KR20210026159A - Reddening-resistant layer - Google Patents

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KR20210026159A
KR20210026159A KR1020190106575A KR20190106575A KR20210026159A KR 20210026159 A KR20210026159 A KR 20210026159A KR 1020190106575 A KR1020190106575 A KR 1020190106575A KR 20190106575 A KR20190106575 A KR 20190106575A KR 20210026159 A KR20210026159 A KR 20210026159A
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변진석
서광석
신나영
장영래
나균일
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주식회사 엘지화학
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    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements

Abstract

The present application relates to an optical laminated body or a reddening-resistant layer. In the present application, provided is the optical laminated body or the reddening-resistant layer applied thereto, which may not cause a so-called reddening phenomenon even when driven or maintained under very severe conditions such as an extremely high temperature condition. The reddening-resistant layer includes a pore-containing layer having a reflectance of 2% or more for light having a wavelength in the range of 800 to 1,300 nm.

Description

내적화층{Reddening-resistant layer}Reddening-resistant layer

본 출원은, 내적화층, 그를 포함하는 광학 적층체 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present application relates to an internal integration layer, an optical laminate including the same, and a display device.

디스플레이 장치가 보다 가혹한 조건에서 구동하거나, 유지되는 경우가 증가하고 있다. 예를 들면, 네비게이션이나, 차량 계기판 등 차량용 디스플레이에 사용되는 디스플레이 장치는 여름철 등에는 매우 고온에서 유지 및/또는 구동된다. There are increasing cases in which display devices are driven or maintained under harsher conditions. For example, a display device used for a vehicle display such as a navigation system or a vehicle instrument panel is maintained and/or driven at a very high temperature in summer.

또한, 디스플레이 장치의 용도에 따라서 편광판 등의 광학 적층체가 소위 커버 글래스로 호칭되는 유리 기판과 접촉한 상태로 사용될 수 있다. 커버 글래스 등은 통상 광학 적층체에 비해서 열전도 특성이 우수하기 때문에, 이러한 경우에 열에 의한 영향이 더욱 커진다. Further, depending on the use of the display device, an optical laminate such as a polarizing plate may be used in contact with a glass substrate called a cover glass. Since the cover glass and the like are generally superior in heat conduction properties compared to the optical laminate, the influence of heat in this case is further increased.

이에 따라서 다양한 디스플레이 장치에 적용되는 편광판 등의 광학 적층체에도 기존에 비해서 훨씬 가혹한 조건 하에서도 내구성을 유지하는 것이 요구된다.Accordingly, it is required to maintain durability even under much harsher conditions compared to the conventional optical laminates such as polarizing plates applied to various display devices.

본 출원은, 내적화층, 광학 적층체 및 디스플레이 장치를 제공한다. The present application provides an internalization layer, an optical laminate, and a display device.

본 명세서에서 언급하는 물성 중 측정 온도 및/또는 측정 압력이 결과에 영향을 미치는 물성은, 특별히 달리 언급하지 않는 한, 상온 및/또는 상압에서 측정한 결과이다.Among the physical properties mentioned in the present specification, the physical properties in which the measurement temperature and/or the measurement pressure affect the result are the results measured at room temperature and/or atmospheric pressure, unless otherwise noted.

용어 상온은 가온되거나, 감온되지 않은 자연 그대로의 온도이고, 예를 들면, 10℃ 내지 30℃의 범위 내의 어느 한 온도, 약 23℃ 또는 약 25℃ 정도의 온도를 의미한다. 본 명세서에서 온도의 단위는 특별히 달리 규정하지 않는 한 ℃이다.The term room temperature is a natural temperature that is warmed or not reduced to a temperature, and means, for example, any temperature within the range of 10°C to 30°C, about 23°C or about 25°C. In the present specification, the unit of temperature is °C unless otherwise specified.

용어 상압은 가압 또는 감압되지 않은 자연 그대로의 압력이고, 통상 대기압 수준의 약 1기압 정도를 의미한다.The term atmospheric pressure is a natural pressure that is not pressurized or depressurized, and usually means about 1 atmosphere of atmospheric pressure.

본 명세서에서 측정 습도가 결과에 영향을 미치는 물성의 경우, 해당 물성은 상기 상온 및 상압 상태에서 특별히 조절되지 않은 자연 그대로의 습도에서 측정한 물성이다.In the case of a physical property in which the measured humidity affects the result in the present specification, the corresponding property is a property measured at natural humidity that is not specifically controlled at the room temperature and pressure.

본 출원은 광학 적층체, 디스플레이 장치 또는 내적화층에 대한 것이다. 상기 광학 적층체 또는 디스플레이 장치는 상기 내적화층을 포함할 수 있다. 본 출원에서 용어 내적화층은, 광학 기능층을 포함하는 다양한 광학 적층체에 적용되어 상기 광학 적층체 또는 그 광학 적층체에 적용된 광학 기능층의 적화를 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연시킬 수 있는 모든 종류의 층을 의미할 수 있다. 특히 상기 내적화층은, 후술하는 편광층과 같이 열에 매우 약한 광학 기능층이 매우 가혹한 조건에서 사용되는 경우에도 그 광학 기능층의 적화를 효과적으로 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연시킬 수 있다.The present application relates to an optical laminate, a display device, or an internal layer. The optical laminate or display device may include the internalization layer. In the present application, the term internalization layer is applied to various optical laminates including an optical functional layer to prevent, alleviate, alleviate, suppress and/or delay redundancy of the optical laminate or the optical functional layer applied to the optical laminate. It can mean any kind of layer that can be. In particular, the internalization layer can effectively prevent, alleviate, reduce, suppress and/or delay redundancy of the optical functional layer even when an optical functional layer that is very weak to heat, such as a polarizing layer to be described later, is used under very severe conditions.

상기 적화란, 광학 적층체 또는 광학 기능층이 붉게 변화하는 것을 의미한다. 적화의 발생 여부는 예를 들면, 소위 CIE L*a*b* 색공간의 a*값을 통해 확인할 수 있다. CIE L*a*b* 색공간에서 상기 a*값이 양의 방향으로 커질수록, 대상물이 더욱 적색(red)을 띄는 것을 의미한다. 또한, 상기 a*값이 음의 방향으로 그 절대값이 커질수록, 대상물이 더욱 녹색(green)을 띄는 것을 의미한다. 따라서, a*값의 변화가 초기 a*값 대비 양의 방향인 경우에, 적화되는 경향이 있는 것으로 볼 수 있다.The redization means that the optical laminated body or the optical functional layer turns red. Whether redness has occurred can be checked, for example, through the a* value of the so-called CIE L*a*b* color space. In the CIE L*a*b* color space, as the a* value increases in the positive direction, it means that the object becomes more red. In addition, as the absolute value of the a* value increases in the negative direction, it means that the object becomes more green. Therefore, it can be seen that there is a tendency to increase when the change of the a* value is in a positive direction compared to the initial a* value.

따라서, 본 출원에서 용어 내적화층은, 광학 적층체에 적용되거나, 광학 기능층과 함께 적용되어서, 상기 광학 적층체 및/또는 광학 기능층의 a*값의 양수 방향으로의 변화 또는 증가를 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연시킬 수 있는 모든 종류의 층을 의미할 수 있다.Accordingly, in the present application, the term internalization layer is applied to an optical laminate or is applied together with an optical functional layer to prevent a change or increase in the positive direction of the a* value of the optical laminate and/or the optical functional layer, It can mean any kind of layer capable of alleviating, alleviating, inhibiting and/or delaying.

상기 적화는 주로 광학 적층체 및/또는 광학 기능층에 열이 가해진 경우에 쉽게 발생하고, 따라서, 상기 광학 적층체 및/또는 광학 기능층이 높은 온도에서 유지될수록 상기 적화는 쉽게 발생한다. The redundancy occurs mainly when heat is applied to the optical laminate and/or the optical functional layer, and therefore, the redundancy easily occurs as the optical laminate and/or the optical functional layer is maintained at a high temperature.

본 출원에서 용어 내적화층은, 내열 테스트 후에 광학 적층체 또는 광학 기능층의 상기 a*값의 변화량의 절대값을 2 이하로 할 수 있는 층을 지칭할 수 있다. 상기 내열 테스트는 상기 광학 적층체 및/또는 광학 기능층을 약 95

Figure pat00001
에서 약 750 시간 정도 유지하거나, 약 105℃에서 약 250 시간 유지하는 테스트를 의미한다. 상기 a*값의 변화량은, 상기 내열 테스트 후의 a*값(a*a)에서 상기 내열 테스트 전의 a*값(초기 a*값)(a*i)을 뺀 수치(a*a-a*i)이거나, 혹은 반대로 초기 a*값(상기 a*i)에서 상기 내열 테스트 후의 a*값(a*a)을 뺀 수치(a*i-a*a)일 수 있다. 내적화층의 취지를 비추어 상기 a*값의 변화량은 상기 내열 테스트 후의 a*값(a*a)에서 상기 초기 a*값(a*i)을 뺀 수치(a*a-a*i)일 수 있다.In the present application, the term internalization layer may refer to a layer in which the absolute value of the change amount of the a* value of the optical laminate or the optical functional layer after a heat resistance test is 2 or less. The heat resistance test was performed on the optical laminate and/or the optical functional layer at about 95
Figure pat00001
It means a test that is maintained at about 750 hours or about 250 hours at about 105°C. The amount of change in the a* value is a value obtained by subtracting the a* value (a* a ) after the heat resistance test and the a* value (initial a* value) (a* i ) before the heat resistance test (a* a -a* i) ), or vice versa beginning a * value (the a * i), a * value after the heat resistance test in the (a * a) value (a * -a * a i) can be obtained by subtracting the. In view of the purpose of the internalization layer, the amount of change in the a* value may be a value obtained by subtracting the initial a* value (a* i ) from the a* value (a* a ) after the heat resistance test (a* a -a* i ). have.

본 출원에서 상기 내열 테스트는 통상적인 내열 테스트 대비 가혹한 조건에서 수행된 내열 테스트일 수 있다. 예를 들면, 상기 내열 테스트는, 상기 광학 적층체 및/또는 광학 기능층의 상면과 하면(예를 들면, 상부 전면과 하부 전면)을 유리 기판과 접촉시킨 상태에서 수행한 내열 테스트일 수 있다. 유리 기판은, 통상 광학 적층체 또는 광학 기능층에 비해서 열 전달이 잘 되는 소재이기 때문에, 유리 기판과 접촉시킨 상태에서 내열 테스트를 수행하면, 가해진 열의 광학 적층체 및/또는 광학 기능층으로의 영향이 더욱 커지게 된다. 상기 내열 테스트에서 적용되는 유리 기판의 종류는 특별히 제한되지 않지만, 본 명세서에서는 대략 1.1mm의 두께의 소다라임 유리 기판이 적용된 것을 기준으로 한다. 유리 기판은 통상 0.6W/mK 내지 1.38W/mK 정도의 열전도도를 가지는 것으로 알려져 있는데, 본 출원의 광학 적층체 또는 광학 기능층은, 위와 같은 높은 열전도도를 가지는 유리 기판이 접촉된 상태로 상기 내열 테스트가 수행되어도 적화가 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연될 수 있다. 본 명세서에서 언급하는 내열 테스트 관련 색좌표 및/또는 투과율 수치는 상기 두께 1.1mm 정도의 소다 라임 유리가 적용된 것을 기준으로 한다.In the present application, the heat resistance test may be a heat resistance test performed under severe conditions compared to a conventional heat resistance test. For example, the heat resistance test may be a heat resistance test performed in a state in which the upper and lower surfaces (eg, upper and lower surfaces) of the optical laminate and/or the optical functional layer are brought into contact with a glass substrate. Since a glass substrate is a material that transfers heat better than an optical laminate or an optical functional layer, when a heat resistance test is performed in contact with a glass substrate, the applied heat is affected by the optical laminate and/or the optical functional layer. This becomes even bigger. The type of the glass substrate applied in the heat resistance test is not particularly limited, but in the present specification, it is based on a soda lime glass substrate having a thickness of about 1.1 mm. It is known that the glass substrate has a thermal conductivity of about 0.6W/mK to 1.38W/mK, but the optical laminate or optical functional layer of the present application is in a state in which the glass substrate having high thermal conductivity as described above is in contact. Even if a heat resistance test is performed, redundancy may be prevented, alleviated, alleviated, suppressed and/or delayed. The color coordinates and/or transmittance values related to the heat resistance test referred to in the present specification are based on the applied soda lime glass having a thickness of about 1.1 mm.

본 출원의 광학 적층체는, 적어도 광학 기능층; 및 상기 광학 기능층의 적어도 일면에 형성되어 있는 상기 내적화층을 포함할 수 있다. 광학 적층체는 상기 내적화층을 포함하는 것에 의해서 상기 적화가 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연될 수 있다.The optical laminate of the present application includes at least an optical functional layer; And the internalization layer formed on at least one surface of the optical functional layer. The optical laminate may prevent, alleviate, reduce, suppress and/or delay the redness by including the internalization layer.

예를 들면, 상기 광학 적층체 또는 그에 포함되는 광학 기능층은, 내열 테스트 후에 하기 수식 1에 따른 CIE L*a*b*의 색좌표 a*값의 변화량(△a*)의 절대값이 2 이내일 수 있다. 본 출원에서 언급하는 색좌표는 JASCO V-7100 스펙트로포토미터(Spectrophotometer)를 사용하여 측정한 결과이다. For example, in the optical laminate or the optical functional layer included therein, the absolute value of the change amount (Δa*) of the color coordinate a* value of the CIE L*a*b* according to Equation 1 below is 2 or less after the heat resistance test. Can be The color coordinates referred to in this application are the results measured using a JASCO V-7100 Spectrophotometer.

[수식 1][Equation 1]

△a* = a*a - a*i △a* = a* a -a* i

수식 1에서 △a*는 상기 색좌표 a*의 변화량이고, a*a는 상기 내열 테스트 후의 색좌표 a*값이며, a*i는 상기 내열 테스트 전의 초기 색좌표 a*값이다.In Equation 1, Δa* is the amount of change in the color coordinate a*, a* a is the color coordinate a* value after the heat resistance test, and a* i is the initial color coordinate a* value before the heat resistance test.

상기 변화량(△a*)의 절대값은 다른 예시에서 약 1.9 이내, 약 1.8 이내, 약 1.7 이내, 약 1.6 이내, 약 1.5 이내, 약 1.4 이내, 1.3 이내, 1.2 이내, 1.1 이내, 1.0 이내, 0.9 이내, 0.8 이내, 0.7 이내, 0.6 이내, 0.5 이내, 0.4 이내, 0.3 이내, 0.2 이내 또는 0.1 이내일 수도 있다. 상기 변화량(△a*)의 절대값은 그 수치가 낮을수록 대상물의 적화가 일어나지 않았다는 것을 의미할 수 있기 때문에 그 하한치는 제한이 없으며, 일 예시에서 상기 변화량(△a*)의 절대값은 0 이상일 수 있다. 일 예시에서 상기 a*값이 초기 대비 양의 방향으로 변화하는 경우의 변화량일 수 있다.In other examples, the absolute value of the change amount (△a*) is within about 1.9, within about 1.8, within about 1.7, within about 1.6, within about 1.5, within about 1.4, within 1.3, within 1.2, within 1.1, within 1.0, It may be within 0.9, within 0.8, within 0.7, within 0.6, within 0.5, within 0.4, within 0.3, within 0.2, or within 0.1. The absolute value of the change amount (△a*) is not limited because the lower the value, the lower the value may mean that the object has not been redeemed, so the lower limit is not limited, and in one example, the absolute value of the change amount (△a*) is 0 It can be more than that. In an example, it may be a change amount when the a* value changes in a positive direction compared to an initial stage.

상기 내열 테스트는 전술한 것과 같이 상기 광학 적층체 및/또는 광학 기능층을 약 95℃에서 약 750 시간 정도 유지하거나, 약 105℃에서 약 250 시간 유지하는 과정을 의미하고, 이러한 내열 테스트는 해당 광학 적층체 및/또는 광학 기능층의 상면과 하면(상부 전면 및 하부 전면)을 상기 유리 기판과 접촉시킨 상태에서 수행할 수 있다. 이러한 a*값의 변화량은, 본 명세서의 실시예에서 기술하는 방식으로 측정할 수 있다.The heat resistance test refers to a process of maintaining the optical laminate and/or the optical functional layer at about 95° C. for about 750 hours, or at about 105° C. for about 250 hours, as described above. It can be carried out in a state in which the upper and lower surfaces (upper front and lower front surfaces) of the laminate and/or the optical functional layer are brought into contact with the glass substrate. The amount of change in the a* value can be measured in the manner described in the examples of the present specification.

광학 적층체 및/또는 광학 기능층에 적화가 일어나면, 통상 투과율이 떨어지는 현상이 나타난다. 본 출원의 광학 적층체는 적화에 대한 내성이 탁월하기 때문에 투과율의 변화 역시 없거나 최소화된다.When redness occurs in the optical laminate and/or the optical functional layer, a phenomenon in which the transmittance is usually lowered occurs. Since the optical laminate of the present application has excellent resistance to redundancy, the change in transmittance is also minimized or not.

예를 들면, 상기 광학 적층체는, 전술한 내열 테스트 후에 하기 수식 2에 따른 투과율(편광판의 경우 단체 투과율(single transmittance))의 변화량(△Ts)의 절대값이 5 이내일 수 있다. 상기 투과율은, JASCO V-7100 스펙트로포토미터(Spectrophotometer)를 사용하여 가시광 영역의 광, 예를 들면, 대략 380 nm 내지 780 nm의 범위 내의 광에 대해서 측정한 결과이다.For example, in the optical laminate, the absolute value of the change amount (ΔTs) of the transmittance (single transmittance in the case of a polarizing plate) according to Equation 2 below after the heat resistance test described above may be 5 or less. The transmittance is a result of measuring light in the visible region, for example, light in the range of approximately 380 nm to 780 nm using a JASCO V-7100 spectrophotometer.

[수식 2][Equation 2]

△Ts = Ta - Ti △Ts = T a -T i

수식 2에서 △Ts는 상기 투과율(편광판의 경우 단체 투과율(single transmittance))의 변화량이고, Ta는 상기 내열 테스트 후의 투과율(편광판의 경우 단체 투과율(single transmittance))(내열 내구 테스트 후의 투과율)이며, Ti는 상기 내열 테스트 전의 초기 투과율(편광판의 경우 단체 투과율(single transmittance))이다.In Equation 2, △Ts is the amount of change in the transmittance (single transmittance in the case of a polarizing plate), and T a is the transmittance after the heat resistance test (single transmittance in the case of a polarizing plate) (transmittance after a heat-resistant durability test). , T i is the initial transmittance (single transmittance in the case of a polarizing plate) before the heat resistance test.

상기 변화량(△Ts)의 절대값은 다른 예시에서 약 4.9 이하, 4.8 이하, 4.7 이하, 4.6 이하, 4.5 이하, 4.4 이하, 4.3 이하, 4.2 이하, 4.1 이하, 4 이하, 3.9 이하, 3.8 이하, 3.7 이하, 3.6 이하, 3.5 이하, 3.4 이하, 3.3 이하, 3.2 이하, 3.1 이하, 3 이하, 2.9 이하, 2.8 이하, 2.7 이하, 2.6 이하, 2.5 이하, 2.4 이하, 2.3 이하, 2.2 이하, 2.1 이하, 1.9 이하, 1.8 이하, 1.7 이하, 1.6 이하, 1.5 이하, 1.4 이하, 1.3 이하, 1.2 이하, 1.1 이하, 1.0 이하, 0.9 이하, 0.8 이하, 0.7 이하, 0.6 이하, 0.5 이하, 0.4 이하, 0.3 이하, 0.2 이하 또는 0.1 이하일 수 있다. 이상적으로는 상기 투과율의 변화가 없을수록 적화가 없다는 것이 되기 때문에, 상기 변화량(△Ts)의 절대값의 하한은 0이다. 이러한 변화량(△Ts)의 절대값은 다른 예시에서 대략 0 초과일 수도 있다.In other examples, the absolute value of the change amount (△Ts) is about 4.9 or less, 4.8 or less, 4.7 or less, 4.6 or less, 4.5 or less, 4.4 or less, 4.3 or less, 4.2 or less, 4.1 or less, 4 or less, 3.9 or less, 3.8 or less, 3.7 or less, 3.6 or less, 3.5 or less, 3.4 or less, 3.3 or less, 3.2 or less, 3.1 or less, 3 or less, 2.9 or less, 2.8 or less, 2.7 or less, 2.6 or less, 2.5 or less, 2.4 or less, 2.3 or less, 2.2 or less, 2.1 or less , 1.9 or less, 1.8 or less, 1.7 or less, 1.6 or less, 1.5 or less, 1.4 or less, 1.3 or less, 1.2 or less, 1.1 or less, 1.0 or less, 0.9 or less, 0.8 or less, 0.7 or less, 0.6 or less, 0.5 or less, 0.4 or less, 0.3 It may be less than or equal to 0.2 or less than or equal to 0.1. Ideally, no change in the transmittance results in no redness, so the lower limit of the absolute value of the change amount ΔTs is zero. The absolute value of this change amount ΔTs may be approximately greater than 0 in another example.

상기 투과율의 변화량을 측정하기 위한 내열 테스트는 상기 a*값의 변화량을 측정하기 위한 내열 테스트와 같은 조건에서 수행할 수 있다. 투과율은 본 명세서의 실시예에 기재된 방식으로 측정할 수 있다.The heat resistance test for measuring the amount of change in the transmittance may be performed under the same conditions as the heat resistance test for measuring the amount of change in the a* value. The transmittance can be measured in the manner described in the examples herein.

광학 적층체는 광학 기능층을 포함한다. 용어 광학 기능층은, 광학적으로 의도된 적어도 하나의 기능을 나타내는 층이다. 상기 광학적으로 의도된 기능의 예로는, 선편광이나 원편광과 같은 편광의 생성, 반사, 굴절, 흡수, 산란 및/또는 위상 지연(Phase retardation)이 있다. 광학 분야에서는 상기와 같은 기능을 가지는 층이 다양하게 알려져 있으며, 본 출원에서 적용되는 광학 기능층의 예에는, 상기 공지의 광학 기능층 중에서 적화가 문제가 되는 모든 종류의 층이 포함될 수 있다.The optical laminate includes an optical functional layer. The term optical functional layer is a layer that exhibits at least one optically intended function. Examples of such optically intended functions include generation, reflection, refraction, absorption, scattering and/or phase retardation of polarized light such as linearly polarized light or circularly polarized light. In the optical field, various layers having the above functions are known, and examples of the optical functional layers applied in the present application may include all kinds of layers in which redundancy is a problem among the known optical functional layers.

일 예시에서 상기 광학 기능층은, 편광층 또는 위상차층일 수 있다. 본 명세서에서는 상기 광학 기능층이 편광층인 경우에 대해서 기술하지만, 상기 광학 기능층의 종류가 편광층에 제한되는 것은 아니다. 또한, 광학 기능층이 편광층인 경우는, 상기 광학 적층체는 편광판일 수 있다.In one example, the optical functional layer may be a polarizing layer or a retardation layer. In the present specification, a case where the optical functional layer is a polarizing layer is described, but the type of the optical functional layer is not limited to the polarizing layer. In addition, when the optical functional layer is a polarizing layer, the optical laminate may be a polarizing plate.

본 명세서에서 용어 편광층과 편광판은 다른 대상을 지칭한다. 용어 편광층은, 예를 들면, 편광 기능을 나타내는 층을 단독으로 지칭하고, 편광판은 상기 편광층과 함께 다른 요소를 포함하는 적층체를 지칭할 수 있다. 상기에서 편광층과 함께 포함되는 다른 요소로는 편광층의 보호 필름 혹은 보호층, 상기 내적화층, 위상차층, 접착제층, 점착제층 또는 저반사(Low Reflection)층 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In the present specification, the terms polarizing layer and polarizing plate refer to different objects. The term polarizing layer may refer to, for example, a layer exhibiting a polarizing function alone, and a polarizing plate may refer to a laminate including other elements together with the polarizing layer. Other elements included with the polarizing layer in the above may include a protective film or a protective layer of the polarizing layer, the internalization layer, a retardation layer, an adhesive layer, a pressure-sensitive adhesive layer or a low reflection layer, etc., but are limited thereto. It does not become.

