KR20210035196A - 사마귀 치료를 위한 차가운 대기압 플라즈마의 용도 - Google Patents

Abstract

환자의 피부에 있는 사마귀를 치료하는 방법은 사마귀가 있는 조직의 영역 위에 비열 대기압 플라즈마를 사마귀의 적어도 부분적인 개선을 일으키기에 효과적인 시간 동안 안내하는 것을 포함한다.

Description

사마귀 치료를 위한 차가운 대기압 플라즈마의 용도

관련 출원의 교차 참조

본 출원은 2018 년 6 월 29 일에 출원된 미국 가출원 번호 62/692,126의 혜택을 주장하며, 그 전체가 모든 목적을 위해 여기에 통합된다.

기술분야

본 개시내용은 피부 병태를 치료하는 것에 관한 것이다. 특히, 본 개시내용은 플라즈마를 사용하여 사마귀 및 피부의 다른 병태를 치료하는 것에 관한 것이다.

피부 병태와 질병이 만연하고 종종 치료가 어렵다. 치료하지 않고 방치하면, 이들은 더욱 심각한 상태로 진행될 수 있으며 영구적인 흉터나 다양한 암과 같은 더욱 심각한 결과를 초래할 수 있다. 예를 들어, 피부 사마귀는 피부에 나타나는 거친 성장물이다. 사마귀는 환자에게 신체적 및 정서적 불편함을 유발할 수 있습니다. 본 발명은 이러한 문제들 중 일부를 다루기 위한 것이다.

본 개시내용의 한 양태에 따르면, 환자의 피부에 있는 사마귀를 치료하는 방법은 사마귀가 있는 조직의 영역 위에 비열 대기압 플라즈마(non-thermal, atmospheric pressure plasma)를 사마귀의 적어도 부분적 개선을 유발하기에 효과적인 시간 동안 안내하는 단계를 포함한다.

본 개시내용의 또 다른 양태에 따르면, 환자의 피부에 있는 사마귀를 치료하기 위한 장치는 고전압 전극, 절연 또는 반도체 장벽, 전압을 제공할 수 있는 전원 그리고 펄스 발생기를 포함한다. 이 장치는 비열 플라즈마를 생성할 수 있다.

본 출원은 첨부된 도면과 함께 읽을 때 더 이해된다. 대상을 설명하기 위해, 대상의 예시적인 실시예가 도면에 도시되어 있지만; 현재 개시된 대상은 개시된 특정 방법, 장치 및 시스템에 제한되지 않는다. 도면에서:
도 1은 일 실시예에 따른 사마귀 치료를 위한 장치를 도시하고;
도 2는, 맨 윗줄에: 환자 1: 첫 번째 치료 (a) 전과 두 번째 치료 후 5 개월 (b) 엄지 손가락 끝에 위치한 부분적으로 혀밑 사마귀를 보여주는; 가운데 줄에: 환자 1: 치료 전 (c), 첫 번째 치료 후 2 개월 (d) 및 세 번째 치료 후 4 개월 (e) 검지 손가락에 사마귀 (환자 1의 다른 치료된 병변 2 개는 표시되지 않음.)을 보여주는; 맨 아래 줄에: 환자 2: 치료 전 (f) 및 두 번째 치료 후 5 개월 (g) 사마귀 (환자 2는 추가의 치료 또는 간격 평가에 사용할 수 없다.)를 보여주는, 차가운 대기압 플라즈마로 치료된 사마귀를 도시한다.
본 개시내용의 양태는 도면을 참조하여 상세하게 설명될 것이며, 여기서 유사한 참조 번호는 달리 명시되지 않는 한 전체적으로 유사한 요소를 지칭한다.

