KR20220030836A - A apparatus and method for manufacturing thin film shielding film using air pressurized tungsten powder filling process technology using curved reflector - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film, and more particularly, to an apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film using an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector.
일반적으로 방사선은 의료, 산업 및 연구의 다양한 분야에 많은 유익을 주면서도 잘못 사용되면 직접적으로 인체에 피해를 줄 수 있다. 따라서 현대사회에서 방사선은 절대적으로 필요하지만 동시에 불필요한 방사선은 반드시 차폐를 해주어야 한다. 이러한 관점에서, 효율성과 신뢰성이 있는 방사선 차폐체 및 이를 이용한 차단막은 방사선의 안전에 있어서 매우 중요하다.In general, although radiation has many benefits in various fields of medicine, industry and research, it can directly harm the human body when used incorrectly. Therefore, radiation is absolutely necessary in modern society, but at the same time, unnecessary radiation must be shielded. From this point of view, an effective and reliable radiation shield and a shield using the same are very important for the safety of radiation.
한편, 방사선은 크게 전리 방사선과 비전리 방사선으로 나뉠 수 있는데, 일반적으로 방사선은 전리 방사선을 의미한다. 전리 방사선에는 알파선, 베타선, 양성자, 중성자, 감마선, x-선 등이 있으며, 직간접으로 물질을 이온화시킬 수 있다. 비전리 방사선은 일반적으로 에너지가 작아 물질을 통과할 때 이온을 만들지 못하거나 이온을 만들 확률이 매우 적은 방사선을 가리키며, 적외선, 가시광선 및 자외선 등이 있다.On the other hand, radiation can be largely divided into ionizing radiation and non-ionizing radiation. In general, radiation means ionizing radiation. Ionizing radiation includes alpha rays, beta rays, protons, neutrons, gamma rays, and x-rays, and can directly or indirectly ionize matter. Non-ionizing radiation generally refers to radiation with low energy that cannot form ions or has a very low probability of forming ions when passing through a material, and includes infrared rays, visible rays, and ultraviolet rays.
전리 방사선 중 감마선이나 x-선은 에너지가 높은 전자기파로서, 투과력이 매우 강한 특징이 있다. 이러한 감마선이나 x-선은 콘크리트 또는 텅스텐, 철, 납과 같은 밀도가 높은 금속물질을 통해서 차단할 수 있으나, 금속물질을 사용하는 경우, 이들의 고밀도로 인하여 차폐체의 중량이나 부피가 커지는 문제가 있다.Among ionizing radiation, gamma rays and x-rays are high-energy electromagnetic waves and have very strong penetrating power. These gamma rays or x-rays can be blocked through a metal material having a high density such as concrete or tungsten, iron, or lead, but when a metal material is used, there is a problem in that the weight or volume of the shielding body increases due to their high density.
감마선이나 x-선은 원자나 분자에 직접 작용하여 DNA나 단백질의 주요 구조를 변경시킬 수 있고, 생물의 생식세포에 작용하는 경우 돌연변이를 유도하여 기형을 유발할 확률을 증가시킬 수 있으며, 성체에 작용하는 경우 암 등의 질환을 발생시킬 수 있다. 또한, 열중성자는 주위의 물질을 방사화시켜 주위 환경을 방사능으로 오염시키는 문제가 있다. 따라서, 방사선이 활용되는 분야에서는 인체와 환경에 유해한 방사선을 차폐하는 방사선 차단막이 필수적으로 설치되어야 한다.Gamma rays or x-rays can change the main structure of DNA or proteins by acting directly on atoms or molecules, and when acting on the germ cells of living things, they can induce mutations and increase the probability of causing malformations. It can cause diseases such as cancer. In addition, there is a problem in that thermal neutrons radiate the surrounding material and pollute the surrounding environment with radioactivity. Therefore, in the field where radiation is utilized, a radiation shield that shields radiation harmful to the human body and the environment must be installed.