본 출원에서 적용되는 편광층의 종류는 기본적으로는 제한되지 않는다. 공지된 가장 일반적인 편광층은 선형 흡수형 편광층으로서, 소위 폴리비닐알코올(poly(vinyl alcohol))(이하, PVA라고 호칭할 수 있다.) 편광층이다. 본 명세서에서 용어 PVA는 특별히 달리 규정하지 않는 한, 폴리비닐알코올 또는 그 유도체를 의미한다. PVA 편광층으로는, 예를 들면, 요오드나 이색성 색소와 같은 이방 흡수성 물질이 흡착 및 배향되어 있는 연신 PVA 필름이나, 소위 코팅형 PVA 편광층으로서, PVA를 코팅 방식에 적용하여 얇게 형성한 편광층 등이 알려져 있는데, 본 출원에서는 위와 같은 종류의 편광층이 모두 적용될 수 있다. 또한, PVA 편광층 외에도 LLC(Lyotropic Liquid Crystal) 등의 액정 화합물로 형성한 편광판, 중합성 액정 화합물(소위 RM(Reactive Mesogen)과 이색성 염료를 GH(Guest-Host) 방식으로 배향시켜서 형성한 편광층 등도 본 출원에서 적용될 수 있다. The type of polarizing layer applied in the present application is not basically limited. The most common known polarizing layer is a linear absorption type polarizing layer, which is a so-called poly(vinyl alcohol) (hereinafter, referred to as PVA) polarizing layer. In the present specification, the term PVA means polyvinyl alcohol or a derivative thereof, unless otherwise specified. As the PVA polarizing layer, for example, a stretched PVA film in which an anisotropic absorbing material such as iodine or dichroic dye is adsorbed and oriented, or a so-called coated PVA polarizing layer, which is formed thinly by applying PVA to a coating method. Layers and the like are known, but in the present application, all of the above types of polarizing layers may be applied. In addition, in addition to the PVA polarizing layer, a polarizing plate formed of a liquid crystal compound such as LLC (Lyotropic Liquid Crystal), a polymerizable liquid crystal compound (so-called RM (Reactive Mesogen)) and a dichroic dye are oriented in a GH (Guest-Host) method. Layers and the like can also be applied in this application.

본 출원의 실시예에서 적용된 편광층은, PVA 편광층이며, 이러한 편광층은 통상 PVA 원반 필름을 염색 및 연신하여 제조한다. PVA 편광층의 상기 제조 공정에서는 임의로 팽윤, 가교, 세정 및/또는 보색 공정 등의 추가 공정이 진행될 수도 있으며, 이러한 공정을 통해 PVA 편광층을 제조하는 과정은 공지이다.The polarizing layer applied in the embodiment of the present application is a PVA polarizing layer, and this polarizing layer is usually manufactured by dyeing and stretching a PVA original film. In the manufacturing process of the PVA polarizing layer, additional processes such as swelling, crosslinking, washing, and/or complementary color processes may optionally be performed, and a process of manufacturing a PVA polarizing layer through such a process is known.

일 예시에서 광학 적층체의 내구성, 특히 고온 신뢰성의 확보를 위해서 상기 편광층으로는, 아연 성분을 포함하는 PVA 편광층을 사용할 수 있다. 상기에서 아연 성분으로는 아연 및/또는 아연 이온 등이 예시된다. 상기 PVA 편광층은 또한 추가 성분으로서 칼륨 또는 칼륨 이온과 같은 칼륨 성분을 포함할 수도 있다. 이러한 성분이 포함된 편광층을 사용하면 고온 조건에서도 안정적으로 내구성이 유지되는 광학 적층체를 제공할 수 있다.In one example, in order to ensure durability of the optical laminate, particularly high-temperature reliability, as the polarizing layer, a PVA polarizing layer containing a zinc component may be used. In the above, examples of the zinc component include zinc and/or zinc ions. The PVA polarizing layer may also contain a potassium component such as potassium or potassium ions as an additional component. When the polarizing layer containing such a component is used, it is possible to provide an optical laminate that stably maintains durability even under high temperature conditions.

상기 칼륨 및/또는 아연 성분의 비율은 추가로 조절될 수 있다. 예를 들면, PVA 편광층에 포함되어 있는 칼륨 성분(K)과 아연 성분(Zn)의 비율(K/Zn)은, 일 예시에서 0.2 내지 8의 범위 내일 수 있다. 상기 비율(K/Zn)은 다른 예시에서 약 0.4 이상, 0.6 이상, 0.8 이상, 1 이상, 1.5 이상, 2 이상 또는 2.5 이상일 수 있고, 7.5 이하, 7 이하, 6.5 이하, 6 이하, 5.5 이하, 약 5 이하, 약 4.5 이하 또는 약 4 이하일 수 있다. 상기 비율은 몰 비율이거나 중량 비율일 수 있다.The ratio of the potassium and/or zinc components can be further adjusted. For example, the ratio (K/Zn) of the potassium component (K) and the zinc component (Zn) included in the PVA polarizing layer may be in the range of 0.2 to 8 in one example. The ratio (K/Zn) may be about 0.4 or more, 0.6 or more, 0.8 or more, 1 or more, 1.5 or more, 2 or more, or 2.5 or more, and 7.5 or less, 7 or less, 6.5 or less, 6 or less, 5.5 or less, It may be about 5 or less, about 4.5 or less, or about 4 or less. The ratio may be a molar ratio or a weight ratio.

PVA 편광층에 포함되는 칼륨 성분의 함량은 약 0.1 내지 2 중량%일 수 있다. 상기 칼륨 성분의 비율은 다른 예시에서 약 0.15 중량% 이상, 약 0.2 중량% 이상, 약 0.25 중량% 이상, 약 0.3 중량% 이상, 약 0.35 중량% 이상, 0.4 중량% 이상, 또는 약 0.45 중량% 이상, 약 0.5 중량% 이상, 약 0.55 중량% 이상, 약 0.6 중량% 이상, 약 0.65 중량% 이상, 약 0.7 중량% 이상, 약 0.75 중량% 이상 또는 약 0.8 중량% 이상일 수 있으며, 약 1.95 중량% 이하, 약 1.9 중량% 이하, 약 1.85 중량% 이하, 약 1.8 중량% 이하, 약 1.75 중량% 이하, 약 1.7 중량% 이하, 약 1.65 중량% 이하, 약 1.6 중량% 이하, 약 1.55 중량% 이하, 약 1.5 중량% 이하, 약 1.45 중량% 이하, 약 1.4 중량% 이하, 약 1.35 중량% 이하, 약 1.3 중량% 이하, 약 1.25 중량% 이하, 약 1.2 중량% 이하, 약 1.15 중량% 이하, 약 1.1 중량% 이하, 약 1.05 중량% 이하, 약 1 중량% 이하, 약 0.95 중량% 이하, 약 0.9 중량% 이하 또는 약 0.85 중량% 이하 정도일 수 있다. The content of the potassium component included in the PVA polarizing layer may be about 0.1 to 2% by weight. The proportion of the potassium component is in another example about 0.15% by weight or more, about 0.2% by weight or more, about 0.25% by weight or more, about 0.3% by weight or more, about 0.35% by weight or more, 0.4% by weight or more, or about 0.45% by weight or more. , About 0.5% by weight or more, about 0.55% by weight or more, about 0.6% by weight or more, about 0.65% by weight or more, about 0.7% by weight or more, about 0.75% by weight or more, or about 0.8% by weight or more, and about 1.95% by weight or less , About 1.9% or less, about 1.85% or less, about 1.8% or less, about 1.75% or less, about 1.7% or less, about 1.65% or less, about 1.6% or less, about 1.55% or less, about 1.5% or less, about 1.45% or less, about 1.4% or less, about 1.35% or less, about 1.3% or less, about 1.25% or less, about 1.2% or less, about 1.15% or less, about 1.1% by weight % Or less, about 1.05% by weight or less, about 1% by weight or less, about 0.95% by weight or less, about 0.9% by weight or less, or about 0.85% by weight or less.

하나의 예시에서 상기 칼륨 성분과 아연 성분의 비율은, 하기 수식 3을 만족하도록 포함되어 있을 수 있다.In one example, the ratio of the potassium component and the zinc component may be included to satisfy Equation 3 below.

[수식 3][Equation 3]

0.70 내지 1 = 1/(1+0.025d/R) 0.70 to 1 = 1/(1+0.025d/R)

수식 3에서 d는 PVA 편광층의 두께(㎛)이고, R은 편광층에 포함되어 있는 칼륨 성분의 중량비(K, 단위: weight%)과 아연 성분의 중량비(Zn, 단위: weight%)의 비율(K/Zn)이다.In Equation 3, d is the thickness of the PVA polarizing layer (㎛), and R is the ratio of the weight ratio (K, unit: weight%) of the potassium component contained in the polarizing layer and the weight ratio of the zinc component (Zn, unit: weight%) (K/Zn).

상기 형태로 편광층에 칼륨 및 아연 성분을 포함시키는 것에 의해서 고온에서의 신뢰성이 우수한 편광층의 제공이 가능할 수 있다.By including potassium and zinc components in the polarizing layer in the above form, it may be possible to provide a polarizing layer having excellent reliability at a high temperature.

상기 수식 3에서 1/(1+0.025d/R)의 값은 다른 예시에서 약 0.75 이상, 0.8 이상 또는 0.85 이상일 수도 있고, 상기 1/(1+0.025d/R)의 값은 약 0.97 이하, 약 0.95 이하 또는 약 0.93 이하 정도일 수도 있다.In Equation 3, the value of 1/(1+0.025d/R) may be about 0.75 or more, 0.8 or more, or 0.85 or more in another example, and the value of 1/(1+0.025d/R) is about 0.97 or less, It may be about 0.95 or less or about 0.93 or less.

이상 기술한 내용에서 칼륨 및/또는 아연 성분의 함량은 본 명세서의 실시예에 기재된 방식으로 측정할 수 있다.In the above description, the content of the potassium and/or zinc component can be measured in the manner described in Examples of the present specification.

본 출원에서 적용되는 편광층은 공지의 편광층의 제조 방법에 따라 제조된 편광층일 수 있다. 또한, 본 출원에서 편광층으로서 상기 칼륨 및/또는 아연 성분을 포함하는 편광층을 적용하고자 하는 경우에, 상기 공지의 편광층의 제조 과정에서 편광층에 아연 및/또는 칼륨이 포함될 수 있도록 공정 조건을 제어하여 제조할 수 있다.The polarizing layer applied in the present application may be a polarizing layer manufactured according to a known method of manufacturing a polarizing layer. In addition, in the case of applying the polarizing layer including the potassium and/or zinc component as the polarizing layer in the present application, the process conditions so that zinc and/or potassium can be included in the polarizing layer in the manufacturing process of the known polarizing layer. It can be manufactured by controlling.

전술한 것과 같이 PVA 편광층은, 통상 PVA 필름(원반 필름)을 염색 및 연신하여 제조하고, 임의적으로 팽윤, 가교, 세정 및/또는 보색 공정이 상기 PVA 편광층의 제조 과정에서 추가로 수행될 수 있다. 상기 연신 공정은 별도의 공정으로 수행되거나, 혹은 상기 염색, 팽윤 및/또는 가교 등의 다른 공정과 동시에 수행될 수도 있다. 이러한 제조 과정에서는 염색액, 가교액, 팽윤액, 세정액 및/또는 보색액 등의 처리액이 적용되는데, 이 처리액의 성분을 조절함으로써 상기 칼륨 및/또는 아연 성분들의 포함 여부를 결정하거나, 그 비율 등을 조절할 수 있다.As described above, the PVA polarizing layer is usually prepared by dyeing and stretching a PVA film (original film), and optionally swelling, crosslinking, washing and/or complementary color processes may be additionally performed in the manufacturing process of the PVA polarizing layer. have. The stretching process may be performed as a separate process, or may be performed simultaneously with other processes such as dyeing, swelling and/or crosslinking. In this manufacturing process, treatment liquids such as dyeing liquid, crosslinking liquid, swelling liquid, washing liquid and/or complementary liquid are applied. By adjusting the components of the treatment liquid, it is determined whether or not the potassium and/or zinc components are included, or You can adjust the ratio, etc.

염색 공정에서는, PVA 필름에 이방 흡수성 물질을 흡착 및/또는 배향시킬 수 있다. 이러한 염색 공정은, 필요하다면, 연신 공정과 함께 수행될 수 있다. 염색은 상기 필름을 이방 흡수성 물질을 포함하는 용액, 예를 들면, 요오드 용액에 침지시켜서 수행될 수 있다. 요오드 용액으로는, 예를 들면, 요오드(I2) 및 용해 보조제인 요오드화 화합물에 의해 요오드 이온을 함유시킨 수용액 등이 사용될 수 있다. 요오드화 화합물로는, 예를 들어 요오드화 칼륨, 요오드화 리튬, 요오드화 나트륨, 요오드화 아연, 요오드화 알루미늄, 요오드화 납, 요오드화 구리, 요오드화 바륨, 요오드화 칼슘, 요오드화 주석 또는 요오드화 티탄 등이 사용될 수 있다. 요오드 용액 중에서 요오드 및/또는 요오드화 이온의 농도는, 목적하는 편광층의 광학 특성을 고려하여 조절될 수 있고, 이러한 조절 방식은 공지이다. 통상 염색액(요오드 용액) 내의 요오드의 함량은 약 0.01 내지 5 중량% 정도이고, 요오드화 화합물의 농도는 약 0.01 내지 10 중량% 정도일 수 있다. 상기 요오드 함량은 다른 예시에서 0.05 중량% 이상, 0.1 중량% 이상 또는 0.15 중량% 이상일 수 있고, 4.5 중량% 이하, 4 중량% 이하, 3.5 중량% 이하, 3 중량% 이하, 2.5 중량% 이하, 2 중량% 이하, 1.5 중량% 이하, 1 중량% 이하 또는 0.5 중량% 이하 정도일 수도 있다. 상기 요오드화 화합물의 농도도 다른 예시에서 0.05 중량% 이상, 0.1 중량% 이상, 0.5 중량% 이상, 1 중량% 이상, 1.5 중량% 이상 또는 2 중량% 이상일 수 있고, 9 중량% 이하, 8 중량% 이하, 7 중량% 이하, 6 중량% 이하, 5 중량% 이하, 4 중량% 이하 또는 3중량% 이하 정도일 수도 있다. 염색 공정에서 요오드 용액의 온도는 통상적으로 20℃ 내지 50℃, 25℃ 내지 40℃ 정도이고, 침지 시간은 통상적으로 10초 내지 300초 또는 20초 내지 240초 정도이지만, 이에 제한되는 것은 아니다.In the dyeing process, the anisotropic absorbing material can be adsorbed and/or orientated on the PVA film. This dyeing process, if necessary, can be performed in conjunction with the stretching process. Dyeing may be performed by immersing the film in a solution containing an anisotropic absorbent material, for example, an iodine solution. As the iodine solution, for example, an aqueous solution containing iodine ions by iodine (I 2 ) and an iodide compound serving as a dissolution aid may be used. As the iodide compound, for example, potassium iodide, lithium iodide, sodium iodide, zinc iodide, aluminum iodide, lead iodide, copper iodide, barium iodide, calcium iodide, tin iodide or titanium iodide may be used. The concentration of iodine and/or iodide ions in the iodine solution may be adjusted in consideration of the optical properties of the desired polarizing layer, and such a control method is known. Usually, the content of iodine in the dyeing solution (iodine solution) is about 0.01 to 5% by weight, and the concentration of the iodide compound may be about 0.01 to 10% by weight. In another example, the iodine content may be 0.05% by weight or more, 0.1% by weight or more, or 0.15% by weight or more, and 4.5% by weight or less, 4% by weight or less, 3.5% by weight or less, 3% by weight or less, 2.5% by weight or less, 2 It may be less than or equal to 1.5% by weight, less than or equal to 1% by weight, or less than or equal to 0.5% by weight. In another example, the concentration of the iodide compound may be 0.05% by weight or more, 0.1% by weight or more, 0.5% by weight or more, 1% by weight or more, 1.5% by weight or more, or 2% by weight or more, and 9% by weight or less, 8% by weight or less , It may be about 7% by weight or less, 6% by weight or less, 5% by weight or less, 4% by weight or less, or about 3% by weight or less. In the dyeing process, the temperature of the iodine solution is typically about 20°C to 50°C, 25°C to 40°C, and the immersion time is usually about 10 seconds to 300 seconds or 20 seconds to 240 seconds, but is not limited thereto.

연신 공정은, 일반적으로 1 축 연신으로 수행하지만, 필요하다면 2축 연신 등 다른 방식의 연신도 적용될 수 있다. 이러한 연신은, 상기 염색 및/또는 후술하는 가교 공정과 함께 수행할 수도 있다. 연신 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 습식 방식이 적용될 수 있다. 이러한 습식 방법에서는, 예를 들어, 염색 후 연신을 수행하는 것이 일반적이다. 연신은 가교와 함께 수행될 수 있으며, 복수회 또는 다단으로 수행할 수도 있다. 습식 연신 방법에 적용되는 처리액에 전술한 요오드화 화합물을 함유시킬 수 있다. 상기 처리액 내에 요오드화 화합물의 농도는 약 0.01 내지 10 중량% 정도일 수 있다. 상기 요오드화 화합물의 농도도 다른 예시에서 0.05 중량% 이상, 0.1 중량% 이상, 0.5 중량% 이상, 1 중량% 이상, 1.5 중량% 이상 또는 2 중량% 이상일 수 있고, 9 중량% 이하, 8 중량% 이하, 7 중량% 이하, 6 중량% 이하, 5 중량% 이하, 4 중량% 이하 또는 3.5 중량% 이하 정도일 수도 있다. 연신에서 처리 온도는 통상적으로 25℃ 이상, 30℃ 내지 85℃ 또는 40℃ 내지 70℃의 범위 내 정도이고, 처리 시간은 통상 10초 내지 800초 또는 30초 내지 500초간이지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 연신 과정에서 총 연신 배율은 배향 특성 등을 고려하여 조절할 수 있고, PVA 필름의 원래 길이를 기준으로 총 연신 배율이 3배 내지 10배, 4배 내지 8배 또는 5배 내지 7배 정도일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기에서 총 연신 배율은 연신 공정 이외의 팽윤, 염색 및/또는 가교 공정 등의 다른 공정에서도 연신을 수반하는 경우에는, 각 공정에 있어서의 연신을 포함한 누적 연신 배율을 의미할 수 있다. 이러한 총 연신 배율은, 배향성, 편광층의 가공성 내지는 연신 절단 가능성 등을 고려하여 적정 범위로 조절될 수 있다.The stretching process is generally performed by uniaxial stretching, but other methods such as biaxial stretching may be applied if necessary. Such stretching may be performed together with the dyeing and/or a crosslinking process described later. The stretching method is not particularly limited, and for example, a wet method may be applied. In this wet method, for example, it is common to perform stretching after dyeing. Stretching may be performed together with crosslinking, and may be performed multiple times or in multiple stages. The above-described iodide compound can be contained in the treatment liquid applied to the wet stretching method. The concentration of the iodide compound in the treatment liquid may be about 0.01 to 10% by weight. In another example, the concentration of the iodide compound may be 0.05% by weight or more, 0.1% by weight or more, 0.5% by weight or more, 1% by weight or more, 1.5% by weight or more, or 2% by weight or more, and 9% by weight or less, 8% by weight or less , It may be about 7% by weight or less, 6% by weight or less, 5% by weight or less, 4% by weight or less, or about 3.5% by weight or less. In stretching, the treatment temperature is usually 25°C or higher, 30°C to 85°C, or 40°C to 70°C, and the treatment time is usually 10 seconds to 800 seconds or 30 seconds to 500 seconds, but is not limited thereto. . In the stretching process, the total draw ratio can be adjusted in consideration of orientation characteristics, etc., and the total draw ratio may be about 3 to 10 times, 4 to 8 times or 5 to 7 times based on the original length of the PVA film. It is not limited thereto. In the above, the total draw ratio may mean a cumulative draw ratio including stretching in each step when stretching is also involved in other processes such as swelling, dyeing and/or crosslinking processes other than the stretching process. This total draw ratio may be adjusted to an appropriate range in consideration of orientation, workability of the polarizing layer, or possibility of stretching and cutting.

편광층의 제조 공정에서는 상기 염색 및 연신에 추가로 팽윤 공정을 진행할 수 있고, 이는 통상 염색 공정 전에 진행된다. 팽윤에 의해서 PVA 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있고, 또한 이에 의해 염색 편차 등의 불균일을 줄일 수 있는 효과도 있다.In the manufacturing process of the polarizing layer, a swelling process may be performed in addition to the dyeing and stretching, which is usually performed before the dyeing process. By swelling, it is possible to clean the surface of the PVA film with an anti-blocking agent or contamination, and there is also an effect of reducing unevenness such as dyeing deviation.

팽윤 공정에서는 통상적으로 물, 증류수 또는 순수 등이 사용될 수 있다. 당해 처리액의 주성분은 물이고, 필요하다면, 요오드화 칼륨 등의 요오드화 화합물 또는 계면 활성제 등과 같은 첨가물이나, 알코올 등이 소량 포함되어 있을 수 있다. 팽윤 과정에서의 처리 온도는 통상적으로 20℃ 내지 45℃ 또는 20℃ 내지 40℃ 정도이지만 이에 제한되지 않는다. 팽윤 편차는 염색 편차를 유발할 수 있기 때문에 이러한 팽윤 편차의 발생이 가능한 억제되도록 공정 변수가 조절될 수 있다. 팽윤 공정에서도, 임의적으로 적절한 연신이 수행될 수 있다. 연신 배율은, PVA 필름의 원래 길이를 기준으로 6.5배 이하, 1.2 내지 6.5배, 2배 내지 4배 또는 2배 내지 3배 정도일 수 있다. 팽윤 과정에서의 연신은, 팽윤 공정 후에 수행되는 연신 공정에서의 연신을 작게 제어할 수 있고, 필름의 연신 파단이 발생하지 않도록 제어할 수 있다.In the swelling process, water, distilled water, pure water, or the like may be used. The main component of the treatment liquid is water, and if necessary, an additive such as an iodide compound such as potassium iodide or a surfactant, or a small amount of alcohol may be contained. The treatment temperature in the swelling process is usually about 20°C to 45°C or 20°C to 40°C, but is not limited thereto. Since swelling deviations can cause dyeing deviations, the process parameters can be adjusted so that the occurrence of such swelling deviations is suppressed as much as possible. Even in the swelling process, appropriate stretching can be performed optionally. The draw ratio may be about 6.5 times or less, 1.2 to 6.5 times, 2 to 4 times, or 2 to 3 times based on the original length of the PVA film. The stretching in the swelling process can be controlled so that the stretching in the stretching process performed after the swelling process can be controlled to be small, and the stretching breakage of the film does not occur.

가교 공정은, 예를 들면, 붕소 화합물과 같은 가교제를 사용하여 수행할 수 있다. 가교 공정의 순서는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 염색 및/또는 연신 공정과 함께 수행하거나, 별도로 진행할 수 있다. 가교 공정은 여러 번 실시할 수도 있다. 붕소 화합물로는 붕산 또는 붕사 등이 사용될 수 있다. 붕소 화합물은, 수용액 또는 물과 유기 용매의 혼합 용액의 형태로 일반적으로 사용될 수 있고, 통상적으로는 붕산 수용액이 사용된다. 붕산 수용액에서의 붕산 농도는, 가교도와 그에 따른 내열성 등을 고려하여 적정 범위로 선택될 수 있다. 붕산 수용액 등에도 요오드화 칼륨 등의 요오드화 화합물을 함유시킬 수 있다. 상기 붕산 수용액 내에 요오드화 화합물의 농도는 약 0.01 내지 10 중량% 정도일 수 있다. 상기 요오드화 화합물의 농도도 다른 예시에서 0.05 중량% 이상, 0.1 중량% 이상, 0.5 중량% 이상, 1 중량% 이상, 1.5 중량% 이상 또는 2 중량% 이상일 수 있고, 9 중량% 이하, 8 중량% 이하, 7 중량% 이하, 6 중량% 이하, 5 중량% 이하, 4 중량% 이하 또는 3.5 중량% 이하 정도일 수도 있다. 가교 공정은, 상기 PVA 필름을 붕산 수용액 등에 침지함으로써 수행할 수 있는데. 이 과정에서 처리 온도는 통상적으로 25℃ 이상, 30℃ 내지 85℃ 또는 30℃ 내지 60℃ 정도의 범위이고, 처리 시간은 통상적으로 5초 내지 800초간 또는 8초 내지 500초간 정도이다.The crosslinking process can be performed using, for example, a crosslinking agent such as a boron compound. The order of the crosslinking process is not particularly limited, and for example, it may be performed together with the dyeing and/or stretching process, or may be performed separately. The crosslinking process may be performed several times. As the boron compound, boric acid or borax may be used. The boron compound may be generally used in the form of an aqueous solution or a mixed solution of water and an organic solvent, and an aqueous boric acid solution is usually used. The boric acid concentration in the boric acid aqueous solution may be selected in an appropriate range in consideration of crosslinking degree and thus heat resistance. An iodide compound such as potassium iodide can also be contained in an aqueous boric acid solution or the like. The concentration of the iodide compound in the aqueous boric acid solution may be about 0.01 to 10% by weight. In another example, the concentration of the iodide compound may be 0.05% by weight or more, 0.1% by weight or more, 0.5% by weight or more, 1% by weight or more, 1.5% by weight or more, or 2% by weight or more, and 9% by weight or less, 8% by weight or less , It may be about 7% by weight or less, 6% by weight or less, 5% by weight or less, 4% by weight or less, or about 3.5% by weight or less. The crosslinking process can be performed by immersing the PVA film in an aqueous boric acid solution or the like. In this process, the treatment temperature is typically 25°C or higher, 30°C to 85°C, or 30°C to 60°C, and the treatment time is typically 5 seconds to 800 seconds or 8 seconds to 500 seconds.

