KR20210050816A - Flush plate cleaning device, plate rinse cleaning system comprising the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a flush type food tray cleaning device capable of quickly removing foreign substances remaining on the surface of a food tray through the process of temporarily inserting and discharging an immersion-cleaned or pre-cleaned food tray into a water tank where washing water is stored through the lifting process by an operator, and a food tray rinsing and cleaning system comprising the same. The present invention comprises: a washing tank formed with an open entrance at the upper part thereof and having a narrow and long water storage space by short longitudinal inner walls on both sides and long transverse inner walls on both sides; a spray nozzle unit disposed to face each other on the upper layer of the long inner walls on both sides with the narrow width and for spraying washing water at high pressure in the width direction to dishes that are entered and exited in the vertical direction through the entrance; and a circulation pump unit for circulating and supplying the washing water stored in the washing tank at a set water level to the spray nozzle unit. In the upper layer of the water storage space, a high-pressure washing section is formed in which the washing water is sprayed at high pressure in the width direction through the spray nozzle unit, and the washing water sprayed at high pressure on the surface of the dishes passing in the vertical direction washes the dishes. In the middle and lower layers of the water storage space, an impregnated washing section is formed in which the dishes that have passed through the high-pressure washing section in the vertical direction are impregnated with the stored washing water for washing.

Description

수세식 식판 세정장치, 이를 포함하여 구성된 식판 헹굼 세정시스템{Flush plate cleaning device, plate rinse cleaning system comprising the same}Flush plate cleaning device, plate rinse cleaning system comprising the same

본 발명은 수세식 식판 세정장치, 이를 포함하여 구성된 식판 헹굼 세정시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 담금 세정 또는 애벌 세정된 식기를 작업자가 상하방향으로 진출입하는 과정을 통해 세정수가 저수된 수세조 내에 일시적으로 투입 및 배출하는 과정을 통해, 식기의 표면에 잔류된 이물질들이 신속히 제거되도록 한 수세식 식판 세정장치, 이를 포함하여 구성된 식판 헹굼 세정시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a flushing plate washing apparatus, and a plate rinsing and cleaning system including the same, and more particularly, a temporary washing tank in which washing water is stored through a process in which an operator enters and enters the dishwashed by immersion washing or pre-washing. The present invention relates to a flushing plate cleaning device in which foreign substances remaining on the surface of dishes are quickly removed through the process of inputting and discharging, and a plate rinsing cleaning system including the same.

학교, 공공기관, 부대, 휴게소 등 단체 급식이 이루어지는 곳에서는 대량의 식판을 사용하게 되는데 이러한 식판은 배식 후 식사를 마친 다음 일괄적으로 식판 세척기에 투입되어 세척되는 과정을 거쳐, 식판에 묻어 있는 잔반이나 음식물찌꺼기등을 제거하게 된다.In places where group meals are provided, such as schools, public institutions, units, and rest areas, a large number of plates are used. These plates are put into a plate washer and washed in a batch after they are served. Or food debris will be removed.

이때, 식판에 심하게 엉겨붙은 밥알이나 일부 잔반찌꺼기는 제거하기가 어려워 식기세척기를 거쳐도 잔유물이 남게 된다.At this time, it is difficult to remove rice grains or some leftovers that are badly entangled on the plate, so that residues remain even after passing through the dishwasher.

따라서, 당분야에서는 식판을 식판세척기에 투입하기 전에 애벌세척단계를 거쳐 음식물찌꺼기를 일차적으로 제거한 다음, 식판세척기에 투입시켜 세척과, 헹굼, 및 건조공정을 실시하게 된다.Therefore, in the art, before the plate is put into the plate washer, food debris is first removed through a prewash step, and then the plate is put into the plate washer to perform washing, rinsing, and drying processes.

이러한 애벌세척은, 음식찌꺼기가 붙은 식판을 세제가 풀어져있는 커다란 통에 넣어서 음식찌꺼기를 불린 후, 세척자가 한손으로 브러쉬를 잡고 다른 손으로 식판을 잡은 상태에서 그 브러쉬로 식판의 상하면을 번갈가가며 닦아 식판에 붙은 음식찌꺼기를 분리함으로써 수행되어 왔다.In this pre-cleaning, after putting the plate with food debris in a large container full of detergent and soaking the food debris, the cleaner holding a brush with one hand and holding the plate with the other hand, wipes the upper and lower sides of the plate alternately with the brush. It has been practiced by separating food debris from the plate.

그런데 상기한 방법으로는 수십개 단위의 식판을 애벌세척할 수는 있으나, 수백개 이상 되는 식판을 애벌 세척할 경우 반복되는 세척동작에 의하여 세척자의 어깨나 팔다리에 많은 무리가 인가되었고, 결국 관절염 등이나 근육통의 원인이 되었다.However, with the above method, it is possible to pre-wash the plates of several tens of units. However, when pre-washing hundreds or more of plates, a lot of stress was applied to the shoulders or limbs of the washer by repeated washing operations, and eventually, arthritis, etc. It caused muscle pain.

한편, 본 발명자는 대한민국 10-1923478호 등을 통해 담금공간이 형성된 담금조와; 상기 담금조의 담금공간 내에 저수된 세척수를 내부 순환시켜 담금공간 내에 재공급하는 순환 펌프부와; 상기 담금조의 타측 하부에 형성되어, 담금공간 내에 저수된 세척수를 여과시켜 배출하는 여과 배수부; 및 상기 담금조의 일측에 배치되어 순환 펌프부에 의해 여과 배수부에서 여과 배수된 세척수를 담금공간의 일측에서 타측으로 측방향 토출하는 급수 헤드부를 포함하는 담금형 식기 세척장치들을 제안한 바 있다.On the other hand, the inventors of the present invention and the damgeumjo and the immersion space formed through the Republic of Korea 10-1923478; A circulation pump unit for internally circulating the washing water stored in the immersion space of the immersion tank and resupplying the washing water into the immersion space; A filtering drain unit formed below the other side of the immersion tank to filter and discharge the washing water stored in the immersion space; And a water supply head disposed on one side of the soaking tank and laterally discharging the washing water filtered and drained from the filtration drainage part by the circulation pump part from one side of the soaking space to the other side.

이러한 담금형 식기 세척장치들을 통해 식판 등의 식기를 담금 세척하면, 대량의 식기들을 일괄하여 세척이 가능하므로 작업자의 고된 노동과 시간이 단축되는 이점을 갖는다.When dishes such as tableware are immersed and washed through such a immersion type dish washing device, a large amount of dishes can be washed collectively, thereby reducing labor and time of a worker.

