KR20210009470A - printed circuit board including interlayer insulating layer different from another and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

According to one aspect of the present invention, a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials includes: an intermediate insulating layer containing a fiber reinforcement; an upper circuit pattern layer and a lower circuit pattern layer respectively disposed on the upper and lower surfaces of the intermediate insulating layer; an upper interlayer insulating layer disposed on the upper surface of the intermediate insulating layer to cover the upper circuit pattern layer and not including a fiber reinforcement; and a lower interlayer insulating layer which is disposed on the lower surface of the intermediate insulating layer to cover the lower circuit pattern layer and does not contain the fiber reinforcement agent.

Description

서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법{printed circuit board including interlayer insulating layer different from another and method of fabricating the same}Printed circuit board including interlayer insulating layer different from another and method of fabricating the same

본 발명은 인쇄회로기판의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a printed circuit board, and more particularly, to a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials and a method of manufacturing the same.

전자산업의 발달에 따라 전자 부품의 고기능화 및 소형화가 가속되고 있다. 이러한 추세의 일환으로, 반도체 칩 및 반도체 패키지를 실장하는 인쇄회로기판의 두께 박형화에 대한 요구도 증가하고 있다. 이에 따라, 종래의 CCL(copper clad laminate)을 코어 절연층으로 이용하여 인쇄회로기판을 제조하는 기술로부터, 최근에는 상기 코어 절연층을 적용하지 않는 코어리스 인쇄회로기판을 제조하는 기술이 연구되고 있다. With the development of the electronics industry, high functionality and miniaturization of electronic components is accelerating. As part of this trend, there is an increasing demand for a thinner thickness of a semiconductor chip and a printed circuit board on which a semiconductor package is mounted. Accordingly, from a technology of manufacturing a printed circuit board using a conventional copper clad laminate (CCL) as a core insulating layer, recently, a technology of manufacturing a coreless printed circuit board without applying the core insulating layer has been studied. .

또한, 최근에는, 절연재로서, 종래의 PPG 또는 CCL 대신에, 에폭시 몰드 화합물(Epoxy mold compound)을 적용하는 기술이 알려지고 있다. 상기 에폭시 몰드 화합물은, 종래의 PPG 또는 CCL과 대비하여, 포토-리소 공정을 통한 미세 회로 패턴 구현에 유리하고, 인쇄회로기판의 두께 감소에 유리한 점이 있다. 다만, 상기 에폭시 몰드 화합물은 경화된 상태로 사용될 때 연성이 부족하여, PPG 또는 CCL과 대비하여 상대적으로 크랙 및 파손에 취약한 문제점이 있을 수 있다.In addition, in recent years, as an insulating material, instead of conventional PPG or CCL, a technique of applying an epoxy mold compound has been known. Compared with the conventional PPG or CCL, the epoxy mold compound is advantageous in realizing a fine circuit pattern through a photo-litho process, and is advantageous in reducing the thickness of a printed circuit board. However, since the epoxy mold compound has insufficient ductility when used in a cured state, there may be a problem that is relatively vulnerable to cracking and breakage compared to PPG or CCL.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 에폭시 몰드 화합물을 포함하는 절연층을 인쇄회로기판에 사용할 때, 크랙 및 파손에 취약한 에폭시 몰드 화합물의 약점을 극복하는 인쇄회로기판의 절연 구조 및 이의 제조 방법을 제공한다.The technical problem to be achieved by the present invention is to provide an insulating structure of a printed circuit board and a method of manufacturing the same, which overcomes the weakness of the epoxy mold compound that is susceptible to cracks and breakage when an insulating layer containing an epoxy mold compound is used for a printed circuit board. do.

일 측면에 따르는 서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판은 섬유 강화제를 포함하는 중간 절연층; 상기 중간 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되는 상부 회로 패턴층 및 하부 회로 패턴층; 상기 중간 절연층의 상기 상면 상에서 상기 상부 회로 패턴층을 덮도록 배치되며, 섬유 강화제를 포함하지 않는 상부 층간 절연층; 및 상기 중간 절연층의 상기 하면 상에서 상기 하부 회로 패턴층을 덮도록 배치되며, 섬유 강화제를 포함하지 않는 하부 층간 절연층을 포함한다.A printed circuit board including an interlayer insulating layer made of different materials according to an aspect may include an intermediate insulating layer including a fiber reinforcement; An upper circuit pattern layer and a lower circuit pattern layer respectively disposed on the upper and lower surfaces of the intermediate insulating layer; An upper interlayer insulating layer disposed on the upper surface of the intermediate insulating layer to cover the upper circuit pattern layer and not including a fiber reinforcement agent; And a lower interlayer insulating layer disposed on the lower surface of the intermediate insulating layer to cover the lower circuit pattern layer and not including a fiber reinforcement agent.

일 측면에 따르는 서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법이 개시된다. 상기 인쇄회로기판의 제조 방법에 있어서, 섬유 강화제를 포함하는 절연층, 및 상기 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되는 제1 및 제2 구리 포일층을 구비하는 캐리어 기판을 준비한다. 상기 제1 구리 포일층 상에 도금법에 의해 제1 회로 패턴층을 형성한다. 상기 제1 회로 패턴층 상에 도금법에 의해 제1 비아를 형성한다. 상기 제1 구리 포일층 상에서 상기 제1 회로 패턴층과 상기 제1 비아를 덮도록 배치되고, 섬유 강화제를 포함하지 않는 제1 층간 절연층을 형성한다. 상기 제1 층간 절연층 상에 도금법에 의해 제2 회로 패턴층을 형성한다. 상기 제1 층간 절연층 상에 상기 제2 회로 패턴층을 덮도록 배치되고, 섬유 강화제를 포함하는 제2 층간 절연층을 형성한다. 상기 제2 층간 절연층을 가공하여, 상기 제2 회로 패턴층을 노출시키는 비아홀을 형성한다. 도금법에 의해 상기 비아홀 내부를 채우는 제2 비아 및 상기 제2 층간 절연층 상에 배치되는 제3 회로 패턴층을 형성한다. 상기 제3 회로 패턴층 상에 도금법에 의해 제3 비아를 형성한다. 상기 제2 층간 절연층 상에서 상기 제3 회로 패턴층 및 상기 제3 비아를 덮도록 배치되고, 섬유 강화제를 포함하지 않는 제3 층간 절연층을 형성한다. 상기 캐리어 기판을 상기 제1 회로 패턴층과 분리한다. A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials according to one aspect is disclosed. In the manufacturing method of the printed circuit board, a carrier substrate including an insulating layer containing a fiber reinforcement agent, and first and second copper foil layers disposed on upper and lower surfaces of the insulating layer, respectively, is prepared. A first circuit pattern layer is formed on the first copper foil layer by a plating method. A first via is formed on the first circuit pattern layer by a plating method. A first interlayer insulating layer is formed on the first copper foil layer to cover the first circuit pattern layer and the first via, and does not include a fiber reinforcement agent. A second circuit pattern layer is formed on the first interlayer insulating layer by a plating method. A second interlayer insulating layer is formed on the first interlayer insulating layer so as to cover the second circuit pattern layer and includes a fiber reinforcement agent. The second interlayer insulating layer is processed to form a via hole exposing the second circuit pattern layer. A second via filling the inside of the via hole and a third circuit pattern layer disposed on the second interlayer insulating layer are formed by plating. A third via is formed on the third circuit pattern layer by a plating method. A third interlayer insulating layer is formed on the second interlayer insulating layer to cover the third circuit pattern layer and the third via, and does not include a fiber reinforcement agent. The carrier substrate is separated from the first circuit pattern layer.

일 측면에 따르는 서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법이 개시된다. 상기 인쇄회로기판의 제조 방법에 있어서, 섬유 강화제를 포함하는 코어 절연층, 및 상기 코어 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되는 제1 및 제2 구리 포일층을 구비하는 코어 기판을 준비한다. 상기 코어 기판을 가공하여 관통 비아홀을 형성한다. 상기 관통 비아홀을 채우는 관통 비아 및 상기 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되는 제1 회로 패턴층 및 제2 회로 패턴층을, 도금법에 의해 형성한다. 상기 제1 회로 패턴층 상에 도금법에 의해 제1 비아를 형성한다. 상기 제2 회로 패턴층 상에 도금법에 의해 제2 비아를 형성한다. 상기 코어 절연층의 상면 상에서 상기 제1 회로 패턴층과 상기 제1 비아를 덮도록 배치되고, 섬유 강화제를 포함하지 않는 제1 층간 절연층을 형성한다. 상기 코어 절연층의 하면 상에서 상기 제2 회로 패턴층과 상기 제2 비아를 덮도록 배치되고, 섬유 강화제를 포함하지 않는 제2 층간 절연층을 형성한다. A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials according to one aspect is disclosed. In the manufacturing method of the printed circuit board, a core substrate including a core insulating layer containing a fiber reinforcement agent, and first and second copper foil layers disposed on upper and lower surfaces of the core insulating layer, respectively, is prepared. The core substrate is processed to form a through via hole. A through via filling the through via hole and a first circuit pattern layer and a second circuit pattern layer respectively disposed on upper and lower surfaces of the insulating layer are formed by a plating method. A first via is formed on the first circuit pattern layer by a plating method. A second via is formed on the second circuit pattern layer by a plating method. A first interlayer insulating layer is formed on an upper surface of the core insulating layer to cover the first circuit pattern layer and the first via, and does not contain a fiber reinforcement agent. A second interlayer insulating layer is formed on a lower surface of the core insulating layer to cover the second circuit pattern layer and the second via, and does not include a fiber reinforcement agent.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 인쇄회로기판의 중간 절연층으로서 섬유 강화제를 포함하는 절연재를 적용하고, 상기 중간 절연층의 상부 및 하부에 각각 배치되는 제1 및 제2 층간 절연층에, 섬유 강화제를 포함하지 않는 에폭시 몰드 화합물을 포함하는 절연재를 적용할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, an insulating material including a fiber reinforcement is applied as an intermediate insulating layer of a printed circuit board, and the first and second interlayer insulating layers respectively disposed above and below the intermediate insulating layer are provided with fibers. An insulating material containing an epoxy mold compound that does not contain a reinforcing agent can be applied.

