KR20200089575A - Nanopillar for cell activity analysis and method of preparing the same - Google Patents

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KR20200089575A
KR20200089575A KR1020190006482A KR20190006482A KR20200089575A KR 20200089575 A KR20200089575 A KR 20200089575A KR 1020190006482 A KR1020190006482 A KR 1020190006482A KR 20190006482 A KR20190006482 A KR 20190006482A KR 20200089575 A KR20200089575 A KR 20200089575A
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김규정
김수정
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부산대학교 산학협력단
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Abstract

The present invention relates to a nanopillar for cell activity analysis and a manufacturing method thereof, and more specifically, to a nanopillar for cell activity analysis, capable of culturing cells on a nano-pillar structure etched with gold and analyzing cell activity through SEM or fluorescence microscopy, and a manufacturing method thereof. By providing nano pillars for cell activity analysis and a manufacturing method thereof, it is possible to observe living cells, fluorescent staining of cells is possible, and using the same, there is an effect of confirming the characteristics of the cells themselves by analyzing the activities of the cells.

Description

세포 활동 분석용 나노 필라 및 그 제조방법 {Nanopillar for cell activity analysis and method of preparing the same} Nanopillar for cell activity analysis and method of preparing the same}

본 발명은 세포 활동 분석용 나노 필라(pillar) 및 제조방법에 관한 것으로 더 상세하게는 금으로 에칭된 나노 필라 구조체 상에 세포를 배양하고 SEM 또는 형광 현미경 측정을 통해 세포 활동을 분석할 수 있는 나노 필라 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a nano-pillar for cell activity analysis and a manufacturing method, and more specifically, a cell capable of culturing cells on a nano-pillar structure etched with gold and analyzing cell activity through SEM or fluorescence microscopy. It relates to a pillar and its manufacturing method.

나노구조체 또는 나노 스케일의 구조체는 현재 전자 소재(예를 들면, 전극, 발광 다이오드(LED) 및 태양전지), 반도체 제조 공정, 데이터 저장장치, 웨어러블(wearable) 기기, 각종 센서(예를 들면, 플렉서블 센서, 전기화학 센서 및 바이오 센서) 등, 다양한 기술분야에서 적용되고 있다. 특히, 나노-로드(nano-rod), 나노-필라(nanopillar) 또는 나노-와이어(nano-wire)와 같은 나노 스케일의 구조체는 고유의 광학적 및 전기적 특성으로 인하여 다양한 전자 소자 및 광소자로 응용되고 있다. 이러한 나노 스케일의 미세 패턴은 시간 및 공간 효율성을 높이는 것 이외에도 새로운 기능을 부여하는데 중요한 요소로서, 이에 부합되는 나노구조체에 대한 요구가 증가 하고 있다.Nanostructures or nanoscale structures are currently used in electronic materials (eg, electrodes, light emitting diodes (LEDs) and solar cells), semiconductor manufacturing processes, data storage devices, wearable devices, and various sensors (eg, flexible) Sensors, electrochemical sensors, and biosensors). In particular, nano-scale structures such as nano-rod, nanopillar, or nano-wire have been applied to various electronic and optical devices due to their unique optical and electrical properties. . In addition to increasing time and space efficiency, such a nano-scale fine pattern is an important factor for imparting new functions, and the demand for nanostructures corresponding thereto is increasing.

현재까지는 포토리소그래피 기술을 이용한 나노구조체의 제작 방법이 가장 널리 사용되고 있으나, 최근에는 보다 간편하고 저비용 방식으로 나노 패턴 구조체를 제조하는 기술이 활발히 연구되고 있다. Until now, the method of manufacturing a nanostructure using a photolithography technique is the most widely used, but recently, a technique for manufacturing a nano-pattern structure in a simpler and lower-cost manner has been actively studied.

최근에 연구되고 있는 나노구조체의 경우, 이의 물성 및 거동은 분자 구성 성분 및 정확한 공간 포지셔닝(positioning)에 의존하게 되며, 큰 규모의 디바이스에서 조절된 형태학적 특징(morphology)에 의하여 예상하지 못했던 특성을 제공할 수 있다는 점이 알려지고 있어, 나노 구조체를 신규 용도 또는 새로운 분야에 적용하려는 시도가 이루어지고 있다.In the case of nanostructures that have been studied recently, their physical properties and behavior depend on the molecular composition and precise spatial positioning, and the unexpected properties due to the controlled morphology in large-scale devices. It is known that it can provide, and attempts are being made to apply nanostructures to new uses or new fields.

