KR20210000887A - Liquid crystal cell - Google Patents
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1341—Filling or closing of cells
-
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- G02F1/13415—Drop filling process
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- G02F2001/13415—
Abstract
Description
본 출원은 액정셀에 관한 것이다. The present application relates to a liquid crystal cell.
액정셀은 진공 합착 방법(VALC; Vacuum Alignment with Liquid Cristal Process 또는 ODF; One Drop Filling)으로 제조될 수 있다. 진공 합착 방법은 제 1 기판 상에 실런트를 도포하는 공정, 액정을 닷팅하는 공정, 제 2 기판을 진공 합착하는 공정 및 실런트를 경화하는 공정의 순으로 진행될 수 있다. The liquid crystal cell may be manufactured by a vacuum alignment method (VALC; Vacuum Alignment with Liquid Cristal Process or ODF; One Drop Filling). The vacuum bonding method may be performed in the following order: a process of applying a sealant on a first substrate, a process of doting a liquid crystal, a process of vacuum bonding the second substrate, and a process of curing the sealant.
이때, 액정셀의 최외곽부는 실런트와 액정의 경계면으로 이루어지며 몇 가지 해결해야 할 문제가 있다. 첫 번째는, 실런트 라인의 직진성이다. 실런트 라인의 직진성이 좋지 않으면, 액절셀 내에 액정이 채워지는 부피도 흔들리게 되어, 액정 과량에 의한 액정 몰림 얼룩 또는 액정 부족에 의한 보이드 문제가 발생할 가능성 있다. 두 번째는, 실런트 높이 조정이다. 실런트 라인을 최대한 유지하기 위해서는 고점도의 실런트를 사용해야 하는데, 이 경우 진공 합착 시 잘 눌려지지 않아 액정 영역의 높이 대비 실런트 영역의 높이가 증가하여 배면 합착 공정 시 문제가 발생 가능성 있다. 세 번째는, 실런트와 액정 간의 오염이다. 실런트는 경화되기 전에 액정과 접하므로, 액정 내로 실런트 용출 또는 실런트 내로 액정 오염 등의 문제가 발생할 수 있다. 네 번째는, 베젤 컬러 조정이다. 액정셀의 배젤부에 실런트만 위치하므로 배젤부 컬러 조정을 위해서는 실런트의 컬러를 조정해야 한다. 그럴 경우 실런트 부착력 감소 등의 문제가 발생할 수 있다. 또한, 액정셀에 필름 기재를 적용하기 위해서는, 제 1 기판과 제 2 기판의 간격을 유지하는 스페이서 패턴의 높이의 균일성도 중요하다. At this time, the outermost portion of the liquid crystal cell is formed of the interface between the sealant and the liquid crystal, and there are several problems to be solved. The first is the straightness of the sealant line. If the straightness of the sealant line is not good, the volume filled with liquid crystal in the accelerator cell will also fluctuate, and there is a possibility that a liquid crystal flow spot due to an excess of liquid crystal or a void problem due to insufficient liquid crystal may occur. The second is the height adjustment of the sealant. In order to maintain the sealant line as much as possible, a high-viscosity sealant must be used. In this case, the sealant area increases in height compared to the height of the liquid crystal area because it is not easily pressed during vacuum bonding, causing problems during the rear bonding process. The third is contamination between the sealant and the liquid crystal. Since the sealant contacts the liquid crystal before curing, problems such as elution of the sealant into the liquid crystal or contamination of the liquid crystal into the sealant may occur. Fourth, bezel color adjustment. Since only the sealant is located in the bezel part of the liquid crystal cell, the color of the sealant must be adjusted to adjust the color of the bezel part. In that case, problems such as a decrease in sealant adhesion may occur. In addition, in order to apply the film substrate to the liquid crystal cell, the uniformity of the height of the spacer pattern maintaining the distance between the first substrate and the second substrate is also important.
본 출원은 액정셀에 사이드 댐을 적용함으로써, 실런트 라인의 직진성이 우수하고, 실런트의 높이 조정이 가능하며, 실러트와 액정 간의 오염을 방지할 수 있고, 베젤 부의 컬러 조정이 가능한 액정셀을 제공할 뿐만 아니라, 사이드 댐과 스페이서 패턴의 높이의 균일성을 확보할 수 있는 액정셀을 제공한다. This application provides a liquid crystal cell with excellent linearity of the sealant line, height adjustment of the sealant, prevention of contamination between the sealant and liquid crystal, and color adjustment of the bezel by applying a side dam to the liquid crystal cell. In addition, it provides a liquid crystal cell capable of securing uniformity in heights of side dams and spacer patterns.
본 출원은 액정셀에 관한 것이다. 도 1 및 도 2는 각각 본 출원의 액정셀의 구조를 예시적으로 나타낸다. 본 출원의 액정셀은 제 1 기판(101), 상기 제 1 기판 상의 외곽 부에 형성된 실런트(200), 상기 실런트의 내측면에 접하도록 형성된 사이드 댐(300), 상기 사이드 댐과 이격 배치된 컬럼 스페이서(400), 상기 사이드 댐 또는 컬럼 스페이서에 부착된 볼 스페이서(500), 상기 실런트, 사이드 댐 및 컬럼 스페이서 상에 적층된 제 2 기판(102); 및 상기 제 1 기판과 제 2 기판의 사이에 채워진 액정(600)을 포함할 수 있다. 본 명세서에서 A의 내측면은 A를 기준으로 액정이 존재하는 방향의 면을 의미할 수 있다. 상기 컬럼 스페이서와 상기 사이드 댐은 각각 컬러를 가질 수 있다. 상기 컬럼 스페이서와 상기 사이드 댐의 400nm 내지 700 nm 파장의 광에 대해 측정한 투과율은 각각 1% 내지 20%의 범위 내일 수 있다. The present application relates to a liquid crystal cell. 1 and 2 each exemplarily show the structure of a liquid crystal cell of the present application. The liquid crystal cell of the present application includes a
본 명세서에서 투과율 및 헤이즈는, 헤이즈미터, NDH-5000SP를 이용하여, ASTM D1003 규격에 따라 측정된 값일 수 있다. 즉, 광을 측정 대상을 투과시켜 적분구 내로 입사시키며, 이 과정에서 광은 측정 대상에 의하여 확산광(DT, 확산되어 출광된 모든 광의 합을 의미)과 직진광(PT, 확산광을 배제한 정면 방향의 출광을 의미)으로 분리되는데, 이 광들은 적분구 내에서 수광 소자에 집광되고, 집광되는 광을 통해 상기 투과율과 헤이즈를 측정한다. 상기 과정에 의한 전체 투과광(TT)은 상기 확산광(DT)과 직진광(PT)의 총합(DT+PT)이고, 헤이즈는 상기 전체 투과광에 대한 확산광의 백분율(Haze(%)=100XDT/TT)로 규정될 수 있다. 본 명서세에서 투과율은 상기 전체 투과광(TT)의 % 비율을 의미하고, 헤이즈는 상기 확산광(DT)의 % 비율을 의미한다. In the present specification, transmittance and haze may be values measured according to ASTM D1003 standards using a haze meter and NDH-5000SP. In other words, the light is transmitted through the object to be measured and is incident into the integrating sphere. In this process, the light is diffused by the object to be measured (DT, meaning the sum of all the light that has been diffused and emitted) and straight light (PT, the front side excluding diffused light) (Meaning the outgoing light in the direction), the light is condensed by the light receiving element in the integrating sphere, and the transmittance and haze are measured through the condensed light. The total transmitted light (TT) by the above process is the sum of the diffused light (DT) and the straight light (PT) (DT + PT), and the haze is the percentage of the diffused light to the total transmitted light (Haze (%) = 100XDT/TT ) Can be specified. In this specification, transmittance refers to a% ratio of the total transmitted light (TT), and haze refers to a% ratio of the diffused light (DT).
본 출원의 액정셀은 실란트 라인의 직진성을 개선하여 액정 닷팅량의 정확도를 개선할 수 있고, 저 점도의 실런트의 사용이 가능하므로 실런트의 높이의 조정이 가능하며, 실런트와 액정 간의 오염을 방지할 수 있고, 사이드 댐에 컬러를 부여하여 베젤 부의 컬러 컨트롤도 가능할 뿐만 아니라, 사이드 댐과 컬럼 스페이서의 패턴을 균일한 높이로 형성할 수 있다. The liquid crystal cell of the present application can improve the accuracy of the liquid crystal doting amount by improving the linearity of the sealant line, and the height of the sealant can be adjusted because the sealant of low viscosity can be used, and contamination between the sealant and the liquid crystal can be prevented. In addition, color control of the bezel part is possible by giving a color to the side dam, and a pattern of the side dam and the column spacer can be formed with a uniform height.
[실런트][Sealant]
실런트는 제 1 기판 상의 외곽부, 보다 구체적으로, 최외곽부에 형성되어 있으며, 제 1 기판과 제 2 기판을 부착하는 기능을 할 수 있다. 실런트로 구분되는 내부 영역은 액티브 영역으로 호칭할 수 있다. 상기 액티브 영역에는 사이드 댐, 컬럼 스페이서, 볼 스페이서 및 액정이 존재할 수 있다. The sealant is formed on an outer portion of the first substrate, more specifically, an outermost portion, and may function to attach the first substrate and the second substrate. The inner area divided by the sealant may be referred to as an active area. Side dams, column spacers, ball spacers, and liquid crystals may be present in the active region.