상기 섬유 강화제에 의해 크랙에 대한 저항성이 상대적으로 큰 중간 절연층이, 상부 및 하부의 에폭시 몰드 화합물을 포함하는 제1 및 제2 층간 절연층과 접하도록 구성됨으로써, 상기 크랙을 억제하여 인쇄회로기판의 구조적 신뢰성이 향상될 수 있다. 이에 따라, 포토-리소 공정 및 식각 공정에 의한 패터닝 공정이 가능해지는 등 성형 공정의 자유도가 증가할 수 있는 장점과, 열전도율이 상대적으로 우수한 장점을 가지는 에폭시 몰드 화합물을 제1 및 제2 층간 절연층으로 안정적으로 채용할 수 있는 장점이 있다. By the fiber reinforcing agent, the intermediate insulating layer having a relatively high resistance to cracks is configured to come into contact with the first and second interlayer insulating layers including upper and lower epoxy mold compounds, thereby suppressing the cracks Structural reliability can be improved. Accordingly, an epoxy mold compound having an advantage of increasing the degree of freedom of the molding process, such as enabling a patterning process by a photo-litho process and an etching process, and having relatively excellent thermal conductivity, is used as the first and second insulating layers. It has the advantage of being able to stably employ it.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따르는 인쇄회로기판을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시 예에 따르는 인쇄회로기판을 개략적으로 나타내는 순서도이다.
도 3 내지 도 12는 본 발명의 일 실시 예에 따르는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 13 내지 도 20은 본 발명의 다른 실시 예에 따르는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
2 is a flow chart schematically showing a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.
3 to 12 are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
13 to 20 are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 개시의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명하고자 한다. 그러나 본 개시는 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 전체적으로 도면 설명시 관찰자 시점에서 설명하였고, 일 요소가 다른 요소 위에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 이는 상기 일 요소가 다른 요소 위에 바로 위치하거나 또는 그들 요소들 사이에 추가적인 요소가 개재될 수 있다는 의미를 모두 포함한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present disclosure may be implemented in various different forms and is not limited to the embodiments described herein. In the drawings, in order to clearly express the constituent elements of each device, the size of the constituent elements, such as width or thickness, is slightly enlarged. Overall, it was described at the observer's point of view when explaining the drawings, and if one element is referred to as being positioned on another element, this means that the one element is positioned directly on another element or that an additional element may be interposed between them. Include.

복수의 도면들 상에서 동일 부호는 실질적으로 서로 동일한 요소를 지칭한다. 또, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, '포함하다' 또는 '가지다' 등의 용어는 기술되는 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. The same reference numerals in the plurality of drawings refer to substantially the same elements. In addition, expressions in the singular should be understood as including plural expressions unless clearly defined otherwise in the context, and terms such as'include' or'have' are described features, numbers, steps, actions, components, and parts. It is to be understood that it is intended to designate the existence of a combination of these and not to preclude the possibility of the presence or addition of one or more other features or numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof.

또한, 방법 또는 제조 방법을 수행함에 있어서, 상기 방법을 이루는 각 과정들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 과정들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 경우에 따라 반대의 순서대로 수행되는 경우를 배제하지 않는다. In addition, in performing the method or manufacturing method, each of the processes constituting the method may occur differently from the specified order unless a specific order is clearly stated in the context. That is, each process may occur in the same order as the specified order or may be performed substantially at the same time, and in some cases, the case of performing in the reverse order is not excluded.

이하에서는, 섬유 강화제를 포함하는 절연층 및 섬유 강화제를 포함하지 않는 절연층을 함께 채용하는 인쇄회로기판의 구조 및 제조 방법을 다양한 실시예를 이용하여 설명한다. Hereinafter, a structure and a manufacturing method of a printed circuit board employing an insulating layer including a fiber reinforcement agent and an insulating layer not including a fiber reinforcement agent together will be described using various embodiments.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따르는 인쇄회로기판을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 인쇄회로기판(1)은 코어 절연기판을 구비하지 않느 코어리스(coreless) 인쇄회로기판일 수 있다. 도 1을 참조하면, 인쇄회로기판(1)은 중간 절연층(15), 상부 회로 패턴층(16) 및 하부 회로 패턴층(14), 상부 층간 절연층(17) 및 하부 층간 절연층(13)을 포함한다. 이때, 중간 절연층(15)은 섬유 강화제를 포함하고, 상부 및 하부 층간 절연층(17, 13)은 섬유 강화제를 포함하지 않는다. 이와 같이, 본 발명의 실시 예에서, 상부 및 하부 층간 절연층(17, 13)은, 중간 절연층(15)과는 서로 다른 재질로 이루어질 수 있다. 1 is a schematic cross-sectional view of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention. The printed circuit board 1 may be a coreless printed circuit board that does not have a core insulating board. Referring to FIG. 1, the printed circuit board 1 includes an intermediate insulating layer 15, an upper circuit pattern layer 16 and a lower circuit pattern layer 14, an upper interlayer insulating layer 17, and a lower interlayer insulating layer 13. ). At this time, the intermediate insulating layer 15 contains a fiber reinforcement, and the upper and lower interlayer insulating layers 17 and 13 do not contain a fiber reinforcement. As described above, in an embodiment of the present invention, the upper and lower interlayer insulating layers 17 and 13 may be made of a material different from that of the intermediate insulating layer 15.

도 1을 다시 참조하면, 중간 절연층(15)이 제공된다. 중간 절연층(15)은 레진(15a) 및 섬유 강화제(15b)를 포함할 수 있다. 레진(150a)은 일 예로서, 에폭시(epoxy)를 포함할 수 있다. 섬유 강화제(15b)는 일 예로서, 탄소 섬유 또는 유리 섬유를 포함할 수 있다. 중간 절연층(15)은 필러(filler)를 더 포함할 수 있다. 필러는 일 예로서, 실리카 또는 알루미나를 포함할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 중간 절연층(15)은 프리프레그(prepreg)를 포함할 수 있다. 구체적으로, 중간 절연층(15)은 경화된 프리프레그층일 수 있다.Referring again to FIG. 1, an intermediate insulating layer 15 is provided. The intermediate insulating layer 15 may include a resin 15a and a fiber reinforcement 15b. The resin 150a may include, for example, epoxy. The fiber reinforcement agent 15b may include, for example, carbon fiber or glass fiber. The intermediate insulating layer 15 may further include a filler. The filler may include silica or alumina as an example. In one embodiment, the intermediate insulating layer 15 may include a prepreg. Specifically, the intermediate insulating layer 15 may be a cured prepreg layer.

중간 절연층(15)의 상면에는 상부 회로 패턴층(16)이 배치될 수 있다. 구체적인 실시 예에서, 상부 회로 패턴층(16)은 중간 절연층(15)의 상면(15S1)으로부터 돌출되도록 배치될 수 있다. 상부 회로 패턴층(16)은 일 예로서, 구리 도금층일 수 있다. The upper circuit pattern layer 16 may be disposed on the upper surface of the intermediate insulating layer 15. In a specific embodiment, the upper circuit pattern layer 16 may be disposed to protrude from the upper surface 15S1 of the intermediate insulating layer 15. The upper circuit pattern layer 16 may be, for example, a copper plating layer.

한편, 중간 절연층(15)의 하면(15S2)에는 하부 회로 패턴층(14)이 배치될 수 있다. 구체적인 실시 예에서, 하부 회로 패턴층(14)은 중간 절연층(15)의 하면(15S2)으로부터 중간 절연층(150)의 내부로 매몰된 상태로 배치될 수 있다. 다시 말하면, 중간 절연층(15)은 하부 회로 패턴층(14)을 매립할 수 있다. 하부 회로 패턴층(14)은 각각 일 예로서, 구리 도금층일 수 있다. Meanwhile, the lower circuit pattern layer 14 may be disposed on the lower surface 15S2 of the intermediate insulating layer 15. In a specific embodiment, the lower circuit pattern layer 14 may be disposed in a state buried into the intermediate insulating layer 150 from the lower surface 15S2 of the intermediate insulating layer 15. In other words, the intermediate insulating layer 15 may fill the lower circuit pattern layer 14. Each of the lower circuit pattern layers 14 may be a copper plating layer as an example.

중간 절연층(15)의 내부에는 중간 비아(15v)가 배치될 수 있다. 중간 비아(15v)는 상부 회로 패턴층(16)과 하부 회로 패턴층(14)을 연결할 수 있다. 중간 비아(15v)는 구리 도금층일 수 있다. 한편, 도 1을 참조하면, 중간 비아(15v)의 측면 프로파일은 중간 절연층(15)의 표면, 즉, 상면(15S1)에서 두께 방향에 대해 경사 형태를 가질 수 있다. 일 예로서, 중간 비아(15v)의 상면(15S1) 상에서의 상부 폭(W1)은 하부 회로 패턴층(14) 상에서의 하부 폭(W2)보다 클 수 있다. 상기 측면 프로파일이 경사 형태를 가지는 것은 후술하는 도 3 내지 도 12의 제조 방법에 있어서, 중간 절연층(15)에 대한 비아홀 가공 공정의 특징이 반영된 결과이다. An intermediate via 15v may be disposed inside the intermediate insulating layer 15. The intermediate via 15v may connect the upper circuit pattern layer 16 and the lower circuit pattern layer 14. The intermediate via 15v may be a copper plating layer. Meanwhile, referring to FIG. 1, the side profile of the intermediate via 15v may have a shape inclined with respect to the thickness direction on the surface of the intermediate insulating layer 15, that is, the upper surface 15S1. As an example, the upper width W1 on the upper surface 15S1 of the intermediate via 15v may be larger than the lower width W2 on the lower circuit pattern layer 14. The fact that the side profile has an inclined shape is a result of reflecting characteristics of a via hole processing process for the intermediate insulating layer 15 in the manufacturing methods of FIGS. 3 to 12 to be described later.

상부 회로 패턴층(16) 상에는 상부 비아(16v)가 배치될 수 있다. 상부 비아(16v)는 구리 도금층일 수 있다. 한편, 중간 절연층(15)의 상면(15S1) 상에는 상부 회로 패턴층(16) 및 상부 비아(16v)를 덮도록 배치되는 상부 층간 절연층(17)이 배치될 수 있다. 이 때, 상부 비아(16v)의 측면 프로파일은 중간 비아(15v)의 측면 프로파일과는 달리, 상부 층간 절연층(17)의 표면에서 두께 방향에 대해 실질적으로 수직인 형태를 가질 수 있다. 일 예로서, 상부 비아(16v)의 상부 폭(W3)과 하부 폭(W4)은 실질적으로 동일할 수 있다. 상기 측면 프로파일은 도 3 내지 도 12와 관련하여 후술하는 제조 방법에서 SAP(semi-additive process) 또는 MSAP(modified semi-additive process)의 일 특징이 반영될 결과일 수 있다.An upper via 16v may be disposed on the upper circuit pattern layer 16. The upper via 16v may be a copper plating layer. Meanwhile, an upper interlayer insulating layer 17 disposed to cover the upper circuit pattern layer 16 and the upper via 16v may be disposed on the upper surface 15S1 of the intermediate insulating layer 15. In this case, the side profile of the upper via 16v may have a shape substantially perpendicular to the thickness direction on the surface of the upper interlayer insulating layer 17, unlike the side profile of the intermediate via 15v. As an example, the upper width W3 and the lower width W4 of the upper via 16v may be substantially the same. The side profile may be a result of reflecting a characteristic of a semi-additive process (SAP) or a modified semi-additive process (MSAP) in a manufacturing method described later with reference to FIGS. 3 to 12.

상부 층간 절연층(17)은 레진을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상부 층간 절연층(17)은 에폭시 몰드 화합물을 포함할 수 있다. 또한, 상부 층간 절연층은 필러(filler)를 더 포함할 수 있다. 필러는 일 예로서, 실리카 또는 알루미나를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 상부 층간 절연층(17)은 상기 섬유 강화제를 포함하지 않는다. 상부 층간 절연층(17)이 상기 섬유 강화제를 포함하지 않음으로써, 포토-리소 공정 및 식각 공정에 의한 상부 층간 절연층(17)에 대한 추가 패터닝 공정이 가능할 수 있다. 즉, 도시되지는 않았지만, 포토-리소 공정 및 식각 공정에 의해 상부 층간 절연층(17)에 비아홀을 형성하고, 상기 비아홀을 도금 물질로 채워서 전도성 비아를 추가적으로 형성할 수 있다. 또한, 상부 층간 절연층(17)은 섬유 강화제를 포함하는 절연재보다, 상대적으로 우수한 열전도율을 확보할 수 있다. The upper interlayer insulating layer 17 may include resin. Specifically, the upper interlayer insulating layer 17 may include an epoxy mold compound. In addition, the upper interlayer insulating layer may further include a filler. The filler may include silica or alumina as an example. In an embodiment of the present invention, the upper interlayer insulating layer 17 does not include the fiber reinforcement agent. Since the upper interlayer insulating layer 17 does not include the fiber reinforcing agent, an additional patterning process for the upper interlayer insulating layer 17 by a photo-litho process and an etching process may be performed. That is, although not shown, a via hole may be formed in the upper interlayer insulating layer 17 by a photo-litho process and an etching process, and the via hole may be filled with a plating material to additionally form a conductive via. In addition, the upper interlayer insulating layer 17 can secure a relatively superior thermal conductivity than an insulating material containing a fiber reinforcement.