도 1은 종래의 방사선 차폐시트의 제작 과정을 설명하기 위해 도시한 도면이고, 도 2는 종래의 방사선 차폐시트의 내부 구조에서의 분말 입자의 구성을 도시한 도면이며, 도 3은 종래의 방사선 차폐시트의 내부 구조에서의 다른 분말 입자의 구성을 도시한 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 방산선 차폐시트의 제작 방법은, 방사선 차폐물을 분말로 형성하고, 분말 과정 이후 방사선 차폐물과 바인더를 혼합하며, 혼합 과정 후에 혼합된 재료를 시트 형상으로 성형하는 과정으로 이루어진다. 이때, 종래의 방사선 차폐시트는 일반적으로 합성고무 또는 수지 등과 배합하여 제조되며, 제조된 방사선 차폐시트의 내부 구조는 도 2 및 도 3에 각각 도시된 바와 같이, 분말입자가 고르게 분산되지 않아 제작과정의 공정에 따라 차폐성능의 재현성을 담보하지 못하는 문제가 있었다. 대한민국 등록특허공보 제10-1591965호가 선행기술 문헌으로 개시되고 있다.FIG. 1 is a diagram illustrating a manufacturing process of a conventional radiation shielding sheet, FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of powder particles in the internal structure of a conventional radiation shielding sheet, and FIG. 3 is a conventional radiation shielding sheet. It is a diagram showing the configuration of different powder particles in the internal structure of the sheet. As shown in FIG. 1, the conventional method of manufacturing a radiation shielding sheet includes forming a radiation shield into powder, mixing the radiation shield with a binder after the powder process, and molding the mixed material into a sheet shape after the mixing process. made by the process At this time, the conventional radiation shielding sheet is generally manufactured by blending with synthetic rubber or resin, etc., and the internal structure of the manufactured radiation shielding sheet is as shown in FIGS. 2 and 3 , respectively, as powder particles are not evenly dispersed during the manufacturing process. There was a problem that the reproducibility of the shielding performance could not be guaranteed according to the process of Korean Patent Publication No. 10-1591965 is disclosed as a prior art document.
본 발명은 기존에 제안된 방법들의 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 곡면 반사대와, 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부와, 차폐 재료 분사부와 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부를 포함하여 구성함으로써, 곡면 반사대의 구조와 공기 흐름을 타고 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 고르게 분산되는 새로운 차폐 재료의 분산 기술로 제작과정의 공정에 따른 차폐성능의 재현성이 확보될 수 있도록 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention has been proposed to solve the above problems of the previously proposed methods, and a curved reflector on which a film to be manufactured as a thin film shielding film is positioned and disposed, and a front surface of the film disposed on the curved reflector By comprising a shielding material spraying part for dispersing tungsten nanopowder to the (front), and an adhesive resin spraying part for dispersing an adhesive material resin for safe fixation of the film together with the shielding material spraying part, the structure of the curved reflector and air Air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector to ensure the reproducibility of the shielding performance according to the manufacturing process with a new shielding material dispersion technology in which the particles of tungsten nanopowder dispersed in the flow are evenly dispersed An object of the present invention is to provide an apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film of
또한, 본 발명은, 기존의 평면대에서의 분산방식을 사용함에 따라 입자가 산재되는 문제점을 최소화하고, 공기의 흐름을 타고 텅스텐 분말 입자가 필름 상에 분산되도록 함으로써, 텅스텐 분말 입자의 분포도가 고르게 되고, 관련 텅스텐 입자 충전량도 늘어나 차폐 성능이 향상될 수 있도록 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.In addition, the present invention minimizes the problem of particle scattering by using the existing dispersion method on a flat surface, and by allowing the tungsten powder particles to be dispersed on the film by riding the air flow, the distribution of tungsten powder particles is evenly Another object of the present invention is to provide an apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, which increases the amount of tungsten particle filling and improves the shielding performance.
뿐만 아니라, 본 발명은, 텅스텐 분말 입자를 사용하여 박막 차폐필름을 제조함으로써, 인체에 유해한 납을 사용하지 않고도 방사선을 효과적으로 차폐할 수 있고, 경제성이 우수한 박막 차폐필름의 제조를 통한 사용의 편의성 및 효율성이 더욱 향상될 수 있도록 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.In addition, the present invention, by manufacturing a thin film shielding film using tungsten powder particles, can effectively shield radiation without using lead, which is harmful to the human body, convenience of use and Another object of the present invention is to provide an apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, so that the efficiency can be further improved.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치는,An apparatus for producing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to a feature of the present invention for achieving the above object,
곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치로서,An apparatus for manufacturing a thin film shielding film of air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector,
박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 곡면 반사대;a curved reflector on which a film to be manufactured as a thin film shielding film is positioned;
상기 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부; 및a shielding material spraying unit for dispersing tungsten nanopowders to the front of the film disposed on the curved reflection band; and
상기 차폐 재료 분사부와 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부를 포함하는 것을 그 구성상의 특징으로 한다.It is characterized in that it includes an adhesive resin spraying part for dispersing a resin, which is an adhesive material, for safe fixing of the film together with the shielding material spraying part.
