KR20220010699A - Memory device comprising bitline sense amplifier and operating method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 메모리 장치 및 그의 동작 방법에 대한 것으로, 좀 더 상세하게는 비트라인 감지 증폭기를 포함하는 메모리 장치 및 그의 동작 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a memory device and an operating method thereof, and more particularly, to a memory device including a bit line sense amplifier and an operating method thereof.
DRAM(Dynamic Random Access Memory)으로서 구현된 메모리 장치에 포함된 메모리 셀 어레이는 비트라인 및 상보 비트라인을 통해 비트라인 감지 증폭기로 연결될 수 있다. 비트라인 감지 증폭기는 비트라인 및 상보 비트라인 사이의 전압 차이를 감지하고, 그리고 감지된 전압 차이를 증폭할 수 있다. 비트라인 감지 증폭기의 감지 및 증폭 동작에 기초하여, 메모리 셀 어레이에 저장된 데이터가 읽힐 수 있다.A memory cell array included in a memory device implemented as a dynamic random access memory (DRAM) may be connected to a bit line sense amplifier through a bit line and a complementary bit line. The bitline sense amplifier may sense a voltage difference between the bitline and the complementary bitline, and amplify the sensed voltage difference. Based on the sensing and amplifying operations of the bit line sense amplifier, data stored in the memory cell array may be read.
비트라인 감지 증폭기가 비트라인 및 상보 비트라인 사이의 전압 차이를 감지할 때, 감지 대상이 아닌 메모리 셀들에서 잡음이 발생할 수 있다. 이러한 잡음으로 인하여, 감지 대상이 아닌 메모리 셀들에 저장된 데이터에서 에러가 발생할 수 있다. 이에 따라 DRAM의 신뢰성이 저하될 수 있다.When the bit line sense amplifier senses the voltage difference between the bit line and the complementary bit line, noise may be generated in memory cells that are not to be sensed. Due to such noise, an error may occur in data stored in memory cells that are not to be detected. Accordingly, the reliability of the DRAM may be deteriorated.
본 발명의 목적은 비트라인 감지 증폭기를 포함하는 메모리 장치 및 그의 동작 방법을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a memory device including a bit line sense amplifier and a method of operating the same.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메모리 장치는: 메모리 셀에 연결된 비트라인 및 상보 비트라인에 연결되고, 그리고 비트라인의 전압 및 상보 비트라인의 전압의 전압 차를 감지하고 증폭하는 비트라인 감지 증폭기 및 감지 증폭기 구동 회로를 포함할 수 있다. 감지 증폭기 구동 회로는 호스트로부터 수신되는 커맨드에 응답하여, 비트라인 감지 증폭기에 의해 감지되는 비트라인 로우 레벨 전압의 레벨을 접지 전압의 레벨보다 높게 조정할 수 있다.A memory device according to an embodiment of the present invention includes: a bit line sense amplifier connected to a bit line connected to a memory cell and a complementary bit line, and sensing and amplifying a voltage difference between a voltage of a bit line and a voltage of a complementary bit line; It may include a sense amplifier driving circuit. The sense amplifier driving circuit may adjust the level of the bit line low level voltage sensed by the bit line sense amplifier to be higher than the level of the ground voltage in response to a command received from the host.
본 발명의 다른 실시 예에 따른 메모리 장치는: 메모리 셀에 연결된 비트라인 및 상보 비트라인에 연결되고, 그리고 메모리 셀에 저장된 데이터를 감지하고 증폭하는 비트라인 감지 증폭기 및 감지 증폭기 구동 회로를 포함할 수 있다. 감지 증폭기 구동 회로는 호스트로부터 수신되는 커맨드에 기초하여 제 1 풀업 펄스및 풀다운 펄스를 생성하고, 그리고 제 1 풀업 펄스 및 풀다운 펄스에 응답하여, 상기 비트라인 감지 증폭기에 의해 디벨롭되는 비트라인 로우 전압의 레벨을 조정할 수 있다. 비트라인 로우 전압의 레벨은 메모리 셀에 대해 읽기 동작이 수행될 때 접지 전압보다 델타 전압만큼 높아지고, 그리고 메모리 셀에 대해 쓰기 동작이 수행될 때 접지 전압과 동일해질 수 있다.A memory device according to another embodiment of the present invention may include: a bit line sense amplifier and a sense amplifier driving circuit connected to a bit line connected to a memory cell and a complementary bit line, and configured to sense and amplify data stored in the memory cell have. The sense amplifier driving circuit generates a first pull-up pulse and a pull-down pulse based on a command received from a host, and in response to the first pull-up pulse and the pull-down pulse, a bit line low voltage developed by the bit line sense amplifier. level can be adjusted. The level of the bit line low voltage may be higher than the ground voltage by a delta voltage when a read operation is performed on the memory cell, and may be equal to the ground voltage when a write operation is performed on the memory cell.
본 발명의 또 다른 실시 예에 따른, 비트라인 감지 증폭기를 포함하는 메모리 장치의 동작 방법은: 복수의 메모리 셀들 중 목표 메모리 셀에 저장된 데이터를 감지하는 단계, 목표 메모리 셀에 저장되기 위한 제 1 데이터가 메모리 장치로 입력되지 않으면, 목표 메모리 셀에 저장된 데이터를 복원하고 그리고 상기 비트라인 감지 증폭기의 제 1 노드의 전압 레벨을 접지 전압에서 증가시키는 단계, 및 목표 메모리 셀에 저장되기 위한 제 1 데이터가 메모리 장치로 입력되면, 목표 메모리 셀에 제 1 데이터를 쓰는 동안 비트라인 감지 증폭기의 제 1 노드의 전압 레벨을 접지 전압으로 감소시키는 단계를 포함할 수 있다. 복수의 메모리 셀들 각각은 플로팅 바디(floating body) 구조의 트랜지스터를 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, a method of operating a memory device including a bit line sense amplifier includes: sensing data stored in a target memory cell among a plurality of memory cells, and first data to be stored in the target memory cell is not input to the memory device, restoring data stored in the target memory cell and increasing the voltage level of the first node of the bitline sense amplifier from a ground voltage, and the first data to be stored in the target memory cell is When input to the memory device, the method may include reducing the voltage level of the first node of the bit line sense amplifier to a ground voltage while writing the first data to the target memory cell. Each of the plurality of memory cells may include a transistor having a floating body structure.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 비트라인 감지 증폭기에 의해 디벨롭되는 전압의 로우 레벨이 외부 장치로부터 수신되는 커맨드에 기초하여 접지 전압보다 크도록, 또는 접지 전압과 동일하도록 조정될 수 있다. 이에 따라 비트라인 감지 증폭기의 동작으로 인한 메모리 셀 어레이의 누설 전류량이 감소될 수 있다. 또한, 메모리 셀 어레이에 저장된 데이터의 손실이 방지될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the low level of the voltage developed by the bit line sense amplifier may be adjusted to be greater than or equal to the ground voltage based on a command received from an external device. Accordingly, the amount of leakage current of the memory cell array due to the operation of the bit line sense amplifier may be reduced. In addition, loss of data stored in the memory cell array can be prevented.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메모리 장치의 블록도를 예시적으로 도시한다.
도 2는 도 1의 메모리 장치의 블록도의 일부를 좀 더 상세하게 도시한다.
도 3은 도 1의 감지 증폭기부의 블록도를 예시적으로 도시한다.
도 4는 도 3의 비트라인 감지 증폭기 구동 회로의 회로도를 예시적으로 도시한다.
도 5은 도 3의 비트라인 감지 증폭기 구동 회로에 인가되는 신호, 비트라인 감지 증폭기 구동 회로에서 사용되는 신호들, 비트라인의 전압, 및 상보 비트라인의 전압의 파형의 타이밍도를 예시적으로 도시한다.
도 6a는 본 발명의 일 실시 예에 따라, 도 4의 풀업 회로를 좀 더 상세하게 도시한다.
도 6b는 본 발명의 다른 실시 예에 따라, 도 4의 풀업 회로를 좀 더 상세하게 도시한다.
도 7은 도 4의 펄스 생성기의 블록도를 예시적으로 도시한다.
도 8은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메모리 장치의 동작 방법의 순서도를 예시적으로 도시한다.
도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 메모리 장치를 포함하는 시스템의 동작 방법의 순서도를 예시적으로 도시한다.1 exemplarily shows a block diagram of a memory device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 illustrates a portion of a block diagram of the memory device of FIG. 1 in more detail.
FIG. 3 exemplarily shows a block diagram of the sense amplifier unit of FIG. 1 .
FIG. 4 exemplarily shows a circuit diagram of the bit line sense amplifier driving circuit of FIG. 3 .
5 exemplarily shows a timing diagram of a waveform of a signal applied to the bit line sense amplifier driving circuit of FIG. 3, signals used in the bit line sense amplifier driving circuit, a voltage of a bit line, and a voltage of a complementary bit line do.
6A illustrates the pull-up circuit of FIG. 4 in more detail, according to an embodiment of the present invention.
6B illustrates the pull-up circuit of FIG. 4 in more detail, according to another embodiment of the present invention.
7 exemplarily shows a block diagram of the pulse generator of FIG. 4 .
8 is an exemplary flowchart of a method of operating a memory device according to an embodiment of the present invention.
9 exemplarily shows a flowchart of a method of operating a system including a memory device according to an embodiment of the present invention.
이하에서, 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로, 본 발명의 실시 예들이 명확하고 상세하게 기재될 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described clearly and in detail to the extent that those skilled in the art can easily practice the present invention.
이하에서, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시 예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명을 설명함에 있어 전체적인 이해를 용이하게 하기 위하여 도면상의 유사한 구성요소에 대해서는 유사한 참조부호가 사용되고, 그리고 유사한 구성요소에 대해서 중복된 설명은 생략된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. In order to facilitate the overall understanding in describing the present invention, similar reference numerals are used for similar components in the drawings, and duplicate descriptions of similar components are omitted.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메모리 장치의 블록도를 예시적으로 도시한다. 도 1을 참조하면, 메모리 장치(10)는 제어 로직(11), 메모리 셀 어레이(12), 로우 디코더(13), 칼럼 디코더(14), 입출력 버퍼(15), 전압 생성기(16), 및 감지 증폭기부(100)를 포함할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 메모리 장치(10)는 DRAM(Dynamic Random Access Memory)으로서 구현될 수 있다.1 exemplarily shows a block diagram of a memory device according to an embodiment of the present invention. 1 , the
제어 로직(11)은 메모리 장치(10) 외부의 장치(호스트, CPU, 메모리 컨트롤러등으로 지칭될 수 있음)로부터 커맨드/어드레스(CA) 및 클럭(CK)을 수신할 수 있다. 커맨드/어드레스(CA)는 메모리 장치(10)에 의해 수행되고자 하는 동작을 나타내는 커맨드(명령어), 메모리 장치(10)에 의해 수행되고자 하는 동작의 대상이 되는 메모리 셀(이하에서, 목표 메모리 셀(targeted memory cell)로 지칭될 수 있음)의 행을 가리키는 로우 어드레스(ADDR_R) 및 목표 메모리 셀의 열을 가리키는 칼럼 어드레스(ADDR_C)를 포함할 수 있다. 제어 로직(11)은 로우 어드레스(ADDR_R)를 로우 디코더(13)로 전송할 수 있고, 그리고 칼럼 어드레스(ADDR_C)를 칼럼 디코더(14)로 전송할 수 있다.The
제어 로직(11)은 수신된 커맨드/어드레스(CA)를 디코딩할 수 있다. 예를 들어, 제어 로직(11)은 수신된 커맨드/어드레스(CA)를 디코딩하는 디코더를 포함할 수 있다. 제어 로직(11)은 호스트로부터 액티브 커맨드(ACTIVE Command), 읽기/쓰기 커맨드(READ/WRITE Command), 및 프리차지 커맨드(PRECHARGE Command) 등을 수신할 수 있고, 그리고 수신된 커맨드들을 디코딩할 수 있다. 제어 로직(11)은 디코딩 결과에 기초하여, 워드라인 액티브 신호(WLACT), 쓰기 인에이블 신호(WREN), 및 프리차지 신호(PRCG)를 생성하고, 그리고 생성된 신호를 감지 증폭기부(100)로 전송할 수 있다. 예를 들어, 워드라인 액티브 신호(WLACT)는 액티브 커맨드에 응답하여 생성될 수 있고, 쓰기 인에이블 신호(WREN)는 쓰기 커맨드에 응답하여 생성될 수 있고, 프리차지 신호(PRCG)는 프리차지 커맨드에 응답하여 생성될 수 있다.The
메모리 셀 어레이(12)는 복수의 메모리 셀들(예를 들어, 도 2의 MC1/MC2/MC3)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 메모리 셀 어레이(12)에 포함된 메모리 셀들 각각은 복수의 워드라인들(WL) 및 복수의 비트라인들(BL)이 교차하는 지점에 배치될 수 있다. 메모리 셀들 각각은 복수의 워드라인들(WL) 중 대응하는 워드라인에 연결될 수 있다. 메모리 셀들 각각은 복수의 비트라인들(BL) 중 대응하는 비트라인 및 복수의 상보 비트라인들(BLB) 중 대응하는 상보 비트라인에 연결될 수 있다. 메모리 셀들 각각은 매트릭스(matrix) 형태로 제공될 수 있다. 이때, 복수의 워드라인들(WL)은 메모리 셀들의 행들과 연결될 수 있고, 그리고 복수의 비트라인들(BL) 및 복수의 상보 비트라인들(BLB)은 메모리 셀들의 열들과 연결될 수 있다. 메모리 셀 어레이(12)는 도 2를 참조하여 좀 더 구체적으로 후술된다.The