또한, 하부 회로 패턴층(14) 상에는 하부 비아(12v)가 배치될 수 있다. 하부 비아(12v)는 구리 도금층일 수 있다. 한편, 중간 절연층(15)의 하면(15S2) 상에는 하부 회로 패턴층(14)과 하부 비아(12v)를 덮도록 하부 층간 절연층(13)이 배치될 수 있다. 또한, 하부 층간 절연층(13)에 덮인 상태로 최하부 회로 패턴층(12)이 배치될 수 있다. 최하부 회로 패턴층(12)은 하부 비아(12v)에 의해 하부 회로 패턴층(14)과 연결될 수 있다. 최하부 회로 패턴층(12)은 일 예로서, 구리 도금층일 수 있다. 한편, 하부 비아(12v)의 측면 프로파일은 중간 비아(v15)의 측면 프로파일과는 달리, 하부 층간 절연층(13)의 표면에서 두께 방향에 대해 실질적으로 수직인 형태를 가질 수 있다. 일 예로서, 하부 비아(12v)의 상부 폭(W5)과 하부 폭(W6)은 실질적으로 동일할 수 있다. 상기 측면 프로파일은 도 3 내지 도 12와 관련하여 후술하는 제조 방법에서 SAP(semi-additive process) 또는 MSAP(modified semi-additive process)의 일 특징이 반영될 결과일 수 있다.Further, a lower via 12v may be disposed on the lower circuit pattern layer 14. The lower via 12v may be a copper plating layer. Meanwhile, the lower interlayer insulating layer 13 may be disposed on the lower surface 15S2 of the intermediate insulating layer 15 to cover the lower circuit pattern layer 14 and the lower via 12v. In addition, the lowermost circuit pattern layer 12 may be disposed in a state covered with the lower interlayer insulating layer 13. The lowermost circuit pattern layer 12 may be connected to the lower circuit pattern layer 14 by a lower via 12v. The lowermost circuit pattern layer 12 may be, as an example, a copper plating layer. Meanwhile, unlike the side profile of the intermediate via v15, the side profile of the lower via 12v may have a shape substantially perpendicular to the thickness direction on the surface of the lower interlayer insulating layer 13. As an example, the upper width W5 and the lower width W6 of the lower via 12v may be substantially the same. The side profile may be a result of reflecting a characteristic of a semi-additive process (SAP) or a modified semi-additive process (MSAP) in a manufacturing method described later with reference to FIGS. 3 to 12.

하부 층간 절연층(13)은 레진을 포함할 수 있다. 구체적으로, 하부 층간 절연층(13)은 에폭시 몰드 화합물을 포함할 수 있다. 또한, 하부 층간 절연층은 필러(filler)를 더 포함할 수 있다. 필러는 일 예로서, 실리카 또는 알루미나를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 하부 층간 절연층(13)은 상기 섬유 강화제를 포함하지 않는다. 하부 층간 절연층(13)이 상기 섬유 강화제를 포함하지 않음으로써, 포토-리소 공정 및 식각 공정에 의한 하부 층간 절연층(13)의 패터닝 공정이 가능하여 성형 공정의 자유도가 증가할 수 있다. 또한, 섬유 강화제를 포함하는 절연재보다, 상대적으로 우수한 열전도율을 확보할 수 있다.The lower interlayer insulating layer 13 may include resin. Specifically, the lower interlayer insulating layer 13 may include an epoxy mold compound. In addition, the lower interlayer insulating layer may further include a filler. The filler may include silica or alumina as an example. In an embodiment of the present invention, the lower interlayer insulating layer 13 does not include the fiber reinforcement agent. Since the lower interlayer insulating layer 13 does not include the fiber reinforcing agent, a photo-lithography process and a patterning process of the lower interlayer insulating layer 13 by an etching process are possible, so that the degree of freedom of the forming process can be increased. In addition, it is possible to secure a relatively superior thermal conductivity than an insulating material containing a fiber reinforcement.

도시되지 않은 몇몇 실시 예들에 있어서, 상부 층간 절연층(17)의 일면 상에서 상부 비아(16v)를 선택적으로 덮는 솔더 레지스트 패턴층이 형성될 수 있다. 또한, 하부 층간 절연층(13)의 일면 상에서, 최하부 회로 패턴층(12)을 선택적으로 덮는 솔더 레지스트 패턴층이 형성될 수 있다. 상기 솔더 레지스트 패턴층들에 의해 노출되는 상부 비아(16v) 및 최하부 회로 패턴층(12)은 다른 소자칩, 패키지, 또는 인쇄회로기판 등과의 전기적 연결을 위한 접속 패드로 기능할 수 있다.In some embodiments not shown, a solder resist pattern layer may be formed on one surface of the upper interlayer insulating layer 17 to selectively cover the upper via 16v. In addition, a solder resist pattern layer selectively covering the lowermost circuit pattern layer 12 may be formed on one surface of the lower interlayer insulating layer 13. The upper via 16v and the lowermost circuit pattern layer 12 exposed by the solder resist pattern layers may function as connection pads for electrical connection to other device chips, packages, or printed circuit boards.

도 2는 본 발명의 다른 실시 예에 따르는 인쇄회로기판(2)을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 인쇄회로기판(2)은 코어 절연층을 구비하는 코어(core) 인쇄회로기판일 수 있다. 도 2를 참조하면, 인쇄회로기판(2)은 중간 절연층(21), 상부 회로 패턴층(22a) 및 하부 회로 패턴층(22b), 상부 층간 절연층(23a) 및 하부 층간 절연층(23b)을 포함한다. 중간 절연층(21)은 상기 코어 절연층일 수 있다. 이때, 중간 절연층(21)은 섬유 강화제를 포함하고, 상부 및 하부 층간 절연층(23a, 23b)은 섬유 강화제를 포함하지 않는다. 이와 같이, 본 발명의 실시 예에서, 상부 및 하부 층간 절연층(23a, 23b)은 중간 절연층(21)과는 서로 다른 재질로 이루어질 수 있다. 2 is a schematic cross-sectional view of a printed circuit board 2 according to another embodiment of the present invention. The printed circuit board 2 may be a core printed circuit board having a core insulating layer. Referring to FIG. 2, the printed circuit board 2 includes an intermediate insulating layer 21, an upper circuit pattern layer 22a and a lower circuit pattern layer 22b, an upper interlayer insulating layer 23a, and a lower interlayer insulating layer 23b. ). The intermediate insulating layer 21 may be the core insulating layer. At this time, the intermediate insulating layer 21 contains a fiber reinforcement, and the upper and lower interlayer insulating layers 23a and 23b do not contain a fiber reinforcement. As described above, in an embodiment of the present invention, the upper and lower interlayer insulating layers 23a and 23b may be made of a material different from that of the intermediate insulating layer 21.

도 2를 다시 참조하면, 중간 절연층(21)이 제공된다. 중간 절연층(21)은 레진(21a) 및 섬유 강화제(21b)를 포함할 수 있다. 레진(21a)은 일 예로서, 에폭시(epoxy)를 포함할 수 있다. 섬유 강화제(21b)는 일 예로서, 탄소 섬유 또는 유리 섬유를 포함할 수 있다. 중간 절연층(21)은 필러(filler)를 더 포함할 수 있다. 필러는 일 예로서, 실리카 또는 알루미나를 포함할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 중간 절연층(21)은 프리프레그(prepreg)를 포함할 수 있다. 구체적으로, 중간 절연층(21)은 경화된 프리프레그층일 수 있다. Referring again to FIG. 2, an intermediate insulating layer 21 is provided. The intermediate insulating layer 21 may include a resin 21a and a fiber reinforcement 21b. The resin 21a may include, as an example, epoxy. The fiber reinforcing agent 21b may include, for example, carbon fiber or glass fiber. The intermediate insulating layer 21 may further include a filler. The filler may include silica or alumina as an example. In an embodiment, the intermediate insulating layer 21 may include a prepreg. Specifically, the intermediate insulating layer 21 may be a cured prepreg layer.

중간 절연층(21)의 상면(21S1)에는 상부 회로 패턴층(22a)이 배치될 수 있다. 마찬가지로, 중간 절연층(21)의 하면(21S2)에는 하부 회로 패턴층(22b)이 배치될 수 있다. 구체적인 실시 예에서, 상부 및 하부 회로 패턴층(22a, 22b)은 중간 절연층(21)의 상면 및 하면으로부터 각각 돌출되도록 배치될 수 있다. 상부 및 하부 회로 패턴층(22a, 22b)은 일 예로서, 구리 도금층일 수 있다. An upper circuit pattern layer 22a may be disposed on the upper surface 21S1 of the intermediate insulating layer 21. Similarly, the lower circuit pattern layer 22b may be disposed on the lower surface 21S2 of the intermediate insulating layer 21. In a specific embodiment, the upper and lower circuit pattern layers 22a and 22b may be disposed to protrude from the upper and lower surfaces of the intermediate insulating layer 21, respectively. The upper and lower circuit pattern layers 22a and 22b may be copper plating layers as an example.

한편, 중간 절연층(21)의 내부에는 중간 비아(21c)가 배치될 수 있다. 중간 비아(21c)는 일 예로서, 구리 도금층일 수 있다. 중간 비아(21c)의 측면 프로파일은 중간 절연층(21)의 양쪽 표면, 즉, 상면(21S1) 및 하면(21S2)으로부터 내부 방향(즉, 두께 방향)에 대해 경사진 형태를 가질 수 있다. 즉, 상면(21S1) 및 하면(21S2) 상에서의 폭(W7, W8)이 중간 절연층(21) 내부의 소정의 지점에서의 폭(W9)보다 클 수 있다.Meanwhile, an intermediate via 21c may be disposed inside the intermediate insulating layer 21. The intermediate via 21c may be, for example, a copper plating layer. The side profile of the intermediate via 21c may have a shape inclined with respect to the inner direction (ie, the thickness direction) from both surfaces of the intermediate insulating layer 21, that is, the upper surface 21S1 and the lower surface 21S2. That is, the widths W7 and W8 on the upper surface 21S1 and the lower surface 21S2 may be larger than the width W9 at a predetermined point inside the intermediate insulating layer 21.

상부 회로 패턴층(22a) 상에는 상부 비아(22c)가 배치될 수 있다. 상부 비아(22c)는 구리 도금층일 수 있다. 한편, 중간 절연층(21)의 상면(21S1) 상에는 상부 회로 패턴층(22a) 및 상부 비아(22c)를 덮는 상부 층간 절연층(23a)이 배치될 수 있다. 마찬가지로, 하부 회로 패턴층(22b) 상에는 하부 비아(22d)가 배치될 수 있다. 하부 비아(22d)는 구리 도금층일 수 있다. 한편, 중간 절연층(21)의 하면(21S2) 상에는 하부 회로 패턴층(22b) 및 하부 비아(22d)를 덮도록 배치되는 하부 층간 절연층(23b)이 배치될 수 있다. 상부 비아(22c) 및 하부 비아(22d)의 측면 프로파일은 각각 상부 및 하부 층간 절연층(23a, 23b)의 표면에서 내부 방향(즉, 두께 방향)으로 실질적으로 수직인 형태를 가질 수 있다. 상기 측면 프로파일은 도 13 내지 도 19와 관련하여 상술한 인쇄회로기판의 제조 방법에서 SAP(semi-additive process) 또는 MSAP(modified semi-additive process)의 일 특징이 반영될 결과일 수 있다.An upper via 22c may be disposed on the upper circuit pattern layer 22a. The upper via 22c may be a copper plating layer. Meanwhile, an upper interlayer insulating layer 23a covering the upper circuit pattern layer 22a and the upper via 22c may be disposed on the upper surface 21S1 of the intermediate insulating layer 21. Likewise, a lower via 22d may be disposed on the lower circuit pattern layer 22b. The lower via 22d may be a copper plating layer. Meanwhile, a lower interlayer insulating layer 23b disposed to cover the lower circuit pattern layer 22b and the lower via 22d may be disposed on the lower surface 21S2 of the intermediate insulating layer 21. The side profiles of the upper via 22c and the lower via 22d may have a shape substantially perpendicular to the inner direction (ie, the thickness direction) on the surfaces of the upper and lower interlayer insulating layers 23a and 23b, respectively. The side profile may be a result of reflecting a characteristic of a semi-additive process (SAP) or a modified semi-additive process (MSAP) in the method for manufacturing a printed circuit board described above with reference to FIGS. 13 to 19.

상부 및 하부 층간 절연층(23a, 23b)은 레진을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상부 및 하부 층간 절연층(23a, 23b)은 에폭시 몰드 화합물을 포함할 수 있다. 또한, 상부 및 하부 층간 절연층(23a, 23b)은 필러(filler)를 더 포함할 수 있다. 상기 필러는 일 예로서, 실리카 또는 알루미나를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시 예에서, 상부 및 하부 층간 절연층(23a, 23b)은 상기 섬유 강화제를 포함하지 않는다. 상부 및 하부 층간 절연층(23a, 23b)이 상기 섬유 강화제를 포함하지 않음으로써, 포토-리소 공정 및 식각 공정에 의한 상부 및 하부 층간 절연층(23a, 23b)의 패터닝 공정이 추가적으로 가능해짐으로써, 공정 자유도가 증가할 수 있다. 또한, 섬유 강화제를 포함하는 절연재보다, 상대적으로 우수한 열전도율을 확보할 수 있다. The upper and lower interlayer insulating layers 23a and 23b may include resin. Specifically, the upper and lower interlayer insulating layers 23a and 23b may include an epoxy mold compound. In addition, the upper and lower interlayer insulating layers 23a and 23b may further include a filler. As an example, the filler may include silica or alumina. In an embodiment of the present invention, the upper and lower interlayer insulating layers 23a and 23b do not contain the fiber reinforcement. Since the upper and lower interlayer insulating layers 23a and 23b do not contain the fiber reinforcing agent, the patterning process of the upper and lower interlayer insulating layers 23a and 23b by a photo-litho process and an etching process is additionally possible. Process freedom can be increased. In addition, it is possible to secure a relatively superior thermal conductivity than an insulating material containing a fiber reinforcement.

도 2를 다시 참조하면, 상부 층간 절연층(23a) 상에 최상부 회로 패턴층(24)이 배치될 수 있다. 최상부 회로 패턴층(24)은 일 예로서, 구리 도금층일 수 있다. 최상부 회로 패턴층(24)은 상부 비아(22c)를 통하여, 상부 회로 패턴층(22a)와 연결될 수 있다.Referring again to FIG. 2, the uppermost circuit pattern layer 24 may be disposed on the upper interlayer insulating layer 23a. The uppermost circuit pattern layer 24 may be, for example, a copper plating layer. The uppermost circuit pattern layer 24 may be connected to the upper circuit pattern layer 22a through the upper via 22c.

도시되지 않은 몇몇 실시 예들에 있어서, 상부 층간 절연층(23a) 상에서 최상부 회로 패턴층(24)을 선택적으로 덮는 솔더 레지스트 패턴층이 배치될 수 있다. 또한, 하부 층간 절연층(23b) 상에서 하부 비아(22d)를 선택적으로 덮는 솔더 레지스트 패턴층이 배치될 수 있다. 상기 솔더 레지스트 패턴층들에 의해 노출되는 최상부 회로 패턴층(24) 및 하부 비아(22d)는 다른 소자칩, 패키지, 또는 인쇄회로기판 등과의 전기적 연결을 위한 접속 패드로 기능할 수 있다.In some embodiments not shown, a solder resist pattern layer selectively covering the uppermost circuit pattern layer 24 may be disposed on the upper interlayer insulating layer 23a. In addition, a solder resist pattern layer may be disposed on the lower interlayer insulating layer 23b to selectively cover the lower via 22d. The uppermost circuit pattern layer 24 and the lower via 22d exposed by the solder resist pattern layers may function as connection pads for electrical connection to other device chips, packages, or printed circuit boards.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따르면, 인쇄회로기판은 중간 절연층, 및 상기 중간 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되는 상부 층간 절연층 및 하부 층간 절연층을 포함한다. 섬유 강화제에 의해 크랙에 대한 저항성이 상대적으로 큰 중간 절연층이, 에폭시 몰드 화합물을 포함하는 상기 상부 및 하부 층간 절연층과 접하도록 구성됨으로써, 상기 크랙을 억제하여 인쇄회로기판의 구조적 신뢰성이 향상될 수 있다. 이에 따라, 포토-리소 공정 및 식각 공정에 의한 패터닝 공정이 가능해지는 등 성형 공정의 자유도가 증가할 수 있는 장점과, 열전도율이 상대적으로 우수한 장점을 가지는 에폭시 몰드 화합물을 상기 상부 및 하부 층간 절연층으로 안정적으로 채용할 수 있는 장점이 있다. As described above, according to an embodiment of the present invention, the printed circuit board includes an intermediate insulating layer, and an upper interlayer insulating layer and a lower interlayer insulating layer respectively disposed on upper and lower surfaces of the intermediate insulating layer. The intermediate insulating layer having a relatively high resistance to cracks by the fiber reinforcement agent is configured to contact the upper and lower interlayer insulating layers containing an epoxy mold compound, thereby suppressing the cracks and improving the structural reliability of the printed circuit board. I can. Accordingly, an epoxy mold compound having an advantage of increasing the degree of freedom of the molding process, such as enabling a patterning process by a photo-litho process and an etching process, and having relatively excellent thermal conductivity, as the upper and lower interlayer insulating layers. It has the advantage of being able to employ it stably.

도 3 내지 도 12는 본 발명의 일 실시 예에 따르는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 본 인쇄회로기판의 제조 방법은, 도 1과 관련하여 상술한 인쇄회로기판(1)의 제조 방법에 적용될 수 있다.3 to 12 are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention. This method of manufacturing a printed circuit board can be applied to the method of manufacturing the printed circuit board 1 described above with respect to FIG. 1.

도 3을 참조하면, 캐리어 기판(100)을 준비한다. 캐리어 기판(100)은 절연층(110) 및 절연층(110)의 상면 및 하면에 각각 배치되는 제1 및 제2 구리 포일층(112a, 112b)을 구비한다. 이때, 절연층(110)은 섬유 강화제를 포함할 수 있다. 상기 섬유 강화제는 탄소 섬유 또는 유리 섬유를 포함할 수 있다. 구체적으로, 절연층(110)은 레진, 섬유 강화제, 및 필러를 포함할 수 있다. 상기 필러는 실리카 또는 알루미나를 포함할 수 있다. 절연층(110)은 일 예로서, 프리프레그를 포함할 수 있다. 절연층(110)은 일 예로서, 구리 적층 기판(CCL)일 수 있다.Referring to FIG. 3, a carrier substrate 100 is prepared. The carrier substrate 100 includes an insulating layer 110 and first and second copper foil layers 112a and 112b disposed on upper and lower surfaces of the insulating layer 110, respectively. In this case, the insulating layer 110 may include a fiber reinforcement. The fiber reinforcement may include carbon fiber or glass fiber. Specifically, the insulating layer 110 may include a resin, a fiber reinforcement, and a filler. The filler may include silica or alumina. As an example, the insulating layer 110 may include a prepreg. The insulating layer 110 may be, for example, a copper laminated substrate CCL.

도 4를 참조하면, 제1 구리 포일층(112a) 상에 도금법에 의해 제1 회로 패턴층(120)을 형성한다. 제1 회로 패턴층(120)은 구리 도금층일 수 있다. 이때, 제1 구리 포일층(112a)은 도금 시드층으로 기능할 수 있다. 상기 도금법은 일 예로서, SAP(semi-additive process) 또는 MSAP(modified semi-additive process)를 적용할 수 있다. Referring to FIG. 4, a first circuit pattern layer 120 is formed on the first copper foil layer 112a by plating. The first circuit pattern layer 120 may be a copper plating layer. In this case, the first copper foil layer 112a may function as a plating seed layer. As an example, the plating method may apply a semi-additive process (SAP) or a modified semi-additive process (MSAP).

도 5를 참조하면, 제1 회로 패턴층(120) 상에 도금법에 의해 제1 비아(125)를 형성한다. 제1 비아(125)는 구리 도금층일 수 있다. 상기 도금법은 일 예로서, SAP(semi-additive process) 또는 MSAP(modified semi-additive process)를 적용할 수 있다. 제1 비아(125)는 측면 프로파일이 제1 회로 패턴층(120)의 표면에 대하여 실질적으로 수직인 형태를 가지도록 형성될 수 있다. 이러한 측면 프로파일은 상기 SAP 또는 MSAP법을 이용하는 도금 공정의 특징에 의해 발생할 수 있다. 즉, 제1 비아(125)가 형성될 곳에 홀 타입의 감광 패턴을 형성하고, 상기 홀 내부를 도금 물질로 채우는 공정을 수행함으로써, 제1 비아(125)를 형성할 수 있다. 이때, 감광 패턴의 홀의 측면 프로파일은 제1 회로 패턴층(120)에 대해 실질적으로 수직인 형태를 가질 수 있다. 제1 비아(125)가 형성된 후에, 상기 홀 타입의 감광 패턴은 제거될 수 있다.Referring to FIG. 5, the first via 125 is formed on the first circuit pattern layer 120 by a plating method. The first via 125 may be a copper plating layer. As an example, the plating method may apply a semi-additive process (SAP) or a modified semi-additive process (MSAP). The first via 125 may be formed such that the side profile has a shape substantially perpendicular to the surface of the first circuit pattern layer 120. This side profile may be caused by the characteristics of the plating process using the SAP or MSAP method. That is, the first via 125 may be formed by forming a photosensitive pattern of a hole type where the first via 125 is to be formed and filling the hole with a plating material. In this case, the side profile of the hole of the photosensitive pattern may have a shape substantially perpendicular to the first circuit pattern layer 120. After the first via 125 is formed, the hole-type photosensitive pattern may be removed.

도 6 및 도 7을 참조하면, 제1 구리 포일층(112a) 상에서 제1 회로 패턴층(120)과 제1 비아(125)를 덮는 제1 층간 절연층(130)을 형성한다. 이 때, 제1 층간 절연층(130)은 섬유 강화제를 포함하지 않는다. 또한, 제1 층간 절연층(130)은 에폭시 몰드 화합물을 포함할 수 있다. 한편, 제1 층간 절연층(130)은 에폭시 몰드 화합물 외에 무기질 필러를 더 포함할 수 있다. 상기 무기질 필러는 실리카 또는 알루미나를 포함할 수 있다.6 and 7, a first interlayer insulating layer 130 covering the first circuit pattern layer 120 and the first via 125 is formed on the first copper foil layer 112a. In this case, the first interlayer insulating layer 130 does not contain a fiber reinforcement. In addition, the first interlayer insulating layer 130 may include an epoxy mold compound. Meanwhile, the first interlayer insulating layer 130 may further include an inorganic filler in addition to the epoxy mold compound. The inorganic filler may include silica or alumina.

한편, 제1 층간 절연층(130)을 형성하는 과정은 구체적으로 다음과 같은 단계를 따를 수 있다. 먼저, 불완전 경화된 에폭시 성분의 절연재를 준비한다. 이어서, 상기 절연재를 압력과 열을 이용하여, 제1 구리 포일층(112a)에 프레스한다. 그 결과, 도 6에 도시되는 것과 같이, 에폭시 몰드 화합물을 포함하는 상기 절연재가 경화된 형태로 제1 회로 패턴층(120)과 제1 비아(125)를 덮도록 형성될 수 있다. 이어서, 도 7에 도시되는 것과 같이, 제1 비아(125)의 상면과 상기 절연재의 상면이 동일 평면에 놓이도록, 상기 절연재를 제거하여 평탄화한다. 그 결과, 제1 구리 포일층(112a) 상에 제1 층간 절연층(130)이 형성될 수 있다. 상기 평탄화 공정은 일 예로서, 식각법 또는 화학적 기계적 연마법이 적용될 수 있다. Meanwhile, the process of forming the first interlayer insulating layer 130 may specifically follow the following steps. First, an incompletely cured epoxy component insulating material is prepared. Then, the insulating material is pressed onto the first copper foil layer 112a using pressure and heat. As a result, as shown in FIG. 6, the insulating material including the epoxy mold compound may be formed to cover the first circuit pattern layer 120 and the first via 125 in a cured form. Subsequently, as shown in FIG. 7, the insulating material is removed and flattened so that the top surface of the first via 125 and the top surface of the insulating material lie on the same plane. As a result, the first interlayer insulating layer 130 may be formed on the first copper foil layer 112a. As an example, the planarization process may include an etching method or a chemical mechanical polishing method.

도 8을 참조하면, 제1 층간 절연층(130) 상에 도금법에 의해 제2 회로 패턴층(140)을 형성한다. 이때, 제2 회로 패턴층(140) 중 일부분은 제1 비아(125)와 연결될 수 있다. 상기 도금법은 일 예로서, SAP 또는 MSAP를 적용할 수 있다.Referring to FIG. 8, a second circuit pattern layer 140 is formed on the first interlayer insulating layer 130 by plating. In this case, a portion of the second circuit pattern layer 140 may be connected to the first via 125. As an example, the plating method may apply SAP or MSAP.

도 9를 참조하면, 제1 층간 절연층(130) 상에서 제2 회로 패턴층(140)을 덮도록 배치되는 제2 층간 절연층(150)을 형성한다. 이때, 제2 층간 절연층(150)은 섬유 강화제를 포함한다. 이어서, 제2 층간 절연층(150)을 가공하여, 제2 회로 패턴층(140)을 노출시키는 비아홀(10)을 형성한다. 구체적으로, 상기 섬유 강화제는 탄소 섬유 또는 유리 섬유를 포함할 수 있다. 제2 층간 절연층(150)은 일 예로서, 프리프레그를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 9, a second interlayer insulating layer 150 disposed on the first interlayer insulating layer 130 to cover the second circuit pattern layer 140 is formed. At this time, the second interlayer insulating layer 150 includes a fiber reinforcement. Subsequently, the second interlayer insulating layer 150 is processed to form a via hole 10 exposing the second circuit pattern layer 140. Specifically, the fiber reinforcement agent may include carbon fiber or glass fiber. The second interlayer insulating layer 150 may include, for example, a prepreg.

일 실시 예에 있어서, 도 9에 도시되는 구조물을 형성하는 방법은 다음과 같이 진행될 수 있다. 먼저, 비 경화 상태인 레진(150a) 및 섬유 강화제(150b)를 를 포함하는 절연재(150)를 준비한다. 이때, 절연재(150)의 일면 상에는 구리 포일층(151)이 추가적으로 배치될 수 있다. 이어서, 구리 포일층(151) 및 절연재(150)를 압력과 열을 이용하여, 상기 제1 층간 절연층(130)에 프레스한다. 그 결과, 절연재(150)가 경화됨으로써, 제2 층간 절연층(150)으로 변환될 수 있다. 이어서, 구리 포일층(151) 및 제2 층간 절연층(150)을 가공하여 제2 회로 패턴층(140)을 노출시키는 비아홀(10)을 형성할 수 있다. 상기 가공법은 레이저 가공법 또는 기계적 가공법을 적용할 수 있다. 이 때, 비아홀(10)의 측면 프로파일은 제2 층간 절연층(150)의 가공이 시작되는 표면으로부터 내부 방향(즉, 두께 방향)으로 경사 형태를 가질 수 있다. 이러한 경사 형태를 가지는 측면 프로파일은 레이저 가공법 또는 기계적 가공법에 따르는 비아홀 형성의 특징일 수 있다.In an embodiment, the method of forming the structure shown in FIG. 9 may proceed as follows. First, an insulating material 150 including a non-cured resin 150a and a fiber reinforcement 150b is prepared. In this case, a copper foil layer 151 may be additionally disposed on one surface of the insulating material 150. Subsequently, the copper foil layer 151 and the insulating material 150 are pressed onto the first interlayer insulating layer 130 using pressure and heat. As a result, by curing the insulating material 150, it can be converted into the second interlayer insulating layer 150. Subsequently, the copper foil layer 151 and the second interlayer insulating layer 150 may be processed to form a via hole 10 exposing the second circuit pattern layer 140. The processing method may be a laser processing method or a mechanical processing method. In this case, the side profile of the via hole 10 may have an inclined shape in an inward direction (ie, a thickness direction) from a surface where processing of the second interlayer insulating layer 150 starts. The side profile having such an inclined shape may be a characteristic of forming a via hole according to a laser processing method or a mechanical processing method.

도 10을 참조하면, 도금법에 의해 비아홀(10)의 내부를 채우는 제2 비아(155) 및 제2 층간 절연층(150) 상에 배치되는 제3 회로 패턴층(160)을 형성한다. 상기 도금법은 일 예로서, SAP 또는 MSAP를 포함할 수 있다. 상기 도금법을 진행하는 동안, 구리 포일층(151)은 도금 시드층으로 기능할 수 있다. 비아(155) 및 제3 회로 패턴층(160)이 형성된 후에, 제3 회로 패턴층(160) 사이에 위치하는 구리 포일층(151)은 제거될 수 있다. 그 결과, 이웃하는 제3 회로 패턴층(160) 사이에 전기적 단락이 발생하는 것을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 10, a second via 155 filling the inside of the via hole 10 and a third circuit pattern layer 160 disposed on the second interlayer insulating layer 150 are formed by plating. As an example, the plating method may include SAP or MSAP. During the plating method, the copper foil layer 151 may function as a plating seed layer. After the via 155 and the third circuit pattern layer 160 are formed, the copper foil layer 151 positioned between the third circuit pattern layer 160 may be removed. As a result, it is possible to prevent an electrical short from occurring between the neighboring third circuit pattern layers 160.

도 11을 참조하면, 제3 회로 패턴층(160) 상에 도금법에 의해 제3 비아(165)를 형성한다. 상기 도금법은 일 예로서, SAP 또는 MSAP를 포함할 수 있다. 제3 비아(165)는 측면 프로파일이 제3 회로 패턴층(160)의 표면에 대하여 실질적으로 수직인 형태를 가지도록 형성될 수 있다. 이러한 측면 프로파일은 상기 SAP 또는 MSAP법을 이용하는 도금 공정의 특징에 의해 발생할 수 있다. 즉, 제3 비아(165)가 형성될 곳에 홀 타입의 감광 패턴을 형성하고, 상기 홀 내부를 도금 물질로 채우는 공정을 수행함으로써, 제3 비아(165)를 형성할 수 있다. 이때, 상기 감광 패턴의 홀의 측면 프로파일은 제3 회로 패턴층(160)에 대해 실질적으로 수직인 형태를 가질 수 있다.Referring to FIG. 11, a third via 165 is formed on the third circuit pattern layer 160 by a plating method. As an example, the plating method may include SAP or MSAP. The third via 165 may be formed such that the side profile has a shape substantially perpendicular to the surface of the third circuit pattern layer 160. This side profile may be caused by the characteristics of the plating process using the SAP or MSAP method. That is, by forming a photosensitive pattern of a hole type where the third via 165 is to be formed and filling the inside of the hole with a plating material, the third via 165 may be formed. In this case, the side profile of the hole of the photosensitive pattern may have a shape substantially perpendicular to the third circuit pattern layer 160.

도 12를 참조하면, 제2 층간 절연층(150) 상에서 제3 회로 패턴층(160) 및 제3 비아(165)를 덮도록 배치되는 제3 층간 절연층(170)을 형성한다. 제3 층간 절연층(170)은 섬유 강화제를 포함하지 않는다. 구체적으로, 또한, 제3 층간 절연층(170)은 에폭시 몰드 화합물을 포함할 수 있다. 한편, 제3 층간 절연층(170)은 에폭시 몰드 화합물 외에 필러를 더 포함할 수 있다. 상기 필러는 실리카 또는 알루미나를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 12, a third interlayer insulating layer 170 is formed on the second interlayer insulating layer 150 to cover the third circuit pattern layer 160 and the third via 165. The third interlayer insulating layer 170 does not contain a fiber reinforcement. Specifically, the third interlayer insulating layer 170 may include an epoxy mold compound. Meanwhile, the third interlayer insulating layer 170 may further include a filler in addition to the epoxy mold compound. The filler may include silica or alumina.

한편, 제3 층간 절연층(170)을 형성하는 과정은 구체적으로 다음과 같은 단계를 따를 수 있다. 먼저, 불완전 경화된 에폭시 성분의 절연재를 준비한다. 이어서, 상기 절연재를 압력과 열을 이용하여, 제2 층간 절연층(150)에 프레스한다. 그 결과, 도 12에 도시되는 것과 같이, 에폭시 몰드 화합물을 포함하는 상기 절연재가 경화된 경태로 제3 회로 패턴층(160)과 제3 비아(165)를 덮도록 형성될 수 있다. 이어서, 제3 비아(165)의 상면과 상기 절연재의 상면이 동일 평면에 놓이도록, 상기 절연재를 제거하여 평탄화한다. 그 결과, 제2 층간 절연층(150) 상에 제3 층간 절연층(170)이 형성될 수 있다. 상기 평탄화 공정은 일 예로서, 식각법 또는 화학적 기계적 연마법이 적용될 수 있다. Meanwhile, the process of forming the third interlayer insulating layer 170 may specifically follow the following steps. First, an incompletely cured epoxy component insulating material is prepared. Subsequently, the insulating material is pressed onto the second interlayer insulating layer 150 using pressure and heat. As a result, as illustrated in FIG. 12, the insulating material including the epoxy mold compound may be formed to cover the third circuit pattern layer 160 and the third via 165 in a cured state. Subsequently, the insulating material is removed and planarized so that the upper surface of the third via 165 and the upper surface of the insulating material lie on the same plane. As a result, the third interlayer insulating layer 170 may be formed on the second interlayer insulating layer 150. As an example, the planarization process may include an etching method or a chemical mechanical polishing method.

이어서, 캐리어 기판(100)을 제1 회로 패턴층(120)과 분리한다. 구체적으로, 캐리어 기판(100)의 제1 구리 포일층(112a)와 제1 회로 패턴층(120)의 계면을 경계로, 캐리어 기판(100)과 제1 회로 패턴층(120)을 분리할 수 있다. 그 결과, 도 12에 개시되는 인쇄회로기판을 제조할 수 있다. Subsequently, the carrier substrate 100 is separated from the first circuit pattern layer 120. Specifically, the carrier substrate 100 and the first circuit pattern layer 120 can be separated by the interface between the first copper foil layer 112a and the first circuit pattern layer 120 of the carrier substrate 100. have. As a result, the printed circuit board disclosed in FIG. 12 can be manufactured.

도시되지 않은 몇몇 실시 예들에 있어서, 제3 층간 절연층(170)의 일면 상에서 제3 비아(165)를 선택적으로 덮는 솔더 레지스트 패턴층을 형성할 수 있다. 또한, 제1 층간 절연층(130)의 일면 상에서, 제1 회로 패턴층(120)을 선택적으로 덮는 솔더 레지스트 패턴층을 형성할 수 있다. 상기 솔더 레지스트 패턴층들에 의해 노출되는 제3 비아(165) 및 제1 회로 패턴층(120)은 다른 소자칩, 패키지, 또는 인쇄회로기판 등과의 전기적 연결을 위한 접속 패드로 기능할 수 있다.In some embodiments not shown, a solder resist pattern layer may be formed on one surface of the third interlayer insulating layer 170 to selectively cover the third via 165. In addition, a solder resist pattern layer selectively covering the first circuit pattern layer 120 may be formed on one surface of the first interlayer insulating layer 130. The third via 165 and the first circuit pattern layer 120 exposed by the solder resist pattern layers may function as connection pads for electrical connection to other device chips, packages, or printed circuit boards.

도 13 내지 도 20은 본 발명의 다른 실시 예에 따르는 인쇄회로기판의 제조 방법을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 본 인쇄회로기판의 제조 방법은 도 2와 관련하여 상술한 인쇄회로기판(2)의 제조 방법에 적용될 수 있다. 13 to 20 are cross-sectional views schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board according to another embodiment of the present invention. This method of manufacturing a printed circuit board can be applied to the method of manufacturing the printed circuit board 2 described above with respect to FIG. 2.

도 13을 참조하면, 코어 기판(200)을 준비한다. 코어 기판(200)은 코어 절연층(210), 코어 절연층(210)의 상면 및 하면에 각각 배치되는 제1 및 제2 구리 포일층(212a, 212b)를 포함한다. Referring to FIG. 13, a core substrate 200 is prepared. The core substrate 200 includes a core insulating layer 210 and first and second copper foil layers 212a and 212b disposed on upper and lower surfaces of the core insulating layer 210, respectively.

코어 절연층(210)은 레진(210a) 및 섬유 강화제(210b)를 포함할 수 있다. 섬유 강화제(210b)는 탄소 섬유 또는 유리 섬유를 포함할 수 있다. 코어 절연층(210)은 추가적으로 필러를 포함할 수 있다. 상기 필러는 실리카 또는 알루미나를 포함할 수 있다. 코어 절연층(210)은 일 예로서, 프리프레그를 포함할 수 있다. 코어 절연층(210)은 일 예로서, 구리 적층 기판(CCL)일 수 있다.The core insulating layer 210 may include a resin 210a and a fiber reinforcement 210b. The fiber reinforcement agent 210b may include carbon fiber or glass fiber. The core insulating layer 210 may additionally include a filler. The filler may include silica or alumina. The core insulating layer 210 may include, for example, a prepreg. The core insulating layer 210 may be, for example, a copper laminated substrate (CCL).

도 14를 참조하면, 코어 기판(200)을 가공하여 관통 비아홀(20)을 형성한다. 코어 기판(200)을 가공하는 방법은 일 예로서, 레이저 가공법 또는 기계적 가공법을 적용할 수 있다. Referring to FIG. 14, a through via hole 20 is formed by processing the core substrate 200. As an example, a method of processing the core substrate 200 may employ a laser processing method or a mechanical processing method.

일 실시 예에서, 도 14의 'T1' 및 'T2' 방향을 따라, 코어 기판(200)의 상부 및 하부에서, 코어 기판(200)의 내부 방향으로 레이저 가공법에 의해 코어 기판(200)을 가공할 수 있다. 이에 따라, 형성된 관통 비아홀(20)의 측면 프로파일은 코어 기판(200)의 표면으로부터 내부 방향(즉, 두께 방향)으로 경사진 형태를 가질 수 있다. 일 예로서, 도 14에서와 같이, 절구 형태로, 가운데가 오목한 형태의 비아홀(20)의 측면 프로파일이 형성될 수 있다. In an embodiment, the core substrate 200 is processed in the direction of the'T1' and'T2' of FIG. 14, from the top and the bottom of the core substrate 200 to the inner direction of the core substrate 200 by laser processing. can do. Accordingly, the side profile of the formed through via hole 20 may have a shape inclined from the surface of the core substrate 200 in the inner direction (ie, the thickness direction). As an example, as shown in FIG. 14, a side profile of the via hole 20 having a mortar shape and a concave center may be formed.

도 15를 참조하면, 관통 비아홀(20)을 채우는 관통 비아(215) 및 코어 절연층(210)의 상면 및 하면에 각각 배치되는 제1 회로 패턴층(220a) 및 제2 회로 패턴층(220b)을, 도금법에 의해 형성한다. 상기 도금법은 일 예로서, SAP 또는 MSAP를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 15, a through via 215 filling the through via hole 20 and a first circuit pattern layer 220a and a second circuit pattern layer 220b respectively disposed on the upper and lower surfaces of the core insulating layer 210 Is formed by a plating method. As an example, the plating method may include SAP or MSAP.

도 16을 참조하면, 제1 회로 패턴층(220a) 상에 도금법에 의해 제1 비아(225a)를 형성한다. 제1 비아(225a)는 일 예로서, 구리 도금층을 포함할 수 있다. 상기 도금법은 일 예로서, SAP 또는 MSAP를 포함할 수 있다. 제1 비아(225a)는 측면 프로파일이 제1 회로 패턴층(220a)의 표면에 대하여 실질적으로 수직인 형태를 가지도록 형성될 수 있다. 이러한 측면 프로파일은 상기 SAP 또는 MSAP법을 이용하는 도금 공정의 특징에 의해 발생할 수 있다. 즉, 제1 비아(225a)가 형성될 곳에 홀 타입의 감광 패턴을 형성하고, 상기 홀 내부를 도금 물질로 채우는 공정을 수행함으로써, 제1 비아(225a)를 형성할 수 있다. 이때, 감광 패턴의 홀의 측면 프로파일은 제1 회로 패턴층(220a)에 대해 실질적으로 수직인 형태를 가질 수 있다. 제1 비아(225a)를 형성한 후에, 상기 홀 타입의 감광 패턴은 제거될 수 있다.Referring to FIG. 16, a first via 225a is formed on the first circuit pattern layer 220a by a plating method. The first via 225a may include, as an example, a copper plating layer. As an example, the plating method may include SAP or MSAP. The first via 225a may be formed such that the side profile has a shape substantially perpendicular to the surface of the first circuit pattern layer 220a. This side profile may be caused by the characteristics of the plating process using the SAP or MSAP method. That is, the first via 225a may be formed by forming a photosensitive pattern of a hole type where the first via 225a is to be formed and filling the inside of the hole with a plating material. In this case, the side profile of the hole of the photosensitive pattern may have a shape substantially perpendicular to the first circuit pattern layer 220a. After forming the first via 225a, the hole-type photosensitive pattern may be removed.

도 16을 다시 참조하면, 제2 회로 패턴층(220b) 상에 도금법에 의해 제2 비아(225b)를 형성한다. 제2 비아(225b)는 일 예로서, 구리 도금층을 포함할 수 있다. 상기 도금법은 일 예로서, SAP 또는 MSAP를 포함할 수 있다. 제2 비아(225b)는 측면 프로파일이 제2 회로 패턴층(220b)의 표면에 대하여 실질적으로 수직인 형태를 가지도록 형성될 수 있다. 이러한 측면 프로파일은 상기 SAP 또는 MSAP법을 이용하는 도금 공정의 특징에 의해 발생할 수 있다. 즉, 제2 비아(225b)가 형성될 곳에 홀 타입의 감광 패턴을 형성하고, 상기 홀 내부를 도금 물질로 채우는 공정을 수행함으로써, 제2 비아(225b)를 형성할 수 있다. 이때, 감광 패턴의 홀의 측면 프로파일은 제2 회로 패턴층(220b)에 대해 실질적으로 수직인 형태를 가질 수 있다. 제2 비아(225b)를 형성한 후에, 상기 홀 타입의 감광 패턴은 제거될 수 있다.Referring again to FIG. 16, a second via 225b is formed on the second circuit pattern layer 220b by a plating method. The second via 225b may include, for example, a copper plating layer. As an example, the plating method may include SAP or MSAP. The second via 225b may be formed such that the side profile has a shape substantially perpendicular to the surface of the second circuit pattern layer 220b. This side profile may be caused by the characteristics of the plating process using the SAP or MSAP method. That is, the second via 225b may be formed by forming a photosensitive pattern of a hole type where the second via 225b is to be formed and filling the inside of the hole with a plating material. In this case, the side profile of the hole of the photosensitive pattern may have a shape substantially perpendicular to the second circuit pattern layer 220b. After forming the second via 225b, the hole-type photosensitive pattern may be removed.

도 17 및 도 18을 참조하면, 코어 절연층(210)의 상면 상에서 제1 회로 패턴층(220a)과 제1 비아(225a)를 덮도록 배치되는 제1 층간 절연층(230a)를 형성한다. 제1 층간 절연층(230a)은 상술한 섬유 강화제를 포함할 수 있다. 제1 층간 절연층(230a)을 형성하는 공정은 구체적으로 다음과 같이 진행될 수 있다.17 and 18, a first interlayer insulating layer 230a disposed to cover the first circuit pattern layer 220a and the first via 225a on the upper surface of the core insulating layer 210 is formed. The first interlayer insulating layer 230a may include the above-described fiber reinforcement. The process of forming the first interlayer insulating layer 230a may be specifically performed as follows.

먼저, 도 17을 참조하면, 불완전 경화된 에폭시 성분의 절연재를 준비한다. 상기 절연재를 압력과 열을 이용하여, 코어 절연층(210)의 상면에 프레스한다. 이에 따라, 상기 절연재가 경화하여 제1 회로 패턴층(220a)과 제1 비아(225a)를 덮도록 배치된다. 이어서, 도 18을 참조하면, 제1 비아(225a)의 상면과 상기 절연재의 상면이 동일 평면에 놓이도록, 상기 절연재를 제거하여 평탄화한다. 그 결과, 제1 층간 절연층(230a)이 형성될 수 있다. 상기 평탄화 공정은 일 예로서, 식각법 또는 화학적 기계적 연마법이 적용될 수 있다.First, referring to FIG. 17, an insulating material made of an incompletely cured epoxy component is prepared. The insulating material is pressed onto the upper surface of the core insulating layer 210 using pressure and heat. Accordingly, the insulating material is cured and disposed to cover the first circuit pattern layer 220a and the first via 225a. Subsequently, referring to FIG. 18, the insulating material is removed and planarized so that the top surface of the first via 225a and the top surface of the insulating material lie on the same plane. As a result, the first interlayer insulating layer 230a may be formed. As an example, the planarization process may include an etching method or a chemical mechanical polishing method.

마찬가지로, 코어 절연층(210)의 하면 상에서 제2 회로 패턴층(220b)과 제2 비아(225b)를 덮도록 배치되는 제2 층간 절연층(230b)를 형성한다. 제2 층간 절연층(230b)은 상술한 섬유 강화제를 포함할 수 있다. 제2 층간 절연층(230b)을 형성하는 공정은 구체적으로 다음과 같이 진행될 수 있다.Similarly, a second interlayer insulating layer 230b disposed to cover the second circuit pattern layer 220b and the second via 225b on the lower surface of the core insulating layer 210 is formed. The second interlayer insulating layer 230b may include the above-described fiber reinforcement. The process of forming the second interlayer insulating layer 230b may be specifically performed as follows.

먼저, 도 17을 참조하면, 불완전 경화된 에폭시 성분의 절연재를 준비한다. 상기 절연재를 압력과 열을 이용하여, 코어 절연층(210)의 하면에 프레스한다. 이에 따라, 상기 절연재가 경화하여 제2 회로 패턴층(220b)과 제2 비아(225b)를 덮도록 배치된다. 이어서, 도 18을 참조하면, 제2 비아(225b)의 상면과 상기 절연재의 상면이 동일 평면에 놓이도록, 상기 절연재를 제거하여 평탄화한다. 그 결과, 제2 층간 절연층(230b)이 형성될 수 있다. 상기 평탄화 공정은 일 예로서, 식각법 또는 화학적 기계적 연마법이 적용될 수 있다.First, referring to FIG. 17, an insulating material made of an incompletely cured epoxy component is prepared. The insulating material is pressed onto the lower surface of the core insulating layer 210 using pressure and heat. Accordingly, the insulating material is hardened and disposed to cover the second circuit pattern layer 220b and the second via 225b. Subsequently, referring to FIG. 18, the insulating material is removed and planarized so that the top surface of the second via 225b and the top surface of the insulating material lie on the same plane. As a result, a second interlayer insulating layer 230b may be formed. As an example, the planarization process may include an etching method or a chemical mechanical polishing method.

도 19를 참조하면, 제1 층간 절연층(230a) 상에 도금법에 의해 제3 회로 패턴층(240)을 형성할 수 있다. 상기 도금법은 일 예로서, SAP 또는 MSAP를 포함할 수 있다. 제3 회로 패턴층(240)은 제2 비아(225a)를 통해 제1 회로 패턴층(220a)와 전기적으로 연결될 수 있다.Referring to FIG. 19, a third circuit pattern layer 240 may be formed on the first interlayer insulating layer 230a by plating. As an example, the plating method may include SAP or MSAP. The third circuit pattern layer 240 may be electrically connected to the first circuit pattern layer 220a through the second via 225a.

몇몇 도시되지 않은 실시예들에 있어서, 제1 층간 절연층(230a) 상에서 제3 회로 패턴층(240)을 선택적으로 덮는 솔더 레지스트 패턴층이 더 배치될 수 있다. 또한, 제2 층간 절연층(230b) 상에서 제2 비아(225b)를 선택적으로 덮는 솔더 레지스트 패턴층이 배치될 수 있다. 상기 솔더 레지스트 패턴층들에 의해 노출되는 제3 회로 패턴층(240) 및 제2 비아(225b)는 다른 소자칩, 패키지, 또는 인쇄회로기판 등과의 전기적 연결을 위한 접속 패드로 기능할 수 있다. 상술한 공정을 통해 본 발명의 실시 예에 따르는 인쇄회로기판을 제조할 수 있다. In some embodiments not shown, a solder resist pattern layer selectively covering the third circuit pattern layer 240 may be further disposed on the first interlayer insulating layer 230a. In addition, a solder resist pattern layer may be disposed on the second interlayer insulating layer 230b to selectively cover the second via 225b. The third circuit pattern layer 240 and the second via 225b exposed by the solder resist pattern layers may function as connection pads for electrical connection to other device chips, packages, or printed circuit boards. Through the above-described process, a printed circuit board according to an embodiment of the present invention may be manufactured.

이상에서는 도면 및 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 출원의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원에 개시된 실시예들을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to the drawings and embodiments, those skilled in the art will variously modify and change the embodiments disclosed in the present application within the scope not departing from the technical spirit of the present application described in the following claims. You will understand that you can do it.

1 2: 인쇄회로기판,
10 20: 비아홀
12: 최하부 회로 패턴층, 12v: 하부 비아,
13: 하부 층간 절연층, 14: 하부 회로 패턴층,
15: 중간 절연층, 15a: 레진, 15b: 섬유 강화제,
15S1: 상면, 15S2: 하면, 15v: 중간 비아,
16: 상부 회로 패턴층, 16v: 상부 비아, 17: 상부 층간 절연층,
21: 중간 절연층, 21a: 레진, 21b: 섬유 강화제, 21c: 중간 비아,
21S1: 상면, 21S2: 하면,
22a: 상부 회로 패턴층, 22b: 하부 회로 패턴층,
22c: 상부 비아, 22d: 하부 비아,
23a: 상부 층간 절연층, 23b: 하부 층간 절연층, 24: 최상부 회로 패턴층,
100: 캐리어 기판, 110: 절연층, 112a 112b: 제1 및 제2 구리 포일층,
120: 제1 회로 패턴층, 125: 제1 비아, 130: 제1 층간 절연층, 140: 제2 회로 패턴층,
150: 제2 층간 절연층, 150a: 레진, 150b: 섬유 강화제,
151: 구리 포일층, 155: 제2 비아,
160: 제3 회로 패턴층, 165: 제3 비아, 170: 제3 층간 절연층,
200: 코어 기판, 210: 코어 절연층, 210a: 레진, 210b: 섬유 강화제,
212a 212b: 제1 및 제2 구리 포일층, 215: 관통 비아,
220a 220b: 제1 및 제2 회로 패턴층,
225a 225b: 제1 및 제2 비아,
230a 230b: 제1 및 제2 층간 절연층, 240: 제3 회로 패턴층.
1 2: printed circuit board,
10 20: Via hole
12: lowermost circuit pattern layer, 12v: lower via,
13: lower interlayer insulating layer, 14: lower circuit pattern layer,
15: intermediate insulating layer, 15a: resin, 15b: fiber reinforcement,
15S1: top, 15S2: bottom, 15v: middle via,
16: upper circuit pattern layer, 16v: upper via, 17: upper interlayer insulating layer,
21: intermediate insulating layer, 21a: resin, 21b: fiber reinforcement, 21c: intermediate via,
21S1: top, 21S2: bottom,
22a: upper circuit pattern layer, 22b: lower circuit pattern layer,
22c: upper via, 22d: lower via,
23a: upper interlayer insulating layer, 23b: lower interlayer insulating layer, 24: uppermost circuit pattern layer,
100: carrier substrate, 110: insulating layer, 112a 112b: first and second copper foil layers,
120: first circuit pattern layer, 125: first via, 130: first interlayer insulating layer, 140: second circuit pattern layer,
150: second interlayer insulating layer, 150a: resin, 150b: fiber reinforcement,
151: copper foil layer, 155: second via,
160: a third circuit pattern layer, 165: a third via, 170: a third interlayer insulating layer,
200: core substrate, 210: core insulating layer, 210a: resin, 210b: fiber reinforcement,
212a 212b: first and second copper foil layers, 215: through vias,
220a 220b: first and second circuit pattern layers,
225a 225b: first and second vias,
230a 230b: first and second interlayer insulating layers, 240: third circuit pattern layer.

Claims (18)

섬유 강화제를 포함하는 중간 절연층;
상기 중간 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되는 상부 회로 패턴층 및 하부 회로 패턴층;
상기 중간 절연층의 상기 상면 상에서 상기 상부 회로 패턴층을 덮도록 배치되며, 섬유 강화제를 포함하지 않는 상부 층간 절연층; 및
상기 중간 절연층의 상기 하면 상에서 상기 하부 회로 패턴층을 덮도록 배치되며, 섬유 강화제를 포함하지 않는 하부 층간 절연층을 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판.
An intermediate insulating layer containing a fiber reinforcement;
An upper circuit pattern layer and a lower circuit pattern layer respectively disposed on the upper and lower surfaces of the intermediate insulating layer;
An upper interlayer insulating layer disposed on the upper surface of the intermediate insulating layer to cover the upper circuit pattern layer and not including a fiber reinforcement agent; And
Disposed to cover the lower circuit pattern layer on the lower surface of the intermediate insulating layer, and including a lower interlayer insulating layer not including a fiber reinforcing agent
A printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제1 항에 있어서,
상기 섬유 강화제는 탄소 섬유 또는 유리 섬유를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판.
The method of claim 1,
The fiber reinforcement agent comprises carbon fiber or glass fiber
A printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제1 항에 있어서,
상기 중간 절연층은 프리프레그를 포함하며,
상기 상부 및 하부 층간 절연층은 에폭시 몰드 화합물(Epoxy mold compound)을 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판.
The method of claim 1,
The intermediate insulating layer includes a prepreg,
The upper and lower interlayer insulating layers contain an epoxy mold compound.
A printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제1 항에 있어서,
상기 중간 절연층은 중간 비아를 구비하며,
상기 상부 층간 절연층은 상부 비아를 구비하며,
상기 하부 층간 절연층은 하부 비아를 구비하되,
상기 중간 비아의 측면 프로파일은 상기 중간 절연층의 표면에서 내부 방향에 대해 경사진 형태를 가지며,
상기 상부 및 하부 비아의 측면 프로파일은 상기 상부 및 하부 층간 절연층의 표면에서 내부 방향에 대해 각각 실질적으로 수직인 형태를 가지는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판.
The method of claim 1,
The intermediate insulating layer has an intermediate via,
The upper interlayer insulating layer has an upper via,
The lower interlayer insulating layer has a lower via,
The side profile of the intermediate via has a shape inclined with respect to the inner direction from the surface of the intermediate insulating layer,
The side profiles of the upper and lower vias have a shape that is substantially perpendicular to the inner direction on the surfaces of the upper and lower interlayer insulating layers, respectively.
A printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
(a) 섬유 강화제를 포함하는 절연층, 및 상기 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되는 제1 및 제2 구리 포일층을 구비하는 캐리어 기판을 준비하는 단계;
(b) 상기 제1 구리 포일층 상에 도금법에 의해 제1 회로 패턴층을 형성하는 단계;
(c) 상기 제1 회로 패턴층 상에 도금법에 의해 제1 비아를 형성하는 단계;
(d) 상기 제1 구리 포일층 상에서 상기 제1 회로 패턴층과 상기 제1 비아를 덮도록 배치되고, 섬유 강화제를 포함하지 않는 제1 층간 절연층을 형성하는 단계;
(e) 상기 제1 층간 절연층 상에 도금법에 의해 제2 회로 패턴층을 형성하는 단계;
(f) 상기 제1 층간 절연층 상에 상기 제2 회로 패턴층을 덮도록 배치되고, 섬유 강화제를 포함하는 제2 층간 절연층을 형성하는 단계;
(g) 상기 제2 층간 절연층을 가공하여, 상기 제2 회로 패턴층을 노출시키는 비아홀을 형성하는 단계;
(h) 도금법에 의해 상기 비아홀 내부를 채우는 제2 비아 및 상기 제2 층간 절연층 상에 배치되는 제3 회로 패턴층을 형성하는 단계;
(i) 상기 제3 회로 패턴층 상에 도금법에 의해 제3 비아를 형성하는 단계;
(j) 상기 제2 층간 절연층 상에서 상기 제3 회로 패턴층 및 상기 제3 비아를 덮도록 배치되고, 섬유 강화제를 포함하지 않는 제3 층간 절연층을 형성하는 단계; 및
(k) 상기 캐리어 기판을 상기 제1 회로 패턴층과 분리하는 단계를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
(a) preparing a carrier substrate including an insulating layer containing a fiber reinforcement agent, and first and second copper foil layers disposed on upper and lower surfaces of the insulating layer, respectively;
(b) forming a first circuit pattern layer on the first copper foil layer by a plating method;
(c) forming a first via on the first circuit pattern layer by a plating method;
(d) forming a first interlayer insulating layer on the first copper foil layer to cover the first circuit pattern layer and the first via, and not including a fiber reinforcement agent;
(e) forming a second circuit pattern layer on the first interlayer insulating layer by a plating method;
(f) forming a second interlayer insulating layer on the first interlayer insulating layer to cover the second circuit pattern layer and including a fiber reinforcing agent;
(g) forming a via hole exposing the second circuit pattern layer by processing the second interlayer insulating layer;
(h) forming a second via filling the inside of the via hole by a plating method and a third circuit pattern layer disposed on the second interlayer insulating layer;
(i) forming a third via on the third circuit pattern layer by a plating method;
(j) forming a third interlayer insulating layer on the second interlayer insulating layer to cover the third circuit pattern layer and the third via, and not including a fiber reinforcement agent; And
(k) separating the carrier substrate from the first circuit pattern layer
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제5 항에 있어서,
상기 섬유 강화제는 탄소 섬유 또는 유리 섬유를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 5,
The fiber reinforcement agent comprises carbon fiber or glass fiber
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제5 항에 있어서,
상기 제1 및 제3 층간 절연층은 에폭시 몰드 화합물을 포함하고,
상기 제2 층간 절연층은 프리프레그를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 5,
The first and third interlayer insulating layers contain an epoxy mold compound,
The second interlayer insulating layer includes a prepreg
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제5 항에 있어서,
(c) 단계의 상기 제1 비아를 형성하는 단계와 (i) 단계의 상기 제3 비아를 형성하는 단계는
상기 제1 및 제3 비아의 측면 프로파일이, 각각 상기 제1 회로 패턴층 및 상기 제3 회로 패턴층의 표면으로부터 내부 방향에 대하여 실질적으로 수직인 형태를 가지도록 형성하며,
(h) 단계의 상기 제2 비아를 형성하는 단계는
상기 제2 비아의 측면 프로파일이 상기 제2 회로 패턴층의 표면으로부터 내부 방향으로 경사진 형태를 가지도록 형성하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 5,
Forming the first via in step (c) and forming the third via in step (i)
The side profiles of the first and third vias are formed to have a shape substantially perpendicular to the inner direction from the surfaces of the first circuit pattern layer and the third circuit pattern layer, respectively,
Forming the second via of step (h)
Forming a side profile of the second via to have a shape inclined inward from the surface of the second circuit pattern layer
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제5 항에 있어서,
(d) 단계의 상기 제1 층간 절연층을 형성하는 단계는
(d1) 불완전 경화된 에폭시 성분의 절연재를 준비하는 단계;
(d2) 상기 절연재를 압력과 열을 이용하여, 상기 제1 구리 포일층에 프레스하는 단계; 및
(d3) 상기 제1 비아의 상면과 상기 절연재의 상면이 동일 평면에 놓이도록, 상기 절연재를 제거하여 평탄화하는 단계를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 5,
The step of forming the first interlayer insulating layer of step (d)
(d1) preparing an insulating material of an incompletely cured epoxy component;
(d2) pressing the insulating material onto the first copper foil layer using pressure and heat; And
(d3) removing the insulating material so that the top surface of the first via and the top surface of the insulating material are on the same plane, and planarizing
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제5 항에 있어서,
(g) 단계의 상기 비아홀을 형성하는 단계는
상기 제2 층간 절연층을 레이저 가공법 또는 기계적 가공법을 이용하여, 상기 제2 층간 절연층을 가공하는 단계를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 5,
Forming the via hole of step (g)
Comprising the step of processing the second interlayer insulating layer by using a laser processing method or a mechanical processing method of the second interlayer insulating layer
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제5 항에 있어서,
(j) 단계의 상기 제3 층간 절연층을 형성하는 단계는
(j1) 불완전 경화된 에폭시 성분의 절연재를 준비하는 단계;
(j2) 상기 절연재를 압력과 열을 이용하여, 상기 제2 층간 절연층에 프레스하는 단계; 및
(j3) 상기 제3 비아의 상면과 상기 절연재의 상면이 동일 평면에 놓이도록, 상기 절연재를 제거하여 평탄화하는 단계를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 5,
Forming the third interlayer insulating layer of step (j)
(j1) preparing an insulating material of an incompletely cured epoxy component;
(j2) pressing the insulating material onto the second interlayer insulating layer using pressure and heat; And
(j3) removing the insulating material so that the top surface of the third via and the top surface of the insulating material are on the same plane, and planarizing
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
(a) 섬유 강화제를 포함하는 코어 절연층, 및 상기 코어 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되는 제1 및 제2 구리 포일층을 구비하는 코어 기판을 준비하는 단계;
(b) 상기 코어 기판을 가공하여 관통 비아홀을 형성하는 단계;
(c) 상기 관통 비아홀을 채우는 관통 비아 및 상기 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되는 제1 회로 패턴층 및 제2 회로 패턴층을, 도금법에 의해 형성하는 단계;
(d) 상기 제1 회로 패턴층 상에 도금법에 의해 제1 비아를 형성하는 단계;
(e) 상기 제2 회로 패턴층 상에 도금법에 의해 제2 비아를 형성하는 단계;
(f) 상기 코어 절연층의 상면 상에서 상기 제1 회로 패턴층과 상기 제1 비아를 덮도록 배치되고, 섬유 강화제를 포함하지 않는 제1 층간 절연층을 형성하는 단계; 및
(g) 상기 코어 절연층의 하면 상에서 상기 제2 회로 패턴층과 상기 제2 비아를 덮도록 배치되고, 섬유 강화제를 포함하지 않는 제2 층간 절연층을 형성하는 단계를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
(a) preparing a core substrate including a core insulating layer containing a fiber reinforcement agent, and first and second copper foil layers disposed on upper and lower surfaces of the core insulating layer, respectively;
(b) forming a through via hole by processing the core substrate;
(c) forming a through via filling the through via hole and a first circuit pattern layer and a second circuit pattern layer respectively disposed on upper and lower surfaces of the insulating layer by a plating method;
(d) forming a first via on the first circuit pattern layer by a plating method;
(e) forming a second via on the second circuit pattern layer by a plating method;
(f) forming a first interlayer insulating layer on an upper surface of the core insulating layer to cover the first circuit pattern layer and the first via, and not including a fiber reinforcement agent; And
(g) forming a second interlayer insulating layer disposed on a lower surface of the core insulating layer to cover the second circuit pattern layer and the second via, and does not contain a fiber reinforcement agent.
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제12 항에 있어서,
상기 섬유 강화제는 탄소 섬유 또는 유리 섬유를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 12,
The fiber reinforcement agent comprises carbon fiber or glass fiber
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제12 항에 있어서,
상기 제1 및 제2 층간 절연층은 에폭시 몰드 화합물을 포함하고,
상기 코어 절연층은 프리프레그를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 12,
The first and second interlayer insulating layers contain an epoxy mold compound,
The core insulating layer includes a prepreg
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제12 항에 있어서,
(a) 단계의 코어 기판은 구리 적층 기판인
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 12,
The core substrate in step (a) is a copper laminated substrate
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제12 항에 있어서,
(b) 단계의 관통 비아홀을 형성하는 단계는
상기 코어 기판의 상면과 하면으로부터 내부 방향으로, 레이저 가공법에 의해 상기 코어 기판을 가공하는 단계를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 12,
The step of forming the through via hole of step (b)
In the inner direction from the upper and lower surfaces of the core substrate, comprising the step of processing the core substrate by a laser processing method
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제12 항에 있어서,
(f) 단계의 상기 제1 층간 절연층을 형성하는 단계는
(f1) 불완전 경화된 에폭시 성분의 절연재를 준비하는 단계;
(f2) 상기 절연재를 압력과 열을 이용하여, 상기 코어 절연층의 상면에 프레스하는 단계; 및
(f3) 상기 제1 비아의 상면과 상기 절연재의 상면이 동일 평면에 놓이도록, 상기 절연재를 제거하여 평탄화하는 단계를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 12,
The step of forming the first interlayer insulating layer of step (f)
(f1) preparing an insulating material of an incompletely cured epoxy component;
(f2) pressing the insulating material on the upper surface of the core insulating layer using pressure and heat; And
(f3) removing the insulating material so that the top surface of the first via and the top surface of the insulating material are on the same plane, and planarizing
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
제12 항에 있어서,
(g) 단계의 상기 제2 층간 절연층을 형성하는 단계는
(g1) 불완전 경화된 에폭시 성분의 절연재를 준비하는 단계;
(g2) 상기 절연재를 압력과 열을 이용하여, 상기 코어 절연층의 하면에 프레스하는 단계; 및
(g3) 상기 제2 비아의 상면과 상기 절연재의 상면이 동일 평면에 놓이도록, 상기 절연재를 제거하여 평탄화하는 단계를 포함하는
서로 다른 재질의 층간 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
The method of claim 12,
The step of forming the second interlayer insulating layer of step (g)
(g1) preparing an insulating material of an incompletely cured epoxy component;
(g2) pressing the insulating material on the lower surface of the core insulating layer using pressure and heat; And
(g3) removing the insulating material so that the top surface of the second via and the top surface of the insulating material are on the same plane, and planarizing
A method of manufacturing a printed circuit board including interlayer insulating layers of different materials.
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