KR20220005499A - 애플리케이터 위치에 기초한 냉각제 및 레이저의 발사가 제어된 레이저 시스템 - Google Patents

애플리케이터 위치에 기초한 냉각제 및 레이저의 발사가 제어된 레이저 시스템 Download PDF

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Abstract

레이저 시스템은 전원을 갖는 베이스 유닛을 포함한다. 휴대용 어플리케이터는 치료를 위해 생물학적 조직과 맞물리도록 구성된 베이스 유닛과 연결된다. 위치 검출 구조물은 맞물린 생물학적 조직에 대한 어플리케이터의 위치를 결정하기 위해 어플리케이터와 연관된다. 레이저 소스는 레이저 빔을 생성한다. 냉각 시스템은 치료 중에 생물학적 조직에 냉각제 소스를 제공한다. 프로세서 회로는 위치 검출 구조물, 레이저 소스 및 냉각 시스템과 연결된다. 위치 검출 구조물로부터 수신된 데이터에 기초하여, 프로세서 회로는 치료된 생물학적 조직에 냉각제의 적용을 트리거하거나 치료된 생물학적 조직에 냉각제의 적용을 트리거한 후 시간 지연이 뒤따르고 난 다음 레이저 소스를 트리거한다.

Description

애플리케이터 위치에 기초한 냉각제 및 레이저의 발사가 제어된 레이저 시스템
실시예는 제모 치료 및 레이저 피부 치료와 같은 생물학적 조직 치료를 위한 레이저 시스템, 더 구체적으로는 조직 치료 중 애플리케이터(applicator) 또는 핸드-피스(hand-piece)의 위치에 기초한 냉각제 및 레이저의 제어된 발사를 사용하는 레이저 시스템에 관한 것이다.
Ellipse FRAX 1550 fractional non-ablation laser와 같은 종래의 레이저 장치는 피부 표면을 가로지르는 롤러의 이동 속도를 측정하고 이러한 속도를 작업자에게 표시하는 자기 운동 롤러 센서를 가지는 핸드-피스를 포함한다. 상기 장치는 냉각 공기를 제공하여 치료 중인 피부를 지속적으로 냉각시킨다. 레이저를 활성화시키기 위해서 풋 페달(foot pedal)이 제공된다.
이러한 종래의 레이저 장치가 의도된 목적에 양호하게 작동하지만, 동적 냉각 장치(DCD) 및 핸드-피스 애플리케이터를 갖는 레이저 시스템을 제공할 필요가 있으며, 상기 시스템은 치료 중인 조직에 대한 애플리케이터의 위치에 기초한 DCD 및 레이저의 발사를 제어하도록 구성되고 배열된다.
실시예의 목적은 위에서 언급된 요구를 충족시키는 것이다. 실시예의 원리에 따라서, 이러한 목적은 전원을 갖는 베이스 유닛(base unit)을 포함하는 레이저 시스템에 의해 달성된다. 휴대용 어플리케이터는 베이스 유닛과 연결되고 치료를 위해 생물학적 조직과 맞물리도록 구성되고 배열된다. 위치 검출 구조물은 어플리케이터와 연관되며 맞물린 생물학적 조직에 대한 어플리케이터의 위치를 결정하도록 구성되고 배열된다. 레이저 소스는 레이저 빔을 생성하도록 구성되고 배열된다. 냉각 시스템은 치료 중에 생물학적 조직에 냉각제 소스를 제공하도록 구성되고 배열된다. 프로세서 회로는 위치 검출 구조물, 레이저 소스 및 냉각 시스템과 연결된다. 위치 검출 구조물로부터 수신된 데이터에 기초하여, 프로세서 회로는 치료된 생물학적 조직에 냉각제의 적용을 트리거하거나 치료된 생물학적 조직에 냉각제의 적용을 트리거시킨 후 시간 지연이 뒤따르고 난 다음 레이저 소스를 트리거하도록 구성되고 배열된다.
