KR20200141320A - A Clean Unit of apparatus for semiconductor fabrication improving an uniformity of fan speed - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 소자를 제조하는 장비에 들어가는 클린 유닛에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 제조 장비 내부에 포함된 클린 유닛에서 교류 전원(AC)에 의해 구동되는 다수의 팬 구동부의 속도 균일도를 개선할 수 있는 클린 유닛을 포함하는 반도체 소자 제조 장비에 관한 것이다.The present invention relates to a clean unit that enters equipment for manufacturing semiconductor devices, and more particularly, to improve the speed uniformity of a plurality of fan drives driven by AC power in a clean unit included in the semiconductor manufacturing equipment. It relates to a semiconductor device manufacturing equipment including a clean unit capable of.
반도체 소자를 제조하는 장비는, 웨이퍼의 미세 가공 공정을 진행하는데 사용되는 전공정 장치(EFEM: Equipment of Front End Module)나, 웨이퍼 미세 가공 공정을 끝낸 후 웨이퍼로부터 개별 반도체 칩(chips)를 분리하여 완성된 형태의 반도체 패키지를 만드는데 사용되는 후공정 장치(EBEM: Equipment of Back End Module)로 크게 분류할 수 있다. 일반적으로 상기 전공정 장치 혹은 후공정 장치는 반도체 소자의 기능에 악영향을 미칠 수 있는 대기 중 작은 오염으로부터 엄격히 보호되어야 한다. 이를 위하여 대부분의 반도체 제조 장비는 내부로 들어오는 공기를 클린 유닛(Clean units)을 통하여 정화시켜 반도체 제조 장비의 내부 부품 및 작업이 진행되는 반도체 소자들이 대기 중의 오염에 노출되는 것을 방지한다.Equipment that manufactures semiconductor devices is an EFEM (Equipment of Front End Module) used to proceed with the microfabrication process of wafers, or by separating individual semiconductor chips from the wafer after completing the wafer microprocessing process. It can be broadly classified as an Equipment of Back End Module (EBEM) used to make a finished semiconductor package. In general, the pre-processing device or the post-processing device must be strictly protected from small pollution in the atmosphere that may adversely affect the function of the semiconductor device. To this end, most semiconductor manufacturing equipment purifies the air entering the interior through clean units to prevent exposure of internal components of the semiconductor manufacturing equipment and semiconductor devices on which operations are performed to air pollution.
한편, 반도체 소자 제조 장비는 약간의 오염이나 작은 파티클 (particles)이라도 장비 내로 유입되면 이것이 가공 중인 반도체 소자의 동작이나 기능에 치명적인 결함을 야기할 수 있다. 이러한 이유로 반도체 제조 장비의 클린 유닛의 성능은 그 성능이나 동작 측면에서 아직 많은 개선의 여지를 지니고 있다 할 수 있다. On the other hand, semiconductor device manufacturing equipment may cause fatal defects in the operation or function of the semiconductor device being processed if even a slight contamination or small particles are introduced into the device. For this reason, it can be said that the performance of the clean unit of semiconductor manufacturing equipment still has a lot of room for improvement in terms of its performance and operation.
본 발명의 기술적 사상이 이루고자 하는 과제는, 교류 전원에 의해 구동되는 반도체 제조 장비의 클린 유닛에 포함된 다수의 팬 구동부의 속도 균일도를 일정하게 가져가서 반도체 제조 장비로 유입되는 공기로 인해 야기될 수 있는 문제를 억제할 수 있는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛을 제공하는 것을 목적으로 한다. The problem to be achieved by the technical idea of the present invention may be caused by air flowing into the semiconductor manufacturing equipment by uniformly taking the speed uniformity of the plurality of fan driving units included in the clean unit of the semiconductor manufacturing equipment driven by AC power. An object of the present invention is to provide a clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity that can suppress a problem.
본 발명의 기술적 사상이 이루고자 하는 다른 과제는, 교류 전원에 의해 구동되는 반도체 제조 장비의 클린 유닛에 다수의 팬 구동부의 속도 균일도를 일정하게 가져가서 반도체 제조 장비로 유입되는 공기로 인해 야기될 수 있는 문제를 억제할 수 있는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛의 구동 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. Another problem to be achieved by the technical idea of the present invention is that the uniformity of the speed of a plurality of fan driving units is uniformly brought to the clean unit of the semiconductor manufacturing equipment driven by an AC power source, which can be caused by air flowing into the semiconductor manufacturing equipment. An object of the present invention is to provide a method of driving a clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity that can suppress problems.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 양태에 의한 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛은, 반도체 소자를 가공하는 반도체 제조 장비와, 상기 반도체 제조 장비 일단의 개구부에 탑재된 클린 유닛 지지부와, 상기 클린 유닛 지지부의 하부에 고정된 필터부와, 상기 클린 유닛 지지부에 고정되어 상기 필터부 상부에 마련된 팬 구동부와, 상기 팬 구동부의 회전축 상부 내부에 마련되고 내부에 자성체가 접착수단에 의해 고정된 회전축 자성부와, 상기 클린 유닛 지지부의 일단에서 외부로 노출되고 노출된 전면에 압력 표시 수단, 모터 속도 조절 스위치, 팬 구동 알람 표시등, 전원 표시등 및 전원 스위치를 포함하는 제어 판넬부와, 상기 클린 유닛 지지부에 고정되고 상기 팬 구동부 및 제어 판넬부와 연결되고, 내부에 팬 구동 회로, 팬 속도 조절 회로, 전원 표시 회로, 팬 구동 상태 표시 회로, 압력 검출 회로를 포함하는 제1 회로부와, 상기 회전축 자성부 상단에 고정되고 내부에 홀(hall) 센서를 포함하여 상기 팬 구동부의 회전 속도를 감지할 수 있는 제2 회로부와, 상기 제1 회로부 및 상기 제2 회로부와 연결되어 팬 속도 회로 및 홀 센서의 신호를 수신하여 상기 팬 구동부의 팬의 회전 정도를 조절할 수 있는 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러를 구비하는 것을 특징으로 한다.A clean unit of a semiconductor manufacturing equipment having improved fan rotation uniformity according to an aspect of the present invention for achieving the above technical problem includes a semiconductor manufacturing equipment for processing semiconductor elements, and a clean unit mounted at an opening of one end of the semiconductor manufacturing equipment A support part, a filter part fixed to a lower part of the clean unit support part, a fan driving part fixed to the clean unit support part and provided on the filter part, and a magnetic material provided inside the upper part of the rotation shaft of the fan driving part A control panel unit including a rotating shaft magnetic part fixed by means of a pressure display means, a motor speed control switch, a fan driving alarm indicator, a power indicator and a power switch on the front surface exposed and exposed from one end of the clean unit support section to the outside. And, a first circuit part fixed to the clean unit support part and connected to the fan driving part and the control panel part, and including a fan driving circuit, a fan speed control circuit, a power display circuit, a fan driving state display circuit, and a pressure detection circuit therein. And, a second circuit part that is fixed to an upper end of the rotating shaft magnetic part and includes a hall sensor therein to detect the rotation speed of the fan driving part, and the fan speed is connected to the first circuit part and the second circuit part. It characterized in that it comprises a main controller of the semiconductor manufacturing equipment capable of controlling the rotation degree of the fan of the fan driving unit by receiving a signal from the circuit and Hall sensor.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 팬 구동부의 팬의 개수는, 하나 이상인 것이 적합하고, 상기 회전축 자성부는, 팬의 회전축의 상부에 형성된 음각부와, 상기 음각부 내에 매립된 자성체 및 상기 자성체가 매립된 음각부를 상기 회전축 표면과 동일 높이로 매립하는 접착 수단을 포함하는 것이 적합하다.According to an embodiment of the present invention, the number of fans of the fan driving unit is suitably at least one, and the rotating shaft magnetic portion includes an intaglio portion formed on an upper portion of the rotating shaft of the fan, a magnetic material embedded in the intaglio portion, and the magnetic material. It is suitable to include an adhesive means for embedding the intaglio buried at the same height as the surface of the rotating shaft.
