KR20200057307A - Retardation film, manufacturing method of same, polarizing plate comprising same and liquid crystal display device comprising same - Google Patents

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KR20200057307A
KR20200057307A KR1020180141521A KR20180141521A KR20200057307A KR 20200057307 A KR20200057307 A KR 20200057307A KR 1020180141521 A KR1020180141521 A KR 1020180141521A KR 20180141521 A KR20180141521 A KR 20180141521A KR 20200057307 A KR20200057307 A KR 20200057307A
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Abstract

The present application relates to a method of manufacturing a retardation film, a retardation film manufactured thereby, a polarizing plate comprising the same, and a liquid crystal display device including the same.

Description

위상차 필름, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치{RETARDATION FILM, MANUFACTURING METHOD OF SAME, POLARIZING PLATE COMPRISING SAME AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME}Retardation film, manufacturing method thereof, polarizing plate including the same, and liquid crystal display device including the same {RETARDATION FILM, MANUFACTURING METHOD OF SAME, POLARIZING PLATE COMPRISING SAME AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME}

본 발명은 위상차 필름, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a retardation film, a manufacturing method thereof, a polarizing plate comprising the same, and a liquid crystal display device including the same.

근래 광학 기술의 발전을 발판으로 종래의 브라운관을 대체하는 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP), 액정 디스플레이(liquid crystal display, LCD), 유기발광소자(Organic Light Emitting Diodes, OLED) 등 여러 가지의 방식을 이용한 디스플레이 장치들이 제안, 시판되고 있다. 최근 이러한 디스플레이 장치들에 요구되는 특성들이 한층 고도화 되어가고 있는 추세이며, 이에 따라, 디스플레이 장치에 적용되는 광학 필름과 같은 주변 부품들에 대한 요구 특성 역시 고도화 되어가고 있는 추세이다. 특히, 최근 디스플레이 장치들은 박막화, 경량화, 화면 면적의 대형화가 추진되면서 광시야각화, 고콘트라스트화, 시야각에 따른 화상 색조변화의 억제 및 화면 표시의 균일화가 특히 중요한 문제가 되고 있다.In recent years, based on the development of optical technology, various plasma display panels (PDPs), liquid crystal displays (LCDs), and organic light emitting diodes (OLEDs) that replace conventional CRTs Display devices using the method have been proposed and marketed. Recently, the characteristics required for these display devices are becoming more advanced, and accordingly, the required properties for peripheral parts such as optical films applied to the display devices are also being advanced. In particular, as display devices have recently become thinner, lighter, and larger in screen area, wide viewing angle, high contrast, suppression of image color change according to viewing angle, and uniformity of screen display have become particularly important problems.

일반적으로 액정표시장치는 액정 셀의 양측에 편광판을 설치한 기본 구성을 가지며, 구동회로의 전계 인가 여부에 따라 액정 셀의 배향이 변하게 되고, 그에 따라 편광판을 통해 나온 투과도의 특정이 달라지게 됨으로써 빛의 가시화가 이루어진다. 이 때, 입사광의 입사 각도에 따라 빛의 경로와 복굴절성이 변화하게 되는 데, 이는 액정이 두 개의 상이한 굴절률을 가지는 이방성 물질이기 때문이다.In general, a liquid crystal display device has a basic configuration in which polarizing plates are installed on both sides of a liquid crystal cell, and the orientation of the liquid crystal cell changes depending on whether an electric field is applied to the driving circuit, and accordingly, the transmittance through the polarizing plate is changed, so that light Is made visible. At this time, the light path and birefringence change according to the incident angle of the incident light because the liquid crystal is an anisotropic material having two different refractive indices.

이와 같은 특성으로 인해 액정표시장치는 시야각(viewing angle)에 따라 상이 얼마나 뚜렷하게 보이는지를 가늠하는 척도인 콘트라스트 비(contrast ratio)가 달라지고 계조 반전(gray scale inversion) 현상이 발생하여 시인성이 떨어지는 단점을 갖는다. 이와 같은 단점을 극복하기 위하여 액정표시장치에는 액정 셀에서 발생하는 광학 위상차를 발현시켜 주는 광학 위상차 필름(compensation film)이 사용되고 있다.Due to these characteristics, the liquid crystal display device has a disadvantage in that the contrast ratio, which is a measure of how clearly the image is seen according to the viewing angle, changes, and gray scale inversion occurs, resulting in poor visibility. Have In order to overcome this disadvantage, an optical retardation film that expresses an optical retardation occurring in a liquid crystal cell is used in the liquid crystal display device.

IPS(In-Plaine Switching) 모드 액정 패널에 적용되는 위상차 필름으로는, 예를들면 nx > nz > ny의 굴절률 분포를 가지는 광학 필름이 사용되어야 한다. 이때, 상기와 같은 굴절률 분포를 가지는 광학 필름은 일반적으로 일축/이축 연신 필름 단독으로는 구현이 어렵다고 알려져 있으며, 상기 굴절률 분포를 가지는 광학 필름은 정분산 혹은 평분산 광학 필름이 알려져 있다.As the retardation film applied to the IPS (In-Plaine Switching) mode liquid crystal panel, for example, an optical film having a refractive index distribution of nx> nz> ny should be used. At this time, the optical film having the refractive index distribution as described above is generally known to be difficult to implement uniaxial / biaxially stretched film alone, and the optical film having the refractive index distribution is known as a regular dispersion or a flat dispersion optical film.

그러나, 상기와 같은 nx > nz > ny의 굴절률 분포를 가지며, 정분산의 광학 필름의 경우 성능이 저하되는 문제가 발생하게 된다.However, it has a refractive index distribution of nx> nz> ny as described above, and in the case of an optical film of constant dispersion, a problem that performance deteriorates occurs.

상기와 같은 문제점으로부터, IPS 모드에 적용되는 nx > nz > ny의 굴절률 분포를 가지며 역분산의 광학 필름으로, 제조 공정이 단순하고 또한 제조 공정에 따라 제조된 위상차 필름이 박형화를 이루는 위상차 필름에 대한 연구가 진행되고 있다.From the above problems, an optical film of reverse dispersion having a refractive index distribution of nx> nz> ny applied to the IPS mode, the manufacturing process is simple, and the phase difference film produced according to the manufacturing process is thinner for the phase difference film Research is ongoing.

일본특허공보 1993-157911호Japanese Patent Publication No. 1993-157911

본 발명은 위상차 필름, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치를 제공하고자 한다.The present invention is to provide a retardation film, a manufacturing method thereof, a polarizing plate comprising the same, and a liquid crystal display device including the same.

본 출원의 일 실시상태는, 스티렌 모노머를 포함하는 수지; 및 이색성 값이 하기 식 (1)을 만족하는 복굴절 조절제를 포함하는 위상차 필름 형성용 조성물 또는 이의 경화물을 포함하는 위상차 필름으로, 상기 위상차 필름 형성용 조성물의 유리 전이 온도(Tg, glass transition temperature)는 115℃ 이상이고, 상기 복굴절 조절제는 상기 스티렌계 모노머를 포함하는 수지 100 중량부 기준 5 중량부 이상 15 중량부 이하이며, 상기 위상차 필름은 하기 식 (2) 내지 (4)를 만족하는 것인 위상차 필름을 제공한다.One embodiment of the present application, a resin containing a styrene monomer; And a retardation film-forming composition comprising a birefringent modifier having a dichroic value satisfying the following formula (1) or a cured product thereof, the glass transition temperature (Tg) of the retardation film-forming composition. ) Is 115 ° C or higher, and the birefringent modifier is 5 parts by weight or more and 15 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the resin containing the styrene-based monomer, and the retardation film satisfies the following formulas (2) to (4). It provides a phosphorus retardation film.

식 (1): 0.01 ≤ |αe0| ≤ 0.07Equation (1): 0.01 ≤ | α e0 | ≤ 0.07

식 (2): nx > nz > nyEquation (2): nx> nz> ny

식 (3): 0.7 ≤ Rin(450)/Rin(550) ≤ 1.03Equation (3): 0.7 ≤ Rin (450) / Rin (550) ≤ 1.03

식 (4): 0.97 ≤ Rin(650)/Rin(550) ≤ 1.2Equation (4): 0.97 ≤ Rin (650) / Rin (550) ≤ 1.2

상기 식 (1) 내지 (4)에 있어서,In the formulas (1) to (4),

αe는 이상광 (extraordinary ray)의 흡광 계수이며, α0는 상광 (ordinary ray)의 흡광 계수이고,α e is the extinction coefficient of the extraordinary ray, α 0 is the extinction coefficient of the ordinary ray,

nx는 위상차 필름 면의 Slow Axis 방향의 굴절율이며, ny는 위상차 필름 면의 Fast Axis 방향의 굴절율이며, nz는 위상차 필름 두께 방향의 굴절율이며,nx is the refractive index in the slow axis direction of the retardation film surface, ny is the refractive index in the fast axis direction of the retardation film surface, nz is the refractive index in the retardation film thickness direction,

Rin(λ)는 파장 λ nm에서의 면방향 위상차이고, (nx-ny) x d이며,Rin (λ) is the plane direction retardation at wavelength λ nm, (nx-ny) x d,

상기 d는 위상차 필름 두께이다.D is the retardation film thickness.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 면상에서 제1 방향으로 최대 수축력을 갖는 열 수축성 기재를 준비하는 단계; 상기 열 수축성 기재 상에 청구항 1에 따른 위상차 필름을 라미네이션 하는 단계; 상기 열 수축성 기재에 열을 가하여 상기 제1 방향으로 수축 시키는 단계; 및 상기 열 수축성 기재를 제거하는 단계를 포함하는 위상차 필름의 제조 방법으로, 상기 열 수축성 기재는 150 ℃의 조건에서 수축율이 60 % 이하이고, 최대 수축력이 5 N/cm2 이상인 것인 위상차 필름의 제조 방법을 제공한다.In another embodiment, preparing a heat-shrinkable substrate having a maximum shrinking force in a first direction on a plane; Laminating the retardation film according to claim 1 on the heat-shrinkable substrate; Shrinking in the first direction by applying heat to the heat-shrinkable substrate; And removing the heat-shrinkable substrate, wherein the heat-shrinkable substrate has a shrinkage of 60% or less at a condition of 150 ° C., and a maximum shrinkage force of 5 N / cm 2 or more. Provides a manufacturing method.

또 다른 일 실시상태는, 편광자; 및 상기 편광자의 일면에 본 출원의 일 실시상태에 따른 위상차 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 편광판을 제공한다.Another embodiment, the polarizer; And it provides a polarizing plate including at least one retardation film according to an exemplary embodiment of the present application on one surface of the polarizer.

또 다른 일 실시상태는, 액정 셀; 상기 액정 셀의 상층부에 구비되는 상부 편광판; 상기 액정 셀의 하층부에 구비되는 하부 편광판; 및 상기 하부 편광판의 하층부에 구비되는 백라이트 유닛을 포함하며, 상기 상부 편광판 및 상기 하부 편광판 중 적어도 하나는 편광자; 및 상기 편광자의 일면에 배치되는 본 출원의 일 실시상태에 따른 위상차 필름을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.Another embodiment, a liquid crystal cell; An upper polarizing plate provided on an upper layer portion of the liquid crystal cell; A lower polarizing plate provided on the lower layer of the liquid crystal cell; And a backlight unit provided on a lower layer of the lower polarizer, wherein at least one of the upper polarizer and the lower polarizer is a polarizer; And a retardation film according to an exemplary embodiment of the present application disposed on one surface of the polarizer.

본 출원의 일 실시상태에 따른 위상차 필름은 굴절율이 nx > nz > ny의 굴절률 분포를 만족하며, 파장 분산성이 역분산의 특성을 가지는 것으로, 상기 위상차 형성용 조성물의 유리 전이 온도가 특정 범위 이상의 값을 가져 내열성이 우수한 특성을 갖게 된다.The retardation film according to an exemplary embodiment of the present application has a refractive index distribution of nx> nz> ny, and has wavelength dispersion property of reverse dispersion, and the glass transition temperature of the composition for retardation formation is higher than a specific range It has a value and has excellent heat resistance characteristics.

또한 본 출원의 일 실시상태에 따른 위상차 필름은 복굴절 조절제를 특정 함량 사용하여, 상기 수지와의 굴절률 차이를 이용하여 파장 분산성을 변화시켜 역파장/플랫파장 분산성을 구현할 수 있으며, 본 발명의 위상차 필름은 광 파장이 커질수록 위상 지연 값이 커지는 역파장 분산성을 갖기 때문에, 넓은 광 대역에서 비교적 균일한 정도의 위상 지연을 발생시키는 것을 특징으로 한다. 그 결과 편광판이나 표시장치에 본 발명의 위상차 필름을 적용할 경우, 종래에 비해 우수한 색상, 시감 및 광학 특성을 구현할 수 있다.In addition, the retardation film according to an exemplary embodiment of the present application may implement a reverse wavelength / flat wavelength dispersion by changing a wavelength dispersion property using a difference in refractive index with the resin by using a specific content of a birefringent regulator. The retardation film is characterized by generating a relatively uniform degree of phase retardation in a wide light band because the retardation film has an inverse wavelength dispersion property in which the phase retardation value increases as the optical wavelength increases. As a result, when the retardation film of the present invention is applied to a polarizing plate or a display device, it is possible to realize superior color, visual and optical characteristics compared to the prior art.

또한 본 발명에 따른 위상차 필름의 제조 방법은, 수축성 기재가 특정 수축율 및 최대 수축력을 만족함으로써, 이를 통하여 형성된 위상차 필름이 nx > nz > ny의 굴절률 분포를 갖게 되어, 일반적 연신 공정으로 구현하는 것에 비하여 공정 단계가 간편하고 비용이 절약되는 특징을 갖게 된다.In addition, in the method of manufacturing the retardation film according to the present invention, the retractable substrate satisfies a specific shrinkage rate and the maximum shrinkage force, so that the retardation film formed therethrough has a refractive index distribution of nx> nz> ny, compared to that implemented by a general stretching process It has the characteristics of simple process steps and cost savings.

