KR20220015669A - Inkjet head assembly and inkjey head cleaning method - Google Patents

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KR20220015669A
KR20220015669A KR1020200095984A KR20200095984A KR20220015669A KR 20220015669 A KR20220015669 A KR 20220015669A KR 1020200095984 A KR1020200095984 A KR 1020200095984A KR 20200095984 A KR20200095984 A KR 20200095984A KR 20220015669 A KR20220015669 A KR 20220015669A
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김다정
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세메스 주식회사
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Abstract

The present invention provides an inkjet head assembly and a cleaning method for effectively removing fine residual ink adhering to an inside of a nozzle. According to an embodiment of the present invention, cleaning efficiency is increased by including a polymer solution which undergoes a phase change at a relatively low temperature in a cleaning solution, trapping particles adhering to an inner wall of the nozzle, and then removing the particles by a rinse liquid. Furthermore, cleaning process is simplified and feeding of the cleaning solution is facilitated by feeding the cleaning solution in a liquid phase. In addition, remaining of the particles on the nozzle after the cleaning is minimized. Moreover, processing cost is reduced by reusing the cleaning solution by adding a filtering process and a concentration adjustment process. The inkjet head assembly comprises: an inkjet head; a cover unit; a cleaning solution feeding unit; a first heat treatment unit; a second heat treatment unit; and a gas feeding unit.

Description

잉크젯 헤드 어셈블리 및 잉크젯 헤드 세정 방법{INKJET HEAD ASSEMBLY AND INKJEY HEAD CLEANING METHOD}Inkjet head assembly and inkjet head cleaning method

본 발명은 잉크젯 헤드 어셈블리 및 잉크젯 헤드 세정 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an inkjet head assembly and a method for cleaning the inkjet head.

액정 표시 소자, 유기 EL 소자 등과 같은 평판 표시 장치의 제조에서는 배향막, 컬러 필터 등을 형성하기 위한 약액을 도포하는 공정을 수행한다.In the manufacture of a flat panel display device such as a liquid crystal display device and an organic EL device, a process of applying a chemical solution for forming an alignment layer, a color filter, and the like is performed.

약액의 도포는 주로 노즐면을 갖는 잉크젯 헤드를 사용하는데, 시간의 흐름에 따라 잉크젯 헤드의 노즐면 내벽에 약액 잔여물이 흡착되어 약액 도포에 영향을 미칠 수 있다. 예를 들어, 비수용성 잉크의 경우 증기압이 높아 증발이 활발하게 일어나기 때문에 쉽게 경화되어 고체화된다. 따라서 분산제나 안료 등과 같은 잔류 잉크가 노즐 내벽 또는 잉크 유로 내벽에 경화되어 흡착될 수 있다. 나노 입자 또는 퀀텀닷을 포함하는 잉크를 사용하는 경우, 큰 표면적에 의해 나노 입자끼리의 응집이 잘 일어난다. 따라서 나노 입자 또는 나노 입자가 응집된 응집체가 노즐 내벽에 흡착될 수 있다. 노즐면 내부에 약액 잔류물 등이 잔류할 경우 약액이 섞이는 등 약액 토출에 영향을 미쳐 소자의 불량 원인으로 작용할 수 있다. 그러나 상기와 같은 고체 타입의 잔류 잉크는 제거하기가 쉽지 않은 문제점이 있다.The application of the chemical mainly uses an inkjet head having a nozzle surface. As time passes, chemical liquid residues may be adsorbed on the inner wall of the nozzle surface of the inkjet head, which may affect the application of the chemical liquid. For example, in the case of a water-insoluble ink, since evaporation occurs actively due to high vapor pressure, it is easily cured and solidified. Accordingly, residual ink such as a dispersant or pigment may be cured and adsorbed on the inner wall of the nozzle or the inner wall of the ink passage. When an ink containing nanoparticles or quantum dots is used, aggregation of nanoparticles occurs easily due to a large surface area. Accordingly, nanoparticles or aggregates in which nanoparticles are aggregated may be adsorbed to the inner wall of the nozzle. If chemical liquid residues remain inside the nozzle surface, chemical liquid may be mixed, etc., and may affect the discharge of chemical liquid, which may act as a cause of device failure. However, there is a problem in that it is not easy to remove the solid-type residual ink as described above.

대한민국 등록특허공보 10-1045469호(2011.06.23)Republic of Korea Patent Publication No. 10-1045469 (June 23, 2011)

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은, 노즐 내부에 부착된 미세 잔류 잉크를 효과적으로 제거할 수 있는 잉크젯 헤드 어셈블리 및 잉크젯 헤드 세정 방법을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an inkjet head assembly and an inkjet head cleaning method capable of effectively removing fine residual ink adhered to the inside of a nozzle.

본 발명의 목적은 전술한 바에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 발명이 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있다.The object of the present invention is not limited to the above, and other objects and advantages of the present invention not mentioned can be understood by the following description.

본 발명은 기판 상에 약액을 토출하기 위한 하나 또는 복수의 노즐이 구비되는 잉크젯 헤드; 상기 잉크젯 헤드의 하면에 구비되어 상기 노즐 내부에 액체가 저류할 수 있도록 하는 덮개부; 상기 노즐 내부에 열반응성 고분자 수지가 포함된 액상의 세정액을 공급하는 세정액 공급 유닛; 상기 노즐 내부에 공급된 세정액을 제1 열처리를 통해 상변이 시켜 겔화시키기 위한 제1 열처리 유닛; 상기 겔화된 세정액을 제2 열처리를 통해 다시 액상으로 상변이시키기 위한 제2 열처리 유닛; 상기 노즐로 건조 가스를 공급하는 가스 공급 유닛;을 포함하는 잉크젯 헤드 어셈블리를 제공할 수 있다.The present invention provides an inkjet head having one or a plurality of nozzles for discharging a chemical onto a substrate; a cover part provided on a lower surface of the inkjet head to allow a liquid to be stored in the nozzle; a cleaning liquid supply unit supplying a liquid cleaning liquid containing a thermally reactive polymer resin to the inside of the nozzle; a first heat treatment unit configured to phase-change the cleaning solution supplied to the inside of the nozzle through a first heat treatment to form a gel; a second heat treatment unit configured to phase change the gelled washing liquid back to a liquid phase through a second heat treatment; It is possible to provide an inkjet head assembly including a gas supply unit for supplying the drying gas to the nozzle.

상기 덮개부는, 상기 세정액이 공급되는 때 상기 노즐의 하면을 차단하고, 상기 세정액이 배출되는 때 상기 노즐의 하면을 개방하도록 구성될 수 있다.The cover part may be configured to block the lower surface of the nozzle when the cleaning liquid is supplied, and to open the lower surface of the nozzle when the cleaning liquid is discharged.

이때, 상기 열반응성 고분자 수지는 상변이 온도 이상으로 가열 시 겔화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 액화되는 물질이고, 상기 제1 열처리 수단은 가열 수단이고, 상기 제2 열처리 수단은 냉각 수단일 수 있다.In this case, the heat-reactive polymer resin is a material that gels when heated above the phase change temperature and liquefies when cooled below the phase change temperature, the first heat treatment means is a heating means, and the second heat treatment means can be a cooling means. .

또는, 상기 열반응성 고분자 수지는 상변이 온도 이상으로 가열 시 액화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 겔화되는 물질이고, 상기 제1 열처리 수단은 냉각 수단이고, 상기 제2 열처리 수단은 가열 수단일 수 있다.Alternatively, the heat-reactive polymer resin is a material that liquefies when heated above the phase change temperature and gels when cooled below the phase change temperature, the first heat treatment means is a cooling means, and the second heat treatment means can be a heating means .