이에 따라, '대한민국 등록특허 10-1910851호'에서는 제 1 고분자 재질의 나노 필라 어레이의 표면에 제 2 고분자 재질의 나노 웹을 형성한 복합 나노구조체를 이용하여 이에 각종 병원체를 고정하고, 후속 절차에서 이를 특이적 또는 비특이적으로 검출할 수 있는 방법 및 검출 시스템에 대하여 개시하고 있으나, 나노 필라 구조체를 병원체의 고정 용도로서만 사용하여 한정적인 나노 구조체의 용도만을 제공하고 있다는 문제점이 있다.Accordingly, in the'Registration No. 10-1910851 Republic of Korea', various pathogens are fixed thereto using a complex nanostructure in which a nano web of a second polymer material is formed on the surface of a nano-pillar array of a first polymer material, and in a subsequent procedure. Although it discloses a method and a detection system capable of detecting this specifically or non-specifically, there is a problem in that only the use of a limited nanostructure is provided by using the nanopillar structure only as a fixed use of a pathogen.

KR 10-1878404 B1KR 10-1878404 B1

전자빔 리소그래피를 이용한 나노-마이크로 패턴 제작 및 응용, 김진태 전남대학교 대학원, 2010. 2. Nano-micro pattern production and application using electron beam lithography, Jin-Tae Kim, Graduate School of Chonnam National University, Feb. 2010

상기 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 세포 활동 분석용 나노 필라의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a method for preparing a nano-pillar for analyzing cell activity.

또한 세포 활동 분석용 나노 필라의 제조방법에 따라 제조된 나노 필라를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is also an object of the present invention to provide a nano-pillar prepared according to a method of manufacturing a nano-pillar for cell activity analysis.

상기 목적을 해결하기 위하여 본 발명은 The present invention to solve the above object

폴리메탈크릴산메틸 (Poly(methyl methacrylate), PMMA)가 코팅된 석영 기판을 제조하는 제 1 단계;A first step of manufacturing a quartz substrate coated with poly(methyl methacrylate), PMMA;

상기 PMMA가 코팅된 석영 기판을 패터닝하여 패터닝된 기판을 형성하는 제 2 단계;A second step of patterning the PMMA-coated quartz substrate to form a patterned substrate;

상기 패터닝된 기판의 식각된 부위에 크롬(Cr)을 증착시켜 크롬이 증착된 기판을 형성하는 제 3 단계;A third step of depositing chromium (Cr) on the etched portion of the patterned substrate to form a chromium-deposited substrate;

상기 크롬이 증착된 기판을 세척하여 잔여 PMMA를 제거한 기판을 형성하는 제 4 단계; 및A fourth step of washing the substrate on which chromium is deposited to form a substrate from which residual PMMA is removed; And

상기 잔여 PMMA를 제거한 기판을 식각하고, 식각된 부위에 열증착(thermal evaporation)을 통해 금을 증착하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세포 활동 분석용 나노 필라의 제조방법을 제공한다.And a fifth step of etching the substrate from which the residual PMMA is removed, and depositing gold through thermal evaporation on the etched region.

제 2 단계는 전자빔 리소그래피(E-beam lithography)를 이용하여 PMMA가 코팅된 석영 기판을 패터닝하는 것을 특징으로 한다.The second step is characterized by patterning a quartz substrate coated with PMMA using E-beam lithography.

상기 다른 목적을 해결하기 위하여 본 발명은 The present invention to solve the above other object

상기 제조방법으로 제조된 세포 활동 분석용 나노 필라를 제공한다.It provides a nano-pillar for cell activity analysis prepared by the above manufacturing method.

본 발명은 세포 활동 분석용 나노 필라 및 그 제조방법을 제공함으로써 살아있는 세포의 관찰이 가능하고, 세포의 형광 염색이 가능하며, 이를 이용하여 세포의 활동을 분석하여 세포 자체의 특성을 확인할 수 있다.The present invention provides a nano-pillar for cell activity analysis and a method of manufacturing the living cells to observe the cells, fluorescence staining of the cells is possible, and by using the cells to analyze the activity of the characteristics of the cell itself.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 나노 구조체가 형성되는 과정을 나타낸 그림이다.
도 2는 본 발명의 일 비교예에 따라 제조된 나노 구조체의 광 산란 시뮬레이션 결과 사진이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 나노 구조체의 광 산란 시뮬레이션 결과 사진이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예 및 비교예에 따라 제조된 나노 구조체 상의 세포를 촬영하기 위한 형광 현미경의 구조를 그림으로 나타낸 것이다.
도 5는 본 발명의 일 비교예에 따라 제조된 나노 구조체 상의 세포를 형광 현미경으로 측정한 사진이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 나노 구조체 상의 세포를 형광 현미경으로 측정한 사진이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 나노 구조체 상의 세포의 SEM 사진이다.
1 is a view showing a process of forming a nanostructure prepared according to an embodiment of the present invention.
2 is a photo of light scattering simulation results of a nanostructure prepared according to a comparative example of the present invention.
3 is a photo of light scattering simulation results of a nanostructure prepared according to an embodiment of the present invention.
4 is a diagram showing the structure of a fluorescence microscope for imaging cells on nanostructures prepared according to one embodiment and a comparative example of the present invention.
5 is a photograph of cells on a nanostructure prepared according to a comparative example of the present invention measured by a fluorescence microscope.
6 is a photograph of cells on a nanostructure prepared according to an embodiment of the present invention measured with a fluorescence microscope.
7 is an SEM photograph of cells on a nanostructure prepared according to an embodiment of the present invention.

