KR20210038655A - Applicator - Google Patents

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KR20210038655A
KR20210038655A KR1020217006079A KR20217006079A KR20210038655A KR 20210038655 A KR20210038655 A KR 20210038655A KR 1020217006079 A KR1020217006079 A KR 1020217006079A KR 20217006079 A KR20217006079 A KR 20217006079A KR 20210038655 A KR20210038655 A KR 20210038655A
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coating
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펑퇀 리
마사지 나카타니
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니혼덴산가부시키가이샤
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Abstract

도포 헤드가, 도포액이 충전되는 도포액실과, 상기 도포액실로부터 연속하는 유로이며, 선단 개구가 토출구인 노즐실을 구비한다. 제어부가, 상기 도포 헤드에 있어서의 토출 동작에 병행하여 도포액 공급부로부터 상기 도포액실 내에 보급 가능한 상기 도포액의 단위 시간당 체적을 보급 유량으로서, 상기 보급 유량 및 상기 노즐실의 용적에 기초하여, 상기 도포 헤드로부터 상기 액적이 연속적으로 토출되는 연속 토출 기간에 있어서의 토출 파라미터를 결정하는 토출 파라미터 결정부를 구비한다. 상기 연속 토출 기간이, 상기 토출구로부터 토출되는 상기 도포액의 단위 시간당 체적이 상기 보급 유량보다도 큰 증량 토출 기간을 포함하며, 또한, 상기 연속 토출 기간에 있어서 상기 토출구로부터 토출되는 상기 도포액의 총 체적이, 상기 노즐실의 용적과, 상기 연속 토출 기간에 상기 도포액 공급부로부터 상기 도포액실 내에 보급되는 상기 도포액의 총 체적과의 합 이하이다.The coating head includes a coating liquid chamber filled with a coating liquid, a flow path continuous from the coating liquid chamber, and a nozzle chamber having a tip opening of a discharge port. The control unit uses the volume per unit time of the coating liquid that can be supplied into the coating liquid chamber from the coating liquid supply unit in parallel with the discharge operation in the coating head as a supply flow rate, based on the supply flow rate and the volume of the nozzle chamber, And a discharge parameter determination unit that determines a discharge parameter in a continuous discharge period in which the droplets are continuously discharged from the coating head. The continuous discharge period includes an increase discharge period in which the volume per unit time of the coating liquid discharged from the discharge port is greater than the supply flow rate, and the total volume of the coating liquid discharged from the discharge port in the continuous discharge period It is equal to or less than the sum of the volume of the nozzle chamber and the total volume of the coating liquid supplied into the coating liquid chamber from the coating liquid supply unit during the continuous discharge period.

Figure P1020217006079
Figure P1020217006079

Description

도포 장치Applicator

본 발명은, 도포 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a coating device.

종래, 대상물 위에 도포액을 도포할 때, 도포 장치가 이용된다. 도포 장치의 도포 헤드에서는, 도포액실에 도포액이 충전되고, 도포액실 내의 도포액에 예를 들어 압전 소자(피에조 소자)를 사용하여 압력을 부여함으로써, 도포액실에 연속되는 토출구로부터 도포액의 액적이 토출된다. 또한, 도포액실에는, 도포액 탱크가 접속되어 있으며, 도포 헤드에 있어서의 토출 동작에 병행하여 도포액 탱크로부터 도포액실 내에 도포액이 보급된다.Conventionally, when applying a coating liquid onto an object, a coating device is used. In the coating head of the coating device, the coating liquid is filled in the coating liquid chamber, and pressure is applied to the coating liquid in the coating liquid chamber using, for example, a piezoelectric element (piezo element). The enemy is ejected. In addition, a coating liquid tank is connected to the coating liquid chamber, and the coating liquid is replenished into the coating liquid chamber from the coating liquid tank in parallel to the discharge operation in the coating head.

또한, 일본 공개 공보 특허 공개 제2000-308843호 공보에서는, 용기 내의 재료에 대해서 공기압을 부여하여 니들로부터 재료를 적하시키는 디스펜서에 있어서, 니들의 토출구에 결락부 및 볼록부를 마련함으로써, 재료의 적하에 요하는 시간을 단축시키는 방법이 개시되어 있다.Further, in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2000-308843, in a dispenser for dripping material from a needle by applying air pressure to a material in a container, by providing a dropping portion and a convex portion at the discharge port of the needle, the dropping of the material is prevented. A method of shortening the time required is disclosed.

일본 특허 공개 제2000-308843호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2000-308843

그런데, 도포 장치에 있어서, 도포액을 고속으로 도포하는 경우, 토출구로부터 액적을 토출하는 토출 주파수를 높이는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 도포액 탱크로부터 도포액실 내에 대한 도포액의 보급 유량에는, 도포액의 점도 등에 의존하는 일정한 한계가 있기 때문에, 높은 토출 주파수에서의 액적의 토출에서는, 도포액실로부터 토출구에 이르는 노즐실에 있어서 도포액이 없어져 버린다. 이 경우, 도포액실 내에 공기가 침입하여, 도포액을 안정적으로 토출할 수 없게 된다.By the way, in the coating apparatus, when applying the coating liquid at high speed, it is conceivable to increase the discharge frequency at which droplets are discharged from the discharge port. However, since there is a certain limit to the replenishment flow rate of the coating liquid from the coating liquid tank to the inside of the coating liquid chamber, depending on the viscosity of the coating liquid, etc. The coating liquid disappears. In this case, air enters into the coating liquid chamber, and the coating liquid cannot be stably discharged.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 도포액실 내에 대한 공기의 침입을 억제하면서, 도포액을 고속으로 도포하는 것을 목적으로 하고 있다.The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to apply the coating liquid at high speed while suppressing the invasion of air into the coating liquid chamber.

본 발명의 예시적인 도포 장치는, 토출구로부터 도포액의 액적을 토출하는 도포 헤드와, 상기 도포 헤드에 상기 도포액을 공급하는 도포액 공급부와, 상기 도포 헤드로부터의 상기 액적의 토출을 제어하는 제어부를 구비한다. 상기 도포 헤드가, 상기 도포액이 충전되는 도포액실과, 상기 도포액실로부터 연속되는 유로이며, 선단 개구가 상기 토출구인 노즐실과, 상기 토출구로부터 상기 액적을 토출시키는 토출 기구를 구비한다. 상기 제어부가, 상기 도포 헤드에 있어서의 토출 동작에 병행하여 상기 도포액 공급부로부터 상기 도포액실 내에 보급 가능한 상기 도포액의 단위 시간당 체적을 보급 유량으로서, 상기 보급 유량 및 상기 노즐실의 용적에 기초하여, 상기 도포 헤드로부터 상기 액적이 연속적으로 토출되는 연속 토출 기간에 있어서의 토출 파라미터를 결정하는 토출 파라미터 결정부를 구비한다. 상기 연속 토출 기간이, 상기 토출구로부터 토출되는 상기 도포액의 단위 시간당 체적이 상기 보급 유량보다도 큰 증량 토출 기간을 포함하며, 또한, 상기 연속 토출 기간에 있어서 상기 토출구로부터 토출되는 상기 도포액의 총 체적이, 상기 노즐실의 용적과, 상기 연속 토출 기간에 상기 도포액 공급부로부터 상기 도포액실 내에 보급되는 상기 도포액의 총 체적과의 합 이하이다.An exemplary coating apparatus of the present invention includes an application head that discharges droplets of a coating liquid from a discharge port, a coating liquid supply unit that supplies the coating liquid to the coating head, and a control unit that controls the discharge of the droplets from the coating head. It is equipped with. The coating head includes a coating liquid chamber filled with the coating liquid, a flow path continuous from the coating liquid chamber, a nozzle chamber whose tip opening is the discharge port, and a discharge mechanism for discharging the droplets from the discharge port. The control unit determines a volume per unit time of the coating liquid that can be supplied into the coating liquid chamber from the coating liquid supply unit in parallel with the discharge operation in the coating head as a supply flow rate, based on the supply flow rate and the volume of the nozzle chamber. And a discharge parameter determination unit that determines a discharge parameter in a continuous discharge period in which the droplets are continuously discharged from the coating head. The continuous discharge period includes an increase discharge period in which the volume per unit time of the coating liquid discharged from the discharge port is greater than the supply flow rate, and the total volume of the coating liquid discharged from the discharge port in the continuous discharge period It is equal to or less than the sum of the volume of the nozzle chamber and the total volume of the coating liquid supplied into the coating liquid chamber from the coating liquid supply unit during the continuous discharge period.

본 발명에 따르면, 도포액실 내에 대한 공기의 침입을 억제하면서, 도포액을 고속으로 도포할 수 있다.According to the present invention, it is possible to apply the coating liquid at high speed while suppressing the invasion of air into the coating liquid chamber.

도 1은, 도포 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는, 도포 헤드를 나타내는 단면도이다.
도 3은, 도포 장치에 있어서의 도포 동작의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 4는, 노즐부를 교환하기 전의 도포 헤드를 나타내는 도면이다.
도 5는, 연속 토출 기간에 있어서의 도포 헤드를 나타내는 도면이다.
도 6은, 다른 노즐부가 마련된 도포 헤드를 나타내는 도면이다.
도 7은, 다른 노즐부가 마련된 도포 헤드를 나타내는 도면이다.1 is a diagram showing a configuration of an application device.
2 is a cross-sectional view showing an application head.
3 is a diagram showing a flow of an application operation in an application device.
Fig. 4 is a diagram showing an application head before replacing the nozzle unit.
5 is a diagram showing an application head in a continuous discharge period.
6 is a view showing an application head provided with another nozzle unit.
7 is a view showing an application head provided with another nozzle portion.

도 1은, 본 발명의 예시적인 하나의 실시 형태에 따른 도포 장치(1)의 구성을 나타내는 도면이다. 도포 장치(1)는, 프린트 기판, 반도체 기판 등의 각종 기판인 대상물(9) 위에 소정의 도포액을 도포하는 장치이다. 대상물(9)은, 기계 부품 등이어도 된다. 도포액은, 예를 들어 각종 접착제(에폭시, UV 경화 등), 땜납 페이스트, 밀봉제, 언더필제, 그리스 등이다.1 is a diagram showing a configuration of an application device 1 according to an exemplary embodiment of the present invention. The coating apparatus 1 is an apparatus that applies a predetermined coating liquid onto an object 9 which is a variety of substrates such as a printed circuit board and a semiconductor substrate. The object 9 may be a mechanical part or the like. The coating liquid is, for example, various adhesives (epoxy, UV curing, etc.), solder paste, sealant, underfill agent, grease, and the like.

도포 장치(1)는, 제어부(10)와, 이동 기구(2)와, 도포 헤드(3)와, 도포액 공급부(4)와, 노즐 식별 카메라(5)를 포함한다. 노즐 식별 카메라(5)는, 도포 헤드(3)의 소정 위치를 촬상한다. 제어부(10)는, 예를 들어 CPU 등의 프로세서를 포함하는 컴퓨터이며, 도포 장치(1)의 전체 제어를 담당한다. 또한, 제어부(10)는, 토출 파라미터 결정부(101)와, 기억부(102)를 구비한다. 토출 파라미터 결정부(101)는, 컴퓨터가 소정의 프로그램을 실행함으로써 실현된다. 토출 파라미터 결정부(101)가, 전용의 전기 회로에 의해 구축되어도 되고, 부분적으로 전용의 전기 회로가 이용되어도 된다. 기억부(102)는, 제어부(10)에 마련되는 메모리 등에 의해 실현되고, 노즐실 정보 A와, 보급 유량 정보 B를 기억한다. 노즐 식별 카메라(5), 토출 파라미터 결정부(101), 노즐실 정보 A 및 보급 유량 정보 B의 상세에 대해서는 후술한다.The application device 1 includes a control unit 10, a moving mechanism 2, an application head 3, an application liquid supply unit 4, and a nozzle identification camera 5. The nozzle identification camera 5 captures an image of a predetermined position of the application head 3. The control unit 10 is, for example, a computer including a processor such as a CPU, and is responsible for overall control of the coating device 1. Further, the control unit 10 includes a discharge parameter determination unit 101 and a storage unit 102. The discharge parameter determination unit 101 is realized by a computer executing a predetermined program. The discharge parameter determination unit 101 may be constructed by a dedicated electric circuit, or a dedicated electric circuit partially may be used. The storage unit 102 is realized by a memory provided in the control unit 10 or the like, and stores the nozzle chamber information A and the replenishment flow rate information B. Details of the nozzle identification camera 5, the discharge parameter determination unit 101, the nozzle chamber information A, and the replenishment flow rate information B will be described later.

이동 기구(2)는, 스테이지(21)와, 스테이지 이동 기구(22)를 포함한다. 스테이지(21)는, 대상물(9)을 보유 지지한다. 스테이지 이동 기구(22)는, 도포 헤드(3)에 대하여 스테이지(21)를 이동한다. 스테이지 이동 기구(22)에 의한 스테이지(21)의 이동 방향은, 예를 들어 서로 수직인 2 방향이다. 전형적으로는, 이들의 이동 방향은, 도포 헤드(3)에 의한 도포액의 액적 토출 방향에 수직이다. 스테이지 이동 기구(22)는, 스테이지(21)를 토출 방향에 평행한 축을 중심으로 하여 회전 가능해도 된다.The moving mechanism 2 includes a stage 21 and a stage moving mechanism 22. The stage 21 holds the object 9. The stage moving mechanism 22 moves the stage 21 with respect to the application head 3. The moving directions of the stage 21 by the stage moving mechanism 22 are, for example, two directions perpendicular to each other. Typically, these movement directions are perpendicular to the direction in which droplets of the coating liquid are discharged by the coating head 3. The stage moving mechanism 22 may be rotatable with the stage 21 around an axis parallel to the discharge direction.