또한, 세정 후 배출되는 배출액을 수용하는 수용 유닛; 상기 배출액을 필터링하여 파티클을 제거하는 필터링 유닛; 상기 필터링한 용액을 세정액으로 재사용할 수 있도록 농도를 조절하는 농도 조절 유닛;을 더 포함할 수 있다.In addition, the receiving unit for accommodating the discharged liquid discharged after washing; a filtering unit for filtering the discharged liquid to remove particles; It may further include a concentration control unit for adjusting the concentration so that the filtered solution can be reused as a cleaning solution.

본 발명은 잉크젯 헤드의 토출구를 차단하는 단계; 열반응성 고분자 수지가 포함된 액상의 세정액을 잉크젯 헤드에 공급하는 단계; 액상의 세정액을 제1 열처리를 통해 상변이 시켜 겔화함으로써 파티클을 트랩하는 단계; 파티클을 트랩한 겔 상태의 세정액을 제2 열처리를 통해 상변이 시켜 액화하는 단계; 잉크젯 헤드의 토출구를 개방하는 단계; 및 액상으로 상변이된 세정액에 린스액을 공급하여 배출하는 단계;를 포함하는 잉크젯 헤드 세정 방법을 제공할 수 있다.The present invention comprises the steps of blocking the discharge port of the inkjet head; supplying a liquid cleaning solution containing a thermally reactive polymer resin to the inkjet head; trapping particles by gelling the liquid washing solution through a phase change through a first heat treatment; liquefying the washing solution in a gel state that traps particles through a second heat treatment; opening a discharge port of the inkjet head; and supplying and discharging a rinse liquid to the liquid phase-changed cleaning liquid.

상기 열반응성 고분자 수지는 상변이 온도 이상으로 가열 시 겔화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 액화될 수 있다.The heat-reactive polymer resin may be gelled when heated above the phase change temperature and liquefied when cooled below the phase change temperature.

상기 열반응성 고분자 수지는 Poly(N-isopropylacrylamide), Poly(N, N-diethylacrylamide), Poly(Nethylmethacylamide), Poly(methyl vinyl ether), Poly(2-ethoxyethyl vinyl ether), Poly(Nvinylcaprolactam), Poly(N-vinylisobutyramide), Poly(N-N-vinyl-n-butyramide), Poly(dimethylaminoethyl methacrylate), Poly(N-(L)-(1-hydroxymethyl) propyl methacrylamide, Poly(ethyleneglycol)/(poly(lactide-co-glicolide), Polyoxyethylene-polyoxypropylene, polyoxyethylenepolyoxypropylene-polyoxyethylene, Poly(ethylene glycol)-poly(lactic acid)-poly(ethylene glycol) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The heat-reactive polymer resin is Poly(N-isopropylacrylamide), Poly(N, N-diethylacrylamide), Poly(Nethylmethacylamide), Poly(methyl vinyl ether), Poly(2-ethoxyethyl vinyl ether), Poly(Nvinylcaprolactam), Poly( N-vinylisobutyramide), Poly(NN-vinyl-n-butyramide), Poly(dimethylaminoethyl methacrylate), Poly(N-(L)-(1-hydroxymethyl) propyl methacrylamide, Poly(ethyleneglycol)/(poly(lactide-co-) glycolide), polyoxyethylene-polyoxypropylene, polyoxyethylenepolyoxypropylene-polyoxyethylene, and poly(ethylene glycol)-poly(lactic acid)-poly(ethylene glycol).

또는, 상기 열반응성 고분자 수지는 상변이 온도 이상으로 가열 시 액화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 겔화될 수 있다.Alternatively, the heat-reactive polymer resin may be liquefied when heated above the phase change temperature and gelled when cooled below the phase change temperature.

상기 열반응성 고분자 수지는 Gelatin, Poly(N-acryloylglycinamide), Poly(acrylamide-co-acrylonitrile), Poly(methacrylamide), Poly(acrylic acid), Poly(allylamine-co-allylurea), Poly(ethylene oxide), Poly(vinylmethylether), Poly(hydroxyethyl methacrylate), N-vinylimidazole, 1-vinyl-2-(hydroxylmethyl)imidazole 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The heat-reactive polymer resin is Gelatin, Poly(N-acryloylglycinamide), Poly(acrylamide-co-acrylonitrile), Poly(methacrylamide), Poly(acrylic acid), Poly(allylamine-co-allylurea), Poly(ethylene oxide), Poly(vinylmethylether), Poly(hydroxyethyl methacrylate), N-vinylimidazole, and may include at least one of 1-vinyl-2-(hydroxylmethyl)imidazole.

상기 열반응성 고분자 수지의 상변이 온도는 20℃~50℃의 범위일 수 있다.The phase change temperature of the thermally reactive polymer resin may be in the range of 20°C to 50°C.

상기 세정액의 용매는 극성 양자성 용매(Polar Protic Solvent)일 수 있다.The solvent of the washing solution may be a polar protic solvent.

상기 세정액의 용매는 순수(H20), 메탄올(CH3OH), 에탄올(C2H5OH), IPA, 아세트 산(CH3COOH) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The solvent of the washing solution may include at least one of pure water (H20), methanol (CH3OH), ethanol (C2H5OH), IPA, and acetic acid (CH3COOH).

상기 린스액은 세정액의 용매와 동일한 성분이 적용될 수 있다.The rinse solution may have the same component as the solvent of the cleaning solution.

이때, 세정액과 린스액이 혼합된 배출액을 필터링한 후 세정액으로 재활용하는 단계;상기 필터링한 용액의 농도를 조절하는 단계;를 더 포함할 수 있다.In this case, the method may further include: filtering the discharged solution in which the washing solution and the rinse solution are mixed and then recycling the washing solution; adjusting the concentration of the filtered solution.

상기 필터링한 용액의 농도를 조절하는 단계는 상기 필터링한 용액으로부터 용제를 증발시키거나, 또는 상기 필터링한 용액에 열반응성 고분자 수지를 첨가함으로써 농도를 조절할 수 있다.In the step of adjusting the concentration of the filtered solution, the concentration may be controlled by evaporating the solvent from the filtered solution or by adding a thermally reactive polymer resin to the filtered solution.

본 발명의 실시예에 따르면, 액상의 세정액을 잉크젯 헤드에 공급하고, 열처리를 통해 세정액을 겔 상태로 상변이하여 노즐 내벽에 부착된 파티클을 트랩한 후 린스액으로 제거함으로써 세정 효율을 높일 수 있다. 더욱이 세정 공정이 단순화되고, 세정액을 액상으로 공급하므로 세정액의 공급이 용이하다.According to an embodiment of the present invention, the cleaning efficiency can be increased by supplying a liquid cleaning liquid to the inkjet head, changing the cleaning liquid to a gel state through heat treatment, trapping particles attached to the inner wall of the nozzle, and then removing it with a rinse liquid. . Moreover, the cleaning process is simplified, and the cleaning liquid is easily supplied in a liquid phase.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 파티클을 트랩하기 위해 겔화된 세정액을 다시 액화한 후 린스하므로 세정 후 파티클이 노즐에 잔류하는 것을 최소화할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, since the gelled cleaning solution is liquefied again to trap the particles and then rinsed, it is possible to minimize the particles remaining in the nozzle after cleaning.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 린스액으로서 세정액에 사용된 용매를 사용하는 경우 세정 후 배출되는 용액은 농도가 낮은 세정액이 되므로, 필터링을 통해 파티클을 제거한 후 농도 조절 공정(폴리머 추가, 용액 증발등)을 거쳐 세정액으로 재사용함으로써 공정 비용을 절감할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, when a solvent used in the cleaning solution is used as the rinse solution, the solution discharged after cleaning becomes a low concentration cleaning solution, so the concentration control process (adding polymer, solution Evaporation, etc.) and reuse as a cleaning solution can reduce process costs.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above-described effects, and include all effects that can be inferred from the configuration of the invention described in the detailed description or claims of the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 잉크젯 헤드 어셈블리를 개략적으로 나타내는 구성도이다.
도 2는 본 발명에 의한 잉크젯 헤드 어셈블리의 일부를 개략적으로 도시한 측면도이다.
도 3은 본 발명에 일 실시예에 의한 잉크젯 헤드 세정 방법을 도시한 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 잉크젯 헤드 세정 방법을 개략적으로 도시한 흐름도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 잉크젯 헤드 세정 방법을 개략적으로 도시한 흐름도이다.
1 is a block diagram schematically showing an inkjet head assembly according to the present invention.
2 is a schematic side view of a part of an inkjet head assembly according to the present invention.
3 is a schematic diagram illustrating an inkjet head cleaning method according to an embodiment of the present invention.
4 is a flowchart schematically illustrating an inkjet head cleaning method according to an embodiment of the present invention.
5 is a flowchart schematically illustrating an inkjet head cleaning method according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 본 발명의 본질과 관계없는 부분은 그에 대한 상세한 설명을 생략할 수 있으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 부여할 수 있다.In order to clearly describe the present invention, a detailed description thereof may be omitted for parts not related to the essence of the present invention, and the same reference numerals may be assigned to the same or similar elements throughout the specification.

