KR20210125572A - 정제기 플레이트 세그먼트 - Google Patents

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KR20210125572A
KR20210125572A KR1020217029621A KR20217029621A KR20210125572A KR 20210125572 A KR20210125572 A KR 20210125572A KR 1020217029621 A KR1020217029621 A KR 1020217029621A KR 20217029621 A KR20217029621 A KR 20217029621A KR 20210125572 A KR20210125572 A KR 20210125572A
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KR1020217029621A
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마틴 슈미드
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보이트 파텐트 게엠베하
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Abstract

본 발명은, 정제 갭(3)에서 수성 현탁된 섬유 재료(1)를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2)에 관한 것이며, 상기 정제 갭은, 서로에 대해 회전하고 그리고 플레이트 세그먼트들(2)에 의해 형성되는 2개의 처리 표면들에 의해 범위가 정해진다. 플레이트 세그먼트는 주요 본체(4)로 구성되며, 주요 본체는, 정제 갭(3)을 대면하고 그리고 적어도 하나의 방향 성분으로 반경방향으로 이어지는 세장형 처리 요소들(5)을 가지고 그리고 처리 요소들(5) 사이에서 이어지는 홈들(6)을 갖는다. 본 발명은 주요 본체(4)에서 복수의 채널들(8)을 배열시킴으로써 플레이트 세그먼트들의 서비스 수명을 연장시키는 것을 목적으로 하며, 이 채널들은 적어도 하나의 방향 성분으로 반경방향으로 이어지고 그리고 정제 갭(3)에 평행하게 이어지고 그리고 정제 갭(3)으로부터 상이한 거리들을 가지며, 채널들은 회전 방향(11)에서 서로 또는 홈 기초부와 적어도 부분적으로 중첩한다.

Description

정제기 플레이트 세그먼트
본 발명은 서로에 대해 회전하는 2개의 처리 표면들에 의해 한정되고 그리고 플레이트 세그먼트들에 의해 형성되는 정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트에 관한 것으로, 정제 갭을 대면하고 그리고 반경방향으로 이어지는 세장형 처리 요소들을 갖는 기본 본체로 구성되며, 이 세장형 처리 요소들은 적어도 하나의 방향 성분을 가지고 그리고 홈들은 그 사이에 이어진다.
본 발명은 또한 나란히 배열되는 본 발명에 따른 복수의 플레이트 세그먼트들로 구성되는 처리 표면, 및 정제 갭을 대면하는 처리 요소들을 갖는 기초 본체로 구성되는, 정제 갭에서 수성 현탁된 섬유질 재료를 정제하기 위해 본 발명에 따른 플레이트 세그먼트를 제조하기 위한 방법을 포함한다.
이러한 유형의 플레이트들은 오랫동안 공지되어 있고 그리고 정제 기계들(이들은 정제기들로 불림)에서 설치된다. 정제기들의 슬러리는 대략적으로 28%의 고형물 함량을 갖는다.
이러한 기계들은 일반적으로, 적어도 하나의 회전자, 및 정제 갭들이 플레이트들 사이에 형성될 수 있도록 플레이트들이 부착되는 디스크-형상 또는 원뿔형 처리 표면들을 갖는 적어도 하나의 고정자를 갖는다. 플레이트들은 처리 표면들 상에 웨브들 및 홈들을 가지며, 그리고 이에 따라 "블레이드 플레이트들"이라고도 또한 언급된다.
플레이트들은 높은 정도의 마모를 겪고 그리고 이에 따라 특정한 간격들로 교체되어야 한다. 마모는 또한 서비스 수명 동안 처리 작용 변경으로 이어질 수 있다.
펄프 및 제지 산업에서 섬유질 재료들의 기계적 처리 동안 발생하는 운영 비용들의 상당한 부분은 에너지 비용들로부터 나온다. 따라서, 요망되는 성공에 의해 측정되는 바와 같이, 너무 많은 에너지 사용이 요구되지 않는 요지의 플레이트들 및 기계들을 구성하고 그리고 작동시키도록 항상 노력해왔다.
따라서, 상당한 비용이 플레이트들의 개발에 대해 소요되는 것이 이해가능하며, 이는 플레이트들의 형상의 구성에서 그리고 재료의 선택에서 반영된다.
플레이트들의 제조에 대한 경비를 감소시키기 위해, 예를 들어, DE 10 2004 016 661 A1에서 복수의 요소들로부터 플레이트들을 조립하고 그리고 플레이트들을 서로 용접하거나 납땜하는 것이 제안된다.
