KR20210109689A - Plasma generation apparatus - Google Patents

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KR20210109689A
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박승일
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지성훈
김성봉
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한국핵융합에너지연구원
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Abstract

A plasma generation device in accordance with the present invention has a dielectric layer arranged between a first electrode in which voltage and amperage are applied to generate electric power and a second electrode which has the electric potential of 0V to function as ground, thereby generating plasma in a form of bulkhead discharge. The generated plasma can be generated in a hole which is formed between a plurality of branches of each electrode and is formed to penetrate the dielectric layer. The thickness, flowing direction, etc. of the generated plasma can be determined depending on the arrangement relation of various electrodes of the plasma generation device in accordance with the present invention. By using the plasma generation device in accordance with the present invention, a user can generate plasma in various conditions and can apply accordingly generated plasma materials more easily to a user-desired environment.

Description

플라즈마 발생 장치{PLASMA GENERATION APPARATUS}Plasma generator {PLASMA GENERATION APPARATUS}

본 발명은 플라즈마 발생 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전극 간 방전을 통해 플라즈마를 발생시키는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma generating apparatus, and more particularly, to an apparatus for generating plasma through inter-electrode discharge.

플라즈마(Plasma)란, 기체상의 분자 또는 원자가 가장 에너지가 높은 상태이며, 이러한 분자 혹은 원자들에 에너지를 가해주어 최외각 전자의 결합이 떨어지게 되면 이동이온 상태의 원자 또는 분자와 비결합 상태의 자유전자가 독립적으로 존재하는 상태를 의미한다. 플라즈마 상태는 고체상, 액체상, 기체상과는 구별되는 물질의 제4 상태로 명명되고 있으며, 드라이 에칭(dry etching), CVD(chemical vapor deposition), 플라즈마 중합, 표면개질, 스퍼터링(sputtering), 플라즈마 용접/절단, 플라즈마 소결 등 다양한 산업 분야에서 사용되고 있다. 특히, 플라즈마는 공장의 배기가스 중 NOx, SOx를 제거하거나 활성종을 발생시켜 대기 정화 또는 대상물 살균에 활용되고 있다.Plasma is a state in which molecules or atoms in a gas phase have the highest energy, and when energy is applied to these molecules or atoms and the bond of the outermost electrons is broken, free electrons in the unbound state with the atoms or molecules in the mobile ion state states that exist independently. The plasma state is named as the fourth state of a material that is distinct from the solid phase, liquid phase, and gas phase, and includes dry etching, chemical vapor deposition (CVD), plasma polymerization, surface modification, sputtering, and plasma welding. / It is used in various industrial fields such as cutting and plasma sintering. In particular, plasma is used for air purification or object sterilization by removing NOx and SOx from exhaust gas of factories or generating active species.

한편, 플라즈마를 발생시키기 위하여 다양한 전극을 포함한 배치관계가 고안되어 사용되고 있다. 플라즈마 물질을 발생시키기 위한 장치로서 전압 및 전류가 인가되는 인가전극과, 0V의 전위를 가지는 접지전극이 형성되고, 인가전극과 접지전극 사이에는 유전체를 배치하여 유전체 격벽 방전(DBD; Dielectric Barrier Discharge)을 일으켜 플라즈마를 발생시키는 소스가 산업계에서 빈번하게 사용되고 있다.On the other hand, in order to generate plasma, an arrangement relationship including various electrodes has been devised and used. As a device for generating a plasma material, an applying electrode to which voltage and current are applied, and a ground electrode having a potential of 0 V are formed, and a dielectric is disposed between the applying electrode and the ground electrode to perform dielectric barrier discharge (DBD). A source that generates plasma by generating a plasma is frequently used in the industry.

KRUS 10-193325810-1933258 B1B1

본 발명에 따른 목적은, 제1 전극과 제2 전극 사이에 격벽이 존재하고, 적어도 하나의 제1 전극에 의하여 제2 전극과의 다양한 간격을 가지도록 함으로써 원하는 형태의 플라즈마를 발생시키기 위한 플라즈마 발생 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to generate plasma for generating plasma of a desired shape by providing a barrier rib between a first electrode and a second electrode, and having various intervals with the second electrode by at least one first electrode. to provide the device.

또한, 본 발명에 따른 목적은 제1 전극과 제2 전극이 서로 교호적으로 배치되어 와류의 흐름을 가지는 플라즈마를 발생시키기 위한 플라즈마 발생 장치를 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a plasma generating apparatus in which first and second electrodes are alternately disposed to generate plasma having a vortex flow.

또한, 본 발명에 따른 목적은 유전체층을 관통하도록 형성된 홀이 어레이의 형태로 형성되며, 서로 엇갈리게 비대칭적으로 배치되는 플라즈마 발생 장치를 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a plasma generating device in which holes formed to pass through a dielectric layer are formed in an array form, and are asymmetrically arranged to be alternated with each other.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재들로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치는, 적어도 두(2)개의 제1 전극, 제1 전극이 나열된 방향으로 대면하도록 마련되는 적어도 한(1)개의 제2 전극, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 형성되어 상기 제1 전극에 전력이 인가됨에 따라 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이의 격벽 방전을 발생시키는 유전체층, 상기 제1 전극을 적어도 일부 감싸도록 형성되는 제1 보호층, 및 상기 제2 전극을 적어도 일부 감싸도록 형성되는 제2 보호층을 포함할 수 있다.The plasma generating apparatus according to the present invention includes at least two (2) first electrodes, at least one (1) second electrode provided so that the first electrodes face each other in an arranged direction, and between the first electrode and the second electrode A dielectric layer formed in a dielectric layer for generating a barrier rib discharge between the first electrode and the second electrode as power is applied to the first electrode, a first protective layer formed to surround at least a part of the first electrode, and the first electrode It may include a second protective layer formed to at least partially surround the second electrode.

또한, 상기 제1 전극에 인가되는 전력은 상기 제1 전극 중 한(1)개에 선택적으로 인가될 수 있다.In addition, the power applied to the first electrode may be selectively applied to one (1) of the first electrodes.

또한, 상기 제1 전극은 플라즈마 발생을 위하여 전력원으로부터 전압 및 전류가 인가되고, 상기 제2 전극은 접지(ground)로서 작용하도록 0V의 전위를 가지도록 할 수 있다.In addition, the first electrode may be applied with voltage and current from a power source to generate plasma, and the second electrode may have a potential of 0V to act as a ground.

또한, 상기 제1 전극은 복수의 가지로 분지되어 형성되고, 상기 제2 전극은 복수의 가지로 분지되어 형성될 수 있다.In addition, the first electrode may be formed to be branched into a plurality of branches, and the second electrode may be formed to be branched to a plurality of branches.

또한, 상기 제1 전극의 복수의 가지는 동일 평면 상에 형성되고, 상기 제2 전극의 복수의 가지는 동일 평면 상에 형성될 수 있다.Also, the plurality of branches of the first electrode may be formed on the same plane, and the plurality of branches of the second electrode may be formed on the same plane.

또한, 상기 제1 전극의 복수의 가지는 상기 유전체층의 일면에 접하도록 형성되고, 상기 제2 전극의 복수의 가지는 상기 유전체층의 일면과 대향되는 타면에 접하도록 형성될 수 있다.In addition, the plurality of branches of the first electrode may be formed to contact one surface of the dielectric layer, and the plurality of branches of the second electrode may be formed to contact the other surface opposite to one surface of the dielectric layer.

또한, 상기 제1 전극은 복수로 형성되고, 상기 제2 전극은 상기 제1 전극에 대응되는 수로 복수로 형성되어, 각각 쌍(pair)을 이루어 서로 다른 전력원에 의해 전기적으로 연결될 수 있다.In addition, the first electrode may be formed in plurality, and the second electrode may be formed in plurality in the number corresponding to the first electrode, and may be electrically connected by different power sources to form a pair.

또한, 상기 제1 보호층 및 상기 제2 보호층은 내식성의 세라믹 소재로 형성될 수 있다.In addition, the first protective layer and the second protective layer may be formed of a corrosion-resistant ceramic material.

또한, 상기 제1 전극의 복수의 가지는 2 이상의 층을 형성하도록 배치될 수 있다.In addition, the plurality of branches of the first electrode may be arranged to form two or more layers.

또한, 상기 제2 전극의 복수의 가지는 2 이상의 층을 형성하도록 배치되어 상기 제1 전극의 복수의 가지와 서로 교호적으로 배치될 수 있다.Also, the plurality of branches of the second electrode may be disposed to form two or more layers, and the plurality of branches of the first electrode may be alternately disposed with each other.

또한, 상기 제1 전극의 복수의 가지와 상기 제2 전극의 복수의 가지가 서로 교호적으로 배치되어 발생시키는 플라즈마는 일방향으로 회전하여 와류를 생성할 수 있다.In addition, the plurality of branches of the first electrode and the plurality of branches of the second electrode are alternately arranged to generate plasma may rotate in one direction to generate a vortex.

또한, 상기 제1 전극의 복수의 가지 중 각각의 가지 사이에 형성되며, 상기 유전체층, 상기 제1 보호층, 및 상기 제2 보호층을 관통하도록 공간이 형성된 홀을 더 포함할 수 있다.The first electrode may further include a hole formed between each branch of the plurality of branches and having a space formed therethrough to penetrate the dielectric layer, the first protective layer, and the second protective layer.

