KR20210062142A - A method for manufacturing syngas from bis(2-hydroxyethyl)terephthalate using plasma process - Google Patents

A method for manufacturing syngas from bis(2-hydroxyethyl)terephthalate using plasma process Download PDF

Info

Publication number
KR20210062142A
KR20210062142A KR1020190149933A KR20190149933A KR20210062142A KR 20210062142 A KR20210062142 A KR 20210062142A KR 1020190149933 A KR1020190149933 A KR 1020190149933A KR 20190149933 A KR20190149933 A KR 20190149933A KR 20210062142 A KR20210062142 A KR 20210062142A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plasma
bhet
gas
terephthalate
hydroxyethyl
Prior art date
Application number
KR1020190149933A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102281573B1 (en
Inventor
최준
옥지석
하정홍
Original Assignee
한국생산기술연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국생산기술연구원 filed Critical 한국생산기술연구원
Priority to KR1020190149933A priority Critical patent/KR102281573B1/en
Publication of KR20210062142A publication Critical patent/KR20210062142A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102281573B1 publication Critical patent/KR102281573B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/02Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
    • C01B3/22Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by decomposition of gaseous or liquid organic compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122Incoherent waves
    • B01J19/128Infra-red light
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122Incoherent waves
    • B01J19/129Radiofrequency
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/76Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C69/80Phthalic acid esters
    • C07C69/82Terephthalic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J11/00Recovery or working-up of waste materials
    • C08J11/04Recovery or working-up of waste materials of polymers
    • C08J11/10Recovery or working-up of waste materials of polymers by chemically breaking down the molecular chains of polymers or breaking of crosslinks, e.g. devulcanisation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/0894Processes carried out in the presence of a plasma

Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing synthesis gas from bis(2-hydroxyethyl)terephthalate using a plasma process and, more particularly, to a synthesis gas production method comprising: a step of introducing bis(2-hydroxyethyl) terephthalate into a plasma reactor; and a plasma gasification step of generating syngas by a plasma gasification reaction. One aspect of the present invention is to provide the method for obtaining synthesis gas by processing a series of processes for reacting BHET with plasma.

Description

플라즈마 공정을 이용한 비스(2-하이드록시에틸)테레프탈레이트로부터의 합성가스 제조방법{A method for manufacturing syngas from bis(2-hydroxyethyl)terephthalate using plasma process}A method for manufacturing syngas from bis(2-hydroxyethyl) terephthalate using plasma process}

본 발명은 플라즈마 공정을 이용한 비스(2-하이드록시에틸)테레프탈레이트로부터의 합성가스 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 폴리머 필름의 화학적 리사이클(pyrolysis, hydrosis, glycolysis 등)을 통해 생성된 BHET(bis(2-hydroxyethyl) tetrephthalate) 모노머를 플라즈마와 반응시키는 일련의 과정을 공정화하여 부가가치가 높은 H2, CO 등의 합성가스(syngas)를 생산하는 기술에 관한 것이다. The present invention relates to a method for producing syngas from bis(2-hydroxyethyl) terephthalate using a plasma process, and in particular, chemical recycling (pyrolysis, hydrosis, glycolysis, etc.) of a polyethylene terephthalate (PET) polymer film. The present invention relates to a technology for producing syngas such as H 2 and CO with high added value by processing a series of processes of reacting bis(2-hydroxyethyl) tetrephthalate (BHET) monomers generated through plasma with plasma.

PET는 테레프탈산(terephthalic acid, TPA) 또는 디메틸테레프탈레이트(dimethylterephthalate, DMT)를 원료로 하여 생성된 폴리에스테르로서, 고강도, 저중량, 가스, 특히 이산화탄소에 대한 저 투과성, 높은 광 투과율 그리고 대량생산의 특성을 가지는 것으로 알려져 있다. 1970년대 중반부터 PET는 미국, 캐나다, 서유럽 등에서 음료수 용기 제작에 사용되어 왔으며, 최근에는 오디오와 비디오 테이프 및 섬유의 제조 등 다양한 산업 및 생활 분야에 이용되어 왔으며, 수요와 소비량이 계속 증가할 것으로 예상된다. PET is a polyester produced using terephthalic acid (TPA) or dimethylterephthalate (DMT) as a raw material. It is known to have. Since the mid-1970s, PET has been used to make beverage containers in the United States, Canada, and Western Europe, and recently, it has been used in various industries and life fields such as audio and video tapes and textile manufacturing, and demand and consumption are expected to continue to increase. do.

한편, PET의 우수한 특성 외에 PET는 자연에서 분해되지 않는 특성으로 인하여 심각한 환경오염 문제를 야기시키는 것이 문제점으로 대두되어 왔다. 이러한 폐 PET를 재활용하는 방법으로, 물리적인 방법과 화학적인 방법이 알려져있다. 전자의 물리적 재활용 방법은 PET 클립이나 플레이크 형태로 이용하는 것이며, 후자의 화학적인 방법은 중합된 폐 PET를 원료 물질인 단량체(monomer) 또는 저중합체로 분해하기 위해서 사용하는 것이다. 그리고 산업적 측면에서는 화학적인 방법을 이용하는 것이 더욱 바람직하다. On the other hand, in addition to the excellent characteristics of PET, it has been raised as a problem that causes serious environmental pollution problems due to the characteristics that PET does not decompose in nature. As a method of recycling such waste PET, physical and chemical methods are known. The former physical recycling method is used in the form of PET clips or flakes, and the latter chemical method is used to decompose polymerized waste PET into monomers or oligomers, which are raw materials. And from an industrial aspect, it is more preferable to use a chemical method.