바람직하게는, 상기 곡면 반사대는,Preferably, the curved reflector,
상기 차폐 재료 분사부로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성될 수 있다.The particles of the tungsten nanopowder dispersed from the shielding material spraying unit may be configured in a curved structure in which the particles may be dispersed in an air flow without being scattered.
바람직하게는, 상기 필름은,Preferably, the film comprises:
상기 곡면 반사대에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성될 수 있다.It may be disposed on the curved reflector and may be made of a thin polyethylene (PE) film material manufactured as a thin film shielding film.
바람직하게는, 상기 차폐 재료 분사부는,Preferably, the shielding material spraying unit comprises:
상기 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시킬 수 있다.Although the tungsten nanopowder is sprayed to the front of the film disposed on the curved reflector, the tungsten nanopowder, which is a shielding material, may be dispersed through a nozzle at the end of the air pressurization method.
더욱 바람직하게는, 상기 차폐 재료 분사부는,More preferably, the shielding material spraying unit,
공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 상기 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성될 수 있다.A nozzle for dispersing the tungsten nanopowder, which is a shielding material, on the film is configured by an air pressure method, and the nozzle may be configured as a 1.5 mm air nozzle for dispersing the tungsten nanopowder.
더욱 더 바람직하게는, 상기 차폐 재료 분사부는,Even more preferably, the shielding material spraying unit comprises:
상기 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용될 수 있다.One or two may be used to disperse the tungsten nanopowder to the front of the film disposed on the curved reflection band.
더욱 바람직하게는, 상기 접착 수지 분사부는,More preferably, the adhesive resin spraying unit,
상기 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 상기 차폐 재료 분사부와 동시에 작동되어 동일하게 분산시킬 수 있다.For the safe fixation of the film, the resin, which is an adhesive material, is dispersed, and may be equally dispersed by operating at the same time as the shielding material spraying unit for dispersing the tungsten nanopowder.
더욱 더 바람직하게는, 상기 접착 수지 분사부는,Even more preferably, the adhesive resin spraying unit,
열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용할 수 있다.Thermosetting resin may be used.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법은,A method of manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to a feature of the present invention for achieving the above object,
곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법으로서,As a method of manufacturing a thin film shielding film of air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector,
(1) 곡면 반사대에 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 단계;(1) placing a film to be manufactured as a thin film shielding film on the curved reflective band and disposing;
(2) 차폐 재료 분사부가 상기 단계 (1)을 통해 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 단계; 및(2) dispersing the tungsten nanopowder to the front of the film disposed on the curved reflective band through the step (1) by the shielding material spraying unit; and
(3) 접착 수지 분사부가 상기 단계 (2)의 차폐 재료 분사부의 텅스텐 나노 분말의 분산과 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 단계를 포함하는 것을 그 구성상의 특징으로 한다.(3) The adhesive resin spraying part is characterized in that it comprises the step of dispersing the resin, which is an adhesive material, for safe fixing of the film together with the dispersion of the tungsten nanopowder in the shielding material spraying part of step (2).
바람직하게는, 상기 단계 (1)에서는,Preferably, in step (1),
상기 곡면 반사대가 상기 차폐 재료 분사부로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성될 수 있다.The curved reflective band may have a curved structure in which particles of tungsten nanopowder dispersed from the shielding material spraying unit are not dispersed and the particles are dispersed through an air flow.
바람직하게는, 상기 필름은,Preferably, the film comprises:
상기 곡면 반사대에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성될 수 있다.It may be disposed on the curved reflector and may be made of a thin polyethylene (PE) film material manufactured as a thin film shielding film.
바람직하게는, 상기 단계 (2)에서는,Preferably, in step (2),
상기 차폐 재료 분사부가 상기 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시킬 수 있다.The shielding material spraying part is positioned on the curved reflection band and sprays the tungsten nanopowder to the front of the film, but the tungsten nanopowder, which is the shielding material, may be dispersed through the nozzle at the end of the air pressurization method.