도포액 공급부(4)는, 도포 헤드(3)에 있어서의 후술하는 도포액실(36)에 도포액을 공급한다. 도포액 공급부(4)는 도포액 탱크(41)와, 공급관(42)과, 압력 조정부(43)를 포함한다. 도포액 탱크(41)는 도포액을 저류한다. 도포액 탱크(41)의 내부는 밀폐되어 있다. 공급관(42)의 일단부는, 도포액 탱크(41)에 접속되고, 타단부는, 도포 헤드(3)에 접속된다. 즉, 공급관(42)을 통해 도포액 탱크(41)의 내부와 도포 헤드(3)의 도포액실(36)이 공간적으로 연속한다. 도포액 탱크(41)는, 도포 헤드(3)보다도 연직 방향 상방에 배치된다. 압력 조정부(43)는, 예를 들어 압력 조정 펌프를 포함한다. 압력 조정부(43)에 의해, 도포액 탱크(41) 내의 압력이, 대기압을 포함하는 압력 범위 내의 임의의 값으로 조정된다. 예를 들어, 도포액 탱크(41) 내의 압력은, 대기압보다도 낮은 부압으로 조정된다. 압력 조정부(43)를 포함하는 도포액 공급부(4)에서는, 도포액 탱크(41)의 위치는, 도포 헤드(3)보다도 상방에는 한정되지는 않고, 도포액 탱크(41)는, 원하는 위치에 배치 가능하다.The coating liquid supply unit 4 supplies a coating liquid to a coating liquid chamber 36 to be described later in the coating head 3. The coating liquid supply part 4 includes a coating liquid tank 41, a supply pipe 42, and a pressure adjusting part 43. The coating liquid tank 41 stores the coating liquid. The inside of the coating liquid tank 41 is sealed. One end of the supply pipe 42 is connected to the coating liquid tank 41, and the other end is connected to the coating head 3. That is, the interior of the coating liquid tank 41 and the coating liquid chamber 36 of the coating head 3 are spatially continuous through the supply pipe 42. The coating liquid tank 41 is disposed above the coating head 3 in the vertical direction. The pressure adjustment unit 43 includes, for example, a pressure adjustment pump. The pressure in the coating liquid tank 41 is adjusted to an arbitrary value within the pressure range including atmospheric pressure by the pressure adjusting unit 43. For example, the pressure in the coating liquid tank 41 is adjusted to a negative pressure lower than atmospheric pressure. In the coating liquid supply unit 4 including the pressure adjustment unit 43, the position of the coating liquid tank 41 is not limited above the coating head 3, and the coating liquid tank 41 is located at a desired position. It is possible to place.

도 2는, 도포 헤드(3)를 나타내는 단면도이다. 도 2에서는, 후술하는 토출구(381)의 중심선 C1을 포함하는 면에 있어서의 도포 헤드(3)의 단면을 나타내고 있다. 도포 헤드(3)는, 본체부(31)와, 노즐부(35)를 구비한다. 본체부(31)는, 본체 환상부(32)와, 접액막(33)과, 가압부(34)를 포함한다. 본체 환상부(32)는, 예를 들어 금속 등으로 형성되고, 중심선 C1을 중심으로 하는 환상 부재이다. 접액막(33) 및 가압부(34)에 대해서는 후술한다. 노즐부(35)는, 예를 들어 금속 등으로 형성되고, 중심선 C1을 중심으로 하는 바닥이 있는 환상 부재이다. 본체 환상부(32)에 있어서, 중심선 C1에 수직인 하나의 면에, 노즐부(35)가 설치된다. 도 2의 예에서는, 노즐부(35)는, 복수의 볼트(39)에 의해 본체 환상부(32)에 고정된다. 후술하는 바와 같이, 도포 장치(1)에서는, 복수 종류의 노즐부(35)가 준비되어 있으며, 볼트(39)의 탈착에 의해, 노즐부(35)의 교환이 가능하다. 본체 환상부(32)와 노즐부(35)의 사이에는, 도포액실(36)을 둘러싸는 시일 부재(도시생략)가 마련되어 있고, 본체 환상부(32)와 노즐부(35)의 사이에서 도포액이 외부로 누출되는 것이 방지된다.2 is a cross-sectional view showing the application head 3. In FIG. 2, the cross section of the application head 3 on the surface including the center line C1 of the discharge port 381 mentioned later is shown. The application head 3 includes a body portion 31 and a nozzle portion 35. The body portion 31 includes a body annular portion 32, a liquid contact film 33, and a pressing portion 34. The body annular portion 32 is formed of, for example, metal, and is an annular member centered on the center line C1. The liquid contact film 33 and the pressing part 34 will be described later. The nozzle portion 35 is formed of, for example, metal, and is an annular member with a bottom centered on the center line C1. In the body annular portion 32, a nozzle portion 35 is provided on one surface perpendicular to the center line C1. In the example of FIG. 2, the nozzle portion 35 is fixed to the body annular portion 32 by a plurality of bolts 39. As will be described later, in the coating apparatus 1, a plurality of types of nozzle portions 35 are prepared, and the nozzle portions 35 can be replaced by the attachment and detachment of the bolts 39. A sealing member (not shown) surrounding the coating liquid chamber 36 is provided between the body annular portion 32 and the nozzle portion 35, and is applied between the body annular portion 32 and the nozzle portion 35 The liquid is prevented from leaking to the outside.

본체 환상부(32)의 내경은, 노즐부(35)의 내경과 거의 동일하다. 중심선 C1에 평행한 방향에 있어서, 본체 환상부(32)의 내주면은 노즐부(35)의 내주면과 대체로 연속되고, 본체 환상부(32)의 내주면 및 노즐부(35)의 내주면은, 도포액실(36)의 측면을 형성한다. 도포액실(36)은, 도포 헤드(3)의 내부 공간이며, 예를 들어 중심선 C1을 중심으로 하는 원주상 공간이다. 도포액실(36)에는, 도포액이 충전된다. 후술하는 바와 같이, 도포액실(36) 내의 도포액에는 가압부(34)에 의해 압력이 부여되기 때문에, 도포액실(36)은, 압력실이라고도 불린다. 도포액실(36)의 측면에는, 공급 유로(37)의 일단부가 마련된다. 공급 유로(37)의 타단부는, 예를 들어 본체 환상부(32)에 있어서 노즐부(35)과는 반대측을 향하는 면에 마련된다.The inner diameter of the annular body 32 is substantially the same as the inner diameter of the nozzle 35. In the direction parallel to the center line C1, the inner circumferential surface of the main body annular part 32 is substantially continuous with the inner circumferential surface of the nozzle part 35, and the inner circumferential surface of the main body annular part 32 and the inner circumferential surface of the nozzle part 35 are the coating liquid chamber. Form the side of 36. The coating liquid chamber 36 is an internal space of the coating head 3 and is, for example, a circumferential space centered on the center line C1. The coating liquid chamber 36 is filled with a coating liquid. As described later, since pressure is applied to the coating liquid in the coating liquid chamber 36 by the pressurizing portion 34, the coating liquid chamber 36 is also referred to as a pressure chamber. One end of the supply flow path 37 is provided on the side surface of the coating liquid chamber 36. The other end of the supply passage 37 is provided on, for example, a surface of the main body annular portion 32 facing the side opposite to the nozzle portion 35.

도포액실(36)의 저면에는, 노즐실(38)이 마련된다. 노즐실(38)은, 도포액실(36)로부터 연속되는 미세한 유로이다. 노즐실(38)은, 노즐부(35)에 형성된 도포액실(36)의 저부와 연통되어 있다. 노즐실(38)은, 중심선 C1을 중심으로 하는 대략 원주상 공간이다. 노즐실(38)에 있어서 도포액실(36)과는 반대측의 개구, 즉, 노즐실(38)의 선단 개구가 토출구(381)로 된다. 도 2의 노즐실(38)에서는, 도포액실(36) 측으로부터 토출구(381)를 향해서 유로의 직경이 점차 감소한다. 노즐실(38)은, 테이퍼 형상의 유로이다. 도 2의 예에서는, 노즐실(38)에 있어서 직경이 감소하는 비율, 즉, 노즐실(38)의 측면 경사각은 일정하다. 노즐실(38)에 있어서의 직경은, 어느 위치에 있어서도 도포액실(36)의 직경에 비하여 충분히 작다. 노즐실(38)에 있어서의 직경의 평균, 즉, 평균 직경은, 예를 들어 0.05㎜ 내지 0.5㎜의 범위 내에 포함된다. 도 2와 같이, 테이퍼 형상의 노즐실(38)의 경우, 평균 직경은, 예를 들어 도포액실(36)측의 개구 직경과, 상기 선단 개구의 직경과의 평균이다. 예를 들어, 중심선 C1에 수직인 노즐실(38)의 단면적의 최댓값은, 도포액실(36)의 단면적의 1/5배 이하이며, 바람직하게는 1/10배 이하이다.A nozzle chamber 38 is provided on the bottom of the coating liquid chamber 36. The nozzle chamber 38 is a fine flow path continuous from the coating liquid chamber 36. The nozzle chamber 38 is in communication with the bottom of the coating liquid chamber 36 formed in the nozzle portion 35. The nozzle chamber 38 is a substantially cylindrical space centered on the center line C1. An opening in the nozzle chamber 38 on the opposite side to the coating liquid chamber 36, that is, the tip opening of the nozzle chamber 38 serves as a discharge port 381. In the nozzle chamber 38 of FIG. 2, the diameter of a flow path gradually decreases toward the discharge port 381 from the coating liquid chamber 36 side. The nozzle chamber 38 is a tapered flow path. In the example of FIG. 2, the ratio at which the diameter decreases in the nozzle chamber 38, that is, the side inclination angle of the nozzle chamber 38 is constant. The diameter in the nozzle chamber 38 is sufficiently small compared to the diameter of the coating liquid chamber 36 at any position. The average of the diameters in the nozzle chamber 38, that is, the average diameter is contained within the range of, for example, 0.05 mm to 0.5 mm. As shown in Fig. 2, in the case of the tapered nozzle chamber 38, the average diameter is, for example, the average of the opening diameter on the side of the coating liquid chamber 36 and the diameter of the tip opening. For example, the maximum value of the cross-sectional area of the nozzle chamber 38 perpendicular to the center line C1 is 1/5 times or less, preferably 1/10 times or less of the cross-sectional area of the coating liquid chamber 36.

노즐부(35)의 외면에 있어서의 소정 위치(이하, 「표시 위치」라고 함)에는, 노즐부(35)를 식별하기 위한 식별 정보가 형성된다. 예를 들어, 식별 정보는 요철 패턴이다. 식별 정보는, 요철 패턴 이외에, 표시 위치에 인쇄된 문자, 도형, 기호 등이어도 된다. 도포 장치(1)에서는, 노즐실(38)의 용적, 형상 등이 다른, 복수 종류의 노즐부(35)가 미리 준비되어 있으며, 복수 종류의 노즐부(35)에서는, 서로 다른 식별 정보가 표시 위치에 형성된다.At a predetermined position on the outer surface of the nozzle unit 35 (hereinafter referred to as "display position"), identification information for identifying the nozzle unit 35 is formed. For example, the identification information is an uneven pattern. In addition to the uneven pattern, the identification information may be characters, figures, symbols, etc. printed on the display position. In the application device 1, a plurality of types of nozzle units 35 having different volumes, shapes, etc. of the nozzle chamber 38 are prepared in advance, and different types of identification information are displayed in the plurality of types of nozzle units 35 Is formed in the position.

본체부(31)의 접액막(33)은, 금속 등으로 형성되는 다이어프램이다. 도포액실(36)에 있어서, 접액막(33)은 토출구(381)에 대향한다. 접액막(33)은, 도포액실(36)에 있어서의, 저면에 대향하는 면을 형성한다. 도포 헤드(3)에서는, 본체 환상부(32), 접액막(33) 및 노즐부(35)에 의해 도포액실(36)이 형성된다. 접액막(33)의 도포액실(36)측의 표면은, 도포액실(36) 내의 도포액과 접촉하는 접액면이다. 접액막(33)의 외연부는, 본체 환상부(32)에 고정된다. 노즐실(38) 및 공급 유로(37)를 제외하고, 도포액실(36)은, 본체부(31) 및 노즐부(35)에 의해 밀폐된다. 도포 헤드(3)에서는, 도포액실(36) 내의 도포액에 포함되는 기포를 제거하기 위한 배출구 등이, 필요에 따라서 마련되어도 된다.The liquid contact film 33 of the main body 31 is a diaphragm formed of metal or the like. In the coating liquid chamber 36, the liquid contact film 33 faces the discharge port 381. The liquid-contacting film 33 forms a surface in the coating liquid chamber 36 that faces the bottom surface. In the coating head 3, the coating liquid chamber 36 is formed by the body annular portion 32, the liquid contact film 33, and the nozzle portion 35. The surface of the liquid-contacting film 33 on the side of the coating liquid chamber 36 is a liquid-contacting surface in contact with the coating liquid in the coating liquid chamber 36. The outer edge of the liquid contact film 33 is fixed to the annular body 32. Except for the nozzle chamber 38 and the supply passage 37, the coating liquid chamber 36 is sealed by the main body 31 and the nozzle 35. In the coating head 3, a discharge port or the like for removing air bubbles contained in the coating liquid in the coating liquid chamber 36 may be provided as necessary.