그간 개발된 화학적인 방법으로는 메탄올 분해(methanolysis), 해당 공정 (glycolysis), 가수분해(hydrolysis), 가아미노 분해(aminolysis) 그리고 가암모니아 분해(ammonolysis) 등이 있다. 나열된 방법 중 메탄올 분해, 해당 공정, 가수분해 등이 널리 이용되고 있다. 그러나, 상기 분해 방법 중 메탄올 분해와 가수분해는 PET를 분해할 시 생성된 제품의 품질과 양이 극히 제한적이며 분해 반응 시간이 길고, PET 합성의 원료 물질인 TPA 또는 DMT 중 한 종류만 생산이 가능하다. 그에 따라, 이들을 원료로 하는 각 PET 생산 공정에서 제한적으로 사용될 수 밖에 없는 단점을 가진다.Chemical methods developed so far include methanol degradation, glycolysis, hydrolysis, aminolysis, and ammonolysis. Among the listed methods, methanol decomposition, the corresponding process, and hydrolysis are widely used. However, among the above decomposition methods, methanol decomposition and hydrolysis are extremely limited in the quality and quantity of products produced when decomposing PET, and the decomposition reaction time is long, and only one of TPA or DMT, which is a raw material for PET synthesis, can be produced. Do. Accordingly, it has a disadvantage that it is bound to be limitedly used in each PET production process using these as raw materials.

상술한 종래기술의 문제점을 해결하여, 한국등록특허 제10-1170506호는 메탄올 분해와 가수분해에 비하여 상대적으로 용이하게 BHET를 생산할 수 있는 해당 공정을 개시하고 있다.In order to solve the above-described problems of the prior art, Korean Patent No. 10-1170506 discloses a process capable of producing BHET relatively easily compared to methanol decomposition and hydrolysis.

따라서, 폐플라스틱 재활용 공정 등에서 발생하는 BHET로부터 부가가치가 높은 H2, CO 등의 합성가스(syngas)를 생산할 수 있는 기술이 개발되는 경우 폐플라스틱 재활용을 연구하는 연구소 및 기업에서 널리 적용될 수 있을 것으로 기대된다. Therefore, if a technology capable of producing syngas such as H 2 and CO with high added value from BHET generated in the waste plastic recycling process is developed, it is expected that it can be widely applied to research institutes and companies that research waste plastic recycling. do.

이에 본 발명의 한 측면은 BHET를 플라즈마와 반응시키는 일련의 과정을 공정화하여 합성 가스를 획득하는 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, one aspect of the present invention is to provide a method of obtaining a synthesis gas by processing a series of processes of reacting BHET with plasma.

본 발명의 일 견지에 의하면, 비스(2-하이드록시에틸)테레프탈레이트를 플라즈마 반응기에 투입하는 단계 및 플라즈마 가스화 반응에 의해 합성가스(Syngas)를 생성하는 플라즈마 가스화 단계를 포함하는, 합성가스 제조방법이 제공된다.According to one aspect of the present invention, a method for producing syngas, including the step of introducing bis(2-hydroxyethyl) terephthalate into a plasma reactor and a plasma gasification step of generating syngas by a plasma gasification reaction. Is provided.

본 발명은 기존의 폐플라스틱(폴리머)의 리사이클링이 아닌 이로 인해 생성된 BHET 모노머를 플라즈마와 반응시키는 일련의 과정을 공정화하여, 종래의 폐플라스틱(폴리머) 리사이클링 공정과 통합화된 공정 해결책을 제공할 수 있을 것으로 기대된다.The present invention can provide a process solution integrated with the conventional waste plastic (polymer) recycling process by processing a series of processes of reacting the BHET monomer produced by this with plasma, not recycling of the conventional waste plastic (polymer). It is expected to be.

도 1은 본 발명의 실시예에 사용된 플라즈마 장치의 예를 도식적으로 나타낸 것이다.
도 2는 BHET 유무에 따른 인가 전력 및 기체 온도 확인 결과를 그래프로 나타낸 것이다.
도 3(a)는 BHET를 투입하지 않은 경우, 도 3(b)는 BHET를 투입한 경우, 그리고 도 3(c)는 BHET를 투입하고 OH 필터를 적용한 경우의 ICCD 카메라 분석 이미지를 나타낸 것이다.
도 4는 플라즈마 반응 시간에 따른 발생 기체의 농도 변화를 나타낸 것이다.
도 5는 플라즈마가 BHET와 반응하는 경우의 전체 OES 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 6은 열화상 카메라를 이용한 기체 온도 측정 위치를 나타낸 것으로, (a)는 BHET와 반응 전 (b)는 BHET와 반응 중의 이미지를 나타낸다.
1 schematically shows an example of a plasma device used in an embodiment of the present invention.
2 is a graph showing the results of checking applied power and gas temperature according to the presence or absence of BHET.
3(a) shows an ICCD camera analysis image when BHET is not added, FIG. 3(b) is a case where BHET is input, and FIG. 3(c) shows an ICCD camera analysis image when BHET is input and an OH filter is applied.
4 shows the change in the concentration of the generated gas according to the plasma reaction time.
5 shows the entire OES spectrum when plasma reacts with BHET.
6 shows a gas temperature measurement location using a thermal imaging camera, (a) before reaction with BHET (b) shows an image during reaction with BHET.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태를 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시 형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, embodiments of the present invention may be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below.

본 발명은 BHET 모노머를 플라즈마와 반응시키는 일련의 과정을 공정화하여 부가가치가 높은 H2, CO 등을 포함하는 합성 가스를 수득하는 기술에 관한 것이다. The present invention relates to a technology for obtaining a synthesis gas containing H 2 , CO and the like having high added value by processing a series of processes of reacting a BHET monomer with plasma.

더욱 상세하게, 본 발명의 합성가스 제조방법은 비스(2-하이드록시에틸)테레프탈레이트(이하 'BHET')를 플라즈마 반응기에 투입하는 단계 및 플라즈마 가스화 반응에 의해 합성 가스를 생성하는 플라즈마 가스화 단계를 포함하는 것이다. In more detail, the synthesis gas production method of the present invention includes a step of introducing bis(2-hydroxyethyl) terephthalate (hereinafter'BHET') into a plasma reactor and a plasma gasification step of generating a synthesis gas by a plasma gasification reaction. To include.