또한, 참조하는 도면에서 구성 요소의 크기, 선의 두께 등은 이해의 편의상 다소 과장되거나 축소되어 표현될 수 있다.In addition, in the referenced drawings, the size of the component, the thickness of the line, etc. may be slightly exaggerated or reduced for convenience of understanding.

또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 여기서 사용되는 용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것으로서 본 발명을 한정하도록 의도되지 않으며, 본 명세서에서 다르게 정의되지 않는 한 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 이해되는 개념으로 해석될 수 있다.In addition, when a part "includes" a certain component, this means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated. The terminology used herein is only for referring to specific embodiments and is not intended to limit the present invention, and unless otherwise defined in the present specification, is a concept understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. can be interpreted.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical and scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. does not

도 1은 본 발명에 따른 잉크젯 헤드 어셈블리를 개략적으로 나타내는 구성도이다.1 is a block diagram schematically showing an inkjet head assembly according to the present invention.

잉크젯 헤드 어셈블리(100)는 기판(S)으로 처리액을 공급한다. 잉크젯 헤드 어셈블리(100)는 기판(S) 상에 약액을 토출하기 위한 노즐(112)이 구비된 하나 또는 복수의 잉크젯 헤드(110), 잉크젯 헤드(110)의 하면에 구비되어 노즐(112)의 토출구를 막을 수 있는 덮개부(120), 노즐(112) 내부에 세정액을 공급하는 세정액 공급 유닛(130), 세정액을 겔화시키기 위한 제1 열처리 유닛(140), 세정액을 다시 액상으로 상변이 시키기 위한 제2 열처리 유닛(150), 노즐(112) 내부에 건조 가스를 공급하는 가스 공급 유닛(160)을 포함할 수 있다.The inkjet head assembly 100 supplies a processing liquid to the substrate S. The inkjet head assembly 100 includes one or a plurality of inkjet heads 110 provided with a nozzle 112 for discharging a chemical onto a substrate S, and provided on a lower surface of the inkjet head 110 to form the nozzles 112 . The cover part 120 capable of blocking the discharge port, the cleaning liquid supply unit 130 for supplying the cleaning liquid to the inside of the nozzle 112, the first heat treatment unit 140 for gelling the cleaning liquid, and a phase change of the cleaning liquid back to a liquid phase The second heat treatment unit 150 and the gas supply unit 160 for supplying dry gas to the inside of the nozzle 112 may be included.

잉크젯 헤드(110)는 하나 또는 복수로 제공될 수 있으며, 복수로 제공될 경우 서로 상이한 종류의 처리액을 공급할 수 있다. 각 처리액의 공급원은 처리액 공급 유닛에 각각 구비되고, 기판 처리가 수행되는 때 각 처리액 공급원으로부터 잉크젯 헤드(110)로 공급될 수 있다. 각 처리액 공급원은 각 처리액의 공급과 차단을 조절할 수 있는 별도의 밸브를 포함할 수 있다. 처리액은 케미칼, 린스액, 그리고 유기 용제 등일 수 있다. 케미칼은 산 또는 염기 성질을 가지는 액일 수 있다. 케미칼은 황산(H2SO4), 인산(P2O5), 불산(HF) 그리고 수산화 암모늄(NH4OH)을 포함할 수 있다. 케미칼은 DSP(Diluted Sulfuric acid Peroxide) 혼합액일 수 있다. 린스액은 순수(H20), 메탄올(CH3OH), 에탄올(C2H5OH), IPA, 아세트 산(CH3COOH) 등과 같은 극성 양자성 용매일 수 있다. 유기 용제는 이소프로필알코올(IPA) 액일 수 있다. 잉크젯 헤드(110)는 노즐(112)을 포함할 수 있다.One or a plurality of inkjet heads 110 may be provided, and when a plurality of inkjet heads 110 are provided, different types of treatment liquids may be supplied. Sources of each treatment liquid may be respectively provided in the treatment liquid supply unit, and may be supplied to the inkjet head 110 from each treatment liquid source when substrate processing is performed. Each treatment liquid supply source may include a separate valve for controlling supply and shutoff of each treatment liquid. The treatment liquid may be a chemical, a rinse liquid, and an organic solvent. The chemical may be a liquid having acid or basic properties. Chemicals may include sulfuric acid (H2SO4), phosphoric acid (P2O5), hydrofluoric acid (HF) and ammonium hydroxide (NH4OH). The chemical may be a mixed solution of Diluted Sulfuric Acid Peroxide (DSP). The rinse solution may be a polar protic solvent such as pure water (H20), methanol (CH3OH), ethanol (C2H5OH), IPA, acetic acid (CH3COOH), or the like. The organic solvent may be isopropyl alcohol (IPA) liquid. The inkjet head 110 may include a nozzle 112 .

덮개부(120)는 도 2와 같이 잉크젯 헤드(110)의 하면에 구비되어 노즐(112)의 토출구를 차단하거나 개방할 수 있다. 덮개부(120)에 의하여 노즐(112)의 토출구가 차단되면 노즐(112) 내부에 유체가 저류될 수 있다. 덮개부(120)는 기판 처리 공정이 수행되는 때 노즐(112)의 토출구를 개방한 채로 유지되고, 잉크젯 헤드(100)를 세정하는 때, 토출구가 차단되었다가 개방될 수 있도록 별도의 제어부(미도시)에 의하여 제어될 수 있다. 구체적으로, 덮개부(120)는 노즐(112)에 세정액이 공급되기 전 노즐(112)의 토출구를 차단하고, 일련의 과정을 거쳐 상기 세정액을 배출하는 때 노즐(112)의 토출구를 개방하도록 제어될 수 있다. 본 명세서에서는 덮개부(120)가 일체형로 구성되어 모든 노즐의 덮개부가 동시에 개폐되도록 구성된 것을 예로 들었지만, 각 노즐의 덮개부는 노즐 별로 분리된 형태로 구성될 수도 있다.The cover part 120 is provided on the lower surface of the inkjet head 110 as shown in FIG. 2 to block or open the discharge port of the nozzle 112 . When the outlet of the nozzle 112 is blocked by the cover part 120 , the fluid may be stored in the nozzle 112 . The cover part 120 maintains the discharge port of the nozzle 112 open when the substrate processing process is performed, and a separate control unit (not shown) so that the discharge port is blocked and opened when the inkjet head 100 is cleaned. city) can be controlled by Specifically, the cover part 120 blocks the discharge port of the nozzle 112 before the cleaning liquid is supplied to the nozzle 112, and controls the nozzle 112 to open the discharge port when the cleaning liquid is discharged through a series of processes. can be In the present specification, although the example in which the cover part 120 is integrally configured to open and close the cover parts of all nozzles at the same time has been exemplified, the cover parts of each nozzle may be configured separately for each nozzle.