실시예의 다른 양태에 따라서, 생물학적 조직을 치료하기 위한 휴대용 어플리케이터는 레이저 소스와 연결되도록 구성되고 배열된 본체를 포함한다. 자기 롤러는 본체의 말단부에 제공된다. 자기장 센서는 자석 롤러와 연관되고 자기 롤러가 회전할 때 위상 변화를 검출하도록 구성되고 배열된다. 밸브는 일반적으로 치료 중에 생물학적 조직에 냉각제 소스를 제공하기 위해 노즐과 함께 구성되고 배열된다. 트리거 회로(trigger circuit)는 자기장 센서 및 밸브와 연결된다. 자기 롤러가 회전할 때 자기장 센서에 의해 검출된 다수의 위상 변화에 기초하여, 트리거 회로는 밸브가 치료된 생물학적 조직에 냉각제를 도포하기 위해 트리거하도록 구성되고 배열된다.
실시예의 또 다른 양태에 따라서, 방법은 생물학적 조직을 레이저 시스템으로 치료한다. 레이저 시스템은 치료를 위해 생물학적 조직과 맞물리도록 구성되고 배열된 휴대용 어플리케이터, 어플리케이터와 연관되며 맞물린 생물학적 조직에 대한 어플리케이터의 위치를 결정하도록 구성되고 배열되는 위치 검출 구조물, 레이저 빔을 생성하도록 구성되고 배열되는 레이저 소스, 치료 중에 생물학적 조직에 냉각제 소스를 제공하도록 구성되고 배열되는 냉각 시스템, 그리고 위치 검출 구조물, 레이저 소스 및 냉각 시스템과 연결되는 프로세서 회로를 포함한다. 상기 방법은 생물학적 조직을 어플리케이터와 맞물리게 하는 단계; 맞물된 생물학적 조직에 대해 어플리케이터를 이동시키는 단계; 위치 검출 구조로, 맞물린 생물학적 조직에 대한 어플리케이터의 위치를 결정하는 단계; 및 맞물린 생물학적 조직에 대한 어플리케이터의 위치에 기초하여, 치료 중에 냉각제를 생물학적 조직에 제공하기 위해 프로세서 회로로 냉각 시스템을 트리거하는 단계를 포함한다. 시간 지연 후, 프로세서 회로는 레이저 소스를 트리거한다.
본 실시예의 다른 목적, 기능 및 특징뿐만 아니라 작동 방법 및 구조물의 관련 요소의 기능, 부품의 조합 및 제작 경제성은 모두가 본 명세서의 일부를 형성하는, 첨부 도면을 참조한 다음의 상세한 설명과 첨부된 청구범위를 고려할 때 더욱 자명해질 것이다.
도 1은 실시예에 따라 제공된 레이저 시스템의 사시도이다.
도 2는 도 1의 레이저 시스템의 개략도이다.
도 3은 도 2의 레이저 시스템의 애플리케이터의 부분 개략 측면도이다.
도 4는 레이저 시스템의 애플리케이터의 다른 실시예의 부분 개략 측면도이다.
도 5는 실시예의 자기장 센서에 의해 검출된 신호에 기초한 DCD 스프레이 밸브 및/또는 레이저 소스의 트리거를 위한 개략도이다.
도 6은 실시예에 따른 DCD 스프레이 밸브 및 레이저 소스를 트리거하기 위한 트리거 신호를 도시한다.
도 7은 실시예의 방법을 수행하기 위한 단계들의 흐름도이다.
도 8은 다른 실시예의 방법을 수행하기 위한 단계들의 흐름도이다.
도 9는 중첩 없이 표적 조직으로 전달되는 연속적인 원형 단면 레이저 빔의 평면도이다.
도 10은 중첩되어 표적 조직으로 전달되는 연속적인 원형 단면 레이저 빔의 평면도이다.
도 11은 중첩 없이 표적 조직으로 전달되는 연속적인 정사각형 단면 레이저 빔의 평면도이다.
도 12는 중첩되어 표적 조직으로 전달되는 연속적인 정사각형 단면 레이저 빔의 평면도이다.