이하 본 발명에 대해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present specification, when a part “includes” a certain component, it means that the component may further include other components, not to exclude other components, unless otherwise stated.

본 명세서에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.In the present specification, when a member is said to be positioned “on” another member, this includes not only the case where one member is in contact with the other member but also another member between the two members.

본 발명의 일측면에 따르면, 폴리메탈크릴산메틸 (Poly(methyl methacrylate), PMMA)가 코팅된 석영 기판을 제조하는 제 1 단계; 상기 PMMA가 코팅된 석영 기판을 패터닝하여 패터닝된 기판을 형성하는 제 2 단계; 상기 패터닝된 기판의 식각된 부위에 크롬(Cr)을 증착시켜 크롬이 증착된 기판을 형성하는 제 3 단계; 상기 크롬이 증착된 기판을 세척하여 잔여 PMMA를 제거한 기판을 형성하는 제 4 단계; 및 상기 잔여 PMMA를 제거한 기판을 식각하고, 식각된 부위에 열증착(thermal evaporation)을 통해 금을 증착하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세포 활동 분석용 나노 필라의 제조방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, a first step of producing a poly(methyl methacrylate) (Poly(methyl methacrylate), PMMA) coated quartz substrate; A second step of patterning the PMMA-coated quartz substrate to form a patterned substrate; A third step of depositing chromium (Cr) on the etched portion of the patterned substrate to form a chromium-deposited substrate; A fourth step of washing the substrate on which chromium is deposited to form a substrate from which residual PMMA is removed; And a fifth step of etching the substrate from which the residual PMMA has been removed, and depositing gold through the thermal evaporation on the etched region.

세포 내부에서 일어나는 현상은 나노 단위에서 일어나며 이러한 이유로 초고해상도의 관찰이 요구된다. 나노 필라 구조는 종횡비가 높고 표면적과 세포의 접착성이 우수하며, 세포를 고정할 수 있고, 원하는 물질을 세포에 침투시킬 수 있어 이를 이용하여 세포 활동의 메커니즘을 변화시켜 형광의 세포 이미지를 관찰할 수 있다. 그러나 나노 필라 구조는 필러에 따라서 광 신호의 산란이 일어나 낮은 해상도의 형광이미지 만을 얻을 수 있어 초고해상도의 이미지 관찰이 어렵다.The phenomenon that occurs inside the cell occurs at the nano-scale, and for this reason, super-resolution observation is required. The nano-pillar structure has a high aspect ratio, excellent surface area and adhesion to cells, can fix cells, and can infiltrate cells with a desired substance, thereby changing the mechanism of cell activity to observe the cell image of fluorescence. Can. However, in the nano-pillar structure, scattering of the optical signal occurs according to the filler, and thus only a low-resolution fluorescence image can be obtained, and thus it is difficult to observe an ultra-high resolution image.

이에 따라 본 발명에서는 나노 필라 구조에서의 광 신호의 산란을 방지하고, 세포가 잘 배양될 수 있도록 하기 위하여 기존의 나노 필라 상에 금을 코팅하여 빛의 산란 손실을 최대한 줄이고 나노 필라 표면 끝 부분(기둥, 최대 높이 측정 부분)에 빛이 집광될 수 있는 나노 구조체를 제공한다. Accordingly, in the present invention, to prevent scattering of the light signal in the nano-pillar structure, and to coat the gold on the existing nano-pillar in order to enable the cells to be cultured well, the light scattering loss is reduced as much as possible and the tip of the nano-pillar surface ( Pillar, the maximum height measurement part) provides a nanostructure that can be condensed light.

이러한 세포 활동 분석용 나노 필라의 제조방법의 제 2 단계는 전자빔 리소그래피(E-beam lithography)를 이용하여 PMMA가 코팅된 석영 기판을 패터닝하는 것을 특징으로 한다.The second step of the manufacturing method of the nano-pillar for cell activity analysis is characterized by patterning a PMMA-coated quartz substrate using E-beam lithography.

전자빔 리소그래피(E-beam lithography)는 정확한 위치에 미세한 패턴을 제작할 수 있으며, 이러란 미세한 패터닝은 전자빔의 스팟 크기가 매우 작기 때문이다. nm크기의 리소그래피가 가능하고 기존의 여러 패터닝 기술 중에서 매우 우수한 해상도를 제공할 수 있다.Electron beam lithography (E-beam lithography) can produce a fine pattern in the correct position, because this fine patterning is because the spot size of the electron beam is very small. Lithography of nm size is possible and it can provide very good resolution among many existing patterning techniques.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 세포 활동 분석용 나노 필라의 제조방법으로 제조된 나노 필라를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a nano-pillar prepared by a method of manufacturing a nano-pillar for cell activity analysis.

세포 활동 분석용 나노 필라는 폴리메탈크릴산메틸 (Poly(methyl methacrylate), PMMA)가 코팅된 석영 기판을 제조하는 제 1 단계; 상기 PMMA가 코팅된 석영 기판을 패터닝하여 패터닝된 기판을 형성하는 제 2 단계; 상기 패터닝된 기판의 식각된 부위에 크롬(Cr)을 증착시켜 크롬이 증착된 기판을 형성하는 제 3 단계; 상기 크롬이 증착된 기판을 세척하여 잔여 PMMA를 제거한 기판을 형성하는 제 4 단계; 및 상기 잔여 PMMA를 제거한 기판을 식각하고, 식각된 부위에 열증착(thermal evaporation)을 통해 금을 증착하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세포 활동 분석용 나노 필라의 제조방법에 의해 제조될 수 있다.The nano-pillar for cell activity analysis is a first step of manufacturing a poly(methyl methacrylate), a quartz substrate coated with PMMA; A second step of patterning the PMMA-coated quartz substrate to form a patterned substrate; A third step of depositing chromium (Cr) on the etched portion of the patterned substrate to form a chromium-deposited substrate; A fourth step of washing the substrate on which chromium is deposited to form a substrate from which residual PMMA is removed; And a fifth step of etching the substrate from which the residual PMMA has been removed, and depositing gold through the thermal evaporation on the etched region. Can.

세포 내부에서 일어나는 현상은 나노 단위에서 일어나며 이러한 이유로 초고해상도의 관찰이 요구된다. 나노 필라 구조는 종횡비가 높고 표면적과 세포의 접착성이 우수하며, 세포를 고정할 수 있고, 원하는 물질을 세포에 침투시킬 수 있어 이를 이용하여 세포 활동의 메커니즘을 변화시켜 형광의 세포 이미지를 관찰할 수 있다. 그러나 나노 필라 구조는 필러에 따라서 광 신호의 산란이 일어나 낮은 해상도의 형광이미지 만을 얻을 수 있어 초고해상도의 이미지 관찰이 어렵다.The phenomenon that occurs inside the cell occurs at the nano-scale, and for this reason, super-resolution observation is required. The nano-pillar structure has a high aspect ratio, excellent surface area and adhesion to cells, can fix cells, and can infiltrate cells with a desired substance, thereby changing the mechanism of cell activity to observe the cell image of fluorescence. Can. However, in the nano-pillar structure, scattering of the optical signal occurs according to the filler, and thus only a low-resolution fluorescence image can be obtained, and thus it is difficult to observe an ultra-high resolution image.

이에 따라 본 발명에서는 나노 필라 구조에서의 광 신호의 산란을 방지하고, 세포가 잘 배양될 수 있도록 하기 위하여 기존의 나노 필라 상에 금을 코팅하여 빛의 산란 손실을 최대한 줄이고 나노 필라 표면 끝 부분(기둥, 최대 높이 측정 부분)에 빛이 집광될 수 있는 나노 구조체를 제공한다. Accordingly, in the present invention, to prevent scattering of the light signal in the nano-pillar structure, and to coat the gold on the existing nano-pillar in order to enable the cells to be cultured well, the light scattering loss is reduced as much as possible and the tip of the nano-pillar surface ( Pillar, the maximum height measurement part) provides a nanostructure that can be condensed light.

이러한 세포 활동 분석용 나노 필라의 제조방법의 제 2 단계는 전자빔 리소그래피(E-beam lithography)를 이용하여 PMMA가 코팅된 석영 기판을 패터닝하는 것을 특징으로 한다.The second step of the manufacturing method of the nano-pillar for cell activity analysis is characterized by patterning a PMMA-coated quartz substrate using E-beam lithography.

전자빔 리소그래피(E-beam lithography)는 정확한 위치에 미세한 패턴을 제작할 수 있으며, 이러란 미세한 패터닝은 전자빔의 스팟 크기가 매우 작기 때문이다. nm크기의 리소그래피가 가능하고 기존의 여러 패터닝 기술 중에서 매우 우수한 해상도를 제공할 수 있다.Electron beam lithography (E-beam lithography) can produce a fine pattern in the correct position, because this fine patterning is because the spot size of the electron beam is very small. Lithography of nm size is possible and it can provide very good resolution among many existing patterning techniques.

이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in detail to specifically describe the present specification. However, the embodiments according to the present specification may be modified in various other forms, and the scope of the present specification is not construed as being limited to the embodiments described below. The embodiments of the present specification are provided to more fully describe the present specification to those skilled in the art.