세정액 공급 유닛(130)은 덮개부(120)에 의하여 노즐(112)의 토출구가 막혀있는 때, 잉크젯 헤드(110) 내부에 열반응성 고분자 수지가 포함된 액상의 세정액을 공급한다. 이때, 세정액의 용매는 높은 유전상수(High Dielectric Constant)와 높은 극성을 갖는 극성 양자성 용매(Polar Protic Solvent)가 적용될 수 있다. 예컨대, 용매로는 순수(H20), 메탄올(CH3OH), 에탄올(C2H5OH), IPA, 아세트 산(CH3COOH) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 공급된 세정액은 덮개부(120)에 의하여 노즐(112) 내부에 저류된다. 열반응성 고분자 수지는 온도 변화에 따라 상 변이(Phase Transition) 현상이 일어난다. 따라서 열반응성 고분자 수지가 포함된 액상의 세정액에 열처리를 함으로써 노즐(112) 내벽에 부착된 파티클을 노즐(112) 내벽으로부터 분리하고 배출할 수 있다.The cleaning liquid supply unit 130 supplies a liquid cleaning liquid containing a thermally reactive polymer resin to the inside of the inkjet head 110 when the discharge port of the nozzle 112 is blocked by the cover part 120 . In this case, as the solvent of the cleaning solution, a polar protic solvent having a high dielectric constant and high polarity may be applied. For example, the solvent may include at least one of pure water (H20), methanol (CH3OH), ethanol (C2H5OH), IPA, and acetic acid (CH3COOH). The supplied cleaning liquid is stored in the nozzle 112 by the cover part 120 . A thermally reactive polymer resin undergoes a phase transition according to a change in temperature. Therefore, the particles attached to the inner wall of the nozzle 112 can be separated from and discharged from the inner wall of the nozzle 112 by heat-treating the liquid cleaning solution containing the thermally reactive polymer resin.

본 발명에서는 설명의 편의를 위하여 처리액 공급 유닛과 세정액 공급 유닛(130)을 분리하여 설명했지만, 처리액 공급부에 구비된 공급원 중 하나의 공급원이 열반응성 고분자 수지가 포함된 액상의 세정액을 공급하도록 구성할 수도 있다.In the present invention, the treatment liquid supply unit and the cleaning liquid supply unit 130 have been separately described for convenience of explanation, but one of the sources provided in the treatment liquid supply unit supplies the liquid cleaning liquid containing the thermally reactive polymer resin. It can also be configured.

제1 열처리 유닛(140)은 노즐(112) 내부에 저류된 세정액을 제1 열처리를 통해 상변이시켜 겔화시킬 수 있다. 이때, 액상의 세정액이 겔화되면서 노즐(112) 내벽에 부착되어 있던 파티클이 세정액에 트랩되면서 노즐(112) 내벽으로부터 분리될 수 있다.The first heat treatment unit 140 may phase-change the cleaning solution stored in the nozzle 112 through the first heat treatment to make it gel. At this time, as the liquid cleaning liquid is gelled, particles attached to the inner wall of the nozzle 112 may be separated from the inner wall of the nozzle 112 while being trapped in the cleaning liquid.

제2 열처리 유닛(150)은 노즐(112) 내부에 저류된 세정액을 제2 열처리를 통해 다시 액상으로 상변이시킬 수 있다. 다시 액상으로 상변이 된 세정액에는 노즐(112) 내벽으로부터 분리된 파티클이 포함되어 있다. 제2 열처리에 의하여 다시 액상으로 상변이 된 세정액 및 파티클을 제거하기 위하여, 잉크젯 헤드(110) 내부에 처리액 공급부로부터 린스액이 공급될 수 있다. 이때, 덮개부(120)에 의하여 노즐(112)의 토출구가 다시 개방되고, 액상의 세정액 및 파티클과 린스액이 혼합된 상태로 잉크젯 헤드(110)로부터 배출될 수 있다. 세정액과 린스액의 혼합의 용이성을 위하여 린스액은 세정액의 용매와 같은 성분인 것이 바람직하다.The second heat treatment unit 150 may change the phase of the cleaning liquid stored in the nozzle 112 back to a liquid phase through the second heat treatment. The liquid phase-changed cleaning liquid again contains particles separated from the inner wall of the nozzle 112 . In order to remove the cleaning liquid and particles that have been changed to liquid phase by the second heat treatment, a rinse liquid may be supplied from the processing liquid supply unit inside the inkjet head 110 . At this time, the discharge port of the nozzle 112 is opened again by the cover part 120 , and the liquid cleaning liquid, particles, and rinse liquid may be discharged from the inkjet head 110 in a mixed state. For ease of mixing of the cleaning liquid and the rinse liquid, the rinse liquid is preferably the same component as the solvent of the cleaning liquid.

이때 열반응성 고분자 수지가 상변이 온도 이상으로 가열 시 겔화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 액화되는 물질인 경우, 상기 제1 열처리 수단은 가열 수단이고, 상기 제2 열처리 수단은 냉각 수단일 수 있다. 반대로, 상기 열반응성 고분자 수지가 상변이 온도 이상으로 가열 시 액화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 겔화되는 물질인 경우에는, 상기 제1 열처리 수단은 냉각 수단이고, 상기 제2 열처리 수단은 가열 수단일 수 있다.At this time, when the heat-reactive polymer resin is a material that gels when heated above the phase change temperature and liquefies when cooled below the phase change temperature, the first heat treatment means may be a heating means, and the second heat treatment means may be a cooling means. Conversely, when the heat-reactive polymer resin is a material that liquefies when heated above the phase change temperature and gels when cooled below the phase change temperature, the first heat treatment means is a cooling means, and the second heat treatment means is a heating means can

가열 수단과 냉각 수단은 잉크젯 헤드(110)에 구비되는 히터, 냉매 유로 등일 수 있고, 또는 노즐(112) 내부로 온도가 조절된 기체를 공급하는 수단일 수 있으나, 이에 한정되지 않는 다양한 수단일 수 있다. 경우에 따라, 가열 수단과 냉각 수단은 가열과 냉각 기능을 모두 수행할 수 있는 하나의 수단으로 구성될 수 있다.The heating means and the cooling means may be a heater provided in the inkjet head 110, a refrigerant passage, or the like, or a means for supplying a gas whose temperature is adjusted to the inside of the nozzle 112, but may be various means, but not limited thereto. have. In some cases, the heating means and the cooling means may be configured as one means capable of performing both heating and cooling functions.

가스 공급 유닛(160)은 잉크젯 헤드(110)를 세정한 후 배출액이 배출된 잉크젯 헤드(110) 내부를 건조시키기 위하여 잉크젯 헤드(110)에 건조 가스를 공급한다. 건조 가스에 의하여 세정된 노즐(112) 및 잉크젯 헤드(110) 내부가 건조될 수 있다.The gas supply unit 160 supplies a drying gas to the inkjet head 110 to dry the inside of the inkjet head 110 from which the discharged liquid has been discharged after cleaning the inkjet head 110 . The inside of the nozzle 112 and the inkjet head 110 cleaned by the drying gas may be dried.