도 1은 본 출원의 일 실시상태에 따른 편광판의 적층구조를 나타낸 도이다.
도 2는 본 출원의 일 실시상태에 따른 편광판의 적층구조를 나타낸 도이다.
도 3은 본 출원의 일 실시상태에 따른 액정표시장치를 나타낸 도이다.
1 is a view showing a laminated structure of a polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present application.
2 is a view showing a laminated structure of a polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present application.
3 is a view showing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present application.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 상세하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, embodiments of the present invention may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. In addition, embodiments of the present invention are provided to explain the present invention in more detail to those skilled in the art.

본 출원의 일 실시상태는, 스티렌 모노머를 포함하는 수지; 및 이색성 값이 하기 식 (1)을 만족하는 복굴절 조절제를 포함하는 위상차 필름 형성용 조성물 또는 이의 경화물을 포함하는 위상차 필름으로, 상기 위상차 필름 형성용 조성물의 유리 전이 온도(Tg, glass transition temperature)는 115℃ 이상이고, 상기 복굴절 조절제는 상기 스티렌계 모노머를 포함하는 수지 100 중량부 기준 5 중량부 이상 15 중량부 이하이며, 상기 위상차 필름은 하기 식 (2) 내지 (4)를 만족하는 것인 위상차 필름을 제공한다.One embodiment of the present application, a resin containing a styrene monomer; And a retardation film-forming composition comprising a birefringent modifier having a dichroic value satisfying the following formula (1) or a cured product thereof, the glass transition temperature (Tg) of the retardation film-forming composition. ) Is 115 ° C or higher, and the birefringent modifier is 5 parts by weight or more and 15 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the resin containing the styrene-based monomer, and the retardation film satisfies the following formulas (2) to (4). It provides a phosphorus retardation film.

식 (1): 0.01 ≤ |αe0| ≤ 0.07Equation (1): 0.01 ≤ | α e0 | ≤ 0.07

식 (2): nx > nz > nyEquation (2): nx> nz> ny

식 (3): 0.7 ≤ Rin(450)/Rin(550) ≤ 1.03Equation (3): 0.7 ≤ Rin (450) / Rin (550) ≤ 1.03

식 (4): 0.97 ≤ Rin(650)/Rin(550) ≤ 1.2Equation (4): 0.97 ≤ Rin (650) / Rin (550) ≤ 1.2

상기 식 (1) 내지 (4)에 있어서,In the formulas (1) to (4),

αe는 이상광 (extraordinary ray)의 흡광 계수이며, α0는 상광 (ordinary ray)의 흡광 계수이고,α e is the extinction coefficient of the extraordinary ray, α 0 is the extinction coefficient of the ordinary ray,

nx는 위상차 필름 면의 Slow Axis 방향의 굴절율이며, ny는 위상차 필름 면의 Fast Axis 방향의 굴절율이며, nz는 위상차 필름 두께 방향의 굴절율이며,nx is the refractive index in the slow axis direction of the retardation film surface, ny is the refractive index in the fast axis direction of the retardation film surface, nz is the refractive index in the retardation film thickness direction,

Rin(λ)는 파장 λ nm에서의 면방향 위상차이고, (nx-ny) x d이며,Rin (λ) is the plane direction retardation at wavelength λ nm, (nx-ny) x d,

상기 d는 위상차 필름 두께이다.D is the retardation film thickness.

본 출원의 일 실시상태에 따른 위상차 필름은 굴절율이 nx > nz > ny의 굴절률 분포를 만족하며, 파장 분산성이 역분산의 특성을 가지는 것으로, 상기 위상차 형성용 조성물의 유리 전이 온도가 특정 범위 이상의 값을 가져 내열성이 우수한 특성을 갖게 된다.The retardation film according to an exemplary embodiment of the present application has a refractive index distribution of nx> nz> ny, and has wavelength dispersion property of reverse dispersion, and the glass transition temperature of the composition for retardation formation is higher than a specific range It has a value and has excellent heat resistance characteristics.

또한 본 출원의 일 실시상태에 따른 위상차 필름은 복굴절 조절제를 특정 함량 사용하여, 상기 수지와의 굴절률 차이를 이용하여 파장 분산성을 변화시켜 역파장/플랫파장 분산성을 구현할 수 있으며, 본 발명의 위상차 필름은 광 파장이 커질수록 위상 지연 값이 커지는 역파장 분산성을 갖기 때문에, 넓은 광 대역에서 비교적 균일한 정도의 위상 지연을 발생시키는 것을 특징으로 한다. 그 결과 편광판이나 표시장치에 본 발명의 위상차 필름을 적용할 경우, 종래에 비해 우수한 색상, 시감 및 광학 특성을 구현할 수 있다.In addition, the retardation film according to an exemplary embodiment of the present application may implement a reverse wavelength / flat wavelength dispersion by changing a wavelength dispersion property using a difference in refractive index with the resin by using a specific content of a birefringent regulator. The retardation film is characterized by generating a relatively uniform degree of phase retardation in a wide light band because the retardation film has an inverse wavelength dispersion property in which the phase retardation value increases as the optical wavelength increases. As a result, when the retardation film of the present invention is applied to a polarizing plate or a display device, it is possible to realize superior color, visual and optical characteristics compared to the prior art.

본 명세서에서 유리전이온도는 METTLER 사의 DSC(Differential Scanning Calorymeter) 장비를 이용하여 측정하였으며, 측정방법은 측정하고자 하는 레진(resin) 3mg 내지 20mg을 알루미늄 도가니에 넣고 30℃ 내지 250℃까지 분당 10℃의 승온 속도로 레진을 용융시키고, 다시 30℃까지 냉각 후 다시 200℃까지 분당 10℃의 승온 속도로 레진을 용융시킨다. 이때, METTLER 사의 DSC 장비를 통하여, 두 번째 용융시키는 과정에서 레진이 열을 비열 거동이 바뀌는 온도 범위의 중간 지점이 측정되며, 이 값이 유리전이온도 값으로 측정된다.In this specification, the glass transition temperature was measured using a DSC (Differential Scanning Calorymeter) equipment of METTLER, and the measurement method was performed by adding 3 to 20 mg of resin to be measured in an aluminum crucible at 30 ° C. to 250 ° C. at 10 ° C. per minute. The resin is melted at a heating rate, cooled to 30 ° C again, and then melted at a heating rate of 10 ° C per minute to 200 ° C again. At this time, through the DSC equipment of METTLER, the middle point of the temperature range in which the specific heat behavior of the resin changes heat in the second melting process is measured, and this value is measured as the glass transition temperature value.

상기 식 (1)에 있어서, 상기 이상광(extraordinary ray)의 흡광 계수 αe 및 상기 상광(ordinary ray)의 흡광 계수 α0는 복굴절 조절제가 포함된 필름의 편광 투과도를 측정하여 계산할 수 있다. 예를 들면, 투과도 측정 장치(예를 들면, 히타치 사의 U-3310 등)의 광원에 편광판을 부착하여 편광이 발생하도록 한 다음, 상기 편광을 시료 필름에 투과시켜 상광의 투과도 To를 측정한 후, 시료 필름을 90˚회전시킨 상태에서 편광을 투과시켜 이상광의 투과도 Te를 측정한다. 그런 다음, 측정된 상광 투과도와 이상광 투과도를 하기 식에 대입하여, 상광과 이상광의 흡광 계수를 계산할 수 있다.In Equation (1), the extinction coefficient α e of the extraordinary ray and the extinction coefficient α 0 of the ordinary ray can be calculated by measuring the polarization transmittance of the film containing the birefringent modifier. For example, after attaching a polarizing plate to a light source of a transmittance measuring device (for example, U-3310 manufactured by Hitachi) to generate polarized light, and then transmitting the polarized light to a sample film to measure the transmittance T o of the normal light , Transmitting polarized light in a state where the sample film is rotated by 90 degrees to measure the transmittance T e of abnormal light. Then, by substituting the measured normal light transmittance and the abnormal light transmittance into the following equation, the absorption coefficients of the normal light and the abnormal light can be calculated.

-Log T = αbc-Log T = αbc

(T: 투과도, α: 흡광 계수, b: 시료 두께, c: 트리아진계 복굴절 조절제 농도)(T: transmittance, α: extinction coefficient, b: sample thickness, c: triazine-based birefringent regulator concentration)

상기 식 (3) 및 식 (4)에 있어서, Rin(λ)는 λnm 파장에서 면 방향 위상차를 측정한 것으로 측정은 Axometrics사의 Axoscan을 이용하여 측정한 값이다. 즉, 상기 식 (3) 및 식 (4)에 있어서, Rin(450), Rin(550) 및 Rin(650)은 각각 450nm, 550nm 및 650nm에서의 면 방향 위상차 값을 의미한다.In the above formulas (3) and (4), R in (λ) is a measurement of a plane direction retardation at a wavelength of λnm, and measurement is a value measured using Axoscan from Axometrics. That is, in the above formulas (3) and (4), R in (450), R in (550) and R in (650) mean the plane direction phase difference values at 450 nm, 550 nm and 650 nm, respectively.

각 파장에서의 면 방향 위상차는 상기 식 (3) 및 식 (4)의 설명에 나와있듯이 지상축(Slow Axis) 방향의 굴절률과 진상축(Fast Axis) 방향의 굴절율의 차이와 위상차 필름의 두께에 의해 결정되는 값이다. 지상축(Slow Axis)과 진상축(Fast Axis)은 위상차 필름의 고분자 체인의 배향 방향에 따라 결정되는 것으로, 고분자 체인이 배향이 크게 되는 방향을 지상축(Slow Axis)이라 하며, 이는 각 파장에서 빛이 통과하는데 시간이 오래 걸려 위상차 지연이 가장 큰 방향을 지상축(Slow Axis)이라고 한다. 진상축(Fast Axis)은 이와 반대 개념으로, 고분자 체인이 배향이 작게 되는 방향을 진상축(Fast Axis)이라 하며, 이는 각 파장에서 빛이 통과하는데 시간이 짧게 걸려 위상차 지연이 가장 작은 방향을 진상축(Fast Axis)이라고 한다. The retardation in the plane direction at each wavelength depends on the difference between the refractive index in the slow axis direction and the refractive index in the fast axis direction and the thickness of the retardation film, as described in equations (3) and (4) above. It is determined by. The slow axis and the fast axis are determined according to the orientation direction of the polymer chain of the retardation film. The direction in which the polymer chain is highly oriented is called the slow axis, which is at each wavelength. The direction in which the phase difference delay is long due to the long time for light to pass is called the slow axis. The fast axis is the opposite concept, and the direction in which the polymer chain has a small orientation is called a fast axis, and it takes a short time for light to pass at each wavelength so that the phase difference delay is the smallest. It is called the Fast Axis.

상기 식 (3)에 있어서, 550nm의 파장에서 면방향 위상차를 Rin(550)이라 하며 450nm의 파장에서 면방향 위상차를 Rin(450)이라고 할 수 있다. 두 파장에서의 위상차 비율인 Rin(450)/Rin(550)이 1 이하가 되면 역파장 분산이라 하며, 1 일 때 평파장 분산, 1 초과의 값을 갖는 경우, 정파장 분산을 나타낸다.In the formula (3), the plane direction retardation at a wavelength of 550 nm is called R in (550), and the plane retardation at a wavelength of 450 nm can be referred to as R in (450). When R in (450) / R in (550), the phase difference ratio at two wavelengths, becomes 1 or less, it is called reverse wavelength dispersion, and when it has a value of 1, flat wavelength dispersion, and a value greater than 1, it represents constant wavelength dispersion.

상기 식 (4)도 상기 식 (3)과 마찬가지로 Rin(650)/Rin(550)이 상기 식 4의 범위를 갖는 경우, 역파장 분산/ 평파장 분산을 나타냄을 알 수 있다.It can be seen that the above formula (4) also exhibits reverse wavelength dispersion / flat wavelength dispersion when R in (650) / R in (550) has the range of Equation 4 in the same manner as in equation (3).

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 (3)은 0.7 ≤ Rin(450)/Rin(550) ≤ 1.03을 만족할 수 있으며, 0.7 ≤ Rin(450)/Rin(550) ≤ 1.00을 만족할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation (3) may satisfy 0.7 ≤ Rin (450) / Rin (550) ≤ 1.03, and 0.7 ≤ Rin (450) / Rin (550) ≤ 1.00. .

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 (4)는 0.97 ≤ Rin(650)/Rin(550) ≤ 1.2를 만족할 수 있으며, 0.97 ≤ Rin(650)/Rin(550) ≤ 1.10을 만족할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation (4) may satisfy 0.97 ≤ Rin (650) / Rin (550) ≤ 1.2, and 0.97 ≤ Rin (650) / Rin (550) ≤ 1.10. .

본 출원의 일 실시상태에 따른 위상차 필름의 경우, 상기 식 (2)의 굴절률 범위를 만족함과 동시에 상기 식 (3) 및 식 (4)를 만족하는 파장 분산성을 나타내는 것으로, 추후 이를 포함하는 액정 표시 장치의 경우 종래에 비해 우수한 색상, 시감 및 광학 특성을 구현할 수 있는 특징을 갖게 된다.In the case of the retardation film according to an exemplary embodiment of the present application, it exhibits a wavelength dispersion property that satisfies Equations (3) and (4) while satisfying the refractive index range of Equation (2), and a liquid crystal containing it later In the case of a display device, it has characteristics that can realize superior color, visual, and optical characteristics compared to the prior art.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지는, 상기 위상차 필름 형성용 조성물 100 중량부 기준 20 중량부 이상 99 중량부 이하인 것인 위상차 필름을 제공한다.In one embodiment of the present application, the resin containing the styrene monomer provides a retardation film that is 20 parts by weight or more and 99 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the composition for forming the retardation film.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지는, 상기 위상차 필름 형성용 조성물 100 중량부 기준 20 중량부 이상 99 중량부 이하, 바람직하게는 40 중량부 이상 98 중량부 이하, 더욱 바람직하게는 50 중량부 이상 96 중량부 이하일 수 있다. In another embodiment, the resin containing the styrene monomer is 20 parts by weight or more and 99 parts by weight or less, preferably 40 parts by weight or more and 98 parts by weight or less, more preferably, based on 100 parts by weight of the composition for forming the retardation film. It may be 50 parts by weight or more and 96 parts by weight or less.

