KR20200084611A - Nanostructured Anti Reflective Film for the Curved Surface and Method for Fabricating the same - Google Patents

Nanostructured Anti Reflective Film for the Curved Surface and Method for Fabricating the same Download PDF

Info

Publication number
KR20200084611A
KR20200084611A KR1020190000707A KR20190000707A KR20200084611A KR 20200084611 A KR20200084611 A KR 20200084611A KR 1020190000707 A KR1020190000707 A KR 1020190000707A KR 20190000707 A KR20190000707 A KR 20190000707A KR 20200084611 A KR20200084611 A KR 20200084611A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
nano
curved
free
curved surface
Prior art date
Application number
KR1020190000707A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102165315B1 (en
Inventor
정명영
김두인
여나은
조원경
Original Assignee
부산대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 부산대학교 산학협력단 filed Critical 부산대학교 산학협력단
Priority to KR1020190000707A priority Critical patent/KR102165315B1/en
Publication of KR20200084611A publication Critical patent/KR20200084611A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102165315B1 publication Critical patent/KR102165315B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00317—Production of lenses with markings or patterns
    • B29D11/00346—Production of lenses with markings or patterns having nanosize structures or features, e.g. fillers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/002—Processes for applying liquids or other fluent materials the substrate being rotated
    • B05D1/005—Spin coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B29D11/0048—Moulds for lenses
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0073—Optical laminates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)

Abstract

The present invention relates to a nanostructured low reflective film applicable to a free curved surface such as optical lenses that require high transmission and low reflection functions using a nano-imprint process technology, and a method for fabricating the same, wherein the nanostructured low reflective film is a curved microstructure film including: a film base layer in which one surface has the same curved surface as the curved surface of an object to be attached; and a microstructure layer having each nanostructure formed on the other surface of the film base layer at a predetermined interval and having a size of a nanostructure period less than the light wavelength.

Description

자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 및 이의 제조 방법{Nanostructured Anti Reflective Film for the Curved Surface and Method for Fabricating the same}Nanostructured Anti Reflective Film for the Curved Surface and Method for Fabricating the same}

본 발명은 나노구조 필름에 관한 것으로, 구체적으로 나노임프린트 공정기술을 이용하여 고투과 저반사 기능이 요구되는 광학용 렌즈 등의 자유곡면에 적용 가능한 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a nano-structured film, specifically, a free-form customized low-reflection nano-structured film applicable to a free-form surface such as an optical lens that requires a high-transmission low-reflection function using a nanoimprint process technology and a method for manufacturing the same will be.

LED, 디스플레이, 광학용 렌즈, 차량용 유리, 거울의 표면은 고투과 특성이 요구된다.LEDs, displays, lenses for optics, glass for vehicles, and mirrors require high transmission properties.

이러한 표면의 경우 사용함에 따라 시야 확보나 오염 등의 문제가 발생하여 자주 관리가 필요하다.In the case of using such a surface, problems such as securing a field of view or contamination occur, and thus often need to be managed.

따라서, 시야확보나 오염 등을 방지하기 위해 표면 처리를 하여 발수, 김서림 방지, 저반사, 항균, 내지문, 내스크래치 특성과 같은 다양한 기능성을 갖도록 하는 기술들이 연구되고 있다.Accordingly, techniques have been researched to provide various functionalities such as water repellency, anti-fog, anti-reflection, anti-bacterial, anti-fingerprint, and scratch-resistant properties by surface treatment to secure visibility or prevent contamination.

그러나 기능성 소재, 코팅은 기본적으로 소재나 코팅제의 물성에 의해 결정되기 때문에 그 한계가 명확하고 소재에 따라 높은 가격을 요구하며 코팅제가 벗겨지면서 얼룩은 남기는 등의 단점이 존재한다.However, since functional materials and coatings are basically determined by the properties of the material or the coating agent, the limitations are clear, high price is required according to the material, and there are disadvantages such as leaving a stain when the coating is peeled off.

이러한 문제를 극복하기 위해 탈부착 가능한 다양한 기능성 필름들이 시장에 판매되고 있는 추세이지만, 기본적으로 기능성 필름들의 성능 역시 소재에 따르므로 기능성의 한계가 명확하다.In order to overcome this problem, various functional films that can be attached and detached are on the market, but basically, the performance of the functional films also depends on the material, so the functional limitations are clear.

마이크로/나노 미세구조를 활용한 기능성 패턴은 소재의 한계를 극복하여 기능성을 극대화할 수 있는 기술로 각광받고 있다.Functional patterns using micro/nano microstructures have been spotlighted as a technology that can overcome functional limitations to maximize functionality.

나방 눈의 저반사 특성, 연잎의 자가세정 특성, 상어 비늘의 유동저항 감소 및 방오 특성 등 자연 속 마이크로/나노 미세구조를 실제 산업에 적용하기 위하여 기술개발이 연구되고 있다.Technology development is being studied to apply micro/nano microstructures in nature to real industries, such as low reflection properties of moth eyes, self-cleaning properties of lotus leaves, reduced flow resistance of shark scales, and antifouling properties.

마이크로/나노 미세구조를 표면에 제작하기 위해 고온/고압 또는 UV 경화를 이용하는 나노임프린트 리소그래피 공정기술이 대면적, 대량생산 측면에서 유리하다. Nanoimprint lithography process technology that uses high temperature/high pressure or UV curing to fabricate micro/nano microstructures on the surface is advantageous in terms of large area and mass production.

