KR20210004770A - Nail polisher using plasma - Google Patents

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KR20210004770A
KR20210004770A KR1020190118994A KR20190118994A KR20210004770A KR 20210004770 A KR20210004770 A KR 20210004770A KR 1020190118994 A KR1020190118994 A KR 1020190118994A KR 20190118994 A KR20190118994 A KR 20190118994A KR 20210004770 A KR20210004770 A KR 20210004770A
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Abstract

The present invention relates to a nail polishing device using plasma. The nail polishing device using plasma comprises: a housing which has a hand inserting unit formed on one side; a nail position measuring sensor which is arranged inside the housing and generates measuring information for determining a nail area in a hand inserted into the housing; a plasma generating device which generates the plasma toward the determined nail area; a movement mechanism which moves the plasma generating device based on passage information; and a controller which generates the passage information which allows the movement mechanism to move the plasma generating device to the determined nail area based on the measuring information. The present invention allows users to automatically and effectively polish nails.

Description

플라즈마 손톱 연마 장치{Nail polisher using plasma}Plasma nail polisher {Nail polisher using plasma}

본 발명은 손톱 연마 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a nail polishing apparatus.

손톱 미용을 위해서, 손톱의 표면을 매끄럽게 처리할 필요가 있다. 종래에는 사용자가, 손톱 표면에 요철이 형성된 연마판을 이용하여 수작업으로 손톱 표면을 손질하였다. 한편, 플라즈마는, 오래전부터 소재의 표면 처리에 이용되어 왔다. 플라즈마는, 이온을 표면에 방사하여 표면을 평탄화하거나 표면에 부착된 이물질을 제거하는 용도로 활용되고 있다. 특히, 최근들어, 저온 플라즈마를 활용하여 피부 미용과 같이 인체에 직접 적용할 수 있을 정도로 안전한 의료 장비들이 활발하게 개발되고 있다. For nail beauty, it is necessary to smooth the surface of the nail. Conventionally, a user has manually cleaned the nail surface using an abrasive plate having irregularities formed on the nail surface. On the other hand, plasma has long been used for surface treatment of materials. Plasma is used to flatten the surface by radiating ions onto the surface or to remove foreign substances attached to the surface. In particular, recently, medical devices that are safe enough to be applied directly to the human body such as skin beauty by utilizing low-temperature plasma are actively developed.

손톱 표면을 효과적으로 손질할 수 있는 장치를 제공하고자 한다.It is intended to provide a device capable of effectively grooming the surface of a nail.

본 발명의 일측면에 따르면, 플라즈마 손톱 연마 장치가 제공된다. 플라즈마 손톱 연마 장치는, 일측에 손 삽입구가 형성된 하우징, 상기 하우징 내부에 배치되며, 상기 하우징에 내부로 삽입된 손에서 손톱 영역을 결정하기 위한 측정 정보를 생성하는 손톱 위치 측정 센서, 결정된 손톱 영역을 향해 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 생성기, 경로 정보에 기초하여 상기 플라즈마 생성기를 이동시키는 이동 메커니즘, 및 상기 측정 정보에 기초하여 상기 이동 메커니즘이 상기 결정된 손톱 영역으로 상기 플라즈마 생성기를 이동시키도록 하는 상기 경로 정보를 생성하는 컨트롤러를 포함할 수 있다. According to an aspect of the present invention, a plasma nail polishing apparatus is provided. The plasma nail polishing apparatus includes a housing having a hand insertion port on one side thereof, a fingernail position measurement sensor that is disposed inside the housing, and generates measurement information for determining a fingernail area in a hand inserted into the housing, and a determined fingernail area. A plasma generator for generating a plasma toward the direction, a movement mechanism for moving the plasma generator based on path information, and the path information for causing the movement mechanism to move the plasma generator to the determined fingernail region based on the measurement information. It can contain a controller to create.

일 실시예로, 상기 이동 메커니즘은, 상기 플라즈마 생성기를 제1 축 방향으로 이동시키는 제1 축 방향 이동부, 및 상기 플라즈마 생성기를 제2 축 방향으로 이동시키는 제2 축 방향 이동부를 포함할 수 있다.In one embodiment, the movement mechanism may include a first axial movement unit for moving the plasma generator in a first axial direction, and a second axial movement unit for moving the plasma generator in a second axial direction. .

일 실시예로, 상기 이동 메커니즘은, 상기 플라즈마 생성기를 제3축 방향으로 이동시키는 제3 축 방향 이동부를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the moving mechanism may further include a third axial moving part for moving the plasma generator in a third axial direction.

일 실시예로, 상기 이동 메커니즘은, 상기 플라즈마 생성기를 상기 결정된 손톱 영역을 향하도록 틸트시킬 수 있다.In an embodiment, the movement mechanism may tilt the plasma generator toward the determined nail area.

일 실시예로, 상기 손톱 위치 측정 센서는, 트랜스미터와 리시버를 상기 하우징 내부의 제1 측면에 교번하게 배치한 제1 광 센서 어레이, 트랜스미터와 리시버를 상기 하우징 내부의 제2 측면에 교번하게 배치한 제2 광 센서 어레이, 및 트랜스미터와 리시버를 상기 하우징 내부의 제3 측면에 교번하게 배치한 제3 광 센서 어레이를 포함할 수 있다.In one embodiment, the fingernail position measurement sensor includes a first optical sensor array in which a transmitter and a receiver are alternately disposed on a first side inside the housing, and a transmitter and a receiver are alternately disposed on a second side inside the housing. It may include a second optical sensor array, and a third optical sensor array in which the transmitter and the receiver are alternately disposed on the third side of the housing.

일 실시예로, 상기 손톱 영역은, 상기 제1 내지 제3 광 센서 어레이에 의해 생성된 상기 손의 윤곽에서 결정될 수 있다.In an embodiment, the fingernail region may be determined from an outline of the hand generated by the first to third optical sensor arrays.

일 실시예로, 상기 손톱 위치 측정 센서는, 상기 하우징에 내부로 삽입된 손의 손등을 향하도록 상기 하우징 내부에 배치된 이미지 센서일 수 있다.In one embodiment, the fingernail position measurement sensor may be an image sensor disposed inside the housing so as to face the back of a hand inserted into the housing.

일 실시예로, 상기 경로 정보는, 상기 플라즈마 생성기를 손톱간에 이동시키기 위한 제1 경로 정보 및 상기 플라즈마 생성기를 손톱내에서 이동시키기 위한 제2 경로 정보를 포함할 수 있다.In an embodiment, the path information may include first path information for moving the plasma generator between nails and second path information for moving the plasma generator within the nail.