한편, 본 발명에 따른 잉크젯 헤드 어셈블리(100)는, 사용된 세정액을 포함하는 배출액을 수용하는 수용부(170), 수용부(170)에 수용된 배출액을 필터링하여 파티클을 제거하는 필터링 유닛(180), 필터링한 용액을 세정액으로 재사용하기 위하여 농도를 조절하는 농도 조절 유닛(190)을 더 포함하여 구성될 수 있다. 세정액을 재사용함으로써 공정 비용을 절감할 수 있다.On the other hand, the inkjet head assembly 100 according to the present invention includes an accommodating part 170 for accommodating the discharged liquid containing the used cleaning liquid, and a filtering unit for removing particles by filtering the discharged liquid accommodated in the accommodating part 170 ( 180), it may be configured to further include a concentration control unit 190 for adjusting the concentration in order to reuse the filtered solution as a cleaning solution. Process costs can be reduced by reusing the cleaning solution.

도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 잉크젯 헤드 세정 방법을 도시한 것이다.3 and 4 are diagrams illustrating an inkjet head cleaning method according to an embodiment of the present invention.

도 3 및 도 4을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 잉크젯 헤드 세정 방법은 토출구 차단 단계(S10), 세정액 공급 단계(S20), 세정액 열처리 단계(S30), 토출구 개방 단계(S40), 세정액 배출 단계(S50), 건조 단계(S60)를 포함한다.3 and 4, the inkjet head cleaning method according to an embodiment of the present invention includes a discharge port blocking step (S10), a cleaning solution supply step (S20), a cleaning solution heat treatment step (S30), an outlet opening step (S40), It includes a washing solution discharging step (S50) and a drying step (S60).

토출구 차단 단계(S10)에서는, 도 3(b)와 같이 잉크젯 헤드에 포함된 노즐의 토출구를 차단한다. 토출구를 차단하여 세정액이 노즐 내부에 저류될 수 있다.In the discharge port blocking step (S10), the discharge port of the nozzle included in the inkjet head is blocked as shown in FIG. 3(b). By blocking the discharge port, the cleaning liquid may be stored inside the nozzle.

세정액 공급 단계(S20)에서는, 토출구가 차단된 잉크젯 헤드에 세정액(1)을 공급한다. 세정액(1)은 잉크젯 헤드와 연결된 세정액 공급원으로부터 노즐로 공급될 수 있다.In the cleaning liquid supply step S20 , the cleaning liquid 1 is supplied to the inkjet head whose discharge port is blocked. The cleaning liquid 1 may be supplied to the nozzle from a cleaning liquid source connected to the inkjet head.

본 발명에 의한 일 실시예에서, 세정액은 용매에 열반응성 고분자 수지가 포함된 용액이 이용된다. 이때, 세정액의 용매는 높은 유전상수(High Dielectric Constant)와 높은 극성을 갖는 극성 양자성 용매(Polar Protic Solvent)가 적용될 수 있다. 예컨대, 용매로는 순수(H20), 메탄올(CH3OH), 에탄올(C2H5OH), IPA, 아세트 산(CH3COOH) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In one embodiment according to the present invention, a solution containing a thermally reactive polymer resin in a solvent is used as the cleaning solution. In this case, as the solvent of the cleaning solution, a polar protic solvent having a high dielectric constant and high polarity may be applied. For example, the solvent may include at least one of pure water (H20), methanol (CH3OH), ethanol (C2H5OH), IPA, and acetic acid (CH3COOH).

한편, 본 발명의 일 실시예에 적용되는 열반응성 고분자 수지는 20℃~50℃ 범위의 비교적 낮은 상변이 온도(LCST; Lower Critical Solution Temperature)를 갖는 고분자 수지가 적용될 수 있다. 따라서, 기판에 공급된 세정액은 비교적 낮은 온도에서 가열 또는 냉각 등의 열처리를 통해 겔(Gel) 상태로 상변이 될 수 있다.On the other hand, the heat-reactive polymer resin applied to an embodiment of the present invention can be applied to a polymer resin having a relatively low phase change temperature (LCST; Lower Critical Solution Temperature) in the range of 20 ℃ ~ 50 ℃. Accordingly, the cleaning solution supplied to the substrate may be phase-changed to a gel state through heat treatment such as heating or cooling at a relatively low temperature.

이때, 열반응성 고분자 수지는 상변이 온도 이상으로 가열 시 겔화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 액화되는 고분자 수지일 수 있다.In this case, the thermally reactive polymer resin may be a polymer resin that gels when heated above the phase change temperature and liquefies when cooled below the phase change temperature.

예를 들어, 열반응성 고분자 수지는 Poly(N-isopropylacrylamide), Poly(N, N-diethylacrylamide), Poly(Nethylmethacylamide), Poly(methyl vinyl ether), Poly(2-ethoxyethyl vinyl ether), Poly(Nvinylcaprolactam), Poly(N-vinylisobutyramide), Poly(N-N-vinyl-n-butyramide), Poly(dimethylaminoethyl methacrylate), Poly(N-(L)-(1-hydroxymethyl) propyl methacrylamide, Poly(ethyleneglycol)/(poly(lactide-co-glicolide), Polyoxyethylene-polyoxypropylene, polyoxyethylenepolyoxypropylene-polyoxyethylene, Poly(ethylene glycol)-poly(lactic acid)-poly(ethylene glycol) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.For example, the thermoreactive polymer resin is Poly(N-isopropylacrylamide), Poly(N, N-diethylacrylamide), Poly(Nethylmethacylamide), Poly(methyl vinyl ether), Poly(2-ethoxyethyl vinyl ether), Poly(Nvinylcaprolactam) , Poly(N-vinylisobutyramide), Poly(NN-vinyl-n-butyramide), Poly(dimethylaminoethyl methacrylate), Poly(N-(L)-(1-hydroxymethyl) propyl methacrylamide, Poly(ethyleneglycol)/(poly(lactide) -co-glycolide), polyoxyethylene-polyoxypropylene, polyoxyethylenepolyoxypropylene-polyoxyethylene, and poly(ethylene glycol)-poly(lactic acid)-poly(ethylene glycol).

또는, 열반응성 고분자 수지는 상변이 온도 이상으로 가열 시 액화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 겔화되는 고분자 수지일 수 있다.Alternatively, the thermally reactive polymer resin may be a polymer resin that liquefies when heated above the phase change temperature and gels when cooled below the phase change temperature.

예를 들어, 열반응성 고분자 수지는 Gelatin, Poly(N-acryloylglycinamide), Poly(acrylamide-co-acrylonitrile),For example, the thermoreactive polymer resin is Gelatin, Poly(N-acryloylglycinamide), Poly(acrylamide-co-acrylonitrile),

Poly(methacrylamide), Poly(acrylic acid), Poly(allylamine-co-allylurea), Poly(ethylene oxide), Poly(vinylmethylether), Poly(hydroxyethyl methacrylate), N-vinylimidazole, 1-vinyl-2-(hydroxylmethyl)imidazole 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.Poly(methacrylamide), Poly(acrylic acid), Poly(allylamine-co-allylurea), Poly(ethylene oxide), Poly(vinylmethylether), Poly(hydroxyethyl methacrylate), N-vinylimidazole, 1-vinyl-2-(hydroxylmethyl) at least one of imidazole.

세정액 열처리 단계(S30)는 세정액(1)을 겔화하는 제1 열처리 단계(S31) 및 겔 상태의 세정액을 다시 액화하는 제2 열처리 단계(S32)를 포함한다.The washing solution heat treatment step (S30) includes a first heat treatment step (S31) of gelling the washing solution (1) and a second heat treatment step (S32) of liquefying the washing solution in a gel state again.

제1 열처리 단계(S31)는, 잉크젯 헤드에 공급된 세정액(1)을 열처리를 통해 상변이 시켜 세정액(1)을 겔(Gel) 상태로 형성한다.In the first heat treatment step ( S31 ), the cleaning solution 1 supplied to the inkjet head is phase-changed through heat treatment to form the cleaning solution 1 in a gel state.

