KR20210038132A - Transmission Variable Device - Google Patents

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KR20210038132A
KR20210038132A KR1020190120882A KR20190120882A KR20210038132A KR 20210038132 A KR20210038132 A KR 20210038132A KR 1020190120882 A KR1020190120882 A KR 1020190120882A KR 20190120882 A KR20190120882 A KR 20190120882A KR 20210038132 A KR20210038132 A KR 20210038132A
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Abstract

The present application relates to an optical modulation device. In the present application, it is possible to provide the optical modulation device having the excellent transmittance variable characteristics and not causing problems such as light leakage at an inclination angle so that the optical modulation device can be applied to various purposes. The optical modulation device comprises: a first polymer film substrate; and a second polymer film substrate.

Description

광변조 디바이스{Transmission Variable Device} Optical Modulation Device {Transmission Variable Device}

본 출원은 광변조 디바이스에 관한 것이다. The present application relates to an optical modulation device.

광변조 디바이스는 적어도 2개 이상의 다른 상태의 사이를 스위칭할 수 있는 디바이스를 의미한다. 이러한 디바이스는 예를 들면, 안경 또는 선글라스 등의 아이웨어(eyewear), 모바일 기기, 가상 현실(VR: Virtual Reality)용 기기, 증강현실(AR: Augmented Reality)용 기기와 같은 웨어러블(wearable) 디바이스 또는 차량의 선루프 등에 사용되는 등 그 용도가 점차 확대되고 있다. An optical modulation device means a device capable of switching between at least two or more different states. Such devices include, for example, wearable devices such as eyewear such as glasses or sunglasses, mobile devices, devices for virtual reality (VR), devices for augmented reality (AR), or Its use is gradually expanding, such as being used for the sunroof of a vehicle.

광변조 디바이스는 도 1과 같이 대향하는 두 편광층(10, 20) 및 상기 편광층 사이에 존재하는 광변조층(30)을 포함하는 구조를 가진다. 이와 같은 광변조 디바이스에등방상 필름 기재 또는 유리기판이 아닌 비등방상의 필름 기재가 적용되는 경우, 차단 모드에서 측면으로 빛이 누설되는 등의 문제점이 있다. As shown in FIG. 1, the optical modulation device has a structure including two opposing polarizing layers 10 and 20 and an optical modulation layer 30 present between the polarizing layers. When an anisotropic film substrate other than an isotropic film substrate or a glass substrate is applied to such an optical modulation device, there is a problem in that light leaks to the side in a blocking mode.

이를 해결하기 위해 편광판에 보상 필름을 적용하는 방안이 고려되었으나, 비등방상 필름 기재를 포함하는 광변조 디바이스의 경우, 보상 필름을 통과한 빛의 보상 효과가 비등방상 필름 기재의 광 성질에 의해 왜곡되는 등의 문제가 있다. 이에 대해 보상 필름을 적절한 위치, 예를 들어, 비등방상 필름 기재와 ITO 막 사이 또는 ITO 막 상에 적용하는 방안을 고려할 수 있으나, 이 경우 셀 갭(Cell gap)상승, 단가 상승 등의 또 다른 문제가 발생한다. To solve this problem, a method of applying a compensation film to a polarizing plate was considered, but in the case of a light modulation device including an anisotropic film substrate, the compensation effect of light passing through the compensation film is distorted by the optical properties of the anisotropic film substrate. There are such problems. For this, it is possible to consider applying the compensation film at an appropriate location, for example, between the anisotropic film substrate and the ITO film or on the ITO film, but in this case, another problem such as an increase in cell gap and an increase in unit cost. Occurs.

본 출원은 광변조 디바이스에 대한 것이다. 본 출원은 보상 필름의 적용 없이 우수한 시야각 보상 효과를 가져 다양한 용도로의 적용이 가능한 광변조 디바이스를 제공하는 것을 목적으로 한다. This application relates to an optical modulation device. The object of the present application is to provide an optical modulation device that can be applied to various purposes by having an excellent viewing angle compensation effect without applying a compensation film.

본 명세서에서 정의하는 각도는 제조 오차(error) 또는 편차(variation) 등의 오차를 감안하여 이해되어야 한다. 예를 들어, 본 명세서에서 용어 수직, 평행, 직교 또는 수평 등은, 목적 효과를 손상시키지 않는 범위에서의 실질적인 수직, 평행, 직교 또는 수평을 의미하고, 예를 들면, 상기 각각의 경우는 약 ±10도 이내의 오차, 약 ±5도 이내의 오차, 약 ±3도 이내의 오차, 약 ±2도 이내의 오차, 약 ±1도 이내의 오차 또는 약 ±0.5도 이내의 오차를 포함할 수 있다. The angle defined in the present specification should be understood in consideration of errors such as manufacturing errors or variations. For example, in the present specification, the term vertical, parallel, orthogonal or horizontal means substantially vertical, parallel, orthogonal or horizontal within a range that does not impair the target effect, and, for example, in each of the above cases, about ± It may include an error within 10 degrees, an error within about ±5 degrees, an error within about ±3 degrees, an error within about ±2 degrees, an error within about ±1 degrees, or an error within about ±0.5 degrees. .

본 명세서에서 언급하는 물성 중에서 측정 온도가 해당 물성에 영향을 미치는 경우에 특별히 달리 규정하지 않는 한, 상기 물성은 상온에서 측정한 물성이다. Among the physical properties mentioned in the present specification, the above properties are properties measured at room temperature unless otherwise specified in the case where the measurement temperature affects the property.

본 명세서에서 용어 상온은 특별히 가온되거나 감온되지 않은 상태에서의 온도로서, 약 10℃ 내지 30℃의 범위 내의 어느 한 온도, 예를 들면, 약 15℃ 이상, 18℃ 이상, 20℃ 이상 또는 약 23℃ 이상이면서, 약 27℃ 이하의 온도를 의미할 수 있다. 또한, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 본 명세서에서 언급하는 온도의 단위는 ℃이다. In the present specification, the term room temperature is a temperature in a state that is not particularly warmed or reduced in temperature, and any one temperature within the range of about 10° C. to 30° C., for example, about 15° C. or more, 18° C. or more, 20° C. or more, or about 23 It may mean a temperature of about 27°C or less while being equal to or higher than °C. In addition, unless otherwise specified, the unit of temperature referred to in this specification is °C.

본 명세서에서 언급하는 용어 경사각은 특별히 달리 규정하지 않는 한 다음과 같이 정의된다. 도 5에서 x축과 y축에 의해 형성되는 평면을 기준면(예를 들면, 기준면은 광변조 디바이스의 편광층, 광변조층 또는 고분자 필름 기재의 표면일 수 있다)이라고 할 때에 그 기준면의 법선인 z축에 대해서 도 5과 같이 형성되는 각도를 경사각으로 정의한다(도 5에서 P지점에서의 경사각은 Θ). 도 5에서 x축과 y축에 의해 형성되는 평면을 기준면(예를 들면, 기준면은 광변조 디바이스의 편광층, 광변조층 또는 고분자 필름 기재의 표면일 수 있다)이라고 할 때에 그 기준면의 x축을 0도로 한 때에 해당 x축에 대해서 도 5와 같이 형성되는 각도를 동경각으로 정의한다(도 5에서 P 지점에서의 동경각은 Φ). 상기에서 기준면의 x축은 임의의 x축일 수 있다.The term inclination angle referred to in the present specification is defined as follows unless otherwise specified. In FIG. 5, when the plane formed by the x-axis and y-axis is referred to as a reference plane (for example, the reference plane may be a surface of a polarizing layer, a light modulation layer, or a polymer film substrate of an optical modulation device), the normal line of the reference plane The angle formed as in FIG. 5 with respect to the z-axis is defined as the inclination angle (the inclination angle at point P in FIG. 5 is Θ). When the plane formed by the x-axis and y-axis in FIG. 5 is referred to as a reference plane (for example, the reference plane may be a surface of a polarizing layer, a light modulation layer, or a polymer film substrate of an optical modulation device), the x-axis of the reference plane When set to 0 degrees, the angle formed as shown in Fig. 5 with respect to the x-axis is defined as the moving angle (in Fig. 5, the moving angle at point P is Φ). In the above, the x-axis of the reference plane may be any x-axis.

본 명세서에서 언급하는 위상차, 굴절률 및 굴절률 이방성 등은, 특별히 달리 규정하지 않는 한 약 550nm 파장의 광에 대한 물리량이다. The phase difference, refractive index, refractive index anisotropy, and the like referred to in the present specification are physical quantities for light having a wavelength of about 550 nm unless otherwise specified.

특별히 달리 규정하지 않는 한, 본 명세서에서 언급하는 어느 2개의 방향이 이루는 각도는 상기 두 개의 방향이 이루는 예각 내지 둔각 중 예각이거나, 또는 시계 방향 및 반시계 방향으로 측정된 각도 중에서 작은 각도일 수 있다. 따라서, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 본 명세서에서 언급하는 각도는 양수이다. 다만, 경우에 따라서 시계 방향 또는 반시계 방향으로 측정된 각도 간의 측정 방향을 표시하기 위해서 상기 시계 방향으로 측정된 각도를 양수로 표시하고, 반시계 방향으로 측정된 각도를 음수로 표기할 수도 있다. Unless otherwise specified, the angle formed by any two directions referred to in the present specification may be an acute angle among an acute or obtuse angle formed by the two directions, or a smaller angle among angles measured in a clockwise direction and a counterclockwise direction. . Accordingly, unless otherwise specified, angles referred to in this specification are positive numbers. However, in some cases, in order to indicate the measurement direction between the angles measured in the clockwise or counterclockwise direction, the angle measured in the clockwise direction may be expressed as a positive number, and the angle measured in the counterclockwise direction may be expressed as a negative number.

본 출원은 도 2와 같이 제 1 면에는 접착제층 또는 점착제층(103)이 형성되어 있고, 제 2 면에는 제 1 편광층(101)이 부착되어 있는 제 1 고분자 필름 기판(102)과, 제 1 면에는 액정 배향막(203)이 형성되어 있고, 제 2 면에는 제 2 편광층(201)이 부착되어 있는 제 2 고분자 필름 기판(202)을 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판은 서로의 제 1 면이 대향하도록 배치되어 있으며, 상기 대향 배치된 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판 사이에는 액정 화합물과 이색성 염료를 포함하는 광변조층(300)이 존재하는 광변조 디바이스에 대한 것일 수 있다. The present application relates to a first polymer film substrate 102 on which an adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer 103 is formed on a first surface and a first polarizing layer 101 is attached to the second surface, as shown in FIG. A liquid crystal alignment layer 203 is formed on the first surface, and a second polymer film substrate 202 to which a second polarizing layer 201 is attached to the second surface, and the first and second polymer film substrates are It is for a light modulation device in which the first side of each other is disposed so as to face each other, and the light modulation layer 300 including a liquid crystal compound and a dichroic dye is present between the first and second polymer film substrates disposed opposite to each other. I can.

본 출원에서 용어 광변조 디바이스는, 적어도 2개 이상의 다른 광의 상태의 사이를 스위칭할 수 있는 디바이스를 의미할 수 있다. 상기에서 다른 광의 상태는, 적어도 투과율, 헤이즈 및 색상 중 어느 하나의 특성이 서로 다른 상태를 의미할 수 있다. In the present application, the term optical modulation device may mean a device capable of switching between at least two or more different light states. In the above, different states of light may mean states in which at least one of transmittance, haze, and color is different from each other.

본 출원의 광변조 디바이스는, 상기와 같은 스위칭을 위해서 적어도 광변조층을 포함할 수 있다. 상기 광변조층은, 일 예시에서 편광 성분을 생성하는 층일 수 있다. The optical modulation device of the present application may include at least an optical modulation layer for switching as described above. The light modulation layer may be a layer that generates a polarization component in an example.

본 출원의 광변조층은 액정 화합물을 적어도 포함하는 층으로서, 상기 액정 화합물의 배향 상태를 외부 신호 인가 등을 통해 제어할 수 있는 액정층을 의미할 수 있다. 액정 화합물로는 외부 신호의 인가에 의하여 그 배향 방향이 변경될 수 있는 것이라면 모든 종류의 액정 화합물을 사용할 수 있다. 액정 화합물로는, 예를 들어, 네마틱(nematic) 액정 화합물, 스멕틱(smectic) 액정 화합물 또는 콜레스테릭(cholesteric) 액정 화합물 등을 사용할 수 있다. 또한, 외부 신호의 인가에 의하여 그 배향 방향이 변경될 수 있도록, 액정 화합물은 예를 들어 중합성기 또는 가교성기를 가지지 않는 화합물일 수 있다. The optical modulation layer of the present application is a layer including at least a liquid crystal compound, and may mean a liquid crystal layer capable of controlling an alignment state of the liquid crystal compound through application of an external signal or the like. As the liquid crystal compound, any kind of liquid crystal compound may be used as long as the orientation direction thereof can be changed by application of an external signal. As a liquid crystal compound, a nematic liquid crystal compound, a smectic liquid crystal compound, a cholesteric liquid crystal compound, etc. can be used, for example. In addition, the liquid crystal compound may be, for example, a compound that does not have a polymerizable group or a crosslinkable group so that the orientation direction thereof can be changed by the application of an external signal.

본 출원의 광변조층은, 상기 액정 화합물과 함께 이색성 염료를 추가로 포함할 수 있다. 본 명세서에서 용어 「염료」는, 가시광 영역, 예를 들면, 400nm 내지 700nm 파장 범위 내에서 적어도 일부 또는 전체 범위 내의 광을 집중적으로 흡수 및/또는 변형시킬 수 있는 물질을 의미할 수 있고, 용어 「이색성 염료」는 상기 가시광 영역의 적어도 일부 또는 전체 범위에서 광의 이방성 흡수가 가능한 물질을 의미할 수 있다. 이러한 염료로는, 예를 들면, 아조 염료 또는 안트라퀴논 염료 등이 공지되어 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The light modulation layer of the present application may further include a dichroic dye together with the liquid crystal compound. In the present specification, the term ``dye'' may mean a material capable of intensively absorbing and/or modifying light in at least a part or the entire range in a visible light region, for example, 400 nm to 700 nm wavelength range, and the term `` The dichroic dye” may mean a material capable of anisotropic absorption of light in at least a part or the entire range of the visible light region. As such a dye, for example, an azo dye or an anthraquinone dye is known, but is not limited thereto.

하나의 예시에서, 상기 광변조층은 액정 화합물 및 이색성 염료를 포함하는 액정층으로서, 소위 게스트호스트 액정층(Guest Host Liquid Crystal cell)일 수 있다. 용어 「GHLC층」은, 액정의 배열에 따라 이색성 염료가 함께 배열되어 이색성 염료의 정렬 방향과 상기 정렬 방향의 수직한 방향에 대하여 각각 비등방성 광 흡수 특성을 나타내는 기능성 층을 의미할 수 있다. 예를 들어, 이색성 염료는 빛의 흡수율이 편광 방향에 따라서 달라지는 물질로서, 장축 방향으로 편광된 빛의 흡수율이 크면 p형 염료로 호칭하고 단축 방향으로 편광된 빛의 흡수율이 크면 n형 염료라고 호칭할 수 있다. 하나의 예시에서, p형 염료가 사용되는 경우, 염료의 장축 방향으로 진동하는 편광은 흡수되고 염료의 단축 방향으로 진동하는 편광은 흡수가 적어 투과시킬 수 있다. 이하 특별한 언급이 없는 한 이색성 염료는 p형 염료인 것으로 가정한다. In one example, the light modulation layer is a liquid crystal layer including a liquid crystal compound and a dichroic dye, and may be a so-called guest host liquid crystal cell. The term ``GHLC layer'' may refer to a functional layer in which dichroic dyes are arranged together according to the arrangement of liquid crystals and exhibits anisotropic light absorption characteristics with respect to the alignment direction of the dichroic dye and the direction perpendicular to the alignment direction. . For example, a dichroic dye is a material whose absorption rate of light varies depending on the polarization direction.If the absorption rate of light polarized in the long axis direction is large, it is called a p-type dye, and if the absorption rate of light polarized in the minor axis direction is large, it is called an n-type dye. It can be called. In one example, when a p-type dye is used, polarized light vibrating in the long axis direction of the dye is absorbed, and polarized light vibrating in the short axis direction of the dye is less absorbed and thus can be transmitted. Unless otherwise specified, the dichroic dye is assumed to be a p-type dye.

본 발명자들은, 상기와 같이 광변조층에 액정 화합물과 함께 이색성 염료를 포함시키는 것에 의해서 광변조 디바이스에서 발생할 수 있는 측면 관찰 시의 광누설을 방지할 수 있다는 것을 확인하였다. 게스트 호스트 액정층에서 이색성 염료의 배향은 액정 화합물의 배향에 추종한다. 따라서, 예를 들어, 상기 광변조 디바이스가 상기 액정 화합물의 수직 배향 시에 낮은 투과율을 구현하도록 설계된 디바이스인 경우에, 상기 액정 화합물의 수직 배향 상태에서 상기 이색성 염료도 수직 배향 상태 혹은 그에 준한 상태가 된다. 이와 같이 수직 배향 혹은 그에 준한 상태로 배향된 이색성 염료는 측면 관찰 시에 누설될 광을 흡수할 수 있다. 특히 이러한 방식을 도입하여, 별도의 보상 구조를 도입하지 않고도 측면 광누설의 방지가 가능하고, 상기 고분자 필름 기판이 등방성 기판이 아닌 경우에도 복잡한 설계 없이 측면 광누설을 방지할 수 있다.The present inventors have confirmed that by including a dichroic dye together with a liquid crystal compound in the light modulation layer as described above, light leakage during side observation that may occur in the light modulation device can be prevented. The orientation of the dichroic dye in the guest host liquid crystal layer follows the orientation of the liquid crystal compound. Therefore, for example, in the case where the optical modulation device is a device designed to realize low transmittance when the liquid crystal compound is vertically aligned, the dichroic dye is also in a vertical alignment state or a state corresponding thereto in the vertical alignment state of the liquid crystal compound. Becomes. As such, the dichroic dye oriented in a vertical orientation or in a state equivalent thereto can absorb light to be leaked when viewed from the side. In particular, by introducing this method, it is possible to prevent side light leakage without introducing a separate compensation structure, and even when the polymer film substrate is not an isotropic substrate, side light leakage can be prevented without a complicated design.

이러한 이색성 염료에 의한 측면 광누설 방지 효과는, 후술하는 본 출원의 광학 디바이스의 내용에 따라 더욱 개선될 수 있다. 즉, 액정 화합물과 이색성 염료를 포함하는 광변조층에서 이색성 염료의 배향은 상기 액정 화합물의 배향에 추종하고, 이 때 액정 화합물의 배향은 액정 배향막의 종류에 따라 결정된다. 본 발명자들은, 후술하는 바와 같이 수직 배향막과 접착제(점착제)에 의해 형성되는 액정 화합물의 배향은, 그 배향에 추종하는 이색성 염료가 상기 측면으로 누설될 광을 효과적으로 차단할 수 있는 배향인 것을 확인하였다. 따라서, 상기 이색성 염료에 의한 측면 광누설 방지의 효과는 후술하는 본 출원의 내용에 따라 보다 극대화될 수 있다.The effect of preventing side light leakage by such a dichroic dye can be further improved according to the content of the optical device of the present application to be described later. That is, the alignment of the dichroic dye in the light modulation layer including the liquid crystal compound and the dichroic dye follows the alignment of the liquid crystal compound, and the alignment of the liquid crystal compound is determined according to the type of the liquid crystal alignment layer. The present inventors have confirmed that the alignment of the liquid crystal compound formed by the vertical alignment layer and the adhesive (adhesive agent) as described below is an alignment in which a dichroic dye following the alignment can effectively block light leaking to the side. . Therefore, the effect of preventing side light leakage by the dichroic dye may be more maximized according to the content of the present application to be described later.

상기 광변조층에 포함되는 이색성 염료는, 적어도 가시광 영역, 예를 들면, 대략 400 내지 700nm 범위 내의 파장에 대해서 흡수를 나타낼 수 있다. 이러한 흡수 특성이 확보된다면, 이색성 염료는 1종이 사용될 수도 있고, 2종 이상의 혼합이 사용될 수도 있다.The dichroic dye included in the light modulation layer may exhibit absorption in at least a visible light region, for example, a wavelength within a range of about 400 to 700 nm. If such absorption properties are ensured, one type of dichroic dye may be used, or a mixture of two or more types may be used.

상기 광변조층에 포함되는 이색성 염료의 비율은 예를 들어, 5 중량% 이하일 수 있다. 상기 이색성 염료의 비율은, 광변조층에 포함되는 모든 성분의 중량에 대한 이색성 염료의 비율이다. 예를 들어, 광변조층이 액정 화합물, 이색성 염료 및 키랄 도펀트를 포함한다면, 상기 3성분의 합계 중량 대비 상기 이색성 염료의 백분율이 상기 이색성 염료의 비율이 될 수 있다. 이색성 염료의 비율이 지나치게 높아지면, 이색성 염료가 액정 화합물의 수평 배향에 추종하는 경우에 정면에서 지나치게 많은 광을 흡수할 수 있고, 이는 본 출원에서 의도하는 효과가 아니다. 즉, 이색성 염료의 비율은 상기 염료가 액정 화합물의 수직 배향에 추종한 때에 측면 광누설을 효과적으로 방지하면서도 상기 염료가 액정 화합물의 수평 배향에 추종할 때에는 정면 광을 최소한으로 흡수할 수 있도록 제어되는 것이 적절하다. 다른 예시에서, 상기 이색성 염료의 비율은, 4 중량% 이하, 3 중량% 이하, 2 중량% 이하 또는 1 중량% 이하이거나 0.1 중량% 이상, 0.2 중량% 이상, 0.3 중량% 이상 또는 0.4 중량% 이상일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. The ratio of the dichroic dye included in the light modulation layer may be, for example, 5% by weight or less. The ratio of the dichroic dye is the ratio of the dichroic dye to the weight of all components included in the light modulation layer. For example, if the light modulation layer includes a liquid crystal compound, a dichroic dye, and a chiral dopant, the percentage of the dichroic dye relative to the total weight of the three components may be the ratio of the dichroic dye. If the ratio of the dichroic dye is too high, when the dichroic dye follows the horizontal orientation of the liquid crystal compound, too much light may be absorbed from the front, which is not an effect intended in the present application. That is, the ratio of the dichroic dye is controlled so as to effectively prevent side light leakage when the dye follows the vertical alignment of the liquid crystal compound, while absorbing the front light to a minimum when the dye follows the horizontal alignment of the liquid crystal compound. It is appropriate. In another example, the proportion of the dichroic dye is 4% by weight or less, 3% by weight or less, 2% by weight or less, or 1% by weight or less, or 0.1% by weight or more, 0.2% by weight or more, 0.3% by weight or more, or 0.4% by weight It may be above, but is not limited thereto.

본 출원은, 광변조층에 이색성 염료를 상기와 같은 범위로 포함함으로써, 광변조 디바이스의 투과 모드에서, 후술하는 범위의 투과율을 나타내면서도 측면에서의 빛샘 현상이 제어되어 시야각 보상 효과가 우수한 광변조 디바이스를 제공할 수 있다. In the present application, by including the dichroic dye in the above range in the optical modulation layer, light leakage from the side is controlled while exhibiting a transmittance in the range to be described later in the transmission mode of the optical modulation device, thereby providing excellent viewing angle compensation. It is possible to provide a modulation device.

본 출원은, 예를 들어, 상기 광변조층 내의 액정 화합물의 배열을 조절하여, 초기 배향이 수직 배향이고, 상기 수직 배향 상태가 외부 신호의 인가에 의해 수평 배향 상태로 변경될 수 있도록 설계된 광변조 디바이스에 대한 것일 수 있다. 상기에서 초기 배향이란, 광변조층에 외부 신호가 인가되지 않은 때의 배향 상태이다. The present application, for example, by adjusting the arrangement of the liquid crystal compound in the light modulation layer, the initial alignment is vertical alignment, the vertical alignment state is designed to be changed to a horizontal alignment state by the application of an external signal. It could be for a device. In the above, the initial orientation is an orientation state when no external signal is applied to the optical modulation layer.

본 명세서에서 용어 수직 배향은, 상기 광변조층의 방향자 또는 상기 광변조층 내의 액정 화합물의 방향자가 상기 광변조층의 평면에 대하여 대략 수직하게 배열된 상태이고, 예를 들면, 상기 광변조층의 기준면의 법선인 z축과 상기 방향자가 이루는 각도는 약 80도 내지 100도 또는 85도 내지 95도의 범위 내이거나 약 90도 정도일 수 있다. 또한, 용어 수평 배향은, 상기 광변조층의 방향자 또는 상기 광변조층 내의 액정 화합물의 방향자가 상기 광변조층의 기준면에 대략 평행하게 배열된 상태를 의미할 수 있고, 예를 들면, 상기 방향자와 상기 광변조층의 기준면 이루는 각도는 약 0도 내지 10도 또는 약 0도 내지 5도의 범위 내이거나 약 0도 정도일 수 있다. In the present specification, the term vertical alignment is a state in which a director of the optical modulation layer or a director of a liquid crystal compound in the optical modulation layer is arranged substantially perpendicular to the plane of the optical modulation layer, for example, the optical modulation layer An angle formed by the z-axis, which is a normal of the reference plane of, and the director may be in a range of about 80 degrees to 100 degrees, 85 degrees to 95 degrees, or about 90 degrees. In addition, the term horizontal alignment may mean a state in which a director of the light modulation layer or a director of a liquid crystal compound in the light modulation layer is arranged substantially parallel to the reference plane of the light modulation layer, for example, the direction The angle between the ruler and the reference plane of the light modulation layer may be in the range of about 0° to 10° or about 0° to 5°, or about 0°.

본 명세서에서 용어 광변조층의 방향자 또는 액정 화합물의 방향자는 상기 광변조층의 광축(Optical axis) 또는 지상축(Slow axis)을 의미할 수 있다. 예를 들어, 상기 광축 또는 지상축은, 액정 분자가 막대(rod) 모양인 경우 장축 방향을 의미할 수 있고, 액정 분자가 원판(discotic) 모양인 경우 원판 평면의 법선 방향의 축을 의미할 수 있으며, 상기 광변조층 내에 서로 방향자가 상이한 복수의 액정 화합물이 포함되어 있는 경우, 상기 액정 화합물의 방향자들의 벡터 합을 의미할 수 있다. In the present specification, the term director of the optical modulation layer or the director of the liquid crystal compound may mean an optical axis or a slow axis of the optical modulation layer. For example, the optical axis or the slow axis may mean a long axis direction when the liquid crystal molecules are in the shape of a rod, and when the liquid crystal molecules have a disc shape, it may mean an axis in the normal direction of the disk plane, When a plurality of liquid crystal compounds having different directors are included in the light modulation layer, it may mean a vector sum of directors of the liquid crystal compound.

하나의 예시에서 상기 광변조층은 트위스트 배향 모드를 구현할 수 있도록 설계될 수 있다. 본 명세서에서 용어 트위스트 배향 모드는 상기 액정 화합물들의 방향자가 가상의 나선축을 따라서 꼬이면서 층을 이루며 배향한 나선형의 구조를 의미할 수 있다. 상기 트위스트 배향 모드는, 전술한 수직 또는 수평 배향 모드에서 구현될 수 있다. 예를 들어, 수직 트위스트 배향 모드는, 개개의 액정 화합물이 수직 배향된 상태로 나선축을 따라 꼬이면서 층을 이루는 상태이고, 수평 트위스트 배향 모드는 개개의 액정 화합물들이 수평 배향된 상태로 나선축을 따라 꼬이면서 층을 이루는 상태를 의미할 수 있다. In one example, the optical modulation layer may be designed to implement a twist orientation mode. In the present specification, the term twist alignment mode may mean a spiral structure in which the directors of the liquid crystal compounds are twisted along an imaginary spiral axis to form a layer and are aligned. The twist orientation mode may be implemented in the above-described vertical or horizontal orientation mode. For example, in the vertical twist alignment mode, individual liquid crystal compounds are vertically aligned and twisted along a spiral axis to form a layer, and in the horizontal twist alignment mode, individual liquid crystal compounds are horizontally aligned and twisted along the spiral axis. It can mean a layered state.

상기 트위스트 배향 모드에서, 상기 광변조층의 두께(d)와 피치(p)의 비율(d/p)는 예를 들어, 1 이하일 수 있다. 상기 비율(d/p)이 1을 초과하면, 핑거 도메인(finger domain) 등의 문제가 발생할 수 있기 때문에 가급적 상기 범위로 조절될 수 있다. 상기 비율(d/p)은 다른 예시에서 약 0.95 이하, 약 0.9 이하, 약 0.85 이하, 약 0.8 이하, 약 0.75 이하, 약 0.7 이하, 약 0.65 이하, 약 0.6 이하, 약 0.55 이하, 약 0.5 이하 또는 약 0.45 이하이거나, 약 0.1 이상, 약 1.15 이상, 약 0.2 이상, 약 0.25 이상, 약 0.3 이상 또는 약 0.35 이상 정도일 수도 있다. 상기에서 광변조층의 두께(d)는 광변조 디바이스 내의 셀 갭(Cell Gap)과 같은 의미일 수 있다. In the twist orientation mode, a ratio (d/p) of the thickness (d) and the pitch (p) of the optical modulation layer may be, for example, 1 or less. If the ratio (d/p) exceeds 1, a problem such as a finger domain may occur, and thus the range may be adjusted as much as possible. The ratio (d/p) is in another example about 0.95 or less, about 0.9 or less, about 0.85 or less, about 0.8 or less, about 0.75 or less, about 0.7 or less, about 0.65 or less, about 0.6 or less, about 0.55 or less, about 0.5 or less Alternatively, it may be about 0.45 or less, about 0.1 or more, about 1.15 or more, about 0.2 or more, about 0.25 or more, about 0.3 or more, or about 0.35 or more. In the above, the thickness d of the optical modulation layer may have the same meaning as a cell gap in the optical modulation device.

트위스트 배향모드의 광변조층의 피치(p)는, Wedge cell을 이용한 계측 방법으로 측정할 수 있고, 구체적으로는 D.Podolskyy 등의 Simple method for accurate measurements of the cholesteric pitch using a stripe-wedge Grandjean-Cano cell(Liquid Crystals, Vol. 35, No. 7, July 8\2008, 789-791)에 기재된 방식으로 측정할 수 있다. The pitch (p) of the optical modulation layer in the twist orientation mode can be measured by a measurement method using a wedge cell, and specifically, a simple method for accurate measurements of the cholesteric pitch using a stripe-wedge Grandjean- such as D. Podolskyy. Cano cells (Liquid Crystals, Vol. 35, No. 7, July 8\2008, 789-791) can be measured by the method described.

상기와 같은 두께(d)와 피치(p)의 비율에 의해 형성되는 액정 화합물의 배향은, 그에 추종하는 이색성 염료의 배향이 수직 배향 시에 측면에서 누설될 광을 효과적으로 흡수하고, 수평 배향 시에 정면 광의 흡수가 최소화되도록 할 수 있다. The alignment of the liquid crystal compound formed by the ratio of the thickness (d) and the pitch (p) as described above, the alignment of the dichroic dye following it effectively absorbs the light that will leak from the side during vertical alignment, and when horizontal alignment The absorption of frontal light can be minimized.

상기 광변조층이 트위스트 모드를 구현할 수 있도록 상기 광변조층은 소위 키랄 도펀트를 추가로 포함할 수 있다. 즉, 상기 광변조층은, 액정 화합물 및 이색성 염료와 함께 키랄 도펀트를 추가로 포함할 수 있다. The optical modulation layer may further include a so-called chiral dopant so that the optical modulation layer can implement a twist mode. That is, the light modulation layer may further include a chiral dopant together with a liquid crystal compound and a dichroic dye.

광변조층에 포함될 수 있는 키랄 도펀트(Chiral dopant)로는, 액정성, 예를 들면, 네마틱 규칙성을 손상시키지 않고 목적하는 회전(twisting)을 유도할 수 있는 것이라면, 특별히 제한되지 않고 사용될 수 있다. 액정 분자에 회전을 유도하기 위한 키랄 도펀트는 분자 구조 중에 키랄리티(chirality)를 적어도 포함할 필요가 있다. 키랄 도펀트는, 예를 들면, 1개 또는 2개 이상의 비대칭 탄소(asymmetric carbon)를 가지는 화합물, 키랄 아민 또는 키랄 술폭시드 등의 헤테로원자 상에 비대칭점(asymmetric point)이 있는 화합물 또는 크물렌(cumulene) 또는 비나프톨(binaphthol) 등의 축부제를 가지는 광학 활성인 부위(axially asymmetric, optically active site)를 가지는 화합물이 예시될 수 있다. 키랄 도펀트는 예를 들면, 분자량이 1,500 이하인 저분자 화합물일 수 있다. 키랄 도펀트로는, 시판되는 키랄 네마틱 액정, 예를 들면, Merck사에서 시판되는 키랄 도판트 액정 S811 또는 BASF사의 LC756 등이 적용될 수 있다. The chiral dopant that may be included in the light modulation layer may be used without particular limitation as long as it can induce a desired twisting without impairing liquid crystal properties, for example, nematic regularity. . The chiral dopant for inducing rotation in the liquid crystal molecule needs to include at least chirality in the molecular structure. The chiral dopant is, for example, a compound having one or two or more asymmetric carbons, a compound having an asymmetric point on a heteroatom such as chiral amine or chiral sulfoxide, or cumulene. ) Or a compound having an axially asymmetric, optically active site having an axial subsidiary such as binaphthol. The chiral dopant may be, for example, a low molecular weight compound having a molecular weight of 1,500 or less. As the chiral dopant, a commercially available chiral nematic liquid crystal, for example, a chiral dopant liquid crystal S811 sold by Merck or LC756 of BASF may be applied.

키랄 도펀트의 적용 비율은, 목적하는 상기 비율(d/p)을 달성할 수 있다면 특별히 제한되지 않는다. 일반적으로 키랄 도펀트의 함량(중량%)은, 100/(HTP(Helixcal Twisting power) × 피치(nm)의 수식으로 계산되며, 목적하는 피치(p)를 고려하여 적정 비율로 선택될 수 있다. The application rate of the chiral dopant is not particularly limited as long as it can achieve the desired ratio (d/p). In general, the content (% by weight) of the chiral dopant is calculated by the formula of 100/(Helixcal Twisting power (HTP) × pitch (nm)), and may be selected in an appropriate ratio in consideration of the desired pitch (p).

상기 광변조층은 유전율 이방성이 음수인 액정 화합물을 포함하거나, 혹은 상기 광변조층은 상기 언급된 유전율 이방성을 나타낼 수 있다. 유전율 이방성의 절대값은 본 출원의 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 용어 「유전율 이방성(△ε)」은 수평 유전율(ε//)과 수직 유전율(ε⊥)의 차이(ε// -ε⊥)를 의미할 수 있다. 본 명세서에서 용어 수평 유전율(ε//)은 액정 분자의 방향자와 인가 전압에 의한 전기장의 방향이 실질적으로 수평하도록 전압을 인가한 상태에서 상기 전기장의 방향을 따라 측정한 유전율 값을 의미하고, 수직 유전율(ε⊥)은 액정 분자의 방향자와 인가 전압에 의한 전기장의 방향이 실질적으로 수직하도록 전압을 인가한 상태에서 상기 전기장의 방향을 따라 측정한 유전율 값을 의미한다.The light modulation layer may include a liquid crystal compound having a negative dielectric anisotropy, or the light modulation layer may exhibit the aforementioned dielectric anisotropy. The absolute value of dielectric anisotropy may be appropriately selected in consideration of the purpose of the present application. The term "dielectric anisotropy (Δε)" may mean the difference (ε// -ε⊥) between the horizontal permittivity (ε//) and the vertical permittivity (ε⊥). In the present specification, the term horizontal permittivity (ε//) refers to a dielectric constant value measured along the direction of the electric field while applying a voltage so that the direction of the liquid crystal molecules and the direction of the electric field by the applied voltage are substantially horizontal, The vertical permittivity (ε⊥) refers to a dielectric constant value measured along the direction of the electric field in a state in which a voltage is applied so that the direction of the liquid crystal molecules and the direction of the electric field by the applied voltage are substantially perpendicular.

상기 액정층은 굴절률 이방성(n△)이 약 0.04 내지 0.15의 범위 내인 액정 화합물을 포함하거나, 상기 액정층이 상기 언급된 굴절률 이방성을 나타낼 수 있다. 본 출원에서 말하는 굴절률 이방성(n△)은 이상 굴절률(ne, extraordinary refractive index) 및 정상 굴절률(no, ordinary refractive index)의 차이(ne-no)이고, 이는 Abbe 굴절계를 이용하여 확인할 수 있는데, 그 구체적인 방식은 하기 실시예에 개시된 방법에 따른다. 상기 굴절률 이방성(n△)은 다른 예시에서, 약 0.14 이하, 0.13 이하, 0.12 이하, 0.11 이하 또는 0.1 이하이거나 0.05 이상, 0.06 이상, 0.07 이상, 0.08 이상 또는 0.09 이상일 수 있다. The liquid crystal layer may include a liquid crystal compound having a refractive index anisotropy (n△) in the range of about 0.04 to 0.15, or the liquid crystal layer may exhibit the aforementioned refractive index anisotropy. The refractive index anisotropy (n△) referred to in the present application is the difference (ne-no) between the abnormal refractive index (ne, extraordinary refractive index) and the normal refractive index (no, ordinary refractive index), which can be confirmed using an Abbe refractometer. The specific manner follows the method disclosed in the following examples. In another example, the refractive index anisotropy (nΔ) may be about 0.14 or less, 0.13 or less, 0.12 or less, 0.11 or less, or 0.1 or less, or 0.05 or more, 0.06 or more, 0.07 or more, 0.08 or more, or 0.09 or more.

본 출원의 광변조층의 두께는 본 출원의 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 일 예시에서, 상기 광변조층의 두께는, 약 15㎛ 이하일 수 있다. 이와 같이 두께를 제어함으로, 투과 모드 및 차단 모드에서의 투과율 차이가 큰 디바이스, 즉, 투과율 가변 특성이 우수한 디바이스를 구현할 수 있다. 상기 두께는 다른 예시에서, 약 14㎛ 이하, 13㎛ 이하, 12㎛ 이하, 11㎛ 이하, 10㎛ 이하, 9㎛ 이하 또는 8㎛ 이하이거나 1㎛ 이상, 2㎛ 이상, 3㎛ 이상, 4㎛ 이상, 5㎛ 이상, 6㎛ 이상, 7㎛ 이상 또는 8㎛ 이상일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. The thickness of the optical modulation layer of the present application may be appropriately selected in consideration of the purpose of the present application. In one example, the thickness of the light modulation layer may be about 15 μm or less. By controlling the thickness in this way, a device having a large difference in transmittance in the transmission mode and the blocking mode, that is, a device having excellent transmittance variable characteristics can be implemented. In another example, the thickness is about 14 μm or less, 13 μm or less, 12 μm or less, 11 μm or less, 10 μm or less, 9 μm or less, or 8 μm or less, or 1 μm or more, 2 μm or more, 3 μm or more, 4 μm It may be more than 5㎛, more than 6㎛, more than 7㎛, or more than 8㎛, but is not limited thereto.

본 출원의 광변조 디바이스에서는 예를 들어, 제 1 고분자 필름 기판과 제 2 고분자 필름 기판이 상기 광변조층의 양면에 배치되어 있을 수 있다.In the light modulation device of the present application, for example, a first polymer film substrate and a second polymer film substrate may be disposed on both sides of the light modulation layer.

상기 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판은 각각, 550nm 파장의 광에 대한 면상 위상차가 예를 들어, 500nm 이상일 수 있다. 다른 예시에서, 1000nm 이상, 2000nm 이상, 3000nm 이상, 4000nm 이상, 5000nm 이상, 6000nm 이상, 7000nm 이상, 8000nm 이상, 9000nm 이상 또는 10000nm 이상이거나 50000nm 이하, 40000nm 이하, 30000nm 이하, 20000nm 이하 또는 15000nm 이하일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Each of the first and second polymer film substrates may have a plane retardation with respect to light having a wavelength of 550 nm, for example, 500 nm or more. In another example, it may be 1000 nm or more, 2000 nm or more, 3000 nm or more, 4000 nm or more, 5000 nm or more, 6000 nm or more, 7000 nm or more, 8000 nm or more, 9000 nm or more, or 10000 nm or more, or 50000 nm or less, 40000 nm or less, 30000 nm or less, 20000 nm or less, or 15000 nm or less. , But is not limited thereto.

본 명세서에서 면상 위상차 하기 수식 1로 계산된 값을 의미할 수 있다. In the present specification, the plane phase difference may mean a value calculated by Equation 1 below.

[수식 1][Equation 1]

Rin = d × (nx - ny)R in = d × (n x -n y )

수식 1에서 Rin은 면상 위상차이고, d는 고분자 필름 기판의 두께이며, nx는 고분자 필름 기판의 지상축 방향의 굴절률이고, ny는 진상축 방향의 굴절률로서, 상기 지상축 방향과 직교하는 면상 방향의 굴절률이다. In Equation 1, R in is the plane retardation, d is the thickness of the polymer film substrate, n x is the refractive index in the slow axis direction of the polymer film substrate, and n y is the refractive index in the fast axis direction, which is orthogonal to the slow axis direction. It is the refractive index in the plane direction.

상기와 같이 높은 위상차를 가지는 필름은 업계에 공지이고, 이러한 필름은 광학적으로 큰 비등방성은 물론 제조 과정에서의 고연신 등에 의해 기계적 물성도 큰 비대칭성을 나타낸다. 업계에 공지된 상기 위상차 필름의 대표적인 예로는, PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름 등과 같은 폴리에스테르 필름 등이 있을 수 있다. Films having a high retardation as described above are known in the industry, and such films exhibit large optical anisotropy as well as mechanical properties due to high stretching during manufacturing. As a representative example of the retardation film known in the industry, there may be a polyester film such as a PET (ethylene terephthalate) (PET) film.

본 출원의 광변조 디바이스에서, 상기 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판은, 상기 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판의 지상축이 특정 위치 관계를 가지도록 디바이스 내에 포함될 수 있다. 일 예시에서, 상기 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판은 서로의 지상축이 수평하도록 배치되어 있을 수 있다. In the optical modulation device of the present application, the first and second polymer film substrates may be included in the device so that the slow axes of the first and second polymer film substrates have a specific positional relationship. In one example, the first and second polymer film substrates may be disposed so that their slow axes are horizontal.

상기와 같은 면상 위상차를 가지는 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판을, 상기 고분자 필름 기판의 지상축이 상기와 같은 범위를 갖도록 배치함으로써, 전술한 광변조층과의 조합을 통해 우수한 투과도 가변 효과를 나타내면서도 경사각에서의 빛샘 현상 등이 제어되어 시야각 보상이 가능한 광변조 디바이스를 제공할 수 있다. By arranging the first and second polymer film substrates having the planar retardation as described above so that the slow axis of the polymer film substrate has the above range, while exhibiting excellent transmittance variable effect through combination with the above-described light modulation layer It is possible to provide an optical modulation device capable of compensating a viewing angle by controlling a light leakage phenomenon at an angle of inclination.

본 출원의 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판은 예를 들어, 상기 고분자 필름 기판의 일면에 각각 제 1 및 제 2 편광층을 포함할 수 있다. 본 명세서에서 편광층은 자연광 내지 비편광을 편광으로 변화시키는 소자를 의미할 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 편광층은 선 편광층일 수 있다. 본 명세서에서 선 편광층은 선택적으로 투과하는 광이 어느 하나의 방향으로 진동하는 선 편광이고 선택적으로 흡수 또는 반사하는 광이 상기 선편광의 진동 방향과 직교하는 방향으로 진동하는 선편광인 경우를 의미한다. 즉, 상기 선 편광자는 면 방향으로 직교하는 투과축 및 흡수축 내지 반사축을 가질 수 있다. The first and second polymer film substrates of the present application may include, for example, first and second polarizing layers on one surface of the polymer film substrate, respectively. In the present specification, the polarizing layer may mean a device that converts natural or non-polarized light into polarized light. In one example, the polarizing layer may be a linear polarizing layer. In the present specification, the linear polarization layer refers to a case in which the selectively transmitted light is linearly polarized light vibrating in any one direction, and the selectively absorbed or reflected light is linearly polarized light that vibrates in a direction orthogonal to the vibration direction of the linearly polarized light. That is, the linear polarizer may have a transmission axis and an absorption axis or a reflection axis orthogonal to the plane direction.

상기 편광층은 흡수형 편광층 또는 반사형 편광층일 수 있다. 상기 흡수형 편광층으로는, 예를 들어, PVA(본 명세서에서 PVA는 polyvinyl alcohol을 의미한다)연신 필름 등과 같은 고분자 연신 필름에 요오드를 염착한 편광층 또는 배향된 상태로 중합된 액정을 호스트로 하고, 상기 액정의 배향에 따라 배열된 이방성 염료를 게스트로 하는 게스트-호스트형 편광층을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 반사형 편광층으로는, 예를 들면, 소위 DBEF(Dual Brightness Enhancement Film)으로 공지되어 있는 반사형 편광층이나 LLC(Lyotropic liquid crystal)과 같은 액정 화합물을 코팅하여 형성되는 반사형 편광층을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The polarizing layer may be an absorption type polarizing layer or a reflective polarizing layer. As the absorption-type polarizing layer, for example, a polarizing layer in which iodine is dyed on a polymeric stretched film such as a PVA (PVA means polyvinyl alcohol in the present specification) stretched film, or a liquid crystal polymerized in an aligned state as a host And, a guest-host type polarizing layer using an anisotropic dye arranged according to the alignment of the liquid crystal as a guest may be used, but the present invention is not limited thereto. As the reflective polarizing layer, for example, a reflective polarizing layer known as DBEF (Dual Brightness Enhancement Film) or a reflective polarizing layer formed by coating a liquid crystal compound such as LLC (Lyotropic liquid crystal) may be used. However, it is not limited thereto.

하나의 예시에서, 상기 제 1 편광층 및 제 2 편광층의 흡수축이 서로 수직하도록 배치될 수 있다. 본 출원의 광변조 디바이스는 이러한 배치를 통해 특히 경사각에서의 빛샘 현상이 저감된 광변조 소자를 제공하는 데 유리할 수 있다. In one example, absorption axes of the first polarizing layer and the second polarizing layer may be disposed so as to be perpendicular to each other. The optical modulation device of the present application may be advantageous in providing an optical modulation device with reduced light leakage, particularly at an inclination angle, through such an arrangement.

본 출원에서 상기 제 2 고분자 필름 기판의 제 1 면에는 예를 들어, 액정 배향막이 형성되어 있을 수 있다. 상기 액정 배향막은, 상기 광변조층 내의 액정의 초기 배향을 결정하기 위해서 사용될 수 있다. 이 때 적용되는 액정 배향막의 종류는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 공지의 러빙 배향막 또는 광 배향막일 수 있다. In the present application, for example, a liquid crystal alignment layer may be formed on the first surface of the second polymer film substrate. The liquid crystal alignment layer may be used to determine the initial alignment of the liquid crystal in the light modulation layer. The type of the liquid crystal alignment layer applied at this time is not particularly limited, and may be, for example, a known rubbing alignment layer or a photo alignment layer.

배향 방향은 러빙 배향막의 경우는 러빙 방향, 광 배향막인 경우는 조사되는 편광의 방향일 수 있는데, 이러한 배향 방향은 선형 편광층을 사용한 검출 방식으로 확인할 수 있다. 예를 들어, 본 출원의 광변조층이 TN(Twisted Nematic) 모드 등과 같은 트위스트 배향 모드인 경우에 일면에 선형 편광층을 배치하고, 그 편광층의 흡수축을 변경하면서 투과율을 측정하면, 상기 흡수축 또는 투과축과 액정 배향막의 배향 방향이 일치하는 경우에 투과율이 낮게 되는 경향을 보이는데, 적용된 액정 화합물의 굴절률 이방성 등을 반영한 시뮬레이션을 통해 배향 방향을 확인할 수 있다. 본 출원의 광변조층의 모드에 따라서 배향 방향을 확인하는 방식은 공지이다.The orientation direction may be a rubbing direction in the case of a rubbing alignment layer and a direction of irradiated polarization in the case of a photo-alignment layer. Such an alignment direction can be confirmed by a detection method using a linear polarization layer. For example, when the optical modulation layer of the present application is in a twisted alignment mode such as a TN (Twisted Nematic) mode, a linear polarization layer is disposed on one surface and the transmittance is measured while changing the absorption axis of the polarization layer. Alternatively, when the transmission axis and the alignment direction of the liquid crystal alignment layer coincide, the transmittance tends to be low, and the alignment direction can be confirmed through a simulation reflecting the refractive index anisotropy of the applied liquid crystal compound. A method of confirming the orientation direction according to the mode of the light modulation layer of the present application is known.

본 출원의 광변조 디바이스는, 본 출원의 효과를 방해하지 않는 한, 상기 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판의 일면에 각각 도전층을 추가로 포함할 수 있다. 일 예시에서, 도 3과 같이, 접착제층 또는 점착제층(103)과 제 1 고분자 필름 기판(102) 사이 및 액정 배향막(203)과 제 2 고분자 필름 기판(202) 사이에 각각 도전층(400a,400b)이 형성되어 있을 수 있다. The optical modulation device of the present application may further include a conductive layer on one surface of the first and second polymer film substrates, as long as the effect of the present application is not obstructed. In one example, as shown in FIG. 3, conductive layers 400a, respectively, between the adhesive layer or the pressure-sensitive adhesive layer 103 and the first polymer film substrate 102 and between the liquid crystal alignment layer 203 and the second polymer film substrate 202, 400b) may be formed.

상기 도전층은 광변조층의 정렬 상태를 전환할 수 있도록 광 변조층에 적절한 전계를 인계할 수 있다. 상기 전계의 방향은 수직 또는 수평 방향, 예를 들어, 광 변조층의 두께 방향 또는 면 방향일 수 있다. The conductive layer may transfer an appropriate electric field to the light modulation layer so as to switch the alignment state of the light modulation layer. The direction of the electric field may be a vertical or horizontal direction, for example, a thickness direction or a surface direction of the light modulation layer.

상기 도전층은 예를 들어, 투명 전도성 층일 수 있으며, 상기 투명 전도성 층은 예를 들어, 전도성 고분자, 전도성 금속, 전도성 나노와이어 또는 ITO(Indium Tin Oxide) 등의 금속 산화물 등을 증착하여 형성될 수 있다. 이외에도 투명 전도성 층을 형성할 수 있는 다양한 소재 및 형성 방법이 공지되어 있고, 이를 제한 없이 적용할 수 있다. The conductive layer may be, for example, a transparent conductive layer, and the transparent conductive layer may be formed by depositing, for example, a conductive polymer, a conductive metal, a conductive nanowire, or a metal oxide such as ITO (Indium Tin Oxide). have. In addition, various materials and methods for forming a transparent conductive layer are known, and can be applied without limitation.

본 출원의 광변조 디바이스는, 예를 들어, 상기 고분자 필름 기판을 다른 층에 부착하기 위한 용도 또는 다른 용도로 적용되는 접착제층 또는 점착제층 등을 추가로 포함할 수 있다.The light modulation device of the present application may further include, for example, an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer applied to another layer or for attaching the polymer film substrate to another layer.

하나의 예시에서, 상기 접착제층 또는 점착제층은 수직 배향력을 가지는 접착제 또는 점착제를 포함할 수 있다. 본 명세서에서 용어 수직 배향력을 가지는 접착제 또는 점착제는 액정 분자에 대한 수직 배향력 및 접착력 또는 점착력을 동시에 가지는 물질을 의미할 수 있다. In one example, the adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer may include an adhesive or pressure-sensitive adhesive having a vertical orientation force. In the present specification, the term adhesive or pressure-sensitive adhesive having a vertical alignment force may mean a material having a vertical alignment force and an adhesive force or adhesive force to liquid crystal molecules at the same time.

하나의 예시에서, 수직 배향력을 가지는 접착제 또는 점착제는 제 1 고분자 필름 기판의 표면 및 제 2 고분자 필름 기판의 표면 중 적어도 하나의 표면에 형성되어 있을 수 있다. 본 출원의 일 실시예에 의하면, 제 1 고분자 필름 기판의 일면에 수직 배향력을 가지는 접착제가 존재하고, 제 2 고분자 필름 기판의 일면에 액정 배향막이 형성되어 있을 수 있다. In one example, the adhesive or pressure-sensitive adhesive having a vertical alignment force may be formed on at least one of the surface of the first polymer film substrate and the surface of the second polymer film substrate. According to the exemplary embodiment of the present application, an adhesive having a vertical alignment force may be present on one surface of the first polymer film substrate, and a liquid crystal alignment layer may be formed on one surface of the second polymer film substrate.

본 출원에서 수직 배향력을 가지는 접착제 또는 점착제로는, 예를 들어, 실리콘(Silicone) 접착제 또는 점착제를 사용할 수 있다. 상기 실리콘 접착제 또는 점착제로는 경화성 실리콘 화합물을 포함하는 조성물의 경화물을 사용할 수 있다. 경화성 실리콘 화합물의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 가열 경화성 실리콘 화합물 또는 자외선 경화형 실리콘 화합물을 사용할 수 있다. In the present application, as the adhesive or pressure-sensitive adhesive having a vertical orientation force, for example, a silicone adhesive or pressure-sensitive adhesive may be used. As the silicone adhesive or pressure-sensitive adhesive, a cured product of a composition including a curable silicone compound may be used. The type of the curable silicone compound is not particularly limited, and for example, a heat curable silicone compound or an ultraviolet curable silicone compound may be used.

본 출원의 하나의 예시에서, 상기 경화성 실리콘 화합물은 부가경화형 실리콘 화합물로서, (1) 분자 중에 2개 이상의 알케닐기를 함유하는 오르가노폴리실록산 및 (2) 분자 중에 2개 이상의 규소결합 수소원자를 함유하는 오르가노폴리실록산을 포함할 수 있다. 상기와 같은 실리콘 화합물은, 예를 들어, 후술하는 촉매의 존재 하에서, 부가 반응에 의하여 경화물을 형성할 수 있다.In one example of the present application, the curable silicone compound is an addition-curable silicone compound, including (1) an organopolysiloxane containing two or more alkenyl groups in the molecule, and (2) two or more silicon-bonded hydrogen atoms in the molecule. Organopolysiloxanes. The silicone compound as described above can form a cured product by an addition reaction, for example, in the presence of a catalyst to be described later.

상기에서 (1) 오르가노폴리실록산은, 실리콘 경화물을 구성하는 주성분으로서, 1분자 중 적어도 2개의 알케닐기를 포함할 수 있다. 이 때, 알케닐기의 구체적인 예에는, 비닐기, 알릴기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기 또는 헵테닐기 등이포함될 수 있고, 이 중 비닐기가 바람직할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 (1) 오르가노폴리실록산에서, 전술한 알케닐기의 결합 위치는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기 알케닐기는 분자쇄의 말단 및/또는 분자쇄의 측쇄에 결합되어 있을 수 있다. 또한, 상기 (1) 오르나고폴리실록산에서, 전술한 알케닐 외에 포함될 수 있는 치환기의 종류로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 또는 헵틸기 등의 알킬기; 페닐기,톨릴기, 크실릴기 또는 나프틸기 등의 아릴기; 벤질기 또는 페넨틸기 등의 아랄킬기; 클로로메틸기, 3-클로로프로필기 또는 3,3,3-트리플루오로프로필기 등의 할로겐 치환 알킬기 등을 들 수 있고, 이 중 메틸기 또는 페닐기가 바람직하나 이에 제한되는 것은 아니다. In the above (1) organopolysiloxane, as a main component constituting the cured silicone product, it may contain at least two alkenyl groups in one molecule. In this case, specific examples of the alkenyl group may include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, or a heptenyl group, among which a vinyl group may be preferable, but is not limited thereto. In the above (1) organopolysiloxane, the bonding position of the alkenyl group described above is not particularly limited. For example, the alkenyl group may be bonded to the end of the molecular chain and/or to the side chain of the molecular chain. Further, in the above (1) ornagopolysiloxane, examples of the substituents that may be included in addition to the above alkenyl include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group or heptyl group; Aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group or naphthyl group; Aralkyl groups such as a benzyl group or a phenentyl group; And halogen-substituted alkyl groups such as a chloromethyl group, a 3-chloropropyl group, or a 3,3,3-trifluoropropyl group, among which a methyl group or a phenyl group is preferable, but is not limited thereto.

상기 (1) 오르가노폴리실록산의 분자 구조는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 직쇄상, 분지상, 고리상, 망상 또는 일부가 분지상을 이루는 직쇄상 등과 같이, 어떠한 형상이라도 가질 수 있다. 본 출원에서는 상기와 같은 분자 구조 중 특히 직쇄상의 분자 구조를 가지는 것이 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다. 한편, 본 발명에서는 경화물의 하드니스(hardness) 및 굴절률의 광점에서 상기 (1) 오르가노폴리실록산으로서, 분자 구조 중에 아릴기 또는 아랄킬기와 같은 방향족기를 함유하는 오르가노폴리실록산을 사용하는 것이 바람직하지만, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. The molecular structure of the (1) organopolysiloxane is not particularly limited, and may have any shape, such as straight chain, branched, cyclic, reticulated, or partially branched. In the present application, it is particularly preferable to have a linear molecular structure among the above-described molecular structures, but is not limited thereto. On the other hand, in the present invention, it is preferable to use an organopolysiloxane containing an aromatic group such as an aryl group or an aralkyl group in the molecular structure as the (1) organopolysiloxane in terms of the hardness and refractive index of the cured product, It is not necessarily limited thereto.

본 출원에서 사용할 수 있는 상기 (1) 오르가노폴리실록산의 보다 구체적인 예로는, 분자쇄 양말단 트리메틸실록산기 봉쇄 디메틸실록산-메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양말단 트리메틸실록산기 봉쇄 메틸비닐폴리실록산, 분자쇄 양말단 트리메틸실록산기 봉쇄 디메틸실록산-메틸비닐실록산-메틸페닐실록산 공중합체, 분자쇄 양말단 디메틸비닐실록산기 봉쇄 디메틸폴리실록산, 분자쇄 양말단 디메틸비닐실록산기 봉쇄 메틸 비닐폴리실록산, 분자쇄 양말단 디메틸비닐실록산기 봉쇄 디메틸실록산-메틸비닐실록산 공중합체, 분자쇄 양말단 디메틸비닐실록산기 봉쇄 디메틸실록산-메틸비닐실록산-메틸페닐실록산 공중합체, R12SiO1/2로 표시되는 실록산 단위와 R12R2SiO1/2로 표시되는 실록산 단위와 SiO4/2로 표시되는 실록산 단위를 포함하는 오르가노폴리실록산 공중합체, R12R2SiO1/2로 표시되는 실록산 단위와 SiO4/2로 표시되는 실록산 단위를 포함하는 오르가노폴리실록산More specific examples of the (1) organopolysiloxane that can be used in the present application are dimethylsiloxane-methylvinylsiloxane copolymers with trimethylsiloxane group blocking at both ends of the molecular chain, methylvinylpolysiloxane, molecular chain blocking trimethylsiloxane groups at both ends of the molecular chain Blockade of both ends of trimethylsiloxane groups Dimethylsiloxane-methylvinylsiloxane-methylphenylsiloxane copolymer, dimethylvinylsiloxane group blocking at both ends of the molecular chain dimethylpolysiloxane, blocking of dimethylvinylsiloxane groups at both ends of the molecular chain methyl vinylpolysiloxane, dimethylvinylsiloxane at both ends of the molecular chain Acid-blocked dimethylsiloxane-methylvinylsiloxane copolymer, dimethylvinylsiloxane-blocked dimethylsiloxane-methylvinylsiloxane-methylphenylsiloxane copolymer at both ends of the molecular chain, a siloxane unit represented by R12SiO1/2 and a siloxane unit represented by R12R2SiO1/2, and Organopolysiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by SiO4/2, an organopolysiloxane comprising a siloxane unit represented by R12R2SiO1/2 and a siloxane unit represented by SiO4/2

공중합체, R1R2SiO2/2로 표시되는 실록산 단위와 R1SiO3/2로 표시되는 실록산 단위 또는 R2SiO3/2로 표시되는 실록산 단위를 포함하는 오르가노폴리실록산 공중합체 및 상기 중 2 이상의 혼합물을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것 은 아니다. 상기에서, R1은 알케닐기 외의 탄화수소기로서, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 또는 헵틸기 등의 알킬기; 페닐기, 톨릴기, 크실릴기 또는 나프틸기 등의 아릴기; 벤질기 또는 페넨틸기 등의 아랄킬기; 클로로메틸기, 3-클로로프로필기 또는 3,3,3-트리플루오로프로필기 등의 할로겐 치환 알킬기 등일 수 있다. 또한, 상기에서 R2는 알케닐기로서, 구체적으로는 비닐기, 알릴기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기 또는 헵테닐기 등일 수 있다.Copolymers, organopolysiloxane copolymers including a siloxane unit represented by R1R2SiO2/2 and a siloxane unit represented by R1SiO3/2 or a siloxane unit represented by R2SiO3/2, and a mixture of two or more of the above, but are limited thereto. It does not become. In the above, R1 is a hydrocarbon group other than an alkenyl group, specifically, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group or a heptyl group; Aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group or naphthyl group; Aralkyl groups such as a benzyl group or a phenentyl group; It may be a halogen-substituted alkyl group such as a chloromethyl group, a 3-chloropropyl group, or a 3,3,3-trifluoropropyl group. In addition, in the above, R 2 is an alkenyl group, and specifically, may be a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group or a heptenyl group.

본 발명의 일 태양에서, 상기 (1) 오르가노폴리실록산은 25℃에서의 점도가 50 내지 500,000 CP(centipoise), 바람직하게는 400 내지 100,000 CP일 수 있다. 상기 점도가 50 CP 미만이면, 실리콘 화합물의 경화물의 기계적 강도가 저하될 우려가 있고, 500,000 CP를 초과하면, 취급성 또는 작업성이 저하될 우려가 있다.In one aspect of the present invention, the (1) organopolysiloxane may have a viscosity at 25° C. of 50 to 500,000 CP (centipoise), and preferably 400 to 100,000 CP. If the viscosity is less than 50 CP, the mechanical strength of the cured product of the silicone compound may be lowered, and if it exceeds 500,000 CP, the handling property or workability may be lowered.

상기 부가경화형 실리콘 화합물에서, (2) 오르가노폴리실록산은 상기 (1) 오르가노폴리실록산을 가교시키는 역할을 수행할 수 있다. 상기 (2) 오르가노폴리실록산에서, 수소원자의 결합 위치는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 분자쇄의 말단 및/또는 측쇄에 결합되어 있을 수 있다. 또한, 상기 (2) 오르가노폴리실록산에서, 상기 규소결합 수소원자 외에 포함될 수 있는 치환기의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, (1) 오르가노폴리실록산에서 언급한 바와 같은, 알킬기, 아릴기, 아랄킬기 또는 할로겐 치환 알킬기 등을 들 수 있고, 이 중 메틸기 또는 페닐기가 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다.In the addition-curable silicone compound, (2) organopolysiloxane may serve to crosslink the (1) organopolysiloxane. In the above (2) organopolysiloxane, the bonding position of the hydrogen atom is not particularly limited, and may be, for example, bonded to the end and/or side chain of the molecular chain. In addition, in the (2) organopolysiloxane, the kind of substituents that may be included in addition to the silicon-bonded hydrogen atom is not particularly limited, and, for example, as mentioned in (1) organopolysiloxane, an alkyl group, an aryl group, An aralkyl group or a halogen-substituted alkyl group, among which a methyl group or a phenyl group is preferable, but is not limited thereto.

한편, (2) 오르가노폴리실록산의 분자 구조는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 직쇄상, 분지상, 고리상, 망상 또는 일부가 분지상을 이루는 직쇄상 등과 같이, 어떠한 형상이라도 가질 수 있다. 본 발명에서는 상기와 같은 분자 구조 중 특히 직쇄상의 분자 구조를 가지는 것이 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다.On the other hand, (2) the molecular structure of the organopolysiloxane is not particularly limited, and may have any shape, such as straight chain, branched, cyclic, reticulated, or partially branched. In the present invention, it is particularly preferable to have a linear molecular structure among the above-described molecular structures, but is not limited thereto.

본 발명에서 사용할 수 있는 상기 (2) 오르가노폴리실록산의 보다 구체적인 예로는, 분자쇄 양말단 트리메틸실록산기 봉쇄 메틸하이드로젠폴리실록산, 분자쇄 양말단 트리메틸실록산기 봉쇄 디메틸실록산-메틸하이드로젠 공중합체, 분자쇄 양말단 트리메틸실록산기 봉쇄 디메틸실록산-메틸하이드로젠실록산-메틸페닐실록산 공중합체,분자쇄 양말단 디메틸하이드로젠실록산기 봉쇄 디메틸폴리실록산, 분자쇄 양말단 디메틸하이드로젠실록산기 봉쇄 디메틸실록산-메틸페닐실록산 공중합체, 분자쇄 양말단 디메틸하이드로젠실록산기 봉쇄 메틸페닐폴리실록산, R13SiO1/2로 표시되는 실록산 단위와 R12HSiO1/2로 표시되는 실록산 단위와 SiO4/2로 표시되는 실록산 단위를 포함하는 오르가노폴리실록산 공중합체, R12HSiO1/2로 표시되는 실록산 단위와 SiO4/2로 표시되는 실록산 단위를 포함하는 오르가노폴리실록산 공중합체, R1HSiO2/2로 표시되는 실록산 단위와 R1SiO3/2로 표시되는 실록산 단위 또는 HSiO3/2로 표시되는 실록산 단위를 포함하는 오르가노폴리실록산 공중합체 및 상기 중 2 이상의 혼합물을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기에서, R1은 알케닐기 외의 탄화수소기로서, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 또는 헵틸기 등의 알킬기; 페닐기, 톨릴기, 크실릴기 또는 나프틸기 등의 아릴기; 벤질기 또는 페넨틸기 등의 아랄킬기; 클로로메틸기, 3-클로로프로필기 또는 3,3,3-트리플루오로프로필기 등의 할로겐 치환 알킬기 등일 수 있다.More specific examples of the (2) organopolysiloxane that can be used in the present invention include methylhydrogenpolysiloxane blocking trimethylsiloxane groups at both ends of the molecular chain, dimethylsiloxane-methylhydrogen copolymer blocking trimethylsiloxane groups at both ends of the molecular chain, and molecules. Blockade of trimethylsiloxane groups at both ends of the chain dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane-methylphenylsiloxane copolymer, blockade of dimethylhydrogensiloxane groups at both ends of the molecular chain dimethylpolysiloxane, blockade of dimethylhydrogensiloxane groups at both ends of the molecular chain dimethylsiloxane-methylphenylsiloxane copolymer , Methylphenylpolysiloxane with blockade of dimethylhydrogensiloxane groups at both ends of the molecular chain, an organopolysiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by R13SiO1/2, a siloxane unit represented by R12HSiO1/2, and a siloxane unit represented by SiO4/2, R12HSiO1 Organopolysiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by /2 and a siloxane unit represented by SiO4/2, a siloxane unit represented by R1HSiO2/2 and a siloxane unit represented by R1SiO3/2, or a siloxane represented by HSiO3/2 An organopolysiloxane copolymer including a unit and a mixture of two or more of the above may be exemplified, but are not limited thereto. In the above, R1 is a hydrocarbon group other than an alkenyl group, specifically, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group or a heptyl group; Aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group or naphthyl group; Aralkyl groups such as a benzyl group or a phenentyl group; It may be a halogen-substituted alkyl group such as a chloromethyl group, a 3-chloropropyl group, or a 3,3,3-trifluoropropyl group.

본 출원에서, 예를 들어, 상기 (2) 오르가노폴리실록산은 25℃에서의 점도가 1 내지 500,000 CP(centipoise), 바람직하게는 5 내지 100,000 CP일 수 있다. 상기 점도가 1 CP 미만이면, 실리콘 화합물의 경화물의 기계적 강도가 저하될 우려가 있고, 500,000 CP를 초과하면, 취급성 또는 작업성이 저하될 우려가 있다.In the present application, for example, the (2) organopolysiloxane may have a viscosity of 1 to 500,000 CP (centipoise), preferably 5 to 100,000 CP at 25°C. If the viscosity is less than 1 CP, the mechanical strength of the cured product of the silicone compound may be lowered, and if it exceeds 500,000 CP, the handling property or workability may be lowered.

본 출원에서, 상기 (2) 오르가노폴리실록산의 함량은, 적절한 경화가 이루어질 수 있을 정도로 포함된다면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 상기 (2) 오르가노폴리실록산은, 전술한 (1) 오르가노폴리실록산에 포함되는 알케닐기 하나에 대하여, 규소결합 수소원자가 0.5 내지 10개가 되는 양으로 포함될 수 있다. 상기 규소원자 결합 수소 원자의 개수가 0.5개 미만이면, 경화성 실리콘 화합물의 경화가 불충분하게 이루어질 우려가 있고, 10개를 초과하면, 경화물의 내열성이 저하될 우려가 있다. 한편, 본 발명에서는, 경화물의 하드니스(hardness) 및 굴절률의 관점에서, 상기 (2) 오르가노폴리실록산으로서, 분자 구조 중에 아릴기 또는 아랄킬기와 같은 방향족기를 함유하는 (2) 오르가노폴리실록산을 사용하는 것이 바람직하지만, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.In the present application, the content of the organopolysiloxane (2) is not particularly limited as long as it is included to the extent that appropriate curing can be performed. For example, the (2) organopolysiloxane may be contained in an amount of 0.5 to 10 silicon-bonded hydrogen atoms per one alkenyl group contained in the (1) organopolysiloxane described above. If the number of silicon atom-bonded hydrogen atoms is less than 0.5, there is a concern that curing of the curable silicone compound may be insufficiently performed, and if it exceeds 10, the heat resistance of the cured product may decrease. On the other hand, in the present invention, from the viewpoint of hardness and refractive index of the cured product, (2) organopolysiloxane containing an aromatic group such as an aryl group or aralkyl group in the molecular structure is used as the (2) organopolysiloxane. It is desirable to do, but is not necessarily limited thereto.

본 출원에서, 상기 부가경화형 실리콘 화합물은, 경화를 위한 촉매로서, 백금 또는 백금 화합물을 추가로 포함할 수 있다. 이와 같은, 백금 또는 백금 화합물의 구체적인 예로는, 백금 미분말, 백금흑, 백금 담지 실리카 미분말, 백금 담지 활성탄, 염화 백금산, 사염화 백금, 염화 백금산의 알코올 용액, 백금과 올레핀의 착체, 백금과 1,1,3,3-테트라메틸-1,3-디비닐디실록산 등의 알케닐실록산과의 착체, 이들 백금 또는 백금 화합물__ 을 함유하는 입자경이 10 ㎛ 미만인 열가소성 수지 미분말(폴리스티렌 수지, 나이론 수지, 폴리카보네이트수지, 실리콘 수지 등)을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In the present application, the addition-curable silicone compound may further include platinum or a platinum compound as a catalyst for curing. Specific examples of such platinum or platinum compounds include fine platinum powder, platinum black, platinum-supported silica fine powder, platinum-supported activated carbon, chlorinated platinum acid, platinum tetrachloride, an alcohol solution of chlorinated platinum acid, a complex of platinum and olefin, platinum and 1,1, Complexes of alkenylsiloxanes such as 3,3-tetramethyl-1,3-divinyldisiloxane, and fine thermoplastic resin powders (polystyrene resin, nylon resin, polystyrene resin, nylon resin, polystyrene resin, polystyrene resin, polystyrene resin, polystyrene resin, polystyrene resin, polystyrene resin, polystyrene resin, etc.) Carbonate resin, silicone resin, etc.), but is not limited thereto.

본 발명의 부가 경화형 실리콘 화합물 내에 전술한 촉매의 함유량은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 전체 화합물 중 중량 단위로 0.1 내지 500 ppm, 바람직하게는 1 내지 50 ppm의 양으로 포함될 수 있다. 상기 촉매의 함유량이 0.1 ppm 미만이면, 조성물의 경화성이 저하될 우려가 있고, 500 ppm을 초과하면, 경제성이 떨어질 우려가 있다.The content of the above-described catalyst in the addition-curable silicone compound of the present invention is not particularly limited, and may be included in an amount of, for example, 0.1 to 500 ppm, preferably 1 to 50 ppm, by weight of the total compound. When the content of the catalyst is less than 0.1 ppm, the curability of the composition may be deteriorated, and when the content of the catalyst exceeds 500 ppm, there is a concern that economical efficiency may decrease.

본 출원에서, 상기 부가경화형 실리콘 화합물은, 그 저장 안정성, 취급성 및 작업성 향상의 관점에서, 3-메틸-1-부틴-3-올, 3,5-디메틸-1-헥신-3-올, 페닐부틴올 등의 알킨 알코올; 3-메틸-3-펜텐-1-인,3,5-디메틸-3-헥센-1-인 등의 에닌(enyne) 화합물; 1,2,5,7-테트라메틸-1,3,5,7-테트라비닐시클로테트라실록산,1,3,5,7-테트라메틸-1,3,5,7-트라헥세닐시클로테트라실록산, 벤조트리아졸 등의 경화억제제를 추가로 포함할In the present application, the addition-curable silicone compound is 3-methyl-1-butyn-3-ol, 3,5-dimethyl-1-hexin-3-ol And alkyne alcohols such as phenylbutynol; Enyne compounds such as 3-methyl-3-pentene-1-yne and 3,5-dimethyl-3-hexene-1-yne; 1,2,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane,1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-trahexenylcyclotetrasiloxane , A curing inhibitor such as benzotriazole, etc.

수 있다. 상기 경화억제제의 함량은, 발명의 목적을 해하지 않는 범위에서 적절하게 선택될 수 있으며, 예를 들면, 중량 기준으로 10 ppm 내지 50,000 ppm의 범위로 포함될 수 있다.I can. The content of the curing inhibitor may be appropriately selected within a range that does not impair the object of the invention, and for example, may be included in the range of 10 ppm to 50,000 ppm based on weight.

본 출원에서, 상기 실리콘 화합물은, 축합경화형 실리콘 화합물로서, 예를 들면 (a) 알콕시기 함유 실록산 폴리머; 및 (b) 수산기 함유 실록산 폴리머를 포함할 수 있다.In the present application, the silicone compound is a condensation-curable silicone compound, for example, (a) an alkoxy group-containing siloxane polymer; And (b) a hydroxyl group-containing siloxane polymer.

본 발명에서 사용될 수 있는 상기 (a) 실록산 폴리머는, 예를 들면, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물일 수 있다.The (a) siloxane polymer that can be used in the present invention may be, for example, a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

R1aR2bSiOc(OR3)d R1 a R2 b SiO c (OR3) d

상기 식에서 R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 1가 탄화수소기를 나타내고, R3은 알킬기를 나타내며, R1, R2 및 R3가 각각 복수개 존재하는 경우에는 서로 동일하거나 상이할 수 있고, a 및 b는 각각 독립적으로 0 이상, 1 미만의 수를 나타내고, a+b는 0 초과, 2 미만의 수를 나타내며, c는 0 초과, 2미만의 수를 나타내고, d는 0 초과, 4 미만의 수를 나타내며, a+b+c×2+d는 4이다.In the above formula, R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R3 represents an alkyl group, and when a plurality of R1, R2 and R3 are present, respectively, they may be the same or different from each other, and , a and b each independently represent a number greater than or equal to 0 and less than 1, a+b represents a number greater than 0 and less than 2, c represents a number greater than 0 and less than 2, and d is greater than 0, 4 Represents a number less than, and a+b+c×2+d is 4.

본 발명에서는 또한, 상기 화학식 1로 표시되는 실록산 폴리머가 겔 투과 크로마토그래피로 측정한, 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 1,000 내지 100,000, 바람직하게는 1,000 내지 80,000, 보다 바람직하게는 1,500 내지 70,000일 수 있다. (a) 실록산 폴리머의 중량평균분자량이 상기 범위 내에 있음으로 해서, 실리콘 경화물의 형성 시에 크랙 등의 불량을 일으키지 않고, 양호한 경화물을 얻을 수 있다.In the present invention, the siloxane polymer represented by Formula 1 may have a weight average molecular weight of 1,000 to 100,000, preferably 1,000 to 80,000, and more preferably 1,500 to 70,000 in terms of polystyrene, as measured by gel permeation chromatography. . (a) When the weight average molecular weight of the siloxane polymer is within the above range, a good cured product can be obtained without causing defects such as cracks during formation of the cured silicone product.

상기 화학식 1의 정의에서, 1가 탄화수소는, 예를 들면, 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 페닐기, 벤질기 또는 톨릴기 등일 수 있고, 이 때 탄소수 1 내지 8의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기,펜틸기, 헥실기, 헵틸기 또는 옥틸기 등일 수 있다. 또한, 상기 화학식 1의 정의에서, 1가 탄화수소기는, 예를 들면, 할로겐, 아미노기, 머캅토기, 이소시아네이트기, 글리시딜기, 글리시독시기 또는 우레이도기 등의 공지의치환기로 치환되어 있을 수 있다. 또한, 상기 화학식 1의 정의에서, R3의 알킬기의 예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기 또는 부틸기 등을 들 수 있다. 이와 같은 알킬기 중에서, 메틸기 또는 에틸기 등이 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다.In the definition of Formula 1, the monovalent hydrocarbon may be, for example, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group, a benzyl group, or a tolyl group, and in this case, the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group. , Isopropyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, and the like. In addition, in the definition of Formula 1, the monovalent hydrocarbon group may be substituted with a known substituent such as a halogen, amino group, mercapto group, isocyanate group, glycidyl group, glycidoxy group or ureido group. In addition, in the definition of Formula 1, examples of the alkyl group of R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a butyl group. Among these alkyl groups, a methyl group or an ethyl group is preferable, but is not limited thereto.

본 발명에서는, 상기 화학식 1의 폴리머 중 분지상 또는 3차 가교된 실록산 폴리머를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 이 (a) 실록산 폴리머에는, 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위 내에서, 구체적으로는 탈알코올 반응을 저해하지 않는 범위 내에서 수산기가 잔존하고 있을 수 있다.In the present invention, it is preferable to use a branched or tertiary crosslinked siloxane polymer among the polymers of Formula 1. Further, in this (a) siloxane polymer, a hydroxyl group may remain within a range that does not impair the object of the present invention, specifically within a range that does not inhibit the dealcoholization reaction.

상기와 같은 (a) 실록산 폴리머는, 예를 들면, 다관능의 알콕시실란 또는 다관능 클로로 실란 등을 가수분해 및 축합시킴으로써 제조할 수 있다. 이 분야의 평균적 기술자는, 목적하는 (a) 실록산 폴리머에 따라 적절한 다관능 알콕시실란 또는 클로로 실란을 용이하게 선택할 수 있으며, 그를 사용한 가수분해 및 축합 반응의 조건 또한 용이하게 제어할 수 있다. 한편, 상기 (a) 실록산 폴리머의 제조 시에는, 목적에 따라서, 적절한 1관능의 알콕시 실란을 병용 사용할 수도 있다.The above-described (a) siloxane polymer can be produced, for example, by hydrolyzing and condensing a polyfunctional alkoxysilane or a polyfunctional chlorosilane. An average technician in this field can easily select an appropriate polyfunctional alkoxysilane or chlorosilane according to the desired (a) siloxane polymer, and can easily control the conditions of the hydrolysis and condensation reactions using the same. On the other hand, in the production of the (a) siloxane polymer, an appropriate monofunctional alkoxy silane may be used in combination depending on the purpose.

상기와 같은 (a) 실록산 폴리머로는, 예를 들면, 신에쯔 실리콘사의 X40-9220 또는 X40-9225, GE 토레이 실리콘사의 XR31-B1410, XR31-B0270 또는 XR31-B2733 등과 같은, 시판되고 있는 오르가노실록산 폴리머를 사용할 수 있다. 한편, 본 발명에서는, 경화물의 하드니스(hardness) 및 굴절률의 관점에서, 상기 (a) 오르가노폴리실록산으로서, 분자 구조 중에 아릴기 또는 아랄킬기와 같은 방향족기를 함유하는 (a) 오르가노폴리실록산을 사용하는 것이 바람직하지만, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 한편, 상기 축합경화형 실리콘 화합물에 포함되는, (b) 수산기 함유 실록산 폴리머로는, 예를 들면, 하기 화학식 2으로 나타나는 화합물을 사용할 수 있다.Examples of (a) siloxane polymers as described above include commercially available orrogenic polymers such as X40-9220 or X40-9225 from Shin-Etsu Silicon, XR31-B1410, XR31-B0270 or XR31-B2733 from GE Toray Silicon. A ganosiloxane polymer can be used. On the other hand, in the present invention, from the viewpoint of hardness and refractive index of the cured product, (a) organopolysiloxane containing an aromatic group such as an aryl group or aralkyl group in the molecular structure is used as the (a) organopolysiloxane. It is desirable to do, but is not necessarily limited thereto. Meanwhile, as the (b) hydroxyl group-containing siloxane polymer contained in the condensation-curable silicone compound, for example, a compound represented by the following formula (2) may be used.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 2에서, R4 및 R5은 각각 독립적으로, 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 1가의 탄화수소기를 나타내고, R5 및 R6이 각각 복수 존재하는 경우에는, 상기는 서로 동일하거나, 상이할 수 있으며, n은 5 내지 2,000의 정수를 나타낸다.In Formula 2, R4 and R5 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and when a plurality of R5 and R6 are present, the above may be the same or different from each other, and n Represents an integer of 5 to 2,000.

상기 화학식 2의 정의에서, 1가 탄화수소기의 구체적인 종류로는, 예를 들면, 전술한 화학식 1의 경우와 동일한 탄화수소기를 들 수 있다.In the definition of Chemical Formula 2, specific types of the monovalent hydrocarbon group include, for example, the same hydrocarbon group as in Chemical Formula 1.

본 발명에서, 상기 화학식 2의 실록산 폴리머는, 겔 투과 크로마토그래피로 측정한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량이 500 내지 100,000, 바람직하게는 1,000 내지 80,000, 보다 바람직하게는 1,500 내지 70,000일 수 있다. (b) 실록산 폴리머의 중량평균분자량이 상기 범위 내에 있음으로 해서, 실리콘 경화물의 형성 시에 크랙 등의 불량을 일으키지 않고, 양호한 경화물을 얻을 수 있다.In the present invention, the siloxane polymer of Formula 2 may have a weight average molecular weight of 500 to 100,000, preferably 1,000 to 80,000, and more preferably 1,500 to 70,000 in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography. (b) When the weight average molecular weight of the siloxane polymer is within the above range, a good cured product can be obtained without causing defects such as cracks during formation of the cured silicone product.

상기와 같은 (b) 실록산 폴리머는, 예를 들면, 디알콕시실란 및/또는 디클로로 실란 등을 가수분해 및 축합시킴으로써 제조할 수 있다. 이 분야의 평균적 기술자는, 목적하는 (b) 실록산 폴리머에 따라 적절한 디알콕시 실란 또는 디클로로 실란을 용이하게 선택할 수 있으며, 그를 사용한 가수분해 및 축합 반응의 조건 또한 용이하게 제어할 수 있다. 상기와 같은 (b) 실록산 폴리머로는, 예를 들면, GE 토레이 실리콘사의 XC96-723, YF-3800, YF-3804 등과 같은, 시판되고 있는 2관능 오르가노실록산 폴리머를 사용할 수 있다. 한편, 본 발명에서는, 경화물의 하드니스(hardness) 및 굴절률의 관점에서, 상기 (1) 오르가노폴리실록산으로서, 분자 구조 중에 아릴기 또는 아랄킬기와 같은 방향족기를 함유하는 (1) 오르가노폴리실록산을 사용하는 것이 바람직하지만, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.The above-described (b) siloxane polymer can be produced, for example, by hydrolyzing and condensing dialkoxysilane and/or dichlorosilane. An average person skilled in the art can easily select an appropriate dialkoxy silane or dichloro silane according to the desired (b) siloxane polymer, and can easily control the conditions of the hydrolysis and condensation reactions using the same. As the above-described (b) siloxane polymer, for example, a commercially available bifunctional organosiloxane polymer such as XC96-723, YF-3800, YF-3804, etc. from GE Toray Silicone can be used. On the other hand, in the present invention, from the viewpoint of the hardness and refractive index of the cured product, (1) organopolysiloxane containing an aromatic group such as an aryl group or aralkyl group in the molecular structure is used as the (1) organopolysiloxane. It is desirable to do, but is not necessarily limited thereto.

수직 배향력을 가지는 접착제 또는 점착제의 타입은 특별히 제한되지 않고, 목적하는 용도에 따라 적절히 선택될 수 있으며, 예를 들어 고상 접착제 또는 점착제, 반고상 접착제 또는 점착제, 탄성 접착제 또는 점착제 또는 액상 접착제 또는 점착제를 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 고상 접착제 또는 점착제, 반고상 접착제 또는 점착제, 탄성 접착제 또는 점착제는 소위 감압성 접착제 또는 점착제(PSA; Pressure Sensitive Adhesive)로 호칭될 수 있으며, 접착 또는 점착 대상이 합착되기 전에 경화될 수 있다. 액상 접착제 또는 점착제는 소위 광학 투명 레진(OCR; OpticalClear Resin)으로 호칭될 수 있으며, 접착 또는 점착 대상이 합착된 후에 경화될 수 있다. 본 출원에서, 예를 들어, 수직 배향력을 가지는 PSA 타입의 접착제 또는 점착제로서 폴리디메틸실록산 접착제 또는 점착제(Polydimethyl siloxane adhesive) 또는 폴리메틸비닐실록산 접착제 또는 점착제(Polymethylvinyl siloxane adhesive)를 사용할 수 있고, 수직 배향력을 가지는 OCR타입의 접착제로서 알콕시실리콘 접착제 또는 점착제(Alkoxy silicone adhesive)를 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The type of adhesive or pressure-sensitive adhesive having a vertical orientation is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the intended use, for example, a solid adhesive or adhesive, a semi-solid adhesive or an adhesive, an elastic adhesive or an adhesive or a liquid adhesive or an adhesive Can be appropriately selected and used. Solid adhesives or pressure-sensitive adhesives, semi-solid adhesives or pressure-sensitive adhesives, elastic adhesives or pressure-sensitive adhesives may be referred to as so-called pressure-sensitive adhesives or pressure-sensitive adhesives (PSA), and may be cured before the adhesion or adhesion object is bonded. The liquid adhesive or pressure-sensitive adhesive may be referred to as a so-called optical clear resin (OCR), and may be cured after the adhesion or adhesion object is bonded. In the present application, for example, as a PSA-type adhesive or pressure-sensitive adhesive having a vertical orientation force, a polydimethylsiloxane adhesive or a polymethylvinyl siloxane adhesive or a polymethylvinyl siloxane adhesive may be used. As an OCR type adhesive having an orientation force, an alkoxy silicone adhesive or an adhesive (Alkoxy silicone adhesive) may be used, but the present invention is not limited thereto.

상기와 같은 배치 하에서 상기와 같은 특성을 가지는 접착제층 또는 점착제층을 포함함으로써 우수한 접착력 또는 점착력을 가지면서도 특히 차단 모드에서의 광 누설이 제어되어 우수한 광학 특성을 나타낼 수 있는 광변조 디바이스를 제공할 수 있다. By including the adhesive layer or the pressure-sensitive adhesive layer having the above characteristics under the arrangement as described above, it is possible to provide a light modulation device capable of exhibiting excellent optical properties by controlling light leakage, especially in a blocking mode, while having excellent adhesion or adhesion. have.

본 출원의 하나의 예시에서, 상기와 같이 수직 배향력을 가지는 접착제층 또는 점착제층이 제 1 고분자 필름 기판의 일면에 형성되어 있는 경우, 상기 제 1 고분자 필름 기판에는 액정 배향막이 형성되어 있지 않을 수도 있다. In one example of the present application, when the adhesive layer or the pressure-sensitive adhesive layer having a vertical alignment force as described above is formed on one surface of the first polymer film substrate, the liquid crystal alignment layer may not be formed on the first polymer film substrate. have.

이와 같이 공지의 수직 배향막과 수직 배향능을 가지는 접착제 또는 점착제에 의해 형성되는 액정 화합물의 배향은, 그에 추종하는 이색성 염료의 배향은 수직 배향 시에는 측면 광누설을 효과적으로 억제하고, 수평 배향 시에는 정면 광의 흡수를 최소화하도록 할 수 있다.As such, the alignment of the liquid crystal compound formed by the known vertical alignment layer and the adhesive or pressure-sensitive adhesive having a vertical alignment ability, and the alignment of the dichroic dye following it effectively suppresses side light leakage during vertical alignment, and when horizontal alignment The absorption of front light can be minimized.

기타 구성으로서, 본 출원의 효과를 방해하지 않는 한, 하드 코팅층, 반사 방지층, NIR(Near-Infrared) 차단(cut) 기능의 염료를 포함하는 층 등의 공지 구성을 추가로 포함할 수 있다. As other configurations, a known configuration such as a hard coating layer, an antireflection layer, and a layer including a dye having a near-infrared (NIR) cut function may be additionally included as long as the effect of the present application is not hindered.

본 출원은, 전술한 면상 위상차를 가지는 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판을, 상기 고분자 필름 기판의 지상축이 상기와 같은 범위를 갖도록 배치하는 등 특유의 배치 구조를 가지면서, 전술한 광변조층과의 조합 등을 통해 우수한 투과도 가변 효과를 나타내면서도 경사각에서의 빛샘 현상 등이 제어되어 시야각 보상이 가능한 광변조 디바이스를 제공할 수 있다. The present application, while having a unique arrangement structure, such as arranging the first and second polymer film substrates having the above-described plane retardation so that the slow axis of the polymer film substrate has the above range, the optical modulation layer described above It is possible to provide an optical modulation device capable of compensating a viewing angle by controlling a light leakage phenomenon at an inclination angle while exhibiting an excellent effect of varying transmittance through a combination of and the like.

본 출원의 광변조 디바이스는 일 예시에서, 투과 모드일 때의 투과율이 20% 이상일 수 있으며, 다른 예시에서, 21% 이상, 22% 이상, 23% 이상, 24% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상, 50% 이상, 55% 이상, 60% 이상, 65% 이상, 70% 이상, 75% 이상 또는 80% 이상 정도일 수 있다. 또한, 차단 모드일 ?의 투과율은 60% 이하, 55% 이하, 50% 이하, 45% 이하, 40% 이하, 35% 이하, 30% 이하, 25% 이하, 20% 이하, 15% 이하, 10% 이하, 5% 이하, 4% 이하, 3% 이하, 2% 이하, 1% 이하, 0.9% 이하, 0.8% 이하, 0.7% 이하, 0.6% 이하, 0.5% 이하, 0.4 % 이하 또는 0.3% 이하일 수 있다. 투과 모드에서 투과율은 높을수록 유리하며, 차단 모드에서는 투과율이 낮을수록 유리하기 때문에, 상기 투과 모드 상태의 투과율의 상한과 차단 모드 상태의 투과율의 하한은 특별히 제한되지 않으며, 일 예시에서 상기 투과 모드 상태의 투과율의 상한은 약 100%이고, 차단 모드 상태에서의 투과도의 하한은 약 0%일 수 있다. 상기 차단 모드는, 광변조 디바이스에 전압을 인가하지 않은 상태를 의미할 수 있고, 투과 모드는 광변조 디바이스에 전압을 인가한 상태, 하나의 예시에서, 전압을 약 30V로 인가한 상태를 의미할 수 있다. In one example, the optical modulation device of the present application may have a transmittance of 20% or more in a transmission mode, and in another example, 21% or more, 22% or more, 23% or more, 24% or more, 25% or more, 30% It may be about 35% or more, 40% or more, 45% or more, 50% or more, 55% or more, 60% or more, 65% or more, 70% or more, 75% or more, or 80% or more. In addition, the transmittance of the blocking mode is 60% or less, 55% or less, 50% or less, 45% or less, 40% or less, 35% or less, 30% or less, 25% or less, 20% or less, 15% or less, 10 % Or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, 0.9% or less, 0.8% or less, 0.7% or less, 0.6% or less, 0.5% or less, 0.4% or less, or 0.3% or less I can. In the transmission mode, the higher the transmittance is, the better the transmittance is, and in the blocking mode, the lower the transmittance is, the more advantageous, the upper limit of the transmittance in the transmission mode state and the lower limit of the transmittance in the blocking mode state are not particularly limited. The upper limit of the transmittance of is about 100%, and the lower limit of the transmittance in the blocking mode state may be about 0%. The cutoff mode may mean a state in which no voltage is applied to the optical modulation device, and the transmission mode refers to a state in which a voltage is applied to the optical modulation device, and in one example, a state in which a voltage is applied at about 30V. I can.

본 출원의 광변조 디바이스는 일 예시에서, 상기 투과 모드와 차단 모드 상태에서의 투과율의 차이가, 15% 이상, 16% 이상, 17% 이상, 18% 이상, 19% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상 또는 40% 이상일 수 있거나, 90% 이하, 85% 이하, 80% 이하, 75% 이하, 70% 이하, 65% 이하, 60% 이하, 55% 이하, 50% 이하 또는 45% 이하일 수 있다. In an example, the optical modulation device of the present application has a difference in transmittance of 15% or more, 16% or more, 17% or more, 18% or more, 19% or more, 20% or more, and 25 in the transmission mode and the cut-off mode state. % Or more, 30% or more, 35% or more, or 40% or more, or 90% or less, 85% or less, 80% or less, 75% or less, 70% or less, 65% or less, 60% or less, 55% or less, 50 % Or less or 45% or less.

상기 투과율은, 예를 들면, 직진광 투과율일 수 있다. 직진광 투과율은, 상기 광변조 디바이스로 입사한 광에 대해 상기 입사 방향과 동일 방향으로 투과된 광의 비율의 백분율일 수 있다. 예를 들어, 상기 디바이스가 필름 또는 시트 형태라면, 상기 필름 또는 시트 표면의 법선 방향과 나란한 방향으로 입사한 광 중에서 역시 상기 법선 방향과 나란한 방향으로 상기 디바이스를 투과한 광의 백분율을 상기 투과율로 정의할 수 있다. The transmittance may be, for example, a straight light transmittance. The straight light transmittance may be a percentage of a ratio of light transmitted in the same direction as the incident direction with respect to the light incident on the optical modulation device. For example, if the device is in the form of a film or sheet, the percentage of light that has transmitted through the device in a direction parallel to the normal direction among the light incident in a direction parallel to the normal direction of the film or sheet surface is defined as the transmittance. I can.

상기 투과율은, 각각 가시광 영역, 예를 들면, 약 400nm 내지 700nm 또는 약 380nm 내지 780nm 범위 내의 어느 한 파장에 대한 투과율 또는 반사율이거나, 상기 가시광 영역 전체에 대한 투과율 또는 반사율이거나, 상기 가시광 영역 전체에 대한 투과율 또는 반사율 중에서 최대 또는 최소 투과율 또는 반사율이거나, 상기 가시광 영역 내의 투과율의 평균치 또는 반사율의 평균치일 수 있다. 또한, 다른 예시에서 상기 투과율은 약 550nm 파장의 광에 대한 투과율일 수 있다. The transmittance is, respectively, a transmittance or reflectance for any wavelength within a visible region, for example, about 400 nm to 700 nm or about 380 nm to 780 nm, or a transmittance or reflectance for the entire visible region, or for the entire visible region. Among the transmittance or reflectance, it may be the maximum or minimum transmittance or reflectance, or the average value of transmittance or reflectance in the visible light region. In addition, in another example, the transmittance may be a transmittance of light having a wavelength of about 550 nm.

본 출원의 광변조 디바이스는 일 예시에서,차단 모드일 때 경사각 투과율의 최대값이 17% 이하일 수 있다. 본 명세서에서 경사각 투과율은, 측정 대상의 기준면(예를 들어, 광변조 디바이스의 편광층, 광변조층 및/또는 고분자 필름 기재의 표면)의 법선 방향인 z축 방향으로부터의 경사각이 Θ가 되는 축의 방향과 평행하게 측정 대상을 투과하는 광의 투과율일 수 있으며, 경사각 투과율의 최대값은, 경사각 Θ의 광에 대한 투과율을 동경각 Φ를 0도 내지 360도로 달리하면서 측정한 투과율 중 가장 큰 값을 의미할 수 있다. 예를 들어, 광변조 디바이스의 기준면의 법선 방향인 z축 방향으로부터의 경사각 Θ를 -60도, -45도, -30도, -15도, 15도, 30도, 45도, 60도로 달리하여, 각각의 경사각 Θ에 대해 동경각 Φ를 0도, 30도, 60도, 90도, 120도, 150도, 180도로 하여 측정한 56가지의 투과율 중 가장 큰 값을 의미할 수 있다. 상기 동경각 Φ 0도는, 하나의 예시에서, 배향막의 러빙 배향을 의미할 수 있다. 본 출원에서 경사각 투과율의 최대값은 다른 예시에서, 16% 이하, 15% 이하, 14% 이하, 13% 이하, 12% 이하, 11% 이하, 10% 이하, 9% 이하, 8% 이하, 7% 이하, 6% 이하, 5% 이하, 4% 이하, 3% 이하, 2% 이하 또는 1% 이하이거나, 0% 이상, 1% 이상, 2% 이상, 3% 이상, 4% 이상, 5% 이상, 6% 이상, 7% 이상, 8% 이상, 9% 이상, 10% 이상, 11% 이상, 12% 이상 또는 13% 이상일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In an example, in the optical modulation device of the present application, the maximum value of the inclination angle transmittance may be 17% or less in the blocking mode. In the present specification, the inclination angle transmittance is of the axis at which the inclination angle from the z-axis direction, which is the normal direction of the reference plane to be measured (for example, the surface of the polarizing layer, the optical modulation layer, and/or the polymer film substrate) is Θ. It may be the transmittance of light that passes through the measurement object in parallel with the direction, and the maximum value of the inclination angle transmittance refers to the largest value among the transmittances measured while varying the transmittance of the light at the inclination angle Θ from 0 degrees to 360 degrees. can do. For example, the inclination angle Θ from the z-axis direction, which is the normal direction of the reference plane of the optical modulation device, is changed to -60 degrees, -45 degrees, -30 degrees, -15 degrees, 15 degrees, 30 degrees, 45 degrees, and 60 degrees. , For each inclination angle Θ, it may mean the largest value among 56 types of transmittances measured with an elongation angle Φ of 0 degrees, 30 degrees, 60 degrees, 90 degrees, 120 degrees, 150 degrees, and 180 degrees. The elongation angle Φ 0 degrees, in one example, may mean the rubbing orientation of the alignment layer. In the present application, the maximum value of the inclination angle transmittance is, in other examples, 16% or less, 15% or less, 14% or less, 13% or less, 12% or less, 11% or less, 10% or less, 9% or less, 8% or less, 7 % Or less, 6% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, 2% or less, or 1% or less, or 0% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, 4% or more, 5% It may be more than, 6% or more, 7% or more, 8% or more, 9% or more, 10% or more, 11% or more, 12% or more, or 13% or more, but is not limited thereto.

본 출원은 상기와 같은 특유의 구조 하에서, 투과 모드일 때의 투과율이 20% 이상이면서 경사각의모든 동경각에서 측정한 투과율의 최대값이 17% 이하가 되도록 광변조층에 이색성 염료를 특정 비율로 포함할 수 있으며, 상기 비율은 전술한 대로 광변조층 내의 이색성 염료의 비율이 5 중량% 이하 정도로 포함되는 것을 의미할 수 있다.The present application provides a specific ratio of a dichroic dye in the light modulation layer so that the transmittance in the transmission mode is 20% or more and the maximum value of the transmittance measured at all moving angles of the inclination angle is 17% or less under the unique structure as described above. As described above, the ratio may mean that the ratio of the dichroic dye in the light modulation layer is included in about 5% by weight or less.

본 출원은 전술한 특유의 구조 및/또는 배치를 가지면서 이색성 염료를 상기와 같은 비율로 포함하는 광변조층을 도입함으로써, 우수한 투과율 가변 특성을 나타내면서도 경사각에서의 빛샘 현상 등이 개선된 광변조 디바이스를 제공할 수 있다. The present application introduces a light modulation layer having the above-described unique structure and/or arrangement and containing a dichroic dye in the same ratio as described above, thereby exhibiting excellent transmittance variable characteristics and improved light leakage at an inclination angle. It is possible to provide a modulation device.

본 출원의 광변조 디바이스는, 예를 들어, 대향 배치된 상기 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판의 간격이 격벽 형태의 스페이서로 유지되어 있을 수 있다. In the optical modulation device of the present application, for example, the distance between the first and second polymer film substrates disposed opposite to each other may be maintained by a spacer in the form of a partition wall.

일 예시에서, 본 출원의 광변조 디바이스는 도 4와 같이, 제 1 편광층(101), 제 1 고분자 필름 기판(102), 도전층(400a), 접착제층 또는 점착제층(103)이 순차 형성되어 있는 상부 기판(100)과, 액정 배향막(203), 도전층(400b), 제 2 고분자 필름 기판(202), 제 2 편광층(201)이 순차 형성되어 있는 하부 기판(200) 및 상기 상부 기판과 하부 기판 사이의 간격(G)을 유지할 수 있도록 하는 격벽 형태의 스페이서(500)를 포함할 수 있다. 또한, 도 4 에 나타낸 대로, 광변조층(300)은 스페이서(500)가 존재하지 않는 영역 내에 존재할 수 있다. In one example, the light modulation device of the present application is sequentially formed with a first polarizing layer 101, a first polymer film substrate 102, a conductive layer 400a, an adhesive layer or an adhesive layer 103, as shown in FIG. 4 The upper substrate 100 is formed, the liquid crystal alignment layer 203, the conductive layer 400b, the second polymer film substrate 202, the lower substrate 200 and the upper portion in which the second polarizing layer 201 is sequentially formed. A spacer 500 in the form of a partition wall to maintain the gap G between the substrate and the lower substrate may be included. In addition, as shown in FIG. 4, the optical modulation layer 300 may exist in a region where the spacer 500 does not exist.

본 출원에서 상기 스페이서는 경화성 수지를 포함할 수 있다. 경화성 수지의 종류는 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 가열 경화성 수지 또는 광 경화성 수지, 예를 들어 자외선 경화성 수지를 사용할 수 있다. 가열 경화성 수지로는 예를 들어, 실리콘 수지, 규소 수지, 프란 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노 수지, 페놀 수지, 요소 수지, 폴리에스테르 수지 또는 멜라민 수지 등을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 자외선 경화성 수지로는 대표적으로 아크릴 중합체, 예를 들어, 폴리에스테르 아크릴레이트 중합체, 폴리스티렌 아크릴레이트 중합체, 에폭시 아크릴레이트 중합체, 폴리우레탄 아크릴레이트 중합체 또는 폴리부타디엔 아크릴레이트 중합체, 실리콘 아크릴레이트 중합체 또는 알킬 아크릴레이트 중합체 등을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 일 예시에서, 상기 스페이서는 아크릴 중합체, 보다 구체적으로 폴리에스터계 아크릴레이트 주합체를 사용하여 형성될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 예시에서, 실리콘 중합체를 사용하여 형성될 수도 있으며, 스페이서를 실리콘 중합체를 사용하여 형성하는 경우, 스페이서의 오목한 영역에 잔존하는 실리콘 중합체가 수직 배향막의 역할을 수행할 수 있으므로 후술하는 바와 같이 스페이서가 존재하는 기판에 추가의 수직 배향막을 사용하지 않을 수도 있다. 실리콘 중합체로는 규소와 산소의 결합(Si-O-Si)을 주축으로 하는 공지의 중합체를 사용할 수 있고, 예를 들어, 폴리디메틸실록산(PDMS, Polydimethylsiloxane)를 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. In the present application, the spacer may include a curable resin. The kind of curable resin is not particularly limited, and for example, a heat curable resin or a photocurable resin such as an ultraviolet curable resin can be used. As the heat curable resin, for example, silicone resin, silicon resin, fran resin, polyurethane resin, epoxy resin, amino resin, phenol resin, urea resin, polyester resin, or melamine resin may be used, but is not limited thereto. . UV-curable resins are typically acrylic polymers, such as polyester acrylate polymers, polystyrene acrylate polymers, epoxy acrylate polymers, polyurethane acrylate polymers or polybutadiene acrylate polymers, silicone acrylate polymers or alkyl acrylates. Polymers and the like may be used, but are not limited thereto. In one example, the spacer may be formed using an acrylic polymer, more specifically a polyester-based acrylate main body, but is not limited thereto. In another example, it may be formed using a silicone polymer, and when the spacer is formed using a silicone polymer, since the silicone polymer remaining in the concave region of the spacer may serve as a vertical alignment layer, the spacer may be formed as described below. An additional vertical alignment layer may not be used on the existing substrate. As the silicone polymer, a known polymer having a silicon-oxygen bond (Si-O-Si) as a main axis may be used. For example, polydimethylsiloxane (PDMS) may be used, but the present invention is not limited thereto.

스페이서의 형상 및 배열 방식은 예를 들어, 하부 기판과 상부 기판 간 일정한 간격을 유지할 수 있도록 하는 범위 내에서 적절히 설계될 수 있다. 일 예시에서, 상기 스페이서는 격벽 형상으로 구획을 이루도록 존재할 수 있으며, 다른 예시에서, 하나 또는 둘 이상의 기둥 형상이 이격되어 존재할 수도 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. The shape and arrangement of the spacers may be appropriately designed within a range capable of maintaining a constant gap between the lower substrate and the upper substrate, for example. In one example, the spacer may be present to form a partition in the shape of a partition wall, and in another example, one or two or more column shapes may be spaced apart, but the present invention is not limited thereto.

상기 스페이서의 피치, 선폭, 높이 및 상부 또는 하부 기판에서의 면적 비율은 본 출원의 목적을 손상시키지 않는 범위 내에서 적절히 선택될 수 있다. The pitch, line width, height, and area ratio of the spacer on the upper or lower substrate may be appropriately selected within a range not impairing the object of the present application.

상기 스페이서의 피치는 예를 들어, 50㎛ 내지 500㎛일 수 있고, 다른 예시에서 100㎛ 이상, 150㎛ 이상, 200㎛ 이상, 250㎛ 이상, 300㎛ 이상 또는 350㎛ 이상이거나 450㎛ 이하, 400㎛ 이하 또는 350㎛ 이하일 수 있다.The pitch of the spacer may be, for example, 50 µm to 500 µm, and in another example, 100 µm or more, 150 µm or more, 200 µm or more, 250 µm or more, 300 µm or more, 350 µm or more, 450 µm or less, 400 It may be less than or equal to µm or less than or equal to 350 µm.

상기 스페이서의 선폭은 예를 들어, 1㎛ 내지 50㎛일 수 있고, 다른 예시에서 2㎛ 이상, 3㎛ 이상, 4㎛ 이상, 5㎛ 이상, 6㎛ 이상, 7㎛ 이상, 8㎛ 이상, 9㎛ 이상, 10㎛ 이상, 11㎛ 이상, 12㎛ 이상, 13㎛ 이상, 14㎛ 이상, 15㎛ 이상 또는 16㎛ 이상이거나 45㎛ 이하, 40㎛ 이하, 35㎛ 이하, 30㎛ 이하, 25㎛ 이하, 20㎛ 이하, 19㎛ 이하, 18㎛ 이하, 17㎛ 이하 또는 16㎛ 이하일 수 있다. The line width of the spacer may be, for example, 1 µm to 50 µm, and in other examples, 2 µm or more, 3 µm or more, 4 µm or more, 5 µm or more, 6 µm or more, 7 µm or more, 8 µm or more, 9 Μm or more, 10 µm or more, 11 µm or more, 12 µm or more, 13 µm or more, 14 µm or more, 15 µm or more, 16 µm or more, 45 µm or less, 40 µm or less, 35 µm or less, 30 µm or less, 25 µm or less , 20 μm or less, 19 μm or less, 18 μm or less, 17 μm or less, or 16 μm or less.

본 출원에서 상기 스페이서의 높이는 상부 기판과 하부 기판 간의 간격을 고려하여 조절될 수 있다. 예를 들어, 상기 스페이서의 높이는 1㎛ 내지 20㎛일 수 있고, 다른 예시에서, 2㎛ 이상, 3㎛ 이상, 4㎛ 이상, 5㎛ 이상, 6㎛ 이상, 7㎛ 이상 또는 8㎛ 이상이거나 19㎛ 이하, 18㎛ 이하, 17㎛ 이하, 16㎛ 이하, 15㎛ 이하, 14㎛ 이하, 13㎛ 이하, 12㎛ 이하, 11㎛ 이하, 10㎛ 이하, 9㎛ 이하 또는 8㎛ 이하일 수 있다. In the present application, the height of the spacer may be adjusted in consideration of the distance between the upper substrate and the lower substrate. For example, the height of the spacer may be 1 μm to 20 μm, and in another example, 2 μm or more, 3 μm or more, 4 μm or more, 5 μm or more, 6 μm or more, 7 μm or more, or 8 μm or more, or 19 It may be µm or less, 18 µm or less, 17 µm or less, 16 µm or less, 15 µm or less, 14 µm or less, 13 µm or less, 12 µm or less, 11 µm or less, 10 µm or less, 9 µm or less, or 8 µm or less.

본 출원에서 하부 기판 또는 상부 기판에 존재하는 스페이서의 면적 비율은 상부 또는 하부 기판의 면적에 대하여 약 0.1% 내지 50%일 수 있다. 본 출원에서 상기 스페이서의 면적 비율이 클수록 상부 기판과 하부 기판의 접착력이 증가할 수 있다. 다른 예시에서, 1% 이상, 2% 이상, 3% 이상, 4% 이상, 5% 이상, 6% 이상, 7% 이상, 8% 이상 또는 9% 이상이거나 45% 이하, 40% 이하, 35% 이하, 30% 이하, 25% 이하, 20% 이하, 15% 이하, 10% 이하 또는 9% 이하일 수 있다. In the present application, the area ratio of the spacer existing on the lower substrate or the upper substrate may be about 0.1% to 50% with respect to the area of the upper or lower substrate. In the present application, as the area ratio of the spacer increases, the adhesion between the upper substrate and the lower substrate may increase. In another example, 1% or more, 2% or more, 3% or more, 4% or more, 5% or more, 6% or more, 7% or more, 8% or more, 9% or more, 45% or less, 40% or less, 35% It may be less than, 30% or less, 25% or less, 20% or less, 15% or less, 10% or less, or 9% or less.

상기와 같은 광변조 디바이스는 다양한 용도에 적용될 수 있다. 광변조 디바이스가 적용될 수 있는 용도에는, 윈도우 또는 선루프 등과 같은 건물, 용기 또는 차량 등을 포함하는 밀폐된 공간의 개구부나 아이웨어(eyewear) 등이나 창호용, OLED(organic light emitting device)의 차광판 등이 예시될 수 있다. 상기에서 아이웨어의 범위에는, 일반적인 안경, 선글라스, 스포츠용 고글 내지는 헬멧 또는 가상 현실 또는 증강 현실 체험용 기기 등과 같은 웨어러블 기기 등, 관찰자가 렌즈를 통하여 외부를 관찰할 수 있도록 형성된 모든 아이 웨어가 포함될 수 있다. The optical modulation device as described above can be applied to various applications. Applications to which the light modulation device can be applied include openings in closed spaces including buildings, containers, or vehicles such as windows or sunroofs, eyewear, or windows, and light shielding plates of organic light emitting devices (OLEDs). And the like can be exemplified. In the above, the range of eyewear includes all eyewear formed so that an observer can observe the outside through a lens, such as general glasses, sunglasses, sports goggles or helmets, or wearable devices such as virtual reality or augmented reality experience devices. I can.

본 출원의 광변조 디바이스가 적용될 수 있는 대표적인 용도에는 차량용 선루프가 있을 수 있다. A typical application to which the optical modulation device of the present application can be applied may be a sunroof for a vehicle.

하나의 예시에서 상기 광변조 디바이스는, 그 자체로서 차량용 선루프일 수 있다. 예를 들면, 적어도 하나 이상의 개구부가 형성되어 있는 차체를 포함하는 자동차에 있어서 상기 개구부에 장착된 상기 광변조 디바이스 또는 차량용 선루프를 장착하여 사용될 수 있다.In one example, the optical modulation device may itself be a sunroof for a vehicle. For example, in a vehicle including a vehicle body in which at least one opening is formed, the optical modulation device or a vehicle sunroof mounted on the opening may be mounted and used.

선루프는, 차량의 천장에 존재하는 고정된 또는 작동(벤팅 또는 슬라이딩)하는 개구부(opening)로서, 빛 또는 신선한 공기가 차량의 내부로 유입되도록 하는 기능을 할 수 있는 장치를 통칭하는 의미일 수 있다. 본 출원에서 선루프의 작동 방식은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 수동으로 작동하거나 또는 모터로 구동할 수 있으며, 선루프의 형상, 크기 또는 스타일은 목적하는 용도에 따라 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 선루프는 작동 방식에 따라 팝-업 타입 선루프, 스포일러(tile & slide) 타입 선루프, 인빌트 타입 선루프, 폴딩 타입 선루프, 탑-마운트 타입 선루프, 파노라믹 루프 시스템 타입 선루프, 제거 가능한 루프 패널즈(t-tops 또는 targa roofts) 타입 선루프 또는 솔라 타입 선루프 등이 예시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. The sunroof is a fixed or actuated (venting or sliding) opening in the ceiling of a vehicle, and may collectively refer to a device capable of functioning to allow light or fresh air to flow into the interior of the vehicle. have. In the present application, the operating method of the sunroof is not particularly limited, for example, it may be manually operated or driven by a motor, and the shape, size, or style of the sunroof may be appropriately selected according to the intended use. For example, depending on how it works, a sunroof is a pop-up type sunroof, a tile & slide type sunroof, an in-built type sunroof, a folding type sunroof, a top-mount type sunroof, and a panoramic roof. A system type sunroof, a removable roof panel (t-tops or targa roofts) type sunroof, or a solar type sunroof may be exemplified, but is not limited thereto.

본 출원의 예시적인 선루프는 본 출원의 상기 광변조 디바이스를 포함할 수 있고, 이 경우 광변조 디바이스에 대한 구체적인 사항은 상기 광변조 디바이스의 항목에서 기술한 내용이 동일하게 적용될 수 있다. The exemplary sunroof of the present application may include the optical modulation device of the present application, and in this case, the details of the optical modulation device may be the same as those described in the item of the optical modulation device.

본 출원에서는 투과율 가변 특성이 우수하면서, 경사각에서의 빛샘 현상 등의 문제를 유발하지 않아 다양한 용도로의 적용이 가능한 광변조 디바이스를 제공할 수 있다. In the present application, it is possible to provide an optical modulation device that has excellent transmittance variable characteristics and does not cause problems such as light leakage at an inclination angle, and thus can be applied to various purposes.

도 1 내지 4는 예시적인 광변조 디바이스의 모식도이다.
도 5는 경사각과 동경각을 설명하기 위한 모식도이다.
도 6은 굴절률 이방성을 평가하기 위한 방법을 보여주는 도면이다.
1 to 4 are schematic diagrams of exemplary optical modulation devices.
5 is a schematic diagram for explaining an inclination angle and a moving angle.
6 is a diagram showing a method for evaluating refractive index anisotropy.

이하 실시예 및 비교예를 통하여 본 출원을 구체적으로 설명하지만, 본 출원의 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다. Hereinafter, the present application will be specifically described through Examples and Comparative Examples, but the scope of the present application is not limited by the following Examples.

1.One. 고분자 필름 기판의 면상 위상차 평가Planar retardation evaluation of polymer film substrates

고분자 필름의 면상 위상차(Rin)는 Agilent사의 UV/VIS spectroscope 8453 장비를 이용하여 측정하였다(550 nm 파장 기준). UV/VIS spectroscope에 2장의 편광자를 투과축이 서로 직교하도록 설치하고, 상기 2장의 편광자 사이에 고분자 필름을 그 지상축이 2장의 편광자의 투과축과 각각 45도를 이루도록 위치시킨 후, 파장에 따른 투과도를 측정하였다. 파장에 따른 투과도 그래프에서 각 피크(peak)들의 위상 지연 차수(Phase retardation order)를 구하였다. 구체적으로, 파장에 따른 투과도 그래프에서 파형은 하기 수식 A를 만족하고, 사인(Sine) 파형에서 최대 피크(Tmax) 조건은 하기 수식 B을 만족한다. 수식 A에서 λmax인 경우, 수식 A의 T와 수식 B의 T는 동일하기 때문에 수식을 전개한다. n+1, n+2 및 n+3에 대해서도 수식을 전개하고, n과 n+1 수식을 정리해서 R을 소거하여 n을 λn 및 λn+1 수식으로 정리하면, 하기 수식 C가 도출된다. 수식 A의 T와 수식 B의 T가 동일함에 근거하여 n과 λ를 알 수 있으므로 각 λn, λn+1, λn+2 및 λn+3 대해 R을 구한다. 4 포인트에 대해 파장에 따른 R값의 직선 추세선을 구하고 수식 550 nm에 대한 R 값을 산정한다. 직선 추세선의 함수는 Y=ax+b이고, a 및 b는 상수이다. 상기 함수의 x에 550nm를 대입했을 때의 Y 값이 550 nm 파장의 광에 대한 Rin 값이다.The plane retardation (Rin) of the polymer film was measured using Agilent's UV/VIS spectroscope 8453 equipment (based on a wavelength of 550 nm). Two polarizers are installed in a UV/VIS spectroscope so that their transmission axes are orthogonal to each other, and a polymer film is placed between the two polarizers so that the slow axis forms 45 degrees with the transmission axes of the two polarizers. The transmittance was measured. In the transmittance graph according to the wavelength, the phase retardation order of each peak was calculated. Specifically, in the transmittance graph according to wavelength, the waveform satisfies Equation A below, and the maximum peak Tmax condition in the Sine waveform satisfies Equation B below. In the case of λmax in Equation A, since T in Equation A and T in Equation B are the same, the equation is developed. Equations are also developed for n+1, n+2, and n+3, and the following equations C are derived by arranging n and n+1 equations to eliminate R and arranging n into λn and λn+1 equations. Since n and λ can be known based on the same T in Equation A and T in Equation B, R is obtained for each of λn, λn+1, λn+2, and λn+3. For 4 points, calculate the linear trend line of the R value according to the wavelength, and calculate the R value for Equation 550 nm. The function of a straight line trend line is Y=ax+b, and a and b are constants. When 550 nm is substituted for x of the function, the Y value is the Rin value for light having a wavelength of 550 nm.

[수식 A][Equation A]

T = sin2[(2πR/λ)]T = sin2[(2πR/λ)]

[수식 B][Equation B]

T = sin2[((2n+1)π/2)]T = sin2[((2n+1)π/2)]

[수식 C][Equation C]

n = (λn -3λn+1)/(2λn+1 +1-2λn)n = (λn -3λn+1)/(2λn+1 +1-2λn)

상기에서 R은 면상 위상차(Rin)를 의미하고, λ는 파장을 의미하고, n은 사인파형의 꼭지 차수를 의미한다.In the above, R denotes a plane phase difference (Rin), λ denotes a wavelength, and n denotes the peak order of a sine wave.

2.2. 광변조층의 두께Thickness of light modulation layer

광변조층의 두께는 스페이서의 높이와 대략 일치한다. 따라서, 상기 스페이서의 높이를 측정 장비(Optical profiler, Nano system社, Nano View-E1000)를 사용하여 확인하고, 상기 스페이서의 높이를 광변조층의 두께(cell gap)으로 하였다. The thickness of the light modulation layer approximately coincides with the height of the spacer. Accordingly, the height of the spacer was checked using a measuring device (Optical profiler, Nano System Co., Nano View-E1000), and the height of the spacer was taken as the thickness of the optical modulation layer (cell gap).

3.3. 정면 투과율 및 경사각 투과율의 최대값 측정Measurement of maximum values of frontal transmittance and inclination angle transmittance

도 3에서 상부 기판 및 하부 기판의 도전층(400a, 400b) 각각에 AC 전원을 연결하고 구동시키면서 인가된 전압에 따른 투과율을 헤이즈미터(NDH5000SP, 세코스社)를 이용하여, ASTM D1003규격에 따라 측정하였다.In FIG. 3, the transmittance according to the applied voltage while connecting and driving AC power to each of the conductive layers 400a and 400b of the upper and lower substrates was measured using a haze meter (NDH5000SP, Sekos) according to ASTM D1003 standard. It was measured.

구체적으로, 적분구 내의 측정 대상에 380nm 내지 780nm 파장의 광을 입사시키면, 입사된 광은 측정 대상에 의하여 확산광(DT, 확산되어 출광된 모든 광의 합)과 직진광(PT, 확산광을 배제한 정면 방향의 출광)으로 분리된다. 상기 확산광과 직진광을 적분구 내에서 수광 소자에 집광시켜 각각 측정할 수 있다. 즉, 상기 과정에 의해서 전체 투과광(TT)은 상기 확산광(DT)과 직진광(PT)의 총합(DT+PT)으로 규정될 수 있다. 상기 전체 투과광은 전체 투과율을 의미한다.Specifically, when light with a wavelength of 380nm to 780nm is incident on the measurement object in the integrating sphere, the incident light is diffused light (DT, the sum of all the diffused and emitted light) and straight light (PT, excluding diffused light) by the measurement object. It is separated by a front-facing light). The diffused light and the straight light can be measured by condensing the light-receiving element in the integrating sphere. That is, through the above process, the total transmitted light TT may be defined as the sum of the diffused light DT and the straight light PT (DT+PT). The total transmitted light means total transmittance.

정면 투과율과 경사각 투과율을 각각 측정하여, 하기 표 1에 기재하였다. 정면 투과율은, 0V(차단 모드) 및 30V의 전압을 인가한 상태(투과 모드)에서 각각 측정하였다. 정면 투과율은, 측정 대상의 기준면(예를 들어, 광변조 디바이스의 편광층, 광변조층 및/또는 고분자 필름 기재의 표면)의 법선 방향인 z축 방향과 평행하게 측정 대상을 투과하는 광의 투과율이다. 경사각 투과율은, 측정 대상의 기준면(예를 들어, 광변조 디바이스의 편광층, 광변조층 및/또는 고분자 필름 기재의 표면)의 법선 방향인 z축 방향으로부터의 경사각이 Θ가 되는 축의 방향과 평행하게 측정 대상을 투과하는 광의 투과율이며, 경사각 투과율의 최대값은, 경사각 Θ의 광에 대한 투과율을 동경각 Φ를 0도, 30도, 60도, 90도, 120도, 150도, 180도로 달리하면서 측정한 후, 그 중 가장 큰 값으로 하였다. 이 때 Θ 는 -60도, -45도, -30도, -15도, 15도, 30도, 45도, 60도로 하여 측정하였다(도 5 참조). 즉, 경사각 Θ -60도, -45도, -30도, -15도, 15도, 30도, 45도, 60도에 대하여 동경각 Φ를 0도, 30도, 60도, 90도, 120도, 150도, 180도로 달리하여 측정한 56개의 경사각 투과율 중 가장 큰 값을 표 1에 기재하였다. The front transmittance and the inclination angle transmittance were measured, respectively, and are shown in Table 1 below. The front transmittance was measured in a state in which voltages of 0 V (blocking mode) and 30 V were applied (transmission mode), respectively. The front transmittance is the transmittance of light that passes through the measurement object parallel to the z-axis direction, which is the normal direction of the reference plane of the measurement object (e.g., the surface of the polarizing layer, the optical modulation layer and/or the polymer film substrate of the optical modulation device). . The inclination angle transmittance is parallel to the direction of the axis at which the inclination angle from the z-axis direction, which is the normal direction of the reference plane of the measurement object (for example, the surface of the polarizing layer, the optical modulation layer, and/or the polymer film substrate) is Θ. It is the transmittance of light that passes through the object to be measured, and the maximum value of the inclination angle transmittance is different from the transmittance of the light at the inclination angle Θ to 0 degrees, 30 degrees, 60 degrees, 90 degrees, 120 degrees, 150 degrees, 180 degrees. After measuring while doing, it was set as the largest value among them. At this time, Θ was measured at -60 degrees, -45 degrees, -30 degrees, -15 degrees, 15 degrees, 30 degrees, 45 degrees, and 60 degrees (refer to FIG. 5). That is, for inclination angles Θ -60 degrees, -45 degrees, -30 degrees, -15 degrees, 15 degrees, 30 degrees, 45 degrees, 60 degrees, the elongation angle Φ is set to 0 degrees, 30 degrees, 60 degrees, 90 degrees, and 120 degrees. Table 1 shows the largest value among 56 inclination angle transmittances measured at different degrees, 150 degrees, and 180 degrees.

4.4. 광변조층(액정층)의 굴절률 이방성 평가Evaluation of refractive index anisotropy of light modulation layer (liquid crystal layer)

광변조층의 굴절률 이방성(△n)은 Abbe 굴절계를 사용하여 다음의 방식으로 평가한다. Abbe 굴절계의 Measuring Prism과 illumination Prism의 면에 수직배향막을 코팅하고, 측정하고자 하는 액정 화합물을 Measuring Prism에 도포한 후에 illumination Prism으로 덮어주면, 두 계면의 수직배향력에 의해 액정 화합물은 수직으로 배향된다. 상기 과정에서 적용되는 액정 화합물은, 이색성 염료 등 다른 물질과 혼합되지 않은 광변조층에 적용될 액정 화합물만이다. The refractive index anisotropy (Δn) of the light modulation layer is evaluated in the following manner using an Abbe refractometer. After coating the vertical alignment layer on the measuring prism and illumination prism of Abbe refractometer, applying the liquid crystal compound to be measured to the measuring prism and covering it with illumination prism, the liquid crystal compound is vertically aligned by the vertical alignment force of the two interfaces. . The liquid crystal compound applied in the above process is only a liquid crystal compound to be applied to the light modulation layer that is not mixed with other materials such as dichroic dyes.

그 후, 도 6에 나타난 바와 같이 접안렌즈쪽(grounded 부)에 선형 편광판을 적용하여 광(light)을 조사하여 관측하면, 도 6에 나타난 것과 같은 θe 및 θo를 구할 수 있고, Measuring prism의 굴절률(np)과 상기 각도(θe 및 θo)를 통해 이상 굴절률(ne=npsinθe)과 정상 굴절률(no=npsinθo)을 구할 수 있으며, 그 차이(ne-no)가 굴절률 이방성으로 규정될 수 있다. 상기 측정 시의 기준 파장은 대략 550nm이다.Thereafter, as shown in FIG. 6, when a linear polarizing plate is applied to the eyepiece side (grounded part) and observed by irradiating light, θ e and θ o as shown in FIG. 6 can be obtained, and Measuring prism The ideal refractive index (n e = n p sinθ e ) and the normal refractive index (n o = n p sinθ o ) can be obtained through the refractive index of (n p ) and the angles (θ e and θ o ), and the difference (n e -n o ) can be defined as refractive index anisotropy. The reference wavelength at the time of the measurement is approximately 550 nm.

실시예 1.Example 1.

제 1 및 제 2 고분자 필름 기판으로, 연신 PET(Polyethylene terephthalate) 필름 기판(두께: 145㎛, 제조사: SKC)을 사용하여 디바이스를 제작하였다. 상기 PET 필름 기판은 550nm 파장의 광에 대한 면상 위상차가 약 10,000nm 내지 15,000nm의 범위 내였다. As the first and second polymer film substrates, a device was fabricated using a stretched PET (polyethylene terephthalate) film substrate (thickness: 145 μm, manufacturer: SKC). The PET film substrate had a plane retardation with respect to light having a wavelength of 550 nm in the range of about 10,000 nm to 15,000 nm.

제 1 PET 필름 기판의 일면에 우선 ITO(Indium Tin Oxide)막(도전층)을 증착하고, 상기 ITO 막 상에 실리콘 점착제(Shinetsu社, KR3700)를 바 코팅한 후 약 100℃에서 100분 간 경화시켜 약 10㎛ 두께의 접착제층을 형성하였다(상부 기판). 상기 제 2 PET 필름 기판의 일면에 우선 ITO(Indium Tin Oxide)막(도전층)을 증착하고, 상기 ITO막 상에 셀 갭(Cell gap) 유지를 위한 정사각형 격벽 형태의 스페이서(피치: 350㎛, 높이: 8㎛, 선폭: 10㎛, 면적 비율: 9%)를 형성하였다. 그 후, 광변조층(액정층)의 초기 배향제어를 위해 대략 100nm 두께의 폴리이미드계 수직 배향막(SE-5661LB3, Nissan社)을 형성한 후, 러빙 포로 러빙 처리하였다. 이 때 러빙 방향은 하부 PET 필름 기판의 지상축에 수평이 되도록 하였다(하부 기판). First, an ITO (Indium Tin Oxide) film (conductive layer) is deposited on one surface of the first PET film substrate, and a silicone adhesive (Shinetsu, KR3700) is bar-coated on the ITO film, and then cured at about 100°C for 100 minutes. Then, an adhesive layer having a thickness of about 10 μm was formed (upper substrate). First, an indium tin oxide (ITO) film (conductive layer) is deposited on one surface of the second PET film substrate, and a spacer in the form of a square partition wall for maintaining a cell gap on the ITO film (pitch: 350 μm, Height: 8 µm, line width: 10 µm, area ratio: 9%) was formed. Thereafter, a polyimide vertical alignment film (SE-5661LB3, Nissan) having a thickness of approximately 100 nm was formed to control the initial orientation of the light modulation layer (liquid crystal layer), and then rubbing treatment was performed with a rubbing cloth. At this time, the rubbing direction was set to be horizontal to the slow axis of the lower PET film substrate (lower substrate).

이어서, 상기 상부 기판의 접착제층과 하부 기판의 배향막이 대향하도록 배치하고(Cell gap: 8㎛), 그 내부에 액정 물질을 주입한 후에 라미네이션 공정을 통하여 디바이스를 제작하였다. 상기 액정 물질로는, 굴절률 이방성(△n)이 대략 0.094인 음의 유전율 이방성을 가지는 액정 화합물(SHN-7002XX T12, JNC社)에 이색성 염료로서 X12(BASF社)를 배합한 후, 키랄 도펀트(S811, Merck社)를 추가로 배합한 조성물을 사용하였다. 이 때, 상기 이색성 염료는 상기 액정 물질에 대해 대략 0.4 중량%로 포함되도록 배합하였으며, 상기 키랄 도펀트는 상기 액정 물질에 대해 대략 0.5 중량%로 포함되도록 배합하여, 키랄 피치(chiral pitch)가 대략 20㎛ 정도가 되도록 하였다. Subsequently, the adhesive layer of the upper substrate and the alignment layer of the lower substrate were disposed to face each other (Cell gap: 8 μm), and a liquid crystal material was injected into the device, and then a device was manufactured through a lamination process. As the liquid crystal material, after mixing X12 (BASF) as a dichroic dye to a liquid crystal compound (SHN-7002XX T12, JNC) having a negative dielectric anisotropy having a refractive index anisotropy (Δn) of approximately 0.094, a chiral dopant (S811, Merck Co.) was used to add a composition. At this time, the dichroic dye was formulated to be contained in an amount of about 0.4% by weight with respect to the liquid crystal material, and the chiral dopant was formulated to be contained in an amount of approximately 0.5% by weight with respect to the liquid crystal material, so that a chiral pitch was approximately It was made to be about 20㎛.

이어서, 상기 제 1 PET 필름 기판의 ITO막(도전층)도전층이 형성되지 않은 면에 제 1 편광층을 부착하고, 상기 제 2 PET 필름 기판의 ITO 도전층이 형성되어 있지 않은 면에 제 2 편광층을 부착하였다. 상기 제 1 및 제 2 편광층으로는 PVA 필름에 요오드를 흡착시켜 고온/연신을 통하여 제작한 일반적인 PVA 편광층을 사용하였다.Then, a first polarizing layer is attached to the surface of the first PET film substrate on which the ITO film (conductive layer) is not formed, and the second polarizing layer is attached to the surface of the second PET film substrate on which the ITO conductive layer is not formed. A polarizing layer was attached. As the first and second polarizing layers, a general PVA polarizing layer prepared through high temperature/stretching by adsorbing iodine on a PVA film was used.

상기 배치 시에는 제 1 및 제 2 PET 필름 기판의 지상축 방향 및 제 1 편광층의 흡수축이 서로 평행하도록 하고, 상기 제 2 편광층의 흡수축은 상기 제 1 편광층의 흡수축에 대해 수직하도록 배치하였다.In the above arrangement, the slow axis directions of the first and second PET film substrates and the absorption axis of the first polarizing layer are parallel to each other, and the absorption axis of the second polarizing layer is perpendicular to the absorption axis of the first polarizing layer. Placed.

그 결과, 제 1 편광층/제 1 PET 필름 기판/ITO막/접착제층/광변조층(액정층)/배향막/ITO막/제 2 PET 필름 기판/제 2 편광층의 구조를 가지는 광변조 디바이스가 형성되었다. As a result, a light modulation device having a structure of a first polarizing layer/first PET film substrate/ITO film/adhesive layer/light modulation layer (liquid crystal layer)/alignment film/ITO film/second PET film substrate/second polarizing layer Was formed.

실시예 2.Example 2.

이색성 염료를 액정 물질에 대해 대략 0.6 중량%로 포함되도록 배합한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 제조하였다.A dichroic dye was prepared in the same manner as in Example 1, except that a dichroic dye was blended in an amount of about 0.6% by weight based on the liquid crystal material.

실시예 3.Example 3.

이색성 염료를 액정 물질에 대해 대략 1 중량%로 포함되도록 배합한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 제조하였다.It was prepared in the same manner as in Example 1, except that the dichroic dye was blended in an amount of approximately 1% by weight based on the liquid crystal material.

비교예 1.Comparative Example 1.

이색성 염료를 배합하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 제조하였다.It was prepared in the same manner as in Example 1, except that the dichroic dye was not mixed.

[표 1][Table 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

실시예 및 비교예의 광변조 디바이스에 대해 투과율을 측정하고 표 1에 나타내었다. The transmittance was measured for the optical modulation devices of Examples and Comparative Examples, and is shown in Table 1.

이색성 염료를 적용하지 않은 비교예 1의 광변조 디바이스에 대한 0V(차단 모드)에서의 정면 투과율(Θ=0, Φ=0)은 0.21%였고, 30V의 전압을 인가했을 때(투과 모드)의 정면 투과율은 23.59%였다. 또한, 0V(차단 모드)에서의 경사각 투과율의 최대값은 17.27%로 나타났다. 상기 최대값은 경사각 Θ=-60도, 동경각 Φ=120도에서 측정된 경사각 투과율 값이었다. The front transmittance (Θ=0, Φ=0) at 0V (blocking mode) for the light modulation device of Comparative Example 1 without applying a dichroic dye was 0.21%, and when a voltage of 30V was applied (transmission mode) The front transmittance of was 23.59%. In addition, the maximum value of the inclination angle transmittance at 0V (blocking mode) was found to be 17.27%. The maximum value was an inclination angle transmittance value measured at an inclination angle of Θ=-60 degrees and a moving angle of Φ=120 degrees.

이색성 염료를 액정 물질에 대해 0.4중량%로 포함한 실시예 1의 광변조 디바이스에 대한 0V(차단 모드)에서의 정면 투과율(Θ=0, Φ=0)은 0.29%였고, 30V의 전압을 인가했을 때(투과 모드)의 정면 투과율은 22.84%였다. 또한, 0V(차단 모드)에서의 경사각 투과율의 최대값은 13.92%로 나타났다. 상기 최대값은 경사각 Θ=-45도, 동경각 Φ=120도에서 측정된 경사각 투과율 값이었다. The front transmittance (Θ=0, Φ=0) at 0V (blocking mode) for the optical modulation device of Example 1 containing 0.4% by weight of the dichroic dye relative to the liquid crystal material was 0.29%, and a voltage of 30V was applied. The front transmittance at the time (transmission mode) was 22.84%. In addition, the maximum value of the inclination angle transmittance at 0V (blocking mode) was 13.92%. The maximum value was an inclination angle transmittance value measured at an inclination angle of Θ=-45 degrees and a dynamic inclination angle of Φ=120 degrees.

이색성 염료를 액정 물질에 대해 0.6중량%로 포함한 실시예 1의 광변조 디바이스에 대한 0V(차단 모드)에서의 정면 투과율(Θ=0, Φ=0)은 0.24%였고, 30V의 전압을 인가했을 때(투과 모드)의 정면 투과율은 21.32%였다. 또한, 0V(차단 모드)에서의 경사각 투과율의 최대값은 12.8%로 나타났다. 상기 최대값은 경사각 Θ=-45도, 동경각 Φ=60도에서 측정된 경사각 투과율 값이었다. The front transmittance (Θ=0, Φ=0) at 0V (blocking mode) for the optical modulation device of Example 1 containing 0.6% by weight of the dichroic dye relative to the liquid crystal material was 0.24%, and a voltage of 30V was applied. The front transmittance at the time (transmission mode) was 21.32%. In addition, the maximum value of the inclination angle transmittance at 0V (blocking mode) was 12.8%. The maximum value was an inclination angle transmittance value measured at an inclination angle of Θ=-45 degrees and an elongation angle of Φ=60 degrees.

이색성 염료를 액정 물질에 대해 1중량%로 포함한 실시예 1의 광변조 디바이스에 대한 0V(차단 모드)에서의 정면 투과율(Θ=0, Φ=0)은 0.24%였고, 30V의 전압을 인가했을 때(투과 모드)의 정면 투과율은 18.39%였다. 또한, 0V(차단 모드)에서의 경사각 투과율의 최대값은 11.92%로 나타났다. 상기 최대값은 경사각 Θ=-45도, 동경각 Φ=60도에서 측정된 경사각 투과율 값이었다. The front transmittance (Θ = 0, Φ = 0) at 0V (blocking mode) for the light modulation device of Example 1 containing 1% by weight of the dichroic dye relative to the liquid crystal material was 0.24%, and a voltage of 30V was applied. The front transmittance at the time (transmission mode) was 18.39%. In addition, the maximum value of the inclination angle transmittance at 0V (blocking mode) was 11.92%. The maximum value was an inclination angle transmittance value measured at an inclination angle of Θ=-45 degrees and a dynamic inclination angle of Φ=60 degrees.

측정 결과, 이색성 염료를 적용하지 않은 비교예 1의 광변조 디바이스 대비 이색성 염료를 적정 중량 비율로 적용한 실시예의 광변조 디바이스의 0V(차단 모드)에서의 경사각 투과율이 낮은 것으로 확인되었다. 즉, 광변조층에 이색성 염료를 일정 범위로 포함함으로써 경사각에서의 빛샘 현상 등이 제어되면서도 우수한 투과율 가변 특성을 나타내는 광변조 디바이스를 제공할 수 있음을 확인하였다.As a result of the measurement, it was confirmed that the inclination angle transmittance at 0V (blocking mode) of the light modulating device of the example to which the dichroic dye was applied in an appropriate weight ratio compared to the light modulating device of Comparative Example 1 to which the dichroic dye was not applied was low. That is, it was confirmed that by including a dichroic dye in a certain range in the light modulation layer, it was possible to provide an optical modulation device exhibiting excellent transmittance variable characteristics while controlling light leakage at an inclination angle.

10, 20 : 편광판 30 : 광변조층
100, 200 : 상부 기판, 하부 기판
101, 201 : 제 1, 제 2 편광층
102, 202 : 제 1, 제 2 고분자 필름 기판
103 : 접착제층 또는 점착제층
203 : 액정배향막
300 : 광변조층
400a, 400b : 도전층
500 : 스페이서
10, 20: polarizing plate 30: light modulation layer
100, 200: upper substrate, lower substrate
101, 201: first and second polarizing layers
102, 202: first and second polymer film substrates
103: adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer
203: liquid crystal alignment film
300: light modulation layer
400a, 400b: conductive layer
500: spacer

Claims (14)

제 1 면에는 접착제층 또는 점착제층이 형성되어 있고, 제 2 면에는 제 1 편광층이 부착되어 있는 제 1 고분자 필름 기판과 제 1 면에는 액정 배향막이 형성되어 있고, 제 2 면에는 제 2 편광층이 부착되어 있는 제 2 고분자 필름 기판을 포함하고,
상기 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판은 서로의 제 1 면이 대향하도록 배치되어 있으며,
상기 대향 배치된 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판 사이에는 액정 화합물과 이색성 염료를 포함하는 광변조층이 존재하는 광변조 디바이스.
An adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer is formed on the first surface, a first polymer film substrate on which a first polarizing layer is attached to the second surface, a liquid crystal alignment layer is formed on the first surface, and a second polarization layer is formed on the second surface. Including a second polymer film substrate to which the layer is attached,
The first and second polymer film substrates are disposed so that first surfaces of each other face each other,
A light modulation device in which a light modulation layer including a liquid crystal compound and a dichroic dye is present between the oppositely disposed first and second polymer film substrates.
제 1 항에 있어서, 광변조층 내의 이색성 염료의 비율이 5 중량 % 이하인 광변조 디바이스. The light modulating device according to claim 1, wherein the ratio of the dichroic dye in the light modulating layer is 5% by weight or less. 제 1 항에 있어서, 제 1 및 제 2 편광층의 흡수축이 서로 수직하는 광변조 디바이스.The optical modulation device according to claim 1, wherein absorption axes of the first and second polarizing layers are perpendicular to each other. 제 1 항에 있어서, 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판의 지상축은 서로 수평한 광변조 디바이스.The optical modulation device according to claim 1, wherein slow axes of the first and second polymer film substrates are horizontal to each other. 제 1 항에 있어서, 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판은 각각 550nm 파장에 대한 면상 위상차가 500nm 이상인 광변조 디바이스. The optical modulation device according to claim 1, wherein the first and second polymer film substrates each have a phase retardation of 500 nm or more with respect to a wavelength of 550 nm. 제 1 항에 있어서, 접착제층 또는 점착제층과 제 1 고분자 필름 기판의 사이와 액정 배향막과 제 2 고분자 필름 기판 사이에는 각각 도전층이 형성되어 있는 광변조 디바이스.The light modulating device according to claim 1, wherein a conductive layer is formed between the adhesive layer or the pressure-sensitive adhesive layer and the first polymer film substrate and between the liquid crystal alignment layer and the second polymer film substrate. 제 1 항에 있어서, 제 1 고분자 필름 기판에는 액정 배향막이 형성되어 있지 않은 광변조 디바이스.The optical modulation device according to claim 1, wherein a liquid crystal alignment film is not formed on the first polymer film substrate. 제 1 항에 있어서, 광변조층 내의 액정 화합물은 초기 배향이 수직 배향이고, 상기 수직 배향 상태가 외부 신호의 인가에 의해 수평 배향 상태로 변경될 수 있는 광변조 디바이스.The optical modulation device according to claim 1, wherein the liquid crystal compound in the light modulation layer has an initial alignment of vertical alignment, and the vertical alignment state can be changed to a horizontal alignment state by application of an external signal. 제 1 항에 있어서, 광변조층은 키랄 도펀트를 추가로 포함하는 광변조 디바이스.The optical modulation device of claim 1, wherein the optical modulation layer further comprises a chiral dopant. 제 1 항에 있어서, 투과 모드일 때의 투과율이 20% 이상인 광변조 디바이스. The optical modulation device according to claim 1, wherein the transmittance in the transmission mode is 20% or more. 제 1 항에 있어서, 차단 모드일 때 경사각 투과율의 최대값이 17% 이하인 광변조 디바이스. The optical modulation device according to claim 1, wherein the maximum value of the inclination angle transmittance is 17% or less in the cut-off mode. 제 1 항에 있어서, 제 1 및 제 2 고분자 필름 기판의 간격이 격벽 형태의 스페이서로 유지되어 있는 광변조 디바이스. The optical modulation device according to claim 1, wherein an interval between the first and second polymer film substrates is maintained by a spacer in the form of a partition wall. 제 1 항에 있어서, 광변조층의 두께가 15㎛ 이하인 광변조 디바이스.The optical modulation device according to claim 1, wherein the thickness of the optical modulation layer is 15 µm or less. 하나 이상의 개구부가 형성되어 있는 차체; 및 상기 개구부에 장착된 제 1 항의 광변조 디바이스를 포함하는 자동차.
A vehicle body in which one or more openings are formed; And the optical modulation device of claim 1 mounted on the opening.
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