도 1을 참조하면, 생물학적 조직을 치료하기 위한, 전체적으로 도면 부호 10으로 표시된 레이저 시스템의 실시예가 도시된다. 시스템(10)은 피부 또는 모발과 같은 표적 생물학적 조직으로 방사선을 비-침습적으로 전달하는데 사용될 수 있다. 시스템(10)은 베이스 유닛(12) 및 전체적으로 도면 부호 14로 표시된 전달 시스템을 포함한다. 일 실시예에서, 에너지 소스(12)에 의해 제공된 레이저 방사선은 전달 시스템(14)을 통해 표적 조직으로 지향된다. 예시된 실시예에서, 전달 시스템(14)은 엄빌리컬 케이블(umbilical cable)(16) 및 어플리케이터(18)를 포함한다. 어플리케이터(18)는 표적 조직을 조사하기 위해서 사용자에 의해 파지 또는 조작될 수 있는 핸드-피스와 같은 휴대용 장치일 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 베이스 유닛(12)은 전달 모듈(14)에 연결되는 엄빌리컬 케이블(16)에 커플링된다. 베이스 유닛(12)은 엄빌리컬 케이블(16) 및 애플리케이터(18)를 통해 표적 조직으로 레이저 빔(L)(도 3)을 방출하기 위해서 베이스 유닛(12)에 수용된 레이저 소스(22)를 포함하는 다양한 시스템 구성요소에 전력을 공급하는 전원(20)을 포함한다. 애플리케이터(18) 상의 풋 페달(도시되지 않음) 또는 핑거 스위치가 레이저 소스(22)를 갖추기 위해 사용될 수 있다. 베이스 유닛(12)은 또한 레이저 소스(22)와 커플링되고 사용자 인터페이스에 커플링될 수 있는 제어기(24)를 포함한다. 제어기(24)는 프로세서 회로(25)를 포함한다.
베이스 유닛(12)은 조직에 대한 원치 않는 열 손상을 최소화하기 위한 냉각 시스템(26)을 포함한다. 냉각 시스템(26)은 레이저 제모 또는 피부 치료 중에 표피에 대한 손상을 방지하는 동적 냉각 장치(DCD)를 포함한다. 냉각 시스템은 베이스 유닛(12)에 극저온 가스 소스(C)와 같은 냉각제를 포함한다. 도 3을 참조하면, 애플리케이터(18)에 있는 DCD 스프레이 밸브(27)는 극저온 가스 소스(29)와 연결된다. DCD는 (노즐(31)을 갖는)밸브(27)를 통해 극저온 가스(C)를 피부의 외층에 분사함으로써 작동한다. 극저온 가스는 각각의 레이저 펄스 직전 및/또는 직후에 약 50 ms 동안 피부에 적용될 수 있다. DCD는 피부 아래층을 방해하지 않고 피부의 최상부 층을 냉각시킴으로써 작동한다. 이는 표적 모낭, 정맥 및 기타 피부 층이 정상 또는 정상에 가까운 온도를 유지되게 한다. 도 3을 참조하면, 엄빌리컬 케이블(16)은 전기 통신 라인(28) 및 밸브(27)에 연결된 냉각제 라인 중 적어도 하나를 수용할 수 있다. 도 4를 참조하면, 대안적으로, 제어기(24) 및/또는 프로세서 회로(25)는 베이스 유닛(12) 대신에 어플리케이터(18')에 수용될 수 있다.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 어플리케이터(18, 18')는 본체(29)를 포함하고 전체적으로 도면 부호 30으로 표시된 위치 검출 구조물은 본체(29)의 말단부에 제공된다. 실시예에서, 위치 검출 구조물(30)은 자기 롤러(32) 및 홀 효과 센서와 같은 자기장 센서(34)를 포함한다. 도시된 바와 같이, 자기 롤러(32)의 북극과 남극은 서로 대향한다. 자기 롤러(32)에 의해 생성된 자기장의 강도는 일반적으로 자기 롤러(32)에 인접하게 배치된 고정 자기장 센서(34)에 의해 검출된다. 자기 롤러(32)가 피부 표면(S)을 따라 회전함에 따라서, 자기장 센서(34)는 회전하는 자기 롤러(32)에 의해 야기된 위상 변화를 검출한다(도 10의 단계(40) 참조). 도 5를 참조하면, 알고리즘(36)은 자기장 센서(34)에 의해 카운트된 위상 변화를 다음 공식에 따라서 자기 롤러(32)의 변위 값으로 변환하는 프로세서 회로(25)에 의해 실행된다:
Figure pct00001
변위 신호(38)는 프로세서 회로(25)의 일부로 간주될 수 있는 트리거 회로(41)에 의해 수신된다. 도 6을 참조하면, DCD 및 레이저 트리거 순서가 이해될 것이다. 표적 조직에 대한 핸드-피스의 초기 위치로부터, 모든 N 번째 위상 변화는 트리거 회로(41)를 통해 DCD 스프레이 밸브(27)를 트리거(개방)할 수 있으므로 냉각제(C)만이 노즐(31)을 통해 표적 조직에 스프레이되거나(도 7의 단계(42)), 트리거 회로(41)가 DCD 스프레이 밸브(27)를 트리거하여 냉각제(C)가 노즐(31)을 통해 표적 조직에 스프레이된 후에(도 8의 단계(42)) 시간 지연(도 8의 단계(44))이 뒤따르고 나서, 레이저 소스(22)를 트리거할 수 있다(도 8의 단계(46)). 중첩 없이 표적 조직으로 완벽한 빔(L) 전달을 위해서(도 9, 도 11), 변위(d)는 변위 방향으로 측정된 대로의 빔 폭과 동일하도록 설정된다. 빔(L) 중첩의 경우(도 10, 도 12)에, 변위(d)는 빔 폭의 일부(예를 들어, 80%)로 설정된다.
자기장 센서(34)의 해상도는 자기장 센서(34)를 정의하는 다중 홀 효과 센서를 사용하거나, 자기 롤러(32)에 다중 자석을 사용하거나, 이들 둘의 조합을 사용함으로써 개선될 수 있다. 대안적으로, 위치 검출 구조물(30)의 다른 실시예가 사용될 수 있다. 예를 들어, 롤러(32)의 위치는 직접적인 선형 운동을 측정하는 회전 인코더(도시되지 않음)로 획득될 수 있다. 롤러(32)의 원주는 인코더의 회전 당 펄스(PPR)와 관련된다. 롤러가 완전히 회전(360 도)하면, 이동된 거리는 롤러의 원주와 동일할 수 있다. 안정화 롤러(도시되지 않음)는 표적 조직에서 롤링할 때 어플리케이터(18)의 증가된 안정화를 위해 극저온 스프레이의 반대 측에 있는 자기 롤러(32)에 인접하게 제공될 수 있다. 안정화 롤러는 어플리케이터가 피부 표면에 수직으로 유지되는 것을 보장하도록 도와준다. 위치 센서는 극저온 스프레이 또는 극저온 스프레이와 레이저를 전달하는데 걸리는 시간에 비해 애플리케이터의 변위가 작을 때 가장 양호하게 작동한다. 전형적인 시간은 10 내지 100 ms이며, 이는 36 mm/s(초당 2 개의 18 mm 빔 폭)의 속도로 이동하는 경우 최대 3.6 mm 변위와 상관된다. 3 ms 레이저 펄스 동안의 변위는 36 mm/s의 속도에 대해 약 0.1 mm로 작다.
조직 표면 상의 레이저 빔(L)의 단면은 형상이 원형, 직사각형, 정사각형 또는 육각형일 수 있다. 직사각형 및 정사각형 빔은 겹침 없이 100% 적용 범위가 필요한 경우에 선호되는 선택이다. 레이저 빔(L)을 형상화하기 위해서 프리즘이 제공될 수 있다. 대안적으로, 원형 또는 직사각형 코어를 갖는 광섬유가 사용될 수 있다. 또는 대안적으로, 원형 빔을 직사각형 빔으로 변환시키는데 회절 광학 요소가 사용될 수 있다. 일반적으로 피부 또는 모발의 넓은 영역을 치료하기 때문에, 연속적인 레이저 빔이 직접 인접하는 것(예를 들어, 접촉, 도 9)이 바람직하거나, 더 양호한 치료 범위를 위해서 연속적인 레이저 빔(L)이 겹칠 수 있다(도 10).