본 발명의 목적은 가능한 한 효율적으로 정제하는 경우 이러한 플레이트 세그먼트들의 서비스 수명을 연장하는 것이다.
본 발명에 따르면, 본 목적은, 적어도 하나의 방향 성분으로 반경방향으로 그리고 적어도 정제 갭에 대략적으로 평행하게 이어지고 그리고 정제 갭으로부터 상이한 거리들에 각각 있는 다수의 채널들이 기본 본체에 배열되며, 상기 채널들은 회전 방향으로 보이는 바와 같이, 서로 또는 홈 기초와 적어도 부분적으로 중첩한다는 점에서 달성되었다.
작동 동안, 마모의 결과로서, 처리 요소들의 완전한 마멸이 발생한다면, 이는 동시에 회전 방향으로 홈 기초부와 부분적으로 중첩하는 채널들의 개방으로 이어진다. 정제 간극을 대면하는 상기 채널들의 벽의 마멸은, 상기 채널들이 이제 홈으로서 작용하는 것으로 그리고 개방된 채널들 사이에 놓인 표면이 처리 요소로서 작용하는 것으로 이어진다.
따라서, 채널들의 폭은, 홈들의 폭에 실질적으로 대응해야 하고 그리고/또는 회전 방향으로 인접한 채널들 사이의 벽의 폭은 처리 요소들의 폭에 실질적으로 대응해야 한다.
더욱이, 채널들은 각각 축방향으로 약간 위에 놓이는 적어도 하나의 세장형 처리 요소에 적어도 대략적으로 평행하게 이어져야 한다.
정제 갭을 향한 채널들의 약간의 경사는 또한 유리할 수 있다. 채널들이 정제 갭을 향해 반경방향 외측으로 경사진다면, 채널들은 무엇보다 마모의 상황에 외측 상에서 반경방향으로 개방된다.
이에 의해, 마모가 증가하더라도, 충분히 큰 개방 홈 표면 및 처리 요소들의 요구되는 절단 에지 길이가 존재하는 것이 보장된다.
이상적으로, 처리 표면, 플레이트 세그먼트 또는 이의 하나의 구역의 채널들의 구성 및/또는 배열은, 홈들의 개방 표면 및/또는 절단 에지 길이가 전체 서비스 수명에 걸쳐 대략적으로 동일하게 유지되고, 그리고 이에 따라 심지어 무부하 전력(no-load power)이 전체 서비스 수명에 걸쳐 대략적으로 동일하게 유지되는 방식으로 선택된다.
이를 달성하기 위해, 인접한 홈들의 홈 기초부의 깊이가 상이하다면, 유리할 수 있다. 여기서 인접한 홈들은 유리하게는 시작 상태에서뿐만 아니라 마모 동안에도 깊이가 상이하다.
이러한 목적을 위해, 기초 본체에, 포개어져(one above another) 놓이고 그리고 정제 갭에 적어도 대략적으로 평행하고 그리고 복수의 채널들을 각각 가지는 복수의 평면들이 존재한다면 구조적으로 유리한 것으로 판명되었다.
인접한 평면들의 채널들은, 회전 방향으로 보이는 바와 같이, 채널들이 부분적으로 중첩하는 방식으로 회전 방향으로 여기서 서로에 대해 오프셋되어 이어져야 한다.
이와 관계없이, 균일한 정제를 위해, 홈들은 적어도 주로 일정한 폭을 가져야 하며 그리고/또는 처리 요소들의 폭은 적어도 주로 동일한 크기여야 한다.
집중적인 정제를 위해, 처리 요소들의 폭이 0.1mm 내지 1.5mm이며, 그리고/또는 상기 처리 요소들의 높이가 5mm 미만이라면, 유리하다.
이들의 배열 및 이들의 효과를 최적화하는 목적을 위해, 세장형 처리 요소들 및 채널들은 유리하게는 적어도 섹션들에서 불균일하게 이어진다.
일반적으로 원형 또는 원형-링-형상 처리 표면들은 일반적으로 복수의 플레이트 세그먼트들로 구성된다. 여기서 기초 본체의 원 지름은 35cm 내지 150cm여야 한다.
처리 표면의 마모의 각각의 상태 동안 충분히 많은 수의 홈들 및 처리 요소들을 이용가능하게 하기 위해, 인접 플레이트 세그먼트들의 채널들을 상이하게 배열하고 그리고/또는 구성하는 것이 유리할 수 있으며, 그리고 이에 따라 충분히 많은 수의 채널들은 각각의 마모 상태에 대해 개방된다. 또한, 따라서, 처리 요소들의 평균 수 및 누적된 폭은 일정하게 유지될 수 있다.