더욱 바람직하게는, 상기 차폐 재료 분사부는,More preferably, the shielding material spraying unit,
공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 상기 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성될 수 있다.A nozzle for dispersing the tungsten nanopowder, which is a shielding material, on the film is configured by an air pressure method, and the nozzle may be configured as a 1.5 mm air nozzle for dispersing the tungsten nanopowder.
더욱 더 바람직하게는, 상기 차폐 재료 분사부는,Even more preferably, the shielding material spraying unit comprises:
상기 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용될 수 있다.One or two may be used to disperse the tungsten nanopowder to the front of the film disposed on the curved reflection band.
더욱 바람직하게는, 상기 단계 (3)에서는,More preferably, in step (3),
상기 접착 수지 분사부가 상기 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 상기 차폐 재료 분사부와 동시에 작동되어 동일하게 분산시킬 수 있다.The adhesive resin spraying unit disperses the resin, which is an adhesive material, for safe fixation of the film, and operates simultaneously with the shielding material spraying unit for dispersing tungsten nanopowder to be equally dispersed.
더욱 더 바람직하게는, 상기 접착 수지 분사부는,Even more preferably, the adhesive resin spraying unit,
열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용할 수 있다.Thermosetting resin may be used.
본 발명에서 제안하고 있는 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 따르면, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 곡면 반사대와, 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부와, 차폐 재료 분사부와 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부를 포함하여 구성함으로써, 곡면 반사대의 구조와 공기 흐름을 타고 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 고르게 분산되는 새로운 차폐 재료의 분산 기술로 제작과정의 공정에 따른 차폐성능의 재현성이 확보될 수 있도록 할 수 있다.According to the thin film shielding film manufacturing apparatus and method of the air pressurized tungsten powder filling process technology using the curved reflector proposed in the present invention, the curved reflector and the curved reflector in which the film for manufacturing the thin film shielding film is positioned and disposed It is composed of a shielding material spraying part for dispersing tungsten nanopowder to the front of the film disposed on the By doing so, it is possible to ensure the reproducibility of the shielding performance according to the manufacturing process with the structure of the curved reflection band and the new shielding material dispersion technology in which the particles of tungsten nanopowder dispersed in the air flow are evenly dispersed.
또한, 본 발명의 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 따르면, 기존의 평면대에서의 분산방식을 사용함에 따라 입자가 산재되는 문제점을 최소화하고, 공기의 흐름을 타고 텅스텐 분말 입자가 필름 상에 분산되도록 함으로써, 텅스텐 분말 입자의 분포도가 고르게 되고, 관련 텅스텐 입자 충전량도 늘어나 차폐 성능이 향상될 수 있도록 할 수 있다.In addition, according to the thin film shielding film manufacturing apparatus and method of the air pressurized tungsten powder filling process technology using the curved reflector of the present invention, the problem of particle scattering is minimized by using the dispersion method in the existing flat table, and the air By allowing the tungsten powder particles to be dispersed on the film by riding the flow of
뿐만 아니라, 본 발명의 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 따르면, 텅스텐 분말 입자를 사용하여 박막 차폐필름을 제조함으로써, 인체에 유해한 납을 사용하지 않고도 방사선을 효과적으로 차폐할 수 있고, 경제성이 우수한 박막 차폐필름의 제조를 통한 사용의 편의성 및 효율성이 더욱 향상될 수 있도록 할 수 있다.In addition, according to the thin film shielding film manufacturing apparatus and method of the air pressurized tungsten powder filling process technology using the curved reflector of the present invention, the thin film shielding film is manufactured using tungsten powder particles, without using lead, which is harmful to the human body. It is possible to effectively shield radiation and to further improve the convenience and efficiency of use through the manufacture of a thin film shielding film with excellent economical efficiency.
도 1은 종래의 방사선 차폐시트의 제작 과정을 설명하기 위해 도시한 도면.
도 2는 종래의 방사선 차폐시트의 내부 구조에서의 분말 입자의 구성을 도시한 도면.
도 3은 종래의 방사선 차폐시트의 내부 구조에서의 다른 분말 입자의 구성을 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치의 구성을 기능블록으로 도시한 도면.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에서, 일반 평면대와 곡면 반사대의 비교 구성을 도시한 도면.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에 의해 제작된 박막 차폐필름의 입자 분포도를 도시한 도면.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법의 흐름을 도시한 도면.1 is a view illustrating a manufacturing process of a conventional radiation shielding sheet.