편광층의 제조 과정에서는 금속 이온 처리가 수행될 수 있고, 이는 통상 보색 공정으로 호칭될 수 있다. 이러한 처리는, 예를 들면, 금속 염을 함유하는 수용액에 PVA 필름을 침지함으로써 실시한다. 이를 통해 편광층 내에 금속 이온 등과 같은 금속 성분을 함유시킬 수 있는데. 이 과정에서 상기 금속 성분의 종류 내지는 비율을 조절할 수 있다. 적용될 수 있는 금속 이온으로는, 코발트, 니켈, 아연, 크롬, 알루미늄, 구리, 망간 또는 철 등의 전이 금속의 금속 이온이 예시될 수 있고, 이 중 적절한 종류의 선택에 의해 색조의 조절이 가능할 수도 있다.In the manufacturing process of the polarizing layer, metal ion treatment may be performed, and this may be generally referred to as a complementary color process. Such treatment is performed, for example, by immersing a PVA film in an aqueous solution containing a metal salt. Through this, it is possible to contain metal components such as metal ions in the polarizing layer. In this process, the type or ratio of the metal component can be adjusted. Examples of metal ions that can be applied include metal ions of transition metals such as cobalt, nickel, zinc, chromium, aluminum, copper, manganese, or iron. have.

아연을 포함하는 편광층을 제조하기 위해서 상기 보색 공정에서 적용되는 처리액(금속염을 포함하는 수용액) 내에 아연 성분이 포함될 수 있다. 다만, 필요하다면, 상기 아연 성분은 다른 공정 중에 적용될 수도 있고, 이러한 경우에는 염색액이나, 가교액 등 다른 처리액 혹은 별도의 처리액에 상기 아연 성분이 포함될 수도 있다. 상기 아연 성분은 예를 들면, 염화 아연, 요오드화 아연, 황산 아연, 질산 아연 및 초산 아연 등에서 선택된 하나 이상의 아연염을 상기 수용액에 용해시켜 도입할 수 있다. 이러한 경우에 목적하는 아연 함량의 달성을 위해서는 상기 아연염의 농도를 약 0.01 내지 10 중량% 정도로 조정할 수 있다. 상기 아연염의 농도도 다른 예시에서 0.05 중량% 이상, 0.1 중량% 이상, 0.5 중량% 이상, 1 중량% 이상, 1.5 중량% 이상 또는 2 중량% 이상이거나, 9 중량% 이하, 8 중량% 이하, 7 중량% 이하, 6 중량% 이하, 5 중량% 이하, 4 중량% 이하 또는 3 중량% 이하 정도일 수도 있다. 필요하다면, 상기 처리액에 칼륨 성분도 포함될 수 있다. 칼륨 성분으로는 요오드화 칼륨 등의 칼륨염이 예시될 수 있다. 상기 칼륨염의 농도는 약 0.01 내지 10 중량% 정도일 수 있다. 상기 농도도 다른 예시에서 0.05 중량% 이상, 0.1 중량% 이상, 0.5 중량% 이상, 1 중량% 이상, 1.5 중량% 이상, 2 중량% 이상, 2.5 중량% 이상, 3 중량% 이상, 3.5 중량% 이상, 4 중량% 이상, 4.5 중량% 이상 또는 5 중량% 이상이거나, 9 중량% 이하, 8 중량% 이하, 7 중량% 이하 또는 6 중량% 이하 정도일 수도 있다. 보색 공정에서 상기와 같이 아연염이나 칼륨염을 적용함으로써 목적하는 수준의 아연 및 칼륨 성분을 편광층에 포함시킬 수 있다.In order to manufacture a polarizing layer containing zinc, a zinc component may be included in a treatment liquid (aqueous solution containing a metal salt) applied in the complementary color process. However, if necessary, the zinc component may be applied during another process, and in this case, the zinc component may be included in another treatment liquid or a separate treatment liquid such as a dyeing solution or a crosslinking solution. The zinc component may be introduced by dissolving at least one zinc salt selected from zinc chloride, zinc iodide, zinc sulfate, zinc nitrate, and zinc acetate in the aqueous solution. In this case, in order to achieve the desired zinc content, the concentration of the zinc salt may be adjusted to about 0.01 to 10% by weight. In another example, the concentration of the zinc salt is 0.05% by weight or more, 0.1% by weight or more, 0.5% by weight or more, 1% by weight or more, 1.5% by weight or more, or 2% by weight or more, 9% by weight or less, 8% by weight or less, 7 It may be about weight% or less, 6 weight% or less, 5 weight% or less, 4 weight% or less, or 3 weight% or less. If necessary, a potassium component may also be included in the treatment liquid. Potassium salts, such as potassium iodide, can be illustrated as a potassium component. The concentration of the potassium salt may be about 0.01 to 10% by weight. The concentration is also 0.05% by weight or more, 0.1% by weight or more, 0.5% by weight or more, 1% by weight or more, 1.5% by weight or more, 2% by weight or more, 2.5% by weight or more, 3% by weight or more, 3.5% by weight or more , 4 wt% or more, 4.5 wt% or more, 5 wt% or more, 9 wt% or less, 8 wt% or less, 7 wt% or less, or 6 wt% or less. In the complementary color process, by applying a zinc salt or a potassium salt as described above, a desired level of zinc and potassium components can be included in the polarizing layer.

편광층의 제조 과정에서는 염색, 가교 및 연신 후에 세정 공정이 진행될 수 있다. 이러한 세정 공정은, 통상 상기 보색 공정 전에 수행될 수 있으며, 물을 사용하여 수행할 수 있다. 필요하다면, 상기 세정 공정에 적용되는 물에는 요오드, 요오드화물, 기타 금속염 등의 다른 성분들이나, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올 또는 프로판올 등의 액체 알코올 등의 성분이 적정량 배합될 수도 있다.In the manufacturing process of the polarizing layer, a washing process may be performed after dyeing, crosslinking, and stretching. This cleaning process may be usually performed before the complementary color process, and may be performed using water. If necessary, other components such as iodine, iodide, and other metal salts, or components such as liquid alcohol such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol or propanol, may be blended in an appropriate amount in the water applied to the washing process.

이러한 공정을 거친 후에 건조 공정을 수행하여 편광층을 제조할 수 있다. 건조 공정에서는, 예를 들면, 편광층에 요구되는 수분율 등을 고려하여 적절한 온도에서 적절한 시간 동안 수행될 수 있고, 이러한 조건은 특별히 제한되지 않는다.After passing through such a process, a drying process may be performed to prepare a polarizing layer. In the drying process, for example, it may be performed at an appropriate temperature for an appropriate time in consideration of the moisture content required for the polarizing layer, and such conditions are not particularly limited.

상기와 같은 과정에서 전술한 바와 같이 편광층 내에 아연 및/또는 칼륨 성분을 포함시킬 수 있다. In the above process, as described above, zinc and/or potassium components may be included in the polarizing layer.

그렇지만, 상기 아연 및/또는 칼륨 성분을 포함하는 편광층을 제조하기 위한 방식이 상기에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 아연염을 팽윤, 염색, 가교, 연신 및/또는 세정 처리에 적용되는 처리액 내에 포함시켜서 보색 공정이 아닌 다른 공정에서 아연 성분을 편광층에 포함시킬 수도 있다. 또한, 상기 팽윤, 염색, 가교, 연신 및/또는 세정 처리 등에 적용되는 처리액에 요오드화 칼륨 등 칼륨 성분이 포함되는 경우도 있기 때문에, 이 과정에서 칼륨 성분의 비율을 조정할 수도 있다. 당업자는 일반적인 편광층의 제조 방법을 적절하게 채용하면서 목적에 따라 원하는 수준의 아연 및/또는 칼륨 성분을 편광층에 포함시킬 수 있다.However, the method for manufacturing the polarizing layer including the zinc and/or potassium component is not limited thereto. For example, a zinc component may be included in the polarizing layer in a process other than a complementary color process by including a zinc salt in a treatment liquid applied to swelling, dyeing, crosslinking, stretching and/or washing treatment. In addition, since a potassium component such as potassium iodide may be included in the treatment liquid applied to the swelling, dyeing, crosslinking, stretching and/or washing treatment, etc., the ratio of the potassium component may be adjusted in this process. A person skilled in the art may appropriately employ a general method of manufacturing a polarizing layer and include a desired level of zinc and/or potassium components in the polarizing layer depending on the purpose.

본 출원에서 적용될 수 있는 상기 편광층의 두께는 제한되지 않는다. 즉, 본 출원에서는 편광층으로 일반적인 공지의 편광층이 적용될 수 있기 때문에, 그 두께 역시 통상적인 두께가 적용된다. 통상 편광층의 두께는 5 ㎛ 내지 80 ㎛의 범위 내일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The thickness of the polarizing layer that can be applied in the present application is not limited. That is, in the present application, since a general known polarizing layer may be applied as the polarizing layer, the conventional thickness is also applied. In general, the thickness of the polarizing layer may be in the range of 5 μm to 80 μm, but is not limited thereto.

본 출원의 광학 적층체는 상기 내적화층을 포함한다. 내적화층은 상기 언급한 바와 같이 광학 적층체 및/또는 광학 기능층의 적화를 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연시킬 수 있는 층이다. 광학 적층체 및/또는 광학 기능층의 적화는 열에 의해 발생하는 것으로 예상되는데, 디스플레이 장치의 용도 확대에 따라 광학 적층체 및/또는 광학 기능층이 보다 고온에 노출되는 경우가 보다 많아지게 되면서 종전에는 문제가 되지 않았던 적화가 크게 발생하는 것으로 생각된다.The optical laminate of the present application includes the internal integration layer. The internalization layer is a layer capable of preventing, alleviating, alleviating, suppressing and/or delaying redundancy of the optical laminate and/or the optical functional layer as mentioned above. Redness of the optical laminate and/or the optical functional layer is expected to occur due to heat.As the use of the display device expands, the optical laminate and/or the optical functional layer are more frequently exposed to higher temperatures. It is thought that red fire, which was not a problem, is largely occurring.

따라서, 상기 내적화층으로는 광학 적층체 및/또는 광학 기능층으로 가해지는 열을 차단하거나, 가해지는 열의 정도를 경감시키거나 혹은 열의 전달 속도를 늦추는 역할을 하는 층을 적용할 수 있다.Accordingly, as the internalization layer, a layer that blocks heat applied to the optical laminate and/or the optical functional layer, reduces the degree of applied heat, or slows the transfer rate of heat may be applied.

일 예시에서 상기 내적화층은, 적절한 열확산도를 가지는 층일 수 있다. 예를 들면, 상기 내적화층은, 해당 내적화층을 고분자 필름상에 형성하여 적층체를 제조하고, 그 내적화층과 고분자 필름의 적층체에 대해서 95°C에서 측정한 열확산도가 상기 고분자 필름 단독의 열확산도 대비 90% 이하가 되는 수준의 열확산도를 가질 수 있다. In one example, the internalization layer may be a layer having an appropriate thermal diffusivity. For example, for the internalization layer, a laminate is prepared by forming the internal internalization layer on a polymer film, and the thermal diffusivity measured at 95°C for the stacked body of the internalization layer and the polymer film is the same as that of the polymer film alone. It may have a thermal diffusivity of less than 90% compared to the thermal diffusivity.

이러한 경우에 상기 내적화층은, 하기 수식 4를 만족할 수 있다. 후술하는 것처럼, 본 출원에서 용어 내적화층은, 공극 함유층 자체를 의미하는 것이거나, 혹은 상기 공극 함유층을 적어도 포함하는 적층체를 의미할 수 있다. 따라서, 하기 수식 4에서 말하는 내적화층은, 후술하는 공극 함유층이거나, 혹은 그를 포함하는 적층 구조의 내적화층일 수 있다.In this case, the internalization layer may satisfy Equation 4 below. As will be described later, in the present application, the term internalization layer may mean a pore-containing layer itself, or a laminate including at least the pore-containing layer. Accordingly, the internalization layer referred to in Equation 4 below may be a void-containing layer described later, or may be an internalization layer of a laminated structure including the same.

[수식 4][Equation 4]

HL ≤ 0.9×HP H L ≤ 0.9×H P

수식 4에서 HL은, 고분자 필름과 상기 고분자 필름의 일면에 형성된 상기 내적화층 또는 공극 함유층으로 되는 적층체의 열확산도이고, HP는, 상기 고분자 필름의 열확산도이다.In Equation 4, H L is a thermal diffusivity of a polymer film and a laminate comprising the inner layer or void-containing layer formed on one surface of the polymer film, and H P is the thermal diffusivity of the polymer film.

본 명세서에서 상기 열확산도 측정을 위한 고분자 필름의 종류는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들면, 60㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름을 적용할 수 있다. 상기 적층체의 열확산도(95°C)는 다른 예시에서 상기 TAC 필름의 열확산도(95°C)의 89% 이하 정도, 88% 이하 정도, 87% 이하 정도, 86% 이하 정도, 85% 이하 정도, 84% 이하 정도, 83% 이하 정도, 82% 이하 정도, 81% 이하 정도, 80% 이하 정도, 79% 이하 정도, 78% 이하 정도, 77% 이하 정도, 76% 이하 정도, 75% 이하 정도, 74% 이하 정도, 73% 이하 정도, 72% 이하 정도, 71% 이하 정도, 70% 이하 정도, 69% 이하 정도, 68% 이하 정도, 67% 이하 정도, 66% 이하 정도 또는 65% 이하 정도이거나, 10% 이상 정도, 11% 이상 정도, 12% 이상 정도, 13% 이상 정도, 14% 이상 정도, 15% 이상 정도, 16% 이상 정도, 17% 이상 정도, 18% 이상 정도, 19% 이상 정도, 20% 이상 정도, 21% 이상 정도, 22% 이상 정도, 23% 이상 정도, 24% 이상 정도, 25% 이상 정도, 26% 이상 정도, 27% 이상 정도, 28% 이상 정도, 29% 이상 정도, 30% 이상 정도, 31% 이상 정도, 32% 이상 정도, 33% 이상 정도, 34% 이상 정도, 35% 이상 정도, 36% 이상 정도, 37% 이상 정도, 38% 이상 정도, 39% 이상 정도, 40% 이상 정도, 41% 이상 정도, 42% 이상 정도, 43% 이상 정도, 44% 이상 정도, 45% 이상 정도, 46% 이상 정도, 47% 이상 정도, 48% 이상 정도, 49% 이상 정도, 50% 이상 정도, 51% 이상 정도, 52% 이상 정도, 53% 이상 정도, 54% 이상 정도, 55% 이상 정도, 56% 이상 정도, 57% 이상 정도, 58% 이상 정도, 59% 이상 정도 또는 60% 이상 정도일 수도 있다.In the present specification, the type of the polymer film for measuring the thermal diffusivity is not particularly limited, and for example, a triacetyl cellulose (TAC) film having a thickness of 60 μm may be applied. In another example, the thermal diffusivity (95°C) of the laminate is 89% or less, 88% or less, 87% or less, 86% or less, 85% or less of the thermal diffusivity (95°C) of the TAC film. Degree, about 84% or less, 83% or less, 82% or less, 81% or less, 80% or less, 79% or less, 78% or less, 77% or less, 76% or less, 75% or less Degree, about 74% or less, 73% or less, 72% or less, 71% or less, 70% or less, 69% or less, 68% or less, 67% or less, 66% or less, or 65% or less About 10% or more, 11% or more, 12% or more, 13% or more, 14% or more, 15% or more, 16% or more, 17% or more, 18% or more, 19% More than 20%, more than 21%, more than 22%, more than 23%, more than 24%, more than 25%, more than 26%, more than 27%, more than 28%, 29% More than 30%, more than 31%, more than 32%, more than 33%, more than 34%, more than 35%, more than 36%, more than 37%, more than 38%, 39% Abnormality, 40% or more, 41% or more, 42% or more, 43% or more, 44% or more, 45% or more, 46% or more, 47% or more, 48% or more, 49% More than 50%, more than 51%, more than 52%, more than 53%, more than 54%, more than 55%, more than 56%, more than 57%, more than 58%, 59% It may be about an abnormality or about 60% or more.

따라서, 수식 4에서 상기 HP에 곱해지는 계수는, 0.89, 0.88, 0.87, 0.86, 0.85, 0.84, 0.83, 0.82, 0.81, 0.80, 0.79, 0.78, 0.77, 0.76, 0.75, 0.74, 0.73, 0.72, 0.71, 0.70, 0.69, 0.68, 0.67, 0.66 또는 0.65일 수 있다. 또한, 수식 4에서 HL은, 0.10×HP 이상, 0.11×HP 이상, 0.12×HP 이상, 0.13×HP 이상, 0.14×HP 이상, 0.15×HP 이상, 0.16×HP 이상, 0.17×HP 이상, 0.18×HP 이상, 0.19×HP 이상, 0.20×HP 이상, 0.21×HP 이상, 0.22×HP 이상, 0.23×HP 이상, 0.24×HP 이상, 0.25×HP 이상, 0.26×HP 이상, 0.27×HP 이상, 0.28×HP 이상, 0.29×HP 이상, 0.30×HP 이상, 0.31×HP 이상, 0.32×HP 이상, 0.33×HP 이상, 0.34×HP 이상, 0.35×HP 이상, 0.36×HP 이상, 0.37×HP 이상, 0.38×HP 이상, 0.39×HP 이상, 0.40×HP 이상, 0.41×HP 이상, 0.42×HP 이상, 0.43×HP 이상, 0.44×HP 이상, 0.45×HP 이상, 0.46×HP 이상, 0.47×HP 이상, 0.48×HP 이상, 0.49×HP 이상, 0.50×HP 이상, 0.51×HP 이상, 0.52×HP 이상, 0.53×HP 이상, 0.54×HP 이상, 0.55×HP 이상, 0.56×HP 이상, 0.57×HP 이상, 0.58×HP 이상, 0.59×HP 이상 또는 60×HP 이상일 수도 있다.Therefore, the coefficients multiplied by H P in Equation 4 are 0.89, 0.88, 0.87, 0.86, 0.85, 0.84, 0.83, 0.82, 0.81, 0.80, 0.79, 0.78, 0.77, 0.76, 0.75, 0.74, 0.73, 0.72, It may be 0.71, 0.70, 0.69, 0.68, 0.67, 0.66 or 0.65. In addition, in Equation 4, H L is 0.10 × H P or more, 0.11 × H P or more, 0.12 × H P or more, 0.13 × H P or more, 0.14 × H P or more, 0.15 × H P or more, 0.16 × H P or more , 0.17 × H P or more, 0.18 × H P or more, 0.19 × H P or more, 0.20 × H P or more, 0.21 × H P or more, 0.22 × H P or more, 0.23 × H P or more, 0.24 × H P or more, 0.25 ×H P or more, 0.26 × H P or more, 0.27 × H P or more, 0.28 × H P or more, 0.29 × H P or more, 0.30 × H P or more, 0.31 × H P or more, 0.32 × H P or more, 0.33 × H P or more, 0.34 × H P or more, 0.35 × H P or more, 0.36 × H P or more, 0.37 × H P or more, 0.38 × H P or more, 0.39 × H P or more, 0.40 × H P or more, 0.41 × H P or more , 0.42 x H P or more, 0.43 x H P or more, 0.44 x H P or more, 0.45 x H P or more, 0.46 x H P or more, 0.47 x H P or more, 0.48 x H P or more, 0.49 x H P or more, 0.50 ×H P or more, 0.51 × H P or more, 0.52 × H P or more, 0.53 × H P or more, 0.54 × H P or more, 0.55 × H P or more, 0.56 × H P or more, 0.57 × H P or more, 0.58 × H It may be P or more, 0.59×H P or more, or 60×H P or more.

상기 내적화층 또는 공극 함유층의 표면 특성은 제어될 수 있다. 상기 내적화층 또는 공극 함유층은 적화가 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연되어야 하는 광학 기능층과 인접하여 위치하기 위해서, 상기 광학 기능층에 직접 부착되거나, 혹은 상기 광학 기능층과 인접하는 광학 적층체의 다른 층에 부착될 수 있다. 이러한 경우에 상기 내적화층 또는 공극 함유층의 표면 특성이 제어됨으로써, 해당 내적화층 또는 공극 함유층은, 상기 광학 기능층 또는 다른 층과 우수한 밀착성을 가지면서 부착될 수 있고, 이에 따라서 상기 적화를 보다 효과적으로 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연시킬 수 있다. 예를 들면, 상기 내적화층 또는 공극 함유층은, 원자 힘 현미경(AFM, Atomic Force Microscope)으로 측정한 표면적 비율(Surface Area Ratio)이 0.02 이상인 표면을 적어도 하나 포함할 수 있다. 예를 들면, 내적화층 또는 공극 함유층의 주표면 중 적어도 한 표면이나, 혹은 양 표면이 모두 상기 표면적 비율을 가질 수 있다. 일 예시에서, 적어도 상기 표면적 비율을 가지는 내적화층 또는 공극 함유층의 표면은, 상기 내적화층 또는 공극 함유층이 부착된 상기 광학 기능성층 또는 다른 층을 향하는 표면일 수 있다. 상기 내적화층 또는 공극 함유층의 표면적 비율은 다른 예시에서 0.022 이상, 0.024 이상, 0.026 이상, 0.028 이상, 0.03 이상, 0.032 이상 또는 0.034 이상이거나, 0.5 이하, 0.45 이하, 0.4 이하, 0.35 이하, 0.3 이하 또는 0.25 이하 정도일 수도 있다. 상기 표면적 비율은 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The surface properties of the internalization layer or the void-containing layer can be controlled. The internalization layer or the void-containing layer is directly attached to the optical functional layer, or an optical layer adjacent to the optical functional layer in order to be positioned adjacent to the optical functional layer to be prevented, alleviated, alleviated, suppressed and/or delayed. It can be attached to other layers of the laminate. In this case, by controlling the surface characteristics of the internalization layer or the void-containing layer, the internalization layer or the void-containing layer can be attached while having excellent adhesion with the optical functional layer or other layer, and thus, the redundancy is more effectively prevented. , Alleviate, alleviate, inhibit and/or delay. For example, the internalization layer or the pore-containing layer may include at least one surface having a surface area ratio of 0.02 or more measured by an atomic force microscope (AFM). For example, at least one of the main surfaces of the internalization layer or the pore-containing layer, or both surfaces may have the surface area ratio. In one example, the surface of the internalization layer or the pore-containing layer having at least the surface area ratio may be a surface facing the optical functional layer or other layer to which the internalization layer or the pore-containing layer is attached. In another example, the ratio of the surface area of the internalization layer or the void-containing layer is 0.022 or more, 0.024 or more, 0.026 or more, 0.028 or more, 0.03 or more, 0.032 or more, or 0.034 or more, 0.5 or less, 0.45 or less, 0.4 or less, 0.35 or less, 0.3 or less, or It may be about 0.25 or less. The surface area ratio can be measured by the method described in Examples.