플라즈마는 종종 물질의 네 번째 상태로 설명된다. 전형적으로, 하전된 전자와 이온은 물론 오존, 하이드록실 라디칼, 아산화질소, 전자적으로 여기된 원자 및 분자와 같은 화학적 활성 종을 포함한다. 플라즈마에서 일부 원자와 분자의 전자적 여기는 자외선 (이하 "UV")를 생성한다. 플라즈마는 또한 플라즈마에 하전된 입자가 존재하기 때문에 좋은 전기 전도체가 될 수 있다. 실온 환경에서 플라즈마는 일반적으로 전자기장에 의해 지원된다. 광전자는 전기장에서 에너지를 흡수하고 이 에너지의 일부를 플라즈마의 무거운 입자로 전달한다. 전자 에너지 전달의 속도가 무거운 입자에 의한 에너지 손실의 속도에 비해 빠르면 플라즈마는 열로 간주된다. 이러한 경우, 무거운 입자는 전자의 에너지에 필적하는 에너지에 도달하고, 플라즈마는 뜨거워진다. 다른 경우에는, 전자에 에너지를 전달할 충분한 기회가 주어지지 않으면, 더 무거운 플라즈마 구성 요소가 전자보다 훨씬 낮은 온도로 유지된다. 이러한 플라즈마는 일명 비열이며, 이들의 기체 온도는 실내 온도만큼 낮을 수 있다.

전기 방전으로 인한 플라즈마는 주로 열 에너지를 조직으로 전달하는 소작을 위해 과거에 사용되었다. 이러한 처리의 예는 아르곤 플라즈마 응고기(Argon Plasma Coagulator™) (이하 "APC") 및 관련 장비 유형을 사용하는 처리이다. 이러한 장치는 무선 주파수 (이하 "RF") 전자기장을 사용하여 유동 기체 (예 : 아르곤)에서 플라즈마를 생성한다. 이러한 장치의 플라즈마는 조직으로 상당한 전류 (보통 150 밀리 암페어 초과 그리고 짧은 시간 동안 1 암페어 초과)를 전달하는데 사용되는 연질 전극의 역할을 한다. 이는 조직을 100 ℃ 초과로 빠르게 가열하여, 전형적으로 조직 건조 및 손상을 유발시킨다.

보다 종래의 전기 소작 장치에서는, 조직을 가열하는 전류를 전달하기 위해 고체 물질로 만들어진 전도 전극이 사용된다는 점이 언급되어야 한다. 조직은 가열시 고체 전극에 달라붙을 수 있으며, 예를 들어 고체 전극 대신 플라즈마를 사용하면 APC에서 이러한 문제를 피한다.

조직으로의 전류 전달에 의존하지 않는 열 플라즈마 장치도 조직의 응고 및 소작을 위해 개발되었다. 대신, 플라즈마는 사용되어 기체를 빠르게 가열시킨다. 가열된 기체 (종종 불활성 특성으로 인해 아르곤)은 제트의 형태로 조직을 향하여 가열된 기체가 조직에 열 에너지를 전달한다. 이러한 유형의 기술을 구현하기 위한 장치의 예로는 Plasma Surgical Limited가 배포한 PlasmaJet™과 Rhytech Corporation이 특허를 받은 시스템이 있다 (미국 특허 번호 6,629,974 및 6,723,091 및 미국 공개 특허 출원 번호 US2006/0009763). 이러한 플라즈마 처리의 효과는 원격으로 생성된 플라즈마의 많은 활성 화학 종이 수명이 짧고 가열된 기체 흐름이 조직으로 이동하는 동안 살아남지 못하기 때문에 대부분 열이다.

따라서, 방전 플라즈마가 생체 조직에 매우 강한 영향을 미친다는 것은 잘 알려져 있다. 이 강력한 영향은 열과 비열의 두 가지 종류가 있을 수 있다. 살아있는 조직의 급속한 가열을 초래하는 플라즈마의 열 영향은 잘 연구되어 있으며 예를 들어 소작에 사용된다. 다른 경우에는, 플라즈마의 열 영향으로 인해 살아있는 조직이 건조되고 화상을 입으므로, 바람직하지 않다.

활성 플라즈마 입자 (전자, 이온, 라디칼 및 기타 화학적 활성 종) 및 UV 방사선으로 인한, 전기 방전 플라즈마의 비열 영향은 많은 경우에, 예를 들어, 살아있는 조직 소독 및 살균에, 피부 질환 치료에, 혈액 응고 등에 유용할 수 있다. 활성 플라즈마가 살아있는 조직에 가까울수록 그리고 플라즈마의 전기장이 높을수록, 비열 플라즈마 처리의 강도와 효능이 높아진다. 이용가능한 비열 플라즈마의 처리 방법은 상대적으로 약하고, (조직의 과열 방지를 위해) 살아있는 조직에 대한 전력 플럭스에 그리고 총 전류 및 전류 밀도에 제한이 있기 때문에 일반적으로 플라즈마 제트 또는 잔광 처리에 의해 영향을 받으며, 이는 (조직 및 신경 채널의 손상을 방지하기 위해) 살아있는 조직을 통해 흐를 수 있다. 플라즈마를 생성하는 방전의 전력이 방전 전류와 전압의 곱이기 때문에, 전력이 고정된 경우, 전압이 높을수록 전류가 낮아진다.

비열 플라즈마는 개발되었다. 비열 플라즈마 방전은 장비 및 다양한 이식형 플라스틱의 살균, 생화학적 표면 기능화 및 처리, 그리고 기타 여러 응용에 사용된다. 그러나, 본 발명자들이 알고 있는 한, 주로 열 에너지 전달에 의한 것보다, 플라즈마가 살아있는 조직과 직접 전기적으로 접촉하고 다양한 플라즈마-화학적 과정을 통해 살아있는 조직에 작용하는, 본원에 기재된 다양한 의료 응용에 비열 플라즈마 기술이 사용되지 않았다.

비열 플라즈마 처리의 효율을 높이고 기존의 한계를 극복하기 위해, 본 개시내용은 상대적으로 낮은 총 전류 및 전류 밀도를 갖는 고전압 방전의 전극으로서 조직을 사용한다. 이러한 조건 하에서, 활성 플라즈마 인자의 가장 높은 농도는 처리된 살아있는 조직에 매우 근접한 반면, 상대적으로 낮은 총 방전 전력을 사용하기 때문에 플라즈마의 온도는 낮게 유지된다. 또한, 조직과 신경 채널이 손상되지 않도록 총 전류 및 전류 밀도도 낮을 것이다.

살아있는 조직에 있는 플라즈마의 열 효과가 바람직하지 않은 전기적 방전 플라즈마의 많은 잠재적 응용이 있다. 이러한 응용 중 일부에는 조직 소독 및 멸균이 포함된다. 이러한 절차 중 조직의 열 손상은 긴 치유 과정과 마취제 사용을 필요로 할 것이다. 또한, 조직의 표면에 대한 열 손상은 더 깊은 조직 층의 살균을 방해할 수 있다. 열 조직 손상 및 건조 없이 혈액의 응고는 또한 상처 치유 과정을 촉진하는데 도움이 될 것이다. 열 손상이 없는 경우, 플라즈마는 플라즈마-화학적 활동과 LTV 방사선의 조합을 통해 조직의 자연적 과정을 촉진하는데 사용될 수 있다.

전술한 바와 같이 생성된 고전압 방전은, 표준 대기압에서 생성될 수 있고 처리 위치에서 고온을 요구하거나 생성하지 않는다는 점에서, 유전체 장벽 방전 (이하 "DBD")와 유사하다. 예를 들어, DBD 동안, 전형적 온도 상승은 실내 온도보다 단지 몇도 정도 높다.

DBD는 두 전극 사이의 교류 전압 방전으로, 적어도 하나는 전형적으로 유전체로 덮여 있다. DBD 플라즈마는, 하나의 전극과 유전체 사이 또는 두 유전체 사이, 달리 방전 갭으로서 공지된, 기체 충전 영역에서 형성될 수 있다. DBD는 인가된 교류 고전압 (전형적으로 수 킬로볼트)에 의해 구동되며, 이는 전극 사이에 높은 전기장을 생성한다. 유전체가 없는 경우, 첫 번째 스파크에서 시작하는 방전은, 스파크의 전자가 일련의 이온화 이벤트를 시작하여 매우 높은 전류와 궁극적으로 아크 형성으로 이어지므로, 저전압 아크 방전으로 빠르게 진행될 것이다. 유전체는 표면에 전하를 축적하고 인가된 필드에 반대되는 전기장을 생성함으로써 아크 형성을 방지하여, 이로써 전류를 제한하고 제어되지 않은 방전 발생을 방지한다. 고전압 극성을 번갈아가며 전압 사이클의 각 절반에서 이 방전이 형성되도록 한다. 일반적으로, DBD는 킬로헤르츠 범위에서 작동하고, 그래서 전극 사이의 플라즈마는 완전히 꺼질 시간이 충분하지 않으며, 방전은 방전 갭에서 연속적인 글로우 및/또는 고정되거나 움직이는 필라멘트처럼 보인다.

DBD는 비열 또는 차가운 플라즈마 생성을 위한 전형적 방전이다. 열 플라즈마에서, 모든 플라즈마 구성요소 (전자, 이온, 기체 분자 및 원자)의 온도는 비슷하다. 플라즈마 구성요소가 동적 평형상태에 있으면 플라즈마는 얼마 동안 존재할 수 있다: 전자와 이온의 재결합은 이온화로 균형을 이루어야 한다. 상당한 이온화를 제공하기 위해, 에너지 입자, 일반적으로 전자가 수 전자 볼트 (eV)의 에너지를 갖는 것이 필요하다. 기체 입자의 평균 에너지는 약 1eV과 동일하고 기체 온도 11,600K에 해당한다. 이는 다소 안정적 열 플라즈마의 온도가 항상 5000K 초과임을 의미한다.

비열 플라즈마에서, 구성요소의 온도는 매우 다를 수 있고 평형 상태일 필요는 없다. 일반적으로 전자의 온도는 이온 및 기체 분자와 같은 무거운 입자의 온도보다 훨씬 높다 (10,000K 초과). 전형적으로, 저온 플라즈마는 발광 램프에 존재한다. 비평형 플라즈마의 기체 온도는 매우 다를 수 있고 실내 또는 주변 온도에서 수천 켈빈까지 다양할 수 있다. 플라즈마는 기체 온도가 주변 온도보다 상당히 높지 않을 때 비열로 간주되며, 주변 온도는, 예를 들어, 실온 (예 : 20-25 ℃)일 수 있다. 본 발명의 목적을 위해, 비열 플라즈마는 100 ℃를 초과하지 않는 평균 플라즈마 기체 온도를 특징으로 할 수 있다. 플라즈마 전자 및 이온 밀도는 약 1011 cm^-3 내지 약 1013 cm^-3, 그리고, 더 바람직하게는 1012 cm^-3 초과일 수 있다. 예를 들어, DBD 필라멘트의 전자 밀도는 약 1013 cm^-3이고 전자 온도는 10,000 내지 30,000K 범위일 수 있다.

주변 물질로부터 열을 전달함으로써 수득된 조직의 온도 상승이 주변 물질의 온도 뿐만 아니라 부피, 조직 부피, 조직 및 주변 물질의 열용량, 주변 물질 및 조직의 열 전도 능력, 그리고 접촉 시간에 좌우되는 것을 강조하는 것이 중요하다. 이러한 이유로, 비열 플라즈마를 사용하는 경우, 조직 온도가 50 ℃ 초과로 상승하지 않도록 처리 프로세스는 제어될 수 있다.

본 발명에 따른 하나의 설비에서, 비열 플라즈마 방전은, 약 2 내지 약 50kV, 선택적으로, 약 10 내지 약 30kV의 전압을 사용하여, 약 5 내지 약 20,000 kHz, 선택적으로 약 10 내지 약 30 kHz의 고전압의 고주파 진동에 의해 생성될 수있다. DBD가 두 전극 사이 고주파 전압을 인가하여 생성되는 반면, 본 발명에서 사용된 비열 플라즈마 방전은 절연 전극과 제 2 전극 사이의 고도로 국부화된 영역에서 발생한다. 제 2 전극은 가까운 물체일 수 있고, 본 발명의 많은 응용에서 제 2 전극은 인간 또는 동물의 신체이다.

인체 또는 동물의 신체가, 플라즈마 방전의 크기에 비해, 전형적으로 충분히 커서 전하를 소멸할 수 있도록 플라즈마 방전이 제어되므로 일반적으로 인체 또는 동물의 신체를 접지하거나 두 번째 전극에 연결할 필요가 없다. 그러나, 예방책으로서, 또는 상대적으로 높은 전하를 사용하는 것이 바람직한 경우, 제 2 전극, 접지 또는 둘 모두는 설비에 포함될 수 있다. 전원 공급장치에 연결된 제 2 전극에 본체를 연결하는 것, 또는 필요에 따라 폐쇄 루프를 갖기 위해 접지 구성요소를 통해 전원 공급장치에 본체를 접지하는 것이 또한 가능하다.

본 발명의 설비의 일 구현예에서, 실질적으로 완전히 절연된 전극 (10)은 고주파, 고전압 전원에 의해 에너지화된다. 가까운 물체에 전압은 인가되지 않는다. 이 구현예에서, 인체 또는 동물의 신체일 수 있는 물체는 플로팅 전극의 역할을 한다. 이러한 이유로 이러한 비열 플라즈마 방전은 플로팅 전극 유전체 장벽 방전 (FE-DBD)로서 지칭될 수 있다.

비열 플라즈마 방전의 기하학적 구조는 에너지화된 전극 (10)의 모양과 크기에 의해 제어된다. 인체 또는 동물의 신체에 직접 전압을 가하지 않고 처리를 수행할 수 있는 능력, 그리고 방전 전류를, 예를 들어, 약 50 밀리암페어 미만, 선택적으로 1 밀리암페어 미만으로 제한하는 능력은 주변 조직이나 신경계에 해를 끼칠 위험을 감소시킨다. 비열 플라즈마 방전은 고전압 방전이다. 살아있는 조직의 표면 근처 전기장의 값은 최대 전류의 순간에 200 V/mm를 초과할 수 있으며, 선택적으로, 살아있는 조직의 표면 근처 전기장의 값은 최대 전류의 순간에 500 V/mm를 초과 할 수 있다.

비열 플라즈마 처리는 허용할 수 없는 조직 손상 없이 원하는 결과를 얻기 위해 임의의 적절한 시간 동안 수행될 수 있다. 적절한 처리 시간 길이는 약 5 초 내지 약 5 분, 선택적으로 약 15 초 내지 약 3 분, 및 선택적으로 약 30 초 내지 약 1 분일 수 있다. 처리는 1, 3, 5 또는 그 이상 주의 기간에 걸쳐 여러 회, 예를 들어 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10 회 제공될 수 있다. 일부 구현예에서, 플라즈마가 조직과의 접촉을 유지하도록 조직의 표면을 따라 플라즈마는 이동될 수 있다. 처리 시간 및 처리의 빈도/횟수는 사용되는 특정 플라즈마 방전의 특성 그리고 방전을 적용하는데 사용된 설비에 따라 달라질 수 있다. 이러한 변화는 숙련된 사람의 능력 내에 있다.

일부 구현예에서, 전원은 약 5kV 내지 10kV, 10kV 내지 20kV, 20kV 내지 30kV, 30kV 내지 40kV, 40kV 내지 50kV의 범위에서, 또는 이들 범위 중 2 개 이상을 포함하는 범위에서 전력을 제공할 수 있다. 바람직한 구현예에서, 전원은 전극에 약 20kV의 전력을 제공한다.

일부 구현예에서, 펄스 발생기는 50Hz 내지 100Hz, 100Hz 내지 200Hz, 200Hz 내지 300Hz, 300Hz 내지 400Hz, 400Hz 내지 500 Hz, 500Hz 내지 1000Hz, 1000Hz 내지 2000Hz, 2000Hz 내지 3000Hz, 3000Hz 내지 4000Hz의 범위에서, 또는 이들 범위 중 둘 이상에 의해 한정된 범위, 바람직하게는 약 400Hz에서 일련의 펄스를 제공할 수 있다.

일부 구현예에서, 펄스 발생기는 일련의 펄스를 제공 할 수 있으며, 각 펄스는 약 10 ps 내지 100 ps, 100 ps 내지 1 ns, 1 ns 내지 5 ns, 5 ns 내지 10 ns, 10 ns 내지 20 ns, 20 ns 내지 30 ns, 30 ns 내지 40 ns, 40 ns 내지 50 ns, 50 ns 내지 60 ns, 60 ns 내지 80 ns, 80 ns 내지 100 ns, 100 ns 내지 200 ns, 200 ns 내지 300 ns, 300 ns 내지 400 ns, 400 ns 내지 500 ns의 범위, 또는 이들 범위 중 둘 이상에 의해 한정된 범위, 바람직하게는 약 20 ns에서 지속 시간을 갖는다.

여러 번의 치료의 필요성, 재발, 치료와 관련된 부작용으로 인해 사마귀 치료는 환자와 피부과 의사 모두에게 좌절감을 준다. 차가운 대기압 플라즈마 (Cold Atmospheric-pressure Plasma; CAP)는, 피부 병태에 대한 임상 시험을 포함하여, 의료용으로 광범위하게 연구된 이온화된 기체이다. 피부에 대한 CAP 사용의 안전성은 과거에 잘 입증되었다 (참조, Lademann J, 등. Risk assessment of the application of a plasma jet in dermatology. J Biomed Opt 2009; 14 (5):054025 (1-6).).

실험 절차

33 세의 남성인, 환자 1은 손가락에 사마귀가 4 개 있다. 그는 6 개월 걸쳐 수행된 액체 질소 처리 및 카운터 제품에 실패했다. 28 세 남성인, 환자 2는 손목에 사마귀가 있다. 그는 저색소침착 가능성 때문에 냉동 요법을 거부했으며 국소 약물을 감당할 수 없었다.

두 환자 모두는 Western Institutional Review Board (2016 년 11 월 10 일; 20130084)에서 승인된 연구에 등록되었다. 사용된 CAP 소스는 직경 5mm, 두께 1mm의 석영으로 덮인 길이 10cm의 구리 전극에 400Hz에서 20ns 펄스 폭의 20kV 펄스를 공급하는 발생기 (FPG10-01NM10,FID GmbH, Germany, www.fidtechnology.com)이다. (도 1). 치료는 각 병변에 대해 2 분이었다.

환자 1의 가장 두꺼운 (오른쪽 엄지 손가락) 병변은 두 번의 치료 후, 다른 병변은 세 번의 치료 후에 제거되었으며 (도 2), 각각 7 개월과 6 개월 후에 깨끗하게 유지되었다. 시작 4 개월 후 새로운 왼쪽 엄지 사마귀가 나타났고, 세 번의 치료로 제거되었다.

환자 2는 두 번 치료를 받았으며 - 그에 따르면 확인되지 않았지만 - 개선되었지만 해결되지 않았다. 그는 후속 치료를 위해 돌아오지 않았다. 그의 5 개월 평가 시점에, 사마귀가 재발했다 (도 2).

총 6 개의 사마귀가 있는 2 명의 환자는 치료되었다. 첫 번째 환자의 모든 병변은 해결되었다. 이 환자는 관찰 기간 동안 새로운 사마귀가 발생했으며, 세 번의 치료 후에 또한 제거되었다. 이는 결과가 일반화된 면역 반응이 아니라 국소 CAP 효과 때문임을 시사한다.

두 번째 환자의 단일 병변은 개선되었지만 치료 중단 후 재발되었다. 지속적인 치료가 결과를 바꾸었는지 여부는 알려지지 않았다. 이 재발은 CAP가 부분적으로 제거된 사마귀에 지속적인 억제 효과가 없음을 나타낸다. 사마귀에 대한 CAP의 효과를 설명하기 위해 이전의 생체내 또는 시험관내 모델이 있는지는 확실하지 않지만, CAP는 시험관내 악성 세포에서 세포자멸사를 선택적으로 유도하는 것으로 나타났다 (참조, Zucker SN, Zirnheld J, Bagati A, 등. Preferential induction of apoptotic cell death in melanoma cells as compared with normal keratinocytes using a non-thermal plasma torch. Cancer Biol Ther. 2012;13(13):1299-306.). 광선 각화증을 치료하기 위한 CAP의 생체내 효능도 보고되었다 (참조, Friedman PC, Miller V, Friedman G, Lin A, Fridman A. Successful treatment of actinic keratoses using nonthermal atmospheric pressure plasma: A case series. J Am Acad Dermatol 2017;76(2):349-350; 및 Wirtz M 등. Actinic keratoses treated with cold atmospheric plasma. JEADV 2018;32:e1-e40.). CAP가 사마귀에서 세포자멸사를 유도할 수도 있다는 가설을 세울 수 있다. CAP가, 아마도 아데노바이러스 캡시드를 변경함으로써. 아데노바이러스를 억제하는 것으로 보고되었다 (참조, JL Zimmermann JL, Dumler K, Shimizu T, Morfill GE, Wolf A, Boxhammer V, Schlegel J, Gansbacher B, Anton M. Effects of cold atmospheric plasmas on adenoviruses in solution. J. Phys. D: Appl. Phys. 2011;44: 505201.). 유사하게 외피가 없는 DNA 바이러스인, HPV의 캡시드도 CAP 유발 손상에 취약하다는 것이 가능하다. 작용 기전은 불분명하지만, 치료된 병변의 수는 매우 적고, 더 많은 후속 연구가 필요하며, 이 개념 증명의 연구에서 CAP 치료에 의해 달성된 사마귀의 임상적 개선 그리고 수개월 후 완전히 제거된 병변의 재발의 부족은 유망하다. 고무적으로, 시장에서 즉시 사용할 수 있는 CAP 장치의 비용은 현재의 전기 수술 도구와 동등할 수 있다.

Claims (9)

1. 환자의 피부에 있는 사마귀를 치료하는 방법으로서,
   상기 사마귀가 있는 조직 영역에 비열 대기압 플라즈마(non-thermal, atmospheric pressure plasma)를 상기 사마귀의 크기를 적어도 부분적으로 감소시키기에 충분한 조건 하에서 적용하는 단계를 포함하는, 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 사마귀의 크기를 적어도 부분적으로 감소시키기에 충분한 조건은 상기 사마귀가 있는 조직에 비열 플라즈마를 약 10 초 내지 약 10 분 지속되는 적어도 하나의 기간 동안 적용하는 것인, 방법.
3. 제2항에 있어서, 상기 비열 플라즈마가 1회 내지 5회 적용되는, 방법.
4. 제1항에 있어서, 상기 비열 플라즈마가 약 10 kV 내지 약 50 kV 범위의 전력으로 전달되는, 방법.
5. 제4항에 있어서, 상기 전력이 약 20 kV인, 방법.
6. 제1항에 있어서, 상기 비열 플라즈마가 약 50 Hz 내지 약 3500 Hz 범위의 주파수로 전달되는, 방법.
7. 제6항에 있어서, 상기 주파수가 약 400 Hz인, 방법.
8. 제1항에 있어서, 상기 비열 플라즈마가 약 100 ps 내지 약 500 ns 범위의 지속시간을 갖는 펄스로 전달되는, 방법.
9. 제8항에 있어서, 상기 펄스 지속시간이 약 20 ns인, 방법.

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