KR20210044712A - 브뢴스테드산 및 모노아민으로 이루어진 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 a) 강한 브뢴스테드산의 적어도 1종의 금속 염, 암모늄 염 또는 포스포늄 염 및 b) 적어도 1종의 1급 지방족 모노아민으로 이루어진 조성물, 그의 제조 방법 및 그의 용도를 제공한다.

Description

브뢴스테드산 및 모노아민으로 이루어진 조성물 {COMPOSITIONS CONSISTING OF BRONSTED ACIDS AND MONOAMINES}

본 발명은 강한 브뢴스테드산을 포함하는 조성물, 그의 제조 방법 및 그의 용도에 관한 것이다. 본 발명에 따른 조성물은 특히 에폭시 수지의 경화를 위한 촉매 조성물로서 특히 매우 적합하기 때문에, 본 발명은 또한 강한 브뢴스테드산을 포함하는 촉매 제제를 제공한다.

에폭시 수지, 특히 비스페놀 A 및 에피클로로히드린으로부터 제조된 에폭시 수지는 고품질 주조 수지, 코팅 조성물, 복합재 및 접착제의 제조를 위한 공지된 원료이다. 폴리아민을 사용하여 경화된 방향족 에폭시 수지는 우수한 내화학약품성 및 내용매성뿐만 아니라 많은 기재에 대해 우수한 결합 강도를 갖는다.

에폭시-아민 코팅 시스템의 경화는 촉매를 사용하여 가속될 수 있다 (US 3,492,269 A, US 5,470,896 A, GB 1,105,772 A).

EP 0 083 813 A1, EP 2 957 584 A1, US 5,441,000 A, US 5,629,380 A, WO 96/09352 A1에는, 다양한 아민을 사용한, 촉매에 의한 에폭시 수지의 경화가 개시되어 있다.

US 8,980,979 B2에는, 임의로 촉매의 존재 하의, 특히 피페라진 및 호모피페라진으로부터 선택된 시클릭 디아민을 사용한 에폭시 수지의 경화가 개시되어 있다.

EP 0 969 030 A1에는, 아민 성분이 지방족 아민인 것인, 에폭시/아민 코팅 시스템이 개시되어 있다. 조성물은 촉매를 포함할 수 있다.

US 4,775,734 A에는, 촉매량의 다양한 아민의 테트라플루오로보레이트 또는 헥사플루오로포스페이트 염을 사용한, 아미노에틸피페라진에 의한 에폭시 수지의 경화가 개시되어 있다. 또한 비교 실시예 (실시예 2)에는 리튬 테트라플루오로보레이트의 존재 하에 아미노에틸피페라진을 사용하여 에폭시 수지를 경화시키려는 시도가 개시되어 있다. 그러나, 사용된 에폭시 기:NH 기의 비에서는 반응이 일어나지 않는다.

추가의 실시예 (실시예 14)에는 암모늄 헥사플루오로포스페이트와 디에틸아민의 반응이 개시되어 있다.

US 5,134,239 A에는 헤테로시클릭 질소-함유 화합물과 염의 부가물이 개시되어 있다. 실시예 58에는, 발명에 따르지 않는 실시예로서, 메탄올계 용액에서의 부틸아민-테트라부틸포스포늄 플루오로보레이트 착물의 합성이 개시되어 있다.

WO 2017/074810 A1에는 에폭시 수지, 폴리에테르아민 및 특히 지방족 아민일 수 있는 추가의 아민 경화제, 및 임의로 금속 트리플레이트 촉매를 포함하는 조성물이 개시되어 있다.

출원 EP 3 569 629 A1, EP 3 569 630 A1, EP 3 569 631 A1 및 EP 569 632 A1에는 적어도 1종의 에폭시 수지, 적어도 2개의 아미노 기를 갖는 적어도 1종의 시클릭 아민 및 적어도 1종의 브뢴스테드산의 염을 포함하는 조성물이 개시되어 있다.

에너지 및 반응 시간을 절약할 수 있도록 촉매를 사용하여 에폭시 제제의 경화를 가속하는 것이 바람직하다. 강한 브뢴스테드산 (즉, 2 이하의 pK_A를 갖는 산)의 염, 특히 매우 강한 브뢴스테드산 (즉, -9.01 이하의 pK_A를 갖는 산)의 염이 특히 적합한 것으로 밝혀졌다. 그러나 그것은 고체이고 액체 에폭시 제제에 균질화되기 어렵다는 단점을 갖는다. 또한 용매에 미리 용해 또는 분산시켜야 하는 것이 단점인데, 불활성 용매에 촉매를 분산시키거나 용해시키는 경우에, 이로 인해 에폭시 조성물의 VOC (휘발성 유기 물질 함량)가 증가한다. 이와 대조적으로, 반응성 용매는 침전, 변색 및 반응성의 저하를 유발한다.

따라서 본 발명에 의해 해결되어야 하는 과제는 에폭시 제제의 촉매로서 매우 적합한 강한 브뢴스테드산의 염을 함유하고 전술된 단점을 갖지 않는 조성물을 제공하는 것이다.

놀랍게도, 강하거나 매우 강한 브뢴스테드산의 염, 특히 트리플루오로메탄술폰산의 염 (트리플레이트)은 1급 지방족 모노아민에 대해 우수한 용해도를 갖는 것으로 밝혀졌다. 여기서, 놀랍게도, 1급 지방족 모노아민은 2급 지방족 모노아민 또는 다른 모노아민보다 상기 언급된 염을 훨씬 더 잘 용해시키는 것으로 밝혀졌다.

따라서 본 발명은 a) 강한 브뢴스테드산의 적어도 1종의 금속 염, 암모늄 염 또는 포스포늄 염 및 b) 적어도 1종의 1급 지방족 모노아민으로 이루어진 조성물을 제공한다.

조성물은 바람직하게는 성분 a) 및 b)의 중량을 기준으로 10-95 중량%의 성분 a) 및 5-90 중량%의 성분 b)를 갖는다. 조성물은 더욱 바람직하게는 성분 a) 및 b)의 중량을 기준으로 30-70 중량%의 성분 a) 및 70-30 중량%의 성분 b), 더더욱 바람직하게는 성분 a) 및 b)의 중량을 기준으로 40-60 중량%의 성분 a) 및 60-40 중량%의 성분 b)를 갖는다.

본 발명에 따른 조성물은 강한 브뢴스테드산의 적어도 1종의 금속 염, 암모늄 염 또는 포스포늄 염을 포함한다. 상응하는 염은 우수한 촉매이다. 본 문맥에서 이러한 강산은 2 이하의 pKa (또는 다양성자성 산의 경우에 최초 양성자 분해(protolysis) 단계의 pKa)를 갖는 염을 의미하는 것으로 이해된다. 바람직하게는, 상응하는 산의 pKa는 -2 이하이다.

pKa는 평형상수 Ka의 음의 상용로그값으로서 정의되며 산의 강도의 척도로서 간주된다. pKa가 작을수록 더 강산이다. pK_A는 에프.지. 보드웰(F.G. Bordwell)의 문헌("Equilibrium Acidities in Dimethylsulfoxide Solution", Acc. Chem. Res. 1988, 21, 456-463)에 개시된 바와 같이 결정된다.

바람직한 염은 하기 표 1의 첫 번째 열에 나열된 강산의 상응하는 염이다:

<표 1>

바람직하게는, 염은 매우 강산의 염이고, 본 문맥에서 이러한 매우 강산은 -9.01 이하의 pKa (또는 다양성자성 산의 경우에 최초 양성자 분해 단계의 pKa)를 갖는 산을 의미하는 것으로 이해된다. 바람직하게는, 매우 강산의 pKa는 -9.5 내지 -25, 더 바람직하게는 -9.9 내지 -21이다.

가장 바람직하게는, 성분 a)는 과염소산, 트리플루오로메탄술폰산, 아이오딘화수소, 헥사플루오로인산 및 헥사플루오로안티몬산으로부터 선택된 브뢴스테드산의 염이다.

더더욱 바람직하게는, 염은 트리플레이트, 즉 트리플루오로메탄술폰산의 염이다.

강한 브뢴스테드산은 금속, 암모늄 또는 포스포늄 염이다. 여기서 금속 염은 금속 이온을 함유하는 염 (즉, 적어도 1종의 금속으로부터 유도된 적어도 1종의 이온을 갖고, 바람직하게는 적어도 1종의 금속 원자로부터 유도된 이온을 갖고, 더 바람직하게는 적어도 1종의 금속 원자로부터 유도된 정확히 1종의 이온을 가짐) 및 금속-함유 이온을 함유하는 염 (즉, 비금속 성분을 또한 포함함) 둘 다를 의미하는 것으로 이해된다. 따라서 상기 언급된 산의 상대이온은 금속 이온, 금속-함유 이온, 포스포늄 이온 및 암모늄 이온으로부터 선택된다.

바람직한 금속 이온은 알칼리 토금속 양이온, 특히 베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬 및 바륨 이온, 및 리튬, 알루미늄, 비스무트, 아연 및 유로퓸 이온이다.

금속-함유 이온은 적어도 1종의 금속을 함유하지만 순수한 금속 이온이 아닌 이온이다. 그것은 바람직하게는 금속 화합물 이온, 예를 들어 테트라페닐스티보늄 이온이다.

암모늄 이온은 비치환 (= NH₄ ⁺), 알킬화 및/또는 아릴화될 수 있다. 포스포늄 이온은 비치환 (= PH₄ ⁺), 알킬화 및/또는 아릴화될 수 있다. 바람직한 암모늄 이온은 NH₄ ⁺이다. 바람직한 포스포늄 이온은 PH₄ ⁺이다. 암모늄 이온이 매우 특히 바람직하다.

바람직한 강산의 염은 칼슘 트리플레이트, 유로퓸 트리플레이트, 바륨 트리플레이트, 알루미늄 트리플레이트, 비스무트 트리플레이트, 리튬 트리플레이트, 리튬 퍼클로레이트, 바륨 퍼클로레이트, 리튬 헥사플루오로포스페이트 및 징크 퍼클로레이트이다. 칼슘 트리플레이트, 유로퓸 트리플레이트, 리튬 헥사플루오로포스페이트 및 리튬 퍼클로레이트가 매우 특히 바람직하다.

칼슘 트리플레이트를 사용할 때 가장 우수한 결과가 달성된다.

조성물은 또한 적어도 1종의 1급 지방족 모노아민을 포함한다. 1급 지방족 모노아민은 본 문맥에서 지방족, 즉 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 시클로알킬 라디칼 및/또는 (시클로)알킬 라디칼만을 갖는 1급 모노아민 (즉, 단지 1개의 1급 아미노 기를 갖는 아민)을 의미하는 것으로 이해된다. 여기서 (시클로)알킬 라디칼은 시클릭알킬 모이어티 및 선형 또는 분지형 알킬 모이어티 둘 다를 갖는 라디칼을 의미하는 것으로 이해된다. 바람직한 지방족 라디칼은 각각 3 내지 30개, 더 바람직하게는 3 내지 10개, 가장 바람직하게는 3-6개의 탄소 원자를 갖는다. 모노아민은 그의 알킬, 시클로알킬 및/또는 (시클로)알킬 라디칼 중 1개에서 히드록시 라디칼에 의해 치환될 수 있다. 그러나 다른 치환기는 존재하지 않는다. 또한, 바람직하게는, 모노아민의 모든 지방족 라디칼은 치환되지 않는다.

30-300℃, 바람직하게는 30-200℃의 비점 (1013.25 hPa에서 측정됨)을 갖는 모노아민을 사용하는 것이 바람직하다.

모노아민은 가장 바람직하게는 n-프로필아민, 이소프로필아민, n-부틸아민, sec 부틸아민, tert 부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민 및 에탄올아민으로 이루어진 군으로부터 선택된다.

더더욱 바람직하게는, 모노아민은 n-부틸아민이다.

성분 a)가 칼슘 트리플레이트이고 성분 b)가 n-부틸아민일 때 가장 우수한 결과가 달성된다.

본 발명은 a) 강한 브뢴스테드산의 적어도 1종의 금속 염, 암모늄 염 또는 포스포늄 염과 b) 적어도 1종의 지방족 모노아민을, 임의로 추가의 성분의 존재 하에, 서로 혼합하는 것인, 본 발명에 따른 조성물의 제조 방법을 추가로 제공한다.

본 발명은 또한 촉매 조성물로서의 본 발명의 조성물의 용도를 추가로 제공한다. 본 발명의 조성물은 에폭시 수지의 경화를 위한, 매우 바람직하게는 아민을 사용한 에폭시 수지의 경화를 위한 촉매 조성물로서 특히 적합하다.

실시예

실시예 1)

특허청구된 촉매의 특정한 반응성을 입증하기 위해, 모델 실험들을 서로 비교한다. 이러한 목적을 위해, 1,2-에폭시-3-페녹시프로판 0.025 mol (3.75 g)을 톨루엔 (용매) 22.7 g과 테트라데칸 (내부 표준물) 2.08 g의 혼합물에 첨가한다. 여기에 피페리딘 0.025 mol (2.13 g) 및 동량의 아민 또는 비교 물질인 알콜에 용해된 칼슘 트리플레이트 0.06 g을 첨가한다. 혼합 직후에, GC를 수행하고 1,2-에폭시-3-페녹시프로판의 함량을 테트라데칸의 함량과 비교한다. 실온 (RT)에서 4 h 후에, GC 분석을 통해 1,2-에폭시-3-페녹시프로판 (EP)의 잔류 함량을 확인한다 (내부 테트라데칸 표준물을 사용하여 보정함). 이렇게 하여 하기 결과를 얻는다:

촉매의 비교

특허청구된 모노아민은 칼슘 트리플레이트를 위한 용매로서 적합하며 반응성의 임의의 현저한 저하를 유발하지 않는다 (4시간 후에 잔류 EP 함량이 10% 이하임). 이에 비해, 순수한 알콜, 디알콜 또는 디아민은 반응성의 뚜렷한 저하를 유발한다.

Claims (12)

1. a) 강한 브뢴스테드산의 적어도 1종의 금속 염, 암모늄 염 또는 포스포늄 염 및
   b) 적어도 1종의 1급 지방족 모노아민
   으로 이루어진 조성물.
2. 제1항에 있어서, 성분 a) 및 b)의 중량을 기준으로 10-95 중량%의 성분 a) 및 5-90 중량%의 성분 b)를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 염 a)가 옥살산, p-톨루엔술폰산, 트리플루오로아세트산, 테트라플루오로붕산, 질산, 황산, 염산, 브로민화수소산, 과염소산, 트리플루오로메탄술폰산, 아이오딘화수소, 헥사플루오로인산 및 헥사플루오로안티몬산으로 이루어진 군으로부터 선택된 산의 염인 것을 특징으로 하는 조성물.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 브뢴스테드산이 -9.01 이하의 pK_A를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 모노아민 b)가 3-30개의 탄소 원자를 갖는 지방족 라디칼만을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 모노아민 b)가 1013.25 hPa에서 측정 시 30-300℃의 비점을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 아민 b)가 n-프로필아민, 이소프로필아민, n-부틸아민, sec 부틸아민, tert 부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민 및 에탄올아민으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 강한 브뢴스테드산의 염 a)가 칼슘 트리플레이트이고, 모노아민 b)가 n-부틸아민인 것을 특징으로 하는 조성물.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 염 a)가 칼슘 트리플레이트이고, 모노아민 b)가 n-부틸아민인 것을 특징으로 하는 조성물.
10. a) 강한 브뢴스테드산의 적어도 1종의 금속 염, 암모늄 염 또는 포스포늄 염과 b) 적어도 1종의 1급 지방족 모노아민을 서로 혼합하는 것인, 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 제조하는 방법.
11. 촉매 조성물로서의, 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 조성물의 용도.
12. 제11항에 있어서, 에폭시 수지의 경화를 위한 촉매 조성물로서의, 조성물의 용도.