KR20210094701A - 광학 측정 장치 - Google Patents

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김유진
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박종우
최영태
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Abstract

광학 측정 장치가 제공된다. 광학 측정 장치는 기준 대상의 또는 측정 대상의 광 파형을 측정하는 광 센서, 상기 광 센서로부터 상기 기준 대상의 제1 광 파형을 수신하여, 상기 제1 광 파형의 주파수 특성을 학습하는 학습기, 상기 제1 광 파형의 주파수 특성을 분석하여 주파수 필터를 생성하는 필터 생성기, 상기 광 센서로부터 상기 측정 대상의 제2 광 파형을 수신하여, 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 모델링하는 주파수 모델링부, 및 상기 주파수 모델링부의 출력 값과 상기 주파수 필터를 기초로 상기 제2 광 파형의 광 특성 지수를 산출하는 광 특성 검출부를 포함한다.

Description

광학 측정 장치{OPTICAL MEASUREMENT DEVICE}
본 발명은 표시 장치의 휘도 및 플리커를 측정하는 광학 측정 장치에 관한 것이다.
표시 장치는 영상을 표시하는 복수의 화소를 구비한 표시 패널, 화소들에 게이트 신호들을 공급하는 게이트 구동부, 및 화소들에 데이터 전압을 공급하는 데이터 구동부를 포함한다. 그리고, 복수의 화소는 발광 소자와, 발광 소자를 구동시키는 화소 회로로 이루어진다.
표시 장치는 복수의 프레임 내에서 리프레쉬 기간 및 홀드 기간을 통해 구동될 수 있다. 표시 장치의 화소 회로는 소비 전력을 감소시키기 위하여 저속 구동될 수 있고, 리프레쉬 기간의 주기가 증가할 수 있다. 그리고, 리프레쉬 기간의 주기가 증가함에 따라, 인접한 리프레쉬 기간 사이의 시간 간격이 증가할 수 있고, 리프레쉬 기간 중 일어나는 발광 소자의 휘도 감소가 시청자의 눈에 인지될 수 있다. 이에 따라, 저속 구동되는 화소는 휘도 감소 및 충전 지연으로 인하여 플리커(Flicker)가 발생하여 시감이 저하될 수 있다.
광학 측정 장치는 표시 장치의 제조 과정에서 표시 장치의 휘도 및 플리커를 측정할 수 있다. 종래의 광학 측정 장치는 저속 구동되는 표시 패널 또는 표시 모듈의 휘도를 측정할 수 있고, 플리커를 분석할 수 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 표시 패널 및 표시 구동부를 구비한 표시 모듈에서 방출되는 제1 광 파형의 주파수 특성을 학습함으로써, 표시 패널로부터 기인된 주파수 특성 및 표시 구동부로부터 기인된 주파수 특성을 학습할 수 있는 광학 측정 장치를 제공하고자 하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 표시 구동부에 의해 구동되는 표시 모듈에서 방출되는 제1 광 파형의 주파수 특성을 학습하고, 점등기에 의해 구동되는 표시 패널에서 방출되는 제2 광 파형을 측정하여, 제2 광 파형으로부터 제1 광 파형의 주파수 특성을 측정할 수 있는 광학 측정 장치를 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 해결하기 위한 일 실시예의 광학 측정 장치는 기준 대상의 또는 측정 대상의 광 파형을 측정하는 광 센서, 상기 광 센서로부터 상기 기준 대상의 제1 광 파형을 수신하여, 상기 제1 광 파형의 주파수 특성을 학습하는 학습기, 상기 제1 광 파형의 주파수 특성을 분석하여 주파수 필터를 생성하는 필터 생성기, 상기 광 센서로부터 상기 측정 대상의 제2 광 파형을 수신하여, 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 모델링하는 주파수 모델링부, 및 상기 주파수 모델링부의 출력 값과 상기 주파수 필터를 기초로 상기 제2 광 파형의 광 특성 지수를 산출하는 광 특성 검출부를 포함한다.
상기 기준 대상은 제1 표시 패널, 및 상기 제1 표시 패널에 소정의 구동 주파수에 따라 데이터 전압을 공급하는 표시 구동부를 포함하는 표시 모듈일 수 있다.
상기 학습기는 상기 제1 광 파형을 수신하여 주파수 도메인으로 변환하는 도메인 변환부, 상기 제1 도메인 변환부의 출력 값에 적어도 하나의 가중치 필터를 적용하는 가중치 적용부, 및 상기 가중치 적용부의 출력 값을 기초로 상기 제1 광 파형의 종류를 구분하는 분류부를 포함할 수 있다.
상기 제1 도메인 변환부는 패스트 퓨리에 변환(Fast Fourier Transform)을 이용하여 상기 제1 광 파형의 도메인을 변환할 수 있다.
상기 적어도 하나의 가중치 필터는 상기 제1 광 파형의 주파수 성분들 각각에 대응되는 복수의 가중치를 포함할 수 있다.
상기 가중치 적용부는 상기 적어도 하나의 가중치 필터의 출력 값에 활성화 함수를 적용할 수 있다.
상기 학습기는 상기 측정 대상의 제2 광 파형을 수신하여, 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 학습할 수 있다.
상기 학습기는 상기 제1 광 파형 또는 상기 제2 광 파형을 주파수 도메인으로 변환하고 적어도 하나의 가중치 필터를 적용하여, 상기 제1 광 파형 또는 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 학습할 수 있다.
상기 필터 생성기는 복수의 기준 대상 각각에 대한 상기 제1 도메인 변환부의 출력 값을 기초로 상기 복수의 기준 대상의 제1 광 파형들의 주파수 도메인 값의 범위를 산출하고, 상기 산출된 값을 시간 도메인으로 변환하여 주파수 필터를 생성할 수 있다.
상기 필터 생성기는 상기 제1 광 파형 중 특정 주파수 대역을 통과시키는 대역 통과 필터(Band Pass Filter)를 생성할 수 있다.
상기 측정 대상은 점등기로부터 직류 전압을 공급 받아 광을 방출하는 제2 표시 패널일 수 있다.
상기 주파수 모델링부는 상기 제2 광 파형을 주파수 도메인으로 변환하여 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 모델링할 수 있다.
상기 광 특성 검출부는 상기 주파수 모델링부의 출력 값에 상기 주파수 필터 및 플리커 필터를 적용하여 상기 제2 광 파형의 플리커 지수를 산출할 수 있다.
상기 플리커 필터는 대비 감도 함수(Contrast Sensitivity Function)일 수 있다.
상기 과제를 해결하기 위한 일 실시예의 광학 측정 장치는 제1 표시 패널, 및 상기 제1 표시 패널에 소정의 구동 주파수에 따라 데이터 전압을 공급하는 표시 구동부를 구비한 제1 표시 모듈의 제1 광 파형을 수신하여, 상기 제1 광 파형의 주파수 특성을 학습하는 학습기, 상기 제1 광 파형의 주파수 특성을 분석하여 주파수 필터를 생성하는 필터링부, 점등기로부터 직류 전압을 공급 받은 제2 표시 패널의 제2 광 파형을 수신하여, 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 모델링하는 주파수 모델링부, 및 상기 주파수 모델링부의 출력 값과 상기 주파수 응답 필터를 기초로 상기 제2 광 파형의 광 특성 지수를 산출하는 광 특성 검출부를 포함한다.
상기 학습기는 상기 제1 광 파형을 수신하여 주파수 도메인으로 변환하는 도메인 변환부, 상기 제1 도메인 변환부의 출력 값에 적어도 하나의 가중치 필터를 적용하는 가중치 적용부, 및 상기 가중치 적용부의 출력 값을 기초로 상기 제1 광 파형의 종류를 구분하는 분류부를 포함할 수 있다.
상기 학습기는 상기 제2 표시 패널의 제2 광 파형을 수신하여, 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 학습할 수 있다.
상기 학습기는 상기 제1 광 파형 또는 상기 제2 광 파형을 주파수 도메인으로 변환하고 적어도 하나의 가중치 필터를 적용하여, 상기 제1 광 파형 또는 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 학습할 수 있다.
상기 광 특성 검출부는 상기 주파수 모델링부의 출력 값을 상기 주파수 필터 및 플리커 필터를 적용하여 상기 제2 광 파형의 플리커 지수를 산출할 수 있다.
상기 광 특성 검출부는 상기 제2 광 파형의 플리커 지수를 기초로 상기 제2 표시 패널, 및 상기 표시 구동부를 구비한 제2 표시 모듈의 플리커 특성을 해석할 수 있다.
기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
실시예들에 따른 광학 측정 장치에 의하면, 광학 측정 장치는 표시 구동부에 의해 구동되는 표시 모듈에서 방출되는 제1 광 파형의 주파수 특성을 학습함으로써, 표시 패널로부터 기인된 주파수 특성 및 표시 구동부로부터 기인된 주파수 특성을 학습할 수 있다.
실시예들에 따른 광학 측정 장치에 의하면, 광학 측정 장치는 점등기에 의해 구동되는 표시 패널에서 방출되는 제2 광 파형을 측정하여, 제2 광 파형으로부터 표시 구동부에 기인하는 광 특성 지수를 검출할 수 있다. 따라서, 광학 측정 장치는 제1 광 파형의 주파수 특성의 학습 결과를 이용하여, 제2 광 파형으로부터 제1 광 파형의 주파수 특성을 측정할 수 있고, 점등기에 의해 구동되는 표시 패널의 테스트 결과를 이용하여 표시 구동부에 의해 구동되는 표시 모듈의 테스트 과정을 생략할 수 있다. 광학 측정 장치는 표시 모듈의 학습이 완료된 이후부터 표시 모듈의 테스트 과정을 생략할 수 있고, 표시 장치 또는 표시 모듈의 제조 과정에서 비용과 시간을 절감시킬 수 있다.
실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 광학 측정 장치를 나타내는 도면이다.
도 2는 일 실시예에 따른 광학 측정 장치의 학습기를 나타내는 블록도이다.
도 3은 일 실시예에 따른 광학 측정 장치의 필터 생성기를 나타내는 블록도이다.
도 4는 도 1에 도시된 제1 표시 모듈을 나타내는 도면이다.
도 5는 도 1에 도시된 제2 표시 모듈을 나타내는 도면이다.
도 6은 일 실시예에 따른 광 특성 지수의 산출 과정을 나타내는 순서도이다.
도 7은 일 실시예에 따른 제1 광 파형의 주파수 도메인을 나타내는 그래프이다.
도 8은 일 실시예에 따른 학습기의 주파수 특성 학습 과정을 나타내는 도면이다.
도 9는 일 실시예에 따른 학습기의 주파수 특성 학습 과정을 나타내는 순서도이다.
도 10은 다른 실시예에 따른 학습기의 주파수 특성 학습 과정을 나타내는 순서도이다.
도 11은 일 실시예에 따른 제1 광 파형들의 주파수 도메인 값의 범위를 나타내는 그래프이다.
도 12는 일 실시예에 따른 주파수 필터를 나타내는 그래프이다.
도 13은 일 실시예에 따른 필터 생성기의 주파수 필터 생성 과정을 나타내는 순서도이다.
도 14는 일 실시예에 따른 플리커 필터를 나타내는 그래프이다.
도 15는 일 실시예에 따른 광 특성 검출부의 플리커 지수 산출 과정을 나타내는 도면이다.
도 16은 일 실시예에 따른 플리커 지수를 나타내는 그래프이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.
본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 구체적인 실시예들에 대해 설명한다.
도 1은 일 실시예에 따른 광학 측정 장치를 나타내는 도면이고, 도 2는 일 실시예에 따른 광학 측정 장치의 학습기를 나타내는 블록도이며, 도 3은 일 실시예에 따른 광학 측정 장치의 필터 생성기를 나타내는 블록도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 광학 측정 장치(10)는 조명 장치 또는 영상 표시 장치의 광 파형을 측정하여, 해당 광 파형의 광 특성 지수를 산출할 수 있다. 예를 들어, 광학 측정 장치(10)는 표시 패널 또는 표시 모듈의 광 파형을 측정하여, 해당 광 파형의 표시 패널에 기인하는 광 특성 지수, 표시 모듈에 기인하는 광 특성 지수, 또는 표시 구동부에 기인하는 광 특성 지수를 산출할 수 있다.
제1 표시 모듈(20)은 제1 표시 패널(21), 제1 회로 보드(22) 및 표시 구동부(23)를 포함할 수 있다. 제1 표시 패널(21)의 표시 영역(DA)은 데이터 라인들, 스캔 라인들, 전압 공급 라인들, 및 해당하는 데이터 라인과 스캔 라인에 연결된 복수의 화소를 포함할 수 있다. 제1 표시 패널(21)의 비표시 영역(NDA)은 스캔 라인들에 스캔 신호들을 인가하는 스캔 구동부(미도시), 및 표시 구동부(23)에 접속되는 패드들(PAD)을 포함할 수 있다.
제1 회로 보드(22)는 이방성 도전 필름을 이용하여 패드들(PAD) 상에 부착될 수 있다. 표시 구동부(23)는 제1 회로 보드(22) 상에 배치되어 제1 표시 패널(21)을 소정의 구동 주파수에 따라 구동시킬 수 있다. 예를 들어, 표시 구동부(23)는 집적 회로(IC)로 형성되어 제1 회로 보드(22) 상에 실장될 수 있다.
예를 들어, 표시 구동부(23)는 복수의 프레임 내에서 리프레쉬 기간 및 홀드 기간을 통해 제1 표시 패널(21)을 구동시킬 수 있다. 표시 구동부(23)는 리프레쉬 기간 동안 복수의 화소 각각의 데이터 전압을 초기화시킬 수 있다. 표시 구동부(23)는 리프레쉬 기간의 주기를 조절하여 데이터 전압의 초기화 속도 및 갱신 속도를 제어함으로써, 소비 전력을 저감시킬 수 있으며, 화소의 구동 트랜지스터 및 발광 소자의 열화를 방지할 수 있다. 예를 들어, 표시 구동부(23)는 데이터 전압의 갱신이 빠르게 이루어질 필요가 없는 정지 영상을 표시하는 경우, 데이터 전압의 초기화 속도 및 갱신 속도를 감소시켜 저속으로 구동될 수 있고, 소비 전력을 저감시킬 수 있다.
따라서, 제1 표시 모듈(20)은 표시 구동부(23)에 의해 구동됨으로써, 제1 표시 모듈(20)에서 방출되는 제1 광 파형(OW1)은 제1 표시 패널(21)로부터 기인된 주파수 특성, 및 표시 구동부(23)로부터 기인된 주파수 특성을 가질 수 있다. 광학 측정 장치(10)는 제1 표시 모듈(20)에서 방출되는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 학습함으로써, 제1 표시 패널(21)로부터 기인된 주파수 특성 및 표시 구동부(23)로부터 기인된 주파수 특성을 학습할 수 있다.
제2 표시 모듈(30)은 제2 표시 패널(31), 점등 패드부(32), 제2 회로 보드(33), 및 점등기(34)를 포함할 수 있다. 제2 표시 패널(31)의 표시 영역(DA)은 데이터 라인들, 스캔 라인들, 전압 공급 라인들, 및 해당하는 데이터 라인과 스캔 라인에 연결된 복수의 화소를 포함할 수 있다. 제2 표시 패널(31)의 비표시 영역(NDA)은 스캔 라인들에 스캔 신호들을 인가하는 스캔 구동부(미도시), 및 제2 패드들(PAD2)에 접속되는 제1 패드들(PAD1)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 표시 패널(31)은 제1 표시 패널(21)과 동일한 제원을 가질 수 있고, 제1 표시 패널(21)과 제2 표시 패널(31)는 표시 구동부(23) 또는 점등기(34)에 의해 구동되는 차이점을 가질 수 있다.
점등 패드부(32)는 제2 표시 패널(31)의 일 측에 배치될 수 있고, 점등 패드부(32)의 제2 패드들(PAD2)은 제2 표시 패널(31)의 제1 패드들(PAD1)에 접속될 수 있다. 점등 패드부(32)는 제2 표시 패널(31)의 테스트 과정에서 점등기(34)와 접속될 수 있고, 제2 표시 패널(31)의 테스트가 완료되면 제2 표시 패널(31)로부터 제거될 수 있다.
제2 회로 보드(33)는 이방성 도전 필름을 이용하여 제2 패드들(PAD2) 상에 부착될 수 있다. 점등기(34)는 제2 회로 보드(33) 및 제2 패드들(PAD2)을 통해 제2 표시 패널(31)에 점등 전압 또는 구동 전압을 공급할 수 있다. 예를 들어, 점등기(34)는 제2 표시 패널(31)의 데이터 라인들을 통해 복수의 화소 각각에 직류의 점등 전압을 공급할 수 있고, 제2 표시 패널(31)의 전압 공급 라인들을 통해 복수의 화소 각각에 직류의 구동 전압을 공급할 수 있다.
따라서, 제2 표시 모듈(30)은 점등기(34)에 의해 구동됨으로써, 제2 표시 모듈(30)에서 방출되는 제2 광 파형(OW2)은 제2 표시 패널(31)로부터 기인된 주파수 특성을 가질 수 있다.
제2 표시 패널(31)은 점등기(34)에 의해 구동되는 제2 표시 모듈(30)의 테스트가 완료된 후, 제1 표시 모듈(20)의 제1 표시 패널(21)로서 사용될 수 있다. 제2 표시 모듈(30)의 테스트가 완료된 후, 표시 구동부(23)에 의해 구동되는 제1 표시 모듈(20)의 테스트가 진행될 수 있다. 따라서, 제1 표시 모듈(20) 및 제2 표시 모듈(30)의 테스트가 모두 진행되는 경우, 제2 표시 모듈(30)의 테스트 결과에 따라 표시 패널에 기인하는 광 특성 지수를 검출할 수 있고, 제1 표시 모듈(20)의 테스트 결과에 따라 표시 구동부에 기인하는 광 특성 지수를 검출할 수 있다.
광학 측정 장치(10)는 기준 대상의 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 학습하여, 측정 대상의 제2 광 파형(OW2)에서 제1 광 파형(OW1)과 동일 또는 유사한 주파수 특성을 검출할 수 있다. 광학 측정 장치(10)는 제1 표시 모듈(20)에서 방출되는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 학습하여, 제2 표시 모듈(30)에서 방출되는 제2 광 파형(OW2)에서 제1 광 파형(OW1)과 동일 또는 유사한 주파수 특성을 측정할 수 있다. 따라서, 광학 측정 장치(10)는 주파수 특성의 학습 결과를 이용하여 제2 광 파형(OW2)으로부터 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 측정할 수 있고, 제2 표시 모듈(30)의 테스트 결과를 이용하여 제1 표시 모듈(20)의 테스트 과정을 생략할 수 있다. 광학 측정 장치(10)는 제1 표시 모듈(20)의 학습이 완료된 이후부터 제1 표시 모듈(20)의 테스트 과정을 생략할 수 있고, 표시 장치 또는 표시 모듈의 제조 과정에서 비용과 시간을 절감시킬 수 있다.
광학 측정 장치(10)는 광 센서(100), 학습기(200), 필터 생성기(300), 주파수 모델링부(400), 및 광 특성 검출부(500)를 포함할 수 있다.
광 센서(100)는 제1 또는 제2 표시 모듈(20, 30)과 직접 접촉하거나 제1 또는 제2 표시 모듈(20, 30)로부터 이격되어, 제1 표시 모듈(20)의 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 표시 모듈(30)의 제2 광 파형(OW2)을 측정할 수 있다. 예를 들어, 광 센서(100)는 제1 또는 제2 표시 모듈(20, 30)로부터 방출된 광의 휘도를 측정할 수 있고, 측정된 휘도를 전압으로 변환할 수 있다.
학습기(200)는 광 센서(100)로부터 기준 대상의 제1 광 파형(OW1)을 수신하여 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 학습할 수 있다. 학습기(200)는 광 센서(100)로부터 기준 대상의 제1 광 파형(OW1) 또는 측정 대상의 제2 광 파형(OW2)을 수신하여 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)의 주파수 특성을 학습할 수 있다. 학습기(200)는 광 센서(100)로부터 제1 표시 모듈(20)의 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 표시 모듈(30)의 제2 광 파형(OW2)을 수신하여 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)의 주파수 특성을 학습할 수 있다. 학습기(200)는 제1 도메인 변환부(210), 가중치 적용부(220), 및 분류부(230)를 포함할 수 있다.
제1 도메인 변환부(210)는 광 센서(100)로부터 제1 광 파형(OW1)을 수신하여 주파수 도메인으로 변환할 수 있다. 제1 광 파형(OW1)은 시간 도메인으로 표현될 수 있고, 제1 도메인 변환부(210)는 시간 도메인의 제1 광 파형(OW1)을 주파수 도메인으로 변환할 수 있다. 따라서, 제1 도메인 변환부(210)는 제1 광 파형(OW1)을 주파수 별 크기 값으로 표현할 수 있다. 예를 들어, 제1 도메인 변환부(210)는 패스트 퓨리에 변환(Fast Fourier Transform, FFT)을 이용하여 제1 광 파형(OW1)의 도메인을 변환할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
가중치 적용부(220)는 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값에 적어도 하나의 가중치 필터를 적용할 수 있다. 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값은 제1 광 파형(OW1)의 주파수 도메인 값일 수 있다. 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값은 제1 광 파형(OW1)의 주파수 별 크기 값을 가질 수 있다. 가중치 적용부(220)는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 도메인 값에 주파수 별 가중치를 적용함으로써, 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 추출할 수 있다. 따라서, 학습기(200)는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 용이하게 파악할 수 있다.
가중치 적용부(220)는 적어도 하나의 가중치 필터를 포함할 수 있다. 예를 들어, 가중치 적용부(220)는 제1 및 제2 가중치 필터를 포함할 수 있다. 제1 가중치 필터와 제2 가중치 필터 각각은 복수의 주파수 각각에 대하여 서로 다른 가중치를 가질 수 있다. 제1 및 제2 가중치 필터 각각의 가중치 값은 광학 측정 장치(10)의 용도 및 목적에 따라 기 설정될 수 있다. 예를 들어, 제1 및 제2 가중치 필터 각각의 가중치 값은 사용자에 의해 기 설정될 수 있다. 다른 예를 들어, 제1 및 제2 가중치 필터 각각의 가중치 값은 주파수 특성의 반복된 학습에 따라 갱신될 수 있다. 또 다른 예를 들어, 제1 및 제2 가중치 필터 각각의 가중치 값은 사용자에 의해 기 설정된 후 사용자에 의해 변경될 수 있으며, 주파수 특성의 학습 결과를 반영할 수 있다.
가중치 적용부(220)는 적어도 하나의 가중치 필터의 출력 값에 활성화 함수를 적용할 수 있다. 예를 들어, 활성화 함수는 소정의 주파수(fk, k는 1 이상의 자연수)에 대한 가중치 필터의 출력 값이 1에 가까운 경우 1의 값(h(fk)=1)을 출력할 수 있고, 소정의 주파수(fk)에 대한 가중치 필터의 출력 값이 0에 가까운 경우 0의 값(h(fk)=0)을 출력할 수 있다. 다른 예를 들어, 활성화 함수는 제1 표시 모듈(20)의 제1 광 파형(OW1)에 대한 주파수 특성을 학습하는 경우, 1의 값(h(fk)=1)을 출력할 수 있고, 제2 표시 모듈(30)의 제2 광 파형(OW2)에 대한 주파수 특성을 학습하는 경우, 0의 값(h(fk)=0)을 출력할 수 있다. 따라서, 가중치 적용부(220)는 활성화 함수를 이용하여 가중치 적용부(220)의 출력을 비선형 값으로 변경시킬 수 있다.
분류부(230)는 가중치 적용부(220)의 출력 값을 기초로 제1 광 파형(OW1)의 종류를 구분할 수 있다. 또는, 분류부(230)는 가중치 적용부(220)의 출력 값을 기초로 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)의 종류를 구분할 수 있다. 예를 들어, 분류부(230)는 가중치 적용부(220)의 출력 값이 1인 경우, 해당 광 파형이 제1 표시 모듈(20)의 광 파형임을 판단할 수 있다. 분류부(230)는 가중치 적용부(220)의 출력 값이 0인 경우, 해당 광 파형이 제2 표시 모듈(30)의 광 파형임을 판단할 수 있다.
따라서, 학습기(200)는 광 센서(100)로부터 기준 대상의 제1 광 파형(OW1) 또는 측정 대상의 제2 광 파형(OW2)을 수신하여 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)의 주파수 특성을 학습할 수 있다. 학습기(200)의 학습 결과는 필터 생성기(300)의 필터 생성 과정에 반영될 수 있다.
필터 생성기(300)는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 분석하여 주파수 필터를 생성할 수 있다. 필터 생성기(300)는 복수의 기준 대상 각각에 대한 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값을 기초로 복수의 기준 대상의 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 도메인 값의 범위를 산출하고, 산출된 값을 시간 도메인으로 변환하여 주파수 필터를 생성할 수 있다. 예를 들어, 필터 생성기(300)는 복수의 제1 표시 모듈(20) 각각에 대한 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값을 기초로 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 도메인 값의 범위를 산출할 수 있고, 산출된 값을 시간 도메인으로 변환하여 주파수 필터를 생성할 수 있다.
필터 생성기(300)는 주파수 도메인 수신부(310), 범위 산출부(320), 및 제2 도메인 변환부(330)를 포함할 수 있다.
주파수 도메인 수신부(310)는 복수의 기준 대상 각각에 대한 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값을 수신하여 범위 산출부(320)에 공급할 수 있다. 예를 들어, 주파수 도메인 수신부(310)는 복수의 제1 표시 모듈(20) 각각에 대한 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값을 수신할 수 있다. 따라서, 주파수 도메인 수신부(310)는 복수의 제1 광 파형(OW1) 각각의 주파수 도메인 값을 수신하여 범위 산출부(320)에 공급할 수 있다.
범위 산출부(320)는 복수의 기준 대상의 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 도메인 값의 범위를 산출할 수 있다. 범위 산출부(320)는 복수의 제1 표시 모듈(20) 각각의 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 도메인 값의 범위를 산출할 수 있다. 예를 들어, 범위 산출부(320)는 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 별 크기의 범위를 산출할 수 있다. 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 별 크기의 범위는 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 도메인 값의 통계적 주파수 특성에 해당할 수 있다.
제2 도메인 변환부(330)는 범위 산출부(320)의 출력 값을 시간 도메인으로 변환하여 주파수 필터를 생성할 수 있다. 범위 산출부(320)의 출력 값은 주파수 도메인으로 표현될 수 있고, 제2 도메인 변환부(330)는 주파수 별 크기의 범위를 시간 도메인으로 변환할 수 있다. 따라서, 제2 도메인 변환부(330)는 시간 도메인으로 표현된 주파수 필터를 생성할 수 있다. 예를 들어, 제2 도메인 변환부(330)는 역 패스트 퓨리에 변환(Inverse Fast Fourier Transform, IFFT)을 이용하여 범위 산출부(320)의 출력 값의 도메인을 변환할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
예를 들어, 필터 생성기(300)의 주파수 필터는 제1 광 파형(OW1) 중 특정 주파수 대역을 통과시키는 대역 통과 필터(Band Pass Filter)일 수 있다. 다른 예를 들어, 필터 생성기(300)의 주파수 필터는 저역 통과 필터(Low Pass Filter), 고역 통과 필터(High Pass Filter), 대역 소거 필터(Band Stop Filter), 또는 전역 통과 필터(All Pass Filter)일 수 있다.
주파수 모델링부(400)는 광 센서(100)로부터 측정 대상의 제2 광 파형(OW2)을 수신하여, 제2 광 파형(OW2)의 주파수 특성을 모델링할 수 있다. 주파수 모델링부(400)는 광 센서(100)로부터 제2 표시 모듈(30)의 제2 광 파형(OW2)을 수신하여 주파수 도메인으로 변환할 수 있다. 제2 광 파형(OW2)은 시간 도메인으로 표현될 수 있고, 주파수 모델링부(400)는 시간 도메인의 제2 광 파형(OW2)을 주파수 도메인으로 변환할 수 있다. 따라서, 주파수 모델링부(400)는 제2 광 파형(OW2)을 주파수 별 크기 값으로 표현할 수 있다. 예를 들어, 주파수 모델링부(400)는 패스트 퓨리에 변환(Fast Fourier Transform, FFT)을 이용하여 제2 광 파형(OW2)의 도메인을 변환할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
광 특성 검출부(500)는 주파수 모델링부(400)의 출력 값과 필터 생성기(300)에 의해 생성된 주파수 필터를 기초로 제2 광 파형(OW2)의 광 특성 지수를 산출할 수 있다. 여기에서, 제2 광 파형(OW2)의 광 특성 지수는 제2 광 파형(OW2)이 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 갖는 정도를 의미한다. 예를 들어, 제2 광 파형(OW2)의 광 특성 지수가 높을수록, 제2 광 파형(OW2)은 제1 광 파형(OW1)과 유사한 주파수 특성을 가질 수 있다. 또한, 제2 광 파형(OW2)의 광 특성 지수가 높은 경우, 제2 표시 모듈(30)의 제2 광 파형(OW2)과 제1 표시 모듈(20)의 제1 광 파형(OW1)은 유사한 주파수 특성을 가질 수 있다.
광 특성 검출부(500)는 주파수 모델링부(400)의 출력 값에 주파수 필터 및 플리커 필터를 적용하여 제2 광 파형(OW2)의 플리커 지수를 산출할 수 있다. 여기에서, 제2 광 파형(OW2)의 플리커 지수는 제2 광 파형(OW2)에서 발생된 플리커 현상이 표시 구동부(23)로부터 기인하는 정도를 의미한다. 예를 들어, 플리커 필터는 대비 감도 함수(Contrast Sensitivity Function)일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 제2 광 파형(OW2)의 플리커 지수가 높을수록, 표시 구동부(23)에 의한 제2 광 파형(OW2)의 플리커 발생 정도가 증가할 수 있다.
따라서, 광학 측정 장치(10)는 주파수 특성의 학습 결과를 이용하여 제2 광 파형(OW2)으로부터 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 측정할 수 있고, 제2 표시 모듈(30)의 테스트 결과를 이용하여 제1 표시 모듈(20)의 테스트 과정을 생략할 수 있다. 광학 측정 장치(10)는 제1 표시 모듈(20)의 학습이 완료된 이후부터 제1 표시 모듈(20)의 테스트 과정을 생략할 수 있고, 표시 장치 또는 표시 모듈의 제조 과정에서 비용과 시간을 절감시킬 수 있다.
광학 측정 장치(10)는 제어부(미도시)를 더 포함할 수 있다. 제어부는 중앙 처리 장치로서, 광학 측정 장치(10)의 전반적인 동작을 제어하고, 사용자의 조작 또는 제어에 따른 기능을 수행할 수 있다. 예를 들어, 제어부는 광 센서(100), 학습기(200), 필터 생성기(300), 주파수 모델링부(400), 및 광 특성 검출부(500)의 동작과 이들 사이의 신호 전송을 제어할 수 있다. 제어부는 외부로부터 입력된 입력 신호 또는 데이터를 처리할 수 있다.
광학 측정 장치(10)는 메모리(미도시)를 더 포함할 수 있다. 메모리는 광학 측정 장치(10)의 운영 시스템, 복수의 어플리케이션, 및 외부로부터 입력된 데이터를 저장할 수 있다. 메모리는 광 특성 지수의 산출 알고리즘 및 데이터 등을 저장할 수 있다. 예를 들어, 메모리는 주파수 특성의 학습 정보, 광학 측정 장치(10)에서 사용되는 필터 정보, 및 광 특성 지수의 산출 알고리즘 정보를 저장할 수 있다. 메모리에 저장된 정보는 반복되는 주파수 특성의 학습에 따라 업데이트될 수 있다.
도 4는 도 1에 도시된 제1 표시 모듈을 나타내는 도면이다.
도 4를 참조하면, 제1 표시 모듈(20)은 제1 표시 패널(21), 제1 회로 보드(22) 및 표시 구동부(23)를 포함할 수 있다.
제1 표시 패널(21)은 제1 방향(X축 방향)의 단변과 제1 방향(X축 방향)과 교차하는 제2 방향(Y축 방향)의 장변을 갖는 직사각형 형태의 평면으로 형성될 수 있다. 제1 방향(X축 방향)의 단변과 제2 방향(Y축 방향)의 장변이 만나는 모서리(Corner)는 소정의 곡률을 갖도록 둥글게 형성되거나 직각으로 형성될 수 있다. 제1 표시 패널(21)의 평면 형태는 사각형에 한정되지 않고, 다른 다각형, 원형 또는 타원형으로 형성될 수 있다. 제1 표시 패널(21)은 평탄하게 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않으며, 좌우측 끝단에 형성되며, 일정한 곡률을 갖거나 변화하는 곡률을 갖는 곡면부를 포함할 수 있다. 이외에, 제1 표시 패널(21)은 구부러지거나, 휘어지거나, 벤딩되거나, 접히거나, 말릴 수 있도록 유연하게 형성될 수 있다.
제1 표시 패널(21)은 화소들(SP)이 형성되어 영상을 표시하는 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)의 주변 영역인 비표시 영역(NDA)을 포함할 수 있다. 표시 영역(DA)은 화소들(SP), 화소들(SP)에 접속되는 스캔 라인들(SL), 발광 제어 라인들(EL), 데이터 라인들(DL), 및 전압 공급 라인들(VL)을 포함할 수 있다. 스캔 라인들(SL)과 발광 제어 라인들(EL)은 제1 방향(X축 방향)으로 나란하게 형성되고, 데이터 라인들(DL)과 전압 공급 라인들(VL)은 제1 방향(X축 방향)과 교차하는 제2 방향(Y축 방향)으로 나란하게 형성될 수 있다.
화소들(SP) 각각은 적어도 하나의 스캔 라인(SL), 적어도 하나의 데이터 라인(DL), 적어도 하나의 발광 제어 라인(EL), 및 적어도 하나의 전압 공급 라인(VL)에 접속될 수 있다. 화소들(SP) 각각은 2 개의 스캔 라인들(SL), 1 개의 데이터 라인(DL), 1 개의 발광 제어 라인(EL), 및 전압 공급 라인(VL)에 접속될 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 다른 예를 들어, 화소들(SP) 각각은 3 개의 스캔 라인들(SL)에 접속될 수도 있다.
화소들(SP) 각각은 구동 트랜지스터, 적어도 하나의 스위칭 트랜지스터, 발광 소자, 및 적어도 하나의 커패시터를 포함할 수 있다. 스위칭 트랜지스터는 스캔 라인(SL)으로부터 스캔 신호가 인가되는 경우 턴-온될 수 있고, 이로 인해 데이터 라인(DL)의 데이터 전압은 구동 트랜지스터의 게이트 전극에 인가될 수 있다. 구동 트랜지스터는 게이트 전극에 인가된 데이터 전압에 따라 발광 소자에 구동 전류를 공급할 수 있고, 발광 소자는 구동 전류의 크기에 따라 소정의 휘도를 갖는 광을 방출할 수 있다. 예를 들어, 구동 트랜지스터와 적어도 하나의 스위칭 트랜지스터는 박막 스위칭 트랜지스터(Thin Film Transistor)일 수 있다. 발광 소자는 제1 전극, 유기 발광층, 및 제2 전극을 포함하는 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode)일 수 있다. 커패시터는 구동 트랜지스터의 게이트 전극에 인가된 데이터 전압을 일정하게 유지할 수 있다.
비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)의 바깥쪽에서부터 제1 표시 패널(21)의 가장자리까지의 영역으로 정의될 수 있다. 비표시 영역(NDA)은 스캔 라인들(SL)에 스캔 신호들을 인가하는 스캔 구동부(24), 및 표시 구동부(23)에 접속되는 패드들(DP)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 패드들(DP)은 제1 표시 패널(21)의 일 측 가장자리에 배치될 수 있다.
제1 회로 보드(22)는 이방성 도전 필름(Anisotropic Conductive Film)을 이용하여 패드들(PAD) 상에 부착될 수 있다. 이로 인해, 제1 회로 보드(22)의 리드 라인들은 패드들(PAD)에 전기적으로 연결될 수 있다. 제1 회로 보드(22)는 연성 인쇄 회로 보드(Flexible Prinited Circuit Board), 인쇄 회로 보드(Printed Circuit Board) 또는 칩 온 필름(Chip on Film)과 같은 연성 필름(Flexible Film)일 수 있다.
표시 구동부(23)는 제1 회로 보드(22) 상에 배치되어 제1 표시 패널(21)을 소정의 구동 주파수에 따라 구동시킬 수 있다. 표시 구동부(23)는 복수의 스캔 제어 라인(SCL)을 통해 스캔 제어 신호(SCS)를 스캔 구동부(24)에 공급할 수 있다. 표시 구동부(23)는 전압 공급 라인들(VL)을 통해 제1 구동 전압(VDD), 제2 구동 전압(VSS), 및 초기화 전압(Vint)을 복수의 화소들(SP)에 공급할 수 있다. 표시 구동부(23)는 데이터 라인(DL)을 통해 데이터 전압(VDR, VDG, VDB)을 복수의 화소들(SP)에 공급할 수 있다. 예를 들어, 표시 구동부(23)는 집적 회로(IC)로 형성되어 제1 회로 보드(22) 상에 실장될 수 있다.
예를 들어, 표시 구동부(23)는 복수의 프레임 내에서 리프레쉬 기간 및 홀드 기간을 통해 제1 표시 패널(21)을 구동시킬 수 있다. 표시 구동부(23)는 리프레쉬 기간 동안 복수의 화소 각각의 데이터 전압을 초기화시킬 수 있다. 표시 구동부(23)는 리프레쉬 기간의 주기를 조절하여 데이터 전압의 초기화 속도 및 갱신 속도를 제어함으로써, 소비 전력을 저감시킬 수 있으며, 화소의 구동 트랜지스터 및 발광 소자의 열화를 방지할 수 있다. 예를 들어, 표시 구동부(23)는 데이터 전압의 갱신이 빠르게 이루어질 필요가 없는 정지 영상을 표시하는 경우, 데이터 전압의 초기화 속도 및 갱신 속도를 감소시켜 저속으로 구동될 수 있고, 소비 전력을 저감시킬 수 있다.
따라서, 제1 표시 모듈(20)은 표시 구동부(23)에 의해 구동됨으로써, 제1 표시 모듈(20)에서 방출되는 제1 광 파형(OW1)은 제1 표시 패널(21)로부터 기인된 주파수 특성, 및 표시 구동부(23)로부터 기인된 주파수 특성을 가질 수 있다. 광학 측정 장치(10)는 제1 표시 모듈(20)에서 방출되는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 학습함으로써, 제1 표시 패널(21)로부터 기인된 주파수 특성 및 표시 구동부(23)로부터 기인된 주파수 특성을 학습할 수 있다.
스캔 구동부(24)는 복수의 스캔 제어 라인(SCL)을 통해 표시 구동부(23)에 접속될 수 있다. 스캔 구동부(24)는 복수의 스캔 제어 라인(SCL)을 통해 표시 구동부(23)로부터 스캔 제어 신호(SCS)를 입력 받을 수 있다.
도 5는 도 1에 도시된 제2 표시 모듈을 나타내는 도면이다. 여기에서, 도 5의 제2 표시 패널(31)은 도 4의 제1 표시 패널(21)과 동일한 제원을 갖는 것으로서, 전술한 구성과 동일한 구성은 간략히 설명하거나 생략하기로 한다.
도 5를 참조하면, 제2 표시 모듈(30)은 제2 표시 패널(31), 점등 패드부(32), 제2 회로 보드(33), 점등기(34), 및 스캔 구동부(35)를 포함할 수 있다. 제2 표시 패널(31)의 표시 영역(DA)은 데이터 라인들, 스캔 라인들, 전압 공급 라인들, 및 해당하는 데이터 라인과 스캔 라인에 연결된 복수의 화소를 포함할 수 있다. 제2 표시 패널(31)의 비표시 영역(NDA)은 스캔 라인들에 스캔 신호들을 인가하는 스캔 구동부(35), 및 제2 패드들(PAD2)에 접속되는 제1 패드들(PAD1)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 표시 패널(31)은 제1 표시 패널(21)과 동일한 제원을 가질 수 있고, 제1 표시 패널(21)과 제2 표시 패널(31)는 표시 구동부(23) 또는 점등기(34)에 의해 구동되는 차이점을 가질 수 있다.
점등 패드부(32)는 제2 표시 패널(31)의 일 측에 배치될 수 있고, 점등 패드부(32)의 제2 패드들(PAD2)은 제2 표시 패널(31)의 제1 패드들(PAD1)에 접속될 수 있다. 점등 패드부(32)는 제2 표시 패널(31)의 테스트 과정에서 점등기(34)와 접속될 수 있고, 제2 표시 패널(31)의 테스트가 완료되면 제2 표시 패널(31)로부터 제거될 수 있다.
제2 회로 보드(33)는 이방성 도전 필름을 이용하여 제2 패드들(PAD2) 상에 부착될 수 있다. 점등기(34)는 제2 회로 보드(33) 및 제2 패드들(PAD2)을 통해 제2 표시 패널(31)에 점등 전압 또는 구동 전압을 공급할 수 있다. 예를 들어, 점등기(34)는 복수의 스캔 제어 라인(SCL)을 통해 스캔 제어 신호(SCS)를 스캔 구동부(35)에 공급할 수 있다. 점등기(34)는 전압 공급 라인들(VL)을 통해 제1 구동 전압(VDD), 제2 구동 전압(VSS), 및 초기화 전압(Vint)을 복수의 화소들(SP)에 공급할 수 있다. 점등기(34)는 데이터 라인(DL)을 통해 직류의 점등 전압(DCR, DCG, DCB)을 복수의 화소들(SP)에 공급할 수 있다. 따라서, 제2 표시 모듈(30)은 점등기(34)에 의해 구동됨으로써, 제2 표시 모듈(30)에서 방출되는 제2 광 파형(OW2)은 제2 표시 패널(31)로부터 기인된 주파수 특성을 가질 수 있다.
제2 표시 패널(31)은 점등기(34)에 의해 구동되는 제2 표시 모듈(30)의 테스트가 완료된 후, 제1 표시 모듈(20)의 제1 표시 패널(21)로서 사용될 수 있다. 제2 표시 모듈(30)의 테스트가 완료된 후, 표시 구동부(23)에 의해 구동되는 제1 표시 모듈(20)의 테스트가 진행될 수 있다. 따라서, 제1 표시 모듈(20) 및 제2 표시 모듈(30)의 테스트가 모두 진행되는 경우, 제2 표시 모듈(30)의 테스트 결과에 따라 표시 패널에 기인하는 광 특성 지수를 검출할 수 있고, 제1 표시 모듈(20)의 테스트 결과에 따라 표시 구동부에 기인하는 광 특성 지수를 검출할 수 있다.
스캔 구동부(35)는 복수의 스캔 제어 라인(SCL)을 통해 점등기(34)에 접속될 수 있다. 스캔 구동부(35)는 복수의 스캔 제어 라인(SCL)을 통해 점등기(34)로부터 스캔 제어 신호(SCS)를 입력 받을 수 있다.
도 6은 일 실시예에 따른 광 특성 지수의 산출 과정을 나타내는 순서도이다.
도 6을 참조하면, 광 센서(100)는 제1 표시 모듈(20)과 직접 접촉하거나 제1 표시 모듈(20)로부터 이격되어, 제1 표시 모듈(20)의 제1 광 파형(OW1)을 측정할 수 있다(단계 S110). 예를 들어, 광 센서(100)는 제1 표시 모듈(20)로부터 방출된 광의 휘도를 측정할 수 있고, 측정된 휘도를 전압으로 변환할 수 있다.
학습기(200)는 광 센서(100)로부터 기준 대상의 제1 광 파형(OW1)을 수신하여 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 학습할 수 있다(단계 S120). 예를 들어, 학습기(200)는 광 센서(100)로부터 제1 표시 모듈(20)의 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 표시 모듈(30)의 제2 광 파형(OW2)을 수신하여 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)의 주파수 특성을 학습할 수 있다.
필터 생성기(300)는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 분석하여 주파수 필터를 생성할 수 있다(단계 S130). 예를 들어, 필터 생성기(300)는 복수의 제1 표시 모듈(20) 각각에 대한 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값을 기초로 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 도메인 값의 범위를 산출할 수 있고, 산출된 값을 시간 도메인으로 변환하여 주파수 필터를 생성할 수 있다.
광 센서(100)는 제2 표시 모듈(30)과 직접 접촉하거나 제2 표시 모듈(30)로부터 이격되어, 제2 표시 모듈(30)의 제2 광 파형(OW2)을 측정할 수 있다(단계 S140). 예를 들어, 광 센서(100)는 제2 표시 모듈(30)로부터 방출된 광의 휘도를 측정할 수 있고, 측정된 휘도를 전압으로 변환할 수 있다.
주파수 모델링부(400)는 광 센서(100)로부터 측정 대상의 제2 광 파형(OW2)을 수신하여, 제2 광 파형(OW2)의 주파수 특성을 모델링할 수 있다(단계 S150). 주파수 모델링부(400)는 제2 표시 모듈(30)의 제2 광 파형(OW2)을 주파수 도메인으로 변환함으로써, 제2 광 파형(OW2)을 주파수 별 크기 값으로 표현할 수 있다.
광 특성 검출부(500)는 주파수 모델링부(400)의 출력 값과 필터 생성기(300)에 의해 생성된 주파수 필터를 기초로 제2 광 파형(OW2)의 광 특성 지수를 산출할 수 있다(단계 S160). 예를 들어, 광 특성 검출부(500)는 주파수 모델링부(400)의 출력 값에 주파수 필터 및 플리커 필터를 적용하여 제2 광 파형(OW2)의 플리커 지수를 산출할 수 있다.
도 7은 일 실시예에 따른 제1 광 파형의 주파수 도메인을 나타내는 그래프이고, 도 8은 일 실시예에 따른 학습기의 주파수 특성 학습 과정을 나타내는 도면이다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 제1 도메인 변환부(210)는 광 센서(100)로부터 제1 광 파형(OW1)을 수신하여 주파수 도메인(FD1)으로 변환할 수 있다. 제1 도메인 변환부(210)는 광 센서(100)로부터 복수의 기준 대상의 제1 광 파형(OW1)을 수신할 수 있다. 여기에서, 복수의 기준 대상은 주파수 특성의 학습에 사용될 복수의 제1 표시 모듈(20)일 수 있다. 예를 들어, 주파수 특성 학습에 사용되는 기준 대상의 수는 수백 또는 수천 개일 수 있으나, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 제1 내지 제3 기준 대상(MOD1, MOD2, MOD3)을 예로 설명한다.
도 7에서, 제1 기준 대상(MOD1)은 10Hz의 구동 주파수에 따라 구동된 하나의 제1 표시 모듈(20)에 해당할 수 있고, 제2 기준 대상(MOD2)은 10Hz의 구동 주파수에 따라 구동된 다른 하나의 제1 표시 모듈(20)에 해당할 수 있으며, 제3 기준 대상(MOD3)은 30Hz의 구동 주파수에 따라 구동된 또 다른 하나의 제1 표시 모듈(20)에 해당할 수 있다. 제1 및 제2 기준 대상(MOD1, MOD2) 각각의 주파수 도메인(FD1)은 10Hz의 배수마다 피크 값을 가질 수 있고, 제3 기준 대상(MOD3)의 주파수 도메인(FD1)은 30Hz의 배수마다 피크 값을 가질 수 있다. 따라서, 제1 내지 제3 기준 대상(MOD1, MOD2, MOD3) 각각의 주파수 도메인(FD1)은 구동 주파수의 배수마다 피크 값을 가질 수 있다. 제1 내지 제3 기준 대상(MOD1, MOD2, MOD3) 각각의 제1 내지 제3 주파수 파형(FW1, FW2, FW3)은 구동 주파수의 배수마다 배치된 피크 값을 이어 곡선으로 표현할 수 있다.
도 8에서, 제1 도메인 변환부(210)는 제1 기준 대상(MOD1)의 제1 광 파형(OW1)을 수신하여 주파수 도메인(FD1)으로 변환할 수 있다. 제1 기준 대상(MOD1)의 주파수 도메인(FD1)은 10Hz의 배수마다 피크 값을 가질 수 있다. 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값은 제1 기준 대상(MOD1)의 제1 광 파형(OW1)의 주파수 별 크기 값을 가질 수 있다.
가중치 적용부(220)는 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값에 적어도 하나의 가중치 필터를 적용할 수 있다. 가중치 적용부(220)는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 도메인 값에 주파수 별 가중치를 적용함으로써, 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 추출할 수 있다. 따라서, 학습기(200)는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 용이하게 파악할 수 있다.
가중치 적용부(220)는 제1 및 제2 가중치 필터(WT1, WT2)를 포함할 수 있다. 제1 및 제2 가중치 필터(WT1, WT2) 각각은 복수의 주파수(f1~fk, k는 1 이상의 자연수) 각각에 대하여 서로 다른 가중치를 가질 수 있다. 제1 가중치 필터(WT1)는 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값에 주파수 별 가중치를 적용할 수 있고, 제2 가중치 필터(WT2)는 제1 가중치 필터(WT1)의 출력 값에 주파수 별 가중치를 적용할 수 있다. 제1 및 제2 가중치 필터(WT1, WT2) 각각의 가중치 값은 광학 측정 장치(10)의 용도 및 목적에 따라 기 설정될 수 있다. 예를 들어, 제1 및 제2 가중치 필터(WT1, WT2) 각각의 가중치 값은 사용자에 의해 기 설정될 수 있다. 다른 예를 들어, 제1 및 제2 가중치 필터(WT1, WT2) 각각의 가중치 값은 주파수 특성의 반복된 학습에 따라 갱신될 수 있다. 또 다른 예를 들어, 제1 및 제2 가중치 필터(WT1, WT2) 각각의 가중치 값은 사용자에 의해 기 설정된 후 사용자에 의해 변경될 수 있으며, 주파수 특성의 학습 결과를 반영할 수 있다.
가중치 적용부(220)는 제2 가중치 필터(WT2)의 출력 값에 활성화 함수(ACT)를 적용할 수 있다. 예를 들어, 활성화 함수(ACT)는 소정의 주파수(fk, k는 1 이상의 자연수)에 대한 제2 가중치 필터(WT2)의 출력 값이 1에 가까운 경우 1의 값(h(fk)=1)을 출력할 수 있고, 소정의 주파수(fk)에 대한 제2 가중치 필터(WT2)의 출력 값이 0에 가까운 경우 0의 값(h(fk)=0)을 출력할 수 있다. 다른 예를 들어, 활성화 함수(ACT)는 제1 표시 모듈(20)의 제1 광 파형(OW1)에 대한 주파수 특성을 학습하는 경우, 1의 값(h(fk)=1)을 출력할 수 있고, 제2 표시 모듈(30)의 제2 광 파형(OW2)에 대한 주파수 특성을 학습하는 경우, 0의 값(h(fk)=0)을 출력할 수 있다. 따라서, 가중치 적용부(220)는 활성화 함수(ACT)를 이용하여 가중치 적용부(220)의 출력을 비선형 값으로 변경시킬 수 있다.
분류부(230)는 가중치 적용부(220)의 출력 값을 기초로 제1 광 파형(OW1)의 종류를 구분할 수 있다. 또는, 분류부(230)는 가중치 적용부(220)의 출력 값을 기초로 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)의 종류를 구분할 수 있다. 예를 들어, 분류부(230)는 가중치 적용부(220)의 출력 값이 1인 경우, 해당 광 파형이 제1 표시 모듈(20)의 제1 광 파형(OW1)임을 판단할 수 있다. 분류부(230)는 가중치 적용부(220)의 출력 값이 0인 경우, 해당 광 파형이 제2 표시 모듈(30)의 제2 광 파형(OW2)임을 판단할 수 있다.
도 9는 일 실시예에 따른 학습기의 주파수 특성 학습 과정을 나타내는 순서도이다.
도 9를 참조하면, 제1 도메인 변환부(210)는 광 센서(100)로부터 제1 광 파형(OW1)을 수신할 수 있고(단계 S210), 시간 도메인의 제1 광 파형(OW1)을 주파수 도메인으로 변환할 수 있다(단계 S220). 예를 들어, 제1 도메인 변환부(210)는 광 센서(100)로부터 복수의 기준 대상의 제1 광 파형(OW1)을 수신할 수 있다. 여기에서, 복수의 기준 대상은 주파수 특성의 학습에 사용될 복수의 제1 표시 모듈(20)일 수 있다.
가중치 적용부(220)는 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값에 적어도 하나의 가중치 필터를 적용할 수 있다(단계 S230). 가중치 적용부(220)는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 도메인 값에 주파수 별 가중치를 적용함으로써, 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 추출할 수 있다.
분류부(230)는 가중치 적용부(220)의 출력 값을 기초로 제1 광 파형(OW1)의 종류를 구분할 수 있다(단계 S240).
도 10은 다른 실시예에 따른 학습기의 주파수 특성 학습 과정을 나타내는 순서도이다.
도 10을 참조하면, 제1 도메인 변환부(210)는 광 센서(100)로부터 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)을 수신할 수 있다(단계 S310).
제1 도메인 변환부(210)는 시간 도메인의 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)을 주파수 도메인으로 변환할 수 있다(단계 S320). 예를 들어, 제1 도메인 변환부(210)는 광 센서(100)로부터 복수의 기준 대상의 제1 광 파형(OW1)을 수신할 수 있다. 제1 도메인 변환부(210)는 광 센서(100)로부터 복수의 측정 대상의 제2 광 파형(OW2)을 수신할 수 있다. 여기에서, 복수의 기준 대상은 주파수 특성의 학습에 사용될 복수의 제1 표시 모듈(20)일 수 있고, 복수의 측정 대상은 광 특성 지수를 산출하기 위한 제2 표시 모듈(30)일 수 있다.
가중치 적용부(220)는 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값에 적어도 하나의 가중치 필터를 적용할 수 있다(단계 S330). 가중치 적용부(220)는 제1 광 파형(OW1)의 주파수 도메인 값에 적어도 하나의 가중치 필터를 적용할 수 있고, 제2 광 파형(OW2)의 주파수 도메인 값에 적어도 하나의 가중치 필터를 적용할 수 있다. 가중치 적용부(220)는 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)의 주파수 도메인 값에 주파수 별 가중치를 적용함으로써, 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)의 주파수 특성을 추출할 수 있다.
분류부(230)는 가중치 적용부(220)의 출력 값을 기초로 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)의 종류를 구분할 수 있다(단계 S340).
학습기(200)는 분류부(230)의 구분 결과에 따라 해당 광 파형의 주파수 특성을 학습할 수 있다(단계 S350). 따라서, 학습기(200)는 광 센서(100)로부터 기준 대상의 제1 광 파형(OW1) 또는 측정 대상의 제2 광 파형(OW2)을 수신하여 제1 광 파형(OW1) 또는 제2 광 파형(OW2)의 주파수 특성을 학습할 수 있다. 학습기(200)의 학습 결과는 필터 생성기(300)의 필터 생성 과정에 반영될 수 있다.
도 11은 일 실시예에 따른 제1 광 파형들의 주파수 도메인 값의 범위를 나타내는 그래프이고, 도 12는 일 실시예에 따른 주파수 필터를 나타내는 그래프이다.
도 11 및 도 12를 참조하면, 필터 생성기(300)는 주파수 도메인 수신부(310), 범위 산출부(320), 및 제2 도메인 변환부(330)를 포함할 수 있다.
주파수 도메인 수신부(310)는 복수의 기준 대상 각각에 대한 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값을 수신하여 범위 산출부(320)에 공급할 수 있다. 예를 들어, 제1 도메인 변환부(210)가 제1 내지 제n 기준 대상 각각의 제1 광 파형(OW1)을 주파수 도메인(FD1)으로 변환한 경우, 제1 내지 제n 기준 대상 각각에 대한 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값은 복수의 피크 값을 가질 수 있다. 제1 내지 제n 기준 대상의 제1 내지 제n 주파수 파형(FW1~FWn)은 복수의 피크 값을 이어 곡선으로 표현할 수 있다.
범위 산출부(320)는 제1 내지 제n 기준 대상의 제1 내지 제n 주파수 파형(FW1~FWn)의 범위를 산출할 수 있다. 범위 산출부(320)는 제1 내지 제n 기준 대상의 제1 내지 제n 주파수 파형(FW1~FWn)의 범위(Range)를 산출할 수 있다. 예를 들어, 범위 산출부(320)는 제1 내지 제n 주파수 파형(FW1~FWn)의 주파수 별 크기의 범위(Range)를 산출할 수 있다. 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 별 크기의 범위(Range)는 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 도메인 값의 통계적 주파수 특성에 해당할 수 있다.
제2 도메인 변환부(330)는 범위 산출부(320)의 출력 값을 시간 도메인으로 변환하여 주파수 필터(FT)를 생성할 수 있다. 범위 산출부(320)의 출력 값은 주파수 도메인으로 표현될 수 있고, 제2 도메인 변환부(330)는 주파수 별 크기의 범위를 시간 도메인으로 변환할 수 있다. 따라서, 제2 도메인 변환부(330)는 시간 도메인으로 표현된 주파수 필터(FT)를 생성할 수 있다. 예를 들어, 제2 도메인 변환부(330)는 역 패스트 퓨리에 변환(Inverse Fast Fourier Transform, IFFT)을 이용하여 범위 산출부(320)의 출력 값의 도메인을 변환할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
예를 들어, 필터 생성기(300)의 주파수 필터(FT)는 제1 광 파형(OW1) 중 특정 주파수 대역을 통과시키는 대역 통과 필터(Band Pass Filter)일 수 있다. 이 경우, 주파수 필터(FT)는 제1 차단 주파수(fL)이하의 주파수 성분과 제2 차단 주파수(fH) 이상의 주파수 성분을 차단할 수 있다. 따라서, 주파수 필터(FT)는 제1 차단 주파수(fL) 내지 제2 차단 주파수(fH) 사이의 대역폭(Bandwidth)을 가질 수 있다.
도 13은 일 실시예에 따른 필터 생성기의 주파수 필터 생성 과정을 나타내는 순서도이다.
도 13을 참조하면, 필터 생성기(300)는 주파수 도메인 수신부(310), 범위 산출부(320), 및 제2 도메인 변환부(330)를 포함할 수 있다.
주파수 도메인 수신부(310)는 복수의 제1 광 파형(OW1) 각각의 주파수 도메인 값을 수신할 수 있다(단계 S410). 주파수 도메인 수신부(310)는 복수의 기준 대상 각각에 대한 제1 도메인 변환부(210)의 출력 값을 수신하여 범위 산출부(320)에 공급할 수 있다.
범위 산출부(320)는 복수의 기준 대상의 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 도메인 값의 범위를 산출할 수 있다(단계 S420). 범위 산출부(320)는 복수의 제1 표시 모듈(20) 각각의 제1 광 파형들(OW1)의 주파수 도메인 값의 범위를 산출할 수 있다.
제2 도메인 변환부(330)는 범위 산출부(320)의 출력 값을 시간 도메인으로 변환할 수 있다(단계 S430). 예를 들어, 제2 도메인 변환부(330)는 역 패스트 퓨리에 변환(Inverse Fast Fourier Transform, IFFT)을 이용하여 범위 산출부(320)의 출력 값의 도메인을 변환할 수 있다.
제2 도메인 변환부(330)는 시간 도메인으로 표현된 주파수 필터(FT)를 생성할 수 있다(단계 S440). 주파수 필터는 제1 광 파형(OW1) 중 특정 주파수 대역을 통과시키는 대역 통과 필터(Band Pass Filter)일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
도 14는 일 실시예에 따른 플리커 필터를 나타내는 그래프이고, 도 15는 일 실시예에 따른 광 특성 검출부의 플리커 지수 산출 과정을 나타내는 도면이다.
도 14 및 도 15를 참조하면, 광 특성 검출부(500)는 주파수 모델링부(400)의 출력 값(a(fk), fk는 1 내지 k[hz]의 주파수)에 주파수 필터(FT) 및 플리커 필터(CSF)를 적용하여 제2 광 파형(OW2)의 플리커 지수(FI(fk))를 산출할 수 있다(FI(fk) = a(fk) * b(fk) * c(fk)). 여기에서, a(fk)는 제2 광 파형(OW2)의 주파수 도메인 값에 해당하고, b(fk)는 소정의 주파수(fk)에서의 주파수 필터(FT) 값에 해당하며, c(fk)는 소정의 주파수(fk)에서의 플리커 필터 값(CSF Value)에 해당할 수 있다. 여기에서, 제2 광 파형(OW2)의 플리커 지수(FI(fk))는 제2 광 파형(OW2)에서 발생된 플리커 현상이 표시 구동부(23)로부터 기인하는 정도를 의미한다. 도 14에서, 플리커 필터(CSF)는 대비 감도 함수(Contrast Sensitivity Function)일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 제2 광 파형(OW2)의 플리커 지수(FI(fk))가 높을수록, 표시 구동부(23)에 의한 제2 광 파형(OW2)의 플리커 발생 정도가 증가할 수 있다.
도 16은 일 실시예에 따른 플리커 지수를 나타내는 그래프이다. 도 16에 도시된 제1 내지 제3 기준 대상(MOD1, MOD2, MOD3) 각각의 구동 주파수(fd)는 전술한 제1 내지 제3 기준 대상(MOD1, MOD2, MOD3) 각각의 구동 주파수(fd)와 다를 수 있다.
도 16을 참조하면, 제1 내지 제3 기준 대상(MOD1, MOD2, MOD3) 각각의 플리커 지수(Flicker Index, FI)의 파형은 해당 기준 대상의 구동 주파수(fd)에 대응되는 주기(T)를 가질 수 있다(T=1/fd).
제1 기준 대상(MOD1)의 플리커 지수(FI)의 파형은 제1 리플 값(RIP1)을 가질 수 있고, 제2 기준 대상(MOD2)의 플리커 지수(FI)의 파형은 제2 리플 값(RIP2)을 가질 수 있으며, 제3 기준 대상(MOD3)의 플리커 지수(FI)의 파형은 제3 리플 값(RIP3)을 가질 수 있다. 여기에서, 리플 값은 플리커 지수(FI)의 최대 값과 최소 값의 차에 해당하며, 플리커 지수(FI)의 리플 값이 클수록 표시 구동부(23)에 의한 제2 광 파형(OW2)의 플리커 발생 정도가 증가할 수 있다.
예를 들어, 제1 기준 대상(MOD1)은 상대적으로 표시 구동부(23)에 의한 제2 광 파형(OW2)의 플리커 현상이 가장 많이 발생할 수 있고, 제3 기준 대상(MOD3)은 상대적으로 표시 구동부(23)에 의한 제2 광 파형(OW2)의 플리커 현상이 거의 발생하지 않을 수 있다.
따라서, 광학 측정 장치(10)는 주파수 특성의 학습 결과를 이용하여 제2 광 파형(OW2)으로부터 제1 광 파형(OW1)의 주파수 특성을 측정할 수 있고, 제2 표시 모듈(30)의 테스트 결과를 이용하여 제1 표시 모듈(20)의 테스트 과정을 생략할 수 있다. 광학 측정 장치(10)는 제1 표시 모듈(20)의 학습이 완료된 이후부터 제1 표시 모듈(20)의 테스트 과정을 생략할 수 있고, 표시 장치 또는 표시 모듈의 제조 과정에서 비용과 시간을 절감시킬 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
10: 광학 측정 장치 100: 광 센서
200: 학습기 210: 제1 도메인 변환부
220: 가중치 적용부 230: 분류부
300: 필터 생성기 310: 주파수 도메인 수신부
320: 범위 산출부 330: 제2 도메인 변환부
400: 주파수 모델링부 500: 광 특성 검출부
20: 제1 표시 모듈 21: 제1 표시 패널
22: 제1 회로 보드 23: 표시 구동부
24: 스캔 구동부 30: 제2 표시 모듈
31: 제2 표시 패널 32: 점등 패드부
33: 제2 회로 보드 34: 점등기
35: 스캔 구동부

Claims (20)

  1. 기준 대상의 또는 측정 대상의 광 파형을 측정하는 광 센서;
    상기 광 센서로부터 상기 기준 대상의 제1 광 파형을 수신하여, 상기 제1 광 파형의 주파수 특성을 학습하는 학습기;
    상기 제1 광 파형의 주파수 특성을 분석하여 주파수 필터를 생성하는 필터 생성기;
    상기 광 센서로부터 상기 측정 대상의 제2 광 파형을 수신하여, 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 모델링하는 주파수 모델링부; 및
    상기 주파수 모델링부의 출력 값과 상기 주파수 필터를 기초로 상기 제2 광 파형의 광 특성 지수를 산출하는 광 특성 검출부를 포함하는 광학 측정 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 기준 대상은 제1 표시 패널, 및 상기 제1 표시 패널에 소정의 구동 주파수에 따라 데이터 전압을 공급하는 표시 구동부를 포함하는 표시 모듈인 광학 측정 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 학습기는,
    상기 제1 광 파형을 수신하여 주파수 도메인으로 변환하는 도메인 변환부;
    상기 제1 도메인 변환부의 출력 값에 적어도 하나의 가중치 필터를 적용하는 가중치 적용부; 및
    상기 가중치 적용부의 출력 값을 기초로 상기 제1 광 파형의 종류를 구분하는 분류부를 포함하는 광학 측정 장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제1 도메인 변환부는 패스트 퓨리에 변환(Fast Fourier Transform)을 이용하여 상기 제1 광 파형의 도메인을 변환하는 광학 측정 장치.
  5. 제3 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 가중치 필터는 상기 제1 광 파형의 주파수 성분들 각각에 대응되는 복수의 가중치를 포함하는 광학 측정 장치.
  6. 제3 항에 있어서,
    상기 가중치 적용부는 상기 적어도 하나의 가중치 필터의 출력 값에 활성화 함수를 적용하는 광학 측정 장치.
  7. 제3 항에 있어서,
    상기 학습기는 상기 측정 대상의 제2 광 파형을 수신하여, 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 학습하는 광학 측정 장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 학습기는 상기 제1 광 파형 또는 상기 제2 광 파형을 주파수 도메인으로 변환하고 적어도 하나의 가중치 필터를 적용하여, 상기 제1 광 파형 또는 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 학습하는 광학 측정 장치.
  9. 제3 항에 있어서,
    상기 필터 생성기는 복수의 기준 대상 각각에 대한 상기 제1 도메인 변환부의 출력 값을 기초로 상기 복수의 기준 대상의 제1 광 파형들의 주파수 도메인 값의 범위를 산출하고, 상기 산출된 값을 시간 도메인으로 변환하여 주파수 필터를 생성하는 광학 측정 장치.
  10. 제3 항에 있어서,
    상기 필터 생성기는 상기 제1 광 파형 중 특정 주파수 대역을 통과시키는 대역 통과 필터(Band Pass Filter)를 생성하는 광학 측정 장치.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 측정 대상은 점등기로부터 직류 전압을 공급 받아 광을 방출하는 제2 표시 패널인 광학 측정 장치.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 주파수 모델링부는 상기 제2 광 파형을 주파수 도메인으로 변환하여 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 모델링하는 광학 측정 장치.
  13. 제1 항에 있어서,
    상기 광 특성 검출부는 상기 주파수 모델링부의 출력 값에 상기 주파수 필터 및 플리커 필터를 적용하여 상기 제2 광 파형의 플리커 지수를 산출하는 광학 측정 장치.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 플리커 필터는 대비 감도 함수(Contrast Sensitivity Function)인 광학 측정 장치.
  15. 제1 표시 패널, 및 상기 제1 표시 패널에 소정의 구동 주파수에 따라 데이터 전압을 공급하는 표시 구동부를 구비한 제1 표시 모듈의 제1 광 파형을 수신하여, 상기 제1 광 파형의 주파수 특성을 학습하는 학습기;
    상기 제1 광 파형의 주파수 특성을 분석하여 주파수 필터를 생성하는 필터링부;
    점등기로부터 직류 전압을 공급 받은 제2 표시 패널의 제2 광 파형을 수신하여, 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 모델링하는 주파수 모델링부; 및
    상기 주파수 모델링부의 출력 값과 상기 주파수 응답 필터를 기초로 상기 제2 광 파형의 광 특성 지수를 산출하는 광 특성 검출부를 포함하는 광학 측정 장치.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 학습기는,
    상기 제1 광 파형을 수신하여 주파수 도메인으로 변환하는 도메인 변환부;
    상기 제1 도메인 변환부의 출력 값에 적어도 하나의 가중치 필터를 적용하는 가중치 적용부; 및
    상기 가중치 적용부의 출력 값을 기초로 상기 제1 광 파형의 종류를 구분하는 분류부를 포함하는 광학 측정 장치.
  17. 제15 항에 있어서,
    상기 학습기는 상기 제2 표시 패널의 제2 광 파형을 수신하여, 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 학습하는 광학 측정 장치.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 학습기는 상기 제1 광 파형 또는 상기 제2 광 파형을 주파수 도메인으로 변환하고 적어도 하나의 가중치 필터를 적용하여, 상기 제1 광 파형 또는 상기 제2 광 파형의 주파수 특성을 학습하는 광학 측정 장치.
  19. 제15 항에 있어서,
    상기 광 특성 검출부는 상기 주파수 모델링부의 출력 값을 상기 주파수 필터 및 플리커 필터를 적용하여 상기 제2 광 파형의 플리커 지수를 산출하는 광학 측정 장치.
  20. 제19 항에 있어서,
    상기 광 특성 검출부는 상기 제2 광 파형의 플리커 지수를 기초로 상기 제2 표시 패널, 및 상기 표시 구동부를 구비한 제2 표시 모듈의 플리커 특성을 해석하는 광학 측정 장치.
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