KR20210093117A - Composition for enamel, method for preparation thereof and cooking appliance - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an enamel composition that can be cleaned without a soaking process by moisture at room temperature, a method of manufacturing the same, and a cooking appliance. The enamel composition according to the present invention includes 1-40 wt% of SiO_2; 1-20 wt% of P_2O_5; 1-30 wt% of B_2O_3; 5-20 wt% of at least one among Li_2O, Na_2O, and K_2O; 1-5 wt% of at least one among NaF, CaF_2, and AlF_3; 3-15 wt% of MoO_3; 3-15 wt% of Bi_2O_3; 1-5 wt% of V_2O_5; and 1-5 wt% of TiO_2.

Description

법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기{COMPOSITION FOR ENAMEL, METHOD FOR PREPARATION THEREOF AND COOKING APPLIANCE}Enamel composition, its manufacturing method, and cooking equipment {COMPOSITION FOR ENAMEL, METHOD FOR PREPARATION THEREOF AND COOKING APPLIANCE}

본 발명은 수분에 의한 물불림 없이 오염물의 청소가 가능한 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기에 관한 것이다.The present invention relates to an enamel composition capable of cleaning contaminants without soaking with water, a manufacturing method thereof, and a cooking appliance.

법랑(enamel)은 금속판의 표면에 유리질 유약을 도포시킨 것이다. 일반적인 법랑은 전자레인지와 오븐과 같은 조리기기 등에 사용된다. 전기오븐, 가스 오븐 등의 조리기구는 가열원을 이용하여 음식물을 조리하는 기기이다. 조리과정에서 발생한 오염물질 등이 조리기구의 캐비티(cavity) 내벽에 들러붙게 되므로, 상기 캐비티 내벽을 청소할 필요가 있다. 상기 법랑은 조리기구의 캐비티 내벽 표면 등에 코팅되어 조리기구에 묻은 오염물의 제거를 용이하게끔 한다. 일반적으로, 캐비티 내벽을 쉽게 청소할 수 있는 기술로는 고온에서 오염물을 태워 재로 만드는 pyrolysis(열분해) 방법이 알려져 있고, pyrolysis(열분해) 방법이 적용되는 법랑 조성물로서 P2O5, SiO2, B2O3 등의 성분을 포함하는 법랑 조성물이 알려져 있다.Enamel is a glassy glaze applied to the surface of a metal plate. Common enamel is used in cooking appliances such as microwave ovens and ovens. BACKGROUND ART Cooking appliances such as electric ovens and gas ovens are appliances that cook food using a heating source. Since contaminants generated during the cooking process adhere to the inner wall of the cavity of the cooking appliance, it is necessary to clean the inner wall of the cavity. The enamel is coated on the surface of the inner wall of the cavity of the cooking utensil to facilitate the removal of contaminants attached to the cooking utensil. In general, as a technology that can easily clean the inner wall of a cavity, a pyrolysis (pyrolysis) method of burning contaminants at a high temperature to make ashes is known, and as an enamel composition to which the pyrolysis (pyrolysis) method is applied, P 2 O 5 , SiO 2 , B 2 Enamel compositions comprising components such as O 3 are known.

그러나, 법랑 조성물 내 P2O5, SiO2, B2O3, 및 Ⅰ 족계 산화물을 포함하더라도 가금류 기름 또는 몬스터 매쉬(Monster mash)의 오염물질을 제거하기 위해서는 일정시간 수분에 의한 불림과정이 필요한 문제가 있다.However, even if the enamel composition contains P 2 O 5 , SiO 2 , B 2 O 3 , and group I oxides, in order to remove contaminants from poultry oil or monster mash, a soaking process with moisture is required for a certain time there is a problem.

또한, 법랑 조성물 내 P2O5, Ⅰ 족계 산화물이 포함됨에 따라, 소성된 법랑 조성물의 내구성이 저하되는 문제가 있다.In addition, as the P 2 O 5 and Group I oxides are included in the enamel composition, there is a problem in that the durability of the fired enamel composition is reduced.

[특허문헌][Patent Literature]

(특허문헌 1)(Patent Document 1)

미국등록특허 3547098호US Patent No. 3547098

본 발명은 가금류 기름과 같은 같은 오염물질을 수분에 의한 불림 과정 없이 청소가 가능한 법랑 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an enamel composition capable of cleaning contaminants such as poultry oil without a soaking process by moisture.

또한 본 발명은 법랑 조성물 내 P2O5, Ⅰ 족계 산화물이 포함되더라도 내구성이 저하되지 않는 조성비를 갖는 새로운 법랑 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a new enamel composition having a composition ratio that does not deteriorate durability even when P 2 O 5 , Group I oxides are included in the enamel composition.

또한 본 발명은 모재 강판과의 밀착력을 고려할 필요가 없는 신규의 법랑 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a novel enamel composition that does not need to consider adhesion with a base steel sheet.

모든 오염물질을 수분에 의한 불림과정 없이 청소가 가능한 법랑 조성물을 제공하기 위해, 본 발명은 신규의 실리케이트계 법랑 조성물을 제공한다. In order to provide an enamel composition capable of cleaning all contaminants without soaking with moisture, the present invention provides a novel silicate-based enamel composition.