종래 기술에서 공개 특허 제10-2013-0063249호는 무반사 나노구조층을 가지는 고분자 렌즈의 제조방법에 관한 것으로 소정의 곡률을 가지는 렌즈와 렌즈의 일면에 무반사 나노구조층을 성형하는 제조공정에 관한 것이다.Published Patent No. 10-2013-0063249 in the prior art relates to a method of manufacturing a polymer lens having an antireflection nanostructure layer, and relates to a manufacturing process of forming an antireflection nanostructure layer on one surface of a lens and a lens having a predetermined curvature. .

그러나 이와 같은 종래 기술은 렌즈의 일면에 무반사 나노구조층을 성형하기 위하여, 나노 구조를 갖는 박막층이 곡률을 갖도록 하기 위하여 챔버에 음압을 인가하여 박막층의 오목하게 들어간 일면 위에 광 고분자 나노입자가 포함된 충진물을 충진시켜 렌즈를 형성하는 것으로, 곡률 제어 및 재현성 측면에서 유용하지 못하다.However, in the prior art, in order to form a non-reflective nanostructure layer on one surface of the lens, photopolymer nanoparticles are included on one surface of the concave surface of the thin film layer by applying negative pressure to the chamber so that the thin film layer having the nanostructure has curvature. Filling the filling to form a lens, which is not useful in curvature control and reproducibility.

그리고 종래 기술의 공개 특허 제10-2014-0039773호는 식각 정지층을 이용하여 무반사렌즈를 제작하기 위한 사출성형용 금속 주형을 제조하는 방법에 관한 것으로, 입자화 단계 및 고온의 열처리를 필요로 하는 것이다.And the prior art Patent Publication No. 10-2014-0039773 relates to a method of manufacturing a metal mold for injection molding to produce an antireflective lens using an etch stop layer, which requires a granulation step and high temperature heat treatment. will be.

그리고 공개 특허 제10-2013-0057954호는 렌즈의 표면에 식각용 마스크를 형성하고 이를 이용하여 부분적 식각을 통하여 나노구조를 제조하는 기술에 관한 것이다. And Patent Publication No. 10-2013-0057954 relates to a technique for forming an etch mask on the surface of a lens and manufacturing a nanostructure through partial etching using the mask.

이와 같은 종래 기술의 나노 구조 필름 및 렌즈 제조 공정은 곡률 제어 및 재현성 측면에서 한계가 있다.The prior art nanostructure film and lens manufacturing process has limitations in terms of curvature control and reproducibility.

또한, 종래 기술의 미세구조 제조를 위한 나노임프린트 기술은 평탄한 기판 상에서만 적용 가능하였다.In addition, the nanoimprint technology for manufacturing a microstructure of the prior art was applicable only on a flat substrate.

따라서, 평탄한 디스플레이, 유리 표면에는 부착하여 적용할 수 있었으나, LED용 렌즈, 차량용 카메라 렌즈, CCTV 렌즈와 같은 곡면 상에 적용하기에는 한계가 있다.Therefore, it could be applied by being attached to a flat display or a glass surface, but is limited in application to curved surfaces such as LED lenses, vehicle camera lenses, and CCTV lenses.

이를 해결하기 위해 곡면 렌즈 상에 직접 미세구조를 제작하는 방법들이 개발되었다. 하지만 이러한 기술들은 고비용의 장비를 통해 식각하거나, 나노 파티클, 나노와이어 등을 이용해 제작하는 긴 공정 시간을 요구한다.In order to solve this, methods for manufacturing a microstructure directly on a curved lens have been developed. However, these technologies require a long process time to be etched through expensive equipment or fabricated using nanoparticles or nanowires.

또한, 종래 기술의 경우 무반사 나노구조층을 렌즈에 제작하기 위해 박막층 형성, 분리, 접착, 충진, 경화 등의 복잡하고 긴 공정시간을 요구한다.In addition, in the case of the prior art, a complicated and long process time such as thin film layer formation, separation, adhesion, filling, curing, etc. is required to manufacture the antireflection nanostructure layer on the lens.

기본적으로 평평한 PDMS 몰드를 사용하여 완전한 렌즈 형상을 따르기 어려움이 있다.Basically, it is difficult to follow a complete lens shape using a flat PDMS mold.

특히, 대면적, 대량생산 측면에서 유리한 나노임프린트 나노임프린트 리소그래피 공정으로 기능성 표면을 제작할 경우 곡면 몰드를 제작하기가 어려워 렌즈 등 곡면에의 적용이 어렵다.In particular, when a functional surface is produced by a nanoimprint nanoimprint lithography process, which is advantageous in terms of large area and mass production, it is difficult to manufacture a curved surface mold, and thus it is difficult to apply to a curved surface such as a lens.

따라서, 나노임프린트 공정기술을 이용하여 고투과 저반사 기능이 요구되는 광학용 렌즈 등의 자유곡면에 적용 가능한 새로운 기술의 개발이 요구되고 있다.Accordingly, there is a need to develop a new technology that can be applied to a free-form surface such as an optical lens that requires a high transmittance and low reflection function using a nanoimprint process technology.

대한민국 공개특허 제10-2013-0063249호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2013-0063249 대한민국 공개특허 제10-2014-0039773호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2014-0039773 대한민국 공개특허 제10-2013-0057954호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2013-0057954

본 발명은 종래 기술의 나노구조 필름 제조 공정의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 나노임프린트 공정기술을 이용하여 고투과 저반사 기능이 요구되는 광학용 렌즈 등의 자유곡면에 적용 가능한 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 및 이의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the problems of the nanostructure film manufacturing process of the prior art, using a nanoimprint process technology, a free-form customized low-reflection nanostructure applicable to a free-form surface such as an optical lens that requires a high transmittance low-reflection function It is an object to provide a film and a method for manufacturing the same.

본 발명은 고투과 저반사 기능이 요구되는 광학용 렌즈 등의 자유곡면에 적용 가능한 저반사/자가세정 기능성의 마이크로/나노구조 필름의 제조를 위한 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 및 이의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention provides a low-reflection/self-cleaning functional micro/nanostructure film that can be applied to a free-form surface such as an optical lens that requires a high-transmission low-reflection function, and a method for manufacturing a low-reflection customized low-reflection nanostructure film and a method for manufacturing the same There is a purpose.

본 발명은 마이크로/나노 구조가 형성된 평탄한 필름에 나노구조를 보호하기 위한 PDMS(Polydimethylsiloane) 보호층을 형성하고 자유곡면 임프린트 기술을 적용하여 마이크로/나노구조의 손상을 억제할 수 있도록 한 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 및 이의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention provides a free-form customized low surface that can form a micro/nano structured PDMS (Polydimethylsiloane) protective layer to protect the nano-structure on a flat film and apply free-surface imprint technology to suppress damage to the micro/nano-structure. It is an object to provide a reflective nanostructured film and a method for manufacturing the same.

본 발명은 곡면 필름 몰드 제작 기술과 렌즈 표면 부착 기술을 적용하여 렌즈와 같은 곡면에 마이크로/나노 미세구조를 단순한 공정으로 형성할 수 있어 재현성 및 적용 가능성이 높은 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 및 이의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.According to the present invention, a micro/nano microstructure can be formed on a curved surface such as a lens by applying a curved film mold manufacturing technology and a lens surface attachment technology, so that a free-form customized low-reflection nano-structured film having high reproducibility and applicability and its The purpose is to provide a manufacturing method.

본 발명의 다른 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Other objects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other objects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름은 어느 한면이 부착 대상이 되는 대상체의 곡면과 동일 곡면을 갖는 필름 베이스층;상기 필름 베이스층의 다른 면에 각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 미세 구조층;을 갖는 곡면 미세구조 필름인 것을 특징으로 한다.The free-form surface customized low-reflection nanostructure film according to the present invention for achieving the above object has a film base layer having the same curved surface as the curved surface of an object to which one surface is attached; each of the other surfaces of the film base layer It is characterized in that the nanostructures are formed at regular intervals, and the periodicity of the nanostructures is a curved microstructure film having a microstructure layer having a size equal to or less than the wavelength of light.

여기서, 미세 구조층을 구성하는 나노 구조체들의 수평 단면 및 수직 단면이 광파장 이하의 크기를 갖는 것을 특징으로 한다.Here, the horizontal and vertical cross-sections of the nanostructures constituting the microstructured layer are characterized by having a size equal to or less than the light wavelength.

그리고 상기 곡면 미세구조 필름은, 접착 필름을 이용하여 부착 대상이 되는 대상체의 곡면에 부착되는 것을 특징으로 한다.In addition, the curved microstructure film is characterized in that it is attached to the curved surface of the object to be attached by using an adhesive film.

다른 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 방법은 나노 구조를 갖는 몰드상에 폴리머 필름을 부착하고 나노임프린트 공정을 통해 마이크로 및 나노 미세구조를 갖는 나노 필름을 제조하는 단계;상기 나노 필름상에 보호층을 형성하고, 부착 대상이 되는 대상체의 곡면상에 보호층이 형성된 나노 필름을 위치시키고 곡면 임프린트 공정을 진행하여 곡면 미세구조 필름을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.A method of manufacturing a free-form surface customized low-reflection nano-structured film according to the present invention for achieving another object is by attaching a polymer film on a mold having a nano-structure and manufacturing a nano-film having micro and nano-microstructures through a nanoimprint process The method comprising: forming a protective layer on the nano-film, positioning a nano-film having a protective layer on a curved surface of an object to be attached, and performing a curved imprint process to produce a curved microstructure film; It is characterized by.

여기서, 보호층은 상기 나노 필름상에 PDMS(Polydimethylsiloane)를 스핀 코팅하여 형성하는 것을 특징으로 한다.Here, the protective layer is formed by spin coating PDMS (Polydimethylsiloane) on the nano-film.

그리고 보호층은 곡면 미세구조 필름을 제조하는 단계를 진행한 이후에 제거되는 것을 특징으로 한다.And the protective layer is characterized in that it is removed after proceeding to the step of manufacturing a curved microstructured film.

그리고 보호층은 곡면 미세구조 필름을 제조하는 단계에서의 곡면 임프린트 공정시에 나노 필름의 마이크로 및 나노 미세구조체의 손상을 억제하는 것을 특징으로 한다.And the protective layer is characterized in that to inhibit the damage of the micro- and nano-microstructure of the nano-film during the curved surface imprint process in the step of manufacturing the curved microstructure film.

그리고 상기 곡면 미세구조 필름의 곡면은 부착 대상이 되는 대상체의 곡면과 동일한 것을 특징으로 한다.In addition, the curved surface of the curved microstructure film is characterized in that it is the same as the curved surface of the object to be attached.

그리고 상기 곡면 미세구조 필름은, 어느 한면이 부착 대상이 되는 대상체의 곡면과 동일 곡면을 갖는 필름 베이스층 및 상기 필름 베이스층의 다른 면에 각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 미세 구조층을 갖는 것을 특징으로 한다.In addition, the curved microstructured film is formed by spaced apart nanostructures at regular intervals on the other side of the film base layer and the film base layer, which has the same curved surface as the curved surface of the object to which one surface is attached. It is characterized in that the period has a fine structure layer having a size equal to or less than the light wavelength.

그리고 상기 곡면 미세구조 필름은, 부착 대상이 되는 대상체의 곡면에 접착 필름을 이용하여 부착되는 것을 특징으로 한다.In addition, the curved microstructure film is characterized in that it is attached to the curved surface of the object to be attached by using an adhesive film.

그리고 부착 대상이 되는 대상체는 곡면을 갖는 렌즈이고, 렌즈 표면에 OCA(Optically Clear Adhesive)를 이용하여 곡면 미세구조 필름을 부착하여, 표면에 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 나노 구조체들을 갖는 렌즈를 구성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the object to be attached is a lens having a curved surface, and by attaching a curved microstructured film using an OCA (Optically Clear Adhesive) to the lens surface, it is formed to be spaced apart at regular intervals, and the period of the nanostructure is less than or equal to the wavelength of the light. Characterized by constituting a lens having a nano-structure having a size.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 및 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.The free-surface customized low-reflection nanostructure film according to the present invention as described above and a method for manufacturing the same have the following effects.

첫째, 나노임프린트 공정기술을 이용하여 고투과 저반사 기능이 요구되는 광학용 렌즈 등의 자유곡면에 적용 가능한 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름을 제공할 수 있다.First, a nano-imprint process technology can be used to provide a free-form customized low-reflection nano-structured film that can be applied to a free-form surface such as an optical lens that requires high-transmission, low-reflection functions.

둘째, 고투과 저반사 기능이 요구되는 광학용 렌즈 등의 자유곡면에 적용 가능한 저반사/자가세정 기능성의 마이크로/나노구조 필름의 제조가 저비용으로 가능하다.Second, it is possible to manufacture low-reflection/self-cleaning functional micro/nanostructure films that can be applied to free-form surfaces such as lenses for optics that require high-transmission and low-reflection functions at low cost.

셋째, 마이크로/나노 구조가 형성된 평탄한 필름에 나노구조를 보호하기 위한 PDMS(Polydimethylsiloane) 보호층을 형성하고 자유곡면 임프린트 기술을 적용하여 마이크로/나노구조의 손상을 억제할 수 있도록 한다.Third, to form a micro/nano structured PDMS (Polydimethylsiloane) protective layer to protect the nanostructure on a flat film formed and apply free-surface imprint technology to suppress damage to the micro/nanostructure.

넷째, 곡면 필름 몰드 제작 기술과 렌즈 표면 부착 기술을 적용하여 렌즈와 같은 곡면에 마이크로/나노 미세구조를 단순한 공정으로 형성할 수 있어 재현성 및 적용 가능성이 높다.Fourth, it is possible to form a micro/nano microstructure on a curved surface such as a lens in a simple process by applying a curved film mold manufacturing technology and a lens surface attachment technology, and thus has high reproducibility and applicability.

도 1a는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 구성도
도 1b는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름이 부착된 렌즈 구성도
도 2는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 제조 방법을 나타낸 플로우 차트
도 3a 내지 도 3f는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 제조를 위한 공정 단면도
도 4a 내지 도 4c는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름부착을 위한 공정 단면도1A is a schematic diagram of a low-reflection nanostructured film customized for a free-form surface according to the present invention.
Figure 1b is a lens configuration attached to the free-form customized low-reflection nano-structured film according to the present invention
Figure 2 is a flow chart showing a method of manufacturing a free-form surface customized low-reflection nanostructure film according to the present invention
3A to 3F are process cross-sectional views for manufacturing a free-form customized low-reflection nano-structured film according to the present invention.
4A to 4C are cross-sectional views of a process for attaching a low-reflection nano-structured film customized for a free-form surface according to the present invention.

이하, 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 및 이의 제조 방법의 바람직한 실시 예에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a preferred embodiment of a free-form surface customized low-reflection nanostructure film and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described in detail.

본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 및 이의 제조 방법의 특징 및 이점들은 이하에서의 각 실시 예에 대한 상세한 설명을 통해 명백해질 것이다.The features and advantages of the free-form customized low-reflection nanostructured film and its manufacturing method according to the present invention will become apparent through detailed description of each example below.

도 1a는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 구성도이다.1A is a configuration diagram of a low-reflection nanostructured film customized for a free-form surface according to the present invention.

본 발명은 나노임프린트 공정기술을 이용하여 고투과 저반사 기능이 요구되는 광학용 렌즈 등의 자유곡면에 적용 가능한 저반사/자가세정 기능성의 마이크로/나노구조 필름 제작을 위한 것이다.The present invention is to manufacture a micro/nano structure film having a low reflection/self-cleaning function that can be applied to a free-form surface such as an optical lens that requires high transmission and low reflection using a nanoimprint process technology.

이를 위하여 본 발명은 마이크로/나노 구조가 형성된 평탄한 필름에 나노구조를 보호하기 위한 PDMS(Polydimethylsiloane) 보호층을 형성하고 자유곡면 임프린트 기술을 적용하여, 자유곡면 맞춤형 기능성 마이크로/나노구조 필름 제조를 하는 구성을 포함한다.To this end, the present invention is to form a micro/nano structured PDMS (Polydimethylsiloane) protective layer for protecting a nanostructure on a flat film formed and apply a freeform imprint technology to produce a functional micro/nanostructured film customized for a freeform surface It includes.

본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름은 도 1a에서와 같이, 어느 한면이 부착 대상이 되는 대상체의 곡면과 동일 곡면을 갖는 필름 베이스층(10)과, 필름 베이스층(10)의 다른 면에 각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 미세 구조층(20)을 갖고 곡면 미세구조 필름(100)이 제조된다.The free-curve customized low-reflection nanostructure film according to the present invention, as shown in Figure 1a, the film base layer 10 having the same surface as the curved surface of the object to which one side is attached, and the other of the film base layer 10 Each of the nanostructures is formed at regular intervals on the surface, the periodicity of the nanostructures has a microstructure layer 20 having a size equal to or less than the light wavelength, and the curved microstructure film 100 is manufactured.

여기서, 미세 구조층(20)을 구성하는 나노 구조체들의 수평 단면 및 수직 단면이 광파장 이하의 크기를 갖는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the horizontal and vertical cross-sections of the nanostructures constituting the microstructure layer 20 have a size equal to or less than the light wavelength.

그리고 상기 곡면 미세구조 필름(100)은 접착 필름을 이용하여 부착 대상이 되는 대상체의 곡면에 부착될 수 있다.In addition, the curved microstructure film 100 may be attached to a curved surface of an object to be attached using an adhesive film.

도 1b는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름이 부착된 렌즈 구성도이다.Figure 1b is a lens configuration attached to a free-form surface customized low-reflection nanostructure film according to the present invention.

도 1b는 본 발명에 따른 곡면 미세구조 필름(100)이 적용되는 일 예를 나타낸 것으로, 부착 대상이 되는 대상체가 되는 렌즈(200) 표면에 부착 필름(41)을 이용하여 어느 한면이 부착 대상이 되는 대상체의 곡면과 동일 곡면을 갖는 필름 베이스층(10)과, 필름 베이스층(10)의 다른 면에 각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 미세 구조층(20)을 갖고 곡면 미세구조 필름(100)이 부착되는 것을 나타낸 것이다.FIG. 1B shows an example in which the curved microstructure film 100 according to the present invention is applied, and one surface is attached by using the attachment film 41 on the surface of the lens 200 as an object to be attached. The film base layer 10 having the same curved surface as the curved surface of the object to be formed, and each nano-structure is formed at a predetermined interval apart on the other surface of the film base layer 10, and the period of the nano-structure has a size equal to or less than the light wavelength It shows that the microstructure layer 20 is attached and the curved microstructure film 100 is attached.

이와 같은 구조를 갖는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 공정은 다음과 같은 공정 단계들을 포함한다.The manufacturing process of the free-form surface customized low-reflection nanostructure film according to the present invention having such a structure includes the following process steps.

도 2는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 제조 방법을 나타낸 플로우 차트이다.2 is a flow chart showing a method for manufacturing a low-reflection nanostructured film customized for a free-form surface according to the present invention.

먼저, 나노 구조를 갖는 몰드를 제조하고(S201), 나노 구조를 갖는 몰드상에 폴리머 필름을 부착하고 열과 압력을 이용한 나노임프린트 공정을 통해 마이크로/나노 미세구조를 제작한다.(S202)First, a mold having a nano-structure is prepared (S201), a polymer film is attached to the mold having a nano-structure, and a micro/nano microstructure is manufactured through a nanoimprint process using heat and pressure. (S202)

이어, 나노 구조를 갖는 몰드 제거하여 표면에 나노 구조를 갖는 나노 필름 제조하고(S203) 나노 필름상에 PDMS를 코팅한다.(S204)Subsequently, a nano-structured mold is removed to prepare a nano-film having a nano-structure on the surface (S203), and PDMS is coated on the nano-film (S204).

그리고 부착 대상이 되는 대상체를 이용하여 자유곡면 상에 PDMS가 코팅된 나노 필름을 함께 임프린트하는 곡면 임프린트 공정을 통해 자유곡면 표면 형상과 일치하는 곡면 미세구조 필름을 제작한다.(S205)Then, a surface microstructure film that matches the shape of the free-form surface is manufactured through a surface imprint process in which a nano-film coated with PDMS is imprinted on a free-form surface using an object to be attached. (S205)

여기서, PDMS층은 곡면 임프린트 공정 중 나노구조가 손상되는 것을 보호하기 위한 희생 및 보호층으로 사용되는 것이다.Here, the PDMS layer is used as a sacrificial and protective layer to protect the nanostructure from being damaged during the curved imprint process.

이어, PDMS를 제거하여 곡면 미세구조 필름을 제작하고, 접착 필름을 이용해 자유 곡면을 갖는 렌즈 등의 대상체에 곡면 미세구조 필름을 부착한다.(S206)Subsequently, the PDMS is removed to produce a curved microstructured film, and an adhesive film is used to attach the curved microstructured film to an object such as a lens having a free curved surface. (S206)

본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 공정을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.The manufacturing process of the low-reflection nanostructured film customized for a free-form surface according to the present invention will be described in detail as follows.

도 3a 내지 도 3f는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 제조를 위한 공정 단면도이다.3A to 3F are process cross-sectional views for manufacturing a free-form customized low-reflection nanostructure film according to the present invention.

본 발명은 저비용, 간단한 공정으로 미세구조를 제조할 수 있는 나노임프린트 기술을 기반으로 PDMS 희생 층을 사용하여 임의의 곡면에 적용 가능한 미세구조 필름을 제작하는 것이다.The present invention is to manufacture a microstructure film applicable to an arbitrary curved surface using a PDMS sacrificial layer based on a nanoimprint technology capable of manufacturing a microstructure in a low-cost, simple process.

먼저, 도 3a에서와 같이, 각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 나노 패턴 몰드(31)를 제작한다.First, as shown in Figure 3a, each of the nano-structures are formed spaced apart at regular intervals, the nano-structure period to produce a nano-pattern mold 31 having a size less than the light wavelength.

이어, 도 3b에서와 같이, 나노 패턴 몰드(31)상에 폴리머 필름(32)을 열과 압력을 이용한 써멀 임프린트 공정으로 합착하고, 도 3c에서와 같이, 나노 패턴 몰드(31)를 제거하여 각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 나노 구조 필름(33)을 제조한다.Subsequently, as shown in FIG. 3B, the polymer film 32 is bonded onto the nano pattern mold 31 by a thermal imprint process using heat and pressure, and as shown in FIG. 3C, the nano pattern mold 31 is removed to remove the respective The nanostructures are formed at regular intervals, and a nanostructure film 33 having a period of nanostructures of less than or equal to an optical wavelength is manufactured.

그리고 도 3d에서와 같이, PDMS(Polydimethylsiloane)를 나노 구조 필름(33)상에 스핀 코팅하여 나노 구조체의 손상을 억제하기 위한 보호층으로 사용되는 보호층(34)을 형성한다.And as shown in Figure 3d, to form a protective layer 34 used as a protective layer for inhibiting damage to the nanostructures by spin coating PDMS (Polydimethylsiloane) on the nano-structured film 33.

이어, 도 3e에서와 같이, 곡면을 갖는 부착 대상체가 되는 렌즈(200)상에 보호층(34)이 형성된 나노 구조 필름(33)을 위치시키고 열과 압력을 이용한 써멀 임프린트 공정으로 나노 구조 필름(33)이 부착 대상체가 되는 렌즈(200)와 동일한 곡면을 갖도록 한다.Subsequently, as shown in FIG. 3E, the nano-structure film 33 having the protective layer 34 formed on the lens 200 to be an attached object having a curved surface is placed, and the nano-structure film 33 is subjected to a thermal imprint process using heat and pressure. ) To have the same curved surface as the lens 200 to be attached.

그리고 도 3f에서와 같이, 써멀 임프린트 공정시에 나노 구조 필름(33)의 나노 구조체의 손상을 억제하는 역할을 한 보호층(34)을 제거하여 곡면 미세구조 필름(100)을 제조한다.In addition, as shown in FIG. 3F, a curved microstructure film 100 is manufactured by removing the protective layer 34 that serves to suppress damage to the nanostructure of the nanostructure film 33 during the thermal imprint process.

이와 같은 본 발명에 따른 곡면 미세구조 필름(100) 제조 공정은 필름을 사용하여 열과 압력을 이용한 나노임프린트 공정을 통해 마이크로/나노 미세구조를 제작한 뒤, PDMS를 필름 위에 얇게 코팅한다.In the manufacturing process of the curved microstructure film 100 according to the present invention, a micro/nano microstructure is manufactured through a nanoimprint process using heat and pressure using a film, and then PDMS is thinly coated on the film.

이후 적용하고자 하는 자유곡면 상에 PDMS가 코팅된 필름을 함께 임프린트하는 곡면 임프린트 공정을 통해 자유곡면 표면 형상과 일치하는 기능성 필름을 제작한다. Then, a functional film matching the shape of the free-form surface is manufactured through a curved imprint process in which a PDMS-coated film is imprinted on the free-form surface to be applied.

최종 공정 이후 PDMS는 제거해줌으로써 곡면 필름 몰드 제작을 할 수 있도록 한 것이다.After the final process, PDMS was removed so that a curved film mold could be produced.

이때, PDMS층은 곡면 임프린트 공정 중 나노구조가 손상되는 것을 보호해줌으로써 희생 및 보호층으로 사용된다.At this time, the PDMS layer is used as a sacrificial and protective layer by protecting the nanostructure from being damaged during the curved imprint process.

이와 같이 제작된 곡면 미세구조 필름(100)은 접착 필름을 이용해 곡면 상에 부착할 수 있다.The curved microstructure film 100 manufactured as described above may be attached on a curved surface using an adhesive film.

도 4a 내지 도 4c는 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름부착을 위한 공정 단면도이다.4A to 4C are process cross-sectional views for attaching a low-reflection nanostructured film tailored to a free-form surface according to the present invention.

도 4a에서와 같이, 곡면을 갖는 부착 대상체가 되는 렌즈(200)상에 도 4b에서와 같이, OCA(Optically Clear Adhesive)와 같은 접착 필름(41)을 부착하고, 이를 이용하여 부착 대상체가 되는 렌즈(200)와 동일 곡면을 갖는 곡면 미세구조 필름(100)을 부착하여 표면에 각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 렌즈(200)를 제작한다.As shown in FIG. 4A, as shown in FIG. 4B, an adhesive film 41 such as OCA (Optically Clear Adhesive) is attached to the lens 200 to be an attachment object having a curved surface, and a lens to be an attachment object using the same By attaching the curved microstructure film 100 having the same curved surface as 200, the nanostructures are formed on the surface by being spaced apart at regular intervals, and the period of the nanostructure is manufactured to a lens 200 having a size equal to or less than the optical wavelength. .

이상에서 설명한 본 발명에 따른 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름 및 이의 제조 방법은 고투과 저반사 기능이 요구되는 광학용 렌즈 등의 자유곡면에 적용 가능한 저반사/자가세정 기능성의 마이크로/나노구조 필름의 제조를 위한 것이다.The low-reflection/self-cleaning functional micro/nanostructure film applicable to a free-form surface such as an optical lens that requires a high-transmission low-reflection function is provided for the customized free-reflection low-reflection nanostructure film according to the present invention described above. It is for manufacturing.

본 발명은 마이크로/나노 구조가 형성된 평탄한 필름에 나노구조를 보호하기 위한 PDMS (Polydimethylsiloane) 보호층을 형성하고 자유곡면 임프린트 기술을 적용하여 마이크로/나노구조의 손상을 억제할 수 있고, 곡면 필름 몰드 제작 기술과 렌즈 표면 부착 기술을 적용하여 렌즈와 같은 곡면에 마이크로/나노 미세구조를 단순한 공정으로 형성할 수 있어 재현성 및 적용 가능성을 높일 수 있도록 한 것이다.The present invention forms a PDMS (Polydimethylsiloane) protective layer for protecting a nanostructure on a flat film on which a micro/nano structure is formed, and applies free-surface imprint technology to suppress damage to the micro/nanostructure, and manufactures a curved film mold By applying the technology and the technology of attaching the surface of the lens, micro/nano microstructures can be formed on a curved surface such as a lens by a simple process, thereby increasing reproducibility and applicability.

이상에서의 설명에서와 같이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 본 발명이 구현되어 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be appreciated that the present invention is implemented in a modified form without departing from the essential characteristics of the present invention as described above.

그러므로 명시된 실시 예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 하고, 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구 범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.Therefore, the specified embodiments are to be considered in terms of explanation rather than limitation, and the scope of the present invention is shown in the claims rather than the foregoing description, and all differences within the equivalent range are included in the present invention. Should be interpreted.

100. 곡면 미세구조 필름
200. 렌즈100. Curved microstructure film
200. Lens

Claims (11)

어느 한면이 부착 대상이 되는 대상체의 곡면과 동일 곡면을 갖는 필름 베이스층;
상기 필름 베이스층의 다른 면에 각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 미세 구조층;을 갖는 곡면 미세구조 필름인 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름.A film base layer having a curved surface equal to a curved surface of an object to which one surface is attached;
Free-form surface customized low, characterized in that each nano-structures are formed at regular intervals on the other surface of the film base layer, the period of the nano-structure is a micro-structure layer having a size of less than or equal to the wavelength of light; Reflective nanostructured film. 제 1 항에 있어서, 미세 구조층을 구성하는 나노 구조체들의 수평 단면 및 수직 단면이 광파장 이하의 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름.The method of claim 1, wherein the horizontal cross-section and the vertical cross-section of the nanostructures constituting the microstructure layer has a size less than or equal to the wavelength of light Free-form customized low-reflection nanostructure film. 제 1 항에 있어서, 상기 곡면 미세구조 필름은,
접착 필름을 이용하여 부착 대상이 되는 대상체의 곡면에 부착되는 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름.The method of claim 1, wherein the curved microstructure film,
Free-form surface customized low-reflection nano-structured film, characterized in that attached to the curved surface of the object to be attached using an adhesive film. 나노 구조를 갖는 몰드상에 폴리머 필름을 부착하고 나노임프린트 공정을 통해 마이크로 및 나노 미세구조를 갖는 나노 필름을 제조하는 단계;
상기 나노 필름상에 보호층을 형성하고, 부착 대상이 되는 대상체의 곡면상에 보호층이 형성된 나노 필름을 위치시키고 곡면 임프린트 공정을 진행하여 곡면 미세구조 필름을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 방법.Attaching a polymer film on a mold having a nano structure and preparing a nano film having micro and nano micro structures through a nanoimprint process;
And forming a protective layer on the nano-film, positioning the nano-film having a protective layer on the curved surface of the object to be attached, and performing a curved imprint process to produce a curved microstructured film. Method for manufacturing a low-reflection nanostructured film tailored to a free-form surface. 제 4 항에 있어서, 보호층은 상기 나노 필름상에 PDMS(Polydimethylsiloane)를 스핀 코팅하여 형성하는 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 방법.5. The method of claim 4, wherein the protective layer is formed by spin coating PDMS (Polydimethylsiloane) on the nano-film. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서, 보호층은 곡면 미세구조 필름을 제조하는 단계를 진행한 이후에 제거되는 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 방법.The method of claim 4 or 5, wherein the protective layer is removed after the step of manufacturing the curved microstructured film. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서, 보호층은 곡면 미세구조 필름을 제조하는 단계에서의 곡면 임프린트 공정시에 나노 필름의 마이크로 및 나노 미세구조체의 손상을 억제하는 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 방법.The method of claim 4 or 5, wherein the protective layer is a curved surface imprint process in the step of manufacturing a curved microstructured film, characterized in that to inhibit the damage of the micro- and nano-microstructures of the nano-film, characterized in that the free-form customized low-reflection. Method of manufacturing nanostructured film. 제 4 항에 있어서, 상기 곡면 미세구조 필름의 곡면은 부착 대상이 되는 대상체의 곡면과 동일한 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 방법.The method of claim 4, wherein the curved surface of the curved microstructure film is the same as the curved surface of the object to be attached. 제 4 항에 있어서, 상기 곡면 미세구조 필름은,
어느 한면이 부착 대상이 되는 대상체의 곡면과 동일 곡면을 갖는 필름 베이스층 및 상기 필름 베이스층의 다른 면에 각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 미세 구조층을 갖는 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 방법.The method of claim 4, wherein the curved microstructure film,
Each one of the nanostructures is formed on the other side of the film base layer and the other side of the film base layer having the same curved surface as the curved surface of the object to which one object is attached, and the period of the nano structure has a size equal to or less than the light wavelength Method of manufacturing a free-form customized low-reflection nanostructured film, characterized in that it has a microstructured layer. 제 4 항에 있어서, 상기 곡면 미세구조 필름은,
부착 대상이 되는 대상체의 곡면에 접착 필름을 이용하여 부착되는 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 방법.The method of claim 4, wherein the curved microstructure film,
Method of manufacturing a free-form surface customized low-reflection nano-structured film, characterized in that attached to the curved surface of the object to be attached using an adhesive film. 제 10 항에 있어서, 부착 대상이 되는 대상체는 곡면을 갖는 렌즈이고,
렌즈 표면에 OCA(Optically Clear Adhesive)를 이용하여 곡면 미세구조 필름을 부착하여,
표면에 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 나노 구조체들을 갖는 렌즈를 구성하는 것을 특징으로 하는 자유곡면 맞춤형 저반사 나노구조 필름의 제조 방법.
The object of claim 10, wherein the object to be attached is a lens having a curved surface,
By attaching a curved microstructured film using OCA (Optically Clear Adhesive) to the lens surface,
A method of manufacturing a free-form customized low-reflection nanostructured film, which is formed by being spaced apart from a surface at regular intervals and constitutes a lens having nanostructures having a size of a nanowave or less.
KR1020190000707A 2019-01-03 2019-01-03 Nanostructured Anti Reflective Film for the Curved Surface and Method for Fabricating the same KR102165315B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190000707A KR102165315B1 (en) 2019-01-03 2019-01-03 Nanostructured Anti Reflective Film for the Curved Surface and Method for Fabricating the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190000707A KR102165315B1 (en) 2019-01-03 2019-01-03 Nanostructured Anti Reflective Film for the Curved Surface and Method for Fabricating the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200084611A true KR20200084611A (en) 2020-07-13
KR102165315B1 KR102165315B1 (en) 2020-10-13