예를 들어 CTLR(Coaxial transmission line resonator) 장치를 적용하여, 장치의 전극에 교류 전압을 인가하여 반응 공정을 위한 플라즈마를 발생시킬 수 있으며, 공기 중에 이온과 전자, 음이온을 발생시킬 수 있다. 이러한 플라즈마 반응기를 이용하여 폴리머 물질이 아닌 해중합을 통하여 획득된 BHET 모노머의 가스화의 통합 공정 과정을 제공할 수 있다. For example, by applying a coaxial transmission line resonator (CTLR) device, a plasma for a reaction process can be generated by applying an AC voltage to an electrode of the device, and ions, electrons, and anions can be generated in the air. Using such a plasma reactor, it is possible to provide an integrated process of gasification of BHET monomers obtained through depolymerization rather than polymer materials.

본 발명에 사용될 수 있는 플라즈마는 아르곤(Argon), 헬륨(Helium) 등의 불활성 가스뿐만 아니라 공기(air)도 포함되므로, 불활성 기체 구입 및 부대 비용을 줄일 수 있다. 바람직하게 방전 기체로서 공기를 사용한다.Plasma that can be used in the present invention includes air as well as inert gas such as argon and helium, so that purchase of inert gas and incidental costs can be reduced. Preferably, air is used as the discharge gas.

한편, 본 발명에 적용되는 상기 BHET(비스(2-하이드록시에틸)테레프탈레이트)는 폐 PET로부터 획득된 것일 수 있다. 예를 들어 폐 PET를 분쇄한 후, 에틸렌글리콜을 가하고 고온, 고압의 초임계 상태(supercritical state)에서 20 내지 45분 동안 반응시키는 공정을 포함할 수 있다. 이때, PET는 일반적으로 TPA, DMT 및 에틸렌글리콜(ethyleneglycol)로부터 합성된 중합체일 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니나, 폐 PET 성형품, 폐 PET 섬유, 폐 PET필름, 폐 PET 음료수 용기 등 각종 폐 PET를 포함하며, 드라이아이스(dry ice)를 이용하여 유효 직경 10 mm 이하로 분쇄하는 것이 바람직하다. 반응은 오토클레이브(autoclave)에서 수행하며, 최종 반응 생성물인 BHET는 초임계 조건에서 20 에서 45분 동안 반응시킨 반응물을 차가운 물에 냉각시켜 분산시킨 후, 열을 가하여 물을 끓여 주고 다시 냉각시켜 고체 화합물을 수득할 수 있다. 한편, 상기 초임계 온도 조건은 719.7 K 이상, 1300 K 이하의 조건이 바람직하다. 온도 조건이 1300 K 이상이 되면, 반응기의 손상과 대량생산에 어려움이 있고, 719.7 K 이하가 되면 초임계 조건에서 예상되는 고수율과 짧은 반응 시간을 기대할 수 없다. 또한, 초임계 압력 조건은 7.7 Mpa 이상, 15 Mpa 이하의 조건이 바람직하다. 압력 조건이 15 Mpa 이상이 되면, 반응기의 손상 및 반응기 제작 비용이 증가하여 대량생산이 어려워지고, 7.7 Mpa 이하가 되면, 폐 PET의 원료화 반응 시간이 길며 수율이 낮아진다. 따라서, 가장 바람직하게는, 폐 PET를 드라이아이스(dry ice)를 이용하여 분쇄한 후, 에틸렌글리콜을 가하고 719.7 K 이상, 1300 K 이하의 온도조건 및 7.7 Mpa 이상 15 Mpa 이하의 압력 조건에서 30 에서 35분 동안 반응시키면, 90% 이상의 수율로 BHET를 수득할 수 있다. Meanwhile, the BHET (bis(2-hydroxyethyl) terephthalate) applied to the present invention may be obtained from waste PET. For example, after pulverizing the waste PET, ethylene glycol may be added and reacted for 20 to 45 minutes in a supercritical state of high temperature and high pressure. At this time, PET may generally be a polymer synthesized from TPA, DMT, and ethylene glycol, but is not limited thereto, but various waste PETs such as waste PET molded products, waste PET fibers, waste PET films, waste PET beverage containers, etc. It includes, and is preferably pulverized to an effective diameter of 10 mm or less using dry ice. The reaction is carried out in an autoclave, and the final reaction product, BHET, is dispersed by cooling the reactant reacted for 20 to 45 minutes under supercritical conditions in cold water, and then boiling water by heating and cooling again to solidify. Compounds can be obtained. Meanwhile, the supercritical temperature condition is preferably 719.7 K or more and 1300 K or less. When the temperature condition is 1300 K or more, damage to the reactor and mass production are difficult, and when the temperature is less than 719.7 K, the high yield and short reaction time expected in the supercritical condition cannot be expected. In addition, the supercritical pressure condition is preferably 7.7 Mpa or more and 15 Mpa or less. If the pressure condition is more than 15 Mpa, the damage of the reactor and the cost of manufacturing the reactor increase, making mass production difficult, and if it is less than 7.7 Mpa, the reaction time for raw materialization of waste PET is long and the yield decreases. Therefore, most preferably, waste PET is pulverized using dry ice, and then ethylene glycol is added, and at 30 under a temperature condition of 719.7 K or more and 1300 K or less, and a pressure condition of 7.7 Mpa or more and 15 Mpa or less. When reacted for 35 minutes, BHET can be obtained in a yield of 90% or more.

상기 플라즈마 가스화 단계는 저 주파수, 라디오 주파수(Radio Frequency), 마이크로파(Microwave)의 주파수에서 수행되며, 예를 들어 라디오 주파수 875 MHz에서 동작할 수 있다.The plasma gasification step is performed at a low frequency, a radio frequency, and a microwave frequency, and may operate at, for example, a radio frequency of 875 MHz.