로우 디코더(13)는 제어 로직(11)으로부터 로우 어드레스(ADDR_R)를 수신할 수 있다. 로우 디코더(13)는 메모리 셀 어레이(12)로 복수의 워드라인들(WL)을 통해 연결될 수 있다. 로우 디코더(13)는 수신된 로우 어드레스(ADDR_R)를 디코딩함으로써, 메모리 셀 어레이(12)로 연결된 복수의 워드라인들(WL) 중 어느 한 워드라인을 선택할 수 있다. 로우 디코더(13)는 선택된 워드라인에 전압을 인가함으로써, 선택된 워드라인을 활성화할 수 있다.The
칼럼 디코더(14)는 제어 로직(11)으로부터 칼럼 어드레스(ADDR_C)를 수신할 수 있다. 칼럼 디코더(14)는 감지 증폭기부(100)로 칼럼 선택 라인(CSL)을 통해 연결될 수 있다. 칼럼 디코더(14)는 수신된 칼럼 어드레스(ADDR_C)를 디코딩함으로써 메모리 셀 어레이(12)로 연결된 복수의 비트라인들(BL) 중 읽기 단위의 비트라인(들) 및 상보 비트라인(들)을 선택할 수 있다. 칼럼 디코더(14)는 비트라인 및 상보 비트라인에 칼럼 선택 라인(CSL)을 통해 전압을 인가함으로써, 비트라인 및 상보 비트라인을 선택(또는 활성화)할 수 있다.The
커맨드/어드레스(CA)에 응답하여, 메모리 장치(10)가 쓰기 동작을 수행할 때, 입출력 버퍼(15)는 외부 장치로부터 데이터(DQ)를 수신할 수 있다. 입출력 버퍼(15)는 수신된 데이터(DQ)를 일시적으로 저장할 수 있다. 입출력 버퍼(15)는 저장된 데이터(DQ)를 감지 증폭기부(100)로 전송할 수 있다. When the
커맨드/어드레스(CA)에 응답하여, 메모리 장치(10)가 읽기 동작을 수행할 때, 입출력 버퍼(15)는 감지 증폭기부(100)에 의해 감지된, 메모리 셀 어레이(12)에 저장된 데이터를 수신하고, 그리고 수신된 데이터를 일시적으로 저장할 수 있다. 입출력 버퍼(15)에 일시적으로 저장된, 메모리 셀 어레이(12)에 저장되었던 데이터는 외부 장치의 요청에 응답하여, 외부 장치로 출력될 수 있다.When the
전압 생성기(16)는 메모리 장치(10) 내에서 사용될 수 있는 다양한 전압들을 생성할 수 있다. 예를 들어, 전압 생성기(16)는 메모리 장치(10)의 외부 장치로부터 외부 전압(VEXT)을 수신할 수 있다. 전압 생성기(16)는 외부 전압(VEXT)에 기초하여, 내부 전압(VINTA) 및 풀업 기준 전압(VREF_PU)을 생성할 수 있다. 예를 들어, 내부 전압(VINTA)은 메모리 셀 어레이(12)로 인가될 수 있다.The
감지 증폭기부(100)는 메모리 셀 어레이(12)에 저장된 데이터를 감지하고, 감지된 데이터에 대응하는 전압을 증폭하고, 그리고 외부 장치의 요청에 응답하여 외부 장치로 증폭된 데이터를 출력할 수 있다. 예를 들어, 감지 증폭기부(100)는 제어 로직(11)으로부터 수신된 신호들(WLACT, WREN, PRCG) 및 전압 생성기로부터 수신된 전압들(VINTA, VREF_PU)에 기초하여, 목표 메모리 셀에 저장된 데이터를 감지할 수 있다. 감지 증폭기부(100)의 구체적인 동작은 후술된다.The
도 2는 도 1의 메모리 장치의 블록도의 일부를 좀 더 상세하게 도시한다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 메모리 장치(10)는 복수 개의 메모리 셀들이 배열된 메모리 셀 어레이(12), 메모리 셀 어레이(12)에 연결된 감지 증폭기부(100), 칼럼 선택 라인(CSL)에 연결된 복수의 트랜지스터들(CST), 및 입출력 버퍼(15)를 포함할 수 있다. 도 2는 메모리 장치(10)의 일부 구성 요소들을 도시한 것으로서, 메모리 장치(10)에 포함된 구성 요소들은 도 2에 도시된 바에 한정되지 아니한다.FIG. 2 illustrates a portion of a block diagram of the memory device of FIG. 1 in more detail. 1 and 2 , the
메모리 셀 어레이(12)에 포함된 각각의 메모리 셀은 트랜지스터 및 커패시터를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 메모리 셀(MC1)은 워드라인(WL0)에 연결된 게이트, 비트라인(BL)에 연결된 제 1 단, 및 커패시터(CS1)에 연결된 제 2 단을 포함하는 트랜지스터(TR1)를 포함할 수 있다. 제 1 메모리 셀(MC1)은 트랜지스터(TR1)의 제 2 단에 연결된 제 1 단 및 접지 전압(GND 또는 VSS) 또는 플레이트 전압(Vp; 예를 들어, 1/2 VINTA, 또는 특정(또는 미리 설정된) 전압)에 연결된 제 2 단을 포함하는 커패시터(CS1)를 포함할 수 있다. 유사한 방식으로, 제 2 메모리 셀(MC2)은 워드라인(WL1) 및 비트라인(BL)에 연결된 트랜지스터(TR2) 및 커패시터(CS2)를 포함할 수 있고, 그리고 제 3 메모리 셀(MC3)은 워드라인(WL2) 및 비트라인(BL)에 연결된 트랜지스터(TR3) 및 커패시터(CS3)를 포함할 수 있다.Each memory cell included in the
상보 비트라인(BLB)에 연결된 메모리 셀들은 비트라인(BL)에 연결된 메모리 셀들과 동일한 구조들을 가질 수 있다. 도면이 불필요하게 복잡해지는 것을 방지하기 위하여, 비트라인(BL)의 메모리 셀들 및 상보 비트라인(BLB)의 메모리 셀들은 서로 인접하게 배치된 것으로 도시되었다. 그러나 비트라인(BL)은 제 1 어레이에 배치되고, 상보 비트라인(BLB)은 제 2 어레이에 배치될 수 있다. 제 1 어레이 및 제 2 어레이의 사이에 감지 증폭기부(100)가 배치될 수 있다. 비트라인(BL)은 제 1 어레이를 향하여 신장되어 메모리 셀들에 연결되고, 상보 비트라인(BLB)은 제 2 어레이를 향하여 신장되어 메모리 셀들에 연결될 수 있다.Memory cells connected to the complementary bit line BLB may have the same structures as memory cells connected to the bit line BL. In order to avoid unnecessarily complicating the drawing, the memory cells of the bit line BL and the memory cells of the complementary bit line BLB are shown to be adjacent to each other. However, the bit lines BL may be disposed in the first array, and the complementary bit lines BLB may be disposed in the second array. The
복수의 메모리 셀들 각각은 외부 장치로부터 입력되는 데이터(DQ)를 외부 장치로부터 수신되는 커맨드/어드레스(CA)에 응답하여 저장할 수 있다. 예를 들어, 외부 장치가 제 1 메모리 셀(MC1)에 데이터 '1'을 저장하고 싶은 경우, 외부 장치는 제 1 메모리 셀(MC1)을 가리키는 로우 어드레스(ADDR_R), 칼럼 어드레스(ADDR_C), 및 쓰기 커맨드를 포함하는 커맨드/어드레스(CA) 및 데이터 '1'을 포함하는 데이터(DQ)를 메모리 장치(10)로 전송할 수 있다. 메모리 장치(10)는 수신된 커맨드/어드레스(CA) 및 데이터(DQ)에 응답하여, 제 1 메모리 셀(MC1)에 포함된 커패시터(CS1)에 데이터 '1'에 대응하는 전압을 충전할 수 있다.Each of the plurality of memory cells may store data DQ input from the external device in response to a command/address CA received from the external device. For example, when the external device wants to store data '1' in the first memory cell MC1 , the external device has a row address ADDR_R, a column address ADDR_C, and A command/address CA including a write command and data DQ including data '1' may be transmitted to the
상보 비트라인(BL)에 연결된 메모리 셀들은 비트라인(BL)에 연결된 메모리 셀들과 상보적인 데이터를 저장할 수 있다. 비트라인(BL)의 특정한 메모리 셀에 데이터 '1'이 저장될 때, 상보 비트라인(BLB)의 대응하는 메모리 셀에 데이터 '0'이 저장될 수 있다. 마찬가지로, 비트라인(BL)의 특정한 메모리 셀에 데이터 '0'이 저장될 때, 상보 비트라인(BLB)의 대응하는 메모리 셀에 데이터 '1'이 저장될 수 있다.Memory cells connected to the complementary bit line BL may store data complementary to the memory cells connected to the bit line BL. When data '1' is stored in a specific memory cell of the bit line BL, data '0' may be stored in a corresponding memory cell of the complementary bit line BLB. Similarly, when data '0' is stored in a specific memory cell of the bit line BL, data '1' may be stored in a corresponding memory cell of the complementary bit line BLB.
도시된 실시 예에서, 비트라인(BL) 및 상보 비트라인(BLB)의 하나의 쌍이 예시되었다. 그러나 비트라인(BL) 및 상보 비트라인(BLB)의 쌍들은 복수 개 제공되고, 그리고 복수의 메모리 셀들에 연결될 수 있다.In the illustrated embodiment, one pair of a bit line BL and a complementary bit line BLB is illustrated. However, a plurality of pairs of the bit line BL and the complementary bit line BLB may be provided and may be connected to a plurality of memory cells.
도시된 실시 예에서, 메모리 셀 어레이(12)는 소자 분리막(TRENCH)을 더 포함할 수 있다. 소자 분리막(TRENCH)은 메모리 셀 어레이(12)에 포함된 복수의 메모리 셀들 각각을 서로 격리(isolate)시킬 수 있다. 예를 들어, 제 1 메모리 셀(MC1)은 제 2 메모리 셀(MC2)과 소자 분리막(TRENCH)에 의해 서로 전기적으로 격리될 수 있다. 소자 분리막(TRENCH)은 절연체로 구현될 수 있다.In the illustrated embodiment, the
도시된 실시 예에서, 복수의 메모리 셀들이 각각 포함하는 트랜지스터는 플로팅 바디(floating body) 구조일 수 있다. 예를 들어, 제 1 메모리 셀(MC1)에 포함된 트랜지스터(TR1)의 바디(Body; 또는 기판(Substrate), 벌크(Bulk))에는 전압이 인가되지 않을 수 있다. 예를 들어, 트랜지스터(TR1)의 바디는 전기적으로 플로팅(floating)될 수 있다. 그러나 개시되는 발명은 도시된 실시 예에 한정되지 아니하며, 도시된 바와 달리 메모리 셀에 포함된 트랜지스터의 바디에 전압이 인가될 수도 있다.In the illustrated embodiment, the transistors included in each of the plurality of memory cells may have a floating body structure. For example, no voltage may be applied to the body (or the substrate, bulk) of the transistor TR1 included in the first memory cell MC1 . For example, the body of the transistor TR1 may be electrically floating. However, the disclosed invention is not limited to the illustrated embodiment, and a voltage may be applied to the body of the transistor included in the memory cell unlike the illustrated embodiment.
감지 증폭기부(100)는 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110), 비트라인 감지 증폭기(120), 및 전압 균등화 회로(130)를 포함할 수 있다. 비트라인 감지 증폭기(120)는 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)의 제어 하에, 복수의 메모리 셀들 중 목표 메모리 셀에 포함된 커패시터에 저장된 데이터에 대응하는 전압을 감지하고, 그리고 증폭할 수 있다. 다시 말해서, 비트라인 감지 증폭기(120)는 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)의 제어 하에, 메모리 셀 어레이(12)에 저장된 데이터를 읽고, 읽은 데이터를 증폭하고, 그리고 일시적으로 저장할 수 있다. 비트라인 감지 증폭기(120) 및 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)의 구체적인 동작은 후술된다.The
전압 균등화 회로(130)는 비트라인 감지 증폭기(120)의 감지(sensing) 동작 전에, 비트라인(BL) 및 상보 비트라인(BLB) 쌍에 인가된 전압을 균등화(equalization)할 수 있다. 예를 들어, 전압 균등화 회로(130)는 외부 장치로부터 수신된 프리차지 커맨드에 응답하여, 프리차지 전압(예를 들어, 메모리 장치(10)로 공급되는 구동 전압의 1/2)을 비트라인(BL)으로 전달할 수 있다. 이에 따라, 비트라인(BL)이 프리차지 전압으로 미리 충전될 수 있다.The
칼럼 선택 라인(CSL)은 복수의 트랜지스터들(CST) 각각의 게이트에 연결될 수 있다. 칼럼 선택 라인(CSL)은 외부 장치로부터 수신된 커맨드/어드레스(CA)에 응답하여 목표 메모리 셀에 연결된 칼럼(또는 비트라인)에 대응하는 트랜지스터(CST)를 턴-온할 수 있다. 이에 따라, 비트라인 감지 증폭기(120)에 의해 감지되고 증폭된 전압(즉, 목표 메모리 셀에 저장된 데이터)이 입출력 버퍼(15)로 턴-온된 트랜지스터(CST)를 거쳐 전송될 수 있다.The column selection line CSL may be connected to a gate of each of the plurality of transistors CST. The column selection line CSL may turn on a transistor CST corresponding to a column (or bit line) connected to a target memory cell in response to a command/address CA received from an external device. Accordingly, the voltage sensed and amplified by the bit line sense amplifier 120 (ie, data stored in the target memory cell) may be transmitted to the input/
일 실시 예에 있어서, 커맨드/어드레스(CA)에 응답하여 도 2의 워드라인(WL0)만이 활성화되고, 그리고 워드라인들(WL1, WL2)은 활성화되지 않을 수 있다. 즉, 워드라인(WL0)으로는 트랜지스터(TR1)가 턴-온될 정도로 충분히 큰 전압이 공급되고, 그리고 워드라인들(WL1, WL2)로는 그보다 작은 전압이 공급될 수 있다. 이에 따라, 워드라인(WL0)으로 연결된 트랜지스터(TR1)는 턴-온되고, 그리고 트랜지스터들(TR2, TR3)은 턴-온되지 않을 수 있다.In an embodiment, only the word line WL0 of FIG. 2 may be activated in response to the command/address CA, and the word lines WL1 and WL2 may not be activated. That is, a voltage sufficiently high enough to turn on the transistor TR1 may be supplied to the word line WL0, and a voltage smaller than that may be supplied to the word lines WL1 and WL2. Accordingly, the transistor TR1 connected to the word line WL0 may be turned on, and the transistors TR2 and TR3 may not be turned on.
워드라인(WL0)이 활성화된 이후, 감지 증폭기부(100)에 의해 비트라인(BL) 및 상보 비트라인(BLB)이 디벨롭될 수 있다. 예를 들어, 비트라인(BL) 및 상보 비트라인(BLB)의 전압은 전원 전압 또는 접지 전압이 될 수 있다. 예시적으로, 제 2 메모리 셀(MC2)은 데이터 '0'을 저장하고, 그리고 제 3 메모리 셀(MC3)은 데이터 '1'을 저장하고 있다고 가정하면, 커패시터(CS2)는 데이터 '0'에 대응하는 전압으로 충전되어 있고(또는 아예 충전되어 있지 않고), 그리고 커패시터(CS3)는 데이터 '1'에 대응하는 전압으로 충전되어 있을 것이다.After the word line WL0 is activated, the bit line BL and the complementary bit line BLB may be developed by the
트랜지스터들(TR2, TR3)은 턴-온되어 있지 않으므로, 트랜지스터들(TR2, TR3)에서는 채널이 형성되지 않는다. 이때, 커패시터(CS3)에 데이터 '1'에 대응하는 전압, 예를 들어 전원 전압이 충전되어 있고, 그리고 워드라인(WL2)의 전압은 트랜지스터(TR3)의 역치(문턱) 전압보다 낮다. 이로 인해 트랜지스터(TR3)의 드레인 단의 표면 또는 곡면에서 GIDL(Gate induced drain leakage)로 인하여 정공(hole)이 발생하고, 그리고 트랜지스터(TR3)의 바디에 정공이 주입될 수 있다.Since the transistors TR2 and TR3 are not turned on, channels are not formed in the transistors TR2 and TR3. At this time, a voltage corresponding to data '1', for example, a power supply voltage, is charged in the capacitor CS3 , and the voltage of the word line WL2 is lower than the threshold (threshold) voltage of the transistor TR3 . Due to this, a hole may be generated due to gate induced drain leakage (GIDL) on the surface or curved surface of the drain terminal of the transistor TR3 , and the hole may be injected into the body of the transistor TR3 .