또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 제1 회로부의 팬 속도 조절 회로는, 교류 전력 조절기 혹은 펄스 폭 변조(PWM:Pulse Width Modulation) 회로인 것이 바람직하다.In addition, according to a preferred embodiment of the present invention, the fan speed control circuit of the first circuit unit is preferably an AC power regulator or a pulse width modulation (PWM) circuit.
이때, 상기 제어 판넬부는, 외부로 전원을 연결할 수 있는 제1 커넥터 및 외부로 신호를 전달할 수 있는 제2 커넥터를 더 포함할 수 있다.In this case, the control panel unit may further include a first connector capable of connecting power to the outside and a second connector capable of transmitting a signal to the outside.
한편, 본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 제2 회로부는, 외부로 전원 및 신호를 주고 받을 수 있는 제3 커넥터를 더 구비할 수도 있다.Meanwhile, according to a preferred embodiment of the present invention, the second circuit unit may further include a third connector for exchanging power and signals to and from the outside.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 양태에 의한 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛 구동 방법은, 반도체 제조 장비의 클린 유닛으로 교류(AC) 전원을 인가하여 팬 구동부를 동작시키는 단계와, 상기 클린 유닛 내부의 발생된 압력을 검출하여 팬 구동 상태 알람을 동작시키는 단계와, 상기 클린 유닛의 팬 구동부의 회전축 자성부와 제2 회로부의 홀(Hall) 센서를 이용하여 복수개 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM) 값들을 측정하는 단계와, 상기 측정된 알. 피. 엠(RPM) 값들을 제3 커넥터를 통해 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러로 전송하는 단계와, 상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러에서 설정된 알. 피. 엠(RPM)값과 측정된 알. 피. 엠(RPM) 값을 비교하는 단계와, 상기 설정된 알. 피. 엠(RPM)값과 측정된 알. 피. 엠(RPM) 값의 차이가 발생하면 상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러에서 상기 팬 구동부를 구동하는 듀티(Duty) 비를 조정하여 복수개의 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM)을 균일하게 유지하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다. A method for driving a clean unit of semiconductor manufacturing equipment having improved fan rotation uniformity according to an aspect of the present invention for achieving the above other technical problem, operates the fan driving unit by applying AC power to the clean unit of the semiconductor manufacturing equipment. And detecting a pressure generated inside the clean unit to operate a fan driving state alarm; and using a magnetic part of a rotating shaft of a fan driving part of the clean unit and a Hall sensor of a second circuit part. Egg of the driving part. blood. Measuring M (RPM) values, and the measured R. blood. Transmitting the RPM values to the main controller of the semiconductor manufacturing equipment through a third connector, and an R set in the main controller of the semiconductor manufacturing equipment. blood. M (RPM) value and measured egg. blood. Comparing the M (RPM) value, and the set R. blood. M (RPM) value and measured egg. blood. When a difference between the RPM values occurs, the main controller of the semiconductor manufacturing equipment adjusts a duty ratio for driving the fan driver to determine the number of fan driving units. blood. It characterized in that it comprises a step of uniformly maintaining the EM (RPM).
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 팬 구동 상태 알람을 동작시키는 단계 후에, 비정상 알람이 동작하면 그 신호를 상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러로 전송하는 단계 및 상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러에서 비정상 알람을 반도체 제조 장비의 표시 장치로 표시하는 단계를 더 구비할 수도 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, after the step of operating the fan driving state alarm, if an abnormal alarm operates, transmitting the signal to the main controller of the semiconductor manufacturing equipment, and the abnormal alarm from the main controller of the semiconductor manufacturing equipment. The method may further include displaying a display device of a semiconductor manufacturing equipment.
상술한 본 발명에 의하면, 먼저 본 발명에 의한 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛은, 클린 유닛 내부에 여러 불균형적인 원인으로 복수개의 팬 구동부의 비정상적인 가동이 감지되면, 제1 및 제2 회로부의 제2 커넥터 및 제3 커넥터를 통해 그 신호를 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러 전송하고, 상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러의 펄스 폭 변조(PWM) 제어에 의해 각각의 팬 구동부의 회전 속도를 조절하여 복수개의 팬 구동부의 회전 속도를 일정하게 균일한 범위로 유지할 수 있다.According to the present invention, first, the clean unit of the semiconductor manufacturing equipment having improved fan rotation uniformity according to the present invention, when abnormal operation of a plurality of fan driving units is detected due to various unbalanced causes inside the clean unit, the first and the first 2 The signal is transmitted to the main controller of the semiconductor manufacturing equipment through the second connector and the third connector of the circuit unit, and the rotation speed of each fan driving unit is adjusted by controlling the pulse width modulation (PWM) of the main controller of the semiconductor manufacturing equipment. Thus, it is possible to keep the rotation speed of the plurality of fan driving units in a uniform range.
또한 상술한 본 발명에 의하면, 교류 전력에 의해 가동되는 팬 구동부에 회전축 자성부 및 인접된 제2 회로부를 마련하여 팬 구동부의 회전 속도를 감지하고, 감지된 신호를 신호 라인을 통해 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러로 전송할 수 있다.In addition, according to the present invention, the rotational shaft magnetic part and the adjacent second circuit part are provided in the fan driving part operated by AC power to sense the rotational speed of the fan driving part, and the detected signal is transmitted to the semiconductor manufacturing equipment through the signal line. Can be transferred to the main controller.
마지막으로 본 발명에 의한 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛은, 팬 구동부의 비정상적인 동작이 감지되면 클린 유닛 제어 판넬부에 알람 신호를 표시하는 동시에, 반도체 제조 장비의 표시 화면에도 이를 표시하여 장비 운용의 효율성을 높일 수 있는 유리한 장점이 있다. Finally, the clean unit of the semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity according to the present invention displays an alarm signal on the control panel of the clean unit when an abnormal operation of the fan driving unit is detected, and at the same time, displays it on the display screen of the semiconductor manufacturing equipment. Thus, there is an advantageous advantage that can increase the efficiency of equipment operation.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛을 설명하기 위한 개략적인 블록도이다.
도 2는 상기 도 1에서 클린 유닛을 상부에서 촬영한 사진(picture)이다.
도 3은 상기 도 2의 클린 유닛에서 제어 판넬부의 정면을 촬영한 사진이다.
도 4는 도 3의 클린 유닛에 내장된 제1 회로부의 회로도이다.
도 5는 도 2의 클린 유닛에서 팬 구동부를 상부에서 촬영한 사진이다.
도 6은 도 5에서 회전축 자성부의 내부 구조를 설명하기 위한 단면도이다.
도 7은 도 2의 클린 유닛 지지부 중, 팬 구동부 상부에 마련된 제2 회로부 설치용 지지대를 보여주는 사진이다.
도 8은 도 7의 제2 회로부 설치용 지지대 위에 설치되는 제2 회로부의 실물 사진이다.
도 9는 도 8의 제2 회로부 실물에 사용되는 회로도이다.
도 10은 상기 클린 유닛에서 제1 회로부의 동작에 의해 팬 구동부 동작 및 알람 신호가 발생하는 것을 설명하기 위한 블록도이다.
도 11은 반도체 제조 장비의 클린 유닛에서 복수개의 팬 구동부에 대해 팬의 회전 정도를 균일하게 제어하는 방법을 설명하기 위한 블록도이다.
도 12는 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛의 구동 방법을 설명하기 위한 블록도이다.1 is a schematic block diagram for explaining a clean unit of a semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a picture taken from the top of the clean unit in FIG. 1.
3 is a photograph of the front of the control panel in the clean unit of FIG. 2.
4 is a circuit diagram of a first circuit part built into the clean unit of FIG. 3.
5 is a photograph taken from the top of the fan driving unit in the clean unit of FIG. 2.
6 is a cross-sectional view illustrating an internal structure of a magnetic part of a rotation shaft in FIG. 5.
FIG. 7 is a photograph showing a support for installing a second circuit part provided on an upper part of the fan driving part among the clean unit support parts of FIG. 2.
8 is an actual photograph of a second circuit part installed on the support for installing the second circuit part of FIG. 7.
9 is a circuit diagram used in an actual second circuit unit of FIG. 8.
10 is a block diagram for explaining the operation of the fan driving unit and generation of an alarm signal by the operation of the first circuit unit in the clean unit.
11 is a block diagram illustrating a method of uniformly controlling a rotation degree of a fan for a plurality of fan driving units in a clean unit of a semiconductor manufacturing equipment.
12 is a block diagram illustrating a method of driving a clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity according to an exemplary embodiment of the present invention.
본 발명의 구성 및 효과를 충분히 이해하기 위하여, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예들을 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라, 여러 가지 형태로 구현될 수 있고 다양한 변경을 가할 수 있다. 단지, 본 실시예들에 대한 설명은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다. In order to fully understand the configuration and effects of the present invention, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, and may be implemented in various forms and various modifications may be added. However, the description of the embodiments is provided to complete the disclosure of the present invention, and to fully inform the scope of the invention to those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs.
이하, 설명되는 실시예에서 제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 표현하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 예컨대 "포함한다" 또는 "가진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하기 위한 것으로, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들이 부가될 수 있는 것으로 해석될 수 있다. Hereinafter, in the embodiments described below, terms such as first and second may be used to describe various components, but the components are not limited by the terms. These terms may be used only for the purpose of distinguishing one component from another component. Singular expressions include plural expressions, unless the context clearly indicates otherwise. For example, terms such as "comprises" or "have" are used to designate the existence of features, numbers, steps, actions, components, parts, or a combination thereof described in the specification, and one or more other features or numbers , Steps, actions, components, parts, or a combination thereof may be interpreted as being added.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by a person of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms as defined in a commonly used dictionary are interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and are not interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. .
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛을 설명하기 위한 개략적인 블록도이다.1 is a schematic block diagram for explaining a clean unit of a semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity according to a preferred embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명에 의한 클린 유닛이 장착되는 반도체 제조 장비(1000)는, 웨이퍼 미세 가공에 사용되는 장비이든지, 또는 웨이퍼 가공이 완료된 후, 낱개의 반도체 칩을 반도체 패키지로 가공하는데 사용되는 장비일 수 있다. 상기 반도체 제조 장비(1000)의 내부는 반도체 소자를 가공하는데 필요한 개별 구성1(210), 구성2(220).. 구성N(230) 및 메인 컨트롤러(200)와 같은 구성품을 내부에 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, the
한편, 상기 반도체 제조 장비(1000)의 일단에 외부로부터 공기가 유입될 수 있는 개구부가 마련되고, 그 개구부에 클린 유닛(100)이 장착된다. 상기 클린 유닛(100)은, 외부 공기 중에 포함된 파티클이나 오염 물질이 반도체 제조 장비(1000) 내부로 유입되어 구성1(210), 구성2(220).. 구성N(230)을 효과적으로 냉각시킴과 동시에 가공 중인 반도체 소자가 외부 공기에 포함된 파티클이나 오염으로부터 영향을 받는 것을 미연에 방지하는 기능을 수행한다.Meanwhile, an opening through which air can be introduced from outside is provided at one end of the
상기 클린 유닛(100)의 내부에는 반도체 제조 장비(1000)의 내부 구성(210, 220 및 230)과 가장 인접한 위치인 안쪽에 필터부(110)가 위치한다. 상기 필터부(100)는 헤파 필터(HEPA filter) 혹은 일정 크기 이상의 미세먼지나 바이러스 등을 차단할 수 있는 다른 종류의 필터가 장착될 수도 있다. 상기 필터부(110)의 외측으로 팬 구동부(120)가 마련된다. 상기 팬 구동부(120)는 하나 혹은 하나 이상의 팬이 포함될 수 있다. 따라서, 팬 구동부(120)에 의해 외부로부터의 공기 유입이 발생하며, 유입된 공기는 다시 필터부(110)를 통해 반도체 제조 장비(1000) 내부로 들어가게 된다. 상기 팬 구동부(120)의 팬(Fan)은 교류(AC) 전원에 의해 동작될 수 있으며, 내부에 코일을 포함하여 회전력을 자체 감지할 수 있는 브러시리스 직류 모터(BLDC)에 의해 구동되는 팬이 아닌 것이 적합하다.The
이때, 상기 클린 유닛(100)은 상기 팬 구동부(120)와 연결되고, 외부로 노출된 제어 판넬부(140)를 포함한다. 상기 제어 판넬부(140)에 대해서는 후속되는 도 3을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.At this time, the
도 2는 상기 도 1의 클린 유닛만을 상부에서 촬영한 사진(picture)이다. 2 is a picture taken from the top of only the clean unit of FIG. 1.
도 2를 참조하면, 클린 유닛은 다양한 구성품을 탑재할 수 있는 클린 유닛 지지부(100)를 포함한다. 도면은 3개의 팬 구동부(120)가 설치된 것을 보여준다. 상기 팬 구동부(120) 아래에는 필터부(110)가 마련될 수 있다. 또한 상기 클린 유닛의 다른 일면에는 제어 판넬부(140)가 마련될 수 있다. 도면은 제어 판넬부(140)의 뒷면으로 제1 회로부를 포함한 각종 전자 부품이 장착될 수 있다. 상기 팬 구동부(120)는 구동되는 전원을 제어 판넬부(140)로부터 공급받는다.Referring to FIG. 2, the clean unit includes a clean
도 3은 상기 도 2의 클린 유닛에서 제어 판넬부의 정면을 촬영한 사진이다.3 is a photograph of the front of the control panel in the clean unit of FIG. 2.
도 3을 참조하면, 제어 판넬부(140)는 클린 유닛을 조작할 수 있거나 제어할 수 있는 수단들이 모두 마련된 영역이다. 압력 표시부(141)는 클린 유닛에서 측정된 내부 압력을 표시하는 장치이다. 모터 속도 조절 스위치(142)는 도 4에서 설명되는 팬 속도 조절 회로가 위상 제어 방식의 교류 전력 조절기인 경우, 팬 구동부의 모터 속도를 조절하는 장치이다. 팬 알람 표시등(143)은 적색을 띌 수 있으며, 팬 구동부의 팬에 문제가 발생되면 점멸되어 반도체 제조 장비의 운용자에게 장비의 문제를 알려주는 기능으로 사용된다. 또는 전원 스위치(145)의 온(On)/오프(off)를 통해 전원 표시등(144)이 점멸될 수 있도록 설계되어 있다.Referring to FIG. 3, the
한편, 팬 구동부를 가동하기 위한 외부 전원, 예컨대 교류 전원(AC)을 클린 유닛과 연결할 수 있는 제1 커넥터(146) 및 클린 유닛에서 발생된 여러 신호들을 클린 유닛의 외부 장치, 예컨대 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러(도1 200)로 전달할 수 있는 신호 라인에 해당하는 제 2 커넥터(147)도 포함할 수 있다. 그 외, 설계자의 의도에 따라 도면에 표시되지 않는 다른 전자 제어 부품들이 상기 제어 판넬부(140)에 추가로 탑재될 수도 있다.Meanwhile, the
도 4는 도 3의 클린 유닛에 내장된 제1 회로부의 회로도이다.4 is a circuit diagram of a first circuit part built into the clean unit of FIG. 3.
도 4를 참조하면, 상기 제1 회로부는 클린 유닛 지지부에 고정되어 제어 판넬부(도1의 140)에 장착되는 클린 유닛의 주 회로(main circuits)로서 제1 커넥터(146)를 통해 외부에서 전원, 예컨대 교류 전원(AC)이 제1 회로부 내부로 공급된다. 상기 공급된 전원은 팬 구동 회로에 해당하는 전원 개폐 회로(145)를 통해 온/오프가 발생되며, 온(on) 상태일 경우, 전원 표시 회로(144), 예컨대 녹색 엘. 이. 디(LED)를 점멸시킬 수 있다. 상기 전원 표시 회로(144)를 지난 전원은 팬 속도 조절 회로(142)인 펄스 폭 변조(PWM) 회로를 통해 이와 직렬로 연결된 교류 모터인 팬 구동부를 구동하게 된다.Referring to FIG. 4, the first circuit part is the main circuits of the clean unit fixed to the clean unit support part and mounted on the control panel part (140 in FIG. 1), and external power through the
한편, 상기 팬 구동 회로(142)는 펄스 폭 변조 회로 대신에 위상 제어 방식의 교류 전력 조절기를 사용하여 팬 구동부의 속도를 제어할 수도 있다. 이 경우 교류 전력 조절기는 도 3에서 설명된 모터 속도 조절 스위치(도3의 142)에 연결될 수 있다. 상기 팬 구동 회로(142)에 의해 팬 구동부가 작동하면, 압력 검출 회로(141)인 압력 센서가 작동한다. 이에 따라 클린 유닛 내부의 압력이 설정된 정상 범위인지를 확인하게 된다. 상기 팬 구동부가 정상적으로 작동하지 않아 설정된 정상 범위를 벗어난 압력값이 압력 센서를 통해 감지되면, 팬 구동 상태 표시 회로(143)에 해당하는 팬 구동 알람 표시등(도 3의 143)을 점멸시킨다. 그리고 상기 압력 센서를 통해 측정된 클린 유닛 내부의 압력이 설정된 정상 범위인 경우, 팬 구동 알람 표시등과 인접하여 마련된 팬 정상 가동 표시등(Fan runs)을 점멸할 수도 있다. Meanwhile, the
상기 팬 구동 상태 표시 회로(143)를 지나 정상적으로 팬 구동부를 동작시킨 결과는, 릴레이 연결부(148)를 통해 제2 커넥터(147)로 보내져 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러로 전달된다. 본 발명에 의하면, 상기 팬 구동부를 동작시킨 결과는 팬 구동 알람 표시 상태를 포함할 수 있다. 따라서 팬 구동 알람 표시 상태는 반도체 제조 장비의 표시 장치(monitor)에 표시되어 반도체 제조 장비를 운용하는 작업자가 클린 유닛의 팬 구동부의 작동 상태를 효과적으로 모니터링 할 수 있다. 상기 회전축 자성체에 의해 발생하는 알. 피. 엠(RPM) 값의 측정 방법에 관해서는 후속되는 도5 내지 도 9를 통해 상세히 설명하기로 한다.The result of normal operation of the fan driving unit through the fan driving
도 5는 도 2의 클린 유닛에서 팬 구동부를 상부에서 촬영한 사진이고, 도 6은 도 5에서 회전축 자성부의 내부 구조를 설명하기 위한 단면도이고, 도 7은 도 2의 클린 유닛 지지부 중, 팬 구동부 상부에 마련된 제2 회로부 설치용 지지대를 보여주는 사진이고, 도 8은 도 7의 제2 회로부 설치용 지지대 위에 설치되는 제2 회로부의 실물 사진이다.5 is a picture taken from the top of the fan driving unit in the clean unit of Fig. 2, Fig. 6 is a cross-sectional view for explaining the internal structure of the rotating shaft magnetic unit in Fig. 5, and Fig. 7 is a fan driving unit among the clean unit support units of Fig. 2 It is a photograph showing the support for installing the second circuit part provided on the upper part, and FIG. 8 is a real photograph of the second circuit part installed on the support for installing the second circuit part of FIG. 7.
도 5 내지 도 8을 참조하면, 펄스 폭 변조 회로(PWM Circuits)에 의해 구동되는 팬 구동부(120)의 팬(Fan)은 회전축(122)과 날개부(123)로 나누어진다. 이때 본 발명에 의하면, 상기 팬 구동부(120)의 회전축(122) 상부에는 회전축 자성부(121)가 도 5와 같이 마련된다. 연속되는 도 6을 통해 상기 회전축 자성부(121)의 구조를 살펴보면, 회전축(122) 표면에 일정 깊이로 음각부를 형성한 후, 내부에 자성체(124)와 상기 자성체(124)를 고정할 수 있는 접착 수단을 음각부 내에 채워 넣어 팬의 회전축(122) 표면과 높이가 같아지도록 만들어 회전축 자성부(121)를 준비할 수 있다.5 to 8, the fan of the
상기 회전축 자성부(121) 상부에는 팬 구동부 지지대(101) 및 제2 회로부 설치용 지지대(102)가 도 7과 같이 별도로 마련되며, 도 8과 같은 회전축 자성체(121)의 움직임, 예컨대 알. 피. 엠(RPM)을 감지할 수 있는 홀 센서를 포함하는 제2 회로부(160)가 이 영역(102)에 설치될 수 있다.A fan driving
도 9는 도 8의 제2 회로부 실물에 사용되는 회로도이다.9 is a circuit diagram used in an actual second circuit unit of FIG. 8.
도 9를 참조하면, 제2 회로부 내부에는 자성체의 움직임을 감지할 수 있는 홀 센서(Hall Sensor, 162)가 마련되어 있다. 상기 홀 센서(162)는 회전축 자성체의 자기장을 감지하여 모터의 회전각에 해당하는 알. 피. 엠을 측정하는 장치이다. 상기 제2 회로부의 홀 센서(162)에서 감지된 회전축 자성체의 알. 피. 엠(RPM) 값은 내부에 있는 신호 라인(165)을 통해 제3 커넥터(164)로 보내지고, 이를 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러에서 수신하여 메인 컨트롤러에 프로그램된 절차에 따라 펄스 폭 변조 제어에 응용되게 한다. Referring to FIG. 9, a
구체적으로는 상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러(도1의 200)는 메인 컨트롤러 내부에 프로그램된 운용 절차에 따라 상기 제3 커넥터(164)를 통해 전달된 알. 피. 엠(RPM) 값에 따라 제1 커넥터로 공급되는 교류 전원과 펄스 폭 변조 회로(PWM) 회로(도4의 142)의 제어를 통해 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM) 값을 각각 설정된 범위로 제어함으로써, 복수개의 팬 구동부가 동작하는 경우라도 각각의 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM) 값을 균일하게 조절할 수 있다. 상세하게는 팬 구동부나 반도체 제조 장비의 내부 상태가 불안정하여 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM) 값이 서로 각각 미세한 차이가 발생하더라도 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러의 제어 방법에 의해 복수개의 팬 구동부에서 균일한 팬 회전 속도를 구현할 수 있다.Specifically, the main controller (200 in FIG. 1) of the semiconductor manufacturing equipment is transmitted through the
도면에서 참조부호 161은 홀 센서의 정상적인 동작 상태를 보여주는 엘. 이. 디(LED) 표시등이고, 163은 엘. 이. 디(LED) 표시등을 보호하는 레지스터이며, 참조 부호 166은 전원 라인에 해당한다. 이때, 상기 전원 라인(166)에는 도면과 같이 노이즈(Noise) 제거용 모노(Mono) 커패시터가 장착될 수 있다.In the drawing,
도 10은 상기 클린 유닛에서 제1 회로부의 동작에 의해 팬 구동부 동작 및 알람 신호가 발생하는 것을 설명하기 위한 블록도이다.10 is a block diagram for explaining the operation of the fan driving unit and generation of an alarm signal by the operation of the first circuit unit in the clean unit.
도 10을 참조하면, 전원을 인가하기 전 단계에서, 설계자 혹은 운용자에 의해 클린 유닛 내부의 정상적인 압력값의 범위가 설정될 수 있고, 팬 구동부의 정상적 속도값(RPM) 및 릴레이부(도4의 148) 조정을 통해 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러로 보내질 알람 신호의 정의가 선행될 수 있다. Referring to FIG. 10, in the step before applying power, the range of the normal pressure value inside the clean unit may be set by a designer or operator, and the normal speed value (RPM) of the fan driving unit and the relay unit (Fig. 148) The definition of an alarm signal to be sent to the main controller of the semiconductor manufacturing equipment through adjustment may precede.
클린 유닛으로 전원을 인가(S100)하면, 팬 모터가 동작하면서 클린 유닛에 해당하는 FFU(Fan Filter Unit)의 내부 압력이 발생(S110)한다. 이렇게 발생된 내부 압력은 도 4에서 설명된 압력 센서를 통해 측정된 후, 미리 설정된 정상적인 압력값과 비교(S120)가 이루어진다. When power is applied to the clean unit (S100), the fan motor operates and an internal pressure of the fan filter unit (FFU) corresponding to the clean unit is generated (S110). The internal pressure generated in this way is measured through the pressure sensor described in FIG. 4 and then compared with a preset normal pressure value (S120).
그 후, 측정된 내부 압력값이 정상 범위이면 도 4에 도시된 팬 작동 정상 램프(Fan Run Lamp)를 점멸(S130)시키고, 도 4의 릴레이부(148)에서 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러 보내는 신호에 별도의 팬 구동 알람 신호를 출력하지 않고(S140), 정상 동작을 수행(S150)한다.Thereafter, if the measured internal pressure value is in the normal range, the fan run lamp shown in FIG. 4 is flashed (S130), and a signal sent from the
그러나, 측정된 내부 압력값이 정상 범위를 벗어나면, 도 4에 도시된 팬 구동 알람(Fan Alarm Lamp) 표시등을 점멸(S160)시키고, 릴레이부(도4의 148)에서 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러 보내는 신호에 팬 구동 알람 신호를 출력(S170)함과 동시에 비정상 멈춤 동작을 수행(S180)하게 된다. 상기 S170 단계에서 발생된 팬 구동 알람 신호는, 클린 유닛의 제어 판넬부의 팬 구동 알람 표시등(도 3의 143)을 켜는 동시에, 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러로 보내져 반도체 제조 장비에 마련된 표시 장치(monitor)에도 동시에 표시하게 함으로써 운용자가 장비에서 발생된 문제를 효율적으로 파악하게 할 수 있게 한다.However, if the measured internal pressure value is out of the normal range, the fan driving alarm lamp shown in FIG. 4 flashes (S160), and the relay unit (148 in FIG. 4) is the main controller of the semiconductor manufacturing equipment. A fan driving alarm signal is output to the transmitted signal (S170) and an abnormal stop operation is performed (S180). The fan driving alarm signal generated in the step S170 is sent to the main controller of the semiconductor manufacturing equipment while turning on the fan driving alarm indicator (143 in FIG. 3) of the control panel of the clean unit to display a display device provided in the semiconductor manufacturing equipment. ) Is also displayed at the same time, so that the operator can efficiently identify the problems occurring in the equipment.
도 11은 반도체 제조 장비의 클린 유닛에서 복수개의 팬 구동부에 대해 팬의 회전 정도를 균일하게 제어하는 방법을 설명하기 위한 블록도이다.11 is a block diagram illustrating a method of uniformly controlling a rotation degree of a fan for a plurality of fan driving units in a clean unit of a semiconductor manufacturing equipment.
도 11을 참조하면, 도 4와 같이 클린 유닛으로 전원, 예컨대 교류 전원(AC)이 인가(S100)되고 팬 구동 회로에 해당하는 펄스 폭 변조(PWM) 회로에서 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러에 의한 제어(P100)가 발생한다. 이때 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러는 도 9와 같이 홀 센서를 통한 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM) 값을 수신하여 제어가 이루어진다.Referring to FIG. 11, power, for example, AC power (AC) is applied to the clean unit as shown in FIG. 4 (S100), and control by the main controller of the semiconductor manufacturing equipment in the pulse width modulation (PWM) circuit corresponding to the fan driving circuit (P100) occurs. At this time, the main controller of the semiconductor manufacturing equipment is an Al. blood. Control is achieved by receiving the RPM value.
계속해서 팬 구동 회로에 연결된 AC 모터의 구동(P110)의 발생된 팬 구동부가 동작한다. 그리고 팬 구동부에 마련된 회전축 자성체(도5 121)와 홀 센서(Hall Sensor, 도 9의 162)의 동작에 의해 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM) 값이 추출(P120)되면서 이를 제3 커넥터를 통해 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러로 송신된다.Subsequently, the generated fan driving unit of the driving P110 of the AC motor connected to the fan driving circuit operates. In addition, by the operation of the rotating shaft magnetic body (Fig. 5 121) and the Hall sensor (162 of Fig. 9) provided in the fan driving unit to know the fan driving unit. blood. As the RPM value is extracted (P120), it is transmitted to the main controller of the semiconductor manufacturing equipment through the third connector.
그 후, 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러는 미리 프로그램된 절차에 따라 수신된 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM) 값이 설정된 알. 피. 엠(RPM) 값의 범위인가를 비교(S130)/판단한다. 이때 팬 구동부의 개수가 하나 이상 복수인 경우, 개별 팬 구동부의 측정된 알. 피. 엠(RPM) 값을 각각 정상 범위의 설정값과 비교한다.After that, the main controller of the semiconductor manufacturing equipment has the received fan driver according to a pre-programmed procedure. blood. Egg with the set RPM value. blood. Comparing (S130)/determining whether the value of M (RPM) is within the range. At this time, if the number of fan driving units is more than one, the measured egg of each fan driving unit. blood. Each of the RPM values is compared with the set value in the normal range.
비교 결과가 정상 범위와 같은 경우, 펄스 폭 변조(PWM) 회로에서 듀티(Duty) 비의 변경 없이(P140) 펄스 폭 변조 회로에 교류 전원은 인가한다. 그러나 비교 결과가 정상 범위를 벗어난 경우, 펄스 폭 변조(PWM) 회로에서 듀티(Duty) 비의 변경시켜(P150) 펄스 폭 변조 회로에 교류 전원은 인가한다. 이에 따라, 복수개의 팬 구동부에서 각각 여러 원인으로 알. 피. 엠(RPM) 값이 서로 다르더라도 모든 팬 구동부의 팬 회전 속도를 서로 일정하게 유지할 수 있다. 따라서 반도체 제조 장비에서 클린 유닛에 의한 장비 효율을 개선하고, 가공 중인 반도체 소자의 결함 발생률을 낮출 수 있다.When the comparison result is the same as the normal range, AC power is applied to the pulse width modulation circuit without changing the duty ratio (P140) in the pulse width modulation (PWM) circuit. However, when the comparison result is out of the normal range, the duty ratio is changed in the pulse width modulation (PWM) circuit (P150), and AC power is applied to the pulse width modulation circuit. Accordingly, each of the plurality of fan driving units is known for various causes. blood. Even if the RPM values are different, the fan rotation speeds of all fan drives can be kept constant. Therefore, it is possible to improve equipment efficiency by a clean unit in semiconductor manufacturing equipment and reduce the defect rate of semiconductor devices being processed.
일반적으로 듀티 비가 높을수록 알. 피. 엠(RPM) 값은 높아진다. 따라서 복수개의 팬 구동부가 동작하더라도 본 발명에 의하면 모든 팬 구동부를 미리 설정된 알. 피. 엠(RPM) 값과 비교하여 일정하게 알. 피. 엠(RPM)을 유지하는 제어 방식이기 때문에 공정상 클린 유닛의 팬 구동부에서 동일한 알. 피. 엠(RPM)이 필요한 반도체 제조 장비에 적합할 수 있다.In general, the higher the duty ratio, the better. blood. The value of RPM increases. Therefore, even if a plurality of fan driving units are operated, according to the present invention, all fan driving units are preset. blood. Compared with the value of M (RPM), know it consistently. blood. Because it is a control method that maintains RPM, the same egg in the fan drive part of the clean unit in the process. blood. It may be suitable for semiconductor manufacturing equipment that requires RPM.
도 12는 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛의 구동 방법을 설명하기 위한 블록도이다.12 is a block diagram illustrating a method of driving a clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 12를 참조하면, 본 발명에 의한 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛 구동 방법은, 먼저 반도체 제조 장비의 클린 유닛으로 교류(AC) 전원을 인가하여 팬 구동부를 동작시킨다(P190). 그 후, 상기 클린 유닛 내부의 발생된 압력을 검출하여 팬 구동 상태 알람을 동작시킨다(P192). Referring to FIG. 12, in the method for driving a clean unit of semiconductor manufacturing equipment having improved fan rotation uniformity according to the present invention, first, an AC power is applied to the clean unit of the semiconductor manufacturing equipment to operate the fan driving unit (P190). . Thereafter, the pressure generated inside the clean unit is detected to operate a fan driving state alarm (P192).
계속해서, 상기 클린 유닛의 팬 구동부의 회전축 자성부와 제2 회로부의 홀(Hall) 센서를 이용하여 복수개 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM) 값들을 측정한다(P194). 상기 측정된 알. 피. 엠(RPM) 값들을 제3 커넥터를 통해 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러로 전송한다(P196). 그리고 상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러에서 설정된 알. 피. 엠(RPM)값과 측정된 알. 피. 엠(RPM) 값을 비교(P198)하여, 상기 설정된 알. 피. 엠(RPM)값과 측정된 알. 피. 엠(RPM) 값의 차이가 발생하면 상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러에서 상기 팬 구동부를 구동하는 듀티(Duty) 비를 조정(P200)하여 복수개의 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM)을 균일하게 유지한다. Subsequently, the plurality of fan driving units are known by using the magnetic rotating shaft of the fan driving unit of the clean unit and the Hall sensor of the second circuit unit. blood. M (RPM) values are measured (P194). The measured egg. blood. The RPM values are transmitted to the main controller of the semiconductor manufacturing equipment through the third connector (P196). And Al set in the main controller of the semiconductor manufacturing equipment. blood. M (RPM) value and measured egg. blood. M (RPM) value is compared (P198), and the set R. blood. M (RPM) value and measured egg. blood. When a difference in the RPM value occurs, a duty ratio of driving the fan driver is adjusted (P200) in the main controller of the semiconductor manufacturing equipment to detect the plurality of fan drivers. blood. Keep the RPM uniform.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다. The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art will appreciate that various modifications and other equivalent embodiments are possible therefrom. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be determined only by the appended claims.
100: 클린 유닛,
110:필터부,
120: 팬 구동부,
121: 회전축 자성체,
140: 제어판넬부, 142: 팬 속도 조절 회로(PWM),
146: 제1 커넥터,
147: 제2 커넥터,
162: 홀 센서,
164: 제3 커넥터,
200: 메인 컨트롤러,
1000: 반도체 제조 장비.100: clean unit, 110: filter part,
120: fan driving unit, 121: magnetic rotating shaft,
140: control panel panel, 142: fan speed control circuit (PWM),
146: first connector, 147: second connector,
162: Hall sensor, 164: third connector,
200: main controller, 1000: semiconductor manufacturing equipment.
Claims (9)
상기 반도체 제조 장비 일단의 개구부에 탑재된 클린 유닛 지지부;
상기 클린 유닛 지지부의 하부에 고정된 필터부;
상기 클린 유닛 지지부에 고정되어 상기 필터부 상부에 마련된 팬 구동부;
상기 팬 구동부의 회전축 상부 내부에 마련되고 내부에 자성체가 접착수단에 의해 고정된 회전축 자성부;
상기 클린 유닛 지지부의 일단에서 외부로 노출되고 노출된 전면에 압력 표시 수단, 모터 속도 조절 스위치, 팬 구동 알람 표시등, 전원 표시등 및 전원 스위치를 포함하는 제어 판넬부;
상기 클린 유닛 지지부에 고정되고 상기 팬 구동부 및 제어 판넬부와 연결되고, 내부에 팬 구동 회로, 팬 속도 조절 회로, 전원 표시 회로, 팬 구동 상태 표시 회로, 압력 검출 회로를 포함하는 제1 회로부;
상기 회전축 자성부 상단에 고정되고 내부에 홀(hall) 센서를 포함하여 상기 팬 구동부의 회전 속도를 감지할 수 있는 제2 회로부; 및
상기 제1 회로부 및 상기 제2 회로부와 연결되어 팬 속도 회로 및 홀 센서의 신호를 수신하여 상기 팬 구동부의 팬의 회전 정도를 조절할 수 있는 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러를 구비하는 것을 특징으로 하는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛.Semiconductor manufacturing equipment for processing semiconductor devices;
A clean unit support part mounted on an opening of one end of the semiconductor manufacturing equipment;
A filter part fixed to a lower part of the clean unit support part;
A fan driving part fixed to the clean unit support part and provided above the filter part;
A rotating shaft magnetic part provided inside the upper part of the rotating shaft of the fan driving part and having a magnetic material fixed therein by an adhesive means;
A control panel unit including a pressure display means, a motor speed control switch, a fan driving alarm indicator, a power indicator, and a power switch on the exposed front surface from one end of the clean unit support portion;
A first circuit unit fixed to the clean unit support unit, connected to the fan driving unit and the control panel unit, and including a fan driving circuit, a fan speed control circuit, a power display circuit, a fan driving state display circuit, and a pressure detection circuit therein;
A second circuit unit fixed to an upper end of the rotating shaft magnetic unit and including a hall sensor therein to detect the rotation speed of the fan driving unit; And
Fan rotation, characterized in that it comprises a main controller of semiconductor manufacturing equipment connected to the first circuit unit and the second circuit unit to control the degree of rotation of the fan of the fan driving unit by receiving signals from a fan speed circuit and a hall sensor Clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved uniformity.
상기 팬 구동부의 팬의 개수는,
하나 이상인 것을 특징으로 하는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛.The method of claim 1,
The number of fans of the fan driving unit is,
A clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity, characterized in that at least one.
상기 회전축 자성부는,
팬의 회전축의 상부에 형성된 음각부;
상기 음각부 내에 매립된 자성체; 및
상기 자성체가 매립된 음각부를 상기 회전축 표면과 동일 높이로 매립하는 접착 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛.The method of claim 1,
The rotating shaft magnetic part,
An intaglio portion formed on an upper portion of the rotating shaft of the fan;
A magnetic material embedded in the intaglio portion; And
A clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity, comprising: an adhesive means for filling the intaglio portion in which the magnetic material is embedded at the same height as the surface of the rotation shaft.
상기 제1 회로부의 팬 속도 조절 회로는,
교류 전력 조절기인 것을 특징으로 하는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛.The method of claim 1,
The fan speed control circuit of the first circuit unit,
A clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity, characterized in that it is an AC power regulator.
상기 제1 회로부의 팬 속도 조절 회로는,
펄스 폭 변조(PWM:Pulse Width Modulation) 회로인 것을 특징으로 하는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛.The method of claim 1,
The fan speed control circuit of the first circuit unit,
A clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity, characterized in that it is a Pulse Width Modulation (PWM) circuit.
상기 제어 판넬부는,
외부로 전원을 연결할 수 있는 제1 커넥터; 및
외부로 신호를 전달할 수 있는 제2 커넥터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛.The method of claim 1,
The control panel part,
A first connector capable of connecting power to the outside; And
A clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity, further comprising a second connector capable of transmitting a signal to the outside.
상기 제2 회로부는,
외부로 전원 및 신호를 주고 받을 수 있는 제3 커넥터를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛.The method of claim 1,
The second circuit unit,
A clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity, further comprising a third connector for exchanging power and signals to and from the outside.
상기 클린 유닛 내부의 발생된 압력을 검출하여 팬 구동 상태 알람을 동작시키는 단계;
상기 클린 유닛의 팬 구동부의 회전축 자성부와 제2 회로부의 홀(Hall) 센서를 이용하여 복수개 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM) 값들을 측정하는 단계;
상기 측정된 알. 피. 엠(RPM) 값들을 제3 커넥터를 통해 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러로 전송하는 단계;
상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러에서 설정된 알. 피. 엠(RPM)값과 측정된 알. 피. 엠(RPM) 값을 비교하는 단계; 및
상기 설정된 알. 피. 엠(RPM)값과 측정된 알. 피. 엠(RPM) 값의 차이가 발생하면 상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러에서 상기 팬 구동부를 구동하는 듀티(Duty) 비를 조정하여 복수개의 팬 구동부의 알. 피. 엠(RPM)을 균일하게 유지하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛 구동 방법.Applying an alternating current (AC) power to a clean unit of semiconductor manufacturing equipment to operate a fan driving unit;
Operating a fan driving state alarm by detecting the pressure generated inside the clean unit;
Al. A plurality of fan driving units using a magnetic rotating shaft of the fan driving unit of the clean unit and a Hall sensor of the second circuit unit. blood. Measuring RPM values;
The measured egg. blood. Transmitting the RPM values to a main controller of the semiconductor manufacturing equipment through a third connector;
Al set in the main controller of the semiconductor manufacturing equipment. blood. M (RPM) value and measured egg. blood. Comparing the RPM values; And
The set al. blood. M (RPM) value and measured egg. blood. When a difference between the RPM values occurs, the main controller of the semiconductor manufacturing equipment adjusts a duty ratio for driving the fan driver to determine the number of fan driving units. blood. A method of driving a clean unit of a semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity, comprising the step of uniformly maintaining RPM.
상기 팬 구동 상태 알람을 동작시키는 단계 후에,
비정상 알람이 동작하면 그 신호를 상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러로 전송하는 단계; 및
상기 반도체 제조 장비의 메인 컨트롤러에서 비정상 알람을 반도체 제조 장비의 표시 장치로 표시하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 팬 회전 균일도를 개선한 반도체 제조 장비의 클린 유닛 구동 방법.The method of claim 8,
After the step of operating the fan driving state alarm,
Transmitting the signal to a main controller of the semiconductor manufacturing equipment when an abnormal alarm operates; And
And displaying an abnormal alarm on a display device of the semiconductor manufacturing equipment by the main controller of the semiconductor manufacturing equipment. The method of driving a clean unit of semiconductor manufacturing equipment with improved fan rotation uniformity.
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