본 발명은 플라즈마의 물리적(sputtering) 및 화학적(active radical reaction) 특성을 이용하므로 일반적인 열적(thermal) 프로세스보다 낮은 온도에서도 가스화(gasification)가 가능하다는 이점을 지닌다. 보다 상세하게, 본 발명에 있어서 상기 플라즈마 가스화 단계는 대기압 조건하의 50 에서 250℃의 온도 범위에서 수행될 수 있으며, 바람직하게는 대기압 조건하의 150 에서 250℃의 온도 범위에서 수행될 수 있다. 기존 폐플라스틱을 처리하기 위한 열처리 공정으로 필요한 온도는 약 400℃로 해당 공정을 적용하는 경우 100℃ 이상 낮은 온도로 가스화 공정을 적용할 수 있다. 다만, 대기압 조건의 플라즈마 가스화 단계에서 50℃ 미만의 온도인 경우 플라즈마와 BHET 반응이 충분히 일어나지 않을 수 있으며, 그에 따라 BHET의 가스화가 되지 않을 수 있다. 또한, 250℃를 초과하는 온도의 경우 플라즈마의 가스 온도를 증가하기 위하여 사용되는 에너지에 비하여 플라즈마와 BHET의 반응으로 생성되는 가스의 증가량이 뚜렷하지 않게 된다. 그로 인하여 250℃를 초과하는 온도 범위에서도 해당 공정을 적용할 수 있지만 효율에 비하여 공정 비용이 증가하게 되어 공정경제상 바람직하지 않다. The present invention has the advantage that gasification is possible even at a temperature lower than that of a general thermal process because the physical (sputtering) and chemical (active radical reaction) properties of the plasma are used. More specifically, in the present invention, the plasma gasification step may be performed in a temperature range of 50 to 250°C under atmospheric pressure conditions, and preferably may be performed in a temperature range of 150 to 250°C under atmospheric pressure conditions. As a heat treatment process for treating existing waste plastics, the required temperature is about 400°C, and if the process is applied, the gasification process can be applied at a temperature lower than 100°C. However, if the temperature is less than 50°C in the plasma gasification step under atmospheric pressure, the plasma and BHET reaction may not sufficiently occur, and accordingly, the BHET may not be gasified. In addition, in the case of a temperature exceeding 250°C, the amount of gas generated by the reaction between plasma and BHET becomes indistinct compared to the energy used to increase the gas temperature of the plasma. As a result, the process can be applied even in a temperature range exceeding 250°C, but the process cost increases compared to the efficiency, which is not preferable in terms of process economy.

한편, 본 발명에 있어서 상기 플라즈마 가스화 단계는 13분 내지 20분 동안 수행되는 것이 바람직하며, 반응 시간은 플라즈마를 통한 BHET와의 반응 및 처리 시간이 짧을수록 공정 경제상 바람직하다. 예를 들어 최초의 합성가스(Ex_CO)획득을 위한 가스화 공정을 위한 플라즈마와 BHET 반응 및 처리 시간으로 13분에서 20분 동안 수행될 수 있다. 상기 플라즈마 가스화 단계는 13분 미만으로 수행되는 경우에는 CO의 생성이 불충분할 수 있으며, 공정 처리 시간이 20분을 초과하게 되는 경우 CO의 생성은 가능하나 공정상 CO의 수득률이 감소되며, 공정 경제상 추천되지 않는다. 공정 경제상 바람직하지 않다.On the other hand, in the present invention, the plasma gasification step is preferably performed for 13 to 20 minutes, and the reaction time is more preferable in terms of process economy as the reaction and treatment time with BHET through plasma is shorter. For example, the plasma and BHET reaction and treatment time for the gasification process for obtaining the first syngas (Ex_CO) may be performed for 13 to 20 minutes. When the plasma gasification step is performed in less than 13 minutes, the generation of CO may be insufficient, and when the process treatment time exceeds 20 minutes, generation of CO is possible, but the yield of CO decreases during the process, and the process economy Not recommended. Not desirable for fair economy.

본 발명에 의해 획득되는 상기 합성 가스는 수소 및 일산화탄소를 포함하는 것으로, 보다 상세하게 CH4, NO, NO2, H2 및 CO를 포함하는 것이다. 예를 들어 상기 수소 및 일산화탄소는 전체 합성 가스를 기준으로 각각 3 부피% 및 2 부피%로 수득할 수 있다.The synthesis gas obtained by the present invention includes hydrogen and carbon monoxide, and more specifically, CH 4 , NO, NO 2 , H 2 and CO. For example, the hydrogen and carbon monoxide can be obtained in 3% by volume and 2% by volume, respectively, based on the total synthesis gas.

본 발명의 가스화 공정을 위한 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 생성부, 전력을 공급하기 위한 전원공급부로 구성될 수 있으며, 이때 상기 플라즈마 생성부는 플라즈마를 생성시킬 수 있는 모든 장치를 사용할 수 있다.The plasma generating apparatus for the gasification process of the present invention may include a plasma generating unit and a power supply unit for supplying power, and at this time, the plasma generating unit may use any device capable of generating plasma.

구체적으로 직류 또는 수 KHz 이하의 저주파 플라즈마 발생장치, 교류 아크(Arc) 방전을 발생하는 플라즈마 발생 장치, 고주파(Radio Frequency) 자장에 의한 고주파 플라즈마 발생장치, 마이크로웨이브에 의한 플라즈마 발생장치 등이 있으며, 예를 들어 펄스 플라즈마, DC 플라즈마, AC 플라즈마 등일 수 있으며, 바람직하게는 라디오 주파수(Radio Frequency) 또는 마이크로파(Microwave)의 주파수에 의한 플라즈마인 것이다. Specifically, there are a low-frequency plasma generator of direct current or several KHz or less, a plasma generator that generates an AC arc discharge, a high-frequency plasma generator by a radio frequency magnetic field, a plasma generator by microwave, and the like. For example, it may be a pulsed plasma, a DC plasma, an AC plasma, or the like, and is preferably a plasma based on a radio frequency or a microwave frequency.

도 1은 본 발명에 사용될 수 있는 플라즈마 장치의 예를 도식적으로 나타낸 것으로, 도 1을 참고하여 전력 및 가스 공급단에 대한 설명을 하면 CTLR에 주파수 및 전력을 인가하기 위한 신호 발생기(Signal generator, 1)와 전력 증폭기(Power amplifier, 2)가 존재하며 CTLR이 플라즈마 발생에 사용하는 실제 인가 전력을 파악하기 위한 양방향 커플러(Bi-directional coupler), 파워 센서(Power sensor, 4, 5) 그리고 파워 미터(Power meter, 6, 7)가 존재할 수 있다. FIG. 1 schematically shows an example of a plasma device that can be used in the present invention, and referring to FIG. 1, a description of the power and gas supply stage is performed by a signal generator for applying frequency and power to the CTLR. ) And a power amplifier (2) exist, and a bi-directional coupler (Bi-directional coupler), a power sensor (4, 5), and a power meter ( Power meter, 6, 7) can be present.

상기 장치를 이용하여 입사 파워(Incident power)와 반사 파워(Reflected power)를 측정한 후 두 전력의 차이를 계산하여 실제 공정(Microwave/Plasma)에 사용되는 전력을 계산할 수 있다. The power used in the actual process (Microwave/Plasma) can be calculated by measuring the incident power and the reflected power using the above device and then calculating the difference between the two powers.

또한, 공기 플라즈마(air plasma) 발생을 위한 공기를 CTLR에 정량적으로 공급할 수 있도록 하는 MFC(Mass flow controller)를 사용할 수 있다. In addition, a mass flow controller (MFC) capable of quantitatively supplying air for generating air plasma to the CTLR may be used.

한편, 반응기의 규격은 특히 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 가로 120mm, 세로 50mm, 높이 100mm의 규격을 갖는 것(공기구멍, CTLR 제외)을 사용할 수 있다. 반응기 상단에는 마이크로파 소스를 사용한 플라즈마를 발생시키는 CTLR을 고정하여 BHET와 반응할 수 있도록 장착 후 고정할 수 있다. 반응기의 왼쪽은 플라즈마와 반응하여 가스화된 BHET를 포집 혹은 측정하기 위한 공기 구멍이 배치되고, 반응기의 오른쪽은 CTLR을 점화하기 위해 전도성을 가지는 장치를 넣을 수 있는 장치 투입구를 설계할 수 있으며, 플라즈마에 영향을 최소화하기 위해 장치와 먼 거리에 위치하도록 설계하는 것이 바람직하다. On the other hand, the standard of the reactor is not particularly limited, but for example, one having a standard of 120 mm in width, 50 mm in length, and 100 mm in height (excluding air holes and CTLR) may be used. At the top of the reactor, a CTLR that generates plasma using a microwave source can be fixed and fixed after mounting so that it can react with BHET. On the left side of the reactor, an air hole for collecting or measuring the gasified BHET by reacting with the plasma is arranged, and on the right side of the reactor, a device inlet can be designed to insert a conductive device to ignite the CTLR. It is desirable to design it to be located at a long distance from the device to minimize the impact.

반응기 하단은 압력이 차는 경우 압력을 하강시키기 위하여 장치 투입구를 막거나 열 수 있도록 설계하는 것이 바람직하다. 반응기 내부의 바닥 부분은 BHET를 놓을 수 있도록 설계하는 경우 플라즈마와 직접 반응이 가능하게 할 수 있다.It is preferable to design the lower end of the reactor to be able to close or open the device inlet in order to lower the pressure when the pressure is full. If the bottom part of the reactor is designed to place BHET, direct reaction with plasma may be possible.

나아가, 반응기의 앞면은 OES(Optical emission spectroscopy) 측정을 통해 프로그램을 통해 반응 분석이 가능하도록 석영으로 제작할 수 있다. Furthermore, the front surface of the reactor may be made of quartz to enable reaction analysis through a program through OES (Optical emission spectroscopy) measurement.

이하, 구체적인 실시 예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 하기 실시 예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 예시에 불과하며, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through specific examples. The following examples are only examples to aid understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예Example

1. One. 플라즈마plasma 가스화 실험 Gasification experiment

본 발명의 합성 가스 제조 방법에 의해 비스(2-하이드록시에틸)테레프탈레이트(이하 'BHET')로부터 합성가스를 제조하기 위해 주파수(Frequency) 875 MHz, 인가 전력(input power) 9 내지 16 W, 기체 흐름 1.5 및 2 slm 하에서 방전 기체로서 공기를 사용하여 BHET 1.5 g 혹은 2 g을 반응시켜 플라즈마 가스화 반응을 수행하였다. In order to produce a synthesis gas from bis(2-hydroxyethyl) terephthalate (hereinafter referred to as'BHET') by the synthesis gas production method of the present invention, a frequency of 875 MHz, an input power of 9 to 16 W, Plasma gasification was performed by reacting 1.5 g or 2 g of BHET using air as a discharge gas under gas flows of 1.5 and 2 slm.

도 1은 본 실험을 위해 사용된 장치를 개략적으로 도시한 것으로 폐 PET로부터 추출된 BHET 해중합 반응을 통한 개략적인 가스화 공정을 나타낸 것이다.1 schematically shows the apparatus used for this experiment and shows a schematic gasification process through the BHET depolymerization reaction extracted from waste PET.

도 1을 참고하여 본 실험 과정을 상세하게 설명하면 아래와 같다.The experimental process will be described in detail with reference to FIG. 1 as follows.

도 1에 도시된 바와 같이 플라즈마를 발생시키도록 CTLR에 전력 및 가스를 공급하기 위한 장치, BHET 해중합 반응하기 위한 반응기 및 CTLR, 해중합 반응을 하여 생성된 기체를 분석 및 포집하기 위한 장치를 마련하였다. As shown in FIG. 1, a device for supplying power and gas to the CTLR to generate plasma, a reactor for BHET depolymerization reaction, and a CTLR, and a device for analyzing and collecting gas generated by the depolymerization reaction were provided.

이때, BHET의 해중합 반응을 통해 기체를 생성하는 방법에 대하여 설명하면, 상기에서 설계한 반응기에 CTLR을 고정해 플라즈마를 발생시키고 반응기 바닥 면에 가루 형태의 BHET를 두어 직접 반응을 시켜 가스화를 시키는 방식이다. At this time, the method of generating gas through the depolymerization reaction of BHET will be described, a method of generating plasma by fixing CTLR in the reactor designed above, and placing BHET in powder form on the bottom of the reactor to directly react to gasify it. to be.