그리고, 상기 담금형 식기 세척장치를 통해 담금 세정된 식기들은 플라이트형 헹금장치에 투입되어, 이송 컨베이어에 직립되게 거치되어 분사노즐들이 형성된 터널형의 헹굼 세정로를 따라 이동하면서 최종 헹굼 세정이 이루어지도록 하고 있다.In addition, the dishes immersed and washed through the immersion-type dish washing device are put into a flight-type rinsing device, and are mounted upright on a transfer conveyor so that the final rinsing is performed while moving along a tunnel-type rinsing path in which spray nozzles are formed. I'm doing it.

그런데, 상기 담금형 식기 세척장치와 헹굼 세정장치를 통과한 식기들은 전체적으로 안정된 세정 및 헹굼된 상태이지만, 간헐적으로 일부의 식기에는 음식물 찌꺼기 등의 이물질이 잔류하는 현상이 야기될 수 있다.However, the dishes that have passed through the immersion type dish washing apparatus and the rinsing washing apparatus are generally in a stable washing and rinsing state, but a phenomenon in which foreign substances, such as food waste, remain intermittently in some dishes may be caused.

KR 10-1923478 B1KR 10-1923478 B1 KR 10-1841969 B1KR 10-1841969 B1

상기한 문제점을 해소하기 위해 안출된 본 발명의 목적은, 담금 세정 또는 애벌 세정된 식기를 작업자가 상하방향으로 진출입하는 과정을 통해 세정수가 저수된 수세조 내에 일시적으로 투입 및 배출하는 과정을 통해, 식기의 표면에 잔류된 이물질들이 신속히 제거되도록 한 수세식 식판 세정장치, 이를 포함하여 구성된 식판 헹굼 세정시스템을 제공함에 있다.An object of the present invention conceived to solve the above problems is through the process of temporarily introducing and discharging the washing water into the washing tank in which the washing water is stored through the process of entering and entering the immersion washing or prewashed dishes in the vertical direction, It is to provide a flushing plate cleaning device in which foreign substances remaining on the surface of dishes are quickly removed, and a plate rinsing cleaning system including the same.

상기한 목적은, 본 발명에서 제공되는 하기 구성에 의해 달성된다.The above object is achieved by the following configuration provided in the present invention.

본 발명에 따른 수세식 식판 세정장치는,The flushing plate cleaning apparatus according to the present invention,

상부에 진출입구가 개방하여 형성되고, 길이가 짧은 종방향의 양측 내벽과 길이가 긴 장방향 양측 내벽에 의해, 협폭이며 장방향 저수공간을 갖는 수세조와; 상기 협폭을 형성하는 장방향 양측 내벽 상층부에 각각 마주하여 배치되어, 진출입구를 통해 상하방향으로 진출입되는 식기에 폭방향으로 세정수를 고압 분사하는 분사 노즐부; 및 상기 수세조 내에 설정수위로 저수된 세정수를 분사 노즐부에 순환 공급하는 순환펌프부를 포함하여 구성되어,A washing tank having a narrow width and a storage space in a long direction, formed by opening the entrance to the upper portion, and having both inner walls in the longitudinal direction having a short length and both inner walls in the longitudinal direction having a long length; A spray nozzle unit disposed to face each of the upper layers of inner walls on both sides of the long direction forming the narrow width, and spraying the washing water at high pressure in the width direction to the dishes that enter and exit in the vertical direction through the entrance inlet; And a circulation pump unit for circulating and supplying the washing water stored at a set water level in the washing tank to the spray nozzle unit,

상기 저수공간의 상층부에는 분사 노즐부를 통해 폭방향으로 세정수가 고압 분사되어, 상하방향으로 통과하는 식기의 표면에 고압 분사된 세정수를 통해 세정하는 고압 수세구간이 형성되고, 저수공간의 중층부와 하층부에는 상기 고압 수세수간을 상하방향으로 통과한 식기를 저수된 세정수를 통해 함침하여 세정하는 함침 수세구간을 형성한 것을 특징으로 한다.A high-pressure water washing section is formed in the upper layer of the storage space by spraying the washing water in the width direction through the spray nozzle part, and washing through the washing water sprayed with high pressure on the surface of the dishes passing in the vertical direction, and the middle layer of the storage space and The lower layer is characterized in that an impregnation washing section for washing by impregnating the dishes passed through the high-pressure flushing water in the vertical direction through the stored washing water is formed.

바람직하게는, 상기 장방향 양측 내벽 상층부에 대향하여 배치되어 상층부에 폭방향으로 세정수를 고압 분사하는 분사 노즐부는, Preferably, the spray nozzle unit is disposed opposite to the upper layer of the inner wall on both sides in the longitudinal direction and sprays the washing water at high pressure in the width direction to the upper layer,

저수공간에 설정수위로 저수된 세정액의 표면층에 설정 깊이로 입수된 상태를 형성하여 저수된 세정액의 표면층에 입수된 상태로 저수공간의 상층부에 폭방향으로 세정수를 고압 분사하도록 구성된다.It is configured to high-pressure spraying the washing water in the width direction to the upper layer of the storage space in a state obtained in the surface layer of the stored cleaning liquid by forming a state obtained in the surface layer of the cleaning liquid stored at the set water level in the storage space.

보다 바람직하게는, 상기 저수공간의 상층부에 배치된 분사 노즐부는 5° 내지 30°의 각도로 하향 경사지게 배치되어, 상기 분사 노즐부를 통해 분사된 세정수의 분사액들은 저수공간의 상층부에 형성된 식판의 진출입 구간의 중앙에 하향 경사진 상태로 분출된다.More preferably, the spray nozzle portion disposed on the upper layer portion of the storage space is disposed to be inclined downward at an angle of 5° to 30°, and the spray liquids of the washing water sprayed through the spray nozzle portion are formed in the upper layer portion of the storage space. It is ejected in a downward slope in the center of the entry/exit section.

한편, 본 발명에 따른 식기 헹굼 세정시스템은,On the other hand, the dishwashing rinsing system according to the present invention,

담금 세정을 통해 식기의 표면에 잔류된 이물질을 불림 및 제거하는 담금 세정장치와, 일방향으로 이동하는 식기의 표면에 헹굼수를 고압으로 분사하여서 식기를 최종적으로 헹굼하는 헹굼장치를 포함하여 구성된 식기 헹굼 세정시스템에 있어서, 상기 담금 세정장치와 헹굼장치 사이에 본 발명에 따른 수세식 식판 세정장치가 배치된 것을 특징으로 한다.Tableware rinsing comprising a immersion cleaning device that soaks and removes foreign substances remaining on the surface of dishes through immersion cleaning, and a rinsing device that finally rinses dishes by spraying rinsing water at high pressure on the surface of dishes moving in one direction. In the cleaning system, a flushing plate cleaning device according to the present invention is disposed between the immersion cleaning device and the rinsing device.