또한, 상기 홀은 복수개로 구성되며, 상기 제1 전극의 복수의 가지 중 각각의 가지 사이에 일정 개수가 일정 간격을 가지도록 어레이(array)의 형태로 형성될 수 있다.In addition, the hole is configured in plurality, and may be formed in the form of an array such that a predetermined number of the plurality of branches of the first electrode have a predetermined interval between each branch.

또한, 어레이의 형태로 형성되는 상기 홀은, 상기 제1 전극의 복수의 가지 중 일 가지를 중심으로 비대칭적으로 배치되도록 형성될 수 있다.In addition, the holes formed in the form of an array may be formed to be asymmetrically disposed with respect to one of the plurality of branches of the first electrode.

본 발명에 따른 다른 플라즈마 발생 장치는, 적어도 두(2)개의 제1 전극, 제1 전극이 나열된 방향으로 대면하도록 마련되는 적어도 한(1)개의 제2 전극, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 형성되어 상기 제1 전극에 전력이 인가됨에 따라 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이의 격벽 방전을 발생시키는 유전체층, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 적어도 일부 감싸도록 형성되는 보호층을 포함할 수 있다.Another plasma generating apparatus according to the present invention includes at least two (2) first electrodes, at least one (1) second electrode, the first electrode and the second electrode provided so that the first electrodes face each other in an arranged direction. A dielectric layer formed between and generating a barrier rib discharge between the first electrode and the second electrode as power is applied to the first electrode, and a protective layer formed to surround at least a part of the first electrode and the second electrode may include.

본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치를 사용함으로써, 적어도 하나 이상의 전력이 인가되는 전극(제1 인가전극, 제2 인가전극, 제3 인가전극 등)이 하나의 플라즈마 발생 장치로 형성됨으로써, 사용자는 필요한 두께의 플라즈마를 조절하여 발생시킬 수 있으며, 각각의 인가전극에 인가되는 전력을 조절함으로써 발생하는 플라즈마의 세기 또는 활성종의 밀도 또한 조절이 가능한 이점이 있다.By using the plasma generating device according to the present invention, at least one electrode to which power is applied (the first applying electrode, the second applying electrode, the third applying electrode, etc.) is formed as a single plasma generating device, so that the user can obtain the required thickness. It can be generated by controlling the plasma of, and there is an advantage that the intensity of plasma or the density of active species generated by controlling the power applied to each application electrode can also be controlled.

나아가, 하나의 단위체로서, 2개 이상 병렬적으로 연결되어 플라즈마 발생영역을 확장시킬 수 있다.Furthermore, as one unit, two or more may be connected in parallel to expand the plasma generation region.

또한, 제1 인가전극과 제1 접지전극 사이에 제1 전력원에 의하여 방전되는 제1 플라즈마를, 제2 인가전극과 제2 접지전극 사이에 제2 전력원에 의하여 방전되는 제2 플라즈마를 발생시킴으로써 하나의 플라즈마 발생 장치로 서로 다른 두 형태의 플라즈마를 생성할 수 있는 이점이 있다.In addition, a first plasma discharged by the first power source between the first applying electrode and the first ground electrode and a second plasma discharged by the second power source between the second applying electrode and the second ground electrode are generated. By doing so, there is an advantage that two different types of plasma can be generated with one plasma generating device.

또한, 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치에서 제1 전극(전력이 인가되는 전극)의 복수의 가지와, 제2 전극(접지로 작용하는 전극)의 복수의 가지가 유전체층을 사이에 두고 서로 교호적으로 배치되도록 함으로써, 플라즈마가 특정 방향으로 회전하도록 발생하여 와류가 형성될 수 있으며, 와류의 형태로 생성된 플라즈마는 부피가 증가하여 반응성이 향상되는 이점이 있다.In addition, in the plasma generating device according to the present invention, a plurality of branches of the first electrode (electrode to which electric power is applied) and a plurality of branches of the second electrode (electrode acting as a ground) alternate with each other with a dielectric layer interposed therebetween. By such arrangement, the plasma is generated to rotate in a specific direction to form a vortex, and the plasma generated in the form of a vortex has an advantage in that the volume increases and the reactivity is improved.

또한, 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치에서 홀이 형성되고, 홀은 어레이(array)의 형태로 제1 전극의 가지들 또는 제2 전극의 가지들 사이에 배치되어 플라즈마가 홀 내부에 발생할 수 있다. 또한, 어레이 형태의 홀이 어레이 별로 비대칭적으로 엇갈리게 배치됨으로써 플라즈마가 작용할 수 있는 영역을 확장시킬 수 있는 이점이 있다.In addition, in the plasma generating apparatus according to the present invention, a hole is formed, and the hole is disposed between the branches of the first electrode or the branches of the second electrode in the form of an array, so that plasma can be generated inside the hole. In addition, there is an advantage in that an area in which the plasma can act can be expanded by asymmetrically staggered array-shaped holes for each array.

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 단면도이다.
도 2은 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 단면도이다.
도 3는 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 단면도이다.
도 4은 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 평면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 단면도이다.
도 6는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 단면도이다.
도 7는 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 평면도이다.
도 8 및 9은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 평면도이다.1 is a cross-sectional view of a plasma generating apparatus according to the present invention.
2 is a cross-sectional view of a plasma generating apparatus according to the present invention.
3 is a cross-sectional view of a plasma generating apparatus according to the present invention.
4 is a plan view of a plasma generating apparatus according to the present invention.
5 is a cross-sectional view of a plasma generating apparatus according to the present invention.
6 is a cross-sectional view of a plasma generating apparatus according to another embodiment of the present invention.
7 is a plan view of a plasma generating apparatus according to the present invention.
8 and 9 are plan views of a plasma generating apparatus according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명의 실시예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 실시예에 대한 이해를 방해한다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail with reference to exemplary drawings. In adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same components are given the same reference numerals as much as possible even though they are indicated on different drawings. In addition, in describing the embodiment of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function interferes with the understanding of the embodiment of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 실시예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 또한, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가진 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.In describing the components of the embodiment of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are only for distinguishing the component from other components, and the essence, order, or order of the component is not limited by the term. In addition, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. does not

도 1 및 2는 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 단면도이다.1 and 2 are cross-sectional views of a plasma generating apparatus according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치는 적어도 하나의 제1 전극(11), 및 적어도 하나의 제2 전극(21)을 포함할 수 있다. 도 1은 제1 전극이 2개 마련되고, 제2 전극이 1개 마련된 경우를 도시한 도면이다. 하지만, 전극의 개수는 이에 한정되지 않고, 다양하게 선택될 수 있다. 제1 전극(11) 및 제2 전극(21)으로 사용되는 소재로는 전기전도성이 우수한 금속의 재료가 사용될 수 있으며, 바람직하게는 은(Ag), 은-백금 합금(AgPt), 구리(Cu), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo) 등의 금속원소를 가지는 재료가 사용될 수 있다. 이와 같은 원소를 포함하는 제1 전극(11) 및 제2 전극(21)은 전압 및 전류 인가시 저항에 의하여 발생하는 열을 최소화할 수 있으며, 안정적으로 플라즈마를 발생시킬 수 있다.Referring to FIG. 1 , the plasma generating apparatus according to the present invention may include at least one first electrode 11 and at least one second electrode 21 . 1 is a diagram illustrating a case in which two first electrodes are provided and one second electrode is provided. However, the number of electrodes is not limited thereto, and may be variously selected. As a material used for the first electrode 11 and the second electrode 21, a metal material having excellent electrical conductivity may be used, and preferably silver (Ag), silver-platinum alloy (AgPt), copper (Cu). ), tungsten (W), a material having a metal element such as molybdenum (Mo) may be used. The first electrode 11 and the second electrode 21 including these elements can minimize heat generated by resistance when voltage and current are applied, and can stably generate plasma.

한편, 제2 전극(21)은 제1 전극(11)이 나열된 방향으로 대면하도록 마련될 수 있다. 도 1에서는 제1 전극(11)이 상하로 나열되어 있고, 제1 전극(11)에 나열된 방향으로 대면하는 방향 중 하나인 하측에 제2(21) 전극이 위치되어 있다. 제1 전극(11)과 제2 전극(21)은 서로 다른 전압을 가지도록 형성될 수 있다. 제1 전극(11)과 제2 전극(21) 사이에 전압차가 발생하지 않는다면 제1 전극(10)과 제2 전극(20)의 어느 일측으로 전류가 흐르지 않게 된다. 따라서 제1 전극(11)과 제2 전극(21) 사이에 전력원(본 명세서 상에서는 제1 전극(11)과 제2 전극(21) 사이를 연결하고 있는 전원에 대하여, 그것이 전압원이든 전류원이든 구분하지 않도록 '전력원(S)'이라 지칭한다)이 연결되어 있고, 전력원(S)에서 공급하는 전압 만큼의 전위차가 제1 전극(11)과 제2 전극(21) 사이에 발생할 수 있다. 이 때, 제1 전극(11)과 제2 전극(21) 사이에 발생하는 전위차는 전력원(S)이 교류 전원(AC Power)인 경우에는 시간에 따른 정현파의 형태로 나타날 수 있고, 직류 전원(DC Power)인 경우에는 일정한 전압의 형태로 나타날 수 있다. 또한, 제1 전극(11)은 플라즈마 발생을 위하여 전력원(S)으로부터 전압 및 전류가 인가되고, 제2 전극(21)은 접지(ground; GND)로서 작용하도록 0V의 전위를 가질 수도 있다. 따라서, 전류는 제1 전극(11)으로부터 제2 전극(21)으로 흐르고자 하는 성질을 가진다.Meanwhile, the second electrode 21 may be provided to face the first electrode 11 in the arranged direction. In FIG. 1 , the first electrode 11 is arranged vertically, and the second electrode 11 is located on the lower side of one of the directions facing the first electrode 11 . The first electrode 11 and the second electrode 21 may be formed to have different voltages. If a voltage difference does not occur between the first electrode 11 and the second electrode 21 , the current does not flow to either side of the first electrode 10 and the second electrode 20 . Therefore, the power source between the first electrode 11 and the second electrode 21 (in the present specification, with respect to the power source connecting between the first electrode 11 and the second electrode 21, whether it is a voltage source or a current source) 'power source (S)') is connected, and a potential difference equal to the voltage supplied from the power source S may occur between the first electrode 11 and the second electrode 21 . At this time, the potential difference generated between the first electrode 11 and the second electrode 21 may appear in the form of a sine wave according to time when the power source S is an AC power, and the DC power source In the case of (DC Power), it may appear in the form of a constant voltage. In addition, voltage and current are applied from the power source S to the first electrode 11 for plasma generation, and the second electrode 21 may have a potential of 0V to act as a ground (GND). Accordingly, the current has a property to flow from the first electrode 11 to the second electrode 21 .