마지막으로 생성된 기체를 포집 및 분석을 하는 방법으로는 반응기 왼쪽의 공기 구멍으로 기체를 내보내는 구조이며 발생된 기체를 가스 컬렉터(Gas collector 10, SANT사제)을 통해 기체를 추출하며 테틀러 백(Tedlar Bag) 또는 폴리에스테르 및 알루미늄 백(Polyester + Aluminum sampling bag, 탑트레이딩 ENG 사제)에 포집한다. 그 후 기체 크로마토그래피(Gas chromatography, GC, Agilent 7890A) 장비에 TCD 칼럼을 장착하여 분석을 진행하였다. Finally, the method of collecting and analyzing the generated gas is a structure that discharges the gas through the air hole on the left side of the reactor. The generated gas is extracted through a gas collector (manufactured by Gas collector 10, SANT), and a Tedlar bag (Tedlar bag) Bag) or polyester and aluminum sampling bag (manufactured by Top Trading ENG). After that, gas chromatography (GC, Agilent 7890A) equipment was equipped with a TCD column to perform analysis.

또한, 휴대용 가스 측정기(Vario plus, MRU 사제)를 통해 인-시튜(In-situ)로 생성된 기체의 농도 측정 및 OES 측정 결과 분석을 통해 가스 분석 결과의 근거 자료를 보충한다.In addition, by measuring the concentration of gas generated in-situ through a portable gas meter (Vario plus, manufactured by MRU) and analyzing the result of OES measurement, the base data of the gas analysis result is supplemented.

2. 2. BHETBHET 유무에 따른 인풋 파워 및 기체 온도 확인 Input power and gas temperature check according to the presence or absence

상기 1.의 플라즈마 가스화 실험에서 기체 흐름을 1.5 및 2 slm로 변경하면서, 인가 전력에 따른 기체 온도 변화를 확인하였다. 기체 온도는 열화상 카메라를 이용하여 CTLR로부터 생성된 플라즈마 플럼에서 밝기가 가장 강한 곳을 기준으로 측정하였다. 도 6은 열화상 카메라를 이용한 기체 온도 측정 위치를 나타낸 것으로, (a)는 BHET와 반응 전 (b)는 BHET와 반응 중의 이미지를 나타낸다. In the plasma gasification experiment of 1. above, while changing the gas flow to 1.5 and 2 slm, the gas temperature change according to the applied power was confirmed. The gas temperature was measured based on the strongest brightness in the plasma plume generated from CTLR using a thermal imaging camera. 6 shows a gas temperature measurement location using a thermal imaging camera, (a) before reaction with BHET (b) shows an image during reaction with BHET.

그 결과, 도 2에서 확인할 수 있는 바와 같이 BHET를 투입하는 경우 기체 온도가 상승하였으며, 플라즈마 가스화 공정에 의해 BHET의 끓는점인 317℃ 미만에서도 가스화 반응이 일어나는 것을 확인할 수 있었다. 또한, 본 실험 결과는 플라즈마 공정의 장점인 화학적/물리적 특성을 보여준다. As a result, as can be seen in FIG. 2, when BHET was introduced, the gas temperature was increased, and it was confirmed that the gasification reaction occurred even at less than 317°C, the boiling point of BHET by the plasma gasification process. In addition, the results of this experiment show the chemical/physical properties of the plasma process.

일반적인 열적(Thermal) 공정에서의 경우 기화점(BHET의 기화점: 317

Figure pat00001
이상의 온도가 가해질 때 물질의 기화가 발생하지만 본 실험에서의 경우 플라즈마의 도 6에서 보는 바와 같이 이보다 낮은 온도(250℃ 이하) 에서 CO 등의 부가가치가 높은 기체가 추출되었다. In the case of general thermal process, evaporation point (BHET evaporation point: 317
Figure pat00001
When the above temperature is applied, vaporization of the material occurs, but in the case of this experiment, gas having a high added value such as CO was extracted at a lower temperature (250°C or less) as shown in FIG.

따라서, 이러한 인가 전력의 차이에 따른 플라즈마의 온도 제어가 가능(Thermal/Non-Thermal)한 본 공정은 기존의 열적 공정뿐만 아니라 화학적 물리적(sputtering) 및 화학적 (active radical reaction) 공정의 제어가 가능할 것으로 예상된다.Therefore, this process, which can control the temperature of the plasma according to the difference in applied power (Thermal/Non-Thermal), is expected to control not only the conventional thermal process but also the chemical and physical (sputtering) and chemical (active radical reaction) processes. It is expected.

3. 3. ICCDICCD 카메라 분석 Camera analysis

상기 1.의 플라즈마 가스화 실험에서 기체 흐름이 2 slm인 경우 플라즈마 방전 이미지를 이미지 증폭기(Image Intensifier)를 결합한 전하 결합 소자(CCD) 카메라인 ICCD(Intensified Charge-Coupled Device) 카메라로 확인하였다.In the plasma gasification experiment of 1. above, when the gas flow was 2 slm, the plasma discharge image was confirmed with an ICCD (Intensified Charge-Coupled Device) camera, which is a charge-coupled device (CCD) camera combined with an image amplifier.

그 결과를 도 3에 나타내었으며, 도 3(a)는 BHET를 투입하지 않은 경우, 도 3(b)는 BHET를 투입한 경우, 그리고 도 3(c)는 BHET를 투입하고 OH 필터를 적용한 경우의 이미지를 나타낸 것이다. 인-시튜(In-situ) BHET 반응시 ICCD 플라즈마 방전 이미지에서는 BHET를 투입하지 않은 순수한 플라즈마 ICCD 이미지에서 관측되지 않은 OH 라디칼이 추가적으로 생성됨을 확인하였다. The results are shown in Fig. 3, Fig. 3(a) is a case where BHET is not added, Fig. 3(b) is a case where BHET is injected, and Fig. 3(c) is a case where BHET is injected and an OH filter is applied It shows the image of. In the ICCD plasma discharge image during the in-situ BHET reaction, it was confirmed that OH radicals that were not observed in the pure plasma ICCD image without BHET were additionally generated.