Figure 2 is a view showing the configuration of the powder particles in the internal structure of the conventional radiation shielding sheet.
3 is a view showing the configuration of other powder particles in the internal structure of the conventional radiation shielding sheet.
4 is a view showing the configuration of a thin film shielding film manufacturing apparatus of the air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention as a functional block.
5 is a view showing a schematic configuration of an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention.
6 is a view showing a comparative configuration of a general flat plate and a curved reflector in an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention.
7 is a view showing the particle distribution diagram of the thin film shielding film produced by the thin film shielding film manufacturing apparatus of the air pressure type tungsten powder filling process technology using the curved reflector according to an embodiment of the present invention.
Figure 8 is a view showing the flow of the thin film shielding film manufacturing method of the air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.Hereinafter, preferred embodiments will be described in detail so that those of ordinary skill in the art can easily practice the present invention with reference to the accompanying drawings. However, in describing the preferred embodiment of the present invention in detail, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. In addition, the same reference numerals are used throughout the drawings for parts having similar functions and functions.
덧붙여, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 ‘연결’ 되어 있다고 할 때, 이는 ‘직접적으로 연결’ 되어 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 ‘간접적으로 연결’ 되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성요소를 ‘포함’ 한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.In addition, throughout the specification, when a part is 'connected' with another part, it is not only 'directly connected' but also 'indirectly connected' with another element interposed therebetween. include In addition, "including" a certain component means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치의 구성을 기능블록으로 도시한 도면이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이며, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에서, 일반 평면대와 곡면 반사대의 비교 구성을 도시한 도면이고, 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에 의해 제작된 박막 차폐필름의 입자 분포도를 도시한 도면이다. 도 4 내지 도 7에 각각 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치(100)는, 곡면 반사대(110), 차폐 재료 분사부(120), 및 접착 수지 분사부(130)를 포함하여 구성될 수 있다.4 is a view showing the configuration of a thin film shielding film manufacturing apparatus of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention as a functional block, and FIG. 5 is an embodiment of the present invention It is a view showing a schematic configuration of an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of the air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, and FIG. 6 is an air pressurized tungsten powder filling using a curved reflector according to an embodiment of the present invention. In an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of process technology, it is a view showing a comparative configuration of a general flat plate and a curved reflector, and FIG. 7 is a thin film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention It is a view showing the particle distribution diagram of the thin film shielding film produced by the shielding film manufacturing apparatus. 4 to 7, the thin film shielding
곡면 반사대(110)는, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름(101)이 위치하여 배치되는 구성이다. 이러한 곡면 반사대(110)는 후술하게 될 차폐 재료 분사부(120)로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성될 수 있다.The
또한, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름(101)은 곡면 반사대(110)에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성될 수 있다. 이러한 필름(101)은 플렉시블 형태의 박막 필름으로서, 폴리에틸렌 필름 소재 이외에도 PP, PVC 등의 플라스틱 소재가 다양하게 사용되는 것으로 이해될 수 있다.In addition, the
차폐 재료 분사부(120)는, 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 구성이다. 이러한 차폐 재료 분사부(120)는 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시킬 수 있다.The shielding
또한, 차폐 재료 분사부(120)는 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름(101)에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성될 수 있다.In addition, the shielding
또한, 차폐 재료 분사부(120)는 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용될 수 있다.In addition, one or two shielding
접착 수지 분사부(130)는, 차폐 재료 분사부(120)와 함께 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 구성이다. 이러한 접착 수지 분사부(130)는 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 차폐 재료 분사부(120)와 동시에 작동되어 동일하게 분산시킬 수 있다. 여기서, 접착 수지 분사부(130)는 열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용할 수 있다.The adhesive
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치의 개략적인 구성을 나타내고 있다. 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치(100)는 곡면 반사대(110)를 이용한 공기 가압식 차폐 재료의 분산 방식으로, 차폐 재료 분사부(120)의 1.5㎜ 작은 공기 노즐을 통해 텅스텐 나노 분말을 분산하고, 접착 수지 분사부(130)는 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 동시에 적은 양으로 동일하게 분산시키도록 작동될 수 있다. 여기서, 차폐 재료 분사부(120)는 쌍의 조합으로 텅스텐 나노 분말을 분산하고, 이와 동시에 접착 수지 분사부(130)에서 접착제 수지를 동시에 적은 양으로 동일하게 분사시켜 제조되는 박막 차폐필름의 입자 분포도가 고르게 분산되도록 기능할 수 있다.5 shows a schematic configuration of an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, the thin film shielding
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에서, 일반 평면대와 곡면 반사대의 비교 구성을 나타내고 있다. 도 6에 도시된 바와 같이, 일반적으로 평면대에서 분산방식을 사용하면 오른쪽 그림과 같이 입자가 산재되는 문제점이 발생된다. 그러나 왼쪽과 같이 공기의 흐름을 잘 타고 입자가 분산될 수 있도록 곡면 반사대(110)를 이용함에 따란 입자의 산재가 방지되도록 기능하게 된다.6 shows a comparative configuration of a general flat plate and a curved reflector in an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6 , in general, when the dispersion method is used on a flat surface, there is a problem in that the particles are scattered as shown in the figure on the right. However, as shown on the left, it functions to prevent scattering of particles by using the
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에 의해 제작된 박막 차폐필름의 입자 분포도를 나타낸다. 도 7에 도시된 바와 같이, 곡면 반사대(110)를 이용한 공기 가압식 분산 방식을 이용함에 따라 입자의 분포도가 확실히 좋으며, 관련 입자 충전량도 늘어나 차폐 성능이 향상되고 제작과정마다 달라지는 차폐성능의 재현성도 확보할 수 있다.7 shows a particle distribution diagram of a thin film shielding film manufactured by an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 7 , as the air pressure dispersion method using the
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법의 흐름을 도시한 도면이다. 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법은, 곡면 반사대에 필름이 위치하여 배치되는 단계(S110), 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 단계(S120), 및 텅스텐 나노 분말의 분산과 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 단계(S130)를 포함하여 구현될 수 있다.8 is a view showing a flow of a method for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 8 , the method for manufacturing a thin film shielding film of the air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention includes placing the film on the curved reflector and arranging (S110) , dispersing the tungsten nanopowder to the front of the film (S120), and dispersing the resin, which is an adhesive material, for safe fixation of the film together with the dispersion of the tungsten nanopowder (S130). there is.
단계 S110에서는, 곡면 반사대(110)에 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치된다. 이러한 단계 S110에서는 곡면 반사대(110)가 차폐 재료 분사부(120)로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성된다. 여기서, 필름(101)은 곡면 반사대(110)에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성될 수 있다.In step S110, a film to be manufactured as a thin film shielding film is positioned and disposed on the curved
단계 S120에서는, 차폐 재료 분사부(120)가 단계 S110을 통해 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산한다. 이러한 단계 S120에서는 차폐 재료 분사부(120)가 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시킨다. 여기서, 차폐 재료 분사부(120)는 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름(101)에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 상기 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성될 수 있다.In step S120 , the shielding
또한, 차폐 재료 분사부(120)는 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용될 수 있다.In addition, one or two shielding
단계 S130에서는, 접착 수지 분사부(130)가 단계 S120의 차폐 재료 분사부(120)의 텅스텐 나노 분말의 분산과 함께 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산한다. 이러한 단계 S130에서는 접착 수지 분사부(130)가 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 차폐 재료 분사부(120)와 동시에 작동되어 동일하게 분산시킬 수 있다. 여기서, 접착 수지 분사부(130)는 열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용할 수 있다.In step S130, the adhesive
상술한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법은, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 곡면 반사대와, 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부와, 차폐 재료 분사부와 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부를 포함하여 구성함으로써, 곡면 반사대의 구조와 공기 흐름을 타고 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 고르게 분산되는 새로운 차폐 재료의 분산 기술로 제작과정의 공정에 따른 차폐성능의 재현성이 확보될 수 있도록 할 수 있으며, 또한, 기존의 평면대에서의 분산방식을 사용함에 따라 입자가 산재되는 문제점을 최소화하고, 공기의 흐름을 타고 텅스텐 분말 입자가 필름 상에 분산되도록 함으로써, 텅스텐 분말 입자의 분포도가 고르게 되고, 관련 텅스텐 입자 충전량도 늘어나 차폐 성능이 향상될 수 있도록 할 수 있으며, 특히, 텅스텐 분말 입자를 사용하여 박막 차폐필름을 제조함으로써, 인체에 유해한 납을 사용하지 않고도 방사선을 효과적으로 차폐할 수 있고, 경제성이 우수한 박막 차폐필름의 제조를 통한 사용의 편의성 및 효율성이 더욱 향상될 수 있도록 할 수 있게 된다.As described above, the apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film of the air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention is a curved reflection in which a film to be manufactured as a thin film shielding film is positioned and disposed Adhesive dispersing the resin, an adhesive material, for safe fixation of the film together with the shielding material spraying part that disperses tungsten nanopowder to the front of the film positioned on the base and the curved reflector, and the shielding material spraying part By including the resin spraying part, the structure of the curved reflection band and the new shielding material dispersion technology in which the particles of tungsten nanopowder dispersed in the air flow are evenly dispersed to ensure the reproducibility of the shielding performance according to the manufacturing process Also, by using the existing dispersion method on a flat surface, the problem of particle scattering is minimized, and the tungsten powder particles are dispersed on the film by riding the air flow, so that the distribution of the tungsten powder particles is even. It is possible to improve the shielding performance by increasing the filling amount of related tungsten particles. In particular, by manufacturing a thin film shielding film using tungsten powder particles, it is possible to effectively shield radiation without using lead, which is harmful to the human body, It is possible to further improve the convenience and efficiency of use through the manufacture of a thin film shielding film with excellent economical efficiency.
이상 설명한 본 발명은 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 다양한 변형이나 응용이 가능하며, 본 발명에 따른 기술적 사상의 범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.Various modifications and applications of the present invention described above are possible by those skilled in the art to which the present invention pertains, and the scope of the technical idea according to the present invention should be defined by the following claims.
100: 본 발명의 일실시예에 따른 박막 차폐필름 제작 장치
110: 곡면 반사대
120: 차폐 재료 분사부
130: 접착 수지 분사부
S110: 곡면 반사대에 필름이 위치하여 배치되는 단계
S120: 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 단계
S130: 텅스텐 나노 분말의 분산과 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 단계100: device for producing a thin film shielding film according to an embodiment of the present invention
110: curved reflector
120: shielding material injection unit
130: adhesive resin injection unit
S110: A step in which the film is positioned and disposed on the curved reflector
S120: Dispersing tungsten nanopowder on the front side of the film
S130: Dispersing the resin, which is an adhesive material, for safe fixing of the film together with the dispersion of tungsten nanopowder
Claims (16)
박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름(101)이 위치하여 배치되는 곡면 반사대(110);
상기 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부(120); 및
상기 차폐 재료 분사부(120)와 함께 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부(130)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
As an apparatus 100 for producing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector,
a curved reflector 110 on which the film 101 to be manufactured as a thin film shielding film is positioned;
a shielding material spraying unit 120 for dispersing tungsten nanopowder to the front of the film 101 disposed on the curved reflector 110; and
Air pressurized tungsten powder using a curved reflector, characterized in that it includes an adhesive resin spraying part 130 for dispersing an adhesive material resin for safe fixation of the film 101 together with the shielding material spraying part 120 A device for manufacturing a thin film shielding film using the filling process technology.
상기 차폐 재료 분사부(120)로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
According to claim 1, wherein the curved reflector 110,
Using a curved reflector, characterized in that it is composed of a curved structure in which particles of tungsten nanopowder dispersed from the shielding material spraying unit 120 are not scattered and the particles can be dispersed through an air flow. A thin film shielding film production device using air-pressurized tungsten powder filling process technology.
상기 곡면 반사대(110)에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
According to claim 1, wherein the film 101,
An apparatus for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, characterized in that it is disposed on the curved reflector 110 and is made of a thin polyethylene (PE) film material manufactured as a thin film shielding film .
상기 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시키는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the shielding material spraying part (120) comprises:
The tungsten nanopowder is sprayed to the front of the film 101 disposed on the curved reflection band 110, and the tungsten nanopowder, which is a shielding material, is dispersed through a nozzle at the end of the air pressurization method. A device for producing a thin film shielding film using an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector.
공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름(101)에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 상기 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
According to claim 4, The shielding material spraying unit 120,
A nozzle for dispersing tungsten nanopowder, which is a shielding material, on the film 101 in an air pressurization method, wherein the nozzle is a 1.5 mm air nozzle for dispersing tungsten nanopowder, a curved reflector A thin film shielding film production device using air-pressurized tungsten powder filling process technology.
상기 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
According to claim 5, wherein the shielding material spraying unit 120,
Air pressurized tungsten powder filling process using a curved reflector, characterized in that one or two are used to disperse the tungsten nanopowder to the front of the film 101 disposed on the curved reflector 110 Technology thin film shielding film production device.
상기 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 상기 차폐 재료 분사부(120)와 동시에 작동되어 동일하게 분산시키는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
According to claim 4, wherein the adhesive resin spraying unit 130,
Dispersing the resin, which is an adhesive material, for the safe fixation of the film 101, but operating simultaneously with the shielding material spraying unit 120 for dispersing tungsten nanopowder to distribute the same, using a curved reflector A thin film shielding film production device using air-pressurized tungsten powder filling process technology.
열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용하는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
The method of claim 7, wherein the adhesive resin spraying unit 130,
A device for manufacturing a thin film shielding film of air pressure type tungsten powder filling process technology using a curved reflector, characterized in that it uses a thermosetting resin.
(1) 곡면 반사대(110)에 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 단계;
(2) 차폐 재료 분사부(120)가 상기 단계 (1)을 통해 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 단계; 및
(3) 접착 수지 분사부(130)가 상기 단계 (2)의 차폐 재료 분사부(120)의 텅스텐 나노 분말의 분산과 함께 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
As a method of manufacturing a thin film shielding film of air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector,
(1) placing a film to be manufactured as a thin film shielding film on the curved reflector 110 and disposing;
(2) dispersing the tungsten nano-powder to the front of the film 101, in which the shielding material spraying unit 120 is positioned on the curved reflector 110 through the step (1); and
(3) the adhesive resin spraying unit 130 dispersing the resin, which is an adhesive material, for safe fixation of the film 101 together with the dispersion of the tungsten nanopowder in the shielding material spraying unit 120 of step (2) A method for producing a thin film shielding film of air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, characterized in that it includes.
상기 곡면 반사대(110)가 상기 차폐 재료 분사부(120)로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
The method of claim 9, wherein in step (1),
The curved reflection band 110 has a curved structure in which particles of tungsten nanopowder dispersed from the shielding material spraying unit 120 are not scattered and the particles can be dispersed by riding an air flow. A method of manufacturing a thin film shielding film of air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector.
상기 곡면 반사대(110)에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
10. The method of claim 9, wherein the film 101,
A method for manufacturing a thin film shielding film of air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, characterized in that it is disposed on the curved reflector 110 and is made of a thin polyethylene (PE) film material manufactured as a thin film shielding film .
상기 차폐 재료 분사부(120)가 상기 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시키는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
12. The method according to any one of claims 9 to 11, wherein in step (2),
The shielding material spraying unit 120 sprays tungsten nanopowder to the front of the film 101 disposed on the curved reflector 110, but the tungsten nanopowder, which is the shielding material, is sprayed at the end by air pressurization. A method of manufacturing a thin film shielding film of air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, characterized in that it is dispersed through a nozzle of
공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름(101)에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 상기 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
The method of claim 12, wherein the shielding material spraying unit 120,
A nozzle for dispersing tungsten nanopowder, which is a shielding material, on the film 101 in an air pressurization method, wherein the nozzle is a 1.5 mm air nozzle for dispersing tungsten nanopowder, a curved reflector A method of manufacturing a thin film shielding film using air pressurized tungsten powder filling process technology.
상기 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
According to claim 13, The shielding material spraying portion 120,
Air pressurized tungsten powder filling process using a curved reflector, characterized in that one or two are used to disperse the tungsten nanopowder to the front of the film 101 disposed on the curved reflector 110 Technological thin film shielding film manufacturing method.
상기 접착 수지 분사부(130)가 상기 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 상기 차폐 재료 분사부(120)와 동시에 작동되어 동일하게 분산시키는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
The method of claim 12, wherein in step (3),
The adhesive resin spraying part 130 disperses the resin, which is an adhesive material, for the safe fixation of the film 101, but operates simultaneously with the shielding material spraying part 120 for dispersing tungsten nanopowder to distribute the same. A method of manufacturing a thin film shielding film of air-pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, which is characterized.
열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용하는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.The method of claim 15, wherein the adhesive resin spraying unit 130,
A method of manufacturing a thin film shielding film of air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, characterized in that it uses a thermosetting resin.
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