내적화층 또는 공극 함유층은, 적외선에 대해서 목적하는 수준의 반사율을 나타낼 수 있다. 열은 적외선의 형태로도 전달되기 때문에 이에 대해서 적절한 반사율을 나타내는 경우에도 목적하는 적화 방지 특성을 확보할 수 있다. 본 명세서에서 용어 적외선은 대략 800 nm 내지 1,300 nm의 범위 내의 어느 한 파장, 또는 상기 범위 내의 일부 영역의 범위 내의 파장 또는 상기 영역 전체의 파장을 가지는 전자기파를 의미할 수 있다. 따라서, 상기 적외선 반사율은, 800 nm 내지 1,300 nm의 범위 내의 어느 한 파장에 대한 반사율이거나, 혹은 상기 범위 내의 일부 영역의 범위 또는 전체 영역에 대한 평균 반사율일 수 있다. 상기 반사율은 본 명세서의 실시예의 기재 방식에 따라서 측정할 수 있다. 상기 내적화층 또는 공극 함유층은, 상기 적외선 반사율이 2% 이상일 수 있다. 상기 반사율은 다른 예시에서 약 2.5% 이상, 약 3% 이상, 3.5% 이상 또는 4% 이상일 수도 있다. 상기 반사율은 그 수치가 높을수록 내적화층 또는 공극 함유층이 광학 적층체 및/또는 광학 기능층으로 인가되는 열을 적절하게 차단 및/또는 지연시킬 수 있다는 것을 의미하기 때문에, 그 상한은 특별히 제한되지 않는다. 예시적으로 상기 적외선 반사율은 약 10% 이하, 9% 이하, 8% 이하, 7% 이하, 6% 이하 또는 5% 이하 정도일 수도 있다.The internalization layer or the void-containing layer can exhibit a desired level of reflectance with respect to infrared rays. Since heat is also transmitted in the form of infrared rays, a target redness prevention characteristic can be secured even when an appropriate reflectance is exhibited. In the present specification, the term infrared may mean an electromagnetic wave having a wavelength within a range of approximately 800 nm to 1,300 nm, a wavelength within a range of a partial region within the range, or a wavelength of the entire region. Accordingly, the infrared reflectance may be a reflectance for any one wavelength within the range of 800 nm to 1,300 nm, or may be an average reflectance for a range of a partial region or an entire region within the range. The reflectance can be measured according to the method described in the embodiments of the present specification. The internalization layer or the pore-containing layer may have an infrared reflectance of 2% or more. In another example, the reflectance may be about 2.5% or more, about 3% or more, 3.5% or more, or 4% or more. Since the above reflectance means that the higher the value, the more the internalization layer or the void-containing layer can appropriately block and/or delay the heat applied to the optical laminate and/or the optical functional layer, so the upper limit is not particularly limited. . For example, the infrared reflectance may be about 10% or less, 9% or less, 8% or less, 7% or less, 6% or less, or 5% or less.

내적화층 또는 공극 함유층으로는 광학 적층체에 적용될 수 있는 적정한 투과율을 가지고, 상기 특성(열확산율, 표면적 비율 및/또는 반사율)을 가지는 것이라면 특별한 제한 없이 다양한 층이 적용될 수 있다. 위와 같은 특성을 가지는 것이라면, 적화의 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연이 가능하기 때문에 투과율이 적정하게 확보되는 것이라면, 이론상 모두 본 출원에서 적용 가능하다. 상기에서 광학 적층체에서 요구되는 투과율은 대략 70% 이상, 75% 이상, 80% 이상, 85% 이상 또는 90% 이상일 수 있다. 상기 투과율은 그 수치가 높을수록 적합한 것으로서 그 상한은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 상기 투과율은 100% 이하, 95% 이하 또는 90% 이하 정도일 수 있다. 상기에서 투과율은, 가시광 영역의 광, 예를 들면, 대략 380 nm 내지 780 nm의 범위 내의 어느 한 파장, 또는 상기 범위 내의 일정 영역의 파장 또는 상기 영역 전체에 대한 투과율이거나, 평균 투과율일 수 있다.As the internalization layer or the void-containing layer, as long as it has an appropriate transmittance applicable to the optical laminate and has the above characteristics (thermal diffusivity, surface area ratio, and/or reflectance), various layers may be applied without particular limitation. If it has the above characteristics, it is possible to prevent, alleviate, alleviate, suppress and/or delay redness, so that if the transmittance is properly secured, all theoretically applicable in the present application. In the above, the transmittance required in the optical laminate may be approximately 70% or more, 75% or more, 80% or more, 85% or more, or 90% or more. The transmittance is more suitable as the value increases, and the upper limit thereof is not particularly limited. For example, the transmittance may be about 100% or less, 95% or less, or 90% or less. In the above, the transmittance may be light in the visible region, for example, a wavelength within a range of approximately 380 nm to 780 nm, a wavelength within a certain region within the range, or transmittance over the entire region, or an average transmittance.

내적화층으로는 예를 들면, 공극 함유층을 포함하는 층을 적용할 수 있다. 본 출원에서 내적화층은, 상기 공극 함유층만을 단독으로 가지는 층이거나, 적화를 방지한다는 목적을 충족하는 한 상기 공극 함유층과 다른 층을 포함하는 적층체일 수도 있다. 일 예시에서 상기 내적화층은, 상기 공극 함유층을 포함함으로써 상기 언급된 특성(열확산도, 표면적 비율 및/또는 적외선 반사율)을 나타낼 수 있다. 따라서, 상기 언급한 열확산도, 표면적 비율 및/또는 적외선 반사율은 상기 공극 함유층에 대한 것이거나, 또는 적어도 상기 공극 함유층을 포함하는 적층체에 대한 것일 수도 있다. 상기에서 공극 함유층과 함께 내적화층에 포함되는 다른 요소의 종류는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 상기 편광층 또는 그의 보호 필름, 위상차 필름 등과 같은 광학 적층체를 구성하는 요소일 수 있다.As the internalization layer, for example, a layer containing a void-containing layer can be applied. In the present application, the internalization layer may be a layer having only the pore-containing layer alone, or a laminate including a layer different from the pore-containing layer as long as the purpose of preventing redundancy is satisfied. In one example, the internalization layer may exhibit the above-mentioned properties (thermal diffusivity, surface area ratio, and/or infrared reflectance) by including the pore-containing layer. Accordingly, the above-mentioned thermal diffusivity, surface area ratio and/or infrared reflectance may be for the pore-containing layer, or at least for a laminate comprising the pore-containing layer. In the above, the types of other elements included in the internal integration layer together with the void-containing layer are not particularly limited, and may be, for example, elements constituting an optical laminate such as the polarizing layer or a protective film thereof, a retardation film, or the like.

상기 공극 함유층은, 내부에 적어도 하나 이상의 공극(void)을 포함하는 층이고, 이러한 공극을 통해 내적화층은 열의 전달의 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연의 기능을 수행할 수 있다. 전술한 물성, 예를 들면, 열확산도, 표면적 비율 및/또는 반사율 등이 확보되기 위해서는, 내적화층이 상기 공극 함유층을 포함하는 것이 중요하다. 이 때 공극 함유층에 포함되는 공극의 형태는 특별한 제한이 없으며, 예를 들면, 대략 구형 또는 타원체 형태이거나, 기타 다양한 형태의 공극이 모두 적용될 수 있다.The void-containing layer is a layer including at least one or more voids therein, and through such voids, the internalization layer may perform a function of preventing, alleviating, alleviating, suppressing, and/or delaying heat transfer. In order to ensure the above-described physical properties, for example, thermal diffusivity, surface area ratio, and/or reflectance, it is important that the internalization layer includes the pore-containing layer. At this time, the shape of the pores included in the pore-containing layer is not particularly limited, and for example, a substantially spherical or ellipsoid shape, or all other various types of pores may be applied.

공극의 크기는 대략 0.5 nm 내지 100 nm의 범위 내일 수 있다. 상기 공극의 크기는 해당 공극이 구형인 경우에는 그 입자 직경을 의미하고, 구형이 아닌 경우에는, 해당 공극을 동일 부피의 구형으로 가정하였을 때의 상기 구형의 입자 직경이다. 상기 공극의 크기는 다른 예시에서 약 1nm 이상, 약 2nm 이상, 약 3nm 이상, 약 4nm 이상, 약 5nm 이상, 약 6nm 이상, 약 7nm 이상, 약 8nm 이상, 약 9nm 이상, 약 10nm 이상, 약 11nm 이상, 약 12nm 이상, 약 13nm 이상, 약 14nm 이상, 약 15nm 이상, 약 16nm 이상, 약 17nm 이상, 약 18nm 이상, 약 19nm 이상, 약 20nm 이상, 약 21nm 이상, 약 22nm 이상, 약 23nm 이상, 약 24nm 이상, 약 25nm 이상, 약 26nm 이상, 약 27nm 이상, 약 28nm 이상, 약 29nm 이상, 약 31nm 이상, 약 32nm 이상, 약 33nm 이상, 약 34nm 이상, 약 35nm 이상, 약 36nm 이상, 약 37 nm 이상 또는 약 38 nm 이상이거나, 약 99nm 이하, 약 98nm 이하, 약 97nm 이하, 약 96nm 이하, 약 95nm 이하, 약 94nm 이하, 약 93nm 이하, 약 92nm 이하, 약 91nm 이하, 약 90nm 이하, 약 89nm 이하, 약 88nm 이하, 약 87nm 이하, 약 86nm 이하, 약 85nm 이하, 약 84nm 이하, 약 83nm 이하, 약 82nm 이하, 약 81nm 이하, 약 79nm 이하, 약 78nm 이하, 약 77nm 이하, 약 76nm 이하, 약 75nm 이하, 약 74nm 이하, 약 73nm 이하, 약 72nm 이하, 약 71nm 이하, 약 69nm 이하, 약 68nm 이하, 약 67nm 이하, 약 66nm 이하, 약 65nm 이하, 약 64nm 이하, 약 63nm 이하, 약 62nm 이하, 약 61nm 이하, 약 59nm 이하, 약 58nm 이하, 약 57nm 이하, 약 56nm 이하, 약 55nm 이하, 약 54nm 이하, 약 53nm 이하, 약 52nm 이하, 약 51nm 이하, 약 50nm 이하, 약 49nm 이하, 약 48nm 이하, 약 47nm 이하, 약 46 nm 이하 또는 약 45 nm 이하 정도일 수도 있다.The size of the pores may be in the range of approximately 0.5 nm to 100 nm. The size of the pores refers to the particle diameter when the pores are spherical, and when the pores are not spherical, the pore size is the spherical particle diameter assuming that the pores are spherical with the same volume. In another example, the size of the pores is about 1 nm or more, about 2 nm or more, about 3 nm or more, about 4 nm or more, about 5 nm or more, about 6 nm or more, about 7 nm or more, about 8 nm or more, about 9 nm or more, about 10 nm or more, about 11 nm Or more, about 12 nm or more, about 13 nm or more, about 14 nm or more, about 15 nm or more, about 16 nm or more, about 17 nm or more, about 18 nm or more, about 19 nm or more, about 20 nm or more, about 21 nm or more, about 22 nm or more, about 23 nm or more, About 24 nm or more, about 25 nm or more, about 26 nm or more, about 27 nm or more, about 28 nm or more, about 29 nm or more, about 31 nm or more, about 32 nm or more, about 33 nm or more, about 34 nm or more, about 35 nm or more, about 36 nm or more, about 37 nm or more, about 38 nm or more, about 99 nm or less, about 98 nm or less, about 97 nm or less, about 96 nm or less, about 95 nm or less, about 94 nm or less, about 93 nm or less, about 92 nm or less, about 91 nm or less, about 90 nm or less, about 89 nm or less, about 88 nm or less, about 87 nm or less, about 86 nm or less, about 85 nm or less, about 84 nm or less, about 83 nm or less, about 82 nm or less, about 81 nm or less, about 79 nm or less, about 78 nm or less, about 77 nm or less, about 76 nm or less , About 75 nm or less, about 74 nm or less, about 73 nm or less, about 72 nm or less, about 71 nm or less, about 69 nm or less, about 68 nm or less, about 67 nm or less, about 66 nm or less, about 65 nm or less, about 64 nm or less, about 63 nm or less, about 62 nm or less, about 61 nm or less, about 59 nm or less, about 58 nm or less, about 57 nm or less, about 56 nm or less, about 55 nm or less, about 54 nm or less, about 53 nm or less, about 52 nm or less, about 51 nm or less, about 50 nm or less, about 49 nm or less , About 48 nm or less, about 47 nm or less, about 46 nm or less, or about 45 nm or less It may be degrees.

내적화층의 효과를 극대화하고, 전술한 물성(열확산도, 표면적 비율 및/또는 반사율 등)을 확보하기 위해서 상기 공극 함유층 내의 공극의 위치 내지 분포가 제어될 수 있다.In order to maximize the effect of the internalization layer and secure the above-described physical properties (thermal diffusivity, surface area ratio and/or reflectance, etc.), the position or distribution of the pores in the pore-containing layer may be controlled.

예를 들면, 상기 내적화층 또는 공극 함유층은, 소각 X선 산란(SAXS, Small Angle X-ray Scattering) 분석의 산란 강도의 log값 그래프에서 0.06 nm-1 내지 0.209 nm-1의 산란 벡터(scattering vector)의 범위 내에서 적어도 하나의 피크를 나타낼 수 있다. 상기 특성은, 공극간의 평균적 거리를 반영하는 특성이다. 예를 들어, 상기 피크를 나타내는 산란 벡터가 작아지는 것은 내적화층 또는 공극 함유층 내의 공극간의 평균적 거리가 멀어지는 경향을 의미하고, 반대로 커지는 것은 공극간의 평균적 거리가 가까워지는 경향을 의미한다.For example, the internalization layer or the pore-containing layer is a scattering vector of 0.06 nm -1 to 0.209 nm -1 in the log value graph of the scattering intensity of SAXS (Small Angle X-ray Scattering) analysis. ) May represent at least one peak. The above characteristic is a characteristic that reflects the average distance between the voids. For example, a decrease in the scattering vector representing the peak means a tendency that the average distance between the pores in the internal integration layer or the pore-containing layer increases, and the conversely increase indicates a tendency that the average distance between the pores becomes closer.

상기 산란 벡터가 0.06 nm-1 이상이면, 내적화층 또는 공극 함유층 내에서 공극이 적정하게 밀집되어 인가되는 열을 차단하거나, 경감시킬 수 있는 특성에 있어서 유리하다. 또한, 상기 벡터가 0.209 nm-1 이하이면, 내적화층 또는 공극 함유층 내에서 공극이 적정한 간격을 두고 배치되어서, 내적화층 또는 공극 함유층의 표면의 거칠기(roughness) 등이 적정 수준으로 유지되고, 이는 내적화층 또는 공극 함유층의 광학 적층체로의 적용을 보다 용이하게 할 수 있다. 상기 피크가 확인되는 산란 벡터는 다른 예시에서 약 0.065 nm-1 이상, 0.07 nm-1 이상, 0.075 nm-1 이상, 0.08 nm-1 이상, 0.085 nm-1 이상, 0.09 nm-1 이상, 0.095 nm-1 이상 또는 0.1 nm-1 이상일 수 있고, 또한 0.205 nm-1 이하, 0.2 nm-1 이하, 0.19 nm-1 이하, 0.185 nm-1 이하, 0.18 nm-1 이하 또는 0.16 nm-1 이하일 수도 있다. When the scattering vector is 0.06 nm -1 or more, it is advantageous in the characteristic that the voids are properly concentrated in the internal integration layer or the void-containing layer to block or reduce applied heat. In addition, if the vector is 0.209 nm -1 or less, voids are disposed at appropriate intervals in the internalization layer or the pore-containing layer, so that the roughness of the surface of the internalization layer or the pore-containing layer is maintained at an appropriate level. The application of the formation layer or the void-containing layer to the optical laminate can be made easier. In other examples, the scattering vector in which the peak is confirmed is about 0.065 nm -1 or more, 0.07 nm -1 or more, 0.075 nm -1 or more, 0.08 nm -1 or more, 0.085 nm -1 or more, 0.09 nm -1 or more, 0.095 nm -1 or more or 0.1 nm -1 or more, and may be 0.205 nm -1 or less, 0.2 nm -1 or less, 0.19 nm -1 or less, 0.185 nm -1 or less, 0.18 nm -1 or less, or 0.16 nm -1 or less .

상기에서 피크(peak)는, 상기 분석에 의해 확인되는 산란 강도의 log값의 그래프에서 상기 산란 강도의 log값이 위로 볼록하게 나타나는 극값 또는 변곡점이다. 또한, 상기 산란 벡터는 하기 수식 5에 의해 정의되는 값이고, 이러한 산란 벡터의 범위 내에서 상기 피크는 적어도 하나 이상 확인될 수 있다. In the above, the peak is an extreme value or an inflection point in which the log value of the scattering intensity appears convex upward in the graph of the log value of the scattering intensity identified by the analysis. In addition, the scattering vector is a value defined by Equation 5 below, and at least one or more peaks may be identified within the range of the scattering vector.

[수식 5][Equation 5]

q = 4πsin(θ/λ)q = 4πsin(θ/λ)

수식 5에서 q는 상기 산란 벡터이고, θ는 산란 각도의 1/2배의 값이며, λ는 조사된 X선의 파장(단위: nm)이다. In Equation 5, q is the scattering vector, θ is a value of 1/2 times the scattering angle, and λ is the wavelength (unit: nm) of the irradiated X-rays.

이상에서 기술한 소각 X선 산란 평가를 진행하는 방식은 본 명세서의 실시예의 기재에 따른다.The method of performing the small-angle X-ray scattering evaluation described above is in accordance with the description of the embodiments of the present specification.

내적화층 또는 공극 함유층은, 하기 수식 6을 만족하는 A값이 1.5 이하이고, B값이 0 내지 0.01의 범위 내이며, C값이 0 내지 0.001의 범위 내일 수 있다.The internalization layer or the void-containing layer may have an A value of 1.5 or less, a B value of 0 to 0.01, and a C value of 0 to 0.001 satisfying Equation 6 below.

[수식 6][Equation 6]

Figure pat00002
Figure pat00002

수식 6에서 n(λ)는 파장 λ에서의 상기 내적화층 또는 공극 함유층의 굴절률이고, λ는 300 내지 1800 nm의 범위 내의 어느 한 파장이다.In Equation 6, n(λ) is the refractive index of the internally integrated layer or the pore-containing layer at the wavelength λ, and λ is any wavelength within the range of 300 to 1800 nm.

수식 6은, 상기 내적화층 또는 공극 함유층에 대해서 타원 편광법(ellipsometry)으로 측정한 편극의 타원율을 소위 코쉬 모델(Cauchy model)에 따라 피팅(fitting)한 것이다. 내적화층 또는 공극 함유층이 상기 수식 6을 만족하는 전술한 범위의 A, B 및 C값을 가지는 때에 내적화층 또는 공극 함유층은 내적화 기능을 발현할 수 있는 공극 특성을 가질 수 있다. 상기 수식 6은 내적화층 또는 공극 함유층이 나타내는 굴절률 특성을 반영한다. 내적화층 또는 공극 함유층의 전체 굴절률은, 내적화층 또는 공극 함유층을 구성하는 공극의 굴절율과 바인더 등 기타 공극 외의 성분의 굴절률에 의해 결정된다. 따라서, 내적화층 또는 공극 함유층의 상기 수식 6에서의 A, B 및 C의 값은 내적화층 내의 공극의 양을 반영할 수 있다. 일 예시에서 상기 A, B 및/또는 C의 값이 상기 범위 내이면, 내적화층 또는 공극 함유층 내의 공극이 열의 이동을 적절하게 차단 내지 지연시킬 수 있는 수준으로 존재하면서 내적화층 또는 공극 함유층의 표면의 거칠기(roughness) 등이 적정 수준으로 유지되어, 내적화층 또는 공극 함유층의 광학 적층체로의 적용을 보다 용이하게 할 수 있다.In Equation 6, the ellipticity of the polarization measured by ellipsometry with respect to the internalization layer or the pore-containing layer is fitted according to the so-called Cauchy model. When the internalization layer or the pore-containing layer has A, B, and C values in the above-described ranges that satisfy Equation 6, the internalization layer or the pore-containing layer may have pore characteristics capable of expressing the internalization function. Equation 6 reflects the refractive index characteristics exhibited by the internalization layer or the void-containing layer. The total refractive index of the internalization layer or the void-containing layer is determined by the refractive index of the voids constituting the internalization layer or the void-containing layer and the refractive index of other components other than the voids such as a binder. Accordingly, the values of A, B, and C in Equation 6 of the internalization layer or the pore-containing layer may reflect the amount of voids in the internalization layer. In one example, when the values of A, B, and/or C are within the above range, the pores in the internalization layer or the pore-containing layer exist at a level capable of appropriately blocking or delaying the transfer of heat, and the surface of the internalization layer or the pore-containing layer is The roughness and the like are maintained at an appropriate level, so that the application of the internalization layer or the void-containing layer to the optical laminate can be made easier.

상기 A값은 다른 예시에서 약 1.1 이상, 1.15 이상, 1.2 이상, 1.25 이상 또는 1.3 이상일 수 있다. 상기에서 B값은 다른 예시에서 0.0001 이상, 0.0002 이상, 0.0003 이상, 0.0004 이상, 0.0005 이상, 0.0006 이상 또는 0.0007 이상이거나, 0.009 이하, 0.008 이하, 0.007 이하, 0.006 이하, 0.005 이하 또는 0.004 이하 정도일 수도 있다. 상기에서 C값은 다른 예시에서 0.000001 이상, 0.00002 이상, 0.000003 이상, 0.000004 이상, 0.000005 이상, 0.000006 이상, 0.000007 이상, 0.000008 이상, 0.000009 이상, 0.00001 이상, 0.00002 이상, 0.00003 이상, 0.00004 이상, 0.00005 이상, 0.00006 또는 0.00007 이상이거나, 0.0009 이하, 0.0008 이하, 0.0007 이하, 0.0006 이하, 0.0005 이하 또는 0.0004 이하 정도일 수도 있다.In another example, the A value may be about 1.1 or more, 1.15 or more, 1.2 or more, 1.25 or more, or 1.3 or more. In the above, the B value may be 0.0001 or more, 0.0002 or more, 0.0003 or more, 0.0004 or more, 0.0005 or more, 0.0006 or more, or 0.0007 or more, or 0.009 or less, 0.008 or less, 0.007 or less, 0.006 or less, 0.005 or less, or 0.004 or less. . In other examples, the C value is 0.000001 or more, 0.00002 or more, 0.000003 or more, 0.000004 or more, 0.000005 or more, 0.000006 or more, 0.000007 or more, 0.000008 or more, 0.000009 or more, 0.00001 or more, 0.00002 or more, 0.00003 or more, 0.00004 or more, 0.00005 or more, It may be 0.00006 or more than 0.00007, or about 0.0009 or less, 0.0008 or less, 0.0007 or less, 0.0006 or less, 0.0005 or less, or 0.0004 or less.

수식 6에서 λ는 300 내지 1800 nm의 범위 내의 어느 한 파장이고, 일 예시에서는 대략 400nm 이상 또는 500 nm 이상이거나, 1700nm 이하, 1600 nm 이하, 1500 nm 이하, 1400 nm 이하, 1300 nm 이하, 1200 nm 이하, 1100 nm 이하, 1000 nm 이하, 900 nm 이하, 800 nm 이하, 700 nm 이하 또는 600 nm 이하이거나, 약 550 nm의 파장 범위일 수 있다. 수식 6을 만족하는 내적화층 또는 공극 함유층은 굴절률(550nm 파장 기준)이 대략 1.5 이하일 수 있으며, 다른 예시에서 상기 굴절률은 약 1.1 이상 또는 1.15 이상일 수 있다.In Equation 6, λ is any one wavelength within the range of 300 to 1800 nm, and in one example, approximately 400 nm or more or 500 nm or more, 1700 nm or less, 1600 nm or less, 1500 nm or less, 1400 nm or less, 1300 nm or less, 1200 nm Hereinafter, 1100 nm or less, 1000 nm or less, 900 nm or less, 800 nm or less, 700 nm or less, or 600 nm or less, or may be in a wavelength range of about 550 nm. The internalization layer or the void-containing layer that satisfies Equation 6 may have a refractive index (based on a 550 nm wavelength) of about 1.5 or less, and in another example, the refractive index may be about 1.1 or more or 1.15 or more.

내적화층 또는 공극 함유층에서 공극의 부피 분율은 0.1 이상일 수 있다. 상기 부피 분율은 내적화층 또는 공극 함유층의 전체 부피를 1로 환산하였을 때에 공극이 차지하는 공간의 부피의 비율이다. 이러한 범위에서 내적화층 또는 공극 함유층은 열의 전달을 적절하게 차단 내지 경감할 수 있다. 상기 부피 분율은 부력법 등을 통해 내적화층 또는 공극 함유층의 밀도, 질량 및 부피 등을 확인하여 측정하거나, 후술하는 것과 같이 내적화층 또는 공극 함유층을 중공 입자를 사용하여 형성할 경우에 적용된 중공 입자의 양과 바인더의 양 등을 통해 확인할 수 있다.The volume fraction of voids in the internalization layer or the void-containing layer may be 0.1 or more. The volume fraction is the ratio of the volume of the space occupied by the voids when the total volume of the internalization layer or the void-containing layer is converted to 1. In this range, the internalization layer or the pore-containing layer may appropriately block or reduce the transfer of heat. The volume fraction is measured by confirming the density, mass, and volume of the internalization layer or the pore-containing layer through a buoyancy method, etc., or of the hollow particles applied when the internalization layer or the pore-containing layer is formed using hollow particles, as described below. It can be checked through the amount and the amount of binder.