이는 도 2에서 인가 전력에 따른 CTLR의 플라즈마 기체 온도 측정 실험 결과로부터 기화점 이하에서 반응하는 본 플라즈마 공정만의 고유한 특성으로 추측된다. 그 결과 BHET를 투입하는 경우 플라즈마 반응이 일어나는 것을 확인할 수 있었으며, 특히 OH 필터를 적용한 경우 BHET 구조 중 CH2-OH (Hydroxymethyl)가 상대적으로 잘 끊어지므로, OH-가 관측되는 것을 확인하였다. 이와 같이 ICCD 이미지상에서 OH 필터를 적용하였을 때 OH 라디칼이 플라즈마 내에서 새롭게 관측되었다.This is presumed to be a characteristic characteristic of this plasma process reacting below the evaporation point from the results of the plasma gas temperature measurement experiment result of the CTLR according to the applied power in FIG. 2. As a result, it was confirmed that plasma reaction occurred when BHET was added. In particular, when the OH filter was applied, CH 2 -OH (Hydroxymethyl) in the BHET structure was relatively easily cut off, and thus OH- was observed. When the OH filter was applied on the ICCD image as described above, OH radicals were newly observed in the plasma.

4. 4. 플라즈마plasma 반응 시간에 따른 발생 기체의 농도 변화를 확인 및 Confirm the change in the concentration of the generated gas according to the reaction time and OESOES 분석 analysis

상기 1.의 플라즈마 가스화 실험에서 플라즈마 반응 시간에 따른 발생 기체의 농도 변화를 확인하였으며, 그 결과를 도 4에 나타내었다. 그 결과 13분이 경과하면서 18분까지 CO 발생이 현저하게 증가하는 것을 확인할 수 있었으며, 부가가치가 높은 CO 가스 수득량이 100 ppm에서 1400 ppm까지 증가하였다. 한편, 특정 전력(12 W)에서 13분이 지난 후 포집되는 CO 가스의 수득률이 증가하고 18분이 지난후 CO 가스의 수득률이 다시 감소하는 것은 13분 이전에 반응기 내 산소가 기존 플라즈마와 반응하며 챔버 내 산소가 부족하여 불완전 연소가 시작되는 시점에서 급격이 CO 가스가 증가하며 13분 이후 발생된 CO는 안정화 지기 위해 다시 주변 기체와 반응하며 CO 가스의 수득량이 감소하는 것으로 추측된다.In the plasma gasification experiment of 1. above, the change in the concentration of the generated gas according to the plasma reaction time was confirmed, and the results are shown in FIG. 4. As a result, it was confirmed that CO generation significantly increased from 13 minutes to 18 minutes, and the amount of CO gas with high added value increased from 100 ppm to 1400 ppm. On the other hand, the yield of CO gas collected after 13 minutes at a specific power (12 W) increases and the yield of CO gas decreases again after 18 minutes. When incomplete combustion starts due to lack of oxygen, CO gas rapidly increases, and CO generated after 13 minutes reacts with the surrounding gas again to stabilize, and it is assumed that the yield of CO gas decreases.

또한, 플라즈마가 BHET와 반응하는 경우의 전체 OES 스펙트럼을 도 5에 나타내었으며, 그 결과 반응성을 명확하게 확인할 수 있었다. 플라즈마 관점에서, BHET와 플라즈마가 직접적으로 반응할 때 OES(Optical Emission Spectroscopy) 상에서 원자별 스펙트럼 데이터베이스 라인 데이터(Atomic Spectra Database lines data, NIST)를 통해 588.5 nm에 해당하는 C-O 라디칼(radical)이 시간에 따라 증가함을 확인하였다. 이 활성종(radical)은 BHET와 반응하지 않는 플라즈마에서는 나타나지 않은 라디컬로서 도 4의 CO 가스 수득 증가에 기여한 것으로 추측된다. 다시 말해 BHET 모노머의 특정 CO 결합을 크랙킹(cracking)하여 관련된 CO 활성종이 OES 상에서 관측되었으며, 이로 인해 CO 가스의 수득량이 늘어난 것으로 예상된다 (도 4).In addition, the entire OES spectrum when the plasma reacts with BHET is shown in FIG. 5, and as a result, the reactivity could be clearly confirmed. From the plasma point of view, when BHET and plasma directly react, CO radicals corresponding to 588.5 nm are released in time through atomic spectrum database lines data (NIST) on OES (Optical Emission Spectroscopy). It was confirmed that it increased accordingly. This active species (radical) is a radical that does not appear in the plasma that does not react with BHET, and is presumed to contribute to the increase in CO gas yield in FIG. 4. In other words, by cracking a specific CO bond of the BHET monomer, related CO active species were observed on the OES, which is expected to increase the yield of CO gas (FIG. 4).

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구 범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 해당 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and variations are possible without departing from the technical spirit of the present invention described in the claims. It will be obvious to those of ordinary skill in the field.

1: 신호 발생 장치(Signal generator)
2: 파워 증폭 장치(Power amplifier)
3: 양방향 커플러(Bi-directional coupler)
4, 5: 파워 센서(Power sensor)
6, 7: 파워 미터(Power meter)
1: Signal generator
2: Power amplifier
3: Bi-directional coupler
4, 5: Power sensor
6, 7: Power meter

Claims (7)

