KR20210133877A - Cover panel, method for producing same, and use thereof - Google Patents

Cover panel, method for producing same, and use thereof Download PDF

Info

Publication number
KR20210133877A
KR20210133877A KR1020210054136A KR20210054136A KR20210133877A KR 20210133877 A KR20210133877 A KR 20210133877A KR 1020210054136 A KR1020210054136 A KR 1020210054136A KR 20210054136 A KR20210054136 A KR 20210054136A KR 20210133877 A KR20210133877 A KR 20210133877A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
coating
glass
cover panel
ceramic substrate
less
Prior art date
Application number
KR1020210054136A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
야쿠프 괘뉠뤼
안드레아스 한
크리스티안 헨
안니카 랑게
Original Assignee
쇼오트 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쇼오트 아게 filed Critical 쇼오트 아게
Publication of KR20210133877A publication Critical patent/KR20210133877A/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/245Oxides by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/02Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3464Sputtering using more than one target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment
    • C23C14/5806Thermal treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/23Mixtures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/70Properties of coatings
    • C03C2217/78Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/151Deposition methods from the vapour phase by vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • C03C2218/153Deposition methods from the vapour phase by cvd by plasma-enhanced cvd
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154Deposition methods from the vapour phase by sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154Deposition methods from the vapour phase by sputtering
    • C03C2218/156Deposition methods from the vapour phase by sputtering by magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/30Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32After-treatment
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24BDOMESTIC STOVES OR RANGES FOR SOLID FUELS; IMPLEMENTS FOR USE IN CONNECTION WITH STOVES OR RANGES
    • F24B1/00Stoves or ranges
    • F24B1/18Stoves with open fires, e.g. fireplaces
    • F24B1/191Component parts; Accessories
    • F24B1/192Doors; Screens; Fuel guards
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24CDOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
    • F24C15/00Details
    • F24C15/004Windows not in a door
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24CDOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
    • F24C15/00Details
    • F24C15/02Doors specially adapted for stoves or ranges
    • F24C15/04Doors specially adapted for stoves or ranges with transparent panels
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24CDOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
    • F24C15/00Details
    • F24C15/10Tops, e.g. hot plates; Rings

Abstract

The present invention generally relates to a cover panel, a method for producing the cover panel, and a use thereof. The present invention has resistance at high temperatures.

Description

커버 패널, 커버 패널을 생산하는 방법, 및 그 이용{COVER PANEL, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND USE THEREOF}COVER PANEL, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND USE THEREOF

본 발명은, 개괄적으로, 커버 패널, 이러한 커버 패널을 생산하는 방법 및 그 이용에 관한 것이다.The present invention relates generally to cover panels, methods for producing such cover panels and uses thereof.

커버 패널이, 예를 들어, 가구에 사용되며, 이 경우, 커버 패널은 전자 구성 요소가 배치되는 영역을, 예를 들어, 사용자 영역으로부터 분리한다. 예를 들어, 커버 패널이 조리 기구의 소위 핫 플레이트 또는 조리 패널로도 사용될 수도 있다. 커버 패널의 다른 적용 영역으로는, 예를 들어, 오븐이나 벽난로 또는 기타 가열 장치에서의 벽난로 관찰 창으로서의 커버 패널의 용도가 있다.A cover panel is used, for example, for furniture, in which case the cover panel separates the area in which the electronic component is arranged, for example from the user area. For example, the cover panel may also be used as a so-called hot plate or cooking panel of a cooking appliance. Another area of application of the cover panel is, for example, the use of the cover panel as a fireplace viewing window in an oven or fireplace or other heating device.

따라서, 커버 패널은 일반적으로 작동 사용 중에 상당한 열 부하에 노출될 수도 있다.Accordingly, the cover panel may generally be exposed to significant thermal loads during operational use.

그러나, 사용 중에 커버 패널이 받는 기계적 부하도 상당할 수 있다는 사실이 계속해서 밝혀져 왔다. 예를 들어, 부하에는 이러한 커버 패널의 및/또는, 예를 들어, 조리 패널의 소위 기능상 구역을 표시하는 데 사용되는 소위 장식 층과 같은 코팅의 또는 커버 패널의 표면 상에 제공된 기타 코팅의 표면 상에 상당한 마모 및 찢김을 유발할 수 있는 마모 또는 긁힘 부하가 포함된다. However, it has been found over and over again that the mechanical loads subjected to cover panels during use can also be significant. For example, the load may include on the surface of such a cover panel and/or of, for example, a coating such as a so-called decorative layer used to mark a so-called functional zone of a cooking panel or of other coatings provided on the surface of the cover panel. includes wear or scratch loads that can cause significant wear and tear.

재료의 내열성 및 층의 경도와 같은 내마모성뿐만 아니라 내화학성도 중요하다는 사실을 또한 염두에 두어야 한다. 실제로, 커버 패널이 오븐이나 벽난로와 같이, 예를 들어, 고온 용례의 관찰 창이나 조리 표면으로서 사용되는 경우, 공격적인 물질이, 특히, 또한 더 높은 온도에서 커버 패널과 접촉할 수 있다.It should also be borne in mind that chemical resistance as well as wear resistance such as heat resistance of the material and hardness of the layer are important. Indeed, when the cover panel is used as a viewing window or cooking surface in, for example, a high-temperature application, such as an oven or fireplace, aggressive substances may come into contact with the cover panel, in particular also at higher temperatures.

특히, 이러한 커버 패널의 표면의 내마모성을 개선하기 위해, 소위 긁힘 보호 층이, 특히, 커버 패널의 표면에 적용되어 왔다. 그러나, 충분히 단단하면서도 고온에서도 충분한 내화학성을 나타내는 코팅을 획득하기란 여전히 어려운 것으로 밝혀졌다. 또한, 긁힘 보호 층의 재료는 더욱이 가능한한 시각적으로 눈에 띄지 않아야 한다. 즉, 커버 패널은, 가능한한, 커버 패널을 통과하는 광의 색상을 조작하지 않아야 하며 및/또는, 가능한한, 예를 들어, 디스플레이와 같은 광 표시기가 비교적 낮은 조도에서도 여전히 쉽게 인식될 수 있도록 낮은 흡수율만을 나타내어야 한다.In particular, in order to improve the abrasion resistance of the surface of such a cover panel, a so-called scratch protection layer has been applied, in particular, to the surface of the cover panel. However, it has been found that it is still difficult to obtain a coating that is sufficiently hard and exhibits sufficient chemical resistance even at high temperatures. In addition, the material of the scratch protection layer should moreover be as visually inconspicuous as possible. That is, the cover panel should, as far as possible, not manipulate the color of the light passing through the cover panel and/or as low absorptivity as possible so that, for example, a light indicator, such as a display, can still be easily recognized even in relatively low illuminance. should only indicate

마모 보호 층에 적합한 재료에는, 예를 들어, 금속 질화물이나 탄화물, 예를 들어, 알루미늄 또는 티타늄의 질화물이나 탄화물, 또는 실리콘과 같은 반금속이 포함된다. 그러나, 이들 재료는 고온에서 사용하기에는 내화학성이 충분하지 않다.Suitable materials for the wear protection layer include, for example, metal nitrides or carbides, for example nitrides or carbides of aluminum or titanium, or semimetals such as silicon. However, these materials are not sufficiently chemically resistant for use at high temperatures.

적어도 원칙적으로 긁힘 보호 층용으로 고려되는 기타 재료로는 산화물, 특히, 금속 산화물이 있다. 이것은 더욱이 매우 안정적인 재료이며, 일부는 투명하거나 무색이다. 그러나, 산화물은, 그 기계적 특성면에서는, 대부분 상당히 더 단단한 탄화물 및 질화물보다는 열등하다. 일부 단일 금속제의 금속 산화물, 즉, 주요 금속제 성분으로서 하나의 금속만을 포함하는 금속 산화물은 산화철 또는 산화 크롬과 같이 착색이 되는 단점이 있다. 반면에, 이산화 티타늄은 무색이지만 굴절률이 매우 높기 때문에 가시광을 너무 강하게 반사시켜 이러한 코팅을 시각적으로 눈에 더 잘 띄게 만든다.Other materials considered, at least in principle, for the scratch protection layer are oxides, in particular metal oxides. It is also a very stable material, some of which are transparent or colorless. However, oxides, in terms of their mechanical properties, are mostly inferior to the considerably harder carbides and nitrides. Some single metal metal oxides, that is, metal oxides containing only one metal as a main metal component, have a disadvantage in that they are colored like iron oxide or chromium oxide. Titanium dioxide, on the other hand, is colorless but has a very high refractive index, so it reflects visible light so strongly that it makes these coatings more visually appealing.

고려되는 대안의 재료로는 금속제 혼합 산화물, 특히, 2 성분의 또는 2 가지 금속으로 된 산화물이 있다.Alternative materials contemplated include metallic mixed oxides, in particular bicomponent or bimetallic oxides.

본 개시의 문맥에서, "금속제 혼합 산화물"은 주성분으로서 복수의 금속제 성분을 포함하는 산화물을 의미하는 것으로 이해된다. 다시 말해, 금속제 혼합 산화물은 음이온으로서의 산소 이온(O2-)과 적어도 2 개의 원소의 양이온, 특히, 적어도 2 개의 금속의 양이온을 포함하며, 혼합 산화물에 포함된 제 2 금속은 도펀트나 단지 불가피한 극소량의 형태가 아니라 필수 성분이다.In the context of the present disclosure, "metal mixed oxide" is understood to mean an oxide comprising a plurality of metallic components as a main component. In other words, the metal mixed oxide includes an oxygen ion (O 2 - ) as an anion and a cation of at least two elements, in particular, a cation of at least two metals, and the second metal contained in the mixed oxide is a dopant or only an unavoidable trace amount. It is an essential component, not a form of

2 가지 금속으로 된 또는 2 성분의 금속 산화물 또는 혼합 산화물은 주성분으로서 2 개의 금속을 포함하는 산화물을 의미하는 것으로 이해된다. 용어 2 가지 금속의 또는 2 성분의 금속 산화물 또는 혼합 산화물은, 특히, 일반식 AB204의 스피넬 구조를 갖는 산화물 또는 혼합 산화물을 포함하며, 본 개시의 문맥에서 "스피넬 구조를 갖는 산화물"이라는 단어는 스피넬 구조에서 결정화되는 산화물 또는 혼합 산화물뿐만 아니라 역 스피넬 구조에서 결정화되는 산화물을 포함한다.A bimetallic or bicomponent metal oxide or mixed oxide is understood to mean an oxide comprising two metals as main components. The term bimetallic or bicomponent metal oxides or mixed oxides includes, inter alia, oxides or mixed oxides having a spinel structure of the general formula AB 2 0 4 , which in the context of the present disclosure are referred to as “oxides having a spinel structure” The word includes oxides or mixed oxides that crystallize in a spinel structure as well as oxides that crystallize in an inverse spinel structure.

스피넬 구조 또는 역 스피넬 구조로 알려진 구조에서는, 금속 양이온이 크기에 따라 산소 이온에 의해 정의되는 바와 같은 동일한 구체의 밀집 패킹의 간극에 위치한다. 스피넬 구조(뿐만 아니라 소위 역 스피넬 구조)는 당업자에게 알려진 결정 구조이며, MgAl2O4 미네랄 스피넬의 이름을 딴 것이다.In a structure known as a spinel structure or inverse spinel structure, the metal cations are located in the interstices of the dense packing of the same spheres as defined by the oxygen ions according to their size. The spinel structure (as well as the so-called inverted spinel structure) is a crystal structure known to those skilled in the art and is named after the MgAl 2 O 4 mineral spinel.

여기서는 스피넬, MgAl2O4가 특히 중요한데, 그 이유는 이 재료가 최대 1000℃ 이상의 온도를 견딜 수 있으며, 특히, 내화학성도 충분하기 때문이다. 더욱이, 이 재료는 수 센티미터의 두께에서도 여전히 투명할 수 있으며 스피넬로부터 매우 단단한 몸체가 획득될 수 있는 것으로 알려져 있다.A spinel, MgAl 2 O 4 , is particularly important here, since it can withstand temperatures up to 1000° C. and higher and, in particular, has sufficient chemical resistance. Moreover, it is known that this material can still be transparent even at a thickness of several centimeters and that very rigid bodies can be obtained from spinel.

스피넬을 기반으로 한 재료로는, 예를 들어, 세라믹이 알려져 있다. 예를 들어, 1969 년 펜실베니아 필라델피아 소재 제너럴 일렉트릭(General Electric)사의 가티 에이(Gatti, A.)가 발표한 최종 보고서인 "투명 스피넬 몸체를 생산하기 위한 공정의 개발(Development of a process for producing transparent spinel bodies)"에는 스피넬로부터 투명한 몸체를 생산하기 위한 방법이 설명되어 있다.As materials based on spinel, for example, ceramics are known. For example, in 1969, Gatti, A., of General Electric, Philadelphia, Pennsylvania, published a final report entitled "Development of a process for producing transparent spinel." bodies)" describes a method for producing transparent bodies from spinel.

또한, EP 0 334 760 B1에는 마그네슘 알루미늄 스피넬로부터 고성능 물체, 특히, 적외선 및 가시광 범위에서 투명한 물체를 제조하기 위한 공정이 설명되어 있다.In addition, EP 0 334 760 B1 describes a process for producing high-performance objects from magnesium-aluminum spinel, in particular transparent objects in the infrared and visible range.

미국 특허 문헌 US 4,029,755 A에는 투명하며 냉간 압착 공정에 의해 획득되는 세라믹이 설명되어 있으며, 이러한 세라믹은 세라믹 공정 동안 직경이 50 ㎛ 내지 300 ㎛인 미세 입자로 구성된다.US patent document US 4,029,755 A describes a ceramic which is transparent and obtained by a cold pressing process, which ceramic consists of fine particles having a diameter of 50 μm to 300 μm during the ceramic process.

또한, EP 3 502 075 A1에 개시된 바와 같이, 스피넬 구조를 갖는 재료를 포함하는 흑색 코팅이 이미 획득되어 왔다.Also, as disclosed in EP 3 502 075 A1, a black coating comprising a material having a spinel structure has already been obtained.

그러나, 지금까지는 긁힘 보호 층으로서 유용한, 커버 패널 상의 투명하고 무색의 코팅을 획득하기가 아직은 불가능한 상태이다. 사실, EP 3 502 075 A1의 층은, 궁극적으로 흡수로 인한 코팅의 착색에도 불구하고 전자기 스펙트럼의 적외선 범위에서 충분한 투과율이 여전히 보장되어야 하기 때문에, 유색 코팅이며 수백 nm의 매우 작은 두께만을 갖는다. 따라서, EP 3 502 075 A1에 따른 재료는 전이 금속 이온을 포함하며 따라서 항상 뚜렷한 고유 색상을 가질 것이기 때문에, 종래 기술의 층은 긁힘 보호 층으로서, 특히 무색의 긁힘 보호 층으로서 적합하지 않다.However, it is not yet possible to obtain a transparent and colorless coating on the cover panel which is useful as a scratch protection layer so far. In fact, the layer of EP 3 502 075 A1 is a colored coating and has only a very small thickness of several hundred nm, since, ultimately, a sufficient transmittance in the infrared range of the electromagnetic spectrum must still be ensured despite the coloring of the coating due to absorption. Layers of the prior art are therefore not suitable as scratch protection layers, in particular as colorless scratch protection layers, since the material according to EP 3 502 075 A1 contains transition metal ions and will therefore always have a distinct intrinsic color.

그러므로, 투명하고 기계적으로 및/또는 화학적으로, 바람직하게는 최대 1000℃의 고온에서도 저항성을 갖는 코팅을 구비한 커버 패널 및 이러한 커버 패널을 생산하기 위한 방법이 필요하다.There is therefore a need for cover panels and methods for producing such cover panels, which are transparent and have a coating that is mechanically and/or chemically resistant, preferably even at high temperatures of up to 1000°C.

본 발명의 목적은 종래 기술의 이전 문제를 적어도 부분적으로 극복하거나 적어도 완화하는 커버 패널을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a cover panel which at least partially overcomes or at least alleviates the prior problems of the prior art.

본 발명의 목적은 독립항의 주제에 의해 달성된다. 바람직한 및/또는 보다 구체적인 실시예가 종속항으로부터 명백해질 것이다.The objects of the invention are achieved by the subject matter of the independent claims. Preferred and/or more specific embodiments will become apparent from the dependent claims.

따라서, 본 발명은 제 1 주 표면 및 제 2 주 표면을 갖는 유리 또는 유리 세라믹 기판 및 커버 패널의 적어도 하나의 영역에서 유리 또는 유리 세라믹 기판의 주 표면 중 적어도 하나 상에 배치된 코팅을 포함하는 커버 패널에 관한 것이며, 코팅이 화학식 AxByO4의 적어도 하나의 혼합 산화물을 포함하거나, 화학식 AxByO4의 적어도 하나의 혼합 산화물로 주로, 즉, 50 중량%를 초과하여, 또는 실질적으로 즉, 90 중량%를 초과하여, 또는 전체적으로 형성되며, A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며, 혼합 산화물 및/또는 코팅이 적어도 부분적으로 결정질, 특히, 다결정질이며, A는, 바람직하게는, Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물을 포함하며, B는, 바람직하게는, Al, Fe, Cr, V 또는 이들의 혼합물을 포함하며, 코팅은 바람직하게는 70%를 초과하는 광 투과율을 나타낸다.Accordingly, the present invention provides a cover comprising a glass or glass ceramic substrate having a first major surface and a second major surface and a coating disposed on at least one of the major surfaces of the glass or glass ceramic substrate in at least one region of the cover panel. relates to a panel, the coating including at least one mixed oxide of the formula a x B y O 4, or exceeds mainly, that is, 50% by weight of at least one mixed oxide of the formula a x B y O 4, or formed substantially, i.e., greater than or equal to 90% by weight, wherein the molar ratio of A to B is from 0.3 to 0.7 and the mixed oxide and/or coating is at least partially crystalline, in particular polycrystalline, wherein A is Preferably, it comprises Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or mixtures thereof, B preferably comprises Al, Fe, Cr, V or mixtures thereof, the coating is preferably In some cases, it exhibits a light transmittance exceeding 70%.

본 개시의 문맥에서, 이하의 정의가 적용되어야 한다.In the context of this disclosure, the following definitions should apply.

본 개시의 문맥에서, 패널은 데카르트 좌표계의 일 공간 방향으로의 치수가 제 1 공간 방향에 수직인 2 개의 다른 공간 방향에서보다 적어도 한 자릿수 더 작은 성형체를 의미하는 것으로 이해된다. 다시 말해, 성형체의 두께가 길이와 폭보다 작다.In the context of the present disclosure, a panel is understood to mean a shaped body whose dimension in one spatial direction of the Cartesian coordinate system is at least one order of magnitude smaller than in two other spatial directions perpendicular to the first spatial direction. In other words, the thickness of the molded body is smaller than the length and width.

본 개시의 문맥에서, 패널의 또는 보다 일반적으로 성형체의 주 표면은 성형체 또는 패널의 표면의 표면적의 대부분을 포함하는 성형체 또는 패널의 표면을 의미하는 것으로 이해된다. 패널의 경우, 특히, 주 표면은 치수가 성형체의 길이와 폭에 의해 정의되는 표면이다. 패널의 정확한 배열에 따라, 주 표면이 종종 패널의 상부 표면 및 하부 표면으로 또는 전방 표면 및 후방 표면으로 지칭된다. In the context of the present disclosure, a major surface of a panel or more generally of a shaped body is understood to mean the surface of a shaped body or panel comprising a majority of the surface area of the surface of the shaped body or panel. In the case of panels, in particular, the major surface is a surface whose dimensions are defined by the length and width of the shaped body. Depending on the exact arrangement of the panel, the major surfaces are often referred to as the top and bottom surfaces of the panel or the front and back surfaces.