이러한 목적을 위해, 적어도 2개의 인접한 플레이트 세그먼트들의 채널 평면들 중 적어도 일부가 정제 갭으로부터 상이한 거리에 있다면, 유리할 수 있다.
본 발명에 따른 플레이트 세그먼트들을 제조하기 위한 방법과 관련하여, 처리 요소들이 적어도 부분적으로, 바람직하게는 완전히, 그리고 유리하게는 또한 기초 본체가 적어도 부분적으로, 하나 이상의 액체 및/또는 반죽 및/또는 고체 재료들로 층별로 도포되고 그리고 프로세스에서, 물리적 또는 화학적 경화 또는 용융 프로세스를 겪는 것이 필수적이다. 소결은 또한 상기 경화 또는 용융 프로세스에 의해 포함된다.
층별로의 도포는, 처리 요소들 및 채널들의 재료 및 형상이 특정 요건들에 보다 간단하게 그리고 포괄적으로 구성되는 것을 가능하게 한다.
여기서, 적용되는 재료 및 특정 경화 또는 용융 프로세스에 따라 최대 30%의 수축이 발생할 수 있다는 것이 유의되어야 한다.
섬유질 재료들을 정제하기 위한 이러한 유형의 기계들에서의 높은 로딩으로 인해, 층별로 도포되는 재료는 가루형이어야 하고 그리고/또는 하나 이상의 금속들 또는 금속 화합물들을 포함해야 한다.
층별로 도포되는 재료가 레이저에 의해 소결되거나 용융된다면, 여기서 유리하다.
세라믹 층들은 또한, 이러한 방식으로 제조될 수 있다.
더욱이, 처리 요소의 표면 거칠기는 분말의 입자 크기에 의해 영향을 받을 수 있다.
처리를 강화하기 위해, 본 발명에 따른 제조 방법은, 이전에 종래의 주조와 대조적으로, 매우 좁은 처리 요소들 및 인접한 처리 요소들 사이에서 동일하게 작은 거리들을 허용한다.
본 발명은 예시적인 실시예를 사용하여 아래에서 더 상세히 설명될 것이다.
도 1은 정제 배열체를 통한 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2는 정제 배열체의 플레이트 세그먼트(2)의 평면도를 도시한다.
도 3은 2개의 인접한 플레이트 세그먼트들(2)을 통한 부분 단면도를 도시한다.
도 4는 상이한 플레이트 세그먼트(2)를 통한 부분 단면도를 도시한다.
도 1에 따르면, 정제 배열체의 하우징에서, 정제 갭(3)은 하우징에 커플링되는 고정 정제 표면에 의해 그리고 회전 축(10)을 중심으로 회전하는 정제 표면에 의해 형성된다.
2개의 원형-링-형상 정제 표면들(처리 표면들)은 여기에 서로 평행하며 이어지며, 이 때 이 표면들 사이의 거리는 일반적으로 조정가능하다. 본원에 도시되는 평탄 처리 표면에 더하여, 원뿔형 처리 표면들이 또한 가능하다.
회전하는 정제 표면은, 하우징에 회전가능하게 장착되는 샤프트에 의해 회전 방향으로 이동된다. 상기 샤프트는 예로써 마찬가지로 하우징에 존재하는 드라이브에 의해 구동된다.
도시된 예에서, 정제될 섬유질 슬러리(1)는 유입구를 통해 2개의 정제 표면들 사이의 정제 갭(3) 내로 중심을 통해 통과한다. 그러나, 정제 표면에서의 개구들을 통한 이송이 또한 가능하다.
섬유질 슬러리(1)는 상호작용하는 정제 표면들을 반경 방향 외측으로 통과시키고 그리고 유출구를 통해 인접하는 환형 공간을 떠난다.
자체가 공지되어 있고 그리고 서로에 맞닿게 2개의 정제 표면들을 가압하기 위해 힘이 생성되는 수단들은 예시되지 않는다.
2개의 정제 표면들은 각각, 도 2에 따라 원형 세그먼트 또는 원형-링 세그먼트의 형상이고 그리고 대응하는 정제 표면의 개개의 원주방향 세그먼트에 걸쳐 연장하고 그리고 원주방향으로 나란히 열로 배열되는, 복수의 정제기 플레이트 세그먼트들(2)에 의해 형성된다.
도 2에 도시되는 바와 같이, 플레이트 세그먼트들(2)은 실질적으로 반경방향으로 이어지는 다수의 스트립-형상 처리 요소들(5) 및 스트립-형상 처리 요소들 사이에 놓인 홈들(6)을 가지는 기초 플레이트(4)에 의해 각각 형성된다.
기초 표면(4)에 평행한 처리 요소들(5)은, 일반적으로 기본 본체(4)의 외부 표면에 평행하게 이어지는 처리 갭(3)을 대면하는 처리 요소들(5)의 상부 측을 갖는 세장형 단면 형상을 갖는다.
이들의 배열 및 이들의 효과를 최적화하는 목적을 위해, 처리 요소들(5)은, 빈번하게 불균일하게, 즉, 적어도 반경방향 부분에 걸쳐, 도 2에서 볼 수 있는 바와 같이, 만곡되거나, 주름지거나, 구부러진 방식으로 이어진다.
플레이트 세그먼트들(2)의 제조 비용들을 감소시키기 위해, 플레이트 세그먼트들(2)의 기초 본체(4) 및 처리 요소들(5)은, 액체, 반죽(pasty) 또는 고체 재료로부터 층별로 완전히 도포되고, 그리고, 프로세스에서 물리적 또는 화학적 경화 또는 용융 프로세스를 겪는다.
이는, 재료들이 특정 응력들 및 요건들에 따라 선택될 수 있는 것을 의미한다.
섬유질 재료(1)를 처리하기 위한 기계들에서의 극도로 높은 응력으로 인해, 세라믹 또는 하나 이상의 금속들 또는 금속 화합물들을 포함하는 가루 재료의 층별 도포는 특히 적합하다. 그 후, 층별 도포되는 상기 재료는, 각각의 층 후에 레이저에 의해 소결되거나 용융될 수 있거나, 제1 단계에서, 결합제로 접착식으로 결합되고 그리고 후에 소결될 수 있다(결합제 제팅(binder jetting) 방법). 후자의 방법에서, 결합제가 증발된다.
기초 본체(4) 상의 처리 요소들(5)의 배열은 요건들에 따라 본원에서 선택될 수 있다.
기초 본체(4)의 원형 직경은 35cm 내지 150cm이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 적어도 정제 갭(3)에 대해 반경방향으로 그리고 평행한 하나의 방향 성분으로 이어지고 그리고 각각의 경우에 정제 갭(3)으로부터 상이한 거리들에 있는 다수의 채널들(8)은 기본 본체(4)에 배열되고, 상기 채널들은, 회전 방향(11)으로 보이는 바와 같이, 부분적으로 서로 또는 홈 기초부와 중첩한다.
상기 기초 본체(4)의 제조는 층별 도포에 의해 실질적으로 용이하게 된다.
정제 처리 동안의 마모의 결과로서 처리 요소들(5)의 완전한 마멸이 발생한다면, 이는 정제 갭(3)에 가장 가깝게 놓이는 채널들(8)의 개구에 대한 홈 기초부와의 중첩 때문에 유도된다. 이는, 차례로 개방된 채널들(8)이 이제 홈(6)으로서 작용하고 그리고 개방된 채널들(8) 사이의 벽(9)이 처리 요소(5)로서 작용하는 결과를 갖는다.
상기 제1 개방된 채널들(8) 사이의 벽(9)이 또한 마모된다면, 상호 부분 중첩은, 추가의 채널들(8)이 개방되는 것을 의미하며, 채널들의 벽(9)은 처리 요소들(5)의 기능을 취한다.
마모가 증가하더라도, 섬유질 재료(1)의 동일한 처리를 보장할 수 있기 위해, 채널들(8)은 대략적으로 그 위에 축방향으로 놓이는 세장형 처리 요소(5)에 대해 적어도 대략적으로 평행하게 이어져야 한다. 정제 갭(3)을 향한, 특히 반경방향 외측으로의 채널들(8)의 약간의 경사는 채널들을 통한 유동에 대해 유리할 수 있다.
신뢰가능한, 균질하고 그리고 효율적인 정제를 위해, 홈들(6)은 적어도 주로 일정한 폭을 갖는다. 처리 요소들(5)의 폭은 또한, 반경 방향으로 적어도 주로 동일한 크기로 유지된다.
또한, 이를 보장할 수 있기 위해, 채널들(8) 또는 이의 벽(9)이 상기 홈들의 기능을 인수할 때, 채널들(8)의 폭은 실질적으로 홈(6)의 폭에 실질적으로 대응하며, 그리고 회전 방향(11)으로 인접한 채널들(8) 사이의 벽(9)의 폭은 실질적으로 처리 요소들(5)의 폭에 대응한다.
기본 본체(4)의 마모 동안, 가능한 한 많게 그리고 일정하게 다수의 개방된 채널들(8)을 유지하기 위해, 기본 본체(4)에서, 포개어져 놓이고 그리고 정제 갭(3)에 평행하고 그리고 복수의 채널들(8)을 각각 가지는 복수의 평면들(7)이 존재한다. 도 3에 예시되는 평면들(7)은 중심으로 통해 이어져, 채널들(8)의 축방향으로 놓인다.
인접한 평면(7)의 채널들(8)은 회전 방향(11)으로 서로 오프셋되어 여기서 배열된다. 더욱이, 인접한 평면들(7)의 채널들(8)은, 벽(9)이 완전히 마모될 때 축방향으로 그 아래에 놓인 인접 채널(8)이 개방되도록 회전 방향(11)으로 부분적으로 중첩한다.
예로써, 여기서의 처리 요소들(5)의 높이는 3mm 미만이며, 그리고 처리 요소(5)의 폭은 0.1mm 내지 1mm이다.
각각의 마모 상태 동안, 가능한 동일하게 높은 개방된 홈 표면 및 가능한 한 동일한 크기인 처리 요소들(5)의 절단 에지 길이를 보장할 수 있기 위해, 도 3에서 볼 수 있는 바와 같이, 인접한 플레이트 세그먼트들(2)의 채널들(8)을 상이하게 배열하는 것 그리고 이 채널들을 상이하게 구성하는 것이 도움이 될 수 있다.
따라서, 그곳에 도시된 바와 같이, 2개의 인접한 플레이트 세그먼트들(2)의 평면들(7) 중 적어도 일부는 정제 갭(3)으로부터 상이한 거리들에 있다.
그러나, 부가적으로 또는 대안적으로, 인접한 플레이트 세그먼트들(2)의 채널들(8)의 단면들은 또한 상이할 수 있다. 하나의 플레이트 세그먼트(2)의 채널들(8)이 원형인 반면, 인접한 플레이트 세그먼트(2)의 채널들(8)은 본원에서 예로써 타원형 단면을 갖는다.
플레이트 세그먼트들(2) 자체가 상이하게 구성되는 구역들을 가지는 것이 물론 또한 가능하며, 상기 구역들의 채널들(8)은 상이하게 배열되고 그리고/또는 상이하게 구성된다.
더욱이, 도 2는 반경방향 외측으로 정제 표면으로 도달하고 그리고, 처리 요소들(5)의 부재 때문에, 정제 갭(3)으로의 섬유질 슬러리(1)의 공급을 보조하는 공급 채널들(12)을 도시한다.
이와 대조적으로, 도 4는 직사각형 단면을 갖는 축방향으로 오프셋되는 채널들(8)을 도시한다. 본원의 목표는 또한, 각각의 마모 상태에서 동일한 높이의 개방 표면 및 절단 에지 길이를 보장하는 것이다.
인접한 홈들(6)이 시작 상태에서 그리고 마모 동안 깊이가 상이한 것이 본원에서 필수적이다.

Claims (19)

  1. 정제 갭(refining gap)(3)에서 수성 현탁된 섬유 재료(1)를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(plate segment)(2)로서,
    상기 정제 갭은, 서로에 대해 회전하고 그리고 상기 플레이트 세그먼트들(2)에 의해 형성되는 2개의 처리 표면들에 의해 범위가 정해지며,
    상기 플레이트 세그먼트는 기초 본체(4)로 구성되고, 상기 기초 본체는 상기 정제 갭(3)을 대면하고 그리고 적어도 하나의 방향 성분으로 반경방향으로 이어지는 세장형 처리 요소들(5)을 가지고 그리고 상기 세장형 처리 요소들 중간에 이어지는 홈들(6)을 가지며,
    적어도 하나의 방향 성분으로 반경방향으로 그리고 적어도 상기 정제 갭(3)에 대해 대략적으로 평행하게 이어지고 그리고 상기 정제 갭(3)으로부터 상이한 거리들에 있는 다수의 채널들(8)은 상기 기초 본체(4)에 배열되며, 상기 채널들은 회전 방향(11)에서 서로 또는 상기 홈 기초부와 적어도 부분적으로 중첩하는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 기초 본체(4)에, 포개어져(one above another) 놓이고 그리고 상기 정제 갭(3)에 적어도 대략적으로 평행하고 그리고 복수의 채널들(8)을 각각 가지는 복수의 평면들(7)이 존재하는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  3. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
    상기 홈들(6)은 적어도 대개 일정한 폭을 가지는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  4. 제1 항 내지 제3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 채널들(8)의 폭은 상기 홈들(6)의 폭에 실질적으로 대응하는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  5. 제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리 요소들(5)의 폭이 적어도 대개 동일한 크기인 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  6. 제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 회전 방향(11)으로 인접한 상기 채널들(8) 사이의 벽(9)의 폭은 상기 처리 요소들(5)의 폭에 실질적으로 대응하는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  7. 제2 항 내지 제6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인접한 평면들(7)의 채널들(8)은, 상기 채널들이 상기 회전 방향(11)으로 부분적으로 중첩하는 방식으로 상기 회전 방향으로 서로에 대해 오프셋되어 이어지는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  8. 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리 요소들(5)의 폭은 0.1mm 내지 1.5mm이며, 그리고/또는 상기 처리 요소들(5)의 높이는 5mm 미만인 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  9. 제1 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인접한 홈들(6)의 깊이가 상이한 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  10. 제1 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 세장형 처리 요소들(5) 및 상기 채널들(8)은 적어도 섹션들에서 불균일하게 이어지는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  11. 제1 항 내지 제10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 채널들(8)은 각각 대략적으로 그 위에 축방향으로 놓이는 적어도 하나의 세장형 처리 요소(5)에 평행하게 이어지는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  12. 제1 항 내지 제11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 채널들(8)은, 개방 표면 및/또는 절단 에지 길이가 마모 동안 상기 전체 서비스 수명에 걸쳐 대략적으로 일정한 방식으로 구성되고 그리고/또는 배열되는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  13. 제1 항 내지 제12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 채널들(8)은 상기 정제 갭(3)을 향해, 특히, 반경방향 외측으로 약간 경사지는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁된 섬유 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2).
  14. 제1 항 내지 제13 항 중 어느 한 항에 따라 구성되는 나란히 배열되는 복수의 플레이트 세그먼트들(2)로 구성되는, 처리 표면으로서,
    인접한 플레이트 세그먼트들(2)의 채널들(8)은 상이하게 배열되고 그리고/또는 구성되는 것을 특징으로 하는,
    처리 표면.
  15. 제2 항 내지 제14 항 중 어느 한 항에 따라 구성되는 나란히 배열되는 복수의 플레이트 세그먼트들(2)로 구성되는, 처리 표면으로서,
    적어도 2개의 인접한 플레이트 세그먼트들(7)의 평면들(7) 중 적어도 일부는 상기 정제 갭(3)으로부터 상이한 거리에 있는 것을 특징으로 하는,
    처리 표면.
  16. 정제 갭(3)에서 수성 현탁 섬유질 재료(1)를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트(2)를 제조하기 위한 방법으로서,
    상기 플레이트 세그먼트는 제1 항 내지 제15 항 중 어느 한 항에 따라 상기 정제 갭(3)에 대면하는 처리 요소(5)를 갖는 기초 본체(4)로 구성되며,
    상기 처리 요소들(5)은 적어도 부분적으로, 바람직하게는 완전히, 하나 이상의 액체 및/또는 반죽(pasty) 및/또는 고체 재료들로부터 층별로 도포되고 그리고, 프로세스에서, 물리적 또는 화학적 경화 또는 용융 프로세스를 겪는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁 섬유질 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트를 제조하기 위한 방법.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 층별로 도포된 재료는 가루형이고 그리고 바람직하게는 하나 이상의 금속들 또는 금속 화합물들을 포함하는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁 섬유질 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트를 제조하기 위한 방법.
  18. 제16 항 또는 제17 항에 있어서,
    상기 층별로 도포된 재료는 레이저(laser)에 의해 소결되거나 용융되는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁 섬유질 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트를 제조하기 위한 방법.
  19. 제16 항 또는 제17 항에 있어서,
    상기 층별로 도포된 재료는 결합제(binder)에 의해 접착식으로 결합되고 그리고 추가 방법 단계에서 소결되거나 용융되는 것을 특징으로 하는,
    정제 갭에서 수성 현탁 섬유질 재료를 정제하기 위한 플레이트 세그먼트를 제조하기 위한 방법.
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