KR20200025723A - Apparatus and method for steering beam in wireless communication system - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to steering a beam in a wireless communication system. A communication device comprises: at least one processor determining a direction of a signal and controlling a plurality of unit cells based on the determined direction; a transmission/reception part generating the signal and radiating the signal through an antenna; and a steering part including a diffraction plate in which the plurality of unit cells are disposed and forming an impedance arrangement for steering the signal in the determined direction under the control of the at least one processor, wherein the signal is steered in the direction through the diffraction plate included in the steering part and the impedance arrangement forms a plurality of slits on the diffraction plate.

Description

무선 통신 시스템에서 빔을 조향하기 위한 장치 및 방법 {APPARATUS AND METHOD FOR STEERING BEAM IN WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM}Apparatus and method for steering a beam in a wireless communication system {APPARATUS AND METHOD FOR STEERING BEAM IN WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM}

본 개시(disclosure)는 일반적으로 무선 통신 시스템에 관한 것으로, 보다 구체적으로 무선 통신 시스템에서 빔을 조향하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.The present disclosure generally relates to a wireless communication system, and more particularly to an apparatus and method for steering a beam in a wireless communication system.

최근 무선 통신 서비스의 수요 급증 및 전송되는 데이터 요구량의 증가로 인하여 원형 편파의 이용이 검토되고 있다. 원형 편파는 서로 수직하는 선형 편파들로 이루어져 있으므로, 하나의 주파수에서 원형 편파를 구성하는 선형 편파 각각을 통해 데이터를 송수신할 수 있어, 전송되는 데이터의 양을 증가시킬 수 있다. 또한, 원형 편파는 장애물 및 잡음에 강하여 건물 투과성이 높고 다중 반사 간섭에 강하므로, 도시 환경에서의 무선 통신 서비스에 이용 가능한 전자기파의 형태로 고려되고 있다.Recently, the use of circular polarization has been considered due to the rapid increase in the demand for wireless communication services and the increase in the amount of data to be transmitted. Since the circular polarization is composed of linear polarizations perpendicular to each other, data can be transmitted and received through each of the linear polarizations constituting the circular polarization at one frequency, thereby increasing the amount of data transmitted. In addition, since circular polarization is resistant to obstacles and noise, the building permeability is high and is resistant to multiple reflection interference, and thus, it is considered as a form of electromagnetic wave that can be used for wireless communication service in an urban environment.

또한, 무선 통신 시스템에서의 통신 속도 증가, 서비스 영역 확대를 위해 빔포밍(beamforming, 또는 빔 형성) 기술이 활용되고 있다. 따라서, 원형 편파 형태의 신호 역시 빔포밍 기술을 활용하여 송수신 되어야 하며, 원형 편파의 빔포밍을 위해 전자기파의 조향을 제어하는 것이 요구될 수 있다. 원형 편파의 조향을 위해, 기계적으로 제어되는 렌즈 또는 거울과 같은 광학 장치가 활용될 수 있다. 또는, 원형 편파의 조향을 위해 전기적으로 제어되는 위상 배열 안테나가 활용될 수 있다.In addition, beamforming (beamforming) or beamforming technology is used to increase communication speed and expand service area in a wireless communication system. Therefore, the signal of the circularly polarized form must also be transmitted and received by using a beamforming technique, and it may be required to control the steering of electromagnetic waves for beamforming of the circularly polarized wave. For steering of circularly polarized light, optical devices such as mechanically controlled lenses or mirrors can be utilized. Alternatively, an electrically controlled phased array antenna may be utilized for steering of circularly polarized waves.

상술한 바와 같은 논의를 바탕으로, 본 개시(disclosure)는, 무선 통신 시스템에서 빔을 효과적으로 조향하기 위한 장치 및 방법을 제공한다.Based on the discussion as described above, the present disclosure provides an apparatus and method for effectively steering a beam in a wireless communication system.

또한, 본 개시는, 무선 통신 시스템에서 회절 플레이트(diffraction plate)를 이용하여 빔을 조향하기 위한 장치 및 방법을 제공한다.The present disclosure also provides an apparatus and method for steering a beam using a diffraction plate in a wireless communication system.

또한, 본 개시는, 무선 통신 시스템에서 회절 플레이트를 이용하여 원형 편파 특성을 가진 빔을 조향하기 위한 장치 및 방법을 제공한다.The present disclosure also provides an apparatus and method for steering a beam having circular polarization characteristics using a diffraction plate in a wireless communication system.

또한, 본 개시는, 무선 통신 시스템에서 회절 플레이트 상에 복수의 슬릿들을 형성하기 위해 회절 플레이트에 인가되는 전압을 제어하는 장치 및 방법을 제공한다.The present disclosure also provides an apparatus and method for controlling the voltage applied to the diffraction plate to form a plurality of slits on the diffraction plate in a wireless communication system.

본 개시의 다양한 실시 예들에 따르면, 무선 통신 시스템에서 통신 장치는, 신호의 방향을 결정하고, 상기 결정된 방향에 기반하여 복수의 유닛 셀(unit cell)들을 제어하는 적어도 하나의 프로세서와, 상기 신호를 생성하고, 상기 신호를 안테나를 통해 방사하는 송수신부와, 상기 복수의 유닛 셀들이 배치되는 회절 플레이트(diffraction plate)를 포함하고, 상기 적어도 하나의 프로세서의 제어에 따라 상기 결정된 방향으로 상기 신호를 조향하기 위한 임피던스 배치를 형성하는 조향부를 포함하고, 상기 신호는, 상기 조향부에 포함되는 상기 회절 플레이트를 통과하여 상기 방향으로 조향되며, 상기 임피던스 배치는, 상기 회절 플레이트 상에 복수의 슬릿(slit)들을 형성한다.According to various embodiments of the present disclosure, a communication device in a wireless communication system may include: at least one processor configured to determine a direction of a signal and to control a plurality of unit cells based on the determined direction; And a transceiver configured to generate and radiate the signal through an antenna, and a diffraction plate on which the plurality of unit cells are arranged, and steering the signal in the determined direction under control of the at least one processor. And a steering portion for forming an impedance arrangement for driving the signal, wherein the signal is steered in the direction through the diffraction plate included in the steering portion, and the impedance arrangement includes a plurality of slits on the diffraction plate. Form them.

본 개시의 다양한 실시 예들에 따르면, 무선 통신 시스템에서 통신 장치의 동작 방법은, 신호의 방향을 결정하는 과정과, 상기 결정된 방향에 기반하여 복수의 유닛 셀들을 제어하는 과정과, 상기 신호를 생성하는 과정과, 상기 신호를 안테나를 통해 방사하는 과정과, 상기 복수의 유닛 셀들은 회절 플레이트에 배치되고, 상기 제어에 따라 상기 결정된 방향으로 상기 신호를 조향하기 위한 임피던스 배치를 형성하는 과정을 포함하고, 상기 신호는, 상기 회절 플레이트를 통과하여 상기 방향으로 조향되며, 상기 임피던스 배치는, 상기 회절 플레이트 상에 복수의 슬릿(slit)들을 형성한다.According to various embodiments of the present disclosure, a method of operating a communication device in a wireless communication system may include determining a direction of a signal, controlling a plurality of unit cells based on the determined direction, and generating the signal. And a step of radiating the signal through an antenna, and forming a plurality of unit cells in a diffraction plate, and forming an impedance arrangement for steering the signal in the determined direction according to the control, The signal is steered in the direction through the diffraction plate and the impedance arrangement forms a plurality of slits on the diffraction plate.

본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 장치 및 방법은, 근거리장(near-field)에서 동작하는 회절 플레이트(diffraction plate)를 이용하여 원형 편파를 조향함으로써, 안테나와의 거리를 감소시켜 시스템 전체의 부피가 감소될 수 있도록 한다.According to various embodiments of the present disclosure, an apparatus and method may be configured to steer circular polarization using a diffraction plate operating in a near-field to reduce the distance from an antenna to increase the volume of the entire system. To be reduced.

본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 장치 및 방법은, 하나의 버랙터(varactor)가 배치된 복수의 유닛 셀들로 구성된 회절 플레이트를 이용하여 원형 편파를 조향함으로써, 저전력으로 빔의 방향을 제어할 수 있도록 한다.An apparatus and method according to various embodiments of the present disclosure may control a beam direction with low power by steering circular polarization using a diffraction plate including a plurality of unit cells in which one varactor is disposed. do.

본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 장치 및 방법은, 버랙터의 커패시턴스를 조절하여 유닛 셀의 수직 임피던스 및 수평 임피던스를 동시에 조절함으로써, 회절 플레이트가 원형 편파 형태를 유지하면서 빔의 방향을 제어할 수 있도록 한다.An apparatus and method according to various embodiments of the present disclosure may be configured to control the direction of a beam while maintaining a circularly polarized wave shape by adjusting the capacitance of the varactor to simultaneously adjust the vertical impedance and the horizontal impedance of the unit cell. do.

본 개시에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 개시가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Effects obtained in the present disclosure are not limited to the above-mentioned effects, and other effects not mentioned above may be clearly understood by those skilled in the art from the following description. will be.

도 1은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 무선 통신 시스템을 도시한다.
도 2는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 무선 통신 시스템에서 빔을 조향하기 위한 통신 장치의 구성을 도시한다.
도 3은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 무선 통신 시스템에서 통신 장치에 의해 조향된 전자기파가 원형 편파의 형태를 유지하기 위한 조건을 도시한다.
도 4는 FZP(fresnel zone plate)가 전파를 조향하는 원리를 도시한다.
도 5는 FZP에서 원하는 빔 방향에 대해 회절 무늬의 폭을 결정하는 구성을 도시한다.
도 6은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 무선 통신 시스템에서 통신 장치의 흐름도를 도시한다.
도 7a 및 7b는 본 개시의 일 실시 예에 따른 무선 통신 시스템에서 유닛 셀의 구조를 도시한다.
도 8은 본 개시의 일 실시 예에 따른 무선 통신 시스템에서 유닛 셀의 바이어스 라인의 배치 형태를 도시한다.
도 9는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 무선 통신 시스템에서 유닛 셀의 구조들의 평면도들을 도시한다.
도 10은 본 개시의 일 실시 예에 따른 무선 통신 시스템에서 유닛 셀의 버랙터(varactor)의 극성을 도시한다.
도 11은 본 개시의 일 실시 예에 따른 유닛 셀의 임피던스가 공기와 임피던스 매칭이 되는 경우를 도시한다.
도 12는 본 개시의 일 실시 예에 따른 유닛 셀의 임피던스가 공기와 임피던스 미스매칭이 되는 경우를 도시한다.
도 13은 본 개시의 일 실시 예에 따른 유닛 셀의 동작 주파수에서 버랙터의 커패시턴스(capacitance)에 따른 반사 계수를 도시한다.
도 14는 본 개시의 일 실시 예에 따른 유닛 셀들로 구성된 8×8 배열 구조의 회절 플레이트를 도시한다.
도 15는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 유닛 셀들의 배열을 포함하는 회절 플레이트의 임피던스 배치를 위한 일 예를 도시한다.
도 16은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 유닛 셀들의 배열을 포함하는 회절 플레이트의 임피던스 배치를 위한 다른 예를 도시한다.
도 17은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 유닛 셀들의 배열을 포함하는 회절 플레이트의 임피던스 배치를 위한 또 다른 예를 도시한다.
도 18a 및 도 18b는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따라 빔의 방향을 조절하기 위한 유닛 셀들의 크기를 도시한다.
도 19a는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 회절 플레이트 및 원형 편파 안테나를 이용한 원형 편파의 빔 조향을 도시한다.
도 19b는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 회절 플레이트, 선형 편파 안테나, 및 원형 편파 변환기를 이용한 원형 편파의 빔 조향을 도시한다.
도 20은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기 구조의 윗면(top face)을 도시한다.
도 21은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기 구조의 아랫면(bottom face)을 도시한다.
도 22a는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기에 의해 생성된 원형 편파의 수평 편파 및 수직 편파의 비를 나타내는 그래프를 도시한다.
도 22b는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기에 의해 생성된 원형 편파의 수평 편파 및 수직 편파의 위상차를 나타내는 그래프를 도시한다.
도 23는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기에 의해 생성된 원형 편파의 형태를 나타내는 그래프를 도시한다.
도 24는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 FZP 및 원형 편파 변환기를 이용한 예시적인 원형 편파의 빔 조향을 도시한다.
도 25a는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 FZP 및 원형 편파 변환기를 이용하여 조향된 원형 편파의 수평 편파 및 수직 편파의 크기를 나타내는 그래프를 도시한다.
도 25b는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 FZP 및 원형 편파 변환기를 이용하여 조향된 원형 편파의 형태와 원형 편파 변환기에서 생성된 원형 편파의 형태를 비교하는 그래프를 도시한다.
1 illustrates a wireless communication system according to various embodiments of the present disclosure.
2 illustrates a configuration of a communication device for steering a beam in a wireless communication system according to various embodiments of the present disclosure.
3 illustrates a condition for maintaining electromagnetic waves steered by a communication device in a form of circular polarization in a wireless communication system according to various embodiments of the present disclosure.
Figure 4 illustrates the principle that the FZP (fresnel zone plate) steer propagation.
5 shows a configuration for determining the width of a diffraction pattern with respect to a desired beam direction in FZP.
6 is a flowchart illustrating a communication device in a wireless communication system according to various embodiments of the present disclosure.
7A and 7B illustrate a structure of a unit cell in a wireless communication system according to an embodiment of the present disclosure.
8 illustrates an arrangement of bias lines of a unit cell in a wireless communication system according to an exemplary embodiment of the present disclosure.
9 illustrates plan views of structures of a unit cell in a wireless communication system according to various embodiments of the present disclosure.
10 illustrates polarities of varactors of a unit cell in a wireless communication system according to an embodiment of the present disclosure.
FIG. 11 illustrates a case where an impedance of a unit cell according to an embodiment of the present disclosure is impedance matched with air.
12 illustrates a case where an impedance of a unit cell according to an embodiment of the present disclosure becomes impedance mismatch with air.
FIG. 13 illustrates a reflection coefficient according to a capacitance of a varactor at an operating frequency of a unit cell according to an embodiment of the present disclosure.
FIG. 14 illustrates a diffractive plate of an 8 × 8 array structure composed of unit cells according to an embodiment of the present disclosure.
15 illustrates an example for impedance placement of a diffraction plate including an array of unit cells according to various embodiments of the present disclosure.
16 illustrates another example for impedance placement of a diffraction plate including an arrangement of unit cells according to various embodiments of the present disclosure.
17 illustrates another example for impedance placement of a diffraction plate including an arrangement of unit cells according to various embodiments of the present disclosure.
18A and 18B illustrate the size of unit cells for adjusting the direction of a beam according to various embodiments of the present disclosure.
19A illustrates beam steering of circularly polarized waves using a diffractive plate and circularly polarized antenna according to various embodiments of the present disclosure.
19B illustrates beam steering of circularly polarized waves using a diffraction plate, a linearly polarized antenna, and a circularly polarized transducer according to various embodiments of the present disclosure.
20 illustrates a top face of a circular polarization converter structure according to various embodiments of the present disclosure.
21 illustrates a bottom face of a circularly polarized transducer structure according to various embodiments of the present disclosure.
22A is a graph illustrating a ratio of horizontal polarization and vertical polarization of circular polarization generated by a circular polarization converter according to various embodiments of the present disclosure.
22B is a graph illustrating phase differences between horizontal and vertical polarizations of circular polarizations generated by circular polarization converters according to various embodiments of the present disclosure.
23 is a graph illustrating a shape of a circular polarization generated by a circular polarization converter according to various embodiments of the present disclosure.
24 illustrates beam steering of an exemplary circular polarization using an FZP and circular polarization transducer in accordance with various embodiments of the present disclosure.
FIG. 25A is a graph illustrating magnitudes of horizontal polarization and vertical polarization of a steered circular polarization using an FZP and a circular polarization converter according to various embodiments of the present disclosure.
FIG. 25B illustrates a graph comparing a shape of a circular polarization steered using a FZP and a circular polarization converter according to various embodiments of the present disclosure with a shape of a circular polarization generated by the circular polarization converter.

본 개시에서 사용되는 용어들은 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 다른 실시 예의 범위를 한정하려는 의도가 아닐 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함할 수 있다. 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 용어들은 본 개시에 기재된 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가질 수 있다. 본 개시에 사용된 용어들 중 일반적인 사전에 정의된 용어들은, 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 동일 또는 유사한 의미로 해석될 수 있으며, 본 개시에서 명백하게 정의되지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. 경우에 따라서, 본 개시에서 정의된 용어일지라도 본 개시의 실시 예들을 배제하도록 해석될 수 없다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the scope of other embodiments. Singular expressions may include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. The terms used herein, including technical or scientific terms, may have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art as described in the present disclosure. Among the terms used in the present disclosure, terms defined in the general dictionary may be interpreted as having the same or similar meaning as the meaning in the context of the related art, and ideally or excessively formal meanings are not clearly defined in the present disclosure. Not interpreted as In some cases, even if terms are defined in the present disclosure, they may not be interpreted to exclude embodiments of the present disclosure.

이하에서 설명되는 본 개시의 다양한 실시 예들에서는 하드웨어적인 접근 방법을 예시로서 설명한다. 하지만, 본 개시의 다양한 실시 예들에서는 하드웨어와 소프트웨어를 모두 사용하는 기술을 포함하고 있으므로, 본 개시의 다양한 실시 예들이 소프트웨어 기반의 접근 방법을 제외하는 것은 아니다.In various embodiments of the present disclosure described below, a hardware approach is described as an example. However, various embodiments of the present disclosure include technology that uses both hardware and software, and thus various embodiments of the present disclosure do not exclude a software-based approach.

이하 본 개시는 무선 통신 시스템에서 빔을 조향하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 본 개시는 무선 통신 시스템에서 무선 통신 시스템에서 회절 플레이트(diffraction plate)를 이용하여 빔을 조향하기 위한 기술을 설명한다. 이하 설명에서 사용되는 다양한 용어들은 설명의 편의를 위해 예시된 것이다. 따라서, 본 개시가 후술되는 용어들에 한정되는 것은 아니며, 동등한 기술적 의미를 가지는 다른 용어가 사용될 수 있다.The present disclosure relates to an apparatus and method for steering a beam in a wireless communication system. Specifically, the present disclosure describes a technique for steering a beam using a diffraction plate in a wireless communication system in a wireless communication system. Various terms used in the following description are illustrated for convenience of description. Accordingly, the present disclosure is not limited to the terms described below, and other terms having equivalent technical meanings may be used.

도 1은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 무선 통신 시스템 100을 도시한다. 도 1은 무선 통신 시스템에서 무선 채널을 이용하는 노드(node)들의 일부로서, 통신 장치 A 110, 통신 장치 B 120을 예시한다. 1 illustrates a wireless communication system 100 according to various embodiments of the present disclosure. 1 illustrates communication device A 110 and communication device B 120 as part of nodes that use a wireless channel in a wireless communication system.

도 1을 참고하면, 통신 장치 A 110은 통신 장치 B 120에게 신호를 송신할 수 있다. 다시 말해서, 통신 장치 B 120은 통신 장치 A 110로부터 신호를 수신할 수 있다. 통신 장치 A 110은 신호의 송수신을 위해 빔을 형성할 수 있고, 빔을 이용하여 통신 장치 B 120으로 신호를 송신할 수 있다. 또한, 통신 장치 A 110은 빔을 이용하여 통신 장치 B 120으로부터 신호를 수신할 수 있다. 통신 장치 A 110은 빔 방향을 제어할 수 있다. 예를 들어, 통신 장치 A 110은 회절 플레이트를 포함할 수 있고, 빔이 회절 플레이트를 통과하도록 제어하여 빔 방향을 제어할 수 있다. 본 개시의 다양한 실시 예에 따르면, 회절 플레이트는 FZP(fresnel zone plate)일 수 있다.Referring to FIG. 1, the communication device A 110 may transmit a signal to the communication device B 120. In other words, the communication device B 120 may receive a signal from the communication device A 110. The communication device A 110 may form a beam to transmit and receive a signal, and may transmit a signal to the communication device B 120 using the beam. In addition, the communication device A 110 may receive a signal from the communication device B 120 using a beam. The communication device A 110 may control the beam direction. For example, communication device A 110 may include a diffraction plate and control the beam direction by controlling the beam to pass through the diffraction plate. According to various embodiments of the present disclosure, the diffraction plate may be a fresnel zone plate (FZP).

예를 들어, 하향링크 통신 시, 통신 장치 A 110은 기지국(base station), 통신 장치 B 120은 단말(terminal)일 수 있다. 다른 예로, 상향링크 통신 시, 통신 장치 A 110은 단말, 통신 장치 B 120은 기지국일 수 있다. 또한, D2D(device to device) 통신 시, 통신 장치 A 110은 단말, 통신 장치 B 120은 다른 단말일 수 있다. 여기서, D2D 통신은 사이드링크(sidelink) 통신으로 지칭될 수 있다. 또한, 통신 장치 A 110은 기지국, 통신 장치 B 120은 다른 기지국일 수 있다. 나열된 예시들 외에, 통신 장치 A 110 및 통신 장치 B 120은 다른 다양한 장치들일 수 있다.For example, in downlink communication, communication device A 110 may be a base station, and communication device B 120 may be a terminal. As another example, in uplink communication, the communication device A 110 may be a terminal, and the communication device B 120 may be a base station. In addition, during device to device (D2D) communication, the communication device A 110 may be a terminal, and the communication device B 120 may be another terminal. Here, the D2D communication may be referred to as sidelink communication. In addition, the communication device A 110 may be a base station, and the communication device B 120 may be another base station. In addition to the examples listed, communication device A 110 and communication device B 120 may be other various devices.

통신 장치 A 110 및 통신 장치 B 120은 적어도 하나의 안테나를 포함할 수 있다. 다시 말해서, 통신 장치 A 110 및 통신 장치 B 120은 단일 안테나를 포함할 수 있고, 복수의 안테나들을 포함할 수 있다. 본 개시의 다양한 실시 예들에 따르면, 통신 장치 A 110 및 통신 장치 B 120 각각이 복수의 안테나들을 포함하는 경우, 통신 장치 A 110이 복수의 송신 안테나들을 통해 신호를 송신하고, 통신 장치 B 120이 복수의 수신 안테나들을 통해 신호를 수신하는 시스템은 '다중 입출력(multiple-input multiple output, MIMO) 시스템' 으로 지칭될 수 있다.The communication device A 110 and the communication device B 120 may include at least one antenna. In other words, the communication device A 110 and the communication device B 120 may include a single antenna, and may include a plurality of antennas. According to various embodiments of the present disclosure, when each of the communication device A 110 and the communication device B 120 includes a plurality of antennas, the communication device A 110 transmits a signal through the plurality of transmission antennas, and the communication device B 120 may have a plurality of antennas. A system for receiving a signal through receive antennas of may be referred to as a 'multiple-input multiple output (MIMO) system'.

이하 도 2 내지 도 26b에서 설명의 편의를 위해 동작의 주체가 통신 장치 A 110인 것으로 설명되나, 이는 설명의 편의를 위한 것일 뿐, 장치의 기능들이 명칭에 의해 한정되지 않는다.Hereinafter, in FIG. 2 to FIG. 26B, the subject of the operation is described as the communication device A 110 for convenience of description, but this is for convenience of description only, and the functions of the device are not limited by the name.

도 2는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 무선 통신 시스템에서 빔을 조향하기 위한 통신 장치의 구성을 도시한다. 도 2에 예시된 구성은 통신 장치 A 110의 구성으로서 이해될 수 있다. 이하 사용되는 '…부', '…기' 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어나 소프트웨어, 또는, 하드웨어 및 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다.2 illustrates a configuration of a communication device for steering a beam in a wireless communication system according to various embodiments of the present disclosure. The configuration illustrated in FIG. 2 may be understood as a configuration of communication device A 110. Used below '… Wealth, The term 'herein' refers to a unit for processing at least one function or operation, which may be implemented by hardware or software, or a combination of hardware and software.

도 2를 참고하면, 통신 장치는 통신부 210, 저장부 220, 제어부 230, 안테나 240 및 빔 조향부 250을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the communication device may include a communication unit 210, a storage unit 220, a controller 230, an antenna 240, and a beam steering unit 250.

통신부 210은 무선 채널을 통해 신호를 송수신하기 위한 기능들을 수행할 수 있다. 예를 들어, 통신부 210은 시스템의 물리 계층 규격에 따라 기저대역 신호 및 비트열(bit sequence) 간 변환 기능을 수행할 수 있다. 예를 들어, 제어 정보 송신 시, 통신부 210은 송신 비트열을 부호화 및 변조함으로써 변조 심볼들을 생성할 수 있다. 또한, 데이터 수신 시, 통신부 210은 기저대역 신호를 복조 및 복호화를 통해 수신 비트열을 복원할 수 있다. 또한, 통신부 210은 기저대역 신호를 RF(radio frequency) 대역 신호로 상향변환한 후 안테나 240을 통해 송신하고, 안테나 240을 통해 수신되는 RF 대역 신호를 기저대역 신호로 하향변환할 수 있다. 예를 들어, 통신부 210은 디코더(decoder), 복조기(demodulator), ADC(analog to digital convertor), 수신 필터, 증폭기, 믹서(mixer), 및 오실레이터(oscillator) 등을 포함할 수 있다. 또한, 통신부 210이 신호를 송신하는 경우, 인코더(encoder), 변조기(modulator), DAC(digital to analog convertor), 및 송신 필터 등을 추가적으로 포함할 수 있다.The communication unit 210 may perform functions for transmitting and receiving a signal through a wireless channel. For example, the communication unit 210 may perform a conversion function between a baseband signal and a bit sequence according to the physical layer standard of the system. For example, when transmitting control information, the communication unit 210 may generate modulation symbols by encoding and modulating a transmission bit string. In addition, when receiving data, the communication unit 210 may restore the received bit string by demodulating and decoding the baseband signal. In addition, the communication unit 210 may up-convert the baseband signal into a radio frequency (RF) band signal and then transmit it through the antenna 240 and downconvert the RF band signal received through the antenna 240 into the baseband signal. For example, the communication unit 210 may include a decoder, a demodulator, an analog to digital convertor (ADC), a reception filter, an amplifier, a mixer, an oscillator, and the like. In addition, when the communication unit 210 transmits a signal, the communication unit 210 may further include an encoder, a modulator, a digital to analog convertor (DAC), a transmission filter, and the like.

도 2는 하나의 안테나 240을 도시하나, 이는 설명의 편의를 위한 것이고, 통신부 210은 복수의 안테나들을 포함할 수 있다. 통신부 210은, 복수의 안테나들 각각을 통해 복수의 스트림들을 수신할 수 있다. 또한, 통신부 210은 다수의 RF 체인들을 포함할 수 있다. 나아가, 통신부 210은 빔포밍(beamforming)을 수행할 수 있다. 빔포밍은 아날로그 빔포밍과 디지털 빔포밍을 포함할 수 있다.2 illustrates one antenna 240, which is for convenience of description, and the communication unit 210 may include a plurality of antennas. The communication unit 210 may receive a plurality of streams through each of the plurality of antennas. In addition, the communication unit 210 may include a plurality of RF chains. In addition, the communication unit 210 may perform beamforming. Beamforming may include analog beamforming and digital beamforming.

통신부 210은 상술한 바와 같이 신호를 송신 및 수신한다. 이에 따라, 통신부 210의 전부 또는 일부는 송신기(transmitter), 수신기(receiver) 또는 송수신기(transceiver)로 지칭될 수 있다. 또한, 이하 설명에서 무선 채널을 통해 수행되는 송신 및 수신은 통신부 210에 의해 상술한 바와 같은 처리가 수행되는 것을 포함하는 의미로 사용된다.The communication unit 210 transmits and receives a signal as described above. Accordingly, all or part of the communication unit 210 may be referred to as a transmitter, a receiver, or a transceiver. In addition, in the following description, transmission and reception performed through a wireless channel are used by the communication unit 210 to mean that the above-described processing is performed.

저장부 220은 통신 장치의 동작을 위한 기본 프로그램, 응용 프로그램, 설정 정보 등의 데이터를 저장할 수 있다. 저장부 220은 휘발성 메모리, 비휘발성 메모리 또는 휘발성 메모리와 비휘발성 메모리의 조합으로 구성될 수 있다. 그리고, 저장부 220은 제어부 230의 요청에 따라 저장된 데이터를 제공할 수 있다.The storage unit 220 may store data such as a basic program, an application program, and setting information for the operation of the communication device. The storage unit 220 may be configured as a volatile memory, a nonvolatile memory, or a combination of the volatile memory and the nonvolatile memory. The storage 220 may provide the stored data according to a request of the controller 230.

제어부 230은 통신 장치의 전반적인 동작들을 제어할 수 있다. 예를 들어, 제어부 230은 통신부 210를 통해 신호를 송신 및 수신할 수 있다. 또한, 제어부 230은 저장부 220에 데이터를 기록하고(write), 읽을 수 있다(read). 그리고, 제어부 230은 통신 규격에서 요구하는 프로토콜 스택(protocol stack)의 기능들을 수행할 수 있다. 이를 위해, 제어부 230은 적어도 하나의 프로세서(processor) 또는 마이크로(micro) 프로세서를 포함하거나, 또는, 프로세서의 일부로 구성될 수 있다. 제어부 230은 빔 조향부 250을 개별적으로 제어할 수 있다.The controller 230 may control overall operations of the communication device. For example, the controller 230 may transmit and receive a signal through the communication unit 210. In addition, the controller 230 may write data to the storage 220 and read the data. The controller 230 may perform functions of a protocol stack required by a communication standard. To this end, the controller 230 may include at least one processor or a micro processor, or may be configured as part of a processor. The controller 230 may individually control the beam steering unit 250.

안테나 240은 신호를 송신하기 위해 전자기파를 방사(radiate)할 수 있다. 전자기파는 안테나 240을 통해 빔 형태로 방사될 수 있다. 안테나 240로부터 방사된 빔은 빔 조향부 250을 통해 방향이 제어될 수 있다. 본 개시의 다양한 실시 예들에 따르면, 안테나 240은 선형 편파 안테나 또는 원형 편파 안테나일 수 있다. 안테나 240이 선형 편파 안테나일 경우, 도 2에 도시되지 않았지만, 선형 편파를 원형 편파로 변환하는 원형 편파 변환기가 추가적으로 포함될 수 있다. 또한, 안테나 240이 원형 편파 안테나일 경우, 안테나 240은 원형 편파 형태의 전자기파를 방사할 수 있다.The antenna 240 may radiate electromagnetic waves to transmit a signal. Electromagnetic waves may be emitted in the form of a beam through the antenna 240. The beam radiated from the antenna 240 may be directional controlled through the beam steering unit 250. According to various embodiments of the present disclosure, the antenna 240 may be a linear polarized antenna or a circular polarized antenna. When the antenna 240 is a linear polarization antenna, although not shown in FIG. 2, a circular polarization converter for converting linear polarization into circular polarization may be additionally included. In addition, when the antenna 240 is a circularly polarized antenna, the antenna 240 may radiate electromagnetic waves having a circular polarization form.

빔 조향부 250은 빔 조향부 250에 입사된 빔의 방향을 변경할 수 있다. 예를 들어, 빔 조향부 250은 회절 플레이트를 포함하며, 회절 플레이트를 통과하는 전파의 회절 정도를 변경시킴으로써 빔의 방향을 변경할 수 있다. 본 개시의 다양한 실시 예들에 따르면, 회절 플레이트는 FZP일 수 있다. 또한, 회절 플레이트는 복수의 유닛 셀(unit cell)들을 포함할 수 있다. 복수의 유닛 셀들 각각은 가변의 임피던스를 가질 수 있으며, 안테나 240로부터 빔 조향부 250에 입사된 빔의 방향은 복수의 유닛 셀들 각각의 임피던스 배치에 따라 결정될 수 있다.The beam steering unit 250 may change the direction of the beam incident on the beam steering unit 250. For example, the beam steering unit 250 includes a diffraction plate, and can change the direction of the beam by changing the degree of diffraction of radio waves passing through the diffraction plate. According to various embodiments of the present disclosure, the diffraction plate may be FZP. In addition, the diffraction plate may include a plurality of unit cells. Each of the plurality of unit cells may have a variable impedance, and the direction of the beam incident on the beam steering unit 250 from the antenna 240 may be determined according to the impedance arrangement of each of the plurality of unit cells.

여기서, 도 2의 구성이 기지국의 구성인 경우, 통신 장치는 백홀(backhaul) 망과 통신을 수행하기 위한 인터페이스를 제공하는 백홀 통신부를 더 포함할 수 있다.Here, when the configuration of FIG. 2 is a configuration of a base station, the communication apparatus may further include a backhaul communication unit providing an interface for performing communication with a backhaul network.

도 3은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 무선 통신 시스템에서 통신 장치에 의해 조향된 전자기파가 원형 편파의 형태를 유지하기 위한 조건을 도시한다. 원형 편파의 사시도 300을 참조하면, 원형 편파는 서로 직교하는 수평 편파 301 및 수직 편파 303에 의하여 원형 궤적 305를 형성하면서 전파된다. 또한, 원형 편파의 사시도 300의 x축 정면 방향에서 바라본 원형 편파의 정면도 320을 참고하면, 전자기파가 원형 편파의 형태를 유지하기 위한 조건은 원형 궤적 305의 정면 방향 형상 325의 축비(axial ratio, AR)에 기반하여 정의될 수 있다. 즉, 조향되는 전자기파는 원형 편파의 축비 조건을 만족해야 한다. 축비는 <수학식 1>과 같이 표현될 수 있다.3 illustrates a condition for maintaining electromagnetic waves steered by a communication device in a form of circular polarization in a wireless communication system according to various embodiments of the present disclosure. Referring to the perspective 300 of the circular polarization, the circular polarization propagates while forming the circular trajectory 305 by the horizontal polarization 301 and the vertical polarization 303 orthogonal to each other. In addition, referring to the front view 320 of the circular polarization viewed from the x-axis front direction of the perspective 300 of the circular polarization, the condition for the electromagnetic wave to maintain the shape of the circular polarization is the axial ratio of the front shape 325 of the circular trajectory 305 AR) can be defined based on. That is, the steered electromagnetic wave must satisfy the axial ratio condition of the circularly polarized wave. The axial ratio may be expressed as in Equation 1.

Figure pat00001
Figure pat00001

<수학식 1>에서, AR은 원형 궤적 305의 정면 방향 형상 325의 축비,

Figure pat00002
는 수평 편파 301의 정면 방향 형상 321의 벡터,
Figure pat00003
는 수직 편파 303의 정면 방향 형상 323의 벡터,
Figure pat00004
는 수평 편파 301의 정면 방향 형상 321의 벡터 및 수직 편파 303의 정면 방향 형상 323의 벡터가 이루는 각도,
Figure pat00005
는 원형 편파가 FZP를 통과할 때 발생하는 수평 편파 301 및 수직 편파 303 각각의 위상 지연의 차이를 의미한다.In Equation 1, AR is the axial ratio of the front shape 325 of the circular trajectory 305,
Figure pat00002
Is a vector of frontal shape 321 of horizontal polarization 301,
Figure pat00003
Is a vector of frontal shape 323 of vertical polarization 303,
Figure pat00004
Is an angle formed by the vector of the front direction shape 321 of the horizontal polarization 301 and the vector of the front direction shape 323 of the vertical polarization 303,
Figure pat00005
Denotes the difference in phase delay of each of the horizontal polarization 301 and the vertical polarization 303 generated when the circular polarization passes through the FZP.

조향된 전자기파가 원형 편파의 형태를 유지하기 위하여, 수평 편파 301의 정면 방향 형상 321 및 수직 편파 303의 정면 방향 형상 323 사이의 각도는

Figure pat00006
로 유지되어야 하며, FZP를 통과하는 수평 편파 301 및 수직 편파 303의 위상 지연은 동일해야 한다. 또한, 원형 궤적 305의 정면 방향 형상 325에 대한 축비는 임계치(예: 3db(decibel)) 이하로 유지되어야 한다.In order for the steered electromagnetic wave to maintain the shape of circular polarization, the angle between the front direction shape 321 of the horizontal polarization 301 and the front direction shape 323 of the vertical polarization 303 is
Figure pat00006
The phase delays of horizontal polarization 301 and vertical polarization 303 through FZP must be the same. In addition, the axial ratio for the front shape 325 of the circular trajectory 305 should be kept below a threshold (eg 3 db (decibel)).

도 4는 FZP가 전파를 조향하는 원리를 도시한다. FZP는 근거리장(near-field)에서 전자기파의 회절을 이용하여 전자기파를 조향한다. 전자기파들 401, 403, 405는 복수의 슬릿(slit)들을 포함하는 플레이트 421을 통과하면서 회절되고, 각각 각도

Figure pat00007
만큼 회절된 후 진행한다. 회절된 전자기파들 411, 413, 415는 서로 간에 보강 간섭 또는 상쇄 간섭을 발생시키며, 보강 간섭과 상쇄 간섭에 의하여 회절 무늬가 결정된다. 이 경우, 전자기파의 조향을 원하는 방향으로 보강 간섭이 발생한다. 보강 간섭 및 상쇄 간섭에 의해 결정된 회절 무늬 420은 보강 간섭 무늬 440 및 상쇄 간섭 무늬 460을 포함한다. 보강 간섭 무늬 440 및 상쇄 간섭 무늬 460은 슬릿의 폭 또는 슬릿의 간격에 따라 조절될 수 있다. 4 shows the principle by which FZP steers the radio waves. FZP steers electromagnetic waves by using diffraction of electromagnetic waves in a near-field. Electromagnetic waves 401, 403, 405 are diffracted as they pass through plate 421 comprising a plurality of slits, each of which is angled
Figure pat00007
After diffraction, proceed. The diffracted electromagnetic waves 411, 413, and 415 generate constructive or destructive interference with each other, and the diffraction pattern is determined by the constructive and destructive interference. In this case, constructive interference occurs in a direction in which steering of electromagnetic waves is desired. The diffraction pattern 420 determined by constructive and destructive interference includes constructive and destructive interference patterns 460 and 460. The constructive interference fringe 440 and the canceling interference fringe 460 may be adjusted according to the width of the slit or the spacing of the slits.

도 5는 FZP에서 원하는 빔 방향에 대해 회절 무늬의 폭을 결정하는 구성을 도시한다. 전자기파를 방사하는 안테나는 FZP와 거리 F만큼 이격되어 배치될 수 있다. FZP는 회절 무늬 500을 형성함으로써, 안테나로부터 방사된 전자기파를 z 축에 대하여 각도

Figure pat00008
의 방향으로 조향할 수 있다. FZP가 z 축에 대하여 각도
Figure pat00009
의 방향으로 전자기파를 조향하기 위한 회절 무늬는 보강 간섭 및 상쇄 간섭이 발생하는 영역의 길이를 결정함으로써 형성될 수 있다.5 shows a configuration for determining the width of a diffraction pattern with respect to a desired beam direction in FZP. The antenna for emitting electromagnetic waves may be spaced apart from the FZP by a distance F. The FZP forms a diffraction pattern 500 so that the electromagnetic waves emitted from the antenna are angled with respect to the z axis.
Figure pat00008
Steering in the direction of. FZP is angled about the z axis
Figure pat00009
The diffraction pattern for steering the electromagnetic wave in the direction of may be formed by determining the length of the region in which constructive and destructive interference occurs.

먼저, 전자기파를 방사하는 안테나 개구면(antenna aperture)으로부터 FZP까지의 위상은 <수학식 2>와 같이 표현될 수 있다.First, the phase from the antenna aperture for emitting electromagnetic waves to the FZP may be expressed as Equation 2.

Figure pat00010
Figure pat00010

<수학식 2>에서,

Figure pat00011
는 안테나 개구면으로부터 FZP까지의 위상, k는 상수, x는 중심으로부터의 거리, F는 안테나 개구면과 FZP 간의 거리를 의미한다.In Equation 2,
Figure pat00011
Is the phase from the antenna aperture to FZP, k is a constant, x is the distance from the center, and F is the distance between the antenna aperture and FZP.

한편, 전자기파를 각도

Figure pat00012
의 방향으로 조향하기 위하여 필요한 위상은 <수학식 3>과 같이 표현될 수 있다.Meanwhile, angle electromagnetic waves
Figure pat00012
The phase necessary to steer in the direction of may be expressed as in Equation 3.

Figure pat00013
Figure pat00013

<수학식 3>에서,

Figure pat00014
는 전자기파를 각도
Figure pat00015
의 방향으로 조향하기 위하여 필요한 위상, k는 상수, x는 중심으로부터의 거리,
Figure pat00016
는 전자기파의 조향 각도를 의미한다.In Equation 3,
Figure pat00014
Angled electromagnetic waves
Figure pat00015
The phase required to steer in the direction of, k is a constant, x is the distance from the center
Figure pat00016
Is the steering angle of electromagnetic waves.

따라서, 전자기파를 각도

Figure pat00017
의 방향으로 조향하기 위하여 안테나에서 발생시켜야 하는 전자기파의 위상은 <수학식 4>와 같이 표현될 수 있다. Thus, angle electromagnetic waves
Figure pat00017
The phase of the electromagnetic wave to be generated in the antenna to steer in the direction of may be expressed as in Equation 4.

Figure pat00018
Figure pat00018

<수학식 4>에서,

Figure pat00019
는 전자기파를 각도
Figure pat00020
의 방향으로 조향하기 위하여 안테나에서 발생시켜야 하는 전자기파의 위상,
Figure pat00021
는 전자기파를 각도
Figure pat00022
의 방향으로 조향하기 위하여 필요한 위상,
Figure pat00023
는 안테나 개구면으로부터 FZP까지의 위상을 의미한다.In Equation 4,
Figure pat00019
Angled electromagnetic waves
Figure pat00020
The phase of the electromagnetic waves that must be generated from the antenna to steer in the direction of,
Figure pat00021
Angled electromagnetic waves
Figure pat00022
Phase necessary to steer in the direction of,
Figure pat00023
Denotes the phase from the antenna aperture to the FZP.

<수학식 4>에서 중심으로부터의 거리를 FZP의 회절 무늬 500의 n번째 영역의 중심으로 놓으면, 전자기파의 위상은 <수학식 5>와 같이 표현될 수 있다.In Equation 4, if the distance from the center is set to the center of the n-th region of the diffraction pattern 500 of the FZP, the phase of the electromagnetic wave may be expressed as Equation 5.

Figure pat00024
Figure pat00024

<수학식 5>에서,

Figure pat00025
은 FZP 회절 무늬의 n번째 영역의 중심,
Figure pat00026
는 n번째 영역의 중심에서 전자기파를 각도
Figure pat00027
의 방향으로 조향하기 위하여 안테나에서 발생시켜야 하는 전자기파의 위상,
Figure pat00028
는 n번째 영역의 중심에서 전자기파를 각도
Figure pat00029
의 방향으로 조향하기 위하여 필요한 위상,
Figure pat00030
는 안테나 개구면으로부터 n번째 영역의 중심까지의 위상을 의미한다. 구성 520을 참고하면,
Figure pat00031
은 첫번째 영역의 중심이며,
Figure pat00032
는 두번째 영역의 중심을 의미한다.In Equation 5,
Figure pat00025
Is the center of the nth region of the FZP diffraction pattern,
Figure pat00026
Angle the electromagnetic wave from the center of the nth region
Figure pat00027
The phase of the electromagnetic waves that must be generated from the antenna to steer in the direction of,
Figure pat00028
Angle the electromagnetic wave from the center of the nth region
Figure pat00029
Phase necessary to steer in the direction of,
Figure pat00030
Denotes the phase from the antenna aperture to the center of the nth region. Referring to configuration 520,
Figure pat00031
Is the center of the first area,
Figure pat00032
Means the center of the second area.

<수학식 2> 내지 <수학식 4>를 <수학식 5>에 대입하여 정리하면, FZP 회절 무늬 500의 n번째 영역의 길이는 <수학식 6>과 같이 표현될 수 있다.By substituting <Equation 2> to <Equation 4> into <Equation 5>, the length of the n-th region of the FZP diffraction pattern 500 can be expressed as shown in <Equation 6>.

Figure pat00033
Figure pat00033

<수학식 6>에서,

Figure pat00034
은 FZP 회절 무늬 500의 n번째 영역의 길이, F는 안테나 개구면과 FZP 간의 거리,
Figure pat00035
은 FZP 회절 무늬의 n번째 영역의 중심,
Figure pat00036
는 전자기파의 조향 각도, k는 상수를 의미한다. In Equation 6,
Figure pat00034
Is the length of the nth region of the FZP diffraction pattern 500, F is the distance between the antenna aperture and FZP,
Figure pat00035
Is the center of the nth region of the FZP diffraction pattern,
Figure pat00036
Is the steering angle of electromagnetic waves, k is a constant.

도 6은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 무선 통신 시스템에서 통신 장치의 흐름도를 도시한다. 도 6은 통신 장치 A 110의 동작을 예시한다.6 is a flowchart illustrating a communication device in a wireless communication system according to various embodiments of the present disclosure. 6 illustrates the operation of communication device A 110.

도 6을 참고하면, 601 단계에서, 통신 장치는 빔의 방향을 결정한다. 빔의 방향은 FZP를 통과한 빔의 방향을 의미한다. 예를 들어, 통신 장치는 통신 장치에 대한 다른 통신 장치(예: 통신 장치 B 120)의 상대적 위치에 따라 빔의 방향을 결정할 수 있다. 다른 예로, 통신 장치는 다른 통신 장치의 위치와 무관하게 빔 방향을 미리 정해진 패턴에 따라 결정할 수 있다.Referring to FIG. 6, in step 601, the communication device determines a direction of a beam. The direction of the beam refers to the direction of the beam passing through the FZP. For example, the communication device may determine the direction of the beam according to a relative position of another communication device (eg, communication device B 120) with respect to the communication device. As another example, the communication device may determine the beam direction according to a predetermined pattern regardless of the position of another communication device.

603 단계에서, 통신 장치는 결정된 빔의 방향에 기반하여, 회절 플레이트의 임피던스 배치를 결정할 수 있다. 본 개시의 다양한 실시 예들에 따르면, 회절 플레이트는 FZP일 수 있다. 예를 들어, 통신 장치는 회절 플레이트 및 안테나 간의 거리가 주어진 경우, 회절 플레이트 및 안테나 간의 거리, 조향 각도, 및 회절 무늬를 구성하는 각 영역의 중심에 기반하여 보강 간섭 및 상쇄 간섭 영역 각각의 길이를 결정할 수 있다. 다시 말해서, 보강 간섭 및 상쇄 간섭 영역 각각의 길이는 <수학식 6>을 이용하여 결정될 수 있다. 통신 장치는, 회절 플레이트가 <수학식 6>에 의해 결정된 길이를 가지는 보강 간섭 및 상쇄 간섭 영역으로 회절 무늬를 형성하도록 하기 위하여, 회절 플레이트의 임피던스 배치를 결정할 수 있다.In step 603, the communication device may determine the impedance placement of the diffraction plate based on the determined direction of the beam. According to various embodiments of the present disclosure, the diffraction plate may be FZP. For example, given a distance between the diffraction plate and the antenna, the communication device may determine the length of each of the constructive and destructive interference regions based on the distance between the diffraction plate and the antenna, the steering angle, and the center of each region constituting the diffraction pattern. You can decide. In other words, the length of each of the constructive interference and cancellation interference regions may be determined using Equation 6. The communication device may determine the impedance placement of the diffraction plate in order to cause the diffraction plate to form diffraction patterns in the constructive and destructive interference regions having a length determined by Equation (6).

605 단계에서, 통신 장치는 결정된 임피던스 배치에 따라 회절 플레이트에 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 예를 들어, 통신 장치는 601 단계에서 결정된 방향으로 빔을 조향하기 위하여 603 단계에서 결정된 임피던스 배치에 따라, 회절 플레이트에 포함된 복수의 유닛 셀들 각각에 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 결정된 임피던스 배치에 따라 제어된 회절 플레이트에 원형 편파 특성을 가지는 신호가 입사되면, 신호는 601 단계에서 결정된 방향으로 조향된다. 즉, 통신 장치는 원형 편파 특성을 가지는 신호를 생성하고, 신호를 회절 플레이트에 통과시킴으로써, 원형 편파 특성을 가지는 신호를 601 단계에서 결정된 방향으로 송신할 수 있다.In step 605, the communication device may apply a bias voltage to the diffraction plate according to the determined impedance arrangement. For example, the communication device may apply a bias voltage to each of the plurality of unit cells included in the diffraction plate according to the impedance arrangement determined in step 603 to steer the beam in the direction determined in step 601. When a signal having circular polarization characteristics is incident on the diffraction plate controlled according to the determined impedance arrangement, the signal is steered in the direction determined in step 601. That is, the communication device may transmit a signal having circular polarization characteristics in the direction determined in step 601 by generating a signal having circular polarization characteristics and passing the signal through the diffraction plate.

상술한 바와 같이, 회절 플레이트를 이용하여, 원형 편파 특성을 가지는 신호, 즉, 빔을 조향할 수 있다. 여기서, 회절 플레이트는 의도된 임피던스 배치를 형성할 수 있는 구조를 가진다. 이를 위해, 회절 플레이트는 다수의 유닛 셀(unit cell)들을 포함하며, 유닛 셀들은 제어에 따라 특정 값의 임피던스를 형성할 수 있다. 이하 도 7a 및 7b, 도 8, 도 9 및 도 10을 참고하여, 다양한 실시 예들에 따른 유닛 셀의 구조가 설명된다.As described above, a diffraction plate may be used to steer a signal having circular polarization characteristics, that is, a beam. Here, the diffraction plate has a structure capable of forming the intended impedance arrangement. To this end, the diffraction plate comprises a plurality of unit cells, which may form a certain value of impedance under control. Hereinafter, a structure of a unit cell according to various embodiments will be described with reference to FIGS. 7A and 7B, 8, 9, and 10.

도 7a 및 7b는 본 개시의 일 실시 예에 따른 무선 통신 시스템에서 유닛 셀의 구조를 도시한다. 도 7a는 유닛 셀 700의 평면도, 도 7b는 유닛 셀 700의 측면도이다. 이하, 도 7a 및 도 7b에서 하나의 유닛 셀 700의 구조가 설명되나, 빔 조향부 250에 포함되는 회절 플레이트의 다른 유닛 셀들 또한 하기에서 설명되는 유닛 셀 700의 구조와 동일한 구조를 가질 수 있다.7A and 7B illustrate a structure of a unit cell in a wireless communication system according to an embodiment of the present disclosure. 7A is a top view of the unit cell 700 and FIG. 7B is a side view of the unit cell 700. Hereinafter, the structure of one unit cell 700 will be described with reference to FIGS. 7A and 7B, but other unit cells of the diffraction plate included in the beam steering unit 250 may also have the same structure as that of the unit cell 700 described below.

도 7a를 참고하면, 유닛 셀 700은 가변 유전체 701, 가변 유전체의 커패시턴스를 제어하기 위해 바이어스 전압이 인가되는 전극 부재들 703 및 705, 전극 부재들 703 및 705와 연결되어 x축의 바이어스 전압이 인가되는 도전성 부재들 713, 717, 및 723, 및 전극 부재들 703 및 705와 연결되어 y축의 바이어스 전압이 인가되는 도전성 부재들 711, 715, 및 721을 포함할 수 있다. 여기에서 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705를 포함하는 소자는 버랙터(varactor)가 될 수 있다. 또한, 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705, 도전성 부재들 711, 713, 715, 717, 721, 및 723은 PCB(printed circuit board) 기판에 배치될 수 있다. 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705를 포함하는 소자는 유닛 셀 700의 기판의 중앙에 위치될 수 있으며, 이 경우, 전극 부재들 703 및 705가 적어도 하나의 기판의 모서리에 평행하지 않도록 배치될 수 있다. 다시 말해, 전극 부재들 703 및 705은 유닛 셀 700의 경계들과 0°이상의 각도를 가지도록 배치될 수 있다. 즉, 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705를 포함하는 소자는, 제1 전극 부재 703이 x축의 바이어스 전압을 전달하는 도전성 부재 713 및 y축의 바이어스 전압을 전달하는 도전성 부재 711에 연결되고, 또한, 제2 전극 부재 705가 x축의 바이어스 전압을 전달하는 도전성 부재 717 및 y축의 바이어스 전압을 전달하는 도전성 부재 715에 연결되도록, 배치될 수 있다. 예를 들어, 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705를 포함하는 소자는, 기판의 중앙에서 y=x에 대해 대칭이 되도록 배치될 수 있다.Referring to FIG. 7A, the unit cell 700 is connected to the variable dielectric 701 and the electrode members 703 and 705 to which the bias voltage is applied to control the capacitance of the variable dielectric, and the bias voltage of the x-axis is applied to the electrode members 703 and 705. The conductive members 713, 717, and 723, and the conductive members 711, 715, and 721 connected to the electrode members 703 and 705 to which a bias voltage on the y-axis is applied may be included. Herein, the device including the variable dielectric 701 and the electrode members 703 and 705 may be a varactor. In addition, the variable dielectric 701, the electrode members 703 and 705, the conductive members 711, 713, 715, 717, 721, and 723 may be disposed on a printed circuit board (PCB) substrate. An element comprising the variable dielectric 701, electrode members 703 and 705 may be located in the center of the substrate of the unit cell 700, in which case the electrode members 703 and 705 are to be arranged so as not to be parallel to the edge of the at least one substrate. Can be. In other words, the electrode members 703 and 705 may be arranged to have an angle of 0 ° or more with the boundaries of the unit cell 700. That is, the element including the variable dielectric 701, the electrode members 703 and 705 is connected to the conductive member 713, which transmits the bias voltage on the x-axis, and the conductive member 711, which carries the bias voltage on the y-axis, The second electrode member 705 may be arranged to be connected to the conductive member 717 that transmits the bias voltage on the x-axis and the conductive member 715 that transmits the bias voltage on the y-axis. For example, a device including the variable dielectric 701, electrode members 703 and 705 may be disposed to be symmetric about y = x at the center of the substrate.

도전성 부재들 711 및 717은 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705를 포함하는 소자에 대해 대칭적으로 배치될 수 있다. 또한, 도전성 부재들 713 및 715는 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705를 포함하는 소자에 대해 대칭적으로 배치될 수 있다.Conductive members 711 and 717 may be symmetrically disposed with respect to a device including variable dielectric 701, electrode members 703 and 705. In addition, the conductive members 713 and 715 may be symmetrically disposed with respect to a device including the variable dielectric 701 and the electrode members 703 and 705.

도 7b를 참고하면, 유닛 셀 700의 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705, 도전성 부재들 711, 713, 715, 717, 721, 및 723은 PCB 기판으로 이루어진 서로 다른 레이어들에 포함될 수 있다. 예를 들어, 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705, 및 도전성 부재들 711, 713, 715, 및 717을 포함하는 패턴 731은 제1 레이어 741에 포함될 수 있다. 또한, y축의 바이어스 전압을 전달하는 도전성 부재 721은 제2 레이어 743에 포함되고, 도전성 부재 733을 통해 패턴 731과 연결될 수 있다. 또한, x축의 바이어스 전압이 인가되는 도전성 부재 723은 제3 레이어 745에 포함되고, 도전성 부재 735를 통해 패턴 731과 연결될 수 있다. 도전성 부재들 733 및 735는 비아(via)로 구현될 수 있다.Referring to FIG. 7B, the variable dielectric 701, the electrode members 703 and 705, the conductive members 711, 713, 715, 717, 721, and 723 of the unit cell 700 may be included in different layers formed of a PCB substrate. For example, the pattern 731 including the variable dielectric 701, the electrode members 703 and 705, and the conductive members 711, 713, 715, and 717 may be included in the first layer 741. In addition, the conductive member 721 that transmits the bias voltage of the y-axis may be included in the second layer 743 and may be connected to the pattern 731 through the conductive member 733. In addition, the conductive member 723 to which the x-axis bias voltage is applied may be included in the third layer 745 and connected to the pattern 731 through the conductive member 735. The conductive members 733 and 735 may be implemented with vias.

도 8은 본 개시의 일 실시 예에 따른 무선 통신 시스템에서 유닛 셀의 바이어스 라인의 배치 형태를 도시한다. 도 8은 유닛 셀 700의 적층 구조를 예시한다. 제1 레이어 741에, 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705, 및 도전성 부재들 711, 713, 715, 및 717을 포함하는 패턴 731이 배치될 수 있다. 한편, 제2 레이어 743 및 제3 레이어 745에, 바이어스 라인으로 사용되는 도전성 부재들 721 및 723이 각각 배치될 수 있다. 도전성 부재들 721 및 723은 인덕턴스(inductance) 성분을 포함하므로, 도전성 부재들 721 및 723은 인덕턴스 성분에 의한 유닛 셀의 성능 저하를 최소화하도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 도전성 부재 721은 제2 레이어 743 상에서 도전성 부재들 711 및 715와 겹치도록 배치될 수 있으며, 도전성 부재 723은 제3 레이어 745 상에서 도전성 부재들 713 및 717과 겹치도록 배치될 수 있다.8 illustrates an arrangement of bias lines of a unit cell in a wireless communication system according to an exemplary embodiment of the present disclosure. 8 illustrates a stacked structure of the unit cell 700. In the first layer 741, a pattern 731 including a variable dielectric 701, electrode members 703 and 705, and conductive members 711, 713, 715, and 717 may be disposed. Meanwhile, conductive members 721 and 723 used as bias lines may be disposed in the second layer 743 and the third layer 745, respectively. Since the conductive members 721 and 723 include an inductance component, the conductive members 721 and 723 may be arranged to minimize the performance degradation of the unit cell due to the inductance component. For example, the conductive member 721 may be disposed to overlap the conductive members 711 and 715 on the second layer 743, and the conductive member 723 may be disposed to overlap the conductive members 713 and 717 on the third layer 745.

도 9는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 무선 통신 시스템에서 유닛 셀의 구조들의 평면도들을 도시한다. 도 9는 빔 조향부 209에 포함된 회절 플레이트를 구성하는 유닛 셀 구조의 다양한 실시 예들을 도시한다. 9 illustrates plan views of structures of a unit cell in a wireless communication system according to various embodiments of the present disclosure. FIG. 9 illustrates various embodiments of a unit cell structure of a diffraction plate included in the beam steering unit 209.

도 9를 참고하면, 구조 900과 같이, 유닛 셀은 가변 유전체 901 및 가변 유전체 901과 연결된 도전성 부재 903의 끝 부분이 사각 형태이며 가변 유전체 901에 대해 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 다른 예로, 구조 920과 같이, 유닛 셀은 가변 유전체 921 및 가변 유전체 921과 연결된 도전성 부재 923이 원 형태이며 가변 유전체 921에 대해 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 또 다른 예로, 구조 940과 같이, 유닛 셀은 가변 유전체 941 및 가변 유전체 941과 연결된 도전성 부재 943이 두 개의 사각 형태를 이루며 가변 유전체 941에 대해 대칭적인 구조를 가질 수 있다.Referring to FIG. 9, like the structure 900, the unit cell may have a square shape at the end of the variable dielectric 901 and the conductive member 903 connected to the variable dielectric 901 and have a symmetrical structure with respect to the variable dielectric 901. As another example, like the structure 920, the unit cell may have a variable dielectric 921 and a conductive member 923 connected to the variable dielectric 921 in a circular shape and have a symmetrical structure with respect to the variable dielectric 921. As another example, like the structure 940, the unit cell may have a symmetrical structure with respect to the variable dielectric 941 and the variable dielectric 941 and the conductive member 943 connected to the variable dielectric 941 may have two rectangular shapes.

도 9에 도시된 구조들 900, 920, 및 940은 예시적인 것으로서, 또 다른 구조의 유닛 셀들이 회절 플레이트를 형성할 수 있다. 예를 들어, 도전성 부재가 가변 유전체에 대하여 대칭적인 구조를 만족하도록 회절 플레이트의 유닛 셀 구조에 대해 다양한 변경이 가능하다.Structures 900, 920, and 940 shown in FIG. 9 are exemplary, and unit cells of another structure may form a diffraction plate. For example, various modifications are possible to the unit cell structure of the diffraction plate such that the conductive member satisfies the symmetrical structure with respect to the variable dielectric.

도 10은 본 개시의 일 실시 예에 따른 무선 통신 시스템에서 유닛 셀의 버랙터(varactor)의 극성을 도시한다. 도 10에 예시된 구성은 유닛 셀 700의 구성으로서 이해될 수 있다. 도 10에 따르면, 유닛 셀 700에 배치된 가변 유전체 701 및 전극 부재들 703 및 705를 포함하는 구성은 가변 용량 다이오드인 버랙터 1001로서 동작할 수 있다. 예를 들어, 전극 부재 703은 버랙터 1001의 양극(anode)로 동작할 수 있고, 전극 부재 705는 버랙터 1001의 음극(cathode)로 동작할 수 있으나, 이는 예시적인 것이며 전극 부재 703이 버랙터 1001의 음극, 전극 부재 705가 버랙터 1001의 양극으로 동작할 수도 있다.10 illustrates polarities of varactors of a unit cell in a wireless communication system according to an embodiment of the present disclosure. The configuration illustrated in FIG. 10 may be understood as the configuration of the unit cell 700. According to FIG. 10, the configuration including the variable dielectric 701 and the electrode members 703 and 705 disposed in the unit cell 700 may operate as the varactor 1001 which is a variable capacitance diode. For example, electrode member 703 may operate as an anode of varactor 1001 and electrode member 705 may act as a cathode of varactor 1001, but this is exemplary and electrode member 703 may be a varactor. The negative electrode of 1001 and the electrode member 705 may operate as the positive electrode of the varactor 1001.

도 10을 참고하면, 제어부 230는 버랙터 1001이 배치된 레이어와 다른 레이어들에 배치된 도전성 부재들 721 및 723을, 버랙터 1001의 커패시턴스(capacitance)를 조절하기 위한 바이어스 전압을 인가하는 바이어스 라인으로 사용함으로써, 유닛 셀의 수직 임피던스 및 수평 임피던스를 동시에 조절할 수 있다.Referring to FIG. 10, the control unit 230 applies a bias line for applying a bias voltage for adjusting capacitance of the varactor 1001 to the conductive members 721 and 723 disposed on layers different from the layer where the varactor 1001 is disposed. By using it, the vertical impedance and the horizontal impedance of the unit cell can be adjusted simultaneously.

본 개시의 일 실시 예에 따른 유닛 셀의 수직 임피던스는 <수학식 7>과 같이 표현될 수 있다.The vertical impedance of the unit cell according to the exemplary embodiment of the present disclosure may be expressed as Equation (7).

Figure pat00037
Figure pat00037

<수학식 7>에서,

Figure pat00038
은 유닛 셀의 수직 임피던스,
Figure pat00039
은 유닛 셀의 수직 임피던스의 저항(resistance) 성분,
Figure pat00040
은 유닛 셀의 수직 임피던스의 컨덕턴스(conductance) 성분,
Figure pat00041
은 유닛 셀의 수직 임피던스의 인덕턴스 성분,
Figure pat00042
은 유닛 셀의 수직 임피던스의 커패시턴스 성분,
Figure pat00043
는 유닛 셀의 동작 주파수를 의미한다.In Equation 7,
Figure pat00038
Is the vertical impedance of the unit cell,
Figure pat00039
Is the resistance component of the vertical impedance of the unit cell,
Figure pat00040
Is the conductance component of the unit cell's vertical impedance,
Figure pat00041
Is the inductance component of the vertical impedance of the unit cell,
Figure pat00042
Is the capacitance component of the unit cell's vertical impedance,
Figure pat00043
Denotes an operating frequency of the unit cell.

이에 따라, 유닛 셀의 수직 반사 계수는 <수학식 8>과 같이 표현될 수 있다.Accordingly, the vertical reflection coefficient of the unit cell may be expressed as Equation (8).

Figure pat00044
Figure pat00044

<수학식 8>에서,

Figure pat00045
은 공기에 대한 유닛 셀의 수직 반사 계수,
Figure pat00046
은 유닛 셀의 수직 임피던스,
Figure pat00047
는 공기의 임피던스를 의미한다.In Equation 8,
Figure pat00045
Is the vertical reflection coefficient of the unit cell with respect to air,
Figure pat00046
Is the vertical impedance of the unit cell,
Figure pat00047
Is the impedance of air.

또한, 유닛 셀의 수평 임피던스는 <수학식 9>과 같이 표현될 수 있다.In addition, the horizontal impedance of the unit cell may be expressed as Equation (9).

Figure pat00048
Figure pat00048

<수학식 9>에서,

Figure pat00049
은 유닛 셀의 수평 임피던스,
Figure pat00050
은 유닛 셀의 수평 임피던스의 저항 성분,
Figure pat00051
은 유닛 셀의 수평 임피던스의 컨덕턴스 성분,
Figure pat00052
은 유닛 셀의 수평 임피던스의 인덕턴스 성분,
Figure pat00053
은 유닛 셀의 수평 임피던스의 커패시턴스 성분,
Figure pat00054
는 유닛 셀의 동작 주파수를 의미한다.In Equation 9,
Figure pat00049
Is the horizontal impedance of the unit cell,
Figure pat00050
Is the resistance component of the horizontal impedance of the unit cell,
Figure pat00051
Is the conductance component of the unit cell's horizontal impedance,
Figure pat00052
Is the inductance component of the horizontal impedance of the unit cell,
Figure pat00053
Is the capacitance component of the horizontal impedance of the unit cell,
Figure pat00054
Denotes an operating frequency of the unit cell.

이에 따라, 유닛 셀의 수평 반사 계수는 <수학식 10>과 같이 표현될 수 있다.Accordingly, the horizontal reflection coefficient of the unit cell may be expressed as in Equation 10.

Figure pat00055
Figure pat00055

<수학식 10>에서,

Figure pat00056
은 공기에 대한 유닛 셀의 수평 반사 계수,
Figure pat00057
은 유닛 셀의 수평 임피던스,
Figure pat00058
는 공기의 임피던스를 의미한다.In Equation 10,
Figure pat00056
Is the horizontal reflection coefficient of the unit cell to air,
Figure pat00057
Is the horizontal impedance of the unit cell,
Figure pat00058
Is the impedance of air.

상술한 구조를 가지는 유닛 셀들로 구성된 회절 플레이트를 제어함으로써 빔의 조향을 위한 임피던스 배치가 형성될 수 있다. 유닛 셀들 각각은 바이어스 전압에 의해 둘 이상의 상태들을 가질 수 있으며, 상태들은 공기와의 임피던스 매칭 여부에 따라 구분될 수 있다. 유닛 셀들 각각의 상태에 따른 특성은 이하 도 11 및 도 12와 같다.By controlling the diffraction plate composed of the unit cells having the above-described structure, an impedance arrangement for steering the beam can be formed. Each of the unit cells may have two or more states by a bias voltage, and the states may be classified according to impedance matching with air. Characteristics according to the states of the unit cells are as shown in FIGS. 11 and 12.

도 11은 본 개시의 일 실시 예에 따른 유닛 셀의 임피던스가 공기와 임피던스 매칭이 되는 경우를 도시한다. 예를 들어, 유닛 셀에 전자기파 1101이 입사되고, 가변 유전체 701, 전극 부재 703(예를 들어, 다이오드의 양극), 및 전극 부재 705(예를 들어, 다이오드의 음극)로 이루어진 버랙터의 커패시턴스가 C=C1이 되도록 바이어스 전압이 인가될 수 있다. 이 경우, <수학식 7>을 이용하여 얻어진 유닛 셀의 수직 임피던스는

Figure pat00059
=377
Figure pat00060
으로, 공기의 임피던스
Figure pat00061
=377
Figure pat00062
와 동일한 값을 가진다. 이에 따라, <수학식 8>을 이용하여 얻어진 공기에 대한 유닛 셀의 수직 반사 계수는
Figure pat00063
=0이 된다.FIG. 11 illustrates a case where an impedance of a unit cell according to an embodiment of the present disclosure is impedance matched with air. For example, electromagnetic waves 1101 are incident on the unit cell, and the capacitance of the varactor consisting of the variable dielectric 701, the electrode member 703 (for example, the anode of the diode), and the electrode member 705 (for example, the cathode of the diode) is The bias voltage may be applied such that C = C 1 . In this case, the vertical impedance of the unit cell obtained using Equation 7 is
Figure pat00059
= 377
Figure pat00060
, Impedance of air
Figure pat00061
= 377
Figure pat00062
Has the same value as Accordingly, the vertical reflection coefficient of the unit cell with respect to air obtained by using Equation 8 is
Figure pat00063
= 0

또한, <수학식 9>을 이용하여 얻어진 유닛 셀의 수평 임피던스는

Figure pat00064
=377
Figure pat00065
으로, 공기의 임피던스
Figure pat00066
=377
Figure pat00067
와 동일한 값을 가진다. 이에 따라, <수학식 10>을 이용하여 얻어진 공기에 대한 유닛 셀의 수평 반사 계수는
Figure pat00068
=0이 된다. 즉, 유닛 셀의 수직 임피던스 및 수평 임피던스는 공기와 임피던스 매칭이 될 수 있다. 이에 따라, 입사된 전자기파 1101은 유닛 셀을 통과하여 진행하고(전자기파 1103), 유닛 셀에서 반사되는 전자기파가 발생하지 않는다.In addition, the horizontal impedance of the unit cell obtained using Equation 9 is
Figure pat00064
= 377
Figure pat00065
, Impedance of air
Figure pat00066
= 377
Figure pat00067
Has the same value as Accordingly, the horizontal reflection coefficient of the unit cell with respect to air obtained by using Equation 10 is
Figure pat00068
= 0 That is, the vertical impedance and the horizontal impedance of the unit cell may be impedance matching with air. Accordingly, the incident electromagnetic wave 1101 proceeds through the unit cell (electromagnetic wave 1103), and no electromagnetic wave reflected from the unit cell is generated.

도 12는 본 개시의 일 실시 예에 따른 유닛 셀의 임피던스가 공기와 임피던스 미스매칭이 되는 경우를 도시한다. 예를 들어, 유닛 셀에 전자기파 1201이 입사되고, 가변 유전체 701, 전극 부재 703(예를 들어, 다이오드의 양극), 및 전극 부재 705(예를 들어, 다이오드의 음극)로 이루어진 버랙터의 커패시턴스가 C=C2가 되도록 바이어스 전압이 인가될 수 있다. 이 경우, <수학식 7>을 이용하여 얻어진 유닛 셀의 수직 임피던스는

Figure pat00069
=0
Figure pat00070
으로, 금속의 임피던스와 유사한 값을 가진다. 이에 따라, <수학식 8>을 이용하여 얻어진 공기에 대한 유닛 셀의 수직 반사 계수는
Figure pat00071
=-1이 된다.12 illustrates a case where an impedance of a unit cell according to an embodiment of the present disclosure becomes impedance mismatch with air. For example, electromagnetic wave 1201 is incident on the unit cell, and the capacitance of the varactor consisting of the variable dielectric 701, the electrode member 703 (for example, the anode of the diode), and the electrode member 705 (for example, the cathode of the diode) is A bias voltage can be applied such that C = C 2 . In this case, the vertical impedance of the unit cell obtained using Equation 7 is
Figure pat00069
= 0
Figure pat00070
It has a value similar to that of metal. Accordingly, the vertical reflection coefficient of the unit cell with respect to air obtained by using Equation 8 is
Figure pat00071
= -1.

또한, <수학식 9>을 이용하여 얻어진 유닛 셀의 수평 임피던스는

Figure pat00072
=0
Figure pat00073
으로, 금속의 임피던스와 유사한 값을 가진다. 이에 따라, <수학식 10>을 이용하여 얻어진 공기에 대한 유닛 셀의 수평 반사 계수는
Figure pat00074
=-1이 된다. 즉, 유닛 셀의 수직 임피던스 및 수평 임피던스는 공기와 임피던스 미스매칭 되며, 특히 그 중에서도, 반사 계수가 -1이 될 수 있다. 이에 따라, 입사된 전자기파 1201은 유닛 셀에서 모두 반사되어 통과하지 못한다.In addition, the horizontal impedance of the unit cell obtained using Equation 9 is
Figure pat00072
= 0
Figure pat00073
It has a value similar to that of metal. Accordingly, the horizontal reflection coefficient of the unit cell with respect to air obtained by using Equation 10 is
Figure pat00074
= -1. That is, the vertical impedance and the horizontal impedance of the unit cell are impedance mismatched with air, and in particular, the reflection coefficient may be -1. As a result, the incident electromagnetic wave 1201 is not reflected by all the unit cells.

도 11 및 도 12에서 유닛 셀의 수직 임피던스 및 수평 임피던스가 공기와 임피던스 매칭 또는 공기와 완전히 임피던스 미스매칭이 되어 반사 계수가 -1이 되도록 버랙터의 특정 커패시턴스 값을 가지는 경우가 설명되었으나, 이는 예시적이고, 유닛 셀에 포함된 버랙터는 유닛 셀이 다양한 수직 임피던스 및 수평 임피던스 값을 가지도록 조절될 수 있다.In FIGS. 11 and 12, the case where the vertical impedance and the horizontal impedance of the unit cell have a specific capacitance value of the varactor such that the reflection coefficient is -1 due to impedance matching or air impedance mismatching with air is described. The varactor included in the unit cell can be adjusted so that the unit cell has various vertical impedance and horizontal impedance values.

도 13은 본 개시의 일 실시 예에 따른 유닛 셀의 동작 주파수에서 버랙터의 커패시턴스(capacitance)에 따른 반사 계수를 도시한다. 도 13은 유닛 셀 700에서 가변 유전체 701, 전극 부재들 703 및 705를 포함하는 버랙터의 반사 계수를 예시한다. 예시적으로, 곡선 1301은 버랙터의 커패시턴스가 1.8pF인 경우의 유닛 셀의 반사 계수 곡선이고, 곡선 1303은 버랙터의 커패시턴스가 2.3pF인 경우의 유닛 셀의 반사 계수 곡선이다. FIG. 13 illustrates a reflection coefficient according to a capacitance of a varactor at an operating frequency of a unit cell according to an embodiment of the present disclosure. FIG. 13 illustrates the reflection coefficient of a varactor including variable dielectric 701, electrode members 703 and 705 in unit cell 700. For example, curve 1301 is a reflection coefficient curve of a unit cell when the varactor capacitance is 1.8pF, and curve 1303 is a reflection coefficient curve of the unit cell when the varactor capacitance is 2.3pF.

도 13에 따르면, 버랙터의 커패시턴스가 증가함에 따라 유닛 셀의 공진 주파수는 낮아질 수 있다. 예를 들어, 곡선 1301은 4.5GHz 이하에서 0에 가까운 반사 계수 S21 값을 가질 수 있다. 여기에서, 반사 계수 S21은 유닛 셀에 입사되는 전자기파의 크기 및 유닛 셀을 통과하여 전파되는 전자기파의 크기의 비를 의미한다. 구체적으로, 곡선 1301은 주파수 4GHz에서 S21=-0.61dB 값을 가지며, 이는 유닛 셀의 임피던스가 327

Figure pat00075
인 것을 나타낸다. 또한, 곡선 1303은 곡선 1301인 경우의 공진 주파수보다 더 낮은 4GHz의 공진 주파수를 가진다. 곡선 1301은 4GHz에서 S21=-22.69dB 값을 가지며, 이는 유닛 셀의 임피던스가 13
Figure pat00076
인 것을 나타낸다. 결국, 조향하고자 하는 전자기파의 주파수가 4GHz인 경우, 버랙터의 커패시턴스가 1.8pF일 때(비공진 점), 유닛 셀은 공기와 임피던스 매칭이 되어 입사되는 전자기파를 모두 통과시키며, 버랙터의 커패시턴스가 2.3pF일 때(공진 점), 유닛 셀은 금속의 임피던스와 유사한 값을 가짐으로써 입사되는 전자기파를 모두 반사시킬 수 있다.According to FIG. 13, as the capacitance of the varactor increases, the resonant frequency of the unit cell may be lowered. For example, curve 1301 may have a reflection coefficient S 21 value close to zero at 4.5 GHz or less. Here, the reflection coefficient S 21 means a ratio of the magnitude of the electromagnetic wave incident on the unit cell and the magnitude of the electromagnetic wave propagated through the unit cell. Specifically, curve 1301 has a value of S 21 = -0.61 dB at a frequency of 4 GHz, which means that the unit cell has an impedance of 327
Figure pat00075
Indicates that Further, curve 1303 has a resonance frequency of 4 GHz lower than the resonance frequency in the case of curve 1301. Curve 1301 has a value of S 21 = -22.69 dB at 4 GHz, which means that the unit cell has an impedance of 13
Figure pat00076
Indicates that After all, if the frequency of the electromagnetic wave to be steered is 4 GHz, when the varactor capacitance is 1.8pF (non-resonant point), the unit cell is impedance matched with air and passes all incident electromagnetic waves, and the varactor capacitance is At 2.3 pF (resonance point), the unit cell can reflect all incident electromagnetic waves by having a value similar to that of metal.

도 13에서, 전자기파의 주파수 및 유닛 셀의 공진 주파수가 4GHz이고 버랙터의 커패시턴스가 1.8pF 및 2.3pF인 경우가 설명되었으나, 이는 예시적이고, 전자기파의 주파수 및 유닛 셀의 공진 특성은 다양하게 변경될 수 있다.In FIG. 13, the case where the frequency of the electromagnetic wave and the resonant frequency of the unit cell are 4 GHz and the capacitance of the varactor is 1.8 pF and 2.3 pF has been described. However, this is exemplary, and the frequency of the electromagnetic wave and the resonance characteristic of the unit cell are variously changed. Can be.

이상, 설명의 편의를 위해, 도 13에서 유닛 셀 700의 커패시턴스에 따른 임피던스 특성이 설명되었으나, 빔 조향부 250에 포함되는 회절 플레이트의 다른 유닛 셀 또한 위에서 설명한 바와 같은 임피던스 특성을 가질 수 있다.In the foregoing description, for convenience of description, an impedance characteristic according to capacitance of the unit cell 700 is described in FIG. 13, but other unit cells of the diffraction plate included in the beam steering unit 250 may also have impedance characteristics as described above.

도 14는 본 개시의 일 실시 예에 따른 유닛 셀들로 구성된 8×8 배열 구조의 회절 플레이트를 도시한다. 설명의 편의를 위해, 도 14는 유닛 셀 700의 8×8 배열 구조를 예시하지만, 다양한 실시 예들에 따라 다른 크기의 배열 구조가 적용될 수 있다. 또한, 본 개시의 다양한 실시 예들에 따라, 회절 플레이트는 FZP일 수 있다.FIG. 14 illustrates a diffractive plate of an 8 × 8 array structure composed of unit cells according to an embodiment of the present disclosure. For convenience of description, FIG. 14 illustrates an 8 × 8 arrangement structure of the unit cell 700, but other sizes of the arrangement structure may be applied according to various embodiments. In addition, according to various embodiments of the present disclosure, the diffraction plate may be FZP.

도 14를 참고하면, y축 바이어스 라인 1401은 유닛 셀들에게 수직 방향 바이어스 전압을 인가하기 위한 구성으로써, 도 7에서 설명된 도전 부재 721의 배열이 될 수 있다. 또한, x축 바이어스 라인 1403은 유닛 셀들에게 수평 방향 바이어스 전압을 인가하기 위한 구성으로써, 도 7에서 설명된 도전 부재 723의 배열이 될 수 있다. 제어부 230은 y축 바이어스 라인 1401 및 x축 바이어스 라인 1403을 통해 유닛 셀들에 원하는 바이어스 전압을 인가하여 유닛 셀들의 임피던스 배치를 조절함으로써, 회절 플레이트 상에 복수의 슬릿(slit)들을 형성하여, 원하는 방향으로 빔을 조향하기 위한 회절 무늬를 생성할 수 있다.Referring to FIG. 14, the y-axis bias line 1401 is configured to apply vertical bias voltages to unit cells, and may be an arrangement of the conductive members 721 described with reference to FIG. 7. In addition, the x-axis bias line 1403 is a configuration for applying a horizontal bias voltage to the unit cells, and may be an arrangement of the conductive member 723 described with reference to FIG. 7. The controller 230 adjusts the impedance arrangement of the unit cells by applying a desired bias voltage to the unit cells through the y-axis bias line 1401 and the x-axis bias line 1403, thereby forming a plurality of slits on the diffraction plate to form a desired direction. Can generate a diffraction pattern for steering the beam.

이에 따라, 수직 편파 및 수평 편파는 동일한 회절 무늬를 가진 회절 플레이트를 통과함으로써 동일한 각도로 회절되므로, 동일한 위상 지연을 가질 수 있다. 또한, 공기와 임피던스 매칭된 유닛 셀들은 수직 편파 및 수평 편파를 모두 통과시키므로, 수직 편파 및 수평 편파는 회절 플레이트를 통과하면서 크기 및

Figure pat00077
의 각도 차이가 유지된다. 결국, 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 회절 플레이트는 안테나로부터 방사된 원형 편파 신호를, 원형 편파의 형태를 유지하면서 조향할 수 있다.Accordingly, since the vertical polarization and the horizontal polarization are diffracted at the same angle by passing through a diffraction plate having the same diffraction pattern, they can have the same phase delay. In addition, since air and impedance matched unit cells pass both vertical and horizontal polarizations, the vertical and horizontal polarizations pass through the diffraction plate,
Figure pat00077
The angle difference is maintained. As a result, the diffraction plate according to various embodiments of the present disclosure may steer the circularly polarized signal emitted from the antenna while maintaining the shape of the circularly polarized wave.

이하 도 15 내지 도 17에서는 본 개시의 다양한 실시 예에 따라 복수의 유닛 셀들을 포함하는 회절 플레이트에서 빔의 방향에 따른 임피던스 배치를 형성하기 위한 바이어스 전압의 예들을 설명한다.15 to 17 illustrate examples of bias voltages for forming an impedance arrangement along a beam direction in a diffraction plate including a plurality of unit cells according to various embodiments of the present disclosure.

도 15는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 유닛 셀들의 배열을 포함하는 회절 플레이트의 임피던스 배치를 위한 일 예를 도시한다. 이하 설명의 편의를 위해, 도 15는 유닛 셀들로 구성된 12×12 배열 구조의 회절 플레이트의 임피던스 배치를 예시하지만, 회절 플레이트에 포함되는 유닛 셀들의 배열 구조는 다양하게 변경될 수 있다. 또한, 본 개시의 다양한 실시 예들에 따라, 회절 플레이트는 FZP일 수 있다.15 illustrates an example for impedance placement of a diffraction plate including an array of unit cells according to various embodiments of the present disclosure. For convenience of description below, FIG. 15 illustrates an impedance arrangement of a diffraction plate having a 12 × 12 array structure composed of unit cells, but the arrangement structure of unit cells included in the diffraction plate may be variously changed. In addition, according to various embodiments of the present disclosure, the diffraction plate may be FZP.

예를 들어, 임피던스 배치 1500은 x축에 대해

Figure pat00078
방향으로 빔을 조향하기 위한 임피던스 배치를 나타낸다. 제어부 230은 x축 바이어스 라인들 1503을 통해, 모든 유닛 셀들에게 접지된 DC(direct current) 전압을 수평 바이어스 전압으로써 제공할 수 있다. 한편, 제어부 230은 y축 바이어스 라인들 1501을 통해 유닛 셀들에게 각각 5V, 0V, 5V, 5V, 0V, 0V, 0V, 5V, 5V, 5V, 5V, 0V의 수직 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 이 경우, 수평 바이어스 전압 및 수직 바이어스 전압의 차이가 0V인 경우에 유닛 셀의 임피던스는 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지고, 수평 바이어스 전압 및 수직 바이어스 전압의 차이가 5V인 경우에 유닛 셀의 임피던스는 금속의 임피던스와 유사한 값을 가질 수 있다.For example, impedance placement 1500 is
Figure pat00078
Impedance arrangement for steering the beam in the direction shown. The control unit 230 may provide a direct current (DC) voltage grounded to all unit cells as horizontal bias voltages through the x-axis bias lines 1503. The controller 230 may apply vertical bias voltages of 5V, 0V, 5V, 5V, 0V, 0V, 0V, 5V, 5V, 5V, 5V, and 0V to the unit cells through the y-axis bias lines 1501, respectively. In this case, when the difference between the horizontal bias voltage and the vertical bias voltage is 0V, the impedance of the unit cell has a value similar to that of the air, and when the difference between the horizontal bias voltage and the vertical bias voltage is 5V, the impedance of the unit cell is It may have a value similar to that of the metal.

결국, 임피던스 배치 1500에서 1, 3, 4, 및 8 내지 11열들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 금속의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 또한, 임피던스 배치 1500에서 2, 5 내지 7, 및 12열들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 결국, 원형 편파는 공기와 임피던스 매칭된 2, 5 내지 7, 및 12열들에 배치된 유닛 셀들을 통과하여 x축에 대해

Figure pat00079
방향으로 진행될 수 있다.As a result, the impedances of the unit cells arranged in the 1, 3, 4, and 8 to 11 columns in the impedance arrangement 1500 may be arranged to have the same value as each other and have a value similar to that of the metal. In addition, in the impedance arrangement 1500, the unit cells arranged in the 2, 5 to 7, and 12 columns may have the same impedance and have a value similar to that of air. Eventually, the circularly polarized light passes through the unit cells arranged in rows 2, 5 to 7, and 12 that are impedance matched to air and is about the x axis.
Figure pat00079
Can proceed in a direction.

다른 예로, 임피던스 배치 1520은 x축에 대해

Figure pat00080
방향으로 빔을 조향하기 위한 임피던스 배치를 나타낸다. 제어부 230은 x축 바이어스 라인들 1523을 통해, 모든 유닛 셀들에게 접지된 DC 전압을 수평 바이어스 전압으로써 제공할 수 있다. 한편, 제어부 230은 y축 바이어스 라인들 1521을 통해 유닛 셀들에게 각각 5V, 0V, 0V, 5V, 5V, 5V, 0V, 0V, 0V, 0V, 5V, 5V의 수직 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 이 경우, 임피던스 배치 1520에서 1, 4 내지 6, 및 11 내지 12열들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 금속의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 또한, 임피던스 배치 1520에서 2 내지 3, 및 7 내지 10열들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 결국, 원형 편파는 공기와 임피던스 매칭된 2 내지 3, 및 7 내지 10열들에 배치된 유닛 셀들을 통과하여 x축에 대해
Figure pat00081
방향으로 진행될 수 있다.As another example, impedance placement 1520 is
Figure pat00080
Impedance arrangement for steering the beam in the direction shown. The controller 230 may provide a DC voltage grounded to all the unit cells as the horizontal bias voltage through the x-axis bias lines 1523. The controller 230 may apply vertical bias voltages of 5V, 0V, 0V, 5V, 5V, 5V, 0V, 0V, 0V, 0V, 5V, and 5V to the unit cells through the y-axis bias lines 1521, respectively. In this case, in the impedance arrangement 1520, the unit cells arranged in the 1, 4 to 6, and 11 to 12 columns may have the same impedance and have a value similar to that of the metal. In addition, in the impedance arrangement 1520, unit cells arranged in two to three and seven to ten columns may have the same impedance and have a value similar to that of air. Eventually, the circularly polarized light passes through the unit cells arranged in two to three, and seven to ten columns that are impedance matched with air, with respect to the x axis.
Figure pat00081
Can proceed in a direction.

도 16은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 유닛 셀들의 배열을 포함하는 회절 플레이트의 임피던스 배치를 위한 다른 예를 도시한다. 이하 설명의 편의를 위해, 도 16은 유닛 셀들로 구성된 12×12 배열 구조의 회절 플레이트의 임피던스 배치를 예시하나, 회절 플레이트에 포함되는 유닛 셀들의 배열 구조는 다양하게 변경될 수 있다. 또한, 본 개시의 다양한 실시 예들에 따라, 회절 플레이트는 FZP일 수 있다.16 illustrates another example for impedance placement of a diffraction plate including an arrangement of unit cells according to various embodiments of the present disclosure. For convenience of description below, FIG. 16 illustrates an impedance arrangement of a diffraction plate having a 12 × 12 array structure consisting of unit cells, but the arrangement structure of unit cells included in the diffraction plate may be variously changed. In addition, according to various embodiments of the present disclosure, the diffraction plate may be FZP.

예를 들어, 임피던스 배치 1600은 y축에 대해

Figure pat00082
방향으로 빔을 조향하기 위한 임피던스 배치를 나타낸다. 제어부 230은 y축 바이어스 라인들 1601을 통해, 모든 유닛 셀들에게 접지된 DC 전압을 수직 바이어스 전압으로써 제공할 수 있다. 한편, 제어부 230은 x축 바이어스 라인들 1603을 통해 유닛 셀들에게 각각 0V, 0V, 0V, 5V, 5V, 5V, 0V, 0V, 5V, 5V, 0V, 5V의 수평 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 이 경우, 수평 바이어스 전압 및 수직 바이어스 전압의 차이가 0V인 경우에 유닛 셀의 임피던스는 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지고, 수평 바이어스 전압 및 수직 바이어스 전압의 차이가 5V인 경우에 유닛 셀의 임피던스는 금속의 임피던스와 유사한 값을 가질 수 있다.For example, impedance placement 1600 is
Figure pat00082
Impedance arrangement for steering the beam in the direction shown. The controller 230 may provide a DC voltage grounded to all the unit cells as a vertical bias voltage through the y-axis bias lines 1601. The controller 230 may apply horizontal bias voltages of 0V, 0V, 0V, 5V, 5V, 5V, 0V, 0V, 5V, 5V, 0V, and 5V to the unit cells through the x-axis bias lines 1603, respectively. In this case, when the difference between the horizontal bias voltage and the vertical bias voltage is 0V, the impedance of the unit cell has a value similar to that of the air, and when the difference between the horizontal bias voltage and the vertical bias voltage is 5V, the impedance of the unit cell is It may have a value similar to that of the metal.

결국, 임피던스 배치 1600에서 4 내지 6, 9 내지 10, 및 12행들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 금속의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 또한, 임피던스 배치 1600에서 1 내지 3, 7 내지 8, 및 11행들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 결국, 원형 편파는 공기와 임피던스 매칭된 1 내지 3, 7 내지 8, 및 11행들에 배치된 유닛 셀들을 통과하여 y축에 대해

Figure pat00083
방향으로 진행될 수 있다.As a result, the impedances of the unit cells arranged in the 4 to 6, 9 to 10, and 12 rows in the impedance arrangement 1600 may be arranged to have the same value as each other and have a value similar to that of the metal. In addition, in the impedance arrangement 1600, unit cells arranged in rows 1 to 3, 7 to 8, and 11 may have the same impedance and have a value similar to that of air. Eventually, the circular polarization passes through the unit cells arranged in rows 1 to 3, 7 to 8, and 11 that are impedance matched to air and is about the y axis.
Figure pat00083
Can proceed in a direction.

다른 예로, 임피던스 배치 1620은 y축에 대해

Figure pat00084
방향으로 빔을 조향하기 위한 임피던스 배치를 나타낸다. 제어부 230은 y축 바이어스 라인들 1621을 통해, 모든 유닛 셀들에게 접지된 DC 전압을 수직 바이어스 전압으로써 제공할 수 있다. 한편, 제어부 230은 x축 바이어스 라인들 1623을 통해 유닛 셀들에게 각각 0V, 5V, 0V, 0V, 0V, 5V, 5V, 0V, 0V, 5V, 5V, 5V의 수평 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 이 경우, 임피던스 배치 1620에서 2, 6 내지 7, 및 10 내지 12행들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 금속의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 또한, 임피던스 배치 1620에서 1, 3 내지 5, 및 8 내지 9행들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 결국, 원형 편파는 공기와 임피던스 매칭된 1, 3 내지 5, 및 8 내지 9행들에 배치된 유닛 셀들을 통과하여 y축에 대해
Figure pat00085
방향으로 진행될 수 있다.As another example, impedance placement 1620 is
Figure pat00084
Impedance arrangement for steering the beam in the direction shown. The controller 230 may provide a DC voltage grounded to all the unit cells as a vertical bias voltage through the y-axis bias lines 1621. The controller 230 may apply horizontal bias voltages of 0V, 5V, 0V, 0V, 0V, 5V, 5V, 0V, 0V, 5V, 5V, and 5V to the unit cells through the x-axis bias lines 1623, respectively. In this case, in the impedance arrangement 1620, the unit cells arranged in the 2, 6 to 7, and 10 to 12 rows may have the same impedance and have a value similar to that of the metal. In addition, in the impedance arrangement 1620, the unit cells arranged in rows 1, 3 to 5, and 8 to 9 may have the same impedance and have a value similar to that of air. Eventually, the circularly polarized light passes through the unit cells arranged in rows 1, 3 to 5, and 8 to 9, which are impedance matched with air, to the y axis.
Figure pat00085
Can proceed in a direction.

도 15 및 도 16에 예시된 임피던스 배치는 x축 또는 y축의 바이어스들이 접지된 상황에서 형성된다. 하나의 축의 바이어스들이 접지된 상황 뿐 아니라, x축 및 y축의 바이어스들 각각에 일정 전압들이 인가됨으로써 형성되는 임피던스 배치도 사용될 수 있다. 이하 도 17을 참고하여, x축 및 y축의 바이어스들 각각에 일정 전압들이 인가되는 경우의 예가 설명된다.The impedance arrangement illustrated in FIGS. 15 and 16 is formed in a situation where the biases of the x-axis or the y-axis are grounded. In addition to the situation where the biases of one axis are grounded, an impedance arrangement formed by applying constant voltages to each of the biases of the x and y axes may be used. Hereinafter, referring to FIG. 17, an example in which constant voltages are applied to each of the biases of the x and y axes is described.

도 17은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 유닛 셀들의 배열을 포함하는 회절 플레이트의 임피던스 배치를 위한 또 다른 예를 도시한다. 이하 설명의 편의를 위해, 도 17은 유닛 셀들로 구성된 3×3 배열 구조의 회절 플레이트의 임피던스 배치를 예시하나, 회절 플레이트에 포함되는 유닛 셀들의 배열 구조는 다양하게 변경될 수 있다. 또한, 본 개시의 다양한 실시 예들에 따라, 회절 플레이트는 FZP일 수 있다.17 illustrates another example for impedance placement of a diffraction plate including an arrangement of unit cells according to various embodiments of the present disclosure. For convenience of description below, FIG. 17 illustrates an impedance arrangement of a diffraction plate having a 3 × 3 array structure composed of unit cells, but the arrangement structure of unit cells included in the diffraction plate may be variously changed. In addition, according to various embodiments of the present disclosure, the diffraction plate may be FZP.

임피던스 배치 1700에서, 제어부 230은 y축 바이어스 라인들 1701을 통해 유닛 셀들에게 각각 5V, 5V, 5V의 수직 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 한편, 제어부 230은 x축 바이어스 라인들 1703을 통해 유닛 셀들에게 각각 0V, 5V, 0V의 수평 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 이 경우, 수평 바이어스 전압 및 수직 바이어스 전압의 차이가 0V인 경우에 유닛 셀의 임피던스는 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지고, 수평 바이어스 전압 및 수직 바이어스 전압의 차이가 5V인 경우에 유닛 셀의 임피던스는 금속의 임피던스와 유사한 값을 가질 수 있다. 결국, 임피던스 배치 1700에서 1 및 3행들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 금속의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 또한, 임피던스 배치 1700에서 2행에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 이에 따라, 원형 편파는 공기와 임피던스 매칭된 2행에 배치된 유닛 셀들을 통과하여 진행될 수 있다.In the impedance arrangement 1700, the controller 230 may apply vertical bias voltages of 5V, 5V, and 5V to the unit cells through the y-axis bias lines 1701, respectively. Meanwhile, the controller 230 may apply horizontal bias voltages of 0V, 5V, and 0V to the unit cells through the x-axis bias lines 1703, respectively. In this case, when the difference between the horizontal bias voltage and the vertical bias voltage is 0V, the impedance of the unit cell has a value similar to that of the air, and when the difference between the horizontal bias voltage and the vertical bias voltage is 5V, the impedance of the unit cell is It may have a value similar to that of the metal. As a result, in the impedance arrangement 1700, the unit cells arranged in the first and third rows may have the same impedance and have a value similar to that of the metal. In addition, in the impedance arrangement 1700, the unit cells arranged in two rows may have the same impedance and have a value similar to that of air. Accordingly, the circularly polarized wave may proceed through unit cells arranged in two rows that are impedance matched with air.

임피던스 배치 1720에서, 제어부 230은 y축 바이어스 라인들 1721을 통해 유닛 셀들에게 각각 0V, -5V, 0V의 수직 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 한편, 제어부 230은 x축 바이어스 라인들 1723을 통해 유닛 셀들에게 각각 -5V, -5V, -5V의 수평 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 이 경우, 임피던스 배치 1720에서 1 및 3열들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 금속의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 또한, 임피던스 배치 1700에서 2열에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 이에 따라, 원형 편파는 공기와 임피던스 매칭된 2열에 배치된 유닛 셀들을 통과하여 진행될 수 있다.In the impedance arrangement 1720, the controller 230 may apply vertical bias voltages of 0 V, −5 V, and 0 V to the unit cells through the y-axis bias lines 1721, respectively. The controller 230 may apply horizontal bias voltages of −5 V, −5 V, and −5 V to the unit cells through the x-axis bias lines 1723, respectively. In this case, in the impedance arrangement 1720, the unit cells arranged in the first and third columns may have the same impedance and have a value similar to that of the metal. In addition, in the impedance arrangement 1700, the unit cells arranged in two columns may have the same impedance and have a value similar to that of air. Accordingly, the circularly polarized wave may proceed through the unit cells arranged in two rows that are impedance matched with air.

임피던스 배치 1740에서, 제어부 230은 y축 바이어스 라인들 1741을 통해 유닛 셀들에게 각각 5V, 5V, 5V의 수직 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 한편, 제어부 230은 x축 바이어스 라인들 1743을 통해 유닛 셀들에게 각각 5V, 5V, 0V의 수평 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 이 경우, 임피던스 배치 1740에서 3행에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 금속의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 또한, 임피던스 배치 1740에서 1행 및 2행들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 이에 따라, 원형 편파는 공기와 임피던스 매칭된 1행 및 2행들에 배치된 유닛 셀들을 통과하여 진행될 수 있다.In the impedance arrangement 1740, the controller 230 may apply vertical bias voltages of 5V, 5V, and 5V to the unit cells through the y-axis bias lines 1741, respectively. Meanwhile, the controller 230 may apply horizontal bias voltages of 5V, 5V, and 0V to the unit cells through the x-axis bias lines 1743, respectively. In this case, in the impedance arrangement 1740, the unit cells arranged in three rows may have the same impedance and have a value similar to that of the metal. In addition, in the impedance arrangement 1740, the unit cells arranged in the first and second rows may have the same impedance and have a value similar to that of air. Accordingly, the circularly polarized wave may proceed through unit cells arranged in one and two rows that are impedance-matched with air.

임피던스 배치 1760에서, 제어부 230은 y축 바이어스 라인들 1761을 통해 유닛 셀들에게 각각 -3V, 2V, -3V의 수직 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 한편, 제어부 230은 x축 바이어스 라인들 1763을 통해 유닛 셀들에게 각각 -3V, -3V, -3V의 수평 바이어스 전압을 인가할 수 있다. 이 경우, 임피던스 배치 1760에서 2열에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 금속의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 또한, 임피던스 배치 1760에서 1열 및 3열들에 배치된 유닛 셀들의 임피던스가 서로 동일하며 공기의 임피던스와 유사한 값을 가지도록 배치될 수 있다. 이에 따라, 원형 편파는 공기와 임피던스 매칭된 1열 및 3열들에 배치된 유닛 셀들을 통과하여 진행될 수 있다.In the impedance arrangement 1760, the controller 230 may apply vertical bias voltages of −3 V, 2 V, and −3 V to the unit cells through the y-axis bias lines 1761, respectively. The controller 230 may apply horizontal bias voltages of −3 V, −3 V, and −3 V to the unit cells through the x-axis bias lines 1763, respectively. In this case, in the impedance arrangement 1760, the unit cells arranged in two columns may have the same impedance and have a value similar to that of the metal. In addition, in the impedance arrangement 1760, the unit cells arranged in the first column and the third column may have the same impedance and have a value similar to that of air. Accordingly, the circular polarization may proceed through unit cells arranged in columns 1 and 3 that are impedance matched with air.

도 15 내지 도 17에서, 임피던스 배치를 형성하기 위해 특정한 값의 바이어스 전압들이 인가되는 경우가 설명되었으나, 유닛 셀들의 배열에 대해 다양한 바이어스 전압들이 인가될 수 있다. 예를 들어, 조향되는 신호의 주파수 또는 버랙터로 사용되는 유전체의 종류에 따라, 유닛 셀들이 공기의 임피던스 또는 금속의 임피던스와 유사한 임피던스들을 가지도록 하는 다양한 바이어스 전압들이 인가될 수 있다.15 to 17, the case where a certain value of bias voltages are applied to form an impedance arrangement has been described, but various bias voltages may be applied to the arrangement of the unit cells. For example, depending on the frequency of the signal being steered or the type of dielectric used as the varactor, various bias voltages may be applied such that the unit cells have impedances similar to those of air or that of metal.

상술한 회절 플레이트는 다중 슬릿 구조를 형성하기 위한 구성 요소로서, 도 4에서 설명된 바와 같이 전자기파의 회절 각도는 슬릿의 폭에 따라 조절될 수 있다. 결국, 슬릿의 폭이 작을수록 빔의 방향이 정밀하게 조절될 수 있다. 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 회절 플레이트에서, 금속의 임피던스와 유사한 임피던스를 가지는 유닛 셀들이 슬릿과 같은 역할을 하고, 공기의 임피던스와 유사한 임피던스를 가지는 유닛 셀들은 슬릿 사이의 간격과 같은 역할을 할 수 있다.The diffraction plate described above is a component for forming a multi-slit structure, and as described in FIG. 4, the diffraction angle of the electromagnetic wave may be adjusted according to the width of the slit. As a result, the smaller the width of the slit, the more precisely the direction of the beam can be adjusted. In the diffraction plate according to various embodiments of the present disclosure, unit cells having an impedance similar to that of a metal may serve as slits, and unit cells having an impedance similar to that of air may serve as a gap between the slits. Can be.

도 18a 및 도 18b는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따라 빔의 방향을 조절하기 위한 유닛 셀들의 크기를 도시한다. 도 18a 및 도 18b는 회절 플레이트에 포함된 유닛 셀 700들의 배열로 이해될 수 있지만, 이는 예시적이며, 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 구조를 가진 유닛 셀들의 배열로 변경이 가능하다. 또한, 본 개시의 다양한 실시 예들에 따라 회절 플레이트는 FZP일 수 있다.18A and 18B illustrate the size of unit cells for adjusting the direction of a beam according to various embodiments of the present disclosure. 18A and 18B may be understood as an arrangement of unit cells 700 included in a diffraction plate, but this is exemplary and may be changed to an arrangement of unit cells having a structure according to various embodiments of the present disclosure. In addition, according to various embodiments of the present disclosure, the diffraction plate may be FZP.

도 18a에서 유닛 셀들의 배열 1800은 임피던스 배치들 1801 및 1803을 나타낼 수 있고, 도 18b에서 유닛 셀들의 배열 1820은 임피던스 배치들 1821, 1823, 및 1825를 나타낼 수 있다. 여기에서, 도 18a 및 도 18b의 유닛 셀들의 배열의 전체 길이는 동일하며, 유닛 셀들의 크기만 상이한 것으로 이해될 수 있다. 이 경우, 도 18a의 유닛 셀들의 크기가 도 18b의 유닛 셀들의 크기보다 크기 때문에, 유닛 셀들의 배열 1820의 슬릿이 유닛 셀들의 배열 1800의 슬릿보다 더 작은 폭의 슬릿을 가지게 된다. 결국, 도 18b의 유닛 셀들의 배열 1820이 빔의 방향을 더 정밀하게 조절할 수 있다.The arrangement 1800 of unit cells in FIG. 18A may represent impedance arrangements 1801 and 1803, and the arrangement 1820 of unit cell in FIG. 18B may represent impedance arrangements 1821, 1823, and 1825. Here, the overall length of the arrangement of the unit cells of FIGS. 18A and 18B is the same, and it can be understood that only the size of the unit cells is different. In this case, since the unit cells of FIG. 18A are larger than the unit cells of FIG. 18B, the slits of the array 1820 of the unit cells have a width smaller than that of the slits of the array 1800 of the unit cells. As a result, the arrangement 1820 of the unit cells of FIG. 18B may more precisely adjust the direction of the beam.

상술한 다양한 실시 예들과 같이, 회절 플레이트를 이용하여 원형 편파 특성을 가지는 신호(이하, ‘원형 편파 신호’라 칭함)가 조향될 수 있다. 이를 위해, 통신 장치(예: 통신 장치 A 110)는 원형 편파 신호를 생성한다. 원형 편파 신호는 이하 도 19a 또는 도 19b와 같은 구조를 통해 생성될 수 있다.As in the aforementioned various embodiments, a signal having a circular polarization characteristic (hereinafter, referred to as a “circular polarization signal”) may be steered using a diffraction plate. To this end, a communication device (eg, communication device A 110) generates a circularly polarized signal. The circularly polarized signal may be generated through a structure as shown in FIG. 19A or 19B.

도 19a는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 회절 플레이트 및 원형 편파 안테나를 이용한 원형 편파의 빔 조향을 도시한다. 회절 플레이트 1903을 이용한 원형 편파 신호의 조향을 위해, 원형 편파 안테나 1901에서 생성된 원형 편파가 회절 플레이트 1903에 입사될 수 있다. 회절 플레이트 1903은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따라 유닛 셀들의 임피던스 배치를 조절하여 빔의 방향을 조절할 수 있다.19A illustrates beam steering of circularly polarized waves using a diffractive plate and circularly polarized antenna according to various embodiments of the present disclosure. For steering of the circularly polarized signal using the diffraction plate 1903, the circularly polarized wave generated by the circularly polarized antenna 1901 may be incident on the diffraction plate 1903. The diffraction plate 1903 may adjust the direction of the beam by adjusting the impedance arrangement of the unit cells according to various embodiments of the present disclosure.

도 19b는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 회절 플레이트, 선형 편파 안테나, 및 원형 편파 변환기를 이용한 원형 편파의 빔 조향을 도시한다. 도 19a의 경우와 달리, 선형 편파 안테나 1921에서 방사되는 선형 편파는 원형 편파 변환기 1923에서 원형 편파로 변환되고, 변환된 원형 편파는 회절 플레이트 1925에 입사될 수 있다. 회절 플레이트 1925는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따라 유닛 셀들의 임피던스 배치를 조절하여 빔의 방향을 조절할 수 있다.19B illustrates beam steering of circularly polarized waves using a diffraction plate, a linearly polarized antenna, and a circularly polarized transducer according to various embodiments of the present disclosure. Unlike the case of FIG. 19A, the linear polarization radiated from the linear polarization antenna 1921 may be converted into circular polarization in the circular polarization converter 1923, and the converted circular polarization may be incident on the diffraction plate 1925. The diffraction plate 1925 may adjust the direction of the beam by adjusting the impedance arrangement of the unit cells according to various embodiments of the present disclosure.

이하, 도 20 및 도 21을 참고하여, 선형 편파를 이용하여 원형 편파를 생성하는 원형 편파 변환기 1923의 구조가 구체적으로 설명된다.Hereinafter, referring to FIGS. 20 and 21, a structure of a circular polarization converter 1923 that generates circular polarization using linear polarization will be described in detail.

도 20은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기 구조의 윗면(top face)을 도시한다. 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기는 메타 물질로 구성될 수 있으며, 수직 편파 및 수평 편파 간의 위상 차를

Figure pat00086
만큼 발생시키기 위한 구조를 가질 수 있다.20 illustrates a top face of a circular polarization converter structure according to various embodiments of the present disclosure. Circular polarization transducer according to various embodiments of the present disclosure may be composed of a meta-material, the phase difference between the vertical and horizontal polarization
Figure pat00086
It may have a structure for generating as much.

원형 편파 변환기의 윗면 2000에서, 메타 물질들 2001 및 2003과 메타 물질들 2005 및 2007은 각각 Gh만큼 이격되어 배치되고, 메타 물질들 2001 및 2007과 메타 물질들 2003 및 2005은 각각 Gv만큼 이격되어 배치된다. 각 이격 거리 Gh 및 Gv 간의 차이에 의해, 원형 편파 변환기의 윗면 2000은 등가 회로 2020 또는 등가 회로 2040으로 표현될 수 있다.On the top surface 2000 of the circular polarization transducer, metamaterials 2001 and 2003 and metamaterials 2005 and 2007 are spaced apart by G h , and metamaterials 2001 and 2007 and metamaterials 2003 and 2005 spaced by G v, respectively. Are arranged. By the difference between the respective separation distances G h and G v , the top surface 2000 of the circular polarization converter may be represented by an equivalent circuit 2020 or an equivalent circuit 2040.

원형 편파 변환기에 입사되는 선형 편파가 등가 회로 2020에서 출력되는 경우 수직 편파가 생성되고, 선형 편파가 등가 회로 2040에서 출력되는 경우 수평 편파가 생성된다. 그러나, 등가 회로 2020 및 등가 회로 2040 간에는 커패시턴스 Cv 및 Ch의 차이만 존재하므로, 원형 편파 변환기의 윗면 2000만으로는 수직 편파 및 수평 편파의 위상 차가

Figure pat00087
가 되지는 않는다. 이하, 후술되는 원형 편파 변환기의 아랫면의 구조에 의해 수직 편파 및 수평 편파의 위상 차가
Figure pat00088
가 될 수 있다.Vertical polarization is generated when the linear polarization incident on the circular polarization converter is output from the equivalent circuit 2020, and horizontal polarization is generated when the linear polarization is output from the equivalent circuit 2040. However, since there is only a difference in capacitance C v and C h between the equivalent circuit 2020 and the equivalent circuit 2040, the phase difference between the vertical polarization and the horizontal polarization is only 20 million with the top surface of the circular polarization converter.
Figure pat00087
Does not become. Hereinafter, the phase difference between the vertical polarization and the horizontal polarization is changed by the structure of the lower surface of the circular polarization converter described later.
Figure pat00088
Can be

도 21은 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기 구조의 아랫면(bottom face)을 도시한다. 원형 편파 변환기의 아랫면 2100에서, 메타 물질들 사이로 배치되는 도전성 부재 2101에 의해 인덕턴스(inductance) 성분이 추가될 수 있다. 추가되는 인덕턴스 성분에 의해 원형 편파 변환기는 등가 회로 2120 또는 등가 회로 2140으로 표현될 수 있다.21 illustrates a bottom face of a circularly polarized transducer structure according to various embodiments of the present disclosure. At the bottom 2100 of the circularly polarized transducer, an inductance component may be added by the conductive member 2101 disposed between the metamaterials. By the added inductance component, the circularly polarized wave converter may be represented by an equivalent circuit 2120 or an equivalent circuit 2140.

원형 편파 변환기에 입사되는 선형 편파가 등가 회로 2120에서 출력되는 경우 수직 편파가 생성되고, 선형 편파가 등가 회로 2140에서 출력되는 경우 수평 편파가 생성된다. 여기에서, 수평 편파가 생성되기 위한 등가 회로 2140은 도 20의 등가 회로 2040에 인덕턴스 Lm 성분이 추가된 회로이다. 인덕턴스 Lm의 추가로 인하여, 수직 편파 및 수평 편파 간의 위상 차는

Figure pat00089
가 될 수 있다. 결국, 원형 편파 변환기는 윗면의 메타 물질들 간의 이격 거리 Gh 및 Gv 및 아랫면의 도전성 부재로 인한 인덕턴스 Lm에 의해 원형 편파를 생성할 수 있다.Vertical polarization is generated when the linear polarization incident on the circular polarization converter is output from the equivalent circuit 2120, and horizontal polarization is generated when the linear polarization is output from the equivalent circuit 2140. Here, the equivalent circuit 2140 for generating horizontal polarization is a circuit in which an inductance L m component is added to the equivalent circuit 2040 of FIG. 20. Due to the addition of inductance Lm, the phase difference between vertical and horizontal polarization
Figure pat00089
Can be As a result, the circularly polarized transducer can generate circular polarization by the separation distance G h and G v between the metamaterials on the top face and the inductance L m due to the conductive member on the bottom face.

이하 도 22a 내지 도 23에서, 원형 편파 변환기에 의해 생성되는 원형 편파에 대한 구체적인 측정 결과들이 설명된다.In the following FIGS. 22A to 23, specific measurement results for circular polarizations generated by circular polarization transducers are described.

도 22a는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기에 의해 생성된 원형 편파의 수평 편파 및 수직 편파의 비를 나타내는 그래프를 도시한다. 도 22a를 참고하면, 수평 편파 및 수직 편파의 비, 즉 축비의 측정 결과 곡선 2203은 시뮬레이션 결과를 나타내는 곡선 2201과 높은 일치도를 보인다. 또한, 곡선들 2201 및 2203은 원형 편파 변환기의 동작 주파수 대역에서 3dB 이하의 축비 값을 나타냄으로써, 원형 편파 변환기가 동작 주파수 전대역에서 원형 편파를 생성하는 것이 확인된다.22A is a graph illustrating a ratio of horizontal polarization and vertical polarization of circular polarization generated by a circular polarization converter according to various embodiments of the present disclosure. Referring to FIG. 22A, the measurement result curve 2203 of the ratio of the horizontal polarization and the vertical polarization, that is, the axial ratio, shows high agreement with the curve 2201 representing the simulation result. Further, curves 2201 and 2203 represent an axial ratio value of 3 dB or less in the operating frequency band of the circularly polarized transducer, thereby confirming that the circularly polarized transducer produces circular polarization in the entire operating frequency band.

도 22b는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기에 의해 생성된 원형 편파의 수평 편파 및 수직 편파의 위상차를 나타내는 그래프를 도시한다. 도 22b를 참고하면, 원형 편파 변환기에서 생성된 수평 편파 및 수직 편파 간의 위상차를 측정한 곡선 2223은 시뮬레이션 결과를 나타내는 곡선 2221과 높은 일치도를 보인다. 또한, 곡선들 2221 및 2223은 원형 편파 변환기의 동작 주파수 대역에서 약 90

Figure pat00090
의 위상차를 나타냄으로써, 원형 편파 변환기가 동작 주파수 전대역에서 원형 편파를 생성하는 것이 확인된다. 22B is a graph illustrating phase differences between horizontal and vertical polarizations of circular polarizations generated by circular polarization converters according to various embodiments of the present disclosure. Referring to FIG. 22B, the curve 2223 measuring the phase difference between the horizontal polarization and the vertical polarization generated by the circular polarization converter shows high agreement with the curve 2221 representing the simulation result. Also, curves 2221 and 2223 are approximately 90 at the operating frequency band of the circularly polarized transducer.
Figure pat00090
By indicating the phase difference of, it is confirmed that the circularly polarized wave converter generates circularly polarized waves in the entire operating frequency band.

도 23는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 원형 편파 변환기에 의해 생성된 원형 편파의 형태를 나타내는 그래프를 도시한다. 도 23을 참고하면, 복수의 동작 주파수들(예: 28GHz, 30GHz, 32GHz, 39GHz, 및 40GHz)에서 원형 편파 변환기가 생성한 원형 편파의 궤적들의 형태들이 확인될 수 있다. 각 동작 주파수에서, 원형 편파의 궤적 형태를 시뮬레이션한 결과와 원형 편파의 궤적 형태를 측정한 결과는 높은 일치도를 보인다. 결국, 원형 편파 변환기가 다양한 동작 주파수들에서 원형 편파를 생성하는 것이 확인된다.23 is a graph illustrating a shape of a circular polarization generated by a circular polarization converter according to various embodiments of the present disclosure. Referring to FIG. 23, the shapes of the trajectories of the circularly polarized wave generated by the circularly polarized wave converter at a plurality of operating frequencies (eg, 28 GHz, 30 GHz, 32 GHz, 39 GHz, and 40 GHz) may be identified. At each operating frequency, the simulation results of the circular polarization shape and the measurement of the circular polarization shape show high agreement. As a result, it is confirmed that the circular polarization converter generates circular polarization at various operating frequencies.

도 24는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 FZP 및 원형 편파 변환기를 이용한 예시적인 원형 편파의 빔 조향을 도시한다. 도 24에 따르면, 송신기 (transmitter, TX) 2401은 수신기(receiver, RX) 2407에 대해, 원형 편파 변환기 2403 및 FZP 2405를 이용하여 빔포밍을 수행할 수 있다. 24 illustrates beam steering of an exemplary circular polarization using an FZP and circular polarization transducer in accordance with various embodiments of the present disclosure. According to FIG. 24, a transmitter 2401 may perform beamforming on a receiver 2X using a circular polarization converter 2403 and a FZP 2405.

원형 편파 변환기 2403은 송신기(transmitter, TX) 2401에서 500mm만큼 이격되어 배치되고, 송신기 2401로부터 송신된 선형 편파를 원형 편파로 변환하여 출력할 수 있다. 또한, FZP 2405는 원형 편파 변환기 2403에서 50mm만큼 이격되어 배치될 수 있고, 수신기 2407은 FZP에서 550mm만큼 이격되어 위치할 수 있다. 이 경우, FZP는 복수의 유닛 셀들의 배열의 임피던스 배치를 조절함으로써, 수신기 2407가 위치한 방향으로 원형 편파를 조향할 수 있다. The circular polarization converter 2403 may be disposed 500 mm apart from the transmitter 2401 and may convert the linear polarization transmitted from the transmitter 2401 into circular polarization and output the circular polarization. In addition, the FZP 2405 may be disposed 50 mm apart from the circular polarization converter 2403, and the receiver 2407 may be located 550 mm apart from the FZP. In this case, the FZP may steer circular polarization in the direction in which the receiver 2407 is located by adjusting the impedance arrangement of the arrangement of the plurality of unit cells.

설명의 편의를 위해, 도 24에서 송신기 및 원형 편파 변환기 간의 거리, 원형 편파 변환기 및 FZP 간의 거리, 및 FZP 및 수신기 간의 거리가 특정되었으나, 이는 예시적이며, 본 개시의 다양한 실시 예들에 따라 다양하게 변경될 수 있다.For convenience of description, in FIG. 24, the distance between the transmitter and the circular polarization converter, the distance between the circular polarization converter and the FZP, and the distance between the FZP and the receiver have been specified. can be changed.

이하 도 25a 및 도 25b에서, 도 24에서 예시적으로 설명된 원형 편파의 빔 조향의 결과가 설명된다.In FIGS. 25A and 25B, the results of beam steering of circularly polarized waves described by way of example in FIG. 24 are described.

도 25a는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 FZP 및 원형 편파 변환기를 이용하여 조향된 원형 편파의 수평 편파 및 수직 편파의 크기를 나타내는 그래프를 도시한다. 그래프 2500의 원형 편파는, FZP 2405에 의해

Figure pat00091
내지
Figure pat00092
의 범위에서 조향된다. 원형 편파를 구성하는 수직 편파의 크기 2501 및 수평 편파의 크기 2503은 조향 범위 내에서 높은 일치도를 보인다. 결국, 도 24에서 설명된 FZP 2405는 원형 편파 변환기 2403에서 생성된 원형 편파의 형태를 유지하면서 수신기에게 조향할 수 있다.FIG. 25A illustrates a graph illustrating magnitudes of horizontal and vertical polarizations of a circular polarization steered using an FZP and circular polarization converter according to various embodiments of the present disclosure. The circular polarization of the graph 2500, by FZP 2405
Figure pat00091
To
Figure pat00092
Steering in the range of. The magnitude 2501 of the vertical polarization and the magnitude 2503 of the horizontal polarization constituting the circular polarization show high agreement within the steering range. As a result, the FZP 2405 described in FIG. 24 may steer to the receiver while maintaining the shape of the circular polarization generated by the circular polarization converter 2403.

도 25b는 본 개시의 다양한 실시 예들에 따른 FZP 및 원형 편파 변환기를 이용하여 조향된 원형 편파의 형태와 원형 편파 변환기에서 생성된 원형 편파의 형태를 비교하는 그래프를 도시한다. 도 25b를 참고하면, 동작 주파수 28GHz에서, 원형 편파 변환기에서 생성된 원형 편파의 궤적 2521 및 FZP 및 원형 편파 변환기를 이용하여 조향된 원형 편파의 궤적 2523은 높은 일치도를 보인다. 결국, 도 24에서 설명된 FZP 2405는 원형 편파 변환기 2403에서 생성된 원형 편파의 형태를 유지하면서 수신기에게 조향할 수 있다.FIG. 25B illustrates a graph comparing a shape of a circular polarization steered using a FZP and a circular polarization converter according to various embodiments of the present disclosure with a shape of a circular polarization generated by the circular polarization converter. Referring to FIG. 25B, at an operating frequency of 28 GHz, the trajectory 2521 of the circular polarization generated by the circular polarization converter and the trajectory 2523 of the circular polarization steered using the FZP and the circular polarization converter show high agreement. As a result, the FZP 2405 described in FIG. 24 may steer to the receiver while maintaining the shape of the circular polarization generated by the circular polarization converter 2403.

본 개시의 청구항 또는 명세서에 기재된 실시 예들에 따른 방법들은 하드웨어, 소프트웨어, 또는 하드웨어와 소프트웨어의 조합의 형태로 구현될(implemented) 수 있다. Methods according to the embodiments described in the claims or the specification of the present disclosure may be implemented in the form of hardware, software, or a combination of hardware and software.

소프트웨어로 구현하는 경우, 하나 이상의 프로그램(소프트웨어 모듈)을 저장하는 컴퓨터 판독 가능 저장 매체가 제공될 수 있다. 컴퓨터 판독 가능 저장 매체에 저장되는 하나 이상의 프로그램은, 전자 장치(device) 내의 하나 이상의 프로세서에 의해 실행 가능하도록 구성된다(configured for execution). 하나 이상의 프로그램은, 전자 장치로 하여금 본 개시의 청구항 또는 명세서에 기재된 실시 예들에 따른 방법들을 실행하게 하는 명령어(instructions)를 포함한다. When implemented in software, a computer-readable storage medium for storing one or more programs (software modules) may be provided. One or more programs stored in a computer readable storage medium are configured for execution by one or more processors in an electronic device. One or more programs include instructions that cause an electronic device to execute methods in accordance with embodiments described in the claims or specifications of this disclosure.

이러한 프로그램(소프트웨어 모듈, 소프트웨어)은 랜덤 액세스 메모리 (random access memory), 플래시(flash) 메모리를 포함하는 불휘발성(non-volatile) 메모리, 롬(read only memory, ROM), 전기적 삭제가능 프로그램가능 롬(electrically erasable programmable read only memory, EEPROM), 자기 디스크 저장 장치(magnetic disc storage device), 컴팩트 디스크 롬(compact disc-ROM, CD-ROM), 디지털 다목적 디스크(digital versatile discs, DVDs) 또는 다른 형태의 광학 저장 장치, 마그네틱 카세트(magnetic cassette)에 저장될 수 있다. 또는, 이들의 일부 또는 전부의 조합으로 구성된 메모리에 저장될 수 있다. 또한, 각각의 구성 메모리는 다수 개 포함될 수도 있다. Such programs (software modules, software) may include random access memory, non-volatile memory including flash memory, read only memory (ROM), and electrically erasable programmable ROM. (electrically erasable programmable read only memory (EEPROM), magnetic disc storage device, compact disc-ROM (CD-ROM), digital versatile discs (DVDs) or other forms It can be stored in an optical storage device, a magnetic cassette. Or, it may be stored in a memory composed of some or all of these combinations. In addition, each configuration memory may be included in plural.

또한, 프로그램은 인터넷(Internet), 인트라넷(Intranet), LAN(local area network), WAN(wide area network), 또는 SAN(storage area network)과 같은 통신 네트워크, 또는 이들의 조합으로 구성된 통신 네트워크를 통하여 접근(access)할 수 있는 부착 가능한(attachable) 저장 장치(storage device)에 저장될 수 있다. 이러한 저장 장치는 외부 포트를 통하여 본 개시의 실시 예를 수행하는 장치에 접속할 수 있다. 또한, 통신 네트워크상의 별도의 저장장치가 본 개시의 실시 예를 수행하는 장치에 접속할 수도 있다.In addition, the program may be configured through a communication network composed of a communication network such as the Internet, an intranet, a local area network (LAN), a wide area network (WAN), or a storage area network (SAN), or a combination thereof. It may be stored in an attachable storage device that is accessible. Such a storage device may be connected to a device that performs an embodiment of the present disclosure through an external port. In addition, a separate storage device on a communication network may be connected to a device that performs an embodiment of the present disclosure.

상술한 본 개시의 구체적인 실시 예들에서, 개시에 포함되는 구성 요소는 제시된 구체적인 실시 예에 따라 단수 또는 복수로 표현되었다. 그러나, 단수 또는 복수의 표현은 설명의 편의를 위해 제시한 상황에 적합하게 선택된 것으로서, 본 개시가 단수 또는 복수의 구성 요소에 제한되는 것은 아니며, 복수로 표현된 구성 요소라 하더라도 단수로 구성되거나, 단수로 표현된 구성 요소라 하더라도 복수로 구성될 수 있다.In specific embodiments of the present disclosure described above, components included in the disclosure are expressed in the singular or plural number according to the specific embodiments presented. However, the singular or plural expressions are selected to suit the circumstances presented for convenience of description, and the present disclosure is not limited to the singular or plural elements, and the singular or plural elements may be used in the singular or the singular. Even expressed components may be composed of a plurality.

한편 본 개시의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 개시의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 개시의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 아니 되며 후술하는 특허청구의 범위뿐만 아니라 이 특허청구의 범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Meanwhile, in the detailed description of the present disclosure, specific embodiments have been described, but various modifications may be possible without departing from the scope of the present disclosure. Therefore, the scope of the present disclosure should not be limited to the described embodiments, but should be determined not only by the scope of the following claims, but also by the equivalents of the claims.

Claims (30)

무선 통신 시스템에서 통신 장치에 있어서,
신호의 방향을 결정하고, 상기 결정된 방향에 기반하여 복수의 유닛 셀(unit cell)들을 제어하는 적어도 하나의 프로세서와,
상기 신호를 생성하고, 상기 신호를 안테나를 통해 방사하는 송수신부와,
상기 복수의 유닛 셀들이 배치되는 회절 플레이트(diffraction plate)를 포함하고, 상기 적어도 하나의 프로세서의 제어에 따라 상기 결정된 방향으로 상기 신호를 조향하기 위한 임피던스 배치를 형성하는 조향부를 포함하고,
상기 신호는, 상기 조향부에 포함되는 상기 회절 플레이트를 통과하여 상기 방향으로 조향되며,
상기 임피던스 배치는, 상기 회절 플레이트 상에 복수의 슬릿(slit)들을 형성하는 통신 장치.
A communication device in a wireless communication system,
At least one processor for determining a direction of a signal and controlling a plurality of unit cells based on the determined direction;
A transceiver for generating the signal and radiating the signal through an antenna;
A diffraction plate on which the plurality of unit cells are arranged, and a steering unit forming an impedance arrangement for steering the signal in the determined direction under the control of the at least one processor,
The signal is steered in the direction through the diffraction plate included in the steering unit,
Wherein said impedance arrangement forms a plurality of slits on said diffraction plate.
청구항 1에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은,
제1 전극 부재;
상기 제1 전극 부재로부터 기 설정된 간격으로 이격된 제2 전극 부재;
상기 제1 전극 부재 및 상기 제2 전극 부재를 연결하는 가변 유전체;
상기 가변 유전체에 제1 전압을 전달하는 제1 제어 배선;
상기 가변 유전체에 제2 전압을 전달하는 제2 제어 배선;
상기 제1 전극 부재 및 상기 제1 제어 배선과 연결되는 제1 도전성 부재; 및
상기 제2 전극 부재 및 상기 제2 제어 배선과 연결되는 제2 도전성 부재를 포함하는 통신 장치.
The method of claim 1, wherein each of the plurality of unit cells,
A first electrode member;
A second electrode member spaced apart from the first electrode member at a predetermined interval;
A variable dielectric connecting the first electrode member and the second electrode member;
First control wirings to transfer a first voltage to the variable dielectric;
A second control wiring for transmitting a second voltage to the variable dielectric;
A first conductive member connected to the first electrode member and the first control wiring; And
And a second conductive member connected to the second electrode member and the second control wiring.
청구항 2에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은 적어도 하나의 층을 포함하고,
상기 적어도 하나의 층은, 상기 제1 전극 부재, 상기 제2 전극 부재, 및 상기 가변 유전체를 포함하는 복합체, 상기 제1 도전성 부재, 및 상기 제2 도전성 부재가 배치되는 제1 층을 포함하고,
상기 복합체는 상기 제1 층의 중앙에서, 상기 제1 전극 부재 및 상기 제2 전극 부재가 적어도 하나의 상기 제1 층의 모서리에 평행하지 않도록 배치되는 통신 장치.
The method of claim 2, wherein each of the plurality of unit cells comprises at least one layer,
The at least one layer includes a composite including the first electrode member, the second electrode member, and the variable dielectric, the first conductive member, and a first layer on which the second conductive member is disposed,
And wherein the composite is disposed at the center of the first layer such that the first electrode member and the second electrode member are not parallel to an edge of at least one of the first layers.
청구항 3에 있어서, 상기 적어도 하나의 층은,
상기 제1 제어 배선이 배치되는 제2 층; 및
상기 제2 제어 배선이 배치되는 제3 층을 더 포함하는 통신 장치.
The method of claim 3, wherein the at least one layer is
A second layer on which the first control wiring is disposed; And
And a third layer in which said second control wiring is disposed.
청구항 3에 있어서, 상기 제1 도전성 부재 및 상기 제2 도전성 부재는 상기 복합체를 기준으로 서로 대칭 형태인 통신 장치.
The communication device of claim 3, wherein the first conductive member and the second conductive member are symmetrical with respect to the composite.
청구항 4에 있어서, 상기 제1 제어 배선 또는 상기 제2 제어 배선 중에서 적어도 하나는 상기 제1 도전성 부재의 패턴 또는 상기 제2 도전성 부재의 패턴 중에서 적어도 하나와 겹치도록 배치되는 통신 장치.
The communication device according to claim 4, wherein at least one of the first control wiring or the second control wiring is disposed to overlap at least one of the pattern of the first conductive member or the pattern of the second conductive member.
청구항 4에 있어서, 상기 제1 제어 배선 및 상기 제2 제어 배선은 서로 수직인 방향으로 배치되는 통신 장치.
The communication device according to claim 4, wherein the first control wiring and the second control wiring are disposed in a direction perpendicular to each other.
청구항 2에 있어서,
상기 제1 전극 부재, 상기 제2 전극 부재, 및 상기 가변 유전체를 포함하는 복합체의 커패시턴스는 상기 전압에 기반하여 결정되고,
상기 커패시턴스에 따라, 상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제1 임피던스 및 제2 임피던스가 결정되는 통신 장치.
The method according to claim 2,
The capacitance of the composite including the first electrode member, the second electrode member, and the variable dielectric is determined based on the voltage,
And a first impedance and a second impedance of each of the plurality of unit cells are determined according to the capacitance.
청구항 8에 있어서, 상기 제1 임피던스 및 상기 제2 임피던스는 서로 수직인 방향의 임피던스인 통신 장치.
The communication device of claim 8, wherein the first impedance and the second impedance are impedances in directions perpendicular to each other.
청구항 8에 있어서,
상기 복수의 유닛 셀들은 제1 유닛 셀을 포함하고,
상기 제1 유닛 셀에 포함된 복합체의 커패시턴스가 제1 커패시턴스인 경우, 상기 제1 유닛 셀은 비공진 특성을 가지고,
상기 제1 유닛 셀에 포함된 복합체의 커패시턴스가 제2 커패시턴스인 경우, 상기 제1 유닛 셀은 공진 특성을 가지는 통신 장치.
The method according to claim 8,
The plurality of unit cells includes a first unit cell,
When the capacitance of the composite included in the first unit cell is the first capacitance, the first unit cell has a non-resonant characteristic,
And the first unit cell has a resonance characteristic when the capacitance of the composite included in the first unit cell is a second capacitance.
청구항 4에 있어서,
상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제1 층은 서로 연결되고,
상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제2 층은 서로 연결되고,
상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제3 층은 서로 연결되고,
상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제1 제어 배선과 상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제2 제어 배선은 서로 수직인 방향으로 배치되는 통신 장치.
The method according to claim 4,
A first layer of each of the plurality of unit cells is connected to each other,
A second layer of each of the plurality of unit cells is connected to each other,
A third layer of each of the plurality of unit cells is connected to each other,
And a first control wiring of each of the plurality of unit cells and a second control wiring of each of the plurality of unit cells are disposed in a direction perpendicular to each other.
청구항 1에 있어서, 상기 복수의 슬릿들은, 상기 결정된 방향에 대응하는 상기 회절 플레이트의 회절 무늬를 구성하는 통신 장치.
The communication device according to claim 1, wherein the plurality of slits constitute a diffraction pattern of the diffraction plate corresponding to the determined direction.
청구항 1에 있어서, 상기 회절 플레이트는 FZP(fresnel zone plate)인 통신 장치.
The communication device of claim 1, wherein the diffraction plate is a fresnel zone plate (FZP).
청구항 1에 있어서, 상기 신호는 원형 편파 특성을 가지는 신호인 통신 장치.
The communication device of claim 1, wherein the signal is a signal having circular polarization characteristics.
청구항 1에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각에는 제1 전압 및 제2 전압이 인가되고,
상기 제1 전압 및 상기 제2 전압 간의 차이에 기반하여 상기 유닛 셀의 전압이 결정되는 통신 장치.
The method of claim 1, wherein a first voltage and a second voltage are applied to each of the plurality of unit cells,
And the voltage of the unit cell is determined based on the difference between the first voltage and the second voltage.
무선 통신 시스템에서 통신 장치의 동작 방법에 있어서,
신호의 방향을 결정하는 과정과,
상기 결정된 방향에 기반하여 복수의 유닛 셀(unit cell)들을 제어하는 과정과,
상기 신호를 생성하는 과정과,
상기 신호를 안테나를 통해 방사하는 과정과,
상기 복수의 유닛 셀들은 회절 플레이트(diffraction plate)에 배치되고,
상기 제어에 따라 상기 결정된 방향으로 상기 신호를 조향하기 위한 임피던스 배치를 형성하는 과정을 포함하고,
상기 신호는, 상기 회절 플레이트를 통과하여 상기 방향으로 조향되며,
상기 임피던스 배치는, 상기 회절 플레이트 상에 복수의 슬릿(slit)들을 형성하는 방법.
In the method of operating a communication device in a wireless communication system,
Determining the direction of the signal,
Controlling a plurality of unit cells based on the determined direction;
Generating the signal;
Radiating the signal through an antenna;
The plurality of unit cells are placed in a diffraction plate,
Forming an impedance arrangement for steering the signal in the determined direction according to the control;
The signal is steered in the direction through the diffraction plate,
Wherein said impedance arrangement forms a plurality of slits on said diffraction plate.
청구항 16에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은,
제1 전극 부재;
상기 제1 전극 부재로부터 기 설정된 간격으로 이격된 제2 전극 부재;
상기 제1 전극 부재 및 상기 제2 전극 부재를 연결하는 가변 유전체;
상기 가변 유전체에 제1 전압을 전달하는 제1 제어 배선;
상기 가변 유전체에 제2 전압을 전달하는 제2 제어 배선;
상기 제1 전극 부재 및 상기 제1 제어 배선과 연결되는 제1 도전성 부재; 및
상기 제2 전극 부재 및 상기 제2 제어 배선과 연결되는 제2 도전성 부재를 포함하는 방법.
The method of claim 16, wherein each of the plurality of unit cells,
A first electrode member;
A second electrode member spaced apart from the first electrode member at a predetermined interval;
A variable dielectric connecting the first electrode member and the second electrode member;
First control wirings to transfer a first voltage to the variable dielectric;
A second control wiring for transmitting a second voltage to the variable dielectric;
A first conductive member connected to the first electrode member and the first control wiring; And
And a second conductive member connected with the second electrode member and the second control wiring.
청구항 17에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각은 적어도 하나의 층을 포함하고,
상기 적어도 하나의 층은, 상기 제1 전극 부재, 상기 제2 전극 부재, 및 상기 가변 유전체를 포함하는 복합체, 상기 제1 도전성 부재, 및 상기 제2 도전성 부재가 배치되는 제1 층을 포함하고,
상기 복합체는 상기 제1 층의 중앙에서, 상기 제1 전극 부재 및 상기 제2 전극 부재가 적어도 하나의 상기 제1 층의 모서리에 평행하지 않도록 배치되는 방법.
The method of claim 17, wherein each of the plurality of unit cells comprises at least one layer,
The at least one layer includes a composite including the first electrode member, the second electrode member, and the variable dielectric, the first conductive member, and a first layer on which the second conductive member is disposed,
The composite is disposed at the center of the first layer such that the first electrode member and the second electrode member are not parallel to an edge of at least one of the first layers.
청구항 18에 있어서, 상기 적어도 하나의 층은,
상기 제1 제어 배선이 배치되는 제2 층; 및
상기 제2 제어 배선이 배치되는 제3 층을 더 포함하는 방법.
The method of claim 18, wherein the at least one layer is
A second layer on which the first control wiring is disposed; And
And a third layer in which said second control wiring is disposed.
청구항 18에 있어서, 상기 제1 도전성 부재 및 상기 제2 도전성 부재는 상기 복합체를 기준으로 서로 대칭 형태인 방법.
19. The method of claim 18, wherein the first conductive member and the second conductive member are symmetrical with respect to the composite.
청구항 19에 있어서, 상기 제1 제어 배선 또는 상기 제2 제어 배선 중에서 적어도 하나는 상기 제1 도전성 부재의 패턴 또는 상기 제2 도전성 부재의 패턴 중에서 적어도 하나와 겹치도록 배치되는 방법.
The method of claim 19, wherein at least one of the first control wiring or the second control wiring is disposed to overlap at least one of the pattern of the first conductive member or the pattern of the second conductive member.
청구항 19에 있어서, 상기 제1 제어 배선 및 상기 제2 제어 배선은 서로 수직인 방향으로 배치되는 방법.
The method of claim 19, wherein the first control wiring and the second control wiring are disposed in a direction perpendicular to each other.
청구항 17에 있어서,
상기 제1 전극 부재, 상기 제2 전극 부재, 및 상기 가변 유전체를 포함하는 복합체의 커패시턴스는 상기 전압에 기반하여 결정되고,
상기 커패시턴스에 따라, 상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제1 임피던스 및 제2 임피던스가 결정되는 방법.
The method according to claim 17,
The capacitance of the composite including the first electrode member, the second electrode member, and the variable dielectric is determined based on the voltage,
According to the capacitance, a first impedance and a second impedance of each of the plurality of unit cells are determined.
청구항 23에 있어서, 상기 제1 임피던스 및 상기 제2 임피던스는 서로 수직인 방향의 임피던스인 방법.
The method of claim 23, wherein the first impedance and the second impedance are impedances in a direction perpendicular to each other.
청구항 23에 있어서,
상기 복수의 유닛 셀들은 제1 유닛 셀을 포함하고,
상기 제1 유닛 셀에 포함된 복합체의 커패시턴스가 제1 커패시턴스인 경우, 상기 제1 유닛 셀은 비공진 특성을 가지고,
상기 제1 유닛 셀에 포함된 복합체의 커패시턴스가 제2 커패시턴스인 경우, 상기 제1 유닛 셀은 공진 특성을 가지는 방법.
The method according to claim 23,
The plurality of unit cells includes a first unit cell,
When the capacitance of the composite included in the first unit cell is the first capacitance, the first unit cell has a non-resonant characteristic,
If the capacitance of the composite contained in the first unit cell is a second capacitance, the first unit cell has a resonance characteristic.
청구항 19에 있어서,
상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제1 층은 서로 연결되고,
상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제2 층은 서로 연결되고,
상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제3 층은 서로 연결되고,
상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제1 제어 배선과 상기 복수의 유닛 셀들 각각의 제2 제어 배선은 서로 수직인 방향으로 배치되는 방법.
The method according to claim 19,
A first layer of each of the plurality of unit cells is connected to each other,
A second layer of each of the plurality of unit cells is connected to each other,
A third layer of each of the plurality of unit cells is connected to each other,
And a first control wiring of each of the plurality of unit cells and a second control wiring of each of the plurality of unit cells are disposed in a direction perpendicular to each other.
청구항 16에 있어서, 상기 복수의 슬릿들은, 상기 결정된 방향에 대응하는 상기 회절 플레이트의 회절 무늬를 구성하는 방법.
The method of claim 16, wherein the plurality of slits constitutes a diffraction pattern of the diffraction plate corresponding to the determined direction.
청구항 16에 있어서, 상기 회절 플레이트는 FZP(fresnel zone plate)인 방법.
The method of claim 16, wherein the diffraction plate is a fresnel zone plate (FZP).
청구항 16에 있어서, 상기 신호는 원형 편파 특성을 가지는 신호인 방법.
The method of claim 16, wherein the signal is a signal having circular polarization characteristics.
청구항 16에 있어서, 상기 복수의 유닛 셀들 각각에는 제1 전압 및 제2 전압이 인가되고,
상기 제1 전압 및 상기 제2 전압 간의 차이에 기반하여 상기 유닛 셀의 전압이 결정되는 방법.
The method of claim 16, wherein a first voltage and a second voltage are applied to each of the plurality of unit cells,
The voltage of the unit cell is determined based on the difference between the first voltage and the second voltage.
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