도시된 실시 예에서, 트랜지스터들(TR2, TR3)은 플로팅 바디 구조일 수 있다. 이에 따라, GIDL에 의해 발생된 정공들이 트랜지스터(TR3)의 플로팅 바디에 누적될 수 있다. 누적된 정공들로 인하여 트랜지스터(TR3)의 바디의 전위(또는 전압)가 증가할 수 있다. 상승된 바디 전위로 인하여, 트랜지스터(TR3)의 소스 단(예를 들어, 도시된 실시 예에서, 비트라인(BL)으로 연결된 단)에 접지 전압이 인가되는 경우, 트랜지스터(TR3)의 소스 단 및 바디 사이에 순방향 바이어스의 PN 접합(Forward-Biased PN Junction)이 발생할 수 있다.In the illustrated embodiment, the transistors TR2 and TR3 may have a floating body structure. Accordingly, holes generated by the GIDL may be accumulated in the floating body of the transistor TR3 . The potential (or voltage) of the body of the transistor TR3 may increase due to the accumulated holes. When a ground voltage is applied to the source terminal of the transistor TR3 (eg, the terminal connected to the bit line BL in the illustrated embodiment) due to the raised body potential, the source terminal of the transistor TR3 and A forward-biased PN junction may occur between the bodies.
커패시터(CS3)로 인하여 데이터 '1'에 대응하는 전압이 트랜지스터(TR3)의 드레인 단에 인가되고, 그리고 트랜지스터(TR3)의 게이트에 트랜지스터(TR3)의 역치 전압보다 낮은 전압이 인가되면, 트랜지스터(TR3)의 드레인 단 및 바디 사이에 역방향 바이어스의(Reverse-Biased) PN 접합이 발생한다. 트랜지스터(TR3)의 소스 단 및 바디 사이 순방향 바이어스의 PN 접합 및 트랜지스터(TR3)의 드레인 단 및 바디 사이 역방향 바이어스의 PN 접합으로 인해, 기생 BJT 조건이 만족될 수 있다. 예를 들어, 트랜지스터(TR3)의 커패시터(CS3)로 연결된 단은 이미터(Emitter) 단으로서, 트랜지스터(TR3)의 바디는 베이스(Base) 단으로서, 그리고 트랜지스터(TR3)의 비트라인(BL)으로 연결된 단은 컬렉터(Collector) 단으로서 동작할 수 있다. 이에 따라, 트랜지스터(TR3)는 npn형 BJT로서 동작할 수 있고, 그리고 트랜지스터(TR3)의 이미터 단에서 베이스 단을 거쳐 컬렉터 단으로 전하가 이동할 수 있다. 그 결과, 트랜지스터(TR3)의 소스 단에 연결된 커패시터(CS3)에 충전되어 있던 전하가 누설됨으로써, 제 3 메모리 셀(MC3)에 저장되어 있던 데이터 '1'이 손실될 수 있다.When a voltage corresponding to data '1' is applied to the drain terminal of the transistor TR3 due to the capacitor CS3 and a voltage lower than the threshold voltage of the transistor TR3 is applied to the gate of the transistor TR3, the transistor ( A reverse-biased PN junction occurs between the drain end of TR3 and the body. Due to the forward biased PN junction between the source terminal and the body of the transistor TR3 and the reverse biased PN junction between the drain terminal and the body of the transistor TR3, the parasitic BJT condition may be satisfied. For example, the terminal connected to the capacitor CS3 of the transistor TR3 is an emitter terminal, the body of the transistor TR3 is a base terminal, and the bit line BL of the transistor TR3 is used. The stage connected to may operate as a collector stage. Accordingly, the transistor TR3 may operate as an npn-type BJT, and charges may move from the emitter end of the transistor TR3 through the base end to the collector end. As a result, the charge stored in the capacitor CS3 connected to the source terminal of the transistor TR3 leaks, so that the data '1' stored in the third memory cell MC3 may be lost.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메모리 장치는 비트라인 감지 증폭기에 의해 디벨롭되는 전압의 로우 레벨을 비트라인 감지 증폭기의 동작 도중에 일정 시간 동안 접지 전압보다 높게 유지할 수 있다. 메모리 셀에 포함된 트랜지스터의 소스 단의 전위가 접지 전압보다 높게 유지됨으로써, 상술된 GIDL 현상이 개선될 수 있다. 또한, 플로팅 바디 구조의 트랜지스터의 바디에 누적되는 정공의 양이 감소될 수 있고, 그리고 비트라인이 연결되는 단 및 바디 사이의 역방향 바이어스 PN 접합이 유지될 수 있다. 결과적으로, 메모리 셀 어레이(12)의 메모리 셀들의 누설 전류량이 줄어들 수 있고, 그리고 메모리 셀 어레이(12)의 메모리 셀들에 저장된 데이터의 손실이 방지될 수 있다. 따라서, 메모리 장치(10)의 신뢰성이 향상될 수 있다.The memory device according to an embodiment of the present invention may maintain the low level of the voltage developed by the bit line sense amplifier to be higher than the ground voltage for a predetermined time during the operation of the bit line sense amplifier. Since the potential of the source terminal of the transistor included in the memory cell is maintained higher than the ground voltage, the above-described GIDL phenomenon can be improved. In addition, the amount of holes accumulated in the body of the transistor of the floating body structure can be reduced, and the reverse bias PN junction between the end to which the bit line is connected and the body can be maintained. As a result, the amount of leakage current of the memory cells of the
도 3은 도 1의 감지 증폭기부의 블록도를 예시적으로 도시한다. 도 1 내지 도 3을 참조하면, 감지 증폭기부(100)는 비트라인 감지 증폭기(120) 및 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)를 포함할 수 있다. 도시의 편의를 위해, 도 2에서 상술된 감지 증폭기부(100)의 다른 구성 요소들(예를 들어, 전압 균등화 회로(130)) 및 주변 구성 요소들(예를 들어, 칼럼 디코더(14))은 도 3에서 도시가 생략되었다.FIG. 3 exemplarily shows a block diagram of the sense amplifier unit of FIG. 1 . 1 to 3 , the
비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)는 레귤레이터(111), 풀업 회로(112), 풀다운 회로(113), 및 펄스 생성기(114)를 포함할 수 있다. 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)는 비트라인 감지 증폭기(120)의 노드(LAB)에 연결될 수 있다. 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)는 내부 전압(VINTA), 풀업 기준 전압(VREF_PU), 워드라인 액티브 신호(WLACT), 쓰기 인에이블 신호(WREN), 및 프리차지 신호(PRCG)에 기초하여, 전압(VLAB)을 노드(LAB)로 제공할 수 있다. 이에 따라, 노드(LAB)의 전압(즉, VLAB)의 레벨은 접지 전압(VSS)과 동일해지거나, 또는 접지 전압(VSS)보다 높을 수 있다. 다시 말해서, 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)는 노드(LAB)의 전압(VLAB)을 접지 전압(VSS)보다 높게 풀업하거나, 또는 접지 전압(VSS)과 동일하도록 풀다운할 수 있다.The bit line sense
도시된 실시 예에서 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)는 풀다운 회로(113)를 포함하나, 본 발명의 다른 실시 예는 풀다운 회로(113)를 포함하지 않을 수도 있다. 이러한 실시 예에서, 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)는 노드(LAB)의 전압(VLAB)를 풀다운하지 않을 수 있다. 대안적으로, 전압(VLAB)은 후술되는 트랜지스터(MLAB1)의 동작에 기초하여 접지 전압(VSS)으로 풀다운될 수도 있다.In the illustrated embodiment, the bit line sense
비트라인 감지 증폭기(120)는 트랜지스터들(MP, MN, MSP1, MSP2, MSN1, MSN2, MLAB1)을 포함할 수 있다. 비트라인 감지 증폭기(120)는 제 1 센싱부(PSA) 및 제 2 센싱부(NSA)를 포함할 수 있다. 제 1 센싱부(PSA)는 트랜지스터들(MSP1, MSP2)을 포함할 수 있다. 제 2 센싱부(NSA)는 트랜지스터들(MSN1, MSN2)을 포함할 수 있다. 제 1 센싱부(PSA)의 트랜지스터들(MSP1, MSP2)은 PMOS로 구현될 수 있다. 제 2 센싱부(NSA)의 트랜지스터들(MSN1, MSN2)은 NMOS로 구현될 수 있다.The bit
트랜지스터(MN)는 내부 전압(VINTA)이 전압 생성기(16)로부터 인가되는 제 1 단(예를 들어, 드레인), 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN)가 펄스 생성기(114)로부터 인가되는 게이트, 및 노드(LA)로 연결되는 제 2 단(예를 들어, 소스)을 포함할 수 있다. 도시된 실시 예에서, 트랜지스터(MN)는 NMOS로 구현될 수 있다.Transistor MN has a first stage (eg, drain) to which internal voltage VINTA is applied from
트랜지스터(MSP1)는 노드(LA)로 연결된 제 1 단(예를 들어, 소스), 상보 비트라인(BLB)으로 연결된 게이트, 및 비트라인(BL)으로 연결된 제 2 단(예를 들어, 드레인)을 포함할 수 있다. 트랜지스터(MSP2)는 노드(LA)로 연결된 제 1 단(예를 들어, 소스), 비트라인(BL)으로 연결된 게이트, 및 상보 비트라인(BLB)으로 연결된 제 2 단(예를 들어, 드레인)을 포함할 수 있다. 트랜지스터(MSN1)는 비트라인(BL)으로 연결된 제 1 단(예를 들어, 드레인), 상보 비트라인(BLB)으로 연결된 게이트, 및 노드(LAB)로 연결된 제 2 단(예를 들어, 소스)을 포함할 수 있다. 트랜지스터(MSN2)는 상보 비트라인(BLB)으로 연결된 제 1 단(예를 들어, 드레인), 비트라인(BL)으로 연결된 게이트, 및 노드(LAB)로 연결된 제 2 단(예를 들어, 소스)을 포함할 수 있다.The transistor MSP1 has a first terminal (eg, source) connected to the node LA, a gate connected to a complementary bit line BLB, and a second terminal (eg, drain) connected to the bit line BL. may include The transistor MSP2 has a first end (eg, source) connected to a node LA, a gate connected to a bit line BL, and a second end (eg, drain) connected to a complementary bit line BLB. may include The transistor MSN1 has a first end (eg, drain) connected to a bit line BL, a gate connected to a complementary bit line BLB, and a second terminal (eg, source) connected to a node LAB. may include Transistor MSN2 has a first end (eg, drain) connected to a complementary bit line BLB, a gate connected to bit line BL, and a second terminal (eg, source) connected to node LAB. may include
제 1 센싱부(PSA) 및 제 2 센싱부(NSA)는 비트라인 쌍(BL, BLB)이 연결된 메모리 셀에 저장된 데이터를 감지할 수 있다. 제 1 센싱부(PSA) 및 제 2 센싱부(NSA)의 구체적인 동작은 후술된다.The first sensing unit PSA and the second sensing unit NSA may sense data stored in memory cells to which the bit line pair BL and BLB are connected. Specific operations of the first sensing unit PSA and the second sensing unit NSA will be described later.
비트라인(BL) 및 제 1 메모리 셀(MC1) 사이의 전하 공유(Charge Sharing)로 인하여, 비트라인(BL)의 전압 레벨이 전압 균등화 회로(130)에 의해 충전된 프리차지 전압에서 변동될 수 있다. 제 1 센싱부(PSA) 및 제 2 센싱부(NSA)는 비트라인(BL)의 전압 레벨의 변동을 감지할 수 있다.Due to charge sharing between the bit line BL and the first memory cell MC1 , the voltage level of the bit line BL may vary from the precharge voltage charged by the
트랜지스터(MP)는 내부 전압(VINTA)이 전압 생성기(16)로부터 인가되는 제 1 단(예를 들어, 소스), 디벨롭 신호(LAPG)가 펄스 생성기(114)로부터 인가되는 게이트, 및 노드(LA)로 연결되는 제 2 단(예를 들어, 드레인)을 포함할 수 있다. 도시된 실시 예에서, 트랜지스터(MP)는 PMOS로 구현될 수 있다.Transistor MP has a first stage (eg, source) to which internal voltage VINTA is applied from
트랜지스터(MLAB1)는 비트라인 감지 증폭기(120)의 노드(LAB)에 연결된 제 1 단(예를 들어, 드레인), 디벨롭 신호(LANG)가 펄스 생성기(114)로부터 인가되는 게이트, 및 접지 전압(VSS)이 인가되는 제 2 단(예를 들어, 소스)을 포함할 수 있다. The transistor MLAB1 has a first terminal (eg, a drain) connected to the node LAB of the bit
비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)의 레귤레이터(111)는 내부 전압(VINTA) 및 풀업 기준 전압(VREF_PU)에 기초하여 풀업 회로(112)로 공급되는 전압(예를 들어, 도 4의 풀업 게이트 전압(PU_N))의 레벨을 조정할 수 있다. 풀업 회로(112)는 레귤레이터(111)로부터 공급되는 전압 및 펄스 생성기(114)로부터 인가되는 신호에 기초하여, 전압(VLAB)의 레벨을 끌어올릴 수 있다. 풀다운 회로(113)는 펄스 생성기(114)로부터 인가되는 신호에 기초하여, 전압(VLAB)의 레벨을 접지 전압(VSS)과 동일한 레벨로 끌어내릴 수 있다. 펄스 생성기(114)는 제어 로직(11)으로부터 수신되는 신호들(WLACT, WREN, PRCG)에 기초하여 감지 증폭기부(100)에서 사용되는 다양한 신호들(예를 들어, 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN), 디벨롭 신호들(LAPG, LANG) 등)을 생성할 수 있다. 레귤레이터(111), 풀업 회로(112), 풀다운 회로(113), 및 펄스 생성기(114)의 구체적인 동작은 후술된다.The
도 4는 도 3의 비트라인 감지 증폭기 구동 회로의 회로도를 예시적으로 도시한다. 도 1 내지 도 4를 참조하면, 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)는 레귤레이터(111), 풀업 회로(112), 및 풀다운 회로(113)를 포함할 수 있다. 도시의 편의를 위해, 펄스 생성기(114)의 도시가 생략되었다.FIG. 4 exemplarily shows a circuit diagram of the bit line sense amplifier driving circuit of FIG. 3 . 1 to 4 , the bit line sense
레귤레이터(111)는 증폭기(AMPR) 및 트랜지스터(MREF)를 포함할 수 있다. 트랜지스터(MREF)는 전압 생성기(16)로부터 내부 전압(VINTA)이 인가되는 제 1 단(예를 들어, 소스), 증폭기(AMPR)의 출력단이 연결되는 게이트, 및 풀업 회로(112)로 연결되는 제 2 단(예를 들어, 드레인)을 포함할 수 있다. 도시된 실시 예에서, 트랜지스터(MREF)는 PMOS로 구현될 수 있다.The
증폭기(AMPR)는 전압 생성기(16)로부터 풀업 기준 전압(VREF_PU)이 인가되는 제 1 입력단, 트랜지스터(MREF)의 풀업 회로(112)로 연결되는 제 2 단으로 연결되는 제 2 입력단, 및 트랜지스터(MREF)의 게이트로 연결되는 출력단을 포함할 수 있다. 풀업 기준 전압(VREF_PU)은 DC 전압일 수 있다.The amplifier AMPR has a first input terminal to which the pull-up reference voltage VREF_PU is applied from the
