KR20220054048A - Adhesive compostion, coverlay film and printed circuit board comprising the same - Google Patents

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류의덕
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Abstract

The present invention relates to an adhesive composition, which not only maintains good adhesiveness even when exposed to high temperatures for a long period of time, but also is capable of forming a cured product having excellent bending resistance, heat resistance, quick-press property, flowability, filling ability (embeddability), migration resistance, flame retardancy, low stretchability, and flexibility, and to a coverlay film and printed circuit board comprising the same. The adhesive composition comprises: (a) a bifunctional or higher functional epoxy resin; (b) a rubber-based binder containing acrylonitrile-butadiene rubber and acrylic rubber; (c) a soluble polyimide; and (d) an inorganic filler.

Description

접착 조성물 및 이를 포함하는 커버레이 필름 및 인쇄회로기판{ADHESIVE COMPOSTION, COVERLAY FILM AND PRINTED CIRCUIT BOARD COMPRISING THE SAME}Adhesive composition and coverlay film and printed circuit board comprising the same

본 발명은 접착 조성물 및 이를 포함하는 커버레이 필름 및 인쇄회로기판에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive composition, a coverlay film comprising the same, and a printed circuit board.

커버레이 필름(coverlay film)은 인쇄회로기판의 제조 공정 및 사용 중에 회로 패턴을 보호하기 위해 회로 패턴 형성면에 부착된다. 이러한 커버레이 필름은 기재 및 접착층을 포함한다.A coverlay film is attached to the circuit pattern forming surface to protect the circuit pattern during the manufacturing process and use of the printed circuit board. Such a coverlay film includes a substrate and an adhesive layer.

종래 커버레이 필름의 접착층은 에폭시 수지와 NBR 또는 아크릴 고무로 구성되어 있다. 이러한 종래 커버레이 필름은 접착층이 고온에서 장시간 노출될 때 접착력이 급격하게 저하되어, 인쇄회로기판의 고온 신뢰성을 저하시켰다. 또한, 종래 커버레이 필름은 낮은 흐름성으로 인해 인쇄회로기판의 회로패턴 부분의 단차부(요철)를 충분하게 충진(매립)하지 못하였다. 이 때문에, 종래 커버레이 필름의 접착제층과 인쇄회로기판 계면 사이에는 보이드(Void)가 발생하였고, 이를 제거하기 위해서, 장시간(약 1~2시간)의 핫프레스(Hot Press) 공정을 필요로 하였으며, 이는 곧 생산성 저하라는 문제점을 야기하였다. 게다가, 상기 보이드 부분은 고온에 장시간 방치시 탄화되어 인쇄회로기판의 품질을 저하시켰다. 아울러, 종래 커버레이 필름은 꺽인 형태로 고온의 환경에 장시간 노출시 파단되는 문제가 있었다.The adhesive layer of the conventional coverlay film is composed of an epoxy resin and NBR or acrylic rubber. In such a conventional coverlay film, when the adhesive layer is exposed to a high temperature for a long time, the adhesive force is rapidly reduced, thereby reducing the high temperature reliability of the printed circuit board. In addition, the conventional coverlay film did not sufficiently fill (buried) the step portion (irregularity) of the circuit pattern portion of the printed circuit board due to low flowability. For this reason, a void was generated between the adhesive layer of the conventional coverlay film and the interface of the printed circuit board, and in order to remove it, a hot press process for a long time (about 1 to 2 hours) was required. , which soon caused a problem of lowering productivity. In addition, the void portion is carbonized when left at a high temperature for a long time to deteriorate the quality of the printed circuit board. In addition, there is a problem in that the conventional coverlay film is broken when exposed to a high temperature environment in a bent shape for a long time.

본 발명의 목적은 고온에 장시간 노출되더라도 우수한 접착성을 계속 유지할 뿐만 아니라, 내굴곡성, 내열성, 퀵프레스(quick press)성, 흐름성, 충진성(매립성), 내마이그레이션성, 난연성, 저신축성, 유연성이 우수한 경화물을 형성할 수 있는 접착 조성물을 제공하는 것이다.An object of the present invention is not only to continue to maintain excellent adhesion even when exposed to high temperatures for a long time, but also to have flex resistance, heat resistance, quick press properties, flow properties, filling properties (burial properties), migration resistance, flame retardancy, low elasticity , to provide an adhesive composition capable of forming a cured product having excellent flexibility.

또, 본 발명의 다른 목적은 전술한 접착 조성물을 이용하여 고온 장기 신뢰성이 향상된 커버레이 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a coverlay film having improved high-temperature long-term reliability by using the above-described adhesive composition.

상기한 기술적 과제를 달성하고자, 본 발명은 (a) 2관능 이상의 에폭시 수지; (b) 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 및 아크릴 고무를 함유하는 고무계 바인더; (c) 가용성 폴리이미드; 및 (d) 무기 필러를 포함하는 접착 조성물을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention is (a) a bifunctional or more epoxy resin; (b) a rubber-based binder containing acrylonitrile-butadiene rubber and acrylic rubber; (c) soluble polyimides; And (d) provides an adhesive composition comprising an inorganic filler.

또, 본 발명은 베이스 기재; 상기 베이스 기재의 일면 상에 배치되고, 전술한 접착 조성물로 형성된 접착층; 및 상기 접착층 상에 배치된 이형 기재를 포함하는 커버레이 필름을 제공한다.In addition, the present invention is a base substrate; an adhesive layer disposed on one surface of the base substrate and formed of the adhesive composition described above; and a release substrate disposed on the adhesive layer.

또한, 본 발명은 기판 본체; 및 상기 기판의 적어도 일면 상에 배치되고, 전술한 커버레이 필름을 포함하는 인쇄회로기판을 제공한다.In addition, the present invention is a substrate body; And disposed on at least one surface of the substrate, it provides a printed circuit board comprising the above-described coverlay film.

본 발명의 접착 조성물은 2관능 이상의 에폭시 수지, 고무계 바인더, 및 무기 필러와 함께 가용성 폴리이미드를 포함함으로써, 접착성, 흐름성, 충진성(매립성), 내마이그레이션성, 난연성, 저신축성, 유연성, 절연성, 내변색성, 내습성, 내화학약품성, 치수 안정성, 성형성 등이 우수할 뿐만 아니라, 내열성, 고온 장기 접착력 유지성, 고온 장기 접착성, 내굴곡성이 우수하다.The adhesive composition of the present invention contains a soluble polyimide together with a bifunctional or higher epoxy resin, a rubber-based binder, and an inorganic filler, so that adhesion, flowability, filling properties (embedding properties), migration resistance, flame retardancy, low elasticity, flexibility , insulation, discoloration resistance, moisture resistance, chemical resistance, dimensional stability, moldability, etc. are excellent, as well as excellent heat resistance, high temperature long-term adhesion retention, high temperature long-term adhesion, and bending resistance.

또, 본 발명의 커버레이 필름은 전술한 접착 조성물로 형성된 접착층을 포함함으로써, 장기 고온 신뢰성이 향상될 수 있고, 나아가 인쇄회로기판과의 핫프레스 공정 시간을 단축할 수 있으며, 롤투롤 공정을 통해 인쇄회로기판의 제조시 인쇄회로기판의 품질, 생산성 및 효율성을 향상시킬 수 있다.In addition, the coverlay film of the present invention includes an adhesive layer formed of the adhesive composition described above, so that long-term high temperature reliability can be improved, and furthermore, it is possible to shorten the hot press process time with a printed circuit board, and through a roll-to-roll process When manufacturing a printed circuit board, it is possible to improve the quality, productivity and efficiency of the printed circuit board.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 커버레이 필름의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 커버레이 필름의 개략적인 단면도이다.
도 3은 실험예 2에 따라 레진 흐름성을 평가함에 있어, 핫프레스 후 샘플의 펀칭부 부분을 나타낸 그림이다.
도 4는 실험예 2의 고온 장기 접착성 테스트에 따른 실시예 2, 비교예 1 및 2의 커버레이 필름의 고온 장기 접착력을 나타낸 그래프이다.
도 5는 실험예 3에 따라 측정된 실시예 2 및 비교예 1의 커버레이 필름 외관을 시간별로 각각 나타낸 사진이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a coverlay film according to a first embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of a coverlay film according to a second embodiment of the present invention.
3 is a diagram showing the punching part of the sample after hot pressing in evaluating the resin flowability according to Experimental Example 2.
4 is a graph showing the high-temperature long-term adhesive strength of the coverlay films of Example 2 and Comparative Examples 1 and 2 according to the high-temperature long-term adhesion test of Experimental Example 2.
5 is a photograph showing the appearance of the coverlay film of Example 2 and Comparative Example 1 measured according to Experimental Example 3 over time, respectively.

이하, 본 발명에 대하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated.

<접착 조성물><Adhesive composition>

본 발명에 따른 접착 조성물은 (a) 2관능 이상의 에폭시 수지; (b) 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 및 아크릴 고무를 함유하는 고무계 바인더; (c) 가용성 폴리이미드; 및 (d) 무기 필러를 포함하고, 필요에 따라 유기 용매, 경화제, 및 경화촉진제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 더 포함할 수 있다.The adhesive composition according to the present invention includes (a) a bifunctional or more functional epoxy resin; (b) a rubber-based binder containing acrylonitrile-butadiene rubber and acrylic rubber; (c) soluble polyimides; and (d) an inorganic filler, and if necessary, may further include at least one selected from the group consisting of an organic solvent, a curing agent, and a curing accelerator.

이하, 본 발명에 따른 접착 조성물의 각 성분에 대하여 설명한다.Hereinafter, each component of the adhesive composition according to the present invention will be described.

(a) (a) 2관능2 sensuality 이상의 에폭시 수지 more than epoxy resin

본 발명의 접착 조성물에서, 에폭시 수지는 열경화성 수지로, 경화 후 삼차원 망상 구조를 형성함으로써, 인쇄회로기판에 대한 커버레이 필름의 접착력을 향상시킬 뿐만 아니라, 내열성, 내수성, 내습성이 우수하여 커버레이 필름에 내열 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 에폭시 수지는 기계적 강도, 전기절연성, 내화학약품성, 치수 안정성, 성형성이 우수할 뿐만 아니라, 다른 수지와의 상용성도 우수하다.In the adhesive composition of the present invention, the epoxy resin is a thermosetting resin, and by forming a three-dimensional network structure after curing, not only improves the adhesion of the coverlay film to the printed circuit board, but also has excellent heat resistance, water resistance, and moisture resistance. It is possible to improve the heat resistance reliability of the film. In addition, the epoxy resin has excellent mechanical strength, electrical insulation, chemical resistance, dimensional stability, and moldability, as well as excellent compatibility with other resins.

본 발명에 따른 에폭시 수지는 분자당 2개 이상, 구체적으로 2~4개의 에폭시기(epoxide group)를 함유하는 고분자로, 분자 내 브롬 등의 할로겐 원자를 포함하지 않는 2관능 이상의 에폭시 수지인 것이 바람직하다. 또한, 에폭시 수지는 분자 내 실리콘, 우레탄, 폴리이미드, 폴리아미드 등을 함유하고 있을 뿐만 아니라, 분자 내 인 원자, 황 원자, 질소 원자 등을 포함할 수 있다. 이러한 에폭시 수지는 접착층에 전기 절연성, 내열성, 화학적 안정성, 강도(toughness) 및 성형성을 부여할 수 있다.The epoxy resin according to the present invention is a polymer containing 2 or more, specifically 2 to 4 epoxide groups per molecule, and is preferably a bifunctional or higher epoxy resin that does not contain a halogen atom such as bromine in the molecule. . In addition, the epoxy resin may contain not only silicone, urethane, polyimide, polyamide, etc. in the molecule, but also a phosphorus atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and the like in the molecule. Such an epoxy resin may impart electrical insulation, heat resistance, chemical stability, toughness, and moldability to the adhesive layer.

본 발명에서 사용 가능한 에폭시 수지로는 당 업계에서 2개 이상의 에폭시기를 함유하는 고분자라면 특별히 제한되지 않으며, 예컨대 페놀 또는 알킬 페놀류와 히드록시벤즈알데히드와의 축합물을 에폭시화함으로써 얻어지는 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 페놀아랄킬형 에폭시 수지, 바이페닐(biphenyl)형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 선형 지방족 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 스피로환을 포함하는 에폭시 수지, 자일록형 에폭시 수지, 다관능형 에폭시 수지, 나프톨노블락형 에폭시 수지, 비스페놀A/비스페놀F/비스페놀AD의 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀A/비스페놀F/비스페놀AD의 글리시딜에테르 에폭시 수지, 비스히드록시비페닐계 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔계 에폭시 수지, 나프탈렌계 에폭시 수지 등이 있는데, 이에 한정되지 않는다. The epoxy resin usable in the present invention is not particularly limited as long as it is a polymer containing two or more epoxy groups in the art. For example, an epoxy resin obtained by epoxidizing a condensate of phenol or alkyl phenols with hydroxybenzaldehyde, phenol novolac Type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, linear aliphatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, heterocyclic type Epoxy resin, epoxy resin containing spiro ring, xylok type epoxy resin, polyfunctional type epoxy resin, naphthol no block type epoxy resin, bisphenol A/bisphenol F/bisphenol AD novolak type epoxy resin, bisphenol A/bisphenol F/bisphenol AD of glycidyl ether epoxy resin, bishydroxybiphenyl-based epoxy resin, dicyclopentadiene-based epoxy resin, naphthalene-based epoxy resin, and the like, but is not limited thereto.

상기 에폭시 수지의 에폭시 당량(epoxy equivalent weight, EEW)은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 약 100 내지 500 g/eq 범위, 구체적으로 약 300 내지 500 g/eq 범위일 수 있다. 이 경우, 본 발명에 따른 접착 조성물의 (반)경화물(예, 커버레이 필름의 접착층)은 내화학성 및 내습성이 향상될 수 있다. 또한, 전술한 범위의 에폭시 당량을 갖는 에폭시 수지를 고무계 바인더 및 가용성 폴리이미드와 혼합함으로써, 접착층의 흐름성이 더 극대화되어 커버레이 필름의 접착층이 인쇄회로기판의 회로간 단차를 단시간에 충전시킬 수 있다.The epoxy equivalent weight (EEW) of the epoxy resin is not particularly limited, and may be, for example, in the range of about 100 to 500 g/eq, specifically, in the range of about 300 to 500 g/eq. In this case, the (semi)cured product (eg, the adhesive layer of the coverlay film) of the adhesive composition according to the present invention may have improved chemical resistance and moisture resistance. In addition, by mixing an epoxy resin having an epoxy equivalent in the above range with a rubber-based binder and a soluble polyimide, the flowability of the adhesive layer is further maximized, so that the adhesive layer of the coverlay film can fill the step difference between circuits of the printed circuit board in a short time. there is.

본 발명의 접착 조성물에서, 에폭시 수지의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로 약 15 내지 25 중량부일 수 있다. 이 경우, 접착 조성물의 흐름성이 우수하여 접착층의 충진 특성이 극대화될 뿐만 아니라, 동박과의 접착력이 증가해 내열성이 더 향상될 수 있다.In the adhesive composition of the present invention, the content of the epoxy resin is not particularly limited, and for example, may be about 15 to 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition (provided that the solvent is not included). In this case, the excellent flowability of the adhesive composition not only maximizes the filling properties of the adhesive layer, but also increases the adhesive force with the copper foil, thereby further improving heat resistance.

(b) (b) 고무계rubber 바인더 bookbinder

본 발명의 접착 조성물은 고무계 바인더를 포함한다. 고무계 바인더는 2종 이상의 고무를 함유하는 것으로, 적어도 1종의 비결정성 고무를 함유한다. 여기서, 비결정성 고무는 결정화도가 10% 이하인 고무를 의미한다. 이러한 본 발명의 고무계 바인더는 상호 결합력을 부여하여 조성물의 필름화를 유도할 뿐만 아니라, 경화 후 경화물(예, 접착층)의 흐름성을 제어하면서, 접착성, 유연성(Flexibility), 굴곡성, 내크랙성 등을 향상시킬 수 있다. The adhesive composition of the present invention includes a rubber-based binder. The rubber binder contains two or more types of rubber, and contains at least one type of amorphous rubber. Here, the amorphous rubber means a rubber having a crystallinity of 10% or less. The rubber binder of the present invention not only induces film formation of the composition by imparting mutual bonding force, but also controls the flowability of the cured product (eg, adhesive layer) after curing, while maintaining adhesion, flexibility, flexibility, and crack resistance. performance can be improved.

일례에 따르면, 고무계 바인더는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 및 아크릴 고무를 함유한다. According to one example, the rubber-based binder contains acrylonitrile-butadiene rubber and acrylic rubber.

이때, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 및 아크릴 고무의 사용 비율(혼합 비율)은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 1 : 1.5~7 중량 비율일 수 있다. 다만, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 및 아크릴 고무의 사용 비율(혼합 비율)이 전술한 범위일 경우, 커버레이 필름의 접착층은 인쇄회로기판과의 라미네이팅시 약 160~180 ℃에서의 점도가 약 1,000,000~10,000,000 cps 내로 제어되어 접착층의 흐름성이 극대됨으로써, 본 발명에 따른 접착 조성물의 경화물은 충전 특성이 향상될 수 있다. 특히, 본 발명의 접착 조성물은 종래 접착 조성물에 비해 핫프레스 공정 시간을 약 5~6 배 이상 단축시켜 공정 효율을 향상시킬 수 있다. 게다가, 본 발명의 접착 조성물로 된 접착층은 접착성, 내열성, 내마이그레이션(anti-migration) 특성이 우수함은 물론, 고온의 장기 접착성이 유지되어 고온의 장기 신뢰성이 향상될 수 있다.In this case, the ratio (mixing ratio) of the acrylonitrile-butadiene rubber and the acrylic rubber is not particularly limited, and may be, for example, 1:1.5-7 by weight. However, when the ratio (mixing ratio) of the acrylonitrile-butadiene rubber and the acrylic rubber is within the above range, the adhesive layer of the coverlay film has a viscosity at about 160 to 180 ℃ when laminating with a printed circuit board about 1,000,000 to By controlling within 10,000,000 cps to maximize the flowability of the adhesive layer, the cured product of the adhesive composition according to the present invention may have improved filling properties. In particular, the adhesive composition of the present invention can improve process efficiency by shortening the hot press process time by about 5 to 6 times or more compared to the conventional adhesive composition. In addition, the adhesive layer made of the adhesive composition of the present invention has excellent adhesiveness, heat resistance, and anti-migration properties, as well as long-term adhesiveness at high temperatures, so that long-term reliability at high temperatures can be improved.

본 발명의 고무계 바인더에서, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(NBR)는 아크릴로니트릴(Acrylonitrile)과 부타디엔(butadiene)의 공중합체인 합성고무이다. 이러한 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(NBR)는 에폭시 수지와 반응하여 접착층의 흐름성을 제어할 수 있습니다. 또, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(NBR)는 내유성, 내마모성, 내노화성이 우수하며, 부타디엔 고무 대비 상용 온도가 높아 내열성을 부여할 수 있다. 또한, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(NBR)는 접착층에 접착성, 내열성을 부여할 수 있다.In the rubber binder of the present invention, the acrylonitrile-butadiene rubber (NBR) is a synthetic rubber that is a copolymer of acrylonitrile and butadiene. This acrylonitrile-butadiene rubber (NBR) can react with the epoxy resin to control the flowability of the adhesive layer. In addition, acrylonitrile-butadiene rubber (NBR) has excellent oil resistance, abrasion resistance, and aging resistance, and has a high commercial temperature compared to butadiene rubber, thereby providing heat resistance. In addition, acrylonitrile-butadiene rubber (NBR) may impart adhesiveness and heat resistance to the adhesive layer.

상기 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 내 아크릴로니트릴의 함유율은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 약 20 내지 40 중량% 범위일 수 있다. 다만, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 내 아크릴로니트릴의 함량이 전술한 범위일 경우, 에폭시 수지와 반응하여 우수한 내열 특성을 구현할 수 있고, 또 반응 속도 조절이 용이하여 접착층의 충진성 및 공정성을 확보할 수 있다. 만약, 아크릴로니트릴 함량이 20 중량%보다 낮은 경우, 용매에 대한 상용성이 낮아지고, 40 중량%보다 높아질 경우 절연 특성에 문제가 발생할 수 있다.The content of acrylonitrile in the acrylonitrile-butadiene rubber is not particularly limited, and may be, for example, about 20 to 40 wt%. However, when the content of acrylonitrile in the acrylonitrile-butadiene rubber is within the above range, excellent heat resistance properties can be realized by reacting with the epoxy resin, and the reaction rate can be easily controlled to ensure fillability and fairness of the adhesive layer. can If the acrylonitrile content is lower than 20% by weight, compatibility with a solvent is lowered, and when it is higher than 40% by weight, a problem in insulating properties may occur.

상기 아크릴로니트릴-부타디엔 고무는 말단 및/또는 측쇄에 카르복실기, 아미노기, 에폭시기, 수산기, 메톡시기, 이소시아네이트기, 및 비닐기로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 관능기를 함유할 수 있다. 이러한 관능기는 에폭시 수지와 반응하여 접착성, 내습성, 내열성 등의 물성을 향상시킬 수 있다.The acrylonitrile-butadiene rubber may contain at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, a hydroxyl group, a methoxy group, an isocyanate group, and a vinyl group at the terminal and/or side chain. These functional groups may react with the epoxy resin to improve physical properties such as adhesion, moisture resistance, and heat resistance.

일례에 따르면, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무는 말단 및/또는 측쇄에 카르복실기를 함유하는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(이하, '카르복실기-함유 NBR')일 수 있다. 상기 카르복실기-함유 NBR은 카르복실기를 함유하기 때문에, 접착 조성물의 안정성이 증가되어 다른 성분들과의 혼화성이 향상될 수 있으며, 접착 조성물의 가공성을 향상시킬 수 있다. 또한, 카르복실기-함유 NBR의 카르복실기는 에폭시 수지와 반응하여 접착성 향상은 물론, 내습성, 내열성 등의 물성도 향상시킬 수 있다.According to one example, the acrylonitrile-butadiene rubber may be an acrylonitrile-butadiene rubber (hereinafter, 'carboxyl group-containing NBR') containing a carboxyl group at the terminal and/or side chain. Since the carboxyl group-containing NBR contains a carboxyl group, the stability of the adhesive composition may be increased to improve compatibility with other components, and processability of the adhesive composition may be improved. In addition, the carboxyl group of the carboxyl group-containing NBR may react with the epoxy resin to not only improve adhesion but also improve physical properties such as moisture resistance and heat resistance.