전술한 바와 같은 커버 패널의 실시예는 많은 이점을 갖는다.The embodiment of the cover panel as described above has many advantages.

코팅이 화학식 AxByO4의 혼합 산화물을 포함하거나, 화학식 AxByO4의 적어도 하나의 혼합 산화물로 주로, 즉, 50 중량%(또는 원자%, 즉, 개개의 몰분율을 기반으로 함)를 초과하여, 또는 실질적으로, 즉, 90 중량%를 초과하여, 또는 전체적으로 형성된다는 사실은 한편으로는 코팅이 고온에서 안정적이라는 것을 의미한다. 본 개시의 문맥에서, 코팅 및/또는 재료의 고온에서의 안정적인 설계는 최대 900℃ 미만, 특히, 최대 800℃의 온도와 같은 고온에서 재료 또는 코팅이 상전이 되지 않을 것이라는 것을 의미하는 것으로 이해된다. 또한, 재료 또는 코팅이 분해 반응이나 균열과 같은 어떠한 열화도 나타내지 않을 것이다.Coating comprises a mixed oxide of the formula A x B y O 4, or, primarily, that is, 50% by weight (or at.%, That is, based on the respective molar fraction of at least one mixed oxide of the formula A x B y O 4 ), or substantially, ie more than 90% by weight, or wholly formed means on the one hand that the coating is stable at high temperatures. In the context of the present disclosure, a stable design at high temperatures of a coating and/or material is understood to mean that at high temperatures, such as at most temperatures below 900°C, in particular at most 800°C, the material or coating will not undergo a phase change. Also, the material or coating will not show any degradation such as decomposition reactions or cracking.

재료 및 이에 따라 코팅의 이러한 매우 우수한 저항성은 혼합 산화물 및/또는 코팅이 적어도 부분적으로 결정질이라는 사실에 의해 유리하게 촉진된다. 예를 들어, 혼합 산화물이 스피넬 구조 또는 역 스피넬 구조의 형태이거나 그렇지 않으면 감람석 구조의 형태일 수도 있으며, 스피넬 구조 또는 선택적으로 역 스피넬 구조의 존재가 유리할 수 있다. 이것은 스피넬 구조 또는 선택적으로 역 스피넬 구조가 결정학 측면에서 매우 안정적인 구조로서 위상 변화를 겪지 않는 경향이 있기 때문이다. 따라서, 코팅의 결정 또는 결정립의 함량이 매우 높으면 특히 유리하다. 재료 또는 코팅 또는 혼합 산화물은, 특히, 다결정질이다.This very good resistance of the material and thus of the coating is advantageously promoted by the fact that the mixed oxide and/or the coating is at least partially crystalline. For example, the mixed oxide may be in the form of a spinel structure or inverse spinel structure or otherwise in the form of an olivine structure, the presence of a spinel structure or optionally an inverted spinel structure may be advantageous. This is because the spinel structure, or optionally the inverse spinel structure, is a very stable structure in terms of crystallography and does not tend to undergo a phase change. Therefore, it is particularly advantageous if the content of crystals or grains in the coating is very high. The material or coating or mixed oxide is, in particular, polycrystalline.

코팅의 유리한 구현이, 특히, 재료의 선택에 의해 영향을 받을 수도 있다. 따라서, 성분 A가, 바람직하게는, 철(Fe) 및/또는 마그네슘(Mg) 및/또는 베릴륨(Be) 및/또는 아연(Zn) 및/또는 코발트(Co) 및/또는 실리콘(Si) 및/또는 망간(Mn) 및/또는 바나듐(V) 및/또는 이들의 혼합물을 포함한다. 성분 A를 정의하거나 성분 A에 포함된 금속은, 바람직하게는, 산화수 II+, 즉, 예를 들어, 알칼리 토금속을 갖는 양이온의 형태로 존재하는 것이 바람직하다. 그러나, 성분 A가 또한, 산화 화합물에서 산화수 IV+를 갖는 반금속인 실리콘에 의해 형성되거나 이를 포함할 수도 있다. 더욱 바람직하게는, B는 알루미늄(Al), 철(Fe), 크롬(Cr) 또는 바나듐(V) 또는 이들의 혼합물을 포함하며, 성분 B를 정의하거나 성분 B에 포함된 금속은 양이온의 형태로 존재한다. A의 대부분(즉, 적어도 50 원자% 또는 몰%)이 마그네슘이며, B의 대부분(즉, 적어도 50 원자% 또는 몰%)이 알루미늄인 경우 특히 바람직하다. 특히, 불기피한 극소량을 제외하고, 재료 또는 혼합 산화물 또는 코팅이 금속제 성분으로서 마그네슘과 알루미늄 또는 이들의 양이온만을 포함하는 것도 가능하며, 즉, 재료 또는 혼합 산화물 또는 코팅이 스피넬 MgAl2O4, 특히 다결정질 스피넬로 형성되는 것이 가능하다. 특히, 재료 및/또는 코팅의 다결정질 실시예가 유리할 수 있는데, 그 이유는, 매우 작고 미세한 결정립이 존재하면, 입자 경계가 시각적으로 방해가 되는 것으로 인식되지 않기 때문에 시각적으로 눈에 띄지 않기 때문이며, 따라서, 이러한 코팅의 투명성 또는 코팅을 통한 가시성이 크게 손상되지 않는다.The advantageous implementation of the coating may, in particular, be influenced by the choice of material. Accordingly, component A is preferably composed of iron (Fe) and/or magnesium (Mg) and/or beryllium (Be) and/or zinc (Zn) and/or cobalt (Co) and/or silicon (Si) and and/or manganese (Mn) and/or vanadium (V) and/or mixtures thereof. It is preferred that the metal defining component A or comprised in component A is preferably present in the form of a cation having an oxidation number II+, ie, for example an alkaline earth metal. However, component A may also be formed by or comprise silicon, which is a semimetal having an oxidation number IV+ in an oxidizing compound. More preferably, B comprises aluminum (Al), iron (Fe), chromium (Cr) or vanadium (V) or mixtures thereof, wherein the metal defining component B or contained in component B is in the form of a cation exist. It is particularly preferred when the majority of A (ie at least 50 atomic % or mol %) is magnesium and the majority (ie at least 50 atomic % or mol %) of B is aluminum. In particular, with the exception of unavoidable traces, it is also possible for the material or mixed oxide or coating to contain as metallic components only magnesium and aluminum or their cations, ie the material or mixed oxide or coating is spinel MgAl 2 O 4 , in particular It is possible to form into polycrystalline spinel. In particular, polycrystalline embodiments of materials and/or coatings may be advantageous, since the presence of very small and fine grains is not visually conspicuous as grain boundaries are not perceived as visually obstructive, and thus , the transparency or visibility through the coating is not significantly impaired.

이하의 금속 조합이 바람직하다.The following metal combinations are preferred.

A가 마그네슘 및/또는 베릴륨을 포함하는 경우, B는, 바람직하게는, 알루미늄 및/또는 철 및/또는 크롬 및/또는 바나듐이다.When A comprises magnesium and/or beryllium, B is preferably aluminum and/or iron and/or chromium and/or vanadium.

B가 알루미늄을 포함하는 경우, A는, 바람직하게는, 마그네슘 및/또는 베릴륨 및/또는 마그네슘 및/또는 베릴륨 및/또는 바나듐의 혼합물이다.When B comprises aluminum, A is preferably a mixture of magnesium and/or beryllium and/or magnesium and/or beryllium and/or vanadium.

B가 크롬을 포함하는 경우, A는, 바람직하게는, 마그네슘 및/또는 철 및/또는 아연 및/또는 코발트이다.When B comprises chromium, A is preferably magnesium and/or iron and/or zinc and/or cobalt.

B가 바나듐을 포함하는 경우, A는, 바람직하게는, 망간 및/또는 마그네슘이다.When B comprises vanadium, A is preferably manganese and/or magnesium.

B가 철을 포함하는 경우, A는, 바람직하게는, 마그네슘 및/또는 실리콘이다.When B comprises iron, A is preferably magnesium and/or silicon.

일 실시예에 따르면, 따라서, 코팅은 A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며, A는 마그네슘 및/또는 베릴륨을 포함하며, B는 알루미늄 및/또는 철 및/또는 크롬 및/또는 바나듐을 포함하는 화학식 AxByO4의 적어도 하나의 혼합 산화물을 포함하며,According to one embodiment, the coating thus has a molar ratio of A to B of at least 0.3 and no more than 0.7, wherein A comprises magnesium and/or beryllium, and B comprises aluminum and/or iron and/or chromium and/or vanadium. at least one mixed oxide of the formula A x B y O 4 comprising

및/또는 A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며, B는 알루미늄을 포함하며, A는 마그네슘 및/또는 베릴륨 및/또는 마그네슘과 베릴륨의 혼합물, 및/또는 바나듐을 포함하는 화학식 AxByO4의 적어도 하나의 혼합 산화물을 포함하며,And and / or A-to-B molar ratio is more than 0.7 more than 0.3 in, B has the formula A x B which comprises aluminum, A contains a magnesium and / or beryllium and / or the mixture of magnesium and beryllium, and / or vanadium, at least one mixed oxide of y O 4 ,

및/또는 A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며, B는 알루미늄을 포함하며, B는 크롬을 포함하며 A는 마그네슘 및/또는 철 및/또는 아연 및/또는 코발트를 포함하는 화학식 AxByO4의 적어도 하나의 혼합 산화물,And and / or A-to-B molar ratio is more than 0.7 more than 0.3 of the, B comprises aluminum, B is a formula A x containing chromium and A contains a magnesium and / or iron and / or zinc and / or cobalt, at least one mixed oxide of B y O 4 ,

및/또는 A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며, B는 바나듐을 포함하며 A는 망간 및/또는 마그네슘을 포함하는 화학식 AxByO4의 적어도 하나의 혼합 산화물,and/or at least one mixed oxide of the formula A x B y O 4 wherein the molar ratio of A to B is from 0.3 to 0.7, B comprises vanadium and A comprises manganese and/or magnesium;

및/또는 A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며 B는 철을 포함하며 A는 마그네슘 및/또는 실리콘을 포함하는 화학식 AxByO4의 적어도 하나의 혼합 산화물을 포함한다.and/or at least one mixed oxide of formula A x B y O 4 wherein the molar ratio of A to B is 0.3 to 0.7 and B comprises iron and A comprises magnesium and/or silicon.

여기서, 코팅이 단 하나의 결정질 상, 예를 들어, MgAl2O4를 포함하거나 이것으로 형성된 결정 또는 결정립만 포함하는 것이 가능하다. 이것은 단지 하나의 혼합 산화물을 포함하거나 단지 하나의 혼합 산화물로 주로 또는 실질적으로 또는 전체적으로 구성된 코팅과 동의어이다. 그러나, 코팅이 복수의 결정질 상, 즉, 예를 들어, MgAl2O4에 추가하여 Fe2SiO4 및/또는 다른 결정질 상을 포함하는 것도 가능하다. 이것은 복수의 혼합 산화물을 포함하거나 복수의 혼합 산화물로 주로 또는 실질적으로 또는 심지어 전체가 구성된 코팅과 동의어이다.Here, it is possible for the coating to comprise only one crystalline phase, for example crystals or grains comprising or formed of MgAl 2 O 4 . It is synonymous with a coating comprising only one mixed oxide or consisting mainly or substantially or entirely of only one mixed oxide. However, it is also possible for the coating to comprise a plurality of crystalline phases, eg Fe 2 SiO 4 and/or other crystalline phases in addition to , for example, MgAl 2 O 4 . This is synonymous with a coating comprising a plurality of mixed oxides or consisting mainly or substantially or even entirely of a plurality of mixed oxides.

보다 일반적으로, 코팅이 적어도 부분적으로 무정형이며, 즉, 적어도 하나의 결정질 상 또는 가능하게는 복수의 결정질 상 외에 무정형 상을 포함하는 것도 가능하다.More generally, it is also possible for the coating to be at least partially amorphous, ie comprising an amorphous phase in addition to at least one crystalline phase or possibly a plurality of crystalline phases.

단 하나의 결정질 상을 포함하는(또는 단 하나의 혼합 산화물을 포함하는) 코팅의 실시예는 코팅이 하나의 특정한 결정학적으로 결정 가능한 상의 결정 또는 결정립만을 포함하는 것을 의미하는 것으로 이해된다. 따라서, 복수의 결정질 상을 포함하는 코팅의 실시예는 상이한 결정 상이, 예를 들어, X-선 회절(XRD)에 의해 코팅에서 결정학적으로 검출될 수 있는 것을 의미하는 것으로 이해된다.An embodiment of a coating comprising only one crystalline phase (or comprising only one mixed oxide) is understood to mean that the coating comprises only crystals or grains of one particular crystallographically determinable phase. Accordingly, an embodiment of a coating comprising a plurality of crystalline phases is understood to mean that different crystalline phases can be detected crystallographically in the coating, for example by means of X-ray diffraction (XRD).

바람직한 결정 상은, 예를 들어, MgAl2O4, BeAl2O4, MgFe2O4, MgCr2O4, MgV2O4, (Be, Mg)Al2O4, 예를 들어, BeMgAl4O8, FeCr2O4, ZnCr2O4, CoCr2O4, FeV2O4, Val2O4, SiFe2O4, MnV2O4를 포함한다.Preferred crystalline phases are, for example, MgAl 2 O 4 , BeAl 2 O 4 , MgFe 2 O 4 , MgCr 2 O 4 , MgV 2 O 4 , (Be, Mg)Al 2 O 4 , eg BeMgAl 4 O 8 , FeCr 2 O 4 , ZnCr 2 O 4 , CoCr 2 O 4 , FeV 2 O 4 , Val 2 O 4 , SiFe 2 O 4 , MnV 2 O 4 .

또한, 코팅 특성의 유리한 구현이 또한, 성분 A 및 B의 서로에 대한 몰비의 적절한 선택에 의해 촉진될 수도 있다. 성분 A 및 B의 서로에 대한 몰비는, 유리하게는, 0.3 이상 내지 0.7 이하의 범위에 있다. 특히, 이 비율이 정확히 0.5, 즉, 2 개의 원자 B 당 1 개의 원자 A인 것이 가능하다. 이 경우, 스피넬 구조 또는 역 스피넬 구조 AB2O4에 따른 화학양론적 조성이 초래된다. 그러나, 이러한 이상적인 화학양론적 비율로부터의 편차가 전술한 한계 내에서 허용되며, 예를 들어, 성분 A 및/또는 B의 원자가 변화에 기반할 수도 있다. 특히, 혼합 산화물이 성분 A 및/또는 성분 B 외에 성분 C를 포함하는 것도 원칙적으로 가능하며, 즉, 혼합 산화물 AxByO4가 도핑될 수 있다. 성분 A 및 B가 산화물의 필수 특성을 결정하기 때문에, 여전히 화합물 또는 혼합 산화물 AxByO4로 말할 수 있다. 도핑된 혼합 산화물의 경우, 성분 C가 언급되어야 한다면, 혼합 산화물이 또한, AxByO4 또는 AxByCzO4로 표기되거나 지정될 수 있다. 여기서, 일반적으로, 혼합 산화물, 코팅 및/또는 커버 패널의 실시예 중 어느 하나로 제한되지 않고, 산소(O)의 양이 존재하는 성분 A, B 및/또는 C의 원자가 및/또는 양에 따라 화학식에 표시된 화학양론적 양(즉, 지수 "4")과 약간 다를 수도 있는 것으로 이해된다. 그러나, 결정 구조가 해당 화학양론적 화합물의 결정 구조와 여전히 일치하는 한 이것은 중요하지 않은 것으로 간주된다.Furthermore, advantageous realization of the coating properties may also be facilitated by appropriate selection of the molar ratios of components A and B to each other. The molar ratios of components A and B to each other are advantageously in the range from 0.3 or more to 0.7 or less. In particular, it is possible for this ratio to be exactly 0.5, ie one atom A for every two atoms B. In this case, a stoichiometric composition according to the spinel structure or the inverse spinel structure AB 2 O 4 results. However, deviations from these ideal stoichiometric ratios are allowed within the limits described above and may be based, for example, on valence changes of components A and/or B. In particular, it is also possible in principle for the mixed oxide to comprise component C in addition to component A and/or component B, ie the mixed oxide A x B y O 4 can be doped. Since components A and B determine the essential properties of the oxide, it can still be said as a compound or mixed oxide A x B y O 4 . In the case of doped mixed oxides, if component C is to be mentioned, mixed oxides may also be denoted or designated as A x B y O 4 or A x B y C z O 4 . Here, in general, without being limited to any one of the embodiments of mixed oxides, coatings and/or cover panels, the amount of oxygen (O) depends on the valence and/or amount of components A, B and/or C present in the formula It is understood that it may differ slightly from the stoichiometric amount indicated in (i.e., index "4"). However, this is considered insignificant as long as the crystal structure still matches the crystal structure of the stoichiometric compound in question.

특히, 내마모성, 예를 들어, 긁힘 및/또는 마모 내성을 갖는 코팅이 이러한 방식으로 획득될 수 있기 때문에 화학식 AxByO4의 산화 상의 형성이 유리하긴 하지만, 질화물과 같은 종래 기술의 긁힘 보호 코팅에 비해 층의 응력 감소를 나타낸다. 실시예에 따른 코팅의 층 응력의 절대 값은, 바람직하게는, 최대 800 Mpa, 보다 바람직하게는 최대 500 MPa, 그리고 가장 바람직하게는 300 MPa 이하이다. 즉, 층 응력은, 바람직하게는, ±800 Mpa, 보다 바람직하게는 최대 ±500 MPa, 그리고 가장 바람직하게는 ±300 MPa 이하이다. 이것은 정밀 실시예에 따라 코팅이 인장 응력을 받거나 압축 응력을 받을 수도 있음을 의미한다. 이것은 또한, 예를 들어, 매우 얇은 기판, 예를 들어, 얇은 유리의 코팅을 가능하게 하는데, 그 이유는 감소된 층 응력으로 인해, 본 개시의 실시예에 따른 코팅으로 코팅된, 특히, 일측이 코팅된 얇은 기판조차도 약간의 휨만을 나타낼 것이기 때문이다.In particular, the scratch protection of the prior art, such as nitrides, although the formation of an oxidizing phase of the formula A x B y O 4 is advantageous because coatings with abrasion resistance, for example scratch and/or abrasion resistance, can be obtained in this way. It shows the stress reduction of the layer compared to the coating. The absolute value of the layer stress of the coating according to the embodiment is preferably at most 800 MPa, more preferably at most 500 MPa, and most preferably at most 300 MPa. That is, the layer stress is preferably ±800 Mpa, more preferably at most ±500 MPa, and most preferably ±300 MPa or less. This means that depending on the precise embodiment, the coating may be subjected to tensile stress or compressive stress. This also enables, for example, the coating of very thin substrates, eg thin glass, since, due to the reduced layer stress, in particular one side coated with the coating according to an embodiment of the present disclosure This is because even a thin coated substrate will show only slight warpage.

본 개시의 실시예에 따른 코팅 재료 층의 감소된 응력은 또한 코팅 공정 동안 유리하다. 사실, 질화물의 높은 고유 층 응력의 결과로서, 이러한 코팅 재료로 형성된 층이 종종 코팅 유닛의 내부 표면에서, 즉, 예를 들어, 스퍼터 성막 챔버의 내부에서 벗겨지는 경향이 있다.The reduced stress of the coating material layer according to embodiments of the present disclosure is also advantageous during the coating process. In fact, as a result of the high intrinsic layer stress of the nitride, a layer formed of such a coating material often tends to peel off at the inner surface of the coating unit, ie inside the sputter deposition chamber, for example.