일 실시예로, 플라즈마 손톱 연마 장치는, 상기 하우징 내부에 배치되는 UV LED를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the plasma nail polishing apparatus may further include a UV LED disposed inside the housing.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 플라즈마 손톱 연마 장치가 제공된다. 플라즈마 손톱 연마 장치는, 손에서 손톱 영역을 결정하기 위한 측정 정보를 생성하는 손톱 위치 측정 센서, 결정된 손톱 영역을 향해 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 생성기, 경로 정보에 기초하여 상기 플라즈마 생성기를 상기 손의 상부에서 제1 축 방향, 제2 축 방향 및 이들의 조합 중 어느 한 방향으로 이동시키는 이동 메커니즘, 및 상기 측정 정보에 기초하여 상기 이동 메커니즘이 상기 결정된 손톱 영역으로 상기 플라즈마 생성기를 이동시키도록 하는 상기 경로 정보를 생성하는 컨트롤러를 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, a plasma nail polishing apparatus is provided. The plasma nail polishing apparatus includes a fingernail position measurement sensor that generates measurement information for determining a fingernail area in a hand, a plasma generator that generates plasma toward the determined fingernail area, and the plasma generator on the top of the hand based on path information. A movement mechanism for moving in any one of a first axis direction, a second axis direction, and a combination thereof, and the path information for causing the movement mechanism to move the plasma generator to the determined nail region based on the measurement information. It may include a controller that generates

일 실시예로, 상기 이동 메커니즘은, 상기 플라즈마 생성기를 상기 결정된 손톱 영역을 향해 제3 축 방향으로 이동시킬 수 있다.In an embodiment, the movement mechanism may move the plasma generator in a third axial direction toward the determined nail area.

일 실시예로, 상기 플라즈마 생성기를 상기 결정된 손톱 영역을 향하도록 틸트시킬 수 있다. In an embodiment, the plasma generator may be tilted toward the determined nail area.

본 발명에 따르면, 플라즈마를 이용하여 자동으로 손톱을 효과적으로 손질할 수 있게 되었다. According to the present invention, it is possible to effectively clean nails automatically using plasma.

이하에서, 본 발명은 첨부된 도면에 도시된 실시예를 참조하여 설명된다. 이해를 돕기 위해, 첨부된 전체 도면에 걸쳐, 동일한 구성 요소에는 동일한 도면 부호가 할당되었다. 첨부된 도면에 도시된 구성은 본 발명을 설명하기 위해 예시적으로 구현된 실시예에 불과하며, 본 발명의 범위를 이에 한정하기 위한 것은 아니다. 특히, 첨부된 도면들은, 발명의 이해를 돕기 위해서, 일부 구성 요소를 다소 과장하여 표현하고 있다.
도 1은 플라즈마 손톱 연마 장치의 개념을 예시적으로 도시한 도면이다.
도 2는 플라즈마 손톱 연마 장치를 기능적으로 도시한 도면이다.
도 3은 도 1에 예시된 플라즈마 손톱 연마 장치의 일 실시예를 예시적으로 도시한 도면이다.
도 4는 도 3에 예시된 플라즈마 손톱 연마 장치의 동작을 예시적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 도 1에 예시된 플라즈마 손톱 연마 장치의 다른 실시예를 예시적으로 도시한 도면이다.
도 6은 도 5에 예시된 플라즈마 손톱 연마 장치의 동작을 예시적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 플라즈마 생성기의 상하 이동을 예시적으로 도시한 도면이다.
도 8은 플라즈마 생성기의 회전 이동을 예시적으로 도시한 도면이다.In the following, the present invention is explained with reference to the embodiments shown in the accompanying drawings. For ease of understanding, throughout the accompanying drawings, like reference numerals are assigned to like elements. The configurations shown in the accompanying drawings are merely exemplary embodiments to describe the present invention, and are not intended to limit the scope of the present invention. In particular, in the accompanying drawings, some constituent elements are somewhat exaggerated to help understand the invention.
1 is a diagram illustrating the concept of a plasma nail polishing apparatus as an example.
2 is a diagram functionally showing a plasma nail polishing apparatus.
3 is a diagram illustrating an exemplary embodiment of the plasma nail polishing apparatus illustrated in FIG. 1.
4 is a diagram for explaining an operation of the plasma nail polishing apparatus illustrated in FIG. 3 by way of example.
5 is a diagram illustrating another embodiment of the plasma nail polishing apparatus illustrated in FIG. 1 by way of example.
6 is a view for explaining the operation of the plasma nail polishing apparatus illustrated in FIG. 5 by way of example.
7 is a diagram illustrating an example of vertical movement of the plasma generator.
8 is a diagram illustrating an exemplary rotational movement of a plasma generator.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 이를 상세한 설명을 통해 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 특히, 이하에서 첨부된 도면을 참조하여 설명될 기능, 특징, 실시예들은, 단독으로 또는 다른 실시예와 결합하여 구현될 수 있다. 따라서 본 발명의 범위가 첨부된 도면에 도시된 형태에만 한정되는 것이 아님을 유의하여야 한다.In the present invention, various modifications may be made and various embodiments may be provided. Specific embodiments are illustrated in the drawings and will be described in detail through detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to a specific embodiment, it is to be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In particular, functions, features, and embodiments to be described below with reference to the accompanying drawings may be implemented alone or in combination with other embodiments. Therefore, it should be noted that the scope of the present invention is not limited only to the form shown in the accompanying drawings.

도 1은 플라즈마 손톱 연마 장치의 개념을 예시적으로 도시한 도면이다.1 is a diagram illustrating the concept of a plasma nail polishing apparatus as an example.

도 1의 (a) 및 (b)를 참조하면, 플라즈마 손톱 연마 장치(100)는, 전면에 형성된 손 삽입구(101)가 형성된 하우징(100)을 포함한다. 하우징(101)의 내부에는, 적어도 일부가 삽입된 손(10)을 수용하는 공간이 형성된다. 수용된 손(10)의 손톱(11)을 연마하는 플라즈마 생성기(140)는, 손(10)의 상부에서 이동한다. 하우징(101) 내부의 공간에는, 손(10)이 적절한 위치에 오도록 가이드하는 구조가 배치될 수 있다.Referring to FIGS. 1A and 1B, the plasma nail polishing apparatus 100 includes a housing 100 having a hand insertion port 101 formed on the front surface thereof. Inside the housing 101, a space for accommodating the hand 10, at least partially inserted therein, is formed. The plasma generator 140 for polishing the nails 11 of the accommodated hand 10 moves from the top of the hand 10. In the space inside the housing 101, a structure that guides the hand 10 to an appropriate position may be disposed.