세정액(1)이 겔 상태로 상변이 됨에 따라 세정액(1)의 체적이 변화하게 되고, 이에 따라 상변이 된 세정 물질이 잉크젯 헤드, 특히 노즐 내벽에 부착된 파티클(P)을 트랩하게 된다.As the phase change of the cleaning liquid 1 into a gel state, the volume of the cleaning liquid 1 changes. Accordingly, the phase-changed cleaning material traps particles P attached to the inkjet head, particularly the nozzle inner wall.

예를 들어, 제1실시예의 세정액(1)에 상변이 온도 이상으로 가열을 함으로써 액상에서 겔 상태로 상변이하는 열반응성 고분자가 적용될 경우, 잉크젯 헤드에 열반응성 고분자를 포함한 액상의 세정액을 주입하고, 열반응성 고분자 용액의 상변이 온도 이상으로 가열하면 열반응성 고분자 용액은 액상에서 겔 상태가 된다.For example, when a thermally reactive polymer that changes phase from a liquid to a gel state by heating above the phase change temperature of the cleaning liquid 1 of the first embodiment is applied, the liquid cleaning liquid containing the thermally reactive polymer is injected into the inkjet head and , when heated above the phase change temperature of the thermally-reactive polymer solution, the thermally-reactive polymer solution changes from a liquid phase to a gel state.

도 3(c)와 같이 열반응성 고분자 용액이 겔화되면서, 겔 상태의 세정액(1)은 기판에 부착된 파티클(P)을 트랩하게 된다. 따라서 파티클(P)은 잉크젯 헤드의 내벽으로부터 분리될 수 있다.As the thermally reactive polymer solution gels as shown in FIG. 3(c) , the cleaning solution 1 in a gel state traps the particles P attached to the substrate. Accordingly, the particles P may be separated from the inner wall of the inkjet head.

제2 열처리 단계(S32)에서는, 도 3(d)와 같이 겔 상태로 상변이된 세정액(1)을 열처리를 통해 다시 액상으로 상변이 시킨다.In the second heat treatment step (S32), as shown in Fig. 3(d), the phase change of the washing liquid 1 to a gel state is again changed to a liquid phase through heat treatment.

제2 열처리 단계(S32)를 통해 겔 상태의 세정액을 액상으로 상변이 시키면, 이후 단계인 린스 단계에서 기판의 표면으로부터 세정액을 제거하는 것이 보다 용이해진다.When the cleaning liquid in the gel state is phase changed to the liquid phase through the second heat treatment step S32, it becomes easier to remove the cleaning liquid from the surface of the substrate in the subsequent rinse step.

토출구 개방 단계(S40)에서는 제2 열처리 단계(S32)가 완료된 잉크젯 헤드에 포함된 노즐의 토출구를 개방한다. 토출구를 개방하여 다음 단계에서 노즐 내부에 저류되었던 세정액(1)을 토출하기 위함이다.In the discharge opening step S40 , the discharge port of the nozzle included in the inkjet head on which the second heat treatment step S32 is completed is opened. This is to discharge the cleaning liquid 1 stored in the nozzle in the next step by opening the discharge port.

린스 단계(S50)는, 기판에 린스액을 공급해 세정액(1) 및 세정액(1)에 트랩된 파티클(P)을 기판 표면에서 제거하는 단계로, 세정액(1)과 린스액이 혼합된 배출액은 배수라인을 통해 잉크젯 헤드 외부로 배출된다.The rinsing step (S50) is a step of supplying a rinse liquid to the substrate to remove the cleaning liquid 1 and particles P trapped in the cleaning liquid 1 from the surface of the substrate, and the cleaning liquid 1 and the rinse liquid are mixed is discharged to the outside of the inkjet head through the drain line.

린스 단계(S50) 이후에는 건조 단계(S60)를 진행하여 세정이 끝난 잉크젯 헤드를 건조시킬 수 있다. 건조 단계(S60)에서는 잉크젯 헤드 내부에 건조 가스를 주입하여 잉크젯 헤드 내부에 잔존하는 린스액을 건조할 수 있다.After the rinse step (S50), a drying step (S60) may be performed to dry the cleaned inkjet head. In the drying step (S60), a drying gas may be injected into the inkjet head to dry the rinse solution remaining in the inkjet head.

이와 같이 본 발명은 비교적 저온에서 액상에서 겔 상태로 상변이하는 용액을 세정액으로 사용하므로, 고화 또는 경화를 위한 고온 가열 공정 없이도 파티클을 효과적으로 제거할 수 있다.As described above, in the present invention, since a solution that changes phase from a liquid to a gel at a relatively low temperature is used as a cleaning solution, particles can be effectively removed without a high-temperature heating process for solidification or hardening.

또한, 세정액(1)은 액체 상태에서 기판에 공급되므로 세정액 공급이 용이하고, 겔화된 세정액을 다시 액상으로 상변이시킨 후 세정액의 용매와 같은 성분을 갖는 린스액을 이용하여 제거하므로 고가의 박리 처리액이나 용해 처리액이 불필요하고 기판 표면에 폴리머가 잔류하는 문제가 없다.In addition, since the cleaning liquid 1 is supplied to the substrate in a liquid state, it is easy to supply the cleaning liquid, and after phase change of the gelled cleaning liquid back to liquid, it is removed using a rinse liquid having the same component as the solvent of the cleaning liquid, so expensive peeling treatment A liquid or a dissolution treatment liquid is unnecessary, and there is no problem that the polymer remains on the surface of the substrate.

또한, 세정액(1)이 겔화되는 과정에서 세정액(1)에 의하여 파티클(P)이 트랩되므로, 세정 과정에서 잉크젯 헤드의 내부가 손상되는 문제가 방지되는 효과가 있다.In addition, since the particles P are trapped by the cleaning liquid 1 while the cleaning liquid 1 is gelled, the problem of damage to the inside of the inkjet head during the cleaning process is prevented.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 잉크젯 헤드의 세정 방법을 도시한 것이다.5 is a diagram illustrating a cleaning method of an inkjet head according to another embodiment of the present invention.

도 5를 참고하면, 다른 실시예에 의한 잉크젯 헤드의 세정 방법은 토출구 차단 단계(S10), 세정액 공급 단계(S20), 세정액 열처리 단계(S30), 토출구 개방 단계(S40), 세정액 배출 단계(S50), 건조 단계(S60), 세정액 재사용 단계(S70)를 포함한다.Referring to FIG. 5 , the cleaning method of the inkjet head according to another embodiment includes a discharge port blocking step (S10), a cleaning solution supply step (S20), a cleaning solution heat treatment step (S30), an outlet opening step (S40), and a cleaning solution discharge step (S50). ), a drying step (S60), and a washing solution reuse step (S70).

즉, 본 발명에 의한 다른 실시예에 의한 잉크젯 헤드의 세정 방법은 일 실시예에 의한 잉크젯 헤드 세정 방법과 유사하지만, 다른 실시예에 의한 잉크젯 헤드 세정 방법은 세정액 재사용 단계를 더 포함한다. 따라서, 이하에서는 일 실시예이 의한 잉크젯 헤드 세정 방법과 유사한 구성에 대해서는 상세한 설명을 생략하기로 한다.That is, the method for cleaning an inkjet head according to another embodiment of the present invention is similar to the method for cleaning the inkjet head according to the embodiment, but the method for cleaning the inkjet head according to another embodiment further includes a cleaning solution reuse step. Accordingly, a detailed description of a configuration similar to the inkjet head cleaning method according to the exemplary embodiment will be omitted below.

세정액 재사용 단계(S70)는 사용한 세정액을 필터링(S71)하여 재사용하기 위한 것이다.The washing solution reuse step (S70) is to reuse the used washing solution by filtering (S71).