커버 플레이트의 일 실시예에 따르면, 커버 플레이트가 실시예에 따른 코팅의 층 응력의 절대 값이 최대 800 MPa, 바람직하게는 최대 500 MPa, 그리고 가장 바람직하게는 300 MPa 이하가 되도록 구현된다.According to an embodiment of the cover plate, the cover plate is embodied such that the absolute value of the layer stress of the coating according to the embodiment is at most 800 MPa, preferably at most 500 MPa, and most preferably at most 300 MPa.

산화 및/또는 질화 시스템의 층 응력은 상당수의 공정 매개 변수의 영향을 받을 수 있다. 특히 중요한 역할을 하는 매개 변수는 다공성, 패킹 밀도, 결정 상태 및/또는 코팅의 층 구조에 영향을 미치는 매개 변수이다. 여기서 언급되어야 하는 매개 변수는 특히 공정 압력과 온도이다. 또한, 온도의 영향이 코팅된 재료와 그 상 전이에 따라 크게 달라진다. 이와 관련하여 일반적인 규칙을 도출할 수는 없지만, 온도가 층의 다공성과 결정 상태에 미치는 영향으로 인해 층 응력에도 강한 영향을 미칠 것임이 또한 예상될 수 있다. 또한, 코팅의 응력이 열팽창 계수의 차이, 예를 들어, 기판과 층 재료의 선형 열팽창 계수 사이의 차이로 인해 발생할 수도 있으며, 코팅 공정에 후속하는 냉각 공정의 결과로서 이미 촉발된 것일 수 있다.The layer stress of an oxidation and/or nitridation system can be affected by a number of process parameters. Parameters that play a particularly important role are those influencing the porosity, packing density, crystalline state and/or the layer structure of the coating. Parameters that should be mentioned here are in particular process pressure and temperature. Also, the effect of temperature is highly dependent on the coated material and its phase transition. Although no general rule can be drawn in this regard, it can also be expected that the temperature will also have a strong effect on the layer stress due to the effect on the porosity and crystalline state of the layer. In addition, the stress of the coating may arise due to differences in the coefficients of thermal expansion, for example between the linear coefficients of thermal expansion of the substrate and the layer materials, which may have already been triggered as a result of the cooling process subsequent to the coating process.

공정 압력은 층 응력을 조정하기 위한 다른 중요한 매개 변수이다. 대부분의 경우, 낮은 압력이 공극 감소로 이어지며 콤팩트한 층 성장으로 이어져, 종종 압축 응력 증가를 초래한다. 이것은, 예를 들어, 스퍼터 성막된 Si3N4 코팅에서 볼 수 있다. 즉, 이 경우, 낮은 공정 압력은, 예를 들어, 러스케(Ruske) 등의 박형 고체 필름 351(1999)의 158ff 페이지의 도 8에서 볼 수 있듯이 최대 2 GPa을 넘는 절대 응력 값을 갖는 매우 높은 층 응력을 초래한다. Process pressure is another important parameter for tuning the layer stress. In most cases, low pressure leads to reduced voids and compact layer growth, often resulting in increased compressive stress. This can be seen, for example, in sputter deposited Si 3 N 4 coatings. That is, in this case, the low process pressure is very high with absolute stress values exceeding 2 GPa at most, as can be seen, for example, in FIG. 8 on page 158ff of the thin solid film 351 (1999) of Ruske et al. resulting in layer stress.

여기서, 코팅의 결정 상태는 코팅에 포함된 결정질 상의 유형, 수 및/또는 크기와 같은 코팅의 결정도와 관련된 매개 변수를 포함한다.Here, the crystalline state of the coating includes parameters related to the crystallinity of the coating, such as the type, number and/or size of crystalline phases included in the coating.

놀랍게도, 본 개시의 실시예에 따른 방법이, 아래에서 보다 상세히 설명될 바와 같이, 상대적으로 낮은 층 응력을 나타내는 층의 획득을 허용하여, 위에서 논의된 이점을 제공한다는 것을 발견하였다.Surprisingly, it has been found that a method according to an embodiment of the present disclosure allows the acquisition of a layer exhibiting a relatively low layer stress, as will be described in more detail below, providing the advantages discussed above.

또한, 본 개시의 실시예에 따른 코팅에 포함된 산화성 재료는, 예를 들어, 질산 재료 또는 보다 일반적으로는 종래 기술의 긁힘 보호 코팅보다 낮은, 즉, 1.6 내지 1.8, 예를 들어, 1.7의 굴절률을 갖는다. 이것은 이러한 방식으로 본 개시의 실시예에 따른 코팅의 시인성이, 특히 통상적인 긁힘 보호 코팅에서보다 낮기 때문에 유리하다. 특히, 유색 유리 또는 유리 세라믹 기판을 포함하는 커버 패널의 경우, 또는 코팅이 배치된 주 표면 반대측의 주 표면에 추가 코팅이 제공되는 유리 또는 유리 세라믹 기판의 경우, 추가 코팅이 마스킹 효과를 갖거나, 보다 일반적으로는 기판의 투명성을 감소시켜, 본 개시의 실시예에 따른 코팅은 시각적으로 거의 눈에 띄지 않는다.In addition, the oxidizing material included in the coating according to embodiments of the present disclosure may have a refractive index lower than, for example, a nitric acid material or more generally a prior art scratch protective coating, i.e., 1.6 to 1.8, for example, 1.7. has This is advantageous because in this way the visibility of the coating according to the embodiment of the present disclosure is lower, in particular than in conventional scratch protective coatings. In particular in the case of cover panels comprising colored glass or glass ceramic substrates, or in the case of glass or glass ceramic substrates provided with an additional coating on the major surface opposite to the major surface on which the coating is disposed, the additional coating has a masking effect, More generally, by reducing the transparency of the substrate, coatings according to embodiments of the present disclosure are barely noticeable visually.

코팅은, 바람직하게는, 70%를 초과하는 광 투과율을 나타낸다. 바람직하게는, 코팅의 광 투과율이 80% 이상, 가장 바람직하게는 90% 이상이다. 코팅의 광 투과율은 코팅되지 않은 기판의 광 투과율을 결정하고 유리 또는 유리 세라믹 기판의 단 하나의 주 표면에 코팅만이 배치된 영역의 기판의 광 투과율을 결정한 다음 코팅된 기판의 값으로부터 코팅되지 않은 기판에 대해 획득된 값을 감산하는 방식으로 광 투과율 사이의 차이를 계산함으로써 결정된다. 결과적으로, 코팅에 의해 투과율 감소가 야기된다. 코팅으로 인해 초래되는 광 투과율은, 위에 설명된 바와 같이, 코팅된 기판과 코팅되지 않은 기판의 광 투과율로부터 결정된 차이를 100%에서 뺀 값이다. 코팅된 기판과 코팅되지 않은 기판의 광 투과율은, 바람직하게는, 380 nm 내지 780 nm의 파장 범위에 대해 DIN EN ISO 13468을 준수하거나 기반으로 하여 결정된다.The coating preferably exhibits a light transmittance of greater than 70%. Preferably, the light transmittance of the coating is at least 80%, most preferably at least 90%. The light transmittance of the coating determines the light transmittance of the uncoated substrate, determines the light transmittance of the substrate in the region where only the coating is disposed on only one major surface of the glass or glass ceramic substrate, and then from the value of the coated substrate the light transmittance of the uncoated substrate is determined. It is determined by calculating the difference between the light transmittances in such a way as to subtract the value obtained for the substrate. Consequently, a decrease in transmittance is caused by the coating. The light transmittance resulting from the coating is the difference determined from the light transmittance of the coated and uncoated substrates minus 100%, as described above. The light transmittance of the coated and uncoated substrates is preferably determined according to or on the basis of DIN EN ISO 13468 for a wavelength range of 380 nm to 780 nm.

예를 들어, 기판의 단 하나의 주 표면에 코팅만 배치된 영역에서 코팅된 기판의 광 투과율이 76%이며 코팅되지 않은 기판의 광 투과율이 77%이면, 초래되는 기판의 광 투과율 차이는 1%이다. 따라서, 코팅의 광 투과율은 이 경우 100%에서 1%를 뺀, 즉, 99%이다.For example, if the light transmittance of the coated substrate is 76% and the light transmittance of the uncoated substrate is 77% in a region where only the coating is disposed on only one major surface of the substrate, the resulting difference in light transmittance of the substrate is 1% am. Thus, the light transmittance of the coating is in this case 100% minus 1%, ie 99%.

다시 말해, 코팅의 광 투과율이 이하의 수학식에 따라 산출된다.In other words, the light transmittance of the coating is calculated according to the following equation.

Figure pat00001
Figure pat00001

여기서, LT는 광 투과율을 의미하며, 코팅된 기판의 광 투과율은 기판과 코팅만으로 이루어진 영역에서의 커버 패널의 광 투과율이다. 여기서, 코팅된 기판의 광 투과율과 코팅되지 않은 기판의 광 투과율은, 바람직하게는, 380 nm 내지 780 nm의 파장 범위에 대해 DIN EN ISO 13468을 준수하거나 기반으로 하여 결정된다.Here, LT means light transmittance, and the light transmittance of the coated substrate is the light transmittance of the cover panel in a region consisting of only the substrate and the coating. Here, the light transmittance of the coated substrate and the light transmittance of the uncoated substrate are preferably determined according to or on the basis of DIN EN ISO 13468 for a wavelength range of 380 nm to 780 nm.

코팅의 광 투과율이 70% 이상으로 높은 이러한 구현은 코팅을 통한 가시성이 이러한 방식으로 크게 감소되지 않기 때문에 유리하다. 따라서, 이러한 높은 광 투과율은, 특히, 관찰 창 용례에 바람직하다. 그러나, 예를 들어, 이미 코팅된 기판에 코팅이 적용되는 용례의 경우에도, 예를 들어, 고도로 투명한 코팅으로서 코팅을 구현하는 것이 유리할 수 있다. 예를 들어, 본 개시의 실시예에 따른 코팅이 "탑 코트(topcoat)"인 경우와 같은 기타 코팅이 본 개시의 실시예에 따른 코팅을 통해 명확하게 인지될 것이다. 이것은, 특히, 예를 들어, 로고 형태로 추가 코팅이 제공되는 경우 유리하다.This implementation in which the light transmittance of the coating is as high as 70% or more is advantageous since the visibility through the coating is not significantly reduced in this way. Therefore, such high light transmittance is particularly desirable for observation window applications. However, it may be advantageous to implement the coating, for example, as a highly transparent coating, even in the case of applications where, for example, the coating is applied to an already coated substrate. Other coatings, such as, for example, where a coating according to an embodiment of the present disclosure is a "topcoat," will be clearly recognized through a coating according to an embodiment of the present disclosure. This is particularly advantageous if an additional coating is provided, for example in the form of a logo.

본 개시의 일 실시예에 따르면, 코팅은 0.05 ㎛ 이상 내지 바람직하게는 3 ㎛ 이하의 두께를 갖는다. 이러한 최소 층 두께는 코팅의 기계적 안정성을 향상시키기 때문에 유리하다. 여기서, 코팅의 기계적 안정성은 긁힘이나 마모와 같은 마모 및 찢김에 저항하는 코팅의 특성이다. 놀랍게도, 코팅의 유리한 특성이 이미 50 nm의 층 두께로 달성될 수 있다. 코팅의 층 두께가 증가하면 코팅의 기계적 특성이 추가로 향상될 수 있다. 그러나, 층 두께를 바람직하게는 3 ㎛ 이하로 제한하는 것이 특히 유리하다. 이것은 코팅에 포함될 수도 있는 혼합 산화물이 경우에 따라 고유한 색상을 가질 수도 있기 때문이다. 이 고유 색상은, 특히, 문제의 혼합 산화물이 벌크 재료의 형태로 제공될 때 나타난다. 그러나, 벌크 재료로서 고유한 색상을 갖는 재료가 얇은 코팅 형태로 제공되면 상황이 달라진다. 이 경우, 코팅이 매우 약간의 색상만을 나타낼 수도 있으며 혼합 산화물의 고유한 색상이 전혀 인지되지 않을 수도 있다. 그러므로, 두꺼운 코팅이 더 얇은 코팅보다 시각적으로 더 눈에 띄고 또한 균열이 생기기 더 쉽기 때문에 코팅이 너무 두꺼워서는 안된다. 더욱이, 특히, ㎛ 범위의 두꺼운 코팅은 또한, 예를 들어, 내 충격성 또는 굴곡 강도와 같은 커버 패널의 파괴 강도를 감소시킬 수 있기 때문에, 너무 두꺼운 코팅을 생산하는 것은 비용 효율적이지 않다. 따라서, 코팅의 두께가 제한되는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 두께는 3 ㎛ 이하이다.According to an embodiment of the present disclosure, the coating has a thickness of at least 0.05 μm and preferably at most 3 μm. Such a minimum layer thickness is advantageous because it improves the mechanical stability of the coating. Here, the mechanical stability of the coating is the property of the coating to resist wear and tear, such as scratches or abrasion. Surprisingly, advantageous properties of the coating can already be achieved with a layer thickness of 50 nm. Increasing the layer thickness of the coating can further improve the mechanical properties of the coating. However, it is particularly advantageous to limit the layer thickness to preferably 3 μm or less. This is because the mixed oxides that may be included in the coating may have a unique color in some cases. This intrinsic color appears especially when the mixed oxide in question is provided in the form of a bulk material. However, the situation is different when a material having an intrinsic color as a bulk material is provided in the form of a thin coating. In this case, the coating may exhibit only very slight color and no intrinsic color of the mixed oxide may be perceived. Therefore, the coating should not be too thick as a thicker coating is more visually striking than a thinner coating and more prone to cracking. Moreover, it is not cost effective to produce coatings that are too thick, particularly in the μm range, since thick coatings may also reduce the breaking strength of the cover panel, such as, for example, impact resistance or flexural strength. Therefore, it is desirable that the thickness of the coating be limited. Preferably, the thickness is 3 μm or less.

본 개시의 추가의 실시예에 따르면, 코팅은 투명하고 무색이다. 이것은 이러한 방식으로 코팅이 특정 정도까지 시각적으로 눈에 띄지 않기 때문에 유리하다. 이에 의해, 코팅이 바람직하게는 유리 또는 유리 세라믹 기판을 통한 광 투과를 약간만 감소시킬뿐만 아니라, 가장 바람직하게는 코팅 자체가 유리 또는 유리 세라믹 기판을 투과한 광의 색 위치 변화를 야기하지 않는 것이 보장된다. 다시 말해, 예를 들어, 이러한 커버 패널 아래 또는 뒤에 배치된 디스플레이와 같은 발광 표시기가 이러한 방식으로 및/또는 특히 강한 광도를 요구하지 않고 특히 정확한 색상으로 인지될 수 있다.According to a further embodiment of the present disclosure, the coating is transparent and colorless. This is advantageous because in this way the coating is not visually noticeable to a certain extent. This ensures that the coating preferably only slightly reduces the light transmission through the glass or glass ceramic substrate, but most preferably that the coating itself does not cause a change in the color position of the light transmitted through the glass or glass ceramic substrate. In other words, a luminous indicator, for example a display arranged under or behind such a cover panel, can be perceived in this way and/or with a particularly accurate color without requiring a particularly strong luminous intensity.

투명하며 무색의 실시예에 관한 코팅의 광학적 특성은, 바람직하게는, 코팅되지 않은 유리 또는 유리 세라믹 기판과 실시예에 따른 코팅으로 코팅된 유리 또는 유리 세라믹 기판의 색 위치 비교를 특징으로 할 수 있다. 따라서, 본 개시의 문맥에서, 유리 또는 유리 세라믹 기판의 단 하나의 주 표면에 코팅만이 배치된 부분에서의 커버 패널의 색 위치(E101)가 유리 또는 유리 세라믹 기판에 코팅이 배치되지 않은 영역에서의 커버 패널의 색 위치(E110)와 20 미만, 바람직하게는 15 미만, 가장 바람직하게는 10 미만의 값(ΔE)이 차이가 나는 경우, 코팅은, 바람직하게는, 투명하고 무색인 것으로 지칭되며, 가장 바람직하게는, 부분에서의 색 위치(E110)와 영역에서의 색 위치(E101)가 L*a*b* 색 체계에서 결정되며, 색 위치의 차이(ΔE)가 이하의 수학식을 사용하여 산출된다.The optical properties of the coating according to the transparent and colorless embodiment may preferably be characterized by a comparison of the color positions of an uncoated glass or glass ceramic substrate and a glass or glass ceramic substrate coated with a coating according to the embodiment. . Accordingly, in the context of the present disclosure, the color position E 101 of the cover panel in the portion where only the coating is disposed on only one major surface of the glass or glass ceramic substrate is the region where the coating is not disposed on the glass or glass ceramic substrate. If there is a difference between the color position (E 110 ) of the cover panel at and most preferably, the color position in the part (E 110 ) and the color position in the region (E 101 ) are determined in the L*a*b* color system, and the difference in color positions (ΔE) is It is calculated using the formula.

Figure pat00002
Figure pat00002

색 위치(E110)가 색 좌표(a*110, b*110, L*110)로 주어지며, 색 위치(E101)가 색 좌표(a*101, b*101, L*101)로 주어지며, 이들 색 위치는, 바람직하게는, 특히, 코니카 미놀타(Konica Minolta)의 CM-700d 분광 광도계를 사용하여 흰색 타일에 대한 측정에서 결정된다.The color position (E 110 ) is given by the color coordinates (a* 110 , b* 110 , L* 110 ), and the color position (E 101 ) is given by the color coordinates (a* 101 , b* 101 , L* 101 ). These color positions are preferably determined from measurements on white tiles using, inter alia, a CM-700d spectrophotometer from Konica Minolta.

커버 패널의 추가의 실시예에 따르면, 커버 패널은 2 mm 내지 8 mm, 바람직하게는 4 mm 내지 6 mm의 두께를 갖는다. 이것은 이러한 방식으로 커버 패널이, 예를 들어, 고온 용례의 관찰 창 또는 조리 패널로서 사용될 수 있도록 하기 위해 파괴 하중에 대해 충분한 기계적 강도를 나타내기 때문에 유리하다. 파괴 하중에 대한 커버 패널의 기계적 강도는, 예를 들어, 볼 낙하 테스트로 알려진 테스트를 통해 결정될 수 있는 소위 내충격성과, 예를 들어, 3 점 굽힘 테스트에서 결정될 수 있는 굽힘 강도를 포함한다. 여기서, 커버 패널의 충분한 강도를 달성하기 위해, 커버 패널이 최소 2 mm, 바람직하게는 적어도 4 mm의 두께를 갖는 것이 유리하다. 그러나, 커버 패널도 너무 두꺼워서는 안되는데, 그 이유는 그렇지 않으면 한편으로는 재료 비용이 지나치게 많이 들며 다른 한편으로는 커버 패널의 무게가 너무 많이 나가기 때문이다. 따라서, 커버 패널은 최대 8 mm, 바람직하게는 최대 6 mm의 두께를 갖는 것이 바람직하다. 일 실시예에 따르면, 커버 패널이 두께가 2 mm 이상, 바람직하게는 4 mm 이상이며 두께가 8 mm 이하, 바람직하게는 6 mm 이하인 기판을 포함하는 것이 가능하다.According to a further embodiment of the cover panel, the cover panel has a thickness of from 2 mm to 8 mm, preferably from 4 mm to 6 mm. This is advantageous because in this way the cover panel exhibits sufficient mechanical strength with respect to breaking loads in order to enable it to be used, for example, as a viewing window or cooking panel in high temperature applications. The mechanical strength of the cover panel to the breaking load includes, for example, so-called impact resistance, which can be determined through a test known as a ball drop test, and flexural strength, which can be determined, for example, in a three-point bending test. Here, in order to achieve sufficient strength of the cover panel, it is advantageous for the cover panel to have a thickness of at least 2 mm, preferably at least 4 mm. However, the cover panel should also not be too thick, since otherwise on the one hand the material cost is too high and on the other hand the weight of the cover panel is too high. Accordingly, the cover panel preferably has a thickness of at most 8 mm, preferably at most 6 mm. According to one embodiment, it is possible for the cover panel to comprise a substrate having a thickness of at least 2 mm, preferably at least 4 mm and with a thickness of at most 8 mm, preferably at most 6 mm.