전술한 바와 같이 본 발명에서는, 담금 세정 또는 애벌 세정된 식기를 작업자가 세정수가 저수된 수세조 내에 상하방향으로 투입 및 배출하는 과정을 통해, 상기 수세조 내에 형성된 고압 수세구간과 함침 수세구간을 상향 방향으로 통과하는 식기의 안정적인 세척이 이루어지도록 하고 있다.As described above, in the present invention, the high-pressure washing section and the impregnating washing section formed in the washing tank are raised through the process of injecting and discharging the dishwashed by immersion washing or pre-washing in the washing tank in which the washing water is stored in the vertical direction. It is designed to ensure stable washing of dishes passing in the direction.

그리고, 본 발명에서는 상기 함침 수세구간을 형성하는 분사 노즐부를 수세조에 형성된 저수공간의 상층부에 마련하여서, 저수된 세정액의 압력에 의해 분사 노즐부를 통해 분사되는 세정수의 분사압이 감소함에 따라서, 식기의 고압 수세효율이 저감되는 현상을 예방하고 있으며, 또 상기 고압 수세구간을 형성하는 분사 노즐부는 저수된 세정수의 표면층에 설정된 깊이로 입수하여 세정수를 폭방향으로 고압 분사하도록 구성되어서, 고압 분사되어 식기에 부딪힌 세정수가 외부로 누출되는 현상을 예방하고 있다.In addition, in the present invention, the spray nozzle part forming the impregnating water washing section is provided in the upper layer of the storage space formed in the water washing tank, and as the spray pressure of the washing water sprayed through the spray nozzle part decreases by the pressure of the stored cleaning liquid, It prevents the phenomenon that the high-pressure washing efficiency of dishes is reduced, and the spray nozzle part forming the high-pressure washing section is configured to receive the washing water at a set depth in the surface layer of the stored washing water and spray the washing water at high pressure in the width direction. It prevents the leakage of washing water hitting the tableware by spraying it to the outside.

또한, 본 발명에서는 분사 노즐부를 커버형의 챔버구조로 마련하여, 분사된 세정수의 물 튀김을 억제하고, 구조의 간소화를 통해서 제작에 따른 편리성과 분사 안정성을 확보하고 있다.In addition, in the present invention, the spray nozzle portion is provided in a cover-type chamber structure, so that splashing of the sprayed washing water is suppressed, and convenience and spray stability according to manufacture are secured through simplification of the structure.

도 1은 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치를 포함하여 구성된 수세식 식판 헹굼 세정시스템의 전체 구성을 보여주는 것이고,
도 2는 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치의 외형 구성을 보여주는 것이고,
도 3과 도 4는 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치의 세부 구성을 보여주는 부분 절개 상태도이고,
도 5는 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치의 평면 구성을 보여주는 것이며,
도 6과 도 7은 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치를 통한 식기의 세정상태를 보여주는 것이다.1 is a view showing the overall configuration of a flush plate rinsing and cleaning system configured including a flush plate cleaning device proposed as a preferred embodiment in the present invention,
Figure 2 shows the external configuration of the flushing plate cleaning apparatus proposed as a preferred embodiment in the present invention,
3 and 4 are partial cut-away state diagrams showing a detailed configuration of a flushing plate cleaning apparatus proposed as a preferred embodiment in the present invention,
5 shows a plan view of a flushing plate cleaning apparatus proposed as a preferred embodiment in the present invention,
6 and 7 show a washing state of dishes through a flushing plate washing apparatus proposed as a preferred embodiment in the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치, 이를 포함하여 구성된 식판 헹굼 세정시스템을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a flushing plate cleaning apparatus proposed as a preferred embodiment in the present invention, and a plate rinsing cleaning system including the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치를 포함하여 구성된 수세식 식판 헹굼 세정시스템의 전체 구성을 보여주는 것이고, 도 2는 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치의 외형 구성을 보여주는 것이고, 도 3과 도 4는 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치의 세부 구성을 보여주는 부분 절개 상태도이고, 도 5는 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치의 평면 구성을 보여주는 것이며, 도 6과 도 7은 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식판 세정장치를 통한 식기의 세정상태를 보여주는 것이다.1 is a view showing the overall configuration of a flush plate rinsing system comprising a flush plate cleaning device proposed as a preferred embodiment in the present invention, and FIG. 2 is a flush plate cleaning device proposed as a preferred embodiment in the present invention. 3 and 4 are partial cut-away state diagrams showing the detailed configuration of the flushing plate cleaning apparatus proposed as a preferred embodiment in the present invention, and FIG. 5 is a partial cutaway state diagram suggested as a preferred embodiment in the present invention. It shows the planar configuration of the flush plate washing apparatus, and FIGS. 6 and 7 show the washing state of dishes through the flush plate washing apparatus proposed as a preferred embodiment in the present invention.

본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 수세식 식기 세정장치(200)는, 담금이나 애벌 세정을 마친 식판이나 접시 등의 식기(T)를 작업자가 낱개식 수세조 내에 승강을 통해 진출입하여서, 상기 식기(T)의 일면과 이면을 포함하는 양면에 잔류된 음식물 찌꺼기인 이물질들을 세정하는 장치이다.In the flush dish washing apparatus 200 proposed as a preferred embodiment of the present invention, an operator enters and enters the dishware T, such as a plate or plate, which has been immersed or pre-washed, in a single-type flushing tank through elevation, and It is a device that cleans foreign substances, which are food waste, remaining on both sides including one side and the back side of (T).

본 발명에서는 도 1에서 보는 바와 같이 상기 수세식 식판 세정장치(200)를, 담금 세정을 통해 식기(T)의 표면에 잔류된 이물질을 불림 및 제거하는 담금 세정장치(100)와, 일방향으로 이동하는 식기(T)의 표면에 헹굼수를 고압으로 분사하여서 식기를 최종적으로 헹굼하는 헹굼장치(300) 사이에 배치하여 식기 헹굼 세정시스템(1)을 구성함으로써, 이물질과 잔류 세제 등의 제거를 요하는 식기의 세정 및 헹굼에 따른 신뢰성이 확보되도록 하고 있다. 여기서, 상기 담금 세정장치와 헹굼장치는 범용의 것인 관계로, 이에 따른 상세한 설명 및 도면의 도시를 생략한다.In the present invention, as shown in FIG. 1, the flushing plate cleaning device 200 includes a immersion cleaning device 100 for soaking and removing foreign substances remaining on the surface of the tableware T through immersion cleaning, and moving in one direction. The tableware rinsing and cleaning system 1 is constructed by disposing it between the rinsing devices 300 that finally rinses the dishes by spraying rinsing water on the surface of the dishes T at high pressure, so that the removal of foreign substances and residual detergents is required. Reliability for washing and rinsing dishes is secured. Here, since the immersion cleaning device and the rinsing device are universal, detailed descriptions and drawings thereof are omitted.