즉, 겔 상태에서 잉크젯 헤드 내벽에 부착되었던 파티클(P)을 트랩한 세정액(1)은 다시 액상으로 상변이 된 후 린스액과 함께 배출된다. 배출된 린스액과 세정액을 별도의 수용부를 구비하여 모을 수 있다. 이때, 린스액이 세정액의 용매와 동일한 용매가 사용될 경우, 린스액은 열반응성 고분자 수지를 제외하면 세정액과 동일한 성분을 가질 수 있다. 즉, 수용부에 수용된 배출액을 필터링하여 파티클(P)만을 제거하면, 초기에 공급된 세정액(1)이 희석된 성분과 동일하게 되는 것이다. 따라서, 필터링 된 세정액의 농도를 조절하는 단계(S72)를 거치면 수용부 및 필터를 통과한 용액은 세정액으로 재사용 가능하다.That is, the cleaning solution 1 that traps particles P attached to the inner wall of the inkjet head in a gel state is changed to a liquid phase again and is discharged together with the rinse solution. The discharged rinse liquid and cleaning liquid may be collected by providing a separate accommodating part. In this case, when the same solvent as the solvent of the rinse solution is used, the rinse solution may have the same components as the cleaning solution except for the thermally reactive polymer resin. That is, if only the particles P are removed by filtering the discharged solution accommodated in the receiving unit, the initially supplied cleaning solution 1 becomes the same as the diluted component. Therefore, after the step of adjusting the concentration of the filtered cleaning solution (S72), the solution that has passed through the accommodating part and the filter can be reused as a cleaning solution.

이때, 세정액의 농도를 조절하는 방법으로는, 필터링된 용액으로부터 용제를 증발시켜 세정액의 농도를 조절하거나, 또는 필터링된 용액에 열반응성 고분자 수지를 첨가하여 세정액의 농도를 조절할 수 있다.In this case, as a method of controlling the concentration of the washing solution, the concentration of the washing solution may be adjusted by evaporating the solvent from the filtered solution, or the concentration of the washing solution may be adjusted by adding a thermally reactive polymer resin to the filtered solution.

이와 같이 본 발명의 실시예는, 세정액에 사용된 용매와 동일한 성분의 린스액을 사용하는 경우 기판의 세정 후 배수라인으로 배출되는 용액은 농도가 낮은 세정액이 되므로, 필터링을 통해 파티클만 제거한 후 농도조절 공정(폴리머 추가, 용액 증발 등)을 거쳐 세정액으로 재사용함으로써 공정 비용을 절감할 수 있다.As described above, in the embodiment of the present invention, when a rinse solution having the same component as the solvent used in the cleaning solution is used, the solution discharged to the drain line after cleaning the substrate becomes a low concentration cleaning solution. Process costs can be reduced by reusing it as a cleaning solution through a conditioning process (addition of polymer, evaporation of solution, etc.).

본 발명에 따른 잉크젯 헤드 어셈블리 및 잉크젯 헤드 세정 방법에 의하면, 액상의 세정액을 잉크젯 헤드에 공급하고, 열처리를 통해 세정액을 겔 상태로 상변이하여 노즐 내벽에 부착된 파티클을 트랩한 후 린스액으로 제거함으로써 세정 효율을 높일 수 있다. 더욱이 세정공정이 단순화되고, 세정액을 액상으로 공급하므로 세정액의 공급이 용이하다.According to the inkjet head assembly and the inkjet head cleaning method according to the present invention, a liquid cleaning liquid is supplied to the inkjet head, and the cleaning liquid is phase-changed to a gel state through heat treatment to trap particles attached to the inner wall of the nozzle and then removed with a rinse liquid. By doing so, the cleaning efficiency can be improved. Moreover, the cleaning process is simplified and the cleaning liquid is easily supplied in a liquid phase.

또한, 비교적 낮은 상변이 온도를 갖는 고분자 수지를 사용하여 파티클을 트랩하기 위해 겔화된 세정액을 다시 액화한 후 린스하므로 세정 후 파티클이 노즐에 잔류하는 것을 최소화할 수 있고 세정에 의한 잉크젯 헤드 내부의 손상을 방지할 수 있다.In addition, since the gelled cleaning solution is liquefied again to trap particles by using a polymer resin having a relatively low phase change temperature and then rinsed, it is possible to minimize the particles remaining in the nozzle after cleaning, and damage to the inside of the inkjet head due to cleaning can prevent

또한, 린스액으로서 세정액에 사용된 용매를 사용하는 경우 세정 후 배출되는 용액은 농도가 낮은 세정액이 되므로, 필터링을 통해 파티클만 제거한 후 농도조절 공정(폴리머 추가, 용액 증발등)을 거쳐 세정액으로 재사용함으로써 공정 비용을 절감할 수 있다.In addition, if the solvent used in the cleaning liquid is used as the rinse liquid, the solution discharged after cleaning becomes a low-concentration cleaning liquid, so only particles are removed through filtering and then reused as a cleaning liquid through a concentration control process (polymer addition, solution evaporation, etc.) This can reduce the process cost.

본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있으므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다.Those skilled in the art to which the present invention pertains should understand that the present invention may be embodied in other specific forms without changing the technical spirit or essential characteristics thereof, so the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. only do

본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be construed as being included in the scope of the present invention. .

100; 잉크젯 어셈블리
110; 잉크젯 헤드
112; 노즐
120; 덮개부
130; 세정액 공급 유닛
140; 제1 열처리 유닛
150; 제2 열처리 유닛
160; 건조 가스 공급 유닛
170; 수용부
180; 필터링 유닛
190; 농도 조절 유닛
100; inkjet assembly
110; inkjet head
112; Nozzle
120; cover
130; cleaning liquid supply unit
140; first heat treatment unit
150; second heat treatment unit
160; dry gas supply unit
170; receptacle
180; filtering unit
190; concentration control unit

Claims (16)