도 1의 (c)를 참조하면, 플라즈마 생성기(140)는, 공간에 위치한 손톱(11)의 표면을 연마한다. 플라즈마 생성기(140)는, 적어도 3 방향, 예를 들어, x, y, z 축으로 이동될 수 있다. 여기서, x 및 y 축 이동은, 수평 방향으로의 이동이며, z 축 이동은 수직 방향으로의 이동이다. 이하에서 상세히 설명되겠지만, 손톱(11)의 표면은, 곡면이므로, 플라즈마 생성기(140)가 수평 방향으로만 이동할 경우, 손톱(11) 표면과 플라즈마 생성기(140)간의 거리가 달라질 수 있다. z 축 이동은 플라즈마 생성기(140)와 손톱(11) 표면간 거리를 일정하게 유지할 수 있게 한다.Referring to FIG. 1C, the plasma generator 140 polishes the surface of the nail 11 located in the space. The plasma generator 140 may be moved in at least three directions, for example, x, y, and z axes. Here, the x and y axis movement is a movement in the horizontal direction, and the z axis movement is a movement in the vertical direction. As will be described in detail below, since the surface of the nail 11 is curved, when the plasma generator 140 moves only in the horizontal direction, the distance between the surface of the nail 11 and the plasma generator 140 may vary. The z-axis movement makes it possible to maintain a constant distance between the plasma generator 140 and the surface of the nail 11.

도 2는 플라즈마 손톱 연마 장치를 기능적으로 도시한 도면이다.2 is a diagram functionally showing a plasma nail polishing apparatus.

도 2를 참조하면, 플라즈마 손톱 연마 장치(100)는, 손톱 위치 측정 센서(110), 컨트롤러(120), 이동 메커니즘(130), 및 플라즈마 생성기(140)를 포함한다. 일 실시예로, 플라즈마 손톱 연마 장치(100)는, 플라즈마 생성기 위치 측정 센서(120)를 더 포함할 수 있다. 다른 실시예로, 플라즈마 손톱 연마 장치(100)는, 유저 인터페이스(160)를 더 포함할 수 있다. 또 다른 실시예로, 플라즈마 손톱 연마 장치(100)는, UV LED(170)를 더 포함할 수 있다. Referring to FIG. 2, the plasma nail polishing apparatus 100 includes a nail position measurement sensor 110, a controller 120, a movement mechanism 130, and a plasma generator 140. In one embodiment, the plasma nail polishing apparatus 100 may further include a plasma generator position measurement sensor 120. In another embodiment, the plasma nail polishing apparatus 100 may further include a user interface 160. In another embodiment, the plasma nail polishing apparatus 100 may further include a UV LED 170.

손톱 위치 측정 센서(110)는, 하우징(101) 내부에 위치한 손톱(11)의 위치를 측정한다. 손톱 위치 측정 센서(110)는, 측정 정보를 컨트롤러(120)에 제공한다. 일 실시예로, 손톱 위치 측정 센서(110)는, 손(10) 윤곽을 측정하는 광 센서 어레이일 수 있다(도 3 내지 도 4 참조). 광 센서 어레이가 컨트롤러(120)에 제공하는 측정 정보는, 각 광 센서가 측정한 손(10)까지의 거리 및/또는 시간일 수 있다. 다른 실시예로, 손톱 위치 측정 센서(110)는, 손(10)을 촬영하는 이미지 센서(도 5 내지 도 6 참조)일 수 있다. 이미지 센서가 컨트롤러(120)에 제공하는 측정 정보는, 손(10) 영상일 수 있다. 한편, 도시되진 않았으나, 플라즈마 손톱 연마 장치(100)는, 측정 정보를 연산하여 손톱 영역 정보를 출력하는 프로세서를 더 포함할 수 있다.The nail position measurement sensor 110 measures the position of the nail 11 located inside the housing 101. The fingernail position measurement sensor 110 provides measurement information to the controller 120. In one embodiment, the fingernail position measurement sensor 110 may be an optical sensor array that measures the contour of the hand 10 (see FIGS. 3 to 4 ). The measurement information provided by the optical sensor array to the controller 120 may be a distance and/or time to the hand 10 measured by each optical sensor. In another embodiment, the fingernail position measurement sensor 110 may be an image sensor (see FIGS. 5 to 6) that photographs the hand 10. Measurement information provided by the image sensor to the controller 120 may be an image of the hand 10. Meanwhile, although not shown, the plasma nail polishing apparatus 100 may further include a processor that calculates measurement information and outputs nail region information.

컨트롤러(120)는, 손톱 영역 정보에 따라 이동 메커니즘(130) 및 플라즈마 생성기(140)를 제어한다. 컨트롤러(120)는, 손톱 위치 측정 센서(110)로부터 제공받은 측정 정보를 이용하여 손톱 영역 정보를 생성하거나, 손톱 위치 측정 센서(110)에 연관된 프로세서로부터 손톱 영역 정보를 제공받을 수 있다. 손톱 영역 정보는, 예를 들어, 하나 이상의 (x, y) 좌표를 포함할 수 있다. 컨트롤러(120)는, 손톱 영역 정보를 토대로, 플라즈마 생성기(140)의 이동 경로를 결정하고, 이동 경로로 플라즈마 생성기(140)를 이동시키기 위한 경로 정보를 이동 메커니즘(130)에 제공한다. 경로 정보는, 복수의 (x, y) 좌표를 포함할 수 있다. 한편, 경로 정보는, z 좌표를 더 포함할 수 있다. 한편, 컨트롤러(120)는, 플라즈마 생성기(140)의 출력을 제어한다.The controller 120 controls the movement mechanism 130 and the plasma generator 140 according to the fingernail region information. The controller 120 may generate fingernail area information using measurement information provided from the fingernail position measurement sensor 110, or may receive fingernail area information from a processor related to the fingernail position measurement sensor 110. The fingernail region information may include, for example, one or more (x, y) coordinates. The controller 120 determines a moving path of the plasma generator 140 based on the fingernail region information, and provides path information for moving the plasma generator 140 to the moving mechanism 130. The path information may include a plurality of (x, y) coordinates. Meanwhile, the path information may further include z coordinates. Meanwhile, the controller 120 controls the output of the plasma generator 140.