내적화층 또는 공극 함유층은 다양한 방식으로 형성할 수 있다. 공극을 함유하는 층을 형성하는 대표적인 방법은 중공 입자(hollow particle)를 적용하는 방식이다. 따라서, 일 예시에서 상기 내적화층은, 적어도 바인더 및 중공 입자를 포함할 수 있다.The internalization layer or the void-containing layer can be formed in a variety of ways. A typical method of forming a layer containing voids is a method of applying hollow particles. Accordingly, in one example, the internalization layer may include at least a binder and hollow particles.

상기에서 바인더 및 중공 입자의 셀(shell) 부위의 굴절률, 중공 입자 및 그 내부의 기공의 크기 분포, 중공 입자의 양 등을 제어하여 전술한 특성(열확산도, 부피 분율, 수식 6의 만족, 소각 X선 산란 특성 등)을 충족시킬 수 있다. In the above, the above properties (thermal diffusivity, volume fraction, satisfaction of Equation 6, incineration) are controlled by controlling the refractive index of the binder and the shell portion of the hollow particles, the size distribution of the hollow particles and the pores therein, and the amount of the hollow particles. X-ray scattering characteristics, etc.) can be satisfied.

바인더로는 특별한 제한 없이 다양한 종류가 적용될 수 있다. 예를 들면, 바인더로는 광학용으로 적용될 수 있는 다양한 경화성 수지 조성물이 적용될 수 있다. 적용될 수 있는 광학용 수지로는, 예를 들면, 아크릴계, 에폭시계 및/또는 실리콘계 등이 있고, 상기 수지 또는 그를 형성할 수 있는 전구체를 적용하여 상기 바인더를 형성할 수 있다. 이러한 수지 또는 전구체는 경화성일 수 있으며, 예를 들면, 자외선이나 전자선 등의 광의 조사에 의해 경화되는 물질, 열에 의해 경화되는 물질 혹은 습기 등 다른 작용에 의해 경화되는 물질일 수 있다.Various types of binders may be applied without any particular limitation. For example, various curable resin compositions that can be applied for optics may be applied as the binder. The optical resin that can be applied includes, for example, acrylic, epoxy, and/or silicone, and the binder may be formed by applying the resin or a precursor capable of forming the resin. Such a resin or precursor may be curable, and may be, for example, a material cured by irradiation of light such as ultraviolet rays or electron beams, a material cured by heat, or a material cured by other actions such as moisture.

바인더로는, 굴절률(550 nm 파장 기준)이 대략 1.1 내지 1.6의 범위 내인 것을 적용할 수 있다. 이러한 굴절률 범위 하에서 중공 입자와 조합되어 전술한 수식 6을 만족하는 내적화층을 용이하게 형성할 수 있다. 상기 굴절률은 다른 예시에서 약 1.15 이상, 약 1.2 이상, 약 1.25 이상, 약 1.3 이상, 약 1.35 이상 또는 약 1.4 이상이거나, 약 1.55 이하 또는 약 1.5 이하 정도일 수 있다.As the binder, one having a refractive index (based on a 550 nm wavelength) in the range of approximately 1.1 to 1.6 may be applied. In such a refractive index range, it is possible to easily form an internally integrated layer that satisfies Equation 6 above by combining with hollow particles. In another example, the refractive index may be about 1.15 or more, about 1.2 or more, about 1.25 or more, about 1.3 or more, about 1.35 or more, or about 1.4 or more, or about 1.55 or less or about 1.5 or less.

이러한 굴절률을 만족시키는 대표적인 바인더는 아크릴계 바인더이다. 내적화층의 바인더는, 중합성 아크릴 화합물의 중합 단위를 포함할 수 있다.A typical binder that satisfies this refractive index is an acrylic binder. The binder of the internalization layer may contain a polymerization unit of a polymerizable acrylic compound.

일 예시에서 상기 아크릴 화합물은, 탄소수가 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 또는 알콕시기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트 또는 알콕시 (메타)아크릴레이트; 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메타)아크릴레이트 또는 8-히드록시옥틸 (메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트 등과 같은 1관능성 아크릴레이트 화합물; 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜아디페이트(neopentylglycol adipate) 디(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산(hydroxyl puivalic acid) 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(dicyclopentanyl) 디(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디시클로펜테닐 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 디(메타)아크릴레이트, 디(메타)아크릴록시 에틸 이소시아누레이트, 알릴(allyl)화 시클로헥실 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올(메타)아크릴레이트, 디메틸롤 디시클로펜탄 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 헥사히드로프탈산 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸 디메탄올(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸프로판 디(메타)아크릴레이트, 아다만탄(adamantane) 디(메타)아크릴레이트 또는 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌(fluorine) 등과 같은 2관능성 아크릴레이트; 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 3 관능형 우레탄 (메타)아크릴레이트 또는 트리스(메타)아크릴록시에틸이소시아누레이트 등의 3관능형 아크릴레이트; 디글리세린 테트라(메타)아크릴레이트 또는 펜타에리쓰리톨 테트라(메타)아크릴레이트 등의 4관능형 아크릴레이트; 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 펜타(메타)아크릴레이트 등의 5관능형 아크릴레이트; 및 디펜타에리쓰리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리쓰리톨 헥사(메타)아크릴레이트 또는 우레탄 (메타)아크릴레이트(ex. 이소시아네이트 단량체 및 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트의 반응물) 등의 6관능형 아크릴레이트 등을 사용할 수 있다. In one example, the acrylic compound is an alkyl (meth)acrylate or alkoxy (meth) having an alkyl group or alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 16 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms Acrylate; 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate or 8-hydroxyoctyl ( Monofunctional acrylate compounds such as hydroxyalkyl (meth)acrylate such as meth)acrylate; 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol adipate ( neopentylglycol adipate) di(meth)acrylate, hydroxyl puivalic acid neopentylglycol di(meth)acrylate, dicyclopentanyl di(meth)acrylate, caprolactone-modified dicyclopentenyl di (Meth)acrylate, ethylene oxide-modified di(meth)acrylate, di(meth)acryloxy ethyl isocyanurate, allylated cyclohexyl di(meth)acrylate, tricyclodecanedimethanol (meth) )Acrylate, dimethylol dicyclopentane di(meth)acrylate, ethylene oxide modified hexahydrophthalic acid di(meth)acrylate, tricyclodecane dimethanol(meth)acrylate, neopentyl glycol modified trimethylpropane di(meth) ) Acrylate, adamantane di(meth)acrylate or 9,9-bis[4-(2-acryloyloxyethoxy)phenyl]fluorene, and the like; Trimethylolpropane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, propylene oxide Trifunctional acrylates such as modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trifunctional urethane (meth)acrylate, or tris(meth)acryloxyethyl isocyanurate; Tetrafunctional acrylates such as diglycerin tetra(meth)acrylate or pentaerythritol tetra(meth)acrylate; 5-functional acrylates, such as propionic acid-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate; And dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate or urethane (meth)acrylate (ex. of an isocyanate monomer and trimethylolpropane tri(meth)acrylate) Hexafunctional acrylates such as reactants) can be used.

다관능성 아크릴레이트로는 업계에서 소위 광경화성 올리고머로 호칭되는 화합물로서, 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트 또는 폴리에테르 아크릴레이트 등도 사용할 수 있다. 상기와 같은 화합물 중에서 적절한 종류를 일종 또는 이종 이상 선택하여 사용할 수 있다.The polyfunctional acrylate is a compound referred to as a so-called photocurable oligomer in the industry, and urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, or polyether acrylate may also be used. Among the above compounds, one or more suitable types may be selected and used.

내적화층 또는 공극 함유층을 형성하는 바인더의 종류는 상기에 제한되지 않으며, 기타 다른 다양한 광학용 재료가 모두 적용될 수 있다.The type of the binder forming the internalization layer or the void-containing layer is not limited to the above, and other various optical materials may be applied.

중공 입자로는 예를 들면, 상기 언급된 각 물성의 만족을 위해서 특정한 입도 분포를 가지는 입자를 사용할 수 있다. 예를 들면, 중공 입자로는, 입도 분포의 중량 누적 곡선에서 D10 입경, D50 입경 및 D90 입경이 각각 20nm 내지 50 nm, 55nm 내지 100 nm 및 110nm 내지 180 nm의 범위 내에 있는 입자를 적용할 수 있다. 상기에서 D10, D50 및 D90 입경은 각각 중공 입자의 전체 중량을 100 중량로 하고, 입경별 중량을 표시하는 누적 분포 그래프에서 최대 값(100 중량%)의 10 중량%, 50 중량% 및 90 중량%에 해당하는 입경의 값이다. 위와 같은 입경 분포를 가지는 입자의 적용을 통해서 목적하는 내적화층을 효과적으로 형성할 수 있다.As the hollow particles, for example, particles having a specific particle size distribution may be used in order to satisfy the above-mentioned respective physical properties. For example, as the hollow particles, particles having a D10 particle diameter, a D50 particle diameter, and a D90 particle diameter in the range of 20 nm to 50 nm, 55 nm to 100 nm, and 110 nm to 180 nm, respectively, in the weight accumulation curve of the particle size distribution may be applied. . In the above, the particle diameters of D10, D50 and D90 make the total weight of the hollow particles 100 weight, respectively, and 10% by weight, 50% by weight, and 90% by weight of the maximum value (100% by weight) in the cumulative distribution graph indicating the weight by particle size. It is the value of the particle diameter corresponding to. Through the application of particles having a particle size distribution as described above, the desired internal integration layer can be effectively formed.

상기 D10 입경은 다른 예시에서 약 21nm 이상, 22nm 이상, 23nm 이상, 24nm 이상, 25nm 이상, 26nm 이상, 27nm 이상, 28nm 이상, 29nm 이상, 30nm 이상, 31 nm 이상 또는 32 nm 이상이거나, 49nm 이하, 48nm 이하, 47nm 이하, 46nm 이하, 45nm 이하, 44nm 이하, 43nm 이하, 42nm 이하, 41nm 이하, 40nm 이하, 39nm 이하, 38nm 이하, 37nm 이하, 36nm 이하, 35nm 이하, 34 nm 이하 또는 33 nm 이하 정도일 수도 있다.The D10 particle diameter is about 21 nm or more, 22 nm or more, 23 nm or more, 24 nm or more, 25 nm or more, 26 nm or more, 27 nm or more, 28 nm or more, 29 nm or more, 30 nm or more, 31 nm or more or 32 nm or more, or 49 nm or less, 48 nm or less, 47 nm or less, 46 nm or less, 45 nm or less, 44 nm or less, 43 nm or less, 42 nm or less, 41 nm or less, 40 nm or less, 39 nm or less, 38 nm or less, 37 nm or less, 36 nm or less, 35 nm or less, 34 nm or less, or 33 nm or less May be.

상기 D50 입경은 다른 예시에서 약 56nm 이상, 57nm 이상, 58nm 이상, 59nm 이상, 60nm 이상, 61nm 이상 또는 62 nm 이상이거나, 99nm 이하, 98nm 이하, 97nm 이하, 96nm 이하, 95nm 이하, 94nm 이하, 93nm 이하, 92nm 이하, 91nm 이하, 90nm 이하, 89nm 이하, 88nm 이하, 87nm 이하, 86nm 이하, 85nm 이하, 84nm 이하, 83nm 이하, 82nm 이하, 81nm 이하, 79nm 이하, 78nm 이하, 77nm 이하, 76nm 이하, 75nm 이하, 74nm 이하, 73nm 이하, 72nm 이하, 71nm 이하 또는 70 nm 이하 정도일 수도 있다.In another example, the D50 particle diameter is about 56 nm or more, 57 nm or more, 58 nm or more, 59 nm or more, 60 nm or more, 61 nm or more, or 62 nm or more, 99 nm or less, 98 nm or less, 97 nm or less, 96 nm or less, 95 nm or less, 94 nm or less, 93 nm Or less, 92nm or less, 91nm or less, 90nm or less, 89nm or less, 88nm or less, 87nm or less, 86nm or less, 85nm or less, 84nm or less, 83nm or less, 82nm or less, 81nm or less, 79nm or less, 78nm or less, 77nm or less, 76nm or less, It may be 75 nm or less, 74 nm or less, 73 nm or less, 72 nm or less, 71 nm or less, or about 70 nm or less.

상기 D90 입경은 다른 예시에서 약 111nm 이상, 112nm 이상, 113nm 이상, 114nm 이상, 115nm 이상, 116nm 이상, 117nm 이상, 118nm 이상, 119nm 이상, 120nm 이상, 121nm 이상, 122nm 이상 또는 123nm 이상이거나, 179nm 이하, 178nm 이하, 177nm 이하, 176nm 이하, 175nm 이하, 174nm 이하, 173nm 이하, 172nm 이하, 171nm 이하, 170nm 이하, 169nm 이하, 168nm 이하, 167nm 이하, 166nm 이하, 165nm 이하, 164nm 이하, 163nm 이하, 162nm 이하, 161nm 이하, 160nm 이하, 159nm 이하, 158nm 이하, 157nm 이하, 156nm 이하, 155nm 이하, 154nm 이하, 153nm 이하, 152nm 이하, 151nm 이하, 150nm 이하, 149nm 이하, 148nm 이하, 147nm 이하, 146nm 이하, 145nm 이하, 144nm 이하, 143nm 이하, 142nm 이하, 141nm 이하, 140nm 이하, 139nm 이하, 138nm 이하, 137nm 이하, 136nm 이하, 135nm 이하, 134nm 이하, 133nm 이하, 132nm 이하, 131nm 이하, 130nm 이하, 129nm 이하, 128nm 이하, 127nm 이하 또는 126nm 이하 정도일 수도 있다.The D90 particle diameter is about 111 nm or more, 112 nm or more, 113 nm or more, 114 nm or more, 115 nm or more, 116 nm or more, 117 nm or more, 118 nm or more, 119 nm or more, 120 nm or more, 121 nm or more, 122 nm or more, or 123 nm or more, or 179 nm or less. , 178nm or less, 177nm or less, 176nm or less, 175nm or less, 174nm or less, 173nm or less, 172nm or less, 171nm or less, 170nm or less, 169nm or less, 168nm or less, 167nm or less, 166nm or less, 165nm or less, 164nm or less, 163nm or less, 162nm Or less, 161 nm or less, 160 nm or less, 159 nm or less, 158 nm or less, 157 nm or less, 156 nm or less, 155 nm or less, 154 nm or less, 153 nm or less, 152 nm or less, 151 nm or less, 150 nm or less, 149 nm or less, 148 nm or less, 147 nm or less, 146 nm or less, 145nm or less, 144nm or less, 143nm or less, 142nm or less, 141nm or less, 140nm or less, 139nm or less, 138nm or less, 137nm or less, 136nm or less, 135nm or less, 134nm or less, 133nm or less, 132nm or less, 131nm or less, 130nm or less, 129nm or less , 128 nm or less, 127 nm or less, or may be about 126 nm or less.

중공 입자로는 기공의 크기가 상기 공극의 크기에 대응하는 입자를 적용할 수 있다. 따라서, 상기 기공의 크기는 대략 0.5 nm 내지 100 nm의 범위 내일 수 있다.As the hollow particles, particles having a pore size corresponding to the pore size may be used. Therefore, the size of the pores may be in the range of approximately 0.5 nm to 100 nm.

상기 기공의 크기는 다른 예시에서 약 1nm 이상, 약 2nm 이상, 약 3nm 이상, 약 4nm 이상, 약 5nm 이상, 약 6nm 이상, 약 7nm 이상, 약 8nm 이상, 약 9nm 이상, 약 10nm 이상, 약 11nm 이상, 약 12nm 이상, 약 13nm 이상, 약 14nm 이상, 약 15nm 이상, 약 16nm 이상, 약 17nm 이상, 약 18nm 이상, 약 19nm 이상, 약 20nm 이상, 약 21nm 이상, 약 22nm 이상, 약 23nm 이상, 약 24nm 이상, 약 25nm 이상, 약 26nm 이상, 약 27nm 이상, 약 28nm 이상, 약 29nm 이상, 약 31nm 이상, 약 32nm 이상, 약 33nm 이상, 약 34nm 이상, 약 35nm 이상, 약 36nm 이상, 약 37 nm 이상 또는 약 38 nm 이상이거나, 약 99nm 이하, 약 98nm 이하, 약 97nm 이하, 약 96nm 이하, 약 95nm 이하, 약 94nm 이하, 약 93nm 이하, 약 92nm 이하, 약 91nm 이하, 약 90nm 이하, 약 89nm 이하, 약 88nm 이하, 약 87nm 이하, 약 86nm 이하, 약 85nm 이하, 약 84nm 이하, 약 83nm 이하, 약 82nm 이하, 약 81nm 이하, 약 79nm 이하, 약 78nm 이하, 약 77nm 이하, 약 76nm 이하, 약 75nm 이하, 약 74nm 이하, 약 73nm 이하, 약 72nm 이하, 약 71nm 이하, 약 69nm 이하, 약 68nm 이하, 약 67nm 이하, 약 66nm 이하, 약 65nm 이하, 약 64nm 이하, 약 63nm 이하, 약 62nm 이하, 약 61nm 이하, 약 59nm 이하, 약 58nm 이하, 약 57nm 이하, 약 56nm 이하, 약 55nm 이하, 약 54nm 이하, 약 53nm 이하, 약 52nm 이하, 약 51nm 이하, 약 50nm 이하, 약 49nm 이하, 약 48nm 이하, 약 47nm 이하, 약 46 nm 이하 또는 약 45 nm 이하 정도일 수도 있다.In another example, the pore size is about 1 nm or more, about 2 nm or more, about 3 nm or more, about 4 nm or more, about 5 nm or more, about 6 nm or more, about 7 nm or more, about 8 nm or more, about 9 nm or more, about 10 nm or more, about 11 nm Or more, about 12 nm or more, about 13 nm or more, about 14 nm or more, about 15 nm or more, about 16 nm or more, about 17 nm or more, about 18 nm or more, about 19 nm or more, about 20 nm or more, about 21 nm or more, about 22 nm or more, about 23 nm or more, About 24 nm or more, about 25 nm or more, about 26 nm or more, about 27 nm or more, about 28 nm or more, about 29 nm or more, about 31 nm or more, about 32 nm or more, about 33 nm or more, about 34 nm or more, about 35 nm or more, about 36 nm or more, about 37 nm or more, about 38 nm or more, about 99 nm or less, about 98 nm or less, about 97 nm or less, about 96 nm or less, about 95 nm or less, about 94 nm or less, about 93 nm or less, about 92 nm or less, about 91 nm or less, about 90 nm or less, about 89 nm or less, about 88 nm or less, about 87 nm or less, about 86 nm or less, about 85 nm or less, about 84 nm or less, about 83 nm or less, about 82 nm or less, about 81 nm or less, about 79 nm or less, about 78 nm or less, about 77 nm or less, about 76 nm or less , About 75 nm or less, about 74 nm or less, about 73 nm or less, about 72 nm or less, about 71 nm or less, about 69 nm or less, about 68 nm or less, about 67 nm or less, about 66 nm or less, about 65 nm or less, about 64 nm or less, about 63 nm or less, about 62 nm or less, about 61 nm or less, about 59 nm or less, about 58 nm or less, about 57 nm or less, about 56 nm or less, about 55 nm or less, about 54 nm or less, about 53 nm or less, about 52 nm or less, about 51 nm or less, about 50 nm or less, about 49 nm or less , About 48 nm or less, about 47 nm or less, about 46 nm or less, or about 45 nm or less It may be degrees.

중공 입자로는 상기와 같은 특성을 가지고, 바인더와 함께 전술한 굴절률 특성을 나타낼 수 있는 것이라면 특별한 제한 없이 다양한 종류를 적용할 수 있다.As the hollow particles, as long as they have the above characteristics and can exhibit the above-described refractive index characteristics together with a binder, various types may be applied without particular limitation.

예를 들면, 중공 입자로는 셀(shell) 부위가 유기물로 되어 있는 유기 입자, 무기물로 되어 있는 무기 입자 및/또는 유무기 물질로 되어 있는 유무기 입자 등을 사용할 수 있다. 이러한 입자로는 PMMA(poly(methyl methacrylate)) 등의 아크릴 입자, 에폭시 입자, 나일론 입자, 스티렌 입자 및/또는 스티렌/비닐 단량체의 공중합체 입자 등이나, 실리카 입자, 알루미나 입자, 산화 인듐 입자, 산화 주석 입자, 산화 지르코늄 입자, 산화 아연 입자 및/또는 티타니아 입자 등의 무기 입자 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.For example, as the hollow particles, organic particles in which a shell portion is made of an organic material, inorganic particles made of an inorganic material, and/or organic-inorganic particles made of an organic-inorganic material may be used. These particles include acrylic particles such as PMMA (poly(methyl methacrylate)), epoxy particles, nylon particles, styrene particles, and/or copolymer particles of styrene/vinyl monomers, silica particles, alumina particles, indium oxide particles, and oxidation. Inorganic particles such as tin particles, zirconium oxide particles, zinc oxide particles, and/or titania particles may be exemplified, but are not limited thereto.

내적화층 또는 공극 함유층은 상기 중공 입자를 대략 5 중량% 이상의 비율로 포함할 수 있다. 상기 비율은 다른 예시에서 약 10 중량% 이상, 약 15 중량% 이상, 약 20 중량% 이상, 약 25 중량% 이상, 30 중량% 이상, 35 중량% 이상, 40 중량% 이상, 45 중량% 이상, 50 중량% 이상, 55 중량% 이상, 60 중량% 이상, 65 중량% 이상, 70 중량% 이상, 75 중량% 이상, 80 중량% 이상, 85 중량% 이상, 90 중량% 이상, 95 중량% 이상, 100 중량% 이상, 105 중량% 이상, 110 중량% 이상, 115 중량% 이상, 120 중량% 이상, 125 중량% 이상, 130 중량% 이상, 135 중량% 이상, 140 중량% 이상, 145 중량% 이상, 150 중량% 이상, 155 중량% 이상, 160 중량% 이상, 165 중량% 이상, 170 중량% 이상, 175 중량% 이상 또는 180 중량% 이상일 수 있다. 상기 비율은 다른 예시에서 약 9,000 중량% 이하, 8,000 중량% 이하, 7,000 중량% 이하, 6,000 중량% 이하, 5,000 중량% 이하, 4,000 중량% 이하, 3 2,000 중량% 이하, 1,000 중량% 이하, 900 중량% 이하, 800 중량% 이하, 700 중량% 이하, 600 중량% 이하, 500 중량% 이하, 400 중량% 이하, 300 중량% 이하, 약 250 중량% 이하, 약 240 중량% 이하, 약 230 중량% 이하, 약 220 중량% 이하, 약 210 중량% 이하 또는 200 중량% 이하 정도일 수도 있다.The internalization layer or the pore-containing layer may contain the hollow particles in an amount of about 5% by weight or more. In another example, the ratio may be at least about 10%, at least about 15%, at least about 20%, at least about 25%, at least 30%, at least 35%, at least 40%, at least 45%, 50% or more, 55% or more, 60% or more, 65% or more, 70% or more, 75% or more, 80% or more, 85% or more, 90% or more, 95% or more, 100% or more, 105% or more, 110% or more, 115% or more, 120% or more, 125% or more, 130% or more, 135% or more, 140% or more, 145% or more, It may be 150% by weight or more, 155% by weight or more, 160% by weight or more, 165% by weight or more, 170% by weight or more, 175% by weight or more, or 180% by weight or more. In another example, the ratio is about 9,000 wt% or less, 8,000 wt% or less, 7,000 wt% or less, 6,000 wt% or less, 5,000 wt% or less, 4,000 wt% or less, 3 2,000 wt% or less, 1,000 wt% or less, 900 wt% % Or less, 800% or less, 700% or less, 600% or less, 500% or less, 400% or less, 300% or less, about 250% or less, about 240% or less, about 230% or less , It may be about 220% by weight or less, about 210% by weight or less, or about 200% by weight or less.

상기 중공 입자의 비율은 목적하는 특성에 따라 조절될 수 있다. 하나의 예시에서 상기 내적화층 또는 공극 함유층은 입자로는 중공 입자만을 포함할 수 있다. 즉, 이러한 예시에서 내적화층 또는 공극 함유층은, 소위 솔리드(solid) 입자는 포함하지 않을 수 있다. 이에 의해 목적하는 내적화층 또는 공극 함유층의 특성을 보다 적절하게 구현할 수 있다.The ratio of the hollow particles may be adjusted according to the desired properties. In one example, the internalization layer or the pore-containing layer may include only hollow particles as particles. That is, in this example, the internalization layer or the pore-containing layer may not contain so-called solid particles. As a result, it is possible to more appropriately implement the characteristics of the target internalization layer or the pore-containing layer.