<실시예><Example>

실시예 1 - 표면에 금이 증착된 나노 구조체 형성Example 1-Formation of nanostructures with gold deposited on the surface

본 발명에서 나노 구조체를 형성하기 위하여 E-beam lithography를 이용하였다. 우선 석영(quartz)기판 위에 전자빔(E-beam)에 민감한 레지스트를 스핀 코팅(spin coating)을 이용하여 입히게 되는데 이때, 레지스트로 폴리메탈크릴산메틸 (Poly(methyl methacrylate), PMMA)를 사용하였다. 이후 전자빔을 조사하여 PMMA 내 화학적 결합이 끊어지게 되면서 패터닝 후 현상(development)를 통해 전자빔이 닿은 부분만 홈이 생겼으며, 그 위로 크롬(Cr)을 증착 시킨 후 불필요하게 남아있는 PMMA 부분을 세척하여 제거하였다(lift-off). 여기서 RIE etching을 통해 석영 기판을 식각하였으며, 열증착(thermal evaporation)을 통해 금을 패턴의 표면 부분에 증착하였다. 이러한 과정을 도 1에 도시하였다.E-beam lithography was used to form a nanostructure in the present invention. First, a resist sensitive to an electron beam (E-beam) is coated on a quartz substrate using spin coating. At this time, poly(methyl methacrylate), PMMA, is used as the resist. Thereafter, by irradiating the electron beam, the chemical bonds in the PMMA were cut off, and after patterning, only the part where the electron beam touched was developed through patterning, and after chromium (Cr) was deposited thereon, the remaining PMMA part was washed by washing. It was removed (lift-off). Here, the quartz substrate was etched through RIE etching, and gold was deposited on the surface portion of the pattern through thermal evaporation. This process is illustrated in FIG. 1.

실시예 2 - 세포 배양Example 2-Cell culture

NIH3T3 세포를 배지에 키워 준비한 후 D10(DMEM 90 % + FBS 10 % + Genramicin 500 ㎕) 배지와 세포 분리 용액인 트립신(trypsin)을 water bath에서 37℃로 약 10분간 데웠다. 클린벤치를 소독하고 정리하여 알코올 램프를 켠 후, 인큐베이터에서 세포를 꺼내 오래된 배지를 제거했다. 이후 세포 세척 용액인 PBS 5 ml를 피펫으로 넣고 살짝 흔들어 노폐물을 피펫을 이용하여 제거하고, 트립신을 2 ml 넣어 2분간 인큐베이션하여 세포를 분리시켰다. 트립신을 넣은 세포액을 원심분리(2.5 rpm, 2분)한 다음, 원심분리액의 상등액(트립신)만 제거하고, 세포와 배지 조금을 피펫팅으로 혼합하여 1/3 정도만 미리 준비해둔 새 배지 플레이트(실시예 1의 나노 구조체, D10, 10 ml)에 옮겨 배양하였다. After preparing NIH3T3 cells in the medium, D 10 (DMEM 90% + FBS 10% + Genramicin 500 μl) medium and cell separation solution trypsin were heated in a water bath at 37° C. for about 10 minutes. After disinfecting and arranging the cleanbench to turn on the alcohol lamp, cells were removed from the incubator to remove the old medium. Thereafter, 5 ml of PBS, a cell washing solution, was pipetted and gently shaken to remove waste products using a pipette, and 2 ml of trypsin was added and incubated for 2 minutes to separate cells. After centrifugation (2.5 rpm, 2 min) of the cell solution containing trypsin, only the supernatant (trypsin) of the centrifugation solution is removed, and a small medium plate is prepared by mixing the cells and a little medium by pipetting. The nanostructures of Example 1, D 10 , 10 ml) were transferred and cultured.

비교예 1 - 나노 구조체 제조Comparative Example 1-Preparation of nanostructures

석영(quartz)기판 위에 전자빔(E-beam)에 민감한 레지스트를 스핀 코팅(spin coating)을 이용하여 입혔으며 이때, 레지스트로 폴리메탈크릴산메틸 (Poly(methyl methacrylate), PMMA)를 사용하였다. 이후 전자빔을 조사하여 PMMA 내 화학적 결합이 끊어지게 되면서 패터닝 후 현상(development)를 통해 전자빔이 닿은 부분만 홈이 생겼으며, 그 위로 크롬(Cr)을 증착 시킨 후 불필요하게 남아있는 PMMA 부분을 세척하여 제거한(lift-off) 후 RIE etching을 통해 석영 기판을 식각하여 최종적으로 나노 구조체를 제조하였다. A resist sensitive to an electron beam (E-beam) was coated on a quartz substrate using spin coating, and poly(methyl methacrylate), PMMA, was used as the resist. Thereafter, by irradiating the electron beam, the chemical bonds in the PMMA were cut off, and after patterning, only the part where the electron beam touched was developed through patterning, and after chromium (Cr) was deposited thereon, the remaining PMMA part was washed by washing. After removing (lift-off), the quartz substrate was etched through RIE etching to finally produce a nanostructure.

비교예 2 - 세포 배양Comparative Example 2-Cell culture

NIH3T3 세포를 배지에 키워 준비한 후 D10(DMEM 90 % + FBS 10 % + Genramicin 500 ㎕) 배지와 세포 분리 용액인 트립신(trypsin)을 water bath에서 37℃로 약 10분간 데웠다. 클린벤치를 소독하고 정리하여 알코올 램프를 켠 후, 인큐베이터에서 세포를 꺼내 오래된 배지를 제거했다. 이후 세포 세척 용액인 PBS 5 ml를 피펫으로 넣고 살짝 흔들어 노폐물을 피펫을 이용하여 제거하고, 트립신을 2 ml 넣어 2분간 인큐베이션하여 세포를 분리시켰다. 트립신을 넣은 세포액을 원심분리(2.5 rpm, 2분)한 다음, 원심분리액의 상등액(트립신)만 제거하고, 세포와 배지 조금을 피펫팅으로 혼합하여 1/3 정도만 미리 준비해둔 새 배지 플레이트(나노 구조체, D10, 10 ml)에 옮겨 배양하였다.After preparing NIH3T3 cells in the medium, D 10 (DMEM 90% + FBS 10% + Genramicin 500 μl) medium and cell separation solution trypsin were heated in a water bath at 37° C. for about 10 minutes. After disinfecting and arranging the cleanbench to turn on the alcohol lamp, cells were removed from the incubator to remove the old medium. Thereafter, 5 ml of PBS, a cell washing solution, was pipetted and gently shaken to remove waste products using a pipette, and 2 ml of trypsin was added and incubated for 2 minutes to separate cells. After centrifugation (2.5 rpm, 2 min) of the cell solution containing trypsin, only the supernatant (trypsin) of the centrifugation solution is removed, and a small medium plate is prepared by mixing the cells and a little medium by pipetting. Nanostructures, D 10 , 10 ml) and cultured.

<평가 방법><Evaluation method>

실험예 1 - 광 산란 시뮬레이션Experimental Example 1-Light Scattering Simulation

상기 실시예 1 및 비교예 1에 따라 제조한 나노 구조체의 광 산란 정도를 비교하기 위하여 시뮬레이션을 실시하였다. A simulation was performed to compare the degree of light scattering of the nanostructures prepared according to Example 1 and Comparative Example 1.

시뮬레이션 프로그램은 MATLAB를 사용하였으며, 직경 100nm, 높이 1000 nm, 주기 1 ㎛ 조건으로 시행되었다. 단, 실시예 1의 나노 구조체는 80 nm의 Au를 포함하고 있으며, 비교예 1의 나노 구조체는 Au를 포함하지 않는다.The simulation program used MATLAB, and was performed under a condition of 100 nm in diameter, 1000 nm in height, and 1 μm cycle. However, the nanostructure of Example 1 contains 80 nm of Au, and the nanostructure of Comparative Example 1 does not contain Au.

실험예 2 - 형광 현미경 측정Experimental Example 2-Fluorescence Microscopy Measurement

DMSO(Dimethyl sulfoxide) 990 ㎕ 및 DiD solution 10 ㎕를 혼합하여 형광용액을 제조하였다. 이후 상기 실시예 2 및 비교예 2에 따라 배양한 각각의 세포액에서 배지를 제거하고 형광용액을 뿌려 5분 동안 인큐베이터에 넣어 용액을 석션하였다. 용액이 석션된 세포에 배지를 넣어 인큐베이터에서 다시 5분 동안 반응시켜 세포에 형광 Dye를 부착하였으며, 상기 상기 실시예 1 및 비교예 1에 따라 제조한 각각의 나노 구조체 (나노 필라)에 배지를 넣고 형광 염색된 세포를 뿌려 인큐베이터에서 5분간 배양하였다.Fluorescence solution was prepared by mixing 990 μl of DMSO (Dimethyl sulfoxide) and 10 μl of DiD solution. Thereafter, the medium was removed from each cell culture cultured according to Example 2 and Comparative Example 2, sprinkled with a fluorescent solution, and placed in an incubator for 5 minutes to suction the solution. Put the medium in the solution-suctioned cell and react for another 5 minutes in the incubator to attach fluorescent dye to the cell, and put the medium into each nanostructure (nanopillar) prepared according to Example 1 and Comparative Example 1 above. Fluorescently stained cells were sprinkled and cultured in an incubator for 5 minutes.

이렇게 나노 필라에서 배양된 세포를 100 배율, NA 0.9인 대물렌즈를 이용하고, 형광 여기광 파장을 633nm의 조건으로 하여 형광 현미경으로 관찰하였다. The cells cultured in the nanopillar were observed with a fluorescence microscope using an objective lens having a magnification of 100 and an NA of 0.9, and setting the wavelength of fluorescence excitation light to 633 nm.

실험예 3 - SEM 이미지 측정Experimental Example 3-SEM image measurement

실험과정은 후드 안에서 진행되었다. 8 % glutaraldehyde를 PBS를 용매로 하여 2.5 % 농도로 희석하였다. 상기 실시예 2에 따라 나노 구조체 상에 배양된 세포에 희석한 2.5 % glutaraldehyde 용액을 뿌리고 봉하여 1시간 동안 냉장 보관하였다. 이러한 단계를 통해 autolysis를 방지하고 세포의 생존 상태에서의 변화를 최소화하였으며, 탈수 및 전자빔의 노출 시 조직이 보존되도록 하였다. 농도 별 에탄올 및 100 % PBS를 미리 준비하여 후드 안에 넣어둔 후 냉장보관한 세포액을 후드 안에서 100 % PBS로 3번 세척하였다. 이후 세포에 농도 별 에탄올을 뿌리고 1 시간 동안 상온 건조 시켰다. 이러한 과정을 통해 건조 시 세포의 조직 변형을 방지하고 시료의 수축 가능성을 차단하였다. 이와 같은 과정으로 제작된 시료의 SEM 이미지를 측정하였다.The experiment proceeded in the hood. 8% glutaraldehyde was diluted with PBS as a solvent to a concentration of 2.5%. The 2.5% glutaraldehyde solution diluted in the cells cultured on the nanostructures according to Example 2 was sprinkled and sealed and stored refrigerated for 1 hour. Through these steps, autolysis was prevented and the change in cell survival was minimized, and tissue was preserved upon dehydration and exposure to electron beam. Ethanol and 100% PBS for each concentration were prepared in advance and put in a hood, and then the refrigerated cell solution was washed three times with 100% PBS in the hood. After that, the cells were sprayed with ethanol for each concentration and dried at room temperature for 1 hour. Through this process, it prevented cell tissue deformation during drying and blocked the possibility of shrinkage of the sample. The SEM image of the sample produced in this way was measured.

<평가 및 결과><Evaluation and Results>

결과 1 - 나노 구조체 제조 결과Result 1-nanostructure manufacturing result

상기 실시예 1 및 비교예 1에 따라 각각 표면에 금이 증착된 나노 구조체 (나노 필라)와 표면에 금을 증착하지 않은 나노 구조체 (나노 필라)를 제조하였다. 향후 나노 구조체 상에 세포를 배양하고 여러 실험을 진행할 때, 나노 구조체 표면의 금 증착 여부에 따른 차이를 확인하기 위하여 금 증착 과정 외에는 모두 동일한 과정으로 실시예 및 비교예의 나노 구조체를 제작하였으며, 이에 따라 나노 필라의 크기도 지름 200 nm, 최고 높이 820nm, 주기 1 ㎛로 동일하게 제조하였다. 표면에 금을 증착한 나노 필라의 경우, 100 nm의 금 두께를 포함하여 지름 200 nm, 최고 높이 820nm, 주기 1 ㎛를 나타내었다.According to Example 1 and Comparative Example 1, a nano structure (nano pillar) having gold deposited on the surface and a nano structure (nano pillar) having no gold deposited on the surface were prepared, respectively. In the future, when cells were cultivated on the nanostructures and several experiments were conducted, nanostructures of Examples and Comparative Examples were produced in the same process except for the gold deposition process in order to confirm the difference depending on whether the nanostructure surface was deposited or not. The size of the nano-pillar was 200 nm in diameter, the highest height was 820 nm, and the period was 1 μm. In the case of the nano-pillar on which gold was deposited on the surface, a diameter of 200 nm, a maximum height of 820 nm, and a period of 1 μm were exhibited, including a gold thickness of 100 nm.

결과 2 - 광 산란 시뮬레이션 결과Result 2-Light scattering simulation result

상기 실시예 1 및 비교예 1에 따라 제조한 나노 필라의 광 산란 정도를 비교한 결과를 도 2 내지 도 3에 도시하였다.Example above The results of comparing the light scattering degree of the nano-pillars prepared according to 1 and Comparative Example 1 are shown in FIGS. 2 to 3.

그 결과, 비교예 1에 따라 제조한 석영으로만 이루어진 나노 필라의 구조는 레이저를 입사하였을 때, 산란이 일어나 어느 한 지점에 빛이 집광되지 못하였으나, 실시예 1에 따라 제조한 금을 코팅한 나노 필라에서는 금 고팅 부분을 빛이 투과하지 못하여 산란 손실을 최대한 줄일 수 있었으며, 플라즈몬 효과로 인해 나노 필라 끝 부분, 금 부분에 빛이 집광되는 것을 확인할 수 있었다.As a result, the structure of the nano-pillar made of only quartz prepared according to Comparative Example 1, when the laser was incident, scattered and light was not collected at any one point, but the gold prepared according to Example 1 was coated. In the nano-pillar, it was possible to reduce the scattering loss as much as light could not pass through the gold-coated portion, and it was confirmed that light was condensed at the end of the nano-pillar and the gold portion due to the plasmon effect.

따라서, 금을 코팅한 나노 필라를 이용하여 형광 분석 시 레이저가 국소 부위에 집중되어 해당 부위를 고해상도로 관측할 수 있음을 알 수 있었다. Therefore, it was found that the fluorescence analysis using a gold-coated nano-pillar focused the laser on a local area, so that the corresponding area could be observed with high resolution.

결과 3 - 형광 현미경 측정 결과Result 3-Fluorescence microscopic measurement result

상기 실시예 1 및 비교예 1에 따라 제조한 나노 필라 상에 상기 실시예 2 및 비교예 2에 따라 배양한 세포를 배양한 후 형광 현미경으로 측정한 결과를 도 5 내지 도 6에 도시하였다.Example above After culturing the cells cultured according to Example 2 and Comparative Example 2 on the nano pillars prepared according to Example 1 and Comparative Example 1, the results of fluorescence microscopy are shown in FIGS. 5 to 6.

그 결과, 표면에 금을 증착하지 않은 나노 필라의 현미경 사진에서는 빛이 산란되어 나노 필라의 끝 부분이 비교적 흐릿하게 나타나는 것을 확인할 수 있었으며, 표면에 금을 증착한 나노 필라의 경우 나노 필라의 끝 부분이 보다 선명하게 나타나는 것을 확인할 수 있었다. 이러한 결과로 보았을 때, 금으로 코팅된 나노 필라는 플라즈몬 효과에 의해 빛이 집광되는 나노 필라 끝 부분이 선명하게 측정되는 것을 알 수 있었다.As a result, microscopic photographs of the nano-pillars that did not deposit gold on the surface confirmed that light scattered and the ends of the nano-pillars appeared relatively blurry, and in the case of nano-pillars deposited gold on the surface, the ends of the nano-pillars It was confirmed that this appeared more clearly. From these results, it was found that the nano-pillar coated with gold is clearly measured at the tip of the nano-pillar where light is collected by the plasmon effect.

결과 4 - SEM 이미지 측정 결과Result 4-SEM image measurement result

상기 실시예에 따라 나노 필라 상에 세포를 배양한 후 SEM 이미지를 측정한 결과를 도 7에 도시하였다. 그 결과, 나노 필라 상에 세포가 잘 부착되어 배양된 것을 확인할 수 있었다.The results of measuring the SEM image after culturing the cells on the nano pillars according to the above example are shown in FIG. 7. As a result, it was confirmed that the cells were well attached and cultured on the nano pillars.

Claims (3)

폴리메탈크릴산메틸 (Poly(methyl methacrylate), PMMA)가 코팅된 석영 기판을 제조하는 1 단계;
상기 PMMA가 코팅된 석영 기판을 패터닝하여 패터닝된 기판을 형성하는 2 단계;
상기 패터닝된 기판의 식각된 부위에 크롬(Cr)을 증착시켜 크롬이 증착된 기판을 형성하는 3 단계;
상기 크롬이 증착된 기판을 세척하여 잔여 PMMA를 제거한 기판을 형성하는 4 단계; 및
상기 잔여 PMMA를 제거한 기판을 식각하고, 식각된 부위에 열증착(thermal evaporation)을 통해 금을 증착하는 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세포 활동 분석용 나노 필라의 제조방법.
Step 1 of preparing a poly(methyl methacrylate), PMMA coated quartz substrate;
A second step of patterning the PMMA-coated quartz substrate to form a patterned substrate;
3 steps of forming a substrate on which chromium is deposited by depositing chromium (Cr) on an etched portion of the patterned substrate;
Washing the chromium-deposited substrate to form a substrate from which residual PMMA is removed; And
A method of manufacturing a nano-pillar for cell activity analysis, comprising etching the substrate from which the residual PMMA is removed, and depositing gold on the etched region through thermal evaporation.
제 1항에 있어서,
상기 2 단계는 전자빔 리소그래피(E-beam lithography)를 이용하여 PMMA가 코팅된 석영 기판을 패터닝하는 것을 특징으로 하는 세포 활동 분석용 나노 필라의 제조방법.
According to claim 1,
The second step is a method of manufacturing a nano-pillar for analyzing cell activity, characterized by patterning a quartz substrate coated with PMMA using electron beam lithography (E-beam lithography).
제 1항 또는 제 2항 중 어느 한 항에 따른 제조방법으로 제조된 세포 활동 분석용 나노 필라.Nanopillar for cell activity analysis prepared by the method according to any one of claims 1 or 2.
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