도시된 실시 예와 달리, 본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 내부 전압(VINTA)과 다른 레벨의 전압이 트랜지스터(MREF)의 제 1 단으로 전압 생성기(16)로부터 인가될 수 있다. 예를 들어, 전압 생성기(16)는 수신된 외부 전압(VEXT)을 트랜지스터(MREF)의 제 1 단으로 인가할 수 있다.Unlike the illustrated embodiment, according to another embodiment of the present invention, a voltage of a different level from the internal voltage VINTA may be applied from the
일 실시 예에 있어서, 풀업 기준 전압(VREF_PU)의 레벨은 메모리 셀 어레이(12)가 구현되는 다이(Die; 또는 칩)의 특성에 기초하여 결정될 수 있다. 예를 들어, 풀업 기준 전압(VREF_PU)의 레벨은 PVT(Process, Voltage, Temperature) 변형들(Variation)로 인해 야기될 수 있는, 메모리 셀 어레이(12)가 구현되는 하나 이상의 다이들 각각의 물리적 특성의 차이들이 서로 상쇄될 수 있도록 결정될 수 있다. 다른 예를 들어, 풀업 기준 전압(VREF_PU)의 레벨은 하나의 다이에 있어서, 다이의 제조 공정 도중에 야기된 기판의 불균일한 표면 또는 높이 등의 공정 오류를 상쇄할 수 있도록 결정될 수도 있다.In an embodiment, the level of the pull-up reference voltage VREF_PU may be determined based on characteristics of a die (or a chip) on which the
풀업 회로(112)는 인버터들(INV1, INV2), 풀업 트랜지스터들(MPU1, MPU2, MLAB2a) 및 델타 전압 생성기(112_1)를 포함할 수 있다. 인버터(INV2)는 풀업 펄스(PU_PULSE)를 펄스 생성기(114)로부터 수신할 수 있다. 인버터(INV2)는 풀업 펄스(PU_PULSE)에 응답하여, 전압을 인버터(INV1)로 출력할 수 있다. 인버터(INV1)는 인버터(INV2)로부터 수신된 전압 및 트랜지스터(MREF)의 제 2 단으로부터 수신된 전압에 기반하여, 풀업 게이트 전압(PU_N)을 풀업 트랜지스터(MPU2)의 게이트로 출력할 수 있다.The pull-up
풀업 트랜지스터(MPU1)는 전압 생성기(16)으로부터 내부 전압(VINTA)이 인가되는 제 1 단(예를 들어, 드레인), 풀업 펄스(PLABUP)가 인가되는 게이트, 및 풀업 트랜지스터(MPU2)의 제 1 단(예를 들어, 드레인)으로 연결되는 제 2 단(예를 들어, 소스)을 포함할 수 있다. 도시된 실시 예에서, 풀업 트랜지스터(MPU1)는 NMOS로 구현될 수 있다.The pull-up transistor MPU1 has a first terminal (eg, drain) to which an internal voltage VINTA is applied from the
풀업 펄스(PLABUP)가 풀업 트랜지스터(MPU1)의 게이트로 인가되지 않으면, 풀업 트랜지스터(MPU1)의 제 1 단에서 제 2 단으로 전류가 흐르지 않는다. 따라서, 풀업 펄스(PLABUP)가 펄스 생성기(114)로부터 인가되지 않는 구간 동안, 풀업 트랜지스터(MPU1)로부터 풀업 트랜지스터(MPU2)로 전류가 누설되는 것이 방지될 수 있다. 결과적으로, 풀업 펄스(PLABUP)가 인가되지 않는 경우에, 내부 전압(VINTA)에 기초한 전류가 풀업 트랜지스터들(MPU1, MPU2)을 거쳐 비트라인 감지 증폭기(120)로 누설되는 것이 방지될 수 있다.If the pull-up pulse PLABUP is not applied to the gate of the pull-up transistor MPU1 , no current flows from the first end to the second end of the pull-up transistor MPU1 . Accordingly, it is possible to prevent current from leaking from the pull-up transistor MPU1 to the pull-up transistor MPU2 during a period in which the pull-up pulse PLABUP is not applied from the
풀업 트랜지스터(MPU2)는 풀업 트랜지스터(MPU1)의 제 2 단으로 연결된 제 1 단, 풀업 게이트 전압(PU_N)이 인가되는 게이트, 및 풀업 트랜지스터(MLAB2a)의 제 1 단(예를 들어, 드레인) 및 노드(LAB)로 연결되는 제 2 단(예를 들어, 소스)을 포함할 수 있다. 풀업 게이트 전압(PU_N)의 크기가 풀업 트랜지스터(MPU2)의 역치 전압의 크기보다 크면, 풀업 트랜지스터(MPU2)가 턴-온될 수 있다. 도시된 실시 예에서, 풀업 트랜지스터(MPU2)는 NMOS로 구현될 수 있다.The pull-up transistor MPU2 includes a first terminal connected to the second terminal of the pull-up transistor MPU1, a gate to which the pull-up gate voltage PU_N is applied, and a first terminal (eg, drain) of the pull-up transistor MLAB2a, and It may include a second end (eg, a source) connected to the node LAB. When the magnitude of the pull-up gate voltage PU_N is greater than the magnitude of the threshold voltage of the pull-up transistor MPU2 , the pull-up transistor MPU2 may be turned on. In the illustrated embodiment, the pull-up transistor MPU2 may be implemented as an NMOS.
풀업 트랜지스터(MLAB2a)는 풀업 트랜지스터(MPU2)의 제 2 단 및 노드(LAB)로 연결되는 제 1 단(예를 들어, 드레인), 풀업 펄스(PLABUP)가 인가되는 게이트, 및 델타 전압 생성기(112_1)로 연결되는 제 2 단(예를 들어, 소스)을 포함할 수 있다.The pull-up transistor MLAB2a includes a second end of the pull-up transistor MPU2 and a first end (eg, a drain) connected to the node LAB, a gate to which the pull-up pulse PLABUP is applied, and a delta voltage generator 112_1 ) may include a second end (eg, a source) connected to.
델타 전압 생성기(112_1)는 접지 전압(VSS)보다 델타 전압(예를 들어, 도 6a의 dVLABa 또는 도 6b의 dVLABb)만큼 높은 전압(VLAB)을 풀업 트랜지스터(MLAB2a)를 통해 노드(LAB)로 제공할 수 있다. 결과적으로, 풀업 회로(112)는 풀업 펄스들(PU_PULSE, PLABUP)에 응답하여, 델타 전압 생성기(112_1)에서 생성된 전압을 노드(LAB)로 공급함으로써, 노드(LAB)의 전압(VLAB)을 접지 전압에서 접지 전압보다 큰 전압으로 끌어올릴 수 있다. 델타 전압 생성기(112_1)의 구체적인 동작은 도 6a 및 도 6b를 참조하여 후술된다.The delta voltage generator 112_1 provides a voltage VLAB higher than the ground voltage VSS by a delta voltage (eg, dVLABa in FIG. 6A or dVLABb in FIG. 6B ) to the node LAB through the pull-up transistor MLAB2a. can do. As a result, the pull-up
풀다운 회로(113)는 풀다운 트랜지스터(MPD)를 포함할 수 있다. 풀다운 트랜지스터(MPD)는 노드(LAB)로 연결된 제 1 단(예를 들어, 드레인), 풀다운 펄스(PLABDN)가 펄스 생성기(114)로부터 인가되는 게이트, 및 접지 전압으로 연결된 제 2 단(예를 들어, 소스)을 포함할 수 있다.The pull-
도 5는 도 3의 비트라인 감지 증폭기 구동 회로에 인가되는 신호, 비트라인 감지 증폭기 구동 회로에서 사용되는 신호들, 비트라인의 전압, 및 상보 비트라인의 전압의 파형의 타이밍도를 예시적으로 도시한다. 도 1 내지 도 4를 참조하여 도 5가 설명된다.5 exemplarily shows a timing diagram of a waveform of a signal applied to the bit line sense amplifier driving circuit of FIG. 3, signals used in the bit line sense amplifier driving circuit, a voltage of a bit line, and a voltage of a complementary bit line do. FIG. 5 is described with reference to FIGS. 1 to 4 .
제 1 페이즈(Phase1) 또는 전하 공유 동작 모드에서, 워드라인(예를 들어, WL0)을 활성화할 것을 요청하는 커맨드/어드레스(CA)에 응답하여, 제어 로직(11)은 워드라인 액티브 신호(WLACT)를 생성할 수 있다. 도시된 실시 예에서, 워드라인 액티브 신호(WLACT)의 하이 레벨은 시간(tCgShr) 동안 지속될 수 있다. 워드라인 액티브 신호(WLACT)에 응답하여, 비트라인(BL)에 미리 충전된 전압(VBL) 및 워드라인(WL0) 및 비트라인(BL)에 연결된 메모리 셀(예를 들어, MC1)의 커패시터(예를 들어, CS1)에 충전된 전압 사이에 전하 공유가 야기될 수 있다.In the first phase (Phase1) or the charge sharing operation mode, in response to the command/address CA requesting to activate the word line (eg, WLO), the
예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 메모리 장치(10)는 외부 장치로부터 도 2의 제 1 메모리 셀(MC1)이 연결된 워드라인(WL0)에 대한 액세스 요청을 수신할 수 있다. 이 경우, 메모리 장치(10)는 제 1 메모리 셀(MC1)의 로우 어드레스(ADDR_R) 및 액티브 커맨드를 포함하는 커맨드/어드레스(CA)를 수신할 수 있다. 수신된 커맨드/어드레스(CA)에 응답하여, 워드라인(WL0)으로 메모리 장치(10)의 구동 전압보다 메모리 셀들 각각에 포함된 트랜지스터의 턴-온 전압만큼 높은 레벨 이상의 전압이 공급될 수 있다. 이에 따라, 워드라인(WL0)으로 연결된 트랜지스터들(예를 들어, TR1)이 턴-온될 수 있다.For example, as shown in FIG. 2 , the
제 1 메모리 셀(MC1)에 데이터 '1'이 저장되어 있다고 가정하면, 트랜지스터(TR1)가 턴-온 됨에 따라, 커패시터(CS1)에 충전되어 있던 (데이터 '1'에 대응하는) 전압이 트랜지스터(TR1)를 통해 비트라인(BL)으로 전달될 수 있다. 반면에, 제 1 메모리 셀(MC1)에 데이터 '0'이 저장되어 있다고 가정하면(즉, 커패시터(CS1)가 충전되어 있지 않으면), 트랜지스터(TR1)가 턴-온 됨에 따라, 비트라인(BL)에 충전되어 있던 전압이 커패시터(CS1)로 전달될 수 있다. 다시 말해서, 워드라인(WL0)이 활성화됨에 따라, 전압 균등화 회로(130)에 의해 충전된 비트라인(BL)의 전하 및 제 1 메모리 셀(MC1)의 커패시터(CS1)의 전하 사이에서 전하 공유(Charge Sharing)가 발생할 수 있다.Assuming that data '1' is stored in the first memory cell MC1, as the transistor TR1 is turned on, the voltage (corresponding to the data '1') charged in the capacitor CS1 is increased in the transistor It may be transmitted to the bit line BL through TR1. On the other hand, if it is assumed that data '0' is stored in the first memory cell MC1 (ie, the capacitor CS1 is not charged), as the transistor TR1 is turned on, the bit line BL ) may be transferred to the capacitor CS1. In other words, as the word line WL0 is activated, a charge is shared between the charge of the bit line BL charged by the
제 2 페이즈(Phase2)에서, 또는 감지 동작 모드에서, 워드라인 액티브 신호(WLACT)가 하이 레벨로 바뀐 시점으로부터 시간(tCgShr) 이후에, 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN) 및 디벨롭 신호(LANG)가 하이 레벨을 가질 수 있고, 그리고 디벨롭 신호(LAPG)는 로우 레벨을 가질 수 있다.In the second phase (Phase2) or in the sensing operation mode, after a time tCgShr from the point in time when the word line active signal WLACT changes to the high level, the bit line sense amplifier enable signal BLSA_EN and the develop signal LANG) may have a high level, and the develop signal LAPG may have a low level.
디벨롭 신호(LAPG)의 로우 레벨에 응답하여, 비트라인 감지 증폭기(120)의 트랜지스터(MP)가 턴-온될 수 있다. 예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이, 디벨롭 신호(LAPG)가 트랜지스터(MP)의 게이트로 인가되면, 트랜지스터(MP)를 통해 내부 전압(VINTA)이 비트라인 감지 증폭기(120)의 제 1 센싱부(PSA)로 공급될 수 있다. 이에 따라, 비트라인(BL)의 전압 레벨이 상승될 수 있다. 이때, 상승된 비트라인(BL)의 전압 레벨은 데이터 '1'에 대응하는 전압 레벨일 수 있다. 다시 말해서, 비트라인 감지 증폭기(120)는 비트라인(BL)의 전압을 데이터 '1'에 대응하는 전압으로 디벨롭 신호(LAPG)에 응답하여 디벨롭할 수 있다.In response to the low level of the develop signal LAPG, the transistor MP of the bit
비트라인 감지증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN)의 하이 레벨에 응답하여, 트랜지스터(MN)가 턴-온될 수 있다. 예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이, 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN)가 트랜지스터(MN)로 인가되면, 트랜지스터(MN)를 통해 내부 전압(VINTA)이 비트라인 감지 증폭기(120)로 전달될 수 있다. 이에 따라, 비트라인 감지 증폭기(120)가 구동될 수 있다.In response to the high level of the bit line sense amplifier enable signal BLSA_EN, the transistor MN may be turned on. For example, as shown in FIG. 3 , when the bit line sense amplifier enable signal BLSA_EN is applied to the transistor MN, the internal voltage VINTA is applied to the bit
디벨롭 신호(LANG)에 응답하여, 트랜지스터(MLAB1)가 턴-온될 수 있다. 이에 따라, 비트라인(BL)의 전압(VBL)은 상승할 수 있고, 그리고 상보 비트라인(BLB)의 전압(VBLB)는 하강할 수 있다. (데이터 '1'에 대응)In response to the develop signal LANG, the transistor MLAB1 may be turned on. Accordingly, the voltage VBL of the bit line BL may rise, and the voltage VBLB of the complementary bit line BLB may fall. (corresponds to data '1')
제 3 페이즈(Phase3)에서, 풀업 펄스들(PLABUP, PU_PULSE)이 로우 레벨에서 하이 레벨로 바뀔 수 있고, 그리고 디벨롭 신호(LANG)가 하이 레벨에서 로우 레벨로 바뀔 수 있다. 풀업 펄스(PU_PULSE)에 응답하여, 풀업 게이트 전압(PU_N)이 풀업 트랜지스터(MPU2)로 인가될 수 있다. 예를 들어, 읽기 동작 쓰기 동작이 제 3 페이즈(Phase3)에서 수행될 수 있다.In a third phase (Phase3), the pull-up pulses PLABUP and PU_PULSE may change from a low level to a high level, and the develop signal LANG may change from a high level to a low level. In response to the pull-up pulse PU_PULSE, the pull-up gate voltage PU_N may be applied to the pull-up transistor MPU2 . For example, a read operation and a write operation may be performed in the third phase (Phase3).
예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 풀업 펄스(PLABUP)가 풀업 트랜지스터(MLAB2a)로 인가되면, 풀업 트랜지스터(MLAB2a)가 턴-온될 수 있다. 이에 따라, 델타 전압 생성기(112_1)에서 생성된 전압(VLAB)이 풀업 트랜지스터(MLAB2a)를 거쳐 노드(LAB)로 제공될 수 있다.For example, as shown in FIG. 4 , when the pull-up pulse PLABUP is applied to the pull-up transistor MLAB2a, the pull-up transistor MLAB2a may be turned on. Accordingly, the voltage VLAB generated by the delta voltage generator 112_1 may be provided to the node LAB through the pull-up transistor MLAB2a.
일 실시 예에 있어서, 풀업 펄스들(PLABUP, PU_PULSE)은 펄스 생성기(114)가 제어 로직(11)으로부터 워드라인 액티브 신호(WLACT)를 수신한 시점으로부터 최소한 시간(tRCD) 이후에 하이 레벨로 바뀔 수 있다. 시간(tRCD)은 액티브 커맨드 발행 및 읽기/쓰기 커맨드 발행 사이의 시간일 수 있다. 시간(tRCD)은 감지 증폭기부(100)가 제 1 메모리 셀(MC1)에 저장된 데이터를 감지하고 증폭하는 데 필요한 시간일 수 있다. 워드라인 액티브 신호(WLACT)는 (예를 들어, 선택된 워드라인(WL0에 대한), 액티브 커맨드에 응답하여 하이 레벨로 바뀔 수 있다. 이에 따라, 시간(tRCD)이 충분하게 보장될 수 있다. 풀업 펄스(PU_PULSE)는 하이 레벨을 시간(tA)동안 가질 수 있다. 시간(tA)은 조정 가능한 지연 회로(DA)에 의해 지연되는 조정 지연 시간일 수 있다.In an embodiment, the pull-up pulses PLABUP and PU_PULSE are changed to a high level after at least a time tRCD from a point in time when the
디벨롭 신호(LANG)의 로우 레벨에 응답하여, 트랜지스터(MLAB1)가 턴-오프될 수 있다. 풀업 펄스들(PU_PULSE, PLABUP) 및 풀업 게이트 전압(PU_N)에 응답하여, 풀업 트랜지스터들(MPU1, MPU2, MLAB2a)이 턴-온될 수 있다. 이에 따라, 상보 비트라인(BLB)의 전압(VBLB)이 접지 전압(GND)으로부터 델타 전압 생성기(112_1)에 의해 생성된 델타 전압(dVLAB)만큼 끌어올려질 수 있다.In response to the low level of the develop signal LANG, the transistor MLAB1 may be turned off. In response to the pull-up pulses PU_PULSE and PLABUP and the pull-up gate voltage PU_N, the pull-up transistors MPU1 , MPU2 , and MLAB2a may be turned on. Accordingly, the voltage VBLB of the complementary bit line BLB may be raised from the ground voltage GND by the delta voltage dVLAB generated by the delta voltage generator 112_1.
시간(tA)이 지난 후에 풀업 펄스(PU_PULSE)가 다시 로우 레벨을 갖게 되면, 풀업 게이트 전압(PU_N)의 크기가 감소될 수 있다. 이에 따라, 풀업 트랜지스터(MPU2)가 턴-오프 될 수 있다. 풀업 트랜지스터(MPU2)가 턴-오프 되면, 델타 전압(dVLAB)이 비트라인 감지 증폭기(120)로 공급되지 않을 수 있다. 이에 따라, 상보 비트라인(BLB)의 전압(VBLB)이 일정 시간이 지난 후에 다시 접지 전압(VSS) 레벨로 감소할 수 있다.When the pull-up pulse PU_PULSE has a low level again after the time tA has elapsed, the magnitude of the pull-up gate voltage PU_N may be reduced. Accordingly, the pull-up transistor MPU2 may be turned off. When the pull-up transistor MPU2 is turned off, the delta voltage dVLAB may not be supplied to the bit
워드라인 액티브 신호(WLACT)에 의해 활성화된 워드라인(예를 들어, WL0) 및 비트라인(BL)이 연결된 메모리 셀(예를 들어, MC1)에 데이터를 쓰기 위한 커맨드/어드레스(CA)에 응답하여, 제어 로직(11)은 쓰기 인에이블 신호(WREN)를 생성할 수 있다. 쓰기 인에이블 신호(WREN)에 응답하여, 쓰기 칼럼 선택 신호(WRITE_CSL)가 칼럼 선택 라인(CSL)으로 인가될 수 있다. 쓰기 칼럼 선택 신호(WRITE_CSL)에 응답하여, 감지 증폭기부(100)는 새로운 데이터를 목표 메모리 셀에 쓸 수 있다. 예를 들어, 감지 증폭기부(100)는 복수의 비트라인들 중 쓰기 칼럼 선택 신호(WRITE_CSL)에 대응하는 비트라인(예를 들어, BL)에 연결된 메모리 셀(예를 들어, MC1)의 커패시터(예를 들어, CS1)에 새로운 데이터에 대응하는 전압을 충전할 수 있다.In response to the command/address CA for writing data to the memory cell (eg, MC1 ) to which the word line (eg, WL0) and the bit line (BL) activated by the word line active signal WLACT are connected Accordingly, the
또는, 감지 증폭기부(100)는 워드라인 액티브 신호(WLACT)에 의해 활성화된 워드라인(예를 들어, WL0)에 연결된 메모리 셀들 각각에 저장되었던 데이터를 다시 메모리 셀들 각각으로 복원(Restore)할 수 있다. 예를 들어, 감지 증폭기부(100)는 비트라인 감지 증폭기(120)에 의해 감지된 데이터에 대응하는 전압을 다시 메모리 셀들에 포함된 커패시터들로 각각 충전할 수 있다.Alternatively, the
쓰기 칼럼 선택 신호(WRITE_CSL)의 하이 레벨에 대응하여, 새로운 데이터를 쓰는 동작을 수행하기 위해, 일정 시간 동안 비트라인(BL) 또는 상보 비트라인(BLB)의 전압(VBL/VBLB)의 레벨이 접지 전압(VSS)의 레벨로 풀다운될 필요가 있을 수 있다. 도시된 실시 예에서는, 상보 비트라인(BLB)의 전압(VBLB)의 레벨이 접지 전압(VSS)의 레벨로 풀다운되었다.In response to the high level of the write column selection signal WRITE_CSL, the level of the voltages VBL/VBLB of the bit line BL or the complementary bit line BLB is grounded for a predetermined time in order to write new data. It may need to be pulled down to the level of voltage VSS. In the illustrated embodiment, the level of the voltage VBLB of the complementary bit line BLB is pulled down to the level of the ground voltage VSS.
쓰기 칼럼 선택 신호(WRITE_CSL)가 하이 레벨로 바뀐 시점으로부터 시간(tWRITE)가 지난 후에, 풀업 펄스(PU_PULSE)가 시간(tB)동안 하이 레벨을 가질 수 있다. 시간(tWRITE)은 감지 증폭기부(100)가 새로운 데이터를 목표 메모리 셀에 쓰는데 필요한 시간일 수 있다. 시간(tB)은 조정 가능한 지연 회로(DA)에 의해 지연되는 조정 지연 시간일 수 있다.After a time tWRITE elapses from a time point when the write column selection signal WRITE_CSL changes to a high level, the pull-up pulse PU_PULSE may have a high level for a time tB. The time tWRITE may be a time required for the
풀업 펄스(PU_PULSE)에 응답하여, 풀업 게이트 전압(PU_N)이 풀업 트랜지스터(MPU2)로 인가될 수 있다. 풀업 트랜지스터(MPU2)는 풀업 게이트 전압(PU_N)에 응답하여 다시 턴-온될 수 있다. 이에 따라, 델타 전압(dVLAB)이 비트라인 감지 증폭기(120)로 델타 전압 생성기(112_1)에 의해 공급될 수 있고, 그리고 결과적으로 상보 비트라인(BLB)의 전압(VBLB)이 델타 전압(dVLAB)만큼 다시 끌어올려질 수 있다.In response to the pull-up pulse PU_PULSE, the pull-up gate voltage PU_N may be applied to the pull-up transistor MPU2 . The pull-up transistor MPU2 may be turned on again in response to the pull-up gate voltage PU_N. Accordingly, the delta voltage dVLAB can be supplied by the delta voltage generator 112_1 to the
몇몇 실시 예들에 있어서, 제 3 페이즈(Phase3)에서, 메모리 장치(10)는 읽기 동작을 커맨드/어드레스(CA)에 응답하여 수행할 수 있다. 예를 들어, 외부 장치는 커맨드/어드레스(CA)를 전송할 수 있으며, 커맨드/어드레스(CA)는 읽기 커맨드 및 제 1 메모리 셀을 나타내는 칼럼 어드레스(ADDR_C)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 메모리 장치(10)는 읽기 동작을 커맨드/어드레스(CA)에 응답하여 수행할 수 있다. 읽기 동작에서, 감지 증폭기부(100)는 비트라인(BL)의 전압 및 상보 비트라인(BLB) 사이의 차이의 증폭된 데이터를 입출력 버퍼(15)로 전송할 수 있다.In some embodiments, in the third phase (Phase3), the
제어 로직(11)은 프리차지 동작을 요청하는 커맨드/어드레스(CA)에 응답하여, 프리차지 신호(PRCG)를 감지 증폭기부(100)로 전송할 수 있다.The
제 4 페이즈(Phase4)에서, 또는 프리차지 동작 모드에서, 풀업 펄스(PLABUP)는 로우 레벨로 바뀔 수 있고, 그리고 디벨롭 신호(LANG) 및 풀다운 펄스(PLABDN)는 하이 레벨을 가질 수 있다. 디벨롭 신호(LANG)의 하이 레벨에 응답하여, 트랜지스터(MLAB1)가 턴-온될 수 있다. 풀다운 펄스(PLABDN)의 하이 레벨에 응답하여, 풀다운 트랜지스터(MPD)가 턴-온될 수 있다. 예를 들어, 풀다운 펄스(PLABDN)가 풀다운 트랜지스터(MPD)로 인가되면, 풀다운 트랜지스터(MPD)가 턴-온될 수 있다. 이에 따라, 노드(LAB)의 전압(VLAB)이 접지 전압으로 끌어내려질 수 있다. 다시 말해서, 풀다운 회로(113)는 펄스 생성기(114)로부터 수신된 풀다운 펄스(PLABDN)에 응답하여 전압(VLAB)을 풀다운할 수 있다. 트랜지스터들(MLAB1, MPD)이 턴-온됨에 따라, 상보 비트라인(BLB)의 전압(VBLB)이 접지 전압(VSS)의 레벨로 풀다운 될 수 있다.In the fourth phase (Phase4) or in the precharge operation mode, the pull-up pulse PLABUP may change to a low level, and the develop signal LANG and the pull-down pulse PLABDN may have a high level. In response to the high level of the develop signal LANG, the transistor MLAB1 may be turned on. In response to the high level of the pull-down pulse PLABDN, the pull-down transistor MPD may be turned on. For example, when the pull-down pulse PLABDN is applied to the pull-down transistor MPD, the pull-down transistor MPD may be turned on. Accordingly, the voltage VLAB of the node LAB may be brought down to the ground voltage. In other words, the pull-
도시된 실시 예에서, 디벨롭 신호(LANG) 및 풀다운 펄스(PLABDN)는 시간(tWR) 동안 하이 레벨을 가질 수 있다. 이에 따라, 메모리 장치(10)가 쓰기 복원 동작을 수행하는데 필요한 시간(tWR)이 충분히 보장될 수 있다.In the illustrated embodiment, the develop signal LANG and the pull-down pulse PLABDN may have a high level for a time tWR. Accordingly, a time tWR required for the
디벨롭 신호(LANG) 및 풀다운 펄스(PLABDN)가 하이 레벨로 바뀐 시점으로부터 시간(tWR)이 지난 후에, 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN), 디벨롭 신호(LANG), 및 풀다운 펄스(PLABDN)는 로우 레벨로 바뀔 수 있고, 그리고 디벨롭 신호(LAPG)는 하이 레벨로 바뀔 수 있다. 이에 따라, 비트라인 감지 증폭기(120)로 내부 전압(VINTA)이 공급되지 않을 수 있다. 다시 말해서, 비트라인 감지 증폭기(120)가 비활성화될 수 있다. 프리차지 신호(PRCG)에 응답하여, 전압 균등화 회로(130)에 의해 비트라인(BL) 및 상보 비트라인(BLB)의 전압들(VBL, VBLB)이 프리차지 전압으로 충전될 수 있다.After a time tWR has elapsed from the point in time when the develop signal LANG and the pull-down pulse PLABDN change to the high level, the bit line sense amplifier enable signal BLSA_EN, the develop signal LANG, and the pull-down pulse PLABDN ) may change to a low level, and the develop signal LAPG may change to a high level. Accordingly, the internal voltage VINTA may not be supplied to the bit
도 6a는 본 발명의 일 실시 예에 따라, 도 4의 풀업 회로를 좀 더 상세하게 도시한다. 도 6b는 본 발명의 다른 실시 예에 따라, 도 4의 풀업 회로를 좀 더 상세하게 도시한다. 도 1 내지 도 4, 도 6a, 및 도 6b를 참조하면, 풀업 회로(112)는 델타 전압 생성기(112_1a/112_1b)를 포함할 수 있다.6A illustrates the pull-up circuit of FIG. 4 in more detail, according to an embodiment of the present invention. 6B illustrates the pull-up circuit of FIG. 4 in more detail according to another embodiment of the present invention. 1 to 4 , 6A, and 6B , the pull-up
도 6a에 도시된 실시 예에서, 델타 전압 생성기(112_1a)는 트랜지스터들(MLAB2n, MLAB2p) 및 증폭기들(AMPn, AMPp)을 포함할 수 있다. 도시된 실시 예에서, 트랜지스터(MLAB2n)는 NMOS로 구현될 수 있고, 그리고 트랜지스터(MLAB2p)는 PMOS로 구현될 수 있다. 도시된 실시 예에서, 증폭기들(AMPn, AMPp)은 AB급(Class AB) 증폭기 또는 B급(Class B) 증폭기로 구현될 수 있다.In the embodiment shown in FIG. 6A , the delta voltage generator 112_1a may include transistors MLAB2n and MLAB2p and amplifiers AMPn and AMPp. In the illustrated embodiment, the transistor MLAB2n may be implemented as an NMOS, and the transistor MLAB2p may be implemented as a PMOS. In the illustrated embodiment, the amplifiers AMPn and AMPp may be implemented as a Class AB amplifier or a Class B amplifier.
트랜지스터(MLAB2n)는 풀업 트랜지스터(MLAB2a)의 제 2 단으로 연결된 제 1 단(예를 들어, 드레인), 증폭기(AMPn)의 출력단에 연결된 게이트, 및 접지 전압(VSS)으로 연결된 제 2 단(예를 들어, 소스)을 포함할 수 있다. 트랜지스터(MLAB2p)는 전압(VDD1)이 인가되는 제 1 단(예를 들어, 소스), 증폭기(AMPp)의 출력단에 연결된 게이트, 및 풀업 트랜지스터(MLAB2a)의 제 2 단으로 연결된 제 2 단(예를 들어, 드레인)을 포함할 수 있다.The transistor MLAB2n has a first terminal (eg, drain) connected to the second terminal of the pull-up transistor MLAB2a, a gate connected to the output terminal of the amplifier AMPn, and a second terminal (eg, connected to the ground voltage VSS). For example, the source) may be included. The transistor MLAB2p has a first terminal (eg, source) to which the voltage VDD1 is applied, a gate connected to the output terminal of the amplifier AMPp, and a second terminal (eg, connected to the second terminal) of the pull-up transistor MLAB2a. For example, drain) may be included.
증폭기(AMPn)는 기준 전압(VREF_VLAB)이 인가되는 제 1 입력단, 풀업 트랜지스터(MLAB2a)의 제 2 단으로 연결된 제 2 입력단, 및 트랜지스터(MLAB2n)의 게이트로 연결된 출력단을 포함할 수 있다. 증폭기(AMPp)는 기준 전압(VREF_VLAB)이 인가되는 제 1 입력단, 풀업 트랜지스터(MLAB2a)의 제 2 단으로 연결된 제 2 입력단, 및 트랜지스터(MLAB2p)의 게이트로 연결된 출력단을 포함할 수 있다.The amplifier AMPn may include a first input terminal to which the reference voltage VREF_VLAB is applied, a second input terminal connected to the second terminal of the pull-up transistor MLAB2a, and an output terminal connected to the gate of the transistor MLAB2n. The amplifier AMPp may include a first input terminal to which the reference voltage VREF_VLAB is applied, a second input terminal connected to the second terminal of the pull-up transistor MLAB2a, and an output terminal connected to the gate of the transistor MLAB2p.
도 6a에 도시된 실시 예에서, 기준 전압(VREF_VLAB)은 전압 생성기(16)에 의해 생성되고 그리고 증폭기들(AMPn, AMPp)로 공급될 수 있다. 증폭기들(AMPn, AMPp)은 기준 전압(VREF_VLAB)을 증폭하고, 그리고 증폭된 전압을 출력할 수 있다. 증폭기들(AMPn, AMPp)에 의해 증폭된 전압의 레벨이 트랜지스터들(MLAB2n, MLAB2p)을 턴-온하기에 충분히 크면, 트랜지스터들(MLAB2n, MLAB2p)이 턴-온될 수 있다. 이에 따라, 풀업 트랜지스터(MLAB2a)의 제 2 단에 인가되는 델타 전압(dVLABa)의 크기가 변동될 수 있다. 다시 말해서, 델타 전압(dVLABa)의 크기가 증폭기들(AMPn, AMPp)의 동작에 기초하여 조정될 수 있다. 조정된 델타 전압(dVLABa)이 풀업 펄스들(PU_PULSE, PLABUP)에 응답하여 풀업 트랜지스터(MLAB2a)를 거쳐 비트라인 감지 증폭기(120)의 노드(LAB)로 공급될 수 있다. 도 6b에 도시된 실시 예에서, 델타 전압 생성기(112_1b)는 트랜지스터(MLAB2b)를 포함할 수 있다. 트랜지스터(MLAB2b)는 NMOS로 구현될 수 있다. 트랜지스터(MLAB2b)는 풀업 트랜지스터(MLAB2a)의 제 2 단으로 연결된 제 1 단(예를 들어, 드레인), 풀업 트랜지스터(MLAB2a)의 제 2 단으로 연결된 게이트, 및 접지 전압(VSS)으로 연결된 제 2 단(예를 들어, 소스)을 포함할 수 있다. 이때, 트랜지스터(MLAB2b)는 다이오드-연결(Diode-Connect)될 수 있다.In the embodiment shown in FIG. 6A , the reference voltage VREF_VLAB is generated by the
도 6b에 도시된 실시 예에서, 풀업 펄스(PLABUP)에 응답하여 풀업 트랜지스터들(MPU1, MLAB2a)이 턴-온되고, 그리고 풀업 펄스(PU_PULSE) 및 풀업 게이트 전압(PU_N)에 응답하여 풀업 트랜지스터(MPU2)가 턴-온 되면, 내부 전압(VINTA)에 기초한 전류가 풀업 트랜지스터들(MPU1, MPU2, MLAB2a)을 거쳐 트랜지스터(MLAB2b)로 전달될 수 있다. 이때, 트랜지스터(MLAB2b)의 게이트 및 제 1 단에 인가되는 델타 전압(dVLABb)은 트랜지스터(MLAB2b)의 역치 전압과 동일할 수 있다. 그 결과, 풀업 펄스들(PU_PULSE, PLABPU)에 응답하여, 접지 전압(VSS)보다 트랜지스터(MLAB2b)의 역치 전압만큼 높은 델타 전압(dVLABb)이 트랜지스터(MLAB2a)를 거쳐 비트라인 감지 증폭기(120)의 노드(LAB)로 공급될 수 있다.6B , the pull-up transistors MPU1 and MLAB2a are turned on in response to the pull-up pulse PLABUP, and the pull-up transistor MPU1 and MLAB2a are turned on in response to the pull-up pulse PU_PULSE and the pull-up gate voltage PU_N When the MPU2 is turned on, a current based on the internal voltage VINTA may be transferred to the transistor MLAB2b through the pull-up transistors MPU1 , MPU2 , and MLAB2a . In this case, the delta voltage dVLABb applied to the gate and the first terminal of the transistor MLAB2b may be equal to the threshold voltage of the transistor MLAB2b. As a result, in response to the pull-up pulses PU_PULSE and PLABPU, a delta voltage dVLABb that is higher than the ground voltage VSS by the threshold voltage of the transistor MLAB2b is transmitted through the transistor MLAB2a to the bit
도시된 실시 예에서, 풀업 게이트 전압(PU_N)은 풀업 기준 전압(VREF_PU) 의 레벨과 동일할 수 있다. 풀업 기준 전압(VREF_PU)은 내부 전압(VINTA)보다 작을 수 있다. 풀업 기준 전압(VREF_PU) 및 내부 전압(VINTA)의 레벨은 전압 생성기(16)에 의해 조절될 수 있다. 예를 들어, 전압 생성기(16)는 레귤레이터(111)로 전송되는 풀업 기준 전압(VREF_PU) 및 내부 전압(VINTA)의 레벨을 조정함으로써, 레귤레이터(111)로부터 풀업 회로(112)로 공급되는 풀업 게이트 전압(PU_N)의 레벨을 조정할 수 있다.In the illustrated embodiment, the pull-up gate voltage PU_N may be equal to the level of the pull-up reference voltage VREF_PU. The pull-up reference voltage VREF_PU may be less than the internal voltage VINTA. Levels of the pull-up reference voltage VREF_PU and the internal voltage VINTA may be adjusted by the
풀업 게이트 전압(PU_N)의 레벨이 조정됨에 따라, 풀업 회로(112)에 의해 끌어올려지는 전압(VLAB)의 크기가 조정될 수 있다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 전압 생성기(16)는 풀업 기준 전압(VREF_PU)의 레벨을 조정함으로써, 증폭기(AMPR)로부터 트랜지스터(MREF)의 게이트로 출력되는 전압의 레벨을 조정할 수 있다. 이에 따라, 트랜지스터(MREF)의 턴-온 여부가 결정될 수 있다. 트랜지스터(MREF)가 턴-온되면, 내부 전압(VINTA) 및 풀업 기준 전압(VREF_PU)에 기초하여 결정되는 전압이 트랜지스터(MREF)를 거쳐 풀업 회로(112)로 공급될 수 있다. 레귤레이터(111)로부터 풀업 회로(112)로 공급된 전압은 인버터들(INV2, INV1)을 거쳐 풀업 트랜지스터(MPU2)의 게이트로 인가될 수 있다. 델타 전압 생성기(112_1)의 구성은 도 6a 및 도 6b에 도시된 실시 예들에 한정되지 아니한다. 따라서, 메모리 장치(10)의 성능을 고려하여 도시된 실시 예들과 다른 방식으로 전압(VLAB)이 적절한 레벨의 전압으로 풀업될 수도 있을 것이다.As the level of the pull-up gate voltage PU_N is adjusted, the level of the voltage VLAB pulled up by the pull-up
도 7은 도 4의 펄스 생성기의 블록도를 예시적으로 도시한다. 도 1 내지 도 5 및 도 7을 참조하면, 펄스 생성기(114)는 지연 회로들(D1~D3), 래치들(SR1~SR3), 플립-플롭(DFF1), XOR 게이트들(XOR1, XOR2), 및 조정 가능한 지연 회로(DA)를 포함할 수 있다.7 exemplarily shows a block diagram of the pulse generator of FIG. 4 . 1 to 5 and 7 , the
도시된 실시 예에서, 래치들(SR1~SR3)은 SR 래치로서 구현될 수 있다. 도시된 실시 예에서, 플립-플롭(DFF1)은 D 플립-플롭으로서 구현될 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 지연 회로들(D1~D3)은 직렬로 연결된 하나 이상의 버퍼를 포함할 수 있다. 이때, 지연 회로들(D1~D3) 각각이 포함하는 버퍼의 개수는 지연 회로들(D1~D3) 각각이 지연하고자 하는 시간의 길이에 기초하여 결정될 수 있다. 도 7에 도시된 실시 예는 예시적인 것으로, 본 발명의 실시 예에 따른 펄스 생성기(114)의 구성은 이에 한정되지 아니할 것이다.In the illustrated embodiment, the latches SR1 to SR3 may be implemented as SR latches. In the illustrated embodiment, the flip-flop DFF1 may be implemented as a D flip-flop. In an embodiment, the delay circuits D1 to D3 may include one or more buffers connected in series. In this case, the number of buffers included in each of the delay circuits D1 to D3 may be determined based on a length of time that each of the delay circuits D1 to D3 wants to delay. The embodiment shown in FIG. 7 is illustrative, and the configuration of the
지연 회로(D1)는 워드라인 액티브 신호(WLACT)를 제어 로직(11)으로부터 수신할 수 있다. 지연 회로(D1)가 워드라인 액티브 신호(WLACT)를 수신한 시점으로부터 시간(tCgShr)이 지난 후에, 지연 회로(D1)는 수신된 워드라인 액티브 신호(WLACT)를 래치(SR1) 및 지연 회로(D3)로 신호(BLSA_ST)로서 출력할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 시간(tCgShr)은 워드라인(예를 들어, 도 2의 WL0)이 활성화됨에 따라 비트라인(BL) 및, 활성화된 워드라인 및 비트라인(BL)에 연결된 메모리 셀(예를 들어, 도 2의 MC1)에 포함된 커패시터(예를 들어, 도 2의 CS1) 사이에 전하를 공유하는 데 필요한 시간일 수 있다.The delay circuit D1 may receive the word line active signal WLACT from the
지연 회로(D2)는 프리차지 신호(PRCG)를 제어 로직(11)으로부터 수신할 수 있다. 지연 회로(D2)가 프리차지 신호(PRCG)를 수신한 시점으로부터 시간(tWR)이 지난 후에, 지연 회로(D2)는 수신된 프리차지 신호(PRCG)를 래치(SR1)로 신호(BLSA_END)로서 출력할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 시간(tWR)은 쓰기 복원 시간(Write Recovery time)일 수 있다.The delay circuit D2 may receive the precharge signal PRCG from the
지연 회로(D3)는 신호(BLSA_ST)를 지연 회로(D1)로부터 수신할 수 있다. 지연 회로(D1)가 워드라인 액티브 신호(WLACT)를 수신한 시점으로부터 최소한 시간(tRCD)이 지난 후에, 지연 회로(D3)는 수신된 신호(BLSA_ST)를 래치(SR2), 및 XOR 게이트(XOR2)로 신호(BLSA_STD)로서 출력할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 시간(tRCD)은 라스-투-카스 딜레이(RAS-to-CAS Delay)일 수 있다.The delay circuit D3 may receive the signal BLSA_ST from the delay circuit D1 . After at least time tRCD has elapsed from the point in time when the delay circuit D1 receives the word line active signal WLACT, the delay circuit D3 applies the received signal BLSA_ST to the latch SR2, and the XOR gate XOR2. ) as a signal BLSA_STD. In an embodiment, the time tRCD may be a RAS-to-CAS delay.
래치(SR1)는 신호(BLSA_ST)를 지연 회로(D1)로부터 수신할 수 있다. 래치(SR1)는 신호(BLSA_END)를 지연 회로(D2)로부터 수신할 수 있다. 래치(SR1)는 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN) 및 디벨롭 신호(LAPG)를 수신된 신호들(BLSA_ST, BLSA_END)에 기초하여 출력할 수 있다.The latch SR1 may receive the signal BLSA_ST from the delay circuit D1 . The latch SR1 may receive the signal BLSA_END from the delay circuit D2 . The latch SR1 may output the bit line sense amplifier enable signal BLSA_EN and the develop signal LAPG based on the received signals BLSA_ST and BLSA_END.
도시된 실시 예에서, 래치(SR1)는 신호(BLSA_ST)를 설정(Set) 신호로서 사용할 수 있고, 그리고 신호(BLSA_END)를 재설정(Reset) 신호로서 사용할 수 있다. 래치(SR1)는 수신된 신호들(BLSA_ST, BLSA_END)를 래치하여 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN)를 XOR 게이트(XOR1)로 출력할 수 있다. 래치(SR1)는 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN)를 반전함으로써 디벨롭 신호(LAPG)를 출력할 수 있다. 디벨롭 신호(LAPG)는 비트라인 감지 증폭기(120)로 전송될 수 있다.In the illustrated embodiment, the latch SR1 may use the signal BLSA_ST as a set signal, and may use the signal BLSA_END as a reset signal. The latch SR1 may latch the received signals BLSA_ST and BLSA_END to output the bit line sense amplifier enable signal BLSA_EN to the XOR gate XOR1 . The latch SR1 may output the develop signal LAPG by inverting the bit line sense amplifier enable signal BLSA_EN. The develop signal LAPG may be transmitted to the bit
래치(SR2)는 신호(BLSA_STD)를 지연 회로(D3)로부터 수신할 수 있다. 래치(SR2)는 프리차지 신호(PRCG)를 제어 로직(11)으로부터 수신할 수 있다. 래치(SR2)는 풀업 펄스(PLABUP)를 수신된 신호들(BLSA_STD, PRCG)에 기초하여 출력할 수 있다.The latch SR2 may receive the signal BLSA_STD from the delay circuit D3 . The latch SR2 may receive the precharge signal PRCG from the
도시된 실시 예에서, 래치(SR2)는 신호(BLSA_STD)를 설정 신호로서 사용할 수 있고, 그리고 프리차지 신호(PRCG)를 재설정 신호로서 사용할 수 있다. 래치(SR2)를 수신된 신호들(BLSA_STD, PRCG)을 래치함으로써 풀업 펄스(PLABUP)를 출력할 수 있다. 풀업 펄스(PLABUP)는 XOR 게이트(XOR1) 및 풀업 회로(112)로 전송될 수 있다.In the illustrated embodiment, the latch SR2 may use the signal BLSA_STD as a setting signal and the precharge signal PRCG as a reset signal. The pull-up pulse PLABUP may be output by latching the latch SR2 to the received signals BLSA_STD and PRCG. The pull-up pulse PLABUP may be transmitted to the XOR gate XOR1 and the pull-up
XOR 게이트(XOR1)는 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN)를 래치(SR1)로부터 수신할 수 있다. XOR 게이트(XOR1)는 풀업 펄스(PLABUP)를 래치(SR2)로부터 수신할 수 있다. XOR 게이트(XOR1)는 디벨롭 신호(LANG)를 수신된 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN) 및 풀업 펄스(PLABUP)에 기초하여 비트라인 감지 증폭기(120)로 출력할 수 있다.The XOR gate XOR1 may receive the bit line sense amplifier enable signal BLSA_EN from the latch SR1 . The XOR gate XOR1 may receive the pull-up pulse PLABUP from the latch SR2 . The XOR gate XOR1 may output the develop signal LANG to the bit
플립-플롭(DFF1)은 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN)를 래치(SR1)로부터 수신할 수 있다. 플립-플롭(DFF1)은 쓰기 인에이블 신호(WREN)를 제어 로직(11)으로부터 수신할 수 있다. 플립-플롭(DFF1)은 신호(SNORD)를 조정 가능한 지연 회로(DA)로부터 수신할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 플립-플롭(DFF1)은 하강 에지 트리거드 플립-플롭(Negative Edge-Triggered Flip-Flop)일 수 있다. 플립-플롭(DFF1)은 신호(WRENEDGE), 수신된 신호들(BLSA_STD, WREN, SNORD)에 기초하여 XOR 게이트(XOR2)로 출력할 수 있다.The flip-flop DFF1 may receive the bit line sense amplifier enable signal BLSA_EN from the latch SR1 . The flip-flop DFF1 may receive the write enable signal WREN from the
도시된 실시 예에서, 플립-플롭(DFF1)은 신호(BLSA_EN)를 데이터 입력으로서 사용할 수 있다. 플립-플롭(DFF1)은 쓰기 인에이블 신호(WREN)를 클럭 입력으로서 사용할 수 있다. 플립-플롭(DFF1)은 신호(SNORD)를 재설정 신호로서 사용할 수 있다. 쓰기 인에이블 신호(WREN)의 하강 에지에 응답하여, 플립-플롭(DFF1)은 신호(WRENEDGE)를 신호들(BLSA_STD, SNORD)에 기초하여 XOR 게이트(XOR2)로 출력할 수 있다.In the illustrated embodiment, the flip-flop DFF1 may use the signal BLSA_EN as a data input. The flip-flop DFF1 may use the write enable signal WREN as a clock input. The flip-flop DFF1 may use the signal SNORD as a reset signal. In response to the falling edge of the write enable signal WREN, the flip-flop DFF1 may output the signal WRENEDGE to the XOR gate XOR2 based on the signals BLSA_STD and SNORD.
XOR 게이트(XOR2)는 신호(BLSA_STD)를 지연 회로(D3)로부터 수신할 수 있다. XOR 게이트(XOR2)는 신호(WRENEDGE)를 플립-플롭(DFF1)으로부터 수신할 수 있다. XOR 게이트(XOR2)는 신호들(BLSA_STD, WRENEDGE)에 기초하여, 신호(SNOR)를 래치(SR3) 및 조정 가능한 지연 회로(DA)로 출력할 수 있다.The XOR gate XOR2 may receive the signal BLSA_STD from the delay circuit D3 . The XOR gate XOR2 may receive the signal WRENEDGE from the flip-flop DFF1. The XOR gate XOR2 may output the signal SNOR to the latch SR3 and the adjustable delay circuit DA based on the signals BLSA_STD and WRENEDGE.
조정 가능한 지연 회로(DA)는 신호(SNOR)를 수신할 수 있다. 조정 가능한 지연 회로(DA)가 신호(SNOR)를 수신한 시점으로부터 조정 지연 시간 이후에, 조정 가능한 지연 회로(DA)는 신호(SNOR)를 래치(SR3)로 신호(SNORD)로서 출력할 수 있다. 이때, 전압(VLAB)의 레벨은 조정 지연 시간의 길이에 의존적일 수 있다.The adjustable delay circuit DA may receive the signal SNOR. After an adjustable delay time from the time when the adjustable delay circuit DA receives the signal SNOR, the adjustable delay circuit DA may output the signal SNOR to the latch SR3 as a signal SNORD. . In this case, the level of the voltage VLAB may depend on the length of the adjustment delay time.
일 실시 예에 있어서, 조정 가능한 지연 회로(DA)에 의해 지연되는 조정 지연 시간은 메모리 셀 어레이(12)가 구현되는 다이의 특성에 기초하여 결정될 수 있다. 예를 들어, 조정 지연 시간은 상술된 풀업 기준 전압(VREF_PU)의 레벨이 결정되는 방식과 유사한 방식으로 결정될 수 있다.In an embodiment, the adjustment delay time delayed by the adjustable delay circuit DA may be determined based on characteristics of a die in which the
도시된 실시 예에서, 조정 가능한 지연 회로(DA)는 직렬로 연결된 복수의 지연 회로들(D) 및 멀티플렉서(MUX)를 포함할 수 있다. 조정 가능한 지연 회로(DA)가 구현될 수 있는 방식은 도 7에 도시된 실시 예에 한정되지 아니한다.In the illustrated embodiment, the adjustable delay circuit DA may include a plurality of delay circuits D and a multiplexer MUX connected in series. The manner in which the adjustable delay circuit DA can be implemented is not limited to the embodiment illustrated in FIG. 7 .
조정 가능한 지연 회로(DA)의 지연 회로들(D) 각각은 수신된 신호를 일정 시간이 지난 후에 멀티플렉서(MUX) 및 각각의 출력단에 연결된 지연 회로(D)로 출력할 수 있다. 예를 들어, 지연 회로들(D) 중 신호(SNOR)를 수신하는 지연 회로(D)는 수신된 신호(SNOR)를 일정 시간이 지난 후에, 멀티플렉서(MUX) 및 출력단에 연결된 지연 회로(D)로 출력할 수 있다. 다른 예를 들어, 지연 회로들(D) 중 출력단에 연결된 지연 회로(D)가 없는 지연 회로(D)는 수신된 신호를 일정 시간이 지난 후에 멀티플렉서(MUX)로 출력할 수 있다.Each of the delay circuits D of the adjustable delay circuit DA may output the received signal to the multiplexer MUX and the delay circuit D connected to each output terminal after a predetermined time elapses. For example, among the delay circuits D, the delay circuit D for receiving the signal SNOR transmits the received signal SNOR after a predetermined period of time, the delay circuit D connected to the multiplexer MUX and the output terminal can be output as For another example, the delay circuit D without the delay circuit D connected to the output terminal among the delay circuits D may output the received signal to the multiplexer MUX after a predetermined time elapses.
멀티플렉서(MUX)는 제어 로직(11)으로부터 선택 신호(SEL)를 수신할 수 있다. 지연 회로들(D)로부터 수신된 신호들 중 어느 하나를 선택 신호(SEL)에 기초하여 선택할 수 있다. 멀티플렉서(MUX)는 선택된 신호를 래치(SR3)로 신호(SNORD)로서 출력할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 제어 로직(11)은 선택 신호(SEL)를 이용함으로써 조정 가능한 지연 회로(DA)에 의해 지연되는 조정 지연 시간의 길이를 조절할 수 있다.The multiplexer MUX may receive the selection signal SEL from the
래치(SR3)는 XOR 게이트(XOR2)로부터 신호(SNOR)를 수신할 수 있다. 래치(SR3)는 조정 가능한 지연 회로(DA)로부터 신호(SNORD)를 수신할 수 있다. 래치(SR3)는 풀업 펄스(PU_PULSE)를 수신된 신호들(SNOR, SNORD)에 기초하여 출력할 수 있다.The latch SR3 may receive the signal SNOR from the XOR gate XOR2 . The latch SR3 may receive the signal SNORD from the adjustable delay circuit DA. The latch SR3 may output the pull-up pulse PU_PULSE based on the received signals SNOR and SNORD.
도시된 실시 예에서, 래치(SR3)는 신호(SNOR)를 설정 신호로서 사용할 수 있고, 그리고 신호(SNORD)를 재설정 신호로서 사용할 수 있다. 래치(SR3)는 신호들(SNOR, SNORD)을 래치함으로써 풀업 펄스(PU_PULSE)를 풀업 회로(112)로 출력할 수 있다.In the illustrated embodiment, the latch SR3 may use the signal SNOR as a setup signal, and may use the signal SNORD as a reset signal. The latch SR3 may output the pull-up pulse PU_PULSE to the pull-up
일 실시 예에 있어서, 펄스 생성기(114)는 풀다운 펄스(PLABDN)를 생성하는 풀다운 펄스 생성 회로(미도시)를 더 포함할 수 있다. 풀다운 펄스 생성 회로는 제어 로직(11)으로부터 프리차지 신호(PRCG)를 수신할 수 있다. 풀다운 펄스 생성 회로는 수신된 프리차지 신호(PRCG)에 응답하여 풀다운 펄스(PLABDN)를 생성할 수 있다. 이때, 풀다운 펄스(PLABDN)는 풀다운 펄스 생성 회로가 프리차지 신호(PRCG)를 수신된 시점으로부터 시간(tWR)만큼 논리 '1'에 대응하는 레벨을 갖도록 생성될 수 있다. 풀다운 펄스(PLABDN)는 풀다운 회로(113)로 전송될 수 있다.In an embodiment, the
도 8은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메모리 장치의 동작 방법의 순서도를 예시적으로 도시한다. 도 1 내지 도 4, 및 도 8을 참조하면, 메모리 장치(10)는 S100 내지 S300 단계를 수행할 수 있다.8 is an exemplary flowchart of a method of operating a memory device according to an embodiment of the present invention. 1 to 4 and 8 , the
S100 단계에서, 메모리 장치(10)는 목표 워드라인을 활성화할 수 있다. 예를 들어, 메모리 장치(10)는 외부 장치로부터 수신된 커맨드/어드레스(CA)에 대응하는 워드라인을 선택하고, 그리고 선택된 워드라인에 연결된 트랜지스터들을 턴-온할 수 있는 전압을 선택된 워드라인으로 공급할 수 있다.In step S100 , the
S200 단계에서, 메모리 장치(10)는 메모리 셀 어레이(12)의 데이터를 복원하거나 또는 데이터를 메모리 셀 어레이(12)에 쓰고, 그리고 비트라인 감지 증폭기(120)의 노드(LAB)의 전압을 풀업할 수 있다. 예를 들어, 메모리 장치(10)는 S100 단계에서 활성화된 목표 워드라인에 연결된 메모리 셀들에 저장된 데이터를 감지할 수 있다. 목표 워드라인에 연결된 메모리 셀들 중 목표 메모리 셀에 저장되기 위한 데이터가 메모리 장치(10)로 입력되지 않으면, 메모리 장치(10)는 목표 워드라인에 연결된 메모리 셀들로 데이터를 복원할 수 있다. 그렇지 않으면(예를 들어, 새로운 데이터가 메모리 장치(10)로 입력되면), 메모리 장치(10)는 목표 메모리 셀에 입력된 새로운 데이터를 쓰고, 그리고 목표 워드라인에 연결된 메모리 셀들 중 목표 메모리 셀이 아닌 셀들로 데이터를 복원할 수 있다. 메모리 장치(10)는 노드(LAB)의 전압(VLAB)을 워드라인 액티브 신호(WLACT) 및 쓰기 인에이블 신호(WREN)에 응답하여 풀업할 수 있다.In step S200 , the
S300 단계에서, 메모리 장치(10)는 노드(LAB)의 전압(VLAB)을 프리차지 신호(PRCG)에 응답하여 접지 전압(VSS)으로 풀다운할 수 있다. 예를 들어, 메모리 장치(10)는 노드(LAB)의 전압(VLAB)을 프리차지 신호(PRCG)에 응답하여 일정 시간 동안 접지 전압(VSS)으로 풀다운할 수 있다. 이후, 메모리 장치(10)는 비트라인(BL) 및 상보 비트라인(BLB)의 전압을 프리차지 전압(예를 들어, 1/2 VINTA)으로 충전할 수 있다.In operation S300 , the
도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 메모리 장치를 포함하는 시스템의 동작 방법의 순서도를 예시적으로 도시한다. 도 1 내지 도 4, 도 7 내지 도 9를 참조하면, 메모리 장치(10)의 외부 장치는 S1101, S1104, 및 S1106 단계를 수행할 수 있고, 그리고 메모리 장치(10)는 S1102, S1103, S1105, S1107, 및 S1108 단계를 수행할 수 있다.9 exemplarily shows a flowchart of a method of operating a system including a memory device according to an embodiment of the present invention. 1 to 4 and 7 to 9 , the external device of the
S1101 단계에서, 외부 장치는 제 1 커맨드/어드레스(CA1)를 메모리 장치(10)로 전송할 수 있다. 예를 들어, 제 1 커맨드/어드레스(CA1)는 활성화하고자 하는 목표 워드라인에 대응하는 로우 어드레스(ADDR_R) 및 목표 워드라인을 활성화하기 위한 액티브 커맨드를 포함할 수 있다.In step S1101 , the external device may transmit the first command/address CA1 to the
S1102 단계에서, 메모리 장치(10)는 디벨롭 신호(LANG, LAPG)를 생성하고, 그리고 비트라인 감지 증폭기(120)를 활성화할 수 있다. 예를 들어, 메모리 장치(10)는 수신된 제 1 커맨드/어드레스(CA1)에 대응하여, 목표 워드라인을 활성화할 수 있다. 메모리 장치(10)는 디벨롭 신호(LANG, LAPG) 및 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN)에 기초하여, 비트라인(BL)의 전압(VBL) 및 상보 비트라인(BLB)의 전압(VBLB)을 디벨롭할 수 있다.In operation S1102 , the
도시된 실시 예에서, 메모리 장치(10)는 제 1 커맨드/어드레스(CA1)를 수신한 시점으로부터 시간(tCgShr)이 경과한 후에 S1102 단계를 수행할 수 있다. 예를 들어, 메모리 장치(10)는 제 1 커맨드/어드레스(CA1)에 기초하여 워드라인 액티브 신호(WLACT)를 생성할 수 있다. 그리고, 시간(tCgShr)이 경과한 후에, 메모리 장치(10)는 디벨롭 신호(LANG, LAPG) 및 비트라인 감지 증폭기 인에이블 신호(BLSA_EN)를 생성할 수 있다.In the illustrated embodiment, the
S1103 단계에서, 메모리 장치(10)는 제 1 풀업 펄스(PU_PULSE1)를 생성하고, 그리고 노드(LAB)의 전압 레벨을 풀업할 수 있다. 도시된 실시 예에서, 메모리 장치(10)는 제 1 커맨드/어드레스(CA1)를 수신한 시점으로부터 시간(tRCD)이 경과한 후에 S1103 단계를 수행할 수 있다. 예를 들어, 메모리 장치(10)는 워드라인 액티브 신호(WLACT)를 생성한 시점으로부터 시간(tRCD)이 경과한 후에, 제 1 풀업 펄스(PU_PULSE1)를 생성할 수 있다. 제 1 풀업 펄스(PU_PULSE1)에 응답하여, 메모리 장치(10)의 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)는 노드(LAB)의 전압(VLAB)을 접지 전압(VSS)으로부터 델타 전압(dVLAB)만큼 풀업할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 제 1 풀업 펄스(PU_PULSE1)는 도 7의 제 3 페이즈(Phase3)에서, 시간(tA) 동안 하이 레벨을 갖는 풀업 펄스(PU_PULSE)에 대응할 수 있다.In operation S1103 , the
S1104 단계에서, 외부 장치는 제 2 커맨드/어드레스(CA2)를 메모리 장치(10)로 전송할 수 있다. 예를 들어, 제 2 커맨드/어드레스(CA2)는 쓰기 커맨드 및 쓰기 동작의 대상이 되는 목표 메모리 셀을 가리키는 칼럼 어드레스(ADDR_C)를 포함할 수 있다.In operation S1104 , the external device may transmit the second command/address CA2 to the
S1105 단계에서, 메모리 장치(10)는 제 2 풀업 펄스(PU_PULSE2)를 생성하고, 그리고 노드(LAB)의 전압 레벨을 풀업할 수 있다. 예를 들어, 메모리 장치(10)는 제 2 커맨드/어드레스(CA2)에 응답하여 목표 메모리 셀에 데이터를 쓸 수 있다. 그 다음, 메모리 장치(10)는 제 2 풀업 펄스(PU_PULSE2)를 생성할 수 있다. 제 2 풀업 펄스(PU_PULSE2)에 응답하여, 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)는 노드(LAB)의 전압(VLAB)을 접지 전압(VSS)으로부터 델타 전압(dVLAB)만큼 풀업할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 제 2 풀업 펄스(PU_PULSE2)는 도 7의 제 3 페이즈(Phase3)에서, 시간(tB) 동안 하이 레벨을 갖는 풀업 펄스(PU_PULSE)에 대응할 수 있다.In operation S1105 , the
S1106 단계에서, 외부 장치는 메모리 장치(10)로 제 3 커맨드/어드레스(CA3)를 전송할 수 있다. 예를 들어, 제 3 커맨드/어드레스(CA3)는 비트라인(BL) 및 상보 비트라인(BLB)에 대한 프리차지 동작을 수행할 것을 요청하는 프리차지 커맨드를 포함할 수 있다. In operation S1106 , the external device may transmit the third command/address CA3 to the
S1107 단계에서, 메모리 장치(10)는 풀다운 펄스(PLABDN)를 생성하고 그리고 노드(LAB)의 전압 레벨을 접지 전압(GND)으로 풀다운할 수 있다. 예를 들어, 메모리 장치(10)는 수신된 제 3 커맨드/어드레스(CA3)에 대응하여, 프리차지 신호(PRCG)를 생성할 수 있다. 메모리 장치(10)는 프리차지 신호(PRCG)에 기초하여 풀다운 펄스(PLABDN)를 생성할 수 있다. 풀다운 펄스(PLABDN)에 대응하여, 비트라인 감지 증폭기 구동 회로(110)는 노드(LAB)의 전압(VLAB)을 접지 전압(GND)으로 풀다운할 수 있다.In operation S1107 , the
S1108 단계에서, 메모리 장치(10)는 비트라인(BL) 및 상보 비트라인(BLB)을 프리차지 전압으로 충전할 수 있다. 도시된 실시 예에서, 메모리 장치(10)는 프리차지 신호(PRCG)를 생성한 시점으로부터 시간(tWR)이 경과한 후에, S1108 단계를 수행할 수 있다.In operation S1108 , the
상술된 내용은 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 실시 예들이다. 본 발명은 상술된 실시 예들뿐만 아니라, 단순하게 설계 변경되거나 용이하게 변경할 수 있는 실시 예들 또한 포함할 것이다. 또한, 본 발명은 실시 예들을 이용하여 용이하게 변형하여 실시할 수 있는 기술들도 포함될 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 상술된 실시 예들에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 할 것이다.The above are specific embodiments for carrying out the present invention. The present invention will include not only the above-described embodiments, but also simple design changes or easily changeable embodiments. In addition, the present invention will include techniques that can be easily modified and implemented using the embodiments. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, but should be defined by the claims described below as well as the claims and equivalents of the present invention.
10: 메모리 장치
100: 감지 증폭기부
110: 비트라인 감지 증폭기 구동 회로
120: 비트라인 감지 증폭기10: memory device
100: sense amplifier unit
110: bit line sense amplifier driving circuit
120: bit line sense amplifier
Claims (10)
호스트로부터 수신되는 커맨드에 응답하여, 상기 비트라인 감지 증폭기의 비트라인 로우 레벨 전압의 레벨을 접지 전압의 레벨보다 높게 조정하는 감지 증폭기 구동 회로를 포함하되,
상기 커맨드는 액티브 커맨드, 쓰기 커맨드, 읽기 커맨드, 또는 프리차지 커맨드를 포함하는 메모리 장치.a bit line sense amplifier connected to a bit line connected to a memory cell and a complementary bit line, and configured to sense and amplify a voltage difference between a voltage of the bit line and a voltage of the complementary bit line; and
a sense amplifier driving circuit for adjusting a level of a bit line low level voltage of the bit line sense amplifier to be higher than a level of a ground voltage in response to a command received from a host;
The command includes an active command, a write command, a read command, or a precharge command.
상기 메모리 셀은 플로팅 바디(Floating Body) 구조의 트랜지스터를 포함하는 메모리 장치.The method of claim 1,
The memory cell includes a transistor having a floating body structure.
상기 감지 증폭기 구동 회로는 풀업 회로 및 제 1 풀업 펄스 및 제 2 풀업 펄스를 생성하는 펄스 생성기를 포함하되, 상기 풀업 회로는:
델타 전압을 생성하는 델타 전압 생성기;
제 1 내부 전압이 인가되는 제 1 단, 상기 펄스 생성기로부터 상기 제 2 풀업 펄스가 인가되는 게이트, 및 제 2 단을 포함하는 제 1 풀업 트랜지스터;
상기 제 1 풀업 트랜지스터의 상기 제 2 단에 연결된 제 1 단, 풀업 게이트 전압이 인가되는 게이트, 및 상기 비트라인 로우 레벨 전압이 인가되는 제 2 단을 포함하는 제 2 풀업 트랜지스터;
상기 비트라인 로우 레벨 전압이 인가되고 그리고 상기 제 2 풀업 트랜지스터의 상기 제 2 단에 연결되는 제 1 단, 상기 풀업 게이트 전압이 인가되는 게이트, 및 델타 전압을 인가하는 상기 델타 전압 생성기에 연결되는 제 2 단을 포함하는 제 3 풀업 트랜지스터; 및
상기 제 1 풀업 펄스에 기초하여, 상기 풀업 게이트 전압을 상기 제 2 풀업 트랜지스터의 상기 게이트로 인가하는 제 1 인버터를 포함하는 메모리 장치.The method of claim 1,
The sense amplifier driving circuit includes a pull-up circuit and a pulse generator generating a first pull-up pulse and a second pull-up pulse, the pull-up circuit comprising:
a delta voltage generator for generating a delta voltage;
a first pull-up transistor including a first end to which a first internal voltage is applied, a gate to which the second pull-up pulse from the pulse generator is applied, and a second end;
a second pull-up transistor including a first end connected to the second end of the first pull-up transistor, a gate to which a pull-up gate voltage is applied, and a second end to which the bit line low level voltage is applied;
A first end connected to the second end of the second pull-up transistor to which the bit line low level voltage is applied, a gate to which the pull-up gate voltage is applied, and a first terminal connected to the delta voltage generator for applying a delta voltage. a third pull-up transistor comprising two stages; and
and a first inverter configured to apply the pull-up gate voltage to the gate of the second pull-up transistor based on the first pull-up pulse.
상기 델타 전압 생성기는 상기 제 3 풀업 트랜지스터의 상기 제 2 단에 연결된 제 1 단, 상기 제 3 풀업 트랜지스터의 상기 제 2 단에 연결된 게이트, 및 상기 접지 전압에 연결된 제 2 단을 포함하는 제 4 풀업 트랜지스터를 포함하는 메모리 장치.4. The method of claim 3,
wherein the delta voltage generator includes a first end coupled to the second end of the third pull-up transistor, a gate coupled to the second end of the third pull-up transistor, and a second end coupled to the ground voltage. A memory device comprising a transistor.
감지 증폭기 구동 회로는 제 1 풀업 펄스 및 제 2 풀업 펄스를 생성하는 펄스 생성기를 포함하되, 상기 펄스 생성기는:
상기 호스트로부터 수신되는 커맨드에 기초하여 생성되는 신호 중 상기 메모리 셀이 연결된 워드라인을 활성화하기 위한 액티브 신호 및 상기 비트라인을 프리차지하기 위한 프리차지 신호에 기초하여 감지 증폭기 인에이블 신호 및 상기 감지 증폭기 인에이블 신호가 반전된 제 1 디벨롭 신호를 상기 비트라인 감지 증폭기로 출력하는 제 1 래치;
상기 액티브 신호 및 상기 프리차지 신호에 기초하여 상기 제 2 풀업 펄스를 출력하는 제 2 래치;
상기 감지 증폭기 인에이블 신호 및 상기 제 2 풀업 펄스를 수신하고, 그리고 제 2 디벨롭 신호를 상기 비트라인 감지 증폭기로 출력하는 제 1 XOR 게이트;
상기 호스트로부터 수신되는 커맨드에 기초하여 생성되는 신호 중 쓰기 인에이블 신호의 하강 에지 및 상기 액티브 신호에 기초하여 중간 신호를 출력하는 제 2 XOR 게이트; 및
상기 중간 신호에 기초하여 상기 제 1 풀업 펄스를 출력하는 제 3 래치를 포함하는 메모리 장치. The method of claim 1,
The sense amplifier driving circuit includes a pulse generator for generating a first pull-up pulse and a second pull-up pulse, the pulse generator comprising:
A sense amplifier enable signal and the sense amplifier based on an active signal for activating a word line to which the memory cell is connected and a precharge signal for precharging the bit line among signals generated based on a command received from the host a first latch for outputting a first develop signal in which an enable signal is inverted to the bit line sense amplifier;
a second latch for outputting the second pull-up pulse based on the active signal and the precharge signal;
a first XOR gate receiving the sense amplifier enable signal and the second pull-up pulse, and outputting a second develop signal to the bit line sense amplifier;
a second XOR gate configured to output an intermediate signal based on a falling edge of a write enable signal and an active signal among signals generated based on a command received from the host; and
and a third latch outputting the first pull-up pulse based on the intermediate signal.
감지 증폭기 구동 회로를 포함하되, 상기 감지 증폭기 구동 회로는:
호스트로부터 수신되는 커맨드에 기초하여 제 1 풀업 펄스 및 풀다운 펄스를 생성하고, 그리고
상기 제 1 풀업 펄스 및 상기 풀다운 펄스에 응답하여, 상기 비트라인 감지 증폭기에 의해 디벨롭되는 비트라인 로우 전압의 레벨을 조정하되,
상기 비트라인 로우 전압의 레벨은 상기 메모리 셀에 대해 읽기 동작이 수행될 때 접지 전압보다 델타 전압만큼 높아지고, 그리고 상기 메모리 셀에 대해 쓰기 동작이 수행될 때 접지 전압과 동일해지는 메모리 장치.a bit line sense amplifier coupled to a bit line coupled to the memory cell and a complementary bit line, and configured to sense and amplify data stored in the memory cell; and
A sense amplifier driving circuit comprising:
generate a first pull-up pulse and a pull-down pulse based on a command received from the host; and
adjusting a level of a bit line low voltage developed by the bit line sense amplifier in response to the first pull-up pulse and the pull-down pulse;
A level of the bit line low voltage becomes higher than a ground voltage by a delta voltage when a read operation is performed on the memory cell, and becomes equal to a ground voltage when a write operation is performed on the memory cell.
상기 메모리 셀은 플로팅 바디디(Floating Body) 구조의 트랜지스터를 포함하는 메모리 장치.7. The method of claim 6,
The memory cell includes a transistor having a floating body structure.
상기 제 1 풀업 펄스는:
상기 호스트로부터 수신된 상기 커맨드에 기초하여 액티브 신호가 생성된 후 제 1 지연 시간 이후부터 제 1 조정 시간 동안 하이 레벨을 갖고, 그리고
상기 호스트로부터 수신된 상기 커맨드에 기초하여 쓰기 신호가 수신된 후 제 2 지연 시간 이후부터 제 2 조정 시간 동안 하이 레벨을 갖는 메모리 장치.7. The method of claim 6,
The first pull-up pulse is:
has a high level for a first adjustment time after a first delay time after an active signal is generated based on the command received from the host; and
A memory device having a high level for a second adjustment time after a second delay time after a write signal is received based on the command received from the host.
상기 비트라인 및 상고 비트라인으로 연결된 복수의 메모리 셀들 중 목표 메모리 셀에 저장된 데이터를 감지하는 단계;
상기 목표 메모리 셀에 저장되기 위한 제 1 데이터가 메모리 장치로 입력되지 않으면, 상기 목표 메모리 셀에 저장된 상기 데이터를 복원하고 그리고 상기 비트라인 감지 증폭기의 제 1 노드의 전압 레벨을 접지 전압에서 증가시키는 단계; 및
상기 목표 메모리 셀에 저장되기 위한 상기 제 1 데이터가 메모리 장치로 입력되면, 상기 목표 메모리 셀에 상기 제 1 데이터를 쓰고 그리고 상기 비트라인 감지 증폭기의 상기 제 1 노드의 상기 전압 레벨을 접지 전압에서 증가시키는 단계; 및
상기 비트라인 감지 증폭기의 상기 제 1 노드의 상기 전압 레벨을 접지 전압으로 감소시키는 단계를 포함하되,
상기 복수의 메모리 셀들 각각은 플로팅 바디(floating body) 구조의 트랜지스터를 포함하고, 그리고
상기 비트라인의 전압 레벨 및 상기 상보 비트라인의 전압 레벨은 상기 제 1 노드의 전압 레벨과 연관되는 메모리 장치의 동작 방법.A method of operating a memory device comprising a bit line sense amplifier coupled to a bit line and a complementary bit line, the method comprising:
detecting data stored in a target memory cell from among a plurality of memory cells connected to the bit line and the upper bit line;
if the first data to be stored in the target memory cell is not input to the memory device, restoring the data stored in the target memory cell and increasing a voltage level of a first node of the bit line sense amplifier from a ground voltage; ; and
When the first data to be stored in the target memory cell is input to the memory device, the first data is written to the target memory cell and the voltage level of the first node of the bitline sense amplifier is increased from a ground voltage. making; and
reducing the voltage level of the first node of the bitline sense amplifier to a ground voltage;
Each of the plurality of memory cells includes a transistor having a floating body structure, and
The voltage level of the bit line and the voltage level of the complementary bit line are associated with a voltage level of the first node.
상기 목표 메모리 셀에 상기 제 1 데이터를 쓰고 그리고 상기 비트라인 감지 증폭기의 상기 제 1 노드의 상기 전압 레벨을 접지 전압에서 증가시키는 단계는:
커맨드/어드레스를 외부 장치로부터 수신하는 단계;
상기 커맨드/어드레스에 기초하여 상기 비트라인 감지 증폭기의 상기 제 1 노드의 상기 전압 레벨을 접지 전압보다 델타 전압만큼 높도록 증가시키는 단계; 및
상기 목표 메모리 셀에 상기 제 1 데이터를 쓰는 단계를 포함하는 메모리 장치의 동작 방법.10. The method of claim 9,
writing the first data to the target memory cell and increasing the voltage level of the first node of the bitline sense amplifier from a ground voltage comprises:
receiving a command/address from an external device;
increasing the voltage level of the first node of the bit line sense amplifier based on the command/address to be higher than a ground voltage by a delta voltage; and
and writing the first data to the target memory cell.
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KR (1) | KR20220010699A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117476067A (en) * | 2023-11-01 | 2024-01-30 | 合芯科技(苏州)有限公司 | Pull-down circuit, memory and data writing method |
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2021
- 2021-03-03 KR KR1020210028193A patent/KR20220010699A/en active Search and Examination
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CN117476067A (en) * | 2023-11-01 | 2024-01-30 | 合芯科技(苏州)有限公司 | Pull-down circuit, memory and data writing method |
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A201 | Request for examination |