are only preferred embodiments that enable those skilled in the art to easily practice the present invention, Since the present invention is not limited, the scope of the present invention is not limited thereto. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims. In addition, it will be apparent to those skilled in the art that various substitutions, modifications and changes are possible within the scope of the present invention, and it is apparent that parts easily changeable by those skilled in the art are also included in the scope of the present invention. .

Claims (15)

열팽창계수가 1 ppm/℃ 이상, 5 ppm/℃ 이하이고,
탄성율이 9 GPa 이상 11.5 GPa 이하이며,
유리전이온도가 340℃ 이상, 400℃ 이하인,
폴리이미드 필름.
The coefficient of thermal expansion is 1 ppm/℃ or more and 5 ppm/℃ or less,
The modulus of elasticity is 9 GPa or more and 11.5 GPa or less,
The glass transition temperature is 340 ℃ or more and 400 ℃ or less,
polyimide film.
제1항에 있어서,
흡습팽창계수가 4 ppm/RH% 이상, 6 ppm/RH% 이하인,
폴리이미드 필름.
According to claim 1,
The coefficient of hygroscopic expansion is 4 ppm/RH% or more and 6 ppm/RH% or less,
polyimide film.
비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드(BPDA), 피로멜리틱디안하이드라이드(PMDA), 옥시디프탈릭안하이드라이드(ODPA) 및 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드(BTDA)로 이루어진 그룹에서 선택된 2종 이상을 포함하는 이무수물산 성분과, 파라페닐렌 디아민(PPD), m-톨리딘(m-tolidine), 옥시디아닐린(ODA) 및 1,3-비스아미노페녹시벤젠(TPE-R)으로 이루어진 그룹에서 선택된 2 종 이상을 포함하는 디아민 성분을 포함하는 폴리아믹산 용액을 이미드화 반응시켜 얻어지고,
상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 파라페닐렌 디아민의 함량이 10 몰% 이상 70 몰% 이하이고, 상기 m-톨리딘의 함량이 25 몰% 이상 80 몰% 이하인,
폴리이미드 필름.
2 selected from the group consisting of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), oxydiphthalic anhydride (ODPA) and benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) With a dianhydride component containing more than one species, paraphenylene diamine (PPD), m-tolidine, oxydianiline (ODA) and 1,3-bisaminophenoxybenzene (TPE-R) It is obtained by imidizing a polyamic acid solution containing a diamine component containing two or more selected from the group consisting of,
Based on 100 mol% of the total content of the diamine component, the content of paraphenylene diamine is 10 mol% or more and 70 mol% or less, and the content of m-tolidine is 25 mol% or more and 80 mol% or less,
polyimide film.
제3항에 있어서,
상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 함량이 30 몰% 이상 60 몰% 이하이고, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드의 함량이 40 몰% 이상 60 몰% 이하인,
폴리이미드 필름.
4. The method of claim 3,
Based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component, the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or more and 60 mol% or less, and the content of the pyromellitic dianhydride is 40 mol% greater than or equal to 60 mol%,
polyimide film.
제4항에 있어서,
상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 옥시디프탈릭안하이드라이드의 함량이 20 몰% 이하이고, 상기 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드의 함량이 30 몰% 이하이며,
상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 옥시디아닐린(ODA)의 함량이 20 몰% 이하이고, 상기 1,3-비스아미노페녹시벤젠의 함량이 20 몰% 이하인,
폴리이미드 필름.
5. The method of claim 4,
Based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component, the content of the oxydiphthalic anhydride is 20 mol% or less, and the content of the benzophenonetetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or less,
Based on 100 mol% of the total content of the diamine component, the content of oxydianiline (ODA) is 20 mol% or less, and the content of 1,3-bisaminophenoxybenzene is 20 mol% or less,
polyimide film.
제3항에 있어서,
상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민의 몰비가 0.3 이상 2.5 이하인,
폴리이미드 필름.
4. The method of claim 3,
The molar ratio of the paraphenylene diamine to the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 0.3 or more and 2.5 or less,
polyimide film.
제3항에 있어서,
상기 피로멜리틱디안하이드라이드에 대한 상기 m-톨리딘의 몰비가 0.6 이상 1.5 이하인,
폴리이미드 필름.
4. The method of claim 3,
The molar ratio of m-tolidine to the pyromellitic dianhydride is 0.6 or more and 1.5 or less,
polyimide film.
제3항에 있어서,
상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민의 반응 몰비가 1.05 이상 1.2 이하인,
폴리이미드 필름.
4. The method of claim 3,
The reaction molar ratio of the paraphenylene diamine to the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 1.05 or more and 1.2 or less,
polyimide film.
제3항에 있어서,
상기 피로멜리틱디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민 및 상기 m-톨리딘의 반응 몰비가 0.9 이상 0.99 이하인,
폴리이미드 필름.
4. The method of claim 3,
The reaction molar ratio of the paraphenylene diamine and the m-tolidine to the pyromellitic dianhydride is 0.9 or more and 0.99 or less,
polyimide film.
(a) 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드(BPDA), 피로멜리틱디안하이드라이드(PMDA), 옥시디프탈릭안하이드라이드(ODPA) 및 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드(BTDA)로 이루어진 그룹에서 선택된 2종 이상을 포함하는 이무수물산 성분과, 파라페닐렌 디아민(PPD), m-톨리딘(m-tolidine), 옥시디아닐린(ODA) 및 1,3-비스아미노페녹시벤젠(TPE-R)으로 이루어진 그룹에서 선택된 2 종 이상을 포함하는 디아민 성분을 유기 용매 중에서 중합하여 폴리아믹산을 제조하는 단계; 및
(b) 상기 폴리아믹산을 이미드화하는 단계;를 포함하고,
상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드의 함량이 30 몰% 이상 60 몰% 이하이며, 상기 피로멜리틱디안하이드라이드의 함량이 40 몰% 이상 60 몰% 이하이고,
상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 파라페닐렌 디아민의 함량이 10 몰% 이상 70 몰% 이하이고, 상기 m-톨리딘의 함량이 25 몰% 이상 80 몰% 이하인,
폴리이미드 필름의 제조방법.
(a) the group consisting of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), oxydiphthalic anhydride (ODPA) and benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) A dianhydride component comprising two or more selected from, paraphenylene diamine (PPD), m-tolidine, oxydianiline (ODA), and 1,3-bisaminophenoxybenzene (TPE- R) preparing a polyamic acid by polymerizing a diamine component comprising at least two selected from the group consisting of in an organic solvent; and
(b) imidizing the polyamic acid;
Based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component, the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or more and 60 mol% or less, and the content of the pyromellitic dianhydride is 40 mol% or more and 60 mol% or less,
Based on 100 mol% of the total content of the diamine component, the content of paraphenylene diamine is 10 mol% or more and 70 mol% or less, and the content of m-tolidine is 25 mol% or more and 80 mol% or less,
A method for producing a polyimide film.
제10항에 있어서,
상기 이무수물산 성분의 총함량 100 몰%를 기준으로, 상기 옥시디프탈릭안하이드라이드의 함량이 20 몰% 이하이고, 상기 벤조페논테트라카복실릭디안하이드라이드의 함량이 30 몰% 이하이며,
상기 디아민 성분의 총함량 100몰%를 기준으로, 상기 옥시디아닐린(ODA)의 함량이 20 몰% 이하이고, 상기 1,3-비스아미노페녹시벤젠의 함량이 20 몰% 이하인,
폴리이미드 필름의 제조방법.
11. The method of claim 10,
Based on 100 mol% of the total content of the dianhydride component, the content of the oxydiphthalic anhydride is 20 mol% or less, and the content of the benzophenonetetracarboxylic dianhydride is 30 mol% or less,
Based on 100 mol% of the total content of the diamine component, the content of oxydianiline (ODA) is 20 mol% or less, and the content of 1,3-bisaminophenoxybenzene is 20 mol% or less,
A method for producing a polyimide film.
제10항에 있어서,
상기 비페닐테트라카르복실릭디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민의 반응 몰비가 1.05 이상 1.2 이하이고,
상기 피로멜리틱디안하이드라이드에 대한 상기 파라페닐렌 디아민 및 상기 m-톨리딘의 반응 몰비가 0.9 이상 0.99 이하인,
폴리이미드 필름의 제조방법.
11. The method of claim 10,
The reaction molar ratio of the paraphenylene diamine to the biphenyltetracarboxylic dianhydride is 1.05 or more and 1.2 or less,
The reaction molar ratio of the paraphenylene diamine and the m-tolidine to the pyromellitic dianhydride is 0.9 or more and 0.99 or less,
A method for producing a polyimide film.
제10항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름의 열팽창계수가 1 ppm/℃ 이상, 5 ppm/℃ 이하이고,
탄성율이 9 GPa 이상 11.5 GPa 이하이며,
유리전이온도가 340℃ 이상, 400℃ 이하이고,
흡습팽창계수가 4 ppm/RH% 이상, 6 ppm/RH% 이하인,
폴리이미드 필름의 제조방법.
11. The method of claim 10,
The coefficient of thermal expansion of the polyimide film is 1 ppm/℃ or more and 5 ppm/℃ or less,
The modulus of elasticity is 9 GPa or more and 11.5 GPa or less,
The glass transition temperature is 340 °C or higher and 400 °C or lower;
The coefficient of hygroscopic expansion is 4 ppm/RH% or more and 6 ppm/RH% or less,
A method for producing a polyimide film.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 폴리이미드 필름과 전기 전도성의 금속박을 포함하는,
연성 금속박 적층판.
According to any one of claims 1 to 9, comprising a polyimide film and electrically conductive metal foil according to any one of claims 1 to 9,
Flexible metal foil laminates.
제14항에 따른 연성 금속박 적층판을 포함하는,
전자 부품.
Including the flexible metal foil laminate according to claim 14,
Electronic parts.
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