제1 전극(11)과 제2 전극(21) 사이에는, 제1 전극(11)과 제2 전극(21) 사이의 격벽(barrier)을 형성하여 격벽 방전(barrier discharge)을 발생시킬 수 있도록 유전체층이 형성될 수 있다. 전술한 바와 같이, 제1 전극(11)에 전력이 인가되면 전류는 전위가 높은 제1 전극(11)으로부터 전위가 낮은 제2 전극(21)으로 흐르려는 성질을 가지며, 유전체층에 의하여 제1 전극(11)에 전하가 축적되어 있다. 즉, 제1 전극(11)과 제2 전극(21) 사이는 유전체층에 의하여 개방(open)된 것처럼 동작하게 되는데, 강한 에너지를 전극(11, 21) 사이에 걸어주게 되면 순간적으로 방전이 일어나면서 전하 이동에 따른 에너지 축적과 방출이 발생한다. 이를 유전체 격벽 방전(dielectric barrier discharge; DBD)라고 지칭하며, 유전체 격벽 방전 현상에 따라 축적된 에너지는 주변 물질을 플라즈마(P) 상태로 상변화시키고 활성종을 생성한다. 도 1의 플라즈마 발생 장치에서는, 플라즈마가 전극(11, 21)의 측면에 발생할 수 있다. A dielectric layer is formed between the first electrode 11 and the second electrode 21 to form a barrier rib between the first electrode 11 and the second electrode 21 to generate barrier discharge. can be formed. As described above, when electric power is applied to the first electrode 11 , the current has a property of flowing from the first electrode 11 having a high potential to the second electrode 21 having a low potential, and the first electrode is formed by the dielectric layer. (11), the charge is accumulated. That is, the space between the first electrode 11 and the second electrode 21 operates as if it was opened by the dielectric layer. Energy accumulation and release occurs due to charge transfer. This is referred to as dielectric barrier discharge (DBD), and the energy accumulated according to the dielectric barrier discharge phenomenon changes the surrounding material to a plasma (P) state and generates active species. In the plasma generating apparatus of FIG. 1 , plasma can be generated on the side surfaces of the electrodes 11 and 21 .

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치는 병렬적으로 연속하여 이어질 수 있다. 이하의 실시예 설명에서는 도 1의 플라즈마 발생 장치가 병렬적으로 복수개 이어진 것에 대하여 주로 설명한다. 본 명세서에서는 병렬로 연결된 플라즈마 발생 장치 또는 동 플라즈마 발생 장치의 단위가 되는 하나의 단위체가 모두 플라즈마 발생 장치로 지칭될 수 있다.Referring to FIG. 2 , the plasma generating apparatus according to the present invention may be continuously connected in parallel. In the following description of the embodiment, a plurality of plasma generating apparatuses of FIG. 1 are mainly described in parallel. In the present specification, a plasma generating device connected in parallel or a single unit serving as a unit of the plasma generating device may all be referred to as a plasma generating device.

본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 적어도 두(2)개의 제1 전극, 및 적어도 하나의 제2 전극을 포함할 수 있다. 제1 전극(10; 11~15) 및 제2 전극(20; 21~25) 각각은 전기적으로 연결되어 있을 수 있다. 사용되는 소재로는 전기전도성이 우수한 금속의 재료가 사용될 수 있으며, 바람직하게는 은(Ag), 은-백금 합금(AgPt), 구리(Cu), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo) 등의 금속원소를 가지는 재료가 사용될 수 있다. 이와 같은 원소를 포함하는 제1 전극(10) 및 제2 전극(20)은 전압 및 전류 인가시 저항에 의하여 발생하는 열을 최소화할 수 있으며, 안정적으로 플라즈마를 발생시킬 수 있다.The plasma generating apparatus according to an embodiment of the present invention may include at least two (2) first electrodes and at least one second electrode. Each of the first electrodes 10; 11 to 15 and the second electrodes 20; 21 to 25 may be electrically connected. As the material used, a metal material having excellent electrical conductivity may be used, and preferably, a metal such as silver (Ag), silver-platinum alloy (AgPt), copper (Cu), tungsten (W), or molybdenum (Mo). A material having an element can be used. The first electrode 10 and the second electrode 20 including these elements can minimize heat generated by resistance when voltage and current are applied, and can stably generate plasma.

제1 전극(10)과 제2 전극(20) 사이에는, 제1 전극(10)과 제2 전극(20) 사이의 격벽(barrier)을 형성하여 격벽 방전(barrier discharge)을 발생시킬 수 있도록 유전체층(30)이 형성될 수 있다. 전술한 바와 같이, 유전체 격벽 방전 현상에 따라 축적된 에너지는 주변 물질을 플라즈마(P) 상태로 상변화시키고 활성종을 생성한다. A dielectric layer is formed between the first electrode 10 and the second electrode 20 to form a barrier rib between the first electrode 10 and the second electrode 20 to generate barrier discharge. (30) can be formed. As described above, the energy accumulated according to the dielectric barrier discharge phenomenon changes the surrounding material to a plasma (P) state and generates active species.

도 2에서는 플라즈마(P)가 단위체인 플라즈마 발생 장치 사이에 형성되는 것으로 도시되어 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 단위체인 플라즈마 발생 장치의 사이에서 발생하는 플라즈마는 제1 전극(10) 측에서 서로 연결될 수 있으며, 이에 따라 제1 전극(10) 측(도 2의 상측)에 발생된 플라즈마가 위치될 수 있다.Although it is illustrated in FIG. 2 that the plasma P is formed between the plasma generating apparatuses as a unit, the present invention is not limited thereto. That is, the plasma generated between the unit plasma generating apparatuses may be connected to each other on the first electrode 10 side, and accordingly, the plasma generated on the first electrode 10 side (upper side in FIG. 2 ) may be located. have.

한편, 제1 전극(10)은 복수개의 가지로 분지되어 전기적으로 연결되도록 형성될 수 있다. 도 2을 참조하면, 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치는 적어도 하나의 제1 전극을 가질 수 있는데, 도시된 도 2에 따르면 예시적으로 3개(a, b, c)의 제1 전극을 가질 수 있고 각각의 제1 전극은 5개의 가지(11, 12, 13, 14, 15)를 가질 수 있다. 전술한 바와 같이 제1 전극에는 전력이 인가되므로 이를 제1 인가전극, 제2 인가전극, 제3 인가전극으로 지칭하자면, 제1 인가전극은 5개의 가지(11a, 12a, 13a, 14a, 15a), 제2 인가전극은 5개의 가지(11b, 12b, 13b, 14b, 15b), 제3 인가전극은 5개의 가지(11c, 12c, 13c, 14c, 15c)를 가질 수 있다. 다만, 반드시 전력원(S)에 의해 전력이 인가되는 전극이 항상 5개의 가지를 가져야 하는 것은 아니며, 사용자가 필요한 플라즈마의 형태 또는 부피 등을 구현하기 위하여 적절한 개수 및 사양을 가지도록 차용될 수 있다. 또한, 모든 인가전극이 동일한 수의 가지를 가지지 않아도 무방하다.Meanwhile, the first electrode 10 may be branched into a plurality of branches and formed to be electrically connected. Referring to FIG. 2 , the plasma generating apparatus according to the present invention may have at least one first electrode, and according to FIG. 2 shown, it may have exemplarily three (a, b, c) first electrodes. and each first electrode may have five branches 11 , 12 , 13 , 14 and 15 . As described above, since electric power is applied to the first electrode, if they are referred to as a first applying electrode, a second applying electrode, and a third applying electrode, the first applying electrode has five branches 11a, 12a, 13a, 14a, 15a. , the second applying electrode may have five branches 11b, 12b, 13b, 14b, and 15b, and the third applying electrode may have five branches 11c, 12c, 13c, 14c, and 15c. However, the electrode to which power is applied by the power source S does not always have to have five branches, and it may be borrowed to have an appropriate number and specifications in order to implement the shape or volume of plasma required by the user. . In addition, it is not necessary that all the applied electrodes have the same number of branches.