이동 메커니즘(130)은, x, y, z 축 방향으로 플라즈마 생성기(140)를 이동시킨다. 이동 메커니즘(130)은, 서보 모터가 제공한 회전력을 이용하여 플라즈마 생성기(140)를 임의의 축 방향으로 전진 또는 후진시키는 수단, 예를 들어, 벨트 또는 볼 스크류 등을 포함할 수 있다. The movement mechanism 130 moves the plasma generator 140 in the x, y, and z axis directions. The movement mechanism 130 may include a means for moving the plasma generator 140 forward or backward in an arbitrary axial direction by using a rotational force provided by a servo motor, for example, a belt or a ball screw.

플라즈마 생성기(140)는, 저온 플라즈마를 발생한다. 플라즈마 생성기(140)는, 예를 들어, 플라즈마를 발생하는 전극 및 전극을 덮는 유전체를 포함할 수 있다. 전극은, 펄스 전력 또는 교류 전력을 공급받으며, 손톱(11)의 표면을 접지 전극으로 하여, 전극과 손톱(11) 사이에 플라즈마를 방전할 수 있다. 손톱(11) 표면에 인가된 플라즈마는, 손톱(11) 표면의 요철 또는 손톱(11) 표면에 남아 있는 코팅을 제거할 수 있다.The plasma generator 140 generates low-temperature plasma. The plasma generator 140 may include, for example, an electrode generating plasma and a dielectric material covering the electrode. The electrode is supplied with pulsed power or AC power, and the surface of the nail 11 is used as a ground electrode, and plasma can be discharged between the electrode and the nail 11. Plasma applied to the surface of the nail 11 may remove irregularities on the surface of the nail 11 or a coating remaining on the surface of the nail 11.

거리 센서(150)는, 플라즈마 생성기(140)와 손톱 표면간 거리를 측정하는 센서이고, 유저 인터페이스(160)는, 사용자가 플라즈마 손톱 연마 장치(100)의 동작을 제어할 수 있는 명령을 입력할 수 있도록 하며, UV LED(170)는, 손톱(11)에 도포된 액상 코팅을 경화시킨다. The distance sensor 150 is a sensor that measures the distance between the plasma generator 140 and the surface of the nail, and the user interface 160 allows a user to input a command to control the operation of the plasma nail polishing apparatus 100. And, the UV LED 170 cures the liquid coating applied to the nails 11.

도 3은 도 1에 예시된 플라즈마 손톱 연마 장치의 일 실시예를 예시적으로 도시한 도면으로, (a)는 플라즈마 손톱 연마 장치(100)의 수직 단면을, (b)는 수평 단면을 각각 나타낸다.FIG. 3 is a diagram illustrating an exemplary embodiment of the plasma nail polishing apparatus illustrated in FIG. 1, wherein (a) is a vertical section of the plasma nail polishing apparatus 100, and (b) is a horizontal section. .

도 3을 참조하면, 플라즈마 손톱 연마 장치(100)는, 하우징(101), 하우징(101)의 내측면에 배치되어 손톱(11)의 위치를 결정하기 위한 손톱 위치 측정 센서(110R, 110L, 110C) 및 플라즈마 생성기(140)를 이동시키기 위한 이동 메커니즘(130)을 포함한다.Referring to FIG. 3, the plasma nail polishing apparatus 100 is disposed on the inner surface of the housing 101 and the housing 101 to determine the position of the nail 11 by fingernail position measurement sensors 110R, 110L, and 110C. ) And a movement mechanism 130 for moving the plasma generator 140.

손톱 위치 측정 센서(110R, 110L, 110C)는, 하우징(101) 우측벽(103)의 내면, 좌측벽(104)의 내면 및 후방벽(105)의 내면에 각각 배치된다. 손톱 위치 측정 센서(110R, 110L, 110C)는, 트랜스미터와 리시버가 교번하여 일렬로 배치된 광 센서 어레이이다. 트랜스미터가 생성한 빛은 손의 피부에서 반사되어 돌아오며, 리시버는 이를 검출하여 손까지의 거리를 측정할 수 있다. 손톱 위치 측정 센서(110R, 110L, 110C)는, 다른 센서와의 간섭을 피하기 위해서, 순차적으로 동작할 수 있다. The nail position measuring sensors 110R, 110L, 110C are disposed on the inner surface of the right wall 103 of the housing 101, the inner surface of the left wall 104, and the inner surface of the rear wall 105, respectively. The nail position measurement sensors 110R, 110L, and 110C are optical sensor arrays in which transmitters and receivers are alternately arranged in a row. The light generated by the transmitter is reflected back from the skin of the hand, and the receiver can detect it and measure the distance to the hand. The nail position measurement sensors 110R, 110L, and 110C may operate sequentially in order to avoid interference with other sensors.

이동 메커니즘(130)은, x축 방향 이동부(200) 및 y축 방향 이동부(210)를 포함하며, 선택적으로, z축 방향 이동부(220)를 더 포함할 수 있다. 도 3에 예시된 구조에서, x축 방향 이동부(200)는, 서보 모터(미도시), 서보 모터에 의해 회전하는 구동 롤러 및 가이드 롤러, 및 양 롤러에 체결된 벨트를 포함할 수 있다. 한편, y축 방향 이동부(210)는, 서보 모터(미도시) 및 서보 모터에 의해 회전하는 볼 스크류를 포함할 수 있다. y축 방향 이동부(210)의 양단은, x축 방향 이동부(200)의 벨트에 고정될 수 있다. x축 방향 이동부(200) 및 y축 방향 이동부(210)는, 경로 정보에 따라 각각 구동하여, 플라즈마 생성기(140)를, 손톱(11) 표면상에서 이동시키며, 연마가 완료되면, 다음 손톱(11)으로 플라즈마 생성기(140)를 이동시킨다. The movement mechanism 130 includes an x-axis direction moving part 200 and a y-axis direction moving part 210, and optionally, may further include a z-axis direction moving part 220. In the structure illustrated in FIG. 3, the x-axis direction moving unit 200 may include a servo motor (not shown), a driving roller and a guide roller rotating by the servo motor, and a belt fastened to both rollers. Meanwhile, the y-axis direction moving unit 210 may include a servo motor (not shown) and a ball screw rotated by the servo motor. Both ends of the y-axis direction moving part 210 may be fixed to the belt of the x-axis direction moving part 200. The x-axis direction moving unit 200 and the y-axis direction moving unit 210 are each driven according to path information to move the plasma generator 140 on the surface of the nail 11, and when polishing is completed, the next nail The plasma generator 140 is moved to (11).

한편, 플라즈마 손발톱 연마장치(100)는, UV LED(170)를 더 포함할 수 있다. 일 실시예로, UV LED(170)는, 하우징(101) 내부에 배치되어, 손(10) 전체를 살균할 수 있다. 다른 실시예로, UV LED(170)는, 플라즈마 생성기(140)와 함께 이동하여, 손톱(11)에 도포된 코팅을 경화시킬 수 있다.Meanwhile, the plasma nail polishing apparatus 100 may further include a UV LED 170. In one embodiment, the UV LED 170 is disposed inside the housing 101, so that the entire hand 10 may be sterilized. In another embodiment, the UV LED 170 may move together with the plasma generator 140 to cure the coating applied to the nail 11.

도 4는 도 3에 예시된 플라즈마 손톱 연마 장치의 동작을 예시적으로 설명하기 위한 도면이다.4 is a diagram for explaining an operation of the plasma nail polishing apparatus illustrated in FIG. 3 by way of example.

도 4의 (a)를 참조하면, 사용자가 플라즈마 손톱 연마 장치(100) 내부의 공간에 손(10)을 위치시킨다. 손톱 위치 측정 센서(110R, 110L, 110C)는, 동시에 또는 순차적으로 구동하여, 손(10)까지의 거리를 각각 측정한다. Referring to FIG. 4A, a user places a hand 10 in a space inside the plasma nail polishing apparatus 100. The nail position measurement sensors 110R, 110L, and 110C are driven simultaneously or sequentially to measure the distance to the hand 10, respectively.

(b)를 참조하면, 손톱 위치 측정 센서(110R, 110L, 110C)에 의해 측정된 거리를 이용하여, 손(10)의 윤곽(12)이 결정될 수 있다. 윤곽(12)을 이용하면, 적어도 5개의 손가락의 위치가 특정될 수 있으며, 그에 따라 손톱(11)의 위치도 특정될 수 있다. 손톱(11)의 평균적인 치수(면적, 폭, 길이 등)를 고려하면, 손톱(11)은 임의의 형태, 예를 들어, 원 또는 직사각형상의 영역 a1 내지 a5 내에 위치될 수 있다. 손톱의 종류(예를 들어, 엄지, 검지 등)에 따른 형상 및/또는 크기는 통계적으로 결정될 수 있으므로, 영역 a1 내지 a5 각각에 대해 플라즈마 처리할 영역이 결정될 수 있다. 여기서, 영역 a1 내지 a5의 면적은 서로 상이할 수 있다. 손톱 영역 정보는, 영역 a1 내지 a5의 기준점, 예를 들어, 원형상의 영역의 경우 중심점을 나타내는 (x, y)좌표 및 반지름을 포함할 수 있다.Referring to (b), the contour 12 of the hand 10 may be determined by using the distance measured by the fingernail position measurement sensors 110R, 110L, and 110C. Using the contour 12, the positions of at least five fingers can be specified, and accordingly, the positions of the fingernails 11 can also be specified. Taking into account the average dimensions (area, width, length, etc.) of the nail 11, the nail 11 may be located in an arbitrary shape, for example, a circle or rectangular area a1 to a5. Since the shape and/or size according to the type of fingernail (eg, thumb, index finger, etc.) can be statistically determined, a plasma treatment area may be determined for each of the areas a1 to a5. Here, the areas a1 to a5 may have different areas. The nail region information may include a reference point of the regions a1 to a5, for example, (x, y) coordinates and a radius indicating a center point in the case of a circular region.

손톱 영역 정보가 결정되면, 이를 이용하여, 컨트롤러(120)는 경로 정보를 생성한다. 경로 정보는, 영역간 이동을 위한 제1 경로 정보와, 영역 내 이동을 위한 제2 경로 정보를 포함한다.When the fingernail area information is determined, using this, the controller 120 generates path information. The route information includes first route information for movement between regions and second route information for movement within regions.

(c)를 참조하면, 이동 메커니즘(200, 210)은, 제1 경로 정보를 이용하여 플라즈마 생성기(140)를 영역 a1으로 이동시킨다. 이동이 완료되면, 플라즈마 생성기(140)는 플라즈마를 영역 a1을 향해 인가한다. 이 때, 이동 메커니즘(200, 210)은, 제2 경로 정보를 이용하여 플라즈마 생성기(140)를 영역 a1 내부에서 이동시킴으로써, 플라즈마 생성기(140)가 영역 a1 전체에 플라즈마를 인가할 수 있도록 한다. 영역 a1에 인가된 플라즈마에 의해 손톱의 표면이 매끄럽게 처리된다.Referring to (c), the movement mechanisms 200 and 210 move the plasma generator 140 to the area a1 using the first path information. When the movement is completed, the plasma generator 140 applies plasma toward the area a1. At this time, the movement mechanisms 200 and 210 move the plasma generator 140 within the area a1 using the second path information, so that the plasma generator 140 can apply the plasma to the entire area a1. The surface of the nail is smoothed by the plasma applied to the area a1.

(d)를 참조하면, 이동 메커니즘(200, 210)은, 제1 경로 정보를 이용하여 플라즈마 생성기(140)를 영역 a1에서 a2로 이동시킨다. 이동이 완료되면, 플라즈마 생성기(140)는 플라즈마를 영역 a2를 향해 인가한다. 이후 같은 방식으로 영역 a3 내지 a5에 대해서도 플라즈마가 인가될 수 있다.Referring to (d), the movement mechanisms 200 and 210 move the plasma generator 140 from the area a1 to a2 using the first path information. When the movement is complete, the plasma generator 140 applies plasma toward the area a2. Thereafter, plasma may be applied to regions a3 to a5 in the same manner.

도 5는 도 1에 예시된 플라즈마 손톱 연마 장치의 다른 실시예를 예시적으로 도시한 도면으로, (a)는 플라즈마 손톱 연마 장치(100)의 수직 단면을, (b)는 수평 단면을 각각 나타낸다.5 is a diagram illustrating another embodiment of the plasma nail polishing apparatus illustrated in FIG. 1 by way of example, where (a) is a vertical section of the plasma nail polishing apparatus 100, and (b) is a horizontal section, respectively. .

도 5를 참조하면, 플라즈마 손톱 연마 장치(100)는, 하우징(101), 하우징(101)의 내측면에 배치되어 손톱(11)의 위치를 결정하기 위한 손톱 위치 측정 센서(111) 및 플라즈마 생성기(140)를 이동시키기 위한 이동 메커니즘(200, 210, 220)을 포함한다.Referring to FIG. 5, the plasma nail polishing apparatus 100 includes a housing 101, a nail position measuring sensor 111 and a plasma generator disposed on the inner surface of the housing 101 to determine the position of the nail 11 It includes a movement mechanism (200, 210, 220) for moving 140.