그러나, 추가의 실시예에 따르면, 커버 패널이 2 mm 미만, 예를 들어, 1 mm나 심지어 더 작은, 예를 들어, 50 ㎛ 또는 100 ㎛와 같은 30 ㎛ 이상의 두께를 갖는 것도 가능하다. 따라서, 일 실시예에 따르면, 특히, 커버 패널이 소위 박형 유리 형태의 기판을 포함하는 것이 가능하다. 특히, 기판이 2 mm 미만, 예를 들어, 1 mm 이하, 예를 들어, 50 ㎛ 또는 100 ㎛와 같은 30 ㎛ 이상의 두께를 갖는 것도 가능하다. 놀랍게도, 이러한 구성은 실시예에 따른 코팅에 의해 가능한데, 그 이유는 실시예에 따른 코팅 층의 응력이 경질 재료 또는 긁힘 방지 또는 마모 보호 층으로 알려진 층의 경우 매우 낮기 때문이다. 이것은 이러한 코팅이 제공되는 커버 패널이 단지 약간의 뒤틀림을 나타내는 것으로부터 특히 분명해진다.However, according to a further embodiment, it is also possible for the cover panel to have a thickness of less than 2 mm, eg 1 mm or even smaller, eg 30 μm or more, such as 50 μm or 100 μm. Thus, according to an embodiment, in particular, it is possible for the cover panel to comprise a substrate in the form of a so-called thin glass. In particular, it is also possible for the substrate to have a thickness of less than 2 mm, for example less than or equal to 1 mm, for example greater than or equal to 30 μm, such as 50 μm or 100 μm. Surprisingly, this configuration is possible with the coating according to the embodiment, since the stress of the coating layer according to the embodiment is very low in the case of hard materials or layers known as anti-scratch or wear protection layers. This becomes particularly evident from the fact that the cover panel provided with this coating exhibits only slight warping.

커버 패널의 또 다른 실시예에 따르면, 커버 패널의 ASTM D 1003에 따라 측정된 탁도(haze)가, 유리 또는 유리 세라믹 기판의 단 하나의 주 표면에 코팅만이 배치된 커버 패널 또는 유리 또는 유리 세라믹 기판의 영역의 부분에서, 5% 미만, 바람직하게는 2% 미만, 그리고 가장 바람직하게는 1% 미만이다. According to another embodiment of the cover panel, the haze of the cover panel, measured according to ASTM D 1003, of the cover panel or glass or glass ceramic having only a coating disposed on only one major surface of the glass or glass ceramic substrate In a portion of the area of the substrate, less than 5%, preferably less than 2%, and most preferably less than 1%.

다시 말해, 유리 또는 유리 세라믹 기판의 단 하나의 주 표면에 코팅만이 배치된 커버 패널 또는 유리 또는 유리 세라믹 기판의 부분에서, 커버 패널은 매우 작은 탁도만을 나타나며, 즉, 커버 패널이 매우 선명하다. 이것은, 특히, 코팅 자체가 매우 낮은 탁도만을 가지거나 어떠한 상당한 탁도를 나타내지 않는다는 사실에 의해 달성된다. 이러한 실시예는 이러한 방식으로 커버 패널을 통한 특히 양호한 가시성이 보장되므로, 예를 들어, 디스플레이와 같은 커버 패널의 뒤 또는 아래에 배치된 발광 구성 요소가 쉽게 인지될 수 있기 때문에 유리하다. 이러한 실시예는 또한, 오븐 또는 벽난로 관찰 창과 같은 고온 용례의 관찰 창에 유리하다.In other words, in a cover panel or a portion of a glass or glass ceramic substrate in which only a coating is disposed on only one major surface of the glass or glass ceramic substrate, the cover panel exhibits only very little haze, ie the cover panel is very clear. This is achieved in particular by the fact that the coating itself has only very low haze or does not show any significant haze. This embodiment is advantageous because in this way a particularly good visibility through the cover panel is ensured, so that a light emitting component disposed behind or under the cover panel, for example a display, can be easily recognized. This embodiment is also advantageous for viewing windows in high temperature applications such as oven or fireplace viewing windows.

커버 패널의 추가의 실시예에 따르면, 코팅은 DIN EN ISO 14577-1 및 -4(마르텐스(Martens) 경도로도 알려짐)를 준수하거나 이를 기반으로 한 측정 방법에서 결정된 6 Gpa 내지 11 GPa의 경도를 갖는다. 이러한 방식으로 커버 패널이 코팅이 제공되는 영역에서 표면의 긁힘 또는 마모에 대해 특히 우수한 내마모성 및 찢김 내성을 나타내기 때문에 이러한 디자인이 특히 바람직하다. 다시 말해, 이러한 실시예에 따르면, 커버 패널은 적어도 코팅이 유리 또는 유리 세라믹 기판의 주 표면에 배치되는 영역에서 내마모성, 특히, 긁힘 및/또는 마모 내성을 갖는 형태이다. 이것은 특히, 커버 패널이 마모 재료 및/또는 물품과 접촉하는 용례에 중요하다. 커버 패널의 이러한 실시예는, 특히, 소위 스크레이퍼가 청소 작업에 사용되는 경우, 소위 핫 플레이트 또는 오븐이나 벽난로용 관찰 창의 세척 공정에서 특히 유리하다. 그러나, 조리 기구와 접촉하면, 예를 들어, 표면에 긁힘이 생길 수도 있다.According to a further embodiment of the cover panel, the coating has a hardness of 6 Gpa to 11 GPa determined in a measuring method conforming to or based on DIN EN ISO 14577-1 and -4 (also known as Martens hardness) has This design is particularly preferred, since in this way the cover panel exhibits particularly good abrasion resistance and tear resistance against scratches or abrasion of the surface in the area where the coating is provided. In other words, according to this embodiment, the cover panel is of a type having abrasion resistance, in particular scratching and/or abrasion resistance, at least in the region where the coating is disposed on the major surface of the glass or glass ceramic substrate. This is particularly important for applications where the cover panel is in contact with abrasive materials and/or articles. This embodiment of the cover panel is particularly advantageous in the cleaning process of so-called hot plates or observation windows for ovens or fireplaces, in particular when so-called scrapers are used for cleaning operations. However, contact with cookware may cause scratches on the surface, for example.

이러한 실시예는, 예를 들어, 조리 패널의 경우 냄비가 이동될 때 마찰 응력이 발생할 수도 있는 커버 패널의 용례에 특히 유리하다. 여기서도, 예를 들어, 조리 패널의 표면과 조리 기구 사이에 마모 입자가 존재할 수도 있어, 이후 추가적인 마모 효과를 유발하게 될 것이라는 점을 고려하여야 한다. 따라서, 코팅이 또한 위에서 언급한 바와 같이 내마모성을 나타내는 커버 패널 구성이 특히 유리한데, 그 이유는 표면 마모를 감소시킬 것이기 때문이다. This embodiment is particularly advantageous for use in cover panels where frictional stresses may occur when the pot is moved, for example in the case of cooking panels. Again, it should be taken into account that, for example, abrasive particles may be present between the surface of the cooking panel and the cooking utensils, which will subsequently cause additional abrasive effects. Accordingly, cover panel constructions in which the coating also exhibits abrasion resistance as mentioned above are particularly advantageous, since it will reduce surface wear.

커버 패널의 특히 유리한 실시예에 따르면, 코팅은 실질적으로 전체 표면적에 걸쳐 유리 또는 유리 세라믹 기판의 주 표면을 덮는다. 본 개시의 문맥에서, 실질적으로 전체 표면적을 덮는다는 것은 코팅이 관련 영역의 적어도 90%, 바람직하게는 적어도 95%를 덮는다는 것을 의미하는 것으로 이해된다. 이러한 실시예는 코팅이 높은 경도 및/또는 높은 내마모성을 나타내는 경우 특히 유리한데, 그 이유는 코팅에 의해 실질적으로 완전히 덮이는 주 표면이 거의 전체 표면적에 걸쳐, 특히, 내마모성, 예를 들어, 마모 내성 및/또는 긁힘 내성을 가질 것이기 때문이다. 실질적으로 전체 표면적에 걸친 코팅은 또한, 실시예에 따른 코팅이 기판의 주 표면에 직접 배치되지 않고 기판과 코팅 사이에 층이 제공되는 구현을 포함하는 것으로 이해된다. 차폐율은 일반적으로, 주 표면의 전체 표면적에 대한 코팅으로 덮힌 주 표면 영역의 비율로 나타내어진다. According to a particularly advantageous embodiment of the cover panel, the coating covers the major surface of the glass or glass ceramic substrate over substantially the entire surface area. In the context of the present disclosure, covering substantially the entire surface area is understood to mean that the coating covers at least 90%, preferably at least 95% of the area concerned. This embodiment is particularly advantageous if the coating exhibits high hardness and/or high wear resistance, since the major surface substantially completely covered by the coating covers almost the entire surface area, in particular wear resistance, eg abrasion resistance, because it will be resistant and/or scratch resistant. Coating over substantially the entire surface area is also understood to include implementations in which the coating according to an embodiment is not disposed directly on a major surface of the substrate, but in which a layer is provided between the substrate and the coating. Shielding is generally expressed as the ratio of the major surface area covered by the coating to the total surface area of the major surface.

커버 패널의 추가의 실시예에 따르면, 커버 패널은 추가 코팅을 포함한다. 이 추가 코팅은, 예를 들어, 소위 에나멜 페인트를 인쇄하고 후속하여 소성 처리를 수행함으로써 획득되는, 예를 들어, 유리 플럭스 기반 코팅일 수도 있다. 커버 패널용 유리 플럭스 기반 코팅은 공지되어 있다. 이러한 코팅은, 예를 들어, 조리 구역 표식으로서 사용되며 및/또는 기능상 영역을 표시하는 데 사용된다. 이것은, 예를 들어, 특히 소위 인덕션 히터의 조리 패널로서 사용되는 커버 패널의 경우, 조리 기구를 정확히 배치하여야만 조리 과정이 실제로 이루어지는 것이 보장됨에 따라 기능상 영역을 표시하는 것이 중요하기 때문에 특히 중요하다. According to a further embodiment of the cover panel, the cover panel comprises a further coating. This further coating may be, for example, a glass flux-based coating, obtained, for example, by printing so-called enamel paints and subsequently carrying out a firing treatment. Glass flux based coatings for cover panels are known. Such coatings are used, for example, as cooking zone markings and/or used to mark functional areas. This is particularly important, for example, especially in the case of cover panels used as cooking panels for so-called induction heaters, since it is important to mark the functional areas as it is only with the correct positioning of the cooking utensils that the cooking process is guaranteed to actually take place.

커버 패널의 이 실시예에 따르면, 추가 코팅은 유리 또는 유리 세라믹 기판의 코팅과 동일한 주 표면 상에 배치되며, 이 주 표면을 적어도 부분적으로 또는 단지 부분적으로 덮는다. 추가 코팅은 유리 또는 유리 세라믹 기판과 코팅 사이에 배치된다. 특히, 추가 코팅은, 바람직하게는, 코팅에 인접한다.According to this embodiment of the cover panel, the further coating is disposed on the same major surface as the coating of the glass or glass ceramic substrate and at least partially or only partially covers this major surface. A further coating is disposed between the glass or glass ceramic substrate and the coating. In particular, the further coating preferably adjoins the coating.

커버 패널의 이러한 구성은, 추가 코팅이 기계적으로 및/또는 화학적으로 특별히 저항성이 없는 경우, 특히 유리할 수도 있다. 예를 들어, 커버 패널과 접촉하는 물질이 커버 패널 또는 유리 또는 유리 세라믹 기판의 표면을 공격할 수도 있는 것으로 알려져 있다. 위에서 논의된 바와 같이, 이것은 표면의 긁힘 및/또는 마모와 같은 기계적 마모로 이어질 수도 있지만, 일부 물질이 표면과 화학적으로 반응하여 열화되는 것도 가능하다. 특히, 예를 들어, 유리 플럭스 기반 코팅과 같은 커버 패널 및/또는 유리 또는 유리 세라믹 기판의 표면에 적용된 코팅은, 특히, 기계적 및/또는 화학적 공격에 민감한 것으로도 알려져 있다. 이것은, 예를 들어, 이러한 유리 플럭스 기반 코팅이 유리 또는 유리 세라믹 기판에 대한 접착력이 불충분하거나, 이러한 유리 플럭스 기반 착색 코팅의 표면이 매우 거칠기 때문에, 기계적 공격과 화학적 공격 모두에 대해 더 큰 공격 표면을 제공한다는 사실에 기인할 수도 있다. 특히, 조리 패널의 경우, 예를 들어, 작동 사용 중에 사용자를 향하는 커버 패널의 표면, 즉, 상부 표면에서 음식이 불타 이로 인해 유리 플럭스 기반 착색 장식과 밀접한 결합을 형성하는 것도 가능하다. 바람직하게는 소위 스크레이퍼를 사용하여 수행되는 청소 중에 장식의 일부가 오염물과 함께 제거되는 것이 전적으로 가능하다. 이것은 시각적으로 방해가 될뿐만 아니라 심지어 중요한 표식의 상당 부분이 기능상 영역으로부터 제거되는 결과를 초래할 수도 있다.This configuration of the cover panel may be particularly advantageous if the further coating is not particularly resistant mechanically and/or chemically. For example, it is known that materials in contact with the cover panel may attack the surface of the cover panel or glass or glass ceramic substrate. As discussed above, this may lead to mechanical wear, such as scratching and/or abrasion of the surface, but it is also possible for some materials to chemically react with the surface and degrade. In particular, it is also known that coatings applied to the surface of cover panels and/or glass or glass ceramic substrates, such as, for example, glass flux based coatings, are particularly susceptible to mechanical and/or chemical attack. This is because, for example, these glass flux-based coatings have insufficient adhesion to glass or glass-ceramic substrates, or because the surface of these glass flux-based colored coatings is very rough, providing a larger attack surface for both mechanical and chemical attack. This may be due to the fact that it provides In particular, in the case of cooking panels, it is also possible, for example, during operational use, to form an intimate bond with the glass flux-based tinted decoration due to food burning on the surface, ie the upper surface, of the cover panel facing the user during operational use. It is entirely possible for a part of the decoration to be removed together with dirt during cleaning, which is preferably carried out using a so-called scraper. Not only is this visually distracting, but it can even result in a significant portion of the important markings being removed from the functional area.

따라서, 커버 패널의 일 실시예에 따르면, 추가 코팅이 유리 또는 유리 세라믹 기판의 코팅과 동일한 주 표면 상에 배치되어 주 표면을 적어도 또는 단지 부분적으로 덮으며, 추가 코팅이 유리 또는 유리 세라믹 기판과 코팅 사이에 배치되는 것이 특히 바람직하다. 이 경우, 추가 코팅이 유리 또는 유리 세라믹 기판의 주 표면에 직접 배치될 수도 있으며, 즉, 유리 또는 유리 세라믹 기판과 직접 접촉할 수도 있다. 예를 들어, 이것은, 예를 들어, 용융 반응 구역을 생성하도록 유리 또는 유리 세라믹 기판의 재료와 유리 플럭스 기반 코팅과 같은 추가 코팅의 재료 사이에 친밀한 결합이 형성될 경우 유리할 수 있다. 그러나, 예를 들어, 유리 플럭스 기반 코팅 주위에 소위 후광이 형성되는 것을 감소시키기 위해, 예를 들어, 접착 촉진제로서 또는, 예를 들어, 분리 층으로서 효과적인 또 다른 코팅이 추가 코팅과 유리 또는 유리 세라믹 기판의 표면 사이에 배치되는 것도 가능하다.Thus, according to one embodiment of the cover panel, a further coating is disposed on the same major surface as the coating of the glass or glass ceramic substrate so as to at least or only partially cover the major surface, wherein the further coating is coated with the glass or glass ceramic substrate It is particularly preferred to be disposed between them. In this case, the further coating may be disposed directly on the major surface of the glass or glass-ceramic substrate, ie directly in contact with the glass or glass-ceramic substrate. For example, this may be advantageous if, for example, an intimate bond is formed between the material of the glass or glass ceramic substrate and the material of a further coating, such as a glass flux based coating, to create a molten reaction zone. However, in order to reduce the formation of so-called halos, for example around glass flux based coatings, another coating effective, for example, as an adhesion promoter or, for example, as a separation layer, can be combined with an additional coating and glass or glass ceramic. It is also possible to arrange between the surfaces of the substrates.

유리하게는, 코팅이 추가 코팅 상에 적용된다. 이를 위해, 코팅이 추가 코팅에 잘 접착되는 경우 코팅과 추가 코팅 사이의 계면에서 접착 실패가 발생하지 않는 것이 유리하다. 사실, 코팅이 추가 코팅 상에 적용되는 경우, 코팅은 추가 층용의 탑코트 유형 및 보호 코팅의 역할을 하므로, 또한 추가 코팅의 기계적 및/또는 화학적 저항성을 동시에 향상시킬 수 있다. Advantageously, the coating is applied over the further coating. For this purpose, it is advantageous that adhesion failure does not occur at the interface between the coating and the further coating if the coating adheres well to the further coating. In fact, when a coating is applied over an additional coating, the coating serves as a protective coating and a type of topcoat for the additional layer, and thus can also simultaneously improve the mechanical and/or chemical resistance of the additional coating.

커버 패널의 추가의 실시예에 따르면, 유리 또는 유리 세라믹 기판은 투명하며 무색이거나, 투명하며 유색이다. 유리 또는 유리 세라믹 기판의 양측면이 평활할 수도 있으며, 또는 일측면에, 바람직하게는, 작동 사용 중에 사용자의 반대 방향을 향하는 측면에 돌부가 있을 수도 있다. 투명하며 무색의 유리 또는 유리 세라믹 기판의 실시예는, 유리 또는 유리 세라믹 기판을 통한 우수한 가시성 및 이에 따라 또한 커버 패널을 통한 가시성이, 예를 들어, 관찰 창에서, 특히 고온 용례용 관찰 창에서 요구되는 경우 바람직하다. 그러나, 투명하며 무색의 유리 또는 유리 세라믹 기판을 선택하고 그 일측면에, 적어도 단면에, 바람직하게는 작동 사용 중에 사용자 또는 조작자의 반대 방향을 향하는 측면 상에 투명도 감소 코팅을 제공하는 것이 또한 유리할 수도 있다. 이러한 구성은, 특히, 조리 기기가 커버 패널 또는 핫 플레이트 아래에 배치된 다른 표시기 요소 및/또는 통합 디스플레이를 포함하는 경우, 조리 패널로서의 커버 패널의 용례에서 가능하다. 이 옵션은, 특히, 디스플레이 요소로부터의 광이 투명한 유색 기판에 흡수되지 않을 것이기 때문에 이러한 디스플레이 요소에 특히 우수한 가시성을 제공한다.According to a further embodiment of the cover panel, the glass or glass ceramic substrate is transparent and colorless, or transparent and colored. Both sides of the glass or glass ceramic substrate may be smooth, or there may be protrusions on one side, preferably on the side facing away from the user during operational use. Examples of transparent and colorless glass or glass ceramic substrates require good visibility through the glass or glass ceramic substrate and thus also through the cover panel, for example in observation windows, especially in observation windows for high temperature applications. It is preferable if However, it may also be advantageous to select a transparent and colorless glass or glass ceramic substrate and provide a reducing transparency coating on one side thereof, at least on one side, preferably on the side facing away from the user or operator during operational use. have. Such a configuration is possible, in particular in the application of the cover panel as a cooking panel, if the cooking appliance comprises an integrated display and/or other indicator element arranged under the cover panel or hot plate. This option provides particularly good visibility for such display elements, especially since light from the display elements will not be absorbed by the transparent colored substrate.