시스템(10)은 제모; 포트 와인 얼룩(port wine stain) 및 거미 정맥 치료(spider vein)와 같은 혈관 병변 치료(vascular lesion treatment); 및 주사비(rosacea), 여드름, 색소 병변(pigmented lesion) 및 태양 손상 피부 치료와 같은 색소 감소 및 피부 회복과 같은 다중 용례에 사용될 수 있다. 제모에 사용하기 위해서, 레이저 소스(22)는 바람직하게, 755 nm 알렉산드라이트 레이저(Alexandrite laser), 약 800 nm, 바람직하게 805 nm 또는 810 nm에서 작동되는 반도체 다이오드 레이저, 및 바람직하게 약 4 mm 깊이까지 사용되는 1064 nm Nd:YAG 레이저 중 하나이다. 혈관 병변 및 색소 치료에 사용하기 위해서, 레이저 소스(22)는 바람직하게, 532 nm KTP 레이저, 1064 nm Nd:YAG 레이저, 585 nm 또는 595 nm에서 작동되는 염료 레이저, 또는 755 알렉산드라이트 레이저 중 하나이다. 혈관 병변에 대해서, 약 1 mm 깊이에서 치료하는 것이 바람직하고 색소 및 피부 회복에 대해서 약 0.1 내지 0.2 mm 깊이에서 치료하는 것이 바람직하다. 시스템(10)은 대부분의 얼굴 전체에 대한 혈관 치료, 또는 다리 또는 남성의 등에 대한 제모 치료와 같은 조직의 상당한 영역을 치료하는데 양호하게 작동한다.
본 명세서에 설명된 작동 및 알고리즘은 설명된 바와 같이 프로세서 회로(25) 내에서 실행 가능한 코드로서 구현될 수 있거나, 하나 이상의 집적 회로를 사용하여 구현된 프로세서 회로에 의한 코드의 실행에 기초하여 완료되는 독립형 컴퓨터 또는 기계 판독 가능한 비-일시적 유형의 저장 매체에 저장될 수 있다.
개시된 회로의 예시적인 구현은 프로그램 가능한 로직 어레이(PLA), 필드 프로그램 가능한 게이트 어레이(FPGA)와 같은 로직 어레이에서, 또는 주문형 집적 회로(ASIC)와 같은 집적 회로의 마스크 프로그래밍(mask programming)에 의해 구현되는 하드웨어 로직(hardware logic)을 포함한다. 이들 회로 중 임의의 것은 또한, 마이크로 프로세서 회로(도시되지 않음)와 같은 대응하는 내부 프로세서 회로에 의해 실행되는 소프트웨어 기반 실행 가능한 리소스를 사용하여 구현되고 하나 이상의 집적 회로를 사용하여 구현될 수 있으며, 내부 메모리 회로에 저장된 실행 코드의 실행으로서 프로세서 회로를 구현하는 집적 회로가 애플리케이션 상태 변수를 프로세서 메모리에 저장하게 하여 본 명세서에 설명된 대로 회로의 작동을 수행하는 실행 가능한 애플리케이션 리소스(예를 들어, 애플리케이션 인스턴스(application instance))를 생성한다. 따라서, 본 명세서에서 "회로"라는 용어의 사용은 하나 이상의 집적 회로를 사용하여 구현되고 설명된 작동을 수행하기 위한 로직을 포함하는 하드웨어 기반 회로, 또는 (하나 이상의 집적 회로를 사용하여 구현된)프로세서 회로(25)를 포함하는 소프트웨어 기반 회로를 모두 지칭하며, 프로세서 회로는 프로세서 회로에 의해 실행 가능한 코드의 실행에 의해 수정되는 애플리케이션 상태 데이터 및 애플리케이션 변수의 저장을 위한 프로세서 메모리의 예약된 부분을 포함한다. 메모리 회로는 예를 들어, PROM(Programmable Read Only Memory: 프로그램 가능한 판독 전용 메모리) 또는 EPROM과 같은 비휘발성 메모리 및/또는 DRAM과 같은 휘발성 메모리 등을 사용하여 구현될 수 있다.
전술한 바람직한 실시예는 본 발명의 구조적 및 기능적 원리를 예시할 뿐만 아니라, 바람직한 실시예를 사용하는 방법을 예시할 목적으로 도시되고 설명되었으며 그러한 원리로부터 벗어나지 않고 변경될 수 있다.

Claims (15)

  1. 레이저 시스템으로서,
    전원을 갖는 베이스 유닛,
    베이스 유닛과 연결되고 치료를 위해 생물학적 조직과 맞물리도록 구성되고 배열되는 휴대용 어플리케이터,
    어플리케이터와 연관되며 어플리케이터가 맞물린 생물학적 조직을 따라 이동될 때 어플리케이터의 변위를 결정하도록 구성되고 배열되는 위치 검출 구조물,
    레이저 빔을 생성하도록 구성되고 배열되는 레이저 소스,
    치료 중에 생물학적 조직에 냉각제 소스를 제공하도록 구성되고 배열되는 냉각 시스템, 및
    위치 검출 구조물, 레이저 소스 및 냉각 시스템과 연결되는 프로세서 회로를 포함하며,
    위치 검출 구조물로부터 수신된 변위 데이터에 기초하여, 프로세서 회로는 치료된 생물학적 조직에 냉각제의 적용을 트리거하고 시간 지연이 뒤따르고 난 다음 레이저 소스를 트리거하도록 구성되고 배열되는,
    레이저 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    레이저 소스, 냉각 시스템 및 처리 회로는 베이스 유닛에 수용되는,
    레이저 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서,
    레이저 소스 및 냉각 시스템은 베이스 유닛에 수용되고 프로세서 회로는 애플리케이터에 수용되는,
    레이저 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서,
    위치 검출 구조물은 자기 롤러, 및 자기 롤러와 연관되고 자기 롤러가 회전할 때 위상 변화를 검출하도록 구성되고 배열된 자기장 센서를 포함하는,
    레이저 시스템.
  5. 제 4 항에 있어서,
    자기장 센서는 적어도 하나의 홀 효과 센서를 포함하는,
    레이저 시스템.
  6. 제 5 항에 있어서,
    프로세서 회로는 홀 효과 센서에 의해 카운트된 위상 변화를 자기 롤러의 변위 값으로 변환하도록 구성되고 배열되는,
    레이저 시스템.
  7. 제 6 항에 있어서,
    프로세서 회로는 자기 롤러의 변위에 기초하여 냉각제 및 레이저 소스의 트리거를 야기하도록 구성되고 배열된 트리거 회로를 포함하는,
    레이저 시스템.
  8. 제 7 항에 있어서,
    애플리케이터는 냉각 시스템으로부터 냉각제를 전달하기 위해서 트리거 회로에 의해 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 트리거되도록 구성되고 배열된 스프레이 밸브를 포함하는,
    레이저 시스템.
  9. 제 6 항에 있어서,
    프로세서 회로는 다음 공식:
    Figure pct00002

    (여기서, D는 자기 롤러의 직경임)을 실행하도록 구성되고 배열되는,
    레이저 시스템.
  10. 제 1 항에 있어서,
    레이저 소스는 755nm 알렉산드라이트(Alexandrite) 레이저; 약 800 nm에서 작동하는 반도체 다이오드 레이저; 1064 nm Nd:YAG 레이저; 532 nm KTP 레이저; 또는 585 nm 또는 595 nm에서 작동하는 염료 레이저인,
    레이저 시스템.
  11. 레이저 시스템으로서,
    전원을 갖는 베이스 유닛,
    베이스 유닛과 연결되고 치료를 위해 생물학적 조직과 맞물리도록 구성되고 배열되는 휴대용 어플리케이터,
    어플리케이터와 연관되며 어플리케이터가 맞물린 생물학적 조직을 따라 이동될 때 어플리케이터의 변위를 결정하도록 구성되고 배열되는 위치 검출 구조물,
    치료 중에 생물학적 조직에 냉각제 소스를 제공하도록 구성되고 배열되는 냉각 시스템, 및
    위치 검출 구조물 및 냉각 시스템과 연결되는 프로세서 회로를 포함하며,
    위치 검출 구조물로부터 수신된 변위 데이터에 기초하여, 프로세서 회로는 치료된 생물학적 조직에 냉각제의 적용을 트리거하도록 구성되고 배열되는,
    레이저 시스템.
  12. 제 11 항에 있어서,
    휴대용 애플리케이터는 스프레이 밸브가 프로세서 회로에 의해 트리거되면 냉각제를 공급하도록 구성되고 배열된 스프레이 밸브를 포함하는,
    레이저 시스템.
  13. 제 12 항에 있어서,
    프로세서 회로는 스프레이 밸브를 트리거하여 10 내지 100 ms 동안 냉각제를 공급하도록 구성되고 배열되는,
    레이저 시스템.
  14. 제 13 항에 있어서,
    냉각제는 극저온 가스인,
    레이저 시스템.
  15. 제 11 항에 있어서,
    위치 검출 구조물은 자기 롤러, 및 자기 롤러와 연관되고 자기 롤러가 회전할 때 위상 변화를 검출하도록 구성되고 배열된 자기장 센서를 포함하는,
    레이저 시스템.
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