즉, 작업자가 수세미 등을 통해 식기(T)의 표면을 묻질려서 식기(T)에 잔류된 이물질을 제거하는 번거로움 없이, 담금 세정장치(100)와 수세식 식판 세정장치(200), 그리고 헹굼장치(300)의 순차적인 통과를 통해, 이물질이 완전히 제거된 상태로 식기를 세척할 수 있는 것이다.In other words, without the hassle of removing foreign substances remaining on the dishes T by the worker rubbing the surface of the dishes T through a scrubber, etc., the immersion cleaning device 100, the flushing plate cleaning device 200, and the rinsing device It is possible to wash dishes in a state in which foreign substances have been completely removed through the sequential passage of 300.

상기 식판 헹굼 세정시스템(1)을 통한 식기의 세정 및 헹굼과정은, 작업자가 담금 세정장치(100)에서 담금 세정을 마친 식기(T)를 본 발명에 따른 수세식 식판 세정장치(200)에 낱개씩 단시간 내에 진출입하여 잔류 이물질을 완전히 제거한 다음 헹굼장치(300)에 공급하는 순으로 이루어져, 담금 세정과정에 잔류된 이물질과 잔류된 세제들이 보다 안정되게 제거되도록 한다.In the washing and rinsing process of the dishes through the plate rinsing and cleaning system 1, the dishwasher T, which has been immersed and washed in the immersion washing apparatus 100 by an operator, is individually placed in the flushing plate washing apparatus 200 according to the present invention. After entering and entering within a short time, the residual foreign matter is completely removed and then supplied to the rinsing device 300 in order to remove the residual foreign matter and the residual detergent more stably during the immersion washing process.

또한, 본 발명은 폭이 좁은 장방향의 본체로 이루어져, 조리실 등 설치공간이 협소한 담금 세정장치와 헹굼장치 사이에 설치가 가능하다.In addition, the present invention is composed of a body in a long direction with a narrow width, and can be installed between a immersion cleaning device and a rinsing device having a narrow installation space such as a cooking chamber.

한편, 이러한 식판 헹굼 세정시스템(1)을 구성하는 본 실시예에 따른 수세식 식판 세정장치(200)는, 도 2 내지 도 4에서 보는 바와 같이 상부에 진출입구(211)가 개방하여 형성되고 깊이가 깊은 저수공간(212)을 갖는 수세조(210)와; 상기 수세조(210)에 형성된 저수공간(212)의 상층부(212a)에 배치되어 진출입구(211)를 따라 저수공간(212) 내에 상하방향으로 진출입되는 식기(T)에 세정수를 고압 토출하는 분사 노즐부(220); 및 상기 저수공간(212)에 저수된 세정수를 분사 노즐부(220)에 순환 공급하는 순환 펌프부(230)를 포함한다.On the other hand, the flushing plate cleaning apparatus 200 according to the present embodiment constituting the plate rinsing and cleaning system 1 is formed by opening the entrance and exit 211 at the top as shown in FIGS. 2 to 4 and has a depth A washing tank 210 having a deep storage space 212; It is disposed on the upper part 212a of the water storage space 212 formed in the washing tank 210 and discharges washing water at high pressure to the dishes T that enter and enter the water storage space 212 in the vertical direction along the entrance and exit 211 A spray nozzle unit 220; And a circulation pump unit 230 for circulating and supplying the washing water stored in the storage space 212 to the spray nozzle unit 220.

상기 수세조(210)는, 길이가 짧은 높이가 높은 종방향의 양측 내벽(213)과, 길이가 길고 높이가 높은 장방향 양측 내벽(214)에 의해서, 깊이가 깊고 폭이 좁고 길이가 긴 장방향의 저수공간(212)을 갖는 함체로 구성되고, 상기 저수공간(212)의 하부에는 배수구(215)가 형성되고 저수공간(212)의 상부에는 장방향으로 절개된 협폭의 진출입구(211)가 개방하여 형성된다.The flushing tank 210 has a long length with a long depth and a narrow width by means of both inner walls 213 in the longitudinal direction with a short length and a high longitudinal inner wall 214 having a long length and a high height. Consisting of a housing having a storage space 212 in the direction, a drain hole 215 is formed in the lower portion of the storage space 212, and a narrow entry and exit opening 211 cut in the long direction in the upper portion of the storage space 212 Is formed by opening.

그리고, 상기 분사 노즐부(220)는 상기 수세조(210)에서 마주하는 장방향 양측 내벽(215) 상층부(212a)에 대향하여 배치되어, 진출입구(211)를 통해 상하방향으로 진출입되는 식기(T)의 양면에 폭방향으로 세정수를 고압 분사하여서, 저수공간(212)의 상층부(212a) 중앙에 고압의 세정수가 폭방향으로 고압 분사되는 고압 수세구간(216)을 형성한다.In addition, the spray nozzle unit 220 is disposed opposite to the upper portion 212a of the inner walls 215 in the longitudinal direction facing from the washing tank 210, and the dishes ( The high-pressure washing water is sprayed on both sides of T) in the width direction to form a high-pressure washing section 216 in which the high-pressure washing water is injected in the width direction in the center of the upper layer 212a of the storage space 212.

또한, 상기 순환펌프부(230)는 순환관(231)을 통해 저수공간(212)의 배수구(215)와 연통하며 급수관(232)을 통해 분사 노즐부(220)와 연통하는 순환펌프(233)를 포함하고, 상기 순환펌프(233)는 저수공간(212)에 저수된 세정수를 펌핑하여 급수관(232)과 연결된 각 분사 노즐부(220)에 고압 급수한다.In addition, the circulation pump unit 230 communicates with the drain port 215 of the storage space 212 through the circulation pipe 231 and communicates with the injection nozzle unit 220 through the water supply pipe 232. Including, the circulation pump 233 pumps the washing water stored in the storage space 212 to supply high pressure to each spray nozzle 220 connected to the water supply pipe (232).

이때, 본 실시예에서는 상기 저수공간(212)에 형성된 배수구(215)에, 외부 배출구(218a)와 순환 배출구(218b)가 형성되어 외부 배출구(218a)와 순환 배출구(218b)의 개폐량의 조절이 가능한 분배 배수 밸브(218)를 배치하고, 상기 분배 배수 밸브(218)의 순환 배출구(218b)에 순환펌프부(230)의 순환관(232)을 연통되게 배치하여서, 배수구(215)를 통해 배출되는 세정수 중 일부의 세정수와 이물질들은 외부 배출구(218a)를 통해 배출되고, 나머지 세정수는 순환펌프(233)를 통해 내부 순환하여서 분사 노즐부(220)를 통해 고압 분사되도록 한다.At this time, in this embodiment, an external outlet 218a and a circulation outlet 218b are formed in the drain 215 formed in the storage space 212 to control the opening and closing amount of the external outlet 218a and the circulation outlet 218b. Distributing and draining valves 218 are arranged, and the circulation pipe 232 of the circulation pump unit 230 is disposed in communication with the circulation discharge port 218b of the distribution and drainage valve 218, and Some of the washing water and foreign substances among the discharged washing water are discharged through the external discharge port 218a, and the remaining washing water is internally circulated through the circulation pump 233 to be sprayed with high pressure through the spray nozzle unit 220.