손톱 위치 측정 센서(111)는, 하우징(101) 상부벽(106)의 내면에 배치될 수 있다. 손톱 위치 측정 센서(111)는 이미지 센서로서, 센서 하부에 위치한 손(10)을 촬영한다. 손 영상에서 손톱은, 공지의 알고리즘, 예를 들어, distribution density of strong nail-color pixel 방식이나 color continuity 방식(Fingernail Detection Method from Hand Images including Palm, MVA2013 IAPR International Conference on Machine Vision Application, 2013 참조)를 이용하여 식별될 수 있다. 한편, 이미지 센서로 손톱의 위치를 촬영하는 경우, 사용자의 손톱 색깔이 판별될 수 있다. 플라즈마 손톱 연마 장치(100)는, 판별된 사용자의 손톱 색깔을 저장장치를 내장하거나 통신망을 통해 외부에 위치한 저장장치에 저장할 수 있다. 이를 통해, 사용자별 손톱 관리가 가능해질 수 있다. The nail position measurement sensor 111 may be disposed on the inner surface of the upper wall 106 of the housing 101. The fingernail position measurement sensor 111 is an image sensor and photographs the hand 10 located under the sensor. In the hand image, the nail uses a known algorithm, for example, a distribution density of strong nail-color pixel method or color continuity method (see Fingernail Detection Method from Hand Images including Palm, MVA2013 IAPR International Conference on Machine Vision Application, 2013). Can be identified using. On the other hand, when the location of the fingernail is photographed by the image sensor, the color of the user's fingernail can be determined. The plasma nail polishing apparatus 100 may store the determined color of the user's nails in a storage device located outside through a storage device or through a communication network. Through this, nail management for each user may be possible.

이동 메커니즘(130)은, x축 방향 이동부(200) 및 y축 방향 이동부(210)를 포함하며, 선택적으로, z축 방향 이동부(220)를 더 포함할 수 있다. 도 3에 예시된 구조에서, x축 방향 이동부(200)는, 서보 모터(미도시), 서보 모터에 의해 회전하는 구동 롤러 및 가이드 롤러, 및 양 롤러에 체결된 벨트를 포함할 수 있다. 한편, y축 방향 이동부(210)는, 서보 모터(미도시) 및 서보 모터에 의해 회전하는 볼 스크류를 포함할 수 있다. y축 방향 이동부(210)의 양단은, x축 방향 이동부(200)의 벨트에 고정될 수 있다. x축 방향 이동부(200) 및 y축 방향 이동부(210)는, 경로 정보에 따라 각각 구동하여, 플라즈마 생성기(140)를, 손톱(11) 표면상에서 이동시키며, 연마가 완료되면, 다음 손톱(11)으로 플라즈마 생성기(140)를 이동시킨다. The movement mechanism 130 includes an x-axis direction moving part 200 and a y-axis direction moving part 210, and optionally, may further include a z-axis direction moving part 220. In the structure illustrated in FIG. 3, the x-axis direction moving unit 200 may include a servo motor (not shown), a driving roller and a guide roller rotating by the servo motor, and a belt fastened to both rollers. Meanwhile, the y-axis direction moving unit 210 may include a servo motor (not shown) and a ball screw rotated by the servo motor. Both ends of the y-axis direction moving part 210 may be fixed to the belt of the x-axis direction moving part 200. The x-axis direction moving unit 200 and the y-axis direction moving unit 210 are each driven according to path information to move the plasma generator 140 on the surface of the nail 11, and when polishing is completed, the next nail The plasma generator 140 is moved to (11).

한편, 플라즈마 손발톱 연마장치(100)는, UV LED(170)를 더 포함할 수 있다. 일 실시예로, UV LED(170)는, 하우징(101) 내부에 배치되어, 손(10) 전체를 살균할 수 있다. 다른 실시예로, UV LED(170)는, 플라즈마 생성기(140)와 함께 이동하여, 손톱(11)에 도포된 코팅을 경화시킬 수 있다.Meanwhile, the plasma nail polishing apparatus 100 may further include a UV LED 170. In one embodiment, the UV LED 170 is disposed inside the housing 101, so that the entire hand 10 may be sterilized. In another embodiment, the UV LED 170 may move together with the plasma generator 140 to cure the coating applied to the nail 11.

도 6은 도 5에 예시된 플라즈마 손톱 연마 장치의 동작을 예시적으로 설명하기 위한 도면이다.6 is a view for explaining the operation of the plasma nail polishing apparatus illustrated in FIG. 5 by way of example.

도 6의 (a)를 참조하면, 사용자가 플라즈마 손톱 연마 장치(100) 내부의 공간에 손(10)을 위치시킨다. 손톱 위치 측정 센서(111)는, 손(10)을 촬영하여 손 영상을 생성한다. Referring to FIG. 6A, a user places a hand 10 in a space inside the plasma nail polishing apparatus 100. The fingernail position measurement sensor 111 generates a hand image by photographing the hand 10.

(b)를 참조하면, 손톱 위치 측정 센서(111)에 의해 생성된 손 영상 내에서 손톱에 대응하는 영역 a1' 내지 a5'가 결정될 수 있다. 손 영상에서 손톱에 대응하는 영역 a1' 내지 a5'은, 상술한 공지의 알고리즘을 이용하여 특정될 수 있다. 도 4의 영역 a1 내지 a5와 비교할 때, 영역 a1' 내지 a5'는 손톱(11)의 실제 형상과 실질적으로 일치하는 형태를 가질 수 있다. 손톱 영역 정보는, 영역 a1' 내지 a5'의 경계를 나타내는 복수의 (x, y)좌표를 포함할 수 있다.Referring to (b), regions a1' to a5' corresponding to the nails in the hand image generated by the fingernail position measurement sensor 111 may be determined. Regions a1' to a5' corresponding to the fingernails in the hand image may be specified using the known algorithm described above. Compared with the regions a1 to a5 of FIG. 4, the regions a1 ′ to a5 ′ may have a shape substantially matching the actual shape of the nail 11. The fingernail region information may include a plurality of (x, y) coordinates representing the boundary of regions a1' to a5'.

손톱 영역 정보가 결정되면, 이를 이용하여, 컨트롤러(120)는 경로 정보를 생성한다. 경로 정보는, 영역간 이동을 위한 제1 경로 정보와, 영역 내 이동을 위한 제2 경로 정보를 포함한다.When the fingernail area information is determined, using this, the controller 120 generates path information. The route information includes first route information for movement between regions and second route information for movement within regions.