가압부(34)는, 압전 소자(341)와, 구동 회로(342)(도 1 참조)를 포함한다. 압전 소자(341)는, 접액막(33)에 있어서의 접액면과는 다른 면을 가압한다. 또한 여기에서는, 압전 소자(341)가 직접, 접액막(33)을 가압하는 예를 들어 설명하였지만, 이에 한정되지는 않고, 압전 소자(341)가 별개의 부재를 통해 접액막(33)을 가압해도 된다. 압전 소자(341)에 있어서 접액막(33)과는 반대측의 면은, 도시를 생략한 지지 부재에 고정된다. 구동 회로(342)는, 압전 소자(341)에 전기적으로 접속된다. 구동 회로(342)가 압전 소자(341)에 구동 신호를 입력함으로써, 압전 소자(341)가 신축 동작을 행하고, 접액막(33)의 휨량이 변화된다. 접액막(33)이 토출구(381)를 향해서 휠 때, 도포액실(36) 내의 도포액에 압력이 부여되고, 토출구(381)로부터 외부로 도포액의 액적이 토출된다. 이와 같이, 가압부(34)는, 도포액실(36) 내의 도포액을 가압함으로써 토출구(381)로부터 액적을 토출시키는 토출 기구이다. 도 1의 도포 헤드(3)에 있어서 가압부(34)가 접액막(33)을 휘게 하는 방향은, 휘지 않은 상태의 접액막(33)에 직교하는 방향을 포함한다. 전형적으로는, 구동 신호는, 하나의 액적의 토출을 지시하는 신호이다. 구동 신호의 파형은, 임의로 결정되어도 된다. 이하의 설명에서는, 단위 시간당 압전 소자(341)에 입력하는 구동 신호의 개수를 토출 주파수라고 한다.The pressing portion 34 includes a piezoelectric element 341 and a driving circuit 342 (see Fig. 1). The piezoelectric element 341 pressurizes a surface different from the liquid contact surface of the liquid contact film 33. In addition, although the piezoelectric element 341 directly presses the liquid contact film 33, the example has been described, but the present invention is not limited thereto, and the piezoelectric element 341 presses the liquid contact film 33 through a separate member. You can do it. The surface of the piezoelectric element 341 on the opposite side to the liquid contact film 33 is fixed to a support member (not shown). The drive circuit 342 is electrically connected to the piezoelectric element 341. When the driving circuit 342 inputs a driving signal to the piezoelectric element 341, the piezoelectric element 341 performs an expansion/contraction operation, and the amount of warpage of the liquid contact film 33 is changed. When the liquid contact film 33 bends toward the discharge port 381, pressure is applied to the coating liquid in the coating liquid chamber 36, and droplets of the coating liquid are discharged from the discharge port 381 to the outside. In this way, the pressing unit 34 is a discharge mechanism that discharges droplets from the discharge port 381 by pressing the coating liquid in the coating liquid chamber 36. In the application head 3 of FIG. 1, the direction in which the pressing portion 34 warns the liquid contact film 33 includes a direction orthogonal to the liquid contact film 33 in a non-warped state. Typically, the drive signal is a signal instructing the ejection of one droplet. The waveform of the drive signal may be arbitrarily determined. In the following description, the number of driving signals input to the piezoelectric element 341 per unit time is referred to as the discharge frequency.

도 3은, 도포 장치(1)에 있어서의 도포 동작의 흐름을 나타내는 도면이다. 도포 동작에서는, 우선, 도 1의 토출 파라미터 결정부(101)에 있어서, 대상물(9)에 도포해야 할 도포액의 보급 유량이 취득된다(스텝 S10). 대상물(9)에 도포해야 할 도포액은, 도포액 탱크(41)에 저류되어 있거나, 또는 저류될 예정의 도포액이다.3 is a diagram showing a flow of an application operation in the application device 1. In the application operation, first, in the discharge parameter determination unit 101 of FIG. 1, the replenishment flow rate of the coating liquid to be applied to the object 9 is acquired (step S10). The coating liquid to be applied to the object 9 is stored in the coating liquid tank 41 or is a coating liquid scheduled to be stored.

여기서, 보급 유량을 설명하기 위해서, 도포 헤드(3)에 대한 도포액의 보급에 대하여 설명한다. 도포 장치(1)에서는, 도포액 탱크(41)로부터 도 2의 도포 헤드(3)의 도포액실(36)까지의 사이, 즉, 도포액 탱크(41), 공급관(42), 공급 유로(37) 및 도포액실(36)에 있어서, 도포액이 간극 없이 연속된다. 또한, 모세관 현상에 의해 노즐실(38) 내의 대략 전체에, 도포액이 충전된다. 도포 헤드(3)로부터의 액적의 토출이 행해지지 않은 대기 상태에서는, 토출구(381)에 있어서 도포액의 액면 M(메니스커스)이 형성된다. 엄밀하게는 가압부(34)가 도포액실(36) 내의 도포액을 가압하여 토출구(381)로부터 액적을 토출할 때에는, 토출구(381)에 있어서 액면 M은 존재하지 않기 때문에, 이하의 설명에서는, 도포액의 액면 M에 대하여 언급하는 경우에는, 도포액실(36) 내의 도포액 가압 시를 제외하고 있는 것으로 한다.Here, in order to explain the replenishment flow rate, replenishment of the coating liquid to the coating head 3 will be described. In the coating apparatus 1, between the coating liquid tank 41 and the coating liquid chamber 36 of the coating head 3 in FIG. 2, that is, the coating liquid tank 41, the supply pipe 42, and the supply flow path 37. ) And in the coating liquid chamber 36, the coating liquid continues without a gap. Further, the coating liquid is filled substantially in the entire inside of the nozzle chamber 38 by the capillary phenomenon. In the standby state in which droplets are not discharged from the coating head 3, a liquid level M (meniscus) of the coating liquid is formed in the discharge port 381. Strictly, when the pressing portion 34 pressurizes the coating liquid in the coating liquid chamber 36 and discharges the droplets from the discharge port 381, since the liquid level M does not exist in the discharge port 381, in the following description, In the case of mentioning the liquid level M of the coating liquid, it is assumed that the application liquid in the coating liquid chamber 36 is not pressurized.

도포액 공급부(4)에서는, 노즐실(38) 근방에 있어서의 도포액의 압력이, 토출구(381)의 주위에 있어서의 대기압과 거의 동일하거나, 또는 약간 낮아지도록, 압력 조정부(43)에 의해 도포액 탱크(41) 내의 압력이 조정되어 있다. 액적의 토출 동작에 의해, 노즐실(38) 내의 도포액이 감소하면, 모세관 현상에 의해 도포액실(36)의 도포액이 노즐실(38) 내에 인입된다. 또한, 도포액 공급부(4)로부터 도포액실(36) 내에도 도포액이 공급되거나, 즉, 도포액실(36) 내에 도포액이 보급된다.In the coating liquid supply unit 4, the pressure of the coating liquid in the vicinity of the nozzle chamber 38 is substantially equal to or slightly lower than the atmospheric pressure around the discharge port 381 by the pressure adjustment unit 43. The pressure in the coating liquid tank 41 is adjusted. When the coating liquid in the nozzle chamber 38 decreases by the ejection operation of the droplet, the coating liquid in the coating liquid chamber 36 is drawn into the nozzle chamber 38 by a capillary phenomenon. In addition, the coating liquid is also supplied into the coating liquid chamber 36 from the coating liquid supply unit 4, that is, the coating liquid is supplied into the coating liquid chamber 36.

도포 헤드(3)에 있어서, 예를 들어 후술하는 최고 토출 주파수에서 액적을 연속적으로 토출하고 있는 사이에, 도포액 공급부(4)로부터 도포액실(36) 내에 보급되는 도포액의 단위 시간당 체적(유량)은, 토출구(381)로부터 토출되는 도포액의 단위 시간당 체적보다도 낮아진다. 이러한 경우에, 도포액 공급부(4)로부터 도포액실(36) 내에 보급되는 도포액의 단위 시간당 체적이, 보급 유량이다. 환언하면, 보급 유량은, 도포 헤드(3)에 있어서의 액적의 토출 동작에 병행하여 도포액 공급부(4)로부터 도포액실(36) 내에 보급 가능한 도포액의 단위 시간당 체적, 전형적으로는, 최대 체적이다.In the coating head 3, for example, the volume per unit time of the coating liquid supplied into the coating liquid chamber 36 from the coating liquid supply unit 4 while the droplets are continuously discharged at the highest discharge frequency to be described later (flow rate ) Is lower than the volume per unit time of the coating liquid discharged from the discharge port 381. In this case, the volume per unit time of the coating liquid supplied from the coating liquid supply unit 4 into the coating liquid chamber 36 is the supply flow rate. In other words, the replenishment flow rate is the volume per unit time, typically, the maximum volume, of the coating liquid that can be replenished into the coating liquid chamber 36 from the coating liquid supply unit 4 in parallel with the ejection operation of the droplets in the coating head 3 to be.

보급 유량은, 도포액 탱크(41)에 저류하는 도포액의 점도에 크게 의존한다. 도포 장치(1)에서는, 복수 종류의 도포액에 있어서의 보급 유량을 나타내는 정보가, 보급 유량 정보 B로서 기억부(102)에 기억되어 있다. 복수 종류의 도포액에 있어서의 보급 유량은, 예를 들어 실험 또는 시뮬레이션 등에 의해 구해진다. 상기 스텝 S10에 있어서의 도포액의 보급 유량의 취득에서는, 대상물(9)에 도포해야 할 도포액의 종류의 입력이, 제어부(10)에 마련된 도시 생략의 입력부를 통해 조작자에 의해 행해진다. 토출 파라미터 결정부(101)에서는, 도포액의 종류를 나타내는 당해 입력이 접수되고, 당해 입력 및 보급 유량 정보 B에 기초하여, 당해 도포액의 보급 유량이 취득된다. 도포액의 보급 유량은, 토출 파라미터 결정부(101)에 있어서 기억된다.The replenishment flow rate largely depends on the viscosity of the coating liquid stored in the coating liquid tank 41. In the coating device 1, information indicating the replenishment flow rate in a plurality of types of coating liquids is stored in the storage unit 102 as replenishment flow rate information B. The replenishment flow rate in a plurality of types of coating liquids is determined by, for example, an experiment or simulation. In the acquisition of the replenishment flow rate of the coating liquid in step S10, input of the type of the coating liquid to be applied to the object 9 is performed by an operator through an input unit (not shown) provided in the control unit 10. The discharge parameter determination unit 101 receives the input indicating the type of the coating liquid, and based on the input and the replenishment flow rate information B, the replenishment flow rate of the coating liquid is acquired. The replenishment flow rate of the coating liquid is stored in the discharge parameter determination unit 101.

계속해서, 대상물(9)에 도포해야 할 도포액에 맞춰서, 도포 헤드(3)에 있어서의 노즐부(35)가 교환된다(스텝 S11). 여기에서는, 도 4의 노즐부(35)가, 도 2의 노즐부(35)로 교환된 것으로 한다. 도 2의 교환 후의 노즐부(35)에서는, 도 4의 교환 전의 노즐부(35)와 비교하여, 노즐실(38)의 평균 직경 및 용적이 크다. 또한, 도 2 및 도 4의 노즐부(35)에서는, 노즐실(38)의 측면 경사각은 동일하다. 예를 들어, 점도가 높은 도포액을 사용하는 경우에, 노즐실(38)의 평균 직경이 큰 노즐부(35)가 선택된다. 후술하는 바와 같이, 노즐부(35)의 교환에 의해, 실제로 사용하는 당해 도포액을 대상물(9) 위에 적절하게 도포하는 것이 가능해진다.Subsequently, in accordance with the coating liquid to be applied to the object 9, the nozzle portion 35 in the coating head 3 is replaced (step S11). Here, it is assumed that the nozzle portion 35 of FIG. 4 has been replaced with the nozzle portion 35 of FIG. 2. In the nozzle portion 35 after replacement in FIG. 2, compared with the nozzle portion 35 before replacement in FIG. 4, the average diameter and volume of the nozzle chamber 38 are larger. In addition, in the nozzle part 35 of FIGS. 2 and 4, the side inclination angle of the nozzle chamber 38 is the same. For example, in the case of using a coating liquid having a high viscosity, the nozzle portion 35 having a large average diameter of the nozzle chamber 38 is selected. As described later, the replacement of the nozzle unit 35 makes it possible to appropriately apply the coating liquid actually used onto the object 9.

노즐부(35)의 교환은, 예를 들어 도포 장치(1)의 설치 장소에 있어서 조작자에 의해 행해진다. 노즐부(35)의 교환이, 도포 장치(1)의 조정 작업으로서, 도포 장치(1)의 제조 공장 등에서 행해져도 된다. 또한, 노즐부(35)의 교환 전에는, 공급관(42)에 있어서의 도시가 생략된 밸브가 폐쇄된다. 노즐부(35)의 교환 후에 당해 밸브를 개방함으로써, 도포 헤드(3)의 도포액실(36)에, 도포액이 충전된다.The replacement of the nozzle unit 35 is performed by an operator at the installation location of the coating device 1, for example. The replacement of the nozzle unit 35 may be performed at a manufacturing plant or the like of the coating apparatus 1 as an adjustment operation of the coating apparatus 1. In addition, before the nozzle part 35 is replaced, the valve in the supply pipe 42 (not shown) is closed. By opening the valve after replacement of the nozzle part 35, the coating liquid is filled in the coating liquid chamber 36 of the coating head 3.

노즐 식별 카메라(5)에서는, 노즐부(35)의 표시 위치에 형성된 식별 정보가 촬상된다. 식별 정보의 화상은, 제어부(10)에 입력된다. 제어부(10)에서는, 식별 정보의 화상에 기초하여, 도포 헤드(3)에 마련되어 있는 노즐부(35)의 종류가 특정된다. 이와 같이, 도포 장치(1)에서는, 노즐 식별 카메라(5) 및 제어부(10)에 의해, 도포 헤드(3)에 있어서의 노즐부(35)의 종류를 식별하는 노즐 식별부가 실현된다. 노즐 식별부에 있어서의 식별 결과는, 도포 헤드(3)에 마련되는 노즐부(35)의 종류의 입력으로 하여, 토출 파라미터 결정부(101)에 있어서 접수된다.In the nozzle identification camera 5, the identification information formed at the display position of the nozzle part 35 is imaged. An image of the identification information is input to the control unit 10. In the control unit 10, the type of the nozzle unit 35 provided in the application head 3 is specified based on the image of the identification information. Thus, in the coating apparatus 1, the nozzle identification camera 5 and the control unit 10 realize a nozzle identification unit that identifies the type of the nozzle unit 35 in the coating head 3. The identification result in the nozzle identification unit is received in the discharge parameter determination unit 101 as an input of the type of the nozzle unit 35 provided in the application head 3.

한편, 기억부(102)에 기억되는 노즐실 정보 A는, 복수 종류의 노즐부(35)에 있어서의 노즐실(38)의 용적을 나타낸다. 예를 들어, 각 노즐부(35)의 설계 데이터를 사용하여 노즐실(38)의 용적을 산출함으로써, 또는 노즐실(38)의 용적을 실측함으로써, 노즐실 정보 A를 용이하게 준비하는 것이 가능하다. 토출 파라미터 결정부(101)에서는, 노즐부(35)의 종류를 나타내는 상기 입력 및 노즐실 정보 A에 기초하여, 도포 헤드(3)에 마련되는 노즐부(35)의 노즐실(38)의 용적이 취득된다(스텝 S12).On the other hand, the nozzle chamber information A stored in the storage unit 102 indicates the volume of the nozzle chamber 38 in the plurality of types of nozzle units 35. For example, it is possible to easily prepare nozzle chamber information A by calculating the volume of the nozzle chamber 38 using the design data of each nozzle unit 35 or by measuring the volume of the nozzle chamber 38. Do. In the discharge parameter determination unit 101, based on the input indicating the type of the nozzle unit 35 and the nozzle chamber information A, the volume of the nozzle chamber 38 of the nozzle unit 35 provided in the coating head 3 Is acquired (step S12).

도포 헤드(3)에 있어서의 노즐실(38)의 용적이 취득되면, 노즐실(38)의 용적을, 토출구(381)로부터 토출되는 도포액의 액적 수로 환산한 값이, 노즐실 액적 수로서 구해진다(스텝 S13). 후술하는 바와 같이, 본 처리예에서는, 압전 소자(341)에 입력하는 구동 신호의 전압이 설정 전압에서 일정하다. 또한, 제어부(10)의 기억부(102)에서는, 복수 종류의 도포액과 복수 종류의 노즐부(35)의 각 조합에 대하여, 설정 전압의 구동 신호의 입력에 의해 토출구(381)로부터 토출되는 액적의 체적을 나타내는 테이블이 미리 기억되어 있다. 당해 테이블은, 예를 들어 시뮬레이션 또는 실험에 의해 작성된다. 토출 파라미터 결정부(101)에서는, 상술한 도포액의 종류의 입력, 및 노즐부(35)의 종류의 입력을 사용하여 상기 테이블을 참조함으로써, 도포 헤드(3)로부터 토출되는 액적의 체적이, 특정 체적으로서 특정된다. 그리고, 노즐실(38)의 용적을 특정 체적으로 나눔으로써, 노즐실 액적 수가 구해진다.When the volume of the nozzle chamber 38 in the coating head 3 is obtained, the volume of the nozzle chamber 38 is converted into the number of droplets of the coating liquid discharged from the discharge port 381 as the number of nozzle chamber droplets. It is obtained (step S13). As will be described later, in this processing example, the voltage of the driving signal input to the piezoelectric element 341 is constant at the set voltage. In addition, in the storage unit 102 of the control unit 10, for each combination of a plurality of types of coating liquids and a plurality of types of nozzle units 35, discharged from the discharge port 381 by input of a driving signal of a set voltage. A table indicating the volume of the droplet is stored in advance. This table is created by simulation or experiment, for example. In the discharge parameter determination unit 101, by referring to the table using the input of the type of the coating liquid described above and the input of the type of the nozzle unit 35, the volume of the droplet discharged from the coating head 3 is, It is specified as a specific volume. Then, by dividing the volume of the nozzle chamber 38 by a specific volume, the number of nozzle chamber droplets is obtained.

예를 들어, 특정 체적이 10nL(나노리터)이며, 노즐실(38)의 용적이 300nL인 경우, 300[nL]÷10[nL]로부터, 노즐실 액적 수는 30으로 된다. 이미 설명한 바와 같이, 노즐실(38)에는 도포액이 충전되어 있으며, 노즐실 액적 수는, 노즐실(38)에 충전되는 도포액만에 의해, 토출 가능한 특정 체적의 액적 개수이다. 노즐실 액적 수는, 토출 파라미터 결정부(101)에 있어서 기억된다. 도포 장치(1)에 있어서, 토출구(381)로부터 토출되는 액적의 체적(특정 체적)은, 예를 들어 2nL 이상, 50nL 이하이다. 또한, 노즐실 액적 수의 결정에서는, 노즐실 액적 수에 특정 체적을 곱해서 얻은 값이 노즐실(38)의 용적 이하이면 되며, 상기 값과 노즐실(38)의 용적과의 차가 특정 체적보다도 커도 된다.For example, when the specific volume is 10 nL (nanoliter) and the volume of the nozzle chamber 38 is 300 nL, from 300 [nL] ÷ 10 [nL], the number of nozzle chamber droplets is 30. As described above, the nozzle chamber 38 is filled with a coating liquid, and the number of nozzle chamber droplets is the number of droplets of a specific volume that can be discharged by only the coating liquid filled in the nozzle chamber 38. The number of droplets in the nozzle chamber is stored in the discharge parameter determination unit 101. In the coating apparatus 1, the volume (specific volume) of the droplet discharged from the discharge port 381 is, for example, 2 nL or more and 50 nL or less. In addition, in the determination of the number of nozzle chamber droplets, the value obtained by multiplying the number of nozzle chamber droplets by a specific volume may be equal to or less than the volume of the nozzle chamber 38, and even if the difference between the above value and the volume of the nozzle chamber 38 is greater than a specific volume. do.

상기 스텝 S10 내지 S13의 처리는, 도포 동작의 사전 준비이며, 필요에 따라서 행해진다. 예를 들어, 스텝 S10의 처리는, 도포액 탱크(41) 내의 도포액 교체에 의해, 또는 도포액 탱크(41)의 교환에 의해, 실제로 사용하는 도포액의 종류를 변경한 경우에 행해지고, 변경 후의 도포액의 보급 유량이 취득된다. 스텝 S12의 처리는, 스텝 S11에서 노즐부(35)를 교환한 경우에 행해지고, 교환 후의 노즐부(35)에 있어서의 노즐실(38)의 용적이 취득된다. 스텝 S13의 처리는, 스텝 S10의 처리 또는 스텝 S12의 처리가 행해진 경우, 즉, 도포액의 보급 유량, 또는 노즐실(38)의 용적이 변경된 경우에 행해지고, 노즐실 액적 수가 갱신된다.The processing of the above steps S10 to S13 is a preliminary preparation for the application operation, and is performed as necessary. For example, the processing of step S10 is performed when the type of the coating liquid actually used is changed by replacement of the coating liquid in the coating liquid tank 41 or by replacement of the coating liquid tank 41. The replenishment flow rate of the subsequent coating liquid is obtained. The process of step S12 is performed when the nozzle part 35 is replaced in step S11, and the volume of the nozzle chamber 38 in the nozzle part 35 after replacement|exchange is acquired. The process of step S13 is performed when the process of step S10 or the process of step S12 is performed, that is, when the replenishment flow rate of the coating liquid or the volume of the nozzle chamber 38 is changed, and the number of nozzle chamber droplets is updated.

대상물(9) 위의 하나의 도포 위치(이하, 「주목 위치」라고 함)에 대하여 도포액의 도포를 행할 때에는, 토출 파라미터 결정부(101)에 있어서 주목 위치에 대한 도포 명령이 접수된다(스텝 S14). 도포 명령은, 대상물(9) 위의 각 위치에 도포해야 할 도포액의 체적을 도포량으로서 나타내는 정보이다. 계속해서, 토출 파라미터 결정부(101)에서는, 도포 명령에 기초하여, 주목 위치에 대한 액적의 토출에 관한 토출 파라미터가 결정된다.When applying the coating liquid to one application position on the object 9 (hereinafter, referred to as ``attention position''), the discharge parameter determination unit 101 receives an application command for the target position (step S14). The coating instruction is information indicating the volume of the coating liquid to be applied to each position on the object 9 as a coating amount. Subsequently, in the discharge parameter determination unit 101, a discharge parameter related to discharge of the droplet to the target position is determined based on the application command.

본 실시 형태에서는, 도포 헤드(3)로부터 토출되는 액적의 체적(특정 체적)은, 대상물(9) 위의 각 위치에 도포해야 할 도포량에 비하여 충분히 작기 때문에, 당해 각 위치에 대하여 다수의 액적이 연속적으로 토출된다. 따라서, 토출 파라미터 결정부(101)에서는, 주목 위치에 대하여 액적이 연속적으로 토출되는 연속 토출 기간에 있어서의 토출 파라미터가 결정된다. 후술하는 바와 같이, 연속 토출 기간은, 증량 토출 기간 및 정량 토출 기간으로 나뉘어 있으며, 토출 파라미터는, 연속 토출 기간에 있어서의 증량 토출 기간 및 정량 토출 기간의 길이, 그리고 증량 토출 기간 및 정량 토출 기간 각각에 있어서의 토출 주파수 및 구동 신호의 전압을 포함한다. 이미 설명한 바와 같이, 토출 주파수는, 구동 신호의 주파수이며, 토출구(381)로부터 토출되는 단위 시간당 액적의 개수를 나타낸다. 본 처리예에서는, 토출 파라미터에 있어서의 구동 신호의 전압이, 설정 전압에서 일정하기 때문에, 후술하는 액적의 토출에서는, 토출구(381)로부터 이미 설명한 특정 체적의 액적이 토출된다.In this embodiment, since the volume (specific volume) of the droplets discharged from the application head 3 is sufficiently small compared to the amount of application to be applied to each position on the object 9, a number of droplets are It is discharged continuously. Accordingly, in the discharge parameter determination unit 101, a discharge parameter in a continuous discharge period in which droplets are continuously discharged to a position of interest is determined. As described later, the continuous discharge period is divided into an increased discharge period and a fixed discharge period, and the discharge parameters are the length of the increased discharge period and the fixed discharge period in the continuous discharge period, and the increased discharge period and the fixed discharge period, respectively. It includes the discharge frequency and the voltage of the drive signal. As described above, the discharge frequency is the frequency of the drive signal, and indicates the number of droplets per unit time discharged from the discharge port 381. In the present processing example, since the voltage of the drive signal in the discharge parameter is constant at the set voltage, in the discharge of droplets to be described later, a droplet of a specific volume previously described is discharged from the discharge port 381.

도포 명령에 기초하는 토출 파라미터의 결정에서는, 우선, 주목 위치에 도포해야 할 도포량을, 토출구(381)로부터 토출되는 도포액의 액적 수로 환산한 값이, 필요 액적 수로서 구해진다(스텝 S15). 필요 액적 수는, 당해 도포량을 특정 체적으로 나눔으로써 구해진다. 예를 들어, 주목 위치에 도포해야 할 도포액의 도포량이 500nL이며, 액적의 특정 체적이 10nL인 경우, 필요 액적 수는 50으로 된다.In the determination of the discharge parameter based on the application command, first, a value obtained by converting the amount of application to be applied to the location of interest in terms of the number of droplets of the coating liquid discharged from the discharge port 381 is obtained as the number of necessary droplets (step S15). The required number of droplets is obtained by dividing the application amount by a specific volume. For example, when the application amount of the coating liquid to be applied to the location of interest is 500 nL and the specific volume of the droplet is 10 nL, the required number of droplets is 50.

계속해서, 토출 파라미터 결정부(101)에서는, 주목 위치의 필요 액적 수와 노즐실 액적 수가 비교된다. 필요 액적 수가 노즐실 액적 수보다도 큰 경우에는 (스텝 S16), 주목 위치에 대한 연속 토출 기간의 초기에 있어서, 노즐실 액적 수의 액적을 최고 토출 주파수에서 토출할 것을 지시하는 토출 파라미터가 결정된다. 여기서, 도포 장치(1)에서는, 압전 소자(341)의 사양이나, 구동 회로(342)의 제한 등에 의해, 최고 토출 주파수가 미리 설정되어 있다. 노즐실 액적 수의 액적을 최고 토출 주파수에서 토출하는 기간을 「증량 토출 기간」이라고 칭하면, 노즐실 액적 수와 최고 토출 주파수의 역수를 곱해서 얻은 값이, 증량 토출 기간의 길이로 된다. 따라서, 연속 토출 기간의 초기에 대한 상기 토출 파라미터의 결정은, 증량 토출 기간의 길이, 및 증량 토출 기간에 있어서의 토출 주파수(최고 토출 주파수)의 결정이라고 할 수 있다. 증량 토출 기간의 의미에 대해서는 후술한다.Subsequently, in the discharge parameter determination unit 101, the number of necessary droplets at the point of interest and the number of droplets in the nozzle chamber are compared. When the required number of droplets is larger than the number of nozzle chamber droplets (step S16), a ejection parameter instructing to eject the droplets of the number of nozzle chamber droplets at the highest ejection frequency at the beginning of the continuous ejection period with respect to the target position is determined. Here, in the coating apparatus 1, the maximum discharge frequency is set in advance due to the specifications of the piezoelectric element 341, the limitation of the drive circuit 342, or the like. When the period in which droplets of the number of nozzle chamber droplets are discharged at the highest discharge frequency is referred to as "increased discharge period", a value obtained by multiplying the number of nozzle chamber droplets by the reciprocal of the highest discharge frequency becomes the length of the increased discharge period. Accordingly, the determination of the discharge parameter for the initial stage of the continuous discharge period can be said to be the determination of the length of the increased discharge period and the discharge frequency (maximum discharge frequency) in the increased discharge period. The meaning of the increase discharge period will be described later.

토출 파라미터 결정부(101)에서는, 연속 토출 기간의 나머지 기간에 있어서, 필요 액적 수로부터 노즐실 액적 수를 감산해서 얻은 나머지의 액적 수의 액적을, 도포액의 보급 유량에 상당하는 토출 주파수(이하, 「평형 토출 주파수」라고 함)로부터 토출할 것을 지시하는 토출 파라미터가 결정된다. 이미 설명한 바와 같이, 보급 유량은, 도포액 공급부(4)로부터 도포액실(36) 내에 보급 가능한 도포액의 단위 시간당 체적이다. 평형 토출 주파수는, 보급 유량을 액적의 특정 체적으로 나눠서 얻어지는 수이며, 최고 토출 주파수보다도 충분히 낮다. 상기 나머지 액적 수의 액적을 일정한 평형 토출 주파수에서 토출하는 기간을 「정량 토출 기간」이라고 칭하면, 상기 나머지 액적 수와 평형 토출 주파수의 역수를 곱해서 얻은 값이, 정량 토출 기간의 길이로 된다. 따라서, 연속 토출 기간의 나머지 기간에 대한 상기 토출 파라미터의 결정은, 정량 토출 기간의 길이, 및 정량 토출 기간에 있어서의 토출 주파수의 결정이라고 할 수 있다. 이상과 같이 하여, 증량 토출 기간 및 정량 토출 기간을 포함하는 연속 토출 기간에 있어서의 토출 파라미터가 결정된다(스텝 S17).In the discharge parameter determination unit 101, in the remaining period of the continuous discharge period, the remaining number of droplets obtained by subtracting the number of nozzle chamber droplets from the required number of droplets is a discharge frequency corresponding to the replenishment flow rate of the coating liquid (hereinafter , A discharge parameter instructing to discharge from (referred to as "balanced discharge frequency") is determined. As already explained, the replenishment flow rate is the volume per unit time of the coating liquid that can be replenished into the coating liquid chamber 36 from the coating liquid supply unit 4. The equilibrium discharge frequency is a number obtained by dividing the replenishment flow rate by a specific volume of the droplet, and is sufficiently lower than the maximum discharge frequency. When the period in which the droplets of the remaining number of droplets are discharged at a constant equilibrium discharge frequency is referred to as a "quantitative discharge period", a value obtained by multiplying the remaining number of droplets by the reciprocal of the equilibrium discharge frequency becomes the length of the fixed discharge period. Accordingly, the determination of the discharge parameter for the remaining period of the continuous discharge period can be said to be the determination of the length of the fixed discharge period and the discharge frequency in the fixed discharge period. As described above, the discharge parameters in the continuous discharge period including the increased discharge period and the fixed discharge period are determined (step S17).

예를 들어, 최고 토출 주파수가 1㎑(킬로헤르츠)이며, 노즐실 액적 수가 30인 경우, 증량 토출 기간의 길이는 30밀리초로 된다. 또한, 필요 액적 수가 50인 경우, 필요 액적 수로부터 노즐실 액적 수를 감산해서 얻은 나머지 액적 수는 20으로 된다. 이 경우에, 보급 유량이 매초 10nL이며, 액적의 특정 체적이 10nL일 때에는, 평형 토출 주파수는 1㎐로 되고, 정량 토출 기간의 길이는 20초로 된다. 필요 액적 수의 액적이 연속적으로 토출되는 기간인 연속 토출 기간의 길이는, 증량 토출 기간과 정량 토출 기간을 맞춘 길이이며, 20.03초로 된다.For example, when the maximum discharge frequency is 1 kHz (kilohertz) and the number of nozzle chamber droplets is 30, the length of the increase discharge period is 30 milliseconds. Further, when the required number of droplets is 50, the number of remaining droplets obtained by subtracting the number of nozzle chamber droplets from the required number of droplets is 20. In this case, when the replenishment flow rate is 10 nL per second and the specific volume of the droplet is 10 nL, the equilibrium discharge frequency is 1 Hz, and the length of the fixed discharge period is 20 seconds. The length of the continuous ejection period, which is a period in which droplets of the required number of droplets are continuously ejected, is a length in which the increased ejection period and the fixed ejection period are matched, and becomes 20.03 seconds.

도포 장치(1)에서는, 상기 토출 파라미터의 결정에 병행하여, 이동 기구(2)가 스테이지(21)를 이동함으로써, 대상물(9) 위의 주목 위치가, 도포 헤드(3)의 토출구(381)에 대향하는 위치에 배치된다. 그리고, 제어부(10)의 제어에 의해, 구동 회로(342)가 상기 토출 파라미터에 따라서 압전 소자(341)에 구동 신호를 입력함으로써, 주목 위치에 대하여 액적의 토출이 행해진다(스텝 S18). 상술한 예에서는, 최고 토출 주파수 1㎑에서, 노즐실 액적 수인 30개의 액적이 토출되고, 계속해서, 평형 토출 주파수 1㎐에서, 나머지 액적 수인 20개의 액적이 토출된다. 즉, 30밀리초의 증량 토출 기간에 있어서 최고 토출 주파수 1㎑에서의 액적의 토출이 행해지고, 당해 증량 토출 기간에 연속하는 20초의 정량 토출 기간에 있어서 평형 토출 주파수 1㎐에서의 액적의 토출이 행해진다. 이와 같이 하여, 제어부(10)에 의해 도포 헤드(3)로부터의 액적의 토출이 제어되고, 주목 위치에 대하여 도포 명령이 나타내는 도포량의 도포액이 도포된다.In the application device 1, in parallel to the determination of the discharge parameter, the moving mechanism 2 moves the stage 21, so that the position of interest on the object 9 is the discharge port 381 of the application head 3 It is placed in a position opposite to. Then, under the control of the control unit 10, the driving circuit 342 inputs a driving signal to the piezoelectric element 341 according to the discharge parameter, so that droplets are discharged to the target position (step S18). In the above-described example, at the highest discharge frequency of 1 kHz, 30 droplets, which are the number of nozzle chamber droplets, are discharged, and then, at the equilibrium discharge frequency of 1 Hz, 20 droplets, which are the remaining number of droplets, are discharged. In other words, droplets are discharged at a maximum discharge frequency of 1 kHz in an increased discharge period of 30 milliseconds, and droplets are discharged at an equilibrium discharge frequency of 1 Hz in a fixed discharge period of 20 seconds consecutive to the increased discharge period. . In this way, discharge of the droplets from the coating head 3 is controlled by the control unit 10, and the coating liquid of the coating amount indicated by the coating command is applied to the position of interest.

이미 설명한 바와 같이, 최고 토출 주파수는, 평형 토출 주파수보다도 충분히 높기 때문에, 증량 토출 기간에서는, 토출구(381)로부터 토출되는 도포액의 단위 시간당 체적이 보급 유량보다도 크다. 즉, 증량 토출 기간에 있어서의 도포액의 단위 시간당 토출량은, 정량 토출 기간에 있어서의 도포액의 단위 시간당 토출량보다도 크고, 정량 토출 기간보다도 증량되어 있다. 증량 토출 기간에서는, 노즐실(38) 내에 있어서의 도포액의 액면 M의 위치가 점차 도포액실(36)에 가까워진다. 증량 토출 기간 종료 직전에는, 도 5에 도시한 바와 같이, 도포액의 액면 M은, 노즐실(38)에 있어서의 도포액실(36)측의 개구 근방에 위치한다. 증량 토출 기간에서는, 노즐실(38)의 용적을 액적 수로 환산한 노즐실 액적 수의 액적만이 토출된다. 즉, 증량 토출 기간에 있어서 토출되는 도포액의 양(체적)은, 노즐실(38)에 충전되는 도포액의 양 이하이다. 따라서, 도포액의 액면 M의 에지가, 노즐실(38)의 상기 개구를 넘어서 도포액실(36) 내에 들어가는 일은 없다.As described above, since the maximum discharge frequency is sufficiently higher than the equilibrium discharge frequency, the volume per unit time of the coating liquid discharged from the discharge port 381 is larger than the replenishment flow rate in the increased discharge period. That is, the discharge amount per unit time of the coating liquid in the increased discharge period is larger than the discharge amount per unit time of the coating liquid in the fixed discharge period, and is increased more than the fixed discharge period. In the increased discharge period, the position of the liquid level M of the coating liquid in the nozzle chamber 38 gradually approaches the coating liquid chamber 36. Immediately before the end of the increased discharge period, as shown in FIG. 5, the liquid level M of the coating liquid is located near the opening of the nozzle chamber 38 on the side of the coating liquid chamber 36. In the incremental discharge period, only the droplets of the number of nozzle chamber droplets obtained by converting the volume of the nozzle chamber 38 into the number of droplets are ejected. That is, the amount (volume) of the coating liquid to be discharged in the increased discharge period is equal to or less than the amount of the coating liquid to be filled in the nozzle chamber 38. Therefore, the edge of the liquid surface M of the coating liquid does not enter the coating liquid chamber 36 beyond the opening of the nozzle chamber 38.

정량 토출 기간에서는, 도포액의 보급 유량에 상당하는 평형 토출 주파수에서 액적이 토출되기 때문에, 도포액의 액면 M의 에지의 위치는, 노즐실(38)의 상기 개구 근방에서 유지된다. 연속 토출 기간의 전체에서는, 토출구(381)로부터 토출되는 도포액의 총 체적은, 노즐실(38)의 용적과, 연속 토출 기간에 도포액 공급부(4)로부터 도포액실(36) 내에 보급되는 도포액의 총 체적과의 합 이하로 된다. 이미 설명한 바와 같이, 상기 예에서는, 필요 액적 수는 노즐실 액적 수보다도 크고, 연속 토출 기간에 토출되는 도포액의 총 체적은, 노즐실(38)의 용적보다도 크다. 또한, 연속 토출 기간에 토출되는 도포액의 총 체적은, 도포액실(36) 내에 보급되는 도포액의 총 체적보다도 크며, 이미 설명한 바와 같이, 도포액의 액면 M의 에지가, 도포액실(36) 측으로 이동한다.In the fixed discharge period, since droplets are discharged at an equilibrium discharge frequency corresponding to the replenishment flow rate of the coating liquid, the position of the edge of the liquid surface M of the coating liquid is maintained in the vicinity of the opening of the nozzle chamber 38. In the entire continuous discharge period, the total volume of the coating liquid discharged from the discharge port 381 is the volume of the nozzle chamber 38, and the coating that is supplied into the coating liquid chamber 36 from the coating liquid supply unit 4 during the continuous discharge period. It is less than the sum of the total volume of the liquid. As described above, in the above example, the required number of droplets is larger than the number of nozzle chamber droplets, and the total volume of the coating liquid discharged during the continuous ejection period is larger than the volume of the nozzle chamber 38. In addition, the total volume of the coating liquid discharged in the continuous discharge period is larger than the total volume of the coating liquid supplied in the coating liquid chamber 36, and as already described, the edge of the liquid surface M of the coating liquid is the coating liquid chamber 36 Move to the side.

한편, 주목 위치에 대한 필요 액적 수와 노즐실 액적 수의 비교에 있어서, 필요 액적 수가 노즐실 액적 수 이하인 경우에는(스텝 S16), 주목 위치에 대하여, 연속 토출 기간의 전체에 있어서, 필요 액적 수의 액적을 최고 토출 주파수에서 토출할 것을 지시하는 토출 파라미터가 결정된다(스텝 S19). 이 경우, 연속 토출 기간의 길이는, 필요 액적 수와 최고 토출 주파수의 역수를 곱하여 얻은 값으로 된다. 상기 토출 파라미터의 결정은, 증량 토출 기간만을 포함하는 연속 토출 기간에 있어서의 토출 파라미터의 결정이다.On the other hand, in the comparison of the number of droplets required for the point of interest and the number of droplets in the nozzle chamber, when the number of required droplets is less than the number of droplets in the nozzle chamber (step S16), the number of droplets required for the entire continuous ejection period with respect to the point of interest A discharge parameter instructing to discharge the droplet at the highest discharge frequency is determined (step S19). In this case, the length of the continuous discharge period is a value obtained by multiplying the number of necessary droplets by the reciprocal of the highest discharge frequency. The determination of the discharge parameter is a determination of a discharge parameter in a continuous discharge period including only an increase discharge period.

그리고, 대상물(9) 위의 주목 위치가, 도포 헤드(3)의 토출구(381)에 대향하는 위치에 배치된 상태에서, 구동 회로(342)가 상기 토출 파라미터에 따라서 압전 소자(341)에 구동 신호를 입력함으로써, 주목 위치에 대한 액적의 토출이 행해진다(스텝 S18). 이에 의해, 도포 명령이 나타내는 도포량의 도포액이, 보급 유량에 의존하지 않고 고속으로 주목 위치에 도포된다. 주목 위치에 대하여 토출되는 도포액의 양은, 노즐실(38)에 충전되는 도포액의 양 이하이다. 따라서, 도포액의 액면 M의 에지가, 노즐실(38)에 있어서의 도포액실(36)측의 개구를 넘어서 도포액실(36) 내에 들어가는 일은 없다.And, in a state in which the position of interest on the object 9 is disposed at a position opposite to the discharge port 381 of the coating head 3, the driving circuit 342 drives the piezoelectric element 341 according to the discharge parameter. By inputting a signal, droplets are discharged to the target position (step S18). Thereby, the coating liquid of the coating amount indicated by the coating instruction is applied to the target position at high speed without depending on the replenishment flow rate. The amount of the coating liquid discharged to the target position is equal to or less than the amount of the coating liquid to be filled in the nozzle chamber 38. Therefore, the edge of the liquid surface M of the coating liquid does not enter the coating liquid chamber 36 beyond the opening of the nozzle chamber 38 on the side of the coating liquid chamber 36.

실제 도포 장치(1)에서는, 주목 위치에 대한 도포액의 도포가 완료되면, 대상물(9) 위의 다음의 도포 위치가 주목 위치로 되고, 상기 스텝 S14 내지 S19가 반복된다. 이때, 도포 헤드(3)가 다음의 도포 위치에 대상물(9)에 대하여 상대적으로 이동하는 사이에, 노즐실(38) 내에 도포액이 보급된다. 노즐실(38) 내에 도포액을 충전하기 위한 대기 시간이, 필요에 따라서 설정되어도 된다. 각 도포 위치에 대한 토출 파라미터의 결정에 따른 스텝 S14 내지 S17, S19의 처리는, 당해 도포 위치에 대한 토출 동작(스텝 S18) 전에 행해지고 있으면 되며, 예를 들어 당해 도포 위치보다도 전에 도포액의 도포가 행해지는 도포 위치에 대한 토출 동작과 병행하여 행해져도 된다.In the actual application device 1, when the application of the coating liquid to the target position is completed, the next application position on the object 9 becomes the target position, and the steps S14 to S19 are repeated. At this time, while the application head 3 moves relative to the object 9 to the next application position, the coating liquid is supplied into the nozzle chamber 38. The waiting time for filling the coating liquid in the nozzle chamber 38 may be set as necessary. The processing of steps S14 to S17 and S19 according to the determination of the discharge parameter for each application position may be performed before the discharge operation (step S18) for the application position. For example, the application of the coating liquid is performed before the application position. It may be performed in parallel with the discharge operation to the applied position to be performed.

여기서, 각 도포 위치에 대하여, 항상, 최고 토출 주파수에서 필요 액적 수의 액적을 토출하는 제1 비교예의 도포 장치를 상정한다. 제1 비교예의 도포 장치에서는, 하나의 도포 위치에 대한 필요 액적 수가 노즐실 액적 수보다도 큰 경우, 당해 도포 위치에 대하여 토출되는 도포액의 양이, 노즐실(38)에 충전되는 도포액의 양을 초과한다. 따라서, 도포액의 액면 M의 에지가, 노즐실(38)의 도포액실(36)측의 개구를 넘어서 도포액실(36) 내에 들어가고, 도포액실(36) 내에 공기가 침입한다. 이 경우, 가압부(34)가 도포액실(36) 내에 부여하는 압력이 기포에 의해 흡수되고, 토출구(381)로부터 도포액이 안정적으로 토출되지 않게 된다.Here, with respect to each application position, it is assumed that the coating apparatus of the first comparative example always discharges droplets of the required number of droplets at the highest discharge frequency. In the coating apparatus of the first comparative example, when the number of necessary droplets for one application position is larger than the number of nozzle chamber droplets, the amount of the coating liquid discharged to the application position is the amount of the coating liquid filled in the nozzle chamber 38 Exceeds. Accordingly, the edge of the liquid surface M of the coating liquid crosses the opening on the side of the coating liquid chamber 36 of the nozzle chamber 38 and enters the coating liquid chamber 36, and air enters the coating liquid chamber 36. In this case, the pressure applied by the pressing portion 34 into the coating liquid chamber 36 is absorbed by the air bubbles, and the coating liquid is not stably discharged from the discharge port 381.

또한, 각 도포 위치에 대하여, 항상, 평형 토출 주파수에서 필요 액적 수의 액적을 토출하는 제2 비교예의 도포 장치를 상정한다. 제2 비교예의 도포 장치에서는, 도포액의 보급 유량에 상당하는 평형 토출 주파수에서 액적이 토출되기 때문에, 도포액의 액면 M의 에지의 위치는 노즐실(38) 내에 유지된다. 그러나, 평형 토출 주파수는, 최고 토출 주파수에 비하여 크게 낮기 때문에, 도포 위치에 대한 도포액의 도포에 장시간을 요하게 된다. 예를 들어, 평형 토출 주파수가 1㎐이며, 필요 액적 수가 50인 경우에는, 도포액의 도포에 50초를 요한다.In addition, for each application position, it is assumed that the application device of Comparative Example 2 always discharges droplets of the required number of droplets at the equilibrium discharge frequency. In the coating apparatus of the second comparative example, since droplets are discharged at an equilibrium discharge frequency corresponding to the replenishment flow rate of the coating liquid, the position of the edge of the liquid surface M of the coating liquid is maintained in the nozzle chamber 38. However, since the equilibrium discharge frequency is significantly lower than the maximum discharge frequency, it takes a long time to apply the coating liquid to the application position. For example, when the equilibrium discharge frequency is 1 Hz and the required number of droplets is 50, 50 seconds are required to apply the coating liquid.

이에 반하여, 도 1의 도포 장치(1)에서는, 토출 파라미터 결정부(101)에 있어서, 도포액의 보급 유량 및 노즐실(38)의 용적에 기초하여, 도포 헤드(3)로부터 액적이 연속적으로 토출되는 연속 토출 기간에 있어서의 토출 파라미터가 결정된다. 이에 의해, 토출구(381)로부터 토출되는 도포액의 단위 시간당 체적이 보급 유량보다도 큰 증량 토출 기간이, 연속 토출 기간에 포함되게 되어, 도포액을 고속으로 도포할 수 있다. 또한, 연속 토출 기간에 있어서 토출구(381)로부터 토출되는 도포액의 총 체적은, 노즐실(38)의 용적과, 연속 토출 기간에 도포액 공급부(4)로부터 도포액실(36) 내에 보급되는 도포액의 총 체적과의 합 이하로 된다. 그 결과, 연속 토출 기간에 있어서의, 도포액실(36) 내의 도포액 가압 시를 제외한 기간, 즉, 도포액의 액적 토출 시를 제외한 기간에 있어서, 도포액의 액면 M이 노즐실(38) 내에 형성된 상태를 유지할 수 있다. 이와 같이, 도포 장치(1)에서는, 도포액실(36) 내의 공기의 침입을 억제할 수 있어, 도포액을 안정적으로 도포하는 것이 실현된다.On the other hand, in the coating apparatus 1 of FIG. 1, in the discharge parameter determination unit 101, based on the replenishment flow rate of the coating liquid and the volume of the nozzle chamber 38, droplets are continuously generated from the coating head 3. The discharge parameters in the continuous discharge period to be discharged are determined. Thereby, the increased discharge period in which the volume per unit time of the coating liquid discharged from the discharge port 381 is larger than the replenishment flow rate is included in the continuous discharge period, so that the coating liquid can be applied at high speed. In addition, the total volume of the coating liquid discharged from the discharge port 381 in the continuous discharge period is the volume of the nozzle chamber 38, and the coating that is supplied into the coating liquid chamber 36 from the coating liquid supply unit 4 during the continuous discharge period. It is less than the sum of the total volume of the liquid. As a result, in the period excluding the pressurization of the coating liquid in the coating liquid chamber 36 in the continuous discharge period, that is, the period excluding the discharge of droplets of the coating liquid, the liquid level M of the coating liquid is in the nozzle chamber 38 It can maintain the formed state. In this way, in the coating apparatus 1, intrusion of air in the coating liquid chamber 36 can be suppressed, and it is realized that the coating liquid is stably applied.

이미 설명한 바와 같이, 필요 액적 수가 50이고, 노즐실 액적 수가 30이고, 최고 토출 주파수가 1㎑이며, 평형 토출 주파수가 1㎐인 경우에는, 도포액의 도포에 요하는 시간은 20.03초로 되고, 제2 비교예의 도포 장치의 경우에 비하여 크게 단축 가능하다. 환언하면, 대상물(9)에 도포하는 도포액의 단위 시간당 체적인 도포 속도를 향상시킬 수 있다.As described above, when the required number of droplets is 50, the number of nozzle chamber droplets is 30, the maximum ejection frequency is 1 kHz, and the equilibrium ejection frequency is 1 Hz, the time required to apply the coating liquid is 20.03 seconds, and 2 Compared to the case of the application device of the comparative example, it can be significantly shortened. In other words, the volumetric coating speed per unit time of the coating liquid applied to the object 9 can be improved.

또한, 도포액 탱크(41) 내를 양압으로 함과 함께 공급관(42)에 전자 밸브를 마련하고, 당해 전자 밸브의 개폐에 의해 토출구(381)로부터 액적을 토출하는, 제3 비교예의 도포 장치를 상정하면, 제3 비교예의 도포 장치에서는, 도포액 탱크(41) 내의 압력이 너무 높은 경우에, 토출구(381)로부터 도포액이 누출되어, 토출구(381)의 주위가 더러워져버린다. 한편, 압전 소자(341)의 신축 동작에 의해 액적을 토출하는 도 1의 도포 장치(1)에서는, 도포액 탱크(41) 내의 압력을 부압으로 하여, 토출구(381)로부터 도포액이 누출되는 것을 억제할 수 있다.In addition, a coating device of Comparative Example 3 is provided in which a solenoid valve is provided in the supply pipe 42 while the inside of the coating liquid tank 41 is brought to a positive pressure, and droplets are discharged from the discharge port 381 by opening and closing the solenoid valve. Assuming, in the coating apparatus of the third comparative example, when the pressure in the coating liquid tank 41 is too high, the coating liquid leaks from the discharge port 381 and the periphery of the discharge port 381 becomes dirty. On the other hand, in the coating apparatus 1 of FIG. 1 that discharges droplets by the expansion and contraction of the piezoelectric element 341, the pressure in the coating liquid tank 41 is made negative, and leakage of the coating liquid from the discharge port 381 is prevented. Can be suppressed.

또한, 도 2의 도포 헤드(3)에서는, 노즐실(38)을 포함하는 노즐부(35)가, 다른 노즐부(35)로 교환 가능하다. 또한, 당해 다른 노즐부(35)에 있어서의 노즐실(38)의 용적이, 교환 전의 노즐부(35)에 있어서의 노즐실(38)의 용적과 상이하다. 따라서, 도포 헤드(3)에서는, 노즐부(35)의 교환에 의해, 점도가 다른 여러 종류의 도포액을 적절하게 토출하는 것이 가능해진다. 예를 들어, 100밀리파스칼초(mPa·s) 이상의 점도의 도포액을 적절하게 토출하는 것이 가능하다. 실제로는, 1000mPa·s 이상의 점도의 도포액도 적절하게 토출 가능하며, 8000mPa·s 이상의 점도의 도포액을 토출하는 것도 가능하다. 도포 헤드(3)에 있어서 토출 가능한 도포액의 점도의 상한값은, 노즐부(35)의 설계에 의존하지만, 예를 들어 30만mPa·s이다.In addition, in the application head 3 of FIG. 2, the nozzle portion 35 including the nozzle chamber 38 can be replaced with another nozzle portion 35. Further, the volume of the nozzle chamber 38 in the other nozzle portion 35 is different from the volume of the nozzle chamber 38 in the nozzle portion 35 before replacement. Therefore, in the coating head 3, it becomes possible to appropriately discharge various kinds of coating liquids having different viscosities by replacing the nozzle part 35. For example, it is possible to appropriately discharge a coating liquid having a viscosity of 100 milliPascal seconds (mPa·s) or more. In practice, a coating liquid having a viscosity of 1000 mPa·s or more can be appropriately discharged, and it is also possible to discharge a coating liquid having a viscosity of 8000 mPa·s or more. The upper limit of the viscosity of the coating liquid that can be discharged in the coating head 3 depends on the design of the nozzle portion 35, but is, for example, 300,000 mPa·s.

토출 파라미터 결정부(101)에서는, 대상물(9) 위의 각 도포 위치에 도포해야 할 도포액의 도포량을 나타내는 도포 명령이 접수된다. 그리고, 당해 도포 명령에 기초하여, 당해 도포 위치에 대한 연속 토출 기간에 있어서의 토출 파라미터가 결정된다. 이에 의해, 도포 장치(1)에서는, 바람직한 토출 파라미터를 자동적으로 결정할 수 있어, 고속 도포를 용이하게 행할 수 있다. 또한, 복수의 도포 위치에 있어서의 도포량이 동일한 경우에는, 하나의 도포 위치에 대하여 결정된 토출 파라미터가, 다른 도포 위치에 대하여 그대로 사용되어도 된다.The discharge parameter determination unit 101 receives an application command indicating the amount of application of the application liquid to be applied to each application position on the object 9. Then, the discharge parameter in the continuous discharge period for the application position is determined based on the application instruction. Thereby, in the coating apparatus 1, preferable discharge parameters can be automatically determined, and high-speed coating can be easily performed. In addition, in the case where the application amount at a plurality of application positions is the same, the discharge parameter determined for one application position may be used as it is for the other application positions.

제어부(10)에서는, 복수 종류의 노즐부(35)에 있어서의 노즐실(38)의 용적을 나타내는 노즐실 정보 A가 기억된다. 또한, 토출 파라미터 결정부(101)에서는, 도포 헤드(3)에 마련되는 노즐부(35)의 종류의 입력이 접수된다. 이에 의해, 당해 입력 및 노즐실 정보 A에 기초하여, 도포 헤드(3)에 있어서의 노즐실(38)의 용적을 용이하게 취득할 수 있다.In the control unit 10, nozzle chamber information A indicating the volume of the nozzle chamber 38 in the plurality of types of nozzle units 35 is stored. Further, the discharge parameter determination unit 101 accepts an input of the type of the nozzle unit 35 provided in the coating head 3. Thereby, based on the input and the nozzle chamber information A, the volume of the nozzle chamber 38 in the coating head 3 can be easily obtained.

또한, 노즐 식별부에 의해, 도포 헤드(3)에 마련되는 노즐부(35)의 종류가 식별되고, 당해 노즐 식별부에 있어서의 식별 결과가, 상기 입력으로서 토출 파라미터 결정부(101)에 있어서 접수된다. 이에 의해, 도포 장치(1)에서는, 노즐실(38)의 용적을 자동으로 취득할 수 있다. 또한, 노즐 식별부에서는, 노즐 식별 카메라(5) 이외의 센서를 사용하여 노즐부(35)의 종류가 식별되어도 된다. 또한, 도포 장치(1)의 설계에 따라서는, 제어부(10)의 입력부를 통해 조작자에 의해, 도포 헤드(3)에 마련되는 노즐부(35)의 종류의 입력이 행해지고, 당해 입력이, 토출 파라미터 결정부(101)에 있어서 접수되어도 된다.In addition, the nozzle identification unit identifies the type of the nozzle unit 35 provided in the application head 3, and the identification result in the nozzle identification unit is used as the input in the discharge parameter determination unit 101 It is accepted. Thereby, in the coating apparatus 1, the volume of the nozzle chamber 38 can be acquired automatically. Further, in the nozzle identification unit, the type of the nozzle unit 35 may be identified using sensors other than the nozzle identification camera 5. In addition, depending on the design of the application device 1, an operator inputs the type of the nozzle unit 35 provided in the application head 3 through the input unit of the control unit 10, and the input is discharged. It may be accepted in the parameter determination unit 101.

제어부(10)에서는, 복수 종류의 도포액에 있어서의 보급 유량을 나타내는 보급 유량 정보 B가 기억된다. 또한, 토출 파라미터 결정부(101)에서는, 도포액 공급부(4)로부터 도포 헤드(3)에 공급되는 도포액의 종류의 입력이 접수된다. 이에 의해, 당해 입력 및 보급 유량 정보 B에 기초하여, 도포액의 보급 유량을 용이하게 취득할 수 있다. 물론, 도포액의 보급 유량이, 제어부(10)의 입력부를 통해 조작자에 의해 입력되어도 된다.The control unit 10 stores replenishment flow rate information B indicating the replenishment flow rate in a plurality of types of coating liquids. Further, in the discharge parameter determination unit 101, input of the type of the coating liquid supplied from the coating liquid supply unit 4 to the coating head 3 is received. Thereby, the replenishment flow rate of the coating liquid can be easily obtained based on the input and replenishment flow rate information B. Of course, the replenishment flow rate of the coating liquid may be input by the operator through the input unit of the control unit 10.

상기 도포 장치(1)에서는 다양한 변형이 가능하다.Various modifications are possible in the coating device 1.

연속 토출 기간에 있어서의 토출 파라미터의 설정 방법은, 연속 토출 기간에 있어서 토출구(381)로부터 토출되는 도포액의 총 체적이, 노즐실(38)의 용적과, 연속 토출 기간에 도포액실(36) 내에 보급되는 도포액의 총 체적과의 합 이하로 되는 범위 내에서, 적절히 변경되어도 된다. 예를 들어, 연속 토출 기간의 전체가 증량 토출 기간으로 되어, 최고 토출 주파수보다도 낮고, 또한, 평형 토출 주파수보다도 높은 토출 주파수가 설정되어도 된다. 이 경우, 노즐실(38)의 용적에 상당하는 도포액의 체적을 연속 토출 기간에 있어서 균등하게 분배한 양만큼, 토출되는 도포액의 단위 시간당 체적이, 보급 유량보다도 크게 된다. 또한, 증량 토출 기간에 있어서의 토출 주파수가 변동해도 된다. 한편, 상기 처리예와 같이, 연속 토출 기간에 있어서의 초기가 증량 토출 기간이며, 나머지 기간이 정량 토출 기간인 경우에는, 고속 도포에 따른 제어를 간소화하는 것이 가능하다.The method of setting the discharge parameters in the continuous discharge period is the total volume of the coating liquid discharged from the discharge port 381 in the continuous discharge period, the volume of the nozzle chamber 38, and the coating liquid chamber 36 in the continuous discharge period. It may be appropriately changed within a range that is equal to or less than the sum of the total volume of the coating liquid supplied therein. For example, the entire continuous discharge period becomes an increase discharge period, and a discharge frequency lower than the maximum discharge frequency and higher than the balanced discharge frequency may be set. In this case, the volume per unit time of the coating liquid to be discharged becomes larger than the replenishing flow rate by an amount equally distributed in the volume of the coating liquid corresponding to the volume of the nozzle chamber 38 in the continuous discharge period. In addition, the discharge frequency in the increased discharge period may fluctuate. On the other hand, as in the above processing example, when the initial period in the continuous discharge period is the incremental discharge period and the remaining period is the fixed discharge period, it is possible to simplify the control according to the high-speed application.

또한, 정량 토출 기간에서는, 토출되는 도포액의 단위 시간당 체적이, 보급 유량 미만의 일정량이어도 된다. 이 경우에, 연속 토출 기간에 있어서의 초기가 증량 토출 기간이며, 나머지 기간이 정량 토출 기간일 때에는, 당해 정량 토출 기간에 있어서, 토출되는 도포액의 단위 시간당 체적과 보급 유량의 차에 상당하는 체적의 도포액이, 단위 시간당 노즐실(38) 내에 보급된다. 이상과 같이, 정량 토출 기간에서는, 토출구(381)로부터 토출되는 도포액의 단위 시간당 체적이, 보급 유량 이하의 일정량이면 된다.In addition, in the fixed amount discharge period, the volume per unit time of the coating liquid to be discharged may be a fixed amount less than the replenishment flow rate. In this case, when the initial period in the continuous discharging period is the incremental discharging period and the remaining period is the fixed discharging period, the volume corresponding to the difference between the volume per unit time of the coating liquid to be discharged and the replenishment flow rate in the discharging period is fixed. The coating liquid of is supplied into the nozzle chamber 38 per unit time. As described above, in the fixed-quantity discharge period, the volume per unit time of the coating liquid discharged from the discharge port 381 may be a fixed amount equal to or less than the replenishment flow rate.

예를 들어, 증량 토출 기간 및 정량 토출 기간에 있어서 토출 주파수를 일정하게 하고, 증량 토출 기간에 있어서, 정량 토출 기간보다도 구동 신호의 전압을 높임으로써, 액적의 체적이 특정 체적보다도 크게 되어도 된다. 이 경우에도, 증량 토출 기간에 있어서 토출구(381)로부터 토출되는 도포액의 단위 시간당 체적을, 보급 유량보다도 크게 하는 것이 가능하다. 또한, 대상물(9) 위에 있어서 선형상의 도포액 패턴을 형성하는 경우 등에, 연속 토출 기간에 있어서, 대상물(9)의 이동이 행해져도 된다.For example, the volume of the droplet may be made larger than the specific volume by making the discharge frequency constant in the increased discharge period and the fixed discharge period, and increasing the voltage of the drive signal than the fixed discharge period in the increased discharge period. Also in this case, the volume per unit time of the coating liquid discharged from the discharge port 381 in the increased discharge period can be made larger than the replenishment flow rate. Further, in the case of forming a linear coating liquid pattern on the object 9 or the like, the object 9 may be moved in a continuous discharge period.

도포 장치(1)에 있어서 준비되는 복수 종류의 노즐부(35)에서는, 노즐실(38)의 평균 직경 이외에, 노즐실(38)의 길이나 형상이 다른 것이 포함되어도 된다. 예를 들어, 도 6의 노즐부(35)에서는, 직경이 일정하고, 또한, 똑바로 연장되는 원주상 공간의 노즐실(38)이 형성된다. 물론, 노즐실(38)의 측면 경사각이 다른 노즐부(35)가 준비되어도 된다. 도포 장치(1)에서는, 노즐실(38)의 용적이 큰 노즐부(35)로 교환함으로써, 도포액의 도포에 요하는 시간을 더 단축하는 것도 가능하다. 또한, 노즐부(35)가 도포액실(36)의 일부를 형성하는 경우에, 노즐부(35)의 교환에 의해, 노즐실(38)의 용적에 추가하여 도포액실(36)의 용적이 변화되어도 된다. 또한, 노즐부(35)는, 도포액실(36)의 공간 일부를 형성하지 않는 것이어도 된다. 도 7의 예에서는, 노즐부(35)가 판형상이며, 노즐부(35)의 상면이, 도포액실(36)의 저면으로 된다.In the plurality of types of nozzle portions 35 prepared in the coating apparatus 1, in addition to the average diameter of the nozzle chamber 38, a different length and shape of the nozzle chamber 38 may be included. For example, in the nozzle part 35 of FIG. 6, a nozzle chamber 38 of a cylindrical space having a constant diameter and extending straight is formed. Of course, nozzle portions 35 having different side inclination angles of the nozzle chamber 38 may be prepared. In the coating apparatus 1, it is possible to further shorten the time required for application of the coating liquid by replacing the nozzle chamber 38 with the nozzle portion 35 having a large volume. In addition, when the nozzle part 35 forms a part of the coating liquid chamber 36, the volume of the coating liquid chamber 36 changes in addition to the volume of the nozzle chamber 38 by replacing the nozzle part 35 May be. In addition, the nozzle part 35 may not form a part of the space of the coating liquid chamber 36. In the example of FIG. 7, the nozzle portion 35 has a plate shape, and the upper surface of the nozzle portion 35 becomes the bottom surface of the coating liquid chamber 36.

도포 헤드(3)에서는, 동일한 종류의 도포액을 사용하면서, 액적의 체적(특정 체적)을 변경하는 경우에, 노즐부(35)를 교환하는 것도 가능하다. 또한, 상기 도포 장치(1)에서는, 도포 헤드(3)의 일부인 노즐부(35)의 교환이 가능하지만, 도포 장치(1)의 설계에 따라서는, 도포 헤드(3)의 전체인 노즐부가 교환 가능해도 된다. 즉, 도포 장치(1)에서는, 도포 헤드(3)에 있어서, 적어도 노즐실(38)을 포함하는 노즐부가, 다른 노즐부로 교환 가능하면 된다.In the coating head 3, it is also possible to replace the nozzle portion 35 when changing the volume (specific volume) of the droplet while using the same type of coating liquid. In the coating device 1, the nozzle portion 35, which is a part of the coating head 3, can be replaced, but depending on the design of the coating device 1, the nozzle portion, which is the entire coating head 3, can be replaced. It may be possible. That is, in the coating apparatus 1, in the coating head 3, the nozzle portion including at least the nozzle chamber 38 may be replaced with another nozzle portion.

토출구(381)로부터 액적을 토출시키는 토출 기구는, 압전 소자(341)를 포함하는 가압부(34) 이외여도 된다. 예를 들어, 토출 기구가, 도포액실(36) 내의 도포액을 가열함으로써, 토출구(381)로부터 액적을 토출시키는 가열부여도 된다. 이 경우에도, 토출 파라미터 결정부(101)에 있어서 결정되는 토출 파라미터에 따라서 토출 동작이 행해진다. 이에 의해, 연속 토출 기간에 있어서의, 도포액실(36) 내의 도포액 가열 시를 제외한 기간, 즉, 도포액의 액적 토출 시를 제외한 기간에 있어서, 도포액의 액면 M이 노즐실(38) 내에 형성된다. 이상과 같이, 본 발명을 적용 가능한 도포 장치의 예로서, 도포액을 가압 또는 가열함으로써 액적을 토출시키는 토출 기구를 갖는 도포 장치를 들 수 있다.The discharge mechanism for discharging the droplets from the discharge port 381 may be other than the pressing portion 34 including the piezoelectric element 341. For example, the discharge mechanism may be a heating unit that discharges droplets from the discharge port 381 by heating the coating liquid in the coating liquid chamber 36. Also in this case, the discharge operation is performed according to the discharge parameter determined in the discharge parameter determination unit 101. Thereby, in the period excluding the heating of the coating liquid in the coating liquid chamber 36 in the continuous discharge period, that is, the period excluding the discharge of droplets of the coating liquid, the liquid level M of the coating liquid is in the nozzle chamber 38 Is formed. As described above, as an example of the coating apparatus to which the present invention can be applied, a coating apparatus having a discharging mechanism for discharging droplets by pressing or heating a coating liquid may be mentioned.

도포 장치(1)에 있어서, 스테이지(21)가 고정되고, 도포 헤드(3)가 이동 기구에 의해 이동되어도 된다. 즉, 이동 기구는, 도포액이 도포되는 대상물(9)을 도포 헤드(3)에 대하여 상대적으로 이동하면 된다.In the coating apparatus 1, the stage 21 is fixed, and the coating head 3 may be moved by a moving mechanism. That is, the moving mechanism should just move the object 9 to which the coating liquid is applied relative to the coating head 3.

상기 실시 형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합되어도 된다.The configurations in the above-described embodiment and each modification may be appropriately combined as long as they do not contradict each other.

본 발명에 따른 도포 장치는, 다양한 용도로 이용할 수 있다.The coating device according to the present invention can be used for various purposes.

1: 도포 장치
3: 도포 헤드
4: 도포액 공급부
5: 노즐 식별 카메라
9: 대상물
10: 제어부
34: 가압부
35: 노즐부
36: 도포액실
38: 노즐실
101: 토출 파라미터 결정부
381: 토출구
A: 노즐실 정보
B: 보급 유량 정보
M: (도포액의) 액면1: applicator
3: dispensing head
4: Coating liquid supply part
5: Nozzle identification camera
9: object
10: control unit
34: pressurization unit
35: nozzle part
36: coating liquid chamber
38: nozzle chamber
101: discharge parameter determination unit
381: discharge port
A: Nozzle chamber information
B: Fill flow information
M: face value (of coating solution)

Claims (9)

토출구로부터 도포액의 액적을 토출하는 도포 헤드와,
상기 도포 헤드에 상기 도포액을 공급하는 도포액 공급부와,
상기 도포 헤드로부터의 상기 액적의 토출을 제어하는 제어부를
구비하고,
상기 도포 헤드가, 상기 도포액이 충전되는 도포액실과,
상기 도포액실로부터 연속하는 유로이며, 선단 개구가 상기 토출구인 노즐실과,
상기 토출구로부터 상기 액적을 토출시키는 토출 기구를
구비하며,
상기 제어부가, 상기 도포 헤드에 있어서의 토출 동작에 병행하여 상기 도포액 공급부로부터 상기 도포액실 내에 보급 가능한 상기 도포액의 단위 시간당 체적을 보급 유량으로서, 상기 보급 유량 및 상기 노즐실의 용적에 기초하여, 상기 도포 헤드로부터 상기 액적이 연속적으로 토출되는 연속 토출 기간에 있어서의 토출 파라미터를 결정하는 토출 파라미터 결정부를 구비하고,
상기 연속 토출 기간이, 상기 토출구로부터 토출되는 상기 도포액의 단위 시간당 체적이 상기 보급 유량보다도 큰 증량 토출 기간을 포함하며, 또한, 상기 연속 토출 기간에 있어서 상기 토출구로부터 토출되는 상기 도포액의 총 체적이, 상기 노즐실의 용적과, 상기 연속 토출 기간에 상기 도포액 공급부로부터 상기 도포액실 내에 보급되는 상기 도포액의 총 체적과의 합 이하인, 도포 장치.An application head that discharges droplets of the coating liquid from the discharge port,
A coating liquid supply unit for supplying the coating liquid to the coating head,
A control unit for controlling the discharge of the droplets from the application head
Equipped,
The coating head includes a coating liquid chamber filled with the coating liquid,
A nozzle chamber which is a flow path continuous from the coating liquid chamber, and a tip opening is the discharge port,
A discharge mechanism for discharging the droplets from the discharge port
Equipped,
The control unit uses the volume per unit time of the coating liquid that can be supplied into the coating liquid chamber from the coating liquid supply unit in parallel with the discharge operation in the coating head as a supply flow rate, based on the supply flow rate and the volume of the nozzle chamber. And a discharge parameter determination unit for determining a discharge parameter in a continuous discharge period in which the droplets are continuously discharged from the coating head,
The continuous discharge period includes an increase discharge period in which the volume per unit time of the coating liquid discharged from the discharge port is greater than the supply flow rate, and the total volume of the coating liquid discharged from the discharge port in the continuous discharge period The coating apparatus, which is equal to or less than the sum of the volume of the nozzle chamber and the total volume of the coating liquid supplied into the coating liquid chamber from the coating liquid supply unit during the continuous discharge period. 제1항에 있어서,
상기 연속 토출 기간에 있어서의 상기 액적의 토출 시를 제외한 기간에 있어서, 상기 도포액의 액면이 상기 노즐실 내에 형성되는, 도포 장치.The method of claim 1,
A coating apparatus, wherein a liquid level of the coating liquid is formed in the nozzle chamber in a period excluding a time of discharging the droplet in the continuous discharge period. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 연속 토출 기간에 있어서, 상기 토출구로부터 토출되는 상기 도포액의 단위 시간당 체적이, 상기 보급 유량 이하의 일정량인 정량 토출 기간이 설정되어 있고, 상기 연속 토출 기간에 있어서의 초기가 상기 증량 토출 기간이며, 나머지 기간이 상기 정량 토출 기간인, 도포 장치.The method according to claim 1 or 2,
In the continuous discharge period, a fixed amount discharge period in which the volume per unit time of the coating liquid discharged from the discharge port is a fixed amount equal to or less than the supply flow rate is set, and the initial period in the continuous discharge period is the increase discharge period. And the remaining period is the fixed-quantity discharge period. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 토출 파라미터 결정부가, 대상물 위의 각 위치에 도포해야 할 상기 도포액의 도포량을 나타내는 도포 명령을 접수함과 함께, 상기 도포 명령에 기초하여, 상기 각 위치에 대한 상기 연속 토출 기간에 있어서의 상기 토출 파라미터를 결정하는, 도포 장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
The discharge parameter determination unit receives an application command indicating the amount of application of the application liquid to be applied to each position on the object, and based on the application command, the discharge parameter determination unit receives the An application device that determines a discharge parameter. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도포 헤드에 있어서, 적어도 상기 노즐실을 포함하는 노즐부가, 다른 노즐부로 교환 가능하며, 상기 다른 노즐부에 있어서의 상기 노즐실의 용적이, 상기 노즐부에 있어서의 노즐실의 용적과 상이한, 도포 장치.The method according to any one of claims 1 to 4,
In the coating head, a nozzle portion including at least the nozzle chamber can be replaced with another nozzle portion, and the volume of the nozzle chamber in the other nozzle portion is different from the volume of the nozzle chamber in the nozzle portion, Applicator. 제5항에 있어서,
상기 제어부에 있어서, 복수 종류의 노즐부에 있어서의 노즐실의 용적을 나타내는 노즐실 정보가 기억되고, 상기 토출 파라미터 결정부가, 상기 도포 헤드에 마련되는 노즐부의 종류의 입력을 접수함과 함께, 상기 입력 및 상기 노즐실 정보에 기초하여, 상기 도포 헤드에 있어서의 상기 노즐실의 용적을 취득하는, 도포 장치.The method of claim 5,
In the control unit, nozzle chamber information indicating the volume of the nozzle chamber in a plurality of types of nozzle units is stored, and the discharge parameter determining unit receives an input of the type of the nozzle unit provided in the coating head, and the An application device that acquires the volume of the nozzle chamber in the application head based on an input and the nozzle chamber information. 제6항에 있어서,
상기 도포 헤드에 마련되는 상기 노즐부의 종류를 식별하는 노즐 식별부를 더 구비하고, 상기 노즐 식별부에 있어서의 식별 결과가, 상기 입력으로서 상기 토출 파라미터 결정부에 있어서 접수되는, 도포 장치.The method of claim 6,
The coating apparatus further includes a nozzle identification unit for identifying the type of the nozzle unit provided in the coating head, and an identification result in the nozzle identification unit is received as the input in the discharge parameter determination unit. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제어부에 있어서, 복수 종류의 도포액에 있어서의 보급 유량을 나타내는 보급 유량 정보가 기억되고, 상기 토출 파라미터 결정부가, 상기 도포액 공급부로부터 상기 도포 헤드에 공급되는 도포액의 종류의 입력을 접수함과 함께, 상기 입력 및 상기 보급 유량 정보에 기초하여, 상기 도포액의 상기 보급 유량을 취득하는, 도포 장치.The method according to any one of claims 1 to 7,
In the control unit, replenishment flow rate information indicating replenishment flow rates in plural types of coating liquids is stored, and the discharge parameter determination unit receives input of the type of coating liquid supplied to the coating head from the coating liquid supply unit. And, based on the input and the replenishment flow rate information, the replenishment flow rate of the coating liquid is acquired. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 노즐실의 상기 유로의 직경이, 상기 도포액실 측으로부터 상기 토출구를 향해서 점차 감소하는, 도포 장치.The method according to any one of claims 1 to 8,
The coating apparatus, wherein the diameter of the flow path of the nozzle chamber gradually decreases from the coating liquid chamber side toward the discharge port.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000308843A (en) 1999-04-26 2000-11-07 Sanyo Electric Co Ltd Needle used in dispenser
JP2003311943A (en) * 2002-04-23 2003-11-06 Brother Ind Ltd Inkjet unit, method for making organic el display panel, method for determining parameter, and program for determining parameter
JP2011245795A (en) * 2010-05-28 2011-12-08 Panasonic Corp Inkjet head and inkjet device having the same
JP2014019091A (en) * 2012-07-20 2014-02-03 Ricoh Co Ltd Image forming apparatus
KR20180071688A (en) * 2016-12-20 2018-06-28 주식회사 탑 엔지니어링 Inkjet type liquid dispensing module and deaeration method thereof

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006061806A (en) * 2004-08-26 2006-03-09 Seiko Epson Corp Method of drying droplet-discharging head, droplet-discharging apparatus, method of manufacturing device and the device
JP4725114B2 (en) * 2005-01-25 2011-07-13 大日本印刷株式会社 Pattern forming apparatus and method
JP2010131979A (en) * 2008-10-27 2010-06-17 Seiko Epson Corp Liquid injection device, and method of controlling the same
JP5477538B2 (en) * 2009-03-16 2014-04-23 凸版印刷株式会社 Inkjet pattern forming apparatus, color filter manufacturing method, and organic functional element manufacturing method
JP6050091B2 (en) * 2012-11-06 2016-12-21 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ Substrate processing equipment
JP2016198738A (en) * 2015-04-13 2016-12-01 セイコーエプソン株式会社 Droplet discharge method, droplet discharge device and program
JP2017001374A (en) * 2015-06-16 2017-01-05 東芝テック株式会社 Droplet discharge device and liquid circulation device
JP2017109341A (en) * 2015-12-15 2017-06-22 株式会社東京機械製作所 Ink jet head droplet observation method and device
EP3330329B1 (en) * 2016-12-02 2022-06-08 Ricoh Company, Ltd. Inkjet recording apparatus, printer, and method for manufacturing cured product
JP7008338B2 (en) * 2017-01-17 2022-02-10 兵神装備株式会社 Coating device and bubble removal method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000308843A (en) 1999-04-26 2000-11-07 Sanyo Electric Co Ltd Needle used in dispenser
JP2003311943A (en) * 2002-04-23 2003-11-06 Brother Ind Ltd Inkjet unit, method for making organic el display panel, method for determining parameter, and program for determining parameter
JP2011245795A (en) * 2010-05-28 2011-12-08 Panasonic Corp Inkjet head and inkjet device having the same
JP2014019091A (en) * 2012-07-20 2014-02-03 Ricoh Co Ltd Image forming apparatus
KR20180071688A (en) * 2016-12-20 2018-06-28 주식회사 탑 엔지니어링 Inkjet type liquid dispensing module and deaeration method thereof

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