실런트의 선폭은 예를 들어, 1 mm 내지 5 mm의 범위 내일 수 있다. 상기 선폭은 보다 구체적으로 1 mm 이상, 1.5 mm 이상 또는 2 mm 이상일 수 있고, 5 mm 이하, 4.5 mm 이하, 4 mm 이하, 3.5 mm 이하 또는 3 mm 이하일 수 있다. The line width of the sealant may be in the range of 1 mm to 5 mm, for example. The line width may be more specifically 1 mm or more, 1.5 mm or more, or 2 mm or more, and may be 5 mm or less, 4.5 mm or less, 4 mm or less, 3.5 mm or less, or 3 mm or less.
실런트는 경화성 수지를 포함할 수 있다. 실런트는 경화성 수지를 전체 중량을 기준으로 50 중량% 이상, 60 중량% 이상, 70 중량% 이상, 80 중량% 이상 또는 90 중량% 이상으로 포함할 수 있다. The sealant may include a curable resin. The sealant may include 50% by weight or more, 60% by weight or more, 70% by weight or more, 80% by weight or more, or 90% by weight or more based on the total weight of the curable resin.
실런트는 경화성 수지로서, 광경화성 수지, 열경화성 수지 또는 광경화성 수지와 열경화성 수지의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 광 경화성 수지는 예를 들어 자외선 경화성 수지일 수 있다. 상기 광 경화성 수지는 광 경화성 모노머의 중합체일 수 있다. 상기 열 경화성 수지는 열 경화성 모노머의 중합체일 수 있다. The sealant is a curable resin, and may include a photocurable resin, a thermosetting resin, or a mixture of a photocurable resin and a thermosetting resin. The photocurable resin may be, for example, an ultraviolet curable resin. The photocurable resin may be a polymer of photocurable monomers. The thermosetting resin may be a polymer of a thermosetting monomer.
상기 경화성 수지로는, 예를 들어, 아크릴레이트계 수지, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지, 페놀계 수지 또는 상기 수지의 혼합물을 사용할 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 경화성 수지는 아크릴레이트계 수지일 수 있고, 상기 아크릴레이트계 수지는 아크릴 단량체의 중합체일 수 있다. 상기 아크릴 단량체는 예를 들어 다관능성 아크릴레이트일 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 실런트는 경화성 수지에, 단량체 성분을 더 포함할 수 있다. 상기 단량체 성분은 예를 들어 일관능성 아크릴레이트일 수 있다. 본 명세서에서 일관능성 아크릴레이트는 아크릴기를 1개 갖는 화합물을 의미할 수 있고, 다관능성 아크릴레이트는 아크릴기를 2개 이상 갖는 화합물을 의미할 수 있다. 상기 경화성 수지는 자외선의 조사 및/또는 가열에 의해 경화될 수 있다. 상기 자외선 조사 조건 또는 가열 조건은 본 출원의 목적을 손상시키지 않는 범위 내에서 적절히 수행될 수 있다. 상기 실런트는 필요한 경우 개시제, 예를 들어 광 개시제 또는 열 개시제를 더 포함할 수 있다.As the curable resin, for example, an acrylate resin, an epoxy resin, a urethane resin, a phenol resin, or a mixture of the above resins may be used. In one example, the curable resin may be an acrylate-based resin, and the acrylate-based resin may be a polymer of an acrylic monomer. The acrylic monomer may be, for example, a polyfunctional acrylate. In one example, the sealant may further include a monomer component in the curable resin. The monomer component may be, for example, a monofunctional acrylate. In the present specification, monofunctional acrylate may mean a compound having one acrylic group, and polyfunctional acrylate may mean a compound having two or more acrylic groups. The curable resin may be cured by irradiation and/or heating of ultraviolet rays. The ultraviolet irradiation conditions or heating conditions may be appropriately performed within a range not impairing the object of the present application. If necessary, the sealant may further include an initiator, for example, a photo initiator or a thermal initiator.
실런트에 포함되는 경화성 수지의 상온 점도는 예를 들어 10,000 cP 내지 500,000 cP 범위 내일 수 있다. 본 명세서에서 상온(normal temperature)은 인위적으로 온도 조절을 하지 않은 상태의 온도를 의미할 수 있다. 상온은 예를 들어 20℃ 내지 40℃ 범위, 20℃ 내지 30℃ 범위, 구체적으로, 약 25℃의 온도를 의미할 수 있다. The room temperature viscosity of the curable resin included in the sealant may be in the range of 10,000 cP to 500,000 cP, for example. In the present specification, the normal temperature may mean a temperature in which temperature is not artificially controlled. Room temperature may mean, for example, a temperature of 20°C to 40°C, 20°C to 30°C, specifically, about 25°C.
실런트는 상온 점도가 1만 cP 내지 10만 cP 범위 내인 저 점도의 경화성 수지를 포함하거나 또는 상온 점도가 10만 cP 내지 50만 cP 범위 내인 고 점도의 경화성 수지를 포함할 수 있다. 본 출원의 액정셀에 따르면, 사이드 댐으로 인해, 저 점도의 경화성 수지를 사용하여 실란트를 형성할 수 있다. 따라서, 본 출원의 액정셀은 고 점도의 경화성 수지의 사용으로 인해, 진공 합착 시 잘 눌려지지 않아 액정 영역 대비 실런트 영역의 높이가 증가하여 배면 합착 공정 시의 문제를 해소할 수 있다. The sealant may include a low viscosity curable resin having a room temperature viscosity of 10,000 cP to 100,000 cP, or a high viscosity curable resin having a room temperature viscosity of 100,000 cP to 500,000 cP. According to the liquid crystal cell of the present application, due to the side dam, a sealant can be formed using a curable resin having a low viscosity. Accordingly, the liquid crystal cell of the present application is hardly pressed during vacuum bonding due to the use of a curable resin having a high viscosity, so that the height of the sealant area is increased compared to the liquid crystal area, thereby solving the problem during the rear bonding process.
실런트의 점도는 당 업계에 공지된 방식에 의해 조절될 수 있다. 하나의 예시에서, 실런트의 점도는 원하는 점도를 나타내는 경화성 수지를 사용하거나 또는, 경화성 수지에 점도 조절제를 첨가하여 조절할 수 있다. 점도 조절제로는 점도 증가제 또는 점도 감소제가 있으며, 구현하고자 하는 실런트의 점도에 따라 점도 조절제를 적정량 첨가할 수 있다. 상기 점도 조절제로는 당 업계에 공지된 점도 조절제를 사용할 수 있으며, 예를 들어, 실리카, 탄산칼륨, 탈크, 산화알루미늄, 알루미나, 황토 또는 유리분말 등을 사용할 수 있다.The viscosity of the sealant can be adjusted by methods known in the art. In one example, the viscosity of the sealant may be adjusted by using a curable resin exhibiting a desired viscosity or by adding a viscosity modifier to the curable resin. The viscosity modifier may be a viscosity increasing agent or a viscosity reducing agent, and an appropriate amount of a viscosity modifier may be added according to the viscosity of the sealant to be implemented. As the viscosity modifier, a viscosity modifier known in the art may be used, for example, silica, potassium carbonate, talc, aluminum oxide, alumina, loess or glass powder.
실런트는 투명할 수 있다. 실런트에 포함되는 경화성 수지는 투명 경화성 수지일 수 있다. 이때, 실런트는 후술하는 차광도 조절제를 포함하지 않을 수 있다. 실런트의 400nm 내지 700 nm 파장의 광에 대해 측정한 투과율은 30% 이상일 수 있다. 실런트는 필요에 따라 소정 범위 이상의 헤이즈를 나타낼 수 있다. 실런트가 헤이즈한 경우에는, 상기 투과율을 만족하면서, 400nm 내지 700 nm 파장의 광에 대해 측정한 헤이즈가 예를 들어, 10% 내지 90% 범위 내일 수 있다. 투명 실런트의 경우 400nm 내지 700 nm 파장의 광에 대해 측정한 헤이즈가 약 1% 내지 10%의 범위 내일 수 있다.The sealant can be transparent. The curable resin included in the sealant may be a transparent curable resin. In this case, the sealant may not include a shading degree control agent to be described later. The transmittance of the sealant for light having a wavelength of 400 nm to 700 nm may be 30% or more. The sealant may exhibit a haze of a predetermined range or more as needed. When the sealant hazes, the haze measured for light having a wavelength of 400 nm to 700 nm while satisfying the transmittance may be in the range of 10% to 90%, for example. In the case of the transparent sealant, the haze measured for light having a wavelength of 400 nm to 700 nm may be in the range of about 1% to 10%.
액정셀의 배젤부의 컬러를 조정하기 위해, 실런트에 컬러를 부여하는 경우, 예를 들어, 차광도 조절제를 포함하는 경우, 실런트의 부착력이 감소하는 문제가 있으나, 본 출원의 액정셀은 사이드 댐에 컬러를 부여하여, 실런트는 투명하게 할 수 있으므로, 상기 문제를 해소할 수 있다. In order to adjust the color of the bezel part of the liquid crystal cell, in the case of imparting color to the sealant, for example, when a light blocking agent is included, there is a problem that the adhesion of the sealant decreases, but the liquid crystal cell of the present application By imparting a color, the sealant can be made transparent, so that the above problem can be solved.
[사이드 댐 및 컬럼 스페이서] [Side dam and column spacer]
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 액정셀은 실런트(200)의 내측면에 접하도록 형성된 사이드 댐(300)을 포함할 수 있다. 또한, 액정셀은 상기 사이드 댐과 이격 배치된 컬럼 스페이서(400)를 포함할 수 있다. As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal cell may include a
사이드 댐의 내측면은 액정과 접할 수 있다. 도 2와 같이 사이드 댐이 패턴화된 구조를 갖는 경우에는 가장 내측에 존재하는 사이드 댐의 내측면이 액정과 접할 수 있다. The inner side of the side dam can contact the liquid crystal. When the side dam has a patterned structure as shown in FIG. 2, the inner surface of the side dam present at the innermost side may contact the liquid crystal.
액정셀의 제조 시 사이드 댐과 컬럼 스페이서는 단일 공정에 의해 형성될 수 있다. 따라서, 사이드 댐과 컬럼 스페이서의 일부 수치나 물성을 서로 유사할 수 있다. When manufacturing the liquid crystal cell, the side dam and the column spacer may be formed by a single process. Accordingly, some numerical values or physical properties of the side dam and the column spacer may be similar to each other.
사이드 댐과 컬럼 스페이서의 높이 각각 3㎛ 내지 20㎛의 범위 내이거나 또는 6㎛ 내지 15㎛ 의 범위 내일 수 있다. 사이드 댐과 컬럼 스페이서의 높이는 거의 유사할 수 있다. 예를 들어, 컬럼 스페이서의 높이(HA)와 사이드 댐의 높이(HB)의 차이(HA - HB)는 0.5㎛ 이하일 수 있다. The heights of the side dams and the column spacers may be in the range of 3 μm to 20 μm or 6 μm to 15 μm. The heights of the side dams and column spacers can be approximately the same. For example, the difference (H A -H B ) between the height H A of the column spacer and the height H B of the side dam may be 0.5 μm or less.
사이드 댐은 목적에 따라 적절한 선폭을 가질 수 있다. 사이드 댐의 선폭은 예를 들어 10㎛ 내지 1000㎛ 범위 내일 수 있다.The side dam can have an appropriate line width depending on the purpose. The line width of the side dam may be in the range of 10 μm to 1000 μm, for example.
컬럼 스페이서는 기둥 형상을 가질 수 있다. 컬럼 스페이서의 기둥 형상은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 타원형 기둥 형상, 원기둥 형상, 사각 기둥 형상, 삼각 기둥 형상, 기타 다른 다각형 기둥 형상 및 불규칙한 형태의 기둥 형상도 포함된다. The column spacer may have a column shape. The columnar shape of the column spacer is not particularly limited, and includes, for example, an elliptical columnar shape, a cylindrical shape, a square columnar shape, a triangular columnar shape, other polygonal columnar shape, and an irregular columnar shape.
컬럼 스페이서는 목적에 따라서 적절한 범위의 치수를 가질 수 있다. 컬럼 스페이서의 직경은 예를 들어 10 ㎛ 내지 50 ㎛의 범위 내일 수 있다. 컬럼 스페이서의 직경은, 컬럼 스페이서의 단면이 타원형인 경우에는 그 장축 또는 단축의 길이, 원형인 경우에는 그 지름, 기타 다각형이거나 불규칙한 형상인 경우에는 측정되는 치수 중에서 가장 큰 치수 또는 가장 작은 치수 또는 그 평균치일 수 있다. The column spacer may have an appropriate range of dimensions depending on the purpose. The diameter of the column spacer may be, for example, in the range of 10 μm to 50 μm. The diameter of the column spacer is the length of the major axis or minor axis when the cross section of the column spacer is elliptical, the diameter when it is circular, and the largest or the smallest dimension among the measured dimensions when it is of other polygonal or irregular shapes. May be average.
액정셀은 복수의 컬럼 스페이서를 포함할 수 있다. 복수의 컬럼 스페이서들은 서로 이격되어 존재할 수 있다. 복수의 컬럼 스페이서의 피치(pitch)는 예를 들어 50㎛ 내지 500㎛의 범위 내일 수 있다. The liquid crystal cell may include a plurality of column spacers. The plurality of column spacers may be spaced apart from each other. The pitch of the plurality of column spacers may be in the range of 50 μm to 500 μm, for example.
사이드 댐과 컬럼 스페이서는 컬러, 예를 들어, 블랙을 나타낼 수 있다. 사이드 댐과 컬럼 스페이서의 400nm 내지 700 nm 파장의 광에 대해 측정한 투과율은 각각 1% 내지 20%의 범위 내일 수 있다. 사이드 댐과 컬럼 스페이서의 컬러는 거의 유사할 수 있다. 예를 들어, 컬럼 스페이서의 투과율(TA)과 사이드 댐의 투과율(TB)의 차이(TA - TB)는 5% 이하일 수 있다 The side dams and column spacers may exhibit color, eg black. Transmittances of the side dams and the column spacers for light having a wavelength of 400 nm to 700 nm may be in the range of 1% to 20%, respectively. The colors of the side dams and column spacers can be almost the same. For example, the difference (T A -T B ) between the transmittance of the column spacer (T A ) and the transmittance of the side dam (T B ) may be 5% or less.
사이드 댐과 컬럼 스페이서는 각각 광 경화성 수지와 차광도 조절제를 포함할 수 있다. 사이드 댐과 컬럼 스페이서는 각각 광 경화성 수지와 차광도 조절제를 포함하는 조성물의 경화물을 포함할 수 있다. 본 명세서에서는, 광 경화성 수지와 차광도 조절제를 포함하는 조성물을 블랙 수지 조성물로 호칭할 수 있다. The side dam and the column spacer may each include a photocurable resin and a light blocking agent. The side dam and the column spacer may each contain a cured product of a composition including a photocurable resin and a light blocking agent. In the present specification, a composition including a photocurable resin and a shading degree control agent may be referred to as a black resin composition.
차광도 조절제는 사이드 댐과 컬럼 스페이서가 컬러, 예를 들어 블랙을 나타내도록 할 수 있다. 차광도 조절제는 블랙을 나타내는 안료 또는 염료를 포함할 수 있다. 구체적으로 상기 차광도 조절제는 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 산질화물, 카본 블랙, 흑연, 아조계 안료, 프탈로시아닌 안료 또는 탄소계 물질 등을 포함할 수 있다. 상기에서 적용될 수 있는 차광도 조절제로서, 금속 산화물로는, 크롬 산화물(CrxOy 등) 또는 구리 산화물(CuxOy 등) 등이 예시될 수 있으며, 금속 산질화물로는 알루미늄 산질화물(AlxOyNz 등) 등이 예시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기 탄소계 물질로는, 탄소 나노튜브(CNT), 그래핀, 활성탄(activated carbon)과 같은 다공성 탄소 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.The shading modifier may cause the side dams and column spacers to exhibit color, for example black. The shading control agent may include a pigment or dye representing black. Specifically, the light-shielding modifier may include a metal oxide, a metal nitride, a metal oxynitride, a carbon black, graphite, an azo pigment, a phthalocyanine pigment, or a carbon material. As the light-shielding modifier that can be applied in the above, examples of the metal oxide include chromium oxide (CrxOy, etc.) or copper oxide (CuxOy, etc.), and examples of the metal oxynitride include aluminum oxynitride (AlxOyNz, etc.). May be, but is not limited thereto. In addition, examples of the carbon-based material include, but are not limited to, carbon nanotubes (CNT), graphene, and porous carbon such as activated carbon.
본 출원에서 사용할 수 있는 안료 또는 염료 등의 종류는 상기에 제한되지 않으며, 목적하는 컬러 내지 투과율 등에 따라 적정 종류가 선택될 수 있고, 상기 경화성 조성물, 사이드 댐 또는 컬럼 스페이서 내에서의 비율도 상기 컬러 내지 투과율 등을 고려하여 선택할 수 있다. The type of pigment or dye that can be used in the present application is not limited to the above, and an appropriate type may be selected according to the desired color or transmittance, and the ratio in the curable composition, side dam or column spacer is also the color To the transmittance and the like.
상기 차광도 조절제는 평균 입도가 예를 들어 100 nm 내지 300 nm 범위 내일 수 있다. 상기 블랙 수지 조성물은 예를 들어 상기 차광도 조절제를 1 중량% 내지 5 중량%의 비율로 포함할 수 있다. The light blocking degree control agent may have an average particle size in the range of, for example, 100 nm to 300 nm. The black resin composition may include, for example, the shading degree control agent in a ratio of 1% to 5% by weight.
광 경화성 수지는 광 경화성 모노머의 중합체일 수 있다. 본 명세서에서 「경화성 모노머」는 경화성 관능기를 적어도 하나 이상 갖는 모노머를 의미할 수 있다. 경화성 모노머에는 광 경화성 모노머 또는 열 경화성 모노머가 있다. 본 명세서에서 「광 경화성 모노머」는 광 경화성 관능기를 적어도 하나 이상 갖는 모노머를 의미할 수 있다. 본 명세서에서 「열 경화성 모노머」는 열 경화성 관능기를 적어도 하나 이상 갖는 모노머를 의미할 수 있다. 상기 광 경화성 관능기로는 비닐기, (메타)아크릴기, (메타)아크릴로일옥시기, (메타)아크릴아미드기, 비닐옥시기 또는 말레이미드기 등을 예시할 수 있다. 상기 열 경화성 관능기로는 에폭시기, 옥세탄기, 알케닐기, 규소 원자에 결합된 수소 원자, 이소시아네이트기, 히드록시기, 프탈로니트릴기 또는 카복실기 등을 예시할 수 있다. The photocurable resin may be a polymer of photocurable monomers. In the present specification, "curable monomer" may mean a monomer having at least one or more curable functional groups. The curable monomer includes a photocurable monomer or a heat curable monomer. In the present specification, the "photocurable monomer" may mean a monomer having at least one photocurable functional group. In the present specification, "thermosetting monomer" may mean a monomer having at least one thermosetting functional group. Examples of the photocurable functional group include a vinyl group, a (meth)acryl group, a (meth)acryloyloxy group, a (meth)acrylamide group, a vinyloxy group, or a maleimide group. Examples of the thermosetting functional group include an epoxy group, an oxetane group, an alkenyl group, a hydrogen atom bonded to a silicon atom, an isocyanate group, a hydroxy group, a phthalonitrile group, or a carboxyl group.
상기 블랙 수지 조성물은 첨가제를 더 포함할 수 있다. 이러한 첨가제로는, 예를 들면, 경화를 보조하는 경화제, 개시제, 요변성 부여제, 레벨링제, 소포제, 산화 방지제, 라디칼 생성 물질, 유무기 안료 내지는 염료, 분산제, 열전도성 필러나 절연성 필러 등의 각종 필러, 기능성 고분자 또는 광안정제 등이 예시될 수 있지만 이에 제한되는 것은 아니다. 경화성 조성물은 상기와 같은 첨가제를 약 1 내지 10 중량% 범위로 포함할 수 있다.The black resin composition may further include an additive. Examples of such additives include curing agents, initiators, thixotropic agents, leveling agents, defoaming agents, antioxidants, radical generating substances, organic/inorganic pigments or dyes, dispersants, thermally conductive fillers, insulating fillers, etc. Various fillers, functional polymers, light stabilizers, and the like may be exemplified, but are not limited thereto. The curable composition may include about 1 to 10% by weight of the above additives.
상기 사이드 댐 및/또는 컬럼 스페이서에 포함되는 광 경화성 수지의 상온 점도는 각각 300 cP 내지 5,000 cP 범위 내일 수 있다. 상온 점도가 상기 범위 내인 경우 사이드 댐 및/또는 컬럼 스페이서의 높이의 균일성을 확보한다는 측면에서 유리할 수 있다. 상기 광 경화성 수지의 점도가 지나치게 높은 경우, 후술하는 제조 방법에서와 같이, 제 1 기판과 패턴 마스크의 사이에 수지 조성물을 위치하고 라미네이션, 예를 들어, 스퀴징 라미네이션을 수행하는 경우에, 잘 눌러지지 않는 부분이 발생하여 높이의 불균일을 유발할 수 있다.Room temperature viscosity of the photocurable resin included in the side dam and/or the column spacer may be in the range of 300 cP to 5,000 cP, respectively. When the room temperature viscosity is within the above range, it may be advantageous in terms of securing the uniformity of the height of the side dam and/or the column spacer. When the viscosity of the photocurable resin is too high, as in the manufacturing method described later, when a resin composition is placed between the first substrate and the pattern mask and lamination, for example, squeezing lamination is performed, it is not well pressed. It may cause non-uniformity in height due to the occurrence of a non-uniform part.
[볼 스페이서] [Ball spacer]
액정셀은 사이드 댐 및/또는 컬럼 스페이서에 부착된 볼 스페이서를 더 포함할 수 있다. 필름 기재를 적용하기 위해서는 컬럼 스페이서와 사이드 댐의 높이의 균일성이 중요하다. 액정셀은 볼 스페이서를 포함함으로써, 컬럼 스페이서와 사이드 댐을 높이를 균일하게 할 수 있다. The liquid crystal cell may further include a ball spacer attached to the side dam and/or the column spacer. In order to apply a film substrate, the uniformity of the heights of the column spacers and side dams is important. Since the liquid crystal cell includes a ball spacer, the height of the column spacer and the side dam can be made uniform.
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 볼 스페이서의 볼 형상의 전체가 사이드 댐 및/또는 컬럼 스페이서 내에 포함된 상태로 존재하거나 또는 볼 형상의 일부가 사이드 댐 또는 컬럼 스페이서 내에 포함된 상태로 존재할 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 액정셀은 복수의 볼 스페이서를 포함할 수 있고, 이들 중 일부의 볼 스페이서는 볼 형상의 전체가 사이드 댐 및/또는 컬럼 스페이서 내에 포함된 상태로 존재하고, 일부의 볼 스페이서는 볼 형상의 일부가 사이드 댐 또는 컬럼 스페이서 내에 포함된 상태로 존재할 수 있다.As shown in FIGS. 1 and 2, the entire ball shape of the ball spacer may exist in a state included in the side dam and/or the column spacer, or a part of the ball shape may exist in a state included in the side dam or the column spacer. have. In one example, the liquid crystal cell may include a plurality of ball spacers, some of which are present in a state in which the entire ball shape is included in the side dam and/or the column spacer, and some of the ball spacers A part of the ball shape may be included in the side dam or the column spacer.
볼 스페이서는 주성분은 폴리머일 수 있다. 본 명세서에서 주성분의 물질은, 볼의 전체 중량을 기준으로, 주성분의 물질이 약 80 중량% 이상, 약 85 중량% 이상, 약 90 중량% 또는 약 95 중량% 이상으로 포함되는 것을 의미할 수 있다. The main component of the ball spacer may be a polymer. In the present specification, the material of the main component may mean that the material of the main component is included in about 80% by weight or more, about 85% by weight or more, about 90% by weight, or about 95% by weight or more, based on the total weight of the ball. .
볼 스페이서는 예를 들어 PS(polystyrene), PMMA(polymethylmethacrylate) 또는 PS(polystyrene)와 PMMA(polymethylmethacrylate)의 혼합물을 포함할 수 있다. The ball spacer may include, for example, polystyrene (PS), polymethylmethacrylate (PMMA), or a mixture of polystyrene (PS) and polymethylmethacrylate (PMMA).
하나의 예시에서, 상기 볼 스페이서는 블랙을 나타낼 수 있다. 블랙 볼의 경우 블랙을 나타내는 카본 입자, 염료 또는 안료 등을 더 포함할 수 있다. 블랙 볼의 경우, 예를 들면, 볼 전체가 블랙으로 된 블랙 볼이나 볼의 외부에 블랙이 코팅된 블랙 볼 등을 사용할 수 있고, 상기에서 코팅 재료로는 카본 블랙이나 CNT(Carbon Nano Tube)나 그래핀 등의 탄소계 재료 혹은 다양한 공지의 염료 내지 안료 등이 적용된다.In one example, the ball spacer may represent black. In the case of black balls, carbon particles, dyes or pigments representing black may be further included. In the case of a black ball, for example, a black ball in which the entire ball is made black, or a black ball coated with black on the outside of the ball can be used. In the above, the coating material is carbon black or CNT (Carbon Nano Tube) or Carbon-based materials such as graphene or various known dyes or pigments are applied.
사이드 댐과 컬럼 스페이서의 높이는 볼 스페이서의 입경에 따라 조정될 수 있다. 볼 스페이서의 입경은 목적하는 액정셀의 셀 갭을 고려하여 적절히 조정될 수 있다. 볼 스페이서의 입경은 예를 들어, 3㎛ 내지 20㎛의 범위 내이거나 또는 6㎛ 내지 15㎛ 의 범위 내일 수 있다. The height of the side dam and the column spacer can be adjusted according to the particle diameter of the ball spacer. The particle diameter of the ball spacer can be appropriately adjusted in consideration of the cell gap of the desired liquid crystal cell. The particle diameter of the ball spacer may be, for example, in the range of 3 μm to 20 μm or 6 μm to 15 μm.
[액정][Liquid crystal]
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 액정셀은 제 1 기판(101)과 제 2 기판(102)의 사이에 채워진 액정(600)을 더 포함할 수 있다. 액정은 제 1 기판(101)과 제 2 기판(102)의 사이에 실런트(200), 사이드 댐(300), 컬럼 스페이서(400) 및 볼 스페이서(500)가 존재하지 않는 영역에 채워져 있을 수 있다. 1 and 2, the liquid crystal cell may further include a
액정의 종류와 물성은 특별히 제한되지 않고, 목적하는 액정셀의 용도에 따라 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 액정셀은 광 변조 기능을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 액정셀은 외부 에너지, 예를 들어, 전계의 인가에 의해, 투과율, 헤이즈, 반사율, 컬러 등을 가변할 수 있다. 상기 액정셀은 액정이 존재하는 영역에 필요에 따라, 이방성 염료를 더 포함할 수 있다. The kind and physical properties of the liquid crystal are not particularly limited, and may be appropriately selected and used according to the intended use of the liquid crystal cell. The liquid crystal cell may have a light modulation function. For example, the liquid crystal cell may change transmittance, haze, reflectance, color, and the like by application of external energy, for example, an electric field. The liquid crystal cell may further include an anisotropic dye as necessary in a region where the liquid crystal is present.
[제 1 기판과 제 2 기판][First substrate and second substrate]
제 1 기판은 제 1 기재층을 포함할 수 있고, 제 2 기판은 제 2 기재층을 포함할 수 있다. 상기 제 1 및/또는 제 2 기재층으로는, 특별한 제한 없이, 예를 들면, LCD(Liquid Crystal Display)와 같은 공지의 광학 디바이스의 구성에서 기판에 사용되는 임의의 기재층이 적용될 수 있다. 예를 들면, 기재층은 무기 기재층이거나 유기 기재층일 수 있다. 무기 기재층으로는 글라스(glass) 기재층 등이 예시될 수 있고, 유기 기재층으로는, 다양한 플라스틱 필름 등이 예시될 수 있다. 플라스틱 필름으로는 TAC(triacetyl cellulose) 필름; 노르보르넨 유도체 등의 COP(cyclo olefin copolymer) 필름; PMMA(poly(methyl methacrylate) 등의 아크릴 필름; PC(polycarbonate) 필름; PE(polyethylene) 또는 PP(polypropylene) 등의 폴리올레핀 필름; PVA(polyvinyl alcohol) 필름; DAC(diacetyl cellulose) 필름; Pac(Polyacrylate) 필름; PES(poly ether sulfone) 필름; PEEK(polyetheretherketon) 필름; PPS(polyphenylsulfone) 필름, PEI(polyetherimide) 필름; PEN(polyethylenemaphthatlate) 필름; PET(polyethyleneterephtalate) 필름; PI(polyimide) 필름; PSF(polysulfone) 필름 또는 PAR(polyarylate) 필름 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 한편, 상기 기재층으로는 SRF(Super retardation film), OCF(Optical-axis control film)와 같은 기능성 필름도 사용할 수 있다. The first substrate may include a first substrate layer, and the second substrate may include a second substrate layer. As the first and/or second substrate layer, any substrate layer used for a substrate in a configuration of a known optical device such as, for example, a liquid crystal display (LCD), without particular limitation, may be applied. For example, the base layer may be an inorganic base layer or an organic base layer. As the inorganic substrate layer, a glass substrate layer and the like may be exemplified, and as the organic substrate layer, various plastic films may be exemplified. As a plastic film, a triacetyl cellulose (TAC) film; Cycloolefin copolymer (COP) films such as norbornene derivatives; Acrylic film such as PMMA (poly(methyl methacrylate)); PC (polycarbonate) film; Polyolefin film such as PE (polyethylene) or PP (polypropylene); PVA (polyvinyl alcohol) film; DAC (diacetyl cellulose) film; Pac (Polyacrylate) Film; PES (polyether sulfone) film; PEEK (polyetheretherketon) film; PPS (polyphenylsulfone) film, PEI (polyetherimide) film; PEN (polyethylenemaphthatlate) film; PET (polyethyleneterephtalate) film; PI (polyimide) film; PSF (polysulfone) A film or a polyarylate (PAR) film may be exemplified, but is not limited thereto. Meanwhile, a functional film such as a super retardation film (SRF) or an optical-axis control film (OCF) may be used as the base layer. .
제 1 기판은 제 1 전극 층을 더 포함할 수 있고, 제 2 기판은 제 2 전극층을 더 포함할 수 있다. 이때, 전극 층은 기재 층의 내측 면에 형성되어 있을 수 있다. 상기 기재 층의 내측 면은 기재 층의 액정 층이 형성된 방향의 면을 의미할 수 있다.The first substrate may further include a first electrode layer, and the second substrate may further include a second electrode layer. In this case, the electrode layer may be formed on the inner surface of the base layer. The inner surface of the base layer may mean a surface in the direction in which the liquid crystal layer of the base layer is formed.
전극층으로는, 공지의 소재가 적용될 수 있다. 예를 들면, 전극층은, 금속 합금, 전기 전도성 화합물 또는 상기 중 2종 이상의 혼합물을 포함할 수 있다. 이러한 재료로는, 금 등의 금속, CuI, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), 알루미늄 또는 인듐이 도핑된 아연 옥사이드, 마그네슘 인듐 옥사이드, 니켈 텅스텐 옥사이드, ZnO, SnO2 또는 In2O3 등의 산화물 재료나, 갈륨 니트라이드와 같은 금속 니트라이드, 아연 세레나이드 등과 같은 금속 세레나이드, 아연 설파이드와 같은 금속 설파이드 등이 예시될 수 있다. As the electrode layer, a known material may be applied. For example, the electrode layer may include a metal alloy, an electrically conductive compound, or a mixture of two or more of the above. Such materials include metals such as gold, CuI, Indium Tin Oxide (ITO), Indium Zinc Oxide (IZO), Zinc Tin Oxide (ZTO), zinc oxide doped with aluminum or indium, magnesium indium oxide, nickel tungsten oxide, An oxide material such as ZnO, SnO2 or In 2 O 3 , a metal nitride such as gallium nitride, a metal serenide such as zinc serenide, and a metal sulfide such as zinc sulfide may be exemplified.
전극층은, 증착, 스퍼터링, 화학 증착 또는 전기화학적 수단 등의 임의의 수단으로 형성될 수 있다. 전극층의 패턴화도 특별한 제한 없이 공지의 방식으로 가능하며, 예를 들면, 공지된 포토리소그래피나 새도우 마스크 등을 사용한 공정을 통하여 패턴화될 수도 있다. The electrode layer may be formed by any means such as vapor deposition, sputtering, chemical vapor deposition, or electrochemical means. Patterning of the electrode layer is also possible in a known manner without any particular limitation, and for example, it may be patterned through a process using a known photolithography or a shadow mask.
제 1 기판은 제 1 배향막을 더 포함할 수 있고, 제 2 기판은 제 2 배향막을 더 포함할 수 있다. 이때, 배향막은 전극 층의 내측 면에 형성되어 있을 수 있다. 상기 전극 층의 내측 면은 전극층의 액정층이 형성된 방향의 면을 의미할 수 있다. 이와 같이, 제 1 기판은 제 1 기재층, 제 1 전극층 및 제 1 배향막을 순차로 포함할 수 있고, 제 2 기판은 제 2 기재층, 제 2 전극층 및 제 2 배향막을 순차로 포함할 수 있다. 배향막의 종류도 특별히 제한되지 않고, 공지의 배향막, 예를 들면, 공지의 러빙 배향막 또는 광 배향막이 적용될 수 있다.The first substrate may further include a first alignment layer, and the second substrate may further include a second alignment layer. In this case, the alignment layer may be formed on the inner surface of the electrode layer. The inner surface of the electrode layer may mean a surface in the direction in which the liquid crystal layer of the electrode layer is formed. As such, the first substrate may sequentially include a first base layer, a first electrode layer, and a first alignment layer, and the second substrate may sequentially include a second base layer, a second electrode layer, and a second alignment layer. . The type of alignment layer is not particularly limited, and a known alignment layer, for example, a known rubbing alignment layer or a photo alignment layer may be applied.
실런트와 사이드 댐의 하부 면은 각각 제 1 기판에 접하고, 실런트와 사이드 댐의 상부 면은 각각 제 2 기판에 접할 수 있다. 이때, 도 1에 나타낸 바와 같이, 사이드 댐의 상부 면과 하부 면은 연속적으로, 예를 들어, 패턴화되지 않고, 제 1 기판과 제 2 기판에 접하고 있을 수 있다. 또는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 사이드 댐은 댐이 존재하는 영역과 댐이 존재하지 않는 영역을 포함되도록 패턴화된 구조를 가질 수 있다. 상기 패턴화된 구조는 메쉬 또는 닷 형태일 수 있다. 상기 댐이 존재하지 않는 영역은 실런트로 채워져 있을 수 있다. The lower surfaces of the sealant and the side dam may each contact the first substrate, and the upper surfaces of the sealant and the side dam may each contact the second substrate. At this time, as shown in FIG. 1, the upper surface and the lower surface of the side dam may be continuously, for example, not patterned and in contact with the first substrate and the second substrate. Alternatively, as shown in FIG. 2, the side dam may have a patterned structure to include a region where a dam exists and a region where a dam does not exist. The patterned structure may be in the form of a mesh or a dot. The area where the dam does not exist may be filled with a sealant.
본 출원은 또한 상기 액정셀의 제조 방법에 관한 것이다. 하기 제조 방법을 기술하면서 특별한 언급이 없으면, 상기 액정셀에서의 설명이 동일하게 적용될 수 있다. The present application also relates to a method of manufacturing the liquid crystal cell. Unless otherwise specified while describing the following manufacturing method, the description of the liquid crystal cell may be equally applied.
본 출원의 액정셀의 제조 방법은 제 1 기판 상에 광 경화성 수지 및 볼 스페이서를 포함하는 제 1 수지 조성물의 경화물을 포함하는 사이드 댐과 컬럼 스페이서를 형성하는 단계; 제 1 기판 상의 외곽부에 사이드 댐의 외측면에 접하도록 실런트를 형성하는 단계; 및 제 1 기판과 제 2 기판의 사이에 액정 조성물을 위치시키고 라미네이션하는 단계를 포함할 수 있다. 이때, 상기 사이드 댐과 컬럼 스페이서의 400 nm 내지 700 nm 범위의 광에 대한 투과율은 1% 내지 20% 범위 내일 수 있다.The method for manufacturing a liquid crystal cell of the present application includes forming a side dam and a column spacer including a cured product of a first resin composition including a photocurable resin and a ball spacer on a first substrate; Forming a sealant on the outer portion of the first substrate so as to contact the outer surface of the side dam; And placing and laminating the liquid crystal composition between the first substrate and the second substrate. In this case, the transmittance of the side dam and the column spacer to light in the range of 400 nm to 700 nm may be in the range of 1% to 20%.
제 1 수지 조성물은 차광도 조절제를 더 포함할 수 있다. 따라서, 상기 제 1 수지 조성물은 블랙 조성물로 호칭될 수 있다. 상기 제 1 수지 조성물의 400 nm 내지 700 nm 범위의 광에 대한 투과율도 1% 내지 20% 범위 내일 수 있다.The first resin composition may further include a shading degree control agent. Therefore, the first resin composition may be referred to as a black composition. The transmittance of the first resin composition to light in the range of 400 nm to 700 nm may also be in the range of 1% to 20%.
사이드 댐과 컬럼 스페이서를 형성하는 단계는 포토리소그래피에 방식에 의해 수행될 수 있다. The step of forming the side dam and the column spacer may be performed by a photolithography method.
상기 상기 포토리소그래피 방식은. 제 1 기판과 패턴 마스크의 사이에 광 경화성 수지 및 볼 스페이서를 포함하는 제 1 수지 조성물을 위치시키고 라미네이션하는 단계; 상기 패턴 마스크 측으로 광을 조사하는 단계; 상기 제 1 기판으로부터 패턴 마스크를 박리하는 단계; 및 광이 조사된 수지 조성물을 현상하는 단계에 의해 수행될 수 있다. The photolithography method is. Positioning and laminating a first resin composition including a photocurable resin and a ball spacer between the first substrate and the pattern mask; Irradiating light toward the pattern mask; Peeling the pattern mask from the first substrate; And it may be carried out by the step of developing the light-irradiated resin composition.
제 1 기판과 패턴 마스크의 사이에 제 1 수지 조성물을 위치시키고 라미네이션하는 단계는 예를 들어, 제 1 기판 상에 제 1 수지 조성물을 도포한 후, 패턴 마스크를 적층하거나 또는 스퀴징 라미네이션에 의해 수행될 수 있다. 상기 도포 방법으로는 공지의 코팅 방법을 사용할 수 있으며, 예를 들어, 스핀 코팅, 바 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅, 블레이드 코팅 등의 방법을 사용할 수 있다.The step of placing and laminating the first resin composition between the first substrate and the pattern mask is performed by laminating or laminating a pattern mask after, for example, applying the first resin composition on the first substrate. Can be. A known coating method may be used as the coating method, and for example, spin coating, bar coating, roll coating, gravure coating, and blade coating may be used.
상기 패턴 마스크는 광투과 영역과 광차단 영역을 가질 수 있다. 패턴 마스크가 제 1 수지 조성물 상에 적층될 때, 상기 패턴 마스크의 광투과 영역에 대응하는 수지 조성물은 경화 영역이 될 수 있고, 상기 패턴 마스크의 광차단 영역에 대응하는 수지 조성물은 미경화 영역이 될 수 있다. 패턴 마스크의 광투과 영역은 원하는 사이드 댐과 컬럼 스페이서에 대응하는 형태를 가질 수 있고, 그 이외의 영역은 광차단 영역을 가질 수 있다. The pattern mask may have a light transmitting area and a light blocking area. When the pattern mask is laminated on the first resin composition, the resin composition corresponding to the light-transmitting region of the pattern mask may be a cured region, and the resin composition corresponding to the light blocking region of the pattern mask has an uncured region. Can be. The light transmitting area of the pattern mask may have a shape corresponding to a desired side dam and column spacer, and other areas may have a light blocking area.
상기 패턴 마스크의 소재는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 투광성 기재에 차단 영역에 대응되도록 광 차단성 패턴을 형성한 것을 사용할 수 있다. 상기 투광성 기재로는 투광성 플라스틱 필름을 사용할 수 있다. 상기 광 차단성 패턴은 예를 들어 금속 또는 잉크일 수 있다. 상기 금속은 구리(Cu), 크롬(Cr), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 금(Au), 및 은(Ag) 중 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이제 제한되는 것은 아니다. 상기 잉크의 예로는, 카본 블랙(carbon black), 흑연 또는 산화철 등과 같은 무기 안료나, 아조계 안료 또는 프탈로시아닌계 안료 등의 유기 안료를 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The material of the pattern mask is not particularly limited, and for example, a light-blocking pattern formed on a light-transmitting substrate to correspond to a blocking area may be used. As the light-transmitting substrate, a light-transmitting plastic film may be used. The light blocking pattern may be, for example, metal or ink. The metal may include at least one of copper (Cu), chromium (Cr), aluminum (Al), molybdenum (Mo), nickel (Ni), gold (Au), and silver (Ag), but is now limited It is not. Examples of the ink may include inorganic pigments such as carbon black, graphite or iron oxide, or organic pigments such as azo pigments or phthalocyanine pigments, but are not limited thereto.
상기 패턴 마스크 필름 측으로 광을 조사하는 단계는 예를 들어, 자외선을 조사함으로써 수행될 수 있다. 상기 자외선의 조사 조건은 상기 수지 조성물이 경화되도록 하는 범위 내에서 적절히 선택될 수 있다. The step of irradiating light toward the pattern mask film may be performed, for example, by irradiating ultraviolet rays. The irradiation condition of the ultraviolet rays may be appropriately selected within a range in which the resin composition is cured.
상기 패턴 마스크를 박리하는 단계에 있어서는, 박리가 용이하도록, 패턴 마스크에 이형 처리가 되어 있거나 또는, 수지 조성물과 패턴 마스크의 사이에 이형지가 위치되어 있을 수도 있다. In the step of peeling the pattern mask, a release treatment may be applied to the pattern mask, or a release paper may be positioned between the resin composition and the pattern mask to facilitate peeling.
상기 현상하는 단계에 의해, 제 1 수지 조성물에서 광이 조사되지 않은 영역을 제거되므로, 사이드 댐과 컬럼 스페이서를 형성할 수 있다. 상기 현상은 예를 들어 현상액을 이용하여 수행될 수 있다. 예를 들어, 패턴 마스크가 박리된 수지 조성물의 층에 현상액을 접촉시켜 경화되지 않은 영역을 용해하여 제거함으로써 제 1 수행될 수 있다. 상기 현상액으로는 미경화 영역을 녹일 수 있는 적절한 용제가 사용될 수 있다. 본 출원의 일 실시예에 의하면 현상액으로는 염기성 용제가 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.By the developing step, since the region to which light is not irradiated from the first resin composition is removed, a side dam and a column spacer can be formed. The development may be performed using, for example, a developer. For example, the first may be performed by dissolving and removing an uncured region by contacting a developer with the layer of the resin composition from which the pattern mask has been peeled off. As the developer, an appropriate solvent capable of dissolving the uncured region may be used. According to an exemplary embodiment of the present application, a basic solvent may be used as a developer, but is not limited thereto.
제 1 기판 상에 실런트를 형성하는 단계는 실런트를 형성하기 위한 수지 조성물을 사이드 댐의 외측면에 접하도록 드로잉(Drawing)함으로써 수행될 수 있다. 본 명세서에서 실런트를 형성하기 위한 수지 조성물을 제 2 수지 조성물로 호칭할 수 있다. 상기 제 2 수지 조성물도 실런트와 마찬가지로, 400nm 내지 700 nm 파장의 광에 대해 측정한 투과율이 30% 이상일 수 있고, 헤이즈는 1% 내지 10%의 범위 내이거나 또는 10% 내지 90%의 범위 내일 수 있다. 제 2 수지 조성물의 드로잉은 노즐을 장착한 디스펜서를 통해 수행할 수 있다. 상기 노즐의 직경, 실런트 조성물의 토출량, 드로잉 속도는 원하는 실런트의 선폭 및 형상에 따라 적절히 선택될 수 있다.The step of forming the sealant on the first substrate may be performed by drawing a resin composition for forming the sealant in contact with the outer surface of the side dam. In the present specification, a resin composition for forming a sealant may be referred to as a second resin composition. Like the sealant, the second resin composition may have a transmittance of 30% or more measured for light having a wavelength of 400 nm to 700 nm, and the haze may be in the range of 1% to 10% or in the range of 10% to 90%. have. Drawing of the second resin composition may be performed through a dispenser equipped with a nozzle. The diameter of the nozzle, the discharge amount of the sealant composition, and the drawing speed may be appropriately selected according to the desired sealant line width and shape.
제 2 기판과 제 1 기판의 사이에 액정 조성물을 위치시키고 라미네이션하는 단계는, 제 1 기판 상에 액정 조성물을 도포한 후, 제 2 기판을 적층하거나 또는, 스퀴징 라미네이션에 의해 수행될 수 있다. 상기 도포 방법으로는 공지의 코팅 방법을 사용할 수 있으며, 예를 들어, 스핀 코팅, 바 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅, 블레이드 코팅 등의 방법을 사용할 수 있다.Positioning and laminating the liquid crystal composition between the second substrate and the first substrate may be performed by applying the liquid crystal composition on the first substrate and then laminating the second substrate or by squeezing lamination. A known coating method may be used as the coating method, and for example, spin coating, bar coating, roll coating, gravure coating, and blade coating may be used.
상기 제 1 기판과 제 2 기판의 라미네이션 후에, 실런트를 경화하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 실런트의 경화는 실런트에 포함되는 경화성 수지의 경화 타입에 따라 적절히 선택될 수 있다. 실런트가 광 경화성 수지를 포함하는 경우에는 광을 조사함으로써 경화시킬 수 있고, 열 경화성 수지를 포함하는 경우에는 열을 가함으로써 경화시킬 수 있고, 광 경화성 수지와 열 경화성 수지의 혼합물을 포함하는 경우 광의 조사와 열의 인가를 모두 수행함으로써 경화사킬 수 있다. 상기 경화 조건은 실런트에 포함되는 경화성 수지를 경화되도록 하는 범위 내에서 적절히 선택될 수 있다.After lamination of the first and second substrates, a step of curing the sealant may be further included. The curing of the sealant may be appropriately selected according to the curing type of the curable resin included in the sealant. When the sealant contains a photocurable resin, it can be cured by irradiating light, and when a thermosetting resin is included, it can be cured by applying heat, and when a mixture of a photocurable resin and a thermosetting resin is included, It can be hardened by performing both irradiation and application of heat. The curing conditions may be appropriately selected within a range to cure the curable resin included in the sealant.
또한, 액정셀은 필요한 경우 추가적인 공지의 기능성층, 예를 들면, 편광층, 하드코팅층 및/또는 반사 방지층 등도 추가로 포함할 수 있다. In addition, the liquid crystal cell may further include an additional known functional layer, for example, a polarizing layer, a hard coating layer, and/or an antireflection layer, if necessary.
본 출원은 액정셀에 사이드 댐을 적용함으로써, 실런트 라인의 직진성이 우수하고, 실런트의 높이 조정이 가능하며, 실러트와 액정 간의 오염을 방지할 수 있고, 베젤 부의 컬러 조정이 가능한 액정셀을 제공할 뿐만 아니라, 사이드 댐과 스페이서 패턴의 높이의 균일성을 확보할 수 있는 액정셀을 제공한다. This application provides a liquid crystal cell with excellent linearity of the sealant line, height adjustment of the sealant, prevention of contamination between the sealant and liquid crystal, and color adjustment of the bezel by applying a side dam to the liquid crystal cell. In addition, it provides a liquid crystal cell capable of securing uniformity in heights of side dams and spacer patterns.
도 1 및 도 2는 액정셀의 구조를 예시적으로 나타낸다.
도 3 및 도 4는 액정 내 실런트의 오염 평가 후의 액정셀의 이미지이다.1 and 2 exemplarily show the structure of a liquid crystal cell.
3 and 4 are images of a liquid crystal cell after contamination evaluation of the sealant in the liquid crystal.
이하, 본 출원에 따른 실시예 및 본 출원에 따르지 않는 비교예를 통하여 본 출원을 구체적으로 설명하지만, 본 출원의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present application will be specifically described through examples according to the present application and comparative examples not according to the present application, but the scope of the present application is not limited by the examples presented below.
실시예Example 1. One.
제 1 기판과 패턴 마스크의 사이에 광 경화성 수지 및 볼 스페이서를 포함하는 제 1 수지 조성물을 위치시키고 라미네이션하였다. 이어서, 상기 패턴 마스크의 측으로 자외선을 조사하였다(자외선 조사량: 1,200 mJ/cm2). 이어서, 상기 제 1 기판으로부터 패턴 마스크를 박리한 후, 자외선이 조사된 제 1 수지 조성물의 층을 현상 및 세정함으로써, 제 1 기판 상에 사이드 댐과 컬럼 스페이서를 형성하였다. 사이드 댐과 컬럼 스페이서는 패턴 마스크의 광 투과 영역의 패턴의 형태를 따라 성형된다. A first resin composition including a photocurable resin and a ball spacer was positioned between the first substrate and the pattern mask and laminated. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated to the side of the pattern mask (ultraviolet irradiation amount: 1,200 mJ/cm 2 ). Subsequently, after peeling the pattern mask from the first substrate, the layer of the first resin composition irradiated with ultraviolet rays was developed and washed to form a side dam and a column spacer on the first substrate. The side dam and the column spacer are formed according to the pattern shape of the light transmitting region of the pattern mask.
상기 제 1 기판으로는, PC(Polycarbonate) 필름의 일면에 비정질의 ITO(Indium Tin Oxide) 층을 형성한 기판을 사용하였다. 상기 제 1 수지 조성물로는 자외선 경화형 아크릴레이트 모노머, 개시제 및 분산제의 혼합물에 차광도 조절제로서 카본 블랙(carbon black)을 약 3 중량% 정도의 비율로 혼합하고, 블랙 볼을 약 2 중량% 정도로 혼합한 수지 조성물을 사용하였다. 상기 수지 조성물의 400nm 내지 700 nm 파장의 광에 대해 측정한 투과율은 약 10%이다. 이에 따라, 사이드 댐 및 컬럼 스페이서의 400nm 내지 700 nm 파장의 광에 대해 측정한 투과율도 대략 10%이다. 상기 볼 스페이서의 입경은 9㎛이다. 이에 따라, 사이드 댐 및 컬럼 스페이서의 높이도 대략 9㎛로 형성된다.As the first substrate, a substrate in which an amorphous ITO (Indium Tin Oxide) layer was formed on one surface of a PC (Polycarbonate) film was used. As the first resin composition, a mixture of an ultraviolet-curable acrylate monomer, an initiator, and a dispersant is mixed with carbon black as a light-shielding modifier in an amount of about 3% by weight, and black balls are mixed in an amount of about 2% by weight. One resin composition was used. The transmittance of the resin composition for light having a wavelength of 400 nm to 700 nm is about 10%. Accordingly, the transmittance measured for light having a wavelength of 400 nm to 700 nm of the side dam and the column spacer is also approximately 10%. The particle diameter of the ball spacer is 9 μm. Accordingly, the height of the side dam and the column spacer is also formed to be approximately 9 μm.
상기 패턴 마스크로는, 투명 기재 필름(본체)인 PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름 상에 패턴화된 차광층(AlOxNy) 및 이형층이 순차로 형성된 구조의 마스크를 사용하였다. 차광층은 폭이 대략 24㎛ 내지 26㎛의 범위 내이고, 차광층 패턴의 피치는 125㎛이 되도록 패턴화되어 있다. PET 필름 상에 차광층이 형성된 영역은 광 차단 영역이며, 차광층이 형성되지 않은 영역은 광 투과 영역이다. As the pattern mask, a mask having a structure in which a light blocking layer (AlOxNy) and a release layer patterned on a transparent base film (body), a PET (poly(ethylene terephthalate)) film, are sequentially formed was used. The light-shielding layer is patterned so that the width is in the range of approximately 24 μm to 26 μm, and the pitch of the light-shielding layer pattern is 125 μm. The area where the light blocking layer is formed on the PET film is the light blocking area, and the area where the light blocking layer is not formed is the light transmitting area.
이어서, 상기 제 1 기판 상의 외곽부에 상기 사이드 댐의 외측면에 접하도록 제 2 수지 조성물(Sekisui사의 UVF-006 제품으로서, 상온 점도: 약 10만cP)을 드로잉함으로써, 선폭이 약 3mm이 실런트를 형성하였다. Subsequently, by drawing a second resin composition (a UVF-006 product of Sekisui, a room temperature viscosity: about 100,000 cP) on the outer periphery of the first substrate so as to contact the outer surface of the side dam, the line width is about 3 mm Formed.
이어서, 제 2 기판과 제 1 기판의 사이에 액정 조성물을 위치시키고 라미네이션한 후, 자외선을 조사하여 상기 드로잉된 제 2 수지 조성물을 경화시킴으로써, 액정셀을 제조하였다. 상기 제 2 기판으로는, 제 1 기판과 마찬가지로, PC(Polycarbonate) 필름의 일면에 비정질의 ITO(Indium Tin Oxide) 층을 형성한 기판을 사용하였다. Subsequently, a liquid crystal composition was placed between the second substrate and the first substrate, followed by lamination, and irradiating ultraviolet rays to cure the drawn second resin composition, thereby preparing a liquid crystal cell. As the second substrate, a substrate in which an amorphous ITO (Indium Tin Oxide) layer was formed on one surface of a PC (polycarbonate) film, similarly to the first substrate, was used.
비교예Comparative example 1. One.
실시예 1에 있어서, 제 1 수지 조성물에 볼 스페이서를 포함하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 액정셀을 제작하였다. In Example 1, a liquid crystal cell was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the ball spacer was not included in the first resin composition.
비교예Comparative example 2. 2.
실시예 1에 있어서, 제 1 수지 조성물에 차광도 조절제를 포함하지 않고, 제 2 수지 조성물에 차광도 조절제로서, 카본 블랙(carbon black)을 약 3 중량% 정도의 비율로 포함시킨 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 액정셀을 제작하였다. In Example 1, except that the first resin composition did not contain a shading degree control agent, and the second resin composition contained a shading degree control agent in a ratio of about 3% by weight of carbon black , A liquid crystal cell was manufactured in the same manner as in Example 1.
비교예Comparative example 3. 3.
실시예 1에 있어서, 사이드 댐 패턴을 형성하지 않고, 컬럼 스페이서만을 형성한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 액정셀을 제작하였다. In Example 1, a liquid crystal cell was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the side dam pattern was not formed and only the column spacers were formed.
비교예Comparative example 4. 4.
실시예 1에 있어서, 사이드 댐 패턴을 형성하지 않고, 컬럼 스페이서만 형성하고, 실런트의 형성 시에 상온 점도가 22만 cP인 제 2 수지 조성물(Sekisui사의 UVF-004 제품)을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 액정셀을 제작하였다.In Example 1, except that the second resin composition (made by Sekisui's UVF-004) having a room temperature viscosity of 220,000 cP was used when the side dam pattern was not formed, only column spacers were formed, and the sealant was formed. , A liquid crystal cell was manufactured in the same manner as in Example 1.
이하, 실시예 1, 비교예 1, 비교예 2, 비교예 3 및 비교예 4의 주요 차이를 표 1에 나타내었다.Hereinafter, the main differences between Example 1, Comparative Example 1, Comparative Example 2, Comparative Example 3, and Comparative Example 4 are shown in Table 1.
상온 점도Sealant
Room temperature viscosity
Side dam
평가예Evaluation example 1. One. 컬럼column 스페이서의Spacer 높이 균일성 평가 Height uniformity evaluation
실시예 1 및 비교예 1에 대하여, 컬럼 스페이서의 높이 균일성을 평가하였다. 컬럼 스페이서의 높이는 측정 장비(Optical profiler, Nano System社, Nano View-E1000)를 사용하여 확인하였다. 평가 결과, 실시예 1은 컬럼 스페이서의 높이가 9㎛ ± 0.4㎛의 분포를 나타냈다. 반면, 비교예 1은 컬럼 스페이서의 높이가 9㎛ ± 1.3㎛의 분포를 나타냈다. For Example 1 and Comparative Example 1, the height uniformity of the column spacers was evaluated. The height of the column spacer was confirmed using a measuring device (Optical profiler, Nano System, Nano View-E1000). As a result of the evaluation, Example 1 showed a distribution in which the height of the column spacer was 9 μm±0.4 μm. On the other hand, Comparative Example 1 showed a distribution of 9㎛ ± 1.3㎛ height of the column spacer.
평가예Evaluation example 2. 2. 실런트의Sealant 부착력 평가 Adhesion evaluation
실시예 1 및 비교예 2에 대하여 실런트의 부착력을 평가하였다. 구체적으로, 인장 시험기를 이용하여 제 1 기판으로부터 제 2 기판을, 90°의 박리 각도와 300 mm/min의 박리 속도로 당기면서, 박리력을 측정하였다. 평가 결과, 실시예 1의 박리력은 2.1 N/cm 이고, 비교예 2의 박리력은 1 N/cm 이하였다. For Example 1 and Comparative Example 2, the adhesion of the sealant was evaluated. Specifically, the peel force was measured while pulling the second substrate from the first substrate at a peel angle of 90° and a peel rate of 300 mm/min using a tensile tester. As a result of the evaluation, the peel force of Example 1 was 2.1 N/cm, and the peel force of Comparative Example 2 was 1 N/cm or less.
평가예Evaluation example 3. 3. 실런트Sealant 높이, Height, 엣지부Edge part 라인 직진성, Line straightness, 베젤Bezel 컬러 평가 Color evaluation
실시예 1, 비교예 3 및 비교예 4에 대하여, 실런트 높이, 엣지부 라인 직진성, 베젤 컬러를 평가하고 그 결과를 하기 표 2에 기재하였다.For Example 1, Comparative Example 3, and Comparative Example 4, the sealant height, edge line straightness, and bezel color were evaluated, and the results are shown in Table 2 below.
실런트의 높이는 측정 장비(Optical profiler, Nano System社, Nano View-E1000)를 사용하여 확인하였다. 실런트 부의 높이가, 사이드 댐과 컬럼 스페이서의 높이(대략 9㎛)와 유사한 수준의 높이로 조정되는 경우 "O"로 평가하고, 상기 사이드 댐과 컬럼 스페이서의 높이와 유사한 수준의 높이로 조정되지 않는 경우 "X"로 평가하였다. The height of the sealant was confirmed using a measuring device (Optical profiler, Nano System, Nano View-E1000). If the height of the sealant is adjusted to a height similar to the height of the side dam and the column spacer (approximately 9 μm), it is evaluated as "O" and is not adjusted to a height similar to the height of the side dam and the column spacer. The case was evaluated as "X".
엣지부 라인의 직진성은 스틸자 평가로 씰 라인의 최대 폭(W1)과 최소 폭(W2)의 차이(W1- W2)를 측정하고, 상기 폭의 차이가 1 mm 이하인 경우 "O"로 평가하고, 그 폭의 편차가 2 mm 이상인 경우 "X"로 평가하였다. The straightness of the edge part line is measured by measuring the difference (W1-W2) between the maximum width (W1) and the minimum width (W2) of the seal line by steel ruler evaluation, and is evaluated as "O" when the difference between the width is 1 mm or less. , When the deviation of the width was 2 mm or more, it was evaluated as "X".
베젤 컬러는 액정셀의 외곽부에 컬러를 나타낼 수 있는 경우 "O"로 평가하고, 컬러를 나타내지 못하고 투명한 경우 "X"로 평가하였다. The bezel color was evaluated as "O" when the color could be displayed on the outer part of the liquid crystal cell, and was evaluated as "X" when the color was not displayed and is transparent.
평가 결과, 비교예 3은 저 점도 실런트의 사용으로 인해, 실런트 부의 높이는 사이드 댐과 컬럼 스페이서의 높이와 유사한 수준으로 조정이 가능하지만, 실런트 퍼짐성에 의해 엣지부의 라인의 직진성을 확보하지 못한다. As a result of the evaluation, in Comparative Example 3, due to the use of the low viscosity sealant, the height of the sealant portion can be adjusted to a level similar to that of the side dam and the column spacer, but the straightness of the edge portion is not secured due to the sealant spreadability.
비교예 4는 고 점도 실런트의 사용으로 인해, 실런트의 라인의 직진성은 확보할 수 있었지만, 실런트 부의 높이가 사이드 댐과 컬럼 스페이서의 높이를 크게 벗어나므로, 높이의 조정이 되지 않는다. In Comparative Example 4, due to the use of the high-viscosity sealant, straightness of the sealant line could be ensured, but since the height of the sealant part greatly deviates from the height of the side dam and the column spacer, the height cannot be adjusted.
또한, 비교예 3 및 4의 경우에 평가예 2에서 알아본 바와 같이, 부착력 문제로, 차광도 조절제의 첨가가 어려우며, 이에 따라 베젤 컬러를 나타낼 수 없다. In addition, in the case of Comparative Examples 3 and 4, as found in Evaluation Example 2, due to adhesion problems, it is difficult to add a shading degree control agent, and accordingly, the bezel color cannot be displayed.
실시예 1의 경우 저 점도 실런트의 사용으로 인해 실런트 부의 높이의 조정이 가능이 가능할 뿐만 아니라, 사이드 댐의 사용으로 인해, 실런트의 라인 엣지 라인의 직진성도 확보 가능하다. 또한, 차광도 조절제를 실런트가 아닌 사이드 댐에 적용하므로, 액정셀의 부착력이 저하되는 것 없이도 베젤 컬러를 나타낼 수 있다. In the case of Example 1, not only can the height of the sealant portion be adjusted due to the use of the low viscosity sealant, but also the straightness of the line edge line of the sealant can be secured due to the use of the side dam. In addition, since the shading degree control agent is applied to the side dam, not the sealant, the bezel color can be displayed without deteriorating the adhesion of the liquid crystal cell.
평가예Evaluation example 4. 액정 내 4. Inside the LCD 실런트의Sealant 오염 평가 Pollution assessment
실시예 1 및 비교예 3에 대하여 고온 열처리 및 열 충격을 가한 후 액정 내 실런트의 오염을 평가하였다. 고온 열처리는 액정셀을 130℃의 오븐에서 30분 동안 유지함으로써 수행된다. 열 충격은 액정셀을 60℃에서 30분 동안 유지하고, 다시 -20℃의 온도에서 30분 동안 유지하는 사이클을 96 시간 동안 반복함으로써 수행된다. 도 3은 실시예 1의 고온 열처리(A)와 열 충격(B) 후의 액정셀의 이미지를 나타내고, 도 4는 비교예 3의 고온 열처리(A)와 열 충격(B) 후의 액정셀의 이미지를 나타낸다.After high-temperature heat treatment and thermal shock were applied to Example 1 and Comparative Example 3, contamination of the sealant in the liquid crystal was evaluated. The high temperature heat treatment is performed by holding the liquid crystal cell in an oven at 130° C. for 30 minutes. The thermal shock is performed by repeating the cycle of holding the liquid crystal cell at 60° C. for 30 minutes, and holding again at -20° C. for 30 minutes for 96 hours. 3 shows an image of a liquid crystal cell after high temperature heat treatment (A) and thermal shock (B) of Example 1, and FIG. 4 is an image of a liquid crystal cell after high temperature heat treatment (A) and thermal shock (B) of Comparative Example 3 Show.
평가 결과, 실시예 1은 고온 열처리와 열 충격을 가한 후에도, 액정 내로 실런트의 오염이 관찰되지 않았다. 반면, 비교예 1은 고온 열처리와 열 충격을 가한 후에 액정 내로 미경화 실런트의 오염이 관찰되었고, 이에 따라 액정의 배향 불량이 발생하였다(도 4에서 NG로 표시). As a result of the evaluation, even after applying high-temperature heat treatment and thermal shock in Example 1, no contamination of the sealant into the liquid crystal was observed. On the other hand, in Comparative Example 1, contamination of the uncured sealant into the liquid crystal was observed after applying high-temperature heat treatment and thermal shock, and accordingly, an alignment defect of the liquid crystal occurred (indicated as NG in FIG.
101: 제 1 기판, 102: 제 2 기판, 200: 실런트, 300: 사이드 댐, 400: 컬럼 스페이서, 500: 볼 스페이서, 600: 액정 101: first substrate, 102: second substrate, 200: sealant, 300: side dam, 400: column spacer, 500: ball spacer, 600: liquid crystal
Claims (24)
The method of claim 23, wherein the photolithography method is. Positioning and laminating a first resin composition including a photocurable resin and a ball spacer between the first substrate and the pattern mask; Irradiating light toward the pattern mask; Peeling the pattern mask from the first substrate; And developing the first resin composition irradiated with light.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022255741A1 (en) * | 2021-06-04 | 2022-12-08 | 동우 화인켐 주식회사 | Optical stack and manufacturing method therefor, and smart window comprising same and vehicle or building window to which same is applied |
WO2022270944A1 (en) * | 2021-06-24 | 2022-12-29 | 동우 화인켐 주식회사 | Optical laminate and manufacturing method therefor, smart window comprising same, and window and door for vehicle and building, having same applied thereto |
WO2023287136A1 (en) * | 2021-07-16 | 2023-01-19 | 동우 화인켐 주식회사 | Optical laminate and manufacturing method therefor, smart window comprising same, and window and door for vehicle and building, having same applied thereto |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130052974A (en) | 2011-11-14 | 2013-05-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | Method for producing liquid crystal display device |
-
2019
- 2019-06-26 KR KR1020190076141A patent/KR20210000887A/en not_active Application Discontinuation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130052974A (en) | 2011-11-14 | 2013-05-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | Method for producing liquid crystal display device |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022255741A1 (en) * | 2021-06-04 | 2022-12-08 | 동우 화인켐 주식회사 | Optical stack and manufacturing method therefor, and smart window comprising same and vehicle or building window to which same is applied |
WO2022270944A1 (en) * | 2021-06-24 | 2022-12-29 | 동우 화인켐 주식회사 | Optical laminate and manufacturing method therefor, smart window comprising same, and window and door for vehicle and building, having same applied thereto |
KR20230000225A (en) * | 2021-06-24 | 2023-01-02 | 동우 화인켐 주식회사 | Optical laminate, and manufacturing method for the same, and smart window including the same, and automobile or windows for buiding using the same |
WO2023287136A1 (en) * | 2021-07-16 | 2023-01-19 | 동우 화인켐 주식회사 | Optical laminate and manufacturing method therefor, smart window comprising same, and window and door for vehicle and building, having same applied thereto |
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Legal Events
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