보다 구체적으로, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 SiO2 1~40 중량%; P2O5 1~20 중량%; B2O3 1~30 중량%; Li2O, Na2O, 및 K2O 가운데 1종 이상 5~20 중량%; NaF, CaF2, 및 AlF3 가운데 1종 이상 1~5 중량%; MoO3 3~15 중량%; Bi2O3 3~15 중량%; V2O5 1~5 중량%; 및 TiO2 1~5 중량%;를 포함한다.More specifically, the enamel composition according to the present invention is SiO 2 1 to 40% by weight; P 2 O 5 1 to 20% by weight; B 2 O 3 1 to 30% by weight; 5-20 wt% of at least one of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O; 1-5 wt% of at least one of NaF, CaF 2 , and AlF 3 ; MoO 3 3-15 wt%; Bi 2 O 3 3-15 wt%; V 2 O 5 1-5 wt%; And TiO 2 1-5 wt%; contains.

또한, 청소 성능의 극대화를 위해, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 ZnO. Al2O3 및 MnO2 가운데 1종 이상을 더 포함할 수 있다. In addition, in order to maximize the cleaning performance, the enamel composition according to the present invention is ZnO. One or more of Al 2 O 3 and MnO 2 may be further included.

본 발명에 따른 법랑 조성물은 신규의 실리케이트계 유리 조성물을 포함하여 수분에 의한 불림과정 없이 청소가 가능한 효과가 있다.The enamel composition according to the present invention includes a novel silicate-based glass composition and has an effect of enabling cleaning without a soaking process by moisture.

또한, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 추가 성분을 더 포함하여 내구성이 저하되지 않는 효과가 있고, 일부 성분의 함량을 제어하여 청소 성능을 극대화 할 수 있다.In addition, the enamel composition according to the present invention has an effect that durability is not reduced by including additional components, and the cleaning performance can be maximized by controlling the content of some components.

뿐만 아니라, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 모재 강판 상에 형성된 버퍼층 위에 코팅될 수 있어, 모재 강판과의 밀착력을 고려할 필요가 없는 장점이 있다.In addition, since the enamel composition according to the present invention can be coated on the buffer layer formed on the base steel sheet, there is no need to consider adhesion with the base steel sheet.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 조리기기를 보인 정면도이다.
도 2는 도 1에 따른 조리기기의 캐비티 내면 일부를 확대한 단면도이다.
도 3은 도 1에 따른 조리기기의 도어 내면 일부를 확대한 단면도이다.
1 is a front view showing a cooking appliance according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a part of an inner surface of a cavity of the cooking appliance of FIG. 1 .
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of a portion of an inner surface of a door of the cooking appliance according to FIG. 1 .

전술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 후술되며, 이에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 상세한 설명을 생략한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 구성요소를 가리키는 것으로 사용된다.The above-described objects, features and advantages will be described below in detail with reference to the accompanying drawings, and accordingly, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to easily implement the technical idea of the present invention. In describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a known technology related to the present invention may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted. Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to indicate the same or similar components.

이하에서 구성요소의 "상부 (또는 하부)" 또는 구성요소의 "상 (또는 하)"에 임의의 구성이 배치된다는 것은, 임의의 구성이 상기 구성요소의 상면 (또는 하면)에 접하여 배치되는 것뿐만 아니라, 상기 구성요소와 상기 구성요소 상에 (또는 하에) 배치된 임의의 구성 사이에 다른 구성이 개재될 수 있음을 의미할 수 있다. In the following, that an arbitrary component is disposed on the "upper (or lower)" of a component or "upper (or below)" of a component means that any component is disposed in contact with the upper surface (or lower surface) of the component. Furthermore, it may mean that other components may be interposed between the component and any component disposed on (or under) the component.

또한 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 상기 구성요소들은 서로 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성요소 사이에 다른 구성요소가 "개재"되거나, 각 구성요소가 다른 구성요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있는 것으로 이해되어야 할 것이다.Also, when it is described that a component is "connected", "coupled" or "connected" to another component, the components may be directly connected or connected to each other, but other components are "interposed" between each component. It is to be understood that “or, each component may be “connected,” “coupled,” or “connected” through another component.

명세서 전체에서, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 각 구성요소는 단수일 수도 있고 복수일 수도 있다.Throughout the specification, unless otherwise stated, each element may be singular or plural.

본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "구성된다" 또는 "포함한다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 여러 구성 요소들, 또는 여러 단계들을 반드시 모두 포함하는 것으로 해석되지 않아야 하며, 그 중 일부 구성 요소들 또는 일부 단계들은 포함되지 않을 수도 있고, 또는 추가적인 구성 요소 또는 단계들을 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다.As used herein, the singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, terms such as "consisting of" or "comprising" should not be construed as necessarily including all of the various components or various steps described in the specification, some of which components or some steps are It should be construed that it may not include, or may further include additional components or steps.

명세서 전체에서, "A 및/또는 B" 라고 할 때, 이는 특별한 반대되는 기재가 없는 한, A, B 또는 A 및 B 를 의미하며, "C 내지 D" 라고 할 때, 이는 특별한 반대되는 기재가 없는 한, C 이상이고 D 이하인 것을 의미한다.Throughout the specification, when “A and/or B” is used, it means A, B or A and B, unless specifically stated to the contrary, and when “C to D” is used, it means that there is no specific contrary description. Unless otherwise specified, it means that it is greater than or equal to C and less than or equal to D.

이하, 본 발명에 따른 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기에 대해 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, an enamel composition according to the present invention, a manufacturing method thereof, and a cooking appliance will be described in detail.

<법랑 조성물><Enamel composition>

본 발명에 따른 법랑 조성물은 SiO2 1~40 중량%; P2O5 1~20 중량%; B2O3 1~30 중량%; Li2O, Na2O, 및 K2O 가운데 1종 이상 5~20 중량%; NaF, CaF2, 및 AlF3 가운데 1종 이상 1~5 중량%; MoO3 3~15 중량%; Bi2O3 3~15 중량%; V2O5 1~5 중량%; 및 TiO2 1~5 중량%;를 포함한다.The enamel composition according to the present invention is SiO 2 1 to 40% by weight; P 2 O 5 1 to 20% by weight; B 2 O 3 1 to 30% by weight; 5-20 wt% of at least one of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O; 1-5 wt% of at least one of NaF, CaF 2 , and AlF 3 ; MoO3 3-15 wt%; Bi2O3 3-15 wt%; 1-5 wt% of V2O5; and 1 to 5 wt% of TiO2.

SiO2는 유리 구조를 형성하는 성분이다. SiO2는 유리 구조의 골격을 강화시켜 법랑 조성물의 내화학성을 향상시킨다. 본 발명에 따른 법랑 조성물은 상기 SiO2 1~40 중량% 포함한다. 상기 SiO2가 40 중량%를 초과하면 전이금속산화물의 첨가를 방해하여 청소기능이 저하되는 문제가 생길 수 있다. 반대로 상기 SiO2가 1 중량% 미만이면 유리 구조가 붕괴될 수 있다.SiO 2 is a component that forms a glass structure. SiO 2 improves the chemical resistance of the enamel composition by strengthening the skeleton of the glass structure. The enamel composition according to the present invention contains 1 to 40 wt% of the SiO 2 . If the SiO 2 exceeds 40% by weight, it may interfere with the addition of the transition metal oxide, there may be a problem that the cleaning function is lowered. Conversely, if the SiO 2 is less than 1% by weight, the glass structure may collapse.

P2O5는 유리 구조(glass structure)를 형성하는 기능을 하는 성분이다. 또한 P2O5는 법랑 조성물 내 다량의 전이금속산화물의 첨가를 용이하게 하는 글라스 포머(glass former)이고, 법랑표면과 오염물질 사이에 물이 침투하는 것을 도와주어 오염물질을 쉽게 제거하는 기능을 갖는다. 상기 P2O5는 1~20중량%의 범위에서 함유된다. 상기 P2O5가 20 중량%를 초과하면 법랑 조성물의 유리화가 어려워질 수 있고 법랑 조성물의 열 물성이 저하될 수 있다. P2O5가 1 중량% 미만이면 전이금속산화물의 첨가량이 줄어들어 청소 기능이 저하될 수 있다.P 2 O 5 is a component that functions to form a glass structure. In addition, P 2 O 5 is a glass former that facilitates the addition of a large amount of transition metal oxide in the enamel composition, and helps water permeate between the enamel surface and contaminants to easily remove contaminants. have The P 2 O 5 is contained in the range of 1 to 20% by weight. If the P 2 O 5 content exceeds 20% by weight, vitrification of the enamel composition may be difficult and thermal properties of the enamel composition may be deteriorated. If P 2 O 5 is less than 1% by weight, the addition amount of the transition metal oxide is reduced, and the cleaning function may be deteriorated.

B2O3은 유리 형성제로서 역할을 하고 법랑 조성물의 각 성분들이 균일하게 녹도록 하는 역할을 한다. 또한, B2O3은 상기 법랑 조성물의 열팽창 계수와 융합 흐름(Fusion flow)을 조절하여, 코팅성능을 향상시킨다. 상기 B2O3 -는 1~30 중량% 범위로 법랑 조성물에 포함된다. 상기 B2O3가 30 중량%를 초과하면 전이금속산화물의 첨가를 방해하여 청소기능이 저하되는 문제가 생길 수 있다. 상기 B2O3가 1 중량% 미만이면 유리 구조가 붕괴될 수 있다.B 2 O 3 serves as a glass former and serves to uniformly dissolve each component of the enamel composition. In addition, B 2 O 3 improves the coating performance by controlling the coefficient of thermal expansion and fusion flow of the enamel composition. The B 2 O 3 - is included in the enamel composition in an amount of 1 to 30% by weight. When the B 2 O 3 content exceeds 30% by weight, it may interfere with the addition of the transition metal oxide, which may cause a problem in that the cleaning function is lowered. If the B 2 O 3 content is less than 1% by weight, the glass structure may collapse.

Li2O, Na2O, 및 K2O는 법랑 조성물의 청소 성능을 향상시키는 역할을 한다. 상기 Li2O, Na2O 및 K2O 가운데 1종 이상은 5~20 중량%의 범위에서 법랑 조성물에 함유된다. 상기 Li2O, Na2O 및 K2O 가운데 1종 이상의 함유량이 20 중량%를 초과하면 유리의 열팽창계수를 극단적으로 증가시켜 코팅 성능이 저하되는 문제가 있다. Li2O, Na2O 및 K2O 가운데 1종 이상의 함유량이 5 중량% 미만이면 청소기능이 저하되는 문제가 생길 수 있다.Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O serve to improve the cleaning performance of the enamel composition. At least one of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O is contained in the enamel composition in an amount of 5 to 20 wt%. When the content of at least one of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O exceeds 20 wt %, the thermal expansion coefficient of the glass is extremely increased, thereby deteriorating the coating performance. If the content of at least one of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O is less than 5% by weight, there may be a problem in that the cleaning function is lowered.

NaF, CaF2, 및 AlF3 는 법랑 코팅층의 표면 장력을 제어하여 법랑 코팅층의 표면특성을 향상시키는 성분들이다. 상기 NaF, CaF2, 및 AlF3 가운데 1종 이상은 1~5 중량%의 범위에서 법랑 조성물에 함유된다. 상기 NaF, CaF2, 및 AlF3 가운데 1종 이상이 5 중량%를 초과하면 열물성이 저하될 수 있다. NaF, CaF2, 및 AlF3 가운데 1종 이상이 1 중량% 미만이면 법랑 코팅층의 표면 특성이 저하될 수 있다.NaF, CaF 2 , and AlF 3 are components that improve the surface properties of the enamel coating layer by controlling the surface tension of the enamel coating layer. At least one of NaF, CaF 2 , and AlF 3 is contained in the enamel composition in an amount of 1 to 5% by weight. When one or more of NaF, CaF 2 , and AlF 3 exceeds 5 wt%, thermal properties may be deteriorated. When at least one of NaF, CaF 2 , and AlF 3 is less than 1 wt%, the surface properties of the enamel coating layer may be deteriorated.

MoO3, Bi2O3, V2O5 및 TiO2는 법랑 코팅층의 표면에서 촉매로서 기능한다. 상기 성분들은 법랑 코팅층의 표면과 오염물질간의 연결을 쉽게 끊어준다. 본 발명에 따른 법랑 조성물은 MoO3 3~15 중량%; Bi2O3 3~15 중량%; V2O5 1~5 중량%; 및 TiO2 1~5 중량%;를 포함한다. 상기 성분들이 최대 함량 범위를 초과하면 타 성분의 첨가를 방해하여 유리화가 어렵고 열 물성이 저하되는 문제가 생길 수 있다. 반면에 상기 성분들이 최소 함량 미만으로 포함되면 법랑의 청소기능이 저하될 수 있다. 법랑 코팅층의 표면을 상온에서 물불림 없이 깨끗하게 청소하기 위해서는 상기 촉매 성분들의 조합이 필요하다MoO 3 , Bi 2 O 3 , V 2 O 5 and TiO 2 function as catalysts on the surface of the enamel coating layer. These components easily break the connection between the surface of the enamel coating layer and contaminants. The enamel composition according to the present invention contains 3 to 15% by weight of MoO 3; Bi 2 O 3 3-15 wt%; V 2 O 5 1-5 wt%; And TiO 2 1-5 wt%; contains. When the above components exceed the maximum content range, the addition of other components is prevented, which may cause a problem in that vitrification is difficult and thermal properties are lowered. On the other hand, if the components are included in less than the minimum content, the cleaning function of the enamel may be reduced. In order to clean the surface of the enamel coating layer without soaking at room temperature, a combination of the above catalyst components is required.

다음으로, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 ZnO 1~20 중량%; Al2O3 1~20 중량%; 및 MnO2 1~10 중량% 가운데 1종 이상을 더 포함할 수 있다. 상기 성분들은 실리케이트 유리 구조의 약한 내구성을 보완하며, 법랑 표면의 경도를 향상시키는 효과가 있다. 상기 성분들이 최대 함량을 초과하면 조성물의 용융온도가 높아지고 융합 흐름(Fusion flow)이 증가하여 법랑 코팅층의 밀착성이 저하될 수 있다. 반면에 각 성분들이 최소 함량 미만이면 법랑 코팅층의 내구성이 저하될 수 있다.Next, the enamel composition according to the present invention contains 1 to 20 wt% of ZnO; Al 2 O 3 1 to 20% by weight; And MnO 2 It may further include one or more of 1 to 10% by weight. The above components compensate for the weak durability of the silicate glass structure, and have the effect of improving the hardness of the enamel surface. When the above components exceed the maximum content, the melting temperature of the composition may increase and the fusion flow may increase, thereby reducing the adhesion of the enamel coating layer. On the other hand, if each component is less than the minimum content, the durability of the enamel coating layer may be reduced.

본 발명에 따른 법랑 조성물은 이상 언급한 신규의 조성비를 가짐으로써 수분에 의한 불림 과정 없이 오염물에 대한 청소가 가능하다.Since the enamel composition according to the present invention has the above-mentioned novel composition ratio, it is possible to clean contaminants without a soaking process by moisture.

<법랑 조성물의 제조방법><Method for producing enamel composition>

다음으로, 본 발명에 따른 법랑 조성물의 제조방법은 상술한 법랑 조성물 재료를 제공하는 단계; 상기 법랑 조성물 재료를 멜팅하는 단계; 상기 멜팅된 법랑 조성물 재료를 퀀칭하여 법랑 조성물을 형성하는 단계를 포함한다.Next, the method for producing an enamel composition according to the present invention comprises the steps of providing the above-described enamel composition material; melting the enamel composition material; and quenching the melted enamel composition material to form an enamel composition.

상기 법랑 조성물 재료를 충분히 혼합한 후, 상기 법랑 조성물 재료는 멜팅된다. 바람직하게는, 상기 법랑 조성물 재료는 1200~1400℃의 온도범위에서 멜팅 될 수 있다. 또한, 상기 법랑 조성물 재료는 1~2시간 동안 멜팅될 수 있다.After sufficiently mixing the enamel composition material, the enamel composition material is melted. Preferably, the enamel composition material may be melted in a temperature range of 1200 to 1400 °C. In addition, the enamel composition material may be melted for 1 to 2 hours.

이후, 상기 멜팅 된 법랑 조성물 재료는 칠러 등이 사용되어, 퀀칭 롤러에 의해 급냉시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 법랑 조성물이 형성될 수 있다.Thereafter, the melted enamel composition material may be quenched by a quencher using a chiller or the like. Accordingly, the enamel composition may be formed.

<조리기기><Cooking equipment>

다음으로, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 상기 법랑 조성물을 코팅하고자 하는 대상 물체의 일 표면에 코팅될 수 있다. 상기 대상 물체는 금속 플레이트, 유리 플레이트, 조리기기의 일부, 또는 전부일 수 있다. 바람직하게는, 조리기기의 캐비티의 내면 또는 조리기기의 도어의 내면에 코팅될 수 있다.Next, the enamel composition according to the present invention may be coated on one surface of the target object to be coated with the enamel composition. The target object may be a part or all of a metal plate, a glass plate, or a cooking appliance. Preferably, it may be coated on the inner surface of the cavity of the cooking appliance or the inner surface of the door of the cooking appliance.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 조리기기(1)는, 조리실이 형성되는 캐비티(11), 상기 조리실을 선택적으로 개폐하는 도어(14), 상기 조리실에서의 조리물의 가열을 위한 열을 제공하는 적어도 1개의 가열원(13, 15, 16), 상기 캐비티(11)의 내면 또는 도어(14)의 내면에 코팅되는 버퍼층(19, 20) 및 본 발명에 따른 법랑 조성물에 의하여 형성되는 코팅층(17, 18)을 포함한다.Referring to FIG. 1 , a cooking appliance 1 according to the present invention provides a cavity 11 in which a cooking compartment is formed, a door 14 for selectively opening and closing the cooking compartment, and heat for heating food in the cooking compartment. at least one heating source (13, 15, 16), a buffer layer (19, 20) coated on the inner surface of the cavity 11 or the inner surface of the door 14, and a coating layer formed by the enamel composition according to the present invention ( 17, 18).

상기 캐비티(11)는 전면이 개구되는 육면체 형상으로 형성될 수 있다. 상기 가열원(13,15,16)은 상기 캐비티(11) 내부로 가열된 공기가 토출되도록 하는 컨벡션 어셈블리(13), 상기 캐비티(11)의 상부에 배치되는 상부 히터(15), 및 상기 캐비티(11)의 하부에 배치되는 하부 히터(16)를 포함할 수 있다. 상기 상부 히터(15) 및 상기 하부 히터(16)는 상기 캐비티(11)의 내부 또는 외부에 구비될 수 있다. 물론, 상기 가열원(13, 15,16)이 반드시 상기 컨벡션 어셈블리(13), 상부 히터(15) 및 하부 히터(16)를 포함하여야 하는 것은 아니다. 즉, 상기 가열원(13,15,16)은 상기 컨벡션 셈블리(13), 상부 히터(15) 및 하부 히터(16) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.The cavity 11 may be formed in a hexahedral shape with an open front surface. The heating sources 13 , 15 , and 16 include a convection assembly 13 for discharging heated air into the cavity 11 , an upper heater 15 disposed above the cavity 11 , and the cavity It may include a lower heater 16 disposed under the (11). The upper heater 15 and the lower heater 16 may be provided inside or outside the cavity 11 . Of course, the heating sources 13 , 15 , and 16 do not necessarily include the convection assembly 13 , the upper heater 15 , and the lower heater 16 . That is, the heating sources 13 , 15 , and 16 may include any one or more of the convection assembly 13 , the upper heater 15 , and the lower heater 16 .

한편, 도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 건식 공정 또는 습식 공정에 의해 상기 조리기기(1)의 상기 캐비티(11)의 내면 또는 상기 도어(14)의 내면에 코팅될 수 있다. 상기 캐비티(11) 및 상기 도어(14)는 금속 플레이트로 형성될 수 있다. 상기 캐비티(11) 및 상기 도어(14)의 표면에는 버퍼층(19, 20)이 형성되어 있고, 본 발명에 따른 법랑 조성물을 이용한 상기 코팅층(17)(18)은 상기 버퍼층(19, 20) 위에 코팅된다.Meanwhile, referring to FIGS. 2 and 3 , the enamel composition according to the present invention may be coated on the inner surface of the cavity 11 of the cooking appliance 1 or the inner surface of the door 14 by a dry process or a wet process. can The cavity 11 and the door 14 may be formed of a metal plate. Buffer layers 19 and 20 are formed on the surfaces of the cavity 11 and the door 14, and the coating layers 17 and 18 using the enamel composition according to the present invention are formed on the buffer layers 19 and 20. coated

상기 버퍼층(19, 20)은 법랑 조성물과 유사한 성분을 갖는 코팅층으로 형성될 수 있다. 또한 상기 버퍼층(19, 20)은 모재 강판과 열팽창계수가 매칭되는 소재로 형성되는 것이 바람직하고, 상기 모재 강판과 밀착성이 우수한 소재로 형성되는 것이 바람직하다.The buffer layers 19 and 20 may be formed of a coating layer having a component similar to that of the enamel composition. In addition, the buffer layers 19 and 20 are preferably formed of a material having a matching coefficient of thermal expansion with the base steel sheet, and preferably formed of a material having excellent adhesion to the base steel sheet.

상기 건식 공정에서는 상기 법랑 조성물 재료가 유기 바인더에 분산되고, 혼합된 상기 법랑 조성물 재료와 유기 바인더가 볼 밀에서 밀링되어, 유리 프릿(frit)이 제조될 수 있다. 반면, 상기 습식 공정에서는 상기 법랑 조성물 재료가 물(H2O)과 안료(Pigment)에 분산되고, 혼합된 상기 법랑 조성물 재료와 물(H2O), 안료(Pigment)는 볼 밀에서 밀링되어, 유리 프릿(frit)이 제조될 수 있다.In the dry process, the enamel composition material is dispersed in an organic binder, and the mixed enamel composition material and the organic binder are milled in a ball mill to manufacture a glass frit. On the other hand, in the wet process, the enamel composition material is dispersed in water (H 2 O) and pigment (Pigment), and the mixed enamel composition material, water (H 2 O), and pigment are milled in a ball mill. , a glass frit can be manufactured.

이후, 상기 건식 공정 및 상기 습식 공정에 따른 상기 유리 프릿(frit)은 스프레이 방식에 의해, 상기 버퍼층 상에 도포될 수 있다. 상기 도포된 유리 프릿(frit)은 600~900℃의 온도범위에서 100~450초 동안 소성되어, 상기 조리기기(1)의 상기 캐비티(11)의 내면 또는 상기 도어(14)의 내면에 코팅될 수 있다.Thereafter, the glass frit according to the dry process and the wet process may be applied on the buffer layer by a spray method. The applied glass frit is fired for 100 to 450 seconds in a temperature range of 600 to 900° C., and to be coated on the inner surface of the cavity 11 of the cooking appliance 1 or the inner surface of the door 14 can

이하, 실시예를 통해 본 발명의 구체적인 태양을 살펴보기로 한다.Hereinafter, specific aspects of the present invention will be described by way of Examples.

<실시예><Example>

<법랑 조성물의 제조><Preparation of enamel composition>

하기 표 1에 기재된 조성비를 갖는 법랑 조성물을 제조하였다. 각 성분의 원재료들을 V-혼합기(V-mixer)에서 3시간 동안 충분히 혼합하였다. 여기서, P2O5의 원재료는 NH4H2PO4를 사용하였고, Na2O, K2O, Li2O의 원재료는 각각 Na2CO3, K2CO3, Li2CO3를 사용하였다. 혼합된 재료를 1300℃에서 1시간 30분 동안 충분히 용융시키고, 퀀칭 롤러(quenching roller)에서 급냉 시킨 후 유리 컬릿을 수득하였다.Enamel compositions having the composition ratios shown in Table 1 were prepared. The raw materials of each component were thoroughly mixed for 3 hours in a V-mixer. Here, the raw materials of P 2 O 5 were NH 4 H 2 PO 4 , and the raw materials of Na 2 O, K 2 O, and Li 2 O were Na 2 CO 3 , K 2 CO 3 , and Li 2 CO 3 , respectively. did. The mixed material was sufficiently melted at 1300° C. for 1 hour and 30 minutes, and after quenching on a quenching roller, a glass cullet was obtained.

상기 과정으로 수득한 유리 컬릿을 분쇄기(ball mill)로 초기 입도를 제어 후 젯밀을 이용하여 약 5시간 동안 분쇄 후 325 메쉬 시브(ASTM C285-88)에 통과시켜 입경을 45㎛이하로 제어하여, 프릿(frit, powder)을 제조하였다. After controlling the initial particle size of the glass cullet obtained in the above process with a ball mill, and then pulverizing for about 5 hours using a jet mill, pass it through a 325 mesh sieve (ASTM C285-88) to control the particle size to 45 μm or less, A frit (powder) was prepared.

성분
(중량%)
ingredient
(weight%)
실시예Example 비교예comparative example
1One 22 33 1One 22 SiO2SiO2 37.4437.44 21.9421.94 28.4228.42 14.3614.36 14.3614.36 P2O5P2O5 13.8913.89 16.0916.09 13.3513.35 27.4227.42 25.1425.14 B2O3B2O3 15.8715.87 8.728.72 11.0511.05 13.1913.19 24.0124.01 Na2ONa2O 1.861.86 4.134.13 4.734.73 1.471.47 1.471.47 K2OK2O 4.564.56 9.919.91 7.447.44 13.8513.85 3.413.41 Li2OLi2O 00 0.870.87 0.910.91 2.812.81 2.222.22 NaFNaF 00 1.721.72 00 00 00 AlF3AlF3 00 00 1.791.79 00 00 CaF2CaF2 3.193.19 00 00 2.612.61 8.118.11 Al2O3Al2O3  00 4.184.18 9.729.72 7.887.88 4.014.01 TiO2TiO2 1.861.86 2.772.77 1.911.91 00 00 MnO2MnO2 7.427.42 3.013.01 00 0.280.28 0.280.28 V2O5V2O5 22 3.193.19 3.483.48 00 00 ZnOZnO 0.930.93 6.356.35 00 4.914.91 4.814.81 ZrO2ZrO2 0 0 00 00 5.885.88 7.897.89 MoO3MoO3 6.196.19 11.0711.07 8.128.12 1.211.21 1.211.21 Co3O4Co3O4 00 00 00 2.142.14 1.091.09 Fe2O3Fe2O3 00 00 00 1.251.25 1.251.25 Bi2O3Bi2O3 4.794.79 6.056.05 9.089.08 00 00 CeO2CeO2 00 00 00 0.740.74 0.740.74

<법랑 조성물 시편 제조><Preparation of enamel composition specimen>

먼저 시편에 사용될 200×200(mm) 및 두께 1(mm)이하의 저탄소강 시트를 준비하였다. First, a low-carbon steel sheet of 200 × 200 (mm) and a thickness of 1 (mm) or less to be used for the specimen was prepared.

상기 시트 상에 하기 표 2에 기재된 성분을 갖는 버퍼층을 형성하였다. 상기 버퍼층은 위에서 언급한 법랑 조성물과 동일한 방식으로 제조하였다. 상기 시트 상에 상기 버퍼층을 형성하는 방식은 후술하는 법랑 코팅층을 형성하는 방식과 동일하다. A buffer layer having the components shown in Table 2 below was formed on the sheet. The buffer layer was prepared in the same manner as the above-mentioned enamel composition. The method of forming the buffer layer on the sheet is the same as the method of forming the enamel coating layer to be described later.

다음으로, 실시예 및 비교예에 따른 법랑 조성물을 이용하여 제조한 프릿(frit)들을 상기 버퍼층 위에 코로나 방전 건(Corona discharge gun)을 이용하여 스프레이 하였다. 방전 건의 전압은 40 kV 내지 100 kV 조건으로 제어하였으며, 저탄소강 시트에 스프레이 되는 프릿(frit)의 양은 300g/㎡ 이었다. 상기 프릿(frit)이 스프레이 된 저탄소강을 830℃ 내지 870 ℃의 온도조건으로 300초 내지 450초 동안 소성하여 저탄소강의 일면 상에 코팅층을 형성하였다. 이때, 상기 코팅층은 약 80㎛ 내지 250㎛의 두께로 형성되었다. 이를 통해, 실시예 및 비교예에 따른 시편을 제조하였다.Next, frits prepared using the enamel compositions according to Examples and Comparative Examples were sprayed on the buffer layer using a corona discharge gun. The voltage of the discharge gun was controlled in a condition of 40 kV to 100 kV, and the amount of frit sprayed on the low-carbon steel sheet was 300 g/m 2 . The low-carbon steel sprayed with the frit was fired at a temperature of 830°C to 870°C for 300 seconds to 450 seconds to form a coating layer on one surface of the low-carbon steel. At this time, the coating layer was formed to a thickness of about 80㎛ to 250㎛. Through this, specimens according to Examples and Comparative Examples were prepared.

성분
(중량%)
ingredient
(weight%)
버퍼층buffer layer
SiO2 SiO 2 48.848.8 B2O3 B 2 O 3 10.110.1 Na2ONa 2 O 1515 K2OK 2 O 10.710.7 Li2OLi 2 O 4.24.2 NaFNaF 66 TiO2 TiO 2 2.42.4 Co3O4 Co 3 O 4 1One NiO NiO 0.50.5 Fe2O3 Fe 2 O 3 0.80.8 MnO2 MnO 2 0.50.5

<실험예><Experimental example>

상기 실시예 및 비교예에 따른 시편에 대해 하기와 같이 성능 평가를 수행하였고, 그 결과를 표 3에 기재하였다.Performance evaluation was performed on the specimens according to the Examples and Comparative Examples as follows, and the results are shown in Table 3.

1. 닭기름 오염물에 대한 청소성능1. Cleaning performance for chicken oil contaminants

금속 기판(100×100(mm))에 법랑 조성물이 코팅된 시편 표면에 오염물질로서 닭 기름 1g을 골고루 얇게 브러쉬(Brush)로 바른 다음, 오염물이 도포된 시편을 항온기 속에 넣고, 250~290℃의 온도범위에서 1시간 동안 오염물을 고착화시켰다. 오염물의 고착화 이후, 상온수를 적신 후라이팬 전용 수세미로 3kgf 이하의 힘으로 경화된 오염물을 닦았다. 지름 5cm의 바닥이 평탄한 봉을 사용하여 오염된 시편 표면에서 닦아지는 부분을 균일화 하였다.1 g of chicken oil as a contaminant is evenly and thinly applied to the surface of the specimen coated with the enamel composition on a metal substrate (100 × 100 (mm)), and then the specimen coated with contaminants is placed in a thermostat, 250-290 ° C. Contaminants were fixed for 1 hour in a temperature range of After the contaminants were fixed, the hardened contaminants were wiped with a force of 3 kgf or less with a frying pan-only scrubber moistened with room temperature water. Using a rod with a flat bottom of 5 cm in diameter, the part to be wiped from the surface of the contaminated specimen was uniformed.

2. 몬스터 매쉬에 대한 청소성능2. Cleaning performance for monster mash

또한, 몬스터 매쉬(Monster mash)에 대한 청소성능도 앞선 방법과 동일하게 측정하였다.In addition, cleaning performance for monster mash was also measured in the same manner as in the previous method.

상기 시편들에 이때 닦은 왕복 횟수를 측정하여 이를 청소 왕복 횟수로 정의하며, 청소성능평가 지표는 표3에 기재하였다.The number of reciprocations wiped at this time was measured on the specimens, and this was defined as the number of reciprocations of cleaning, and the cleaning performance evaluation index was described in Table 3.

청소 왕복 횟수number of round trips 레벨(LEVEL)Level (LEVEL) 1 ~ 51 to 5 LV.5LV.5 6 ~ 156 to 15 LV.4LV.4 16 ~ 2516 to 25 LV.3LV.3 26 ~ 5026 to 50 LV.2LV.2 51 ~51 ~ LV.1LV.1

실시예Example 비교예comparative example 1One 22 33 1One 22 닭기름 청소성능Chicken oil cleaning performance LV.5LV.5 LV.5LV.5 LV.4LV.4 LV.2LV.2 LV.1LV.1 몬스터매쉬 청소성능Monster mesh cleaning performance LV.5LV.5 LV.5LV.5 LV.5LV.5 LV.1LV.1 LV.1LV.1

상기 표 4에 기재된 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예들은 청소성능이 우수한 것을 확인할 수 있었다.As shown in Table 4, it was confirmed that the Examples according to the present invention had excellent cleaning performance.

상기 비교예들은 실시예와 비교하여 최적의 조성을 갖지 못한 관계로 청소 성능이 저하된 것으로 확인되었다.It was confirmed that the comparative examples did not have an optimal composition compared to the examples, and thus the cleaning performance was lowered.

이상과 같이 본 발명에 대해 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 통상의 기술자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 자명하다. 아울러 앞서 본 발명의 실시예를 설명하면서 본 발명의 구성에 따른 작용 효과를 명시적으로 기재하여 설명하지 않았을 지라도, 해당 구성에 의해 예측 가능한 효과 또한 인정되어야 함은 당연하다.Although the present invention has been described as described above, the present invention is not limited by the embodiments disclosed herein, and it is apparent that various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. In addition, although the effects of the configuration of the present invention are not explicitly described and described while describing the embodiments of the present invention, it is natural that the effects predictable by the configuration should also be recognized.

1 : 조리기기
11 : 캐비티
12 : 조리실
13 : 컨벡션 어셈블리
14 : 도어
15 : 상부 히터
16 : 하부 히터
17, 18 : 코팅층
19, 20 : 버퍼층
1: Cooking equipment
11: cavity
12 : galley
13: convection assembly
14 : door
15: upper heater
16: lower heater
17, 18: coating layer
19, 20: buffer layer

Claims (9)

SiO2 1~40 중량%;
P2O5 1~20 중량%;
B2O3 1~30 중량%;
Li2O, Na2O, 및 K2O 가운데 1종 이상 5~20 중량%;
NaF, CaF2, 및 AlF3 가운데 1종 이상 1~5 중량%;
MoO3 3~15 중량%;
Bi2O3 3~15 중량%;
V2O5 1~5 중량%; 및
TiO2 1~5 중량%;를 포함하는
법랑 조성물.
SiO 2 1-40 wt%;
P 2 O 5 1 to 20% by weight;
B 2 O 3 1 to 30% by weight;
5-20 wt% of at least one of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O;
1-5 wt% of at least one of NaF, CaF 2 , and AlF 3 ;
MoO 3 3-15 wt%;
Bi 2 O 3 3-15 wt%;
V 2 O 5 1-5 wt%; and
TiO 2 1 to 5% by weight; containing
Enamel composition.
제 1항에 있어서,
ZnO 1~20 중량%;를 더 포함하는
법랑 조성물.
The method of claim 1,
ZnO 1 to 20% by weight; further comprising
Enamel composition.
제 1항에 있어서,
Al2O3 1~20 중량%;를 더 포함하는
법랑 조성물.

The method of claim 1,
Al 2 O 3 1 to 20% by weight; further comprising
Enamel composition.

제 1항에 있어서,
MnO2 1~10 중량%;를 더 포함하는
법랑 조성물.
The method of claim 1,
MnO 2 1-10 wt%; further comprising
Enamel composition.
SiO2 1~40 중량%;
P2O5 1~20 중량%;
B2O3 1~30 중량%;
Li2O, Na2O, 및 K2O 가운데 1종 이상 5~20 중량%;
NaF, CaF2, 및 AlF3 가운데 1종 이상 1~5 중량%;
MoO3 3~15 중량%;
Bi2O3 3~15 중량%;
V2O5 1~5 중량%; 및
TiO2 1~5 중량%;를 포함하는 법랑 조성물 재료를 제공하는 단계;
상기 법랑 조성물 재료를 멜팅하는 단계;
상기 멜팅된 법랑 조성물 재료를 퀀칭 롤러에서 냉각하여, 법랑 조성물을 형성하는 단계를 포함하는
법랑 조성물의 제조방법.
SiO 2 1-40 wt%;
P 2 O 5 1 to 20% by weight;
B 2 O 3 1 to 30% by weight;
5-20 wt% of at least one of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O;
1-5 wt% of at least one of NaF, CaF 2 , and AlF 3 ;
MoO 3 3-15 wt%;
Bi 2 O 3 3-15 wt%;
V 2 O 5 1-5 wt%; and
TiO 2 1-5 wt%; providing an enamel composition material comprising;
melting the enamel composition material;
cooling the melted enamel composition material on a quenching roller to form an enamel composition
A method for preparing an enamel composition.
제 5항에 있어서,
상기 법랑 조성물 재료는
ZnO 1~20 중량%;를 더 포함하는
법랑 조성물의 제조방법.
6. The method of claim 5,
The enamel composition material is
ZnO 1 to 20% by weight; further comprising
A method for preparing an enamel composition.
제 5항에 있어서,
상기 법랑 조성물 재료는
Al2O3 1~20 중량%;를 더 포함하는
법랑 조성물의 제조방법.
6. The method of claim 5,
The enamel composition material is
Al 2 O 3 1 to 20% by weight; further comprising
A method for preparing an enamel composition.
제 5항에 있어서,
상기 법랑 조성물 재료는
MnO2 1~10 중량%;를 더 포함하는
법랑 조성물의 제조방법.
6. The method of claim 5,
The enamel composition material is
MnO 2 1-10 wt%; further comprising
A method for preparing an enamel composition.
조리실이 형성되는 캐비티;
상기 조리실을 선택적으로 개폐하는 도어;
상기 조리실에서의 조리물의 가열을 위한 열을 제공하는 적어도 1개의 가열원;
상기 캐비티의 내면 또는 상기 도어의 내면에 코팅되는 버퍼층; 및
상기 버퍼층 상에 코팅되고 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 법랑 조성물에 의하여 형성되는 코팅층;을 포함하는,
조리기기.
a cavity in which the galley is formed;
a door selectively opening and closing the cooking chamber;
at least one heating source providing heat for heating food in the cooking chamber;
a buffer layer coated on the inner surface of the cavity or the inner surface of the door; and
A coating layer coated on the buffer layer and formed by the enamel composition of any one of claims 1 to 4; including,
cooking equipment.
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