제1 전극(10)과 마찬가지로, 제2 전극(20) 또한 복수개의 가지로 분지되어 형성될 수 있다. 이 때, 제2 전극(20)의 복수개의 가지의 수는 사용자의 필요에 따라 선택적으로 차용되어 사용될 수 있는 것이나, 바람직하게는 제1 전극(10)에서 분지되어 형성된 가지의 수와 대응되는 수를 가지도록 형성되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 제1 전극(10)에서 5개의 가지(11, 12, 13, 14, 15)를 가지는 경우, 제2 전극(20) 또한 5개의 가지(21, 22, 23, 24, 25)를 가지도록 형성되는 것이 바람직하다. 이와 같은 구성은 본 명세서에 첨부된 도면 전반에 걸쳐 나타난다.Like the first electrode 10 , the second electrode 20 may also be formed to be branched into a plurality of branches. At this time, the number of the plurality of branches of the second electrode 20 may be selectively borrowed and used according to the needs of the user, but preferably a number corresponding to the number of branches formed by branching from the first electrode 10 . It is preferable to be formed to have a. For example, when the first electrode 10 has five branches 11 , 12 , 13 , 14 and 15 , the second electrode 20 also has five branches 21 , 22 , 23 , 24 , 25 . It is preferable to be formed to have a. Such a configuration appears throughout the drawings attached to this specification.

제1 전극(10) 및 제2 전극(20)은 각각 매우 얇은 두께의 가지를 가지도록 형성될 수 있으므로 도면 상에서는 유전체층(30)에 포함되는 것 처럼 보여질 수 있다. 이는 제1 전극(10) 및 제2 전극(20)을 사이에 두고 유전체층(30)이 그 사이를 메우도록 형성될 수 있는 것이기도 하지만 반드시 그러하여야 하는 것은 아니다. 예를 들면, 제1 전극(10)의 복수의 가지(11, 12, 13, 14, 15)가 기 형성된 유전체층(30)의 일면에 접하도록 형성될 수 있고, 제2 전극(20)의 복수의 가지(21, 22, 23, 24, 25)는 기 형성된 유전체층(30)의 일면과 대향되는 타면에 접하도록 형성될 수 있다.Since the first electrode 10 and the second electrode 20 may be formed to have very thin branches, respectively, they may appear to be included in the dielectric layer 30 in the drawing. Although this may be formed such that the first electrode 10 and the second electrode 20 are interposed therebetween, and the dielectric layer 30 is filled therebetween, this is not necessarily the case. For example, the plurality of branches 11 , 12 , 13 , 14 , and 15 of the first electrode 10 may be formed to be in contact with one surface of the previously formed dielectric layer 30 , and a plurality of the second electrodes 20 may be formed. The branches 21 , 22 , 23 , 24 , and 25 may be formed to be in contact with the other surface opposite to one surface of the previously formed dielectric layer 30 .

한편, 제1 전극(10)의 복수의 가지는 동일 평면 상에 형성될 수 있고, 제2 전극(20)의 복수의 가지는 동일 평면 상에 형성될 수 있다. 도 2을 참조하여 살펴보면, 전력이 인가될 수 있는 제1 전극(10) 중 제1 인가전극의 복수의 가지(11a, 12a, 13a, 14a, 15a)는 동일 평면(coplanar) 상에 배치되도록 형성될 수 있다. 마찬가지로, 제2 전극의 복수의 가지(21, 22, 23, 24, 25) 또한 동일 평면 상에 배치될 수 있으며, 이는 제2 인가전극의 복수의 가지(11b, 12b, 13b, 14b, 15b) 또는 제3 인가전극의 복수의 가지(11c, 12c, 13c, 14c, 15c)에서도 동일하게 적용될 수 있다.Meanwhile, the plurality of branches of the first electrode 10 may be formed on the same plane, and the plurality of branches of the second electrode 20 may be formed on the same plane. Referring to FIG. 2 , the plurality of branches 11a, 12a, 13a, 14a, and 15a of the first applying electrode among the first electrodes 10 to which power can be applied are formed to be disposed on the same plane. can be Similarly, the plurality of branches 21, 22, 23, 24, and 25 of the second electrode may also be disposed on the same plane, which is the plurality of branches 11b, 12b, 13b, 14b, and 15b of the second applying electrode. Alternatively, the same may be applied to the plurality of branches 11c, 12c, 13c, 14c, and 15c of the third applying electrode.

도 3는 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a plasma generating apparatus according to the present invention.

도 2 및 도 3를 참조하면, 플라즈마 발생 장치는 하나의 제2 전극(20)층을 가지고 2 이상의 제1 전극(10)층을 가지도록 설계될 수 있다. 즉, 제1 전극(10)층은 제1 인가전극(11a, 12a, 13a, 14a, 15a의 가지를 포함하는 전극), 제2 인가전극(11b, 12b, 13b, 14b, 15b의 가지를 포함하는 전극), 및 제3 인가전극(11c, 12c, 13c, 14c, 15c의 가지를 포함하는 전극)이 형성될 수 있고, 이에 대응하는 제2 전극(21, 22, 23, 24, 25의 가지를 포함하는 전극)이 유전체층을 사이에 두고 형성될 수 있다. 도시된 바와 같이, 제2 전극(20)은 접지(GND)에 연결되어 있고, 제1 전극(제1 인가전극, 제2 인가전극 또는 제3 인가전극 중 어느 하나 이상을 포함한다)은 전력원(S)에 의해 연결되어 있다. 전력원(S)에 의하여 전압 및 전류가 인가되면, 제1 전극(10)에 전력이 전달되고, 유전체 격벽 방전의 원리에 따라 방전이 수행, 플라즈마(P)가 생성된다.2 and 3 , the plasma generating apparatus may be designed to have one second electrode 20 layer and two or more first electrode 10 layers. That is, the first electrode 10 layer includes the branches of the first applying electrodes 11a, 12a, 13a, 14a, and 15a) and the second applying electrodes 11b, 12b, 13b, 14b, and 15b. electrode) and third applying electrodes 11c, 12c, 13c, 14c, and 15c (electrodes including branches) may be formed, and corresponding second electrodes 21, 22, 23, 24, and 25 branches may be formed. electrode including) may be formed with a dielectric layer interposed therebetween. As shown, the second electrode 20 is connected to the ground GND, and the first electrode (including any one or more of the first applying electrode, the second applying electrode, or the third applying electrode) is a power source. They are connected by (S). When a voltage and a current are applied by the power source S, power is transmitted to the first electrode 10 , and discharge is performed according to the principle of dielectric barrier discharge, thereby generating plasma P.

이 때, 전력이 인가되는 전극이 어느 전극인지에 따라 플라즈마(P)가 발생하는 두께를 변화시킬 수 있다. 예를 들면, 제1 인가전극(11a, 12a, 13a, 14a, 15a의 가지를 포함하는 전극)에 전력이 인가되는 경우 생성되는 플라즈마(P)의 두께는 약 t3(제3 전극거리)의 두께를 가질 수 있다. 즉, 전력이 인가되는 제1 전극과 접지(GND)의 전위를 가지는 제2 전극간의 두께 간격에 대응되도록 플라즈마의 두께가 발생할 수 있는 것이다. 도 3에서는 제3 인가전극(11c, 12c, 13c, 14c, 15c의 가지를 포함하는 전극)에 전력원(S)이 연결된 것으로 표현되어 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 하나의 전력원(S)이 하나 이상의 제1 전극(예를 들면, 제1 인가전극과 제2 인가전극에 연결된다거나, 또는 제1 인가전극과 제3 인가전극에 연결되는 등의 다양한 변형이 가능하다)에 연결될 수도 있다. 또는, 전력원(S)과 하나 이상의 제1 전극이 필요에 따라서는 스위치부를 사이에 두고 연결될 수도 있어, 스위치부를 제어하는 제어시그널에 따라 하나 이상의 제1 전극(10)에 선택적으로 전력을 인가하는 것도 가능하다.At this time, the thickness at which the plasma P is generated may be changed according to which electrode the electric power is applied to. For example, when electric power is applied to the first applying electrodes 11a, 12a, 13a, 14a, and 15a, the thickness of the plasma P generated is about t 3 (the third electrode distance). may have a thickness. That is, the thickness of the plasma may be generated to correspond to the thickness gap between the first electrode to which power is applied and the second electrode having the potential of the ground (GND). In FIG. 3 , the power source S is connected to the third applying electrodes 11c, 12c, 13c, 14c, and 15c (electrodes including branches), but the present invention is not limited thereto. It may be connected to one or more first electrodes (for example, various modifications such as being connected to the first applying electrode and the second applying electrode or being connected to the first applying electrode and the third applying electrode are possible). Alternatively, the power source (S) and the one or more first electrodes may be connected with the switch unit therebetween, if necessary, to selectively apply power to the one or more first electrodes 10 according to a control signal for controlling the switch unit. It is also possible

전술한 바와 같이, 형성된 하나 이상의 제1 전극 중 어느 제1 전극(예시적으로 제1 인가전극, 제2 인가전극, 제3 인가전극 중 선택적으로 전력이 인가될 수 있으며, 이는 더 많은 수의 인가전극이 배치되는 경우 더욱 다양한 경우의 수에 따라 전력을 인가할 전극이 선택될 수 있다. 이는 접지전극과 전력이 인가되는 인가전극 간의 전극 갭 조절에 해당한다)에 전력을 인가하는지, 어느 정도의 강도로 전력을 인가하는지, 및 제2 전극과 어느 정도 거리에 있는 제1 전극이 선택되어 플라즈마(P) 생성에 영향을 줄 수 있으며, 이러한 다양한 변수에 의하여 플라즈마의 특성을 변화시킬 수 있는 이점이 있다.As described above, power may be selectively applied to any of the first electrodes (for example, the first applying electrode, the second applying electrode, and the third applying electrode) among the one or more first electrodes formed, which means that a larger number of applied electrodes When electrodes are disposed, the electrode to which power is applied may be selected according to a more diverse number of cases, which corresponds to adjusting the electrode gap between the ground electrode and the applying electrode to which power is applied). Whether power is applied at an intensity, and the first electrode at a certain distance from the second electrode can be selected to influence the plasma (P) generation, and the advantage of changing the characteristics of the plasma by these various variables have.