상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지가 상기 중량 범위를 갖게 됨으로써, 상기 위상차 형성용 조성물의 유리 전이 온도가 특정 범위 이상의 값을 만족하게 되어, 위상차 필름의 내열성이 크게 증가하는 효과를 갖게 된다.When the resin containing the styrene monomer has the above-mentioned weight range, the glass transition temperature of the composition for forming a phase difference satisfies a value over a specific range, and thus has an effect of greatly increasing the heat resistance of the phase difference film.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 복굴절 조절제는 상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지 100 중량부 기준 5 중량부 이상 15 중량부 이하일 수 있다.In one embodiment of the present application, the birefringent modifier may be 5 parts by weight or more and 15 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the resin containing the styrene monomer.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 복굴절 조절제는 상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지 100 중량부 기준 5 중량부 이상 14 중량부 이하, 바람직하게는 5.5 중량부 이상 13 중량부 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, the birefringent control agent may be 5 parts by weight or more and 14 parts by weight or less, preferably 5.5 parts by weight or more and 13 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the resin containing the styrene monomer.

상기 복굴절 조절제가 상기 함량 범위로 포함되는 경우, 위상차 필름의 파장 분산성을 1.0 이하로 떨어뜨려 일반적 정분산에서 평/역분산을 구현할 수 있으며, 광학 특성이 우수한 특징을 갖는다. 상기 복굴절 조절제의 중량부가 상기 범위보다 작아지는 경우, 파장 분산성이 평분산/역분산이 아닌 정분산을 가지게 되며, 상기 범위보다 많아지는 경우, 위상차 발현이 작아져 충분한 위상차 발현이 어려워지는 단점을 갖는다.When the birefringent control agent is included in the content range, the wavelength dispersion of the retardation film may be reduced to 1.0 or less to implement flat / reverse dispersion in normal static dispersion, and has excellent optical properties. When the weight part of the birefringent modifier is smaller than the above range, the wavelength dispersibility has a regular dispersion rather than a normal dispersion / reverse dispersion, and when it is larger than the above range, the phase difference expression is small and sufficient phase difference expression becomes difficult. Have

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 스티렌 모노머는 스티렌 아크릴로 니트릴(SAN, Styrene acrylonitrile) 또는 스티렌 말레익 무수물(SMA, Styrene maleicanhydride)인 것인 위상차 필름을 제공한다.In one embodiment of the present application, the styrene monomer provides a retardation film that is styrene acrylonitrile (SAN, Styrene acrylonitrile) or styrene maleic anhydride (SMA, Styrene maleicanhydride).

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지는 스티렌 말레익 무수물(SMA, Styrene maleicanhydride)이거나, 스티렌 아크릴로 니트릴(SAN, Styrene acrylonitrile); 또는 스티렌 말레익 무수물(SMA, Styrene maleicanhydride)과 (메트)아크릴레이트계 수지의 혼합물일 수 있다.In one embodiment of the present application, the resin containing the styrene monomer is styrene maleic anhydride (SMA, Styrene maleicanhydride), or styrene acrylonitrile (SAN, Styrene acrylonitrile); Or it may be a mixture of styrene maleic anhydride (SMA, Styrene maleicanhydride) and (meth) acrylate-based resin.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 (메트)아크릴레이트계 수지는 중량 평균 분자량이 10만 내지 500만인 (메트)아크릴레이트계 수지를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present application, the (meth) acrylate-based resin may include a (meth) acrylate-based resin having a weight average molecular weight of 100,000 to 5 million.

상기 중량 평균 분자량이란 분자량이 균일하지 않고 어떤 고분자 물질의 분자량이 기준으로 사용되는 평균 분자량 중의 하나로, 분자량 분포가 있는 고분자 화합물의 성분 분자종의 분자량을 중량 분율로 평균하여 얻어지는 값이다.The weight average molecular weight is a value obtained by averaging the molecular weights of the molecular weights of the component molecular species of the polymer compound having a molecular weight distribution as one of the average molecular weights in which the molecular weight is not uniform and the molecular weight of a certain polymer material is used as a standard.

상기 중량 평균 분자량은 Gel Permeation Chromatography (GPC) 분석을 통하여 측정될 수 있다.The weight average molecular weight can be measured through Gel Permeation Chromatography (GPC) analysis.

본 명세서에서, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 모두 포함하는 의미이다. 상기 (메트)아크릴레이트계 수지는 예를 들면, (메트)아크릴산 에스테르계 단량체 및 가교성 관능기 함유 단량체의 공중합체일 수 있다. In the present specification, (meth) acrylate is meant to include both acrylate and methacrylate. The (meth) acrylate-based resin may be, for example, a copolymer of a (meth) acrylic acid ester-based monomer and a crosslinkable functional group-containing monomer.

상기 (메트)아크릴산 에스테르계 단량체는 특별히 한정하지 않으나, 예를 들면 알킬 (메트)아크릴레이트를 들 수 있으며, 보다 구체적으로는 탄소수 1 내지 12의 알킬기를 가지는 단량체로서, 펜틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 메틸 (메트)아크릴레이트, 헥실 (메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸 (메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트, 도데실 (메트)아크릴레이트 및 데실 (메트)아크릴레이트 중 일종 또는 이종 이상을 포함할 수 있다.The (meth) acrylic acid ester-based monomer is not particularly limited, and examples thereof include alkyl (meth) acrylate, and more specifically, as a monomer having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, pentyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethyl Hexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate and decyl (meth) acrylate may include one or more kinds.

상기 가교성 관능기 함유 단량체는 특별히 한정하지 않으나, 예를 들면 히드록시기 함유 단량체, 카복실기 함유 단량체 및 질소 함유 단량체 중 일종 또는 이종 이상을 포함할 수 있다.The crosslinkable functional group-containing monomer is not particularly limited, but may include, for example, one or more of hydroxy group-containing monomer, carboxyl group-containing monomer, and nitrogen-containing monomer.

상기 히드록실기 함유 화합물의 예로는, 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메트)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 또는 2-히드록시프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Examples of the hydroxyl group-containing compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 6-hydroxyhexyl (meth) ) Acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethylene glycol (meth) acrylate, or 2-hydroxypropylene glycol (meth) acrylate.

상기 카르복실기 함유 화합물의 예로는, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시아세트산, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필산, 4-(메트)아크릴로일옥시부틸산, 아크릴산 이중체, 이타콘산, 말레산, 또는 말레산 무수물 등을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing compound include (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyacetic acid, 3- (meth) acryloyloxypropyl acid, 4- (meth) acryloyloxybutyl acid, acrylic acid double Sieve, itaconic acid, maleic acid, or maleic anhydride.

상기 질소 함유 단량체의 예로는 (메트)아크릴로니트릴, N-비닐 피롤리돈 또는 N-비닐 카프로락탐 등을 들 수 있다.Examples of the nitrogen-containing monomer include (meth) acrylonitrile, N-vinyl pyrrolidone or N-vinyl caprolactam.

상기 (메트)아크릴레이트계 수지에는 또한 상용성 등의 기타 기능성 향상의 관점에서, 초산비닐, 스틸렌 및 아크릴로니트릴 중 적어도 하나가 추가로 공중합될 수 있다.The (meth) acrylate-based resin may also be further copolymerized with at least one of vinyl acetate, styrene, and acrylonitrile from the viewpoint of improving other functions such as compatibility.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지는 스티렌 말레익 무수물(SMA, Styrene maleicanhydride)일 수 있다.In one embodiment of the present application, the resin containing the styrene monomer may be styrene maleic anhydride (SMA, Styrene maleicanhydride).

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지는 스티렌 아크릴로 니트릴(SAN, Styrene acrylonitrile)과 (메트)아크릴레이트계 수지의 혼합물 일 수 있다.In one embodiment of the present application, the resin containing the styrene monomer may be a mixture of styrene acrylonitrile (SAN, Styrene acrylonitrile) and (meth) acrylate-based resin.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지는 스티렌 말레익 무수물(SMA, Styrene maleicanhydride)과 (메트)아크릴레이트계 수지의 혼합물 일 수 있다.In one embodiment of the present application, the resin containing the styrene monomer may be a mixture of styrene maleic anhydride (SMA, Styrene maleicanhydride) and (meth) acrylate-based resin.

특히, 상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지가 스티렌 아크릴로 니트릴(SAN, Styrene acrylonitrile)과 (메트)아크릴레이트계 수지의 혼합물인 경우, 상기 (메트)아크릴레이트계 수지는 N-치환 말레이미드 구조, 락톤환 구조 및 글루타르이미드 구조로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 단량체를 아크릴레이트 분자쇄 중에 가질 수 있다.In particular, when the resin containing the styrene monomer is a mixture of styrene acrylonitrile (SAN, Styrene acrylonitrile) and (meth) acrylate-based resin, the (meth) acrylate-based resin is N-substituted maleimide structure, lac It may have one or more monomers selected from the group consisting of a ton ring structure and a glutarimide structure in an acrylate molecular chain.

상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지는 상기 위상차 형성용 조성물의 유리 전이 온도를 조절하는 인자로, 스티렌 아크릴로 니트릴을 단독으로 사용하는 경우, 유리 전이 온도가 낮아 내열성에 문제가 생기는 바, 상기와 같이 유리 전이 온도 값이 높은 (메트)아크릴레이트계 수지와 혼합하여, 상기 위상차 형성용 조성물의 유리 전이 온도를 특정 범위 이상으로 형성할 수 있는 특징을 갖게 된다. 또한 스티렌 아크릴로 니트릴을 사용함에 있어, 스티렌(styrene)을 단독으로 사용하는 경우, (메트)아크릴레이트계 수지와의 사용성이 나오지 않으나, 아크릴로니트릴(Acrylonitrile)과 함께 사용한 스티렌-아크릴로 니트릴(SAN)을 사용함으로써, 상기 (메트)아크릴레이트계 수지와의 사용성이 충분할 수 있다.The resin containing the styrene monomer is a factor for controlling the glass transition temperature of the composition for forming a phase difference, and when styrene acrylonitrile is used alone, the glass transition temperature is low, causing problems in heat resistance. By mixing with a (meth) acrylate-based resin having a high transition temperature value, the glass transition temperature of the composition for forming a phase difference has a characteristic capable of being formed in a specific range or more. In addition, when using styrene acrylonitrile, when styrene is used alone, the usability with (meth) acrylate resin does not appear, but styrene-acrylonitrile used with acrylonitrile ( By using SAN), the usability with the (meth) acrylate-based resin may be sufficient.

상기 (메트)아크릴레이트계 수지에 있어, N-치환 말레이미드 구조, 락톤환 구조 및 글루타르이미드 구조는 핵자기공명(NMR, Nuclear magnetic resonace) 측정을 통하여, 상기 구조를 확인할 수 있다.In the (meth) acrylate-based resin, the N-substituted maleimide structure, the lactone ring structure, and the glutarimide structure can be confirmed through nuclear magnetic resonance (NMR) measurement.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 N-치환 말레이미드 구조는 N-phenylmaleimide(PMI)일 수 있다.In one embodiment of the present application, the N-substituted maleimide structure may be N-phenylmaleimide (PMI).

본 출원에 있어서, 상기 단량체를 아크릴레이트 분자쇄 중에 가진다는 것은 상기 아크릴계 수지 100 중량부 기준 상기 단량체 1 내지 40 중량부, 바람직하게는 5 내지 30 중량부, 더욱 바람직하게는 5 내지 20 중량부를 포함하는 것을 의미하며, 상기 단량체를 아크릴레이트 분자쇄 중에 포함하는 경우 공중합체를 이룰 수 있다.In the present application, having the monomer in the acrylate molecular chain includes 1 to 40 parts by weight of the monomer based on 100 parts by weight of the acrylic resin, preferably 5 to 30 parts by weight, more preferably 5 to 20 parts by weight It means, and when the monomer is included in the acrylate molecular chain, a copolymer can be formed.

상기 공중합체는 2종 이상의 다른 단위체를 중합함으로써 얻어지는 물건을 공중합체라고 하며, 공중합체는, 2종 이상의 단위체가 불규칙 또는 규칙적으로 배열하고 있을 수 있다.The above-mentioned copolymer is an article obtained by polymerizing two or more different monomers, and the copolymer may have two or more monomers arranged irregularly or regularly.

상기 공중합체는 단량체들이 규칙없이 서로 섞인 형태를 갖는 불규칙 공중합체(Random Copolymer), 일정 구간별로 정렬된 블록이 반복되는 블록 공중합체(Block Copolymer) 또는 단량체가 교대로 반복되어 중합되는 형태를 갖는 교대 공중합체(Alternating Copolymer)가 있을 수 있으며, 본 출원의 일 실시상태에 따른 (메트)아크릴레이트계 수지는 불규칙 공중합체, 블록 공중합체 또는 교대 공중합체일 수 있다.The copolymer is a random copolymer (Random Copolymer) having a form in which monomers are mixed with each other without a rule, a block copolymer (Block Copolymer) in which blocks arranged in a certain section are repeated, or an alternating form in which monomers are alternately repeated and polymerized. There may be a copolymer (Alternating Copolymer), (meth) acrylate-based resin according to an exemplary embodiment of the present application may be an irregular copolymer, a block copolymer or an alternating copolymer.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 (메트)아크릴레이트계 수지는 락톤-메틸메타크릴레이트(Lactone-MMA), 말레이미드-메틸메타크릴레이트(Maleimide-MMA) 또는 글루타이미드-메틸메타크릴레이트(Glutaimide-MMA)일 수 있다.In one embodiment of the present application, the (meth) acrylate-based resin is lactone-methyl methacrylate (Lactone-MMA), maleimide-methyl methacrylate (Maleimide-MMA) or glutimide-methylmethacryl Rate (Glutaimide-MMA).

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 복굴절 조절제는 트리아진계 복굴절 조절제일 수 있으며, 구체적으로 2-하이드록시페닐-s-트리아진 유도체(2-hydroxyphenyl-s-triazine derivative)가 사용될 수 있으며, 구체적으로 BASF사의 Tinuvin 1600, Tinuvin 460, Tinuvin477, Tinuvin479, Tinuvin1577 및/또는 ADEKA사의 LA-F70, LA46 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present application, the birefringent modulator may be a triazine-based birefringent modulator, and specifically, 2-hydroxyphenyl-s-triazine derivative may be used. Examples include, but are not limited to, Tinuvin 1600, Tinuvin 460, Tinuvin477, Tinuvin479, Tinuvin1577 from BASF, and / or LA-F70, LA46 from ADEKA.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 복굴절 조절제는 하기 화학식 1로 나타낼 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the birefringent modulator may be represented by Formula 1 below.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에 있어서,In Chemical Formula 1,

L1 내지 L3는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이고,L 1 to L 3 are the same as or different from each other, and each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted arylene group; Or a substituted or unsubstituted heteroarylene group,

Z1 내지 Z3은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 히드록시기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며.Z 1 to Z 3 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen; Hydroxy group; A substituted or unsubstituted alkoxy group; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted heteroaryl group.

a, b, 및 c는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 1 내지 3의 정수이고,a, b, and c are the same as or different from each other, and each independently an integer of 1 to 3,

p, q 및 r은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수이며. a, b, c, p, q 및 r이 2 이상의 정수인 경우, 2 이상의 괄호 내 치환기는 서로 같거나 상이하다.p, q, and r are the same as or different from each other, and each independently an integer from 1 to 5. When a, b, c, p, q and r are integers of 2 or more, the substituents in parentheses of 2 or more are the same or different from each other.

상기 치환기들의 예시들은 아래에서 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.Examples of the substituents are described below, but are not limited thereto.

본 명세서에서 "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 알콕시기; 알킬기; 아릴기; 및 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되거나, 상기 예시된 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환 또는 비치환된 것을 의미한다. 예컨대, "2 이상의 치환기가 연결된 치환기"는 바이페닐기일 수 있다. 즉, 바이페닐기는 아릴기일 수도 있고, 2개의 페닐기가 연결된 치환기로 해석될 수 있다.The term "substituted or unsubstituted" as used herein refers to an alkoxy group; Alkyl groups; Aryl group; And substituted or unsubstituted with one or more substituents selected from the group consisting of heterocyclic groups, or substituted or unsubstituted with two or more substituents among the exemplified substituents. For example, "a substituent having two or more substituents" may be a biphenyl group. That is, the biphenyl group may be an aryl group or may be interpreted as a substituent to which two phenyl groups are connected.

본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 40인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 10이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 6이다. 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-프로필기, 이소프로필기, 부틸기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, 1-메틸-부틸기, 1-에틸-부틸기, 펜틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 헥실기, n-헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 3,3-디메틸부틸기, 2-에틸부틸기, 헵틸기, n-헵틸기, 1-메틸헥실기, 시클로펜틸메틸기, 시클로헥실메틸기, 옥틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, 1-메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, 2-프로필펜틸기, n-노닐기, 2,2-디메틸헵틸기, 1-에틸-프로필기, 1,1-디메틸-프로필기, 이소헥실기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.In the present specification, the alkyl group may be straight chain or branched chain, and carbon number is not particularly limited, but is preferably 1 to 40. According to an exemplary embodiment, the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms. According to another exemplary embodiment, the alkyl group has 1 to 10 carbon atoms. According to another exemplary embodiment, the alkyl group has 1 to 6 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group are methyl group, ethyl group, propyl group, n-propyl group, isopropyl group, butyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, sec-butyl group, 1-methyl-butyl group, 1-ethyl-butyl group, pentyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, hexyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 4- Methyl-2-pentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, heptyl group, n-heptyl group, 1-methylhexyl group, cyclopentylmethyl group, cyclohexylmethyl group, octyl group, n-octyl group , tert-octyl group, 1-methylheptyl group, 2-ethylhexyl group, 2-propylpentyl group, n-nonyl group, 2,2-dimethylheptyl group, 1-ethyl-propyl group, 1,1-dimethyl- Propyl group, isohexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, and the like, but are not limited to these.

본 명세서에 있어서, 상기 알콕시기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄일 수 있다. 알콕시기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 40인 것이 바람직하다. 구체적으로, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, i-프로필옥시, n-부톡시, 이소부톡시, tert-부톡시, sec-부톡시, n-펜틸옥시, 네오펜틸옥시, 이소펜틸옥시, n-헥실옥시, 3,3-디메틸부틸옥시, 2-에틸부틸옥시, n-옥틸옥시, n-노닐옥시, n-데실옥시, 벤질옥시, p-메틸벤질옥시 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the present specification, the alkoxy group may be a straight chain, branched chain or cyclic chain. The number of carbon atoms of the alkoxy group is not particularly limited, but is preferably 1 to 40 carbon atoms. Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, i-propyloxy, n-butoxy, isobutoxy, tert-butoxy, sec-butoxy, n-pentyloxy, neopentyloxy, Isopentyloxy, n-hexyloxy, 3,3-dimethylbutyloxy, 2-ethylbutyloxy, n-octyloxy, n-nonyloxy, n-decyloxy, benzyloxy, p-methylbenzyloxy, etc. It may be, but is not limited to this.

본 명세서에 기재된 알킬기, 알콕시기 및 그 외 알킬기 부분을 포함하는 치환체는 직쇄 또는 분쇄 형태를 모두 포함한다.Substituents comprising alkyl, alkoxy, and other alkyl group moieties described herein include both straight-chain or ground forms.

본 명세서에 있어서, 아릴기는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 6 내지 60인 것이 바람직하며, 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 30이다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 20이다. 상기 아릴기가 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 트리페닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the present specification, the aryl group is not particularly limited, but is preferably 6 to 60 carbon atoms, and may be a monocyclic aryl group or a polycyclic aryl group. According to one embodiment, the carbon number of the aryl group is 6 to 30. According to one embodiment, the carbon number of the aryl group is 6 to 20. The aryl group may be a phenyl group, a biphenyl group, a terphenyl group, etc., as a monocyclic aryl group, but is not limited thereto. The polycyclic aryl group may be a naphthyl group, anthracenyl group, phenanthryl group, pyrenyl group, perylenyl group, triphenyl group, chrysenyl group, fluorenyl group, and the like, but is not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 헤테로 고리기는 이종원자로 N, O, P, S, Si 및 Se 중 1개 이상을 포함하는 헤테로 고리기로서, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 1 내지 60인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 따르면, 상기 헤테로 고리기의 탄소수는 1 내지 30이다. 헤테로 고리기의 예로는 예로는 피리딜기, 피롤기, 피리미딜기, 피리다지닐기, 퓨라닐기, 티오페닐기, 이미다졸기, 피라졸기, 옥사졸기, 이소옥사졸기, 티아졸기, 이소티아졸기, 트리아졸기, 옥사디아졸기, 티아디아졸기, 디티아졸기, 테트라졸기, 피라닐기, 티오피라닐기, 피라지닐기, 옥사지닐기, 티아지닐기, 디옥시닐기, 트리아지닐기, 테트라지닐기, 퀴놀리닐기, 이소퀴놀리닐기, 퀴놀릴기, 퀴나졸리닐기, 퀴녹살리닐기, 나프티리디닐기, 아크리딜기, 크산테닐기, 페난트리디닐기, 디아자나프탈레닐기, 트리아자인데닐기, 인돌기, 인돌리닐기, 인돌리지닐기, 프탈라지닐기, 피리도 피리미디닐기, 피리도 피라지닐기, 피라지노 피라지닐기, 벤조티아졸기, 벤즈옥사졸기, 벤즈이미다졸기, 벤조티오펜기, 벤조퓨라닐기, 디벤조티오페닐기, 디벤조퓨라닐기, 카바졸기, 벤조카바졸기, 디벤조카바졸기, 인돌로카바졸기, 인데노카바졸기, 페나지닐기, 이미다조피리딘기, 페녹사지닐기, 페난트리딘기, 페난트롤린(phenanthroline)기, 페노티아진(phenothiazine)기, 이미다조피리딘기, 이미다조페난트리딘기. 벤조이미다조퀴나졸린기, 또는 벤조이미다조페난트리딘기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.In the present specification, the heterocyclic group is a heteroatom as a heterocyclic group containing one or more of N, O, P, S, Si, and Se, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 1 to 60 carbon atoms. According to one embodiment, the heterocyclic group has 1 to 30 carbon atoms. Examples of the heterocyclic group include, for example, pyridyl group, pyrrol group, pyrimidyl group, pyridazinyl group, furanyl group, thiophenyl group, imidazole group, pyrazole group, oxazole group, isoxazole group, thiazole group, isothiazole group, Triazole group, oxadiazole group, thiadiazole group, dithiazole group, tetrazole group, pyranyl group, thiopyranyl group, pyrazinyl group, oxazinyl group, thiazinyl group, dioxynyl group, triazinyl group, tetrazinyl group, quie Nolinyl group, isoquinolinyl group, quinolyl group, quinazolinyl group, quinoxalinyl group, naphthyridinyl group, acridil group, xanthenyl group, phenanthridinyl group, diazanaphthalenyl group, triazindenyl group, indole group , Indolinyl group, indolizinyl group, phthalazinyl group, pyrido pyrimidinyl group, pyrido pyrazinyl group, pyrazino pyrazinyl group, benzothiazole group, benzoxazole group, benzimidazole group, benzothiophene group , Benzofuranyl group, dibenzothiophenyl group, dibenzofuranyl group, carbazole group, benzocarbazole group, dibenzocarbazole group, indolocarbazole group, indenocarbazole group, phenazinyl group, imidazopyridine group, phenoxazinyl group , Phenanthridine group, phenanthroline group, phenothiazine group, imidazopyridine group, imidazophenanthridine group. Benzoimidazoquinazoline groups, or benzoimidazophenanthridine groups, and the like, but are not limited thereto.

본 명세서에 있어서, 헤테로아릴기는 방향족인 것을 제외하고는 전술한 헤테로 고리기에 관한 설명이 적용될 수 있다.In the present specification, the description of the aforementioned heterocyclic group may be applied, except that the heteroaryl group is aromatic.

본 명세서에 있어서, 아릴렌기은 2가기인 것을 제외하고는 전술한 아릴기에 관한 설명이 적용될 수 있다.In the present specification, the description of the aryl group described above may be applied, except that the arylene group is a divalent group.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 내지 L3은 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 아릴렌기일 수 있다.In one embodiment of the present application, L 1 to L 3 are a direct bond; Or it may be a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 60 carbon atoms.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 내지 L3은 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기일 수 있다.In another exemplary embodiment, L 1 to L 3 are a direct bond; Or it may be a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 40 carbon atoms.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 내지 L3은 직접결합; 또는 페닐렌기일 수 있다.In another exemplary embodiment, L 1 to L 3 are a direct bond; Or it may be a phenylene group.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 Z1 내지 Z3은 수소; 히드록시기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 알콕시기일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Z 1 to Z 3 are hydrogen; Hydroxy group; A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 60 carbon atoms; Or it may be a substituted or unsubstituted alkoxy group.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 Z1 내지 Z3은 수소; 히드록시기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 40의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 알콕시기일 수 있다.In another exemplary embodiment, Z 1 to Z 3 is hydrogen; Hydroxy group; A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 40 carbon atoms; Or it may be a substituted or unsubstituted alkoxy group.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 Z1 내지 Z3은 수소; 히드록시기; 탄소수 6 내지 40의 아릴기; 또는 탄소수 1 내지 40의 알킬기로 치환 또는 비치환된 알콕시기일 수 있다.In another exemplary embodiment, Z 1 to Z 3 is hydrogen; Hydroxy group; An aryl group having 6 to 40 carbon atoms; Or it may be an alkoxy group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 Z1 내지 Z3은 수소; 히드록시기; 페닐기; 또는 탄소수 1 내지 10의 분지쇄의 알킬기로 치환 또는 비치환된 알콕시기일 수 있다.In another exemplary embodiment, Z 1 to Z 3 is hydrogen; Hydroxy group; Phenyl group; Or it may be an alkoxy group unsubstituted or substituted with a branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 2로 나타낼 수 있다.In one embodiment of the present application, Formula 1 may be represented by Formula 2 below.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 2에 있어서, Z1 내지 Z3, p, q 및 r의 정의는 상기 화학식 1에서의 정의와 동일하다.In Chemical Formula 2, the definitions of Z 1 to Z 3 , p, q and r are the same as those in Chemical Formula 1.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 Z1 내지 Z3 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 아릴기일 수 있다.In one embodiment of the present application, at least one of Z 1 to Z 3 may be a substituted or unsubstituted aryl group.

특히, 상기 Z1 내지 Z3 중 적어도 하나가 페닐기를 가지는 경우, 그렇지 않은 경우보다 복굴절의 차이가 크게 나타나며, 복굴절 조절제의 구조적 차이로 인하여, 상기 Z1 내지 Z3이 페닐기를 갖지 않는 복굴절 조절제를 과랑 처방한 경우에도 그 효과가 작게 나타나게 되는 특성을 갖는다.In particular, when at least one of the Z 1 to Z 3 has a phenyl group, the difference in birefringence is greater than that in the case where it is not, and due to the structural difference in the birefringent modulator, the Z 1 to Z 3 do not have a birefringent modifier Even in the case of overdose, the effect is small.

특히 본 출원의 일 실시상태에 있어서, 복굴절 조절제로 BASF사의 Tinuvin 1600 (2-hydroxyphenyl-s-triazine derivative)을 사용한 경우, 유사 함량 대비, 파장 분산성 개선 효과가 가장 크게 나타났으며, 이는 구조 차이에 의한 복굴절 차이로 인한 것일 수 있다.In particular, in an exemplary embodiment of the present application, when using BASF's Tinuvin 1600 (2-hydroxyphenyl-s-triazine derivative) as a birefringent modulator, the effect of improving wavelength dispersibility compared to a similar content was most noticeable, which is a structural difference. It may be due to the difference in birefringence.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 위상차 필름의 두께는 10 ㎛ 이상 180 ㎛ 이하일 수 있다.In one embodiment of the present application, the thickness of the retardation film is 10 μm or more and 180 μm It may be:

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 위상차 필름의 두께는 10 ㎛ 이상 180 ㎛ 이하, 바람직하게는 30 ㎛ 이상 160 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 60 ㎛ 이상 140 ㎛ 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, the thickness of the retardation film is 10 μm or more and 180 μm. Hereinafter, preferably 30 μm or more and 160 μm Hereinafter, more preferably 60 μm or more and 140 μm It may be:

상기 식 (3) 및 식 (4)에서 알 수 있듯, 위상차 필름의 두께에 따라 위상차 값이 변하며, 본 출원에 있어서, 위상차 필름의 두께가 상기 범위를 갖는 경우 평분산/역분산을 갖게 된다.As can be seen from the above equations (3) and (4), the retardation value varies depending on the thickness of the retardation film, and in the present application, when the thickness of the retardation film has the above range, it has a flat dispersion / reverse dispersion.

본 출원의 실시상태에 있어서, 면상에서 제1 방향으로 최대 수축력을 갖는 열 수축성 기재를 준비하는 단계; 상기 열 수축성 기재 상에 청구항 1에 따른 위상차 필름을 라미네이션 하는 단계; 상기 열 수축성 기재에 열을 가하여 상기 제1 방향으로 수축 시키는 단계; 및 상기 열 수축성 기재를 제거하는 단계를 포함하는 위상차 필름의 제조 방법으로, 상기 열 수축성 기재는 150 ℃의 조건에서 수축율이 60 % 이하이고, 최대 수축력이 5 N/cm2 이상인 것인 위상차 필름의 제조 방법을 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, preparing a heat-shrinkable substrate having a maximum shrinking force in a first direction on a plane; Laminating the retardation film according to claim 1 on the heat-shrinkable substrate; Shrinking in the first direction by applying heat to the heat-shrinkable substrate; And removing the heat-shrinkable substrate, wherein the heat-shrinkable substrate has a shrinkage of 60% or less at a condition of 150 ° C., and a maximum shrinkage force of 5 N / cm 2 or more. Provides a manufacturing method.

본 발명에 있어서, 상기 위상차 필름은 용융/압출을 통하여 제작될 수 있다.In the present invention, the retardation film may be produced through melt / extrusion.

본 발명에 있어서, 상기 위상차 필름은 솔루션 캐스팅을 통하여 제작될 수 있다.In the present invention, the retardation film may be produced through solution casting.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재 상에 청구항 1에 따른 위상차 필름을 라미네이션 하는 단계는 본 출원에 따른 상기 위상차 필름의 원단을 감압 점착제(PSA, Pressure sensitive adhesive)를 통하여 상기 열 수축성 기재에 라미네이션(lamination)하는 단계일 수 있다.In one embodiment of the present application, the step of laminating the retardation film according to claim 1 on the heat-shrinkable substrate is heat-shrinkable through the pressure sensitive adhesive (PSA) of the fabric of the retardation film according to the present application. It may be a step of lamination to a substrate.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재 상에 상기 위상차 필름을 라미네이션 하는 단계 이전에 상기 위상차 필름을 연신하는 단계를 더 포함하는 것인 위상차 필름의 제조 방법을 제공한다.In one embodiment of the present application, there is provided a method of manufacturing a retardation film, further comprising stretching the retardation film before the step of laminating the retardation film on the heat-shrinkable substrate.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재에 열을 가하여 상기 제1 방향으로 수축 시키는 단계 이후, 상기 제1 방향과 면상에서 수직인 방향으로 연신하는 단계를 더 포함하는 것인 위상차 필름의 제조 방법을 제공한다.In one embodiment of the present application, after the step of shrinking in the first direction by applying heat to the heat-shrinkable substrate, further comprising stretching in a direction perpendicular to the first direction and the plane of the retardation film Provides a manufacturing method.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재 상에 상기 위상차 필름을 라미네이션 하는 단계 이전에 상기 위상차 필름을 연신하는 단계의 연신 배율은 1.02배 이상, 바람직하게는 1.1 배 이상일 수 있다.In one embodiment of the present application, the stretching ratio of the step of stretching the retardation film before the step of laminating the retardation film on the heat-shrinkable substrate may be 1.02 times or more, preferably 1.1 times or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재 상에 상기 위상차 필름을 라미네이션 하는 단계 이전에 상기 위상차 필름을 연신하는 단계의 연신 배율은 5배 이하, 바람직하게는 4배 이하일 수 있다.In another embodiment, the stretching ratio of the step of stretching the retardation film before the step of laminating the retardation film on the heat-shrinkable substrate may be 5 times or less, preferably 4 times or less.

상기 열 수축성 기재 상에 상기 위상차 필름을 라미네이션 하는 단계 이전에 상기 위상차 필름을 연신하는 단계의 연신 방향은 종방향(MD, Machine direction) 및 이에 수직인 횡방향(TD)을 모두 포함할 수 있다.Before the step of laminating the retardation film on the heat-shrinkable substrate, the stretching direction of the step of stretching the retardation film may include both a machine direction (MD) and a transverse direction (TD) perpendicular thereto.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 방향과 면상에서 수직인 방향으로 연신하는 단계의 연신 배율이 2배 이하인 것인 위상차 필름의 제조 방법을 제공한다.In one embodiment of the present application, there is provided a method of manufacturing a retardation film having a draw ratio of a step of stretching in a direction perpendicular to the first direction and the plane is 2 times or less.

상기 제1 방향과 면상에서 수직인 방향으로 연신하는 단계의 연신 배율은 연신 방향의 길이를 기준으로 측정한 것으로, 상기 연신 배율은 2배 이하, 바람직하게는 1.8배 이하, 더욱 바람직하게는 1.5배 이하의 값을 가질 수 있다.The stretching ratio in the step of stretching in a direction perpendicular to the first direction is measured based on the length of the stretching direction, and the stretching ratio is 2 times or less, preferably 1.8 times or less, more preferably 1.5 times It can have the following values.

또 다른 일 실시상태에 있어서 상기 제1 방향과 면상에서 수직인 방향으로 연신하는 단계의 연신 배율은 1.05배 이상, 바람직하게는 1.1배 이상의 값을 가질 수 있다.In another exemplary embodiment, the stretching ratio of the step of stretching in a direction perpendicular to the first direction and the plane may have a value of 1.05 times or more, preferably 1.1 times or more.

본 출원에 따른 위상차 필름의 제조 방법에 있어, 상기 제1 방향과 면상에서 수직인 방향으로 연신하는 단계의 연신 배율이 상기 범위를 만족하는 경우, 상기 연신 과정에서 위상차 필름의 손상이 발생하지 않아, 이에 따라 외관이 손상되지 않는 특성을 갖게 된다.In the method of manufacturing the retardation film according to the present application, when the stretching ratio of the step of stretching in the direction perpendicular to the first direction and the plane satisfies the above range, the retardation film is not damaged in the stretching process, Accordingly, it has a characteristic that the appearance is not damaged.

연신 공정은 종 방향(MD) 연신 또는 횡 방향(TD) 연신을 수행할 수 있다. 종 방향 연신의 경우, 롤 사이의 속도 차에 의한 연신을 수행할 수 있으며, 횡 방향 연신의 경우 텐타를 사용할 수 있다.The stretching process may perform longitudinal (MD) stretching or transverse (TD) stretching. In the case of longitudinal stretching, stretching can be performed by a difference in speed between rolls, and in the case of transverse stretching, tenta can be used.

연신 온도는, 상기 열 수축성 기재가 수축 거동을 할 수 있는 온도 이상의 조건에 대하여 위상차 필름의 유리전이온도 근처의 범위인 것이 바람직하고, 상기 위상차 필름 조성물의 유리전이온도를 Tg라 할 때, 바람직하게는 (Tg-30℃)~(Tg+100℃), 보다 바람직하게는 (Tg-20℃)~(Tg+50℃), 더욱 바람직하게는 (Tg-20℃)~(Tg+30℃)의 범위 내이다. 연신 온도가 (Tg-30℃) 미만이면 낮은 가공 온도로 연신이 원활하게 이루어 지지 않을 우려가 있다. 반대로, 연신 온도가 (Tg+100℃)를 초과하면, 너무 높은 가공 온도 조건으로 안정적인 연신을 실시하지 못할 우려가 있다.The stretching temperature is preferably in the range near the glass transition temperature of the retardation film for conditions above the temperature at which the heat-shrinkable substrate can shrink, and when the glass transition temperature of the retardation film composition is Tg, preferably (Tg-30 ° C) to (Tg + 100 ° C), more preferably (Tg-20 ° C) to (Tg + 50 ° C), more preferably (Tg-20 ° C) to (Tg + 30 ° C) Is within the scope of If the stretching temperature is less than (Tg-30 ° C), there is a fear that the stretching may not be smoothly performed at a low processing temperature. Conversely, if the stretching temperature exceeds (Tg + 100 ° C), there is a fear that stable stretching cannot be performed under too high a processing temperature condition.

상기 위상차 필름이 용융/압출 및 솔루션 캐스팅을 통하여 제작되는 경우, 상기 제1 방향과 면상에서 수직인 방향으로 연신하는 단계의 연신 전, 상기 위상차 필름면을 평탄화하고, 상기 위상차 필름에 잔존할 수 있는 포함된 용매를 휘발시키기 위해 건조하는 과정을 더 수행할 수 있다.When the retardation film is produced through melt / extrusion and solution casting, the retardation film surface may be flattened and remain in the retardation film before stretching in the direction perpendicular to the first direction. In order to volatilize the included solvent, a drying process may be further performed.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 연신하는 단계는 생략될 수 있다.In one embodiment of the present application, the step of stretching may be omitted.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재에 열을 가하여 상기 제1 방향으로 수축 시키는 단계 이후의 상기 위상차 필름의 굴절률 분포는 하기 식 (5)를 만족하는 것인 위상차 필름의 제조 방법을 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, a refractive index distribution of the retardation film after the step of shrinking in the first direction by applying heat to the heat-shrinkable substrate satisfies the following formula (5). to provide.

식 (5)Equation (5)

ny < nz < nxny <nz <nx

상기 식 (5)에 있어서,In the formula (5),

nx는 면 방향에 대하여 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고,nx is the refractive index in the direction in which the refractive index is maximum with respect to the plane direction,

ny는 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율을 의미하며,ny means the refractive index in the direction perpendicular to the nx direction,

nz는 두께 방향의 굴절율을 의미한다.nz means the refractive index in the thickness direction.

일반적인 연신 위상차 필름의 굴절율은 nz>nx>ny, nx> ny > nz, nz>nx=ny, nx=ny>nz 등의 복굴절을 가지며, nx>nz>ny의 굴절율 분포를 만족하는 위상차 필름은 일반적 연신 공정으로는 구현하기 힘드나, 상기 제조 방법을 통하여 본 출원에 따른 위상차 필름을 제조하는 경우, 상기 식 (5)의 굴절율 분포를 만족하는 위상차 필름을 형성할 수 있다.The refractive index of the general stretched retardation film has birefringence such as nz> nx> ny, nx> ny> nz, nz> nx = ny, nx = ny> nz, and a retardation film satisfying the refractive index distribution of nx> nz> ny Although it is difficult to implement as a general stretching process, when preparing the retardation film according to the present application through the above manufacturing method, a retardation film satisfying the refractive index distribution of the formula (5) can be formed.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재에 열을 가하여 상기 제1 방향으로 수축 시키는 단계 이후의 상기 위상차 필름의 굴절률 분포는 하기 식 (6) 내지 식 (8)을 만족하는 것인 위상차 필름의 제조 방법을 제공한다.In one embodiment of the present application, the refractive index distribution of the retardation film after the step of shrinking in the first direction by applying heat to the heat-shrinkable substrate satisfies the following equations (6) to (8) Provided is a method of manufacturing a film.

식 (6)Equation (6)

100nm < Rin< 500nm100nm <R in <500nm

식 (7)Equation (7)

50nm < Rth < 250nm50nm <R th <250nm

식 (8)Equation (8)

0 < Nz < 10 <Nz <1

상기 식 (6) 내지 식 (8)에 있어서,In the formulas (6) to (8),

Rin은 (nx-ny) x d로 나타낼 수 있고,R in can be represented by (nx-ny) xd,

Rth는 (nz-ny) x d로 나타낼 수 있으며,R th can be expressed as (nz-ny) xd,

Nz는 (nx-nz) / (nx-ny)의 값이고,Nz is the value of (nx-nz) / (nx-ny),

상기 d는 위상차 필름의 두께이고,D is the thickness of the retardation film,

상기 nx는 면 방향에 대하여 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고,The nx is a refractive index in a direction in which the refractive index is maximum with respect to the plane direction,

상기 ny는 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율을 의미하며,The ny means a refractive index in a direction perpendicular to the nx direction,

상기 nz는 두께 방향의 굴절율을 의미한다.The nz means a refractive index in the thickness direction.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재는 면상에서 제1 방향으로 최대 수축력을 갖는 것으로, 상기 제1 방향은 수축되는 정도가 가장 큰 방향을 의미하며, 본 출원에 있어 상기 제1 방향은 상기 열 수축성 기재의 수축 방향과 동일하다.In one embodiment of the present application, the heat-shrinkable substrate has a maximum shrinking force in a first direction on a plane, and the first direction means a direction in which the degree of contraction is greatest, and the first direction in the present application Is the same as the shrinking direction of the heat-shrinkable substrate.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재는 150 ℃의 조건에서 수축율이 60 % 이하일 수 있다.In one embodiment of the present application, the heat-shrinkable substrate may have a shrinkage of 60% or less under the conditions of 150 ° C.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재는 150 ℃의 조건에서 수축율이 60 % 이하, 바람직하게는 55 % 이하, 더욱 바람직하게는 50 % 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, the heat-shrinkable substrate may have a shrinkage of 60% or less, preferably 55% or less, and more preferably 50% or less under the conditions of 150 ° C.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재는 150 ℃의 조건에서 수축율이 10 % 이상, 바람직하게는 15 % 이상, 더욱 바람직하게는 25 % 이상일 수 있다.In another exemplary embodiment, the heat-shrinkable substrate may have a shrinkage of 10% or more, preferably 15% or more, and more preferably 25% or more under conditions of 150 ° C.

상기 열 수축성 기재의 수축율은 상기 열 수축성 기재의 초기 길이를 L1, 수축에 의하여 수축되는 길이를 L2라고 하는 경우 (L1-L2)/L1*100(%)의 값을 의미할 수 있다.The shrinkage rate of the heat-shrinkable substrate may mean a value of (L1-L2) / L1 * 100 (%) when the initial length of the heat-shrinkable substrate is L1 and the length contracted by shrinkage is L2.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재의 수축 시 발생하는 최대 수축력이 5 N/cm2 이상일 수 있다.In one embodiment of the present application, the maximum shrinkage force generated when the heat-shrinkable substrate is contracted may be 5 N / cm 2 or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재의 수축 시 발생하는 최대 수축력이 5 N/cm2 이상, 바람직하게는 7 N/cm2 이상, 더욱 바람직하게는 12 N/cm2 이상일 수 있다.In another exemplary embodiment, the maximum shrinkage force generated when the heat-shrinkable substrate is contracted may be 5 N / cm 2 or more, preferably 7 N / cm 2 or more, and more preferably 12 N / cm 2 or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재의 수축 시 발생하는 최대 수축력이 10,000 N/cm2 이하, 바람직하게는 8,000 N/cm2 이하, 더욱 바람직하게는 5,000 N/cm2 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, the maximum shrinkage force generated during shrinkage of the heat-shrinkable substrate may be 10,000 N / cm 2 or less, preferably 8,000 N / cm 2 or less, and more preferably 5,000 N / cm 2 or less.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 수축율은 수축성 기재를 가로 x 세로 각각 5cm의 정사각형 모양으로 제단하여 150℃ 온도에서 5분 동안 체류시킨 후 수축된 길이를 측정하여 수축율을 계산할 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the shrinkage may be calculated by cutting the shrinkable substrate in a square shape of 5 cm each in a horizontal x vertical direction and staying at a temperature of 150 ° C. for 5 minutes to measure the contracted length.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 수축력은 수축성 기재 필름을 폭 2cm, 길이 10cm로 제단하여 고온 Oven chamber가 장착된 UTM (Universal Tensile Machine) 장비에 샘플 길이(UTM zig 길이)가 5cm가 되도록 장착한 후, 수축성 기재 샘플이 장착된 zig 부위가 고온 150℃ 온도로 설정된 챔버(chamber)에 들어가도록 하여 150℃ 온도에서 수축되는 힘(Force, N)을 기록하여 측정할 수 있으며, 수축되는 힘(N)을 측정 필름의 폭(2cm)과 두께 값을 반영하여 cm2 당 수축력으로 표시한 값이다.In an exemplary embodiment of the present application, the shrinkage force is cut so that the shrinkable base film is 2 cm wide and 10 cm long, and is mounted so that the sample length (UTM zig length) is 5 cm on a UTM (Universal Tensile Machine) equipment equipped with a high temperature oven chamber After that, it is possible to measure the force contracted at 150 ° C by recording the force contracted at 150 ° C by allowing the zig site equipped with the shrinkable substrate sample to enter a chamber set at a high temperature of 150 ° C. N) is measured by reflecting the width (2 cm) and thickness values of the film, cm 2 It is the value expressed by the sugar contracting force.

상기 열 수축성 기재의 최대 수축력은, 상기 열 수축성 기재를 수축함에 있어, 수축 후 원상태로 복원되려는 힘을 의미하며, 최대 수축력이란 상기 열 수축성 기재가 원복될 수 있는 최대의 수축율에서 원상태로 복원하려는 힘을 의미한다. The maximum contraction force of the heat-shrinkable substrate refers to a force in which the heat-shrinkable substrate is to be restored to its original state after contraction, and the maximum shrinkage force is a force to restore the original state at the maximum shrinkage rate at which the heat-shrinkable substrate can be restored. Means

상기 열 수축성 기재가 상기 수축율의 범위 및 최대 수축력 범위를 가지는 경우, 수축성 기재 위에 코팅된 위상차 필름 형성용 조성물의 수축 치수 변화율이 적합하여 수축 변화에 따라 손상되지 않고, 외관이 변형되지 않는 특징을 갖게 되며, 또한 특정 굴절율 범위 및 파장 분산성을 갖는 위상차 필름을 형성할 수 있는 특징을 갖게 된다.When the heat-shrinkable substrate has the range of the shrinkage rate and the maximum shrinkage force range, the rate of change in shrinkage dimension of the composition for forming a retardation film coated on the shrinkable substrate is suitable, so as not to be damaged according to the shrinkage change, and to have an appearance that is not deformed. In addition, it also has a characteristic that can form a retardation film having a specific refractive index range and wavelength dispersion.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재는 PET(polyethylene terephthalate), 폴리에스테르(polyester), PC(Polycarbonate), 폴리올레핀(Polyolefin), PCO(polycylicolefin), 폴리스티렌(Polystyrene), COP(cycloolefin polymer), 아크릴폴리머(Acrylic polymer), PI(polyimide), PEN(polyethylene naphthalate), PEEK(polyether ether ketone), PAR(polyarylate), 폴리노보넨(polynorbornene), 및 PES(polyethersulphone)로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.In one embodiment of the present application, the heat shrinkable substrate is PET (polyethylene terephthalate), polyester (polyester), PC (Polycarbonate), polyolefin (Polyolefin), PCO (polycylicolefin), polystyrene (Polystyrene), COP (cycloolefin polymer) ), Acrylic polymer, polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polyether ether ketone (PEK), polyarylate (PAR), polynorbornene, and polyethersulphone (PES). Can be.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 열 수축성 기재는 PET(polyethylene terephthalate)일 수 있다.In another exemplary embodiment, the heat-shrinkable substrate may be PET (polyethylene terephthalate).

상기 위상차 필름은 이의 광학적 등방성이나 기계적 특성을 안정화시키기 위하여, 연신 처리 후에 열처리(어닐링) 등을 실시할 수 있다. 열처리 조건은 특히 제한되지 않으며 본 발명의 기술분야에서 통상의 기술자에게 알려진 임의의 적절한 조건을 채용할 수 있다.The retardation film may be subjected to heat treatment (annealing) or the like after stretching treatment in order to stabilize its optical isotropy or mechanical properties. The conditions for heat treatment are not particularly limited and any suitable conditions known to those skilled in the art of the present invention can be employed.

상기와 같은 본 발명의 위상차 필름은 편광판 및/또는 액정표시장치에 적용되어 유용하게 사용될 수 있다. 본 발명의 일 실시상태에 있어서, 본 발명은 편광자; 및 본 출원의 위상차 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 편광판을 제공한다.The retardation film of the present invention as described above may be usefully applied to a polarizing plate and / or a liquid crystal display device. In one embodiment of the present invention, the present invention is a polarizer; And it provides a polarizing plate comprising at least one phase difference film of the present application.

도 1은 본 출원의 일 실시상태에 따른 편광판(103)의 적층 구조를 나타낸 도이다. 구체적으로, 편광판(103)은 편광자(102) 및 편광자의 일면에 위상차 필름(101)이 적층된 구조를 갖는다.1 is a view showing a laminated structure of the polarizing plate 103 according to an exemplary embodiment of the present application. Specifically, the polarizing plate 103 has a structure in which a polarizer 102 and a phase difference film 101 are stacked on one surface of the polarizer.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광자는 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술분야에 잘 알려진 편광자, 예를 들면, 요오드 또는 이색성 염료를 포함하는 폴리비닐알코올(PVA)로 이루어진 필름이 사용된다.In one embodiment of the present application, the polarizer is not particularly limited, and a polarizer well known in the art, for example, a film made of polyvinyl alcohol (PVA) containing iodine or dichroic dye is used.

편광자는 여러 방향으로 진동하면서 입사되는 빛으로부터 한쪽 방향으로 진동하는 빛만을 추출할 수 있는 특성을 나타낸다. 이러한 특성은 요오드를 흡수한 PVA(poly vinyl alcohol)를 강한 장력으로 연신하여 달성할 수 있다. 예를 들어 보다 구체적으로, PVA 필름을 수용액에 담가 팽윤(swelling)시키는 팽윤하는 단계, 상기 팽윤된 PVA 필름에 편광성을 부여하는 이색성 물질로 염색하는 단계, 상기 염색된 PVA 필름을 연신(stretch)하여 상기 이색성 염료 물질을 연신 방향으로 나란하게 배열시키는 연신 단계, 및 상기 연신 단계를 거친 PVA 필름의 색을 보정하는 보색 단계를 거쳐 편광자를 형성할 수 있다. 그러나, 본 발명의 편광판이 이에 제한되는 것은 아니다.The polarizer exhibits a characteristic that only light that vibrates in one direction can be extracted from light that is incident while vibrating in various directions. This property can be achieved by stretching polyvinyl alcohol (PVA) absorbing iodine with strong tension. For example, more specifically, swelling by swelling a PVA film in an aqueous solution, swelling with a dichroic material that imparts polarization to the swollen PVA film, and stretching the dyed PVA film ) To form a polarizer through a stretching step of arranging the dichroic dye material side by side in a stretching direction, and a complementary color step of correcting the color of the PVA film that has undergone the stretching step. However, the polarizing plate of the present invention is not limited thereto.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광자 및 위상차 필름은 접착제로 접착될 수 있으며, 사용 가능한 접착제로는 당 기술분야에 알려져 있는 것이면 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 수계 접착제, 일액형 또는 이액형의 폴리비닐알콜(PVA)계 접착제, 폴리우레탄계 접착제, 에폭시계 접착제, 스티렌 부타디엔 고무계(SBR계) 접착제, 또는 핫멜트형 접착제 등이 있으나, 본 발명이 이들 예에만 한정되는 것은 아니다.In an exemplary embodiment of the present application, the polarizer and the retardation film may be adhered with an adhesive, and the usable adhesive is not particularly limited as long as it is known in the art. For example, there are water-based adhesives, one-component or two-component polyvinyl alcohol (PVA) -based adhesives, polyurethane-based adhesives, epoxy-based adhesives, styrene-butadiene rubber-based (SBR-based) adhesives, or hot melt adhesives, but the present invention It is not limited to these examples.

상기 위상차 필름은 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착될 수 있다. 또한, 편광자의 양면에 보호 필름이 부착된 종래의 편광판의 보호필름 상에 부착되어, 위상차 필름으로 유용하게 사용될 수 있다.The retardation film may be directly attached to one or both sides of the polarizer. In addition, it is attached to the protective film of the conventional polarizing plate with a protective film on both sides of the polarizer, it can be usefully used as a retardation film.

상기 위상차 필름을 편광자의 일면 또는 양면에 직접 부착시키는 경우, 예를 들어, 그 구조는 상 보호필름/편광자/위상차 필름 또는 위상차 필름/편광자/하 보호필름일 수 있다. 그 부착 방법은, 롤 코터, 그라비어 코터, 바코터, 나이프 코터, 캐필러리 코터, 또는 마이크로 챔버 닥터 블레이드(Micro Chamber Doctor blade) 코터 등을 사용하여 위상차 필름 또는 편광자의 표면에 프라이머를 코팅한 후, 점적방식으로 접착제를 뿌리고, 위상차 필름과 편광자를 포함하는 적층체를 합지 롤로 가열 합지하는 방법, 상온 압착하여 합지하는 방법, 또는 UV 경화하는 방법에 의해 수행될 수 있다.When the retardation film is directly attached to one side or both sides of the polarizer, for example, the structure may be a phase protection film / polarizer / phase difference film or a phase difference film / polarizer / bottom protection film. The attachment method is to apply a primer to the surface of the retardation film or polarizer using a roll coater, gravure coater, bar coater, knife coater, capillary coater, or micro chamber doctor blade coater, etc. , Sprinkling the adhesive in a droplet manner, may be performed by a method of heating and laminating a laminate comprising a retardation film and a polarizer with a lamination roll, a method of laminating by pressing at normal temperature, or a method of UV curing.

도 2는 본 출원의 일 실시상태에 따른 편광판의 적층구조를 나타낸 도이다. 구체적으로 편광판(103)은 편광자 보호필름(104)/접착제층(105)/위상차 필름(101)/편광자(102)/편광자 보호필름(104)이 순서대로 적층된 구조를 가질 수 있다.2 is a view showing a laminated structure of a polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present application. Specifically, the polarizing plate 103 may have a structure in which the polarizer protective film 104 / adhesive layer 105 / phase difference film 101 / polarizer 102 / polarizer protective film 104 are sequentially stacked.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광자의 일면에 편광자 보호필름이 부착되고, 상기 편광자의 상기 편광자 보호필름이 부착된 면의 반대면에 본 출원에 따른 위상차 필름이 부착되는 것인 편광판을 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, a polarizer protective film is attached to one surface of the polarizer, and a retardation film according to the present application is attached to a surface opposite to the surface to which the polarizer protective film of the polarizer is attached. do.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광자 보호필름은 COP(cycloolefin polymer)계 필름, 아크릴계 필름, TAC(triacetylcellulose)계 필름, COC(cycloolefin copolymer)계 필름, PNB(polynorbornene)계 필름 및 PET(polyethylene terephtalate)계 필름 중 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있다.In one embodiment of the present application, the polarizer protective film is a COP (cycloolefin polymer) film, acrylic film, TAC (triacetylcellulose) film, COC (cycloolefin copolymer) film, PNB (polynorbornene) film and PET (polyethylene) terephtalate) -based film.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.In one embodiment of the present application, there is provided a liquid crystal display device including the polarizing plate.

또한, 본 출원의 일 실시상태는 액정 셀; 상기 액정 셀의 상층부에 구비되는 상부 편광판; 상기 액정 셀의 하층부에 구비되는 하부 편광판; 및 상기 하부 편광판의 하층부에 구비되는 백라이트 유닛을 포함하며, 상기 상부 편광판 및 상기 하부 편광판 중 적어도 하나는 편광자; 및 상기 편광자의 일면에 배치되는 본 출원의 일 실시상태에 따른 위상차 필름을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.In addition, an exemplary embodiment of the present application is a liquid crystal cell; An upper polarizing plate provided on an upper layer portion of the liquid crystal cell; A lower polarizing plate provided on the lower layer of the liquid crystal cell; And a backlight unit provided on a lower layer of the lower polarizer, wherein at least one of the upper polarizer and the lower polarizer is a polarizer; And a retardation film according to an exemplary embodiment of the present application disposed on one surface of the polarizer.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 상부 편광판은 상기 편광자; 및 상기 위상차 필름을 포함하고, 상기 위상차 필름은 상기 액정셀에 대면되도록 배치되는 것인 액정표시장치를 제공한다.In one embodiment of the present application, the upper polarizing plate is the polarizer; And the retardation film, wherein the retardation film is disposed to face the liquid crystal cell.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 하부 편광판은 상기 편광자; 및 상기 위상차 필름을 포함하고, 상기 위상차 필름은 상기 백라이트 유닛에 대면되도록 배치되는 것인 액정표시장치를 제공한다.In one embodiment of the present application, the lower polarizing plate is the polarizer; And the retardation film, wherein the retardation film is disposed to face the backlight unit.

상기 상부 편광판은 상기 편광자; 및 상기 위상차 필름을 포함하고, 상기 위상차 필름은 상기 액정셀에 대면되도록 배치되는 것은, 상기 상부 편광판이 상기 편광자; 및 상기 위상차 필름을 포함하고, 이 때의 위상차 필름이 상기 액정표시장치 내에서 액정셀 방향으로 배치되는 것을 의미하며, 구체적으로 백라이트 유닛/하부 편광판/액정셀/위상차 필름/편광자가 순서대로 적층된 구조를 갖는 것을 의미한다.The upper polarizing plate is the polarizer; And the retardation film, wherein the retardation film is disposed to face the liquid crystal cell, wherein the upper polarizer is the polarizer; And the retardation film, which means that the retardation film at this time is disposed in the liquid crystal cell direction in the liquid crystal display device, and specifically, the backlight unit / lower polarizer / liquid crystal cell / phase difference film / polarizer are sequentially stacked. It means having a structure.

상기 하부 편광판은 상기 편광자; 및 상기 위상차 필름을 포함하고, 상기 위상차 필름은 상기 백라이트 유닛에 대면되도록 배치되는 것은, 상기 하부 편광판이 상기 편광자; 및 상기 위상차 필름을 포함하고, 이 때의 위상차 필름이 상기 액정표시장치 내에서 백라이트 유닛 방향으로 배치되는 것을 의미하며, 구체적으로 백라이트 유닛/편광자/위상차 필름/액정셀/상부 편광판이 순서대로 적층된 구조를 갖는 것을 의미한다.The lower polarizing plate may include the polarizer; And the retardation film, wherein the retardation film is disposed to face the backlight unit, wherein the lower polarizing plate includes the polarizer; And the retardation film, which means that the retardation film at this time is disposed in the direction of the backlight unit in the liquid crystal display, and specifically, the backlight unit / polarizer / phase difference film / liquid crystal cell / top polarizing plate are sequentially stacked. It means having a structure.

본 출원에 따른 액정표시장치에 있어서, 상기 상부 편광판 중 상기 위상차 필름 상기 액정셀에 대면되도록 배치되거나, 또는 상기 하부 편광판 중 상기 위상차 필름이 상기 백라이트 유닛에 대면되도록 배치되는 경우, 상기 위상차 필름에 포함되는 상기 트리아진계 복굴절 조절제가 자외선 흡수가 주 기능이 아닌 위상차 발현 기능으로 패널의 기능을 개선하는데 주 목적을 가질 수 있다.In the liquid crystal display device according to the present application, when the phase difference film of the upper polarizing plate is disposed to face the liquid crystal cell, or when the phase difference film of the lower polarizing plate is disposed to face the backlight unit, included in the phase difference film The triazine-based birefringent modulator may have a main purpose of improving the function of the panel with the phase difference expression function, not the main function of ultraviolet absorption.

백라이트 유닛은 액정 패널의 배면으로부터 광을 조사하는 광원을 포함하며, 상기 광원의 종류는 특별히 제한되지 않고, CCFL, HCFL 또는 LED 등 일반적인 LCD용 광원을 사용할 수 있다.The backlight unit includes a light source that irradiates light from the rear surface of the liquid crystal panel, and the type of the light source is not particularly limited, and a general LCD light source such as CCFL, HCFL or LED can be used.

도 3은 본 출원의 일 실시상태에 따른 액정표시장치를 나타낸 도이다. 구체적으로, 액정셀(10)의 양면에 상부 편광판(11) 및 하부 편광판(12)이 적층될 수 있으며, 백라이트 유닛(14)과 근접한 하부 편광판(12)의 액정셀(10)과 접하는 면과 반대면에 보호필름(13)이 적층된 구조를 가질 수 있다. 상기 상부 편광판(11) 및 하부 편광판(12)으로 본 출원의 일 실시상태에 따른 편광판이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 하부 편광판(12)으로 본 출원의 일 실시상태에 따른 편광판이 사용될 수 있다.3 is a view showing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present application. Specifically, the upper polarizing plate 11 and the lower polarizing plate 12 may be stacked on both sides of the liquid crystal cell 10, and the surface contacting the liquid crystal cell 10 of the lower polarizing plate 12 close to the backlight unit 14 and The protective film 13 may be stacked on the opposite side. As the upper polarizing plate 11 and the lower polarizing plate 12, a polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present application may be used, and preferably, a polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present application may be used as the lower polarizing plate 12.

상기 보호필름은 전술한 편광자 보호필름의 내용과 동일하다.The protective film is the same as the contents of the polarizer protective film described above.

이하, 발명의 구체적인 실시예를 통해, 발명의 작용 및 효과를 보다 구체적으로 상술하기로 한다. 다만, 이러한 실시예는 발명의 예시로 제시된 것에 불과하며, 이에 의해 발명의 권리범위가 정해지는 것은 아니다.Hereinafter, the operation and effects of the invention will be described in more detail through specific examples of the invention. However, these examples are only presented as examples of the invention, and the scope of the invention is not thereby determined.

<< 제조예Manufacturing example >>

<< 위상차Phase difference 필름의 제조> Film production>

열 수축성 기재 위에 위상차 필름을 감압 점착제를 통하여 라미네이션하여 적층체를 형성하였다. 이렇게 적층된 적층체를 하기 표 1에 기재된 온도에 따라 오븐에서 열 수축성 기재를 수축 시켰으며, 필요에 따라 위상차 필름을 적층하기 전 위상차 필름을 하기 표 1에 기재된 방향 및 배율로 연신을 실시하거나, 필요에 따라 열 수축성 기재를 수축시킴과 동시에 수축 방향에 대하여 수직인 방향으로 1축 연신을 실시하였다.The retardation film was laminated on a heat shrinkable substrate through a pressure-sensitive adhesive to form a laminate. The heat-shrinkable substrate was shrunk in an oven according to the temperature shown in Table 1 below, and the laminated film thus laminated was stretched in the direction and magnification shown in Table 1 below before laminating the retardation film, if necessary. When necessary, the heat-shrinkable substrate was shrunk and uniaxially stretched in a direction perpendicular to the shrinking direction.

이후 상기 열 수축성 기재를 박리하여 하기 표 1의 조건 및 물성을 만족하는 위상차 필름을 형성하였다.Then, the heat shrinkable substrate was peeled to form a retardation film satisfying the conditions and physical properties of Table 1 below.

Figure pat00003
Figure pat00003

Figure pat00004
Figure pat00004

1. 수축율 (%): 열 수축성 기재를 가로 x 세로 각각 5cm의 정사각형 모양으로 제단하여 150℃ 온도에서 5분 동안 체류시킨 후 수축된 길이를 측정하여 수축율을 계산.1. Shrinkage (%): The heat shrinkable substrate was cut into square shapes of 5 cm each in width x length to stay at 150 ° C. for 5 minutes, and then the shrinked length was measured to calculate the shrinkage.

2. 수축력 (N/cm2): 열 수축성 기재 필름을 폭 2cm, 길이 10cm로 제단하여 고온 Oven chamber가 장착된 UTM (Universal Tensile Machine) 장비에 샘플 길이(UTM zig 길이)가 5cm가 되도록 장착한 후, 수축성 기재 샘플이 장착된 zig 부위가 고온 150℃ 온도로 설정된 챔버(chamber)에 들어가도록 하여 150℃ 온도에서 수축되는 힘(Force, N)을 기록하여 측정하며, 수축되는 힘(N)을 측정 필름의 폭(2cm)과 두께 값을 반영하여 cm2 당 수축력으로 표시한 값이다.2. Shrinkage (N / cm 2 ): The heat shrinkable base film is cut into 2 cm wide and 10 cm long, and attached to a UTM (Universal Tensile Machine) equipped with a high temperature oven chamber so that the sample length (UTM zig length) is 5 cm. Then, by recording the force (N) that contracts at 150 ° C. by recording the zig site with the sample of shrinkable substrate entering the chamber set at a high temperature of 150 ° C., the force N contracted Measuring film width (2cm) and thickness values reflecting cm 2 It is the value expressed by the sugar contracting force.

상기 표 1에서 실시예 1 내지 3은 SMA 단독의 복굴절 조절제를 이용하여 제작한 것으로 실시예 1의 경우 위상차 필름 층을 열 수축성 기재와 적층하기 전에 수축을 시킬 방향의 수직방향으로 소폭 연신을 한 후 열 수축성 기재와 적층하여 수축 및 추가 연신을 하여 제작한 것이고, 상기 실시예 2 및 3은 열 수축성 기재와 적층 전, 위상차 필름을 연신 없이 적층 후, 열 수축성 기재를 수축 및 연신하여 제작한 것이다.In Table 1, Examples 1 to 3 were produced by using a birefringent modifier of SMA alone, and in Example 1, after the retardation film layer was slightly stretched in the vertical direction in the direction to shrink before laminating with the heat shrinkable substrate. It is produced by laminating with a heat-shrinkable substrate and shrinking and further stretching, and Examples 2 and 3 are produced by laminating a heat-shrinkable substrate before lamination, before and after laminating a retardation film without stretching, and then shrinking and stretching the heat-shrinkable substrate.

상기 실시예 4의 경우 내열성 PMMA와 SAN를 포함하는 복굴절 조절제를 이용하여 제작하고 열 수축성 기재에 적층 전, 수축을 시킬 방향의 수직방향으로 연신을 크게 하고(3.0배) 수축을 시킬 방향으로 연신을 작게 한(1.3배) 후 열 수축성 기재와 적층하여 수축 및 연신하여 제작하였다.In the case of Example 4, it was prepared using a birefringent modifier comprising heat-resistant PMMA and SAN, and before being laminated to a heat-shrinkable substrate, stretching was increased vertically in the direction to shrink (3.0 times) and stretched in the direction to shrink. After making it small (1.3 times), it was laminated with a heat-shrinkable substrate to produce shrinkage and stretching.

상기 비교예 1 내지 3은 상기 실시예 1 내지 3에 대응한 것으로, 위상차 필름 형성용 조성물에 복굴절 조절제의 함량을 적게 넣어 파장 분산을 정파장으로 한 것이며, 상기 비교예 4의 경우 상기 표 1에서 확인할 수 있듯, 열 수축성 기재의 수축 전, 수축시킬 방향의 수직방향으로 위상차 필름이 상대적으로 더 크게 연신 공정이 진행되어 있음을 확인할 수 있으며, 또한 열 수축성 기재의 수축이 낮아 본 출원의 위상차 필름의 식(2)를 만족하지 않으며, Nz 값 또한 0 내지 1 사이의 값을 나타내지 않음을 확인할 수 있었다.The Comparative Examples 1 to 3 correspond to the Examples 1 to 3, and the wavelength dispersion is set as a constant wavelength by putting the content of the birefringent modifier in a composition for forming a retardation film less, and in the case of Comparative Example 4, in Table 1, As can be seen, before the shrinkage of the heat-shrinkable substrate, it can be seen that the retardation film is relatively larger in the vertical direction in the direction to be shrunk, and also, the shrinkage of the heat-shrinkable substrate is low, so that the retardation film of the present application is low. It was confirmed that the expression (2) was not satisfied, and the Nz value also did not represent a value between 0 and 1.

101: 위상차 필름
102: 편광자
103: 편광판
104: 편광자 보호필름
105: 접착제층
10: 액정 셀
11: 상부 편광판
12: 하부 편광판
13: 보호 필름
14: 백라이트 유닛
101: retardation film
102: polarizer
103: polarizer
104: polarizer protective film
105: adhesive layer
10: liquid crystal cell
11: upper polarizer
12: lower polarizer
13: Protective film
14: backlight unit

Claims (18)

스티렌 모노머를 포함하는 수지; 및
이색성 값이 하기 식 (1)을 만족하는 복굴절 조절제;
를 포함하는 위상차 필름 형성용 조성물 또는 이의 경화물을 포함하는 위상차 필름으로,
상기 위상차 필름 형성용 조성물의 유리 전이 온도(Tg, glass transition temperature)는 115℃ 이상이고,
상기 복굴절 조절제는 상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지 100 중량부 기준 5 중량부 이상 15 중량부 이하이며,
상기 위상차 필름은 하기 식 (2) 내지 (4)를 만족하는 것인 위상차 필름:
식 (1): 0.01 ≤ |αe0| ≤ 0.07
식 (2): nx > nz > ny
식 (3): 0.7 ≤ Rin(450)/Rin(550) ≤ 1.03
식 (4): 0.97 ≤ Rin(650)/Rin(550) ≤ 1.2
상기 식 (1) 내지 (4)에 있어서
αe는 이상광 (extraordinary ray)의 흡광 계수이며, α0는 상광 (ordinary ray)의 흡광 계수이고,
nx는 위상차 필름 면의 Slow Axis 방향의 굴절율이며, ny는 위상차 필름 면의 Fast Axis 방향의 굴절율이며, nz는 위상차 필름 두께 방향의 굴절율이며,
Rin(λ)는 파장 λ nm에서의 면방향 위상차이고, (nx-ny) x d이며,
상기 d는 위상차 필름 두께이다.
Resins containing styrene monomers; And
A birefringent modulator having a dichroic value satisfying the following formula (1);
A composition for forming a retardation film comprising or a retardation film comprising a cured product thereof,
The retardation film forming composition has a glass transition temperature (Tg, glass transition temperature) of 115 ° C or higher,
The birefringent modifier is 5 parts by weight or more and 15 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the resin containing the styrene monomer,
The retardation film is a retardation film that satisfies the following formulas (2) to (4):
Equation (1): 0.01 ≤ | α e0 | ≤ 0.07
Equation (2): nx>nz> ny
Equation (3): 0.7 ≤ Rin (450) / Rin (550) ≤ 1.03
Equation (4): 0.97 ≤ Rin (650) / Rin (550) ≤ 1.2
In the formulas (1) to (4)
α e is the extinction coefficient of the extraordinary ray, α 0 is the extinction coefficient of the ordinary ray,
nx is the refractive index in the slow axis direction of the retardation film surface, ny is the refractive index in the fast axis direction of the retardation film surface, nz is the refractive index in the retardation film thickness direction,
Rin (λ) is the planar phase difference at wavelength λ nm, (nx-ny) xd,
D is the retardation film thickness.
청구항 1에 있어서,
상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지는, 상기 위상차 필름 형성용 조성물 100 중량부 기준 20 중량부 이상 99 중량부 이하인 것인 위상차 필름.
The method according to claim 1,
The resin containing the styrene monomer, the phase difference film that is 20 parts by weight or more and 99 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the composition for forming the retardation film.
청구항 1에 있어서,
상기 스티렌 모노머는 스티렌 아크릴로 니트릴(SAN, Styrene acrylonitrile) 또는 스티렌 말레익 무수물(SMA, Styrene maleicanhydride)인 것인 위상차 필름.
The method according to claim 1,
The styrene monomer is a styrene acrylonitrile (SAN, Styrene acrylonitrile) or styrene maleic anhydride (SMA, Styrene maleicanhydride) is a retardation film.
청구항 1에 있어서,
상기 스티렌 모노머를 포함하는 수지는 스티렌 말레익 무수물(SMA, Styrene maleicanhydride)이거나, 스티렌 아크릴로 니트릴(SAN, Styrene acrylonitrile); 또는 스티렌 말레익 무수물(SMA, Styrene maleicanhydride)과 (메트)아크릴레이트계 수지의 혼합물인 것인 위상차 필름.
The method according to claim 1,
The resin containing the styrene monomer is styrene maleic anhydride (SMA, Styrene maleicanhydride), or styrene acrylonitrile (SAN, Styrene acrylonitrile); Or a retardation film that is a mixture of styrene maleic anhydride (SMA, Styrene maleicanhydride) and a (meth) acrylate-based resin.
청구항 4에 있어서, 상기 (메트)아크릴레이트계 수지는 N-치환 말레이미드 구조, 락톤환 구조 및 글루타르이미드 구조로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 단량체를 아크릴레이트 분자쇄 중에 가지는 것인 위상차 필름.The retardation film according to claim 4, wherein the (meth) acrylate-based resin has at least one monomer selected from the group consisting of an N-substituted maleimide structure, a lactone ring structure, and a glutarimide structure in an acrylate molecular chain. 청구항 1에 있어서,
상기 위상차 필름의 두께는 10 ㎛ 이상 180 ㎛ 이하인 것인 위상차 필름.
The method according to claim 1,
The retardation film has a thickness of 10 μm or more and 180 μm. The retardation film which is the following.
면상에서 제1 방향으로 최대 수축력을 갖는 열 수축성 기재를 준비하는 단계;
상기 열 수축성 기재 상에 청구항 1에 따른 위상차 필름을 라미네이션 하는 단계;
상기 열 수축성 기재에 열을 가하여 상기 제1 방향으로 수축 시키는 단계; 및
상기 열 수축성 기재를 제거하는 단계;
를 포함하는 위상차 필름의 제조 방법으로,
상기 열 수축성 기재는 150 ℃의 조건에서 수축율이 60 % 이하이고, 최대 수축력이 5 N/cm2 이상인 것인 위상차 필름의 제조 방법.
Preparing a heat-shrinkable substrate having a maximum shrinking force in a first direction on a plane;
Laminating the retardation film according to claim 1 on the heat-shrinkable substrate;
Shrinking in the first direction by applying heat to the heat-shrinkable substrate; And
Removing the heat-shrinkable substrate;
As a method of manufacturing a retardation film comprising a,
The heat-shrinkable substrate is a method of manufacturing a retardation film having a shrinkage of 60% or less and a maximum shrinkage of 5 N / cm 2 or more under conditions of 150 ° C.
청구항 7에 있어서,
상기 열 수축성 기재 상에 상기 위상차 필름을 라미네이션 하는 단계 이전에
상기 위상차 필름을 연신하는 단계를 더 포함하는 것인 위상차 필름의 제조 방법.
The method according to claim 7,
Before laminating the retardation film on the heat-shrinkable substrate
The method of manufacturing a retardation film further comprising the step of stretching the retardation film.
청구항 7에 있어서,
상기 열 수축성 기재에 열을 가하여 상기 제1 방향으로 수축 시키는 단계 이후, 상기 제1 방향과 면상에서 수직인 방향으로 연신하는 단계를 더 포함하는 것인 위상차 필름의 제조 방법.
The method according to claim 7,
After the step of shrinking in the first direction by applying heat to the heat-shrinkable substrate, further comprising the step of stretching in a direction perpendicular to the first direction and the plane.
청구항 7에 있어서,
상기 열 수축성 기재에 열을 가하여 상기 제1 방향으로 수축 시키는 단계 이후의 상기 위상차 필름의 굴절률 분포는 하기 식 (5)를 만족하는 것인 위상차 필름의 제조 방법:
식 (5)
ny < nz < nx
상기 식 (5)에 있어서,
nx는 면 방향에 대하여 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고,
ny는 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율을 의미하며,
nz는 두께 방향의 굴절율을 의미한다.
The method according to claim 7,
A method of manufacturing a retardation film, wherein the refractive index distribution of the retardation film after the step of shrinking in the first direction by applying heat to the heat-shrinkable substrate satisfies Equation (5) below:
Equation (5)
ny <nz <nx
In the formula (5),
nx is the refractive index in the direction in which the refractive index is maximum with respect to the plane direction,
ny means the refractive index in the direction perpendicular to the nx direction,
nz means the refractive index in the thickness direction.
청구항 7에 있어서,
상기 열 수축성 기재에 열을 가하여 상기 제1 방향으로 수축 시키는 단계 이후의 상기 위상차 필름의 굴절률 분포는 하기 식 (6) 내지 식 (8)을 만족하는 것인 위상차 필름의 제조 방법:
식 (6)
100nm < Rin< 500nm
식 (7)
50nm < Rth < 250nm
식 (8)
0 < Nz < 1
상기 식 (6) 내지 식 (8)에 있어서,
Rin은 (nx-ny) x d로 나타낼 수 있고,
Rth는 (nz-ny) x d로 나타낼 수 있으며,
Nz는 (nx-nz) / (nx-ny)의 값이고,
상기 d는 위상차 필름의 두께이고,
상기 nx는 면 방향에 대하여 굴절율이 최대가 되는 방향의 굴절율이고,
상기 ny는 상기 nx 방향에 수직인 방향의 굴절율을 의미하며,
상기 nz는 두께 방향의 굴절율을 의미한다.
The method according to claim 7,
A method of manufacturing a retardation film in which the refractive index distribution of the retardation film after the step of shrinking in the first direction by applying heat to the heat-shrinkable substrate satisfies the following formulas (6) to (8):
Equation (6)
100nm <R in <500nm
Equation (7)
50nm <R th <250nm
Equation (8)
0 <Nz <1
In the formulas (6) to (8),
R in can be represented by (nx-ny) xd,
R th can be expressed as (nz-ny) xd,
Nz is the value of (nx-nz) / (nx-ny),
D is the thickness of the retardation film,
The nx is a refractive index in a direction in which the refractive index is maximum with respect to the plane direction,
The ny means a refractive index in a direction perpendicular to the nx direction,
The nz means a refractive index in the thickness direction.
청구항 9에 있어서,
상기 제1 방향과 면상에서 수직인 방향으로 연신하는 단계의 연신 배율은 2배 이하인 것인 위상차 필름의 제조 방법.
The method according to claim 9,
The method of manufacturing a retardation film having a draw ratio of a step of stretching in a direction perpendicular to the first direction and a plane is 2 times or less.
청구항 7에 있어서,
상기 열 수축성 기재는 PET(polyethylene terephthalate), 폴리에스테르(polyester), PC(Polycarbonate), 폴리올레핀(Polyolefin), PCO(polycylicolefin), 폴리스티렌(Polystyrene), COP(cycloolefin polymer), 아크릴폴리머(Acrylic polymer), PI(polyimide), PEN(polyethylene naphthalate), PEEK(polyether ether ketone), PAR(polyarylate), 폴리노보넨(polynorbornene), 및 PES(polyethersulphone)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 위상차 필름의 제조 방법.
The method according to claim 7,
The heat shrinkable substrate is PET (polyethylene terephthalate), polyester (polyester), PC (Polycarbonate), polyolefin (Polyolefin), PCO (polycylicolefin), polystyrene (Polystyrene), COP (cycloolefin polymer), acrylic polymer (Acrylic polymer), A method for producing a phase difference film selected from the group consisting of polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polyether ether ketone (PEK), polyarylate (PAR), polynorbornene, and polyethersulphone (PES).
편광자; 및
청구항 1 내지 6 중 어느 한 항의 위상차 필름을 적어도 하나 이상 포함하는 편광판.
Polarizer; And
A polarizing plate comprising at least one retardation film of any one of claims 1 to 6.
청구항 14에 있어서,
상기 편광자의 일면에 편광자 보호필름이 부착되고,
상기 편광자의 상기 편광자 보호필름이 부착된 면의 반대면에 상기 위상차 필름이 부착되는 것인 편광판.
The method according to claim 14,
A polarizer protective film is attached to one surface of the polarizer,
A polarizing plate in which the retardation film is attached to a surface opposite to the surface to which the polarizer protective film of the polarizer is attached.
액정 셀;
상기 액정 셀의 상층부에 구비되는 상부 편광판;
상기 액정 셀의 하층부에 구비되는 하부 편광판; 및
상기 하부 편광판의 하층부에 구비되는 백라이트 유닛을 포함하며,
상기 상부 편광판 및 상기 하부 편광판 중 적어도 하나는 편광자; 및 상기 편광자의 일면에 배치되는 청구항 1 내지 6 중 어느 하나의 위상차 필름을 포함하는 액정표시장치.
Liquid crystal cell;
An upper polarizing plate provided on an upper layer portion of the liquid crystal cell;
A lower polarizing plate provided on the lower layer of the liquid crystal cell; And
It includes a backlight unit provided on the lower layer of the lower polarizing plate,
At least one of the upper polarizing plate and the lower polarizing plate is a polarizer; And a retardation film of any one of claims 1 to 6 disposed on one surface of the polarizer.
청구항 16에 있어서,
상기 상부 편광판은 상기 편광자; 및 상기 위상차 필름을 포함하고,
상기 위상차 필름은 상기 액정셀에 대면되도록 배치되는 것인 액정표시장치.
The method according to claim 16,
The upper polarizing plate is the polarizer; And the retardation film,
The retardation film is disposed so as to face the liquid crystal cell.
청구항 16에 있어서,
상기 하부 편광판은 상기 편광자; 및 상기 위상차 필름을 포함하고,
상기 위상차 필름은 상기 백라이트 유닛에 대면되도록 배치되는 것인 액정표시장치.
The method according to claim 16,
The lower polarizing plate may include the polarizer; And the retardation film,
The retardation film is disposed so as to face the backlight unit.
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