그러나, 특히 조리 표면으로서만 사용되지 않는 투명한 유색의 유리 또는 유리 세라믹 기판을 갖는 것이 또한 유리할 수도 있다. 사실, 이 경우, 커버 패널 뒤 또는 아래에 배치된 구성 요소 및/또는 구조가 더 이상 명확하게 보이지는 않을 것이다. 따라서, 특정 구성 요소 또는 구조가 커버 패널을 통해 보이긴 하지만 그 외에는 보이지 않도록 유리 또는 유리 세라믹 기판의 선택적 색상 흡수를 통해 가시 광선의 투과율을 조정하는 것이 또한 가능할 수 있다.However, it may also be advantageous to have a transparent colored glass or glass ceramic substrate that is not particularly used only as a cooking surface. In fact, in this case, the components and/or structures arranged behind or under the cover panel will no longer be clearly visible. Thus, it may also be possible to tune the transmittance of visible light through selective color absorption of a glass or glass ceramic substrate such that certain components or structures are visible through the cover panel but not otherwise.

본 개시의 문맥에서, 유리 또는 유리 세라믹 기판의 투명한 유색의 실시예는 유리 또는 유리 세라믹 기판이, 특히, 착색 금속 이온에 의해 염색되었음을 의미하는 것으로 이해된다. 이것은 또한, 본 개시의 문맥에서 체적 착색으로 지칭된다. 예를 들어, 유리 또는 유리 세라믹 기판과 같은 재료 및/또는 제품은, 산란 효과가없는 경우, 본 개시의 문맥에서 투명한 것으로 지칭된다. 투명한 디자인의 반대는, 특히, 불투명 또는 반투명 디자인이며, 불투명성 또는 반투명성은 재료 또는 제품의 산란 입자로 인해 발생한다. 따라서, 본 개시의 범위 내에서, 재료 및/또는 제품이 흡수를 유발하지만 여전히 투명한 것으로 지칭되는 것이 특히 가능한데, 그 이유는 이 경우 가시 광선의 투과율이 감소할 것이지만, 가시 광선이 이러한 디자인의 경우 산란되지 않을 것이기 때문이다.In the context of the present disclosure, a transparent colored embodiment of a glass or glass ceramic substrate is understood to mean that the glass or glass ceramic substrate has been dyed, in particular by means of colored metal ions. This is also referred to as volumetric coloring in the context of this disclosure. Materials and/or articles, such as, for example, glass or glass ceramic substrates, are referred to as transparent in the context of this disclosure if they do not have a scattering effect. The opposite of a transparent design is, in particular, an opaque or translucent design, where the opacity or translucency occurs due to scattering particles of the material or article. Thus, within the scope of the present disclosure, it is particularly possible for a material and/or article to cause absorption but still be referred to as being transparent, since in this case the transmittance of visible light will decrease, but visible light will scatter in this design. because it won't happen.

커버 패널의 추가의 실시예에 따르면, 코팅이 커버 패널의 작동 사용 동안 사용자를 향하는 유리 또는 유리 세라믹 기판의 주 표면 상에 배치되며, 따라서 상부 표면 또는 전방 표면을 형성한다. 이것은 특히, 코팅이 단단하며 및/또는 내마모성 코팅으로 설계되는 경우, 즉, 특히 긁힘 및/또는 마모 내성이 있는 경우에 유용하다. 사실, 코팅은 정확하게는 작동 사용 시에 사용자를 향하는 측면이며, 일반적으로 커버 패널의 가장 큰 표면 응력을 받는 측면, 즉, 예를 들어, 조리 패널의 상부 표면이다.According to a further embodiment of the cover panel, the coating is disposed on the major surface of the glass or glass ceramic substrate facing the user during operative use of the cover panel, thus forming the top surface or the front surface. This is particularly useful if the coating is designed to be hard and/or abrasion resistant, ie particularly scratch and/or abrasion resistant. In fact, the coating is precisely the side facing the user in operational use, and is generally the side that receives the greatest surface stress of the cover panel, ie the upper surface of, for example, a cooking panel.

커버 패널의 상부 표면 또는 전방 표면은 일반적으로 특별한 디자인을 가질 것이다. 첫째, 커버 패널의 상부 표면 또는 전방 표면은 일반적으로 평활한 반면, 커버 패널의 하부 표면 또는 후방 표면은, 예를 들어, 돌부가 있는 디자인을 가질 수도 있다. 또한, 커버 패널이 조리 표면의 형태로 제공되는 경우, 커버 패널의 상부 표면은 일반적으로, 예를 들어, 조리 구역과 같은 기능상 영역을 표시하는 추가 코팅으로 추가로 덮일 것이다. 마지막으로, 커버 패널의 상부 표면은 또한, 커버 패널의 강도가 결정되는 표면이다. 이것은, 파괴 하중에 대한 커버 패널의 기계적 저항성이 개개의 하중을 받는 측면, 즉, 예를 들어, 볼 낙하 시험에서 강철 볼이 낙하하는 측면을 상측으로 함으로써 결정된다는 것을 의미한다.The top or front surface of the cover panel will generally have a special design. First, the top or front surface of the cover panel is generally smooth, while the bottom or back surface of the cover panel may have a design with, for example, protrusions. Furthermore, if the cover panel is provided in the form of a cooking surface, the upper surface of the cover panel will generally be further covered with an additional coating that marks a functional area, for example a cooking zone. Finally, the upper surface of the cover panel is also the surface on which the strength of the cover panel is determined. This means that the mechanical resistance of the cover panel to the breaking load is determined by making the individual load-bearing side, for example, the side on which the steel ball falls in a ball drop test, upward.

본 개시의 또 다른 양태는 물리적 코팅 공정(또는 물리적 기상 성막(PVD))을 포함하는 전술한 실시예에 따른 커버 패널을 생산하기 위한 방법에 관한 것이다. 이 방법은,Another aspect of the present disclosure relates to a method for producing a cover panel according to the aforementioned embodiment comprising a physical coating process (or physical vapor deposition (PVD)). This way,

- 유리 또는 유리 세라믹 기판을 제공하는 단계,- providing a glass or glass ceramic substrate;

- 유리 또는 유리 세라믹 기판을 코팅 챔버 내로 도입하는 단계,- introducing a glass or glass ceramic substrate into the coating chamber;

- 성분 A 및 B를 포함하는 세라믹 또는 금속제 타겟을 제공하는 단계로서, A는 바람직하게는 Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물을 포함하며 B는 바람직하게는 Al, Fe, Cr, V 또는 혼합물을 포함하는 것인 단계,- providing a ceramic or metallic target comprising components A and B, wherein A preferably comprises Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or mixtures thereof and B is preferably Al; Fe, Cr, V or a mixture comprising a step,

- 바람직하게는 산소인 가스를 반응 가스로서 제공하는 단계,- providing a gas, preferably oxygen, as a reactive gas;

- 코팅 챔버 내의 압력을 조정하는 단계로서, 압력은 1*10-3 mbar 이상 내지 5*10-2 mbar 이하인 것인 단계,-adjusting the pressure in the coating chamber, wherein the pressure is 1*10 -3 mbar or more and 5*10 -2 mbar or less,

- 코팅 챔버 내의 40℃를 초과하는 온도를 조정하는 단계로서, 생산 온도는 바람직하게는 350℃ 이하인 것인 단계,- adjusting the temperature in the coating chamber above 40 °C, wherein the production temperature is preferably below 350 °C;

- 기상 성막 또는 스퍼터 성막에 의해 코팅을 수행하는 단계로서, 스퍼터 성막이 DC 스퍼터 성막 또는 펄스 스퍼터 성막으로서, 예를 들어, 중간 주파수 스퍼터 성막 또는 고주파 스퍼터 성막으로서 수행될 수도 있는 것인 단계,- performing the coating by vapor phase deposition or sputter deposition, wherein sputter deposition may be performed as DC sputter deposition or pulse sputter deposition, for example, intermediate frequency sputter deposition or high frequency sputter deposition,

- 선택적으로, 노, 바람직하게는 세라믹화 노에서의 열 처리 형태의 추가 공정 단계에 의해, 레이저 노출에 의해, 플래시 램프 처리에 의해, UV 후처리에 의해, 플라즈마, 예를 들어, 진공 상태의 산소 플라즈마 또는 대기 하에서의 플라즈마라인(PlasmaLine®)에 의한 추가 노출에 의해, 또는 화염 노출에 의해 코팅을 후처리하는 단계 및/또는- optionally by further process steps in the form of heat treatment in a furnace, preferably in a ceramization furnace, by laser exposure, by flash lamp treatment, by UV post-treatment, plasma, for example in vacuum post-treatment of the coating by further exposure by means of an oxygen plasma or plasmaline (PlasmaLine ® ) under atmospheric conditions, or by flame exposure and/or

선택적으로, 10% 미만, 바람직하게는 5% 미만, 가장 바람직하게는 2% 미만의 추가 물질 함량으로 Si 또는 Ti 형태의 추가 물질을 첨가하는 단계optionally adding additional substances in the form of Si or Ti with an additional substance content of less than 10%, preferably less than 5% and most preferably less than 2%.

를 포함하여, 적어도 하나의 주 표면이 화학식 AxByO4의 혼합 산화물을 포함하거나 이 혼합 산화물로 주로 또는 실질적으로 또는 전체적으로 형성된 코팅으로 적어도 부분적으로 코팅되며,wherein at least one major surface is at least partially coated with a coating comprising or formed mainly or substantially or entirely of a mixed oxide of the formula A x B y O 4 ,

A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며,The molar ratio of A to B is 0.3 or more and 0.7 or less,

혼합 산화물 및/또는 코팅이 적어도 부분적으로 결정질, 특히, 다결정질이며,the mixed oxide and/or coating is at least partially crystalline, in particular polycrystalline,

A는 바람직하게는 Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물을 포함하며,A preferably comprises Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or mixtures thereof,

B는 바람직하게는 Al, Fe, Cr, V 또는 이들의 혼합물을 포함하며,B preferably comprises Al, Fe, Cr, V or mixtures thereof,

코팅은 바람직하게는 70%를 초과하는 광 투과율을 나타낸다.The coating preferably exhibits a light transmittance of greater than 70%.

코팅 공정이 인라인으로 수행될 수도 있지만, 코팅이 일괄 공정으로 수행되며 따라서 제조 라인 내에서 수행되지 않는 것도 가능하다.Although the coating process may be carried out in-line, it is also possible that the coating is carried out as a batch process and therefore not carried out in-line.

층 응력과 관련하여 위에서 이미 설명된 바와 같이, 특히, 본 개시의 실시예에 따른 방법은, 특히, 실시예에 따른 스퍼터 성막 기술을 사용하는 코팅 공정에 의해, 놀랍게도 코팅의 매우 유리한 구성을 제공할 수 있도록 한다. 놀랍게도, 상기 방법, 특히, 스퍼터 성막 기술, 예를 들어, 펄스 스퍼터 성막, 바람직하게는 특히, 펄스 중간 주파수 스퍼터 성막 또는 고주파 스퍼터 성막이 적어도 부분적으로 결정질, 특히, 다결정질이며(또는 적어도 부분적으로 결정질, 특히, 다결정인 혼합 산화물을 포함하며) 그럼에도 불구하고 낮은 층 응력을 나타내는 코팅을 획득할 수 있도록 하는 것으로 밝혀졌다. 이 효과는 진공 하에서 또는 대기 하에서 직접 이루어지는 코팅의 추가 후처리를 통해 향상될 수 있다. 이 효과를 촉진하기 위한 또 다른 옵션은 일종의 핵 형성제로서 효과적인 적어도 하나의 추가 물질을 추가하는 것이다.As already explained above with respect to layer stress, the method according to an embodiment of the present disclosure, in particular by means of a coating process using the sputter deposition technique according to the embodiment, will surprisingly provide a very advantageous construction of the coating. make it possible Surprisingly, the method, in particular a sputter deposition technique, for example a pulsed sputter deposition, preferably in particular a pulsed intermediate frequency sputter deposition or a high frequency sputter deposition, is at least partially crystalline, in particular polycrystalline (or at least partly crystalline , especially with mixed oxides that are polycrystalline) have been found to make it possible to obtain coatings which nevertheless exhibit low layer stresses. This effect can be enhanced by further post-treatment of the coating, either directly under vacuum or under atmospheric conditions. Another option to promote this effect is to add at least one additional substance effective as a kind of nucleating agent.

코팅된 샘플은 코팅 챔버에서 직접 후처리되거나 코팅 공정 후 추가 처리될 수 있다. 이것은 다음과 같은 상이한 방식으로 달성될 수도 있다. The coated sample can be post-treated directly in the coating chamber or further processed after the coating process. This may be achieved in different ways as follows.

적어도 약 400℃, 더 좋게는 적어도 약 500℃ 이상, 더욱 보다 유리하게는 적어도 약 600℃ 또는 심지어 적어도 약 900℃의 온도에서의 열적 후처리가 있으며, 최대 온도는, 특히, 대기압에서 바람직하게는 적어도 2 시간, 더 좋게는 적어도 약 4 시간이나 심지어 그 이상, 가장 좋게는 최대 약 6 시간이나 가능하면 그 이상이지만 100 시간을 넘지 않는 시간 동안의 최대 1100℃의 커버 플레이트 또는 커버 패널의 최대 작동 온도이다. 이러한 방식으로, 코팅이 어닐링 처리될 수 있어, 또한 경화되거나, 보다 일반적으로는, 열적 후처리되거나 열처리된 것으로 지칭되거나 이해될 수 있다. 예를 들어, 이 후처리는 커버 패널의 열 강화 공정 동안(특히, 커버 패널이 유리 기판을 포함하는 경우) 또는 커버 패널의 세라믹화 공정 동안(특히, 커버 패널이 유리 세라믹 기판을 포함하는 경우) 달성될 수도 있다. 열적 후처리는 코팅 단계가 종료된 후 커버 패널의 처리 동안의 어쨌든 의도한 공정 단계 중에, 예를 들어, 열적 강화 중에 또는 세라믹화 공정 중에 이러한 열적 후처리가 달성될 수 있다는 특별한 장점을 갖는다. 이것은 커버 패널의 별도의 열처리가 필요하지 않으며, 오히려 다른 공정 단계에서 열적 후처리가 수행될 수 있다는 것을 의미한다. 따라서, 유리하게는, 열처리가 세라믹화 노에서, 즉, 녹색 유리를 유리 세라믹으로 전환하는 동안, 또는 강화 노에서, 즉, 유리 기판의 열적 강화 동안 수행될 수 있다.There is a thermal after-treatment at a temperature of at least about 400° C., preferably at least about 500° C. or higher, even more advantageously at least about 600° C. or even at least about 900° C., the maximum temperature being, in particular, preferably at atmospheric pressure. The maximum operating temperature of the cover plate or cover panel of up to 1100° C. for a period of at least 2 hours, more preferably at least about 4 hours or even longer, most preferably up to about 6 hours and possibly longer, but not exceeding 100 hours. am. In this way, the coating may be annealed, and may also be referred to or understood as being cured or, more generally, thermally post-treated or heat treated. For example, this post-treatment may be performed during the thermal strengthening process of the cover panel (especially if the cover panel comprises a glass substrate) or during the ceramization process of the cover panel (especially if the cover panel comprises a glass ceramic substrate). may be achieved. The thermal post-treatment has the particular advantage that such a thermal post-treatment can be achieved during the treatment of the cover panel after the coating step has been completed and anyway during the intended process step, for example during thermal strengthening or during the ceramization process. This means that a separate heat treatment of the cover panel is not required, but rather a thermal post treatment can be performed in other process steps. Thus, advantageously, the heat treatment can be carried out in a ceramization furnace, ie during the conversion of green glass to glass ceramic, or in a tempering furnace, ie during thermal strengthening of the glass substrate.

적어도 5 분, 바람직하게는 적어도 15 분, 가장 바람직하게는 적어도 약 60 분이지만 바람직하게는 10 시간 이하, 보다 바람직하게는 5 시간 이하의 기간 동안의 최대 약 10 mbar, 바람직하게는 최대 약 5 mbar, 가장 바람직하게는 약 1 mbar 이하이지만 바람직하게는 적어도 0.001 mbar의 압력에서의 플라즈마 처리(예를 들어, 아르곤, 산소, 암모니아 또는 수소 플라즈마)가 있다.at most about 10 mbar, preferably at most about 5 mbar for a period of at least 5 minutes, preferably at least 15 minutes, most preferably at least about 60 minutes, but preferably up to about 10 hours, more preferably up to about 5 hours , most preferably plasma treatment (eg argon, oxygen, ammonia or hydrogen plasma) at a pressure of about 1 mbar or less, but preferably at least 0.001 mbar.

적어도 1 회의 방전, 더 좋게는 적어도 5 회의, 가장 바람직하게는 10 회 이상의 방전에 대해 적어도 8 J/cm2, 바람직하게는 적어도 20 J/cm2, 그리고 가장 바람직하게는 적어도 40 J/cm2 의 상이한 에너지 또는 에너지 밀도에서의 크세논 플래시 램프를 사용한 처리가 있다. at least 8 J/cm 2 , preferably at least 20 J/cm 2 , and most preferably at least 40 J/cm 2 for at least 1 discharge, better at least 5 times, most preferably at least 10 discharges treatment with xenon flash lamps at different energies or energy densities of

대기압에서 적어도 2 시간, 바람직하게는 적어도 4 시간, 가장 바람직하게는 적어도 약 6 시간이지만 100 시간 이하 동안 UV 램프, 예를 들어, 바람직하게는 185 nm 및/또는 254 nm에서 라인 스펙트럼의 특징적인 라인을 갖는 라인 스펙트럼 UV 램프를 사용한 처리가 있다.Characteristic lines of the line spectrum at atmospheric pressure at least 2 hours, preferably at least 4 hours, most preferably at least about 6 hours but not more than 100 hours in a UV lamp, for example preferably 185 nm and/or 254 nm There is a treatment using a line spectrum UV lamp with

레이저 처리가 있다.There is laser treatment.

결정 성장은 적어도 실리콘 또는 티타늄 또는 이들 두 재료의 혼합물을 포함하는 AxByO4 형태의 경우 소위 핵 형성제를 첨가하여 자극 및/또는 촉진될 수 있다. 따라서, 후처리 단계의 대안으로서 또는 이에 추가하여, 핵 형성제 또는 첨가제가 첨가될 수도 있다. 첨가제의 양이 코팅의 물리 화학적 특성에 악영향을 미치지 않을 정도로 충분히 낮게 유지되긴 하지만, 결정화 온도 감소를 야기한다. 이러한 이유로, 일 실시예에 따르면, 핵 형성제의 양이 AxByO4 의 10% 미만, 바람직하게는 5% 미만, 가장 바람직하게는 2% 미만이다. 여기서, 위의 백분율은 원자 또는 몰분율 또는 몰량(또한 at% 또는 mol%라고도 함)을 기반으로 한다. 다시 말해, z는 화합물 AxByO4의 숫자 x 및 y보다 훨씬 작을 것이다. 여기서, C는, 바람직하게는, 티타늄 또는 실리콘 원소 또는 이들 두 원소의 혼합물을 포함하거나, 티타늄 원소 또는 실리콘 원소 또는 이들 원소의 혼합물로 구성된다.Crystal growth can be stimulated and/or promoted by the addition of so-called nucleating agents, at least in the case of the A x B y O 4 form comprising silicon or titanium or a mixture of these two materials. Accordingly, nucleating agents or additives may be added as an alternative to or in addition to the post-treatment step. Although the amount of additive is kept low enough not to adversely affect the physicochemical properties of the coating, it causes a decrease in the crystallization temperature. For this reason, according to one embodiment, the amount of nucleating agent is less than 10%, preferably less than 5% and most preferably less than 2% of A x B y O 4 . Here, the above percentages are based on atomic or mole fractions or molar amounts (also referred to as at% or mol%). In other words, z will be much smaller than the numbers x and y of compound A x B y O 4 . Here, C preferably comprises, or consists of, titanium or silicon element or a mixture of these two elements, or a titanium element or silicon element or a mixture of these elements.

추가 핵 형성제가 합금 타겟의 성분 A 및 B에 혼합될 수 있어, A 또는 B에 비해 성분 C의 비율이 현저히 낮은 상태로 3 개의 원소 A, B 및 C가 모두 이 타겟에 제공될 것이다. 위에서 언급된 바와 같이, 성분 C는 티타늄 또는 실리콘 또는 이들 원소의 혼합물로 정의될 수도 있다. 3 개의 성분으로 구성되거나 이들 3 개의 성분을 포함하는 이러한 합금 타겟은 소량의 성분 C로 인해 2-성분 타겟과 거의 동일하게 처리될 수 있다. 또 다른 가능성은 공동-스퍼터링으로 알려진 처리에 의해 플라즈마에 제 3 성분 C를 추가하는 것이며, 이 경우, 하나의 타겟 재료가 성분 A 및 B와 제 2 타겟 재료인 성분 C로 구성되거나 구성될 수도 있다. 이 경우, 제공되는 성분 C의 원자 또는 이온의 양이 성분 A 및 B를 포함하는 합금 타겟이 제공하는 원자 또는 이온의 수보다 훨씬 적을 것이다. Additional nucleating agents may be incorporated into components A and B of the alloy target, such that all three elements A, B, and C will be provided to the target with a significantly lower proportion of component C relative to A or B. As mentioned above, component C may also be defined as titanium or silicon or a mixture of these elements. This alloy target composed of or comprising three components can be treated almost identically to a two-component target due to the small amount of component C. Another possibility is to add a third component C to the plasma by a process known as co-sputtering, in which case one target material consists or may consist of components A and B and a second target material, component C. . In this case, the amount of atoms or ions of component C provided will be much less than the number of atoms or ions provided by the alloy target comprising components A and B.

따라서, 일 실시예에 따르면, 본 개시는 또한,Thus, according to one embodiment, the present disclosure also

- 유리 또는 유리 세라믹 기판을 제공하는 단계,- providing a glass or glass ceramic substrate;

- 유리 또는 유리 세라믹 기판을 코팅 챔버 내로 도입하는 단계,- introducing a glass or glass ceramic substrate into the coating chamber;

- 성분 A 및 B를 포함하는 세라믹 또는 금속제 타겟을 제공하는 단계로서, A는 바람직하게는 Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물을 포함하며 B는 바람직하게는 Al, Fe, Cr, V 또는 이들의 혼합물을 포함하는 것인 단계,- providing a ceramic or metallic target comprising components A and B, wherein A preferably comprises Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or mixtures thereof and B is preferably Al; Fe, Cr, V or a mixture thereof,

- 바람직하게는 산소인 가스를 반응 가스로서 제공하는 단계,- providing a gas, preferably oxygen, as a reactive gas;

- 코팅 챔버 내의 압력을 조정하는 단계로서, 압력은 1*10-3 mbar 이상 내지 5*10-2 mbar 이하인 것인 단계,-adjusting the pressure in the coating chamber, wherein the pressure is 1*10 -3 mbar or more and 5*10 -2 mbar or less,

- 코팅 챔버 내의 40℃를 초과하는 온도를 조정하는 단계로서, 생산 온도는 바람직하게는 350℃ 이하인 것인 단계,- adjusting the temperature in the coating chamber above 40 °C, wherein the production temperature is preferably below 350 °C;

- 기상 성막 또는 스퍼터 성막에 의해 코팅을 수행하는 단계로서, 스퍼터 성막이 DC 스퍼터 성막 또는 펄스 스퍼터 성막으로서, 예를 들어, 중간 주파수 스퍼터 성막 또는 고주파 스퍼터 성막으로서 수행될 수 있는 것인 단계- performing the coating by vapor phase deposition or sputter deposition, wherein sputter deposition can be performed as DC sputter deposition or pulse sputter deposition, for example, intermediate frequency sputter deposition or high frequency sputter deposition

를 포함하여, 적어도 하나의 주 표면이 화학식 AxByO4의 혼합 산화물을 포함하거나 이 혼합 산화물로 주로 또는 실질적으로 또는 전체적으로 형성된 코팅으로 적어도 부분적으로 코팅되는 것으로서, wherein at least one major surface is at least partially coated with a coating comprising or formed mainly or substantially or entirely of a mixed oxide of the formula A x B y O 4 ,

A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며,The molar ratio of A to B is 0.3 or more and 0.7 or less,

혼합 산화물 및/또는 코팅이 적어도 부분적으로 결정질, 특히, 다결정질이며,the mixed oxide and/or coating is at least partially crystalline, in particular polycrystalline,

A는 바람직하게는 Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물을 포함하며,A preferably comprises Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or mixtures thereof,

B는 바람직하게는 Al, Fe, Cr, V 또는 이들의 혼합물을 포함하며,B preferably comprises Al, Fe, Cr, V or mixtures thereof,

코팅은, 바람직하게는, 70%를 초과하는 광 투과율을 나타내며,The coating preferably exhibits a light transmittance of greater than 70%,

노, 바람직하게는 세라믹화 노 또는 강화 노에서의 열 처리 형태의 추가 공정 단계에 의한, 레이저 노출에 의한, 플래시 램프 처리에 의한, UV 후 처리에 의한, 추가 플라즈마, 예를 들어, 진공 상태의 산소 플라즈마 또는 대기 하에서의 플라즈마라인(PlasmaLine®)에 의한 노출에 의한, 및/또는 화염 노출에 의한 코팅의 후처리 및By means of a further process step in the form of heat treatment in a furnace, preferably in a ceramization furnace or an intensification furnace, by laser exposure, by flash lamp treatment, by UV post treatment, by further plasma, for example in vacuum post-treatment of the coating by exposure to oxygen plasma or atmospheric plasmalines (PlasmaLine ® ) and/or by flame exposure;

화합물 AxByCzO4(z가 x 및 y보다 상당히 작음)를 포함하는 코팅을 획득하도록 추가 성분의 함량이 몰분율을 기반으로 10% 미만, 바람직하게는 5% 미만, 그리고 가장 바람직하게는 2% 미만인 티타늄 또는 실리콘 또는 이들 두 원소의 혼합물을 포함하거나 이것으로 구성된 추가 성분의 첨가The content of additional components is less than 10%, preferably less than 5%, and most preferably based on mole fraction, to obtain a coating comprising compound A x B y C z O 4 (z is significantly less than x and y) is less than 2% titanium or silicon or the addition of additional components comprising or consisting of a mixture of these two elements

와 같은 특징 중 적어도 하나를 추가로 포함하는 커버 패널, 바람직하게는 본 개시에 설명된 실시예 중 어느 하나에 따른 커버 패널을 제조하는 방법에 관한 것이다.It relates to a cover panel further comprising at least one of the following features, preferably to a method of manufacturing a cover panel according to any one of the embodiments described in the present disclosure.

따라서, 이 실시예에 따르면, 코팅이 핵 형성제를 포함하는 것이 가능하다. 코팅의 성분 C의 몰분율이 작기 때문에 화학식 AxByO4의 도핑된 혼합 산화물이 획득되며, 도펀트의 몰분율이 작음으로 인해, 혼합 산화물의 필수 특성이 여전히 주요 성분 A 및 B, 예를 들어, 결정 구조에 의해 결정된다. 본 개시의 문맥에서, 화학식 AxByO4의 혼합 산화물이 또한, 성분 C의 함량이 몰분율 기준으로 10% 이하이며 가능하면 더 적다면, 화학식 AxByCzO4의 도핑된 혼합 산화물을 포함하는 것으로 이해된다. 몰분율이 또한, 지수 x, y 및 z의 관계로 주어질 수도 있으며, 몰분율(MF)은 이하의 수학식에 따라 산출된다. Thus, according to this embodiment, it is possible for the coating to include a nucleating agent. Due to the small mole fraction of component C of the coating, doped mixed oxides of the formula A x B y O 4 are obtained, and due to the small mole fraction of the dopant, the essential properties of the mixed oxide are still the main components A and B, for example, It is determined by the crystal structure. In the context of the present disclosure, a mixed oxide of the formula A x B y O 4 is also a doped mixture of the formula A x B y C z O 4 , provided that the content of component C is 10% or less on a mole fraction basis and possibly even less It is understood to include oxides. The mole fraction may also be given in terms of the indices x, y and z, and the mole fraction MF is calculated according to the following equation.

Figure pat00003
Figure pat00003

이미 위에서 언급된 바와 같이, 일 실시예에 따른 방법에 의해 획득된 커버 패널에서, 실시예에 따른 코팅의 층 응력의 절대 값은, 바람직하게는, 최대 800 Mpa, 보다 바람직하게는 최대 500 MPa, 그리고 가장 바람직하게는 300 MPa 이하이다. 다시 말해, 층 응력은, 바람직하게는, ±800 Mpa, 보다 바람직하게는 최대 ±500 MPa, 그리고 가장 바람직하게는 ±300 MPa 이하이다.As already mentioned above, in the cover panel obtained by the method according to an embodiment, the absolute value of the layer stress of the coating according to the embodiment is preferably at most 800 Mpa, more preferably at most 500 MPa, and most preferably 300 MPa or less. In other words, the layer stress is preferably ±800 Mpa, more preferably at most ±500 MPa, and most preferably ±300 MPa or less.

또한 놀랍게도, 코팅 또는 코팅을 구성하는 혼합 산화물은, 특히, 혼합 산화물이 스피넬 구조 또는 역 스피넬 구조 또는 감람석 구조를 나타낼 때 적어도 부분적으로 결정질이다. 이러한 결정 구조의 형성은 보통, 예를 들어, 분말을 제조할 때 고온을 필요로 하며(예를 들어, 알하지(Alhaji) 등의 광학 재료 98(2019), 섹션 2.2를 참조하면 적어도 1400℃의 온도가 제시되며, 또는 오르린스키(Orlinski) 등의 유럽 세라믹 협회지 39(2019), 섹션 2에는 1000℃의 온도가 언급됨), 이 경우에는 공융 시스템 또는 단결정 생성에 이점이 있는 것으로 알려져 있다(예를 들어, 다케부치(Takebuchi) 등의 방사선 물리학 및 화학 177(2020), 섹션 2를 참조하면, 특히, 1400℃의 온도가 언급됨).Also surprisingly, the coating or the mixed oxide constituting the coating is at least partially crystalline, in particular when the mixed oxide exhibits a spinel structure or an inverse spinel structure or an olivine structure. The formation of such a crystal structure usually requires high temperatures, for example, when preparing powders (see, for example, Alhaji et al., Optical Materials 98 (2019), section 2.2 at least 1400° C.) Temperatures are given, or Orlinski et al., Journal of the European Ceramic Society 39 (2019), section 2 mentions a temperature of 1000 °C), in which case it is known that there is an advantage in eutectic systems or single crystal formation (e.g. See, for example, Takebuchi et al., Radiation Physics and Chemistry 177 (2020), section 2, mentioning in particular a temperature of 1400° C.).

놀랍게도, 본 출원에 따른 방법을 사용하면, 350℃ 이하의 스퍼터 성막 챔버 내의 저온에서 이미 적어도 부분적인 결정성이 달성될 수 있으며, 그렇지 않으면 이러한 저온은 보통, 전구체 재료를 건조하는 데에만 사용된다(오르린스키 등 참조). Surprisingly, with the method according to the present application, at least partial crystallinity can already be achieved at low temperatures in the sputter deposition chamber of up to 350° C., otherwise these low temperatures are usually only used for drying the precursor material ( Orlinsky et al.).

따라서, 본 개시는 또한, 커버 패널, 특히, 본 개시의 실시예에 따른 방법에 의해 생성되거나 생산 가능한 전술한 실시예에 따른 커버 패널 및 그 이용에 관한 것이다.Accordingly, the present disclosure also relates to a cover panel, in particular a cover panel according to the above-described embodiment produced or producible by a method according to an embodiment of the present disclosure, and a use thereof.

본 발명이 이제 동일한 도면 부호가 동일하거나 동등한 특징을 나타내는 도면을 참조하여 보다 상세히 설명될 것이다.
도 1 내지 도 3은 커버 패널의 상이한 실시예를 보여준다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The invention will now be described in more detail with reference to the drawings in which like reference numerals denote like or equivalent features.
1 to 3 show different embodiments of a cover panel.

도 1은 본 출원에 따른 커버 패널(1)의 제 1 실시예의 실제 축척으로 도시되지 않은 커버 패널(1)의 개략적인 단면도이다. 커버 패널(1)은 제 1 주 표면(11) 및 제 2 주 표면(12)을 구비한 유리 또는 유리 세라믹 기판(10) 및 주 표면(11, 12) 중 하나, 즉, 이 경우 주 표면(12) 상에 배치된 코팅(2)을 포함한다. 코팅(2)은 커버 패널(1) 또는 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 적어도 하나의 영역(100) 상에 배치된다.1 is a schematic cross-sectional view of a cover panel 1, not shown to scale, of a first embodiment of a cover panel 1 according to the present application. The cover panel 1 comprises a glass or glass ceramic substrate 10 having a first major surface 11 and a second major surface 12 and one of the major surfaces 11 , 12 , ie in this case the major surface ( 12) a coating 2 disposed thereon. The coating 2 is disposed on the cover panel 1 or on at least one area 100 of the glass or glass ceramic substrate 10 .

코팅(2)이 화학식 AxByO4의 혼합 산화물을 포함하거나, 화학식 AxByO4의 혼합 산화물로 주로, 즉, 50 중량%를 초과하여, 또는 실질적으로, 즉, 90 중량%를 초과하여, 또는 전체적으로 형성된다. A 대 B의 몰비는 0.3 이상 내지 0.7 이하이다. 몰비가, 특히, 0.5일 수도 있다. 혼합 산화물 및/또는 코팅(2)은 적어도 부분적으로 결정질, 특히 다결정질이다. A는, 바람직하게는, Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물이다. B는, 바람직하게는, Al, Fe, Cr, V 또는 이들의 혼합물이다. 코팅(2)은, 바람직하게는, 70%를 초과하는 광 투과율을 나타낸다.The coating (2) comprises a mixed oxide of the formula A x B y O 4, or exceeds mainly, that is, 50% by weight of a mixed oxide of the formula A x B y O 4, or a substantially, i.e., 90% by weight is formed in excess of, or entirely. The molar ratio of A to B is 0.3 or more and 0.7 or less. The molar ratio may in particular be 0.5. The mixed oxide and/or coating 2 is at least partially crystalline, in particular polycrystalline. A is preferably Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or a mixture thereof. B is preferably Al, Fe, Cr, V or a mixture thereof. The coating 2 preferably exhibits a light transmittance of greater than 70%.

여기서, 영역(100)은 코팅(2)과 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)만이 이 영역(100)에 포함되도록 설계된다. 다시 말해, 영역(100)은, 여기서, 코팅(2)만이 단지 하나의 주 표면, 이 경우에는 주 표면(12) 상에 배치되는 부분(101)을 획정한다. 영역(100)의 이러한 부분(101)이 또한, 일 예로서, 커버 패널(1)의 추가 실시예에 대한, 실제 축척으로 도시되지 않은 개략적인 단면도인 도 2에 실제 축척이 아닌 비율로 도시되어 있다. 도 2는 또한, 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 주 표면(12) 상의 추가 코팅(3)을 보여준다.Here, the region 100 is designed such that only the coating 2 and the glass or glass ceramic substrate 10 are included in this region 100 . In other words, the region 100 delimits a portion 101 , in which only the coating 2 is disposed on one major surface, in this case the major surface 12 . This part 101 of the region 100 is also shown to scale, not to scale, in FIG. 2 , which is a schematic cross-sectional view, not drawn to scale, of a further embodiment of the cover panel 1 , as an example. have. 2 also shows an additional coating 3 on the major surface 12 of the glass or glass ceramic substrate 10 .

커버 패널(1)은, 바람직하게는, 코팅(2)만이 단 하나의 주 표면(11, 12), 즉, 이 경우 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 주 표면(12) 상에 배치되는 영역(100)의 적어도 부분(101)에서 70%를 초과하는 광 투과율을 나타내도록 설계된다.The cover panel 1 is preferably an area in which only the coating 2 is disposed on one major surface 11 , 12 , ie in this case the major surface 12 of the glass or glass ceramic substrate 10 . It is designed to exhibit a light transmittance of greater than 70% in at least portion 101 of 100 .

그러나, 보다 일반적으로, 여기에 예시된 커버 패널(1)의 예시적인 실시예로 제한되지 않고, 추가 코팅(3)이, 특히, 영역(100)에서도 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 주 표면(11, 12) 상에 배치되는 것도 가능하다. 이러한 추가 코팅(3)은, 예를 들어, 일반적으로 코팅(2)의 아래에 배치되거나 위에 배치될 수도 있는 코팅(2)과 동일한 주 표면 상에 배치될 수도 있다. 추가 코팅(3)은, 예를 들어, 전도체 트랙 또는 햅틱 코팅, 또는 그 밖에, 예를 들어, 유리 플럭스 기반 코팅 또는 에나멜, 즉, 에나멜 코팅을 포함할 수도 있다. 도 2는 추가 코팅(3)이 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 코팅(2)과 동일한 주 표면(12) 상에 배치되며, 추가 코팅(3)이 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 주 표면(12)과 직접 접촉하여 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)과 코팅(2) 사이에 배치되는 것을 보여준다. 코팅의 이러한 배열은, 특히, 코팅(2)이 기계적으로 특히 안정적이며 및/또는 화학적으로 특히 불활성인 경우 그리고 코팅(2)이 추가 코팅(3)을 탑 코트로서 덮도록 의도되어, 이에 따라 전체적으로 기계적으로 및/또는 화학적으로 저항성이 있는 커버 패널(1)의 표면이 획득되는 경우 바람직할 수도 있다.However, more generally, and not limited to the exemplary embodiment of the cover panel 1 illustrated herein, the additional coating 3 may, in particular, also be applied to the major surface of the glass or glass ceramic substrate 10 in the region 100 . It is also possible to arrange on (11, 12). This additional coating 3 may, for example, be disposed on the same major surface as the coating 2 , which may generally be disposed under or over the coating 2 . The further coating 3 may comprise, for example, a conductor track or a haptic coating, or else, for example a glass flux based coating or an enamel, ie an enamel coating. FIG. 2 shows that an additional coating 3 is disposed on the same major surface 12 as the coating 2 of a glass or glass ceramic substrate 10 , wherein the additional coating 3 is a major surface of the glass or glass ceramic substrate 10 . It is shown disposed between the glass or glass ceramic substrate 10 and the coating 2 in direct contact with the surface 12 . This arrangement of the coating is intended, in particular, if the coating 2 is particularly mechanically stable and/or chemically particularly inert and the coating 2 covers the further coating 3 as a top coat, thus as a whole It may be advantageous if a mechanically and/or chemically resistant surface of the cover panel 1 is obtained.

본 실시예에 따르면, 커버 패널은 또한, 코팅이 형성되지 않고 오히려 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)만이 제공되는 영역(110)을 포함한다. 이것이, 예를 들어, 도 1에 표시되어 있다.According to this embodiment, the cover panel also comprises a region 110 in which no coating is formed, but rather only a glass or glass ceramic substrate 10 is provided. This is shown, for example, in FIG. 1 .

바람직한 실시예에 따르면, 코팅(2)은 0.05 ㎛ 이상 내지 3 ㎛ 이하의 두께를 갖는다. 더 얇은 코팅은 보통, 예를 들어, 본 경우의 AB2O4 재료와 같은 기계적으로 및/또는 화학적으로 저항성을 갖는 재료를 포함하더라도, 또는 이러한 저항성을 갖는 재료로 주로 또는 실질적으로 또는 심지어 전체적으로 형성되더라도, 유리 또는 유리 세라믹 기판(2)의 표면의 내마모성을 충분히 향상시킬만큼 충분히 두껍지 않다. 반면에, 두께가 3 ㎛를 초과하는 코팅은 균열이 발생하는 경향이 있으며, 더욱이, 이러한 두꺼운 코팅을 성막하는 데 오랜 시간이 소요되어 더 이상 경제적으로 실행 가능하지 않다.According to a preferred embodiment, the coating 2 has a thickness of at least 0.05 μm and not more than 3 μm. Thinner coatings usually comprise, or are formed mainly or substantially or even entirely of, mechanically and/or chemically resistant materials, such as, for example, the AB 2 O 4 material in the present case. However, it is not thick enough to sufficiently improve the wear resistance of the surface of the glass or glass ceramic substrate 2 . On the other hand, coatings with a thickness exceeding 3 mu m tend to crack, and moreover, it takes a long time to form such a thick coating and is no longer economically viable.

코팅(2)이 투명하고 무색이면, 이 경우 코팅(2)이 시각적으로 눈에 띄지 않기 때문에 유리하다. 본 개시의 문맥에서, 코팅은, 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 하나의 주 표면(11, 12) 상에 코팅(2)만이 배치되는 부분(101)에서의 커버 패널(1)의 색 위치(E101)가 유리 또는 유리 세라믹 기판(10) 상에 코팅이 배치되지 않은 영역(110)에서의 커버 패널의 색 위치(E110)와 20 미만, 바람직하게는 15 미만, 가장 바람직하게는 10 미만의 값(ΔE)이 차이가 나는 경우, 바람직하게는, 투명하고 무색인 것으로 지칭되며, 부분(110)에서의 색 위치(E110)와 영역(101)에서의 색 위치(E101)가, 가장 바람직하게는, L*a*b* 색 체계에서 결정되며, 색 위치의 차이(ΔE)가 이하의 수학식을 사용하여 산출된다.It is advantageous if the coating 2 is transparent and colorless, since in this case the coating 2 is not visually conspicuous. In the context of the present disclosure, the coating is the color position of the cover panel 1 in the portion 101 where only the coating 2 is disposed on one major surface 11 , 12 of the glass or glass ceramic substrate 10 . (E 101 ) is the color position (E 110 ) of the cover panel in the area 110 where no coating is disposed on the glass or glass ceramic substrate 10 and less than 20, preferably less than 15, most preferably less than 10 If the value ΔE differs by less than, it is preferably said to be transparent and colorless, and the color position E 110 in the portion 110 and the color position E 101 in the region 101 are , most preferably determined in the L*a*b* color system, and the difference in color positions (ΔE) is calculated using the following equation.

Figure pat00004
Figure pat00004

색 위치(E110)가 색 좌표(a*110, b*110, L*110)로 주어지며, 색 위치(E101)가 색 좌표(a*101, b*101, L*101)로 주어지며, 이들 색 위치는, 바람직하게는, 특히, 코니카 미놀타의 CM-700d 분광 광도계를 사용하여 흰색 타일에 대한 개개의 측정에서 결정된다.The color position (E 110 ) is given by the color coordinates (a* 110 , b* 110 , L* 110 ), and the color position (E 101 ) is given by the color coordinates (a* 101 , b* 101 , L* 101 ). These color positions are preferably determined in individual measurements on white tiles using, inter alia, a CM-700d spectrophotometer from Konica Minolta.

커버 패널(1)은, 바람직하게는, 2 mm 이하 내지 8 mm 이하의 두께를 갖는다. 바람직하게는, 커버 패널의 두께는 적어도 4 mm이다. 또한 바람직하게는, 커버 패널(1)의 두께는 6 mm 이하이다. 커버 패널(1)을 너무 얇게 만들면, 파괴 거동 측면에서 기계적 강도가 충분하지 않을 것이다. 특히, 내충격성 및/또는 굽힘 강도ㄱ가, 예를 들어, 조리 패널 또는, 특히, 고온 용례의 관찰 창용의 관찰 창용으로 사용하기에 충분하지 않을 수도 있다. 그러나, 커버 패널(1)이 너무 두꺼우면, 패널이 너무 무거워진다. 또한, 예를 들어, IR 범위 및/또는 가시 광선 범위에서의 투과 특성이 너무 불량해지는 경우가 발생할 수도 있다. 예를 들어, 오븐이나 벽난로의 관찰 창으로서 사용되는 커버 패널이 너무 두꺼우면, 예를 들어, 난방될 방으로의 열 복사 전달이 충분하지 않을 것이다. 예를 들어, 커버 패널(1)이 조리 패널로 사용되며, 커버 패널(1)이 너무 두꺼우면, 최대 비등점까지의 충분히 신속한 가열이 더 이상 보장될 수 없는 경우가 발생할 수도 있다.The cover panel 1 preferably has a thickness of 2 mm or less to 8 mm or less. Preferably, the thickness of the cover panel is at least 4 mm. Also preferably, the thickness of the cover panel 1 is 6 mm or less. If the cover panel 1 is made too thin, the mechanical strength will not be sufficient in terms of fracture behavior. In particular, the impact resistance and/or flexural strength a may not be sufficient for use as, for example, viewing windows for cooking panels or, in particular, viewing windows for high temperature applications. However, if the cover panel 1 is too thick, the panel becomes too heavy. Also, there may be cases where, for example, the transmission characteristics in the IR range and/or the visible light range become too poor. If, for example, a cover panel used as a viewing window in an oven or fireplace is too thick, the transfer of heat radiation to, for example, a room to be heated will not be sufficient. For example, if the cover panel 1 is used as a cooking panel, and the cover panel 1 is too thick, it may occur that a sufficiently rapid heating to the maximum boiling point can no longer be ensured.

도 3은 커버 패널(1)의 실제 축척으로 도시되지 않은 추가의 개략적인 단면도를 보여준다. 여기서, 코팅(2, 3)의 배열은 도 2의 배열과 일치한다. 2 개의 주 표면(11, 12)이 평활한 도 1 및 도 2의 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)과는 대조적으로, 여기서는 주 표면(11)이 평활하지 않으며 오히려 돌부가 있다. 커버 패널의 이러한 디자인은, 예를 들어, 커버 패널(1)의 특히 높은 충격 강도 및/또는 굽힘 강도가 요구되는 경우에 유리할 수도 있다. 이것은, 특히, 커버 패널(1)의 작동 사용 중에 사용자의 반대 방향을 향하는 주 표면에 제공될 수도 있는 돌부가 강도 증가 효과를 가지기 때문인데, 그 이유는 돌부가 형성된 밑면 상에서는 균열이 쉽게 확산될 수 없으며 따라서 크랙으로 인해 커버 패널이 평활한 밑면으로 인한 것처럼 쉽게 파괴될 수 없기 때문이다.3 shows a further schematic cross-sectional view, not drawn to scale, of the cover panel 1 . Here, the arrangement of the coatings 2 , 3 corresponds to the arrangement in FIG. 2 . In contrast to the glass or glass ceramic substrate 10 of FIGS. 1 and 2 , in which the two major surfaces 11 , 12 are smooth, here the major surface 11 is not smooth but rather has protrusions. This design of the cover panel may be advantageous, for example, if a particularly high impact strength and/or bending strength of the cover panel 1 is required. This is because, in particular, during operation and use of the cover panel 1, the protrusion that may be provided on the main surface facing the opposite direction of the user has a strength increasing effect, since cracks can easily spread on the underside where the protrusion is formed. This is because cracks cannot break the cover panel as easily as with a smooth underside.

커버 패널(1)의 일 실시예에 따르면, 커버 패널은 코팅(2)만이 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 단 하나의 주 표면(11, 12)에 배치되는 커버 패널(1)의 영역(100)의 부분(101)에서 커버 패널(1)이 ASTM D 1003에 따라 측정될 때 5% 미만, 바람직하게는 2% 미만, 그리고 가장 바람직하게는 1% 미만의 탁도를 나타내도록 설계된다. 이것은 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 단 하나의 주 표면(11 또는 12)에 코팅만이 배치되는 커버 패널(1)의 또는 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 부분에서, 커버 패널이 매우 약간의 탁함만을 나타낸다는 것을 의미한다. 그러므로, 커버 패널(1)은 이 부분(101)에서 매우 선명하며, 따라서 약간의 광 산란만을 야기한다. 이것은 커버 패널(1)을 통한 특히 우수한 가시성을 달성하는 데 유리하다.According to one embodiment of the cover panel 1 , the cover panel is a region of the cover panel 1 in which only the coating 2 is disposed on only one major surface 11 , 12 of the glass or glass ceramic substrate 10 ( The cover panel 1 in the portion 101 of 100) is designed to exhibit a haze of less than 5%, preferably less than 2%, and most preferably less than 1% as measured according to ASTM D 1003. This means that in parts of the glass or glass ceramic substrate 10 or of the cover panel 1 where only a coating is disposed on only one major surface 11 or 12 of the glass or glass ceramic substrate 10, the cover panel is very slightly means that only the turbidity of Therefore, the cover panel 1 is very sharp in this part 101 , thus causing only slight light scattering. This is advantageous for achieving particularly good visibility through the cover panel 1 .

커버 패널(1) 또는 코팅(2)이 DIN EN ISO 14577-1 및 -4(마르텐스 경도로도 알려짐)를 준수하거나 이를 기반으로 한 측정 방법에서 결정된 6 Gpa 내지 11 GPa의 경도를 갖도록 설계되면 또한 유리하다. 이에 의해 코팅(2)이, 예를 들어, 특히 커버 패널 상에 상부 코팅으로서 적용될 때 커버 패널의 표면을 긁힘으로부터 보호하기 위한 내마모성 코팅으로서 특히 효과적일 수 있게 된다.If the cover panel (1) or the coating (2) is designed to have a hardness of between 6 Gpa and 11 GPa as determined by a measurement method conforming to or based on DIN EN ISO 14577-1 and -4 (also known as Martens hardness), It is also advantageous. This makes it possible for the coating 2 to be particularly effective, for example, as a wear-resistant coating for protecting the surface of the cover panel from scratches, especially when applied as a top coating on the cover panel.

더욱이, 커버 패널(1)의 추가의 실시예에 따르면, 코팅(2)이 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 주 표면(11, 12)을 전체 표면적에 걸쳐 실질적으로, 즉, 주 표면의 적어도 90%를, 바람직하게는, 주 표면의 심지어 적어도 95%를 덮도록 커버 패널이 설계된다. 이것은 코팅(2)이 매우 단단하며 및/또는 매우 내마모성이도록 형성되는 경우 특히 유리한데, 그 이유는 이 경우, 실질적으로 전체 표면적에 걸쳐 코팅(2)으로 덮인 영역이 특히 내마모성, 예를 들어, 특히 긁힘 내성 및/또는 마모내성을 나타내기 때문이다.Moreover, according to a further embodiment of the cover panel 1 , the coating 2 covers the major surfaces 11 , 12 of the glass or glass-ceramic substrate 10 substantially over the entire surface area, ie at least of the major surfaces. The cover panel is designed to cover 90%, preferably even at least 95% of the major surface. This is particularly advantageous if the coating 2 is formed to be very hard and/or very wear-resistant, since in this case the area covered with the coating 2 over substantially the entire surface area is particularly abrasion-resistant, for example in particular This is because it exhibits scratch resistance and/or abrasion resistance.

커버 패널(1)의 추가의 실시예에 따르면, 커버 패널(1)은 추가 코팅(3)이 제공되도록 설계된다. 보다 일반적으로, 도면에 도시된 커버 패널(1)의 실시예로 제한되지 않고, 커버 패널이 전도체 트랙 또는 마스크와 같은 다른 코팅, 특히 또한 코팅(2)의 형태로 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 주 표면에 배치되는 코팅과 같은 다수의 추가 코팅(3)을 포함하는 것이 가능하다. 그러나, 코팅(3)이 코팅(2)과 동일한 주 표면, 즉, 본 경우에 도 2 및 도 3에 따른 주 표면(12) 상에 배치되는 것이 특히 가능하다. 추가 코팅(3)은 이 주 표면을 적어도 부분적으로 또는 부분적으로만 덮는다. 특히, 추가 코팅(3)이 유리 플럭스 기반 코팅, 특히, 예를 들어,에나멜 코팅과 같은 착색된 유리 플럭스 기반 코팅의 형태인 경우, 코팅(3)은 전체 표면적에 걸쳐 적용되지 않을 것이며, 주 표면을 부분적으로만 덮을 것이다. 예를 들어, 코팅(3)은 이 경우 조리 구역 표식으로서 적용될 수도 있다. 코팅(3)이 격자 패턴의 형태로 주 표면에 적용되는 것도 가능하다. 이것은 주 표면에 특히 높은 긁힘 내성 또는 마모 내성이 요구되는 경우 특히 유리할 수 있는데, 그 이유는 착색 유리 플럭스 기반 코팅 형태의 추가 코팅(3)이 보통, 복수의 마이크로 미터의 두께를 가질 것이며 따라서, 예를 들어, 조리 기구의 바닥과 유리 또는 유리 세라믹 기판의 주 표면 사이의 스페이서로의 역할을 할 수도 있기 때문이다. 여기서, 추가 코팅(3)은 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)과 코팅(2) 사이에 배치된다. 이것은 이러한 방식으로 추가 코팅(3)의 스페이서 효과가 유지될뿐만 아니라 추가 코팅(3)도 코팅(2)에 의해 덮이기 때문에 유리하다. 특히, 코팅(2)이 긁힘 내성 및/또는 마모 내성을 가지며 및/또는 특히 단단한 경우, 추가 코팅(3)도 따라서 코팅(2)에 의해 긁힘 및/또는 마모로부터 보호될 것이다.According to a further embodiment of the cover panel 1 , the cover panel 1 is designed to be provided with an additional coating 3 . More generally, without being limited to the embodiment of the cover panel 1 shown in the figures, the cover panel is a glass or glass ceramic substrate 10 in the form of conductor tracks or other coatings such as masks, in particular also coatings 2 . It is possible to include a number of additional coatings 3 , such as coatings disposed on the major surface of However, it is particularly possible for the coating 3 to be disposed on the same major surface as the coating 2 , ie in the present case on the major surface 12 according to FIGS. 2 and 3 . The additional coating 3 covers this main surface at least partially or only partially. In particular, if the additional coating 3 is in the form of a glass flux-based coating, in particular a colored glass flux-based coating such as, for example, an enamel coating, the coating 3 will not be applied over the entire surface area, the main surface will only partially cover For example, the coating 3 may in this case be applied as a cooking zone mark. It is also possible for the coating 3 to be applied to the main surface in the form of a grid pattern. This can be particularly advantageous if a particularly high scratch resistance or abrasion resistance is required on the main surface, since the additional coating 3 in the form of a tinted glass flux based coating will usually have a thickness of several micrometers and thus, for example For example, it may serve as a spacer between the bottom of the cookware and the major surface of the glass or glass ceramic substrate. Here, a further coating 3 is disposed between the glass or glass ceramic substrate 10 and the coating 2 . This is advantageous because in this way not only the spacer effect of the further coating 3 is maintained, but the further coating 3 is also covered by the coating 2 . In particular, if the coating 2 is scratch-resistant and/or abrasion-resistant and/or particularly hard, the further coating 3 will thus also be protected from scratches and/or abrasion by the coating 2 .

커버 패널(1)의 추가의 실시예에 따르면, 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)은 투명하며 무색이거나 투명하며 유색일 수도 있다. 관찰 창과 같은 특정 용례에서는, 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)이, 예를 들어, 유리 세라믹 또는 유리에 포함되어 흡수로 인한 색상을 부여하는 금속 이온에 의해 야기되는 것처럼 강한 흡수를 나타내지 않는 경우 특히 유리할 수도 있다. 이 경우, 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)은, 유리하게는, 투명하며 무색의 형태로 제공될 것이다. 다른 용례에서는, 예를 들어, 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 투시를 의도적으로 어렵게 만들어야 하는 경우, 기판이 투명하며 유색의 형태로 제공되면, 예를 들어, 커버 패널(1)이 조리 패널로서 사용되면 보다 유리할 수도 있다.According to a further embodiment of the cover panel 1 , the glass or glass ceramic substrate 10 may be transparent and colorless or transparent and colored. In certain applications, such as viewing windows, it would be particularly advantageous if the glass or glass ceramic substrate 10 does not exhibit strong absorption, such as caused by, for example, metal ions incorporated into the glass ceramic or glass that impart color due to absorption. may be In this case, the glass or glass ceramic substrate 10 will advantageously be provided in transparent and colorless form. In other applications, for example, if it is to be intentionally made difficult to see through the glass or glass ceramic substrate 10, if the substrate is provided in a transparent and colored form, for example, the cover panel 1 is used as a cooking panel. It may be more advantageous if used.

커버 패널(1)의 추가의 실시예에 따르면, 코팅(2)은 커버 패널(1)의 작동 사용 동안 사용자를 향하는 주 표면(11, 12) 상에 배치되며 따라서 상부 표면 또는 전방 표면을 형성한다.According to a further embodiment of the cover panel 1 , the coating 2 is disposed on the main surfaces 11 , 12 facing the user during operative use of the cover panel 1 and thus forms an upper surface or a front surface. .

1 : 커버 패널
10 : 유리 또는 유리 세라믹 기판
11, 12 : 유리 또는 유리 세라믹 기판의 주 표면
100 : 커버 패널의 영역
101 : 영역(100)의 부분
110 : 코팅이 없는 커버 패널의 영역
2 : 코팅
3 : 추가 코팅
1: Cover panel
10: glass or glass ceramic substrate
11, 12: main surface of glass or glass-ceramic substrate
100: area of the cover panel
101: part of region 100
110: area of the cover panel without coating
2: coating
3: additional coating

Claims (14)

커버 패널(1)로서,
제 1 주 표면(11) 및 제 2 주 표면(12)을 구비한 유리 또는 유리 세라믹 기판(10);
커버 패널(1)의 적어도 하나의 영역(100)에서 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 주 표면(11, 12)들 중 적어도 하나 상에 배치된 코팅(2)
을 포함하며,
상기 코팅(2)은 화학식 AxByO4의 적어도 하나의 혼합 산화물을 포함하거나, 또는 화학식 AxByO4의 적어도 하나의 혼합 산화물로 주로 또는 실질적으로 또는 전체적으로 형성되며,
A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며,
혼합 산화물 및/또는 코팅(2)이 적어도 부분적으로 결정질, 특히, 다결정질이며,
A는, 바람직하게는, Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물을 포함하며,
B는, 바람직하게는, Al, Fe, Cr, V 또는 이들의 혼합물을 포함하며,
상기 코팅(2)은, 바람직하게는, 70%를 초과하는 광 투과율을 나타내는 것인 커버 패널.
A cover panel (1) comprising:
a glass or glass ceramic substrate (10) having a first major surface (11) and a second major surface (12);
A coating 2 disposed on at least one of the major surfaces 11 , 12 of a glass or glass ceramic substrate 10 in at least one region 100 of the cover panel 1 .
includes,
The coating (2) is formed primarily or substantially or wholly of at least one mixture of the general formula A x B y O 4 of at least one comprising a mixed oxide, or the general formula A x B y O 4 oxide,
The molar ratio of A to B is 0.3 or more and 0.7 or less,
the mixed oxide and/or coating (2) is at least partially crystalline, in particular polycrystalline,
A preferably comprises Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or mixtures thereof,
B preferably comprises Al, Fe, Cr, V or a mixture thereof,
The coating (2) preferably exhibits a light transmittance of greater than 70%.
제 1 항에 있어서,
상기 코팅(2)은 0.05 ㎛ 이상 내지 3 ㎛ 이하의 두께를 갖는 것인 커버 패널.
The method of claim 1,
The cover panel, wherein the coating (2) has a thickness of not less than 0.05 μm and not more than 3 μm.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 코팅(2)은 투명하고 무색이며,
상기 코팅(2)은, 바람직하게는, 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 하나의 주 표면(11, 12) 상에 코팅(2)만이 배치되는 부분(101)에서의 커버 패널(1)의 색 위치(E101)가, 유리 또는 유리 세라믹 기판(10) 상에 코팅이 배치되지 않은 영역(110)에서의 커버 패널(1)의 색 위치(E110)와 20 미만, 바람직하게는 15 미만, 가장 바람직하게는 10 미만의 값(ΔE)만큼 차이가 나는 경우, 투명하고 무색인 것으로 지칭되며,
상기 부분(110)에서의 색 위치(E110)와 상기 영역(101)에서의 색 위치(E101)가, 가장 바람직하게는, L*a*b* 색 체계에서 결정되며, 색 위치의 차이(ΔE)는 이하의 수학식
Figure pat00005
,
을 사용하여 산출되며,
색 위치(E110)는 색 좌표(a*110, b*110, L*110)로 주어지며, 색 위치(E101)는 색 좌표(a*101, b*101, L*101)로 주어지며, 이들 색 위치는, 바람직하게는, 특히, 코니카 미놀타(Konica Minolta)의 CM-700d 분광 광도계를 사용하여 흰색 타일에 대한 측정에서 결정되는 것인 커버 패널.
3. The method according to claim 1 or 2,
The coating (2) is transparent and colorless,
The coating 2 is preferably applied to the cover panel 1 in the part 101 in which only the coating 2 is disposed on one major surface 11 , 12 of the glass or glass ceramic substrate 10 . The color position E 101 is less than 20, preferably less than 15, with the color position E 110 of the cover panel 1 in the area 110 where no coating is disposed on the glass or glass ceramic substrate 10 . , most preferably by a value (ΔE) of less than 10 is said to be transparent and colorless,
The color position E 110 in the part 110 and the color position E 101 in the region 101 are most preferably determined in the L*a*b* color system, the difference in the color positions (ΔE) is the following equation
Figure pat00005
,
is calculated using
Color position (E 110 ) is given by color coordinates (a* 110 , b* 110 , L* 110 ), and color position (E 101 ) is given by color coordinates (a* 101 , b* 101 , L* 101 ) and these color positions are preferably determined from measurements on white tiles using, inter alia, a CM-700d spectrophotometer from Konica Minolta.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 커버 패널은 2 mm 내지 8 mm, 바람직하게는 4 mm 내지 6 mm의 두께를 갖는 것인 커버 패널.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The cover panel has a thickness of 2 mm to 8 mm, preferably 4 mm to 6 mm.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 단 하나의 주 표면(11, 12) 상에 코팅(2)만이 배치되는 커버 패널(1)의 영역(100)의 부분(101)에서, 상기 커버 패널(1)은 ASTM D 1003을 준수하여 측정될 때 5% 미만, 바람직하게는 2% 미만, 그리고 가장 바람직하게는 1% 미만의 탁도를 나타내는 것인 커버 패널.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
In a portion 101 of a region 100 of a cover panel 1 , in which only a coating 2 is disposed on only one major surface 11 , 12 of a glass or glass-ceramic substrate 10 , said cover panel 1 ) exhibits a haze of less than 5%, preferably less than 2%, and most preferably less than 1%, as measured in accordance with ASTM D 1003.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅(2)은 DIN EN ISO 14577-1 및 DIN EN ISO 14577-4을 준수하거나 기반으로 한 측정 방법에서 결정된 6 GPa 내지 11 GPa의 경도를 갖는 것인 커버 패널.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
and the coating (2) has a hardness of 6 GPa to 11 GPa as determined in a measuring method conforming to or based on DIN EN ISO 14577-1 and DIN EN ISO 14577-4.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅(2)은 실질적으로 유리 또는 유리 세라믹 기판의 전체 표면적에 걸쳐 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 주 표면(11, 12)을 덮는 것인 커버 패널(1).
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
and the coating (2) covers the major surfaces (11, 12) of the glass or glass-ceramic substrate (10) over substantially the entire surface area of the glass or glass-ceramic substrate (1).
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가 코팅(3)
을 포함하며,
상기 추가 코팅(3)은 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)의 코팅(2)과 동일한 주 표면(11, 12) 상에 배치되며 이 주 표면(11, 12)을 적어도 부분적으로 또는 단지 부분적으로 덮으며,
상기 추가 코팅(3)은 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)과 코팅(2) 사이에 배치되는 것인 커버 패널.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Additional Coatings(3)
includes,
Said further coating 3 is disposed on the same major surface 11 , 12 as the coating 2 of the glass or glass ceramic substrate 10 and at least partially or only partially covers this major surface 11 , 12 . and
and the additional coating (3) is disposed between the glass or glass ceramic substrate (10) and the coating (2).
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유리 또는 유리 세라믹 기판(10)은 투명하고 무색이거나, 또는 투명하고 유색인 것인 커버 패널.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
The glass or glass ceramic substrate 10 is transparent and colorless, or transparent and colored cover panel.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅(2)은 커버 패널(1)의 작동 사용 동안 사용자를 향하는 주 표면(11, 12) 상에 배치되어, 상부 표면 또는 전방 표면을 형성하는 것인 커버 패널.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
and the coating (2) is disposed on the main surface (11, 12) facing the user during operational use of the cover panel (1), thereby forming an upper surface or a front surface.
커버 패널(1), 바람직하게는 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따른 커버 패널(1)을 생산하기 위한 방법으로서,
유리 또는 유리 세라믹 기판(10)을 제공하는 단계;
유리 또는 유리 세라믹 기판(10)을 코팅 챔버 내로 도입하는 단계;
성분 A 및 B를 포함하는 세라믹 또는 금속제 타겟을 제공하는 단계로서, A는 바람직하게는 Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물을 포함하며, B는 바람직하게는 Al, Fe, Cr, V 또는 이들의 혼합물을 포함하는 것인 단계;
바람직하게는 산소인 가스를 반응 가스로서 제공하는 단계;
코팅 챔버 내의 압력을 조정하는 단계로서, 상기 압력은 1*10-3 mbar 이상 내지 5*10-2 mbar 이하인 것인 단계;
코팅 챔버 내의 40℃를 초과하는 온도를 조정하는 단계로서, 생산 온도는 바람직하게는 350℃ 이하인 것인 단계;
기상 성막 또는 스퍼터 성막에 의해 코팅을 수행하는 단계로서, 스퍼터 성막은 DC 스퍼터 성막 또는 펄스형 스퍼터 성막으로서, 예를 들어, 중간 주파수 스퍼터 성막 또는 고주파 스퍼터 성막으로서 수행될 수도 있는 것인 단계
를 포함하여,
적어도 하나의 주 표면(11, 12)이, 화학식 AxByO4의 혼합 산화물을 포함하거나 이 혼합 산화물로 주로 또는 실질적으로 또는 전체적으로 형성된 코팅(2)으로 적어도 부분적으로 코팅되며,
A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며,
혼합 산화물 및/또는 코팅(2)이 적어도 부분적으로 결정질, 특히, 다결정질이며,
A는, 바람직하게는, Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물을 포함하며,
B는, 바람직하게는, Al, Fe, Cr, V 또는 이들의 혼합물을 포함하며,
상기 코팅(2)은, 바람직하게는, 70%를 초과하는 광 투과율을 나타내는 것인, 방법.
11. A method for producing a cover panel (1), preferably a cover panel (1) according to any one of claims 1 to 10, comprising:
providing a glass or glass ceramic substrate (10);
introducing a glass or glass ceramic substrate 10 into the coating chamber;
providing a ceramic or metallic target comprising components A and B, wherein A preferably comprises Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or mixtures thereof, B is preferably Al; Fe, Cr, V, or a mixture thereof;
providing a gas, preferably oxygen, as a reactant gas;
adjusting the pressure in the coating chamber, wherein the pressure is 1*10 -3 mbar or more to 5*10 -2 mbar or less;
adjusting the temperature in the coating chamber above 40°C, wherein the production temperature is preferably below 350°C;
performing coating by vapor phase deposition or sputter deposition, wherein sputter deposition may be performed as DC sputter deposition or pulsed sputter deposition, for example, intermediate frequency sputter deposition or high frequency sputter deposition
including,
At least one major surface (11, 12) is at least partially coated with a coating (2) comprising or formed mainly or substantially or entirely of a mixed oxide of the formula A x B y O 4 ,
The molar ratio of A to B is 0.3 or more and 0.7 or less,
the mixed oxide and/or coating 2 is at least partially crystalline, in particular polycrystalline,
A preferably comprises Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or mixtures thereof,
B preferably comprises Al, Fe, Cr, V or a mixture thereof,
The method, wherein the coating (2) preferably exhibits a light transmittance of greater than 70%.
커버 패널(1), 바람직하게는 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따른 커버 패널(1)을 생산하기 위한 방법으로서,
유리 또는 유리 세라믹 기판(10)을 제공하는 단계;
유리 또는 유리 세라믹 기판(10)을 코팅 챔버 내로 도입하는 단계;
성분 A 및 B를 포함하는 세라믹 또는 금속제 타겟을 제공하는 단계로서, A는 바람직하게는 Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물을 포함하며 B는 바람직하게는 Al, Fe, Cr, V 또는 이들의 혼합물을 포함하는 것인 단계;
바람직하게는 산소인 가스를 반응 가스로서 제공하는 단계;
코팅 챔버 내의 압력을 조정하는 단계로서, 상기 압력은 1*10-3 mbar 이상 내지 5*10-2 mbar 이하인 것인 단계;
코팅 챔버 내의 40℃를 초과하는 온도를 조정하는 단계로서, 생산 온도는 바람직하게는 350℃ 이하인 것인 단계;
기상 성막 또는 스퍼터 성막에 의해 코팅을 수행하는 단계로서, 스퍼터 성막은 DC 스퍼터 성막 또는 펄스 스퍼터 성막으로서, 예를 들어, 중간 주파수 스퍼터 성막 또는 고주파 스퍼터 성막으로서 수행될 수 있는 것인 단계
를 포함하여,
적어도 하나의 주 표면(11, 12)은, 화학식 AxByO4의 혼합 산화물을 포함하거나 이 혼합 산화물로 주로 또는 실질적으로 또는 전체적으로 형성된 코팅(2)으로 적어도 부분적으로 코팅되며,
A 대 B의 몰비가 0.3 이상 내지 0.7 이하이며,
혼합 산화물 및/또는 코팅(2)이 적어도 부분적으로 결정질, 특히, 다결정질이며,
A는 바람직하게는 Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn 또는 이들의 혼합물을 포함하며,
B는 바람직하게는 Al, Fe, Cr, V 또는 이들의 혼합물을 포함하며,
상기 코팅(2)은, 바람직하게는, 70%를 초과하는 광 투과율을 나타내며,
또한, 이하의 특징, 즉
노, 바람직하게는, 세라믹화 노 또는 강화 노에서의 열처리 형태의 추가 공정 단계에 의한, 레이저 노출에 의한, 플래시 램프 처리(flash lamp treatment)에 의한, UV 후처리에 의한, 추가 플라즈마, 예를 들어, 진공 상태의 산소 플라즈마 및/또는 대기 하에서의 플라즈마라인(PlasmaLine®)에 대한 노출에 의한, 및/또는 화염 노출에 의한 코팅(2)의 후처리;
화합물 AxByCzO4(z가 x 및 y보다 상당히 작음)을 포함하는 코팅을 획득하도록 티타늄 또는 실리콘 또는 이들 두 원소의 혼합물을 포함하거나 이것으로 구성된 추가 성분으로서, 추가 성분의 함량이 몰분율 또는 몰량 기준으로 10% 미만, 바람직하게는 5% 미만, 그리고 가장 바람직하게는 2% 미만인 추가 성분의 첨가
중 적어도 하나를 포함하는 것인, 방법.
11. A method for producing a cover panel (1), preferably a cover panel (1) according to any one of claims 1 to 10, comprising:
providing a glass or glass ceramic substrate (10);
introducing a glass or glass ceramic substrate 10 into the coating chamber;
providing a ceramic or metallic target comprising components A and B, wherein A preferably comprises Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or mixtures thereof and B is preferably Al, Fe , Cr, V, or a mixture thereof;
providing a gas, preferably oxygen, as a reactant gas;
adjusting the pressure in the coating chamber, wherein the pressure is 1*10 -3 mbar or more to 5*10 -2 mbar or less;
adjusting the temperature in the coating chamber above 40°C, wherein the production temperature is preferably below 350°C;
performing the coating by vapor phase deposition or sputter deposition, wherein sputter deposition may be performed as DC sputter deposition or pulse sputter deposition, for example, intermediate frequency sputter deposition or high frequency sputter deposition
including,
At least one major surface (11, 12) is at least partially coated with a coating (2) comprising or formed mainly or substantially or entirely of a mixed oxide of the formula A x B y O 4 ,
The molar ratio of A to B is 0.3 or more and 0.7 or less,
the mixed oxide and/or coating (2) is at least partially crystalline, in particular polycrystalline,
A preferably comprises Fe, Mg, Be, Zn, Co, Si, Mn or mixtures thereof,
B preferably comprises Al, Fe, Cr, V or mixtures thereof,
The coating (2) preferably exhibits a light transmittance of greater than 70%,
In addition, the following characteristics, namely
Further plasma, for example by laser exposure, by flash lamp treatment, by UV post-treatment, by further process steps in the form of heat treatment in a furnace, preferably in a ceramization furnace or an intensification furnace post-treatment of the coating 2 , for example by exposure to oxygen plasma under vacuum and/or to a plasmaline ® under atmospheric conditions, and/or by flame exposure;
A further component comprising or consisting of titanium or silicon or a mixture of these two elements so as to obtain a coating comprising the compound A x B y C z O 4 (z is significantly less than x and y), wherein the content of the further component is Addition of additional components less than 10%, preferably less than 5%, and most preferably less than 2% by mole fraction or molar amount
A method comprising at least one of
커버 패널, 특히, 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따라 청구되며, 제 11 항 또는 제 12 항에 따른 방법에 의해 생산되거나 생산 가능한 커버 패널.A cover panel, in particular a cover panel as claimed according to claim 1 , produced or producible by a method according to claim 11 or 12 . 조리 표면, 디스플레이, 오븐 관찰 창, 스캐너 커버, 광학 구성 요소 또는 광학 필터, 관찰 창, 조리대, 창, 가전 제품 분야의 시트, 유리 포장, 시계 유리, 보호 시트로서의 제 1 항 내지 제 10 항 또는 제 13 항 중 어느 한 항에 따르며 및/또는 제 11 항 또는 제 12 항에 따른 방법에 의해 생산되는 커버 패널(1)의 용도.
Claims 1 to 10 or claim 1 as cooking surface, display, oven viewing window, scanner cover, optical component or optical filter, viewing window, countertop, window, sheet in the field of consumer electronics, glass packaging, watch glass, protective sheet Use of a cover panel (1) according to claim 13 and/or produced by a method according to claim 11 or 12.
KR1020210054136A 2020-04-28 2021-04-27 Cover panel, method for producing same, and use thereof KR20210133877A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102020111568 2020-04-28
DE102020111568.7 2020-04-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20210133877A true KR20210133877A (en) 2021-11-08

Family

ID=78161393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210054136A KR20210133877A (en) 2020-04-28 2021-04-27 Cover panel, method for producing same, and use thereof

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR20210133877A (en)
CN (1) CN113562985A (en)
DE (1) DE102021110208A1 (en)

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4029755A (en) 1972-02-07 1977-06-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Transparent ultrafine grained ceramics
FR2629075B1 (en) 1988-03-25 1990-11-16 Commissariat Energie Atomique PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF HIGH PERFORMANCE MAGNESIUM ALUMINATE SPINEL PARTS, PARTICULARLY TRANSPARENT PARTS IN THE INFRARED AND VISIBLE FIELD
US5871810A (en) * 1995-06-05 1999-02-16 International Business Machines Corporation Plating on nonmetallic disks
JP2000273398A (en) * 1999-03-19 2000-10-03 Central Glass Co Ltd Coating liquid for colored film and colored transparent substrate
FR2907112B1 (en) * 2006-10-16 2009-10-02 Eurokera S N C Sa VITROCERAMIC PLATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
BE1020114A3 (en) * 2011-02-15 2013-05-07 Agc Glass Europe PROCESS FOR PRODUCING DECORATED GLASS SHEET
DE102014104799B4 (en) * 2014-04-03 2021-03-18 Schott Ag Substrate with a coating to increase scratch resistance, process for its production and its use
US11174170B2 (en) * 2016-01-21 2021-11-16 Ferro Corporation Modified black spinel pigments for glass and ceramic enamel applications
DE102017102377B4 (en) * 2017-02-07 2019-08-22 Schott Ag Protective glazing, thermal processing unit and process for the production of protective glazing
DE102018110909A1 (en) * 2017-12-22 2018-06-21 Schott Ag Cover plate with neutral color coating

Also Published As

Publication number Publication date
DE102021110208A1 (en) 2021-10-28
CN113562985A (en) 2021-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7018727B2 (en) Transparent protective layer for a body
US20150355382A1 (en) Hard anti-reflective coatings and manufacturing and use thereof
EA023911B1 (en) Glazing provided with a stack of thin layers
ES2837802T3 (en) Chimney or stove with a glass ceramic panel and method of making said panel
KR100812217B1 (en) Transparent substrate having a stack of thin metallic reflection layers
EP1893543B1 (en) Coated glass pane
KR102221746B1 (en) Coated glass ceramic plate
CN111670170B (en) Glass-ceramic article
WO2009081649A1 (en) Top plate for cooking appliance and process for producing the same
JP5182102B2 (en) Cooker top plate
KR20210133877A (en) Cover panel, method for producing same, and use thereof
CN111670169B (en) Glass-ceramic article
CN114620943B (en) Semitransparent or transparent wear-resistant layer, substrate provided with such a layer and method for the production thereof
JP2005055005A (en) Top plate for cooking device
CN114620944A (en) Color neutral wear protection layer, substrate with wear protection layer and method for producing the same
CN113825733B (en) Glass ceramic article
TR2022005847A2 (en) Platelike glass or glass-ceramic element, process for producing it and use thereof
CN113825734A (en) Glass-ceramic article

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination