KR20210121647A - Curable resine composition and transparent film prepared by using the same - Google Patents

Curable resine composition and transparent film prepared by using the same Download PDF

Info

Publication number
KR20210121647A
KR20210121647A KR1020200038741A KR20200038741A KR20210121647A KR 20210121647 A KR20210121647 A KR 20210121647A KR 1020200038741 A KR1020200038741 A KR 1020200038741A KR 20200038741 A KR20200038741 A KR 20200038741A KR 20210121647 A KR20210121647 A KR 20210121647A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin composition
curable resin
epoxy resin
antioxidant
formula
Prior art date
Application number
KR1020200038741A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102636067B1 (en
Inventor
신동운
박성환
조성훈
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020200038741A priority Critical patent/KR102636067B1/en
Publication of KR20210121647A publication Critical patent/KR20210121647A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102636067B1 publication Critical patent/KR102636067B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L35/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/04Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C08F220/06Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/04Anhydrides, e.g. cyclic anhydrides
    • C08F222/06Maleic anhydride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/005Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/13Phenols; Phenolates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/52Phosphorus bound to oxygen only
    • C08K5/524Esters of phosphorous acids, e.g. of H3PO3
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2335/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00Properties
    • C08L2201/10Transparent films; Clear coatings; Transparent materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

The present invention relates to a curable resin composition and a transparent film prepared by using the same. The curable resin composition comprises a binder resin comprising repeating units represented by specific chemical formula structures, an epoxy compound, an antioxidant, and a solvent, wherein a phosphorus-based antioxidant and a phenol-based antioxidant are used as the antioxidant, thereby exhibiting high heat resistance and excellent mechanical properties and manufacturing a transparent film capable of being applicable to a high functional display or semiconductor element.

Description

경화성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 투명필름{CURABLE RESINE COMPOSITION AND TRANSPARENT FILM PREPARED BY USING THE SAME}Curable resin composition and a transparent film manufactured using the same

본 발명은 경화성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조한 투명필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 터치 센서에 적용되는 보호막을 형성하기 위한 경화성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조한 투명 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a curable resin composition and a transparent film prepared using the same, and more particularly, to a curable resin composition for forming a protective film applied to a touch sensor, and a transparent film prepared using the same.

터치스크린 패널은 영상표시장치 등의 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치로, 필름 터치 센서를 포함하여 구성된다. 터치스크린 패널은 영상표시장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. 이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다.The touch screen panel is an input device that allows a user's command to be input by selecting instructions displayed on a screen, such as an image display device, with a human hand or an object, and includes a film touch sensor. The touch screen panel is provided on the front face of the image display device and converts a contact position in direct contact with a person's hand or an object into an electrical signal. Accordingly, the instruction content selected at the contact position is accepted as an input signal.

이와 같은 터치스크린 패널은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.Since such a touch screen panel can replace a separate input device connected to an image display device and operated, such as a keyboard and a mouse, the range of its use is gradually expanding.

터치스크린 패널은 일반적으로 액정표시장치, 유기전계 발광 표시장치와 같은 평판표시장치의 외면에 부착되어 제품화되는 경우가 많다. 따라서, 상기 터치스크린 패널은 높은 투명도 및 얇은 두께의 특성이 요구된다.In general, a touch screen panel is attached to the outer surface of a flat panel display device, such as a liquid crystal display device and an organic light emitting display device, and is often commercialized. Accordingly, the touch screen panel is required to have high transparency and thin thickness.

최근에는 플렉서블한 평판표시장치가 개발되고 있는 추세이며, 이 경우 상기 플렉서블 평판표시장치 상에 부착되는 터치스크린 패널 역시 유연한 특성이 요구된다. 이에 따라 터치스크린 패널에 구비된 필름 터치 센서의 경우에도 유연한 특성을 갖는 보호층이 적용되고 있다.Recently, a flexible flat panel display device is being developed, and in this case, a touch screen panel attached to the flexible flat panel display device is also required to have flexible characteristics. Accordingly, even in the case of a film touch sensor provided in a touch screen panel, a protective layer having flexible characteristics is applied.

하지만, 대한민국 공개특허공보 10-2007-0011281호에서 개시하는 지환식 올레핀 수지, 무기 미립자 및 용매를 포함하는 수지 조성물 등을 이용하여 보호층을 형성하는 경우에는 유연성, 내약품성 등의 특성을 제공하는 것에 어려움이 있다. However, when the protective layer is formed using the alicyclic olefin resin disclosed in Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2007-0011281, a resin composition containing inorganic fine particles and a solvent, etc., it provides characteristics such as flexibility and chemical resistance. there are difficulties with

또한, 디스플레이나 반도체 소자 공정에서 사용되는 종래의 경화성 수지 조성물을 이용하면, 아웃가스(outgas) 및 황변 현상이 발생함에 따라 전극 형성시 저항이 높아지는 등의 문제가 발생 하였다. In addition, when a conventional curable resin composition used in a display or semiconductor device process is used, outgas and yellowing phenomena occur, resulting in problems such as increased resistance during electrode formation.

따라서, 유연한 특성을 가지면서도 후속 공정에서 전극 특성 저하 문제를 발생시키지 않는 경화성 수지 조성물이 필요한 실정이다.Therefore, there is a need for a curable resin composition that has flexible properties and does not cause deterioration of electrode properties in a subsequent process.

대한민국 공개특허공보 10-2007-0011281호Korean Patent Publication No. 10-2007-0011281

본 발명의 일 과제는 고내열성 및 우수한 기계적 특성을 나타내며, 고기능성의 디스플레이 또는 반도체 소자에 적용 가능한 투명 필름을 제조할 수 있는 경화성 수지 조성물 및 투명필름을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a curable resin composition and a transparent film that exhibit high heat resistance and excellent mechanical properties, and can produce a transparent film applicable to a high-functional display or semiconductor device.

본 발명은, (A) 화학식 1로 표시되는 구조 단위 및 화학식 2로 표시되는 구조 단위를 포함하는 바인더 수지, (B) 에폭시 화합물, (C) 산화방지제 및 (D) 용매를 포함하고, 상기 산화방지제는 인계 산화방지제 및 페놀계 산화방지제를 포함하는 경화성 수지 조성물을 제공한다.The present invention includes (A) a binder resin comprising a structural unit represented by Formula 1 and a structural unit represented by Formula 2, (B) an epoxy compound, (C) an antioxidant, and (D) a solvent, The antioxidant provides a curable resin composition comprising a phosphorus-based antioxidant and a phenol-based antioxidant.

[화학식 1] [Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

화학식 1에서, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C25의 탄화수소기이며, n은 1 내지 10의 정수이다. In Formula 1, R 1 and R 2 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C 1 to C 25 hydrocarbon group, and n is an integer of 1 to 10.

[화학식 2] [Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

화학식 2에서, m은 1 내지 10의 정수이다.In Formula 2, m is an integer from 1 to 10.

또한, 본 발명은 상기 경화성 수지 조성물을 이용하여 제조된 투명 필름을 제공한다.In addition, the present invention provides a transparent film prepared by using the curable resin composition.

본 발명에 따른 경화성 수지 조성물은 고내열성 및 우수한 기계적 특성을 나타낼 수 있다. The curable resin composition according to the present invention may exhibit high heat resistance and excellent mechanical properties.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 이용하여 제조된 투명 필름은, 디스플레이 소자 또는 반도체 소자 공정간 치수 안정성이 우수할 뿐만 아니라, 공정간에 발생하는 아웃가스(outgas)량을 저감시켜 소자 공정 중 전극 형성시에 저항이 높아지는 문제를 방지할 수 있어 소자의 불량률을 감소시킬 수 있다. 나아가, 경화막, 즉 투명 필름 자체에서 발생하는 황변 현상을 제어하여, 고기능성 디스플레이나 반도체의 소자 특성을 개선시킬 수 있다.In addition, the transparent film manufactured using the curable resin composition of the present invention has excellent dimensional stability between processes of display devices or semiconductor devices, and reduces the amount of outgas generated between processes to form electrodes during device processes It is possible to prevent a problem in which the resistance increases at the time of operation, thereby reducing the defect rate of the device. Furthermore, by controlling the yellowing phenomenon occurring in the cured film, that is, the transparent film itself, it is possible to improve the device characteristics of a high-functional display or semiconductor.

상술한 바와 같이, 본 발명의 투명 필름은 우수한 특성을 가짐으로써, 반도체 소자 또는 플렉서블 디스플레이 소자에서의 기판으로도 유용하게 적용될 수 있으며, 필름 터치센서에 적용되는 보호막이나, 태양전지, 유기발광다이오드 등에도 사용될 수 있다.As described above, since the transparent film of the present invention has excellent properties, it can be usefully applied as a substrate in a semiconductor device or a flexible display device, and a protective film applied to a film touch sensor, a solar cell, an organic light emitting diode, etc. can also be used.

본 발명은, 특정 화학식 구조로 표시되는 반복단위들을 포함하는 바인더 수지, 에폭시 화합물, 산화방지제 및 용매를 포함하며, 상기 산화방지제로써 인계 산화방지제 및 페놀계 산화방지제를 포함함으로써, 고내열성 및 우수한 기계적 특성을 나타내며, 고기능성의 디스플레이 또는 반도체 소자에 적용 가능한 투명 필름을 제조할 수 있는 경화성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 투명 필름을 제공한다. The present invention includes a binder resin, an epoxy compound, an antioxidant and a solvent including repeating units represented by a specific chemical structure, and includes a phosphorus-based antioxidant and a phenol-based antioxidant as the antioxidant, thereby providing high heat resistance and excellent mechanical properties Disclosed are a curable resin composition capable of producing a transparent film that exhibits characteristics and is applicable to a high-functional display or semiconductor device, and a transparent film manufactured using the same.

위와 같은 특징을 갖는, 본 발명의 투명 필름은 상술한 특성을 가짐으로써, 필름 터치센서에 적용되는 보호막이나, 반도체 소자 또는 플렉서블 디스플레이 소자에서의 기판, 태양전지, 유기발광다이오드 등에 유용하게 적용될 수 있다.The transparent film of the present invention having the above characteristics, by having the above-described characteristics, can be usefully applied to a protective film applied to a film touch sensor, a substrate in a semiconductor device or a flexible display device, a solar cell, an organic light emitting diode, etc. .

이하, 본 발명의 실시예들에 따른 경화성 수지 조성물의 성분에 대해 상세히 설명한다. 그러나 이는 예시에 불과하며, 본 발명은 이에 제한되지 않는다.Hereinafter, components of the curable resin composition according to embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is only an example, and the present invention is not limited thereto.

<경화성 수지 조성물><Curable resin composition>

본 발명의 경화성 수지 조성물은 (A) 바인더 수지; (B) 에폭시 화합물, 및 (C) 산화방지제를 포함하며, 상기 성분들을 용해시키기 위한 (C) 용매를 더 포함하는 것 일 수 있다. The curable resin composition of the present invention comprises (A) a binder resin; (B) an epoxy compound, and (C) an antioxidant, and may further include (C) a solvent for dissolving the components.

(A) 바인더 수지(A) binder resin

일 실시예에 있어서, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 락톤계 단량체 및 메타크릴계 단량체를 포함하여 공중합된 바인더 수지를 포함한다. 상기 바인더 수지는 필요에 따라 추가적인 단량체를 더 포함하여 중합된 것일 수 있다.In one embodiment, the curable resin composition of the present invention includes a copolymerized binder resin including a lactone-based monomer and a methacrylic monomer. The binder resin may be polymerized by further including additional monomers as necessary.

상기 락톤계 단량체는 분자 내에 -COO-를 함유하는 헤테로 고리의 환 구조를 포함하는 것으로, 여기서 환 구조는 4원환 구조, 5원환 구조, 6원환 구조, 7원환 구조, 8원환 구조 등의 어느 것일 수도 있고, 바람직하게는 6원환 구조일 수 있다. The lactone-based monomer includes a heterocyclic ring structure containing -COO- in the molecule, wherein the ring structure is any of a 4-membered ring structure, a 5-membered ring structure, a 6-membered ring structure, a 7-membered ring structure, an 8-membered ring structure, etc. Also, it may preferably have a 6-membered ring structure.

예를 들면, 상기 바인더 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 단위구조를 포함할 수 있다.For example, the binder resin may include a unit structure represented by the following formula (1).

[화학식 1] [Formula 1]

Figure pat00003
Figure pat00003

화학식 1에서, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C25의 탄화수소기이며, n은 1 내지 10의 정수이다. In Formula 1, R 1 and R 2 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted C 1 to C 25 hydrocarbon group, and n is an integer of 1 to 10.

상기 탄화수소기로는, 포화 또는 불포화의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 지방족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. 상기 지방족 탄화수소기로는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기 등의 C1 내지 C25의 알킬기; 에테닐기, 프로페닐기 등의 C2 내지 C25의 알케닐기; 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기 등의 C3 내지 C25의 사이클로알킬기 등을 들 수 있다. 상기 방향족 탄화수소기로는, 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 크실릴 기, 나프틸기, 비페닐기 등의 C6 내지 C25의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 C7 내지 C25의 아르알킬기 등을 들 수 있다. 상기 예시한 탄화수소기에서, 적어도 하나의 -CH2-는 산소 원자로 치환될 수 있으며, 상기 탄화수소기의 적어도 하나의 수소는 히드록실기, 카복실기, 에테르기 및 에스테르기로부터 선택되는 적어도 1종류의 기에 의해 치환될 수 있다.Examples of the hydrocarbon group include a saturated or unsaturated linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group. Examples of the aliphatic hydrocarbon group include a C 1 to C 25 alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an isopropyl group; C 2 to C 25 alkenyl group such as ethenyl group and propenyl group; and a C 3 to C 25 cycloalkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the aromatic hydrocarbon group include a C 6 to C 25 aryl group such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group; and a C 7 to C 25 aralkyl group such as a benzyl group and a phenylethyl group. In the hydrocarbon group exemplified above, at least one -CH 2 - may be substituted with an oxygen atom, and at least one hydrogen of the hydrocarbon group is at least one selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, an ether group, and an ester group. may be substituted by a group.

본 발명에 따른 바인더 수지는 상기 화학식 1의 구조단위를 포함함으로써, 우수한 투명성 및 단단함 유지 특성을 나타낼 수 있다.The binder resin according to the present invention may exhibit excellent transparency and rigidity retention characteristics by including the structural unit of Chemical Formula 1 above.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 바인더 수지는 메타크릴계 단량체를 포함하여 공중합 된 것으로, 하기 화학식 2로 표시되는 단위구조를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the binder resin is copolymerized including a methacrylic monomer, and may include a unit structure represented by the following formula (2).

[화학식 2] [Formula 2]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 화학식 2에서, m은 1 내지 10의 정수이다.In Formula 2, m is an integer of 1 to 10.

본 발명의 바인더 수지는 상기 화학식 2로 표시되는 단위구조를 포함함으로써, 경화막, 즉 투명 필름의 기계적 강도나 화학적 내성을 더 개선시킬 수 있다. The binder resin of the present invention may further improve the mechanical strength or chemical resistance of the cured film, that is, the transparent film, by including the unit structure represented by Chemical Formula 2 above.

이에 따라, 본 발명에 따른 경화성 수지 조성물로 제조된 투명 필름은 145℃ 내지 250℃ 의 상대적으로 높은 유리전이온도(Tg)를 나타내어 150 내지 3000℃의 고온공정간 치수 안정성이 우수한 효과를 제공할 수 있다.Accordingly, the transparent film made of the curable resin composition according to the present invention exhibits a relatively high glass transition temperature (Tg) of 145 ° C. to 250 ° C., thereby providing an excellent effect of dimensional stability between high temperature processes of 150 to 3000 ° C. have.

또한, 본 발명의 바인더 수지는 상기 화학식 1 및 화학식 2 외에 추가적인 반복단위 구조를 포함할 수 있다. 예를 들면, 말레이미드구조, 글루탈이미드 구조 등), 환상 무수물 구조 (예를 들면, 무수 말레산 구조, 무수 글루타르산 구조 등) 등의 추가적인 구조를 더 포함할 수 있다. In addition, the binder resin of the present invention may include an additional repeating unit structure in addition to Chemical Formulas 1 and 2 above. For example, it may further include additional structures such as maleimide structure, glutarimide structure, etc.) and cyclic anhydride structure (eg, maleic anhydride structure, glutaric anhydride structure, etc.).

본 발명에서, 상기 예시한 추가적인 구조는 주쇄에 1종만 포함될 수 있고, 2종 이상 포함될 수도 있다. 바람직하게는, 상기 예시한 물질 중에서도 말레이미드 구조, 무수 말레산 구조, 글루탈이미드 구조, 및 무수 글루타르산 구조로부터 선택되는 적어도 1종이 포함될 수 있다. In the present invention, only one type of the additional structure exemplified above may be included in the main chain, or two or more types may be included in the main chain. Preferably, at least one selected from a maleimide structure, a maleic anhydride structure, a glutalimide structure, and a glutaric anhydride structure may be included among the materials exemplified above.

본 발명의 일 실시예에 따른 경화성 수지 조성물은 상기 추가적인 구조를 더 포함하는 바인더 수지를 사용할 경우 더 우수한 기계적 특성과 내열성을 갖출 수 있으며, 원하는 광특성을 나타낼 수 있다.The curable resin composition according to an embodiment of the present invention may have better mechanical properties and heat resistance when using the binder resin further including the additional structure, and may exhibit desired optical properties.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물에 포함되는 바인더 수지는 조성물 중 전체 고형분 100 중량부에 대하여, 30 내지 90 중량부, 바람지하게는 40 내지 70 중량부로 포함될 수 있다. 본 발명의 경화성 수지 조성물에 바인더 수지가 상기 함량범위로 포함되는 경우 고 투명성과 내열성 및 내화학성을 갖출 수 있다.In addition, the binder resin included in the curable resin composition of the present invention may be included in an amount of 30 to 90 parts by weight, preferably 40 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solid content in the composition. When the binder resin is included in the above content range in the curable resin composition of the present invention, it can have high transparency, heat resistance and chemical resistance.

(B) 에폭시 화합물(B) Epoxy compound

본 발명의 일 실시예에 따른 경화성 수지 조성물은 에폭시 화합물을 포함한다.The curable resin composition according to an embodiment of the present invention includes an epoxy compound.

상기 에폭시 화합물의 구체적인 예로는 , 바이페닐계 에폭시 수지 , 비스페놀A 에폭시 수지 ,비스페놀 F 에폭시 수지 ,크레졸 노볼락 에폭시 수지 ,페놀 노볼락 에폭시 수지 , 4관능성 에폭시 수지 ,트리페놀 메탄형 에폭시 수지 , 알킬 변성 트리페놀 메탄형 에폭시 수지 ,나프탈렌형 에폭시 수지 , 디시클로펜타 디엔형 에폭시 수지 및 디시클로펜타디엔 변성 페놀형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of the epoxy compound include biphenyl-based epoxy resin, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, tetrafunctional epoxy resin, triphenol methane-type epoxy resin, alkyl Modified triphenol methane type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, dicyclopentadiene modified phenol type epoxy resin, etc. are mentioned.

본 발명이 경화성 수지 조성물에 사용될 수 잇는 에폭시 화합물의 시판품으로는, HP7200(DIC 사) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Commercial products of the epoxy compound that can be used in the curable resin composition of the present invention include, but are not limited to, HP7200 (DIC Corporation).

본 발명의 경화성 수지 조성물은, 상기 예시된 에폭시 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다.The curable resin composition of the present invention may include at least one compound selected from the group consisting of the epoxy compounds exemplified above.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상술한 바인더 수지와 에폭시 화합물을 혼합하여 사용함으로써 경화성 수지 조성물의 기계적 특성과 화학적 내성을 향상시킬 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the mechanical properties and chemical resistance of the curable resin composition can be improved by mixing and using the above-described binder resin and the epoxy compound.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물에 포함되는 에폭시 화합물은 조성물 중 전체 고형분 100 중량부에 대하여, 40 내지 70 중량부로 포함될 수 있다. 본 발명의 경화성 수지 조성물에 에폭시 화합물이 상기 함량범위로 포함되는 경우 더욱 향상된 기계적 특성을 제공할 수 있는 이점이 있다.In addition, the epoxy compound included in the curable resin composition of the present invention may be included in an amount of 40 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content in the composition. When the epoxy compound is included in the above content range in the curable resin composition of the present invention, there is an advantage that can provide more improved mechanical properties.

(C) 산화방지제(C) antioxidants

일 실시예에 있어서, 상기 산화방지제는 인계 산화방지제 및 페놀계 산화방지제를 포함한다.In one embodiment, the antioxidant includes a phosphorus-based antioxidant and a phenol-based antioxidant.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 인계 산화방지제 및 페놀계 산화방지제를 포함하여 개선된 내열적 특성을 제공할 수 있으며, 이에 따라 공정간에 발생하는 아웃가스(outgas)량을 저감시켜 소자 공정간에 발생하는 불량률을 감소시킬 수 있을 뿐만 아니라, 황변 현상을 제어할 수 있다.The curable resin composition of the present invention can provide improved thermal resistance including phosphorus-based antioxidants and phenol-based antioxidants, thereby reducing the amount of outgas generated between processes, thereby reducing the defect rate between device processes It is possible to not only reduce the yellowing phenomenon, but also control the yellowing phenomenon.

상기 인계 산화 방지제는, 인계 작용기를 포함하는 물질이면 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로, 본 발명의 인계 산화 방지제는 이소데실 디페닐 포스파이트, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 3,9-비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페녹시)-2,4,8,10-테트라옥사-3,9-디포스파스피로[5.5]운데칸, 디이소데실펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸-1-페닐옥시)(2-에틸헥실옥시)포스포러스, 6-[3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤즈[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀, 트리페닐포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-t-부틸페닐디트리데실)포스파이트, 옥타데실포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-데실옥시-9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 시클릭네오펜탄테트라일비스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 클릭네오펜탄테트라일비스(2,6-디-t-부틸페닐)포스파이트, 2,2-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)옥틸포스파이트, 테트라키스(2,4-디-t-부틸페닐)[1,1-비페닐]-4,4'디일비스포스포나이트, 비스[2,4-비스(1,1-디메틸에틸)-6-메틸페닐]에틸에스테르 및 포스폰산 등을 들 수 있다.The phosphorus-based antioxidant is not particularly limited as long as it is a substance containing a phosphorus-based functional group. Specifically, the phosphorus-based antioxidant of the present invention is isodecyl diphenyl phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, 3,9-bis (2,6-di-tert-butyl-4) -Methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane, diisodecylpentaerythritol diphosphite, bis(2,4-di-t-butyl Phenyl) pentaerythritol diphosphite, 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butyl-1-phenyloxy) (2-ethylhexyloxy) phosphorus, 6- [3- (3- t-Butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propoxy]-2,4,8,10-tetra-t-butyldibenz[d,f][1,3,2]dioxaphosphepine, tri Phenylphosphite, phenyldiisodecylphosphite, 4,4'-butylidene-bis(3-methyl-6-t-butylphenylditridecyl)phosphite, octadecylphosphite, tris(nonylphenyl)phosphite Phite, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)-9,10-dihydro -9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-decyloxy-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, tris (2,4- Di-t-butylphenyl)phosphite, cyclic neopentanetetraylbis(2,4-di-t-butylphenyl)phosphite, clickneopentanetetraylbis(2,6-di-t-butylphenyl) Phosphite, 2,2-methylenebis(4,6-di-t-butylphenyl)octylphosphite, tetrakis(2,4-di-t-butylphenyl)[1,1-biphenyl]-4, 4'diylbisphosphonite, bis[2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-6-methylphenyl]ethyl ester, phosphonic acid, etc. are mentioned.

일 실시예에 따르면, 상기 인계 산화 방지제는 내열성 및 내열 변색 방지 측면에서, 이소데실 디페닐 포스파이트, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트등이 바람직하다.According to one embodiment, the phosphorus-based antioxidant is preferably isodecyl diphenyl phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, etc. in terms of heat resistance and heat resistance discoloration prevention.

상기 인계 산화방지제의 시판품으로는 ADK AO-60 (ADEKA제조), ADK AO-60 (ADEKA제조)등을 들 수 있다.Commercially available products of the phosphorus antioxidant include ADK AO-60 (manufactured by ADEKA) and ADK AO-60 (manufactured by ADEKA).

상기 페놀계 산화 방지제는 페놀계 작용기를 포함하는 물질이면 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로, 본 발명의 페놀계 산화 방지제는 3,9-비스[2-3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시〕-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-트라옥사스피로[5.5]운데칸, 펜타에리트리톨 테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 1,3,5,-트리메틸-2,4,6,-트리스(3'5'-디-t-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 트리에틸렌글리콜-비스[3-(3-t-부틸-5-메틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 4,4'-티오비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 트리스-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-t-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)-이소시아누레이트, 1,6-헥산디올-비스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 2,2-티오-디에틸렌비스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], N,N'-헥사메틸렌비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시-히드로신남아미드), 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 2,4-비스[(옥틸티오)메틸]-O-크레졸, 1,6-헥산디올-비스-[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트,2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 및 1,3,5-트리스(4-히드록시벤질)벤젠및테트라키스[메틸렌-3-(3,5'-디-t-부틸-4'-히드록시페닐프로피오네이트)]메탄 등을 들 수 있다.The phenolic antioxidant is not particularly limited as long as it is a material containing a phenolic functional group. Specifically, the phenolic antioxidant of the present invention is 3,9-bis[2-3-(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy]-1,1-dimethylethyl]- 2,4,8,10-Traoxaspiro[5.5]undecane, pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 1,3 ,5,-trimethyl-2,4,6,-tris(3'5'-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene, triethyleneglycol-bis[3-(3-t-butyl-5) -methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 4,4'-thiobis (6-t-butyl-3-methylphenol), tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydr Roxybenzyl)-isocyanurate, 1,3,5-tris(4-t-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl)-isocyanurate, 1,6-hexanediol-bis[ 3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 2,2-thio-diethylenebis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydro hydroxyphenyl) propionate], N,N'-hexamethylenebis(3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3,5-trimethyl-2,4,6 -tris(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene, 2,4-bis[(octylthio)methyl]-O-cresol, 1,6-hexanediol-bis-[3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], octadecyl-[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, 2 ,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidene-bis(3-methyl-6-t-butylphenol), 1,1,3-tris( 2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl)butane, and 1,3,5-tris(4-hydroxybenzyl)benzene and tetrakis[methylene-3-(3,5′-di- t-butyl-4'-hydroxyphenyl propionate)]methane, etc. are mentioned.

일 실시예에 따르면, 상기 페놀계 산화 방지제 중, 내열성 및 내열 변색 방지 측면에서, 9-비스[2-3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시〕-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-트라옥사스피로[5.5]운데칸, 펜타에리트리톨 테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]등이 바람직하다.According to one embodiment, among the phenolic antioxidants, in terms of heat resistance and heat resistance discoloration prevention, 9-bis[2-3-(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy]- 1,1-dimethylethyl]-2,4,8,10-traoxaspiro[5.5]undecane, pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and the like.

상기 페놀계 산화방지제의 시판품으로는 ADK STAB-135A (ADEKA제조), ADK STAB-2112 (ADEKA제조)등을 들 수 있다.Commercially available products of the phenolic antioxidant include ADK STAB-135A (manufactured by ADEKA), ADK STAB-2112 (manufactured by ADEKA), and the like.

본 발명에서, 상기 인계 산화방지제는 경화성 수지 조성물의 고형분 전체 100 중량부에 대하여, 0.1 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 또한, 페놀계 산화방지제는 경화성 수지 조성물의 고형분 전체 100중량부에 대하여, 0.1 내지 10 중량부로 포함될 수 있다.In the present invention, the phosphorus-based antioxidant may be included in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the curable resin composition. In addition, the phenol-based antioxidant may be included in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the curable resin composition.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 인계 산화방지제 및 페놀계 산화방지제가 각각 상기 함량 범위로 포함될 경우에는 공정간의 아웃가스 발생율을 감소시킬 수 있으며, 향상된 내열 변색 방지 특성을 나타내어 황변 현상이 발생하지 않도록 제어하는데 유리한 이점이 있다.When the phosphorus-based antioxidant and the phenol-based antioxidant are included in each of the above content ranges in the curable resin composition of the present invention, it is possible to reduce the outgas generation rate between processes, and it exhibits improved heat-resistant discoloration prevention properties to control so that yellowing does not occur. There are advantageous advantages.

(D) 용매(D) solvent

본 발명에 따른 경화성 수지 조성물은 당분야에서 통상적으로 사용되는 용매를 포함할 수 있다.The curable resin composition according to the present invention may include a solvent commonly used in the art.

용매는 전술한 성분들을 용해시키고, 우수한 코팅성과 투명한 박막을 얻기 위해 사용하는 것으로, 고형분 성분과의 상용성을 고려하여 당분야에서 사용되는 적절한 것을 채택할 수 있다.The solvent is used to dissolve the above-mentioned components and to obtain excellent coating properties and a transparent thin film, and an appropriate solvent used in the art may be adopted in consideration of compatibility with the solid component.

본 발명에서 사용되는 용매로는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 메틸 에틸 카비톨, 디에틸렌글리콜 등의 알코올류; 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 메틸셀로솔브 아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트등의 에틸렌글리콜알킬에테르 아세테이트류; 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트 등의 프로필렌글리콜디알킬아세테이트류; 프로필렌글리콜메틸에테르프로피오네이트, 로필렌글리콜에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜프로필에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜부틸에테르프로피오네이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르프로피오네이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 4-히드록시 4-메틸 2-펜타논 등의 케톤류; 또는 초산메틸, 초산에틸, 초산프로필, 초산부틸, 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시 2-메틸프로피온산 메틸, 2-히드록시 2-메틸프로피온산 에틸, 히드록시초산메틸, 히드록시초산에틸, 히드록시초산부틸, 유산메틸, 유산에틸, 유산프로필, 유산부틸, 3-히드록시프로피온산메틸, 3-히드록시프로피온산에틸, 3-히드록시프로피온산프로필, 3-히드록시프로피온산부틸, 2-히드록시 3-메틸부탄산메틸, 메톡시초산메틸, 메톡시초산에틸, 메톡시초산프로필, 메톡시초산부틸, 에톡시초산메틸, 에톡시초산에틸, 에톡시초산프로필, 에톡시초산부틸, 프로폭시초산메틸, 프로폭시초산에틸, 프로폭시초산프로필, 프로폭시초산부틸, 부톡시초산메틸, 부톡시 초산에틸, 부톡시초산프로필, 부톡시초산부틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산부틸, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시플피온산에틸, 2-에톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산부틸, 2-부톡시프로피온산메틸, 2-부톡시프로피온산에틸, 2-부톡시프로피오산프로필,2-부톡시프로피온산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산부틸, 3-프로폭시프로피온산메틸, 3-프로폭시프로피온산에틸, 3-프로폭시프로피온산프로필, 3-프로폭시프로피온산부틸, 3-부톡시프로피온산메틸, 3-부톡시프로피온산에틸, 3-부톡시프로피온산프로필, 3-부톡시프로피온산부틸 등의 에스테르류를 포함할 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합되어 사용될 수 있다. Examples of the solvent used in the present invention include alcohols such as methanol, ethanol, methyl ethyl carbitol and diethylene glycol; ethers such as tetrahydrofuran; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, and propylene glycol butyl ether acetate; propylene glycol dialkyl acetates such as propylene glycol methyl ethyl acetate; propylene glycol alkyl ether propionates such as propylene glycol methyl ether propionate, propylene glycol ethyl ether propionate, propylene glycol propyl ether propionate, and propylene glycol butyl ether propionate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and 4-hydroxy 4-methyl 2-pentanone; or methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, 2-hydroxyethyl propionate, 2-hydroxy 2-methylpropionate, 2-hydroxy 2-methylpropionate ethyl, methyl hydroxyacetate, ethyl hydroxyacetate, Butyl hydroxyacetate, methyl lactate, ethyl lactate, propyl lactate, butyl lactate, 3-methyl hydroxypropionate, ethyl 3-hydroxypropionate, propyl 3-hydroxypropionate, butyl 3-hydroxypropionate, 2-hydroxyl -Methyl butanoate, methyl methoxy acetate, ethyl methoxy acetate, propyl methoxy acetate, butyl methoxy acetate, methyl ethoxy acetate, ethyl ethoxy acetate, propyl ethoxy acetate, butyl ethoxy acetate, methyl propoxy acetate , ethyl propoxy acetate, propyl propoxy acetate, butyl propoxy acetate, methyl butoxy acetate, butoxy ethyl acetate, propyl butoxy acetate, butyl butoxy acetate, 2-methoxy methyl propionate, 2-methoxy ethyl propionate, propyl 2-methoxypropionate, butyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxyflopionate, propyl 2-ethoxypropionate, butyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-butoxypropionate , 2-Butoxypropionate ethyl, 2-butoxypropionate propyl, 2-butoxypropionate butyl, 3-methoxymethylpropionate, 3-methoxyethylpropionate, 3-methoxypropionate propyl, 3-ethoxypropionate methyl , 3-ethyl ethoxypropionate, 3-ethoxypropionate propyl, 3-ethoxypropionate butyl, 3-propoxypropionate methyl, 3-propoxypropionate ethyl, 3-propoxypropionate propyl, 3-propoxypropionate butyl, esters such as 3-butoxypropionate, ethyl 3-butoxypropionate, propyl 3-butoxypropionate, and butyl 3-butoxypropionate, each of which may be used alone or in combination of two or more. .

필름 형성 코팅 공정을 고려할 때, 상기 용매는 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류 을 포함하는 것이 바람직하다. Considering the film-forming coating process, the solvent preferably includes propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, and propylene glycol butyl ether acetate.

용매는 전체 조성물이 적절한 점도를 가질 수 있도록 첨가될 수 있으며, 그에 따라 그 함량은 특별히 제한되지 않는다. 보호층 형성용 조성물 내 다른 성분이 전체 조성물 100 중량부에 대하여 상기 언급된 함량을 가질 수 있도록 조절하여 첨가되어 조성물의 나머지 함량(잔량)을 차지한다. The solvent may be added so that the entire composition may have an appropriate viscosity, and thus the content thereof is not particularly limited. Other components in the composition for forming a protective layer are added so as to have the above-mentioned content based on 100 parts by weight of the total composition, and occupy the remaining content (residual amount) of the composition.

본 발명에서, “잔량”은 본 발명의 필수 성분 및 그 외 추가 성분들을 더 포함한 총 조성물의 중량이 100중량이 되도록 하는 잔량을 의미하며, 상기 “잔량”의 의미로 인해 본 발명의 조성물이 추가 성분이 포함되지 않는 것으로 한정되지 않는다.In the present invention, "residual amount" means the remaining amount such that the weight of the total composition further including the essential components and other additional components of the present invention becomes 100 weight, and due to the meaning of the "residual amount", the composition of the present invention is added It is not limited to the thing which does not contain an ingredient.

예를 들면, 경화성 수지 조성물 전체 100 중량부에 대하여, 20 내지 80중량부로 포함될 수 있으나, 이는 단지 예시일 뿐 이에 한정되는 것은 아니다.For example, based on 100 parts by weight of the total curable resin composition, 20 to 80 parts by weight may be included, but this is only an example and is not limited thereto.

<투명 필름><Transparent film>

본 발명은 상술한 경화성 수지 조성물을 이용하여 제조된 투명 필름을 제공한다.The present invention provides a transparent film prepared by using the above-described curable resin composition.

일 예로써, 본 발명의 투명필름은 필름 터치 센서에 보호막으로 사용될 수 있다.As an example, the transparent film of the present invention may be used as a protective film for the touch sensor film.

상기 필름 터치 센서는 분리층; 상기 분리층 상에 배치된 보호층; 상기 보호층 상에 배치된 전극 패턴층; 및 상기 전극 패턴층 상에 배치된 절연층을 포함하여 구성될 수 있다.The film touch sensor is a separation layer; a protective layer disposed on the separation layer; an electrode pattern layer disposed on the protective layer; and an insulating layer disposed on the electrode pattern layer.

본 발명에서, 필름 터치 센서는 캐리어 기판 상에서 제조 공정이 진행되고, 제조된 적층체를 캐리어 기판으로부터 분리하여 제조되는 것으로서, 분리층은 캐리어 기판과의 분리를 위해 형성되는 층이다. 이러한 분리층은 캐리어 기판과의 분리 이후에 제거되지 않고 전극 패턴층을 피복하여 전극 패턴층을 보호하는 층이 된다.In the present invention, the film touch sensor is manufactured by separating the manufactured laminate from the carrier substrate, and the manufacturing process is performed on the carrier substrate, and the separation layer is a layer formed for separation from the carrier substrate. This separation layer is not removed after separation from the carrier substrate, but covers the electrode pattern layer to protect the electrode pattern layer.

한편, 보호층은 상기 분리층과 마찬가지로 전극 패턴층을 피복하여 전극 패턴층의 오염 및 캐리어 기판으로부터 분리시의 전극 패턴층의 파단을 방지하는 역할을 한다.On the other hand, the protective layer serves to cover the electrode pattern layer like the separation layer to prevent contamination of the electrode pattern layer and breakage of the electrode pattern layer upon separation from the carrier substrate.

본 발명의 투명 필름은 상기 보호층으로 사용될 수 있다.The transparent film of the present invention may be used as the protective layer.

본 발명에 따른 투명필름은 우수한 투과율, 유연성 및 내약품성을 제공할 수 있을 뿐만 아니라, 필름 터치 센서의 박리 시에 크랙이 발생하는 것을 억제하고, 우수한 내에칭성을 제공할 수 있다.The transparent film according to the present invention can provide excellent transmittance, flexibility, and chemical resistance, as well as suppress the occurrence of cracks during peeling of the film touch sensor, and provide excellent etch resistance.

또한, 본 발명에 따른 투명 필름은 높은 유리전이온도(Tg)를 나타내어 고온공정간 치수 안정성이 우수함에 따라 필름 터치 센서 제조 공정 시 발생할 수 있는 주름 등의 열 손상을 억제할 수 있다. In addition, since the transparent film according to the present invention exhibits a high glass transition temperature (Tg) and thus has excellent dimensional stability between high-temperature processes, it is possible to suppress thermal damage such as wrinkles that may occur during the film touch sensor manufacturing process.

본 발명의 투명 필름은 우수한 특성을 가짐으로써, 필름 터치 센서에 적용되는 보호막으로서 사용될 뿐만 아니라, 태양전지, 유기발광다이오드, 반도체 소자 또는 플렉서블 디스플레이 소자에서의 기판으로도 유용하게 적용될 수 있다.Since the transparent film of the present invention has excellent properties, it can be usefully applied not only as a protective film applied to a film touch sensor, but also as a substrate in a solar cell, an organic light emitting diode, a semiconductor device, or a flexible display device.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 범위는 특허청구범위에 표시되었고, 더욱이 특허 청구범위 기록과 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경을 함유하고 있다. 또한, 이하의 실시예, 비교예에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. However, the following examples are for explaining the present invention in more detail, and the scope of the present invention is not limited by the following examples. The scope of the present invention is indicated in the claims, and furthermore, it embraces all modifications within the meaning and scope equivalent to those recorded in the claims. In addition, in the following examples and comparative examples, "%" and "part" indicating the content are by weight unless otherwise specified.

합성예Synthesis example

합성예 1: 모노머 합성예 (에테르 다이머 조성물의 합성)Synthesis Example 1: Monomer Synthesis Example (Synthesis of Ether Dimer Composition)

교반 장치, 온도 센서, 냉각관을 부착한 반응기에, α-하이드록시메틸아크릴산메틸 (RHMA-M) 을 450.0 부, 1,4-디아자비시클로[2,2,2]옥탄 (DABCO) 을 13.5 부, p-메톡시페놀 (MEHQ) 을 0.9 부 주입하고, 교반하면서, 90 ℃까지 승온시켰다. 내온이 85 ℃ 에 도달하고 나서, 반응기 내가 상압 상태에서, 90 ± 5 ℃ 를 유지하면서9 시간 반응시켰다. 반응 액온이 40 ℃ 이하가 된 것을 확인한 후에 메탄올 (MeOH) 355.0 부를 첨가해 희석하였다(조건: 상압, 35± 5 ℃). 이 MeOH 희석액을, 물 1485.0 부를 포함하는 상이한 반응기에 적하하고, RHMA 에테르 다이머를 결정화시켰다(조건: 상압, 30 ℃ 이하). 그 후, 얻어진 RHMA 에테르 다이머를 포함하는 슬러리를 가압 여과기를 이용하여 여과한 (조건: 상압 ∼ 0.1 ㎫, 15 ℃ 이하) 후, 이 여과 케이크를 물로 세정하였다(조건: 상압 ∼ 0.1 ㎫, 상온). 세정에서는 1 회에 대해 380.0 부의 물을 사용하여 3 회 세정을 반복하였다. 이와 같이 하여 얻은 RHMA 에테르 다이머의 케이크에, 프로필렌글리콜모노 메틸에테르아세테이트 (PGMEA) 184.0부 첨가해 용해시켰다 (조건: 상압, 60 ℃). 이것을, RHMA 에테르 다이머를 포함하는 유층과 수층으로 분액하고, 수층을 제거하였다 (조건: 상압, 60 ℃). 유층은 412.5 부, 제거한 수층은 141.9 부였다. 유층 (RHMA 에테르 다이머와 PGMEA 를 함유하는 용액) 에, PGMEA (5200.0 부), MEHQ 0.049 부, 4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실 (4H-TEMPO) 0.006 부를 첨가해 조성물 (에테르 다이머 조성물) 932.5 부를 얻었다.In a reactor equipped with a stirring device, a temperature sensor, and a cooling tube, 450.0 parts of α-hydroxymethyl methyl acrylate (RHMA-M) and 13.5 parts of 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane (DABCO) were added It heated up to 90 degreeC, injecting|pouring 0.9 parts of parts and p-methoxyphenol (MEHQ), and stirring. After internal temperature reached 85 degreeC, it was made to react for 9 hours, maintaining 90±5 degreeC in the inside of a reactor in a normal pressure state. After confirming that the reaction solution temperature had reached 40 °C or lower, 355.0 parts of methanol (MeOH) was added to dilute (condition: atmospheric pressure, 35±5 °C). This MeOH dilution solution was dropped into different reactors containing 1485.0 parts of water, and the RHMA ether dimer was crystallized (conditions: atmospheric pressure, 30°C or less). Thereafter, the obtained slurry containing the RHMA ether dimer was filtered using a pressure filter (conditions: normal pressure to 0.1 MPa, 15° C. or less), and then this filter cake was washed with water (conditions: normal pressure to 0.1 MPa, room temperature) . In washing, washing was repeated 3 times using 380.0 parts of water per one time. To the thus obtained RHMA ether dimer cake, 184.0 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was added and dissolved (conditions: atmospheric pressure, 60°C). This was separated into an oil layer and an aqueous layer containing RHMA ether dimer, and the aqueous layer was removed (conditions: atmospheric pressure, 60°C). The oil layer was 412.5 parts, and the removed water layer was 141.9 parts. To an oil layer (solution containing RHMA ether dimer and PGMEA), PGMEA (5200.0 parts), MEHQ 0.049 parts, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (4H-TEMPO ) 0.006 parts to obtain 932.5 parts of a composition (ether dimer composition).

상기 에테르 다이머 조성물, 즉 디메틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트 (MD) 에테르 다이머 조성물을 사용하여 합성예 2 의 수지용액을 제조하였다A resin solution of Synthesis Example 2 was prepared using the ether dimer composition, that is, dimethyl-2,2'-[oxybis(methylene)]bis-2-propenoate (MD) ether dimer composition.

합성예 2: A-1의 바인더 수지 합성Synthesis Example 2: Synthesis of binder resin of A-1

반응조로서 냉각관을 부착한 세퍼러블 플라스크를 준비하고, 한편 모노머 적하조로서 합성예 1의 디메틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트 (이하 「MD」라고 칭한다) 20 질량부, 메타크릴산 (이하 「MAA」라고 칭한다)20 질량부를 잘 교반 혼합한 것을 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서 n-도데칸티올 (이하 「n-DM」이라고 칭한다) 3.5 질량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (이하 「PGMEA」라고 칭한다) 32 질량부를 잘교반 혼합한 것을 준비하였다. 반응조에 PGMEA 128 질량부를 주입하고, 질소 치환한 후, 교반하면서 오일 배스에서 가열하여 반응조의 온도를90 ℃까지 승온시켰다. 반응조의 온도가 90 ℃ 로 안정된 후에, 모노머 적하조 및 연쇄 이동제 적하조로부터 적하를 개시하였다. 적하는, 온도를 90 ℃ 로 유지하면서, 각각 135 분간에 걸쳐 실시하였다. 적하가 종료하고 나서 60 분 후에 승온을 개시해 반응조를 110 ℃ 로 하고, 3 시간 110 ℃ 를 유지하였다. 일단 실온까지 내온을 냉각한 후, 세퍼러블 플라스크에 가스 도입관을 부착하여, 산소/질소 = 5/95 (v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 그 후, PGMEA 96 부를 첨가해 바인더 수지 A-1을 얻었다.A separable flask equipped with a cooling tube was prepared as a reaction tank, and on the other hand, as a monomer dropping tank, dimethyl-2,2'-[oxybis(methylene)]bis-2-propenoate of Synthesis Example 1 (hereinafter referred to as "MD") 20 parts by mass of methacrylic acid (hereinafter referred to as "MAA") and 20 parts by mass of methacrylic acid (hereinafter referred to as "MAA") are prepared by mixing well with stirring, and 3.5 mass of n-dodecanthiol (hereinafter referred to as "n-DM") as a chain transfer agent dropping tank Part and 32 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA") were prepared by mixing well with stirring. 128 parts by mass of PGMEA was poured into the reactor, substituted with nitrogen, and heated in an oil bath while stirring to raise the temperature of the reactor to 90°C. After the temperature of the reaction tank was stabilized at 90 degreeC, dripping was started from the monomer dripping tank and the chain transfer agent dripping tank. Dropping was performed over 135 minutes, respectively, maintaining temperature at 90 degreeC. After completion of dripping, the temperature was started 60 minutes later, the reaction tank was 110 degreeC, and 110 degreeC was hold|maintained for 3 hours. Once the internal temperature was cooled to room temperature, a gas introduction tube was attached to the separable flask, and bubbling of the oxygen/nitrogen = 5/95 (v/v) mixed gas was started. Then, 96 parts of PGMEA was added, and binder resin A-1 was obtained.

실시예 및 비교예: 경화성 수지 조성물의 제조Examples and Comparative Examples: Preparation of Curable Resin Compositions

합성예 2에서 기재된 바인더 수지와 에폭시 화합물(HP-7200; DIC 사)를 1:1로 혼합한 후 전체 고형분이 20중량%가 되도록 용매로 희석한 뒤, 하기 표 1에 함량으로 산화방지제를 첨가하여 경화성 수지 조성물을 제조하였다.After mixing the binder resin described in Synthesis Example 2 and the epoxy compound (HP-7200; DIC Corporation) 1:1 with a solvent so that the total solid content is 20% by weight, an antioxidant is added in the amount shown in Table 1 below. to prepare a curable resin composition.

항목item 페놀계 산화방지제Phenolic antioxidants 포스파이트계 산화방지제Phosphite-based antioxidants 종류Kinds 함량(중량부)Content (parts by weight) 종류Kinds 함량(중량부)Content (parts by weight) 실시예1Example 1 AA 0.10.1 CC 0.10.1 실시예2Example 2 AA 0.10.1 CC 1One 실시예3Example 3 AA 0.10.1 CC 1010 실시예4Example 4 AA 1One CC 0.10.1 실시예5Example 5 AA 1One CC 1One 실시예6Example 6 AA 1One CC 1010 실시예7Example 7 AA 1010 CC 0.10.1 실시예8Example 8 AA 1010 CC 1One 실시예9Example 9 AA 1010 CC 1010 실시예10Example 10 BB 0.10.1 CC 0.10.1 실시예11Example 11 BB 0.10.1 CC 1One 실시예12Example 12 BB 0.10.1 CC 1010 실시예13Example 13 BB 1One CC 0.10.1 실시예14Example 14 BB 1One CC 1One 실시예15Example 15 BB 1One CC 1010 실시예16Example 16 BB 1010 CC 0.10.1 실시예17Example 17 BB 1010 CC 1One 실시예18Example 18 BB 1010 CC 1010 실시예19Example 19 AA 0.10.1 DD 0.10.1 실시예20Example 20 AA 0.10.1 DD 1One 실시예21Example 21 AA 0.10.1 DD 1010 실시예22Example 22 AA 1One DD 0.10.1 실시예23Example 23 AA 1One DD 1One 실시예24Example 24 AA 1One DD 1010 실시예25Example 25 AA 1010 DD 0.10.1 실시예26Example 26 AA 1010 DD 1One 실시예27Example 27 AA 1010 DD 1010 실시예28Example 28 BB 0.10.1 DD 0.10.1 실시예29Example 29 BB 0.10.1 DD 1One 실시예30Example 30 BB 0.10.1 DD 1010 실시예31Example 31 BB 1One DD 0.10.1 실시예32Example 32 BB 1One DD 1One 실시예33Example 33 BB 1One DD 1010 실시예34Example 34 BB 1010 DD 0.10.1 실시예35Example 35 BB 1010 DD 1One 실시예36Example 36 BB 1010 DD 1010 실시예37Example 37 AA 1515 CC 1515 실시예38Example 38 BB 1515 CC 1515 실시예39Example 39 AA 1515 DD 1515 실시예40Example 40 BB 1515 DD 1515 실시예41Example 41 AA 0.050.05 CC 1One 실시예42Example 42 AA 1One CC 0.050.05 실시예43Example 43 BB 0.050.05 CC 1One 실시예44Example 44 BB 1One CC 0.050.05 실시예45Example 45 AA 0.050.05 DD 1One 실시예46Example 46 AA 1One DD 0.050.05 실시예47Example 47 BB 0.050.05 DD 1One 실시예48Example 48 BB 1One DD 0.050.05 비교예1Comparative Example 1 AA 1One -- -- 비교예2Comparative Example 2 -- -- CC 1One 비교예3Comparative Example 3 BB 1One -- -- 비교예4Comparative Example 4 -- -- DD 1One

A: AO-60 (ADEKA 제조)A: AO-60 (manufactured by ADEKA)

B: AO-80 (ADEKA 제조)B: AO-80 (made by ADEKA)

C: STAB-135A (ADEKA 제조)C: STAB-135A (made by ADEKA)

D: STAB-2112 (ADEKA 제조)D: STAB-2112 (made by ADEKA)

기판의 제조Substrate manufacturing

상기 실시예 및 비교예의 경화성 수지 조성물을 각각 상기 스핀코터(Mikasa社)를 이용하여 유리기판 위에 막두께가 3μm 이 되도록 코팅을 하고, 이를 가열하여 경화막을 형성하였다. 형성된 경화막은 Postbake 과정을 통해서 잔류 용매를 휘발시켜준다. 이렇게 제조된 투명 필름을 다음과 같은 물성 측정 방법 및 조건에 의하여 테스트 하였다.Each of the curable resin compositions of Examples and Comparative Examples was coated on a glass substrate to have a film thickness of 3 μm using the spin coater (Mikasa), and then heated to form a cured film. The formed cured film volatilizes the residual solvent through the postbake process. The thus-prepared transparent film was tested by the following physical property measurement method and conditions.

실험예Experimental example

1. 황변 변화도1. Yellowing gradient

상기 실시예 및 비교예의 경화성 수지 조성물로 코팅된 기판을 230도 1시간 추가 가열을 실시하여 투과율 변화를 측정하였다. 부착 기재 의 파장 400 nm에서의 광의 투과율을 분광 광도계(히따찌 세이사꾸쇼 제조, U3210)를 이용하여 측정하였다. 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The substrate coated with the curable resin composition of Examples and Comparative Examples was further heated at 230 degrees for 1 hour to measure transmittance change. The transmittance of light at a wavelength of 400 nm of the attached substrate was measured using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U3210). The results are shown in Table 2 below.

2. 열분해온도2. Pyrolysis temperature

시편의 열분해온도(즉, 열분해 개시온도)는 TA instrument사의 Q600TGA(thermogravimetric analysis)를 이용하여 상온에서 500 ℃까지 10 ℃/min 승온 속도의 조건에서 측정하였다. 경화성 수지 조성물의 전체 무게에서 1% 감소하는 온도를 기준으로 평가표를 작성하였다. 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The thermal decomposition temperature (ie, thermal decomposition initiation temperature) of the specimen was measured using Q600TGA (thermogravimetric analysis) of TA Instruments under the condition of a temperature increase rate of 10 °C/min from room temperature to 500 °C. An evaluation table was prepared based on the temperature decreasing by 1% from the total weight of the curable resin composition. The results are shown in Table 2 below.

<평가기준><Evaluation criteria>

○: 300℃ 초과 ~ 310℃ 이하 구간에서 전체 무게 1%감소 ○: 1% reduction in total weight in the range from 300℃ to 310℃

△: 290℃ 초과 ~ 300℃ 이하 구간에서 전체 무게 1%감소 △: 1% reduction in total weight in the section exceeding 290℃ and below 300℃

X: 280℃ 초과 ~ 290℃ 이하 구간에서 전체 무게 1%감소X: 1% reduction in total weight in the section above 280℃ and below 290℃

3. Outgas 분석3. Outgas Analysis

Frontier-Lab EGA/PY-3030D 장비를 사용하여, 코팅된 시료기판을 10x30 mm 크기로 준비한 뒤 시료를 로딩한다. 로딩 후 230 ℃ 온도 범위에서 30분간 포집되는 gas를 포집하여 retention time에 따라 얻어지는 결과값을 통해 물질을 분석하고, 방출되는 gas량의 총량을 평가하였다. 이 후, 산화방지제를 첨가하지 않은 reference 샘플 대비 감소율을 평가하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.Using Frontier-Lab EGA/PY-3030D equipment, prepare a coated sample substrate in a size of 10x30 mm and load the sample. After loading, the gas collected for 30 minutes in a temperature range of 230 ℃ was analyzed, the material was analyzed through the results obtained according to the retention time, and the total amount of emitted gas was evaluated. Thereafter, the reduction rate compared to the reference sample to which no antioxidant was added was evaluated, and the results are shown in Table 2 below.

< Outgas 평가 기준>< Outgas evaluation criteria>

○: 20 초과 ~ 40% 이하 감소 ○: More than 20 ~ 40% or less decrease

△: 5 초과 ~ 20% 이하 감소△: more than 5 ~ 20% or less decrease

X : 1 초과 ~ 5% 이하 감소X : Less than 1 ~ 5% or less

항목item 황변 변화도yellowing gradient 열분해온도 (℃)Thermal decomposition temperature (℃) Outgasoutgas 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예6Example 6 실시예7Example 7 실시예8Example 8 실시예9Example 9 실시예10Example 10 실시예11Example 11 실시예12Example 12 실시예13Example 13 실시예14Example 14 실시예15Example 15 실시예16Example 16 실시예17Example 17 실시예18Example 18 실시예19Example 19 실시예20Example 20 실시예21Example 21 실시예22Example 22 실시예23Example 23 실시예24Example 24 실시예25Example 25 실시예26Example 26 실시예27Example 27 실시예28Example 28 실시예29Example 29 실시예30Example 30 실시예31Example 31 실시예32Example 32 실시예33Example 33 실시예34Example 34 실시예35Example 35 실시예36Example 36 실시예 37Example 37 실시예 38Example 38 실시예 39Example 39 실시예 40Example 40 실시예 41Example 41 실시예 42Example 42 실시예 43Example 43 실시예 44Example 44 실시예 45Example 45 실시예 46Example 46 실시예 47Example 47 실시예 48Example 48 비교예 1Comparative Example 1 XX XX XX 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 XX XX XX 비교예 4Comparative Example 4

표 2를 참조하면, 투명 필름 제조시 본 발명의 실시예에 따른 경화성 수지 조성물을 이용하는 경우, 고내열성 및 우수한 기계적 특성을 나타냄을 확인할 수 이었다. 구체적으로, 본 발명의 실시예들에 따른 경화성 수지 조성물을 이용하여 투명필름을 제조하면, 열처리에 따른 황변현상이 적고, 열분해 온도가 높아 안정성이 우수할 뿐만 아니라, 추가적인 열처리에 따라 발생하는 Outgas량이 적은 것은 알 수 있다.Referring to Table 2, when the curable resin composition according to the embodiment of the present invention was used for manufacturing the transparent film, it was confirmed that high heat resistance and excellent mechanical properties were exhibited. Specifically, when a transparent film is manufactured using the curable resin composition according to the embodiments of the present invention, there is little yellowing due to heat treatment and excellent stability due to high thermal decomposition temperature, and the amount of outgas generated by additional heat treatment Little is known.

반면, 비교예에 따른 경화성 수지 조성물을 이용하는 경우, 황변이 발생하거나 아웃가스(Outgas) 저감율이 좋지 않고, 또는 열분해 온도가 낮아 안정성이 떨어져, 실시예 대비 현저히 저하된 결과를 나타내었다.On the other hand, when the curable resin composition according to the comparative example was used, yellowing occurred or the outgas reduction rate was not good, or the thermal decomposition temperature was low and the stability was deteriorated, resulting in significantly lowered results compared to the example.

Claims (8)

(A) 화학식 1로 표시되는 구조 단위 및 화학식 2로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지, (B) 에폭시 화합물, (C) 산화방지제 및 (C) 용매를 포함하고,
상기 산화방지제는 인계 산화방지제 및 페놀계 산화방지제를 포함하는, 경화성 수지 조성물.
[화학식 1]
Figure pat00005

(화학식 1에서, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C25의 탄화수소기이며, n은 1 내지 10의 정수이다. )
[화학식 2]
Figure pat00006

(화학식 2에서, m은 1 내지 10의 정수이다.)
(A) a binder resin comprising a structural unit represented by Formula 1 and a structural unit represented by Formula 2, (B) an epoxy compound, (C) an antioxidant, and (C) a solvent,
The antioxidant comprises a phosphorus-based antioxidant and a phenol-based antioxidant, the curable resin composition.
[Formula 1]
Figure pat00005

(In Formula 1, R 1 and R 2 are each independently hydrogen, or a substituted or unsubstituted C 1 to C 25 hydrocarbon group, and n is an integer of 1 to 10. )
[Formula 2]
Figure pat00006

(In Formula 2, m is an integer from 1 to 10.)
청구항 1에 있어서, 상기 인계 산화방지제는 경화성 수지 조성물의 고형분 전체 100 중량부에 대하여, 0.1 내지 10 중량부로 포함되는, 경화성 수지 조성물. The curable resin composition of claim 1, wherein the phosphorus-based antioxidant is included in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the curable resin composition. 청구항 1에 있어서, 상기 페놀계 산화방지제는 경화성 수지 조성물의 고형분 전체 100 중량부에 대하여, 0.1 내지 10 중량부로 포함되는, 경화성 수지 조성물. The curable resin composition of claim 1, wherein the phenol-based antioxidant is included in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the curable resin composition. 청구항 1에 있어서, 상기 인계 산화방지제는 이소데실 디페닐 포스파이트 및 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는, 경화성 수지 조성물. The curable resin composition of claim 1, wherein the phosphorus-based antioxidant comprises at least one selected from isodecyl diphenyl phosphite and tris(2,4-di-t-butylphenyl)phosphite. 청구항 1에 있어서, 상기 페놀계 산화방지제는 9-비스[2-3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시〕-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-트라옥사스피로[5.5]운데칸 및 펜타에리트리톨 테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트] 로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는, 경화성 수지 조성물. The method according to claim 1, wherein the phenolic antioxidant is 9-bis[2-3-(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy]-1,1-dimethylethyl]-2; At least one selected from 4,8,10-traoxaspiro[5.5]undecane and pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] A curable resin composition comprising a. 청구항 1에 있어서, 상기 에폭시 화합물은 바이페닐계 에폭시 수지, 비스페놀A 에폭시 수지,비스페놀 F 에폭시 수지,크레졸 노볼락 에폭시 수지,페놀 노볼락 에폭시 수지, 4관능성 에폭시 수지,트리페놀 메탄형 에폭시 수지, 알킬 변성 트리페놀 메탄형 에폭시 수지,나프탈렌형 에폭시 수지, 디시클로펜타 디엔형 에폭시 수지 및 디시클로펜타디엔 변성 페놀형 에폭시 수지로 이루 어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는, 경화성 수지 조성물.The method according to claim 1, wherein the epoxy compound is a biphenyl-based epoxy resin, a bisphenol A epoxy resin, a bisphenol F epoxy resin, a cresol novolac epoxy resin, a phenol novolac epoxy resin, a tetrafunctional epoxy resin, a triphenol methane type epoxy resin, A curable resin composition comprising at least one selected from the group consisting of an alkyl-modified triphenol methane-type epoxy resin, a naphthalene-type epoxy resin, a dicyclopentadiene-type epoxy resin, and a dicyclopentadiene-modified phenol-type epoxy resin. 청구항 1에 있어서, 경화막 제조시, 경화막의 열분해 개시온도는 300℃ 를 초과하는 것인, 경화성 수지 조성물.The method according to claim 1, When manufacturing the cured film, the thermal decomposition initiation temperature of the cured film will exceed 300 ℃, the curable resin composition. 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항의 경화성 수지 조성물로 제조된 투명 필름.A transparent film made of the curable resin composition of any one of claims 1 to 7.
KR1020200038741A 2020-03-31 2020-03-31 Curable resine composition and transparent film prepared by using the same KR102636067B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200038741A KR102636067B1 (en) 2020-03-31 2020-03-31 Curable resine composition and transparent film prepared by using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200038741A KR102636067B1 (en) 2020-03-31 2020-03-31 Curable resine composition and transparent film prepared by using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210121647A true KR20210121647A (en) 2021-10-08
KR102636067B1 KR102636067B1 (en) 2024-02-13

Family

ID=78115830

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200038741A KR102636067B1 (en) 2020-03-31 2020-03-31 Curable resine composition and transparent film prepared by using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102636067B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023210571A1 (en) * 2022-04-25 2023-11-02 日東電工株式会社 Adhesive sheet

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000241976A (en) * 1999-02-22 2000-09-08 Mitsubishi Rayon Co Ltd (co)polymer for resist and resist composition using same
KR20070011281A (en) 2004-01-30 2007-01-24 니폰 제온 가부시키가이샤 Resin composition, method for production thereof and resin film
KR20150026699A (en) * 2013-09-02 2015-03-11 동우 화인켐 주식회사 A photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device using the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000241976A (en) * 1999-02-22 2000-09-08 Mitsubishi Rayon Co Ltd (co)polymer for resist and resist composition using same
KR20070011281A (en) 2004-01-30 2007-01-24 니폰 제온 가부시키가이샤 Resin composition, method for production thereof and resin film
KR20150026699A (en) * 2013-09-02 2015-03-11 동우 화인켐 주식회사 A photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device using the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023210571A1 (en) * 2022-04-25 2023-11-02 日東電工株式会社 Adhesive sheet

Also Published As

Publication number Publication date
KR102636067B1 (en) 2024-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102116177B1 (en) Photosensitive resin composition for light shielding film and cured product using the same
EP3095778B1 (en) Oxime ester fluorene compound, photopolymerization initiator comprising it, photoresist composition, uses of the photoresist composition
KR102470292B1 (en) Photosensitive resin composition for touch panel, cured film using the same, and touch panel including such cured film as a component
KR101692450B1 (en) Polyvalent carboxylic acid, composition thereof, curable resin composition, cured product, and method for manufacturing a polyvalent carboxylic acid
US20060035092A1 (en) Resin composition for sealing LED elements and cured product generated by curing the composition
KR20170074198A (en) Acrylate-terminated urethane polybutadienes from low-monomer 1:1 monoadducts from reactive olefinic compounds and diisocyanates and hydroxy-terminated polybutadienes for liquid optically clear adhesives (locas)
KR102478775B1 (en) Mass polymerizable polycycloolefin composition as an optical material with improved shelf life
TWI733855B (en) Thermosetting composition, cured film, color filter, liquid crystal display element and touch panel device
JP6868117B2 (en) Blue photosensitive resin composition, color filter and image display device manufactured using this
KR20210121647A (en) Curable resine composition and transparent film prepared by using the same
KR102300330B1 (en) Blue photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same
KR20210121645A (en) Curable resine composition and transparent film prepared by using the same
EP2651996B1 (en) Transparent layer forming polymer
KR20100129693A (en) Norbornene resin for sealing of optical device
JP2006257257A (en) Curable resin composition and protective film formed by the same
KR100985704B1 (en) Curable resin composition and protective coating
KR20210150216A (en) Composition of Low Dielectric Coating Solution Containing Aliphatic Polycyclic Acrylic Monomer
KR20210121643A (en) Curable resine composition and transparent film prepared by using the same
KR20210121646A (en) Curable resine composition, transparent film and film touch sensor prepared by using the same
JP4442131B2 (en) Curable resin composition
TW201910440A (en) Coloring agent compound, coloring composition including the same, color filter including the coloring composition, and display device including the same
CN112904673B (en) Single-component photoresist composition, application thereof and touch screen comprising single-component photoresist composition
JP4999254B2 (en) Curable resin composition and protective film
JP4492070B2 (en) Curable resin composition and protective film comprising the composition
KR20210052878A (en) Thermosetting overcoat resin composition, overcoat film, color filter and display device

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant