KR20200066457A - Apparatus for treating contaminant gas - Google Patents

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Abstract

According to an embodiment of the present invention, provided is an apparatus of treating polluted gas, capable of increasing operating stability of the apparatus. The apparatus of treating polluted gas comprises a separation supply unit, a storage unit, a pulse discharge unit, a cleaning unit and an electric dust collection unit. Polluted gas is introduced into the separation supply unit, and reaction gas for promoting decomposition reaction of the polluted gas is stored in the storage unit. In addition, the pulse discharge unit receives the polluted gas and the reaction gas through the separation supply unit and makes the supplied polluted gas into plasma so as to reform nitrogen monoxide contained in the polluted gas into nitrogen dioxide and to reduce sulfur oxides contained in the polluted gas. The cleaning unit provides cleaning water for inducing absorption reduction treatment of nitrogen dioxide, and the electric dust collection unit collects particulate matters. The separation supply unit separates particulate reaction matters generated by reaction between the polluted gas and the reaction gas from the polluted gas and the reaction gas, which are in a gas state, and allows only the polluted gas and the reaction gas, which are separated and in the gas state, to be moved to the pulse discharge unit.

Description

오염가스 처리장치{APPARATUS FOR TREATING CONTAMINANT GAS}Pollution gas treatment system {APPARATUS FOR TREATING CONTAMINANT GAS}

본 발명은 오염가스 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 장치의 운용 안정성을 높일 수 있는 오염가스 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a pollutant gas treatment device, and more particularly, to a pollutant gas treatment device capable of increasing the operational stability of the device.

일반적으로, 대규모 연소설비를 갖춘 발전소, 제철소, 소각장 등에서는 입자상 물질과 함께 질소산화물(NOx)과 황산화물(SOx) 등과 같은 2차 미세먼지를 생성시키는 전구물질이 발생될 수 있다. In general, power plants with large-scale combustion facilities, steel mills, incinerators, etc. may generate precursors that generate secondary fine dust such as nitrogen oxides (NOx) and sulfur oxides (SOx) together with particulate matter.

특히 인체에 해롭다고 알려진 PM2.5의 미세먼지의 대부분이 2차 미세먼지로 이루어져 있기 때문에, 질소산화물과 황산화물에 대한 처리 방안은 더욱 중요해지고 있으며, 이를 처리하기 위하여 대규모 연소설비를 갖춘 발전소, 제철소, 소각장 등에는 오염가스 처리장치가 설치되어 있다.In particular, since most of the fine dust of PM2.5, which is known to be harmful to the human body, consists of secondary fine dust, the treatment method for nitrogen oxides and sulfur oxides is becoming more important. Pollution gas treatment devices are installed in steelworks and incinerators.

오음가스 처리장치는 질소산화물의 경우 선택적 촉매환원법(SCR)이 사용되고 있으며, 황산화물은 전기집진기로 입자상 물질을 처리한 후 배연탈황법(FGD)으로 처리하는 것이 널리 상용화되어 있다.In the case of nitrogen oxides, selective catalytic reduction (SCR) is used for nitrogen oxides, and sulfur oxides are widely commercialized by treating particulate matter with an electrostatic precipitator followed by flue gas desulfurization (FGD).

도 1은 종래의 오염가스 처리장치의 일 예를 나타낸 예시도이다.1 is an exemplary view showing an example of a conventional pollution gas treatment apparatus.

도 1에서 보는 바와 같이, 근래 사용되고 있는 오염가스 처리장치는 플라즈마 반응부(10) 및 전기집진부(20)를 가진다. As shown in FIG. 1, a pollutant gas treatment apparatus that has been recently used has a plasma reaction unit 10 and an electrostatic precipitator 20.

플라즈마 반응부(10)는 고전압 인가 방전극과 대응 접지극을 가지며, 방전극과 접지극 사이에 고전압 펄스전압이 인가되고, 암모니아(NH3) 또는 HC 가스와 같은 첨가가스가 공급되면 오염가스(G) 중의 질소산화물(NOx)은 질산염으로 변환되고 황산화물(SOx)은 황산염으로 변환된다. 변환된 질산염과 황산염은 질산암모늄, 황산암모늄 등의 입자상 물질로 변환되어 후단에 설치되어 있는 전기집진부(20)에서 포집하여 제거된다. The plasma reaction unit 10 has a high voltage applied discharge electrode and a corresponding ground electrode, and when a high voltage pulse voltage is applied between the discharge electrode and the ground electrode, and when an additive gas such as ammonia (NH 3 ) or HC gas is supplied, nitrogen in the pollution gas (G) Oxide (NOx) is converted to nitrate and sulfur oxide (SOx) is converted to sulfate. The converted nitrate and sulfate are converted into particulate matter such as ammonium nitrate and ammonium sulfate, and collected and removed by the electrostatic precipitator 20 installed at the rear end.

그러나, 종래의 오염가스 처리장치에서는 플라즈마 반응부의 입구단에서, 오염가스 및 첨가가스가 미리 반응하여 입자상 물질을 생성하게 되고, 이러한 입자상 물질들이 공급관에 쌓이게 되면 공급관이 막히게 되는 문제점이 있다. 이렇게 되면, 처리장치의 작동을 중단하고 공급관을 막는 입자상 물질을 제거한 후 재작동시켜야 하는 문제점이 있다. However, in the conventional pollutant gas treatment apparatus, at the inlet end of the plasma reaction unit, the polluted gas and the additive gas react in advance to generate particulate matter, and when these particulate matter is accumulated in the supply pipe, there is a problem that the supply pipe is blocked. In this case, there is a problem in that the operation of the processing device is stopped and the particulate material blocking the supply pipe must be removed and restarted.

대한민국 공개특허공보 제2010-0136607호(2010.12.29. 공개)Republic of Korea Patent Publication No. 2010-0136607 (2010.12.29. public)

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 장치의 운용 안정성을 높일 수 있는 오염가스 처리장치를 제공하는 것이다.In order to solve the above problems, a technical problem to be achieved by the present invention is to provide a pollutant gas treatment device capable of increasing the operational stability of the device.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned can be clearly understood by a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs from the following description. There will be.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 오염가스가 유입되는 분리공급부; 상기 오염가스의 분해반응을 촉진시키기 위한 반응가스가 저장되는 저장부; 상기 분리공급부를 통해 상기 오염가스 및 상기 반응가스를 공급받고, 공급되는 상기 오염가스를 플라즈마화하여 상기 오염가스에 포함되는 일산화질소를 이산화질소로 개질하고, 상기 오염가스에 포함되는 황산화물을 저감 처리하는 펄스방전부; 상기 펄스방전부에서 배출되는 이산화질소의 흡수 환원 처리를 유도하기 위한 세정수가 제공되는 세정부; 그리고 전기장을 발생하여 상기 세정부에서 배출되는 입자상 물질을 집진하는 전기집진부를 포함하고, 상기 분리공급부는 상기 오염가스 및 상기 반응가스의 반응에 의해 생성되는 입자상의 반응물질을 가스상태의 오염가스 및 반응가스로부터 분리하고, 분리된 가스상태의 오염가스 및 반응가스만 상기 펄스방전부로 이동되도록 하는 것을 특징으로 하는 오염가스 처리장치를 제공한다.In order to achieve the above technical problem, an embodiment of the present invention is a separate supply unit to which the polluted gas flows; A storage unit in which reaction gas for accelerating the decomposition reaction of the polluted gas is stored; The pollutant gas and the reaction gas are supplied through the separation supply unit, and the supplied pollutant gas is plasmad to reform nitrogen monoxide contained in the pollutant gas into nitrogen dioxide, and to reduce sulfur oxides contained in the pollutant gas. A pulse discharge unit; A washing unit provided with washing water for inducing absorption reduction treatment of nitrogen dioxide discharged from the pulse discharge unit; And it includes an electric dust collecting unit for collecting particulate matter discharged from the washing unit by generating an electric field, the separation supply unit is a gaseous pollutant and the particulate reactant generated by the reaction of the polluted gas and the reaction gas and Provided is a pollutant gas treatment apparatus characterized in that it is separated from the reaction gas and only the separated gaseous pollutant gas and the reaction gas are moved to the pulse discharge unit.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 분리공급부는 내측에 선회공간이 형성되는 메인챔버와, 상기 메인챔버의 외주면 일측에 상기 메인챔버의 중심에 편심되게 마련되고 공급되는 오염가스를 상기 선회공간에 접선 방향으로 배출시키는 제1포트와, 상기 메인챔버의 외주면 타측에 상기 메인챔버의 중심에 편심되게 마련되고, 공급되는 상기 반응가스를 상기 선회공간에 접선 방향으로 배출시키는 제2포트와, 상기 메인챔버의 하단부에 구비되고, 상기 선회공간에서 오염가스 및 상기 반응가스의 반응에 의해 생성되는 상기 입자상의 반응물질이 포집되는 포집챔버와, 상기 메인챔버의 상단부에 구비되고, 상기 펄스방전부의 입구단에 연결되어 상기 입자상의 반응물질이 분리된 가스상태의 오염가스 및 반응가스가 상기 펄스방전부의 입구단으로 공급되도록 하는 배출포트를 가질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the separation supply unit is provided with a main chamber in which an orbiting space is formed inside, and an eccentrically provided and supplied contaminant gas on one side of an outer circumferential surface of the main chamber to the orbiting space A first port discharged in the direction, a second port provided eccentrically in the center of the main chamber on the other side of the outer circumferential surface of the main chamber, and a second port discharged in a tangential direction to the turning space, and the main chamber It is provided at the lower end of the, the collection chamber in which the particulate reactant produced by the reaction of the contaminant gas and the reaction gas in the pivot space is provided, and the upper end of the main chamber, the inlet end of the pulse discharge unit It may have a discharge port that is connected to the gaseous pollutant gas and the reaction gas in which the particulate reactant is separated is supplied to the inlet end of the pulse discharge unit.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제2포트는 공급되는 상기 반응가스가 상기 선회공간으로 배출되도록 하는 제1관과, 상기 제1관에서 상기 반응가스가 배출된 후 상기 제1관의 출구단에서 상기 반응가스가 오염가스와 반응되지 않도록, 상기 제1관과 동심축을 가지고 상기 제1관을 감싸도록 구비되며 상기 제1관에서 배출되는 상기 반응가스의 외측을 감싸는 시스(Sheath) 공기가 배출되도록 하는 제2관을 가질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the second port includes a first pipe through which the supplied reaction gas is discharged to the turning space, and an outlet end of the first pipe after the reaction gas is discharged from the first pipe In order to prevent the reaction gas from reacting with the polluted gas, a sheath air surrounding the outer side of the reaction gas discharged from the first tube is provided so as to surround the first tube with a concentric shaft with the first tube. You can have a second tube to make it possible.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1포트 및 상기 제2포트는 상기 메인챔버의 중심을 기준으로 서로 반대가 되도록 구비될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first port and the second port may be provided to be opposite to each other based on the center of the main chamber.

본 발명의 실시예에 따르면, 분리공급부를 마련하고, 오염가스 및 반응가스의 선회류에 의해 생기는 원심력을 이용하여 입자상의 반응물질을 분리하고, 가스상태의 오염가스 및 반응가스만 펄스방전부로 이동시킬 수 있다. 이를 통해, 펄스방전부의 입구단에서 입자상의 반응물질이 생성되는 양이 작아지도록 할 수 있기 때문에, 막힘 현상이 효과적으로 방지되도록 할 수 있고, 장치의 운용 안정성을 높일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a separate supply unit is provided, and the particulate reactant is separated using a centrifugal force generated by the swirling flow of the polluted gas and the reactant gas, and only the gaseous polluted gas and the reactant gas are pulsed discharge units. Can be moved. Through this, since the amount of the particulate reactant generated at the inlet end of the pulse discharge portion can be made small, it is possible to effectively prevent clogging and improve the operational stability of the device.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 제2포트를 동일축을 가지는 이중관으로 구성하고, 내측의 제1관에는 반응가스가 배출되도록 하고, 외측의 제2관에서는 시스 공기가 배출되도록 함으로써, 제1관에서 반응가스가 배출된 직 후 제1관의 출구단에서 반응가스가 오염가스와 반응되지 않도록 할 수 있다. 이를 통해, 제2포트의 출구단이 오염가스 및 반응가스가 반응하여 생성되는 입자상의 반응물질에 의해 막히는 것이 효과적으로 방지되도록 할 수 있으며, 장치의 운용 안정성을 높일 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, the second port is composed of a double pipe having the same axis, the reaction gas is discharged to the first pipe inside, and the sheath air is discharged from the second pipe outside. It is possible to prevent the reaction gas from reacting with the polluted gas at the outlet end of the first tube immediately after the reaction gas is discharged from the tube. Through this, the outlet end of the second port can be effectively prevented from being blocked by particulate reactants generated by the reaction of the polluted gas and the reactive gas, and it is possible to increase the operational stability of the device.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above-described effects, and include all effects that can be deduced from the configuration of the invention described in the detailed description or claims of the invention.

도 1은 종래의 오염가스 처리장치의 일 예를 나타낸 예시도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 오염가스 처리장치를 개략적으로 나타낸 예시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 오염가스 처리장치의 분리공급부를 나타낸 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 오염가스 처리장치의 분리공급부를 나타낸 평면 단면예시도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 오염가스 처리장치의 분리공급부를 나타낸 정면 단면예시도이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 오염가스 처리장치의 분리공급부의 제2포트를 중심으로 나타낸 단면예시도이다.
1 is an exemplary view showing an example of a conventional pollution gas treatment apparatus.
2 is an exemplary view schematically showing a pollutant gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a perspective view showing a separate supply of the pollutant gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a plan view showing a cross-section of a separate supply unit of the pollution gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is an exemplary front cross-sectional view showing a separate supply unit of a pollution gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is an exemplary cross-sectional view showing a second port of a separate supply part of a pollution gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention may be implemented in various different forms, and thus is not limited to the embodiments described herein. In addition, in order to clearly describe the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and like reference numerals are assigned to similar parts throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 “연결(접속, 접촉, 결합)”되어 있다고 할 때, 이는 “직접적으로 연결”되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 “간접적으로 연결”되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is “connected (connected, contacted, coupled)” with another part, it is not only “directly connected”, but also “indirectly connected” with another member in between. It also includes the case where it is. Also, when a part “includes” a certain component, this means that other components may be further provided, not excluding other components, unless otherwise stated.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used herein are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this specification, the terms “include” or “have” are intended to indicate the presence of a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, one or more other features. It should be understood that the existence or addition possibilities of fields or numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof are not excluded in advance.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 오염가스 처리장치를 개략적으로 나타낸 예시도이다.2 is an exemplary view schematically showing a pollutant gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2에서 보는 바와 같이, 오염가스 처리장치는 분리공급부(200), 저장부(300), 펄스방전부(500), 세정부(600) 그리고 전기집진부(700)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 2, the pollutant gas treatment apparatus may include a separate supply unit 200, a storage unit 300, a pulse discharge unit 500, a cleaning unit 600, and an electric dust collecting unit 700.

이하에서는 설명의 편의상, 가스의 흐름 방향을 기준으로 전단/전단부/입구/입구단, 후단/후단부/출구/출구단으로 설명한다. 즉, 가스가 제1지점에서 제2지점으로 이동되는 경우, 제1지점을 전단/전단부/입구/입구단으로, 제2지점을 후단/후단부/출구/출구단으로 하여 설명한다.Hereinafter, for convenience of description, it will be described as the front end/front end/entrance/entrance end, rear end/rear end/outlet/outlet end based on the gas flow direction. That is, when the gas is moved from the first point to the second point, the first point will be described as the front end/front end/entrance/entrance end and the second point as the rear end/rear end/outlet/outlet end.

제1공급유로부(100)는 오염가스를 공급할 수 있다. The first supply flow path 100 may supply polluted gas.

분리공급부(200)는 제1공급유로부(100)의 후단에 연결될 수 있으며, 제1공급유로부(100)를 통해 공급되는 오염가스는 분리공급부(200)로 유입될 수 있다.The separation supply unit 200 may be connected to the rear end of the first supply channel unit 100, and the polluted gas supplied through the first supply channel unit 100 may be introduced into the separation supply unit 200.

저장부(300)는 오염가스의 분해반응을 촉진시키기 위한 반응가스를 저장할 수 있다.The storage unit 300 may store a reaction gas for promoting a decomposition reaction of the polluted gas.

반응가스는 분리공급부(200)를 통해 펄스방전부(500)로 유입되어 오염가스의 분해반응을 촉진시킬 수 있으며, 반응가스는 암모니아(NH3), 일산화탄소(CO), 요소(Urea:CO(NH2)2), 수증기(H2O) 및 메탄(CH4), 에틸렌(C2H4), 프로필렌(C3H6), 부탄(C4H10)을 포함하는 지방족 탄화수소로 이루어지는 HC 가스 군에서 적어도 하나 이상이 선택될 수 있다.The reaction gas can be introduced into the pulse discharge unit 500 through the separation supply unit 200 to promote the decomposition reaction of the polluted gas, and the reaction gas is ammonia (NH 3 ), carbon monoxide (CO), urea (CO( HC consisting of aliphatic hydrocarbons including NH 2 ) 2 ), water vapor (H 2 O) and methane (CH 4 ), ethylene (C 2 H 4 ), propylene (C 3 H 6 ), butane (C 4 H 10 ) At least one gas group may be selected.

저장부(300)는 복수의 저장용기를 가질 수 있으며, 각각의 저장용기에는 서로 다른 반응가스가 저장될 수 있다.The storage unit 300 may have a plurality of storage containers, and different reaction gases may be stored in each storage container.

예를 들어, 제1저장용기(310)에는 암모니아(NH3)가 저장될 수 있으며, 제2저장용기(320)에는 HC 가스가 저장될 수 있다. For example, ammonia (NH 3 ) may be stored in the first storage container 310, and HC gas may be stored in the second storage container 320.

제2공급유로부(400)는 저장부(300)에 저장되는 반응가스를 분리공급부(200)로 공급할 수 있다. 저장부(300)가 복수의 저장용기를 가지는 경우, 제2공급유로부(400)는 저장용기에 대응되도록 마련될 수 있다. 즉, 제2공급유로부(400)는 제1저장용기(310)를 분리공급부(200)와 연결하는 어느 하나의 제2공급유로부(401)와, 제2저장용기(320)를 분리공급부(200)와 연결하는 다른 제2공급유로부(402)를 가질 수 있다.The second supply channel 400 may supply the reaction gas stored in the storage unit 300 to the separation supply unit 200. When the storage unit 300 has a plurality of storage containers, the second supply channel 400 may be provided to correspond to the storage container. That is, the second supply flow path part 400 separates any one of the second supply flow path parts 401 and the second storage container 320 that connects the first storage container 310 to the separate supply part 200. It may have another second supply flow path portion 402 to connect with (200).

펄스방전부(500)는 안내유로(511)를 통해 분리공급부(200)와 연결될 수 있으며, 안내유로(511)는 펄스방전부(500)의 입구단(510)에 연결될 수 있다.The pulse discharge part 500 may be connected to the separation supply part 200 through the guide flow passage 511, and the guide flow passage 511 may be connected to the inlet end 510 of the pulse discharge part 500.

펄스방전부(500)는 분리공급부(200)를 통해 오염가스 및 반응가스를 공급받고, 공급되는 오염가스를 플라즈마화하여 오염가스에 포함되는 일산화질소(NO)를 이산화질소(NO2)로 개질하고, 오염가스에 포함되는 황산화물(SOx)을 저감 처리할 수 있다.The pulse discharge unit 500 receives pollutant gas and reaction gas through the separation supply unit 200, plasmas the supplied pollutant gas, and reforms nitrogen monoxide (NO) contained in the pollutant gas into nitrogen dioxide (NO 2 ). , It can reduce the sulfur oxides (SOx) contained in the polluted gas.

펄스방전부(500)는 고압의 펄스를 발생시킬 수 있으며, 예를 들면, 나노초(nano second)의 펄스 방전을 발생시킬 수 있다. The pulse discharge unit 500 may generate a high pressure pulse, for example, a nanosecond pulse discharge.

세정부(600)는 펄스방전부(500)에서 배출되는 이산화질소의 흡수 환원 처리를 유도하기 위한 세정수(601)를 제공할 수 있다. The washing unit 600 may provide washing water 601 for inducing absorption reduction treatment of nitrogen dioxide discharged from the pulse discharge unit 500.

펄스방전부(500)에서 고압의 펄스가 발생하면, 오염가스에 포함되는 일산화질소(NO)는 산화되어 이산화질소가 될 수 있는데, 이산화질소는 친수성을 가지기 때문에, 세정부(600)를 통과하면서 세정수(601)에 흡수될 수 있다. When a high pressure pulse is generated in the pulse discharge unit 500, nitrogen monoxide (NO) contained in the contaminant gas may be oxidized to become nitrogen dioxide. Since nitrogen dioxide has hydrophilicity, the washing water passes through the washing unit 600. 601.

세정수에 이산화질소가 계속해서 흡수되면 세정수가 산성화되고, 그러면 이산화질소의 포집 성능이 저하될 수 있다. 이를 방지하기 위해서, 세정수에는 환원제가 포함될 수 있다.If nitrogen dioxide is continuously absorbed in the washing water, the washing water is acidified, and the capture performance of nitrogen dioxide may be deteriorated. To prevent this, a reducing agent may be included in the washing water.

환원제는 세정수에 흡수된 이산화질소의 흡수 환원 처리를 유도하여 세정수를 중화시킬 수 있으며, 이를 통해, 세정수에 이산화질소가 계속해서 흡수될 수 있도록 해서 포집 성능이 유지되도록 할 수 있다.The reducing agent may induce the absorption reduction treatment of nitrogen dioxide absorbed in the washing water to neutralize the washing water, and through this, nitrogen dioxide may be continuously absorbed in the washing water to maintain the capture performance.

환원제는 수산화나트륨(NaOH), 황화수소나트륨(NaHS), 황화나트륨(Na2S), 아황산나트륨(Na2SO3), 싸이오황산나트륨(Na2S2O3) 중 하나 이상을 포함할 수 있다.The reducing agent may include one or more of sodium hydroxide (NaOH), sodium hydrogen sulfide (NaHS), sodium sulfide (Na 2 S), sodium sulfite (Na 2 SO 3 ), and sodium thiosulfate (Na 2 S 2 O 3 ). .

세정부(600)의 세정수는 펌프(610) 및 순환유로(620)를 통해 펄스방전부(500)로 순환될 수 있다. 펄스방전부(500)로 세정수를 순환시킴으로써, 펄스방전부(500)에서 생성되는 이산화질소가 세정수에 흡수될 수 있는 시간이 연장되도록 할 수 있다.The washing water of the washing unit 600 may be circulated to the pulse discharge unit 500 through the pump 610 and the circulation passage 620. By circulating the washing water to the pulse discharge unit 500, it is possible to extend the time that nitrogen dioxide generated in the pulse discharge unit 500 can be absorbed in the washing water.

전기집진부(700)는 이동유로(710)를 통해 세정부(600)와 연결될 수 있다. 전기집진부(700)는 전기장을 발생할 수 있으며, 세정부(600)에서 배출되는 입자상 물질을 집진할 수 있다. The electrostatic precipitator 700 may be connected to the cleaning unit 600 through a movement passage 710. The electrostatic precipitator 700 may generate an electric field and may collect particulate matter discharged from the rinse 600.

예를 들면, 전기집진부(700)는 고전압을 인가 받아 집진판(미도시) 사이에서 전기장이 발생되도록 할 수 있으며, 이렇게 형성되는 전기장에 의하여 세정부(600)에서 이동되는 오염가스에 포함되는 미스트, 미세입자 등 입자상 물질(PM: Particulate Matters)은 집진판에 집진될 수 있다.For example, the electric dust collecting unit 700 may be applied with a high voltage to generate an electric field between the dust collecting plates (not shown), and the mist included in the polluted gas moved in the washing unit 600 by the electric field thus formed, Particulate Matters (PM) such as fine particles may be collected in a dust collecting plate.

전기집진부(700)를 거치면서 입자상 물질이 제거된 가스는 배출유로(720)를 통해 배출될 수 있다.Gas through which the particulate matter has been removed while passing through the electrostatic precipitator 700 may be discharged through the discharge passage 720.

이하에서는 분리공급부(200)에 대해 자세히 설명한다.Hereinafter, the separation supply unit 200 will be described in detail.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 오염가스 처리장치의 분리공급부를 나타낸 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 오염가스 처리장치의 분리공급부를 나타낸 평면 단면예시도이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 오염가스 처리장치의 분리공급부를 나타낸 정면 단면예시도이다.Figure 3 is a perspective view showing a separate supply of the pollutant gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a plan view showing a cross-section of a separate supply of a pollutant gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, 5 is an exemplary front cross-sectional view showing a separate supply unit of a pollutant gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3 내지 도 5에서 보는 바와 같이, 분리공급부(200)는 메인챔버(210), 제1포트(220), 제2포트(230), 포집챔버(240) 그리고 배출포트(250)를 가질 수 있다. 3 to 5, the separation supply unit 200 may have a main chamber 210, a first port 220, a second port 230, a collection chamber 240 and a discharge port 250 have.

메인챔버(210)의 내측에는 선회공간(211)이 형성될 수 있다.A turning space 211 may be formed inside the main chamber 210.

제1포트(220)는 메인챔버(210)의 외주면 일측에 메인챔버(210)의 중심에 편심되게 마련될 수 있다. 제1포트(220)는 제1공급유로부(100)와 연결될 수 있으며, 제1포트(220)는 제1공급유로부(100)를 통해 공급되는 오염가스(1)를 선회공간(211)에 접선 방향으로 배출할 수 있다.The first port 220 may be provided eccentrically in the center of the main chamber 210 on one side of the outer circumferential surface of the main chamber 210. The first port 220 may be connected to the first supply channel portion 100, and the first port 220 may turn the polluted gas 1 supplied through the first supply channel portion 100 into a turning space 211. It can be discharged in the tangential direction.

제2포트(230)는 메인챔버(210)의 외주면 타측에 메인챔버(210)의 중심에 편심되게 마련될 수 있다. 제2포트(230)는 제2공급유로부(400)와 연결될 수 있으며, 제2포트(230)는 제2공급유로부(400)를 통해 공급되는 반응가스(2)를 선회공간(211)에 접선 방향으로 배출할 수 있다.The second port 230 may be provided eccentrically in the center of the main chamber 210 on the other side of the outer circumferential surface of the main chamber 210. The second port 230 may be connected to the second supply channel portion 400, and the second port 230 may rotate the reaction gas 2 supplied through the second supply channel portion 400 to the turning space 211. It can be discharged in the tangential direction.

제1포트(220) 및 제2포트(230)는 메인챔버(210)에서 상측에 형성될 수 있다.The first port 220 and the second port 230 may be formed above the main chamber 210.

그리고, 도 4에서 보는 바와 같이, 제1포트(220) 및 제2포트(230)는 메인챔버(210)의 중심을 기준으로 서로 반대가 되도록 구비될 수 있다. 따라서, 제1포트(220)에서 배출되는 오염가스(1)의 선회방향과, 제2포트(230)에서 배출되는 반응가스(2)의 선회방향을 동일해질 수 있다. 즉, 오염가스(1) 및 반응가스(2)는 각각 선회공간(211)에 접선방향으로 유입된 후 하향의 선회 흐름이 되어 나선상으로 이동될 수 있다. In addition, as shown in FIG. 4, the first port 220 and the second port 230 may be provided to be opposite to each other based on the center of the main chamber 210. Accordingly, the turning direction of the pollutant gas 1 discharged from the first port 220 and the turning direction of the reaction gas 2 discharged from the second port 230 may be the same. That is, the contaminant gas 1 and the reaction gas 2 may respectively flow into the turning space 211 in a tangential direction and then become downward turning flows and move spirally.

포집챔버(240)는 메인챔버(210)의 하단부에 구비될 수 있으며, 포집챔버(240)에는 선회공간(211)에서 오염가스(1) 및 반응가스(2)의 반응에 의해 생성되는 입자상의 반응물질(3)이 포집될 수 있다.The collection chamber 240 may be provided at the lower end of the main chamber 210, and the collection chamber 240 has a particulate form generated by the reaction of the polluted gas 1 and the reaction gas 2 in the orbiting space 211. Reactant 3 may be collected.

즉, 선회공간(211)에서 오염가스(1) 및 반응가스(2)가 선회하는 동안 서로 반응하여 생성되는 입자상의 반응물질(3)은 중력에 의해 낙하하게 되고, 포집챔버(240)에 포집될 수 있다. That is, in the turning space 211, the pollutant gas 1 and the reactant gas 2 are reacted with each other while turning, and the particulate reactants 3 generated by gravity fall down by gravity, and are collected in the collecting chamber 240. Can be.

포집챔버(240)의 하단부에는 마개(241)가 더 체결될 수 있으며, 마개(241)는 포집챔버(240)의 하단부를 개폐할 수 있다. 포집챔버(240)에 포집되는 입자상의 반응물질(3)은 마개(241)를 포집챔버(240)에서 분리한 후 용이하게 제거될 수 있다.A stopper 241 may be further fastened to the lower end portion of the collection chamber 240, and the stopper 241 may open and close the lower end portion of the capture chamber 240. The particulate reactant 3 collected in the collection chamber 240 can be easily removed after separating the stopper 241 from the collection chamber 240.

또는 포집챔버(240)의 하단부는 막히도록 형성될 수도 있으며, 이 경우, 포집챔버(240)가 메인챔버(210)에 분리 가능하게 결합되도록 구성하고, 포집챔버(240)가 메인챔버(210)와 분리되도록 한 후, 포집챔버(240)에 포집되는 입자상의 반응물질(3)이 제거되도록 할 수도 있다.Alternatively, the lower end of the collection chamber 240 may be formed to be blocked, and in this case, the collection chamber 240 is configured to be detachably coupled to the main chamber 210, and the collection chamber 240 is the main chamber 210. After being separated from, it may be to remove the particulate reactant (3) collected in the collection chamber 240.

선회공간(211)에서 오염가스(1) 및 반응가스(2)의 선회흐름은 포집챔버(240)의 뾰족한 단부에서 흐름방향이 역전되어 상향의 선회 흐름이 될 수 있다.The turning flow of the polluted gas 1 and the reaction gas 2 in the turning space 211 may be an upward turning flow by reversing the flow direction at the pointed ends of the collecting chamber 240.

배출포트(250)는 메인챔버(210)의 상단부에 구비될 수 있으며, 배출포트(250)는 안내유로(511, 도 2 참조)를 통해 펄스방전부(500, 도 2 참조)의 입구단(510, 도 2 참조)에 연결될 수 있다. The discharge port 250 may be provided at the upper end of the main chamber 210, and the discharge port 250 is an inlet end of the pulse discharge unit 500 (see FIG. 2) through a guide flow path 511 (see FIG. 2). 510, see FIG. 2).

배출포트(250)는 입자상의 반응물질(3)이 분리되고 상향의 선회 흐름을 가지는 가스상태의 오염가스(1) 및 반응가스(2)가 펄스방전부(500)의 입구단(510)으로 공급되도록 할 수 있다.The discharge port 250 is a gaseous pollutant gas (1) and a reaction gas (2) with a particulate reactant (3) is separated and having an upward turning flow to the inlet end (510) of the pulse discharge unit (500) Can be supplied.

이처럼, 분리공급부(200)는 오염가스(1) 및 반응가스(2)의 선회류에 의해서 생기는 원심력을 이용하여 입자상의 반응물질(3)을 분리하여 포집하는 사이클론(Cyclone)일 수 있다.As such, the separation supply unit 200 may be a cyclone that separates and collects particulate reactants 3 by using centrifugal force generated by swirling flows of the contaminant gas 1 and the reaction gas 2.

만일, 본 발명에 따른 분리공급부(200)가 없이 제1공급유로부(100, 도 2 참조) 및 제2공급유로부(400, 도 2 참조)가 펄스방전부(500)의 입구단(510)에 바로 연결되는 경우, 제2공급유로부(400)의 출구단에서 반응가스와 오염가스가 반응하여 입자상의 반응물질이 생성되어 쌓이게 되어 제2공급유로부(400)의 출구단 또는 펄스방전부(500)의 입구단(510)이 막히는 문제가 발생할 수 있다.If there is no separation supply unit 200 according to the present invention, the first supply channel unit 100 (refer to FIG. 2) and the second supply channel unit 400 (refer to FIG. 2) have an inlet end 510 of the pulse discharge unit 500. ), the reaction gas and the contaminant gas react at the outlet end of the second supply flow path 400 to generate and accumulate particulate reactants. The inlet end 510 of the whole 500 may be clogged.

그러나, 본 발명에서와 같이, 분리공급부(200)를 마련하고, 오염가스(1) 및 반응가스(2)의 선회류에 의해 생기는 원심력을 이용하여 입자상의 반응물질을 분리하고, 가스상태의 오염가스 및 반응가스만 펄스방전부(500)로 이동시키게 되면, 안내유로(511) 및 펄스방전부(500)의 입구단(510)에서 입자상의 반응물질이 생성되는 양이 작아지기 때문에, 막힘 현상이 효과적으로 방지될 수 있다.However, as in the present invention, the separation supply unit 200 is provided, and the particulate reactant is separated using centrifugal force generated by the swirling flow of the contaminant gas 1 and the reaction gas 2, and the gaseous contamination When only the gas and the reaction gas are moved to the pulse discharge unit 500, the amount of particles of the reactant produced at the inlet end 510 of the guide flow path 511 and the pulse discharge unit 500 decreases, and thus clogging phenomenon This can be effectively prevented.

제2포트(230)는 메인챔버(210)의 높이방향으로 복수개가 형성될 수 있으며, 각각의 제2포트를 통해 서로 다른 종류의 반응가스가 공급되도록 할 수 있다.A plurality of second ports 230 may be formed in the height direction of the main chamber 210, and different types of reaction gases may be supplied through each second port.

예를 들어, 제일 상측에 마련되는 제2포트(230)로는 암모니아가 공급되도록 하고, 그 다음으로 높게 마련되는 제2포트(230a)에는 HC 가스가 공급되도록 하고, 제일 하측에 마련되는 제2포트(230b)에는 또 다른 반응가스가 공급되도록 할 수 있다.For example, ammonia is supplied to the second port 230 provided on the top side, and HC gas is supplied to the second port 230a provided on the next highest side, and the second port provided on the bottom side. Another reaction gas may be supplied to 230b.

한편, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 오염가스 처리장치의 분리공급부의 제2포트를 중심으로 나타낸 단면예시도이다.On the other hand, Figure 6 is an exemplary cross-sectional view showing a second port of the separation supply of the pollutant gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 6에서 보는 바와 같이, 제2포트(230)는 제1관(231) 및 제2관(232)을 가질 수 있다.As shown in FIG. 6, the second port 230 may have a first tube 231 and a second tube 232.

제1관(231)은 제2공급유로부(400)와 연결될 수 있으며, 제1관(231)은 제2공급유로부(400)를 통해 공급되는 반응가스(2)가 선회공간(211)으로 배출되도록 할 수 있다.The first pipe 231 may be connected to the second supply flow path 400, and the first pipe 231 may have a reaction gas 2 supplied through the second feed flow path 400 to the turning space 211. Can be discharged.

제2관(232)은 제1관(231)과 동심축을 가지고 제1관(231)을 감싸도록 구비될 수 있으며, 이에 따라, 제2포트(230)는 이중관 형태로 형성될 수 있다. 그리고, 제2관(232)은 시스(Sheath) 공기(4)가 배출되도록 할 수 있다.The second pipe 232 may be provided to surround the first pipe 231 with a concentric shaft with the first pipe 231, and accordingly, the second port 230 may be formed in a double pipe shape. In addition, the second pipe 232 may allow the sheath air 4 to be discharged.

제2관(232)에서 배출되는 시스 공기(4)는 제1관(231)에서 배출되는 반응가스(2)의 외측을 감싸면서 배출될 수 있기 때문에, 선회공간(211)에서 제1관(231)의 출구단에 인접하는 영역(212)에서 반응가스(2)가 오염가스와 반응되는 않도록 할 수 있다.Since the sheath air 4 discharged from the second pipe 232 may be discharged while surrounding the outside of the reaction gas 2 discharged from the first pipe 231, the first pipe in the turning space 211 ( In the region 212 adjacent to the outlet end of 231), the reaction gas 2 may be prevented from reacting with the polluted gas.

즉, 제1관(231)에서 반응가스(2)가 배출됨과 동시에, 제2관(232)의 출구단에서는 시스 공기(4)가 배출되기 때문에, 선회공간(211)에 유입된 오염가스는 시스 공기(4)에 의해 밀려져 나가게 되고, 제1관(231)의 출구단에 인접하는 영역(212)에는 오염가스가 존재하지 않거나, 존재하는 양이 극히 적도록 할 수 있다. That is, since the reaction gas 2 is discharged from the first pipe 231 and the sheath air 4 is discharged from the outlet end of the second pipe 232, the polluted gas introduced into the turning space 211 is It can be pushed out by the sheath air 4, and the region 212 adjacent to the outlet end of the first pipe 231 does not have a contaminant gas, or it can be made to have an extremely small amount.

따라서, 제1관(231)에서 반응가스(2)가 배출된 직 후 제1관(231)의 출구단에서 반응가스(2)가 오염가스와 반응되지 않도록 할 수 있다. 이를 통해, 제2포트(230)의 출구단이 오염가스 및 반응가스가 반응하여 생성되는 입자상의 반응물질에 의해 막히는 것이 효과적으로 방지되도록 할 수 있으며, 장치의 운용 안정성을 높일 수 있다.Therefore, it is possible to prevent the reaction gas 2 from reacting with the polluted gas at the outlet end of the first tube 231 immediately after the reaction gas 2 is discharged from the first tube 231. Through this, the outlet end of the second port 230 can be effectively prevented from being blocked by particulate reactants produced by the reaction of the polluted gas and the reaction gas, and it is possible to increase the operational stability of the device.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present invention is for illustration only, and a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention pertains can understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 청구범위에 의하여 나타내어지며, 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims, and all modifications or variations derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts should be interpreted to be included in the scope of the present invention.

1: 오염가스 2: 반응가스
3: 입자상의 반응물질 4: 시스 공기
100: 제1공급유로부 200: 분리공급부
210: 메인챔버 211: 선회공간
220: 제1포트 230: 제2포트
231: 제1관 232: 제2관
240: 포집챔버 250: 배출포트
300: 저장부 400: 제2공급유로부
500, 펄스방전부 600: 세정부
700: 전기집진부
1: Pollution gas 2: Reaction gas
3: Particulate reactants 4: Sheath air
100: first supply channel 200: separate supply
210: main chamber 211: turning space
220: Port 1 230: Port 2
231: Building 1 232: Building 2
240: collection chamber 250: discharge port
300: storage unit 400: second supply channel
500, pulse discharge unit 600: cleaning unit
700: electrostatic precipitator

Claims (4)

오염가스가 유입되는 분리공급부;
상기 오염가스의 분해반응을 촉진시키기 위한 반응가스가 저장되는 저장부;
상기 분리공급부를 통해 상기 오염가스 및 상기 반응가스를 공급받고, 공급되는 상기 오염가스를 플라즈마화하여 상기 오염가스에 포함되는 일산화질소를 이산화질소로 개질하고, 상기 오염가스에 포함되는 황산화물을 저감 처리하는 펄스방전부;
상기 펄스방전부에서 배출되는 이산화질소의 흡수 환원 처리를 유도하기 위한 세정수가 제공되는 세정부; 그리고
전기장을 발생하여 상기 세정부에서 배출되는 입자상 물질을 집진하는 전기집진부를 포함하고,
상기 분리공급부는 상기 오염가스 및 상기 반응가스의 반응에 의해 생성되는 입자상의 반응물질을 가스상태의 오염가스 및 반응가스로부터 분리하고, 분리된 가스상태의 오염가스 및 반응가스만 상기 펄스방전부로 이동되도록 하는 것을 특징으로 하는 오염가스 처리장치.
Separated supply unit to which the polluted gas flows;
A storage unit in which reaction gas for accelerating the decomposition reaction of the polluted gas is stored;
The pollutant gas and the reaction gas are supplied through the separation supply unit, and the supplied pollutant gas is plasmad to reform nitrogen monoxide contained in the pollutant gas into nitrogen dioxide, and to reduce sulfur oxides contained in the pollutant gas. A pulse discharge unit;
A washing unit provided with washing water for inducing absorption reduction treatment of nitrogen dioxide discharged from the pulse discharge unit; And
And an electrostatic precipitator that collects particulate matter discharged from the cleaning unit by generating an electric field.
The separation supply unit separates the pollutant gas and the particulate reactant produced by the reaction of the reaction gas from the gaseous pollutant gas and the reaction gas, and only the separated gaseous pollutant gas and reaction gas are transferred to the pulse discharge unit. Pollution gas treatment device characterized in that to be moved.
제1항에 있어서,
상기 분리공급부는
내측에 선회공간이 형성되는 메인챔버와,
상기 메인챔버의 외주면 일측에 상기 메인챔버의 중심에 편심되게 마련되고 공급되는 오염가스를 상기 선회공간에 접선 방향으로 배출시키는 제1포트와,
상기 메인챔버의 외주면 타측에 상기 메인챔버의 중심에 편심되게 마련되고, 공급되는 상기 반응가스를 상기 선회공간에 접선 방향으로 배출시키는 제2포트와,
상기 메인챔버의 하단부에 구비되고, 상기 선회공간에서 오염가스 및 상기 반응가스의 반응에 의해 생성되는 상기 입자상의 반응물질이 포집되는 포집챔버와,
상기 메인챔버의 상단부에 구비되고, 상기 펄스방전부의 입구단에 연결되어 상기 입자상의 반응물질이 분리된 가스상태의 오염가스 및 반응가스가 상기 펄스방전부의 입구단으로 공급되도록 하는 배출포트를 가지는 것을 특징으로 하는 오염가스 처리장치.
According to claim 1,
The separation supply unit
A main chamber in which a turning space is formed inside,
A first port provided eccentrically in the center of the main chamber on one side of the outer circumferential surface of the main chamber and discharging supplied pollutant gas in a tangential direction to the turning space;
A second port provided eccentrically in the center of the main chamber on the other side of the outer circumferential surface of the main chamber, and discharging the supplied reaction gas tangentially to the turning space;
It is provided at the lower end of the main chamber, the collecting chamber in which the particulate matter produced by the reaction of the polluted gas and the reaction gas in the pivot space is collected,
The discharge port is provided at the upper end of the main chamber and is connected to the inlet end of the pulse discharge part to supply the gaseous polluted gas and reaction gas separated from the particulate reactant to the inlet end of the pulse discharge part. Pollution gas treatment apparatus characterized by having.
제2항에 있어서,
상기 제2포트는
공급되는 상기 반응가스가 상기 선회공간으로 배출되도록 하는 제1관과,
상기 제1관에서 상기 반응가스가 배출된 후 상기 제1관의 출구단에서 상기 반응가스가 오염가스와 반응되지 않도록, 상기 제1관과 동심축을 가지고 상기 제1관을 감싸도록 구비되며 상기 제1관에서 배출되는 상기 반응가스의 외측을 감싸는 시스(Sheath) 공기가 배출되도록 하는 제2관을 가지는 것을 특징으로 하는 오염가스 처리장치.
According to claim 2,
The second port
A first pipe through which the supplied reaction gas is discharged to the turning space;
After the reaction gas is discharged from the first tube, it is provided to surround the first tube with a concentric axis with the first tube so that the reaction gas does not react with the polluted gas at the outlet end of the first tube. A contaminant gas treatment apparatus comprising a second pipe through which sheath air surrounding the outside of the reaction gas discharged from the first pipe is discharged.
제2항에 있어서,
상기 제1포트 및 상기 제2포트는 상기 메인챔버의 중심을 기준으로 서로 반대가 되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 오염가스 처리장치.
According to claim 2,
The first port and the second port are polluted gas treatment apparatus characterized in that provided to be opposite to each other based on the center of the main chamber.
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