비스(2-하이드록시에틸)테레프탈레이트를 플라즈마 반응기에 투입하는 단계; 및
플라즈마 가스화 반응에 의해 합성가스(Syngas)를 생성하는 플라즈마 가스화 단계를 포함하는, 합성가스 제조방법.
Introducing bis(2-hydroxyethyl)terephthalate into a plasma reactor; And
A method for producing syngas, comprising a plasma gasification step of generating syngas by a plasma gasification reaction.
제1항에 있어서, 상기 비스(2-하이드록시에틸)테레프탈레이트는 폐 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로부터 획득된, 합성가스 제조방법.
The method of claim 1, wherein the bis(2-hydroxyethyl) terephthalate is obtained from waste polyethylene terephthalate (PET).
제1항에 있어서, 상기 플라즈마 가스화 단계의 방전 기체는 불활성 가스 및 공기로부터 선택되는, 합성가스 제조방법.
The method of claim 1, wherein the discharge gas in the plasma gasification step is selected from inert gas and air.
제1항에 있어서, 상기 플라즈마 가스화 단계는 라디오 주파수(Radio Frequency) 플라즈마, 마이크로파(Microwave)의 주파수 플라즈마, 펄스 플라즈마, DC 플라즈마 또는 AC 플라즈마에서 수행되는, 합성가스 제조방법.
The method of claim 1, wherein the plasma gasification step is performed in a radio frequency plasma, a microwave frequency plasma, a pulsed plasma, a DC plasma, or an AC plasma.
제1항에 있어서, 상기 플라즈마 가스화 단계는 50 내지 250℃의 온도 범위 및 대기압 하에서 수행되는, 합성가스 제조방법.
The method of claim 1, wherein the plasma gasification step is performed under atmospheric pressure and a temperature range of 50 to 250°C.
제1항에 있어서, 상기 플라즈마 가스화 단계는 13분 내지 20 분 동안 수행되는, 합성가스 제조방법.
The method of claim 1, wherein the plasma gasification step is performed for 13 to 20 minutes.
제1항에 있어서, 상기 합성 가스는 수소 및 일산화탄소를 포함하는, 합성가스 제조방법.
The method of claim 1, wherein the synthesis gas comprises hydrogen and carbon monoxide.
KR1020190149933A 2019-11-20 2019-11-20 A method for manufacturing syngas from bis(2-hydroxyethyl)terephthalate using plasma process KR102281573B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190149933A KR102281573B1 (en) 2019-11-20 2019-11-20 A method for manufacturing syngas from bis(2-hydroxyethyl)terephthalate using plasma process

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190149933A KR102281573B1 (en) 2019-11-20 2019-11-20 A method for manufacturing syngas from bis(2-hydroxyethyl)terephthalate using plasma process

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210062142A true KR20210062142A (en) 2021-05-31
KR102281573B1 KR102281573B1 (en) 2021-07-27

Family

ID=76150046

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190149933A KR102281573B1 (en) 2019-11-20 2019-11-20 A method for manufacturing syngas from bis(2-hydroxyethyl)terephthalate using plasma process

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102281573B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230010118A (en) * 2021-07-09 2023-01-18 한국생산기술연구원 plasma substrate for decomposing liquid monomers

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990009163A (en) * 1997-07-08 1999-02-05 박원훈 Method for producing syngas using radio wave plasma
JP2006335856A (en) * 2005-06-01 2006-12-14 Kumamoto Technology & Industry Foundation Method for depolymerizing polyester, and method for recovering polyester monomer using the above method
KR20110010173A (en) * 2009-07-24 2011-02-01 한국과학기술원 Process for preparing bis(2-hydroxyethyl)terephthalate from waste poly(ethyleneterephthalate)
KR20150098129A (en) * 2014-02-19 2015-08-27 한국화학연구원 A method for producing hydrogen, C2~C4 olefin, or a mixture thereof using plasma-catalyst

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990009163A (en) * 1997-07-08 1999-02-05 박원훈 Method for producing syngas using radio wave plasma
JP2006335856A (en) * 2005-06-01 2006-12-14 Kumamoto Technology & Industry Foundation Method for depolymerizing polyester, and method for recovering polyester monomer using the above method
KR20110010173A (en) * 2009-07-24 2011-02-01 한국과학기술원 Process for preparing bis(2-hydroxyethyl)terephthalate from waste poly(ethyleneterephthalate)
KR20150098129A (en) * 2014-02-19 2015-08-27 한국화학연구원 A method for producing hydrogen, C2~C4 olefin, or a mixture thereof using plasma-catalyst

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230010118A (en) * 2021-07-09 2023-01-18 한국생산기술연구원 plasma substrate for decomposing liquid monomers

Also Published As

Publication number Publication date
KR102281573B1 (en) 2021-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
de la Fuente et al. Reduction of CO2 with hydrogen in a non-equilibrium microwave plasma reactor
Tang et al. Development of plasma pyrolysis/gasification systems for energy efficient and environmentally sound waste disposal
Brehmer et al. CO and byproduct formation during CO2 reduction in dielectric barrier discharges
Henriques et al. Microwave plasma torches driven by surface wave applied for hydrogen production
Goujon et al. OES and FTIR diagnostics of HMDSO/O2 gas mixtures for SiOx deposition assisted by RF plasma
Nozaki et al. Selective conversion of methane to synthetic fuels using dielectric barrier discharge contacting liquid film
Kolb et al. Wet conversion of methane and carbon dioxide in a DBD reactor
An et al. Microwave plasma reactor with conical-reflector for diamond deposition
KR102281573B1 (en) A method for manufacturing syngas from bis(2-hydroxyethyl)terephthalate using plasma process
Attar et al. Photodissociation of thioglycolic acid studied by femtosecond time-resolved transient absorption spectroscopy
Zhao et al. Pathways of hydrogen-rich gas produced by microwave discharge in ethanol-water mixtures
Tsai et al. Production of hydrogen and nano carbon powders from direct plasmalysis of methane
Hu et al. IR plus vacuum ultraviolet spectroscopy of neutral and ionic organic acid molecules and clusters: Acetic acid
Ikeda et al. Effects of H, OH, and CH 3 radicals on diamond film formation in parallel-plate radio frequency plasma reactor
Cicala et al. Modulated rf discharges as an effective tool for selecting excited species
Xi et al. The effect of humidity on the discharge mode transition of air discharge plasma
Averin et al. Some results from studies of microwave discharges in liquid heavy hydrocarbons
Kopecky et al. Absorption of electromagnetic waves in a radially inhomogeneous plasma at high magnetic fields
Dias et al. Microwave plasma torches used for hydrogen production
Rahmani et al. Liquid oxygenated hydrocarbons produced during reforming of CH4 and CO2 in a surface dielectric barrier discharge: Effects of steam on conversion and products distribution
Aramaki et al. Measurements of gas temperature in high-density helicon-wave H2 plasmas by diode laser absorption spectroscopy
Reyes et al. Characterization of ethanol plasma glow discharge, decomposition in several species and solid film formation
Wu et al. Experimental investigation of CO2 conversion in Boudouard reaction driven by an atmospheric-pressure microwave plasma torch
TANGE et al. Cellulose decomposition in electrolytic solution using in-liquid plasma method
Attri et al. Influence of humidity on the plasma‐assisted CO2 conversion

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant