KR20210030635A - Method for preparing compound - Google Patents

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KR20210030635A
KR20210030635A KR1020190111997A KR20190111997A KR20210030635A KR 20210030635 A KR20210030635 A KR 20210030635A KR 1020190111997 A KR1020190111997 A KR 1020190111997A KR 20190111997 A KR20190111997 A KR 20190111997A KR 20210030635 A KR20210030635 A KR 20210030635A
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최재훈
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최종영
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주식회사 엘지화학
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Abstract

The present invention relates to a method for preparing a compound of chemical formula 3, comprising the steps of: (a) preparing a mixture by introducing a compound of chemical formula 1 and a compound of chemical formula 2 into a continuous reactor; and (b) supplying the mixture formed in the step (a) to a reactor (z) connected in series with the continuous reactor to obtain the compound of the chemical formula 3. In the present invention, the control of heat generation during mixing of raw materials is easy.

Description

화합물의 제조방법 {METHOD FOR PREPARING COMPOUND}Manufacturing method of compound {METHOD FOR PREPARING COMPOUND}

본 발명은 화합물의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 설포닐옥시기를 포함하는 화합물의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing a compound, and more particularly, to a method for preparing a compound containing a sulfonyloxy group.

메틸 (s)-2-(알킬 설포닐옥시)프로파노에이트는 작물보호제중에서도 살균제로 사용되는 메탈락실-M의 제조 중 생성되는 합성 중간체로서, 경제적이고 고순도의 생성물을 얻기 위한 합성법의 개발이 중요하다.Methyl (s)-2-(alkyl sulfonyloxy)propanoate is a synthetic intermediate produced during the production of Metalaxyl-M, which is used as a fungicide among crop protection agents, and it is important to develop a synthetic method to obtain an economical and high-purity product. Do.

한국 공개특허공보 제10-2004-0104639호Korean Patent Application Publication No. 10-2004-0104639

기존에는 회분식 반응기를 통하여 하이드록시기에 설포닐클로라이드를 적가하여 설포닐화시키는 방법을 주로 사용하였다. 그러나, 회분식 반응기를 사용시 설포닐클로라이드의 적가시에 발열이 심하여 불순물이 생성되고, 성상이 액체인 관계로 대량공정에 용이한 재결정 방식의 정제법의 사용이 불가능하여 97% 이하의 순도의 생성물이 형성되었다.Conventionally, a method of sulfonylation by dropwise addition of sulfonyl chloride to a hydroxy group through a batch reactor was mainly used. However, when using a batch reactor, heat generation is severe when sulfonyl chloride is added dropwise, and impurities are generated, and since the property is liquid, it is impossible to use the recrystallization method, which is easy for mass processing, so that a product with a purity of less than 97% is not possible. Was formed.

또한, 회분식 반응기를 사용할 경우 산업적인 규모로의 화합물의 생성을 위해서는 반응기 사이즈를 지나치게 크게 해야하는 문제점이 있었다. 복수의 회분식 반응기를 운전하는 방식에 있어서도, 각 반응기의 온도 설정이 어렵고 설비가 복잡해지는 문제점이 있었다.In addition, when a batch reactor is used, there is a problem in that the size of the reactor must be excessively large in order to produce a compound on an industrial scale. In the method of operating a plurality of batch reactors, there is a problem in that it is difficult to set the temperature of each reactor and the facility becomes complicated.

상기와 같은 과제의 해결을 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1의 화합물 및 하기 화학식 2의 화합물을 연속식 반응기에 투입하여 혼합물을 제조하는 단계(a); 및 상기 (a) 단계에서 형성한 혼합물을 상기 연속식 반응기와 직렬로 연결된 반응기(z)에 공급하여 하기 화학식 3의 화합물을 수득하는 단계(b)를 포함하는 화학식 3의 화합물의 제조방법을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention provides a step (a) of preparing a mixture by adding a compound of the following formula 1 and a compound of the following formula 2 to a continuous reactor; And supplying the mixture formed in step (a) to a reactor (z) connected in series with the continuous reactor to obtain a compound of formula 3 below. do.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 화학식 2 및 3에 있어서, R은 알킬기; 또는 알킬기, 할로겐기 및 나이트로기로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 아릴기이다.In Formulas 2 and 3, R is an alkyl group; Or an aryl group unsubstituted or substituted with one or more substituents selected from the group consisting of an alkyl group, a halogen group, and a nitro group.

본 발명은 연속식 반응기를 이용한 화학식 3의 화합물의 제조방법에 관한 것으로, 화학식 1 및 2의 화합물을 연속식 반응기를 이용하여 혼합한 후 반응기(z)에 투입하여 반응시킴으로써, 원료의 혼합시의 발열의 제어가 용이하다.The present invention relates to a method for preparing a compound of Formula 3 using a continuous reactor. The compounds of Formulas 1 and 2 are mixed using a continuous reactor and then added to the reactor (z) to react. It is easy to control heat generation.

이에, 본 발명의 제조방법을 이용하면, 추가적인 정제과정 없이도 99% 이상의 순도의 화학식 3의 화합물을 수득할 수 있다.Thus, by using the production method of the present invention, a compound of Formula 3 having a purity of 99% or more can be obtained without additional purification.

또한, 본 발명의 제조방법에 의하면, 반응기 사이즈를 줄일 수 있고 작업이 편리한 장점이 있다.In addition, according to the manufacturing method of the present invention, there is an advantage that the reactor size can be reduced and the operation is convenient.

도 1은 본 발명의 일 실시상태에 따른 화학식 3의 화합물의 제조방법을 모식적으로 나타낸 공정도이다.1 is a process chart schematically showing a method of preparing a compound of Formula 3 according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 내용은 다음의 상세한 설명 및 첨부된 도면으로부터 명료하게 이해될 수 있을 것이며, 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그에 대한 설명을 생략한다.The contents of the present invention will be clearly understood from the following detailed description and the accompanying drawings, and in the case where it is determined that the description of related known technologies may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, The explanation is omitted.

본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 다른 부분과 '연결'되어 있다고 할 때, 이는 직접적으로 연결되어 있는 경우뿐만 아니라 중간에 다른 구성 요소를 사이에 두고 연결되는 경우도 포함한다.In the present specification, when a certain part is said to be'connected' with another part, this includes not only a case in which it is directly connected but also a case in which it is connected through another component in the middle.

본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 '포함' 또는 '구비'한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함하거나 구비할 수 있다는 것을 의미한다.In the present specification, when a certain part'includes' or'includes' a certain element, it does not exclude other elements, but may further include or include other elements unless otherwise stated. Means that.

본 명세서에 있어서, 연속식 반응기의 '연속식'이란 원료의 공급 및 혼합이 연속적으로, 즉 공정의 끊김이 없이 이루어지는 것을 의미한다. 본 명세서에 있어서 '원료'란 연속식 반응기에 투입되는 모든 물질을 의미할 수 있다.In the present specification, the'continuous type' of the continuous reactor means that the supply and mixing of raw materials are performed continuously, that is, without interruption of the process. In the present specification, the term'raw material' may refer to all materials introduced into the continuous reactor.

이하, 본 발명에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

본 발명은 원료를 연속식 반응기로 혼합하여 반응기(z)에 투입하는 것을 특징으로 한다. 원료를 온도의 제어가 용이한 연속식 반응기로 빠르고 균일하게 혼합함으로써, 원료의 투입시의 발열의 제어가 용이하여, 화학식 3의 화합물을 고순도로 얻을 수 있다.The present invention is characterized in that the raw materials are mixed in a continuous reactor and introduced into the reactor (z). By mixing the raw materials quickly and uniformly in a continuous reactor that allows easy temperature control, it is easy to control heat generation when the raw materials are introduced, so that the compound of Formula 3 can be obtained with high purity.

배치 반응기를 사용하여 화학식 1 및 2의 화합물을 반응시킬 경우, 배치 반응의 사이즈가 커질수록 냉각을 위한 에너지 소모가 크거나 냉각 시간이 오래 걸리는 등 발열의 제어가 어렵다. 본 발명의 일 실시상태에 따른 제조방법에 의하면, 관형태의 연속식 반응기를 사용하여 보다 소량의 반응액이 관을 통하여 흘러가므로, 자체 발열량이 배치 반응기를 사용할 때보다 작아 보다 효율적으로 발열을 제어할 수 있다. In the case of reacting the compounds of Formulas 1 and 2 using a batch reactor, it is difficult to control heat generation such as greater energy consumption for cooling or longer cooling time as the size of the batch reaction increases. According to the manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention, since a smaller amount of reaction liquid flows through the tube by using a tube-shaped continuous reactor, the self-heating amount is smaller than when using a batch reactor, so that heat generation is more efficiently controlled. can do.

