KR20210084326A - Method for preparing the nail art - Google Patents

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KR20210084326A
KR20210084326A KR1020200184807A KR20200184807A KR20210084326A KR 20210084326 A KR20210084326 A KR 20210084326A KR 1020200184807 A KR1020200184807 A KR 1020200184807A KR 20200184807 A KR20200184807 A KR 20200184807A KR 20210084326 A KR20210084326 A KR 20210084326A
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing nail art, including a step of forming nail art including a base layer and a coating layer from a laminate by applying pressure to the laminate including a preliminary substrate layer and a preliminary coating layer through a mold, wherein when the pressure is applied, the temperature of the mold is 60 to 160℃, and the pressure is 6 to 12 Mpa.

Description

네일 아트의 제조 방법{METHOD FOR PREPARING THE NAIL ART}The manufacturing method of nail art {METHOD FOR PREPARING THE NAIL ART}

본 발명은 네일 아트의 제조 방법에 관한 것으로, 상기 네일 아트가 신규한 형상을 지닌 것에 특징이 있다.The present invention relates to a method for manufacturing nail art, characterized in that the nail art has a novel shape.

인간이 추구하는 신체적 아름다움의 표현 방식의 하나로 미용 산업은 발달이 가속화되는 동시에 세분화되고 있다. 특히, 20세기 이후 급격한 시장 확대와 함께 일반인들에게 미용 산업은 대중화되기 시작했다. 미용 산업 중에서도, 네일 아트(nail art)는 연령층과 성별의 관계 없이 신체에 대한 표현 예술의 필수적인 요소로 최근 급격한 발전이 이루어지고 있다.As one of the ways of expressing physical beauty that humans pursue, the beauty industry is being subdivided at the same time as the development accelerates. In particular, with the rapid market expansion after the 20th century, the beauty industry began to become popular with the general public. Among the beauty industry, nail art is an essential element of expressive art for the body regardless of age or gender, and has been rapidly developing in recent years.

본래, 네일 아트는 미용 예술의 한 분야로서 인간의 바디를 아름답게 꾸미기 위한 방법의 하나로서, 네일 아트의 길이나 모양 또는 색깔은 시대의 문화의 변화와 가치를 반영하여 표현되어 왔다.Originally, nail art is a field of beauty art, and as one of the methods for beautifying the human body, the length, shape, or color of nail art has been expressed by reflecting the changes and values of the culture of the times.

네일 아트 중에서도 인공적으로 제조한 손톱 또는 발톱 형상의 네일 아트(네일 아트 스티커라고도 불리움)이 많은 사람들에게 사용되고 있다. 예전에는 손톱 또는 발톱 형상과 같이 곡선을 그리며 휘어진 형상으로 네일 아트가 제조되어 소비자에게 공급되었다. 다만, 사람마다 손톱 또는 발톱의 모양(특히 곡률)이 상이하므로, 이미 휘어진 형상을 가지는 네일 아트와 소비자의 손톱 또는 발톱이 밀접하게 접착되기 어려운 문제가 있었다.Among nail art, artificially manufactured nail or toenail-shaped nail art (also called nail art sticker) is used by many people. In the past, nail art was manufactured and supplied to consumers in a curved shape such as a nail or toenail shape. However, since the shape (especially the curvature) of the nail or toenail is different for each person, there is a problem in that it is difficult to closely adhere the nail art having a curved shape to the nail or toenail of the consumer.

이를 해결하기 위한 방법으로 자외선 경화 원료를 포함하는 네일 아트가 최근 들어 각광을 받고 있다. 구체적으로, 소비자는 자신들의 손톱 또는 발톱에 맞게 상기 네일 아트를 변형시킨 뒤 자외선을 조사하여 상기 네일 아트를 경화시키게 된다. 이에 따라 소비자의 손톱 또는 발톱과 상기 네일 아트가 밀접하게 접착될 수 있으므로, 상기 네일 아트의 접착력이 개선될 수 있다. As a method to solve this problem, nail art containing UV curing materials has recently been in the spotlight. Specifically, the consumer modifies the nail art to fit their nails or toenails and then irradiates the nail art to harden the nail art. Accordingly, a consumer's fingernail or toenail and the nail art can be closely adhered, so that the adhesive force of the nail art can be improved.

한편, 종래의 네일 아트의 경우, 상기 네일 아트에 측면이 상기 네일 아트의 상면에 대해 수직에 가깝게 형성되는 문제가 있다. 도 2를 참조하면, 네일 아트(100)의 측면(100b)과 상면(100a)은 거의 수직을 이루고 있다. 이에 따라, 소비자가 생활하는 과정에서 종래의 네일 아트의 외주 부분이 쉽게 마모되는 문제가 있으며, 외부 충격에 의해 손톱 또는 발톱으로부터 상기 네일 아트가 쉽게 떨어져나가는 문제가 있다. 이러한 문제는 네일 아트의 얇은 두께에 기하여 더욱 심하게 발생된다. 또한, 네일 아트의 옆면(100b)과 상면(100a)이 수직에 가까운 각도로 형성된 점은 빛이 반사되는 방향을 지나치게 한정하므로, 상기 네일 아트를 입체적으로 보이지 못하게 하여 미용상의 목적을 반감시키는 문제가 있다.On the other hand, in the case of the conventional nail art, there is a problem in that the side of the nail art is formed close to perpendicular to the upper surface of the nail art. Referring to FIG. 2 , the side surface 100b and the upper surface 100a of the nail art 100 are substantially perpendicular. Accordingly, there is a problem in that the outer periphery of the conventional nail art is easily worn in the course of a consumer's life, and the nail art is easily detached from the nail or toenail due to an external impact. This problem is more severe due to the thin thickness of the nail art. In addition, since the point where the side surface 100b and the top surface 100a of the nail art are formed at an angle close to vertical limits the direction in which light is reflected too much, the problem of halving the cosmetic purpose by making the nail art invisible three-dimensionally have.

대한민국 공개특허 제10-2019-0014044호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2019-0014044

본 발명이 해결하고자 하는 일 과제는, 마모가 억제되고 부착 능력이 높으며, 입체적으로 보여 미용성이 극대화된 네일 아트의 제조 방법을 제공하는 것이다.One problem to be solved by the present invention is to provide a method of manufacturing nail art in which abrasion is suppressed, adhesion ability is high, and beauty properties are maximized by looking three-dimensionally.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 예비 기재층 및 예비 코팅층을 포함하는 적층체에 성형틀을 통해 압력을 가하여 상기 적층체로부터 기재층 및 코팅층을 포함하는 네일 아트를 형성하는 단계를 포함하며, 상기 압력이 가해질 때, 상기 성형틀의 온도는 55℃ 내지 170℃이며, 상기 압력은 6Mpa 내지 12Mpa으로 가해지는 네일 아트의 제조 방법이 제공된다. According to an embodiment of the present invention, the method includes applying pressure to a laminate including a preliminary substrate layer and a preliminary coating layer through a mold to form nail art including a substrate layer and a coating layer from the laminate, wherein the When pressure is applied, the temperature of the mold is 55° C. to 170° C., and the pressure is 6 Mpa to 12 Mpa.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 예비 기재층 및 예비 코팅층을 포함하는 적층체에 성형틀을 통해 압력을 가하여 상기 적층체로부터 기재층 및 코팅층을 포함하는 네일 아트를 형성하는 단계를 포함하며, 하기 식 1을 만족하는 네일 아트의 제조 방법이 제공된다.According to another embodiment of the present invention, the method includes applying pressure to a laminate including a preliminary substrate layer and a preliminary coating layer through a molding die to form nail art including a substrate layer and a coating layer from the laminate, wherein: A method of manufacturing nail art satisfying Equation 1 is provided.

[식 1][Equation 1]

0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.5 mm0.05 mm ≤ T 2 -T 1 ≤ 0.5 mm

상기 T1는 상기 네일 아트의 하면의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며, 상기 T2은 상기 네일 아트의 최 측면으로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다.Wherein T 1 is the thickness of the nail art measured at the outer periphery of the lower surface of the nail art, and T 2 is the thickness of the nail art at a point spaced by 1 mm from the outermost side of the nail art toward the center of the nail art.

본 발명의 네일 아트 제조방법에 따르면 측면 부근에서부터 상기 네일 아트의 중심부를 향하는 방향에 있어서 상기 네일 아트의 두께가 증가하므로, 네일 아트의 내마모성이 개선될 수 있고, 상기 네일 아트가 입체적으로 보여 미용성이 극대화될 수 있다. 나아가, 상술한 형태의 네일 아트를 비교적 간단한 방법으로 다량의 네일 아트를 한번에 제조할 수 있는 바, 대량 생산성 개선, 공정의 간소화 및 비용 절감이 가능하다.According to the nail art manufacturing method of the present invention, since the thickness of the nail art increases in the direction from the vicinity of the side to the center of the nail art, the abrasion resistance of the nail art can be improved, and the nail art can be seen three-dimensionally, so that the nail art is aesthetically pleasing This can be maximized. Furthermore, since a large amount of nail art can be manufactured at once by using the above-described type of nail art in a relatively simple manner, it is possible to improve mass productivity, simplify the process, and reduce costs.

도 1은 네일 아트를 설명하기 위한 평면 모식도이다.
도 2는 도 1의 A-A'을 따라 확인한 종래의 네일 아트의 단면 모식도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 아트의 제조 방법으로 제조된 네일 아트에 관한 것으로, 도 1의 A-A'을 따라 확인한 본 발명의 네일 아트의 단면 모식도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 아트의 제조 방법으로 제조된 네일 아트를 설명하기 위한 도면으로, 도 3의 B 부분을 확대한 확대 단면 모식도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 아트의 제조 방법으로 제조된 네일 아트에 관한 것으로, 도 1의 A-A'을 따라 확인한 본 발명의 네일 아트의 단면 모식도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 아트의 제조 방법으로 제조된 네일 아트에 관한 것으로, 도 1의 A-A'을 따라 확인한 본 발명의 네일 아트의 단면 모식도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 아트의 제조 방법을 설명하기 위한 모식도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 아트의 제조 방법에서 사용되는 성형틀의 모식도이다.
도 9는 도 8을 C방향에서 바라볼 때를 나타낸 평면 모식도이다.
도 10은 도 9의 D-D'에 따른 단면 모식도이다.
도 11 및 도 12는 각각 실시예 1의 네일 아트의 마모 평가 전/후 사진이다.
도 13 및 도 14은 각각 비교예 2의 네일 아트의 마모 평가 전/후 사진이다.
1 is a schematic plan view for explaining nail art.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a conventional nail art taken along line A-A' of FIG. 1 .
3 is a nail art manufactured by the method for manufacturing nail art according to an embodiment of the present invention, and is a schematic cross-sectional view of the nail art of the present invention taken along line A-A' of FIG. 1 .
4 is a view for explaining nail art manufactured by the method of manufacturing nail art according to an embodiment of the present invention, and is an enlarged cross-sectional schematic view of part B of FIG. 3 .
5 is a nail art manufactured by the method for manufacturing nail art according to an embodiment of the present invention, and is a schematic cross-sectional view of the nail art of the present invention taken along line A-A' of FIG. 1 .
6 is a cross-sectional schematic view of the nail art of the present invention taken along line A-A' of FIG. 1, which relates to nail art manufactured by the method for manufacturing nail art according to an embodiment of the present invention.
7 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing nail art according to an embodiment of the present invention.
8 is a schematic diagram of a molding frame used in a method for manufacturing nail art according to an embodiment of the present invention.
Fig. 9 is a schematic plan view showing Fig. 8 when viewed from the C direction.
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view taken along line D-D' of FIG. 9 .
11 and 12 are photographs before and after wear evaluation of the nail art of Example 1, respectively.
13 and 14 are photographs before and after evaluation of wear of the nail art of Comparative Example 2, respectively.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.Since the present invention can have various changes and can have various embodiments, specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description.

그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise.

본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present invention, terms such as "comprises" or "have" are intended to designate that the features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification exist, but one or more other features It should be understood that this does not preclude the possibility of addition or existence of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

본 발명에서, “상”에 배치 또는 위치하는 것은 직접 맞닿은 상태로 대상의 위에 존재하는 것 뿐만 아니라 이격된 상태로 대상의 위에 배치 또는 위치하는 것을 의미할 수 있다. In the present invention, disposing or positioning on “on” may mean not only being present on the object in a state of direct contact, but also placing or positioning on the object in a spaced state.

본 발명에서 측정되는 두께는 Keyence사의 VHX-970F 장비를 통해 확인될 수 있다. The thickness measured in the present invention can be confirmed through the VHX-970F equipment of Keyence.

본 발명에서 “평평하다”의 의미는 굴곡이나 단차가 없거나, 있더라도 무시할 수 있을 정도의 매우 작은 수준을 의미한다. 예컨대 오차 범위 ±0.01 mm 이하 수준일 수 있다. In the present invention, the meaning of “flat” means that there is no curvature or step, or a very small level that can be ignored even if there is. For example, the error range may be less than or equal to ±0.01 mm.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하도록 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, the terms or words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to their ordinary or dictionary meanings, and the inventor should properly understand the concept of the term in order to best describe his invention. Based on the principle that it can be defined, it should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the configuration shown in the embodiments and drawings described in the present specification is only the most preferred embodiment of the present invention and does not represent all of the technical spirit of the present invention, so at the time of the present application, various It should be understood that there may be equivalents and variations.

<네일 아트의 제조 방법> <Manufacturing method of nail art>

상기 네일 아트란, 손톱 또는 발톱에 부착되는 용도로 제조되는 인공적인 적층 구조체를 의미한다. 부착되는 용도를 고려하여 네일 스티커 또는 네일 아트 스티커라고도 불린다. 구체적으로, 소비자가 상기 네일 아트를 공급받으면, 소비자는 상기 네일 아트를 손톱 또는 발톱 상에 밀착되도록 상기 네일 아트의 형태를 변형시켜가며 상기 네일 아트를 손톱 또는 발톱 상 부착시키며, 이 후 자외선을 조사하여 상기 네일 아트를 경화시킬 수 있다.The nail art refers to an artificial laminated structure manufactured to be attached to a nail or toenail. It is also called a nail sticker or a nail art sticker in consideration of the intended use. Specifically, when the consumer is supplied with the nail art, the consumer attaches the nail art to the nail or toenail while changing the shape of the nail art so that the nail art is in close contact with the nail or toenail, and then irradiated with ultraviolet rays. to harden the nail art.

본 발명의 일 실시예에 따른 네일 아트의 제조 방법은 예비 기재층 및 예비 코팅층을 포함하는 적층체에 성형틀을 통해 압력을 가하여 상기 적층체로부터 기재층 및 코팅층을 포함하는 네일 아트를 형성하는 단계를 포함하며, 상기 압력이 가해질 때, 상기 성형틀의 온도는 55℃ 내지 170℃이며, 상기 압력은 6MPa 내지 12MPa으로 가해질 수 있다. A method of manufacturing nail art according to an embodiment of the present invention comprises the steps of applying pressure to a laminate including a preliminary substrate layer and a preliminary coating layer through a molding die to form nail art including a substrate layer and a coating layer from the laminate. Including, when the pressure is applied, the temperature of the molding die is 55 ℃ to 170 ℃, the pressure may be applied to 6 MPa to 12 MPa.

상기 적층체는 예비 기재층 및 상기 예비 기재층 상에 배치된 예비 코팅층을 포함할 수 있다. 상기 예비 기재층 및 예비 코팅층이란 제조 과정이 종료되면 각각 그 일부가 기재층과 코팅층을 구성하게 되는 구성들을 의미한다. The laminate may include a preliminary substrate layer and a preliminary coating layer disposed on the preliminary substrate layer. The preliminary substrate layer and the preliminary coating layer refer to configurations in which a part constitutes the substrate layer and the coating layer, respectively, when the manufacturing process is completed.

상기 예비 코팅층의 두께는 200 ㎛ 내지 500 ㎛일 수 있으며, 구체적으로 250 ㎛ 내지 350 ㎛일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시 손톱위에 사용하기 좋은 굴곡감을 제공한다. The thickness of the pre-coat layer may be 200 μm to 500 μm, specifically, 250 μm to 350 μm. When the above range is satisfied, it provides a good bending feeling for use on the nail.

상기 적층체의 두께는 400 ㎛ 내지 650 ㎛일 수 있으며, 구체적으로 350 ㎛ 내지 480 ㎛일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시 소비자가 손톱위에 사용하기 좋은 두께감을 제공한다. The thickness of the laminate may be 400 μm to 650 μm, and specifically 350 μm to 480 μm. When the above range is satisfied, it provides a feeling of thickness suitable for use on nails by consumers.

상기 예비 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함할 수 있다. The precoat layer may include an ultraviolet curing raw material, a photoinitiator, and a resin.

상기 자외선 경화 원료가 상기 예비 코팅층에 포함됨에 따라, 상기 네일 아트를 구매한 소비자는 자신의 손톱 또는 발톱과 밀착되도록 상기 네일 아트를 변형시킨 뒤, 자외선을 조사 하여 변형된 네일 아트의 형상대로 네일 아트를 경화시킬 수 있다. 이에 따라 상기 네일 아트와 손톱/발톱이 완전히 밀착된 상태로 서로 접합될 수 있으므로, 네일 아트 접착력이 개선될 수 있다. 또한, 부착 후 경화 공정을 통하여 표면 강도를 올릴수 있다. As the UV curing raw material is included in the pre-coating layer, the consumer who purchased the nail art deforms the nail art so that it adheres to their nails or toenails, and then irradiates the UV rays to make the nail art in the shape of the modified nail art can be hardened. Accordingly, since the nail art and the nail/toenail can be bonded to each other in a completely close contact state, the nail art adhesive force can be improved. In addition, it is possible to increase the surface strength through a curing process after attachment.

상기 자외선 경화 원료는 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머, 폴리에테르 아크릴레이트계 올리고머, 에폭시 아크릴레이트계 올리고머, 폴리 카보네이트 아크릴레이트계 올리고머, 실리콘 아크릴레이트계 올리고머, 및 아크릴 아크릴레이트계 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. The UV curing raw material is a urethane acrylate-based oligomer, a polyester acrylate-based oligomer, a polyether acrylate-based oligomer, an epoxy acrylate-based oligomer, a polycarbonate acrylate-based oligomer, a silicone acrylate-based oligomer, and an acrylic acrylate-based oligomer. It may include at least one selected from the group consisting of.

구체적으로, 상기 자외선 경화 원료는 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 에폭시 아크릴레이트계 올리고머, 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있으며, 보다 구체적으로 우레탄 아크릴레이트계 올리고머를 포함할 수 있다. Specifically, the UV curing raw material may include at least one of a urethane acrylate-based oligomer, an epoxy acrylate-based oligomer, and a polyester acrylate-based oligomer, and more specifically, a urethane acrylate-based oligomer.

상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머는 자외선에 의한 경화가 용이하며 경화 후에도 소정의 유연한 물성을 가질 수 있어서 유리한다. 또한, 헤이즈 현상이 최소화될 수 있어서 코팅층의 투명성이 유지될 수 있다. The urethane acrylate-based oligomer is advantageous in that it can be easily cured by ultraviolet rays and can have predetermined flexible physical properties even after curing. In addition, the haze phenomenon can be minimized, so that the transparency of the coating layer can be maintained.

상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머는 2 관능기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 4 관능기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 6 관능기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. The urethane acrylate oligomer may include at least one selected from the group consisting of a bifunctional urethane acrylate oligomer, a tetrafunctional urethane acrylate oligomer, and a 6 functional urethane acrylate oligomer.

구체적으로 상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머는 올리고머는 미원 사 제품인 PU210, Pu 280, PU640, SC2404, SATOMER 사 제품인 CN 9033, CN 9047 로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다Specifically, the urethane acrylate-based oligomer may include at least one selected from the group consisting of PU210, Pu 280, PU640, SC2404 manufactured by Miwon, CN 9033, CN 9047 manufactured by SATOMER.

상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머의 중량평균분자량은 1,000 g/mol 내지 10,000,000 g/mol 일 수 있으며, 구체적으로 1,000 g/mol 내지 100,000 g/mol일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 본 발명의 네일 아트의 예비 코팅층이 적절한 유동성을 가질 수 있으므로, 공정이 용이하다.The weight average molecular weight of the urethane acrylate-based oligomer may be 1,000 g/mol to 10,000,000 g/mol, and specifically, 1,000 g/mol to 100,000 g/mol. When the above range is satisfied, the pre-coating layer of the nail art of the present invention may have appropriate fluidity, so the process is easy.

상기 에폭시 아크릴레이트계 올리고머의 경우 고반응성을 가지고 있어 고경도 및 연마성 등이 좋고, 경화가 쉽고, 유연성이 우수하며, 산소와의 접촉에도 경화가 안정적으로 진행될 수 있다. In the case of the epoxy acrylate-based oligomer, it has high reactivity, so it has good hardness and abrasiveness, is easy to cure, has excellent flexibility, and can be cured stably even in contact with oxygen.

상기 에폭시 아크릴레이트계 올리고머는 관능기 1개 또는 2개의 관능기를 가지고있으며, 관능기 1개일경우 연성을 나타내며, 관능기수가 높을수록 강성 또는 열적안정성을 보강한다. The epoxy acrylate-based oligomer has one or two functional groups, and exhibits ductility in the case of one functional group, and as the number of functional groups increases, rigidity or thermal stability is reinforced.

구체적으로 상기 에폭시 아크릴레이트계 올리고머는 미원 사 제품인 PE210, PE 2120, PE 250로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. Specifically, the epoxy acrylate-based oligomer may include at least one selected from the group consisting of PE210, PE 2120, and PE 250 manufactured by Miwon Corporation.

상기 에폭시 아크릴레이트계 올리고머의 중량평균분자량은 100 g/mol 내지 10,000 g/mol일 수 있으며, 구체적으로 500 g/mol 내지 6,000 g/mol일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 예비 코팅층이 적절한 강도와 점성을 가지므로, 공정성이 양호하다.The weight average molecular weight of the epoxy acrylate-based oligomer may be 100 g/mol to 10,000 g/mol, and specifically 500 g/mol to 6,000 g/mol. When the above range is satisfied, since the pre-coat layer has appropriate strength and viscosity, processability is good.

상기 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머는 반응성이 우수하고 우레탄 아크릴레이트계 올리고머 및 에폭시 아크릴레이트계 올리고머 보다 접착력이 우수한 성질을 가지고 있다 .The polyester acrylate-based oligomer has excellent reactivity and has superior adhesion properties than urethane acrylate-based oligomers and epoxy acrylate-based oligomers.

상기 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머는 보통 관능기가 4개 또는 6개를 갖는 올리고머를 사용한다. 구체적으로 상기 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머는 미원 사 제품인 PS4040, PS460, PS6300 Etermer 6311-100, 6312-100, 6314C-60로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. As the polyester acrylate-based oligomer, an oligomer having 4 or 6 functional groups is usually used. Specifically, the polyester acrylate-based oligomer may include at least one selected from the group consisting of PS4040, PS460, PS6300 Etermer 6311-100, 6312-100, and 6314C-60 manufactured by Miwon.

상기 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머의 중량평균분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol 일 수 있으며, 구체적으로 1,500 g/mol 내지 38,000 g/mol일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 만족할만한 경도와 접착력을 얻을 수 있다 .The weight average molecular weight of the polyester acrylate-based oligomer may be 500 g/mol to 50,000 g/mol, and specifically 1,500 g/mol to 38,000 g/mol. When the above range is satisfied, satisfactory hardness and adhesive strength can be obtained.

상기 예비 코팅층 내에서, 상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머 100중량부에 대해 상기 에폭시 아크릴레이트계 올리고머는 10중량부 내지 30중량부로 포함될 수 있으며, 구체적으로 1 중량부 내지 3 중량부로 포함될 수 있다. 상기 코팅층 내에서, 상기 우레탄 아크릴레이트계 올리고머 100중량부에 대해 상기 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머는 10중량부 내지 20중량부로 포함될 수 있으며, 구체적으로 2 중량부 내지 8 중량부로 포함될 수 있다. 상기 조성을 만족할 시, 공기 중에 상기 예비 코팅층이 노출되어도 급속한 경화가 발생하지 않으며, 네일 아트 부착 후에도 내구성이 유지될 수 있다. 또한. 본 발명의 제조 방법을 이용할 시 네일 아트의 외주 부분의 두께가 원만하게 증가되도록 네일 아트의 제조가 가능하다. In the precoat layer, the epoxy acrylate-based oligomer may be included in an amount of 10 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the urethane acrylate-based oligomer, and specifically may be included in an amount of 1 to 3 parts by weight. In the coating layer, the polyester acrylate-based oligomer may be included in an amount of 10 to 20 parts by weight, specifically 2 to 8 parts by weight, based on 100 parts by weight of the urethane acrylate-based oligomer. When the above composition is satisfied, rapid curing does not occur even when the pre-coating layer is exposed to air, and durability can be maintained even after nail art is attached. Also. When the manufacturing method of the present invention is used, it is possible to manufacture nail art such that the thickness of the outer peripheral portion of the nail art is smoothly increased.

상기 자외선 경화 원료는 상기 예비 코팅층 내에 30 중량% 내지 58 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로 45 중량% 내지 55 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 네일 아트의 외주 부분의 두께가 원만하게 증가되도록 네일 아트의 제조가 가능하다.The ultraviolet curing raw material may be included in the pre-coating layer in an amount of 30 wt% to 58 wt%, specifically 45 wt% to 55 wt%. When the above range is satisfied, it is possible to manufacture nail art such that the thickness of the outer peripheral portion of the nail art is smoothly increased.

상기 광 개시제는 자외선 조사에 의해 중합 반응을 개시하는 역할을 한다. 구체적으로 상기 광 개시제는 자외선 광 개시제일 수 있다. The photoinitiator serves to initiate a polymerization reaction by UV irradiation. Specifically, the photoinitiator may be an ultraviolet photoinitiator.

상기 광 개시제는 200nm 내지 600 nm 범위의 흡수 파장 대역을 갖는 것일 수 있다. The photoinitiator may have an absorption wavelength band in the range of 200 nm to 600 nm.

상기 광 개시제는 트리메틸벤조일 포스핀 옥사이드(Trimethylbenzoyl Phosphine oxide), 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥사이드(Phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide), 및 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-4(4-모포리닐)페닐]-1-부타논(2-Benzyl-2-(dimethylamino)-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. The photoinitiator is trimethylbenzoyl phosphine oxide, phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (Phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide), and 2-benzyl- 2-(dimethylamino)-1-[4-4(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone (2-Benzyl-2-(dimethylamino)-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]- 1-butanone) may include at least one selected from the group consisting of.

상기 광 개시제는 상기 예비 코팅층 내에 0.1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족할 시 사용자가 자외선 조사를 통해 손쉽게 경화 시킬수 있다. The photoinitiator may be included in an amount of 0.1 wt% to 20 wt% in the pre-coating layer, and specifically may be included in an amount of 1 wt% to 10 wt%. When the above range is satisfied, the user can easily harden it through ultraviolet irradiation.

상기 수지는 상기 예비 코팅층의 흐름성을 제어하여 형태를 유지시키는 역할을 할 수 있다. 또한, 상기 수지에 의해 상기 예비 코팅층을 형성하기 위한 코팅층 형성용 조성물이 적절한 점도를 가질 수 있어서, 상기 코팅층이 목적하는 형태로 제조될 수 있다. 또한 이 수지의 기본 물성들이 코팅층의 기본 물성을 만들어 주기 때문에 소비자들이 손쉽게 만지고 구부리게 할수 있다. The resin may serve to maintain the shape by controlling the flowability of the pre-coating layer. In addition, the composition for forming a coating layer for forming the pre-coat layer by the resin may have an appropriate viscosity, so that the coating layer may be prepared in a desired shape. In addition, since the basic physical properties of this resin make the basic properties of the coating layer, consumers can easily touch and bend it.

상기 수지는 유리전이온도(Tg)가 30 ℃ 내지 200 ℃, 구체적으로 50 ℃ 내지 150 ℃인 열가소성 수지일 수 있다. 그 경우, 본 발명의 제조 방법에 있어서 사용되는 성형틀의 온도를 고려할 시, 네일 아트의 원활한 제조가 가능하다. The resin may be a thermoplastic resin having a glass transition temperature (Tg) of 30 °C to 200 °C, specifically 50 °C to 150 °C. In that case, considering the temperature of the molding die used in the manufacturing method of the present invention, it is possible to smoothly manufacture the nail art.

상기 수지는 아크릴계 수지, 니트로 셀룰로오스 수지, 우레탄계 수지, 초산수지, 에스터계 수지, 염화비닐 수지, 및 스티렌 수지로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. The resin may include at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, a nitrocellulose resin, a urethane-based resin, an acetate resin, an ester-based resin, a vinyl chloride resin, and a styrene resin.

특히, 상기 니트로 셀룰로오스 수지는 한국씨엔씨 HRS 1/8 ~ 20 SS type 1/8 ~ 1/2 를 포함할 수 있다. 상기 니트로 셀룰로오스 수지가 RS 1/8 ~ 1/4 를 포함하는 경우, 점도가 낮아 높은 고형분을 유지할수 있다. 상기 니트로 셀룰로오스 수지의 질소 함량은 11.5 % 내지 12.2 %일 수 있으며, 구체적으로 점도에 따라 1/8초 ~ 20초로 나눌 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 낮은 점도를 유지할 수 있도록 가능하여 고형분 함량을 높일 수 있다. In particular, the nitrocellulose resin may include Korea CNC HRS 1/8 to 20 SS type 1/8 to 1/2. When the nitrocellulose resin contains RS 1/8 to 1/4, the viscosity is low and high solid content can be maintained. The nitrogen content of the nitrocellulose resin may be 11.5% to 12.2%, and specifically, it may be divided into 1/8 second to 20 seconds depending on the viscosity. When the above range is satisfied, it is possible to maintain a low viscosity, thereby increasing the solid content.

상기 수지는 상기 예비 코팅층 내에 40 중량% 내지 55 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로 20 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족할 시 상온에서 취급해도 문제가 없을 정도 네일 아트의 끈끈함이 없어지며, 광택을 높일수 있다. The resin may be included in an amount of 40 wt% to 55 wt% in the pre-coating layer, and specifically may be included in an amount of 20 wt% to 30 wt%. When the above range is satisfied, the stickiness of the nail art disappears to the extent that there is no problem even when handled at room temperature, and the gloss can be increased.

상기 자외선 경화 원료와 상기 수지의 중량비는 35:65 내지 65:30일 수 있으며, 구체적으로 45:55 내지 55:45일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시, 제조된 네일 아트의 외주 부분이 완만한 곡선을 가질 수 있으므로, 내마모성이 증가하고 미용 상 효과도 극대화될 수 있다. The weight ratio of the ultraviolet curing raw material to the resin may be 35:65 to 65:30, specifically 45:55 to 55:45. When the above range is satisfied, since the outer peripheral portion of the manufactured nail art may have a gentle curve, abrasion resistance may be increased and cosmetic effects may be maximized.

상기 예비 코팅층 내에, 상기 자외선 경화 원료는 30 중량% 내지 58 중량%로 포함되고, 상기 광 개시제는 0.1 중량% 내지 20 중량%로 포함되고, 상기 수지는 40 중량% 내지 55 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 상기 예비 코팅층이 제조 과정에서 연질의 물성을 가질 수 있으므로, 최종적으로 제조되는 코팅층은 상술한 실시예에서 설명한 형태를 가질 수 있다. In the pre-coating layer, the ultraviolet curing raw material is included in an amount of 30 wt% to 58 wt%, the photoinitiator is included in an amount of 0.1 wt% to 20 wt%, and the resin is included in an amount of 40 wt% to 55 wt% . When the above range is satisfied, since the preliminary coating layer may have soft physical properties during the manufacturing process, the finally manufactured coating layer may have the shape described in the above-described embodiment.

도 8 내지 도 10을 참조하면, 상기 성형틀(400)은 가압면(400c)를 가진다. 상기 가압면(400c)은 상기 적층체에 가장 먼저 닿는 부분에 해당한다. 상기 성형틀(400)의 가압면(400c)은 외주(400a) 및 상기 외주(400a) 및 상기 외주(400a)와 이격된 내주(400b)를 가지는 형태일 수 있다. 구체적으로 상기 내주(400b)에 의해 둘러쌓인 빈 공간은 상기 네일 아트 형태의 홀(h)에 해당하며, 상기 홀(h)은 상기 성형틀(400)을 관통할 수도 있고, 관통하지 않은 오목부에 해당할 수도 있다. 8 to 10 , the mold 400 has a pressing surface 400c. The pressing surface 400c corresponds to a portion that first comes into contact with the laminate. The pressing surface 400c of the mold 400 may have an outer circumference 400a and an inner circumference 400b spaced apart from the outer circumference 400a and the outer circumference 400a. Specifically, the empty space surrounded by the inner periphery 400b corresponds to the hole h of the nail art form, and the hole h may pass through the molding frame 400, and a recess that does not penetrate may correspond to

상기 가압면(400c)의 폭(W)은 0.3mm 내지 1.5mm일 수 있으며, 구체적으로 0.4mm 내지 0.7mm일 수 있으며, 보다 구체적으로 0.45mm 내지 0.7mm일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시, 최종적으로 제조되는 네일 아트의 측면이 완만한 곡선을 가질 수 있어서, 내마모성이 개선되며 미용적인 효과가 극대화될 수 있다. 또한, 상기 적층체 절단이 원활하여 불량률이 줄어들고 공정성이 개선될 수 있다. The width W of the pressing surface 400c may be 0.3 mm to 1.5 mm, specifically 0.4 mm to 0.7 mm, and more specifically 0.45 mm to 0.7 mm. When the above range is satisfied, the side of the finally manufactured nail art may have a gentle curve, so that the abrasion resistance may be improved and the cosmetic effect may be maximized. In addition, since the laminate is smoothly cut, a defect rate may be reduced and fairness may be improved.

상기 가압면은 평평할 수도 있으나(도 10의 (a) 참조), 이와 달리 돌출된 형태일 수도 있다(도 10의 (b) 참조). 상기 돌출된 형태의 경우에도 압력을 가하는 과정에서 상기 돌출된 부분은 눌려서 순간적으로 평평한 모양을 가질 수 있다. 이러한 경우를 모두 고려하여 상기 가압면의 폭이란 압력에 의해 눌렸을 때, 그 나타나는 가압면의 폭을 의미한다. The pressing surface may be flat (refer to (a) of FIG. 10), or alternatively, may have a protruding shape (refer to (b) of FIG. 10). Even in the case of the protruding shape, the protruding portion may be momentarily flattened by being pressed in the process of applying pressure. In consideration of all these cases, the width of the pressing surface means the width of the pressing surface that appears when pressed by pressure.

상기 성형틀의 높이(H)는 상기 적층체의 두께 이상일 수 있다. 구체적으로 상기 높이는 12 mm 내지 24 mm 일 수 있다. The height (H) of the mold may be greater than or equal to the thickness of the laminate. Specifically, the height may be 12 mm to 24 mm.

도 7을 참조하면, 상기 압력이 가하는 공정에 있어서, 상기 적층체(100')는 상부 판(300b)에 배치되고, 상기 성형틀(400)이 하면에 배치된 하부 판(300a)은 상기 적층체의 예비 코팅층(110')의 하부에 위치할 수 있다(도 7의 (a) 참조). Referring to FIG. 7 , in the process of applying the pressure, the laminate 100 ′ is disposed on the upper plate 300b , and the lower plate 300a on which the mold 400 is disposed on the lower surface is the laminate. It may be located under the pre-coating layer 110' of the sieve (refer to (a) of FIG. 7).

경우에 따라 상기 적층체(100')와 상기 상부 판(300b) 사이에 버퍼층(600)이 배치될 수도 있다. 상기 버퍼층(600)은 성형틀(400)의 마모 및 변형을 억제하는 역할을 할 수 있다. 상기 버퍼층(600)은 베크라이트를 포함할 수 있다. 상기 버퍼층의 두께는 2mm 내지 4mm일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.In some cases, a buffer layer 600 may be disposed between the stacked body 100 ′ and the upper plate 300b. The buffer layer 600 may serve to suppress wear and deformation of the mold 400 . The buffer layer 600 may include Bakelite. The thickness of the buffer layer may be 2 mm to 4 mm, but is not limited thereto.

경우에 따라, 상기 압력을 가하기 전, 상기 예비 코팅층과 상기 성형틀 사이에 적어도 하나 이상의 공정 필름(500)이 배치될 수도 있다. 상기 공정 필름(500)은 원하는 네일 아트의 형태가 얻어질 수 있도록 하는 역할을 한다. In some cases, before applying the pressure, at least one process film 500 may be disposed between the pre-coat layer and the molding die. The process film 500 serves to obtain a desired nail art shape.

상기 공정 필름의 녹는점은 상기 성형틀의 온도보다 높을 수 있다. 구체적으로 상기 공정 필름은 PET , 폴리이미드(PolyImide), 배향된 폴리프로필렌 (Oriented polypropylene)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. The melting point of the process film may be higher than the temperature of the molding die. Specifically, the process film may include at least one selected from the group consisting of PET, polyimide, and oriented polypropylene.

상기 공정 필름은 상기 예비 코팅층과 상기 성형틀 사이에 1개 이상 배치될 수 있으며, 구체적으로 1개 내지 3개 배치될 수 있다. 이는 목적하는 네일 아트의 형태에 따라 달라질 수 있다. One or more process films may be disposed between the pre-coating layer and the molding die, and specifically, one to three may be disposed. This may vary depending on the type of nail art desired.

상기 공정 필름의 두께는 9㎛ 내지 188㎛일 수 있으며, 구체적으로 25 ㎛ 내지 125 ㎛일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시 상기 네일 아트의 형태가 용이하게 조절될 수 있다.The thickness of the process film may be 9 μm to 188 μm, specifically, 25 μm to 125 μm. When the above range is satisfied, the shape of the nail art may be easily adjusted.

도 7의 (b)를 참조하면, 상기 상부 판(300b)과 상기 하부 판(300a)이 서로 가까워짐에 따라 상기 적층체(100')를 상기 성형틀(400)이 소정의 압력으로 누르게 된다. 공정 필름을 사용하는 경우라면, 상기 성형틀(400)에 의해 상기 적층체(100') 뿐만 아니라 상기 공정 필름(500)도 함께 눌러지게 된다.Referring to FIG. 7B , as the upper plate 300b and the lower plate 300a come closer to each other, the mold 400 presses the laminate 100 ′ with a predetermined pressure. In the case of using a process film, the process film 500 as well as the laminate 100 ′ are pressed together by the molding die 400 .

상기 압력은 6MPa 내지 12MPa일 수 있으며, 구체적으로 6 MPa 내지 10 MPa일 수 있다. 상기 압력이 6MPa 미만인 경우, 네일 아트의 타발이 쉽지 않으며, 상기 적층체에 충분한 응력이 전달되지 않아서 목적하는 형태로 네일 아트가 제조되기 어렵다. 상기 압력이 12MPa을 초과하면, 상기 적층체가 손상되어 불량률이 지나치게 높은 문제가 있다. The pressure may be 6 MPa to 12 MPa, specifically 6 MPa to 10 MPa. When the pressure is less than 6 MPa, it is difficult to punch the nail art, and it is difficult to manufacture the nail art in a desired shape because sufficient stress is not transmitted to the laminate. When the pressure exceeds 12 MPa, the laminate is damaged, there is a problem that the defective rate is too high.

상기 압력을 가하는 시간은 1초 내지 20초일 수 있으며, 구체적으로 1 초 내지 10 초일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시 외주가 완만한 곡선을 가지는 네일 아트가 제조될 수 있다.The time for applying the pressure may be 1 second to 20 seconds, specifically 1 second to 10 seconds. When the above range is satisfied, nail art having a gentle curve on the outer periphery may be manufactured.

상기 압력이 가해질 시, 상기 성형틀의 온도는 55℃ 내지 170℃일 수 있으며, 구체적으로 60 ℃ 내지 120 ℃일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시 부드러운 외주를 가지는 네일 아트를 얻을수 있다. 상기 온도가 55℃ 미만인 경우, 상기 적층체를 목적하는 형태로 변형시키기 어렵다. 상기 온도가 170℃ 초과인 경우, 상기 적층체를 타발하기 어려우며, 상기 적층체가 손상되어 불량률이 지나치게 높은 문제가 있다.When the pressure is applied, the temperature of the mold may be 55°C to 170°C, and specifically, 60°C to 120°C. When the above range is satisfied, nail art having a soft outer periphery can be obtained. When the temperature is less than 55° C., it is difficult to deform the laminate into a desired shape. When the temperature is higher than 170° C., it is difficult to punch the laminate, and the laminate is damaged and the defective rate is too high.

도 7의 (c)를 참조하면, 상기 압력을 가하는 공정 이후, 상기 적층체는 절단되며, 상기 성형틀(또는 상기 성형틀과 상기 공정 필름)이 제거된 후 시간이 흐르면 상기 절단된 적층체는 코팅층(110)과 기재층(120)을 포함하는 네일 아트 형태를 가지게 된다. 이는 코팅층과 기재층의 복원력이 일부 작용한 결과이다. 즉, 본 발명의 네일 아트의 형태를 도출함에 있어서, 상기 네일 아트의 조성도 주요한 변수가 될 수 있음을 뜻한다. Referring to (c) of Figure 7, after the step of applying the pressure, the laminate is cut, and when time passes after the mold (or the mold and the process film) is removed, the cut laminate is It has a nail art shape including a coating layer 110 and a base layer 120 . This is a result of the restoring force of the coating layer and the base layer partially acting. That is, in deriving the form of the nail art of the present invention, it means that the composition of the nail art may also be a major variable.

상기 코팅층은 용매를 포함할 수도 있다. 상기 용매는 상기 코팅층의 제조를 위한 코팅층 형성용 조성물을 형성할 시 사용된 용매에 해당하며, 상기 코팅층 제조 과정에서 건조에 의해 제거된다. 다만, 상기 코팅층에 일부 용매가 매우 낮은 함량으로 잔류할 수도 있다.The coating layer may include a solvent. The solvent corresponds to a solvent used when forming the composition for forming a coating layer for the preparation of the coating layer, and is removed by drying in the process of preparing the coating layer. However, some solvents may remain in the coating layer in a very low content.

상기 코팅층은 기재층 상에 배치될 수 있다. 도 4를 참조하면, 상기 기재층(120)의 상면과 상기 코팅층(110)의 하면은 대향할 수 있고, 구체적으로 접할 수 있다. The coating layer may be disposed on the base layer. Referring to FIG. 4 , the upper surface of the base layer 120 and the lower surface of the coating layer 110 may face each other and may specifically contact each other.

상기 기재층은 접착층을 포함할 수 있다. 상기 접착층은 상기 네일 아트가 손톱 또는 발톱에 부착될 수 있도록 하는 화학적 접착력을 부여한다. 이에 따라, 상기 접착층은 상기 네일 아트의 하면을 구성하고 있을 수 있다. 본 발명의 네일 아트의 하면은 평평할 수 있는데, 이는 상기 접착층의 하면이 평평한 것을 의미할 수 있다. 상기 접착층은 접착 성분을 포함하며, 이는 당해 분야에 있어서 통상적으로 사용되는 접착 성분에 해당될 수 있다. The base layer may include an adhesive layer. The adhesive layer imparts a chemical adhesive force that allows the nail art to be attached to the nail or toenail. Accordingly, the adhesive layer may constitute the lower surface of the nail art. The lower surface of the nail art of the present invention may be flat, which may mean that the lower surface of the adhesive layer is flat. The adhesive layer includes an adhesive component, which may correspond to an adhesive component commonly used in the art.

상기 기재층은 디자인층을 더 포함할 수 있다. 상기 디자인층은 상기 접착층과 상기 코팅층 사이에 배치될 수 있다. 상기 디자인층은 컬러층 및 인쇄층 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 상기 디자인층은 상기 네일 아트에 색상을 부여하는 안료를 포함할 수 있다. 상기 인쇄층은 무늬 표현을 위한 입자, 운모 등의 심미성을 위한 다양한 재료를 포함할 수 있다. The base layer may further include a design layer. The design layer may be disposed between the adhesive layer and the coating layer. The design layer may include at least one of a color layer and a printing layer. The design layer may include a pigment that imparts a color to the nail art. The print layer may include various materials for aesthetics, such as particles and mica for pattern expression.

상기 네일 아트는 상기 코팅층 상에 배치되는 디자인 표현층을 더 포함할 수 있다. 상기 디자인 표현층은 무광과 같은 표현을 할 수 있으며, 입체적인 라인 또는 원뿔, 원형돔 등과 같은 후막형 입체도형 등을 표현할 수 있다. The nail art may further include a design expression layer disposed on the coating layer. The design expression layer may express a matte expression, and may express a three-dimensional line or a thick-film three-dimensional figure such as a cone or a circular dome.

상기 기재층의 하면 상에는 기재 필름이 배치될 수 있다. 상기 기재 필름은 상기 접착층의 오염을 방지하여 상기 네일 아트를 사용하기 전까지 접착력을 유지시키는 역할을 하며, 상기 네일 아트 사용 시 제거되는 구성에 해당한다. 상기 기재 필름은 당해 분야에 있어서 통상적으로 사용되는 성분을 포함할 수 있다.A base film may be disposed on the lower surface of the base layer. The base film prevents contamination of the adhesive layer to maintain adhesive strength until the nail art is used, and corresponds to a configuration that is removed when the nail art is used. The base film may include components commonly used in the art.

도 4를 참조하면, 상기 네일 아트의 하면(120a)의 외주(S)란 상기 네일 아트의 하면(120a)이 상기 코팅층의 옆면으로 노출되는 지점을 의미한다. 다시 말해, 상기 네일 아트는 평평한 하면(120a)를 포함하며, 상기 하면(120a)의 말단에는 상부 향해 휘어진 만곡부(120b)가 연장되어 있는데, 상기 하면(120a)과 상기 만곡부(120b)의 경계 지점을 외주(S)로 본다. 상기 네일 아트의 중심부란 상기 네일 아트의 단면 길이의 절반 또는 절반에 가까운 곳에 위치하는 지점을 의미할 수 있다. Referring to FIG. 4 , the outer periphery S of the lower surface 120a of the nail art refers to a point at which the lower surface 120a of the nail art is exposed to the side surface of the coating layer. In other words, the nail art includes a flat lower surface 120a, and a curved portion 120b bent upward is extended at the distal end of the lower surface 120a, and a boundary point between the lower surface 120a and the curved portion 120b. is considered as outsourcing (S). The central portion of the nail art may refer to a point located at half or close to half of the cross-sectional length of the nail art.

상기 네일 아트는 측면이 돌출부를 포함할 수 있다. 도 4를 참조하면, 상기 네일 아트의 측면(100b)은 상기 네일 아트의 하면의 외주(S)로부터 바깥쪽을 향하여 돌출된 영역의 면을 의미한다. 상기 돌출부에서 상기 네일 아트의 높이는 상기 네일 아트의 최 측면을 향하여 감소할 수 있다. 즉, 상기 네일 아트의 상면과 측면이 수직을 이루지 않도록 상기 네일 아트의 측면이 돌출부를 포함하므로, 상기 네일 아트 내 접착층의 노출이 최소화되어 네일 아트의 오염을 억제할 수 있으며, 사용자가 향후 네일 아트를 손톱 또는 발톱으로부터 제거할 시 용이하다. 상기 돌출부는 곡선으로 이루어질 수도 있다. The nail art may include a side protrusion. Referring to FIG. 4 , the side surface 100b of the nail art refers to a surface of a region protruding outward from the outer periphery S of the lower surface of the nail art. The height of the nail art from the protrusion may decrease toward the outermost side of the nail art. That is, since the side surface of the nail art includes protrusions so that the top surface and the side surface of the nail art are not perpendicular to each other, exposure of the adhesive layer in the nail art can be minimized, thereby suppressing contamination of the nail art, and allowing the user to use the nail art in the future. It is easy to remove from the nail or toenail. The protrusion may be formed of a curve.

본 발명의 다른 실시예에 따른 네일 아트의 제조 방법은, 예비 기재층 및 예비 코팅층을 포함하는 적층체에 성형틀을 통해 압력을 가하여 상기 적층체로부터 기재층 및 코팅층을 포함하는 네일 아트를 형성하는 단계를 포함하며, 하기 식 1을 만족할 수 있다. According to another embodiment of the present invention, a method for manufacturing nail art includes applying pressure to a laminate including a preliminary substrate layer and a preliminary coating layer through a mold to form nail art including a substrate layer and a coating layer from the laminate. step, and may satisfy Equation 1 below.

[식 1][Equation 1]

0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.5 mm0.05 mm ≤ T 2 -T 1 ≤ 0.5 mm

상기 T1는 상기 네일 아트의 하면의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며, 상기 T2은 상기 네일 아트의 최 측면으로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다. 상기 예비 기재층, 예비 코팅층, 적층체, 성형틀, 기재층, 코팅층은 상술한 실시예의 그것들과 동일하므로 설명을 생략한다. 또한, 상기 네일 아트는 상술한 실시예의 네일 아트와 동일할 수 있다. 상기 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함할 수 있다.Wherein T 1 is the thickness of the nail art measured at the outer periphery of the lower surface of the nail art, and T 2 is the thickness of the nail art at a point spaced by 1 mm from the outermost side of the nail art toward the center of the nail art. Since the preliminary substrate layer, the preliminary coating layer, the laminate, the mold, the substrate layer, and the coating layer are the same as those of the above-described embodiment, descriptions thereof will be omitted. Also, the nail art may be the same as the nail art of the above-described embodiment. The coating layer may include an ultraviolet curing raw material, a photoinitiator, and a resin.

상기 네일 아트는 하기 식 1을 만족할 수 있다. The nail art may satisfy Equation 1 below.

[식 1][Equation 1]

0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.5 mm0.05 mm ≤ T 2 -T 1 ≤ 0.5 mm

도 4를 참조하면, 상기 T1는 상기 네일 아트의 하면의 외주(S)에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며, 상기 T2은 상기 네일 아트의 최 측면(P)으로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다.Referring to FIG. 4 , the T 1 is the thickness of the nail art measured from the outer periphery (S) of the lower surface of the nail art, and the T 2 is the nail art from the outermost side (P) toward the center of the nail art. The thickness of the nail art at a distance of 1 mm.

상기 식 1을 만족한다는 것은, 상기 네일 아트의 두께가 상기 네일 아트의 최 측면으로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점부터 상기 네일 아트의 최 측면까지 감소하는 것을 의미하며, 이에 따라 상기 네일 아트가 입체적으로 보여 미용성이 극대화될 수 있다. 또한, 상기 네일 아트의 테두리 근처가 지나치게 각진 형상을 가지는 것이 억제될 수 있다. 이에 따라, 상기 네일 아트의 마모(구체적으로는 코팅층의 마모)가 억제되고 부착 능력이 높으며, 상기 네일 아트가 입체적으로 보여 미용성이 극대화될 수 있다. Satisfying Equation 1 above means that the thickness of the nail art decreases from the point at a distance of 1 mm from the outermost side of the nail art toward the center of the nail art to the outermost side of the nail art. can be seen three-dimensionally, so that aesthetics can be maximized. In addition, it can be suppressed that the vicinity of the edge of the nail art has an excessively angular shape. Accordingly, abrasion of the nail art (specifically, abrasion of the coating layer) is suppressed, the adhesion ability is high, and the nail art can be viewed three-dimensionally, thereby maximizing the aesthetics.

상기 식 1을 만족하지 않고 T2-T1 < 0.05 mm인 경우에는 경사진면이 느껴지지 않기 때문에 종래의 스티커(상면이 평평한 스티커)와 차이를 느끼기 어려우며, 빛이 반사되는 각도도 한정되어 미용 상 효과가 크지 않다. 나아가, 네일 아트의 외주 부분에서 상면과 옆면이 수직을 이룰 가능성이 커서 외주 부분의 마모가 쉽게 발생할 가능성이 있다. 반대로 상기 식 1을 만족하지 않고 T2-T1 > 0.5 mm인 경우에는 끝단 경사각이 너무 급격하게 형성되거나, 네일 아트의 가장 두꺼운 부분과 T2가 차이가 없어서, 입체성이 저하될 수 있다. 또한, 급격한 경사각에 의해 사용자가 이물감을 쉽게 느끼게 되는 문제가 있다. If Equation 1 is not satisfied and T 2 -T 1 < 0.05 mm, it is difficult to feel the difference from the conventional sticker (sticker with a flat top) because the inclined surface is not felt, and the angle at which light is reflected is also limited. The award effect is not great. Furthermore, there is a high possibility that the upper surface and the side surface are perpendicular to the outer peripheral portion of the nail art, so that the outer peripheral portion is likely to be easily abraded. Conversely, if Equation 1 is not satisfied and T 2 -T 1 >0.5 mm, the tip inclination angle may be formed too rapidly, or there may be no difference between T 2 and the thickest part of the nail art, so that the three-dimensionality may be deteriorated. In addition, there is a problem in that the user easily feels a foreign body feeling due to the sharp inclination angle.

보다 구체적으로 상기 네일 아트는 하기 식 1-1을 만족할 수 있다.More specifically, the nail art may satisfy Equation 1-1 below.

[식 1-1][Equation 1-1]

0.1 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.4 mm0.1 mm ≤ T 2 -T 1 ≤ 0.4 mm

상기 식 1-1을 만족할 시, 네일 아트의 입체적 형상을 유지하면서도 내마모성이 개선될 수 있으며, 불량률이 줄어들 수 있고, 종래 액상 네일 아트를 사용하여 형성되는 네일 아트 모양과 가장 유사할 수 있으므로, 사용에 편리함이 있을 수 있다. When Equation 1-1 is satisfied, the abrasion resistance can be improved while maintaining the three-dimensional shape of the nail art, the defect rate can be reduced, and it can be most similar to the nail art shape formed using the conventional liquid nail art, so use may be convenient.

상기 T2는 0.4mm 내지 0.56mm일 수 있으며, 보다 구체적으로 0.41mm 내지 0.5mm일 수 있다. 또한, 상기 T1은 0.05mm 내지 0.35mm일 수 있으며, 구체적으로 0.1 mm 내지 0.2 mm일 수 있다. 상기 범위를 만족할 시, 상기 T1에서 T2로 이어지는 부분의 기울기가 적절한 수준을 가질 수 있으므로, 본 발명의 효과가 있다. The T 2 may be 0.4 mm to 0.56 mm, and more specifically, 0.41 mm to 0.5 mm. In addition, the T 1 may be 0.05 mm to 0.35 mm, specifically 0.1 mm to 0.2 mm. When the above range is satisfied, since the slope of the portion leading from T 1 to T 2 may have an appropriate level, there is an effect of the present invention.

상기 네일 아트의 두께 중 가장 큰 두께(T3)가 측정되는 지점은 상기 네일 아트의 외주로부터 중심부쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점보다 더 중심부에 가까이 위치할 수 있고, 경우에 따라서는 중심부에 해당할 수 있다. The point at which the greatest thickness (T 3 ) of the thickness of the nail art is measured may be located closer to the center than the point separated by 1 mm from the outer periphery of the nail art toward the center, and in some cases may correspond to the center. .

상기 네일 아트의 두께 중 가장 큰 두께(T3)는 0.5mm 내지 0.8mm일 수 있으며, 구체적으로 0.62mm 내지 0.65mm일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 상기 코팅층의 상면이 볼록한 부분을 가질 수 있으므로, 상기 네일 아트 상단의 내구성이 개선될 수 있으며, 빛이 상기 네일 아트로부터 반사되는 방향이 더욱 다양해질 수 있는 바, 미용적 효과가 극대화될 수 있다. The greatest thickness T 3 among the thicknesses of the nail art may be 0.5 mm to 0.8 mm, specifically, 0.62 mm to 0.65 mm. When the above range is satisfied, since the upper surface of the coating layer may have a convex portion, the durability of the upper end of the nail art may be improved, and the direction in which light is reflected from the nail art may be further diversified. The effect can be maximized.

구체적으로 상기 네일 아트는 하기 식 2를 만족할 수 있다. Specifically, the nail art may satisfy Equation 2 below.

[식 2][Equation 2]

0.05 mm ≤ T3-T2≤ 0.2 mm0.05 mm ≤ T 3 -T 2 ≤ 0.2 mm

상기 범위를 만족할 시 본 발명의 효과가 있다고 볼수 있다. 상기 범위는 보다 구체적으로 0.1 mm ≤ T3-T2≤ 0.15 mm일 수 있다. It can be seen that the effect of the present invention is effective when the above range is satisfied. The range may be more specifically 0.1 mm ≤ T 3 -T 2 ≤ 0.15 mm.

상기 네일 아트는 상기 T3에 해당하는 지점과 상기 네일 아트의 중심부 사이에 상기 네일 아트의 두께가 감소하는 부분을 포함할 수도 있다. 구체적으로 도 6을 참조하면, T3 두께를 가지는 지점과 상기 네일 아트의 중심부 사이(또는 중심부)에는 T3보다 작은 두께(T4)가 나타날 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 네일 아트의 단면으로 볼 때, 상기 네일 아트의 중심부 근처에는 오목한 부분이 존재할 수 있다. 이는 상기 네일 아트의 최 측면에서부터 중심부로 향하는 과정에 있어서 상기 네일 아트의 두께가 증가하다가 감소하는 영역이 있음을 의미한다. 이에 따라, 상기 네일 아트가 더욱 입체적으로 보이므로, 미용성이 극대화될 수 있다. 또한, 상기 네일 아트 위에 장식을 배치할 시 상기 장식이 안정적으로 배치될 수 있다.The nail art may include a portion in which the thickness of the nail art decreases between the point corresponding to T 3 and the center of the nail art. Specifically, referring to FIG. 6 , a thickness T 4 smaller than T 3 may appear between a point having a thickness of T 3 and the center (or center) of the nail art. More specifically, when viewed in a cross-section of the nail art, a concave portion may exist near the center of the nail art. This means that there is a region where the thickness of the nail art increases and then decreases in the process from the outermost side to the center of the nail art. Accordingly, since the nail art looks more three-dimensional, beauty can be maximized. In addition, when the decoration is arranged on the nail art, the decoration may be stably arranged.

위에서 소개된 네일 아트의 제조 방법들은 한번에 매우 많은 양의 네일 아트를 제조할 수 있으며, 공정 시간도 단축될 수 있고, 불량률을 현저히 줄일 수 있다는 장점이 있다. The methods for manufacturing nail art introduced above have advantages in that a very large amount of nail art can be manufactured at once, a process time can be shortened, and a defect rate can be significantly reduced.

한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상술한 제조방법들에 의해 제조된 네일 아트가 제공된다. 상기 네일 아트의 특징은 상술한 실시예들에서 소개된 것과 동일하다.Meanwhile, according to another embodiment of the present invention, nail art manufactured by the above-described manufacturing methods is provided. The characteristics of the nail art are the same as those introduced in the above-described embodiments.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 상기 실시예는 본 기재를 예시하는 것일 뿐 본 기재의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것은 당연한 것이다.Hereinafter, preferred embodiments are presented to help the understanding of the present invention, but the embodiments are merely illustrative of the present description, and it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications are possible within the scope and spirit of the present description, It goes without saying that such variations and modifications fall within the scope of the appended claims.

<실시예 및 비교예><Examples and Comparative Examples>

실시예 1: 네일 아트의 제조Example 1: Preparation of nail art

(1) 적층체 형성(1) Formation of a laminate

용매인 에틸 아세테이트 및 노르말 프로필 아세테이트에 자외선 경화 원료인 우레탄 아크릴레이트계 올리고머(PU210), 광 개시제인 트리메틸벤조일 포스핀 옥사이드(TPO), 수지인 유리전이온도 40℃ 갖는 아크릴 수지와 1/2초 점도를 갖는 니트로셀룰로오스 수지를 혼합하고 교반하여 접착제 형성용 조성물을 형성하였다. 상기 코팅층 형성용 조성물의 고형분은 45 중량%였으며, 상기 고형분 중 자외선 경화 원료, 광 개시제, 수지의 중량비는 45 : 2 : 53 였다. In ethyl acetate and n-propyl acetate as solvents, urethane acrylate oligomer (PU210) as a UV curing raw material, trimethylbenzoyl phosphine oxide (TPO) as a photoinitiator, and an acrylic resin having a glass transition temperature of 40 ° C. A nitrocellulose resin having a was mixed and stirred to form a composition for forming an adhesive. The solid content of the composition for forming the coating layer was 45 wt %, and the weight ratio of the ultraviolet curing raw material, the photoinitiator, and the resin among the solid content was 45: 2: 53.

디자인층 및 접착층을 포함하는 예비 기재층 상에 상기 코팅층 형성용 조성물을 도포한 뒤, 80 ℃에서 건조하여 예비 코팅층을 형성하였다. 상기 예비 코팅층의 두께는 300 ㎛으며, 상기 적층체의 전체 두께는 400 ㎛였다.The composition for forming the coating layer was applied on the preliminary substrate layer including the design layer and the adhesive layer, and then dried at 80° C. to form the preliminary coating layer. The thickness of the pre-coat layer was 300 μm, and the total thickness of the laminate was 400 μm.

(2) 압력 인가(2) Applying pressure

상기 적층체와 성형틀(가압면의 폭이 0.7mm이고, 높이가 24mm이며, 내주가 네일 아트 형상) 사이에 두께 100 ㎛인 공정 필름(PET)을 1개 배치하였다. 이 후, 성형틀을 통해 상기 공정 필름을 사이에 두고 상기 적층체에 압력을 가하였다. 상기 압력은 10 MPa이었으며, 상기 성형틀의 온도는 100 ℃였다. 상기 압력은 6 초가 가해졌다. 이를 통해 상기 적층체를 네일 아트 형상으로 절단하였다. One process film (PET) having a thickness of 100 μm was disposed between the laminate and the molding die (the width of the pressing surface was 0.7 mm, the height was 24 mm, and the inner circumference was nail art shape). Thereafter, pressure was applied to the laminate with the process film interposed therebetween through a molding die. The pressure was 10 MPa, and the temperature of the mold was 100 °C. The pressure was applied for 6 seconds. Through this, the laminate was cut into a nail art shape.

(3) 네일 아트 수득(3) Obtain nail art

상기 성형틀 및 상기 공정 필름을 제거한 뒤 타발된 네일 아트를 수득하였다. After removing the mold and the process film, punched nail art was obtained.

비교예 1: 네일 아트의 제조Comparative Example 1: Preparation of nail art

상기 압력을 3 Mpa 로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실험하였으나, 네일 아트가 타발되지 않았다.Experiments were conducted in the same manner as in Example 1 except that the pressure was changed to 3 Mpa, but nail art was not punched.

비교예 2: 네일 아트의 제조Comparative Example 2: Preparation of nail art

상기 압력을 가할 시 성형틀의 온도를 50 ℃ 로 변경한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 네일 아트를 제조하였다. Nail art was prepared in the same manner as in Example 1, except that the temperature of the mold was changed to 50° C. when the pressure was applied.

실험예 1: 두께 관찰Experimental Example 1: Thickness Observation

Keyence사의 VHX-970F 장비를 사용하여 실시예 1 및 비교예 2의 네일 아트를 각각 관찰한 뒤, 이를 표 1에 나타내었다.After observing the nail art of Example 1 and Comparative Example 2 using Keyence's VHX-970F equipment, respectively, it is shown in Table 1.

T1(mm)T 1 (mm) T2(mm)T 2 (mm) T2-T1(mm)T 2 -T 1 (mm) 실시예 1Example 1 0.160.16 0.460.46 0.30.3 비교예 2Comparative Example 2 0.320.32 0.40.4 0.080.08

실험예 2: 마모 정도 평가Experimental Example 2: Evaluation of wear level

제조된 네일 아트를 손톱 모형에 맞게 변형시킨 뒤, 자외선을 조사하여 경화시켰다. 이 후, 상기 네일 아트의 옆면을 천에 일정 시간 동안 문질러서 마모 정도를 사진으로 확인하였다. 실시예 1의 실험 전 사진은 도 11, 실험 후 사진은 도 12이며, 비교예 2의 실험 전 사진은 도 13, 실험 후 사진은 도 14이다. 실시예 1의 경우 거의 마모가 일어나지 않았으나, 비교예 2의 경우 옆면이 심하게 마모가 발생한 것을 알 수 있다.The prepared nail art was modified to fit the nail model, and then cured by irradiation with ultraviolet rays. After that, the side surface of the nail art was rubbed on the cloth for a certain period of time, and the degree of wear was confirmed by photograph. The photograph before the experiment of Example 1 is FIG. 11, the photograph after the experiment is FIG. 12, the photograph before the experiment of Comparative Example 2 is FIG. 13, and the photograph after the experiment is FIG. 14. In the case of Example 1, almost no abrasion occurred, but in the case of Comparative Example 2, it can be seen that the side surface was severely worn.

100: 네일 아트
110: 코팅층
120: 기재층
100': 적층체
110': 예비 코팅층
120': 예비 기재층
400: 성형틀
300b: 상부 판
300a: 하부 판
500: 공정 필름
600: 버퍼층
100: Nail Art
110: coating layer
120: base layer
100': laminate
110': pre-coating layer
120': preliminary base layer
400: forming mold
300b: upper plate
300a: lower plate
500: process film
600: buffer layer

Claims (26)

예비 기재층 및 예비 코팅층을 포함하는 적층체에 성형틀을 통해 압력을 가하여 상기 적층체로부터 기재층 및 코팅층을 포함하는 네일 아트를 형성하는 단계를 포함하며,
상기 압력이 가해질 때, 상기 성형틀의 온도는 55℃ 내지 170℃이며,
상기 압력은 6MPa 내지 12MPa으로 가해지는 네일 아트의 제조 방법.
A step of forming nail art including a base layer and a coating layer from the laminate by applying pressure to a laminate including a preliminary substrate layer and a preliminary coating layer through a mold,
When the pressure is applied, the temperature of the mold is 55 ℃ to 170 ℃,
The pressure is 6 MPa to 12 MPa manufacturing method of nail art applied.
청구항 1에 있어서,
상기 압력은 1초 내지 20초 동안 가해지는 네일 아트의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The pressure is a method of manufacturing a nail art that is applied for 1 second to 20 seconds.
청구항 1에 있어서,
상기 압력을 가하기 전, 상기 예비 코팅층과 상기 성형틀 사이에 적어도 하나 이상의 공정 필름을 배치하는 것을 더 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The method of claim 1, further comprising disposing at least one process film between the pre-coat layer and the mold before applying the pressure.
청구항 3에 있어서,
상기 공정 필름의 녹는점은 상기 성형틀의 온도보다 높은 네일 아트의 제조 방법.
4. The method according to claim 3,
The melting point of the process film is higher than the temperature of the mold for producing nail art.
청구항 3에 있어서,
상기 예비 코팅층과 상기 성형틀 사이에 상기 공정 필름이 1개 내지 3개 배치되는 네일 아트의 제조 방법.
4. The method according to claim 3,
A method for producing nail art, wherein one to three process films are disposed between the pre-coating layer and the mold.
청구항 3에 있어서,
상기 공정 필름의 두께는 9㎛ 내지 188㎛인 네일 아트의 제조 방법.
4. The method according to claim 3,
The thickness of the process film is 9㎛ to 188㎛ manufacturing method of nail art.
청구항 1에 있어서,
상기 성형틀의 가압면은 외주 및 상기 외주와 이격된 내주를 가지는 형태이며,
상기 가압면의 폭은 0.3mm 내지 1.5mm인 네일 아트의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The pressing surface of the mold has an outer periphery and an inner periphery spaced apart from the outer periphery,
The width of the pressing surface is 0.3mm to 1.5mm.
청구항 1에 있어서,
상기 예비 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The method for producing nail art, wherein the pre-coating layer includes an ultraviolet curing raw material, a photoinitiator, and a resin.
청구항 8에 있어서,
상기 예비 코팅층이 고형분 중,
상기 자외선 경화 원료는 30 중량% 내지 58 중량%로 포함되고,
상기 광 개시제는 0.1 중량% 내지 20 중량%로 포함되고,
상기 수지는 40 중량% 내지 55 중량%로 포함되는 네일 아트의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Among the solid content of the pre-coating layer,
The ultraviolet curing raw material is included in 30 wt% to 58 wt%,
The photoinitiator is included in 0.1 wt% to 20 wt%,
The method for producing nail art, wherein the resin is included in an amount of 40 wt% to 55 wt%.
청구항 8에 있어서,
상기 자외선 경화 원료는 우레탄 아크릴레이트계 올리고머, 폴리에스터 아크릴레이트계 올리고머, 폴리에테르 아크릴레이트계 올리고머, 에폭시 아크릴레이트계 올리고머, 폴리 카보네이트 아크릴레이트계 올리고머, 실리콘 아크릴레이트계 올리고머, 및 아크릴 아크릴레이트계 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The UV curing raw material is a urethane acrylate-based oligomer, a polyester acrylate-based oligomer, a polyether acrylate-based oligomer, an epoxy acrylate-based oligomer, a polycarbonate acrylate-based oligomer, a silicone acrylate-based oligomer, and an acrylic acrylate-based oligomer. A method of manufacturing nail art comprising at least one selected from the group consisting of
청구항 8에 있어서,
상기 자외선 경화 원료는 우레탄 아크릴레이트계 올리고머를 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The UV curing raw material is a method of manufacturing a nail art comprising a urethane acrylate-based oligomer.
청구항 8에 있어서,
상기 광 개시제는 200nm 내지 600 nm 범위의 흡수 파장 대역을 갖는 네일 아트의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The method for producing nail art, wherein the photoinitiator has an absorption wavelength band in the range of 200 nm to 600 nm.
청구항 8에 있어서,
상기 수지는 아크릴계 수지, 니트로 셀룰로오스 수지, 우레탄계 수지, 초산수지, 에스터계 수지, 염화비닐 수지, 및 스티렌 수지로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The method for producing nail art, wherein the resin comprises at least one selected from the group consisting of an acrylic resin, a nitrocellulose resin, a urethane resin, an acetic acid resin, an ester resin, a vinyl chloride resin, and a styrene resin.
청구항 8에 있어서,
상기 수지는 유리전이온도(Tg)가 30 ℃ 내지 200 ℃ 인 열가소성 수지인 네일 아트의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
The method for producing nail art, wherein the resin is a thermoplastic resin having a glass transition temperature (T g ) of 30 °C to 200 °C.
청구항 1에 있어서,
상기 기재층은 접착층을 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The method for producing nail art, wherein the base layer includes an adhesive layer.
청구항 15에 있어서,
상기 기재층은 상기 접착층과 상기 코팅층 사이에 배치된 디자인층을 더 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
16. The method of claim 15,
The base layer further comprises a design layer disposed between the adhesive layer and the coating layer.
예비 기재층 및 예비 코팅층을 포함하는 적층체에 성형틀을 통해 압력을 가하여 상기 적층체로부터 기재층 및 코팅층을 포함하는 네일 아트를 형성하는 단계를 포함하며,
하기 식 1을 만족하는 네일 아트의 제조 방법.
[식 1]
0.05 mm ≤ T2-T1 ≤ 0.5 mm
상기 T1는 상기 네일 아트의 하면의 외주에서 측정된 상기 네일 아트의 두께이며,
상기 T2은 상기 네일 아트의 최 측면으로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점의 상기 네일 아트의 두께이다.
A step of forming nail art including a base layer and a coating layer from the laminate by applying pressure to a laminate including a preliminary substrate layer and a preliminary coating layer through a mold,
A method for producing nail art satisfying the following formula 1.
[Equation 1]
0.05 mm ≤ T 2 -T 1 ≤ 0.5 mm
Wherein T 1 is the thickness of the nail art measured at the outer periphery of the lower surface of the nail art,
The T 2 is the thickness of the nail art at a point spaced by 1 mm from the outermost side of the nail art toward the center of the nail art.
청구항 17에 있어서,
상기 네일 아트의 두께는 상기 네일 아트의 최 측면으로부터 상기 네일 아트의 중심부 쪽으로 1mm 만큼 떨어진 지점부터 상기 네일 아트의 최 측면까지 감소하는 네일 아트의 제조 방법.
18. The method of claim 17,
The thickness of the nail art is decreased from the outermost side of the nail art toward the center of the nail art by 1 mm to the outermost side of the nail art.
청구항 17에 있어서,
상기 T2는 0.4mm 내지 0.56mm인 네일 아트의 제조 방법.
18. The method of claim 17,
The T 2 is a method of manufacturing a nail art of 0.4mm to 0.56mm.
청구항 17에 있어서,
상기 T1은 0.05mm 내지 0.35 mm인 네일 아트의 제조 방법.
18. The method of claim 17,
wherein T 1 is 0.05 mm to 0.35 mm.
청구항 17에 있어서,
상기 네일 아트의 두께 중 가장 큰 두께(T3)는 0.5mm 내지 0.8mm인 네일 아트의 제조 방법.
18. The method of claim 17,
The greatest thickness (T 3 ) among the thicknesses of the nail art is 0.5 mm to 0.8 mm.
청구항 21에 있어서,
하기 식 2를 만족하는 네일 아트의 제조 방법.
[식 2]
0.05 mm ≤ T3-T2≤ 0.2 mm
22. The method of claim 21,
A method for producing nail art satisfying the following formula (2).
[Equation 2]
0.05 mm ≤ T 3 -T 2 ≤ 0.2 mm
청구항 21에 있어서,
상기 T3에 해당하는 지점과 상기 네일 아트의 중심부 사이에 상기 네일 아트의 두께가 감소하는 부분을 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
22. The method of claim 21,
and a portion in which the thickness of the nail art decreases between the point corresponding to T 3 and a central portion of the nail art.
청구항 17에 있어서,
상기 네일 아트의 하면은 평평한 부분을 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
18. The method of claim 17,
A method for producing nail art, wherein the lower surface of the nail art includes a flat part.
청구항 17에 있어서,
상기 코팅층은 자외선 경화 원료, 광 개시제, 및 수지를 포함하는 네일 아트의 제조 방법.
18. The method of claim 17,
The method for producing nail art, wherein the coating layer includes an ultraviolet curing raw material, a photoinitiator, and a resin.
청구항 1 또는 청구항 17의 네일 아트의 제조 방법으로 제조된 네일 아트.The nail art manufactured by the manufacturing method of the nail art of Claim 1 or 17.
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