한편, 경우에 따라서는 제1 전극(10) 및 제2 전극(20)이 유전체층(30)에 표면 일부가 둘러싸여져 외부 환경으로부터 보호받을 수 있으나, 이러한 전극들이 유전체층(30)의 외면에 형성되는 경우에는 전극이 대기중으로 노출될 수 있다. 노출된 전극은 기계적 마모 또는 화학적 부식 등에 손상될 우려가 있으며, 전극이 손상되는 경우 플라즈마 발생 장치가 플라즈마(P)를 생성하지 못하거나 생성된 플라즈마(P)가 사용자가 의도하지 않은 사양을 가질 가능성이 높아진다. 또한, 전극의 잦은 교체는 플라즈마 발생 장치의 유지비용을 높이는 문제가 있으며, 따라서 제1 전극(10) 및 제2 전극(20)의 마모, 부식 등을 최소화시킬 필요가 있다.On the other hand, in some cases, the surface of the first electrode 10 and the second electrode 20 may be protected from the external environment by being partially surrounded by the dielectric layer 30 , but these electrodes are formed on the outer surface of the dielectric layer 30 . In this case, the electrode may be exposed to the atmosphere. The exposed electrode may be damaged by mechanical wear or chemical corrosion, and if the electrode is damaged, the plasma generating device may fail to generate plasma (P) or the generated plasma (P) may have specifications not intended by the user this rises In addition, frequent replacement of the electrode has a problem of increasing the maintenance cost of the plasma generating device, and therefore it is necessary to minimize wear and corrosion of the first electrode 10 and the second electrode 20 .

따라서, 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치는 제1 전극(10)을 적어도 일부 감싸도록 제1 보호층(40)을 형성할 수 있고, 제2 전극(20)을 적어도 일부 감싸도록 제2 보호층(50)을 형성할 수 있다. 제1 보호층(40)과 제2 보호층(50)은 유전체층(30)의 일면과 타면에 각각 형성될 수 있으며, 반드시 층의 일면을 모두 커버해야 하는 것은 아니고 제1 전극(10)과 제2 전극(20)이 대기와 직접 접촉하는 것을 방지하기 위한 정도로 형성될 수 있으면 어떠한 형태로 형성되더라도 무방하다. 한편, 제1 보호층(40) 및 제2 보호층(50)은 내식성의 세라믹 소재로 형성될 수 있다. 세라믹 소재는 고온에서 가공시 기계적인 강도가 높을 뿐만 아니라, 외부로부터의 화학적 반응 또한 효과적으로 차단할 수 있으므로, 제1 전극(10) 및 제2 전극(20)을 외부 환경으로부터 효율적으로 보호할 수 있는 이점이 있다. 또한, 제1 보호층(40)의 두께 T1과 제2 보호층(50)의 두께 T2에 관하여, T1/T2<1이 성립되도록 형성될 수 있다. T1/T2<1에 해당하도록 제1 보호층(40)의 두께와 제2 보호층(50)의 두께를 조절함으로써, 제1 전극(10)에 가까운 표면 방향으로 플라즈마(P)가 생성 및 방출될 때 더욱 신속하게 방출될 수 있도록 할 수 있다.Therefore, in the plasma generating device according to the present invention, the first protective layer 40 may be formed to at least partially surround the first electrode 10 , and the second protective layer may be formed to at least partially surround the second electrode 20 . 50) can be formed. The first passivation layer 40 and the second passivation layer 50 may be respectively formed on one surface and the other surface of the dielectric layer 30 , and the first electrode 10 and the second passivation layer 50 do not necessarily cover one surface of the layer. The second electrode 20 may be formed in any shape as long as it can be formed to a degree to prevent direct contact with the atmosphere. Meanwhile, the first protective layer 40 and the second protective layer 50 may be formed of a corrosion-resistant ceramic material. The ceramic material not only has high mechanical strength when processed at high temperatures, but also can effectively block chemical reactions from the outside, so that the first electrode 10 and the second electrode 20 can be efficiently protected from the external environment. There is this. Further, with respect to the thickness T 2 of the first protective layer 40, the thickness T 1 and the second protective layer 50 may be formed such that T 1 / T 2 <1 is satisfied. By adjusting the thickness of the first passivation layer 40 and the thickness of the second passivation layer 50 to correspond to T 1 /T 2 <1, plasma P is generated in the surface direction close to the first electrode 10 . and more rapidly when released.

도 4은 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 평면도이고, 도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 단면도이다.4 is a plan view of the plasma generating apparatus according to the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view of the plasma generating apparatus according to the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 단위체가 되는 플라즈마 발생 장치의 연결 시에 연결 부분에 슬릿 형태로 갭이 형성될 수도 있고, 홀이 형성되며 연결될 수 있다.As shown in FIG. 4 , a gap may be formed in a slit shape in a connection part when a plasma generating device which is a unit of the plasma generating device according to the present invention is connected, or a hole may be formed and connected.

도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치는 제1 전극(10)이 복수로 형성되고, 제2 전극(20) 또한 복수로 형성되되 제1 전극(10)이 형성된 수에 대응되는 수로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 전극(10)이 제1 인가전극과 제2 인가전극을 가지도록 2개로 형성된다면, 제2 전극(20)은 제1 접지전극과 제2 접지전극을 가지도록 2개로 형성될 수 있다. 또한, 제1 인가전극은 복수의 가지(11a, 12a, 13a, 14a, 15a)를 가지고, 제1 접지전극은 제1 인가전극이 가지는 가지의 수에 대응되는 복수의 가지(21a, 22a, 23a, 24a, 25a)를 가질 수 있다. 마찬가지로, 제2 인가전극 또한 복수의 가지(11b, 12b, 13b, 14b, 15b)를 가지고, 제2 접지전극은 제2 인가전극이 가지는 가지의 수에 대응되는 복수의 가지(21b, 22b, 23b, 24b, 25b)를 가질 수 있다.4 and 5 , in the plasma generating apparatus according to the present invention, a plurality of first electrodes 10 are formed, and a plurality of second electrodes 20 are also formed. It may be formed in a corresponding number. For example, if two first electrodes 10 are formed to have a first applying electrode and a second applying electrode, two second electrodes 20 are formed to have a first ground electrode and a second ground electrode. can be In addition, the first applying electrode has a plurality of branches 11a, 12a, 13a, 14a, and 15a, and the first ground electrode has a plurality of branches 21a, 22a, 23a corresponding to the number of branches of the first applying electrode. , 24a, 25a). Similarly, the second applying electrode also has a plurality of branches 11b, 12b, 13b, 14b, and 15b, and the second ground electrode has a plurality of branches 21b, 22b, 23b corresponding to the number of branches of the second applying electrode. , 24b, 25b).

한편, 제1 인가전극은 제1 접지전극과 제1 전력원(S1)을 통해 연결될 수 있고, 제2 인가전극은 제2 접지전극과 제2 전력원(S2)을 통해 연결될 수 있다. 즉, 제1 전극과 제2 전극이 각각 쌍(pair)을 이루어 서로 다른 전력원(S1, S2)에 의해 전기적으로 연결될 수 있다. 이 때, 제1 전력원(S1)과 제2 전력원(S2)은 서로 다른 전압 및 전류를 각각 제1 인가전극과 제2 인가전극에 인가할 수 있으며, 이에 따라서 제1 인가전극에서 제1 접지전극의 방향으로 격벽 방전이 수행되어 제1 플라즈마(P1)가, 제2 인가전극에서 제2 접지전극의 방향으로 격벽 방전이 수행되어 제2 플라즈마(P2)가 생성될 수 있다. 서로 다른 방향으로 생성된 제1 플라즈마(P1) 및 제2 플라즈마(P2)는 서로 다른 특성을 가질 수 있으며, 각각의 전극 간의 두께 간격, 인가된 전력에 따라 플라즈마(P1, P2)의 밀도 및 강도, 활성종의 양이 조절될 수 있다. 이와 같이 복수개의 제1 전극과 복수개의 제2 전극을 사용하여 2 이상의 플라즈마가 생성되도록 함으로써 하나의 플라즈마 발생 장치로부터 다양한 형태의 플라즈마를 생성할 수 있는 이점이 있다.Meanwhile, the first applying electrode may be connected to the first ground electrode and the first power source S1 , and the second applying electrode may be connected to the second ground electrode and the second power source S2 . That is, the first electrode and the second electrode may form a pair and be electrically connected to each other by different power sources S1 and S2. In this case, the first power source S1 and the second power source S2 may apply different voltages and currents to the first applying electrode and the second applying electrode, respectively. The barrier rib discharge may be performed in the direction of the ground electrode to generate the first plasma P1 , and the barrier rib discharge may be performed from the second applying electrode to the second ground electrode to generate the second plasma P2 . The first plasma P1 and the second plasma P2 generated in different directions may have different characteristics, and the density and intensity of the plasmas P1 and P2 depending on the thickness interval between the electrodes and the applied power. , the amount of active species can be controlled. As described above, there is an advantage in that plasma of various types can be generated from one plasma generating device by generating two or more plasmas using the plurality of first electrodes and the plurality of second electrodes.

도 6는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 단면도이다. 대표적으로, 홀을 형성하며 플라즈마 발생 장치가 연결되는 경우가 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않고 슬릿 형태로 갭을 이루며 연결될 수 있음은 물론이다.6 is a cross-sectional view of a plasma generating apparatus according to another embodiment of the present invention. Representatively, a case in which the plasma generating device is connected while forming a hole is illustrated, but the present invention is not limited thereto and may be connected while forming a gap in the form of a slit.

도 6를 참조하면, 제1 전극(10)의 복수의 가지는 2 이상의 층을 형성하도록 배치될 수 있다. 즉, 제1 전극(10)의 복수의 가지(11, 12, 13, 14, 15)는 동일 평면 상에 존재하지 않고 다층 구조로 형성될 수 있다. 예를 들면, 제1 전극(10)의 가지가 5개인 것으로 가정할 때, 복수의 가지 중 일부(11, 13, 15)는 제1 전극(10)의 제1 층을 형성할 수 있고, 나머지 가지(12, 14)는 제1 전극(10)의 제2 층을 형성할 수 있다.Referring to FIG. 6 , a plurality of branches of the first electrode 10 may be arranged to form two or more layers. That is, the plurality of branches 11 , 12 , 13 , 14 , and 15 of the first electrode 10 may not exist on the same plane and may be formed in a multi-layered structure. For example, assuming that the first electrode 10 has five branches, some of the plurality of branches 11 , 13 , and 15 may form the first layer of the first electrode 10 , and the remaining branches 11 , 13 and 15 may form the first layer of the first electrode 10 . The branches 12 and 14 may form the second layer of the first electrode 10 .

한편, 제2 전극(20)의 복수의 가지(21, 22, 23, 24, 25)는 전술한 바와 같이 동일 평면 상에 배치되도록 형성될 수 있다. 이와 같은 경우에는 제2 전극(20)의 복수의 가지(21, 22, 23, 24, 25)가 형성하는 층을 기준으로 그 상부에 제1 전극(10)의 제1 층이 형성되고, 그 하부에 제1 전극(10)의 제2 층이 형성될 수 있다.Meanwhile, the plurality of branches 21 , 22 , 23 , 24 , and 25 of the second electrode 20 may be formed to be disposed on the same plane as described above. In this case, the first layer of the first electrode 10 is formed on the layer formed by the plurality of branches 21 , 22 , 23 , 24 and 25 of the second electrode 20 , and the A second layer of the first electrode 10 may be formed thereunder.

또는, 제2 전극(20)의 복수의 가지(21, 22, 23, 24, 25) 또한 2 이상의 층을 형성하도록 배치될 수 있다. 즉, 제2 전극(20)의 복수의 가지(21, 22, 23, 24, 25)도 동일 평면 상에 존재하지 않고 다층 구조로 형성될 수 있다. 예를 들면, 제2 전극(20)의 가지가 5개인 것으로 가정할 때, 복수의 가지 중 일부(21, 23, 25)는 제2 전극(20)의 제1 층을 형성할 수 있고, 나머지 가지(22, 24)는 제2 전극(20)의 제2 층을 형성할 수 있다. 또한, 제1 전극(10)과 제2 전극(20)의 배치관계와 관련하여, 제1 전극(10)의 제1 층과 제2 전극(20)의 제2 층이 서로 동일 평면 상에 형성될 수 있고, 제1 전극(10)의 제2 층과 제2 전극(20)의 제1 층이 서로 동일 평면 상에 형성될 수 있도록 하여, 두 전극(10, 20)의 복수의 가지가 서로 교호적으로 배치되도록 플라즈마 발생 장치가 형성될 수 있다.Alternatively, the plurality of branches 21 , 22 , 23 , 24 , and 25 of the second electrode 20 may also be arranged to form two or more layers. That is, the plurality of branches 21 , 22 , 23 , 24 , and 25 of the second electrode 20 do not exist on the same plane and may be formed in a multi-layered structure. For example, when it is assumed that the second electrode 20 has five branches, some of the plurality of branches 21 , 23 , and 25 may form the first layer of the second electrode 20 , and the remaining branches may form the second electrode 20 . The branches 22 and 24 may form a second layer of the second electrode 20 . In addition, in relation to the arrangement relationship of the first electrode 10 and the second electrode 20 , the first layer of the first electrode 10 and the second layer of the second electrode 20 are formed on the same plane. and the second layer of the first electrode 10 and the first layer of the second electrode 20 may be formed on the same plane as each other, so that the plurality of branches of the two electrodes 10 and 20 are mutually connected to each other. Plasma generating devices may be formed to be alternately disposed.

두 전극(10, 20)의 복수의 가지가 서로 교호적으로 배치된 상태에서, 제1 전극(10)에 인가되는 전력에 의하여 플라즈마가 발생한다. 제1 전극의 가지들(11, 12, 13, 14, 15)에서 제2 전극의 가지들(21, 22, 23, 24, 25)의 방향으로 에너지 이동/방전이 일어나게 되는데, 더욱 상세하게는 11번 가지에서 21번 가지로, 12번 가지에서 22번 가지로, 13번 가지에서 23번 가지로, 14번 가지에서 24번 가지로, 그리고 15번 가지에서 25번 가지로 에너지 이동/방전이 발생한다. In a state in which the plurality of branches of the two electrodes 10 and 20 are alternately arranged with each other, plasma is generated by the electric power applied to the first electrode 10 . Energy transfer/discharge occurs from the branches 11, 12, 13, 14, and 15 of the first electrode to the branches 21, 22, 23, 24, 25 of the second electrode. Energy transfer/discharge from branch 11 to branch 21, branch 12 to branch 22, branch 13 to branch 23, branch 14 to branch 24, and branch 15 to branch 25 Occurs.

한편, 에너지 이동/방전에 따라 발생한 플라즈마는 전극(10, 20)의 가지들이 배치된 부분에 인접한 공간에 형성될 수 있다. 예를 들면, 플라즈마(P)는 제1 전극(10)의 각각의 가지(11, 12, 13, 14, 15) 사이에 형성된 홀(h)에서 발생할 수 있다. 즉, 11번 가지와 12번 가지 사이에, 12번 가지와 13번 가지 사이에, 13번 가지와 14번 가지 사이에, 14번 가지와 15번 가지 사이에 홀(h)이 형성될 수 있다. 홀(h)은 유전체층(30), 제1 보호층(40), 및 제2 보호층(50)을 관통하여 공간을 형성할 수 있다.Meanwhile, the plasma generated according to energy transfer/discharge may be formed in a space adjacent to the portion where the branches of the electrodes 10 and 20 are disposed. For example, the plasma P may be generated in the hole h formed between each branch 11 , 12 , 13 , 14 , and 15 of the first electrode 10 . That is, a hole h may be formed between branches 11 and 12, between branches 12 and 13, between branches 13 and 14, and between branches 14 and 15. . The hole h may pass through the dielectric layer 30 , the first passivation layer 40 , and the second passivation layer 50 to form a space.

홀(h)의 내부에서, 11번 가지와 21번 가지에 인접한 부분에서는 일방향(예시적으로는, 도면 상 상부에서 하부로 향하는 방향)으로 플라즈마(P)가 발생하고, 12번 가지와 22번 가지에 인접한 부분에서는 전술한 일방향의 반대방향인 타방향(예시적으로는, 도면 상 하부에서 상부로 향하는 방향)으로 플라즈마(P)가 발생할 수 있다. 이러한 현상은 동일한 홀(h) 내부에서 일어나는데, 따라서 플라즈마(P)는 발생 방향에 따른 회전력을 가질 수 있다. 회전력을 가지는 플라즈마(P)는 와류를 생성할 수 있으며, 회전하는 플라즈마(P)는 부피가 증가하여 접촉하는 공기와의 반응성이 향상될 수 있고, 따라서 플라즈마 처리가 용이하게 될 수 있는 이점이 있다.In the interior of the hole (h), the plasma (P) is generated in one direction (eg, the direction from the top to the bottom in the drawing) in the portion adjacent to the 11th branch and the 21st branch, and the 12th branch and the 22nd branch In a portion adjacent to the branch, the plasma P may be generated in the other direction (eg, a direction from the lower part to the upper part in the drawing) that is opposite to the aforementioned one direction. This phenomenon occurs inside the same hole h, so the plasma P may have a rotational force according to the generation direction. Plasma P having a rotational force can generate a vortex, and the rotating plasma P has an advantage in that the volume increases and reactivity with air in contact can be improved, and thus plasma processing can be facilitated. .

도 7는 본 발명에 따른 플라즈마 발생 장치의 평면도이고, 도 8은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 평면도이다. 대표적으로, 홀을 형성하며 플라즈마 발생 장치가 연결되는 경우가 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않고 슬릿 형태로 갭을 이루며 연결될 수 있음은 물론이다. 다만, 이하의 설명에서는 홀(h)로서 형성되는 것에 대하여 주로 설명한다.7 is a plan view of the plasma generating apparatus according to the present invention, and FIG. 8 is a plan view of the plasma generating apparatus according to another embodiment of the present invention. Representatively, a case in which the plasma generating device is connected while forming a hole is illustrated, but the present invention is not limited thereto and may be connected while forming a gap in the form of a slit. However, in the following description, what is formed as the hole h will be mainly described.

도 7을 참조하면, 홀(h)은 복수개로 구성될 수 있고, 제1 전극(10)의 복수의 가지(11, 12, 13, 14, 15) 중 각각의 가지 사이에 일정 개수가 일정 간격을 가지도록 어레이(array)의 형태로 형성될 수 있다. 즉, 11번 가지와 12번 가지 사이, 12번 가지와 13번 가지 사이, 13번 가지와 14번 가지 사이, 그리고 14번 가지와 15번 가지 사이에 복수개의 홀(h)이 일정한 간격으로 뚫리도록 될 수 있다. 복수개의 홀(h)에 형성된 공간에서 플라즈마가 형성되면 플라즈마 상태의 활성종이 살균 또는 세정의 대상이 되는 물체/장소로 공급될 수 있다. 마찬가지로, 제1 전극(10)과 대응되도록 배치된 제2 전극(20)을 기준으로 홀(h)의 배치관계를 설명할 수 있다. 즉, 21번 가지와 22번 가지 사이, 22번 가지와 23번 가지 사이, 23번 가지와 24번 가지 사이, 그리고 24번 가지와 25번 가지 사이에 복수개의 홀(h)이 일정한 간격으로 뚫리도록 될 수 있다.Referring to FIG. 7 , a plurality of holes h may be formed, and a predetermined number of each of the plurality of branches 11 , 12 , 13 , 14 and 15 of the first electrode 10 is provided at a predetermined interval. may be formed in the form of an array to have That is, a plurality of holes (h) are drilled at regular intervals between branches 11 and 12, between branches 12 and 13, between branches 13 and 14, and between branches 14 and 15. can be made available When plasma is formed in the space formed in the plurality of holes h, active species in a plasma state may be supplied to an object/place to be sterilized or cleaned. Similarly, the arrangement relationship of the holes h may be described based on the second electrode 20 disposed to correspond to the first electrode 10 . That is, a plurality of holes (h) are drilled at regular intervals between branches 21 and 22, between branches 22 and 23, between branches 23 and 24, and between branches 24 and 25. can be made available

도 8을 참조하면, 어레이의 형태로 형성되는 복수개의 홀들은 제1 전극(10)의 복수의 가지 중 일 가지를 중심으로 비대칭적으로 배치되도록 형성될 수 있다. 예시적으로, 13번 가지를 중심으로 양측에 형성된 홀(h)은 대칭적으로 형성되어 있지 않다. 더욱 상세하게는, 복수개의 홀(h)은 제1 배열의 형태를 가지는 제1 홀 어레이(h1)와, 제2 배열의 형태를 가지는 제2 홀 어레이(h2)를 가질 수 있다. 따라서, 제1 홀 어레이-제2 홀 어레이-제1 홀 어레이 순으로 배열되어 복수개의 홀이 지그재그 형식으로 어긋나게 배치될 수 있다. 한편, 반드시 홀 어레이의 형태가 2개로 제한되는 것은 아니며, 3 이상의 홀 어레이가 형성되어 비대칭적으로 배치될 수도 있다. 한편, 이와 같이 일(하나의) 가지를 중심으로 홀이 비대칭적으로 배치되도록 형성됨으로써, 홀(h) 내부에서 생성되는 플라즈마가 넓은 범위를 커버할 수 있도록 하며, 효율적인 플라즈마 이용을 가능하도록 하는 이점이 있다.Referring to FIG. 8 , the plurality of holes formed in the form of an array may be formed to be asymmetrically disposed with respect to one of the plurality of branches of the first electrode 10 . For example, the holes h formed on both sides of the 13th branch are not symmetrically formed. More specifically, the plurality of holes h may have a first hole array h 1 having a shape of a first arrangement and a second hole array h 2 having a shape of a second arrangement. Accordingly, the first hole array - the second hole array - the first hole array is arranged in the order, so that the plurality of holes may be displaced in a zigzag manner. Meanwhile, the shape of the hole array is not necessarily limited to two, and three or more hole arrays may be formed and asymmetrically disposed. On the other hand, by forming the holes to be asymmetrically arranged around one (one) branch in this way, the plasma generated inside the hole (h) can cover a wide range, and the advantage of enabling efficient plasma use There is this.

도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 도면이다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 상기의 설명이 동일하게 적용될 수 있는 내용은 그 기재를 생략할 수 있다.9 is a view according to another embodiment of the present invention. In describing the present embodiment, descriptions of contents to which the above description is equally applicable may be omitted.

한편, 제1 전극(110)의 복수의 가지는 동일 평면 상에 형성될 수 있고, 제2 전극(120)의 복수의 가지는 동일 평면 상에 형성될 수 있다. 전력이 인가될 수 있는 제1 전극(110) 중 제1 인가전극의 복수의 가지는 동일 평면(coplanar) 상에 배치되도록 형성될 수 있다. 마찬가지로, 제2 전극의 복수의 가지 또한 동일 평면 상에 배치될 수 있으며, 이는 제2 인가전극의 복수의 가지에서도 동일하게 적용될 수 있다.Meanwhile, the plurality of branches of the first electrode 110 may be formed on the same plane, and the plurality of branches of the second electrode 120 may be formed on the same plane. A plurality of branches of the first applying electrode among the first electrodes 110 to which power can be applied may be formed to be disposed on the same plane. Similarly, a plurality of branches of the second electrode may also be disposed on the same plane, and this may be equally applied to a plurality of branches of the second applying electrode.

본 실시예에서는, 상기의 경우와 달리 전극이 도면의 좌우 방향으로 나열되어 있다. 구체적으로, 도 9에 도시된 바와 같이, 제1 전극(110) 및 제2 전극(120)이 동일 평면 상에 형성될 수 있다. 여기서, 각 전극은 직류 또는 교류를 인가받을 수 있으며, 도 9에서는 교류를 인가받는 경우를 예시로 도시하였다.In this embodiment, unlike the above case, the electrodes are arranged in the left-right direction in the drawing. Specifically, as shown in FIG. 9 , the first electrode 110 and the second electrode 120 may be formed on the same plane. Here, each electrode may receive direct current or alternating current, and FIG. 9 illustrates a case in which alternating current is applied as an example.

먼저, 도 9를 참조하여 설명하면, 적어도 두(2)개의 제1 전극(110) 및 제1 전극(110)이 나열된 방향으로 대면하도록 마련되는 적어도 한(1)개의 제2 전극(120)을 포함할 수 있다. 이 때, 제1 전극(110) 및 제2 전극(120)의 의미는 교류 전류가 흐를 수 있는 기반이 되는 회로의 형성에서의 각 전극을 의미하는 개념으로서, 물리적으로 고정되는 부재를 지칭하는 것은 아니다. 즉, 도 9(a)에서의 제1 전극(110)이 도 2에서는 제2 전극(120)으로 기능할 수도 있다. 제1 전극(110) 및 제2 전극(120)의 사이에는 제1 전극(110)에 전력이 인가됨에 따라 제1 전극(110) 및 제2 전극(120)의 사이의 격벽 방전을 발생시키는 유전체층(130)이 형성될 수 있다. 또한, 제1 전극(110) 및 제2 전극(120)을 적어도 일부를 감싸도록 형성되는 보호층(140)을 포함할 수 있다.First, referring to FIG. 9 , at least two (2) first electrodes 110 and at least one (1) second electrode 120 provided to face in the direction in which the first electrodes 110 are arranged may include At this time, the meaning of the first electrode 110 and the second electrode 120 is a concept meaning each electrode in the formation of a circuit on which an alternating current can flow, and refers to a physically fixed member. no. That is, the first electrode 110 in FIG. 9A may function as the second electrode 120 in FIG. 2 . A dielectric layer between the first electrode 110 and the second electrode 120 generates a barrier rib discharge between the first electrode 110 and the second electrode 120 as power is applied to the first electrode 110 . 130 may be formed. In addition, the protective layer 140 formed to surround at least a portion of the first electrode 110 and the second electrode 120 may be included.

도 9(a) 및 도 9(b)에 도시된 바와 같이, 이와 같이 전극을 배치함으로써, 제1 전극(110) 및 제2 전극(120), 구체적으로, 전류가 인가되는 두 전극의 선택에 의하여 플라즈마(PA 및 PB)의 발생위치를 조정할 수 있다. 이 뿐만 아니라, 도 9(c) 및 도 9(d)에 도시된 바와 같이, 전극 간의 거리에 차등을 둠으로써, 제1 전극(110) 및 제2 전극(120), 구체적으로, 전류가 인가되는 두 전극의 선택에 의하여 플라즈마(P3)의 발생 길이를 조정할 수 있다. 나아가, 도 9(d)에 도시된 바와 같이, 제1 전극(110)과 제2 전극(120) 사이의 거리가 먼 경우에는, 음의 고전압 DC전원(150)을 추가로 사용할 수 있음은 물론이다. 이 경우, 넓은 영역의 (방전 면적 효율이 큰) 표면 플라즈마를 얻을 수 있어 플라즈마 발생 장치의 효율화를 도모할 수 있다. 이 뿐만 아니라, 도 9(e)에 도시된 바와 같이, 복수 개의 전원을 교차로 연결하여 서로 다른 플라즈마는 넓은 영역에 걸쳐 형성할 수 있다.As shown in Figs. 9 (a) and 9 (b), by disposing the electrodes in this way, the first electrode 110 and the second electrode 120, specifically, the selection of the two electrodes to which the current is applied. Thus, the generation position of the plasmas PA and PB can be adjusted. In addition to this, as shown in FIGS. 9(c) and 9(d), by making a difference in the distance between the electrodes, the first electrode 110 and the second electrode 120, specifically, the current is applied The generation length of the plasma P3 can be adjusted by selecting the two electrodes to be used. Furthermore, as shown in FIG. 9( d ), when the distance between the first electrode 110 and the second electrode 120 is long, a negative high voltage DC power source 150 can be additionally used. am. In this case, it is possible to obtain a surface plasma with a large area (large discharge area efficiency), so that the efficiency of the plasma generating apparatus can be improved. In addition to this, as shown in FIG. 9(e) , different plasmas can be formed over a wide area by connecting a plurality of power sources to each other.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical spirit of the present invention, and various modifications and variations will be possible without departing from the essential characteristics of the present invention by those skilled in the art to which the present invention pertains.

따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

10, 110: 제1 전극
11, 12, 13, 14, 15: 제1 전극 가지
11a, 12a, 13a, 14a, 15a: 제1 인가전극 가지
11b, 12b, 13b, 14b, 15b: 제2 인가전극 가지
11c, 12c, 13c, 14c, 15c: 제3 인가전극 가지
20, 120: 제2 전극
21, 22, 23, 24, 25: 제2 전극 가지
21a, 22a, 23a, 24a, 25a: 제1 접지전극 가지
21b, 22b, 23b, 24b, 25b: 제2 접지전극 가지
30, 130: 유전체층
40, 140: 제1 보호층
50: 제2 보호층
S: 전력원
S1: 제1 전력원
S2: 제2 전력원
GND: 접지(ground)
h: 홀
P: 플라즈마
P1, P2, PA, PB: 플라즈마
t1: 제1 전극거리
t2: 제2 전극거리
t3: 제3 전극거리
h1: 제1 홀 어레이
h2: 제2 홀 어레이10, 110: first electrode
11, 12, 13, 14, 15: first electrode branch
11a, 12a, 13a, 14a, 15a: first applied electrode branch
11b, 12b, 13b, 14b, 15b: second applying electrode branch
11c, 12c, 13c, 14c, 15c: third applied electrode branch
20, 120: second electrode
21, 22, 23, 24, 25: second electrode branch
21a, 22a, 23a, 24a, 25a: first ground electrode branch
21b, 22b, 23b, 24b, 25b: second ground electrode branch
30, 130: dielectric layer
40, 140: first protective layer
50: second protective layer
S: power source
S1: first power source
S2: second power source
GND: ground
h: hall
P: plasma
P 1 , P 2 , PA , PB: plasma
t 1 : first electrode distance
t 2 : second electrode distance
t 3 : third electrode distance
h1: first hole array
h2: second hole array

Claims (15)

적어도 두(2)개의 제1 전극;
상기 제1 전극이 나열된 방향으로 대면하도록 마련되는 적어도 한(1)개의 제2 전극;
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 형성되어 상기 제1 전극 중 한(1)개에 전력이 인가됨에 따라 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이의 격벽 방전을 발생시키는 유전체층;
상기 제1 전극을 적어도 일부를 감싸도록 형성되는 제1 보호층; 및
상기 제2 전극을 적어도 일부를 감싸도록 형성되는 제2 보호층;을 포함하는 플라즈마 발생 장치.at least two (2) first electrodes;
at least one (1) second electrode provided so that the first electrode faces in an arranged direction;
a dielectric layer formed between the first electrode and the second electrode to generate a barrier rib discharge between the first electrode and the second electrode when power is applied to one (1) of the first electrodes;
a first protective layer formed to surround at least a portion of the first electrode; and
Plasma generating apparatus comprising a; a second protective layer formed to surround at least a portion of the second electrode. 청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극에 인가되는 전력은 상기 제1 전극 중 한(1)개에 선택적으로 인가되는, 플라즈마 발생 장치.The method according to claim 1,
The power applied to the first electrode is selectively applied to one (1) of the first electrodes. 청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극은 플라즈마 발생을 위하여 전력원으로부터 전압 및 전류가 인가되고,
상기 제2 전극은 접지(ground)로서 작용하도록 0V의 전위를 가지는 플라즈마 발생 장치.The method according to claim 1,
The first electrode is applied with voltage and current from a power source for plasma generation,
and the second electrode has a potential of 0V to act as a ground. 청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극은 복수의 가지로 분지되어 형성되고, 상기 제2 전극은 복수의 가지로 분지되어 형성되는 플라즈마 발생 장치.The method according to claim 1,
The first electrode is formed by branching into a plurality of branches, and the second electrode is formed by branching into a plurality of branches. 청구항 4에 있어서,
상기 제1 전극의 복수의 가지는 동일 평면 상에 형성되고, 상기 제2 전극의 복수의 가지는 동일 평면 상에 형성되는 플라즈마 발생 장치.5. The method according to claim 4,
A plurality of branches of the first electrode are formed on the same plane, and a plurality of branches of the second electrode are formed on the same plane. 청구항 5에 있어서,
상기 제1 전극의 복수의 가지는 상기 유전체층의 일면에 접하도록 형성되고, 상기 제2 전극의 복수의 가지는 상기 유전체층의 일면과 대향되는 타면에 접하도록 형성되는 플라즈마 발생 장치.6. The method of claim 5,
A plurality of branches of the first electrode are formed to be in contact with one surface of the dielectric layer, and a plurality of branches of the second electrode are formed to be in contact with the other surface opposite to one surface of the dielectric layer. 청구항 5에 있어서,
상기 제1 전극은 복수로 형성되고, 상기 제2 전극은 상기 제1 전극에 대응되는 수로 복수로 형성되어, 각각 쌍(pair)을 이루어 서로 다른 전력원에 의해 전기적으로 연결된 플라즈마 발생 장치.6. The method of claim 5,
The first electrode is formed in plurality, and the second electrode is formed in plurality in a number corresponding to the first electrode, and is electrically connected by a different power source to form a pair. 청구항 6 또는 청구항 7에 있어서,
상기 제1 보호층 및 상기 제2 보호층은 내식성의 세라믹 소재로 형성되는 플라즈마 발생 장치.8. The method according to claim 6 or 7,
The first protective layer and the second protective layer are plasma generating device formed of a corrosion-resistant ceramic material. 청구항 3에 있어서,
상기 제1 전극의 복수의 가지는 2 이상의 층을 형성하도록 배치되는 플라즈마 발생 장치.4. The method according to claim 3,
A plurality of branches of the first electrode are arranged to form two or more layers. 청구항 9에 있어서,
상기 제2 전극의 복수의 가지는 2 이상의 층을 형성하도록 배치되어 상기 제1 전극의 복수의 가지와 서로 교호적으로 배치되는 플라즈마 발생 장치.10. The method of claim 9,
A plurality of branches of the second electrode are arranged to form two or more layers, and a plurality of branches of the first electrode are alternately arranged with each other. 청구항 10에 있어서,
상기 제1 전극의 복수의 가지와 상기 제2 전극의 복수의 가지가 서로 교호적으로 배치되어 발생시키는 플라즈마는 일방향으로 회전하여 와류를 생성하는 플라즈마 발생 장치.11. The method of claim 10,
A plasma generating apparatus in which a plurality of branches of the first electrode and a plurality of branches of the second electrode are alternately arranged with each other and the generated plasma rotates in one direction to generate a vortex. 청구항 4에 있어서,
상기 제1 전극의 복수의 가지 중 각각의 가지 사이에 형성되며, 상기 유전체층, 상기 제1 보호층, 및 상기 제2 보호층을 관통하도록 공간이 형성된 홀;을 더 포함하는 플라즈마 발생 장치.5. The method according to claim 4,
and a hole formed between each branch of the plurality of branches of the first electrode and having a space formed therethrough to pass through the dielectric layer, the first protective layer, and the second protective layer. 청구항 12에 있어서,
상기 홀은 복수개로 구성되며, 상기 제1 전극의 복수의 가지 중 각각의 가지 사이에 일정 개수가 일정 간격을 가지도록 어레이(array)의 형태로 형성되는 플라즈마 발생 장치.13. The method of claim 12,
The hole is configured in plurality, and the plasma generating apparatus is formed in the form of an array such that a predetermined number of the plurality of branches of the first electrode have a predetermined interval between each branch. 청구항 13에 있어서,
어레이의 형태로 형성되는 상기 홀은, 상기 제1 전극의 복수의 가지 중 일 가지를 중심으로 비대칭적으로 배치되도록 형성되는 플라즈마 발생 장치.14. The method of claim 13,
The hole formed in the form of an array is formed to be asymmetrically disposed with respect to one of the plurality of branches of the first electrode. 적어도 두(2)개의 제1 전극;
상기 제1 전극이 나열된 방향으로 대면하도록 마련되는 적어도 한(1)개의 제2 전극;
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 형성되어 상기 제1 전극 중 한(1)개에 전력이 인가됨에 따라 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이의 격벽 방전을 발생시키는 유전체층; 및
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 적어도 일부를 감싸도록 형성되는 보호층;을 포함하는 플라즈마 발생 장치.
at least two (2) first electrodes;
at least one (1) second electrode provided so that the first electrode faces in an arranged direction;
a dielectric layer formed between the first electrode and the second electrode to generate a barrier rib discharge between the first electrode and the second electrode when power is applied to one (1) of the first electrodes; and
A plasma generating device comprising a; a protective layer formed to surround at least a portion of the first electrode and the second electrode.
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