상기 내적화층 또는 공극 함유층은, 상기 성분 외에도 필요에 따라 업계에 공지된 임의의 첨가제를 포함할 수 있다. 이러한 첨가제로는 상기 바인더에 대한 경화제나 개시제, 산화 방지제, 자외선 안정제, 자외선 흡수제, 조색제, 소포제, 계면활성제 및/또는 가소제 등이 예시될 수 있다.The internalization layer or the void-containing layer may contain any additive known in the art as necessary in addition to the above components. Examples of such additives include curing agents or initiators, antioxidants, ultraviolet stabilizers, ultraviolet absorbers, toning agents, defoaming agents, surfactants and/or plasticizers for the binder.

내적화층 또는 공극 함유층의 두께는 목적하는 내적화능의 발현을 위해 제어될 수 있다. 예를 들면, 상기 내적화층 또는 공극 함유층은, 두께가 200 nm 이상일 수 있다. 이러한 두께 범위에서 목적하는 내적화 성능이 효과적으로 발현될 수 있다. 상기 두께는 다른 예시에서 250 nm 이상, 300 nm 이상, 350 nm 이상, 400 nm 이상, 450 nm 이상, 500 nm 이상, 550 nm 이상, 600 nm 이상, 650 nm 이상, 700 nm 이상, 750 nm 이상, 800 nm 이상, 850 nm 이상 또는 900 nm 이상 정도일 수도 있다. 상기 두께의 상한은 특별히 제한되지 않는다. 통상적으로 내적화층은 두꺼울수록 열을 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연시키는 효과가 향상된다. 따라서, 상기 내적화층 또는 공극 함유층의 두께의 상한은 광학 적층체에 대해서 요구되는 두께 등을 고려하여 선택될 수 있다. 상기 내적화층 또는 공극 함유층의 두께는 일 예시에서 약 3,000 nm 이하, 2,900 nm 이하, 2,800 nm 이하, 2,700 nm 이하, 2,600 nm 이하, 2,500 nm 이하, 2,400 nm 이하, 2,300 nm 이하, 2,200 nm 이하, 2,100 nm 이하, 2,000 nm 이하 또는 1,950 nm 이하 정도일 수도 있다.The thickness of the internalization layer or the pore-containing layer can be controlled to express the desired internalization ability. For example, the internalization layer or the pore-containing layer may have a thickness of 200 nm or more. In this thickness range, the desired internalization performance can be effectively expressed. In other examples, the thickness is 250 nm or more, 300 nm or more, 350 nm or more, 400 nm or more, 450 nm or more, 500 nm or more, 550 nm or more, 600 nm or more, 650 nm or more, 700 nm or more, 750 nm or more, It may be about 800 nm or more, 850 nm or more, or 900 nm or more. The upper limit of the thickness is not particularly limited. In general, the thicker the internalization layer, the better the effect of preventing, alleviating, alleviating, suppressing and/or delaying heat. Accordingly, the upper limit of the thickness of the internalization layer or the void-containing layer may be selected in consideration of the thickness required for the optical laminate. In one example, the thickness of the internalization layer or the pore-containing layer is about 3,000 nm or less, 2,900 nm or less, 2,800 nm or less, 2,700 nm or less, 2,600 nm or less, 2,500 nm or less, 2,400 nm or less, 2,300 nm or less, 2,200 nm or less, 2,100 It may be about nm or less, 2,000 nm or less, or 1,950 nm or less.

광학 적층체 내에서 내적화층의 위치는 목적하는 내적화 성능의 확보를 위해 역시 제어될 수 있다.The position of the internalization layer in the optical laminate can also be controlled to ensure the desired internalization performance.

상기 내적화층은 광학 적층체에 별도로 포함되는 층이거나, 혹은 광학 적층체 내에 이미 존재하는 층(ex. 접착제층이나 점착제층)에 공극을 형성하여 구현한 층일 수 있다. The internalization layer may be a layer separately included in the optical laminate, or may be a layer implemented by forming voids in a layer (eg, an adhesive layer or an adhesive layer) already existing in the optical laminate.

광학 적층체 내에서 상기 내적화층의 위치는 목적, 즉 적화의 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연을 위해서 제어될 수 있다. The position of the internalization layer within the optical laminate can be controlled for the purpose, that is, preventing, alleviating, alleviating, suppressing and/or delaying redundancy.

예를 들면, 내적화층은, 광학 적층체 내에서 적화의 주요한 원인이 되는 광학 기능층과 가급적 가깝게 위치할 수 있다. 즉, 광학 적층체에서 상기 내적화층과 상기 광학 기능층간의 거리가 제어될 수 있다. 상기에서 거리는 상기 내적화층 및 상기 광학 기능층의 마주하는 표면간의 최단 간격, 최대 간격 또는 평균 간격일 수 있다. 일 예시에서 상기 내적화층과 광학 기능층간의 거리는 90μm 이내, 85μm 이내, 80μm 이내, 75μm 이내, 70μm 이내, 65μm 이내, 60μm 이내, 55μm 이내, 50μm 이내, 45μm 이내, 40μm 이내, 35μm 이내, 30μm 이내, 25μm 이내, 20μm 이내, 15μm 이내, 10μm 이내, 5μm 이내, 1 μm 이내, 0.9 μm 이내, 0.8 μm 이내, 0.7 μm 이내, 0.6 μm 이내, 0.5 μm 이내, 0.4 μm 이내, 0.3 μm 이내 또는 0.2 μm 이내일 수 있다. 광학 기능층과 내적화층이 가장 가깝게 위치하는 경우는 상기 2개의 층이 서로 접하는 경우이고, 이러한 경우에 상기 거리는 0 μm이다. 따라서, 상기 거리의 하한은 0μm이다. 상기 거리는 다른 예시에서 약 0.01 μm 이상, 0.02 μm 이상, 0.03 μm 이상, 0.04 μm 이상, 0.05 μm 이상, 0.09 μm 이상 또는 0.1 μm 이상 정도일 수도 있다.For example, the internalization layer may be located as close as possible to an optical functional layer that is a major cause of redundancy in the optical laminate. That is, the distance between the internal integration layer and the optical functional layer in the optical laminate can be controlled. In the above, the distance may be a shortest distance, a maximum distance, or an average distance between the surfaces of the internalization layer and the optical functional layer facing each other. In one example, the distance between the internal integration layer and the optical function layer is within 90μm, within 85μm, within 80μm, within 75μm, within 70μm, within 65μm, within 60μm, within 55μm, within 50μm, within 45μm, within 40μm, within 35μm, within 30μm , Within 25μm, within 20μm, within 15μm, within 10μm, within 5μm, within 1 μm, within 0.9 μm, within 0.8 μm, within 0.7 μm, within 0.6 μm, within 0.5 μm, within 0.4 μm, within 0.3 μm or 0.2 μm It can be within. The case where the optical functional layer and the internalization layer are located closest to each other is when the two layers are in contact with each other, and in this case, the distance is 0 μm. Therefore, the lower limit of the distance is 0 μm. In another example, the distance may be about 0.01 μm or more, 0.02 μm or more, 0.03 μm or more, 0.04 μm or more, 0.05 μm or more, 0.09 μm or more, or 0.1 μm or more.

이러한 내적화층은, 광학 적층체의 최외곽 표면을 형성하지 않는 위치에 배치될 수 있다. 즉, 내적화층은, 광학 적층체의 최외층은 아닐 수 있다. 이러한 위치 설정은 광학 적층체 및/또는 광학 기능층의 내적화 특성을 발현하는 것에 요구될 수 있다.Such an internalization layer may be disposed at a position that does not form the outermost surface of the optical laminate. That is, the internalization layer may not be the outermost layer of the optical laminate. Such positioning may be required to express the resistance to product properties of the optical laminate and/or the optical functional layer.

다른 예시에서 광학 적층체는 상기 내적화층과 광학 기능층과 함께 추가적인 층을 포함하고, 상기 내적화층이 상기 광학 기능층과 상기 추가적인 층의 사이에 위치할 수 있다. 도 1은 이러한 층 구성의 일 예시이고, 상기 추가적인 층(30), 내적화층(20) 및 광학 기능층(10)이 순차 형성된 경우를 보여준다. 상기에서 추가적인 층은 보호 필름, 점착제층, 접착제층, 하드코팅층, 반사 방지층, 위상차층 또는 휘도 향상층 등이거나, 후술하는 커버 글라스 등일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.In another example, the optical laminate may include an additional layer together with the internal integration layer and the optical functional layer, and the internal integration layer may be positioned between the optical functional layer and the additional layer. 1 is an example of such a layer structure, and shows a case in which the additional layer 30, the internalization layer 20, and the optical function layer 10 are sequentially formed. In the above, the additional layer may be a protective film, an adhesive layer, an adhesive layer, a hard coating layer, an antireflection layer, a retardation layer or a brightness enhancement layer, or a cover glass to be described later, but is not limited thereto.

위와 같은 배치에 의해서 본 출원의 광학 적층체는 다소 높은 표면 반사율을 나타낼 수 있다. 즉, 본 출원의 내적화층은, 그 구성상 반사율을 낮추는 작용을 할 수 있는데, 이러한 내적화층이 표면에 존재하지 않기 때문에, 별도의 반사 방지층 등이 형성되지 않는 한, 상기 광학 기능층의 표면 반사율은 다소 높게 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 광학 적층체는 반사율이 2% 이상일 수 있다. 상기에서 반사율은, 가시광 영역의 광, 예를 들면, 대략 380 nm 내지 780 nm의 범위 내의 어느 한 파장, 또는 상기 범위 내의 일정 영역의 파장 또는 상기 영역 전체에 대한 반사율이거나, 평균 반사율일 수 있다. 상기 반사율은 다른 예시에서 약 2.5% 이상, 약 3% 이상, 약 3.5% 이상 또는 약 4% 이상이거나, 약 10% 이하, 9% 이하, 8% 이하, 7% 이하, 6% 이하 또는 5% 이하 정도일 수도 있다.By the above arrangement, the optical laminate of the present application may exhibit a rather high surface reflectance. That is, the internalization layer of the present application may have a function of lowering the reflectance due to its configuration. Since such internalization layer does not exist on the surface, the surface reflectance of the optical functional layer is not formed unless a separate antireflection layer or the like is formed. Can be formed rather high. For example, the optical laminate may have a reflectance of 2% or more. In the above, the reflectance may be light in the visible region, for example, a wavelength within a range of approximately 380 nm to 780 nm, a wavelength within a certain region within the range, or a reflectance for the entire region, or an average reflectance. The reflectance is in another example about 2.5% or more, about 3% or more, about 3.5% or more, or about 4% or more, or about 10% or less, 9% or less, 8% or less, 7% or less, 6% or less, or 5% It may be less than or equal.

위와 같은 배치에 의해서 광학 기능층 및/또는 광학 적층체의 적화 현상을 효과적으로 방지, 완화, 경감, 억제 및/또는 지연시킬 수 있다.By the above arrangement, it is possible to effectively prevent, alleviate, alleviate, suppress and/or delay the redness of the optical functional layer and/or the optical laminate.

상기 광학 적층체는 상기 내적화층과 광학 기능층을 기본적으로 포함하는 한 다양한 다른 층도 포함할 수 있다.The optical laminate may also include various other layers as long as it basically includes the internalization layer and the optical functional layer.

이러한 층은 예를 들면, 상기 광학 적층체에 대한 보호 필름, 점착제층, 접착제층, 위상차 필름, 하드코팅층 또는 저반사층 등이 예시될 수 있다. 상기 층들은 전술한 추가적인 층일 수도 있다. Such a layer may be, for example, a protective film, an adhesive layer, an adhesive layer, a retardation film, a hard coating layer or a low reflection layer for the optical laminate. These layers may also be the additional layers described above.

상기 추가적인 층의 종류로는 업계에 공지된 일반적인 구성이 적용될 수 있다. 예를 들면, 상기 보호 필름으로는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성 또는 등방성 등이 우수한 수지 필름이 사용될 수 있으며, 이러한 필름의 예로는, TAC(triacetyl cellulose) 필름 등의 셀룰로오스 수지 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리에테르술폰 필름, 폴리술폰 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리아미드 필름, 폴리이미드 필름, 폴리올레핀 필름, 아크릴 필름, 노르보넨 수지 필름 등의 고리형 폴리올레핀 필름, 폴리아릴레이트 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리비닐알코올 필름 등을 예시할 수 있다. 또한, 필름 형태의 보호층 외에도 (메트)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계 또는 실리콘계 등의 열 또는 광 경화형 수지를 경화시킨 경화 수지층을 상기 보호 필름으로 적용할 수도 있다. 이러한 보호 필름은 광학 기능층의 일면 또는 양면에 형성될 수 있다.As the type of the additional layer, a general configuration known in the art may be applied. For example, as the protective film, a resin film having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, or isotropic property may be used, and examples of such a film include a cellulose resin film such as a triacetyl cellulose (TAC) film. , Polyester film, polyethersulfone film, polysulfone film, polycarbonate film, polyamide film, polyimide film, polyolefin film, acrylic film, cyclic polyolefin film such as norbornene resin film, polyarylate film, polystyrene film , A polyvinyl alcohol film, etc. can be illustrated. In addition, in addition to the protective layer in the form of a film, a cured resin layer obtained by curing a heat or photocurable resin such as (meth)acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy or silicone may be applied as the protective film. Such a protective film may be formed on one side or both sides of the optical functional layer.

위상차 필름으로는, 일반적인 소재가 적용될 수 있고, 예를 들면, 1축 또는 2축 연신된 복굴절성 고분자 필름 또는 액정 폴리머의 배향 필름 등이 적용될 수 있다. 위상차 필름의 두께도 특별히 제한되지 않는다. As the retardation film, a general material may be applied, and for example, a birefringent polymer film or an alignment film of a liquid crystal polymer may be uniaxially or biaxially stretched. The thickness of the retardation film is also not particularly limited.

상기 기술한 보호 필름 또는 위상차 필름은 접착제 등에 의해 광학 기능층 등에 부착될 수 있는데, 이러한 보호 필름 등에는 코로나 처리, 플라즈마 처리, 프라이머 처리 또는 비누화 처리 등과 같은 접착 용이 처리가 수행되어 있을 수 있다. 또한, 보호 필름이 광학 기능층 또는 내적화층에 부착되는 경우에 상기 보호 필름의 상기 광학 기능층 또는 내적화층에 부착되는 면과는 반대측 면에는 하드 코트층, 저반사층, 반사방지층, 스티킹 방지층, 확산층 또는 헤이즈층 등이 존재할 수 있다.The above-described protective film or retardation film may be attached to an optical functional layer or the like by an adhesive or the like, and the protective film may be subjected to an easy adhesion treatment such as corona treatment, plasma treatment, primer treatment, or saponification treatment. In addition, when the protective film is attached to the optical functional layer or the internal integration layer, a hard coat layer, a low reflection layer, an anti-reflection layer, an anti-sticking layer, There may be a diffusion layer or a haze layer or the like.

광학 적층체에는 상기 보호 필름 또는 위상차 필름 외에도, 예를 들어 반사판 또는 반투과판 등의 다양한 요소가 존재할 수도 있으며, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다.In addition to the protective film or the retardation film, various elements such as a reflective plate or a transflective plate may be present in the optical laminate, and the kind is not particularly limited.

광학 적층체의 각 층의 접착을 위해서 접착제가 사용될 수 있다. 접착제로는, 이소시아네이트계 접착제, 폴리비닐알코올계 접착제, 젤라틴계 접착제, 비닐계 라텍스계 또는 수계 폴리에스테르 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 접착제로는 통상적으로 수계 접착제가 사용될 수 있으나, 부착되는 필름의 종류에 따라서는 무용제 타입의 광경화형 접착제가 사용될 수도 있다.An adhesive may be used for bonding each layer of the optical laminate. As the adhesive, an isocyanate-based adhesive, a polyvinyl alcohol-based adhesive, a gelatin-based adhesive, a vinyl-based latex-based or water-based polyester may be exemplified, but is not limited thereto. As the adhesive, a water-based adhesive may be generally used, but a solvent-free type photocurable adhesive may be used depending on the type of film to be attached.

광학 적층체는, 액정 패널이나 커버 글래스 등의 다른 부재와의 접착을 위해 점착제층이 포함될 수 있다. 점착제층을 형성하는 점착제는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 아크릴계 중합체, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리에테르 또는 불소계나 고무계 등의 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 이러한 점착제층의 노출면에 대해서는, 실용에 제공할 때까지의 동안에 그 오염 방지 등을 목적으로 이형 필름이 임시 부착되어 커버될 수 있다.The optical laminate may include a pressure-sensitive adhesive layer for adhesion to other members such as a liquid crystal panel or a cover glass. The pressure-sensitive adhesive that forms the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and for example, an acrylic polymer, a silicone polymer, polyester, polyurethane, polyamide, polyether, or a polymer such as fluorine-based or rubber-based polymer can be appropriately selected and used as a base polymer. have. With respect to the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a release film may be temporarily attached and covered for the purpose of preventing contamination or the like until it is provided for practical use.

이와 같은 광학 적층체는, 다양한 형태의 구조를 가질 수 있다. 예를 들면, 도 2는 가장 기본적인 광학 적층체인 편광판의 구조에서 내적화층(20)이 도입된 구조이다. 즉, 기본적인 편광판은 편광층(100)의 적어도 일면에 보호 필름(301)이 부착된 구조를 가지는데, 상기 내적화층(20)이 상기 편광층(100)과 보호 필름(301)의 사이에 위치할 수 있다. 도 2의 구조에서 각 층(100, 20, 301)의 접착에는 접착제나 점착제가 사용될 수 있다. 일 예시에서 도 2의 내적화층(20)은 별도의 층이거나 그 자체가 상기 접착제나 점착제일 수 있다. 즉, 접착제나 점착제에 중공 입자 등을 도입하여 공극 함유층으로 구성하여 내적화층의 역할을 하도록 할 수 있다.Such an optical laminate may have various types of structures. For example, FIG. 2 is a structure in which the internalization layer 20 is introduced in the structure of a polarizing plate, which is the most basic optical laminate. That is, the basic polarizing plate has a structure in which a protective film 301 is attached to at least one surface of the polarizing layer 100, and the internalization layer 20 is located between the polarizing layer 100 and the protective film 301 can do. In the structure of FIG. 2, an adhesive or a pressure-sensitive adhesive may be used for bonding each of the layers 100, 20, and 301. In one example, the internalization layer 20 of FIG. 2 may be a separate layer or itself may be the adhesive or pressure-sensitive adhesive. That is, hollow particles or the like may be introduced into an adhesive or pressure-sensitive adhesive to form a void-containing layer to serve as an anti-corrosive layer.

도 2에서 편광층(100)의 하부, 즉 내적화층(20)과 반대측 면에도 보호 필름(302)이 부착되어 있지만, 이 보호 필름(302)은 생략되거나 다른 종류의 층(예를 들면, 전술한 위상차 필름이나, 경화 수지층 등)될 수 있다. 예를 들면, 상기 내적화층(20)과 반대측 면에 존재하는 보호 필름(302)의 하부, 즉 상기 보호 필름(302)의 편광층(100)쪽 면과 반대쪽 면에는 점착제층이 형성되어 있을 수 있거나, 상기 보호 필름(302) 대신 점착제층이 형성되어 있을 수 있다.In FIG. 2, a protective film 302 is also attached to the lower side of the polarizing layer 100, that is, on the side opposite to the internalization layer 20, but this protective film 302 is omitted or another kind of layer (for example, the above-described One retardation film or a cured resin layer, etc.). For example, a pressure-sensitive adhesive layer may be formed under the protective film 302 present on the side opposite to the internalization layer 20, that is, on the side opposite to the polarizing layer 100 side of the protective film 302. Alternatively, an adhesive layer may be formed instead of the protective film 302.

도 3은 변형 구조로서, 편광층(100)의 일면에 2장의 보호 필름(301, 302)이 존재하고, 그 보호 필름(301, 302)들의 사이에 내적화층(20)이 존재하는 경우이다. 이 경우에도 상기 층의 접착에는 점착제나 접착제가 적용될 수 있고, 이 때 내적화층(20)이 점착제나 접착제일 수도 있다. 이러한 구조에서 편광층(100)의 하부에 존재하는 보호 필름(303)에 대한 사항은 도 2의 구조에서 편광층(100)의 하부에 존재하는 보호 필름(302)의 경우와 같다.3 is a modified structure, in which two protective films 301 and 302 are present on one surface of the polarizing layer 100, and the internalization layer 20 is present between the protective films 301 and 302. Even in this case, a pressure-sensitive adhesive or an adhesive may be applied to the adhesion of the layer, and in this case, the internalization layer 20 may be a pressure-sensitive adhesive or an adhesive. In this structure, matters for the protective film 303 present under the polarizing layer 100 are the same as the case of the protective film 302 present under the polarizing layer 100 in the structure of FIG. 2.

도 2 및 3의 구조는 본 출원의 일 예시이며, 본 출원의 광학 적층체는 이 외에도 다양한 구조로 구성될 수 있다.The structures of FIGS. 2 and 3 are examples of the present application, and the optical laminate of the present application may be configured in various other structures.

본 출원은 또한 상기 광학 적층체를 포함하는 디스플레이 장치에 대한 것이다. 상기 디스플레이 장치의 종류는 특별한 제한 없이 다양할 수 있고, 예를 들면, 공지의 LCD(Liquid Crystal Display) 또는 OLED(Organic Light Emitting Display) 등일 수 있으며, 이러한 디스플레이 장치에서 상기 광학 적층체는 통상의 방식으로 적용될 수 있다.The present application also relates to a display device including the optical laminate. The type of the display device may be various without particular limitation, for example, a known LCD (Liquid Crystal Display) or OLED (Organic Light Emitting Display), etc., in such a display device, the optical laminate is a conventional method Can be applied as

특히 상기 광학 적층체는 소위 커버 글래스(Cover glass)를 포함하는 디스플레이 장치에 효과적으로 적용된다.In particular, the optical laminate is effectively applied to a display device including a so-called cover glass.

이러한 장치는 통상 커버 글래스와 그 커버 글래스에 소위 OCA(Optical Clear Adhesive)나 OCR(Optical Clear Resin) 등으로 부착된 광학 적층체를 포함하는데, 상기 광학 적층체로서 본 출원의 적층체가 적용될 수 있다. 따라서, 상기 디스플레이 장치는, 커버 글래스 및 상기 커버 글래스에 부착된 광학 적층체를 포함하고, 상기 광학 적층체는 상기 광학 기능층; 및 상기 광학 기능층의 적어도 일면에 형성되어 있는 내적화층을 포함할 수 있으며, 이 때 상기 내적화층은 상기 커버 글래스와 상기 광학 기능층의 사이에 위치할 수 있다.Such an apparatus typically includes a cover glass and an optical laminate attached to the cover glass with so-called OCA (Optical Clear Adhesive) or OCR (Optical Clear Resin), and the laminate of the present application may be applied as the optical laminate. Accordingly, the display device includes a cover glass and an optical laminate attached to the cover glass, wherein the optical laminate includes the optical functional layer; And an internalization layer formed on at least one surface of the optical functional layer, wherein the internalization layer may be positioned between the cover glass and the optical functional layer.

통상 커버 글래스를 포함하는 디스플레이 장치는 차량용 네비게이션 등의 용도에 적용되는데, 이 때 열 전도율이 높은 커버 글래스에 의해 상기 적화 현상이 보다 문제가 된다. In general, a display device including a cover glass is applied to a vehicle navigation or the like. In this case, the redness phenomenon becomes more problematic due to the cover glass having a high thermal conductivity.

그렇지만, 본 출원의 광학 적층체는 상기 구조의 장치에 적용되어 상기 문제점을 해결할 수 있다. However, the optical laminate of the present application can be applied to a device having the above structure to solve the above problem.

상기 디스플레이 장치의 구체적인 구조는 본 출원의 광학 적층체가 적용되는 한 특별한 제한은 없고, 공지의 구조에 따를 수 있다.The specific structure of the display device is not particularly limited as long as the optical laminate of the present application is applied, and may follow a known structure.

본 출원에서는 매우 가혹한 조건(예를 들면, 매우 고온 조건)에서 구동되거나, 유지되는 경우에도 소위 적화 현상이 유발되지 않는 광학 적층체 또는 디스플레이 장치 또는 그에 적용되는 내적화층을 제공할 수 있다.In the present application, an optical laminate or a display device or an internally applied layer applied thereto may be provided that does not cause a so-called redundancy phenomenon even when driven or maintained under a very severe condition (eg, a very high temperature condition).

도 1 내지 3은, 본 출원의 광학 적층체의 예시적인 구조를 설명하기 위한 도면이다.1 to 3 are views for explaining an exemplary structure of an optical laminate of the present application.

이하, 본 출원에 따른 실시예 등을 통하여 상기 편광층 등을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 출원의 범위가 이하에 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the polarizing layer and the like will be described in more detail through examples according to the present application, but the scope of the present application is not limited to the following.

본 명세서에서의 물성은 하기의 방식으로 측정하였다.Physical properties in the present specification were measured in the following manner.

1. 두께의 측정1. Measurement of thickness

편광층 및 내적화층 등의 두께는 TEM(Transmission Electron Microscopy) 기기를 적용하여 측정할 수 있다. 상기 TEM 기기로 편광층이나 내적화층의 단면을 촬영한 후에 촬영된 이미지로부터 해당 층의 두께를 확인할 수 있다. 본 실시예에서는 TEM 기기로서 Hitachi社의 H-7650 제품을 사용하였다.The thickness of the polarizing layer and the internalization layer may be measured by applying a transmission electron microscopy (TEM) device. After photographing a cross section of the polarizing layer or the internal integration layer with the TEM device, the thickness of the corresponding layer can be checked from the photographed image. In this example, Hitachi's H-7650 product was used as a TEM device.

2. 중공 입자의 입도 분포 및 기공 크기의 측정2. Measurement of particle size distribution and pore size of hollow particles

중공 입자의 입도 분포는 Otsuka Electronics 사의 ELSZ-2000 장비를 이용하여 측정하였다. 또한, 중공 입자의 입자 직경 및 기공 크기는 TEM(Transmission Electron Microscopy) 기기를 적용하여 측정하였다. 본 실시예에서는 TEM 기기로서 Hitachi社의 H-7650 제품을 사용하였다. 상기 입자 직경 및 기공 크기는, 상기 TEM 기기를 사용하여 실시예 등에서 제조된 광학 적층체(편광판)에서의 내적화층의 단면을 촬영(10000배 배율)한 후에 임의로 50개의 중공 입자를 선택하여 각각의 입자 직경과 기공 크기를 구하고, 그 산술 평균을 입자 직경 및 기공 크기의 대표값으로 하였다.The particle size distribution of the hollow particles was measured using the ELSZ-2000 equipment of Otsuka Electronics. In addition, the particle diameter and pore size of the hollow particles were measured by applying a TEM (Transmission Electron Microscopy) device. In this example, Hitachi's H-7650 product was used as a TEM device. The particle diameter and pore size are determined by randomly selecting 50 hollow particles after photographing (10,000 times magnification) a cross section of the internalization layer in the optical laminate (polarizing plate) manufactured in Examples, etc. using the TEM device. The particle diameter and pore size were determined, and the arithmetic mean was taken as a representative value of the particle diameter and pore size.

3. CIE 색좌표 측정3. CIE color coordinate measurement

색좌표는 JASCO V-7100 스펙트로포토미터(Spectrophotometer)를 사용하여 측정하였다. 상기 JASCO V-7100 스펙트로포토미터는 해당 기기에 내장된 편광자의 흡수축에 대해서 측정 대상 편광판의 흡수축을 0도에서 360도까지 회전시키다가 투과율이 최소가 되는 지점에서 색좌표(TD 색좌표)를 측정하고, 상기 투과율이 최소가 되는 지점에서 다시 측정 대상 편광판의 흡수축을 시계 방향으로 90도 회전시켜서 색좌표(MD 색좌표)를 측정한 후에 각 측정값을 기준으로 색좌표의 대표값을 도출하여 주는 기기이다. 본 명세서의 실시예에서 기재된 색좌표는 상기 JASCO V-7100 스펙트로포토미터에서 확인하여 주는 색좌표이다.Color coordinates were measured using a JASCO V-7100 Spectrophotometer. The JASCO V-7100 spectrophotometer rotates the absorption axis of the polarizing plate to be measured from 0 degrees to 360 degrees with respect to the absorption axis of the polarizer built into the device, and then measures the color coordinate (TD color coordinate) at the point where the transmittance is minimum. , After measuring the color coordinate (MD color coordinate) by rotating the absorption axis of the polarizing plate to be measured 90 degrees clockwise at the point where the transmittance is minimum, it is a device that derives a representative value of the color coordinate based on each measured value. The color coordinates described in the examples of this specification are the color coordinates identified by the JASCO V-7100 spectrophotometer.

4. 투과율의 측정4. Measurement of transmittance

편광판의 단체 투과율 등은 JASCO V-7100 스펙트로포토미터(Spectrophotometer)를 사용하여 측정하였다. 상기 JASCO V-7100 스펙트로포토미터(Spectrophotometer)는, 평광판의 투과율 등을 380 내지 780 nm 범위 내에서 측정하여 상기 파장 범위에 대한 대표값을 도출하여 주는 기기이고, 본 실시예에서는 이러한 JASCO V-7100 스펙트로포토미터(Spectrophotometer)에서 확인되는 투과율을 기재하였다.The single transmittance of the polarizing plate and the like were measured using a JASCO V-7100 Spectrophotometer. The JASCO V-7100 spectrophotometer is a device that measures the transmittance of a polarizing plate within a range of 380 to 780 nm and derives a representative value for the wavelength range.In this embodiment, the JASCO V- The transmittance confirmed by the 7100 Spectrophotometer is described.

5. 편광층의 칼륨(K) 및 아연(Zn)의 중량 비율 측정5. Measurement of the weight ratio of potassium (K) and zinc (Zn) in the polarizing layer

편광층에 존재하는 칼륨(K)과 아연(Zn)의 중량 비율은 다음의 방식으로 측정하였다. 우선 상온(약 25℃)에서 약 65중량% 농도의 질산 수용액(2mL)에 편광층 0.1 g 정도를 상기 녹인 후에 물(Deionized water)로 40 mL까지 희석한 후에 ICP-OES(Optima 5300)를 사용하여 편광층에 포함되어 있는 칼륨(K)과 아연(Zn)의 중량을 각각 측정하였다.The weight ratio of potassium (K) and zinc (Zn) present in the polarizing layer was measured in the following manner. First, about 0.1 g of the polarizing layer is dissolved in an aqueous nitric acid solution (2 mL) having a concentration of about 65% by weight at room temperature (about 25°C), and then diluted to 40 mL with deionized water, and then ICP-OES (Optima 5300) is used. Thus, the weights of potassium (K) and zinc (Zn) contained in the polarizing layer were measured, respectively.

6. 내적화층의 열확산도 평가6. Evaluation of thermal diffusivity of the interlayer

열확산도는 다음과 같은 방식으로 측정하였다. 하기 실시예에서 기술한 방식으로 두께가 대략 60μm 정도인 TAC(Triacetyl cellulose) 필름(효성社제, PG601F)상에 내적화층(공극 함유층)을 형성한 상태로 상기 열확산도를 평가하였다. 이 때 내적화층(공극 함유층)의 두께는 각 실시예에 기재되어 있다. 상기 TAC 필름/내적화층(공극 함유층)의 적층체의 상면 및 하면에 그래파이트 코팅(graphite coating)을 수행하였다. 상기 그래파이트 코팅은 CRAMLIN사의 GRAPHITE 제품을 사용하여 형성하였다. 상기 제품은 스프레이 방식으로 그래파이트 코팅을 할 수 있는 제품이며, 해당 제품을 상기 적층체의 상면(내적화층(공극 함유층)의 면)과 하면(TAC 필름)에 1회 정도 분사 후에 건조하여 그래파이트층을 형성하였다. 한 뒤에 NETZSCH社의 LFA 457 MicroFlash 제품을 사용하여 열확산도를 측정하였다. 열확산도는 95℃의 온도를 기준으로 측정하였으며, 상기 하나의 그래파이트면에서 다른 그래파이트면으로의 온도 전달 여부를 통해 확인하였다. 이와 같은 방식으로 적층체(내적화층(공극 함유층)/TAC 필름)의 열확산도를 평가하고, 실시예에서는 TAC 필름 대비 상기 적층체의 열확산도의 상대 비율을 기재하였다.Thermal diffusivity was measured in the following manner. The thermal diffusivity was evaluated in a state in which an interlayer (pore-containing layer) was formed on a TAC (Triacetyl cellulose) film (manufactured by Hyosung, PG601F) having a thickness of about 60 μm in the manner described in the following Examples. At this time, the thickness of the internalization layer (the void-containing layer) is described in each of the Examples. Graphite coating was performed on the upper and lower surfaces of the laminate of the TAC film/internalization layer (pore-containing layer). The graphite coating was formed using CRAMLIN's GRAPHITE product. The product is a product that can be coated with graphite by spraying, and the product is sprayed once on the upper surface (surface of the interlayer (pore-containing layer)) and the lower surface (TAC film) of the laminate, and then dried to form the graphite layer. Formed. After that, the thermal diffusivity was measured using an LFA 457 MicroFlash product of NETZSCH. The thermal diffusivity was measured based on a temperature of 95°C, and it was confirmed through whether or not the temperature was transferred from one graphite surface to another graphite surface. In this way, the thermal diffusivity of the laminate (internalization layer (pore-containing layer)/TAC film) was evaluated, and in Examples, the relative ratio of the thermal diffusivity of the laminate to the TAC film was described.

7. 내적화층의 적외선 반사율 평가7. Evaluation of infrared reflectance of the internal layer

내적화층의 적외선 반사율은 다음의 방식으로 확인하였다. 하기 실시예에서 기술한 방식으로 두께가 대략 60μm 정도인 TAC(Triacetyl cellulose) 필름상에 내적화층을 형성한 상태로 상기 적외선 반사율을 평가하였다. 이 때 내적화층의 두께는 각 실시예에 기재되어 있다. 상기 내적화층/TAC 필름의 적층체의 TAC 필름의 하면(내적화층이 형성되어 있지 않은 필름의 면)에 블랙 테이프(TOMOEGAWA社의 블랙 PET 필름)를 붙여 암색화 처리를 하고, SHIMADZU社의 Solidspec 3700 장비를 사용하여, 반사율(Reflectance) 모드에서 800 내지 1300 nm 파장 영역에서의 평균 반사율을 측정하였다. 상기 기기를 사용하면, 800nm 내지 1300nm 범위 내에서 1 nm 간격의 파장 범위에 대한 반사율을 확인할 수 있고, 본 실시예에서는 각 파장에 대한 반사율의 산술 평균치를 적외선 반사율의 대표값으로 하였다.The infrared reflectance of the internalization layer was confirmed in the following manner. In the manner described in the following examples, the infrared reflectance was evaluated in a state in which an internal layer was formed on a triacetyl cellulose (TAC) film having a thickness of about 60 μm. At this time, the thickness of the internalization layer is described in each example. A black tape (black PET film from TOMOEGAWA) was applied to the lower surface of the TAC film of the laminate of the interlayer/TAC film (the surface of the film on which the interlayer was not formed) for darkening treatment, and then Solidspec 3700 from SHIMADZU. Using the instrument, the average reflectance in the 800 to 1300 nm wavelength region was measured in the reflectance mode. Using the above device, it is possible to check the reflectance for a wavelength range of 1 nm interval within the range of 800 nm to 1300 nm, and in this embodiment, the arithmetic average value of the reflectance for each wavelength was taken as a representative value of the infrared reflectance.

8. 내적화층의 소각 X선 산란(SAXS: Small Angle X ray Scattering) 평가8. Evaluation of Small Angle X-ray Scattering (SAXS) of the Internal Integration Layer

내적화층의 소각 X선 산란 평가는 다음의 방식으로 수행하였다. 하기 실시예에서 기술한 방식으로 두께가 대략 60μm 정도인 TAC(Triacetyl cellulose) 필름상에 내적화층을 형성한 상태로 상기 평가를 진행하였다. 이 때 내적화층의 두께는 각 실시예에 기재되어 있다. 상기 TAC 필름/내적화층의 적층체를 가로 및 세로가 각각 1cm 정도가 되도록 재단하여 시험편을 제작한다. 상기 시험편의 내적화층에 0.0733nm의 파장의 X선을 4 m 떨어진 거리에서 조사하여 산란 벡터에 따른 산란 강도를 구하였다. 상기 측정은 포항 가속기 4C 빔라인에서 수행하였고, 수직 크기가 0.023 mm 정도이고, 수평 크기가 0.3 mm 정도인 X선을 이용하였다. 검출기로는 2D mar CCD를 이용하였다. 산란된 2D 회절 패턴의 이미지를 얻은 후에 이를 standard 시료(polyethylene-block-polybutadiene-block-polystyrene, SEBS)를 통해 얻어진 sample-to-detector 거리를 이용하여 calibration하고, circular average를 통해 산란 벡터(q)에 따른 산란 강도를 환산하였다. 이 때 산란 벡터는 하기 수식 A에 따라 구하였다.The evaluation of small-angle X-ray scattering of the internalized layer was performed in the following manner. In the manner described in the following examples, the evaluation was performed in a state in which an internal layer was formed on a triacetyl cellulose (TAC) film having a thickness of about 60 μm. At this time, the thickness of the internalization layer is described in each example. A test piece is prepared by cutting the laminate of the TAC film/internalization layer so that the width and length are about 1 cm, respectively. X-rays having a wavelength of 0.0733 nm were irradiated at a distance of 4 m to the internal integration layer of the test piece to obtain scattering intensity according to the scattering vector. The measurement was performed on a 4C beamline of the Pohang accelerator, and an X-ray having a vertical size of about 0.023 mm and a horizontal size of about 0.3 mm was used. A 2D mar CCD was used as a detector. After obtaining an image of the scattered 2D diffraction pattern, it is calibrated using the sample-to-detector distance obtained through a standard sample (polyethylene-block-polybutadiene-block-polystyrene, SEBS), and the scattering vector (q) through circular average. The scattering intensity according to was converted. At this time, the scattering vector was calculated according to Equation A below.

[수식 A][Equation A]

q = 4πsinθ/λq = 4πsinθ/λ

수식 A에서 q는 상기 산란 벡터이고, θ는 산란 각도(단위: 도)의 1/2배의 수치이며, λ는 조사된 X선의 파장(단위: 옹스트롬(Å))이다.In Equation A, q is the scattering vector, θ is a value of 1/2 times the scattering angle (unit: degrees), and λ is the wavelength of the irradiated X-ray (unit: angstrom (Å)).

9. Cauchy Parameter 측정9. Cauchy Parameter Measurement

내적화층의 굴절률 및 Cauchy Parameter은, 다음의 방식으로 수행하였다. 하기 실시예에서 기술한 방식으로 두께가 대략 60μm 정도인 TAC(Triacetyl cellulose) 필름상에 내적화층을 형성한 상태로 상기 평가를 진행하였다. 이 때 내적화층의 두께는 각 실시예에 기재되어 있다. 상기 적층체(내적화층/TAC 필름)을 내적화층에 대해서 장비(J. A. Woollam Co. M-2000)를 사용하여 상기 특성을 평가하였다. 상기 내적화층에 대해서 상기 장비를 적용하여 70도의 입사각 조건에서 380 nm 내지 1,000 nm의 파장 범위에서 선편광을 측정하였다. 측정된 선편광 데이터(Ellipsometry data (Psi(Ψ), delta(

Figure pat00003
)))를 Complete EASE software를 이용하여 하기 Cauchy model의 MSE가 25 이하가 되도록 최적화(fitting)하여 하기 수식 6의 n(
Figure pat00004
), A, B 및 C를 구하였다. 최적화 과정에서 Roughness 기능을 on (범위: 20~50 nm)으로 하여 적용하였다.The refractive index and Cauchy parameter of the internalization layer were performed in the following manner. In the manner described in the following examples, the evaluation was performed in a state in which an internal layer was formed on a triacetyl cellulose (TAC) film having a thickness of about 60 μm. At this time, the thickness of the internalization layer is described in each example. The above properties were evaluated using the equipment (JA Woollam Co. M-2000) for the laminated body (internalization layer/TAC film) for the internalization layer. Linearly polarized light was measured in a wavelength range of 380 nm to 1,000 nm under the condition of an incidence angle of 70 degrees by applying the above equipment to the internalization layer. Measured linearly polarized data (Ellipsometry data (Psi(Ψ), delta(
Figure pat00003
))) using Complete EASE software to optimize (fitting) the MSE of the following Cauchy model to be 25 or less, and then n (
Figure pat00004
), A, B and C were obtained. In the optimization process, the Roughness function was turned on (range: 20-50 nm) and applied.

[수식 6][Equation 6]

Figure pat00005
Figure pat00005

수식 6에서 n(λ)는 파장 λ nm에서의 굴절률이다.In Equation 6, n(λ) is the refractive index at the wavelength λ nm.

10. 내적화층의 표면적 비율 평가10. Evaluation of the surface area ratio of the internal layer

내적화층(공극 함유층)의 표면적 비율(Surface Area Ratio)은 AFM 기기(Atomic Force Microscope, Park Systems, XE7)를 사용하여 측정하였다. 실시예의 기재와 같이 TAC 필름의 일면에 형성된 내적화층(공극 함유층)을 가지는 적층체를 가로 및 세로 길이가 1 cm가 되도록 재단하여 제작한 샘플을 카본 테이프를 사용하여 기기의 스테이지에 고정시키고, 측정을 수행하였다. 측정을 위한 탐침(tip)으로는 PPP-NCHR 10 (Force Constant: 42 N/m, Resonance Frequency 330 kHz)을 사용하였다. 측정 조건은 하기와 같다.The surface area ratio of the internalization layer (pore-containing layer) was measured using an AFM instrument (Atomic Force Microscope, Park Systems, XE7). A sample prepared by cutting a laminate having an internalization layer (a void-containing layer) formed on one side of the TAC film as described in Example to have a horizontal and vertical length of 1 cm was fixed to the stage of the device using a carbon tape, and measured. Was performed. As a tip for the measurement, PPP-NCHR 10 (Force Constant: 42 N/m, Resonance Frequency 330 kHz) was used. Measurement conditions are as follows.

<측정 조건><Measurement conditions>

x-scan size: 1μmx-scan size: 1μm

y-scan size: 1μmy-scan size: 1μm

Scan rate: 0.7 내지 1HzScan rate: 0.7 to 1Hz

Z Servo Gain: 1Z Servo Gain: 1

Set Point: 10 내지 15 nmSet Point: 10 to 15 nm

상기 조건에서 측정한 데이터를 XEI 프로그램을 이용하여 하기 조건에서 평탄화하였다.The data measured under the above conditions were flattened under the following conditions using the XEI program.

<평탄화 조건><flattening conditions>

Scope: LineScope: Line

Orientation: X and Y axisOrientation: X and Y axis

Regression Order: 1Regression Order: 1

평탄화 후 XEI 프로그램 내의 Region tab에서 표면적 비율을 추출하였다.After planarization, the surface area ratio was extracted from the Region tab in the XEI program.

제조예 1. 편광층(A)의 제조Preparation Example 1. Preparation of polarizing layer (A)

두께가 약 30 ㎛인 PVA(poly(vinyl alcohol)) 필름(일본합성社, M3004L)을 요오드(I2) 0.2 중량% 및 요오드화 칼륨(KI) 2.5 중량%를 포함하는 28℃의 염색액에 60초 동안 침지시켜 염색 처리하였다. 이어서 염색된 PVA 필름을 붕소 1 중량% 및 요오드화 칼륨(KI) 3 중량%를 포함하는 35℃의 수용액(가교액)에 60초 동안 침지시켜 가교 처리하였다. 이후, 가교된 PVA 필름을 롤간 연신 방법을 이용하여 5.4배의 연신 배율로 연신시켰다. 연신된 PVA 필름을 25℃의 이온교환수에 60초 동안 침지시켜 세정하고, 질산 아연 2 중량% 및 요오드화 칼륨(KI) 5 중량% 포함하는 25

Figure pat00006
의 수용액에 30초 동안 침지시켰다. 이후, PVA 필름을 80℃의 온도에서 60초 동안 건조시켜 PVA 편광층을 제조하였다. 상기 제조된 편광층의 최종 두께는 약 12㎛ 정도였으며, 칼륨 함량은 약 0.9 중량%이고, 아연 함량은 약 0.3 중량%였다. 또한, 1/(1+0.025d/R)는 약 0.9였다. 상기에서 d는 편광층의 두께(12㎛)이고, R은 편광층에 포함되어 있는 칼륨 성분의 중량비(K, 단위: weight)과 아연 성분의 중량비(Zn, 단위: weight)의 비율(K/Zn)이다.PVA (poly(vinyl alcohol)) film (Japan Synthetic Company, M3004L) having a thickness of about 30 µm was added to a dyeing solution at 28°C containing 0.2% by weight of iodine (I 2) and 2.5% by weight of potassium iodide (KI). Dyeing was performed by immersing for seconds. Subsequently, the dyed PVA film was immersed in an aqueous solution (crosslinking solution) of 35° C. containing 1% by weight of boron and 3% by weight of potassium iodide (KI) for 60 seconds to perform crosslinking treatment. Thereafter, the crosslinked PVA film was stretched at a draw ratio of 5.4 times using the stretching method between rolls. The stretched PVA film was washed by immersing it in ion-exchanged water at 25° C. for 60 seconds, and 25 containing 2% by weight of zinc nitrate and 5% by weight of potassium iodide (KI).
Figure pat00006
It was immersed in the aqueous solution for 30 seconds. Thereafter, the PVA film was dried at a temperature of 80° C. for 60 seconds to prepare a PVA polarizing layer. The resulting polarizing layer had a final thickness of about 12 μm, a potassium content of about 0.9% by weight, and a zinc content of about 0.3% by weight. In addition, 1/(1+0.025d/R) was about 0.9. In the above, d is the thickness of the polarizing layer (12㎛), R is the ratio of the weight ratio (K, unit: weight) of the potassium component contained in the polarizing layer and the weight ratio (Zn, unit: weight) of the zinc component (K/ Zn).

제조예 2. 편광층(B)의 제조Preparation Example 2. Preparation of polarizing layer (B)

두께가 약 45 ㎛인 PVA(poly(vinyl alcohol)) 필름(일본합성社, M4504L)을 원반 필름으로 사용하여 편광층을 제조하였다. 우선 상기 원반 필름에 대해서 팽윤 처리를 수행하였다. 팽윤 처리는 원반 필름을 25℃의 온도의 순수에 30초 동안 침지하여 수행하였다. 팽윤 처리 과정에서 최종 연신 배율의 약 28% 정도까지가 연신되도록 연신을 진행하였다. 이어서 순수에 요오드(I2) 및 요오드화 칼륨(KI)이 각각 0.2 중량% 및 2.5 중량% 정도 농도로 용해된 염색액을 사용하여 염색 처리를 하였다. 염색 처리는 28℃의 상기 염색액 내에 원반 필름을 약 2분 동안 침지하여 수행하였다. 이 과정에서 최종 연신 배율의 약 40% 정도까지가 연신되도록 연신을 진행하였다. 이후 염색된 PVA 필름을 붕소 1 중량% 및 요오드화 칼륨 3중량%를 포함하는 35℃의 수용액(가교액)에 60초 동안 침지시켜 가교 처리하였다. 이어서 상기 원반 필름을 연신하였다. 연신은 붕산과 요오드화 칼륨을 각각 3 중량% 정도로 포함하는 수용액(처리액) 내에서 수행하였다. 상기 처리액의 온도는 50℃정도였다. 이어서 수용액으로 상기 연신된 필름을 세정하였다. 이 때 수용액의 온도는 약 25℃정도였고, 세정 처리는 1분 이내로 수행하였다. 그 후 필름을 건조하여 PVA 편광층을 제조하였다(두께: 27㎛, 총 연신 배율: 5.4배).A polarizing layer was prepared using a PVA (poly(vinyl alcohol)) film (Japan Synthetic Company, M4504L) having a thickness of about 45 µm as the original film. First, a swelling treatment was performed on the original film. The swelling treatment was performed by immersing the original film in pure water at a temperature of 25° C. for 30 seconds. In the swelling treatment process, stretching was performed so that about 28% of the final draw ratio was stretched. Subsequently, a dyeing treatment was performed using a dye solution in which iodine (I 2 ) and potassium iodide (KI) were dissolved in a concentration of 0.2% by weight and 2.5% by weight, respectively. The dyeing treatment was performed by immersing the original film in the dyeing solution at 28° C. for about 2 minutes. In this process, stretching was performed so that about 40% of the final draw ratio was stretched. Thereafter, the dyed PVA film was crosslinked by immersing it in an aqueous solution (crosslinking solution) of 35° C. containing 1% by weight of boron and 3% by weight of potassium iodide for 60 seconds. Subsequently, the original film was stretched. Stretching was performed in an aqueous solution (treatment liquid) containing about 3% by weight of each of boric acid and potassium iodide. The temperature of the treatment liquid was about 50°C. Subsequently, the stretched film was washed with an aqueous solution. At this time, the temperature of the aqueous solution was about 25°C, and the washing treatment was performed within 1 minute. Thereafter, the film was dried to prepare a PVA polarizing layer (thickness: 27 μm, total draw ratio: 5.4 times).

제조예 3. 내적화층(A) 재료의 제조Preparation Example 3. Preparation of the material for the internalization layer (A)

바인더로서 TMPTA(trimethylolpropane triacrylate)를 적용하고, 중공 실리카 입자(Hollow Silica Particle)를 적용하여 내적화층을 제조하였다. 상기 중공 실리카 입자로는 D10, D50 및 D90 입경이 각각 32.1 nm, 62.6nm 및 123.4 nm인 입자를 사용하였다. 이 경우, 내적화층을 형성한 후에 TEM으로 측정한 기공 크기의 평균은 대략 38.3 nm 정도이며, 입자 직경은 대략 53 nm 정도였다. 상기 바인더, 상기 중공 실리카 입자, 함불소 화합물(RS-90, DIC社) 및 개시제(Irgacure 127, Ciba社)를 고형분 기준으로 31:65:0.1:3.9의 중량 비율(바인더:중공 실리카 입자: 함불소 화합물:개시제)로 용매인 MIBK(methyl isobutyl ketone)에 희석하여 코팅액을 제조하였다.TMPTA (trimethylolpropane triacrylate) was applied as a binder, and hollow silica particles were applied to prepare an anti-corrosion layer. As the hollow silica particles, particles having D10, D50, and D90 particle diameters of 32.1 nm, 62.6 nm and 123.4 nm, respectively, were used. In this case, after forming the internalization layer, the average of the pore sizes measured by TEM was about 38.3 nm, and the particle diameter was about 53 nm. The binder, the hollow silica particles, a fluorinated compound (RS-90, DIC) and an initiator (Irgacure 127, Ciba) were used in a weight ratio of 31:65:0.1:3.9 based on solid content (binder: hollow silica particles: contained A fluorine compound: initiator) was diluted in MIBK (methyl isobutyl ketone) as a solvent to prepare a coating solution.

제조예 4. 내적화층(B) 재료의 제조Preparation Example 4. Preparation of the material for the internalization layer (B)

바인더로서 TMPTA(trimethylolpropane triacrylate)를 적용하고, 중공 실리카 입자(Hollow Silica Particle)를 적용하여 내적화층을 제조하였다. 상기 중공 실리카 입자로는 D10, D50 및 D90 입경은 각각 39.9 nm, 70.6 nm 및 126.0 nm인 입자를 사용하였다. 이 경우, 내적화층을 형성한 후에 TEM으로 측정한 기공 크기의 평균은 대략 44.1 nm 정도이며, 입자 직경은 대략 61 nm 정도였다. 상기 바인더, 상기 중공 실리카 입자, 함불소 화합물(RS-90, DIC社) 및 개시제(Irgacure 127, Ciba社)를 55.1:40:1.1:3.8의 중량 비율(바인더:중공 실리카 입자: 함불소 화합물:개시제)로 용매인 MIBK(methyl isobutyl ketone)에 희석하여 코팅액을 제조하였다.TMPTA (trimethylolpropane triacrylate) was applied as a binder, and hollow silica particles were applied to prepare an anti-corrosion layer. As the hollow silica particles, particles having D10, D50, and D90 particle diameters of 39.9 nm, 70.6 nm and 126.0 nm, respectively, were used. In this case, after forming the internalization layer, the average of the pore sizes measured by TEM was about 44.1 nm, and the particle diameter was about 61 nm. The binder, the hollow silica particles, the fluorinated compound (RS-90, DIC) and the initiator (Irgacure 127, Ciba) were mixed in a weight ratio of 55.1:40:1.1:3.8 (binder: hollow silica particles: fluorinated compound: Initiator) was diluted in MIBK (methyl isobutyl ketone) as a solvent to prepare a coating solution.

제조예 5. 내적화층(C) 재료의 제조Preparation Example 5. Preparation of the material for the internalization layer (C)

바인더로서 PETA(Pentaerythritol triacrylate)를 적용하고, 중공 실리카 입자(Hollow Silica Particle)를 적용하여 내적화층을 제조하였다. 상기 중공 실리카 입자로는 D10, D50 및 D90 입경은 각각 39.9 nm, 70.6 nm 및 126.0 nm 인 입자를 사용하였다. 이 경우, 내적화층을 형성한 후에 TEM으로 측정한 기공 크기의 평균은 대략 44.1 nm 정도이며, 입자 직경은 대략 61 nm 정도였다. 상기 바인더, 상기 중공 실리카 입자, 함불소 화합물(RS-90, DIC社) 및 개시제(Irgacure 127, Ciba社)를 76.5:20:0.5:3.0의 중량 비율(바인더:중공 실리카 입자: 함불소 화합물:개시제)로 용매인 MIBK(methyl isobutyl ketone)에 희석하여 코팅액을 제조하였다.PETA (Pentaerythritol triacrylate) was applied as a binder, and hollow silica particles were applied to prepare an anti-corrosion layer. As the hollow silica particles, particles having D10, D50 and D90 particle diameters of 39.9 nm, 70.6 nm and 126.0 nm, respectively, were used. In this case, after forming the internalization layer, the average of the pore sizes measured by TEM was about 44.1 nm, and the particle diameter was about 61 nm. The binder, the hollow silica particles, the fluorinated compound (RS-90, DIC) and the initiator (Irgacure 127, Ciba) were mixed in a weight ratio of 76.5:20:0.5:3.0 (binder: hollow silica particles: fluorinated compound: Initiator) was diluted in MIBK (methyl isobutyl ketone) as a solvent to prepare a coating solution.

제조예 6. 내적화층(D) 재료의 제조Preparation Example 6. Preparation of the material for the internalization layer (D)

바인더로서 PETA(Pentaerythritol triacrylate)를 적용하고, 중공 실리카 입자(Hollow Silica Particle)를 적용하여 내적화층을 제조하였다. 상기 중공 실리카 입자로는 D10, D50 및 D90 입경은 각각 39.9 nm, 70.6 nm 및 126.0 nm 인 입자를 사용하였다. 이 경우, 내적화층을 형성한 후에 TEM으로 측정한 기공 크기의 평균은 대략 44.1 nm 정도이며, 입자 직경은 대략 61 nm 정도였다. 상기 바인더, 상기 중공 실리카 입자, 함불소 화합물(RS-90, DIC社) 및 개시제(Irgacure 127, Ciba社)를 86.5:10:0.5:3.0의 중량 비율(바인더:중공 실리카 입자: 함불소 화합물:개시제)로 용매인 MIBK(methyl isobutyl ketone)에 희석하여 코팅액을 제조하였다.PETA (Pentaerythritol triacrylate) was applied as a binder, and hollow silica particles were applied to prepare an anti-corrosion layer. As the hollow silica particles, particles having D10, D50 and D90 particle diameters of 39.9 nm, 70.6 nm and 126.0 nm, respectively, were used. In this case, after forming the internalization layer, the average of the pore sizes measured by TEM was about 44.1 nm, and the particle diameter was about 61 nm. The binder, the hollow silica particles, a fluorinated compound (RS-90, DIC) and an initiator (Irgacure 127, Ciba) were mixed in a weight ratio of 86.5:10:0.5:3.0 (binder: hollow silica particles: fluorinated compound: Initiator) was diluted in MIBK (methyl isobutyl ketone) as a solvent to prepare a coating solution.

실시예 1.Example 1.

두께가 대략 60 μm 정도인 TAC(Triacetyl cellulose) 필름(효성社제, PG601F)상에 내적화층(공극 함유층)을 형성하였다. 내적화층은, 제조예 3의 내적화층(A) 재료를 Mayer bar로 코팅하고, 60℃ 정도에서 1분 정도 건조한 후에 자외선을 조사(252mJ/cm2)하여 최종 두께가 약 450 nm 정도가 되도록 형성하였다.An internalization layer (pore-containing layer) was formed on a TAC (Triacetyl cellulose) film (manufactured by Hyosung, PG601F) having a thickness of about 60 μm. The fire resistant layer was formed by coating the material of the fire resistant layer (A) of Preparation Example 3 with Mayer bar, drying at about 60° C. for about 1 minute, and irradiating with ultraviolet rays (252 mJ/cm 2 ) to have a final thickness of about 450 nm. I did.

실시예 2.Example 2.

제조예 4의 코팅 용액을 Mayer bar를 이용하여 실시예 1과 동일한 TAC 필름에 코팅하고, 60℃에서 1분간 건조한 후에 자외선을 조사(252mJ/cm2)하여 최종 두께가 600 nm가 되도록 내적화층을 형성하였다.The coating solution of Preparation Example 4 was coated on the same TAC film as in Example 1 using a Mayer bar, dried at 60° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays (252 mJ/cm 2 ) to form an internal layer so that the final thickness was 600 nm. Formed.

실시예 3.Example 3.

제조예 5의 코팅 재료를 사용하여 실시예 1과 동일한 방식으로 내적화층(공극 함유층)을 형성하되, 상기 공극 함유층의 최종 두께는 대략 950 nm 정도가 되도록 형성하였다.The coating material of Preparation Example 5 was used to form an anti-corrosion layer (a void-containing layer) in the same manner as in Example 1, but the final thickness of the void-containing layer was formed to be about 950 nm.

실시예 4.Example 4.

공극 함유층의 두께를 300 nm 정도로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 내적화층을 제조하였다.An internalization layer was prepared in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the pore-containing layer was changed to about 300 nm.

실시예 5.Example 5.

공극 함유층의 두께를 400 nm 정도로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 내적화층을 제조하였다.An internalization layer was prepared in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the pore-containing layer was changed to about 400 nm.

실시예 6.Example 6.

제조예 5의 내적화층의 코팅 재료를 적용하여 두께가 약 500nm인 공극 함유층을 형성한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 내적화층을 제조하였다.A fire resistant layer was prepared in the same manner as in Example 1, except that a void-containing layer having a thickness of about 500 nm was formed by applying the coating material of the fire resistant layer of Preparation Example 5.

실시예 7.Example 7.

제조예 4의 내적화층용 코팅 재료를 적용한 것을 제외하고는 실시예 6과 동일하게 내적화층을 제조하였다.An internalization layer was manufactured in the same manner as in Example 6, except that the coating material for the internalization layer of Preparation Example 4 was applied.

실시예 8.Example 8.

제조예 3의 내적화층용 코팅 재료를 적용한 것을 제외하고는 실시예 6과 동일하게 내적화층을 제조하였다.An internalization layer was manufactured in the same manner as in Example 6, except that the coating material for the internalization layer of Preparation Example 3 was applied.

실시예 9 Example 9

제조예 6의 재료를 적용하여 두께가 약 3000nm인 공극 함유층을 형성한 것을 제외하고는 실시예 6과 동일하게 내적화층을 제조하였다.The internalization layer was manufactured in the same manner as in Example 6, except that the material of Preparation Example 6 was applied to form a void-containing layer having a thickness of about 3000 nm.

상기 각각의 실시예에서 형성된 내적화층의 특성을 하기 표 1에 정리하여 기재하였다. 하기 표 1에서 기재하는 표면적 비율(Surface Area Ratio)는, 공극 함유층의 TAC 필름과 접하는 면과 반대측 표면에 대한 결과이다.The properties of the internalization layer formed in each of the above examples are summarized and described in Table 1 below. The surface area ratio shown in Table 1 below is a result of the surface of the void-containing layer in contact with the TAC film and the surface on the opposite side.

내적화층Inner layer Cauchy Parameter 계수Cauchy Parameter coefficient IR 반사율(%)IR reflectance (%) 산란벡터(nm-1)Scattering vector (nm -1 ) 상대 비율(%): Relative Ratio (%): 표면적 비율(Surface Area Ratio)Surface Area Ratio AA BB CC

room
city
Yes
1One 1.3311.331 0.002870.00287 0.0001010.000101 3.343.34 0.1320.132 60%60% 0.1480.148
22 1.3351.335 0.003630.00363 0.0002440.000244 3.763.76 0.1280.128 62%62% 0.03590.0359 33 1.3321.332 00 0.0003470.000347 2.712.71 0.130.13 63%63% 0.1090.109 44 1.3331.333 0.0004850.000485 0.000259790.00025979 3.513.51 0.1220.122 64%64% 0.07150.0715 55 1.3321.332 0.001720.00172 0.0003010.000301 3.43.4 0.1230.123 60%60% 0.16430.1643 66 1.4531.453 0.003190.00319 0.0003390.000339 4.44.4 0.10.1 67%67% 0.22070.2207 77 1.4011.401 0.004850.00485 0.0000259790.000025979 3.583.58 0.1260.126 67%67% 0.03870.0387 88 1.3151.315 0.0002580.000258 0.00001340.0000134 2.852.85 0.1410.141 60%60% 0.05130.0513 99 1.4891.489 0.0001040.000104 0.00008040.0000804 4.14.1 0.1840.184 -- -- IR 반사율: 적외선 반사율
산란 벡터: 소각 X선 산란의 산란 강도의 log값 그래프에서 피크가 확인되는 산란 벡터
상대 비율: TAC 필름/내적화층(공극 함유층) 적층체의 열확산도(HL)의 TAC 필름 열확산도(HP) 대비 비율(100×HL/HP)
IR reflectance: infrared reflectance
Scattering Vector: Scattering vector in which a peak is confirmed in the logarithmic graph of the scattering intensity of small-angle X-ray scattering
Relative ratio: The ratio of the thermal diffusivity (H L ) of the TAC film/internalization layer (pore-containing layer) laminate to the thermal diffusivity (H P ) of the TAC film (100×H L /H P )

실시예 10.Example 10.

제조예 1에서 얻어진 편광층(A)에 일반적인 광학용 수계 접착제층(두께: 100nm)을 적용하여 보호 필름으로서 두께가 대략 30 μm 정도인 COP(Cycloolefin Polymer) 필름(제조사: Zeon)을 부착하였다. 상기 제조한 COP 필름과 편광층(B)의 적층체의 편광층(B)에 실시예 1의 내적화층의 공극 함유층을 상기와 동일한 수계 접착제(두께: 100nm)로 부착하였다. 상기 부착 시에는 공극 함유층의 상기 표 1에 기재된 표면적 비율을 가지는 부분을 상기 편광층에 부착하였다. 이어서 편광판의 하부에 아크릴계 점착제층을 형성하여 보호필름(COP 필름), 접착제층, 편광층, 접착제층, 내적화층(공극 함유층), 보호 필름(TAC 필름) 및 점착제층이 순차 적층된 구조의 편광판(광학 적층체)을 제조하였다.A general optical water-based adhesive layer (thickness: 100 nm) was applied to the polarizing layer (A) obtained in Preparation Example 1 to attach a COP (Cycloolefin Polymer) film (manufacturer: Zeon) having a thickness of about 30 μm as a protective film. To the polarizing layer (B) of the laminate of the prepared COP film and the polarizing layer (B), the void-containing layer of the internalization layer of Example 1 was attached with the same water-based adhesive (thickness: 100 nm) as described above. At the time of attachment, a portion of the void-containing layer having a surface area ratio described in Table 1 was attached to the polarizing layer. Subsequently, an acrylic adhesive layer was formed under the polarizing plate, and a protective film (COP film), an adhesive layer, a polarizing layer, an adhesive layer, an anti-corrosion layer (a void-containing layer), a protective film (TAC film), and an adhesive layer were sequentially stacked (Optical laminate) was prepared.

실시예 11.Example 11.

실시예 2에서 제조한 내적화층을 적용한 것을 제외하고는 실시예 10과 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 10, except that the internalization layer prepared in Example 2 was applied.

실시예 12.Example 12.

실시예 3에서 제조한 내적화층을 적용한 것을 제외하고는 실시예 10과 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 10, except that the internalization layer prepared in Example 3 was applied.

비교예 1.Comparative Example 1.

내적화층을 적용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 10과 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 10, except that the internalization layer was not applied.

실시예 13.Example 13.

실시예 4에서 제조한 내적화층을 적용한 것을 제외하고는 실시예 10과 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 10, except that the internalization layer prepared in Example 4 was applied.

실시예 14.Example 14.

실시예 5에서 제조한 내적화층을 적용한 것을 제외하고는 실시예 10과 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 10, except that the internalization layer prepared in Example 5 was applied.

비교예 2.Comparative Example 2.

내적화층을 적용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 13과 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 13, except that the internalization layer was not applied.

실시예 15.Example 15.

실시예 6에서 제조한 내적화층을 적용한 것을 제외하고는 실시예 10과 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 10, except that the internalization layer prepared in Example 6 was applied.

실시예 16.Example 16.

실시예 7에서 제조한 내적화층을 적용한 것을 제외하고는 실시예 15와 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 15, except that the internalization layer prepared in Example 7 was applied.

실시예 17.Example 17.

실시예 8에서 제조한 내적화층을 적용한 것을 제외하고는 실시예 15와 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 15, except that the internalization layer prepared in Example 8 was applied.

실시예 18 Example 18

실시예 9에서 제조한 내적화층을 적용한 것을 제외하고는 실시예 15와 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 15, except that the internalization layer prepared in Example 9 was applied.

상기 실시예 및 비교예의 광학 적층체(편광판)에 대해서 내열 테스트를 진행한 후에 단체 투과율 및 색좌표 a*의 변화량을 평가하여 하기 표 2에 정리하여 기재하였다. 상기에서 내열 테스트는, 각 실시예 또는 비교예에서 제조된 편광판의 상면과 하면의 전면을 두께가 약 1.1mm 정도인 소다 라임 유리(세원 테크社)과 접촉시켜 라미네이트한 후에 105℃에서 250 시간 유지하여 수행하였다. 또한, 육안으로 적화 현상이 확인되는지 여부를 관찰하여 확인되는 경우에 NG, 확인되지 않는 경우에 PASS로 하기 표 2에 정리하여 기재하였다(하기 표 2에서 투과율의 단위는 %이다).The optical laminates (polarizing plates) of the above Examples and Comparative Examples were subjected to a heat resistance test, and then the single transmittance and the amount of change in the color coordinate a* were evaluated and summarized in Table 2 below. In the heat resistance test, the top and bottom surfaces of the polarizing plates manufactured in each Example or Comparative Example were laminated by contacting soda lime glass (Sewon Tech Co., Ltd.) having a thickness of about 1.1 mm, and maintained at 105° C. for 250 hours Was carried out. In addition, it is summarized and described in Table 2 below as NG when it is confirmed by observing whether or not redness is observed with the naked eye, and PASS when it is not confirmed (in Table 2 below, the unit of transmittance is %).

초기Early 105℃에서 250시간 유지Maintain 250 hours at 105℃ 투과율Transmittance a*a* 투과율Transmittance a*a* 육안Visually 투과율
변화량
Transmittance
Change
a*
변화량
a*
Change


room
city
Yes
1010 41.341.3 -1.47-1.47 4040 -0.87-0.87 PASSPASS -1.3-1.3 0.60.6
1111 41.541.5 -2.05-2.05 40.640.6 -1.95-1.95 PASSPASS -0.9-0.9 0.10.1 1212 41.341.3 -1.66-1.66 40.540.5 -1.56-1.56 PASSPASS -0.8-0.8 0.10.1 1313 41.541.5 -3.1-3.1 41.241.2 -1.9-1.9 PASSPASS -0.3-0.3 1.21.2 1414 41.641.6 -3.4-3.4 40.640.6 -2.4-2.4 PASSPASS -1-One 1One 1515 41.441.4 -1.88-1.88 41.841.8 -2-2 PASSPASS 0.40.4 -0.12-0.12 1616 41.141.1 -2.01-2.01 41.541.5 -2.03-2.03 PASSPASS 0.40.4 -0.02-0.02 1717 40.740.7 -1.93-1.93 41.941.9 -2.08-2.08 PASSPASS 1.21.2 -0.15-0.15 1818 41.341.3 -1.94-1.94 4242 -2.14-2.14 PASSPASS 0.70.7 -0.2-0.2 비교
compare
Yes
1One 41.841.8 -1.8-1.8 31.831.8 22 NGNG -10-10 3.83.8
22 41.341.3 -3.4-3.4 31.331.3 -3.2-3.2 NGNG -10-10 6.66.6

Claims (13)

원자 힘 현미경으로 측정한 표면적 비율이 0.02 이상인 표면을 적어도 하나 포함하는 공극 함유층을 가지는 내적화층.An anti-corrosion layer having a pore-containing layer including at least one surface having a surface area ratio of 0.02 or more as measured by an atomic force microscope. 제 1 항에 있어서, 공극 함유층은, 소각 X선 산란의 산란 강도의 log값 그래프에서 0.06 내지 0.209 nm-1의 산란 벡터의 범위 내에서 적어도 하나의 피크를 나타내는 내적화층.The internally integrated layer according to claim 1, wherein the void-containing layer exhibits at least one peak within a range of a scattering vector of 0.06 to 0.209 nm -1 in a log value graph of the scattering intensity of small-angle X-ray scattering. 제 1 항에 있어서, 공극 함유층은, 800 nm 내지 1300 nm의 파장에 대한 반사율이 2% 이상인 내적화층.The anti-corrosion layer according to claim 1, wherein the void-containing layer has a reflectance of 2% or more for a wavelength of 800 nm to 1300 nm. 제 1 항에 있어서, 공극 함유층의 공극의 직경은 0.5 내지 100 nm의 범위 내에 있는 내적화층.The internalization layer according to claim 1, wherein the diameter of the pores of the pore-containing layer is in the range of 0.5 to 100 nm. 제 1 항에 있어서, 공극 함유층은 하기 수식 6을 만족하는 A값이 1.5 이하이고, B값이 0 내지 0.01의 범위 내이며, C값이 0 내지 0.001의 범위 내인 내적화층:
[수식 6]
Figure pat00007

수식 6에서 n(λ)는 파장 λ에서의 상기 내적화층의 굴절률이고, λ는 300 내지 1800 nm의 범위 내의 어느 한 파장이다.
The anti-corrosion layer according to claim 1, wherein the void-containing layer has an A value of 1.5 or less, a B value of 0 to 0.01, and a C value of 0 to 0.001 satisfying Equation 6 below:
[Equation 6]
Figure pat00007

In Equation 6, n(λ) is the refractive index of the internal integration layer at the wavelength λ, and λ is any one wavelength in the range of 300 to 1800 nm.
제 1 항에 있어서, 공극 함유층은 공극의 부피 분율이 0.1 이상인 내적화층.The internalization layer according to claim 1, wherein the pore-containing layer has a volume fraction of the pores of 0.1 or more. 제 1 항에 있어서, 공극 함유층은, 바인더 및 중공 입자를 포함하는 내적화층.The internalization layer according to claim 1, wherein the void-containing layer contains a binder and hollow particles. 제 7 항에 있어서, 중공 입자는 입도 분포의 중량 누적 곡선에서 D10 입경, D50 입경 및 D90 입경이 각각 25nm 내지 50 nm, 50nm 내지 95 nm 및 100nm 내지 200 nm의 범위 내에 있는 내적화층.The internal layer of claim 7, wherein the hollow particles have a D10 particle diameter, a D50 particle diameter, and a D90 particle diameter in the range of 25 nm to 50 nm, 50 nm to 95 nm, and 100 nm to 200 nm, respectively, in the weight accumulation curve of the particle size distribution. 제 7 항에 있어서, 공극 함유층은 5 중량% 이상의 중공 입자를 포함하는 내적화층.8. The internalization layer according to claim 7, wherein the pore-containing layer comprises at least 5% by weight of hollow particles. 제 1 항에 있어서, 공극 함유층은 두께가 200 nm 이상인 내적화층.The internalization layer according to claim 1, wherein the pore-containing layer has a thickness of 200 nm or more. 광학 기능층; 및 상기 광학 기능층의 적어도 일면에 형성되어 있는 제 1 항의 내적화층을 포함하는 광학 적층체.Optical functional layer; And the internal integration layer of claim 1 formed on at least one surface of the optical functional layer. 제 11 항에 있어서, 내적화층이 광학 기능층에 부착되어 있고, 상기 내적화층의 공극 함유층의 원자 힘 현미경으로 측정한 표면적 비율이 0.02 이상인 표면이 상기 광학 기능층을 향하는 표면인 광학 적층체.The optical layered product according to claim 11, wherein the internalization layer is attached to the optical functional layer, and the surface of the pore-containing layer of the internalization layer having a surface area ratio of 0.02 or more as measured by an atomic force microscope is a surface facing the optical functional layer. 제 11 항에 있어서, 광학 기능층이 편광층 또는 위상차층인 광학 적층체.The optical laminate according to claim 11, wherein the optical functional layer is a polarizing layer or a retardation layer.
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