그리고, 상기 저수공간(212)에는 상기 외부 배출구(218a)를 통해 배수되는 세정수의 배출에 따른 수위의 저하를 예방하기 위해, 저수공간(212)의 수위를 계측하는 수위 계측센서(241)와, 상기 수위 계측센서(241)를 통해 계측된 저수공간(212)의 수위에 따른 새로운 세정수를 공급하는 급수부재(242)를 부가 형성한다.In addition, in the storage space 212, a water level measurement sensor 241 for measuring the water level in the storage space 212 in order to prevent a decrease in water level due to discharge of the washing water drained through the external discharge port 218a, and , A water supply member 242 for supplying new washing water according to the water level of the storage space 212 measured through the water level measurement sensor 241 is additionally formed.

따라서, 도 5 내지 도 7에서 보는 바와 같이 상기 장방향 저수공간(212)의 상층부(212a)에는 저수공간(212)의 상층부(212a)를 상하방향으로 통과하는 식기(T)의 양면에 폭방향으로 세정수를 고압 분사하여 세정하는 고압 수세구간(216)이 형성되고, 상기 고압 수세구간(216)의 하부에 형성된 저수공간(212)의 중층부(212b)와 하층부(212c)에는 식기(T)를 함침하여 수세하는 함침 수세구간(217)이 형성된다.Accordingly, as shown in FIGS. 5 to 7, the upper layer 212a of the long storage space 212 is in the width direction on both sides of the dish T passing through the upper layer 212a of the storage space 212 in the vertical direction. A high-pressure washing section 216 for washing by high-pressure spraying of washing water is formed, and the middle layer 212b and the lower layer 212c of the storage space 212 formed under the high pressure washing section 216 are provided with dishes (T ) Is impregnated and washed with water impregnation washing section 217 is formed.

그리하여, 작업자가 개방된 진출입구(211)를 통해 세정을 요하는 식기(T)를 상하방향으로 저수공간(212) 내에 진출입하면, 상기 고압 수세구간(216)이 형성된 저수공간(212)의 상층부(212a)를 투과하는 식기(T)는 분사 노즐부(220)를 통해 양편에서 폭방향으로 고압 분사되는 세정수에 의해 고압 수세가 이루어진 다음, 저수공간(212)의 중층부(212b)와 하층부(212c)에 형성된 함침 수세구간(217)에 상하방향으로 진입하여서 함침 수세가 이루어진다.Thus, when the worker enters and enters the storage space 212 in the vertical direction through the open entry and exit port 211, the upper layer of the storage space 212 in which the high-pressure washing section 216 is formed. Dishes T passing through (212a) are washed with high pressure by washing water sprayed with high pressure in the width direction from both sides through the spray nozzle unit 220, and then the middle layer portion 212b and the lower layer portion of the storage space 212 The impregnation washing section 217 formed in (212c) is entered in the vertical direction to perform impregnation washing.

특히, 본 실시예에서는 도 5 내지 도 7과 같이 상기 협폭을 이룬 저수공간(212)의 상층부(212a)에 분사 노즐부(220)를 마련하여, 저수공간(212)의 상층부(212a)를 상하방향으로 통과하는 식기의 양면에 세정수를 고압 분사하도록 하고 있다.In particular, in this embodiment, as shown in FIGS. 5 to 7, the spray nozzle unit 220 is provided in the upper layer 212a of the storage space 212 having a narrow width, so that the upper layer 212a of the storage space 212 is vertically Washing water is sprayed at high pressure on both sides of the dishes passing in the direction.

이와 같이 분사 노즐부(220)를 저수공간(212)의 중층부(212b)나 하층부(212c)에 배치하지 아니하고, 상부에 형성된 진출입구(211)와 인접한 저수공간(212)의 상층부(212a)에 배치하면 저수된 세정수와의 저항발생이 최소화되므로, 상기 분사 노즐부(220)를 통해 분사된 세정수는 저수된 세정수와의 저항발생에 따른 유속, 및 분출 압력 저하가 최소화될 수 있고, 결과적으로 저수공간(212) 내에 진입된 식기(T)의 양면에 세정수를 고압으로 분사할 수 있는 특이성을 갖는다.In this way, the spray nozzle unit 220 is not disposed in the middle layer portion 212b or the lower layer portion 212c of the storage space 212, and the upper layer portion 212a of the storage space 212 adjacent to the entry and exit opening 211 formed at the top When placed in the water, since the generation of resistance with the stored washing water is minimized, the washing water sprayed through the spray nozzle unit 220 can minimize a decrease in flow rate and ejection pressure due to the occurrence of resistance with the stored washing water, and As a result, it has the peculiarity of spraying the washing water at high pressure on both sides of the dishes T that have entered the storage space 212.

본 발명과 달리, 상기 분사 노즐부(220)를 저수공간(212)의 중층부(212b)나 하층부(212c)에 배치하면, 저수공간(212) 내에 저수된 세정수의 수압에 의해, 폭방향으로 고압 토출되는 세정수의 분사압이 약화되고, 결과적으로 저수공간(212) 내에 상하방향으로 진출입하는 식기의 안정된 고압 세정효율이 저하된다.Unlike the present invention, when the spray nozzle unit 220 is disposed in the middle layer 212b or the lower layer 212c of the storage space 212, the width direction by the water pressure of the washing water stored in the storage space 212 As a result, the injection pressure of the washing water discharged at high pressure is weakened, and as a result, the stable high-pressure cleaning efficiency of dishes entering and entering the storage space 212 in the vertical direction decreases.

그런데, 본 실시예에와 같이 저수공간(212)의 상층부(212a)는 구조상 상부에 식기(T)들이 상하방향으로 진출입하는 진출입구(211)가 형성된 관계로, 상층부(212a)를 통과하는 식기(T)의 양면에 세정수를 고압으로 분사하면, 상기 식기(T)에 부딪힌 세정수가 부딪혀 튀어서 상부에 형성된 진출입구(211)를 통해 누출되는 현상이 불가피하게 야기될 수 있다.By the way, as in the present embodiment, the upper layer 212a of the storage space 212 has an entrance and exit 211 through which the tableware T enters and exits in the vertical direction, so that the tableware passing through the upper layer 212a is formed. When the washing water is sprayed on both sides of (T) at a high pressure, the washing water hitting the dish T is splashed and leaked through the entry and exit opening 211 formed thereon may inevitably be caused.

특히, 본 발명에서는 작업자가 한 손으로 세정을 요하는 식기(T)의 상부를 협지한 다음, 상기 식기를 진출입구(211)를 통해 저수공간(212) 내에 상하방향으로 진출입하도록 구성된 관계로, 이러한 물튀김이 발생되면 작업자에 의한 식기(T)의 세정작업이 곤란해지고, 또 주변이 세정수나 이물질, 및 세제에 의한 오염이 야기될 수 있다.In particular, in the present invention, after the operator pinches the upper portion of the dish T that requires cleaning with one hand, the dish is configured to enter and enter in the storage space 212 in the vertical direction through the entry and exit 211, When such water splashing occurs, it becomes difficult for the operator to clean the dishes T, and contamination by washing water, foreign substances, and detergent may be caused in the surrounding area.

이를 위해, 본 실시예에서는 상기 진출입구(211)와 인접한 저수공간(212)의 상층부(212a)에 배치되는 분사 노즐부(220)의 배치구조를 개량하여, 분사 노즐부(220)를 통해 고압 분사된 세정액과 식기(T)가 부딪혀 충돌함 따라, 상기 충돌한 세정액들이 상부에 형성된 진출입구(211)를 통해 외부로 유출되는 현상이 억제되도록 구성함으로써, 식기(T)의 세정에 따른 안정성과 쾌적한 작업환경이 조성되도록 한다.To this end, in the present embodiment, by improving the arrangement structure of the spray nozzle unit 220 disposed on the upper portion 212a of the storage space 212 adjacent to the entrance and exit 211, high pressure through the spray nozzle unit 220 As the sprayed cleaning liquid collides with the tableware T, it is configured to suppress the phenomenon that the collided cleaning liquid flows out to the outside through the entrance 211 formed at the top, so that stability and stability according to the cleaning of the tableware T are prevented. Make sure that a pleasant working environment is created.

이를 위해, 본 실시예에서는 상기 장방향 양측 내벽(214) 상층부(212a)에 대향하여 배치되어, 진출입구(211)를 통해 상하방향으로 진출입되는 식기(T)의 진출입 구간에 폭방향으로 세정수를 고압 분사하는 분사 노즐부(220)를, 저수공간(211)에 설정수위로 저수된 세정액의 표면층(212a-a)에 설정 깊이로 입수된 상태를 형성하도록 구성함으로써, 분사 노즐부(220)의 상부에 형성된 세정액 표면층(212a-a)에 의해 식기(T)의 표면에 부딪힌 물방울들이 상부에 형성된 진출입구(211)를 통해 누출되어 외부 확산되는 현상이 예방되도록 한다.To this end, in this embodiment, washing water in the width direction in the entry/exit section of the dish T that is disposed opposite to the upper portion 212a of the inner walls 214 in the longitudinal direction, and enters and exits in the vertical direction through the entry and exit port 211. The injection nozzle unit 220 for high-pressure injection is configured to form a state obtained at a set depth in the surface layer 212a-a of the cleaning liquid stored at a set water level in the storage space 211, and the injection nozzle unit 220 Water droplets hitting the surface of the tableware T by the cleaning liquid surface layer 212a-a formed on the top of the table are prevented from leaking through the entrance and exit 211 formed thereon and spreading to the outside.

본 실시예에서는, 도 6과 같이 상기 저수공간(212)의 상층부(212a)에 고압 수세구간(216)을 형성하는 분사 노즐부(220)를, 저수공간(212)에 설정수위로 저수된 수표면의 높이 보다 0.2mm 내지 200mm의 낮게 배치하여서, 상기 분사 노즐부(220)는 수표면에서 0.2mm 내지 200mm의 깊이로 입수된 상태에서 세정수를 폭방향으로 고압 분사하도록 한다.In this embodiment, as shown in FIG. 6, the spray nozzle unit 220 forming the high-pressure water washing section 216 in the upper layer 212a of the storage space 212 is stored in the water storage space 212 at a set water level. By arranging it lower than the height of the surface by 0.2mm to 200mm, the spray nozzle unit 220 allows high-pressure spraying of the washing water in the width direction in a state obtained at a depth of 0.2mm to 200mm from the water surface.

이때, 상기 분사 노즐부(220)들은 5° 내지 30°의 각도로 하향 경사지게 세정액을 고압 분사하도록 구성되어, 상기 분사 노즐부(220)를 통해 분사된 세정수의 분사액들은 저수공간(212)의 상층부(212a)에 형성된 식기(T)의 진출입 구간의 중앙에 하향 경사진 상태로 분출되도록 구성하는 것이 바람직하다.At this time, the spray nozzles 220 are configured to incline downward at an angle of 5° to 30° to inject the cleaning liquid at high pressure, so that the spray liquids of the cleaning water sprayed through the spray nozzle unit 220 are stored in the storage space 212 It is preferable to configure such that it is ejected in a downwardly inclined state at the center of the entry/exit section of the tableware T formed on the upper layer portion 212a of the.

이와 같이 구성하면, 상기 분사 노즐부(220)를 통해 폭방향으로 고압 분사되는 세정액은 저수된 세정액에 의한 과도한 저항이 발생되지 아니하므로 충분한 분사압력으로 식기의 양면에 분사될 수 있고, 또 분사 노즐부(220)의 상층부(212a)에 얇게 형성된 표면층(212a-a)에 의해 식기(T)의 표면에 부딪힌 세정액들이 튀어서 상부에 형성된 진출입구(211)을 따라 외부 누출되는 현상이 예방될 수 있다.When configured in this way, the cleaning liquid sprayed at high pressure in the width direction through the spray nozzle unit 220 does not generate excessive resistance by the stored cleaning liquid, and thus can be sprayed on both sides of the dish with sufficient spray pressure. It is possible to prevent external leakage along the entrance and exit 211 formed on the top of the washing liquid hitting the surface of the dish T by the surface layer 212a-a formed thinly on the upper portion 212a of the portion 220. .

즉, 상기 분사 노즐부(220)의 상부에 형성된 0.2mm 내지 200mm 가량의 표면층(212a-a)은 식기(T)의 표면에 부딪힌 세정액들의 튀김을 방지하는 일종의 수막 차폐의 기능을 수행하므로, 식기(T)의 표면에 부딪힌 세정수가 상부에 형성된 진출입구(211)를 통해 외부로 누출되는 현상이 예방할 수 있는 것이다.That is, the surface layer 212a-a of about 0.2mm to 200mm formed on the top of the spray nozzle part 220 performs a kind of water film shielding function to prevent splashing of the cleaning liquids hitting the surface of the tableware T. The phenomenon that the washing water hitting the surface of (T) can be prevented from leaking to the outside through the entrance/exit 211 formed at the top.

이와 더불어, 본 발명에서는 상기 저수공간(212)에 설정수위로 저수된 세정수에 입수하여 배치되는 분사 노즐부(220)의 구조를 개량하여, 상기 분사 노즐부(220)를 통해 폭방향으로 고압 분사된 세정수가, 세정수의 상부에 개방되게 형성된 진출입구(211)를 통해 누출되는 현상을 예방하고 있다.In addition, in the present invention, by improving the structure of the spray nozzle unit 220 that is obtained and disposed in the washing water stored at the set water level in the storage space 212, the high pressure in the width direction through the spray nozzle unit 220 The sprayed washing water is prevented from leaking through the inlet 211 formed to be opened on the upper portion of the washing water.

이를 위해, 본 실시예에서는 상기 장방향 측면패널(214)의 내벽에 배치되는 분사 노즐부(220)를, 도 3과 도 6 내지 도 7과 같이 내향 돌출된 장방향의 커버형 중공챔버(221)로 구성하고, 상기 중공챔버(221)의 내측변(222)에 복수의 분사공(223)들을 배치한 형태로 구성한다.To this end, in this embodiment, the spray nozzle unit 220 disposed on the inner wall of the longitudinal side panel 214 is provided with a cover-type hollow chamber 221 protruding inward as shown in FIGS. 3 and 6 to 7. ), and a plurality of injection holes 223 arranged on the inner side 222 of the hollow chamber 221.

이때, 상기 커버형 중공챔버(221)는 외측에서 내측으로 갈수록 점차 하향 경사진 형태로 이루어져, 내측변(222)에 형성된 분사공(223)들은 5°내지 30°의 각도로 세정수를 하향 경사지게 분사하도록 구성되고, 또 저수된 세정수가 토출되는 세정수의 분사압에 의해 유동하거나 튀어서 상부에 배치된 진출입구(211)를 따라 유출되는 현상이 예방되도록 한다.At this time, the cover-type hollow chamber 221 has a shape inclined downward gradually from the outside to the inside, and the injection holes 223 formed in the inner side 222 make the washing water inclined downward at an angle of 5° to 30°. It is configured to spray, and a phenomenon that the stored washing water flows or splashes by the injection pressure of the washing water discharged is prevented from flowing out along the inlet and outlet 211 disposed at the top.

따라서, 상기 저수공간(212)의 장방향 양측 내벽(214) 상층부(212a)에 배치되어, 폭방향으로 세정수를 고압 토출하는 분사 노즐부(220)들는 커버형 중공챔버(221)로 유입된 세정수를 내측변(222)에 형성된 분사공(223)들을 통해 하향 경사지게 분사하여서, 이들 분사 노즐부(220)들 사이에 형성된 상층부(212a)를 상하방향으로 통과하는 식기(T)의 양면에 안정된 고압 세정을 도포한다.Therefore, the spray nozzles 220 are disposed on the upper part 212a of both inner walls 214 in the longitudinal direction of the storage space 212 and discharge the washing water at high pressure in the width direction. Washing water is sprayed obliquely downward through the spray holes 223 formed in the inner side 222 to pass through the upper layer 212a formed between these spray nozzles 220 in the vertical direction. Apply a stable high pressure cleaning.

특히, 상기 분사 노즐부(220)를 구성하는 중공챔버(221)는 외측에서 내측으로 갈수록 중공부의 폭이 점차 좁아지며 내측에 내측 모서리변(222)이 형성된 단면이 삼각형이나 사다리꼴의 장방향 몸체로 이루어져, 상기 내측에 형성된 내측 모서리변(222)을 설정된 간격으로 절취하여서 장방향으로 절취된 분사공(223)들을 형성하고 있다.In particular, the hollow chamber 221 constituting the spray nozzle unit 220 gradually narrows the width of the hollow portion from the outside to the inside, and the cross section with the inner edge side 222 formed on the inside is a triangular or trapezoidal longitudinal body. Consisting of, by cutting the inner edge side 222 formed on the inner side at a set interval to form the injection holes 223 cut in the long direction.

따라서, 상기 중공챔버(221) 내에 급수된 세정수는 상하폭이 점차 좁아지는 내측 모서리변(222)에 형성된 분사공(223)을 통해 분사됨에 있어, 분사압력이 점차 증가될 수 있고 또 분사공(223)을 통해 분사된 세정수는 상하로 확산되지 아니하고 일자형태로 직진 분사되어서, 고압 수세구간을 통과하는 식기의 안정적인 고압 세정을 도모할 수 있다.Therefore, since the washing water supplied into the hollow chamber 221 is sprayed through the spray hole 223 formed in the inner corner side 222 whose vertical width is gradually narrowed, the spray pressure can be gradually increased and the spray hole The washing water sprayed through the 223 does not diffuse up and down and is sprayed straight in a straight line, so that stable high-pressure washing of dishes passing through the high-pressure washing section can be achieved.

그리고, 도 4와 도 6과 도 7에서 보는 바와 같이 상기 분사 노즐부(220)을 구성하는 장방향 중공챔버의 상부 외측에는, 분사공이 형성된 내측 모서리변(222) 보다 내측으로 돌출된 돌출 커버편(224)을 배치하여서, 상기 장방향의 돌출 커버편(224)에 의해 분사공(223)을 통해 토출된 세정수가 상부로 누출되는 현상을 예방하고 있다.In addition, as shown in FIGS. 4, 6, and 7, a protruding cover piece protruding inward from the inner edge side 222 in which the injection hole is formed on the upper outer side of the longitudinal hollow chamber constituting the injection nozzle unit 220 By arranging 224, the phenomenon that the washing water discharged through the injection hole 223 by the protruding cover piece 224 in the longitudinal direction is leaked to the top is prevented.

본 실시예에 따르면, 상기 장방향의 돌출 커버편(224)은 분사공(223)이 형성된 내측 모서리변(222) 보다 3mm 내지 100mm의 길이로 더 돌출되어, 상하 방향으로 통과하는 식기(T)의 간섭을 방지하면서 분사공(223)을 통해 분사된 세정수의 상향 누출을 방지한다.According to the present embodiment, the protruding cover piece 224 in the long direction protrudes further in a length of 3 mm to 100 mm than the inner edge side 222 in which the injection hole 223 is formed, and passes through the dish (T) in the vertical direction. While preventing interference, upward leakage of the washing water sprayed through the spray hole 223 is prevented.

이러한 과정에 상기 분사공(223)을 고압 분사된 세정수는 식기(T)의 표면에 고압으로 부딪히더라도 분사 노즐부(220)의 상부에 형성된 저수된 세정수의 표면층과, 하향 경사지게 분사되는 세정수의 고압 분사각도, 장방향의 커버형 몸체로 이루어지며, 삼각형, 또는 사다리꼴 등의 장방향 중공챔버로 이루어진 분사 노즐부(220), 및 분사 노즐부에 마련된 돌출 커버편에 의해서, 분사된 세정수가 식기와의 충돌에 생성된 물방울들이 상부에 형성된 진출입구를 통해 외부로 누출되는 현상이 예방된다.In this process, the washing water sprayed with the high pressure through the spray hole 223 is sprayed with the surface layer of the stored washing water formed on the top of the spray nozzle unit 220 even if it hits the surface of the dish T at high pressure, and is sprayed obliquely downward. The high-pressure spraying angle of the washing water is made of a cover-type body in a long direction, and is sprayed by a spray nozzle part 220 made of a long hollow chamber such as a triangular or trapezoid, and a protruding cover piece provided in the spray nozzle part. The phenomenon that the water droplets generated when the washing water collides with the dishes are prevented from leaking to the outside through the entrance and exit ports formed at the top.

1. 식기 헹굼 세정시스템
100. 담금 세정장치
200. 수세식 식판 세정장치
210. 수세조 211. 진출입구
212. 저수공간 212a. 상층부
212a-a. 표면층 212b. 중층부
212c. 하층부 213. 종방향 양측 내벽
214. 장방향 양측 내벽 215. 배수구
216. 고압 세정구간 217. 함침 세정구간
218. 분배 배수밸브 218a. 외부 배출구
218b. 순환 배출구 220. 분사 노즐부
221. 커버형 중공챔버 222. 내측변
223. 분사공 224. 돌출 커버편
230. 순환 펌프부 231. 순환관
232. 급수관 233. 순환펌프
241. 수위 계측센서 242. 급수부재
300. 헹굼장치 T. 식기1. Dishwashing Rinse Washing System
100. Immersion cleaning device
200. Water flush plate cleaning device
210. Susejo 211. Entrance and exit
212. Reservoir 212a. Upper part
212a-a. Surface layer 212b. Middle floor
212c. Lower part 213. Inner walls on both sides in the longitudinal direction
214. Inner wall on both sides of the long direction 215. Drain
216. High pressure cleaning section 217. Impregnation cleaning section
218. Distribution drain valve 218a. External outlet
218b. Circulation outlet 220. Spray nozzle part
221. Cover type hollow chamber 222. Inner side
223. Spray hole 224. Protruding cover piece
230. Circulation pump unit 231. Circulation pipe
232. Water supply pipe 233. Circulation pump
241. Water level measurement sensor 242. Water supply member
300. Rinse device T. Dishes

Claims (4)

상부에 진출입구가 개방하여 형성되고, 길이가 짧은 종방향의 양측 내벽과 길이가 긴 장방향 양측 내벽에 의해, 협폭이며 장방향 저수공간을 갖는 수세조와; 상기 협폭을 형성하는 장방향 양측 내벽 상층부에 각각 마주하여 배치되어, 진출입구를 통해 상하방향으로 진출입되는 식기에 폭방향으로 세정수를 고압 분사하는 분사 노즐부; 및 상기 수세조 내에 설정수위로 저수된 세정수를 분사 노즐부에 순환 공급하는 순환펌프부를 포함하여 구성되어,
상기 저수공간의 상층부에는 분사 노즐부를 통해 폭방향으로 세정수가 고압 분사되어, 상하방향으로 통과하는 식기의 표면에 고압 분사된 세정수를 통해 세정하는 고압 수세구간이 형성되고, 저수공간의 중층부와 하층부에는 상기 고압 수세수간을 상하방향으로 통과한 식기를 저수된 세정수를 통해 함침하여 세정하는 함침 수세구간을 형성한 것을 특징으로 하는 수세식 식판 세정장치.A washing tank having a narrow width and a storage space in the long direction, formed by opening the entrance and exit at the top, and by both inner walls in the longitudinal direction having a short length and both inner walls in the longitudinal direction having a long length; A spray nozzle portion disposed to face each of the upper layers of inner walls on both sides of the long direction forming the narrow width, and spraying the washing water at high pressure in the width direction to the dishes that enter and exit in the vertical direction through the entrance inlet; And a circulation pump unit for circulating and supplying the washing water stored at a set water level in the washing tank to the spray nozzle unit,
A high-pressure washing section is formed in the upper layer of the storage space by spraying the washing water in the width direction through the spray nozzle unit, and washing through the washing water sprayed with high pressure on the surface of the dishes passing in the vertical direction, and the middle layer of the storage space and A flushing plate cleaning apparatus, characterized in that the lower layer has an impregnating flushing section for cleaning by impregnating the dishes that have passed through the high-pressure flushing section in the vertical direction through the stored washing water. 제 1항에 있어서, 상기 장방향 양측 내벽 상층부에 대향하여 배치되어 상층부에 폭방향으로 세정수를 고압 분사하는 분사 노즐부는,
저수공간에 설정수위로 저수된 세정액의 표면층에 설정 깊이로 입수된 상태를 형성하여 저수된 세정액의 표면층에 입수된 상태로 저수공간의 상층부에 폭방향으로 세정수를 고압 분사하도록 구성된 것을 특징으로 하는 수세식 식판 세정장치.The spray nozzle according to claim 1, wherein the spray nozzle part is disposed opposite to the upper part of the inner wall on both sides in the longitudinal direction and sprays the washing water at high pressure in the width direction to the upper part,
It is characterized in that it is configured to high-pressure spraying the washing water in the width direction to the upper layer of the storage space in a state obtained in the surface layer of the stored cleaning liquid by forming a state obtained in the surface layer of the washing liquid stored at the set water level in the storage space. Water flush plate cleaning device. 제 1항에 있어서, 상기 저수공간의 상층부에 배치된 분사 노즐부는 5° 내지 30°의 각도로 하향 경사지게 배치되어, 상기 분사 노즐부를 통해 분사된 세정수의 분사액들은 저수공간의 상층부에 형성된 식판의 진출입 구간의 중앙에 하향 경사진 상태로 분출된 것을 특징으로 하는 수세식 식판 세정장치.The plate of claim 1, wherein the spray nozzle portion disposed on the upper layer of the storage space is disposed to be inclined downward at an angle of 5° to 30°, and the spray liquids of the washing water sprayed through the spray nozzle portion are formed on the upper layer of the storage space. A flush plate cleaning device, characterized in that ejected in a downwardly inclined state at the center of the entry/exit section of the. 담금 세정을 통해 식기의 표면에 잔류된 이물질을 불림 및 제거하는 담금 세정장치와, 일방향으로 이동하는 식기의 표면에 헹굼수를 고압으로 분사하여서 식기를 최종적으로 헹굼하는 헹굼장치를 포함하여 구성된 식기 헹굼 세정시스템에 있어서,
상기 담금 세정장치와 헹굼장치 사이에 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 따른 수세식 식판 세정장치가 배치된 것을 특징으로 하는 식기 헹굼 세정시스템.
Tableware rinsing comprising a immersion cleaning device that soaks and removes foreign substances remaining on the surface of dishes through immersion cleaning, and a rinsing device that finally rinses dishes by spraying rinsing water at high pressure on the surface of dishes moving in one direction. In the cleaning system,
A tableware rinsing cleaning system, characterized in that the flushing plate cleaning device according to any one of claims 1 to 3 is disposed between the immersion cleaning device and the rinsing device.
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