일 실시상태에 있어서, 화학식 3의 화합물의 제조방법은 상기 화학식 1의 화합물 및 상기 화학식 2의 화합물을 연속식 반응기에 투입하여 혼합물을 제조하는 단계(a); 및 상기 (a) 단계에서 형성한 혼합물을 상기 연속식 반응기와 직렬로 연결된 반응기(z)에 공급하여 상기 화학식 3의 화합물을 수득하는 단계(b)를 포함한다.In an exemplary embodiment, a method of preparing a compound of Formula 3 comprises the steps of: (a) preparing a mixture by adding the compound of Formula 1 and the compound of Formula 2 to a continuous reactor; And a step (b) of supplying the mixture formed in step (a) to a reactor (z) connected in series with the continuous reactor to obtain the compound of formula (3).

(a) 단계Step (a)

상기 (a) 단계에 있어서, 연속식 반응기는 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 혼합하는 작용을 한다.In the step (a), the continuous reactor serves to mix the compound of Formula 1 and the compound of Formula 2.

화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 연속식 반응기를 이용하여 혼합하면, 배치 반응기에서 교반하여 원료를 혼합하는 방법에 비하여 발열의 제어가 용이하여 불순물을 생성하는 부반응의 억제가 용이하다.When the compound of Formula 1 and the compound of Formula 2 are mixed using a continuous reactor, heat generation is easily controlled compared to a method of mixing raw materials by stirring in a batch reactor, and side reactions that generate impurities are easily suppressed.

상기 (a) 단계에 있어서, 상기 연속식 반응기는 상기 화학식 1의 화합물 및 상기 화학식 2의 화합물을 마이크로-믹싱할 수 있는 혼합장치를 포함하며, 상기 혼합장치는 스태틱믹서 및 마이크로믹서로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.In the step (a), the continuous reactor includes a mixing device capable of micro-mixing the compound of Formula 1 and the compound of Formula 2, and the mixing device is in the group consisting of a static mixer and a micromixer. It may include at least one selected.

화학식 1의 화합물 및 하기 화학식 2의 화합물 간의 반응은 화학식 1 및 2의 화합물이 연속식 반응기에 투입되어 혼합되는 그 순간부터 진행된다. 이 때, 반응의 진행으로 부산물인 염(예를 들면 트리에틸아민하이드로클로라이드염)이 생성될 수 있다. 염이 고체로 생성되어 연속식 반응기 내부에 석출될 경우 연속식 반응기 내부의 유체의 흐름을 방해하므로, 유체의 흐름을 원활하게 하기 위하여 연속식 반응기 내부에 혼합장치를 설치하여 유체의 액적 및 입자를 분쇄 및 혼합하는 것이 바람직하다. 일 실시상태에 있어서, 상기 혼합장치는 1개 내지 10개; 보다 바람직하게는 2개 내지 10개일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 본 명세서에 있어서, 유체란 연속식 반응기 내부를 흐르는 혼합물을 의미할 수 있다.The reaction between the compound of Formula 1 and the compound of Formula 2 below proceeds from the moment when the compounds of Formulas 1 and 2 are introduced into a continuous reactor and mixed. At this time, a by-product salt (eg, triethylamine hydrochloride salt) may be generated as the reaction proceeds. When salt is generated as a solid and precipitated inside the continuous reactor, it interferes with the flow of the fluid inside the continuous reactor. In order to facilitate the flow of the fluid, a mixing device is installed inside the continuous reactor to collect droplets and particles of the fluid. It is preferred to crush and mix. In one embodiment, the mixing device is 1 to 10; More preferably, it may be 2 to 10, but is not limited thereto. In the present specification, the fluid may mean a mixture flowing inside a continuous reactor.

본 명세서에 있어서, '마이크로-믹싱'이란 화학식 1의 화합물 및 화학식 2을 포함하는 원료의 액적을 1000 ㎛ 이하, 바람직하게는 100 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 50 ㎛ 이하의 직경으로 분쇄하고 혼합하는 과정을 의미한다. In the present specification,'micro-mixing' refers to pulverizing and mixing droplets of the raw material containing the compound of Formula 1 and Formula 2 to a diameter of 1000 μm or less, preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less. Means process.

상기 마이크로믹서는 유체의 분리, 재결합 및 재조정을 통하여 유체를 혼합하는 믹서로서, 다층의 판상 층류를 이용한 혼합장치이다.The micromixer is a mixer that mixes fluids through separation, recombination, and readjustment of fluids, and is a mixing device using a multilayer plate-like laminar flow.

일 실시상태에 있어서, 상기 마이크로믹서는 포크형 마이크로믹서(fork-like micromixer), 스택형 마이크로믹서(stack-like micromixer), 뫼비우스형 마이크로믹서(Mobius-type micromixer) 및 카테필러형 마이크로믹서(catepillar micromixer)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.In one embodiment, the micromixer is a fork-like micromixer, a stack-like micromixer, a Mobius-type micromixer, and a catepillar micromixer. micromixer) may include one or more selected from the group consisting of.

일 실시상태에 있어서, 상기 마이크로믹서는 유체를 혼합할 수 있는 복수의 혼합 채널(mixing channel)을 포함하며, 각 혼합채널의 폭은 10 ㎛ 내지 3000 ㎛, 바람직하게는 50 ㎛ 내지 1600 ㎛일 수 있다.In one embodiment, the micromixer includes a plurality of mixing channels for mixing fluids, and the width of each mixing channel may be 10 µm to 3000 µm, preferably 50 µm to 1600 µm. have.

상기 스태틱믹서는 여러 개의 유체혼합을 할 수 있는 혼합장치로서, 회전부나 특별한 동력없이 관내를 통과하는 것만으로 2종 이상의 유체를 연속적이고 균일하게 혼합시킬 수 있는 혼합장치이다. The static mixer is a mixing device capable of mixing multiple fluids, and is a mixing device capable of continuously and uniformly mixing two or more types of fluids simply by passing through the pipe without a rotating part or special power.

상기 스태틱믹서는 미국 케닉스(Kenics)사가 시판하고 있는 케닉스형; 스루저사가 시판하고 있는 스루저형; (주)사꾸라 세이사꾸쇼의 스케야믹서; 도오레이(주)의 하이 믹서; 라우케미칼사의 T.K.-ROSS LPD 믹서; 슐저 켐텍사(sulzer chemtech)의 슐저형 믹서; 코흐-글리치(Koch-Glitch LP)사의 에스엠엑스(SMX) 믹서 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The static mixer is a Kenics type marketed by Kenics of the United States; The Thruzer type sold by Thruzer Corporation; Sakura Seisakusho's Skaya Mixer; High Mixer of Toray Co., Ltd.; Lau Chemical's T.K.-ROSS LPD mixer; Sulzer type mixer from sulzer chemtech; Koch-Glitch (Koch-Glitch LP) SMX (SMX) mixer, etc. may be used, but is not limited thereto.

상기 (a) 단계에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물 및 상기 화학식 2의 화합물은 단독으로 연속식 반응기에 투입될 수도 있고, 필요에 따라서는 적절한 용매에 용해 또는 분산되어 연속식 반응기에 투입될 수 있다.In the step (a), the compound of Formula 1 and the compound of Formula 2 may be individually introduced into a continuous reactor, or if necessary, dissolved or dispersed in an appropriate solvent and introduced into the continuous reactor. .

상기 (a) 단계에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물은 상기 화학식 1의 화합물 및 제1 용매를 포함하는 제1 용액의 형태로 상기 연속식 반응기에 투입될 수 있다. 상기 (a) 단계에 있어서, 상기 화학식 2의 화합물은 상기 화학식 2의 화합물 및 제2 용매를 포함하는 제2 용액의 형태로 상기 연속식 반응기에 투입될 수 있다. In step (a), the compound of Formula 1 may be introduced into the continuous reactor in the form of a first solution including the compound of Formula 1 and a first solvent. In the step (a), the compound of Formula 2 may be introduced into the continuous reactor in the form of a second solution including the compound of Formula 2 and a second solvent.

일 실시상태에 있어서, 상기 제1 용매 및 제2 용매는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 유기 용매, 수성 용매, 수계 용매(aqueous based solvents), 물 또는 이들의 혼합물일 수 있다. In one embodiment, the first solvent and the second solvent may be the same as or different from each other, and may each independently be an organic solvent, an aqueous solvent, an aqueous based solvent, water, or a mixture thereof.

일 실시상태에 있어서, 상기 제1 용매 및 제2 용매는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 지방족, 지환족 및 방향족 탄화수소; 할로겐화된 탄화수소; 헤테로방향족 화합물; 에테르; 케톤; 니트릴; 아미드; 3차 아민; 술폰; 알코올; 및 물으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.In one embodiment, the first solvent and the second solvent are the same as or different from each other, and each independently aliphatic, alicyclic, and aromatic hydrocarbons; Halogenated hydrocarbons; Heteroaromatic compounds; ether; Ketones; Nitrile; amides; Tertiary amine; Sulfone; Alcohol; And it may include one or more selected from the group consisting of water.

일 실시상태에 있어서, 상기 제1 용매 및 제2 용매는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 톨루엔, 자일렌, 클로로벤젠 등과 같은 방향족 탄화수소일 수 있다.In an exemplary embodiment, the first solvent and the second solvent may be the same as or different from each other, and may each independently be an aromatic hydrocarbon such as toluene, xylene, chlorobenzene, or the like.

상기 (a) 단계에 있어서, 상기 연속식 반응기에는 상기 화학식 1의 화합물 및 상기 화학식 2의 화합물 이외에도 화학식 3의 화합물의 합성에 필요한 기타 화합물이 투입될 수 있다.In the step (a), in addition to the compound of Formula 1 and the compound of Formula 2, other compounds necessary for the synthesis of the compound of Formula 3 may be added to the continuous reactor.

상기 (a) 단계에 있어서, 상기 연속식 반응기에는 염기가 더 투입될 수 있다. 이 경우, 상기 화학식 1의 화합물, 상기 화학식 2의 화합물 및 염기를 연속식 반응기에 투입하여 혼합물을 제조하는 단계(a)일 수 있다.In the step (a), a base may be further added to the continuous reactor. In this case, it may be a step (a) of preparing a mixture by introducing the compound of Formula 1, the compound of Formula 2, and a base into a continuous reactor.

일 실시상태에 있어서, 상기 제1 용액은 염기를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the first solution may further contain a base.

연속식 반응기로의 원료 투입의 용이성이나 관의 막힘 현상의 방지를 고려할 때, 무기 염기의 사용은 불가능하므로, 상기 염기는 유기 염기인 것이 바람직하다.In consideration of the ease of introduction of raw materials into the continuous reactor and prevention of clogging of the tube, the use of an inorganic base is not possible, and thus the base is preferably an organic base.

일 실시상태에 있어서, 상기 염기는 아민; 또는 질소 함유 헤테로고리일 수 있다. 상기 질소 함유 헤테로고리는 고리에 1개 이상의 질소를 포함하는 헤테로고리일 수 있다.In one embodiment, the base is an amine; Or it may be a nitrogen-containing heterocycle. The nitrogen-containing heterocycle may be a heterocycle containing one or more nitrogens in the ring.

일 실시상태에 있어서, 상기 염기의 구체적인 예로는 트리에틸아민, 트리메틸아민, 디이소프로필에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리-n-헥실아민, 트리사이클로헥실아민, N-메틸사이클로헥실아민, N-메틸피롤리딘, N-메틸피페리딘, N-에틸피페리딘, N,N-디메틸아닐린, N-메틸모르폴린, 피리딘, 2-, 3-, 4-피콜린, 2-메틸-5-에틸피리딘, 2,6-루티딘, 2,4,6-콜리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 퀴놀린, 퀴날딘, N,N,N,N-테트라-메틸-에틸-디아민, N,N-디메틸-1,4-디아자사이클로헥산, N,N-디에틸-1,4-디아자사이클로헥산, 1,8-비스(디-메틸아미노)나프탈렌, 디아자비사이클로옥탄(DABCO), 디아자비사이클로노난(DBN), 디아자비사이클로운데칸(DBU), 메틸이미다졸 및 부틸이미다졸으로 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.In one embodiment, specific examples of the base include triethylamine, trimethylamine, diisopropylethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, tri-n-hexylamine, tricyclohexylamine , N-methylcyclohexylamine, N-methylpyrrolidine, N-methylpiperidine, N-ethylpiperidine, N,N-dimethylaniline, N-methylmorpholine, pyridine, 2-, 3-, 4-picoline, 2-methyl-5-ethylpyridine, 2,6-lutidine, 2,4,6-collidine, 4-dimethylaminopyridine, quinoline, quinaldine, N,N,N,N-tetra -Methyl-ethyl-diamine, N,N-dimethyl-1,4-diazacyclohexane, N,N-diethyl-1,4-diazacyclohexane, 1,8-bis(di-methylamino)naphthalene , Diazabicyclooctane (DABCO), diazabicyclononane (DBN), diazabicycloundecane (DBU), methylimidazole and butylimidazole, and the like, but are not limited thereto.

일 실시상태에 있어서, 상기 염기의 당량은 상기 화학식 1의 화합물의 당량 대비 1배 내지 1.5배; 바람직하게는 1배 내지 1.3배 일 수 있다. 상기 염기의 당량은 연속식 반응기에 1초간 투입되는 화학식 1의 화합물의 당량 대비 연속식 반응기에 1초간 투입되는 염기의 당량일 수 있다. In an exemplary embodiment, the equivalent of the base is 1 to 1.5 times the equivalent of the compound of Formula 1; Preferably it may be 1 to 1.3 times. The equivalent of the base may be the equivalent of the base added to the continuous reactor for 1 second compared to the equivalent of the compound of Formula 1 added to the continuous reactor for 1 second.

일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 2의 화합물의 당량은 상기 화학식 1의 화합물의 당량 대비 1배 내지 1.5배; 바람직하게는 1배 내지 1.3배 일 수 있다. 상기 화학식 2의 화합물의 당량은 연속식 반응기에 1초간 투입되는 화학식 1의 화합물의 당량 대비 연속식 반응기에 1초간 투입되는 화학식 2의 화합물의 당량일 수 있다. In one embodiment, the equivalent of the compound of Formula 2 is 1 to 1.5 times the equivalent of the compound of Formula 1; Preferably it may be 1 to 1.3 times. The equivalent of the compound of Formula 2 may be the equivalent of the compound of Formula 2 added to the continuous reactor for 1 second compared to the equivalent of the compound of Formula 1 injected into the continuous reactor for 1 second.

상기 (a) 단계에 있어서, 상기 연속식 반응기에 투입되는 상기 화학식 1의 화합물의 온도는 -5℃ 내지 0℃일 수 있다.In the step (a), the temperature of the compound of Formula 1 introduced into the continuous reactor may be -5°C to 0°C.

상기 (a) 단계에 있어서, 상기 연속식 반응기에 투입되는 상기 화학식 2의 화합물의 온도는 -5℃ 내지 0℃일 수 있다.In the step (a), the temperature of the compound of Formula 2 introduced into the continuous reactor may be in the range of -5°C to 0°C.

상기 (a) 단계에 있어서, 상기 연속식 반응기의 온도는 -5℃ 내지 0℃인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 있어서, 상기 연속식 반응기의 온도란, 연속식 반응기 내부의 '유체의 온도'를 의미할 수 있으며, 연속식 반응기의 온도는 화학식 1의 화합물 또는 이의 짝이온과 화학식 2의 화합물이 만나서 발열할 때, 발열으로 인하여 화학식 3의 화합물의 품질에 영향을 미칠 수 있으므로, 상기 범위로 온도를 조절하는 것이 바람직하다.In the step (a), the temperature of the continuous reactor is preferably -5 ℃ to 0 ℃. In one embodiment, the temperature of the continuous reactor may mean the'temperature of the fluid' inside the continuous reactor, and the temperature of the continuous reactor is a compound of Formula 1 or a counter ion thereof and a compound of Formula 2 When meeting and generating heat, the heat may affect the quality of the compound of Formula 3, so it is preferable to adjust the temperature within the above range.

연속식 반응기의 온도가 상기 범위 이내이면 화학식 3의 화합물을 순도 99% 이상의 무색 및 투명한 액체의 성상으로 얻을 수 있다. 반면 연속식 반응기의 온도가 0℃ 초과이면, 화학식 3의 화합물이 순도 97% 이하의 연노란색 또는 노란색의 투명한 액체의 성상으로 얻어진다. When the temperature of the continuous reactor is within the above range, the compound of Formula 3 can be obtained as a colorless and transparent liquid having a purity of 99% or more. On the other hand, when the temperature of the continuous reactor exceeds 0°C, the compound of Formula 3 is obtained in the form of a pale yellow or yellow transparent liquid having a purity of 97% or less.

일 실시상태에 있어서, 상기 연속식 반응기의 온도를 조절하는 방법으로는 연속식 반응기의 파이프라인을 외부 칠러(chiller)의 냉매 또는 냉각수에 잠기도록 설비하고, 상기 외부 칠러의 냉매 또는 냉각수의 온도를 조절하는 방법을 사용하거나, 파이프라인 자체가 쟈켓 반응기처럼 이중벽 구조로 되어있는 연속식 반응기를 사용하여 내부 냉매의 온도를 조절하는 방법에 의할 수 있으나, 이에 한정되지 않고 통상적으로 반응기의 온도를 조절하는 방법을 사용할 수 있다.In one embodiment, as a method of controlling the temperature of the continuous reactor, the pipeline of the continuous reactor is provided to be immersed in a refrigerant or cooling water of an external chiller, and the temperature of the refrigerant or cooling water of the external chiller is adjusted. A method of controlling or controlling the temperature of the internal refrigerant by using a continuous reactor in which the pipeline itself has a double-walled structure like a jacketed reactor is used, but is not limited thereto, and the temperature of the reactor is usually controlled. You can use how to do it.

상기 (a) 단계에 있어서, 상기 연속식 반응기는 관형 반응기일 수 있다. 상기 관형 반응기란 반응기의 형태가 관형인 것을 의미한다. 일 실시상태에 있어서, 상기 관형은 원통형일 수 있다.In the step (a), the continuous reactor may be a tubular reactor. The tubular reactor means that the reactor has a tubular shape. In one embodiment, the tubular shape may be a cylindrical shape.

일 실시상태에 있어서, 상기 (a) 단계는 보다 구체적으로 다음과 같은 단계를 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment, step (a) may include the following steps more specifically.

일 실시상태에 있어서, 상기 (a) 단계는 화학식 1의 화합물을 포함하는 제1 용액을 준비하는 단계(a1); 화학식 2의 화합물을 포함하는 제2 용액을 준비하는 단계(a2); 상기 (a1) 및 (a2) 단계에서 준비한 제1 용액 및 제2 용액을 연속식 반응기에 투입하여 혼합물을 제조하는 단계(a3)를 포함한다.In an exemplary embodiment, the step (a) includes preparing a first solution containing the compound of Formula 1 (a1); Preparing a second solution containing the compound of Formula 2 (a2); And a step (a3) of preparing a mixture by introducing the first solution and the second solution prepared in steps (a1) and (a2) into a continuous reactor.

일 실시상태에 있어서, 상기 (a1) 단계는 화학식 1의 화합물을 포함하는 -5℃ 내지 0℃의 제1 용액을 준비하는 단계일 수 있다.In an exemplary embodiment, step (a1) may be a step of preparing a first solution at -5°C to 0°C containing the compound of Formula 1.

일 실시상태에 있어서, 상기 (a2) 단계는 화학식 2의 화합물을 포함하는 -5℃ 내지 0℃의 제2 용액을 준비하는 단계일 수 있다.In an exemplary embodiment, step (a2) may be a step of preparing a second solution at -5°C to 0°C containing the compound of Formula 2.

일 실시상태에 있어서, 상기 (a1) 단계는 화학식 1의 화합물을 포함하는 제1 용액을 준비하는 단계(a1-1); 및 상기 (a1-1) 단계에서 준비한 제1 용액의 온도를 -5℃ 내지 0℃로 조절하는 단계(a1-2)를 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment, the step (a1) includes preparing a first solution containing the compound of Formula 1 (a1-1); And adjusting the temperature of the first solution prepared in step (a1-1) to -5°C to 0°C (a1-2).

일 실시상태에 있어서, 상기 (a1-1) 단계는 화학식 1의 화합물 및 제1 용매를 포함하는 제1 용액을 준비하는 단계일 수 있다. 일 실시상태에 있어서, 상기 (a1-1) 단계는 화학식 1의 화합물 및 염기를 포함하는 제1 용액을 준비하는 단계일 수 있다. 일 실시상태에 있어서, 상기 (a1-1) 단계는 화학식 1의 화합물, 염기 및 제1 용매를 포함하는 제1 용액을 준비하는 단계일 수 있다.In an exemplary embodiment, step (a1-1) may be a step of preparing a first solution including the compound of Formula 1 and a first solvent. In an exemplary embodiment, step (a1-1) may be a step of preparing a first solution containing the compound of Formula 1 and a base. In an exemplary embodiment, step (a1-1) may be a step of preparing a first solution including the compound of Formula 1, a base, and a first solvent.

일 실시상태에 있어서, 상기 (a2) 단계는 화학식 2의 화합물을 포함하는 제2 용액을 준비하는 단계(a2-1); 및 상기 (a2-1) 단계에서 준비한 제2 용액의 온도를 -5℃ 내지 0℃로 조절하는 단계(a2-2)를 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment, the step (a2) includes preparing a second solution containing the compound of Formula 2 (a2-1); And adjusting the temperature of the second solution prepared in step (a2-1) to -5°C to 0°C (a2-2).

일 실시상태에 있어서, 상기 (a2-1) 단계는 화학식 2의 화합물 및 제2 용매를 포함하는 제2 용액을 준비하는 단계일 수 있다.In an exemplary embodiment, step (a2-1) may be a step of preparing a second solution including the compound of Formula 2 and a second solvent.

상기 제1 용액 및 제2 용액의 온도를 조절하는 방법으로는 제1 용액 및 제2 용액을 준비하는 용기에 냉각 수단을 구비하거나, 제1 용액 및 제2 용액에 원료가 투입되는 입구에 냉각기를 설치하는 방법 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. As a method of controlling the temperature of the first solution and the second solution, a cooling means is provided in a container for preparing the first solution and the second solution, or a cooler is provided at the inlet where the raw material is injected into the first solution and the second solution. An installation method or the like may be used, but is not limited thereto.

일 실시상태에 있어서, 상기 혼합물을 제조하는 단계(a)는 -5℃ 내지 0℃의 혼합물을 제조하는 단계일 수 있다.In an exemplary embodiment, the step (a) of preparing the mixture may be a step of preparing a mixture of -5°C to 0°C.

일 실시상태에 있어서, 상기 혼합물을 제조하는 단계(a3)는 -5℃ 내지 0℃의 혼합물을 제조하는 단계일 수 있다.In an exemplary embodiment, the step (a3) of preparing the mixture may be a step of preparing a mixture of -5°C to 0°C.

상기 (a3) 단계에 있어서, 상기 연속식 반응기에 투입되는 제1 용액의 투입 속도는 1 g/min 내지 20 g/min인 것이 바람직하고, 1 g/min 내지 15 g/min인 것이 보다 바람직하다.In the step (a3), the input rate of the first solution to be introduced into the continuous reactor is preferably 1 g/min to 20 g/min, more preferably 1 g/min to 15 g/min. .

상기 (a3) 단계에 있어서, 상기 연속식 반응기에 투입되는 제2 용액의 투입 속도는 1 g/min 내지 20 g/min인 것이 바람직하고, 1 g/min 내지 15 g/min인 것이 보다 바람직하다.In the step (a3), the input rate of the second solution to be introduced into the continuous reactor is preferably 1 g/min to 20 g/min, more preferably 1 g/min to 15 g/min. .

도 1을 참고하면, 본 발명의 일 실시상태에 따른 화학식 3의 화합물의 제조 장치는 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물이 각각 포함된 원료 용기(101a, 101b)를 포함할 수 있다. 각각의 원료 용기에는 원료 주입구(미도시)가 연결되어 있을 수 있다. 원료 주입구에는 원료 용기에 주입되는 원료의 온도를 조절하기 위한 냉각기 등의 냉각 장치(미도시)가 설치되어 있을 수 있다. 상기 원료 용기의 압력은 적절히 조절될 수 있다(압력 조절 장치 미도시).Referring to FIG. 1, an apparatus for producing a compound of Formula 3 according to an exemplary embodiment of the present invention may include raw material containers 101a and 101b each containing a compound of Formula 1 and a compound of Formula 2. Each raw material container may be connected to a raw material injection port (not shown). A cooling device (not shown) such as a cooler for controlling the temperature of the raw material injected into the raw material container may be installed in the raw material injection port. The pressure of the raw material container may be appropriately adjusted (a pressure regulating device not shown).

상기 화학식 1 및 2의 화합물은 원료 용기로부터 연속식 반응기에 공급되며, 일 실시상태에 있어서 원료의 공급은 원료 공급 라인(103a, 103b)에 의할 수 있다. 원료 공급 라인의 크기나 형태는 적절히 선택될 수 있다.The compounds of Formulas 1 and 2 are supplied from the raw material container to the continuous reactor, and in one embodiment, the raw material may be supplied through the raw material supply lines 103a and 103b. The size or shape of the raw material supply line can be appropriately selected.

일 실시상태에 있어서, 상기 원료 공급 라인은 원료의 공급시의 유량 및 유속을 조절하기 위한 펌프(102a, 102b)를 포함할 수 있다. 펌프(102a, 102b)는 원료 용기의 배출부에 설치되어 있을 수도 있고, 외부에 설치되어 파이프 등의 연결 수단으로 원료 공급 라인과 연결되어 있을 수도 있다.In an exemplary embodiment, the raw material supply line may include pumps 102a and 102b for adjusting a flow rate and a flow rate at the time of supplying the raw material. The pumps 102a and 102b may be installed at the discharge portion of the raw material container, or may be installed outside and connected to the raw material supply line by connecting means such as pipes.

일 실시상태에 있어서, 상기 원료 공급 라인은 공급되는 원료의 온도를 조절하기 위한 냉각기(110a, 110b)를 더 포함할 수 있다. 상기 냉각기(110a, 110b)는 원료 공급 라인을 감싸는 형태일 수 있으며, 원료 공급 라인의 일부 및 전부에 배치될 수 있다.In an exemplary embodiment, the raw material supply line may further include coolers 110a and 110b for controlling the temperature of the supplied raw material. The coolers 110a and 110b may be in the form of enclosing the raw material supply line, and may be disposed on some or all of the raw material supply line.

일 실시상태에 있어서, 상기 원료 공급 라인은 유체의 질량 유량을 측정하기위한 질량 유량계(미도시)를 더 포함할 수 있으며, 기타 원료의 공급 조건을 조절하기 위한 장치를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the raw material supply line may further include a mass flow meter (not shown) for measuring the mass flow rate of the fluid, and may further include a device for adjusting supply conditions of other raw materials.

도 1에는 연속식 반응기(100)에 원료가 주입되는 위치를 연속식 반응기의 말단부로 도시하였으나, 원료의 주입 위치는 이에 한정되지 않는다. 원료의 주입부의 형태 또한 Y자형, T자형, 십자형, 엘보형 등일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. In FIG. 1, a position where a raw material is injected into the continuous reactor 100 is illustrated as an end portion of the continuous reactor, but the injection position of the raw material is not limited thereto. The shape of the injection portion of the raw material may also be a Y-shape, a T-shape, a cross-shape, or an elbow shape, but is not limited thereto.

도 1에 도시한 바와 같이 연속식 반응기는 혼합 장치(105)를 포함할 수 있으며, 원료 용기(101a, 101b)로부터 연속식 반응기(100)로 공급된 원료는 혼합 장치(105)를 통과하면서 혼합될 수 있다. As shown in FIG. 1, the continuous reactor may include a mixing device 105, and the raw materials supplied from the raw material containers 101a and 101b to the continuous reactor 100 are mixed while passing through the mixing device 105. Can be.

상기 연속식 반응기(100)는 연속식 반응기의 온도를 제어하기 위한 쟈켓(104a)을 포함할 수 있다. 도 1에서는 연속식 반응기의 전부에 쟈켓이 설치되어 있으나, 온도의 제어가 용이하다면 일부에 설치되어 있어도 무방하다. 도 1에서는 냉각 수단으로 쟈켓 형태의 냉각 수단을 도시하였으나, 기타 냉각수단이 구비되어도 무방하다.The continuous reactor 100 may include a jacket 104a for controlling the temperature of the continuous reactor. In FIG. 1, a jacket is installed on all of the continuous reactor, but it may be installed in a part if temperature control is easy. In FIG. 1, a jacket-type cooling means is shown as the cooling means, but other cooling means may be provided.

상기 연속식 반응기를 통과하면서 혼합된 원료는 반응기(z)로 이송된다. 이 ? 혼합된 원료는 혼합물 이송 라인(111)을 통하여 이송될 수도 있다. 혼합물 이송 라인(111)은 예를 들어 관형일 수 있으며, 그 크기나 형태는 제한되지 않는다. 혼합물 이송 라인은 혼합물의 온도를 조절하기 위한 냉각 수단(미도시)을 더 포함할 수 있다.The raw material mixed while passing through the continuous reactor is transferred to the reactor (z). This? The mixed raw material may be transferred through the mixture transfer line 111. The mixture transfer line 111 may be tubular, for example, and its size or shape is not limited. The mixture transfer line may further include cooling means (not shown) for controlling the temperature of the mixture.

반응기(z) 또한 반응기(z)의 온도를 제어하기 위한 쟈켓(104b)을 구비할 수 있다. 도 1에서는 반응기(z)의 전부에 쟈켓이 설치되어 있으나, 일부에 설치되어 있어도 무방하다. 도 1에서는 냉각 수단으로 쟈켓을 도시하였으나, 기타 냉각수단이 구비되어도 무방하다.The reactor z may also be provided with a jacket 104b for controlling the temperature of the reactor z. In FIG. 1, the jacket is installed on all of the reactor z, but it may be installed on a part of the reactor. In FIG. 1, a jacket is shown as a cooling means, but other cooling means may be provided.

(b) 단계step (b)

상기 (b) 단계는 상기 (a) 단계에서 얻은 혼합물을 상기 연속식 반응기와 직렬로 연결된 반응기(z)에 공급하여 하기 화학식 3의 화합물을 수득하는 단계이다.The step (b) is a step of supplying the mixture obtained in step (a) to a reactor (z) connected in series with the continuous reactor to obtain a compound represented by the following formula (3).

일 실시상태에 있어서, 상기 반응기(z)는 회분식 반응기이다.In one embodiment, the reactor (z) is a batch reactor.

일 실시상태에 있어서, 상기 (b) 단계는 상기 (a) 단계에서 얻은 혼합물을 상기 연속식 반응기와 직렬로 연결된 -5℃ 내지 0℃의 반응기(z)에 공급하는 단계(b1); 상기 (b1) 단계에서 얻은 혼합물을 워크업(work-up)하는 단계(b2); 및 상기 (b2) 단계에서 얻은 혼합물에서 화학식 3의 화합물을 추출하는 단계(b3)를 포함한다. In an exemplary embodiment, the step (b) includes the step (b1) of supplying the mixture obtained in step (a) to a reactor (z) at -5°C to 0°C connected in series with the continuous reactor (b1); A step (b2) of working-up the mixture obtained in step (b1); And extracting the compound of Formula 3 from the mixture obtained in step (b2) (b3).

일 실시상태에 있어서, 상기 (b) 단계는 상기 (b1) 및 (b2) 단계 사이에 상기 반응기(z)에 공급된 혼합물을 -5℃ 내지 0℃에서 유지하는 단계(b1')를 더 포함할 수 있다. 여기서, 혼합물을 -5℃ 내지 0℃에서 유지한다는 것은 혼합물을 혼합물을 -5℃ 내지 0℃의 조건에서 방치한다는 것을 의미한다.In an exemplary embodiment, the step (b) further includes a step (b1') of maintaining the mixture supplied to the reactor (z) at -5°C to 0°C between the steps (b1) and (b2). can do. Here, maintaining the mixture at -5°C to 0°C means leaving the mixture at -5°C to 0°C.

상기 (b1') 단계는 혼합물의 교반을 수반할 수 있다.The step (b1') may involve stirring the mixture.

상기 (b1') 단계에 있어서, 혼합물의 유지 시간은 반응이 종결되는데 적절한 시간이라면 적절히 선택될 수 있다. 상기 (b1') 단계에 있어서, 혼합물은 혼합물 내의 화학식 1의 화합물의 양이 초기 투입한 화학식 1의 화합물의 양 대비 0.1 몰% 이하일 때까지 -5℃ 내지 0℃에서 유지될 수 있다.In the step (b1'), the holding time of the mixture may be appropriately selected as long as it is an appropriate time to terminate the reaction. In step (b1'), the mixture may be maintained at -5°C to 0°C until the amount of the compound of Formula 1 in the mixture is 0.1 mol% or less compared to the amount of the compound of Formula 1 initially introduced.

상기 (b2) 단계는 반응을 종결시키는 일련의 과정이 일어나는 단계로서, 상기 화학식 1 및 2의 화합물의 반응을 종결시키기 위한 단계를 포함할 수 있다.The step (b2) is a step in which a series of processes for terminating the reaction occurs, and may include a step for terminating the reaction of the compounds of Formulas 1 and 2.

일 실시상태에 있어서, 상기 (b2) 단계는 상기 (b1) 단계의 혼합물에 pH 7 미만의 수용액을 혼합하는 단계(b2-1); 및 상기 (b2-1) 단계에서 얻은 혼합물로부터 수용액을 제거하는 단계(b2-2)를 포함한다.In an exemplary embodiment, the step (b2) comprises: mixing an aqueous solution having a pH of less than 7 with the mixture of step (b1) (b2-1); And removing the aqueous solution from the mixture obtained in step (b2-1) (b2-2).

상기 (b2-1) 단계에 있어서, 혼합물에 pH 7 미만의 수용액을 혼합하는 방법은 (1) 상기 (b1) 단계의 혼합물에 산을 첨가한 후 물을 첨가하는 방법, (2) 상기 (b1) 단계의 혼합물에 물을 첨가한 후 산을 첨가하는 방법 또는 (3) 상기 (b1) 단계의 혼합물에 산을 포함하는 수용액을 첨가하는 방법일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.In the step (b2-1), the method of mixing an aqueous solution having a pH of less than 7 to the mixture is (1) a method of adding water after adding an acid to the mixture of step (b1), (2) the (b1) A method of adding an acid after adding water to the mixture in step) or (3) adding an aqueous solution containing an acid to the mixture in step (b1), but is not limited thereto.

상기 산은 pH가 7 미만인 물질이라면 제한되지 않고 사용할 수 있다. 상기 산은 염산, 황산, 인산, 질산, 과염소산 등일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 일 실시상태에 있어서, 상기 pH 7 미만의 수용액은 1N의 HCl 수용액일 수 있다.The acid may be used without limitation as long as it is a material having a pH of less than 7. The acid may be hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, perchloric acid, etc., but is not limited thereto. In an exemplary embodiment, the aqueous solution having a pH of less than 7 may be 1N HCl aqueous solution.

일 실시상태에 있어서, 상기 (b2-1) 단계는 15℃ 내지 20℃에서 수행될 수 있다.In an exemplary embodiment, step (b2-1) may be performed at 15°C to 20°C.

일 실시상태에 있어서, 상기 (b2-2) 단계는 상기 (b2-1) 단계에서 얻은 혼합물을 정치하여 수용액과 유기층을 층분리하고, 상기 혼합물로부터 수용액을 분리하여 제거하는 단계일 수 있다. In an exemplary embodiment, the step (b2-2) may be a step of allowing the mixture obtained in the step (b2-1) to stand still to separate the aqueous solution and the organic layer, and to separate and remove the aqueous solution from the mixture.

일 실시상태에 있어서, 상기 (b2) 단계는 15℃ 내지 20℃에서 수행될 수 있다.In an exemplary embodiment, step (b2) may be performed at 15°C to 20°C.

일 실시상태에 있어서, 상기 (b3) 단계는 상기 (b2) 단계에서 얻은 혼합물에 물 또는 수용액을 혼합하고, 물 또는 수용액을 제거하는 단계(b3-1); 및 상기 (b3-1) 단계에서 얻은 혼합물에서 용매를 제거하는 단계(b3-2)를 포함한다.In an exemplary embodiment, the step (b3) includes mixing water or an aqueous solution with the mixture obtained in step (b2), and removing the water or aqueous solution (b3-1); And removing the solvent from the mixture obtained in step (b3-1) (b3-2).

상기 (b3-1) 단계는 상기 (b2) 단계에서 얻은 혼합물에 포함된 수용성 불순물을 제거하는 단계이다.Step (b3-1) is a step of removing water-soluble impurities contained in the mixture obtained in step (b2).

일 실시상태에 있어서, 상기 수용액은 물 및 용질(p)를 포함하는 용액이다. 상기 용질(p)은 염화암모늄, 탄산수소나트륨 등일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.In one embodiment, the aqueous solution is a solution containing water and a solute (p). The solute (p) may be ammonium chloride, sodium hydrogen carbonate, or the like, but is not limited thereto.

일 실시상태에 있어서, 상기 (b3-1) 단계는 1회 이상; 2회 이상; 바람직하게는 3회 이상 수행될 수 있다.In an exemplary embodiment, the step (b3-1) may be performed at least once; more than 2 times; Preferably, it may be performed three or more times.

일 실시상태에 있어서, 상기 (b3-1) 단계는 혼합물에 혼합한 후의 물 또는 수용액의 pH가 7 이상이 될 때까지 반복하는 것이 바람직하다.In an exemplary embodiment, the step (b3-1) is preferably repeated until the pH of the water or aqueous solution after mixing into the mixture becomes 7 or more.

일 실시상태에 있어서, 상기 (b3-1) 단계는 15℃ 내지 20℃에서 수행될 수 있다.In an exemplary embodiment, step (b3-1) may be performed at 15°C to 20°C.

상기 (b3-2) 단계에 있어서, 상기 용매는 제1 용매 및 제2 용매를 포함할 수 있다.In step (b3-2), the solvent may include a first solvent and a second solvent.

상기 (b3-2) 단계에 있어서, 용매를 제거하는 방법은 상기 제1 용매 및 제2 용매를 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 일 실시상태에 있어서, 상기 (b3-2) 단계는 상기 (b3-1) 단계에서 얻은 혼합물을 감암농축하는 단계일 수 있다. 이 때 감압농축의 조건은 제1 용매 및 제2 용매에 따라 적절히 조절될 수 있다.In the step (b3-2), a method of removing the solvent may be appropriately selected in consideration of the first solvent and the second solvent. In an exemplary embodiment, step (b3-2) may be a step of sensitizing concentration of the mixture obtained in step (b3-1). At this time, the conditions for concentration under reduced pressure may be appropriately adjusted according to the first solvent and the second solvent.

본 명세서에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물, 화학식 2의 화합물, 용매 및 촉매 등 본 발명에서 사용하는 모든 물질은 통상적으로 사용 가능한 것이면 무방하다. 그외의 구성 및 제조방법은 본 기술분야에서 잘 알려져 있으므로 그에 의하고, 자세한 설명은 생략한다.In the present specification, all materials used in the present invention, such as the compound of Formula 1, the compound of Formula 2, a solvent, and a catalyst, may be used as long as they are commonly used. Other configurations and manufacturing methods are well known in the art, and thus, detailed descriptions thereof will be omitted.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 3의 화합물의 수율은 85 mol% 이상 100 mol% 이하이다. 본 명세서에 있어서, 화학식 3의 화합물의 수율이란, 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물의 연속식 반응기에의 투입량을 고려할 때 이론적으로 생성가능한 화학식 3의 화합물의 몰수 대비 실제 합성을 통하여 수득한 화학식 3의 화합물의 몰수를 의미한다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the yield of the compound of Formula 3 is 85 mol% or more and 100 mol% or less. In the present specification, the yield of the compound of formula 3 refers to the formula obtained through actual synthesis compared to the number of moles of the compound of formula 3 that can be theoretically generated when considering the amount of the compound of formula 1 and the compound of formula 2 added to the continuous reactor. It means the number of moles of the compound of 3.

본 발명의 일 실시상태에 따른 화학식 3의 화합물의 제조방법을 이용하여 형성한 최종 생성물에 있어서, 화학식 3의 화합물의 GC area %는 99% 이상 100% 이하이다. 여기서 화학식 3의 화합물의 GC area %란 최종 생성물의 GC 분석 결과 얻은 피크의 전체 면적 대비 화학식 3의 화합물의 피크의 면적 비를 의미한다. 일 실시상태에 있어서, 상기 GC area %는 mol%를 의미할 수 있다.In the final product formed using the method for preparing the compound of Formula 3 according to an exemplary embodiment of the present invention, the GC area% of the compound of Formula 3 is 99% or more and 100% or less. Here, the GC area% of the compound of Formula 3 refers to the ratio of the area of the peak of the compound of Formula 3 to the total area of the peak obtained as a result of GC analysis of the final product. In an exemplary embodiment, the GC area% may mean mol%.

상기 (b) 단계에 있어서, 반응기(z)의 압력은 적절히 선택될 수 있다. 상기 반응 압력은 용매와 반응 온도를 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 일 실시상태에 있어서, 상기 반응 압력은 1×103 Pa 내지 1×106 Pa, 바람직하게는 5×104 Pa 내지 5×105 Pa, 보다 바람직하게는 8×104 Pa 내지 2×105 Pa일 수 있다.In step (b), the pressure of the reactor (z) may be appropriately selected. The reaction pressure may be appropriately selected in consideration of the solvent and the reaction temperature. In one embodiment, the reaction pressure is 1×10 3 Pa to 1×10 6 Pa, preferably 5×10 4 Pa to 5×10 5 Pa, more preferably 8×10 4 Pa to 2×10 It can be 5 Pa.

본 발명에서 반응물의 온도를 조절하는 방법은 적절한 냉각수단에 의할 수 있다. 상기 냉각수단은 반응기 외부를 둘러싸는 재킷 형태의 냉각기, 반응물의 공급 라인의 일부를 둘러싼 냉각기, 반응기의 외벽이 냉매를 통과시키는 이중관의 냉각기를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. In the present invention, a method of controlling the temperature of the reactant may be performed by an appropriate cooling means. The cooling means may include, but is not limited to, a jacket-type cooler surrounding the outside of the reactor, a cooler surrounding a part of the supply line of the reactant, and a double-tube cooler through which the refrigerant passes through the outer wall of the reactor.

이하 상기 화학식 2 및 3에 있어서, 치환기의 용어를 설명한다.Hereinafter, in Formulas 2 and 3, the term of the substituent will be described.

본 명세서에 있어서, 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄의 포화 탄화수소기를 의미한다.In the present specification, the alkyl group means a linear or branched saturated hydrocarbon group.

본 명세서에 있어서, 아릴기는 고리를 이루는 원소가 탄소 뿐인 방향족 탄화수소고리기를 의미한다. In the present specification, an aryl group means an aromatic hydrocarbon ring group in which the element constituting the ring is only carbon.

본 명세서에 있어서, 할로겐기는 플루오로기, 클로로기, 브로모기 또는 아이오도기일 수 있다.In the present specification, the halogen group may be a fluoro group, a chloro group, a bromo group, or an iodo group.

일 실시상태에 있어서, 상기 R은 C1-10의 알킬기; 또는 C1-10의 알킬기, 할로겐기 및 나이트로기로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C6-30의 아릴기이다.In one embodiment, R is a C 1-10 alkyl group; Or a C 6-30 aryl group unsubstituted or substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a C 1-10 alkyl group, a halogen group, and a nitro group.

일 실시상태에 있어서, 상기 R은 C1-10의 알킬기; 또는 C1-10의 알킬기, 할로겐기 및 나이트로기로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C6-25의 아릴기이다.In one embodiment, R is a C 1-10 alkyl group; Or a C 6-25 aryl group unsubstituted or substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a C 1-10 alkyl group, a halogen group, and a nitro group.

일 실시상태에 있어서, 상기 R은 C1-6의 알킬기; 또는 C1-6의 알킬기, 할로겐기 및 나이트로기로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C6-20의 아릴기이다.In one embodiment, R is a C 1-6 alkyl group; Or a C 6-20 aryl group unsubstituted or substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a C 1-6 alkyl group, a halogen group, and a nitro group.

일 실시상태에 있어서, 상기 R은 C1-6의 알킬기; 또는 C1-6의 알킬기, 할로겐기 및 나이트로기로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 페닐기이다.In one embodiment, R is a C 1-6 alkyl group; Or a phenyl group unsubstituted or substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a C 1-6 alkyl group, a halogen group, and a nitro group.

일 실시상태에 있어서, 상기 R은 메틸기; 또는 메틸기, 클로로기 및 나이트로기로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 페닐기이다.In an exemplary embodiment, R is a methyl group; Or a phenyl group unsubstituted or substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a methyl group, a chloro group, and a nitro group.

일 실시상태에 있어서, 상기 R은 메틸기; 메틸페닐기; 클로로페닐기; 또는 나이트로페닐기이다.In an exemplary embodiment, R is a methyl group; Methylphenyl group; Chlorophenyl group; Or a nitrophenyl group.

일 실시상태에 있어서, 상기 R은 메틸기; 4-메틸페닐기; 4-클로로페닐기; 또는 4-나이트로페닐기이다.In an exemplary embodiment, R is a methyl group; 4-methylphenyl group; 4-chlorophenyl group; Or 4-nitrophenyl group.

이하 본 발명을 실시예에 기초하여 더욱 상세하게 설명하지만, 하기에 개시되는 본 발명의 실시 형태는 어디까지 예시로써, 본 발명의 범위는 이들의 실시 형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허 청구 범위에 표시되었고, 더욱이 특허 청구 범위 기록과 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경을 함유하고 있다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the embodiments of the present invention disclosed below are examples only, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments. The scope of the present invention is indicated in the claims, and furthermore, it contains the meanings equivalent to the claims recorded and all modifications within the scope.

<실시예 1><Example 1>

진공 건조시킨 1L 스테인리스 스틸 압력용기 2개를 준비하였다. 첫번째 압력 용기에는 톨루엔(250 mL, 217.5 g), (S)-메틸 2-하이드록시프로파노에이트(104.11 g) 및 트리에틸아민(131.55 g)을 투입하여 제1 반응 용액을 제조하고 -5℃ 내지 0℃로 냉각하였다. 두번째 압력 용기에는 톨루엔(250 mL, 217.5 g) 및 메탄설포닐 클로라이드(118 g)를 투입하여 제2 반응 용액을 제조하고 -5℃ 내지 0℃로 냉각하였다. 이 때, (S)-메틸 2-하이드록시프로파노에이트, 트리에틸아민 및 메탄설포닐 클로라이드의 몰비는 1 : 1.3 : 1.03 이었다.Two vacuum-dried 1L stainless steel pressure vessels were prepared. Toluene (250 mL, 217.5 g), (S)-methyl 2-hydroxypropanoate (104.11 g) and triethylamine (131.55 g) were added to the first pressure vessel to prepare a first reaction solution, and then -5°C Cooled to 0°C. Toluene (250 mL, 217.5 g) and methanesulfonyl chloride (118 g) were added to the second pressure vessel to prepare a second reaction solution and cooled to -5°C to 0°C. At this time, the molar ratio of (S)-methyl 2-hydroxypropanoate, triethylamine, and methanesulfonyl chloride was 1:1.3:1.03.

각 압력 용기의 압력을 5 bar로 유지시킨 상태에서, 질량 유량계를 이용하여 연속식 반응기 내에 제1 연속식 채널로 제1 반응 용액을 13.5 g/min의 속도로, 제2 연속식 채널로 제2 반응 용액을 10 g/min의 속도로 동시에 주입하였다. 이 때, 연속식 반응기의 온도는 -5℃ 내지 0℃를 유지하였고, 내부 압력은 백프래셔 레귤레이터(backpressure regulator)를 이용하여 1bar로 유지하였다. 연속식 반응기 내에서의 혼합물의 체류 시간은 1분이 되도록 설정하였고, 연속식(관형) 반응기 안정화 후 33.4분 동안 생산된 혼합 반응물을 쟈켓 온도 -5℃ 내지 0℃ 상태의 배치 반응기로 이송 및 투입하여 내부 온도 -5℃ 내지 0℃를 유지하며 1시간 교반시켰다.In a state where the pressure of each pressure vessel was maintained at 5 bar, the first reaction solution was transferred to the first continuous channel in the continuous reactor at a rate of 13.5 g/min and the second reaction solution was transferred to the second continuous channel using a mass flow meter. The reaction solution was simultaneously injected at a rate of 10 g/min. At this time, the temperature of the continuous reactor was maintained at -5°C to 0°C, and the internal pressure was maintained at 1 bar using a backpressure regulator. The residence time of the mixture in the continuous reactor was set to be 1 minute, and the mixed reactant produced for 33.4 minutes after stabilization of the continuous (tubular) reactor was transferred and introduced into a batch reactor at a jacket temperature of -5°C to 0°C. While maintaining the internal temperature -5 ℃ to 0 ℃ was stirred for 1 hour.

반응이 종결되면, 반응액에 1N HCl 수용액(300 mL)을 주입하고, 내부 온도 20 ℃에서 30분 교반하여 pH 2를 확인 후 정치하여 층분리 하고, 수층(약 400 mL)은 폐기한다. 분리된 유기층에 H2O(100 mL)를 주입하고, 내부 온도 20 ℃에서 30분 교반하여 pH 3 내지 4를 확인 후 정치하여 층분리 하고, 수층(약 100 mL)은 폐기한다. 분리된 유기층에 1wt% NaHCO3(400 mL) 수용액을 주입하고, 내부 온도 20 ℃에서 30분 교반하여 pH 7을 확인 후 정치하여 층분리 하고, 수층(약 400 mL)은 폐기한다. 분리된 유기층에 H2O(100 mL)를 주입하고, 내부 온도 20 ℃에서 30분 교반 후 정치하여 층분리 하고, 수층(약 100 mL)은 폐기한다. 분리된 유기층은 감압농축 및 증류로 톨루엔을 제거하여 메틸 (S)-메틸 2-((메틸설포닐)옥시)프로파노에이트를 무색·투명 액체 158.5 g(GC area % = 99 %, 수율 87 mol%)로 수득하였다.When the reaction is complete, 1N HCl aqueous solution (300 mL) is injected into the reaction solution, and the mixture is stirred at an internal temperature of 20° C. for 30 minutes to check pH 2 and then settled to separate layers, and the aqueous layer (about 400 mL) is discarded. H 2 O (100 mL) was injected into the separated organic layer, stirred at an internal temperature of 20° C. for 30 minutes to check pH 3 to 4, and allowed to stand to separate the layers, and the aqueous layer (about 100 mL) was discarded. A 1wt% NaHCO 3 (400 mL) aqueous solution was injected into the separated organic layer, stirred at an internal temperature of 20° C. for 30 minutes to check pH 7, and allowed to stand to separate the layers, and the aqueous layer (about 400 mL) was discarded. H 2 O (100 mL) was injected into the separated organic layer, stirred at an internal temperature of 20° C. for 30 minutes, left to stand for separation, and the aqueous layer (about 100 mL) was discarded. The separated organic layer was concentrated under reduced pressure and distilled to remove toluene, and methyl (S)-methyl 2-((methylsulfonyl)oxy)propanoate was added to 158.5 g of a colorless and transparent liquid (GC area% = 99%, yield 87 mol). %).

<비교예 1><Comparative Example 1>

상온에서 톨루엔(500 mL)이 들어있는 반응기에 (S)-메틸 2-하이드록시프로파노에이트(104.11g, 1 mol) 및 트리에틸아민(181.20 mL, 1.30 mol)을 첨가하고, 내부 온도를 -5 ℃로 냉각한다. 내부 온도 -5 ℃에서 메탄설포닐 클로라이드(117.98 g, 1.03 mol)를 천천히 5시간 동안 적가하여 첨가한다. 메탄설포닐 클로라이드의 첨가가 완료되면, 내부 온도가 0 ℃를 넘지 않도록 하여 3시간 교반한다. GC분석으로 (S)-메틸 2-하이드록시프로파노에이트가 0.1% 이하로 소진되었는지 확인하여 반응 종결 여부를 확인한다. 반응이 종결되면, 반응액에 1N HCl(300 mL) 수용액을 주입하고, 내부 온도 20 ℃에서 30분 교반하여 pH 2를 확인 후 정치하여 층분리 하고, 수층(약 400 mL)은 폐기한다. 분리된 유기층에 H2O(100 mL)를 주입하고, 내부 온도 20 ℃에서 30분 교반하여 pH 3 내지 4를 확인 후 정치하여 층분리 하고, 수층(약 100 mL)은 폐기한다. 분리된 유기층에 1wt% NaHCO3(400 mL) 수용액을 주입하고, 내부 온도 20 ℃에서 30분 교반하여 pH 7을 확인 후 정치하여 층분리 하고, 수층(약 400 mL)은 폐기한다. 분리된 유기층에 H2O(100 mL)를 주입하고, 내부 온도 20 ℃에서 30분 교반 후 정치하여 층분리 하고, 수층(약 100 mL)은 폐기한다. 분리된 유기층은 감압농축 및 증류로 톨루엔을 제거하여 154.86g (S)-메틸 2-((메틸설포닐)옥시)프로파노에이트(Pale yellow liquid, GC area % = 96 %, 수율 84 mol%)를 얻었다.(S)-methyl 2-hydroxypropanoate (104.11 g, 1 mol) and triethylamine (181.20 mL, 1.30 mol) were added to a reactor containing toluene (500 mL) at room temperature, and the internal temperature was- Cool to 5°C. Methanesulfonyl chloride (117.98 g, 1.03 mol) was slowly added dropwise for 5 hours at an internal temperature of -5°C. When the addition of methanesulfonyl chloride is complete, the mixture is stirred for 3 hours so that the internal temperature does not exceed 0°C. By GC analysis, it is checked whether (S)-methyl 2-hydroxypropanoate is exhausted to 0.1% or less to confirm the completion of the reaction. When the reaction is complete, 1N HCl (300 mL) aqueous solution is injected into the reaction solution, and the mixture is stirred at an internal temperature of 20° C. for 30 minutes to check pH 2 and then settled to separate layers, and the aqueous layer (about 400 mL) is discarded. H 2 O (100 mL) was injected into the separated organic layer, stirred at an internal temperature of 20° C. for 30 minutes to check pH 3 to 4, and allowed to stand to separate the layers, and the aqueous layer (about 100 mL) was discarded. A 1wt% NaHCO 3 (400 mL) aqueous solution was injected into the separated organic layer, stirred at an internal temperature of 20° C. for 30 minutes to check pH 7, and allowed to stand to separate the layers, and the aqueous layer (about 400 mL) was discarded. H 2 O (100 mL) was injected into the separated organic layer, stirred at an internal temperature of 20° C. for 30 minutes, left to stand for separation, and the aqueous layer (about 100 mL) was discarded. The separated organic layer was concentrated under reduced pressure and distilled to remove toluene, 154.86g (S)-methyl 2-((methylsulfonyl)oxy)propanoate (Pale yellow liquid, GC area% = 96%, yield 84 mol%) Got it.

상기 실시예 1 및 비교예 1을 비교하면, 본원 발명의 일 실시상태에 따른 제조방법을 사용하면 GC area %로 99 % 이상의 고순도의 화합물의 수득이 가능하며, 수율 또한 향상됨을 확인할 수 있다.Comparing Example 1 and Comparative Example 1, it can be seen that when the production method according to an exemplary embodiment of the present invention is used, it is possible to obtain a compound having a high purity of 99% or more in terms of GC area %, and the yield is also improved.

100: 연속식 반응기
101a, 101b: 원료 용기
102a, 102b: 펌프
103a, 103b: 원료 공급 라인
110a, 110b: 냉각기
104a, 104b: 쟈켓
105: 혼합 장치
110: 반응기(z)
111: 혼합물 이송 라인
100: continuous reactor
101a, 101b: raw material container
102a, 102b: pump
103a, 103b: raw material supply line
110a, 110b: cooler
104a, 104b: jacket
105: mixing device
110: reactor (z)
111: mixture transfer line

Claims (11)

하기 화학식 1의 화합물 및 하기 화학식 2의 화합물을 연속식 반응기에 투입하여 혼합물을 제조하는 단계(a); 및 상기 (a) 단계에서 형성한 혼합물을 상기 연속식 반응기와 직렬로 연결된 반응기(z)에 공급하여 하기 화학식 3의 화합물을 수득하는 단계(b)를 포함하는 화학식 3의 화합물의 제조방법:
[화학식 1]
Figure pat00004

[화학식 2]
Figure pat00005

[화학식 3]
Figure pat00006

상기 화학식 2 및 3에 있어서, R은 알킬기; 또는 알킬기, 할로겐기 및 나이트로기로 이루어진 군에서 선택된 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 아릴기이다.
(A) preparing a mixture by adding a compound of the following formula 1 and a compound of the following formula 2 to a continuous reactor; And (b) supplying the mixture formed in step (a) to a reactor (z) connected in series with the continuous reactor to obtain a compound of formula 3 below:
[Formula 1]
Figure pat00004

[Formula 2]
Figure pat00005

[Formula 3]
Figure pat00006

In Formulas 2 and 3, R is an alkyl group; Or an aryl group unsubstituted or substituted with one or more substituents selected from the group consisting of an alkyl group, a halogen group, and a nitro group.
청구항 1에 있어서, 상기 연속식 반응기는 스태틱믹서 및 마이크로믹서로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것인 화학식 3의 화합물의 제조방법.The method of claim 1, wherein the continuous reactor includes at least one selected from the group consisting of a static mixer and a micromixer. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물은 상기 화학식 1의 화합물 및 제1 용매를 포함하는 제1 용액의 형태로 상기 연속식 반응기에 투입되고, 상기 화학식 2의 화합물은 상기 화학식 2의 화합물 및 제2 용매를 포함하는 제2 용액의 형태로 상기 연속식 반응기에 투입되는 것인 화학식 3의 화합물의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the compound of Formula 1 is introduced into the continuous reactor in the form of a first solution containing the compound of Formula 1 and a first solvent, and the compound of Formula 2 is 2 A method for producing a compound of Formula 3 that is introduced into the continuous reactor in the form of a second solution containing a solvent. 청구항 3에 있어서, 상기 제1 용액은 염기를 더 포함하는 것인 화학식 3의 화합물의 제조방법.The method of claim 3, wherein the first solution further contains a base. 청구항 4에 있어서, 상기 염기는 아민; 또는 질소 함유 헤테로고리인 것인 화학식 3의 화합물의 제조방법.The method according to claim 4, wherein the base is an amine; Or a method for producing a compound of Formula 3 that is a nitrogen-containing heterocycle. 청구항 1에 있어서, 상기 연속식 반응기의 온도는 -5℃ 내지 0℃인 것인 화학식 3의 화합물의 제조방법.The method of claim 1, wherein the temperature of the continuous reactor is -5°C to 0°C. 청구항 1에 있어서, 상기 연속식 반응기에 투입되는 상기 화학식 1의 화합물의 온도는 -5℃ 내지 0℃인 것인 화학식 3의 화합물의 제조방법.The method of claim 1, wherein the temperature of the compound of Formula 1 introduced into the continuous reactor is -5°C to 0°C. 청구항 1에 있어서, 상기 연속식 반응기에 투입되는 상기 화학식 2의 화합물의 온도는 -5℃ 내지 0℃인 것인 화학식 3의 화합물의 제조방법.The method of claim 1, wherein the temperature of the compound of Formula 2 introduced into the continuous reactor is -5°C to 0°C. 청구항 1에 있어서, 상기 반응기(z)는 회분식 반응기인 것인 화학식 3의 화합물의 제조방법.The method of claim 1, wherein the reactor (z) is a batch reactor. 청구항 1에 있어서, 상기 (b) 단계는 상기 (a) 단계에서 얻은 혼합물을 상기 연속식 반응기와 직렬로 연결된 -5℃ 내지 0℃의 반응기(z)에 공급하는 단계(b1); 상기 (b1) 단계에서 얻은 혼합물을 워크업(work-up)하는 단계(b2); 및 상기 (b2) 단계에서 얻은 혼합물에서 화학식 3의 화합물을 추출하는 단계(b3)를 포함하는 것인 화학식 3의 화합물의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the step (b) comprises the step (b1) of supplying the mixture obtained in the step (a) to a reactor (z) at -5°C to 0°C connected in series with the continuous reactor; A step (b2) of working-up the mixture obtained in step (b1); And (b3) extracting the compound of Formula 3 from the mixture obtained in step (b2). 청구항 10에 있어서, 상기 (b2) 단계는 상기 (b1) 단계의 혼합물에 pH 7 미만의 수용액을 혼합하는 단계(b2-1); 및 상기 (b2-1) 단계에서 얻은 혼합물로부터 수용액을 제거하는 단계(b2-2)를 포함하는 것인 화학식 3의 화합물의 제조방법.The method of claim 10, wherein the step (b2) comprises: mixing an aqueous solution having a pH of less than 7 with the mixture of step (b1) (b2-1); And removing the aqueous solution from the mixture obtained in step (b2-1) (b2-2).
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20040104639A (en) 2002-04-29 2004-12-10 바이엘 크롭사이언스 아게 2,6 Substituted pyridine-3-carbonyl derivatives serving as plant protection agents having herbicidal action

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20040104639A (en) 2002-04-29 2004-12-10 바이엘 크롭사이언스 아게 2,6 Substituted pyridine-3-carbonyl derivatives serving as plant protection agents having herbicidal action

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