(c)를 참조하면, 이동 메커니즘(200, 210)은, 제1 경로 정보를 이용하여 플라즈마 생성기(140)를 영역 a1으로 이동시킨다. 이동이 완료되면, 플라즈마 생성기(140)는 플라즈마를 영역 a1을 향해 인가한다. 이 때, 이동 메커니즘(200, 210)은, 제2 경로 정보를 이용하여 플라즈마 생성기(140)를 영역 a1 내부에서 이동시킴으로써, 플라즈마 생성기(140)가 영역 a1 전체에 플라즈마를 인가할 수 있도록 한다. 영역 a1에 인가된 플라즈마에 의해 손톱의 표면이 매끄럽게 처리된다.Referring to (c), the movement mechanisms 200 and 210 move the plasma generator 140 to the area a1 using the first path information. When the movement is completed, the plasma generator 140 applies plasma toward the area a1. At this time, the movement mechanisms 200 and 210 move the plasma generator 140 within the area a1 using the second path information, so that the plasma generator 140 can apply the plasma to the entire area a1. The surface of the nail is smoothed by the plasma applied to the area a1.

(d)를 참조하면, 이동 메커니즘(200, 210)은, 제1 경로 정보를 이용하여 플라즈마 생성기(140)를 영역 a1에서 a2로 이동시킨다. 이동이 완료되면, 플라즈마 생성기(140)는 플라즈마를 영역 a2를 향해 인가한다. 이후 같은 방식으로 영역 a3 내지 a5에 대해서도 플라즈마가 인가될 수 있다.Referring to (d), the movement mechanisms 200 and 210 move the plasma generator 140 from the area a1 to a2 using the first path information. When the movement is complete, the plasma generator 140 applies plasma toward the area a2. Thereafter, plasma may be applied to regions a3 to a5 in the same manner.

도 7은 플라즈마 생성기의 상하 이동을 예시적으로 도시한 도면이다.7 is a diagram illustrating an example of vertical movement of the plasma generator.

사람의 손가락은 각각이 서로 다른 두께를 가지며, 이로 인해, 플라즈마 발생기(140)와 손톱(11) 표면간 거리가 달라진다. 도 7을 참조하면, z 축 방향 이동부(220)는, 플라즈마 발생기(140)를 z 축 방향으로 이동시켜서 플라즈마 발생기(140)와 손톱(11) 표면간 거리를 일정하게 유지할 수 있다. 도 7에 예시된 구조에서, z 축 방향 이동부(220)는, 제1 나사산이 형성된 롤러(221) 및 제1 나사산에 체결되는 제2 나사산이 일측면에 형성된 수직 이동 부재(222)를 포함할 수 있다. 롤러(221)가 시계 방향으로 회전하면, 수직 이동 부재(222)는 하방으로 이동하며, 반대로, 롤러(221)가 반시계 방향으로 회전하면 수직 이동 부재(222)는 상방으로 이동한다. 플라즈마 생성기(140)는, 수직 이동 부재(222)에 결합되거나 일체로 형성될 수 있다.Each of the human fingers has a different thickness, and thus, the distance between the plasma generator 140 and the surface of the nail 11 is different. Referring to FIG. 7, the z-axis direction moving part 220 may move the plasma generator 140 in the z-axis direction to maintain a constant distance between the plasma generator 140 and the surface of the nail 11. In the structure illustrated in FIG. 7, the z-axis direction moving part 220 includes a roller 221 having a first thread formed thereon, and a vertical moving member 222 having a second thread fastened to the first thread formed on one side thereof. can do. When the roller 221 rotates in a clockwise direction, the vertical movement member 222 moves downward, and on the contrary, when the roller 221 rotates in a counterclockwise direction, the vertical movement member 222 moves upward. The plasma generator 140 may be coupled to or integrally formed with the vertical moving member 222.

z 축 방향 이동부(220)는, 하방을 향하도록 배치되어 손톱(11) 표면까지의 거리를 측정할 수 있는 거리 센서(150)를 더 포함할 수 있다. 사람마다 편차는 있지만, 손톱(11) 표면은 완만한 곡면이며, 손(10)을 평평한 바닥에 놓으면, 중지부터 애지 손톱의 표면은 바닥면과 실질적으로 수평하게 되지만, 엄지 손톱은 바닥면에 대해 경사지게 된다. 따라서, 나머지 손톱에서의 z 축 방향 이동의 범위보다, 엄지 손톱에서의 플라즈마 생성기(140)의 z 축 방향 이동의 범위가 더 클 수 있다. The z-axis direction moving unit 220 may further include a distance sensor 150 that is disposed to face downward and can measure a distance to the surface of the nail 11. Although there are variations for each person, the surface of the nail 11 is a smooth curved surface, and when the hand 10 is placed on a flat floor, the surface of the fingernail from the middle finger becomes substantially horizontal with the bottom surface, but the thumb nail is It becomes inclined. Accordingly, the range of movement in the z-axis direction of the plasma generator 140 in the thumb nail may be greater than the range of movement in the z-axis direction in the remaining nails.

도 8은 플라즈마 생성기의 회전 이동을 예시적으로 도시한 도면이다.8 is a diagram illustrating an exemplary rotational movement of a plasma generator.

곡면인 손톱(11)의 표면을 추종하기 위해서, z 축 방향 이동부(220)는 임의의 각도 θ로 회전(틸트)될 수 있다. 도 7에서 설명한 바와 같이, 엄지 손톱의 경우, 평평한 바닥을 기준으로 임의의 각도 θ로 경사지기 때문에, z 축 방향 이동의 범위가 다른 손톱에 비해 커지게 된다. z 축 방향 이동부(220)가 틸트되면, 플라즈마 발생기(140)가 실질적으로 수직하게 손톱(11) 표면을 향하게 된다. 따라서 손톱(11) 표면을 보다 균일하게 연마할 수 있게 된다.In order to follow the surface of the curved nail 11, the z-axis direction moving part 220 may be rotated (tilted) at an arbitrary angle θ. As described in FIG. 7, since the thumb nail is inclined at an arbitrary angle θ based on the flat floor, the range of movement in the z-axis direction becomes larger than that of other nails. When the z-axis direction moving part 220 is tilted, the plasma generator 140 faces the surface of the nail 11 substantially vertically. Therefore, it is possible to polish the surface of the nail 11 more evenly.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. The above description of the present invention is for illustrative purposes only, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative and non-limiting in all respects.

본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타나며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the claims to be described later rather than the detailed description, and all changes or modified forms derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be construed as being included in the scope of the present invention. .

Claims (12)

일측에 손 삽입구가 형성된 하우징;
상기 하우징 내부에 배치되며, 상기 하우징에 내부로 삽입된 손에서 손톱 영역을 결정하기 위한 측정 정보를 생성하는 손톱 위치 측정 센서;
결정된 손톱 영역을 향해 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 생성기;
경로 정보에 기초하여 상기 플라즈마 생성기를 이동시키는 이동 메커니즘; 및
상기 측정 정보에 기초하여 상기 이동 메커니즘이 상기 결정된 손톱 영역으로 상기 플라즈마 생성기를 이동시키도록 하는 상기 경로 정보를 생성하는 컨트롤러를 포함하는 플라즈마 손톱 연마 장치.A housing having a hand insertion port formed on one side thereof;
A fingernail position measurement sensor disposed inside the housing and generating measurement information for determining a fingernail region in a hand inserted into the housing;
A plasma generator for generating plasma toward the determined nail area;
A movement mechanism for moving the plasma generator based on path information; And
And a controller that generates the path information for causing the movement mechanism to move the plasma generator to the determined nail region based on the measurement information. 청구항 1에 있어서, 상기 이동 메커니즘은,
상기 플라즈마 생성기를 제1 축 방향으로 이동시키는 제1 축 방향 이동부; 및
상기 플라즈마 생성기를 제2 축 방향으로 이동시키는 제2 축 방향 이동부를 포함하는 플라즈마 손톱 연마 장치.The method of claim 1, wherein the movement mechanism,
A first axial movement part for moving the plasma generator in a first axial direction; And
Plasma nail polishing apparatus comprising a second axial movement unit for moving the plasma generator in a second axial direction. 청구항 2에 있어서, 상기 이동 메커니즘은,
상기 플라즈마 생성기를 제3축 방향으로 이동시키는 제3 축 방향 이동부를 더 포함하는 플라즈마 손톱 연마 장치.The method of claim 2, wherein the movement mechanism,
Plasma nail polishing apparatus further comprising a third axial movement unit for moving the plasma generator in the third axial direction. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서, 상기 이동 메커니즘은, 상기 플라즈마 생성기를 상기 결정된 손톱 영역을 향하도록 틸트시킬 수 있는 플라즈마 손톱 연마 장치.The plasma nail polishing apparatus according to claim 2 or 3, wherein the movement mechanism is capable of tilting the plasma generator toward the determined nail region. 청구항 1에 있어서, 상기 손톱 위치 측정 센서는,
트랜스미터와 리시버를 상기 하우징 내부의 제1 측면에 교번하게 배치한 제1 광 센서 어레이;
트랜스미터와 리시버를 상기 하우징 내부의 제2 측면에 교번하게 배치한 제2 광 센서 어레이; 및
트랜스미터와 리시버를 상기 하우징 내부의 제3 측면에 교번하게 배치한 제3 광 센서 어레이를 포함하는 플라즈마 손톱 연마 장치.The method according to claim 1, wherein the fingernail position measurement sensor,
A first optical sensor array in which a transmitter and a receiver are alternately disposed on a first side surface of the housing;
A second optical sensor array in which a transmitter and a receiver are alternately disposed on a second side of the housing; And
Plasma nail polishing apparatus comprising a third optical sensor array in which a transmitter and a receiver are alternately disposed on a third side surface inside the housing. 청구항 5에 있어서, 상기 손톱 영역은, 상기 제1 내지 제3 광 센서 어레이에 의해 생성된 상기 손의 윤곽에서 결정되는 플라즈마 손톱 연마 장치.The plasma nail polishing apparatus of claim 5, wherein the nail region is determined from an outline of the hand generated by the first to third optical sensor arrays. 청구항 1에 있어서, 상기 손톱 위치 측정 센서는, 상기 하우징에 내부로 삽입된 손의 손등을 향하도록 상기 하우징 내부에 배치된 이미지 센서인 플라즈마 손톱 연마 장치.The plasma nail polishing apparatus of claim 1, wherein the fingernail position measurement sensor is an image sensor disposed inside the housing so as to face the back of a hand inserted into the housing. 청구항 1에 있어서, 상기 경로 정보는,
상기 플라즈마 생성기를 손톱간에 이동시키기 위한 제1 경로 정보; 및
상기 플라즈마 생성기를 손톱내에서 이동시키기 위한 제2 경로 정보를 포함하는 플라즈마 손톱 연마 장치.The method of claim 1, wherein the route information,
First path information for moving the plasma generator between nails; And
Plasma nail polishing apparatus including second path information for moving the plasma generator within the nail. 청구항 1에 있어서, 상기 하우징 내부에 배치되는 UV LED를 더 포함하는 플라즈마 손톱 연마 장치.The plasma nail polishing apparatus of claim 1, further comprising a UV LED disposed inside the housing. 손에서 손톱 영역을 결정하기 위한 측정 정보를 생성하는 손톱 위치 측정 센서;
결정된 손톱 영역을 향해 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 생성기;
경로 정보에 기초하여 상기 플라즈마 생성기를 상기 손의 상부에서 제1 축 방향, 제2 축 방향 및 이들의 조합 중 어느 한 방향으로 이동시키는 이동 메커니즘; 및
상기 측정 정보에 기초하여 상기 이동 메커니즘이 상기 결정된 손톱 영역으로 상기 플라즈마 생성기를 이동시키도록 하는 상기 경로 정보를 생성하는 컨트롤러를 포함하는 플라즈마 손톱 연마 장치.A fingernail position measurement sensor that generates measurement information for determining a fingernail area in the hand;
A plasma generator for generating plasma toward the determined nail area;
A movement mechanism for moving the plasma generator from an upper portion of the hand in any one of a first axis direction, a second axis direction, and a combination thereof based on path information; And
And a controller that generates the path information for causing the movement mechanism to move the plasma generator to the determined nail region based on the measurement information. 청구항 10에 있어서, 상기 이동 메커니즘은, 상기 플라즈마 생성기를 상기 결정된 손톱 영역을 향해 제3 축 방향으로 이동시키는 플라즈마 손톱 연마 장치.The plasma nail polishing apparatus according to claim 10, wherein the movement mechanism moves the plasma generator toward the determined nail region in a third axis direction. 청구항 10 또는 청구항 11에 있어서, 상기 플라즈마 생성기를 상기 결정된 손톱 영역을 향하도록 틸트시킬 수 있는 플라즈마 손톱 연마 장치.
The plasma nail polishing apparatus according to claim 10 or 11, wherein the plasma generator is tilted toward the determined nail area.
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