이러한 카르복실기-함유 NBR 내 카르복시기의 함유율은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 약 0.5 내지 2 중량%일 수 있다. 이때, 카르복실기-함유 NBR 내 아크릴로니트릴의 함유율은 약 20 내지 40 중량%일 수 있다.The content of the carboxyl group in the carboxyl group-containing NBR is not particularly limited, and may be, for example, about 0.5 to 2 wt%. In this case, the content of acrylonitrile in the carboxyl group-containing NBR may be about 20 to 40 wt%.

또한, 카르복실기-함유 NBR은 내마이그레이션 특성 부여를 위해서, K+, NH4+, Na+, Cl- 등과 같은 이온의 총 함량을 약 0.1~20 ppm 정도로 낮춘 고순도 고무를 사용할 수 있다. 일반적인 고무는 전술한 이온과 같은 불순물을 약 150 ppm 이상 함유하는데, 고순도의 카르복실기-함유 NBR를 사용할 경우, 금속층으로 전도성 이온의 이동이 최소화되어 우수한 내마이그레이션성과 높은 신뢰도를 갖는 제품을 구비할 수 있다. 일례에 따르면, 카르복실기-함유 NBR은 Na+ 이온을 약 5~15 ppm, K+ 이온을 약 2~5 ppm, Cl- 이온을 약 0.1~0.5 ppm 정도 함유할 수 있다.In addition, as the carboxyl group-containing NBR, high-purity rubber in which the total content of ions such as K + , NH 4+ , Na + , Cl - is lowered to about 0.1 to 20 ppm may be used to impart migration resistance. General rubber contains about 150 ppm or more of impurities such as the above-mentioned ions. When a high-purity carboxyl group-containing NBR is used, the movement of conductive ions to the metal layer is minimized, so that a product with excellent migration resistance and high reliability can be provided. . According to one example, the carboxyl group-containing NBR may contain about 5 to 15 ppm of Na + ions, about 2 to 5 ppm of K + ions, and about 0.1 to 0.5 ppm of Cl ions.

본 발명의 고무계 바인더에서, 아크릴 고무(Acrylic Rubber)는 (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 반복단위를 포함하는 합성고무이다. 이러한 아크릴 고무는 커버레이 필름을 인쇄회로기판에 가접한 후 가접된 커버레이 필름-인쇄회로기판의 적층체를 약 150~190 ℃의 온도 및 약 10~100 kgf/㎠의 면압의 조건하에서 핫프레스(hot press)하거나, 또는 롤투롤(roll-to-roll) 방식에 의해 커버레이 필름을 인쇄회로기판에 가접한 후 가접된 커버레이 필름-인쇄회로기판의 적층체를 약 150~230 ℃의 온도 및 약 2~20 kN의 선압 조건하에서 한 쌍의 히팅 롤러로 롤 프레스(roll press)할 때, 접착층 내에 미가교 상태 또는 반가교 상태로 있어 접착층의 흐름성을 에폭시 수지와 함께 극대화시키고, 접착층의 열 경화 후 가교되어 접착층의 접착성, 전단성 및 탄성을 향상시킬 수 있다.In the rubber binder of the present invention, the acrylic rubber is a synthetic rubber including a repeating unit derived from (meth)acrylic acid ester. This acrylic rubber is made by attaching the coverlay film to the printed circuit board, and then hot pressing the laminated body of the coverlay film-printed circuit board under the conditions of a temperature of about 150 to 190 ℃ and a surface pressure of about 10 to 100 kgf/cm2. (hot press) or a roll-to-roll (roll-to-roll) method after bonding the coverlay film to the printed circuit board, the laminated body of the laminated coverlay film-printed circuit board at a temperature of about 150 ~ 230 ℃ And when roll pressing with a pair of heating rollers under a linear pressure of about 2 to 20 kN, the adhesive layer is in an uncrosslinked or semi-crosslinked state to maximize the flowability of the adhesive layer together with the epoxy resin, and It can be crosslinked after heat curing to improve adhesion, shear properties and elasticity of the adhesive layer.

상기 아크릴 고무는 말단 및/또는 측쇄에 카르복실기, 아미노기, 에폭시기, 수산기, 메톡시기, 이소시아네이트기, 및 비닐기로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 관능기를 함유할 수 있다. 이러한 관능기는 에폭시 수지와 반응하여 접착성, 내습성, 내열성 등의 물성을 향상시킬 수 있다. 또한, 아크릴 고무는 접착층 내에 미가교 또는 반가교된 상태로 존재하며, 커버레이 필름을 인쇄회로기판에 적용시 접착층에 흐름성을 부여하여 접착층의 흐름성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.The acrylic rubber may contain at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, a hydroxyl group, a methoxy group, an isocyanate group, and a vinyl group at the terminal and/or side chain. These functional groups may react with the epoxy resin to improve physical properties such as adhesion, moisture resistance, and heat resistance. In addition, the acrylic rubber exists in an uncrosslinked or semi-crosslinked state in the adhesive layer, and when the coverlay film is applied to a printed circuit board, flowability of the adhesive layer is imparted to the adhesive layer, thereby preventing deterioration of the flowability of the adhesive layer.

일례에 따르면, 상기 아크릴 고무는 말단 및/또는 측쇄에 카르복실기를 함유하는 아크릴 고무(이하, '카르복실기-함유 아크릴 고무')일 수 있다.According to one example, the acrylic rubber may be an acrylic rubber containing a carboxyl group at the terminal and/or side chain (hereinafter, 'carboxyl group-containing acrylic rubber').

이러한 카르복실기-함유 아크릴 고무 내 카르복시기의 함유율은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 약 0.1 내지 5 중량%일 수 있다.The content of the carboxyl group in the carboxyl group-containing acrylic rubber is not particularly limited, and may be, for example, about 0.1 to 5% by weight.

본 발명에서 사용 가능한 아크릴 고무로는 당 업계에서 알려진 것이라면 특별히 제한되지 않는다. 예컨대, (메트)아크릴산 에스테르로부터 유래된 반복단위를 포함하는 단독 중합체; (메트)아크릴산 에스테르로부터 유래된 반복단위와 아크릴로니트릴로부터 유래된 반복단위를 함유하는 공중합체; (메트)아크릴산 에스테르로부터 유래된 반복단위와 염소 원자-함유 모노머로부터 유래된 반복단위를 함유하는 공중합체 등이 있다. 또한, 상기 공중합체는 전술한 반복단위 이외, 아크릴산, 메타아크릴산, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타아크릴레이트 등의 모노머로부터 유래된 반복단위를 더 함유할 수 있다. 여기서, (메트)아크릴산에스테르는 아크릴산 에스테르 또는 메타크릴산 에스테르를 의미한다.The acrylic rubber usable in the present invention is not particularly limited as long as it is known in the art. For example, a homopolymer comprising a repeating unit derived from (meth)acrylic acid ester; a copolymer containing a repeating unit derived from (meth)acrylic acid ester and a repeating unit derived from acrylonitrile; copolymers containing a repeating unit derived from (meth)acrylic acid ester and a repeating unit derived from a chlorine atom-containing monomer; and the like. In addition, the copolymer may further contain repeating units derived from monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, glycidyl acrylate, and glycidyl methacrylate in addition to the repeating units described above. Here, (meth)acrylic acid ester means acrylic acid ester or methacrylic acid ester.

상기 (메트)아크릴산 알킬에스테르의 예로는 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, 2-에틸(메트)헥실아크릴레이트, n-옥틸(메트)아타크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-노닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트 등과 같은 C1~C20의 알킬기를 함유하는 (메트)아크릴산알킬에스테르; 부타디엔 등과 같이, 탄소수 4~6 개의 탄소 원자로 이루어지는 공액 디엔 모노머류; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 비닐프로필에테르 등과 같은 비닐에테르류 등이 있는데, 이들은 단독으로 사용되거나 또는 2 종 이상이 조합하여 사용될 수 있다.Examples of the (meth)acrylic acid alkyl ester include ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylic rate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-ethyl (meth) hexyl acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, n- (meth)acrylic acid alkyl ester containing a C1-C20 alkyl group such as decyl (meth)acrylate; conjugated diene monomers having 4 to 6 carbon atoms, such as butadiene; There are vinyl ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, and vinyl propyl ether, and these may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 고무계 바인더는 전술한 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(NBR) 및 아크릴 고무 이외에, 당 업계에 일반적으로 알려진 기타 고무라면 특별한 제한없이 더 함유할 수 있다. 예를 들면, 천연 고무; 이소프렌 고무(isoprene rubber), 1,2-폴리부타디엔(1,2-polybutadiene), 스티렌-부타디엔 고무(styrene butadiene rubber, SBR), 클로로프렌 고무(chloroprene rubber), 부틸 고무(butyl rubber), 에틸렌-프로필렌 고무(ethylene propylene rubber), 부타디엔 고무(butadiene rubber, BR), 클로로술폰화 폴리에틸렌(chlorosulphonated polyethylene rubber), 에피클로로히드린 고무(epichlorohydrine rubber), 다황화 고무, 실리콘 고무(silicone rubber), 불소 고무(fluoro rubber), 우레탄 고무(urethane rubber) 등과 같은 합성 고무가 있는데, 이에 한정되지 않는다. 이 중에서 비결정성 고무인 천연 고무, 이소프렌 고무, 스티렌 고무, 스티렌-부타디엔 고무, 부타디엔 고무, 클로로프렌 고무, 우레탄 고무 등이 바람직하다.In addition to the acrylonitrile-butadiene rubber (NBR) and acrylic rubber, the rubber binder of the present invention may further contain other rubbers generally known in the art without particular limitation. For example, natural rubber; isoprene rubber, 1,2-polybutadiene, styrene butadiene rubber (SBR), chloroprene rubber, butyl rubber, ethylene-propylene Rubber (ethylene propylene rubber), butadiene rubber (BR), chlorosulphonated polyethylene rubber, epichlorohydrine rubber, polysulfide rubber, silicone rubber, fluorine rubber ( fluoro rubber) and synthetic rubber such as urethane rubber, but is not limited thereto. Among them, natural rubber, isoprene rubber, styrene rubber, styrene-butadiene rubber, butadiene rubber, chloroprene rubber, urethane rubber, etc. which are amorphous rubbers are preferable.

이러한 기타 고무의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 고무계 바인더의 총량을 기준으로 약 5 중량% 이하, 구체적으로 약 3 중량% 이하, 더 구체적으로 약 0 내지 1 중량%일 수 있고, 보다 더 구체적으로 약 0 중량% 초과 내지 0.5 중량% 이하일 수 있다.The content of these other rubbers is not particularly limited, and may be about 5% by weight or less, specifically about 3% by weight or less, more specifically about 0 to 1% by weight, and more specifically about It may be greater than 0% by weight and up to 0.5% by weight.

본 발명의 접착 조성물에서, 고무계 바인더의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 일례에 따르면 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로 약 30 내지 40 중량부일 수 있다. 이 경우, 접착 조성물의 흐름성이 우수하여 접착층의 충진 특성이 극대화될 뿐만 아니라, 접착력이 더 향상될 수 있다.In the adhesive composition of the present invention, the content of the rubber binder is not particularly limited, and according to one example, may be about 30 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition (provided that the solvent is not included). In this case, the flowability of the adhesive composition is excellent, so that the filling properties of the adhesive layer are maximized, and the adhesive force can be further improved.

(c) 가용성 폴리이미드(c) soluble polyimide

본 발명의 접착 조성물은 가용성 폴리이미드(soluble polyimide)를 포함한다. 상기 가용성 폴리이미드는 이미드(imide) 고리를 함유하는 고분자 물질로서, 모노머인 디아민과 산이무수물을 용매에 용해시킨 후, 약 160~190 ℃의 조건하에서 이미드화 반응시켜 중합된 것으로, 이미드화가 완결된 용액 상태의 가용성 폴리이미드 수지이다. 이러한 가용성 폴리이미드는 고형분 함량이 약 15~25 중량% 정도이다. 상기 가용성 폴리이미드는 이미드 고리의 화학적 안정성을 기초로 하여 내열성, 내화학성, 내마모성 및 전기적 특성이 우수하다. 상기 가용성 폴리이미드 수지는 랜덤 공중합체(random copolymer)나 블록 공중합체(block copolymer) 형태일 수 있다. 또, 상기 가용성 폴리이미드는 액상이기 때문에, 다른 성분들과 혼합될 수 있어 가공성이 향상될 수 있다. The adhesive composition of the present invention includes a soluble polyimide. The soluble polyimide is a polymer material containing an imide ring, which is polymerized by dissolving diamine and acid dianhydride as monomers in a solvent, and then imidizing under the conditions of about 160 to 190 ° C. It is a soluble polyimide resin in a finished solution state. Such soluble polyimides have a solid content of about 15 to 25% by weight. The soluble polyimide has excellent heat resistance, chemical resistance, abrasion resistance and electrical properties based on the chemical stability of the imide ring. The soluble polyimide resin may be in the form of a random copolymer or a block copolymer. In addition, since the soluble polyimide is liquid, it can be mixed with other components to improve processability.

본 발명에서 사용 가능한 가용성 폴리이미드는 당 분야에서 통상적으로 이미드화가 완료된 용액 상태의 폴리이미드 수지라면, 특별한 제한없이 사용될 수 있다. The soluble polyimide usable in the present invention may be used without any particular limitation as long as it is a polyimide resin in a solution state where imidization is usually completed in the art.

다만, 본 발명에서는 우수한 흐름성, 접착성 및 내굴곡성을 구현하기 위해서, 레진 흐름성(resin flow, R/F)이 약 10 내지 25 % 범위, 구체적으로 약 15 내지 20 % 범위를 갖는 가용성 폴리이미드를 포함한다. 여기서, 레진 흐름성은 하기 수학식 1에 의해 계산될 수 있다.However, in the present invention, in order to implement excellent flowability, adhesion and flex resistance, resin flow (R/F) is in the range of about 10 to 25%, specifically, the soluble polyi having a range of about 15 to 20%. includes mids. Here, the resin flowability may be calculated by Equation 1 below.

[수학식 1][Equation 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(상기 수학식 1에서,(In Equation 1 above,

R11은 상기 가용성 폴리이미드로 된 B 스테이지(stage) 상태의 수지 필름 중심부에 원 형상의 펀칭부를 형성할 때, 상기 펀칭부의 반지름이고,R 11 is the radius of the punching part when forming a circular punching part in the center of the resin film in the B-stage state of the soluble polyimide,

R12는 상기 펀칭부가 형성된 수지 필름을 동박 상에 적층한 다음, 130 ℃ 및 5700 lb의 조건 하에서 3분 동안 프레스한 후, 상기 펀칭부에 대응되는 동박부 내에서 상기 수지층의 수지가 흐르지 않은 동박부의 반지름이며,R 12 is after laminating the resin film on which the punching part is formed on the copper foil, and then pressing for 3 minutes under the conditions of 130 ° C and 5700 lb, in the copper foil part corresponding to the punching part, the resin of the resin layer does not flow It is the radius of the copper foil,

L11, L12, L13 및 L14는 각각 상기 수지층의 펀칭부의 12시, 3시, 6시 및 9시 방향 부분에서 흐른 수지의 길이임). L 11 , L 12 , L 13 and L 14 are the lengths of the resin flowing in the 12 o'clock, 3 o'clock, 6 o'clock and 9 o'clock directions of the punching part of the resin layer, respectively).

또, 본 발명에 따른 가용성 폴리이미드는 우수한 기계적 물성, 내열성, 접착성 및 내구성을 제공하기 위해, 하기 (ⅰ) 내지 (ⅴ)의 물성 중 적어도 하나를 만족할 수 있으며, 구체적으로 2개 이상, 보다 구체적으로 모두 만족하는 것일 수 있다. In addition, the soluble polyimide according to the present invention may satisfy at least one of the following physical properties (i) to (v) in order to provide excellent mechanical properties, heat resistance, adhesion and durability, and specifically two or more, more Specifically, all may be satisfied.

(ⅰ) JIS C 6471 시험법에 따른 MIT 내굴곡 시험에서의 굴곡 횟수가 1,000 회 이상, 구체적으로 1,200 내지 2,000 회일 수 있다. 이러한 MIT 내굴곡 시험은 제1 동박과 제2 동박 사이에 삽입된 가용성 폴리이미드 필름을 반복적으로 굴곡시켜 파단할 때의 굴곡 횟수를 측정한 것이다. 구체적으로 0.5 kg의 하중, 175 cpm의 굴곡 속도, 135 °의 굴곡 각도, 1000/1000 ㎛의 라인/스페이스의 조건하에서, 제1 동박과 제2 동박 사이에 삽입된 B 스테이지 상태의 가용성 폴리이미드 필름을 0.38 ㎜의 굴곡 반경으로 반복하여 굴곡시켜 파단할 때의 굴곡 횟수를 측정한 것이다.(i) The number of bending in the MIT bending resistance test according to the JIS C 6471 test method may be 1,000 or more, specifically 1,200 to 2,000 times. The MIT bending resistance test is to measure the number of bending when the soluble polyimide film inserted between the first copper foil and the second copper foil is repeatedly bent and broken. Specifically, under the conditions of a load of 0.5 kg, a bending speed of 175 cpm, a bending angle of 135°, and a line/space of 1000/1000 μm, a B-stage soluble polyimide film inserted between the first and second copper foils. was repeatedly bent with a bending radius of 0.38 mm to measure the number of bending when fractured.

(ⅱ) 100 ㎜의 표점 거리에서 50.8 ㎜/min의 속도로 장력이 가해질 때, 가용성 폴리이미드 필름(크기: 15㎜×120㎜×0.05㎜, B 스테이지 상태)의 인장 강도(tensile strength)가 80 MPa 이상, 구체적으로 80 내지 120 MPa일 수 있다. (ii) the tensile strength of the soluble polyimide film (size: 15 mm × 120 mm × 0.05 mm, B-stage state) when tension was applied at a rate of 50.8 mm/min at a gage distance of 100 mm was 80 MPa or more, specifically 80 to 120 MPa.

(ⅲ) 100 ㎜의 표점 거리에서 50.8 ㎜/min의 속도로 장력이 가해질 때, 가용성 폴리이미드 필름(크기: 15㎜×120㎜×0.05㎜, B 스테이지 상태)의 영 모듈러스(Young's modulus)가 2,500 MPa 이상, 구체적으로 2,500 내지 3,000 MPa일 수 있다. (iii) The Young's modulus of the soluble polyimide film (size: 15 mm×120 mm×0.05 mm, B-stage state) when tension was applied at a rate of 50.8 mm/min at a gage point distance of 100 mm was 2,500 MPa or more, specifically 2,500 to 3,000 MPa.

(ⅳ) 100 ㎜의 표점 거리에서 50.8 ㎜/min의 속도로 장력이 가해질 때, 가용성 폴리이미드 필름(크기: 15㎜×120㎜×0.05㎜, B 스테이지 상태)의 연신율(elongation)이 5 % 이상, 구체적으로 5 내지 10 %일 수 있다. (iv) When tension is applied at a rate of 50.8 mm/min at a gage distance of 100 mm, the elongation of the soluble polyimide film (size: 15 mm×120 mm×0.05 mm, B-stage state) is 5% or more , specifically 5 to 10%.

(ⅴ) 20±5 ℃에서 90도 박리시, 피착체(예, 동박)에 대한 가용성 폴리이미드 필름의 접착력이 1.2 kgf/㎝ 이상, 구체적으로 1.2 내지 2 kgf/㎝일 수 있다. (v) When peeled by 90 degrees at 20±5° C., the adhesive force of the soluble polyimide film to an adherend (eg, copper foil) may be 1.2 kgf/cm or more, specifically 1.2 to 2 kgf/cm.

본 발명에 따른 가용성 폴리이미드가 전술한 물성을 만족함으로써, 본 발명의 접착 조성물을 이용한 제품의 고온 장기 신뢰성이 향상될 수 있다.Since the soluble polyimide according to the present invention satisfies the above-described physical properties, the high temperature long-term reliability of a product using the adhesive composition of the present invention can be improved.

이와 같은 가용성 폴리이미드는 1종 이상의 디아민과 1종 이상의 산이무수물을 포함하여 공중합된 것이다. 다만, 본 발명에서는 접착 조성물의 코팅성 및 흐름성을 향상시키기 위해서, 디아민과 산이무수물의 혼합 비율을 1.015~1.03 : 1 몰비율로 조절한다. 일례에 따르면, 가용성 폴리이미드는 (a) 2종 이상의 방향족 디아민과 (b) 2종 이상의 방향족 산이무수물을 1.015~1.03 : 1 몰비율을 포함하여 중합된 폴리이미드로, 레진 흐름성이 10 내지 25 % 범위일 수 있다.Such soluble polyimide is copolymerized with at least one diamine and at least one acid dianhydride. However, in the present invention, in order to improve the coating properties and flowability of the adhesive composition, the mixing ratio of diamine and acid dianhydride is adjusted to 1.015 to 1.03: 1 molar ratio. According to one example, the soluble polyimide is a polyimide polymerized by containing (a) two or more aromatic diamines and (b) two or more aromatic acid dianhydrides in a molar ratio of 1.015 to 1.03: 1, and the resin flowability is 10 to 25. % range.

본 발명에서, 방향족 디아민은 당 분야에서 분자 내 디아민 구조를 갖는 방향족 화합물로 통상적으로 알려진 것이라면 제한 없이 사용 가능하다. 예를 들어, 2,2-bis(4-[4-aminophenoxy]-phenyl)propane(BAPP), 1,3'-Bis(3-aminophenoxy)benzene (APBN), phenylene diamine(PDA), oxydianiline(ODA), 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPER), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPEQ), 2,2'-Dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl(m-TB-HG), 1,3-bis(4-aminophenoxy) benzene(TPE-R), 2,2-bis(4-[3-aminophenoxy]phenyl) sulfone(m-BAPS), 4,4'-diamino benzanilide(DABA), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, bis(4-aminophenyl)methanone, 2,2'-Bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl ether(6-FODA), 4,4'-[1,4-Phenylenebis(oxy)]bis[3-(trifluoromethyl]benzenamine(FAPB), 4,4'-(((Perfluoropropane-2,2-diyl)bis(4,1-phenylene))bis(oxy))dianiline, 4,4'-((Sulfonylbis(4,1-phenylene))bis(oxy))dianiline, 4,4'-(4,4'-(propane-2,2-diyl)bis(4,1-phenylene))bis(oxy) dianinilne 등이 있는데, 이 중에서 2종 이상을 선택하여 혼용한다. 특히, 2종 이상의 방향족 디아민 중 적어도 하나가 에테르계 방향족 디아민일 경우, 본 발명에서는 가용성 폴리이미드의 흐름성을 높이면서, 기계적 특성도 더 높일 수 있다.In the present invention, the aromatic diamine may be used without limitation as long as it is commonly known as an aromatic compound having an intramolecular diamine structure in the art. For example, 2,2-bis(4-[4-aminophenoxy]-phenyl)propane (BAPP), 1,3'-Bis(3-aminophenoxy)benzene (APBN), phenylene diamine (PDA), oxydianiline (ODA) ), 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPER), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPEQ), 2,2'-Dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl(m-TB -HG), 1,3-bis(4-aminophenoxy) benzene(TPE-R), 2,2-bis(4-[3-aminophenoxy]phenyl) sulfone(m-BAPS), 4,4'-diamino benzanilide (DABA), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, bis(4-aminophenyl)methanone, 2,2'-Bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl ether(6-FODA), 4, 4'-[1,4-Phenylenebis(oxy)]bis[3-(trifluoromethyl]benzenamine(FAPB), 4,4'-(((Perfluoropropane-2,2-diyl)bis(4,1-phenylene)) bis(oxy))dianiline, 4,4'-((Sulfonylbis(4,1-phenylene))bis(oxy))dianiline, 4,4'-(4,4'-(propane-2,2-diyl) There are bis(4,1-phenylene))bis(oxy) dianinilne, etc. Among them, two or more kinds are selected and mixed, In particular, when at least one of two or more kinds of aromatic diamines is an ether-based aromatic diamine, in the present invention, While increasing the flowability of the soluble polyimide, the mechanical properties can be further improved.

일례에 따르면, 2종 이상의 방향족 디아민은 (a1) 알킬렌기-함유 방향족 디아민; 및 (a2) 알킬렌기-비(非)함유 방향족 디아민을 함유하고, 상기 알킬렌기-함유 방향족 디아민; 및 알릴렌기-비함유 방향족 디아민 중 적어도 어느 하나는 에테르기-함유 방향족 디아민일 수 있다.According to one example, the two or more aromatic diamines are selected from the group consisting of (a1) an alkylene group-containing aromatic diamine; and (a2) an alkylene group-free aromatic diamine, said alkylene group-containing aromatic diamine; and at least one of an allylene group-free aromatic diamine may be an ether group-containing aromatic diamine.

이때, 상기 알킬렌기-함유 방향족 디아민, 및 알릴렌기-비(非)함유 방향족 디아민의 사용 비율(혼합 비율)은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 20:80 내지 50:50 몰비율, 구체적으로 25:75 ~ 50:50 몰비율일 수 있다.In this case, the use ratio (mixing ratio) of the alkylene group-containing aromatic diamine and the allylene group-free aromatic diamine is not particularly limited, and for example, a molar ratio of 20:80 to 50:50, specifically 25:75 It may be in a molar ratio of ~ 50:50.

본 발명에서, 방향족 산이무수물은 분자 내 산이무수물 구조를 갖는 방향족 화합물로 통상적으로 알려진 것이라면 제한 없이 사용 가능하다. 예컨대, 3,3'4,4'-benxophenonetetracarboxylic dianhydride(BTDA), 4'4-oxydiphthalic anhydride(ODPA), 5,5'-sulfonylbis-1,3-isobenzofurandione (DSDA), biphenyltetracarboxylic acid dianhydride (BPDA), 4,4′-(4,4′-Isopropylidenediphenoxy)bis(phthalic anhydride) (BSAA), 3,3′,4,4′-Biphenyltetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride (PMDA), 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic Anhydride (6FDA), N,N-(4,4-sulfonylbis(4,1-phenylene))bis(1,3-dioxo-octahydroisobenzofurane-5-carboximide) dianhydride, 4,4'-(4,4'-isopropylidene-diphenoxy)bis(phthalic anhydride) (BPADA) 등이 있는데, 이 중에서 2종 이상을 선택하여 혼용한다. 특히, 2종 이상의 방향족 산이무수물 중 적어도 하나가 에테르기 및 케톤기 중 적어도 어느 하나를 함유하는 방향족 산이무수물일 경우, 본 발명에서는 가용성 폴리이미드의 흐름성 및 기계적 특성이 더 향상됨으로써, 본 발명의 접착 조성물은 우수한 접착성 및 내굴곡성을 갖는 경화물을 형성할 수 있다.In the present invention, the aromatic acid dianhydride may be used without limitation as long as it is commonly known as an aromatic compound having an acid dianhydride structure in a molecule. For example, 3,3'4,4'-benxophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 4'4-oxydiphthalic anhydride (ODPA), 5,5'-sulfonylbis-1,3-isobenzofurandione (DSDA), biphenyltetracarboxylic acid dianhydride (BPDA), 4,4′-(4,4′-Isopropylidenediphenoxy)bis(phthalic anhydride) (BSAA), 3,3′,4,4′-Biphenyltetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride (PMDA), 4,4′-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic Anhydride (6FDA), N,N-(4,4-sulfonylbis(4,1-phenylene))bis(1,3-dioxo-octahydroisobenzofurane-5-carboximide) dianhydride, 4,4'-(4,4'- isopropylidene-diphenoxy)bis(phthalic anhydride) (BPADA), etc., of which two or more types are selected and mixed. In particular, when at least one of the two or more aromatic acid dianhydrides is an aromatic acid dianhydride containing at least one of an ether group and a ketone group, in the present invention, the flowability and mechanical properties of the soluble polyimide are further improved, so that the present invention The adhesive composition can form a cured product having excellent adhesion and flex resistance.

일례로, 2종 이상의 방향족 산이무수물은 (b1) 에테르기-함유 방향족 산이무수물, 및 (b2) 케톤기-함유 방향족 산이무수물을 함유할 수 있다. As an example, the two or more types of aromatic acid dianhydride may contain (b1) an ether group-containing aromatic acid dianhydride, and (b2) a ketone group-containing aromatic acid dianhydride.

이때, 상기 에테르기-함유 방향족 산이무수물 및 케톤기-함유 방향족 산이무수물의 사용 비율(혼합 비율)은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 60:40 ~ 90:10 몰비율일 수 있다.In this case, the ratio (mixing ratio) of the ether group-containing aromatic acid dianhydride and the ketone group-containing aromatic acid dianhydride is not particularly limited, and may be, for example, a molar ratio of 60:40 to 90:10.

전술한 방향족 디아민과 방향족 산이무수물을 포함하여 공중합된 본 발명의 가용성 폴리이미드는 사용된 방향족 디아민과 방향족 산이무수물의 종류에 따라 다양한 반복단위를 함유할 수 있다.The soluble polyimide of the present invention copolymerized including the aforementioned aromatic diamine and aromatic acid dianhydride may contain various repeating units depending on the types of the aromatic diamine and aromatic acid dianhydride used.

일례로, 본 발명의 가용성 폴리이미드는 제1 방향족 디아민과 에테르기-함유 방향족 산이무수물의 반응으로부터 유래된 제1 반복단위; 제2 방향족 디아민과 에테르기-함유 방향족 산이무수물의 반응으로부터 유래된 제2 반복단위; 상기 제1 방향족 디아민과 케톤기-함유 방향족 산이무수물의 반응으로부터 유래된 제3 반복단위; 및 상기 제2 방향족 디아민과 케톤기-함유 방향족 산이무수물의 반응으로부터 유래된 제4 반복단위를 함유하는 공중합체일 수 있다. 이때, 공중합체는 랜덤 또는 블록 공중합체일 수 있다.In one example, the soluble polyimide of the present invention may include a first repeating unit derived from the reaction of a first aromatic diamine with an ether group-containing aromatic dianhydride; a second repeating unit derived from a reaction of a second aromatic diamine with an ether group-containing aromatic dianhydride; a third repeating unit derived from the reaction of the first aromatic diamine with a ketone group-containing aromatic dianhydride; and a fourth repeating unit derived from the reaction of the second aromatic diamine with the ketone group-containing aromatic acid dianhydride. In this case, the copolymer may be a random or block copolymer.

구체적으로, 상기 제1 반복단위는 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위이고, 상기 제2 반복단위는 하기 화학식 2로 표시되는 반복 단위이며, 상기 제3 반복단위는 하기 화학식 3으로 표시되는 반복 단위이고, 상기 제4 반복단위는 하기 화학식 4로 표시되는 반복 단위일 수 있는데, 이에 한정되지 않는다.Specifically, the first repeating unit is a repeating unit represented by the following formula (1), the second repeating unit is a repeating unit represented by the following formula (2), and the third repeating unit is a repeating unit represented by the following formula (3) , The fourth repeating unit may be a repeating unit represented by the following Chemical Formula 4, but is not limited thereto.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00003
Figure pat00003

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00004
Figure pat00004

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 화학식 1 내지 4에서,In Formulas 1 to 4,

R1은 에테르기-함유 방향족 산이무수물로부터 유도된 4가의 유기기이고,R 1 is a tetravalent organic group derived from an ether group-containing aromatic dianhydride,

R2는 케톤기-함유 방향족 산이무수물로부터 유도된 4가의 유기기이며,R 2 is a tetravalent organic group derived from a ketone group-containing aromatic dianhydride,

Ar1는 알킬렌기-함유 방향족 디아민으로부터 유도된 2가의 유기기이고,Ar 1 is a divalent organic group derived from an alkylene group-containing aromatic diamine,

Ar2는 알킬렌기- 비(非)함유 방향족 디아민으로부터 유도된 2가의 유기기이며.Ar 2 is a divalent organic group derived from an alkylene group-free aromatic diamine.

다만 상기 Ar1 및 Ar2 중 적어도 어느 하나는 에테르기를 함유하고,However, at least one of Ar 1 and Ar 2 contains an ether group,

a 내지 d는 각각 1 이상의 정수이고, 구체적으로 1 내지 10,000의 정수이며, 더 구체적으로 1 내지 1,000의 정수이다.a to d are each an integer of 1 or more, specifically an integer of 1 to 10,000, and more specifically an integer of 1 to 1,000.

본 발명에 따른 가용성 폴리이미드는 유리전이온도(Tg)가 약 180 내지 190 ℃ 범위일 수 있다.The soluble polyimide according to the present invention may have a glass transition temperature (Tg) in the range of about 180 to 190 °C.

본 발명의 접착 조성물에서, 가용성 폴리이미드의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 일례에 따르면 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로 약 5 내지 10 중량부일 수 있다. 이 경우, 접착 조성물의 흐름성이 우수하여 접착층의 충진 특성이 극대화될 뿐만 아니라, 접착력이 더 향상될 수 있다.In the adhesive composition of the present invention, the content of the soluble polyimide is not particularly limited, and according to an example, it may be about 5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition (provided that the solvent is not included). . In this case, the flowability of the adhesive composition is excellent, so that the filling properties of the adhesive layer are maximized, and the adhesive force can be further improved.

(d) 무기 (d) weapons 필러filler

본 발명에 따른 접착 조성물은 무기 필러를 포함한다. 무기 필러는 절연성, 내열성, 강도 등의 기계적 물성, 저응력성을 향상시킬 뿐만 아니라, 용융 점도를 조절할 수 있다. The adhesive composition according to the present invention includes an inorganic filler. The inorganic filler not only improves mechanical properties such as insulation, heat resistance, strength, etc., and low stress, but also can control melt viscosity.

본 발명에서 사용 가능한 무기 필러의 비제한적인 예로는, 천연 실리카(natural silica), 용융 실리카(Fused silica), 비결정질 실리카(amorphous silica), 결정 실리카(crystalline silica) 등과 같은 실리카; 수산화알루미늄(Aluminum hydroxide, ATH), 보에마이트(boehmite), 알루미나, 탈크(Talc), 유리(예, 구형 유리), 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 마그네시아, 클레이, 규산칼슘, 산화마그네슘(MgO), 산화티탄, 산화안티몬, 유리섬유, 붕산알루미늄, 티탄산바륨, 티탄산스트론튬, 티탄산칼슘, 티탄산마그네슘, 티탄산비스무스, 티타니아(예, TiO2), 지르콘산바륨, 지르콘산칼슘, 질화붕소, 질화규소, 활석(talc), 운모(mica) 등이 포함된다. 이러한 무기 필러는 단독 또는 2개 이상으로 혼용하여 사용될 수 있다. 일례로, 무기 필러는 알루미나, 산화마그네슘 및 실리카로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 함유할 수 있다. 이 경우, 본 발명에 따른 접착 조성물의 경화물은 고온에 장시간 방치되더라도 수축 특성이 제어되어, 치수 안정성이 향상될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 접착 조성물은 금속층과의 열팽창계수 차이가 낮으면서, 유전율 및 유전정접이 낮을 뿐만 아니라, 내굴곡성 및 고온의 장기 신뢰성이 우수하다.Non-limiting examples of inorganic fillers usable in the present invention include silica such as natural silica, fused silica, amorphous silica, crystalline silica, and the like; Aluminum hydroxide (ATH), boehmite, alumina, talc, glass (eg spherical glass), calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesia, clay, calcium silicate, magnesium oxide (MgO), Titanium oxide, antimony oxide, glass fiber, aluminum borate, barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, titania (eg TiO 2 ), barium zirconate, calcium zirconate, boron nitride, silicon nitride, talc ( talc), mica, and the like. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more. For example, the inorganic filler may contain at least one selected from the group consisting of alumina, magnesium oxide, and silica. In this case, even if the cured product of the adhesive composition according to the present invention is left at a high temperature for a long time, the shrinkage property is controlled, and dimensional stability can be improved. In addition, the adhesive composition according to the present invention has a low difference in coefficient of thermal expansion with the metal layer, low dielectric constant and dielectric loss tangent, and excellent flex resistance and long-term reliability at high temperatures.

이러한 무기 필러의 크기(예, 평균입경), 형상 및 함량은 접착층의 특성에 영향을 미치는 중요한 파라미터(parameter)이다.The size (eg, average particle diameter), shape, and content of these inorganic fillers are important parameters affecting the properties of the adhesive layer.

구체적으로, 무기 필러는 평균 입경(D50)이 약 0.5~15 ㎛, 구체적으로 약 1~3 ㎛ 범위일 수 있다. 이 경우, 무기 필러의 분산성이 향상될 수 있다. 또한, 무기 필러는 약 0.5~1 ㎛ 범위의 평균 입경(D50)을 갖는 제1 무기 필러, 및 약 2~3 ㎛ 범위의 평균 입경(D50)을 갖는 제2 무기 필러를 함유할 수 있다. 이때, 제1 무기 필러와 제2 무기 필러의 혼합 비율은 2:8 ~ 5:5 중량비일 수 있다. 이 경우, 접착층의 흐름성이 향상되되, 접착층의 과도한 흐름성이 제어되어 접착층의 접착성이 더 향상될 수 있다.Specifically, the inorganic filler may have an average particle diameter (D50) of about 0.5 to 15 μm, specifically, about 1 to 3 μm. In this case, the dispersibility of the inorganic filler may be improved. In addition, the inorganic filler may contain a first inorganic filler having an average particle diameter (D50) in a range of about 0.5 to 1 μm, and a second inorganic filler having an average particle diameter (D50) in a range of about 2 to 3 μm. In this case, the mixing ratio of the first inorganic filler and the second inorganic filler may be 2:8 to 5:5 by weight. In this case, the flowability of the adhesive layer is improved, the excessive flowability of the adhesive layer is controlled, so that the adhesiveness of the adhesive layer can be further improved.

또한, 무기 필러의 형상은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 구형, 플레이크, 침상형(dendrite), 원뿔형, 피라미드형, 무정형(無定形) 등이 있다.In addition, the shape of the inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a flake shape, a dendrite shape, a cone shape, a pyramid shape, and an amorphous shape.

본 발명에서는 형상 및 평균 입경이 동일한 1종의 무기 필러를 단독으로 사용하거나, 또는 형상 및/또는 평균 입경이 상이한 2종 이상의 무기 필러를 혼합 사용할 수 있다.In the present invention, one type of inorganic filler having the same shape and average particle diameter may be used alone, or two or more types of inorganic fillers having different shapes and/or average particle diameter may be mixed and used.

본 발명의 접착 조성물에서, 무기 필러의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 절연성, 내열성, 강도 등의 기계적 물성, 저응력성 등을 고려하여 적절히 조절할 수 있다. 다만, 무기 필러의 함량이 과량이면 접착층의 접착성을 저하시킬 뿐만 아니라, 접착층의 흐름성 및 충전성이 저하될 수 있다. 일례로, 무기 필러의 함량은 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로 약 15 내지 30 중량부, 구체적으로 약 20 내지 30 중량부일 수 있다. In the adhesive composition of the present invention, the content of the inorganic filler is not particularly limited, and may be appropriately adjusted in consideration of mechanical properties such as insulation, heat resistance and strength, low stress, and the like. However, when the content of the inorganic filler is excessive, the adhesiveness of the adhesive layer may be deteriorated, and flowability and filling properties of the adhesive layer may be deteriorated. For example, the content of the inorganic filler may be about 15 to 30 parts by weight, specifically about 20 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition (provided that the solvent is not included).

(e) 경화제(e) hardener

본 발명의 접착 조성물은 필요에 따라 경화제를 더 포함할 수 있다. 경화제는 에폭시 수지 등을 경화시키는 성분이다.The adhesive composition of the present invention may further include a curing agent if necessary. A curing agent is a component for curing an epoxy resin or the like.

본 발명에서 사용 가능한 경화제로는 당해 기술 분야에서 통상적으로 알려진 경화제 성분, 예컨대 산무수물계 경화제, 아민(Amine)계 경화제, 페놀계 경화제 등이 있다.The curing agent usable in the present invention includes curing agent components commonly known in the art, such as an acid anhydride curing agent, an amine-based curing agent, and a phenol-based curing agent.

구체적으로, 경화제의 예로는 테트라하이드로 프탈산 무수물, 메틸 테트라하이드로프탈산 무수물, 메틸 헥사하이드로 프탈산 무수물, 헥사하이드로 프탈산 무수물, 트리알킬 테트라하이드로프탈산 무수물, 메틸 사이클로헥센디카르복실산 무수물, 프탈산 무수물, 말레산 무수물, 피로멜리트산 무수물 등의 산무수물계 경화제; 메타페닐렌디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐설폰 등의 방향족 아민계 경화제; 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민 등의 지방족 아민계 경화제; 페놀아랄킬형 페놀수지, 페놀노볼락형 페놀수지, 자일록형 페놀수지, 크레졸노볼락형 페놀수지, 나프톨형 페놀수지, 테르펜형 페놀수지, 다관능형 페놀수지, 디시클로펜타디엔계 페놀수지, 나프탈렌형 페놀수지, 비스페놀A와 레졸로부터 합성된 노볼락형 페놀수지 등과 같은 페놀계 경화제; 디시안디아미드(dicyandiamide)등의 잠재성 경화제 등이 있는데, 이에 한정되지 않는다.이들은 단독으로 사용되거나 또는 2종 이상이 혼합되어 사용될 수 있다.Specifically, examples of the curing agent include tetrahydrophthalic anhydride, methyl tetrahydrophthalic anhydride, methyl hexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, trialkyl tetrahydrophthalic anhydride, methyl cyclohexenedicarboxylic anhydride, phthalic anhydride, maleic acid acid anhydride curing agents such as anhydride and pyromellitic anhydride; aromatic amine curing agents such as metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, and diaminodiphenylsulfone; aliphatic amine curing agents such as diethylenetriamine and triethylenetetraamine; Phenol aralkyl type phenol resin, phenol novolak type phenol resin, xylok type phenol resin, cresol novolak type phenol resin, naphthol type phenol resin, terpene type phenol resin, polyfunctional type phenol resin, dicyclopentadiene type phenol resin, naphthalene type phenolic curing agents such as phenolic resins and novolac-type phenolic resins synthesized from bisphenol A and resol; There are latent curing agents such as dicyandiamide, and the like, but is not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.

이러한 경화제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로 약 0.1 내지 10 중량부, 구체적으로 약 1 내지 5 중량부일 수 있다. The content of the curing agent is not particularly limited, and for example, may be about 0.1 to 10 parts by weight, specifically about 1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition (provided that the solvent is not included).

(f) 경화촉진제(f) hardening accelerators

본 발명의 접착 조성물은 필요에 따라 경화촉진제를 더 포함할 수 있다. 경화촉진제는 접착 조성물 내 성분들이 완전히 경화될 수 있도록 경화시간을 단축시키는 촉매로, 당 기술 분야에서 통상적으로 알려진 것이라면 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 이미다졸계 경화촉진제, 포스포늄계 경화촉진제, 아민계 경화촉진제, 금속계 경화촉진제 등이 있는데, 이들은 단독으로 사용하거나 2종 이상이 혼합되어 사용될 수 있다. The adhesive composition of the present invention may further include a curing accelerator if necessary. The curing accelerator is a catalyst that shortens the curing time so that the components in the adhesive composition can be completely cured, and is not particularly limited as long as it is commonly known in the art. For example, there are imidazole-based curing accelerators, phosphonium-based curing accelerators, amine-based curing accelerators, metal-based curing accelerators, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에서 사용 가능한 이미다졸계 경화촉진제의 비제한적인 예를 들면, 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-데실이미다졸, 2-헥틸이미다졸, 2-이소프로필이미다졸, 2-운데실 이미다졸, 2-헵탄데실 이미다졸, 2-메틸-4-메틸 이미다졸, 2-에틸-4-메틸 이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸 이미다졸, 1-벤질-2-메틸 이미다졸, 1-벤질-2-페닐 이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실-이미다졸 트리멜리테이트, 1-시아노에틸-2-페닐 이미다졸트리멜리테이트, 2,4-디아미노-6-(2'-메틸이미다졸-(1')-에틸-s-트리아진, 2-페실-4,5-디하이드록시메틸이미다졸, 2-페실-4-메틸-5-하이드록시메틸이미다졸, 2-페실-4-벤질-5-하이드록시메틸이미다졸, 4,4'-메틸렌-비스-(2-에틸-5-메틸이미다졸), 2-아미노에틸-2-메틸 이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐-4,5-디(시아노에톡시 메틸)이미다졸, 1-도데실-2-메틸-3-벤질이미다졸리늄클로라이드, 이미다졸 함유 폴리아미드 등이 있다.Non-limiting examples of imidazole-based curing accelerators usable in the present invention include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-decylimidazole, 2-hexylimidazole, 2 -Isopropylimidazole, 2-undecyl imidazole, 2-heptanedecyl imidazole, 2-methyl-4-methyl imidazole, 2-ethyl-4-methyl imidazole, 2-phenylimidazole, 2- Phenyl-4-methyl imidazole, 1-benzyl-2-methyl imidazole, 1-benzyl-2-phenyl imidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl -4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl-imidazole trimelli Tate, 1-Cyanoethyl-2-phenyl imidazole trimellitate, 2,4-diamino-6-(2'-methylimidazole-(1')-ethyl-s-triazine, 2-phenyl -4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-pecyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-pecyl-4-benzyl-5-hydroxymethylimidazole, 4,4 '-methylene-bis-(2-ethyl-5-methylimidazole), 2-aminoethyl-2-methyl imidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-4,5-di (cyanoethoxy methyl)imidazole, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolinium chloride, imidazole-containing polyamide, and the like.

상기 포스포늄계 경화촉진제의 비제한적인 예로는 벤질트리페닐포스포늄 클로라이드, 부틸트리페닐포스포늄 클로라이드, 부틸트리페닐포스포늄 브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄 아세테이트, 에틸트리페닐포스포늄 브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄 아이오다이드, 테트라페닐포스포늄 브로마이드, 테트라페닐포스포늄 클로라이드 또는 테트라페닐포스포늄 아이오다이드 등이 있다.Non-limiting examples of the phosphonium-based curing accelerator include benzyltriphenylphosphonium chloride, butyltriphenylphosphonium chloride, butyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium acetate, ethyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenyl phosphonium iodide, tetraphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium chloride, or tetraphenylphosphonium iodide.

상기 아민계 경화촉진제의 비제한적인 예로는, 트리에틸아민, 트리에틸렌디아민, 테트라메틸-1,3-부탄디아민, 에틸모르폴린, 디아자비시클로운데센, 디아자비시클로노넨 등이 있다.Non-limiting examples of the amine-based curing accelerator include triethylamine, triethylenediamine, tetramethyl-1,3-butanediamine, ethylmorpholine, diazabicycloundecene, diazabicyclononene, and the like.

상기 금속계 경화촉진제로는 코발트, 구리, 아연, 철, 니켈, 망간, 주석 등의 유기 금속 착체 또는 유기 금속염을 들 수 있다. 상기 유기 금속 착체의 예로는, 코발트(Ⅱ) 아세틸아세토네이트, 코발트(Ⅲ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 코발트 착체, 구리(Ⅱ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 구리 착체, 아연(Ⅱ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 아연 착체, 철(Ⅲ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 철 착체, 니켈(Ⅱ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 니켈 착체, 망간(Ⅱ) 아세틸아세토네이트 등의 유기 망간 착체 등을 들 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다. 상기 유기 금속 염의 예로는, 옥틸산아연, 옥틸산주석, 나프텐산아연, 나프텐산코발트, 스테아르산 주석, 스테아르산아연 등을 들 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다. Examples of the metal-based curing accelerator include organometallic complexes or organometallic salts such as cobalt, copper, zinc, iron, nickel, manganese, and tin. Examples of the organometallic complex include organocobalt complexes such as cobalt(II) acetylacetonate and cobalt(III) acetylacetonate, organocopper complexes such as copper(II) acetylacetonate, zinc(II) acetylacetonate, and the like. an organic zinc complex, an organic iron complex such as iron (III) acetylacetonate, an organic nickel complex such as nickel (II) acetylacetonate, and an organic manganese complex such as manganese (II) acetylacetonate. not limited Examples of the organometallic salt include, but are not limited to, zinc octylate, tin octylate, zinc naphthenate, cobalt naphthenate, tin stearate, and zinc stearate.

이러한 경화 촉진제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로 약 0.0001 내지 10 중량부, 구체적으로 약 0.01 내지 5 중량부, 더 구체적으로 약 0.01 내지 3 중량부일 수 있다.The content of the curing accelerator is not particularly limited, and for example, about 0.0001 to 10 parts by weight, specifically about 0.01 to 5 parts by weight, more Specifically, it may be about 0.01 to 3 parts by weight.

(g) 용매(g) solvent

본 발명의 접착 조성물은 필요에 따라 용매를 더 포함할 수 있다.The adhesive composition of the present invention may further include a solvent if necessary.

본 발명에서 사용 가능한 용매는 접착 조성물의 점도를 조절하기 위한 것으로, 건조 단계에서 용이하게 증발될 수 있는 것이라면 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 당 업계에서 알려진 에스테르(Ester)류, 알코올(Alcohol)류, 용매 등이 있다. 보다 구체적인 용매의 예는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 시클로헥사논, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논 등의 케톤(Ketone)계 용매; 1,4-디옥산, 테트라하이드로 퓨란 등의 에테르(Ether)계 용매; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르 등의 글리콜에테르계 용매; 톨루엔, 자일렌, 벤젠, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류 등이 있고, 그 외의 용매로 벤질알코올, N-메틸피롤리돈, γ-부티로락톤, 아세트산에틸, N,N-디메틸포름아미드 등이 있는데, 이에 한정되지 않는다. 이들은 단독으로 사용될 수 있으며, 또한 2종 이상이 혼합되어 사용될 수 있다.The solvent that can be used in the present invention is for controlling the viscosity of the adhesive composition, and is not particularly limited as long as it can be easily evaporated in the drying step. For example, there are esters, alcohols, solvents, etc. known in the art. More specific examples of the solvent include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, and cyclopentanone; Ether solvents such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran; glycol ether solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, and diethylene glycol methyl ethyl ether; There are aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, benzene, and xylene, and other solvents include benzyl alcohol, N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone, ethyl acetate, and N,N-dimethylformamide. , but is not limited thereto. These may be used alone, or two or more may be used in combination.

본 발명의 접착 조성물에서, 용매의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 접착 조성물이 용매를 포함할 경우, 조성물 내 고형분 함량이 조성물의 총량(용매 포함)을 기준으로 약 30~50 중량%, 구체적으로 약 35~45 중량%, 더 구체적으로 약 38~42 중량%되도록 용매의 함량을 조절한다. 이로써, 커버레이 필름의 기재에 대한 접착 조성물의 도포성이 향상되어 작업 효율이 향상될 수 있으며, 또한 기재의 표면에 균일한 접착층이 형성될 수 있다.In the adhesive composition of the present invention, the content of the solvent is not particularly limited, for example, when the adhesive composition includes a solvent, the solid content in the composition is about 30 to 50% by weight based on the total amount (including the solvent) of the composition, specifically The content of the solvent is adjusted so that it is about 35 to 45% by weight, more specifically, about 38 to 42% by weight. Accordingly, the applicability of the adhesive composition to the substrate of the coverlay film may be improved to improve work efficiency, and a uniform adhesive layer may be formed on the surface of the substrate.

(h) 첨가제(h) additives

본 발명에 따른 접착 조성물은 필요에 따라 전술한 성분들 이외에, 당 기술 분야에서 통상적으로 알려진 첨가제를 당해 조성물의 사용 목적 및 사용 환경에 따라 선택적으로 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 난연제, 고무 가교제, 실란 커플링제, 분산제 등이 있는데, 이에 한정되지 않는다. 일례에 따르면, 첨가제는 실란커플링제 및 분산제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The adhesive composition according to the present invention may optionally further include additives commonly known in the art in addition to the above-described components as needed according to the purpose and environment of use of the composition. For example, there are a flame retardant, a rubber crosslinking agent, a silane coupling agent, a dispersing agent, and the like, but is not limited thereto. According to one example, the additive may be at least one selected from the group consisting of a silane coupling agent and a dispersant.

이러한 첨가제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 각각 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로 약 0.0001 내지 10 중량부, 구체적으로 약 0.01 내지 5 중량부, 더 구체적으로 약 2 내지 5 중량부일 수 있다.The content of these additives is not particularly limited, and for example, about 0.0001 to 10 parts by weight, specifically about 0.01 to 5 parts by weight, more Specifically, it may be about 2 to 5 parts by weight.

본 발명에서 사용 가능한 난연제는 당 분야에서 통상적으로 난연성을 부여하는 것으로 알려진 것이라면 제한 없이 사용할 수 있으며, 예컨대 할로겐계 난연제(구체적으로, 브롬계 난연제), 유기 인계 난연제, 유기계 질소 함유 인화합물, 질소 화합물, 실리콘계 난연제, 금속 수산화물 등이 있다. 구체적인 예로는 Decabromdiphenylethan(예, Firemaster-2100R), 헥사브로모벤젠, 펜타브로모톨루엔, 헥사브로모비페닐, 데카브로모비페닐, 헥사브로모시클로데칸, 데카브로모디페닐 에테르, 옥타브로모디페닐 에테르, 헥사브로모디페닐 에테르, 비스(펜타브로모페녹시)에탄, 에틸렌-비스(테트라브로모프탈이미드), 테트라브로모비스페놀, 폴리(브롬화 벤질 아크릴레이트), 브롬화 폴리페닐렌 에테르, 브롬화 비스페놀 A, 브롬화(폴리스티렌), 폴리(브롬화 스티렌) 등과 같은 할로겐계 난연제; 멜라민 포스페이트 (melamine phosphate), 멜라민 파이로포스페이트(melamine pyrophosphate), 암모늄 폴리포스페이트(ammonium polyphosphate), 알킬 아민 포스페이트(alkylamine phosphate), 피퍼라진산 폴리포스페이트(piperazine acid polyphosphate), 멜라민 폴리포스포네이트 등과 같은 질소-인 함유 난연제;멜라민(melamine), 멜라민 시아누레이트 (melamine cyanurate), 트리페닐 이소시아누레이트 등과 같은 질소 함유 난연제; 트리페닐 포스페이트(Triphenyl phosphate, TPP), 트리크실레닐 포스페이트(Trixylenyl phosphate, TXP), 트리크레실 포스페이트(Tricresyl phosphate, TCP), 레조르시닐 디페닐 포스페이트(Resorcinyl diphenyl phosphate, RDP), 페닐 디레조르시닐 포스페이트(Phenyl diresorcinyl phosphate), 크레실 디페닐 포스페이트(Cresyl diphenyl phosphate), 크실레닐 디페닐 포스페이트(Xylenyldiphenyl phosphate), 페닐 디(이소프로필페닐)포스페이트(Phenyl di(isopropylphenyl) phosphate) 등과 같은 인계 난연제 등이 있는데, 이에 한정되지 않는다. 이들은 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상이 혼합되어 사용할 수 있다.The flame retardant that can be used in the present invention can be used without limitation as long as it is conventionally known in the art to impart flame retardancy, for example, a halogen-based flame retardant (specifically, a bromine-based flame retardant), an organic phosphorus flame retardant, an organic nitrogen-containing phosphorus compound, a nitrogen compound , silicon-based flame retardants, metal hydroxides, and the like. Specific examples include Decabromdiphenylethan (eg Firemaster-2100R), hexabromobenzene, pentabromotoluene, hexabromobiphenyl, decabromobiphenyl, hexabromocyclodecane, decabromodiphenyl ether, octabromodiphenyl ether, Hexabromodiphenyl ether, bis(pentabromophenoxy)ethane, ethylene-bis(tetrabromophthalimide), tetrabromobisphenol, poly(benzyl bromide), brominated polyphenylene ether, brominated bisphenol A halogen-based flame retardants such as , brominated (polystyrene), poly (brominated styrene) and the like; such as melamine phosphate, melamine pyrophosphate, ammonium polyphosphate, alkylamine phosphate, piperazine acid polyphosphate, melamine polyphosphonate, etc. nitrogen-phosphorus containing flame retardants; nitrogen containing flame retardants such as melamine, melamine cyanurate, triphenyl isocyanurate and the like; Triphenyl phosphate (TPP), trixylenyl phosphate (TXP), tricresyl phosphate (TCP), resorcinyl diphenyl phosphate (RDP), phenyl direzo Phosphorus such as Phenyl diresorcinyl phosphate, Cresyl diphenyl phosphate, Xylenyldiphenyl phosphate, Phenyl di(isopropylphenyl) phosphate, etc. There is a flame retardant, and the like, but is not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.

이러한 난연제의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 당 업계에 알려진 통상적인 범위 내에서 적절히 조절할 수 있다. 예컨대, 난연제의 함량은 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로 약 0.0001 내지 10 중량부, 구체적으로 약 0.01 내지 5 중량부, 더 구체적으로 약 0.1 내지 3 중량부일 수 있다.The content of such a flame retardant is not particularly limited, and may be appropriately adjusted within a conventional range known in the art. For example, the content of the flame retardant is about 0.0001 to 10 parts by weight, specifically about 0.01 to 5 parts by weight, more specifically about 0.1 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition (provided that the solvent is not included). It may be parts by weight.

본 발명에서 사용 가능한 고무 가교제는 당 업계에서 알려진 것이라면 특별히 제한되지 않으며, 예컨대 가황제, 유기 과산화물(organic peroxide) 등이 있다. 구체적으로, 황, Di-(2,4-dichlorobenzoyl)-peroxide, Dibenzoyl peroxide, 1,1-Di-(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, Butyl-4,4-di-(tert-butylperoxy) valerate, Dicumyl peroxide, Di-(2-tert-butyl-peroxyisopropyl)-benzene, 2,5-Dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexyne-3, 2,5-Dimethyl-2,5-di-(tert-butylperoxy)-hexane, tert-Butyl peroxybenzoate, Di-tert-butylperoxide 등이 있다.The rubber crosslinking agent usable in the present invention is not particularly limited as long as it is known in the art, and for example, a vulcanizing agent, organic peroxide, and the like. Specifically, sulfur, Di-(2,4-dichlorobenzoyl)-peroxide, Dibenzoyl peroxide, 1,1-Di-(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, Butyl-4,4-di-(tert) -butylperoxy) valerate, Dicumyl peroxide, Di-(2-tert-butyl-peroxyisopropyl)-benzene, 2,5-Dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexyne-3, 2,5-Dimethyl-2, Examples include 5-di-(tert-butylperoxy)-hexane, tert-Butyl peroxybenzoate, and Di-tert-butylperoxide.

이러한 고무 가교제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 당해 접착 조성물의 총량 100 중량부를 기준으로 약 0.0001 내지 10 중량부, 구체적으로 약 0.01 내지 5 중량부, 더 구체적으로 약 0.1 내지 3 중량부일 수 있다.The content of the rubber crosslinking agent is not particularly limited, and for example, may be about 0.0001 to 10 parts by weight, specifically about 0.01 to 5 parts by weight, and more specifically about 0.1 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition.

또, 본 발명에서 사용 가능한 실란 커플링제는 당 기술분야에서 통상적으로 알려진 것이라면, 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 에폭시계, 메타크릴옥시계, 아미노계, 비닐계, 메르캅토·술파이드계, 우레이드계 등의 실란 커플링제가 있으며, 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이러한 실란 커플링제는 접착 조성물의 경화시 무기 필러와 다른 성분들 간의 접착성을 향상시킬 수 있다. 일례에 따르면, 실란 커플링제는 에폭시계 실란 커플링제일 수 있고, 구체적으로 글리시딜옥시(C1~C20)알킬트리(C1~C20)알콕시 실란일 수 있다. 이러한 실란 커플링제의 예로는 3-Glycidoxypropyltrimethoxy silane, 2-(3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2-(3,4 epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyl triethoxysilane, 3-glycidoxypropyl methyldimethoxysilane, 또는 3-glycidoxypropyl methyldiethoxysilane 등일 수 있다.In addition, the silane coupling agent that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it is commonly known in the art, for example, epoxy-based, methacryloxy-based, amino-based, vinyl-based, mercapto-sulfide-based, ureide-based There exist silane coupling agents, such as these, and can be used individually or in combination of 2 or more types. Such a silane coupling agent may improve adhesion between the inorganic filler and other components when the adhesive composition is cured. According to one example, the silane coupling agent may be an epoxy-based silane coupling agent, specifically glycidyloxy (C 1 ~C 20 )alkyltri(C 1 ~C 20 )alkoxy silane. Examples of such a silane coupling agent may be 3-Glycidoxypropyltrimethoxy silane, 2-(3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2-(3,4 epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyl triethoxysilane, 3-glycidoxypropyl methyldimethoxysilane, or 3-glycidoxypropyl methyldiethoxysilane. .

상기 실란 커플링제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로 약 0.0001 내지 10 중량부, 구체적으로 약 0.01 내지 5 중량부, 더 구체적으로 약 3 내지 4 중량부일 수 있다.The content of the silane coupling agent is not particularly limited, and for example, about 0.0001 to 10 parts by weight, specifically about 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition (provided that the solvent is not included); More specifically, it may be about 3 to 4 parts by weight.

또, 본 발명에서 사용 가능한 분산제는 당 업계에 일반적으로 알려진 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 지방산염(비누), α-술포지방산 에스테르염(MES), 알킬벤젠술폰산염(ABS), 직쇄 알킬벤젠 술폰산염(LAS), 알킬황산염(AS), 알킬에테르 황산에스테르염(AES), 알킬황산 트리에탄올 등과 같은 저분자 음이온성(아니온성) 화합물; 지방산 에탄올아미드, 폴리옥시에틸렌알킬 에테르(AE), 폴리옥시에틸렌 알킬페닐에테르(APE), 소르비톨, 소르비탄 등과 같은 저분자 비이온계 화합물; 알킬트리메틸암모늄염, 디알킬디메틸 암모늄클로리드, 알킬피리디늄 클로리드 등과 같은 저분자 양이온성(카타이온성) 화합물; 알킬카르복실베타인, 술포베타인, 레시틴 등과 같은 저분자 양성계 화합물; 나프탈렌 술폰산염의 포르말린 축합물, 폴리스티렌 술폰산염, 폴리아크릴산염, 비닐 화합물과 카르복시산계 단량체의 공중합체염, 카르복시메틸셀룰로오스, 폴리비닐 알코올 등으로 대표되는 고분자 수계 분산제 등이 있다. 또한, 시판 중인 분산제의 예로는 DIC(DaiNippon Ink & Chemicals) 사의 F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F493, F-494, F-443, F-444, F-445, F-446, F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F480SF, F-482, F-483, F-484, F-486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128,TF-1127, TF-1129, TF-1126, TF-1130, TF-1116SF, TF-1131, TF1132, TF1027SF, TF-1441, TF-1442, TF-1740 등이 있는데, 이에 한정되지 않는다.이들은 단독으로 사용되거나 또는 2종 이상이 혼합되어 사용될 수 있다.In addition, the dispersing agent usable in the present invention is not particularly limited as long as it is generally known in the art, for example, fatty acid salt (soap), α-sulfo fatty acid ester salt (MES), alkylbenzenesulfonate (ABS), straight chain alkylbenzenesulfonic acid low molecular weight anionic (anionic) compounds such as salts (LAS), alkyl sulfates (AS), alkyl ether sulfate salts (AES), and triethanol alkyl sulfates; low molecular weight nonionic compounds such as fatty acid ethanolamide, polyoxyethylenealkyl ether (AE), polyoxyethylene alkylphenyl ether (APE), sorbitol, sorbitan and the like; low molecular weight cationic (cataionic) compounds such as alkyltrimethylammonium salt, dialkyldimethyl ammonium chloride, and alkylpyridinium chloride; low molecular weight amphoteric compounds such as alkylcarboxylbetaine, sulfobetaine, and lecithin; and formalin condensates of naphthalene sulfonate, polystyrene sulfonate, polyacrylate, a copolymer salt of a vinyl compound and a carboxylic acid-based monomer, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, and the like. In addition, examples of commercially available dispersants include DIC (DaiNippon Ink & Chemicals) company F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F493, F-494, F-443, F-444, F-445, F-446, F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F480SF, F-482, F-483, F-484, F-486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128, TF-1127, TF-1129, TF-1126, TF- 1130, TF-1116SF, TF-1131, TF1132, TF1027SF, TF-1441, TF-1442, TF-1740, and the like, but are not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.

이러한 분산제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로 약 0.0001 내지 10 중량부, 구체적으로 약 0.01 내지 5 중량부, 더 구체적으로 약 3 내지 4 중량부일 수 있다.The content of such a dispersant is not particularly limited, and for example, about 0.0001 to 10 parts by weight, specifically about 0.01 to 5 parts by weight, more specifically about 0.0001 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition (provided that the solvent is not included). As may be about 3 to 4 parts by weight.

전술한 바와 같이, 본 발명의 접착 조성물은 2관능 이상의 에폭시 수지, 고무계 바인더, 가용성 폴리이미드 및 무기 필러를 다양한 함량으로 혼합할 수 있다. As described above, in the adhesive composition of the present invention, a bifunctional or higher epoxy resin, a rubber-based binder, a soluble polyimide, and an inorganic filler may be mixed in various amounts.

일례에 따르면, 본 발명의 접착 조성물은 당해 접착 조성물(단, 용매 비(非)-포함)의 총량 100 중량부를 기준으로, 15 내지 25 중량부의 에폭시 수지, 30 내지 40 중량부의 고무계 바인더, 5 내지 10 중량부의 가용성 폴리이미드, 및 15 내지 30 중량부의 무기 필러를 포함할 수 있다.According to one example, the adhesive composition of the present invention comprises 15 to 25 parts by weight of an epoxy resin, 30 to 40 parts by weight of a rubber binder, 5 to 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition (provided that the solvent is not included). 10 parts by weight of a soluble polyimide, and 15 to 30 parts by weight of an inorganic filler.

다른 일례에 따르면, 본 발명의 접착 조성물은 에폭시 수지, 고무계 바인더 및 가용성 폴리이미드를 2~6 : 0.5~3 : 1 중량 비율로 포함할 수 있다. 이때, 상기 고무계 바인더에서, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무와 아크릴 고무는 1 : 1.5~7 중량 비율로 포함될 수 있다.According to another example, the adhesive composition of the present invention may include an epoxy resin, a rubber-based binder, and a soluble polyimide in a weight ratio of 2 to 6: 0.5 to 3: 1. In this case, in the rubber-based binder, acrylonitrile-butadiene rubber and acrylic rubber may be included in a weight ratio of 1:1.5-7.

또 다른 일례에 따르면, 본 발명의 접착 조성물은 가용성 폴리이미드의 함량(Wb)에 대한 에폭시 수지와 고무계 바인더의 전체 함량(Wa+Wc)에 대한 비율[(Wa+Wc)/Wb]은 5 내지 12 범위일 수 있다. 이때, 상기 에폭시 수지와 상기 고무계 바인더는 1 : 1~3 중량 비율로 포함될 수 있다. 또, 상기 고무계 바인더에서, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무와 아크릴 고무는 1 : 1.5~7 중량 비율로 포함될 수 있다.According to another example, the adhesive composition of the present invention is a ratio of the total content (W a +W c ) of the epoxy resin and the rubber binder to the content (W b ) of the soluble polyimide [(W a +W c )/ W b ] may range from 5 to 12. In this case, the epoxy resin and the rubber-based binder may be included in a ratio of 1:1 to 3 by weight. In addition, in the rubber binder, acrylonitrile-butadiene rubber and acrylic rubber may be included in a weight ratio of 1:1.5-7.

본 발명에 따른 접착 조성물은 약 145~155 ℃에서 1~5분 동안 건조되어 필름화된 후, 약 57~63 ℃의 온도에 71~73 시간 동안 방치하여 에이징(aging)시킴으로써 경화될 수 있다. 이때, 접착 조성물의 경화물은 B-스테이지 상태의 경화물로, 경화도가 약 35~45 %일 수 있다. 이러한 접착 조성물의 경화물은 추후 인쇄회로기판과의 라미네이팅 후 약 138~142 ℃에서 약 1.8~2.2 시간 또는 148~152 ℃에서 약 0.8~1.2 시간 동안 경화되어 C-스테이지 상태의 경화물로 완전 경화될 수 있다.The adhesive composition according to the present invention may be cured by drying at about 145 to 155° C. for 1 to 5 minutes to form a film, and then leaving it to stand at a temperature of about 57 to 63° C. for 71 to 73 hours for aging. In this case, the cured product of the adhesive composition is a cured product in a B-stage state, and the degree of curing may be about 35 to 45%. The cured product of this adhesive composition is cured for about 1.8 to 2.2 hours at about 138 to 142 ° C. or 0.8 to 1.2 hours at 148 to 152 ° C. after laminating with a printed circuit board to be fully cured into a C-stage cured product. can be

또, 본 발명의 접착 조성물은 상온(20±5 ℃)에서의 점도가 약 500~1,500 cPs 범위, 구체적으로 약 600~1400 cPs 범위일 수 있다.In addition, the adhesive composition of the present invention may have a viscosity at room temperature (20±5° C.) of about 500 to 1,500 cPs, specifically about 600 to 1400 cPs.

본 발명의 접착 조성물은 당 기술분야에 통상적으로 알려진 방법을 통해 제조될 수 있다. 예컨대, 2관능 이상의 에폭시 수지; 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 및 아크릴 고무를 함유하는 고무계 바인더; 가용성 폴리이미드; 및 무기 필러와, 선택적으로 경화제, 경화촉진제, 용매 및 첨가제 중 1종 이상을 볼밀, 비드밀, 3롤 밀(3roll mill) 바스켓 밀(basket mill), 디노 밀(dyno mill), 플레너터리(planetary) 등의 혼합 장비를 사용하여 실온 내지 적절히 승온된 온도에서 혼합 및 교반하여 접착 조성물을 제조할 수 있다.The adhesive composition of the present invention may be prepared through a method commonly known in the art. For example, a bifunctional or more epoxy resin; a rubber-based binder containing acrylonitrile-butadiene rubber and acrylic rubber; soluble polyimide; and an inorganic filler, and optionally at least one of a curing agent, a curing accelerator, a solvent and an additive in a ball mill, bead mill, 3 roll mill, basket mill, dyno mill, planetary (planetary) ) using mixing equipment such as mixing and stirring at room temperature to an appropriately elevated temperature to prepare an adhesive composition.

상기와 같은 본 발명의 접착 조성물은 접착성, 흐름성, 충진성(매립성), 내마이그레이션성, 난연성, 저신축성, 유연성, 절연성, 내변색성, 내습성, 내화학약품성, 치수 안정성, 성형성 등이 우수할 뿐만 아니라, 내열성, 고온 장기 접착력 유지성, 고온 장기 접착성, 내굴곡성이 우수하다.The adhesive composition of the present invention as described above has adhesiveness, flowability, fillability (burial property), migration resistance, flame retardancy, low elasticity, flexibility, insulation, discoloration resistance, moisture resistance, chemical resistance, dimensional stability, molding In addition to excellent properties, it is also excellent in heat resistance, high temperature long-term adhesion retention, high temperature long-term adhesion, and bending resistance.

일례에 따르면, 본 발명에 따른 접착 조성물의 경화물은 약 158 ℃의 온도에서 2,000 시간 방치 후, 피착체[예, 인쇄회로기판의 회로패턴(Line/space= 1000/1000 ㎛)]에 대한 접착력 유지율이 60 % 이상, 구체적으로 약 80 % 이상일 수 있다. 이때, 상기 경화물은 약 158 ℃의 온도에서 약 2,000 시간 방치 후, 25℃에서 측정된 피착체[예, 인쇄회로기판의 회로패턴(Line/space= 1000/1000 ㎛)]에 대한 접착력이 1.0 kgf/㎝ 이상, 구체적으로 1.2 kgf/㎝ 이상일 수 있다. 이와 같이, 본 발명의 접착 조성물로 형성된 경화물(예, 커버레이 필름의 접착층)은 고온의 환경 조건하에서 장시간 동안 방치되더라도, 종래 폴리우레탄계 또는 에폭시계 접착 조성물과 달리, 우수한 접착 특성을 장시간 유지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 접착 조성물은 다양한 분야에 적용될 수 있다. 여기서, 상기 접착 조성물의 경화물은 상기 접착 조성물을 필름화한 후 약 138~142 ℃에서 약 1.8~2.2 시간 또는 148~152 ℃에서 약 0.8~1.2 시간 동안 열경화시켜 얻은 C-스테이지 상태의 완전 경화물이다. 이때, 완전 경화는 레진 흐름성(하기 실험예 2 참조)이 5% 이하인 경우를 의미한다.According to one example, the cured product of the adhesive composition according to the present invention is allowed to stand at a temperature of about 158 ° C. for 2,000 hours, and the adhesive strength to the adherend [eg, the circuit pattern of the printed circuit board (Line/space = 1000/1000 μm)] The retention rate may be 60% or more, specifically, about 80% or more. At this time, after the cured product was left at a temperature of about 158 ° C for about 2,000 hours, the adhesion to the adherend [eg, the circuit pattern of the printed circuit board (Line/space = 1000/1000 μm)] measured at 25 ° C was 1.0 kgf/cm or more, specifically 1.2 kgf/cm or more. As such, the cured product (eg, the adhesive layer of the coverlay film) formed of the adhesive composition of the present invention can maintain excellent adhesive properties for a long time, unlike the conventional polyurethane-based or epoxy-based adhesive composition, even if left for a long time under high-temperature environmental conditions. there is. Accordingly, the adhesive composition of the present invention can be applied to various fields. Here, the cured product of the adhesive composition is a C-stage state obtained by thermal curing at about 138 to 142 ° C. for about 1.8 to 2.2 hours or at 148 to 152 ° C. for about 0.8 to 1.2 hours after filming the adhesive composition. is hardened At this time, complete curing means a case where the resin flowability (refer to Experimental Example 2 below) is 5% or less.

다른 일례에 따르면, 본 발명에 따른 접착 조성물의 경화물은 피착체[예, 인쇄회로기판의 회로패턴(Line/space=1000/1000 ㎛)]에 부착한 상태로 약 300 ℃의 온도에서 약 10초 간 방치할 경우, 상기 피착체에 대한 단위면적(3cm×15cm)당 보이드율이 0 %이다. 이와 같이, 본 발명의 접착 조성물로 된 경화물은 단차부를 갖는 피착체에 부착된 후 고온의 환경 조건하에 노출되더라도, 종래 폴리우레탄계 또는 에폭시계 접착 조성물과 달리, 상기 단차부(예, 회로패턴과의 단차부)와의 사이에 보이드(void)가 거의 성장(발생)하지 않는다. 이로 인해, 본 발명에 따른 접착 조성물의 경화물은 약 300 ℃의 온도에 30분 이상 지속적으로 방치되더라도, 피착체에 대한 단위면적(3cm×15cm)당 탄화율이 0 %이다. 따라서, 본 발명의 접착 조성물은 고온의 장기 내열성이 우수하기 때문에, 최종 커버레이 필름 및 인쇄회로기판의 장기 내열 신뢰성을 확보할 수 있다.According to another example, the cured product of the adhesive composition according to the present invention is attached to an adherend [eg, a circuit pattern of a printed circuit board (Line/space=1000/1000 μm)] at a temperature of about 300 ° C. When it is left for a second, the void rate per unit area (3 cm×15 cm) for the adherend is 0%. As such, even if the cured product made of the adhesive composition of the present invention is attached to an adherend having a step portion and then exposed to high temperature environmental conditions, unlike the conventional polyurethane-based or epoxy-based adhesive composition, the step portion (eg, circuit pattern and void) hardly grows (generates). For this reason, even if the cured product of the adhesive composition according to the present invention is continuously left at a temperature of about 300° C. for 30 minutes or more, the carbonization rate per unit area (3 cm×15 cm) of the adherend is 0%. Therefore, since the adhesive composition of the present invention has excellent long-term heat resistance at high temperatures, it is possible to secure long-term heat resistance reliability of the final coverlay film and the printed circuit board.

또 다른 일례에 따르면, 본 발명에 따른 접착 조성물의 경화물은 하기 (ⅰ) 및 (ⅱ)의 물성 중 적어도 어느 하나를 만족할 수 있다:According to another example, the cured product of the adhesive composition according to the present invention may satisfy at least one of the following physical properties (i) and (ii):

(ⅰ) 30 내지 40 %의 레진 흐름성; 및(i) 30 to 40% resin flowability; and

(ⅱ) MIT 내굴곡 시험에 따라 측정된 1,200 회 이상의 굴곡 횟수.(ii) The number of flexures greater than or equal to 1,200 as measured according to the MIT flexural resistance test.

여기서, 상기 경화물의 레진 흐름성은 하기 수학식 2에 따라 계산될 수 있다.Here, the resin flowability of the cured product may be calculated according to Equation 2 below.

[수학식 2][Equation 2]

Figure pat00006
Figure pat00006

(상기 수학식 2에서,(In Equation 2 above,

R21은 상기 경화물(예, 커버레이 필름의 접착층)의 중심부에 원 형상의 펀칭부를 형성할 때, 상기 펀칭부의 반지름이고,R 21 is the radius of the punching part when forming a circular punching part in the center of the cured product (eg, the adhesive layer of the coverlay film);

R22는 상기 펀칭부가 형성된 경화물(예, 접착층)을 동박 상에 적층한 다음, 130 ℃ 및 5700 lb의 조건 하에서 3분 동안 프레스한 후, 상기 펀칭부에 대응되는 동박부 내에서 상기 경화물의 용융물이 흐르지 않은 동박 부위의 반지름이며,R 22 is after laminating the cured product (eg, adhesive layer) formed with the punching part on the copper foil, and then pressing for 3 minutes under the conditions of 130 ° C and 5700 lb, and then the cured product in the copper foil part corresponding to the punching part It is the radius of the copper foil area where the melt does not flow,

L21, L22, L23 및 L24는 각각 상기 펀칭부의 12시, 3시, 6시 및 9시 방향 부분에서 상기 경화물의 용융물이 흐른 길이임). L 21 , L 22 , L 23 and L 24 are lengths through which the melt of the cured product flows in the 12 o'clock, 3 o'clock, 6 o'clock and 9 o'clock directions of the punching part, respectively).

만약, 본 발명에 따른 경화물이 전술한 범위의 레진 흐름성을 가질 경우, 상기 경화물의 흐름성 및 충진 특성이 극대화되어, 종래 커버레이 필름에 비해 인쇄회로기판의 핫프레스 공정 시간을 약 3~5배 단축시켜 공정의 효율성을 향상시킬 수 있음은 물론, 롤투롤 공정을 통해 인쇄회로기판과 라미네이팅될 수 있다. If the cured product according to the present invention has the resin flowability in the above range, the flowability and filling properties of the cured product are maximized, and the hot press process time of the printed circuit board is reduced by about 3 to compared to the conventional coverlay film. It is possible to improve the efficiency of the process by shortening it by 5 times, and of course, it can be laminated with a printed circuit board through a roll-to-roll process.

상기 MIT 내굴곡 시험은 JIS C 6471 시험법에 따른 것으로, 상기 경화물을 0.38 ㎜의 굴곡 반경으로 굴곡시켰을 때 파단할 때까지의 굴곡 횟수를 측정한 것으로, 구체적으로 (ⅰ) 0.5 kg의 하중, (ⅱ) 175 cpm의 굴곡 속도, (ⅲ) 135 °의 굴곡 각도, (ⅳ) 1000/1000 ㎛의 라인/스페이스의 조건하에서 상기 경화물을 굴곡시켜 파단할 때의 굴곡 횟수를 측정한다. The MIT bending resistance test is in accordance with the JIS C 6471 test method, and the number of bending until fracture when the cured product is bent to a bending radius of 0.38 mm is measured, specifically (i) a load of 0.5 kg, (ii) a bending speed of 175 cpm, (iii) a bending angle of 135°, and (iv) a line/space of 1000/1000 μm.

만약, 본 발명에 따른 경화물이 전술한 굴곡 횟수를 가질 경우, 상기 경화물을 포함하는 제품(예, 커버레이 필름)이 꺽인 형태로 자동차 등에 실장되어 고온 환경 하에 장시간 노출되더라도, 종래 커버레이 필름과 달리, 필름에 크랙이나 파단이 발생할 가능성이 낮아, 커버레이 필름의 고온 장기 신뢰성을 향상시킬 수 있다.If the cured product according to the present invention has the above-mentioned number of bending, even if the product (eg, coverlay film) including the cured product is mounted in a bent form and exposed to a high temperature environment for a long time, the conventional coverlay film Unlike this, cracks or fractures are less likely to occur in the film, and long-term reliability at high temperatures of the coverlay film can be improved.

게다가, 본 발명에 따른 접착 조성물의 경화물은 피착체[예, 인쇄회로기판의 회로패턴(예, Line/space=1000/1000, 500/500, 100/100 ㎛)에 부착한 상태로 약 300 ℃의 납조에서 10 분간 플로팅(floating)할 경우, 단위면적(3cm×15cm)당 외관 변화율이 0 %이다. 이때, 외관 변화율은 외관에 블라스터(blaster) 및 층간 박리(delamination)의 발생 유무, 및 발생시 그 발생 범위를 의미한다. 이와 같이, 본 발명의 접착 조성물로 형성된 경화물은 고온 장기 내열성이 우수하기 때문에, 고온의 납조에서 장시간 방치하더라도, 블라스터나 층간 박리가 거의 발생하지 않기 때문에, 커버레이 필름의 고온 장기 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, the cured product of the adhesive composition according to the present invention is about 300 in a state of being attached to an adherend [eg, a circuit pattern of a printed circuit board (eg, Line/space=1000/1000, 500/500, 100/100 μm)). When floating for 10 minutes in a solder bath at ℃, the change rate of appearance per unit area (3cm×15cm) is 0%. In this case, the appearance change rate refers to the presence or absence of occurrence of blaster and delamination on the exterior, and the occurrence range when it occurs. As described above, since the cured product formed from the adhesive composition of the present invention has excellent high-temperature and long-term heat resistance, even when left in a high-temperature soldering bath for a long time, blaster or delamination hardly occurs, so that the high-temperature long-term reliability of the coverlay film can be improved. can

<커버레이 필름><Coverlay Film>

본 발명은 전술한 접착 조성물을 이용한 커버레이 필름을 제공한다.The present invention provides a coverlay film using the above-described adhesive composition.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 커버레이 필름을 개략적으로 나타낸 단면도이고, 도 2는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 커버레이 필름을 개략적으로 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing a coverlay film according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a coverlay film according to a second embodiment of the present invention.

본 발명에 따른 커버레이 필름(10A, 10B)은 인쇄회로기판, 특히 인쇄회로기판의 회로를 보호하기 위해 사용되는 커버레이 필름으로, 베이스 기재(11); 상기 기재의 일면 상에 배치되고, 전술한 접착 조성물로 형성된 접착층(12); 및 상기 접착층 상에 배치된 이형 기재(13)를 포함한다. 또, 필요에 따라, 본 발명은 상기 베이스 기재(11)의 타면 상에 배치된 표면 보호 기재(14)를 더 포함할 수 있다.The coverlay films 10A and 10B according to the present invention are a coverlay film used to protect a printed circuit board, in particular, a circuit of a printed circuit board, the base substrate 11; an adhesive layer 12 disposed on one surface of the substrate and formed of the aforementioned adhesive composition; and a release substrate 13 disposed on the adhesive layer. In addition, if necessary, the present invention may further include a surface protection substrate 14 disposed on the other surface of the base substrate 11 .

이하, 도 1를 참조하여, 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 커버레이 필름(10A)에 대해 설명한다.Hereinafter, with reference to FIG. 1, the coverlay film 10A according to the first embodiment of the present invention will be described.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의제 1 실시 형태에 따른 커버레이 필름(10A)은 베이스 기재(11) 상에 접착층(12) 및 이형 기재(13)가 순차적으로 적층된 구조를 갖는다.As shown in FIG. 1 , the coverlay film 10A according to the first embodiment of the present invention has a structure in which an adhesive layer 12 and a release substrate 13 are sequentially stacked on a base substrate 11 .

(1) 베이스 기재(1) base material

본 발명에 따른 커버레이 필름(10A)에서, 베이스 기재(11)는 접착층(12)에 의해 인쇄회로기판에 부착되어 인쇄회로기판의 회로를 보호한다.In the coverlay film 10A according to the present invention, the base substrate 11 is attached to the printed circuit board by the adhesive layer 12 to protect the circuit of the printed circuit board.

일례에 따르면, 베이스 기재(11)는 절연성 기재일 수 있다. 이 경우, 커버레이 필름의 저유전 특성을 확보할 수 있다.According to one example, the base substrate 11 may be an insulating substrate. In this case, low dielectric properties of the coverlay film can be secured.

이러한 베이스 기재(11)로는 당 업계에 통상적으로 알려진 플라스틱 필름이라면 제한없이 사용할 수 있다. 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스터 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 셀로판, 다이아세틸셀룰로스 필름, 트라이아세틸셀룰로스 필름, 아세틸셀룰로스부티레이트 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리염화비닐리덴 필름, 폴리비닐알코올 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름, 폴리스타이렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리설폰 필름, 폴리에터에터케톤 필름, 폴리에터설폰 필름, 폴리에터이미드 필름, 폴리이미드 필름, 불소수지 필름, 폴리아마이드 필름, 아크릴수지 필름, 노보넨계 수지 필름, 사이클로올레핀 수지 필름 등이 있다. 이러한 플라스틱 필름은 투명 혹은 반투명일 수 있고, 또는 착색되어 있거나 혹은 무착색된 것일 수도 있다. As the base substrate 11, any plastic film commonly known in the art may be used without limitation. For example, polyester films such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyethylene films, polypropylene films, cellophane, diacetylcellulose films, triacetylcellulose films, acetylcellulose butyrate films, polychlorinated Vinyl film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyetheretherketone film, polyethersulfone Films, polyetherimide films, polyimide films, fluororesin films, polyamide films, acrylic resin films, norbornene-based resin films, cycloolefin resin films, and the like. This plastic film may be transparent or translucent, or may be colored or uncolored.

일례에 따르면, 베이스 기재(11)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)일 수 있다. According to one example, the base substrate 11 may be polyethylene terephthalate (PET).

다른 일례에 따르면, 베이스 기재(11)는 폴리이미드(PI)일 수 있다.According to another example, the base substrate 11 may be polyimide (PI).

또 다른 일례에 따르면, 베이스 기재(11)는 약 300 ℃ 이하, 구체적으로 약 150~300 ℃의 융점을 갖는 열가소성 고분자 필름일 수 있다. 구체적으로, 베이스 기재(11)는 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene naphthalate, PEN) 필름일 수 있다. 이는 접착층의 내열성이 우수하여 저융점의 열가소성 고분자 필름에 열 안정성을 부여할 수 있다.According to another example, the base substrate 11 may be a thermoplastic polymer film having a melting point of about 300 °C or less, specifically about 150 to 300 °C. Specifically, the base substrate 11 may be a polyethylene naphthalate (PEN) film. This can impart thermal stability to the low-melting-point thermoplastic polymer film due to excellent heat resistance of the adhesive layer.

상기 베이스 기재의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 일례로 약 5 내지 50 ㎛일 수 있다.The thickness of the base substrate is not particularly limited, and may be, for example, about 5 to 50 μm.

(2) 접착층(2) adhesive layer

본 발명에 따른 커버레이 필름(10A)에서, 접착층(12)은 베이스 기재(11)의 일면 상에 배치되어 커버레이 필름(10A)을 인쇄회로기판의 표면에 접착시킨다.In the coverlay film 10A according to the present invention, the adhesive layer 12 is disposed on one surface of the base substrate 11 to adhere the coverlay film 10A to the surface of the printed circuit board.

본 발명의 접착층(12)은 반경화 내지 완전 경화된 상태로, 전술한 접착 조성물로 형성된 경화물을 포함한다. 이때, 접착층(12)의 경화도(겔화도)는 약 40~80 %, 구체적으로 약 40~70 %의 겔화 범위일 수 있다.The adhesive layer 12 of the present invention is in a semi-cured to fully cured state, and includes a cured product formed of the above-described adhesive composition. At this time, the degree of curing (gelation degree) of the adhesive layer 12 may be in the range of about 40 to 80%, specifically, about 40 to 70% of the gelation.

다만, 본 발명에서는 접착 조성물이 전술한 에폭시 수지, 고무계 바인더, 가용성 폴리이미드 및 무기 필러를 포함하고, 필요에 따라 경화제, 경화촉진제, 용매, 기타 첨가제를 1종 이상 더 포함할 수 있다.However, in the present invention, the adhesive composition includes the aforementioned epoxy resin, rubber-based binder, soluble polyimide and inorganic filler, and may further include one or more curing agents, curing accelerators, solvents, and other additives as necessary.

이러한 에폭시 수지, 고무계 바인더, 가용성 폴리이미드, 무기 필러, 경화제, 경화촉진제, 용매, 기타 첨가제에 대한 설명은 접착 조성물 부분에서 설명한 바와 동일하기 때문에, 생략한다.Descriptions of such an epoxy resin, a rubber binder, a soluble polyimide, an inorganic filler, a curing agent, a curing accelerator, a solvent, and other additives are the same as those described in the adhesive composition section, and thus will be omitted.

본 발명의 접착층(12)은 전술한 접착 조성물 부분에서 설명한 바와 같이, 고온 장기 내열성, 고온 장기 접착성, 고온 장기 접착 유지성, 흐름성, 충진성(매립성), 내굴곡성 등이 우수하다. The adhesive layer 12 of the present invention has excellent high-temperature long-term heat resistance, high-temperature long-term adhesiveness, high-temperature long-term adhesion retention, flowability, fillability (embedding properties), flex resistance, and the like, as described in the above-described adhesive composition section.

구체적으로, 상기 접착층(12)은 고온 장기 조건(158℃, 2,000 시간)하에서의 접착력 유지율이 약 60% 이상, 구체적으로 약 80 % 이상일 수 있다. 이때, 상기 접착층(12)은 접착력이 1 kgf/㎝ 이상, 구체적으로 1.2 kgf/㎝ 이상일 수 있다. 또한, 상기 접착층(12)은 300℃의 온도에서 10초간 방치시, 인쇄회로기판의 회로패턴(예, Line/space=1000/1000, 500/500, 100/100 ㎛)에 대해 단위면적(3cm×15cm)당 보이드율이 0 %이기 때문에, 커버레이 필름과 인쇄회로기판 간의 보이드로 인한 불량을 억제할 수 있다. 또, 상기 접착층(12)은 인쇄회로기판의 회로패턴(예, Line/space=1000/1000, 500/500, 100/100 ㎛)에 부착한 상태로 약 300 ℃의 납조에서 10 분간 플로팅(floating)되더라도 두께 변화나 층간 박리, 블라스터 등의 외관 변화가 거의 없다. 게다가, 상기 접착층(12)은 고온 장기 조건(약 300 ℃, 30분 이상)하에서 방치시 인쇄회로기판의 회로패턴(예, Line/space=1000/1000, 500/500, 100/100 ㎛)에 대해 단위면적(3cm×15cm)당 탄화율이 0 %이기 때문에, 탄화로 인한 불량 발생율을 낮출 수 있다. 아울러, 상기 접착층(12)은 레진 흐름성이 30~40 %이고, MIT 내굴곡 시험에 따라 측정된 굴곡 횟수도 1,200 회 이상이다. Specifically, the adhesive layer 12 may have an adhesive force retention rate of about 60% or more, specifically, about 80% or more under high temperature and long-term conditions (158° C., 2,000 hours). In this case, the adhesive layer 12 may have an adhesive strength of 1 kgf/cm or more, specifically 1.2 kgf/cm or more. In addition, when the adhesive layer 12 is left at a temperature of 300° C. for 10 seconds, a unit area (3 cm) for a circuit pattern (eg, Line/space=1000/1000, 500/500, 100/100 μm) of a printed circuit board Since the void rate per x 15 cm) is 0%, defects due to voids between the coverlay film and the printed circuit board can be suppressed. In addition, the adhesive layer 12 is attached to the circuit pattern (eg, Line/space=1000/1000, 500/500, 100/100 μm) of the printed circuit board and floating in a solder bath at about 300° C. for 10 minutes. ), there is almost no change in appearance such as thickness change, delamination, or blaster. In addition, the adhesive layer 12 is applied to the circuit pattern (eg, Line/space=1000/1000, 500/500, 100/100 μm) of the printed circuit board when left under high temperature long-term conditions (about 300° C., 30 minutes or more). Since the carbonization rate per unit area (3cm×15cm) is 0%, the occurrence rate of defects due to carbonization can be reduced. In addition, the adhesive layer 12 has a resin flowability of 30 to 40%, and the number of bending measured according to the MIT flex resistance test is 1,200 or more.

이와 같이, 본 발명의 접착층(12)이 고온 장기 내열성, 고온 장기 접착성, 고온 장기 접착 유지성, 흐름성, 충진성, 내굴곡성이 우수하기 때문에, 본 발명의 커버레이 필름은 장기 고온 신뢰성이 향상될 수 있고, 나아가 인쇄회로기판과의 핫프레스 공정 시간을 단축할 수 있다. 또한, 본 발명의 커버레이 필름은 롤투롤 공정을 통해 인쇄회로기판에 적용될 수 있고, 이때 인쇄회로기판의 품질, 생산성 및 효율성을 향상시킬 수 있다.As described above, since the adhesive layer 12 of the present invention has excellent high-temperature long-term heat resistance, high-temperature long-term adhesiveness, high-temperature long-term adhesion retention, flowability, fillability, and flex resistance, the coverlay film of the present invention has improved long-term high-temperature reliability. It can be done, and furthermore, it is possible to shorten the hot press process time with the printed circuit board. In addition, the coverlay film of the present invention may be applied to a printed circuit board through a roll-to-roll process, and in this case, the quality, productivity and efficiency of the printed circuit board may be improved.

전술한 접착층(12)은 커버레이 필름과 인쇄회로기판 간의 라미네이팅 후, 약 138~142 ℃에서 약 1.8~2.2 시간 또는 148~152 ℃에서 약 0.8~1.2 시간 동안 열경화되어 C-스테이지 상태의 경화물로 경화될 수 있다.After laminating between the coverlay film and the printed circuit board, the above-described adhesive layer 12 is thermally cured at about 138 to 142 ° C. for about 1.8 to 2.2 hours or at 148 to 152 ° C. for about 0.8 to 1.2 hours. Can be hardened with cargo.

상기 접착층의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 약 10~50 ㎛일 수 있다. 다만, 접착층이 전술한 범위의 두께를 가질 경우, 필름의 제막성, 두께 균일성 등이 향상될 수 있다.The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, and may be, for example, about 10 to 50 μm. However, when the adhesive layer has a thickness within the above-described range, film forming properties and thickness uniformity of the film may be improved.

(3) 이형 기재(3) release substrate

본 발명에 따른 커버레이 필름(10A)에서, 이형 기재(13)는 커버레이 필름이 인쇄회로기판에 적용되기 전까지 접착층(12) 상에 배치되어 접착층(12)이 외부 환경의 이물질로부터 오염되는 것을 방지하는 부분으로, 커버레이 필름이 인쇄회로기판의 일면 또는 양면 상에 적용되기 전에 박리되어 제거된다. In the coverlay film 10A according to the present invention, the release substrate 13 is disposed on the adhesive layer 12 until the coverlay film is applied to the printed circuit board so that the adhesive layer 12 is contaminated from foreign substances in the external environment. As a preventive part, the coverlay film is peeled off and removed before being applied on one or both sides of the printed circuit board.

이러한 이형 기재(13)로는 당 업계에 알려진 통상적인 것으로서, 접착층(12)의 손상 없이 박리될 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 불소계 이형 기재(Fluorine release film), 구체적으로 백금 촉매가 자체 포함된 불소 실리콘 이형제, 불소형 경화제와 접착성 첨가제가 혼합된 불소 이형제 등일 수 있다.The release substrate 13 is not particularly limited as long as it is a conventional one known in the art and can be peeled off without damage to the adhesive layer 12, for example, a fluorine release film, specifically a platinum catalyst containing itself It may be a fluorine silicone release agent, a fluorine release agent in which a fluorine-type curing agent and an adhesive additive are mixed.

본 발명에서, 이형 기재의 이형력은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 ASTM D3330에 의해서 측정된 접착층에 대한 이형 기재의 이형력은 약 20 내지 150 gf/inch일 수 있다In the present invention, the release force of the release substrate is not particularly limited, and for example, the release force of the release substrate with respect to the adhesive layer measured by ASTM D3330 may be about 20 to 150 gf/inch.

또, 이형 기재의 두께는 특별히 한정되지 않는다. 일례로, 접착층의 두께(T2)에 대한 이형 기재의 두께(T3)의 비율(T3/T2)은 약 1 내지 5일 수 있다. Moreover, the thickness of a mold release base material is not specifically limited. For example, the ratio (T3/T2) of the thickness (T3) of the release substrate to the thickness (T2) of the adhesive layer may be about 1 to 5.

이하, 도 2에 도시된 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 커버레이 필름(10B)에 대하여 설명한다.Hereinafter, a coverlay film 10B according to a second embodiment of the present invention shown in FIG. 2 will be described.

도 2에 도시된 바와 같이, 제2 실시 형태에 따른 커버레이 필름(10B)은 베이스 기재(11); 상기 베이스 기재의 일면에 배치된, 전술한 접착 조성물로 형성된 접착층(12); 상기 접착층(12) 상에 배치된 이형 기재(13); 및 상기 베이스 기재(11)의 타면 상에 배치된 표면 보호 기재(14)를 포함한다.As shown in FIG. 2 , the coverlay film 10B according to the second embodiment includes a base substrate 11 ; disposed on one surface of the base substrate, an adhesive layer 12 formed of the above-described adhesive composition; a release substrate 13 disposed on the adhesive layer 12; and a surface protection substrate 14 disposed on the other surface of the base substrate 11 .

제2 실시 형태에 따른 커버레이 필름(10B)에서, 베이스 기재(11), 접착층(12) 및 이형 기재(13)에 대한 설명은 제1 실시 형태에 기재된 바와 동일하기 때문에, 생략한다.In the coverlay film 10B which concerns on 2nd Embodiment, since the description of the base substrate 11, the adhesive layer 12, and the release substrate 13 is the same as that of 1st Embodiment, it is abbreviate|omitted.

제2 실시 형태에 따른 커버레이 필름(10B)에서, 표면 보호 기재(14)는 베이스 기재(11)의 타면(구체적으로, 외부 표면) 상에 배치되는 부분으로, 베이스 기재(11)가 외부 이물질에 의해 오염되는 것을 방지하고, 커버레이 필름이 핫프레스 공정을 통해 인쇄회로기판에 부착될 때 필름의 표면, 특히 기재의 표면을 보호한다. 이러한 표면 보호 기재(14)는 커버레이 필름이 인쇄회로기판에 적용시 필요에 따라 박리되어 제거될 수 있다.In the coverlay film 10B according to the second embodiment, the surface protection substrate 14 is a portion disposed on the other surface (specifically, the outer surface) of the base substrate 11, and the base substrate 11 is an external foreign substance. It prevents contamination by , and protects the surface of the film, especially the surface of the substrate, when the coverlay film is attached to the printed circuit board through the hot press process. The surface protection substrate 14 may be peeled off and removed as needed when the coverlay film is applied to the printed circuit board.

본 발명에서 사용 가능한 표면 보호 기재로는 당 분야에서 통상적으로 알려진 보호 필름이라면 특별히 제한되지 않으며, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스터 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 셀로판, 다이아세틸셀룰로스 필름, 트라이아세틸셀룰로스 필름, 아세틸셀룰로스부티레이트 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리염화비닐리덴 필름, 폴리비닐알코올 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름, 폴리스타이렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리설폰 필름, 폴리에터에터케톤 필름, 폴리에터설폰 필름, 폴리에터이미드 필름, 폴리이미드 필름, 폴리사이클로헥실렌 디메틸렌 테레프탈레이트, 불소수지 필름, 폴리아마이드 필름, 아크릴수지 필름, 노보넨계 수지 필름, 사이클로올레핀 수지 필름 등이 있는데, 이에 한정되지 않는다. The surface protection substrate usable in the present invention is not particularly limited as long as it is a protective film commonly known in the art, for example, a polyester film such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, or polyethylene naphthalate, a polyethylene film, Polypropylene film, cellophane, diacetyl cellulose film, triacetyl cellulose film, acetyl cellulose butyrate film, polyvinyl chloride film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polystyrene film, polycarbonate Film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyetheretherketone film, polyethersulfone film, polyetherimide film, polyimide film, polycyclohexylene dimethylene terephthalate, fluororesin film, polyamide There are a film, an acrylic resin film, a norbornene-based resin film, a cycloolefin resin film, and the like, but is not limited thereto.

또, 표면 보호 기재(14)는 적어도 일면, 구체적으로 베이스 기재(11)와 접촉하는 표면이 매트(matt)한 표면일 수 있다. 이 경우, 표면 보호 기재(14)의 매트면은 기재에 대해 약 30 내지 150 gf/inch 범위의 박리력을 가질 수 있다. 이러한 표면 보호 기재(14)는 커버 차폐 필름이 연성 인쇄회로기판에 부착된 후 커버레이 필름으로부터 용이하게 박리되어 제거될 수 있다. In addition, at least one surface of the surface protection substrate 14 , specifically, a surface in contact with the base substrate 11 may be a matt surface. In this case, the matte surface of the surface protection substrate 14 may have a peeling force in the range of about 30 to 150 gf/inch with respect to the substrate. The surface protection substrate 14 may be easily peeled off and removed from the coverlay film after the cover shielding film is attached to the flexible printed circuit board.

또, 표면 보호기재의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 약 20 내지 150 ㎛일 수 있고, 구체적으로 약 80 내지 120 ㎛일 수 있다.In addition, the thickness of the surface protection substrate is not particularly limited, and may be, for example, about 20 to 150 μm, and specifically about 80 to 120 μm.

본 발명의 커버레이 필름(10A, 10B)은 전술한 접착 조성물을 이용하여 접착층을 형성하는 것을 제외하고는, 당 분야에 알려진 통상적인 방법에 의해 제조될 수 있다.The coverlay films 10A and 10B of the present invention may be manufactured by a conventional method known in the art, except for forming an adhesive layer using the above-described adhesive composition.

일례로, 본 발명에 따른 커버레이 필름의 제조방법은 베이스 기재의 일면 상에 전술한 접착 조성물을 코팅 후 건조하여 필름화한 다음, 에이징(aging)하여 접착층을 형성한 다음, 상기 접착층 상에 이형 기재를 배치한 후 라미네이션하고, 필요에 따라 상기 베이스 기재의 타면에 표면 보호 기재를 라미네이션하여 제조할 수 있다.For example, in the method for manufacturing a coverlay film according to the present invention, the adhesive composition is coated on one surface of a base substrate, dried to form a film, then aged to form an adhesive layer, and then released on the adhesive layer After disposing the substrate, lamination may be performed, and, if necessary, a surface protection substrate may be laminated to the other surface of the base substrate.

상기 접착 조성물의 도포 방법은, 당 분야의 통상적인 도포 방법, 일례로 딥 코트법, 에어나이프 코트법, 커튼 코트법, 와이어 바 코트법, 그라비아 코트법, 콤마 코트법, 슬롯 코트법, 익스트루전 코트법, 스핀 코트 방법, 슬릿 스캔법, 잉크젯법 등을 들 수 있다.The coating method of the adhesive composition is a conventional coating method in the art, for example, a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a comma coating method, a slot coating method, an extrud method. A full coat method, a spin coat method, a slit scan method, an inkjet method, etc. are mentioned.

상기 건조 공정은 당 분야에 알려진 통상적인 조건 내에서 적절히 실시할 수 있고, 예컨대 약 145~155 ℃에서 1~5분 동안 수행될 수 있다.The drying process may be appropriately carried out within conventional conditions known in the art, for example, may be carried out at about 145 ~ 155 ℃ for 1 ~ 5 minutes.

상기 에이징 공정은 열안정화 공정으로, 당 분야에 알려진 통상적인 조건 내에서 적절히 실시할 수 있다. 일례로, 에이징은 약 58~62 ℃에서 약 71~73 시간 동안 수행될 수 있다. 이러한 에이징 공정을 통해 형성된 접착층은 반경화된 상태로, 경화도가 약 40~80 %이다. 따라서, 본 발명의 접착층은 추후 인쇄회로기판과 라미네이팅시 흐름성을 갖는다.The aging process is a thermal stabilization process, and may be appropriately carried out within conventional conditions known in the art. As an example, the aging may be performed at about 58 to 62 ℃ for about 71 to 73 hours. The adhesive layer formed through this aging process is in a semi-cured state and has a degree of curing of about 40 to 80%. Therefore, the adhesive layer of the present invention has flowability when laminating with a printed circuit board later.

전술한 바와 같이, 본 발명의 커버레이 필름은 고온 장기 접착력 유지성, 고온 장기 접착성, 내열성, 내굴곡성, 흐름성, 충진성(매립성), 저신축성, 내마이그레이션성, 내변색성, 내습성, 내화학약품성 등이 우수한 접착층을 포함하기 때문에, 인쇄회로기판의 제조시 핫프레스 공정효율을 향상시킬 수 있고, 인쇄회로기판의 불량율을 감소시킬 수 있으며, 나아가 인쇄회로기판의 고온 장기 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 커버레이 필름은 롤투롤 공정에 의한 인쇄회로기판의 제조시 인쇄회로기판의 품질, 생산성 및 효율을 향상시킬 수 있다.As described above, the coverlay film of the present invention has high-temperature long-term adhesiveness retention, high-temperature long-term adhesiveness, heat resistance, flex resistance, flowability, fillability (burial property), low elasticity, migration resistance, discoloration resistance, moisture resistance , because it contains an adhesive layer with excellent chemical resistance, etc., it is possible to improve the hot press process efficiency in the manufacture of printed circuit boards, reduce the defect rate of the printed circuit board, and further improve the high temperature long-term reliability of the printed circuit board can do it In addition, the coverlay film of the present invention can improve the quality, productivity and efficiency of the printed circuit board when the printed circuit board is manufactured by the roll-to-roll process.

<인쇄회로기판><Printed circuit board>

본 발명은 전술한 커버레이 필름을 포함하는 인쇄회로기판을 제공한다.The present invention provides a printed circuit board including the above-described coverlay film.

일례에 따르면, 본 발명의 인쇄회로기판은 기판 본체; 및 상기 본체의 적어도 일면 상에 배치된 전술한 커버레이 필름(10A, 10B)을 포함한다 이 경우, 상기 커버레이 필름(10A, 10B)의 접착층은 고온 장기 접착력 유지성, 고온 장기 접착성, 내열성, 내굴곡성, 흐름성, 충진성(매립성), 저신축성, 내마이그레이션성, 내변색성, 내습성, 내화학약품성 등이 우수하다. 따라서, 본 발명의 인쇄회로기판은 품질, 생산성 및 효율성이 높을 뿐만 아니라, 고온 장기 신뢰성이 우수하다.According to one example, the printed circuit board of the present invention includes a substrate body; and the above-described coverlay films (10A, 10B) disposed on at least one surface of the main body. It is excellent in bending resistance, flowability, filling (burial), low elasticity, migration resistance, discoloration resistance, moisture resistance, and chemical resistance. Accordingly, the printed circuit board of the present invention has high quality, productivity and efficiency, as well as excellent high-temperature long-term reliability.

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 자세히 설명할 것이다. 그러나, 본 발명이 이로써 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited thereto.

[[ 준비예preparation example 1~2 및 1-2 and 비교준비예Comparative preparation example 1~4] - 가용성 폴리이미드의 제조 1-4] - Preparation of soluble polyimide

하기 표 1에 기재된 조성에 따라 디아민과 산이무수물을 혼합하고 공중합시켜 가용성 폴리이미드를 제조하였다. A soluble polyimide was prepared by mixing and copolymerizing diamine and acid dianhydride according to the composition shown in Table 1 below.

준비예preparation example 비교준비예Comparative preparation example 1One 22 1One 22 33 44 디아민diamine BAPP:APBN
(몰비율)
BAPP:APBN
(molar ratio)
0.72:0.300.72:0.30 0.72:0.300.72:0.30 0.71:0.300.71:0.30 0.51:0.500.51:0.50 0.71:0.300.71:0.30 0.51:0.500.51:0.50
산이무수물acid dianhydride ODPA:BTDA
(몰비율)
ODPA: BTDA
(molar ratio)
0.80:0.200.80:0.20 0.50:0.500.50:0.50 0.80:0.200.80:0.20 0.80:0.200.80:0.20 -- --
BPDA:BSAA
(몰비율)
BPDA:BSAA
(molar ratio)
-- -- -- -- 0.50:0.500.50:0.50 0.50:0.500.50:0.50
1) BAPP: 2,2-bis(4-[4-aminophenoxy]-phenyl)propane
2) APBN: 1,3'-Bis(3-aminophenoxy)benzene
3) ODPA: 4'4-oxydiphthalic anhydride
4) BTDA: 3,3'4,4'-benxophenonetetracarboxylic dianhydride
5) BPDA: biphenyltetracarboxylic acid dianhydride
6) BSAA: 4,4'-(4,4'-Isopropylidenediphenoxy)bis(phthalic anhydride)
1) BAPP: 2,2-bis(4-[4-aminophenoxy]-phenyl)propane
2) APBN: 1,3'-Bis(3-aminophenoxy)benzene
3) ODPA: 4'4-oxydiphthalic anhydride
4) BTDA: 3,3'4,4'-benxophenonetetracarboxylic dianhydride
5) BPDA: biphenyltetracarboxylic acid dianhydride
6) BSAA: 4,4'-(4,4'-Isopropylidenediphenoxy)bis(phthalic anhydride)

[[ 실험예Experimental example 1] - 가용성 폴리이미드의 물성 평가 1] - Evaluation of physical properties of soluble polyimide

준비예 1~2 및 비교준비예 1~4에서 각각 중합된 가용성 폴리이미드에 대한 물성을 다음과 같이 평가하였고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The physical properties of each polymerized soluble polyimide in Preparation Examples 1 to 2 and Comparative Preparation Examples 1 to 4 were evaluated as follows, and the results are shown in Table 2 below.

(1) (One) 코팅성coatability

가용성 폴리이미드를 동박에 코팅하여 코팅층의 두께 균일 유무, 핀홀 발생 유무 등과 같은 코팅층의 외관을 관찰하였다. 이때, i) 외관이 아주 우수하면, '◎'로 표시하고, ii) 외관이 우수하면, '○'로 표시하며, iii) 외관이 보통이면, '△'로 표시하고, iv) 외관이 불량하면, 'Χ'로 표시하였다.The soluble polyimide was coated on the copper foil to observe the appearance of the coating layer, such as whether the thickness of the coating layer was uniform and whether or not pinholes were generated. At this time, i) If the appearance is very good, it is indicated by '◎', ii) If the appearance is excellent, it is indicated by '○', iii) If the appearance is normal, it is indicated by '△', iv) The appearance is poor , it is expressed as 'Χ'.

(2) 점도(2) Viscosity

레오미터(Rheometer)를 이용하여 가용성 폴리이미드의 점도에 대해 측정하였다.The viscosity of the soluble polyimide was measured using a rheometer.

(3) 레진 흐름성(resin flow)(3) resin flow

2장의 블루 패드(13㎝x13㎝) 상에 1개의 Sus plate(12㎝x12㎝)을 적층한 후, 1 oz의 동박(4㎝x4㎝)을 상기 Sus plate의 정중앙 상에 배치하였다. 한편, 가용성 폴리이미드를 약 190 ℃에서 5분 동안 건조하여 가용성 폴리이미드 필름을 형성한 후, 이를 2.5㎝x2.5㎝의 크기로 샘플링한 다음, 상기 가용성 폴리이미드 필름 샘플의 뒷면에 펜으로 X자를 표시한 후, 상기 X자의 중심이 보이게 펀치로 펀칭하여 펀칭부를 형성한다. 이후, 상기 가용성 폴리이미드 필름을 상기 동박의 정중앙 상에 배치한 다음, PET 필름(12㎝x12㎝), Al plate(4㎝x4㎝) 및 2장의 블루 패드(4㎝x4㎝)를 순차적으로 배치하여 적층체를 얻었다. 상기 적층체를 130 ℃의 온도 및 570 lb의 압력 하에서 3분 동안 프레스한 다음, 광학 현미경을 이용하여 R11, R12, L11, L12, L13, L14를 각각 측정한 후, 하기 수학식 1에 따라 레진 흐름성을 계산하였다.After laminating one Sus plate (12cmx12cm) on two blue pads (13cmx13cm), 1 oz copper foil (4cmx4cm) was placed on the center of the Sus plate. On the other hand, after drying the soluble polyimide at about 190 ° C. for 5 minutes to form a soluble polyimide film, it is sampled in a size of 2.5 cm x 2.5 cm, and then X with a pen on the back side of the soluble polyimide film sample After marking the ruler, the punching part is formed by punching with a punch so that the center of the X-shape is visible. Thereafter, the soluble polyimide film was placed on the center of the copper foil, and then a PET film (12cmx12cm), an Al plate (4cmx4cm) and two blue pads (4cmx4cm) were sequentially placed. Thus, a laminate was obtained. The laminate was pressed for 3 minutes at a temperature of 130° C. and a pressure of 570 lb. Then, R 11 , R 12 , L 11 , L 12 , L 13 , and L 14 were measured using an optical microscope, respectively, and then the following The resin flowability was calculated according to Equation 1.

[수학식 1][Equation 1]

Figure pat00007
Figure pat00007

(상기 수학식 1에서,(In Equation 1 above,

R11은 상기 가용성 폴리이미드 필름의 중심부에 원 형상의 펀칭부를 형성할 때, 상기 펀칭부의 반지름이고,R 11 is the radius of the punching part when forming a circular punching part in the center of the soluble polyimide film,

R12는 상기 펀칭부가 형성된 가용성 폴리이미드 필름을 동박 상에 적층한 다음, 130 ℃ 및 5700 lb의 조건 하에서 3분 동안 프레스한 후, 상기 펀칭부에 대응되는 동박부 내에서 상기 수지층의 수지가 흐르지 않은 동박부의 반지름이며,R 12 is the soluble polyimide film formed with the punching part is laminated on the copper foil, and then pressed for 3 minutes under the conditions of 130 ° C and 5700 lb, and the resin of the resin layer in the copper foil part corresponding to the punching part is It is the radius of the non-flowing copper foil,

L11, L12, L13 및 L14는 각각 상기 수지층의 펀칭부의 12시, 3시, 6시 및 9시 방향 부분에서 흐른 수지의 길이임). L 11 , L 12 , L 13 and L 14 are the lengths of the resin flowing in the 12 o'clock, 3 o'clock, 6 o'clock and 9 o'clock directions of the punching part of the resin layer, respectively).

(4) 기계적 특성(4) Mechanical properties

UTM(Instron, 모델명: 5942)을 이용하여 하기 조건하에서 인장강도(Strength)(MPa), 영 모듈러스(Young's Modulus)(MPa) 및 연신율(elongation)(%)을 측정하였다. Tensile strength (Strength) (MPa), Young's Modulus (MPa) and elongation (%) were measured using UTM (Instron, model name: 5942) under the following conditions.

ⅰ) 샘플 크기: 폭 - 15 ㎜, 길이 - 120 ㎜, 두께 - 0.05 ㎜i) Sample size: width - 15 mm, length - 120 mm, thickness - 0.05 mm

ⅱ) 치구 간격: 50.8 ㎜ii) Jig spacing: 50.8 mm

ⅲ) 측정 속도: 50.8 ㎜/miniii) Measuring speed: 50.8 mm/min

ⅳ) 하중: 5.1 kgf/㎠iv) Load: 5.1 kgf/㎠

v) 표점 거리: 100 ㎜v) Gauge distance: 100 mm

(5) 접착력(peel strength)(5) Peel strength

Sus Plate(두께: 1.2 ㎜)/4장의 블루 패드/Sus plate(두께: 1.2 ㎜)/이형 PET 필름/PVC 필름/이형 PET 필름/동박(두께: 35㎛)/가용성 폴리이미드 필름/이형 PET 필름/PVC 필름/Sus plate(두께: 1.2 ㎜)/이형 PET 필름/PVC 필름/이형 PET 필름/동박(두께: 35 ㎛)/가용성 폴리이미드 필름/이형 PET 필름/PVC 필름/Sus plate(두께: 1.2 ㎜)/4장의 블루 패드/Sus Plate(두께: 1.2 ㎜)의 순서로 적층한 후, 150 ℃의 온도 및 40 kgf/㎠의 압력 하에서 60분 동안 핫프레스하여 동박에 가용성 폴리이미드 필름이 합지된 샘플을 얻었다. 이때, 사용된 가용성 폴리이미드 필름은 상기 동박에 가용성 폴리이미드를 약 190 ℃에서 5분 동안 건조하여 얻은 것으로, 두께가 약 15 ㎛이었다. 이후, 상기 샘플을 일정 크기(TD 방향 길이: 0.5 ㎝, MD 방향 길이: 12 ㎝)로 절단한 후, 절단된 샘플을 박리 강도 테스트용 받침대(prepreg)(크기: 3㎝×10㎝)의 양면 테이프 위에 상기 샘플의 동박 표면이 접촉되도록 접착하였다. 이어서, 상기 샘플의 단부에서 가용성 폴리이미드 필름 부분만 30 ㎜ 정도 벗겨낸 후, UTM (Instron, 모델명: 5942)을 이용하여 샘플의 90도 접착력을 3회 이상 측정하며, 이때 샘플이 2 ㎝ 정도 벗겨질 때의 접착력을 측정하고, 이들의 평균값을 접착력으로 나타내었다. Sus Plate (thickness: 1.2 mm) / 4 blue pads / Sus plate (thickness: 1.2 mm) / release PET film / PVC film / release PET film / copper foil (thickness: 35 μm) / soluble polyimide film / release PET film /PVC film/Sus plate (thickness: 1.2 mm)/release PET film/PVC film/release PET film/copper foil (thickness: 35 μm)/soluble polyimide film/release PET film/PVC film/Sus plate (thickness: 1.2 ㎜) / 4 sheets of blue pad / Sus Plate (thickness: 1.2 mm) laminated in the order, and then hot pressed under a temperature of 150 ℃ and a pressure of 40 kgf / ㎠ for 60 minutes to laminate the soluble polyimide film on the copper foil. A sample was obtained. In this case, the soluble polyimide film used was obtained by drying the soluble polyimide on the copper foil at about 190° C. for 5 minutes, and had a thickness of about 15 μm. After that, the sample was cut to a certain size (length in TD direction: 0.5 cm, length in MD direction: 12 cm), and then the cut sample was used on both sides of a prepreg for peel strength test (size: 3 cm × 10 cm) It was attached so that the copper foil surface of the sample was in contact on the tape. Then, after peeling off only about 30 mm of the soluble polyimide film from the end of the sample, the 90 degree adhesion of the sample is measured three or more times using UTM (Instron, model name: 5942), at this time, the sample is peeled off by about 2 cm The adhesive force was measured when losing, and the average value thereof was expressed as the adhesive force.

(6) MIT 굴곡 특성(6) MIT flexural properties

JIS C 6471 시험법에 따라 MIT 굴곡 특성을 측정하였다. MIT flexural properties were measured according to the JIS C 6471 test method.

구체적으로, SUS plate(두께: 1.2 ㎜)/5장의 Kraft Paper(두께: 0.28 ㎜)/Al plate(두께: 0.8 ㎜)/이형 PET 필름(두께: 25 ㎛)/MIT 패턴 기재/가용성 폴리이미드 필름/이형 PET 필름(두께: 25 ㎛)/PVC 필름(두께: 0.25 ㎜)/Al plate(두께: 0.8 ㎜)/5장의 Kraft Paper(각각의 두께: 0.28 ㎜)/SUS plate(두께: 1.2 ㎜)의 순서로 적층한 후 150 ℃의 온도 및 25 kgf/㎠의 압력 하에서 1시간 동안 프레스한 다음, MIT 패턴 기재에 가용성 폴리이미드 필름이 합지된 샘플을 얻었다. 이때, 사용된 MIT 패턴 기재는 이형 PI 필름(두께: 18 ㎛)/MIT 동 패턴(두께: 12 ㎛, line/space=1000/1000 ㎛)의 구조를 갖고, 상기 가용성 폴리이미드 필름은 상기 MIT 패턴 기재에 가용성 폴리이미드를 190 ℃에서 5분 동안 건조하여 얻은 것으로, 두께가 15 ㎛이었다. 이후, 하기 조건하에서 MIT 측정기기(TOYOSEIKI사, MIT-SA)를 이용하여 상기 샘플의 폴딩 사이클(Folding Cycle)을 측정하였다. Specifically, SUS plate (thickness: 1.2 mm) / 5 sheets of Kraft Paper (thickness: 0.28 mm) / Al plate (thickness: 0.8 mm) / release PET film (thickness: 25 μm) / MIT pattern substrate / soluble polyimide film /Releasable PET film (thickness: 25㎛)/PVC film (thickness: 0.25 mm)/Al plate (thickness: 0.8 mm)/5 sheets of Kraft Paper (each thickness: 0.28 mm)/SUS plate (thickness: 1.2 mm) After lamination in the order of 150 ℃ and pressed under a pressure of 25 kgf / cm 2 for 1 hour, a sample in which a soluble polyimide film was laminated on a MIT pattern substrate was obtained. At this time, the used MIT pattern substrate has a structure of a release PI film (thickness: 18 μm)/MIT copper pattern (thickness: 12 μm, line/space=1000/1000 μm), and the soluble polyimide film is the MIT pattern It was obtained by drying soluble polyimide on a substrate at 190° C. for 5 minutes, and had a thickness of 15 μm. Thereafter, the folding cycle of the sample was measured using an MIT measuring instrument (TOYOSEIKI, MIT-SA) under the following conditions.

ⅰ) 하중: 0.5 kgi) Load: 0.5 kg

ⅱ) 굴곡 속도: 175 cpm ii) Bending speed: 175 cpm

ⅲ) 굴곡 각도: 135 °iii) bending angle: 135°

ⅳ) Line/Space: 1000/1000 ㎛iv) Line/Space: 1000/1000 μm

(7) 내열 특성(Solder Floating, S/F)(7) Heat resistance (Solder Floating, S/F)

Sus Plate(두께: 1.2 ㎜)/4장의 블루 패드/Sus plate(두께: 1.2 ㎜)/이형 PET 필름/PVC 필름/이형 PET 필름/동박(두께: 35㎛)/가용성 폴리이미드 필름/ 동박(두께: 35 ㎛)/이형 PET 필름/PVC 필름/Sus plate(두께: 1.2 ㎜)/이형 PET 필름/PVC 필름/이형 PET 필름/동박(두께: 35 ㎛)/가용성 폴리이미드 필름/동박(두께: 35 ㎛)/이형 PET 필름/PVC 필름/Sus plate(두께: 1.2 ㎜)/4장의 블루 패드/Sus Plate(두께: 1.2 ㎜)의 순서로 적층한 후, 150 ℃의 온도 및 40 kgf/㎠의 압력 하에서 60분 동안 핫프레스하여 동박-가용성 폴리이미드 필름-동박이 합지된 샘플을 얻었다. 이때, 사용된 가용성 폴리이미드 필름은 상기 동박에 가용성 폴리이미드를 약 190 ℃에서 5분 동안 건조하여 얻은 것으로, 두께가 약 15 ㎛이었다. 이후, 상기 샘플을 일정 크기(30 ㎜×30 ㎜)로 절단한 후, 300 ℃의 납조에 5분 동안 침적한 후, 들뜸이나 팽창과 같은 외관 불량 유무를 육안으로 관찰하였다. 이때, 들뜸/팽창과 같은 외관 불량이 없으면, 'Pass'로 표시하고, 외관 불량이 있으면, 'Fail'로 표시하였다.Sus Plate (thickness: 1.2 mm)/4 sheets of blue pad/Sus plate (thickness: 1.2 mm)/release PET film/PVC film/release PET film/copper foil (thickness: 35㎛)/soluble polyimide film/ copper foil (thickness) : 35 μm)/Releasable PET film/PVC film/Sus plate (thickness: 1.2 mm)/Releasable PET film/PVC film/Releasable PET film/Copper foil (thickness: 35 μm)/soluble polyimide film/Copper foil (thickness: 35 ㎛) / release PET film / PVC film / Sus plate (thickness: 1.2 mm) / blue pad / Sus plate (thickness: 1.2 mm) after lamination in the order, 150 ℃ temperature and 40 kgf / ㎠ pressure A sample in which copper foil-soluble polyimide film-copper foil was laminated was obtained by hot pressing under a for 60 minutes. In this case, the soluble polyimide film used was obtained by drying the soluble polyimide on the copper foil at about 190° C. for 5 minutes, and had a thickness of about 15 μm. Thereafter, the sample was cut to a predetermined size (30 mm×30 mm), immersed in a solder bath at 300° C. for 5 minutes, and then visually observed for appearance defects such as lifting or swelling. At this time, if there was no appearance defect such as lifting/expansion, 'Pass' was indicated, and if there was an appearance defect, 'Fail' was indicated.

준비예preparation example 비교준비예Comparative preparation example 1One 22 1One 22 33 44 코팅성coatability 점도(cPs)Viscosity (cPs) 2,0002,000 30,00030,000 70,00070,000 50,00050,000 90,00090,000 50,00050,000 레진 흐름성(%)Resin flowability (%) 2020 1010 2 %2 % 5 %5% 3 %3% 5 %5% 인장 강도(MPa)Tensile strength (MPa) 83.283.2 110.7110.7 101.9101.9 72.772.7 116.3116.3 99.599.5 영 모듈러스(MPa)Young's modulus (MPa) 2,6702,670 2,8302,830 2,8202,820 2,5502,550 2,8802,880 2,8502,850 연신율(%)Elongation (%) 5.95.9 5.25.2 7.37.3 2.82.8 5.05.0 8.08.0 접착력(kgf/㎠)Adhesion (kgf/㎠) 1.51.5 1.41.4 0.40.4 1.71.7 1.01.0 1.71.7 MIT 굴곡 특성(회)MIT Flexural Characteristics (times) 1,5001,500 1,2001,200 300300 700700 800800 600600 내열 특성(S/F 300 ℃)Heat resistance (S/F 300 ℃) PassPass PassPass PassPass PassPass PassPass PassPass

[[ 실시예Example 1] One]

1-1. 접착 조성물의 제조1-1. Preparation of adhesive composition

하기 표 3에 기재된 조성에 따라 각 성분들을 혼합하여 접착 조성물(점도: 약 800 cPs)을 제조하였다. 하기 표 3에서, 에폭시 수지, NBR, 아크릴 수지, 가용성 폴리이미드, 무기 필러, 경화제 및 경화촉진제의 함량 단위는 중량부로, 당해 접착 조성물의 총량 100 중량부를 기준으로 한 것이다. 하기 표 3에 기재된 각 조성물을 구성하는 원료 물질의 사양은 하기 표 4와 같다.An adhesive composition (viscosity: about 800 cPs) was prepared by mixing each component according to the composition shown in Table 3 below. In Table 3 below, the content units of the epoxy resin, NBR, acrylic resin, soluble polyimide, inorganic filler, curing agent, and curing accelerator are parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition. The specifications of the raw materials constituting each composition described in Table 3 below are shown in Table 4 below.

1-2. 1-2. 커버레이coverlay 필름의 제조 manufacture of film

베이스 기재인 폴리이미드 필름(PI film)(두께: 약 25 ㎛)의 일면 상에 실시예 1-1에서 제조된 접착 조성물을 도포한 다음, 상기 도포된 조성물을 약 150 ℃에서 약 3분 동안 건조시킨 후 60 ℃에 72 시간 동안 방치하여 에이징함으로써, 접착층(경화도: 약 40 %, 두께: 약 35 ㎛)이 형성된 커버레이 필름을 제조하였다. The adhesive composition prepared in Example 1-1 was applied on one side of a polyimide film (thickness: about 25 μm) as a base substrate, and then the coated composition was dried at about 150° C. for about 3 minutes. After aging, it was left at 60° C. for 72 hours and aged to prepare a coverlay film having an adhesive layer (curing degree: about 40%, thickness: about 35 μm).

[[ 실시예Example 2~5 및 2-5 and 비교예comparative example 1] One]

하기 표 3에 기재된 조성에 따라 각 성분을 혼합하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 수행하여 실시예 2~5 및 비교예 1의 접착 조성물 및 커버레이 필름을 각각 제조하였다. 하기 표 3에 기재된 각 조성물을 구성하는 원료 물질의 사양은 하기 표 4와 같다.Adhesive compositions and coverlay films of Examples 2 to 5 and Comparative Example 1 were prepared in the same manner as in Example 1, except that each component was mixed according to the composition shown in Table 3 below. The specifications of the raw materials constituting each composition described in Table 3 below are shown in Table 4 below.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 비교예 1Comparative Example 1 AA 1515 2525 2525 1515 2525 2525 BB B1B1 1515 1010 55 1515 55 1515 B2B2 2525 2525 2525 2525 2525 2525 CC 55 55 55 1010 1010 -- DD 3030 2525 3030 2525 2525 2525 EE 22 33 33 22 33 33 FF 33 2.52.5 2.52.5 33 2.52.5 2.52.5 GG 33 2.52.5 2.52.5 33 2.52.5 2.52.5 HH 22 22 22 22 22 22

구성 요소Component 성분ingredient AA 에폭시 수지epoxy resin YD-011 (국도화학 社)(EEW: 475 g/eq) YD-011 (Kukdo Chemical) (EEW: 475 g/eq) BB 고무계 바인더rubber binder B1B1 아크릴로니트릴-부타디엔 러버(NBR): XER-32 (JSR corporation 社)Acrylonitrile-butadiene rubber (NBR): XER-32 (JSR corporation) B2B2 아크릴 러버: Vamac ultra IP (Dupont 社)Acrylic rubber: Vamac ultra IP (Dupont) CC 가용성 폴리이미드Soluble polyimide 준비예 1의 가용성 폴리이미드Soluble polyimide of Preparation Example 1 DD 무기 필러inorganic filler H42M (Showa Denkko 社)와 SG-95(Nopon talc 社)의 혼합물(50 : 50 중량비)A mixture of H42M (Showa Denkko) and SG-95 (Nopon talc) (50:50 weight ratio) EE 경화제hardener DDS (Huntsman 社)DDS (Huntsman) FF 레벨링제leveling agent F-477, ㈜ 한국디아이씨F-477, DIC Korea Co., Ltd. GG 분산제dispersant A-187, Momentive A-187, Momentive HH 촉매catalyst 2E4MZ,Shikoku2E4MZ, Shikoku

[[ 비교예comparative example 2] 2]

비교예 2로 ㈜두산의 DFF-200를 사용하였다.As Comparative Example 2, Doosan Corporation's DFF-200 was used.

[[ 실험예Experimental example 2] - 물성 평가 2] - Evaluation of physical properties

실시예 1~5 및 비교예 1에서 각각 제조된 커버레이 필름의 물성 평가를 하기와 같이 실시하였고, 그 결과를 하기 표 5 및 도 4에 나타내었다.The physical properties of the coverlay films prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 were evaluated as follows, and the results are shown in Table 5 and FIG. 4 below.

(1) 레진 흐름성(1) Resin flowability

2장의 블루 패드(13㎝x13㎝) 상에 1개의 Sus plate(12㎝x12㎝)을 적층한 후, 1 oz의 동박(4㎝x4㎝)을 상기 Sus plate의 정중앙 상에 배치하였다. 한편, 커버레이 필름을 2.5㎝x2.5㎝의 크기로 샘플링한 다음, 상기 커버레이 샘플의 뒷면에 펜으로 X자를 표시한 후, 상기 X자의 중심이 보이게 펀치로 펀칭하여 펀칭부를 형성한다. 이후, 상기 커버레이 샘플(이형 기재는 제거됨)을 상기 동박의 정중앙부 상에 배치한 다음, PET 필름(12㎝x12㎝), Al plate(4㎝x4㎝) 및 2장의 블루 패드(4㎝x4㎝)를 순차적으로 배치하여 적층체를 얻었다. 상기 적층체를 130 ℃의 온도 및 570 lb의 압력 하에서 3분 동안 프레스한 다음, 광학 현미경을 이용하여 R21, R22, L21, L22, L23, L24를 각각 측정한 후(도 3 참조), 하기 수학식 2에 따라 레진 흐름성을 계산하였다.After laminating one Sus plate (12cmx12cm) on two blue pads (13cmx13cm), 1 oz copper foil (4cmx4cm) was placed on the center of the Sus plate. On the other hand, the coverlay film is sampled in a size of 2.5cmx2.5cm, and then an X is marked on the back side of the coverlay sample with a pen, and then punched with a punch so that the center of the X is visible to form a punching part. Then, the coverlay sample (the release substrate was removed) was placed on the central portion of the copper foil, followed by a PET film (12cmx12cm), an Al plate (4cmx4cm) and two blue pads (4cmx4). cm) were sequentially arranged to obtain a laminate. After the laminate was pressed for 3 minutes at a temperature of 130 ° C and a pressure of 570 lb, R 21 , R 22 , L 21 , L 22 , L 23 , and L 24 were measured using an optical microscope, respectively (Fig. 3), the resin flowability was calculated according to Equation 2 below.

[수학식 2][Equation 2]

Figure pat00008
Figure pat00008

(상기 수학식 2에서,(In Equation 2 above,

R21은 당해 커버레이 필름에 형성된 상기 펀칭부의 반지름이고,R 21 is the radius of the punched portion formed on the coverlay film,

R22는 상기 프레스 후, 상기 펀칭부에 대응되는 동박 영역 내에서 상기 접착층의 용융물이 흐르지 않은 동박 부위의 반지름이며,R 22 is the radius of the copper foil portion where the melt of the adhesive layer does not flow in the copper foil region corresponding to the punching portion after the press;

L21, L22, L23 및 L24는 각각 상기 펀칭부의 12시, 3시, 6시 및 9시 방향 부분에서 상기 접착층의 용융물이 흐른 길이임). L 21 , L 22 , L 23 and L 24 are lengths through which the melt of the adhesive layer flows in the 12 o'clock, 3 o'clock, 6 o'clock and 9 o'clock directions of the punching part, respectively).

(2) MIT 굴곡 특성(2) MIT flexural properties

SUS plate(두께: 1.2 ㎜)/5장의 Kraft Paper(두께: 0.28 ㎜)/Al plate(두께: 0.8 ㎜)/이형 PET 필름(두께: 25 ㎛)/FCCL/커버레이 필름/이형 PET 필름(두께: 25 ㎛)/PVC 필름(두께: 0.25 ㎜)/Al plate(두께: 0.8 ㎜)/5장의 Kraft Paper(각각의 두께: 0.28 ㎜)/SUS plate(두께: 1.2 ㎜)의 순서로 적층한 후, 150 ℃의 온도 및 25 kgf/㎠의 압력 하에서 1시간 동안 프레스하여 FCCL의 동 패턴에 커버레이가 합지된 샘플을 얻었다. 이후, 하기 조건하에서 MIT 측정기기(TOYOSEIKI사, MIT-SA)를 이용하여 상기 샘플의 폴딩 사이클(Folding Cycle)을 측정하였다. 상기에서 사용된 FCCL은 폴리이미드(두께: 18 ㎛) 상에 동 패턴(두께: 12 ㎛, Line/Space: 1000/1000 ㎛)이 형성되어 있는 것이었다.SUS plate (thickness: 1.2 mm) / 5 sheets of Kraft Paper (thickness: 0.28 mm) / Al plate (thickness: 0.8 mm) / release PET film (thickness: 25 μm) / FCCL / coverlay film / release PET film (thickness: 0.28 mm) : 25 μm)/PVC film (thickness: 0.25 mm)/Al plate (thickness: 0.8 mm)/5 sheets of Kraft Paper (each thickness: 0.28 mm)/SUS plate (thickness: 1.2 mm) , by pressing for 1 hour at a temperature of 150 °C and a pressure of 25 kgf/cm 2 to obtain a sample in which the coverlay was laminated on the copper pattern of FCCL. Thereafter, the folding cycle of the sample was measured using an MIT measuring instrument (TOYOSEIKI, MIT-SA) under the following conditions. The FCCL used above had a copper pattern (thickness: 12 µm, Line/Space: 1000/1000 µm) formed on polyimide (thickness: 18 µm).

ⅰ) 하중: 0.5 kgi) Load: 0.5 kg

ⅱ) 굴곡 속도: 175 cpm ii) Bending speed: 175 cpm

ⅲ) 굴곡 각도: 135 °iii) bending angle: 135°

ⅳ) Line/Space: 1000/1000 ㎛iv) Line/Space: 1000/1000 μm

(3) 납땜 내열성(Solder Floating, S/F)(3) Solder Floating (S/F)

SUS plate(두께: 1.2 ㎜)/4장의 블루 패드/Al plate(두께: 1 ㎜)/이형 PET 필름/PVC 필름/이형 PET 필름/FCCL/커버레이 필름/이형 PET 필름/PVC 필름/이형 PET 필름/ FCCL/커버레이 필름/이형 PET 필름/PVC 필름/이형 PET 필름/ FCCL/커버레이 필름/이형 PET 필름/PVC 필름/이형 PET 필름/FCCL/커버레이 필름/이형 PET 필름/PVC 필름/이형 PET 필름/Al plate(두께: 1 ㎜)/4장의 블루 패드/SUS plate(두께: 1.2 ㎜)의 순서로 적층한 후, 150 ℃의 온도 및 40 kgf/100㎠의 압력 하에서 60분 동안 핫프레스하여 FCCL의 동 패턴에 커버레이가 합지된 샘플을 얻었다. 이후, 상기 샘플을 300℃의 납조(무연납 63%)에 5분 동안 플로팅(Floating)시킨 다음, 육안으로 상기 샘플의 외관 이상 유무를 확인하였다. 상기에서 사용된 FCCL은 폴리이미드(두께: 18 ㎛) 상에 동 패턴(두께: 12 ㎛, Line/Space: 1000/1000 ㎛)이 형성되어 있는 것이었다. 여기서, 외관 이상이란, 샘플의 두께 변화나 기포, 물집, 층간 박리(Delamination) 등이 발생한 것을 의미한다. 이때, 샘플의 외관에 두께 변화, 기포, 물집, 층간 박리가 발생하면, 'Fail'이라고 나타내었고, 두께 변화, 기포, 물집, 층간 박리가 발생하지 않으면, 'Pass'라고 나타내었다.SUS plate (thickness: 1.2 mm)/4 blue pad/Al plate (thickness: 1 mm)/release PET film/PVC film/release PET film/FCCL/coverlay film/release PET film/PVC film/release PET film / FCCL/Coverlay Film/Release PET Film/PVC Film/Release PET Film/ FCCL/Coverlay Film/Release PET Film/PVC Film/Release PET Film/FCCL/Coverlay Film/Release PET Film/PVC Film/Release PET After laminating in the order of film/Al plate (thickness: 1 mm)/4 sheets of blue pad/SUS plate (thickness: 1.2 mm), hot-pressed for 60 minutes under a temperature of 150 °C and a pressure of 40 kgf/100cm2. A sample in which a coverlay was laminated on the copper pattern of FCCL was obtained. Thereafter, the sample was floated in a solder bath (lead-free 63%) at 300° C. for 5 minutes, and then the appearance of the sample was visually checked. The FCCL used above had a copper pattern (thickness: 12 µm, Line/Space: 1000/1000 µm) formed on polyimide (thickness: 18 µm). Here, the abnormal appearance means that a change in the thickness of the sample, bubbles, blisters, delamination, or the like occurred. At this time, if thickness change, bubbles, blisters, or delamination occurred in the appearance of the sample, 'Fail' was indicated, and if thickness change, bubbles, blisters, or delamination did not occur, it was indicated as 'Pass'.

(4) 고온 방치 접착성(4) Adhesion at high temperature

Sus Plate(두께: 1.2 ㎜)/4장의 블루 패드/Sus plate(두께: 1.2 ㎜)/이형 PET 필름/PVC 필름/ 이형 PET 필름/FCCL/커버레이 필름/이형 PET 필름/PVC 필름/Sus plate(두께: 1.2 ㎜)/이형 PET 필름/PVC 필름/ 이형 PET 필름/FCCL/커버레이 필름/이형 PET 필름/PVC 필름/Sus plate(두께: 1.2 ㎜)/4장의 블루 패드/ Sus Plate(두께: 1.2 ㎜)의 순서로 적층한 후, 150 ℃의 온도 및 40 kgf/㎠의 압력 하에서 60분 동안 핫프레스하여 FCCL의 동 패턴에 커버레이가 합지된 샘플을 얻었다. 상기에서 사용된 FCCL은 폴리이미드(두께: 18 ㎛) 상에 동 패턴(두께: 12 ㎛, Line/Space: 1000/1000 ㎛)이 형성되어 있는 것이었다. 이후, 상기 샘플을 일정 크기(TD 방향 길이: 0.5 ㎝, MD 방향 길이: 12 ㎝)로 절단한 후, 절단된 샘플을 박리 강도 테스트용 받침대(prepreg)(크기: 3㎝×10㎝)의 양면 테이프 위에 상기 샘플의 동박 표면이 접촉되도록 접착하였다. 이어서, 상기 샘플의 단부에서 커버레이 필름 부분만 30 ㎜ 정도 벗겨낸 후, UTM (Instron, 모델명: 5942)을 이용하여 샘플의 90도 접착력을 3회 이상 측정하며, 이때 샘플이 2 ㎝ 정도 벗겨질 때의 접착력을 측정하고, 이들의 평균값을 접착력으로 나타내었다. 또, 상기 받침대-샘플의 적층체를 158 ℃의 고온 하에 2,000 시간 동안 방치한 후, 1,000 시간마다 각 샘플의 90도 접착력을 전술한 바와 같이 측정하였다. 이때, 대조군으로서 비교예 2의 커버레이 필름을 사용하였다.Sus Plate (thickness: 1.2 mm)/4 sheets of blue pad/Sus plate (thickness: 1.2 mm)/release PET film/PVC film/release PET film/FCCL/coverlay film/release PET film/PVC film/Sus plate( Thickness: 1.2 mm)/Release PET Film/PVC Film/ Release PET Film/FCCL/Coverlay Film/Release PET Film/PVC Film/Sus plate(Thickness: 1.2 mm)/4 Blue Pad/ Sus Plate(Thickness: 1.2 mm), and then hot-pressed for 60 minutes under a temperature of 150° C. and a pressure of 40 kgf/cm 2 to obtain a sample in which the coverlay was laminated on the copper pattern of FCCL. The FCCL used above had a copper pattern (thickness: 12 µm, Line/Space: 1000/1000 µm) formed on polyimide (thickness: 18 µm). After that, the sample was cut to a certain size (length in TD direction: 0.5 cm, length in MD direction: 12 cm), and then the cut sample was used on both sides of a prepreg for peel strength test (size: 3 cm × 10 cm) It was attached so that the copper foil surface of the sample was in contact on the tape. Then, after peeling off only about 30 mm of the coverlay film from the end of the sample, the 90-degree adhesive force of the sample is measured three or more times using UTM (Instron, model name: 5942), at which time the sample is peeled off by about 2 cm. The adhesive force at the time was measured, and the average value of these was expressed as adhesive force. In addition, after the pedestal-sample laminate was left under a high temperature of 158° C. for 2,000 hours, the 90-degree adhesive force of each sample was measured every 1,000 hours as described above. In this case, the coverlay film of Comparative Example 2 was used as a control.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 비교예 1Comparative Example 1 레진 흐름성(%)Resin flowability (%) 2525 3535 4545 1515 1010 4040 MIT 굴곡 특성(회)MIT Flexural Characteristics (times) 1,3001,300 1,4001,400 1,0001,000 1,5001,500 1,4001,400 1,2001,200 납땜 내열성(300℃, 10 분)Soldering heat resistance (300℃, 10 minutes) PassPass PassPass PassPass PassPass PassPass PassPass 접착력
(kgf/㎠)
adhesion
(kgf/cm2)
0 h0 h 1.51.5 1.61.6 1.71.7 1.21.2 1.61.6 1.51.5
1,000 h1,000 h 1.41.4 1.51.5 1.41.4 1.21.2 1.41.4 1.21.2 2,000 h2,000 h 1.21.2 1.41.4 1.11.1 1.11.1 1.01.0 0.60.6

상기 표 5에서 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1~5의 커버레이 필름은 비교예 1의 커버레이 필름과 마찬가지로, 레진 흐름성, 내굴곡성 및 내열성이 모두 우수하였다.As can be seen from Table 5, the coverlay films of Examples 1 to 5 were excellent in resin flowability, bending resistance, and heat resistance, like the coverlay film of Comparative Example 1.

또한, 실시예 1~5의 커버레이 필름은 비교예 1의 커버레이 필름과 마찬가지로, 초기 접착력도 1.2 kgf/㎠ 이상으로 높았다. 다만, 실시예 1~5의 커버레이 필름은 비교예 1과 달리, 고온의 조건 하에서 2,000 시간 동안 방치하더라도, 접착력이 약 1.0 kgf/㎠ 이상이었다. 반면, 비교예 1의 커버레이 필름은 고온에서 2,000 시간 방치시, 접착력이 0.6 kgf/㎠으로 낮아졌다. 이와 같이, 도 4에 도시된 바와 같이, 실시예 1~5의 커버레이 필름은 고온의 온도하에서 2,000 시간 동안 방치하더라도, 우수한 접착력이 서서히 감소하였고, 그 결과 2,000 시간일 때 접착력 유지율이 약 60 % 이상이었고, 특히 실시예 1, 2, 4는 80 % 이상이었다. 반면, 비교예 1의 커버레이 필름은 접착력이 급격하게 감소하였고, 그 결과 2,000 시간일 때 접착력 유지율이 40 %이었다(도 4 참조). 한편, 비교예 2의 커버레이 필름은 비교예 1과 마찬가지로, 고온의 온도에 장시간 방치시 급격하게 접착력이 저하되었고, 1,500 시간일 때 접착력이 약 0 kgf/㎠이었다(도 4 참조).In addition, the coverlay films of Examples 1 to 5 had an initial adhesive strength as high as 1.2 kgf/cm 2 or more, similarly to the coverlay film of Comparative Example 1. However, unlike Comparative Example 1, the coverlay films of Examples 1 to 5 had adhesive strength of about 1.0 kgf/cm 2 or more, even when left for 2,000 hours under high temperature conditions. On the other hand, when the coverlay film of Comparative Example 1 was left at a high temperature for 2,000 hours, the adhesive strength was lowered to 0.6 kgf/cm 2 . As shown in FIG. 4, even when the coverlay films of Examples 1 to 5 were left under a high temperature for 2,000 hours, the excellent adhesive strength gradually decreased, and as a result, the adhesive strength retention rate was about 60% at 2,000 hours. or more, and in particular, Examples 1, 2, and 4 were 80% or more. On the other hand, the coverlay film of Comparative Example 1 had a sharp decrease in adhesive force, and as a result, the adhesive force retention rate was 40% at 2,000 hours (see FIG. 4 ). On the other hand, as in Comparative Example 1, the coverlay film of Comparative Example 2 had a sharp decrease in adhesion when left at a high temperature for a long time, and the adhesion was about 0 kgf/cm 2 at 1,500 hours (see FIG. 4 ).

[[ 실험예Experimental example 3] - 3] - 커버레이coverlay 필름의 of film 충진성fillability

실시예 2 및 비교예 1의 커버레이 필름에 대한 충진성 유무를 다음과 같이 실험하였고, 그 결과를 도 5에 나타내었다.The filling properties of the coverlay films of Example 2 and Comparative Example 1 were tested as follows, and the results are shown in FIG. 5 .

FCCL의 동 패턴에 커버레이 필름을 합지하여 샘플을 얻었다. 이때, 사용된 FCCL은 폴리이미드(두께: 18 ㎛) 상에 동 패턴(두께: 12 ㎛, Line/Space: 1000/1000 ㎛)이 형성되어 있는 것이었다. 이후, 상기 샘플을 300 ℃의 온도하에 30 분 동안 방치하여 탄화물의 형성 여부를 관찰하였다.A sample was obtained by laminating a coverlay film on the copper pattern of FCCL. In this case, the FCCL used was one in which a copper pattern (thickness: 12 µm, Line/Space: 1000/1000 µm) was formed on polyimide (thickness: 18 µm). Thereafter, the sample was left at a temperature of 300° C. for 30 minutes to observe whether carbides were formed.

도 5에서 알 수 있는 바와 같이, 실시예 2의 커버레이 필름은 FCCL의 동 패턴과의 단차 부위에 탄화가 발생하지 않았다. 반면, 비교예 1의 커버레이 필름은 10초 경과시 FCCL의 동 패턴과의 단차 부위에 보이드(void)가 성장하였고, 이후 30분 경과시 FCCL의 동 패턴과의 단차 부위에 탄화가 발생하였다. As can be seen from FIG. 5 , in the coverlay film of Example 2, carbonization did not occur in the step portion with the copper pattern of FCCL. On the other hand, in the coverlay film of Comparative Example 1, voids grew on the step portion with the copper pattern of FCCL after 10 seconds, and carbonization occurred on the portion with the step difference with the copper pattern of FCCL after 30 minutes passed.

이와 같이, 본 발명에 따른 커버레이 필름은 고온에 장시간 보관하더라도 인쇄회로기판의 패턴과의 단차부에 보이드 및 탄화물이 형성되지 않았기 때문에, 충진성이 우수하다는 것을 추정할 수 있었다.As described above, even if the coverlay film according to the present invention is stored at a high temperature for a long time, since voids and carbides are not formed in the step portion with the pattern of the printed circuit board, it can be estimated that the fillability is excellent.

10A, 10B: 커버레이 필름, 11: 기재,
12: 접착층, 13: 이형 기재,
14: 표면 보호 기재
10A, 10B: coverlay film, 11: substrate,
12: adhesive layer, 13: release substrate,
14: surface protection substrate

Claims (17)

(a) 2관능 이상의 에폭시 수지;
(b) 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 및 아크릴 고무를 함유하는 고무계 바인더;
(c) 가용성 폴리이미드; 및
(d) 무기 필러
를 포함하는 접착 조성물.
(a) a bifunctional or more functional epoxy resin;
(b) a rubber-based binder containing acrylonitrile-butadiene rubber and acrylic rubber;
(c) soluble polyimides; and
(d) inorganic fillers
Adhesive composition comprising a.
제1항에 있어서,
상기 가용성 폴리이미드는 레진 흐름성(resin flow, R/F)이 10 내지 25 % 범위를 갖는, 접착 조성물.
According to claim 1,
The soluble polyimide has a resin flow (R/F) in the range of 10 to 25%, the adhesive composition.
제2항에 있어서,
상기 가용성 폴리이미드는 디아민과 산이무수물을 1.015~1.03 : 1 몰비율로 중합시켜 얻는 것인, 접착 조성물.
3. The method of claim 2,
The soluble polyimide is obtained by polymerizing diamine and acid dianhydride in a molar ratio of 1.015 to 1.03: 1, the adhesive composition.
제2항에 있어서,
상기 가용성 폴리이미드는 (ⅰ) 내지 (ⅴ)의 물성 중 적어도 하나를 만족하는, 접착 조성물:
(ⅰ) 1,000 회 이상의 굴곡 횟수;
(ⅱ) 80 MPa 이상의 인장 강도(tensile strength);
(ⅲ) 2,500 MPa 이상의 영 모듈러스(Young's modulus);
(ⅳ) 5 % 이상의 연신율(elongation); 및
(ⅴ) 1.2 kgf/㎝ 이상의 접착력.
3. The method of claim 2,
The soluble polyimide satisfies at least one of the physical properties of (i) to (v), the adhesive composition:
(i) more than 1,000 flexion times;
(ii) a tensile strength of at least 80 MPa;
(iii) a Young's modulus of at least 2,500 MPa;
(iv) an elongation of at least 5%; and
(v) Adhesive force of 1.2 kgf/cm or more.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 수지는 100 내지 500 g/eq 범의의 에폭시 당량(EEW)을 갖는, 접착 조성물.
According to claim 1,
wherein the epoxy resin has an epoxy equivalent weight (EEW) in the range of 100 to 500 g/eq.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 수지, 상기 아크릴로니트릴-부타디엔 고무 및 상기 가용성 폴리이미드는 2~6 : 0.5~3 : 1 중량 비율로 포함되는 것인, 접착 조성물.
According to claim 1,
The epoxy resin, the acrylonitrile-butadiene rubber, and the soluble polyimide are 2 to 6: 0.5 to 3: 1 to be included in a weight ratio, the adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 가용성 폴리이미드의 함량(Wb)에 대한 상기 에폭시 수지와 상기 고무계 바인더의 전체 함량(Wa+Wc)에 대한 비율[(Wa+Wc)/Wb]은 5 내지 12 범위인, 접착 조성물.
According to claim 1,
The ratio of the total content (W a +W c ) of the epoxy resin and the rubber-based binder to the content (W b ) of the soluble polyimide [(W a +W c )/W b ] is in the range of 5 to 12 , adhesive composition.
제7항에 있어서,
상기 에폭시 수지와 상기 고무계 바인더는 1 : 1~3 중량 비율인, 접착 조성물.
8. The method of claim 7,
The epoxy resin and the rubber-based binder are 1: 1 to 3 weight ratio, the adhesive composition.
제8항에 있어서,
상기 아크릴로니트릴-부타디엔 고무와 상기 아크릴 고무는 1 : 1.5~7 중량 비율로 포함되는 것인, 접착 조성물.
9. The method of claim 8,
The acrylonitrile-butadiene rubber and the acrylic rubber are included in a weight ratio of 1: 1.5 to 7, the adhesive composition.
제1항에 있어서,
당해 접착 조성물의 총량 100 중량부를 기준으로,
15 내지 25 중량부의 에폭시 수지,
30 내지 40 중량부의 고무계 바인더,
5 내지 10 중량부의 가용성 폴리이미드, 및
15 내지 30 중량부의 무기 필러
를 포함하는, 접착 조성물.
According to claim 1,
Based on 100 parts by weight of the total amount of the adhesive composition,
15 to 25 parts by weight of an epoxy resin,
30 to 40 parts by weight of a rubber-based binder,
5 to 10 parts by weight of a soluble polyimide, and
15 to 30 parts by weight of inorganic filler
Containing, the adhesive composition.
제1항에 있어서,
당해 접착 조성물의 경화물은 158 ℃의 온도에서 2,000 시간 방치 후, 접착력 유지율이 60 % 이상인, 접착 조성물:
According to claim 1,
After the cured product of the adhesive composition is left at a temperature of 158 ° C. for 2,000 hours, the adhesive strength retention rate is 60% or more, the adhesive composition:
제1항에 있어서,
당해 접착 조성물의 경화물은 158 ℃의 온도에서 2,000 시간 방치 후, 25℃에서 측정된 피착체에 대한 접착력이 1.0 kgf/㎝ 이상인, 접착 조성물.
According to claim 1,
After the cured product of the adhesive composition is left at a temperature of 158° C. for 2,000 hours, the adhesive strength to the adherend measured at 25° C. is 1.0 kgf/cm or more, the adhesive composition.
제1항에 있어서,
당해 접착 조성물의 경화물은 300 ℃의 온도에서 10초 간 방치 후, 피착체에 대한 단위면적(3cm×15cm)당 보이드율이 0 %인, 접착 조성물.
According to claim 1,
After the cured product of the adhesive composition is left at a temperature of 300° C. for 10 seconds, the void ratio per unit area (3 cm×15 cm) to the adherend is 0%.
제1항에 있어서,
당해 접착 조성물의 경화물은 300 ℃의 온도에서 30분 간 방치 후, 피착체에 대한 단위면적(3cm×15cm)당 탄화율이 0 %인, 접착 조성물.
According to claim 1,
After the cured product of the adhesive composition is left at a temperature of 300° C. for 30 minutes, the carbonization rate per unit area (3 cm×15 cm) of the adherend is 0%.
제1항에 있어서,
당해 접착 조성물의 경화물은 하기 (ⅰ) 및 (ⅱ)의 물성 중 적어도 어느 하나를 만족하는, 접착 조성물:
(ⅰ) 30 내지 40 %의 레진 흐름성; 및
(ⅱ) MIT 내굴곡 시험에 따라 측정된 1,200 회 이상의 굴곡 횟수.
According to claim 1,
The cured product of the adhesive composition satisfies at least one of the following (i) and (ii) physical properties, the adhesive composition:
(i) 30 to 40% resin flowability; and
(ii) The number of flexures greater than or equal to 1,200 as measured according to the MIT flexural resistance test.
베이스 기재;
상기 베이스 기재의 일면 상에 배치되고, 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 접착 조성물로 형성된 접착층; 및
상기 접착층 상에 배치된 이형 기재
를 포함하는 커버레이 필름.
base substrate;
An adhesive layer disposed on one surface of the base substrate and formed of the adhesive composition according to any one of claims 1 to 15; and
The release substrate disposed on the adhesive layer
A coverlay film comprising a.
기판 본체; 및
상기 기판의 적어도 일면 상에 배치되고, 제16항에 기재된 커버레이 필름
을 포함하는 인쇄회로기판.
substrate body; and
It is disposed on at least one surface of the substrate, the coverlay film according to claim 16
A printed circuit board comprising a.
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