기판 상에 약액을 토출하기 위한 하나 또는 복수의 노즐이 구비되는 잉크젯 헤드;
상기 잉크젯 헤드의 하면에 구비되어 상기 노즐 내부에 액체가 저류할 수 있도록 하는 덮개부;
상기 노즐 내부에 열반응성 고분자 수지가 포함된 액상의 세정액을 공급하는 세정액 공급 유닛;
상기 노즐 내부에 공급된 세정액을 제1 열처리를 통해 상변이 시켜 겔화시키기 위한 제1 열처리 유닛;
상기 겔화된 세정액을 제2 열처리를 통해 다시 액상으로 상변이시키기 위한 제2 열처리 유닛;
상기 노즐로 건조 가스를 공급하는 가스 공급 유닛;
을 포함하는 잉크젯 헤드 어셈블리.
an inkjet head provided with one or a plurality of nozzles for discharging a chemical onto a substrate;
a cover part provided on a lower surface of the inkjet head to allow a liquid to be stored in the nozzle;
a cleaning liquid supply unit supplying a liquid cleaning liquid containing a thermally reactive polymer resin to the inside of the nozzle;
a first heat treatment unit configured to phase-change the cleaning solution supplied to the inside of the nozzle through a first heat treatment to form a gel;
a second heat treatment unit configured to phase change the gelled washing liquid back to a liquid phase through a second heat treatment;
a gas supply unit supplying drying gas to the nozzle;
An inkjet head assembly comprising a.
제1항에 있어서,
상기 덮개부는, 상기 세정액이 공급되는 때 상기 노즐의 하면을 차단하고, 상기 세정액이 배출되는 때 상기 노즐의 하면을 개방하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 어셈블리.
According to claim 1,
The cover part is configured to block a lower surface of the nozzle when the cleaning liquid is supplied, and to open the lower surface of the nozzle when the cleaning liquid is discharged.
제1항에 있어서,
상기 열반응성 고분자 수지는 상변이 온도 이상으로 가열 시 겔화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 액화되는 물질이고,
상기 제1 열처리 수단은 가열 수단이고, 상기 제2 열처리 수단은 냉각 수단인 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 어셈블리.
According to claim 1,
The heat-reactive polymer resin is a material that gels when heated above the phase change temperature and liquefies when cooled below the phase change temperature,
The first heat treatment means is a heating means, and the second heat treatment means is a cooling means.
제1항에 있어서,
상기 열반응성 고분자 수지는 상변이 온도 이상으로 가열 시 액화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 겔화되는 물질이고,
상기 제1 열처리 수단은 냉각 수단이고, 상기 제2 열처리 수단은 가열 수단인 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 어셈블리.
According to claim 1,
The heat-reactive polymer resin is a material that liquefies when heated above the phase change temperature and gels when cooled below the phase change temperature,
The first heat treatment means is a cooling means, and the second heat treatment means is a heating means.
제1항에 있어서,
세정 후 배출되는 배출액을 수용하는 수용 유닛;
상기 배출액을 필터링하여 파티클을 제거하는 필터링 유닛;
상기 필터링한 용액을 세정액으로 재사용할 수 있도록 농도를 조절하는 농도 조절 유닛;
을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 어셈블리.
The method of claim 1,
a receiving unit accommodating the discharged liquid discharged after washing;
a filtering unit filtering the discharged liquid to remove particles;
a concentration control unit for adjusting the concentration so that the filtered solution can be reused as a cleaning solution;
The inkjet head assembly further comprising a.
잉크젯 헤드의 토출구를 차단하는 단계;
열반응성 고분자 수지가 포함된 액상의 세정액을 잉크젯 헤드에 공급하는 단계;
액상의 세정액을 제1 열처리를 통해 상변이 시켜 겔화함으로써 파티클을 트랩하는 단계;
파티클을 트랩한 겔 상태의 세정액을 제2 열처리를 통해 상변이 시켜 액화하는 단계;
잉크젯 헤드의 토출구를 개방하는 단계; 및
액상으로 상변이된 세정액에 린스액을 공급하여 배출하는 단계;
를 포함하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
blocking the discharge port of the inkjet head;
supplying a liquid cleaning solution containing a thermally reactive polymer resin to the inkjet head;
trapping particles by gelling the liquid washing solution through a phase change through a first heat treatment;
liquefying the washing solution in a gel state that traps particles through a second heat treatment;
opening a discharge port of the inkjet head; and
supplying and discharging a rinse liquid to the liquid phase-changed cleaning liquid;
Inkjet head cleaning method comprising a.
제6항에 있어서,
상기 열반응성 고분자 수지는 상변이 온도 이상으로 가열 시 겔화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 액화되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
7. The method of claim 6,
The heat-reactive polymer resin is an inkjet head cleaning method, characterized in that when heated above the phase change temperature, it gels, and when cooled below the phase change temperature, it liquefies.
제7항에 있어서,
상기 열반응성 고분자 수지는 Poly(N-isopropylacrylamide), Poly(N, N-diethylacrylamide), Poly(Nethylmethacylamide), Poly(methyl vinyl ether), Poly(2-ethoxyethyl vinyl ether), Poly(Nvinylcaprolactam), Poly(N-vinylisobutyramide), Poly(N-N-vinyl-n-butyramide), Poly(dimethylaminoethyl
methacrylate), Poly(N-(L)-(1-hydroxymethyl) propyl methacrylamide, Poly(ethyleneglycol)/(poly(lactide-co-glicolide), Polyoxyethylene-polyoxypropylene, polyoxyethylenepolyoxypropylene-polyoxyethylene, Poly(ethylene glycol)-poly(lactic acid)-poly(ethylene glycol) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
8. The method of claim 7,
The heat-reactive polymer resin is Poly(N-isopropylacrylamide), Poly(N, N-diethylacrylamide), Poly(Nethylmethacylamide), Poly(methyl vinyl ether), Poly(2-ethoxyethyl vinyl ether), Poly(Nvinylcaprolactam), Poly( N-vinylisobutyramide), Poly(NN-vinyl-n-butyramide), Poly(dimethylaminoethyl
methacrylate), Poly(N-(L)-(1-hydroxymethyl) propyl methacrylamide, Poly(ethyleneglycol)/(poly(lactide-co-glicolide), Polyoxyethylene-polyoxypropylene, polyoxyethylenepolyoxypropylene-polyoxyethylene, Poly(ethylene glycol)-poly( An inkjet head cleaning method comprising at least one of lactic acid)-poly(ethylene glycol).
제6항에 있어서,
상기 열반응성 고분자 수지는 상변이 온도 이상으로 가열 시 액화되고 상변이 온도 이하로 냉각 시 겔화되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
7. The method of claim 6,
The heat-reactive polymer resin is liquefied when heated above the phase change temperature, and gelled when cooled below the phase change temperature.
제9항에 있어서,
상기 열반응성 고분자 수지는 Gelatin, Poly(N-acryloylglycinamide), Poly(acrylamide-co-acrylonitrile), Poly(methacrylamide), Poly(acrylic acid), Poly(allylamine-co-allylurea), Poly(ethylene oxide), Poly(vinylmethylether), Poly(hydroxyethyl methacrylate), N-vinylimidazole, 1-vinyl-2-(hydroxylmethyl)imidazole 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
10. The method of claim 9,
The heat-reactive polymer resin is Gelatin, Poly(N-acryloylglycinamide), Poly(acrylamide-co-acrylonitrile), Poly(methacrylamide), Poly(acrylic acid), Poly(allylamine-co-allylurea), Poly(ethylene oxide), An inkjet head cleaning method comprising at least one of poly(vinylmethylether), poly(hydroxyethyl methacrylate), N-vinylimidazole, and 1-vinyl-2-(hydroxylmethyl)imidazole.
제6항에 있어서,
상기 열반응성 고분자 수지의 상변이 온도는 20℃~50℃의 범위인 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
7. The method of claim 6,
The phase change temperature of the thermally reactive polymer resin is an inkjet head cleaning method, characterized in that in the range of 20 ℃ ~ 50 ℃.
제6항에 있어서,
상기 세정액의 용매는 극성 양자성 용매(Polar Protic Solvent)인 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
7. The method of claim 6,
Inkjet head cleaning method, characterized in that the solvent of the cleaning solution is a polar protic solvent (Polar Protic Solvent).
제12항에 있어서,
상기 세정액의 용매는 순수(H20), 메탄올(CH3OH), 에탄올(C2H5OH), IPA, 아세트 산(CH3COOH) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
13. The method of claim 12,
The solvent of the cleaning solution includes at least one of pure water (H20), methanol (CH3OH), ethanol (C2H5OH), IPA, and acetic acid (CH3COOH).
제6항에 있어서,
상기 린스액은 세정액의 용매와 동일한 성분이 적용되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
7. The method of claim 6,
The rinse liquid is an inkjet head cleaning method, characterized in that the same component as the solvent of the cleaning liquid is applied.
제14항에 있어서,
세정액과 린스액이 혼합된 배출액을 필터링한 후 세정액으로 재활용하는 단계;
상기 필터링한 용액의 농도를 조절하는 단계;
를 더 포함하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
15. The method of claim 14,
Filtering the discharged liquid in which the cleaning liquid and the rinse liquid are mixed and then recycling it as a cleaning liquid;
adjusting the concentration of the filtered solution;
Inkjet head cleaning method further comprising a.
제15항에 있어서,
상기 필터링한 용액의 농도를 조절하는 단계는.
상기 필터링한 용액으로부터 용제를 증발시키거나, 또는 상기 필터링한 용액에 열반응성 고분자 수지를 첨가함으로써 농도를 조절하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 세정 방법.
16. The method of claim 15,
The step of adjusting the concentration of the filtered solution.
An inkjet head cleaning method, characterized in that the concentration is controlled by evaporating a solvent from the filtered solution or adding a thermally reactive polymer resin to the filtered solution.
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