Family

ID=71570933

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190000707A KR102165315B1 (en) 2019-01-03 2019-01-03 Nanostructured Anti Reflective Film for the Curved Surface and Method for Fabricating the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102165315B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240000261A (en) 2022-06-23 2024-01-02 부산대학교 산학협력단 Low Reflective Anti-fogging Surface Structure and Method of Manufacturing the same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010256871A (en) * 2009-03-31 2010-11-11 Canon Inc Optical member, method for producing the same, and optical system
JP2012008419A (en) * 2010-06-25 2012-01-12 Hoya Corp Optical element forming mold, optical element, and manufacturing method thereof
KR20130057954A (en) 2011-11-24 2013-06-03 한국과학기술원 Lens with broadband anti-reflective structures formed by nano islands mask and method of making the same
KR20130063249A (en) 2011-12-06 2013-06-14 한국과학기술원 Polymer lens with anti-reflective structures and making method of the same
KR20140039773A (en) 2012-09-25 2014-04-02 한국과학기술원 Metal mold for anti-reflection lenses with nanostructures on the surface using etch stop layer and manufacturing method thereof

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010256871A (en) * 2009-03-31 2010-11-11 Canon Inc Optical member, method for producing the same, and optical system
JP2012008419A (en) * 2010-06-25 2012-01-12 Hoya Corp Optical element forming mold, optical element, and manufacturing method thereof
KR20130057954A (en) 2011-11-24 2013-06-03 한국과학기술원 Lens with broadband anti-reflective structures formed by nano islands mask and method of making the same
KR20130063249A (en) 2011-12-06 2013-06-14 한국과학기술원 Polymer lens with anti-reflective structures and making method of the same
KR20140039773A (en) 2012-09-25 2014-04-02 한국과학기술원 Metal mold for anti-reflection lenses with nanostructures on the surface using etch stop layer and manufacturing method thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240000261A (en) 2022-06-23 2024-01-02 부산대학교 산학협력단 Low Reflective Anti-fogging Surface Structure and Method of Manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR102165315B1 (en) 2020-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7077223B2 (en) A versatile method for precision nanoscale manufacturing
US9268215B2 (en) Injection molding tools with micro/nano-meter pattern
US20130284690A1 (en) Process for producing highly ordered nanopillar or nanohole structures on large areas
KR20170032382A (en) Multilayer optical adhesives and methods of making same
Wu et al. Fabrication of a nano/micro hybrid lens using gas-assisted hot embossing with an anodic aluminum oxide (AAO) template
JP6609402B2 (en) Optical film and manufacturing method thereof
CN101900936A (en) Impression mould and production method thereof
JP2009042714A (en) Water repellent anti-reflective structure and method of manufacturing the same
Su et al. Anti-reflection nano-structures fabricated on curved surface of glass lens based on metal contact printing lithography
KR102165315B1 (en) Nanostructured Anti Reflective Film for the Curved Surface and Method for Fabricating the same
CN110546454B (en) Method of fabricating smart photonic structures for material monitoring
KR102194832B1 (en) Method for Fabricating Nanostructured Surface on Curved Lens
US20200223206A1 (en) Methods for production and transfer of patterned thin films at wafer-scale
US20240157607A1 (en) Nanocomposite mold for thermal nanoimprinting and method for producing the same
KR102096606B1 (en) Fabrication of nanoimprint soft mold for cylinder surface and nano-imprint process for cylindrical surface
CN112678766B (en) Method for transferring nano structure and application thereof
Feng et al. Glass flow evolution and the mechanism of antireflective nanoprotrusion arrays in nanoholes by direct thermal imprinting
JP5833301B2 (en) Wire grid polarizer and method of manufacturing wire grid polarizer
Li et al. Shape-controllable plano-convex lenses with enhanced transmittance via electrowetting on a nanotextured dielectric
JP2014202947A (en) Production method of molded article having fine structure, and optical component obtained by the method
KR101542142B1 (en) Microtip arrays for nano lithography, manufacturing method of the same and nano lithography method using the same
CN112526660A (en) Method for manufacturing nano-grating on curved surface, optical device and electronic equipment
Helke et al. Large-scale fabrication of LP-CVD Si3N4 photonic crystal structures as freestanding reflectors with 1 mm aperture for Fabry-Pérot interferometers
KR20240000261A (en) Low Reflective Anti-fogging Surface Structure and Method of Manufacturing the same
Korivi et al. Grayscale lithography by a polymer photomask doped with laser dye

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant