KR20190131111A - Composition - Google Patents
Composition Download PDFInfo
- Publication number
- KR20190131111A KR20190131111A KR1020197032093A KR20197032093A KR20190131111A KR 20190131111 A KR20190131111 A KR 20190131111A KR 1020197032093 A KR1020197032093 A KR 1020197032093A KR 20197032093 A KR20197032093 A KR 20197032093A KR 20190131111 A KR20190131111 A KR 20190131111A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- silane compound
- mass
- less
- roughness
- group
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1656—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the film-forming substance
- C09D5/1662—Synthetic film-forming substance
- C09D5/1675—Polyorganosiloxane-containing compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/005—Additives being defined by their particle size in general
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
종래부터 알려진 조성물에서는, 액적 미끄러짐성을 충분히 만족할 수 있는 것이 아닌 경우가 있었다. 본 발명의 조성물은, 식 (1)로 나타내어지는 실란 화합물 (A), 식 (2)로 나타내어지는 실란 화합물 (B) 및 거칠기 조정제 (C)를 포함하고, 상기 거칠기 조정제 (C)의 함유량이, 상기 실란 화합물 (A) 및 상기 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 1 질량부 이상 20 질량부 이하이다. [R1은 탄소수 6 이상의 탄화수소기를 나타내고, 당해 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다. X1은 가수분해성 기를 나타낸다. R2는 탄소수 1∼5의 탄화수소기를 나타낸다. X2는 가수분해성 기를 나타낸다. n은 0 또는 1의 정수를 나타낸다.]
In the conventionally known composition, there is a case that the droplet slipperiness may not be sufficiently satisfied. The composition of this invention contains the silane compound (A) represented by Formula (1), the silane compound (B) represented by Formula (2), and a roughness regulator (C), and content of the said roughness regulator (C) is It is 1 mass part or more and 20 mass parts or less with respect to a total of 100 mass parts of the said silane compound (A) and the said silane compound (B). [R 1 represents a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms, and -CH 2 -included in the hydrocarbon group may be substituted with -O-. X 1 represents a hydrolyzable group. R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. X 2 represents a hydrolyzable group. n represents an integer of 0 or 1.]
Description
본 발명은 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a composition.
각종 표시 장치, 광학 소자, 건축 재료, 자동차 부품, 공장 설비 등에 있어서는, 기재의 표면에 액적이 부착됨으로써 기재가 오염되거나 부식되거나, 또한 이 오염이나 부식에 의해서 원하는 성능을 발휘할 수 없는 등, 여러 가지 문제가 생기는 경우가 있다. 그 때문에, 이들 분야에 있어서는, 기재 표면의 발수성이 양호한 것이 요구된다.In various display devices, optical elements, building materials, automobile parts, factory facilities, etc., liquid droplets adhere to the surface of the substrate to contaminate or corrode the substrate, and the contamination or corrosion cannot exhibit desired performance. Problems may arise. Therefore, in these fields, it is desired that the water repellency of the substrate surface is good.
예를 들면, 특허문헌 1에는, 테트라에톡시실란, 플루오로알킬실란 및 ITO 초미립자를 포함하는 혼합 용액이 기재되어 있다. 특허문헌 2에는, 테트라알콕시실란, 메틸트리메톡시실란 및 금속 알콕시드를 포함하는 피복용 조성물을 조제한 것이 기재되어 있다. 특허문헌 3에는, 옥틸트리에톡시실란 또는 데실트리에톡시실란과, 테트라에톡시실란을 포함하는 조성물이 기재되어 있다.For example, Patent Document 1 describes a mixed solution containing tetraethoxysilane, fluoroalkylsilane, and ITO ultrafine particles. Patent Document 2 describes the preparation of a coating composition containing tetraalkoxysilane, methyltrimethoxysilane, and metal alkoxide. In patent document 3, the composition containing octyl triethoxysilane or decyl triethoxysilane, and tetraethoxysilane is described.
종래부터 알려진 상기의 조성물에서는, 액적 미끄러짐성을 충분히 만족할 수 있는 것이 아닌 경우가 있었다.In the said composition known conventionally, there existed a case where droplet slipperiness | lubricacy cannot fully be satisfied.
본 발명은 이하의 발명을 포함한다.The present invention includes the following inventions.
[1] 식 (1)로 나타내어지는 실란 화합물 (A), 식 (2)로 나타내어지는 실란 화합물 (B) 및 거칠기 조정제 (C)를 포함하고, 상기 거칠기 조정제 (C)의 함유량이, 상기 실란 화합물 (A) 및 상기 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 1 질량부 이상 20 질량부 이하인 조성물.[1] A silane compound (A) represented by formula (1), a silane compound (B) represented by formula (2) and a roughness regulator (C) are included, and the content of the roughness regulator (C) is the silane The composition which is 1 mass part or more and 20 mass parts or less with respect to a total of 100 mass parts of a compound (A) and the said silane compound (B).
[화학식 1][Formula 1]
[식 (1) 중,In formula (1),
R1은 탄소수 6 이상의 탄화수소기를 나타내고, 당해 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다.R 1 represents a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms, and -CH 2 -included in the hydrocarbon group may be substituted with -O-.
X1은 가수분해성 기를 나타낸다.]X 1 represents a hydrolyzable group.]
[화학식 2][Formula 2]
[식 (2) 중,In formula (2),
R2는 탄소수 1∼5의 탄화수소기를 나타낸다.R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
X2는 가수분해성 기를 나타낸다.X 2 represents a hydrolyzable group.
n은 0 또는 1의 정수를 나타낸다.]n represents an integer of 0 or 1.]
[2] 상기 거칠기 조정제 (C)가, 메디안 직경이 10 ㎚ 이상 500 ㎚ 이하인 금속 산화물 입자인 [1]에 기재된 조성물.[2] The composition according to [1], wherein the roughness adjusting agent (C) is a metal oxide particle having a median diameter of 10 nm or more and 500 nm or less.
[3] 상기 실란 화합물 (A)와 상기 실란 화합물 (B)의 몰비 (B/A)가, 2 이상 100 이하인 [1] 또는 [2]에 기재된 조성물.[3] The composition according to [1] or [2], wherein the molar ratio (B / A) of the silane compound (A) and the silane compound (B) is 2 or more and 100 or less.
[4] 상기 실란 화합물 (A)와 상기 실란 화합물 (B)의 합계의 함유율이, 조성물 100 질량% 중, 1 질량% 이상 50 질량% 이하인 [1]∼[3] 중 어느 것에 기재된 조성물.[4] The composition according to any of [1] to [3], wherein a content rate of the total of the silane compound (A) and the silane compound (B) is 1% by mass or more and 50% by mass or less in 100% by mass of the composition.
[5] [1]∼[4] 중 어느 것에 기재된 조성물을 경화한 막.[5] A film obtained by curing the composition according to any one of [1] to [4].
[6] ISO25178에 준거하여 산출한 표면의 산술평균 높이 Sa가, 0.04 ㎛ 이상 0.90 ㎛ 이하인 [5]에 기재된 막.[6] The film according to [5], wherein the arithmetic mean height Sa on the surface calculated in accordance with ISO25178 is 0.04 µm or more and 0.90 µm or less.
[7] 표면저항값이 7.5×1013 Ω/sq 이하이고, ISO25178에 준거하여 산출한 표면의 산술평균 높이 Sa가, 0.04 ㎛ 이상이 되는 발수막.[7] A water repellent film having a surface resistance of 7.5 × 10 13 Ω / sq or less and having an arithmetic mean height Sa of the surface calculated according to ISO25178 to 0.04 μm or more.
[8] [5]∼[7] 중 어느 것에 기재된 막을 갖는 물품.[8] An article having a film according to any one of [5] to [7].
본 발명의 조성물로부터 형성되는 막은, 액적 미끄러짐성이 양호하다.The film formed from the composition of the present invention has good droplet slipperiness.
본 발명의 조성물은, 식 (1)로 나타내어지는 실란 화합물 (A), 식 (2)로 나타내어지는 실란 화합물 (B) 및 거칠기 조정제 (C)를 포함하고, 상기 거칠기 조정제 (C)의 함유량이, 상기 실란 화합물 (A) 및 상기 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 1 질량부 이상 20 질량부 이하인 것을 특징으로 한다.The composition of this invention contains the silane compound (A) represented by Formula (1), the silane compound (B) represented by Formula (2), and a roughness regulator (C), and content of the said roughness regulator (C) is It is 1 mass part or more and 20 mass parts or less with respect to a total of 100 mass parts of the said silane compound (A) and the said silane compound (B).
[화학식 3][Formula 3]
[식 (1) 중, R1은 탄소수 6 이상의 탄화수소기를 나타내고, 당해 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다.In the equation (1) of, R 1 represents a hydrocarbon group having a carbon number of at least 6, -CH 2 groups contained art hydrocarbon-is, or may be substituted with -O-.
X1은 가수분해성 기를 나타낸다.]X 1 represents a hydrolyzable group.]
[화학식 4][Formula 4]
[식 (2) 중, R2는 탄소수 1∼5의 탄화수소기를 나타낸다. X2는 가수분해성 기를 나타낸다. n은 0 또는 1의 정수를 나타낸다.][In formula (2), R <2> represents a C1-C5 hydrocarbon group. X 2 represents a hydrolyzable group. n represents an integer of 0 or 1.]
실란 화합물 (A) 및 실란 화합물 (B)를 포함함으로써, 막의 발수성이 양호하게 되고, 거칠기 조정제 (C)를 소정 비율로 포함함으로써, 막의 표면에 적당한 정도의 거칠기를 부여할 수 있기 때문에, 발수성을 유지하면서 액적 미끄러짐성을 향상시킬 수 있다. 거칠기 조정제 (C)의 함유량은, 실란 화합물 (A) 및 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 질량부 이상, 보다 바람직하게는 2 질량부 이상, 더 바람직하게는 3 질량부 이상이고, 바람직하게는 30 질량부 이하, 보다 바람직하게는 20 질량부 이하, 더 바람직하게는 15 질량부 이하, 특히 바람직하게는 10 질량부 이하이다.By including the silane compound (A) and the silane compound (B), the water repellency of the film becomes good, and by including the roughness adjusting agent (C) in a predetermined ratio, a suitable degree of roughness can be imparted to the surface of the film. Droplet slipperiness can be improved while maintaining. As for content of a roughness adjuster (C), with respect to a total of 100 mass parts of a silane compound (A) and a silane compound (B), Preferably it is 1 mass part or more, More preferably, it is 2 mass parts or more, More preferably, 3 It is more than a mass part, Preferably it is 30 mass parts or less, More preferably, it is 20 mass parts or less, More preferably, it is 15 mass parts or less, Especially preferably, it is 10 mass parts or less.
또한, 이하에 예시하는 각 성분 및 관능기는, 각각, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.In addition, each component and functional group illustrated below can be used individually or in combination, respectively.
실란 화합물 (B)에 대한 실란 화합물 (A)의 비율이 일정 범위 내이면, 양호한 외관을 유지하면서 액적 미끄러짐성을 향상할 수 있기 때문에 바람직하다. 실란 화합물 (A)의 함유량은, 실란 화합물 (B) 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 질량부 이상, 보다 바람직하게는 2 질량부 이상, 더 바람직하게는 4 질량부 이상이고, 바람직하게는 70 질량부 이하, 보다 바람직하게는 40 질량부 이하, 더 바람직하게는 10 질량부 이하이다.When the ratio of the silane compound (A) to the silane compound (B) is within a certain range, it is preferable because the droplet slipperiness can be improved while maintaining a good appearance. The content of the silane compound (A) is preferably 1 part by mass or more, more preferably 2 parts by mass or more, even more preferably 4 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the silane compound (B). 70 mass parts or less, More preferably, it is 40 mass parts or less, More preferably, it is 10 mass parts or less.
상기 실란 화합물 (A)를 나타내는 식 (1)에 있어서, R1은 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기인 것이 보다 바람직하고, 직쇄상 알킬기인 것이 더 바람직하다. R1로 나타내어지는 탄화수소기로서는, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기 등을 들 수 있다.In Formula (1) which shows the said silane compound (A), it is preferable that R <1> is a saturated hydrocarbon group, It is more preferable that it is a linear or branched alkyl group, It is more preferable that it is a linear alkyl group. Examples of the hydrocarbon group represented by R 1 include a hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, and dodecyl group.
R1로 나타내어지는 탄화수소기의 탄소수는, 6 이상, 바람직하게는 7 이상, 보다 바람직하게는 8 이상이고, 바람직하게는 30 이하, 보다 바람직하게는 20 이하, 더 바람직하게는 15 이하이다.Carbon number of the hydrocarbon group represented by R <1> is 6 or more, Preferably it is 7 or more, More preferably, it is 8 or more, Preferably it is 30 or less, More preferably, it is 20 or less, More preferably, it is 15 or less.
상기 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O-로 치환된 기로서는, 알킬렌옥시 단위를 1 또는 2 이상 포함하는 기를 들 수 있다. 상기 알킬렌옥시 단위로서는, 에틸렌옥시 단위, 프로필렌옥시 단위를 들 수 있고, 에틸렌옥시 단위가 바람직하다. 상기 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O-로 치환된 기로서는, -R3-(R4-O)n1-R5가 바람직하다. R3은 단결합 또는 탄소수 1∼4의 2가의 탄화수소기를 나타내고, R4는 탄소수 2∼3의 2가의 탄화수소기를 나타내고, R5는 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 1가의 탄화수소기를 나타내고, n1은 1∼10의 정수를 나타낸다. 단, 당해 기에 포함되는 탄소 및 산소의 수의 합계는 6 이상이다.Examples of the group in which the -CH 2 -contained in the hydrocarbon group is substituted with -O- include a group containing 1 or 2 or more alkyleneoxy units. Examples of the alkyleneoxy units include ethyleneoxy units and propyleneoxy units, with ethyleneoxy units being preferred. As the group in which -CH 2 -contained in the hydrocarbon group is substituted with -O-, -R 3- (R 4 -O) n1 -R 5 is preferable. R 3 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, R 4 represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 3 carbon atoms, R 5 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and n1 is The integer of 1-10 is shown. However, the sum total of the number of carbon and oxygen contained in the said group is six or more.
R3으로 나타내어지는 2가의 탄화수소기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기 등의 2가의 포화 탄화수소기를 들 수 있다. R3으로서는 2가의 탄화수소기인 것이 바람직하다.As a bivalent hydrocarbon group represented by R <3> , bivalent saturated hydrocarbon groups, such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, butylene group, are mentioned. As R <3> , it is preferable that it is a bivalent hydrocarbon group.
R4로 나타내어지는 2가의 탄화수소기로서는, 에틸렌기, 프로필렌기 등의 2가의 포화 탄화수소기를 들 수 있다.As a bivalent hydrocarbon group represented by R <4> , bivalent saturated hydrocarbon groups, such as an ethylene group and a propylene group, are mentioned.
R5로 나타내어지는 1가의 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등의 1가의 포화 탄화수소기를 들 수 있다. R5로서는 1가의 탄화수소기인 것이 바람직하다.As a monovalent hydrocarbon group represented by R <5> , monovalent saturated hydrocarbon groups, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, are mentioned. As R 5, a monovalent hydrocarbon group is preferable.
식 (1)에 있어서, X1로 나타내어지는 가수분해성 기로서는, 가수분해에 의해 히드록시기(실라놀기)를 부여하는 기를 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1∼6의 알콕시기, 시아노기, 히드록시기, 아세톡시기, 염소 원자 및 이소시아네이토기 등을 들 수 있다. X1로서는, 탄소수 1∼6(보다 바람직하게는 1∼4)의 알콕시기 또는 시아노기가 바람직하고, 탄소수 1∼6(보다 바람직하게는 1∼4)의 알콕시기가 보다 바람직하고, 모든 X1이 탄소수 1∼6(보다 바람직하게는 1∼4)의 알콕시기인 것이 더 바람직하다. 3개의 X1은 동일해도 되고 달라도 되고, 동일한 것이 바람직하다.In Formula (1), as a hydrolysable group represented by X <1> , the group which gives a hydroxyl group (silanol group) by hydrolysis is mentioned, Preferably it is a C1-C6 alkoxy group, a cyano group, a hydroxyl group, Acetoxy group, a chlorine atom, an isocyanato group, etc. are mentioned. As X <1> , a C1-C6 (more preferably 1-4) alkoxy group or cyano group is preferable, C1-C6 (more preferably 1-4) alkoxy group is more preferable, All X <1> It is more preferable that it is this C1-C6 (more preferably 1-4) alkoxy group. Three X <1> may be same or different, and the same thing is preferable.
실란 화합물 (A)로서는, R1이 탄소수 7∼13의 직쇄상 알킬기이고, 모든 X1이 동일한 기로서, 탄소수 1∼6(보다 바람직하게는 1∼4)의 알콕시기인 것이 바람직하다.As a silane compound (A), it is preferable that R <1> is a C7-C13 linear alkyl group and all X <1> is the same group and it is a C1-C6 (more preferably 1-4) alkoxy group.
실란 화합물 (A)로서는, 구체적으로는, 헥실트리메톡시실란, 헥실트리에톡시실란, 헵틸트리메톡시실란, 헵틸트리에톡시실란, 옥틸트리메톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 노닐트리메톡시실란, 노닐트리에톡시실란, 데실트리메톡시실란, 데실트리에톡시실란, 운데실트리메톡시실란, 운데실트리에톡시실란, 도데실트리메톡시실란, 도데실트리에톡시실란, 트리데실트리메톡시실란, 트리데실트리에톡시실란, 부타데실트리메톡시실란, 부타데실트리에톡시실란, 펜타데실트리메톡시실란, 펜타데실트리에톡시실란, 헥사데실트리메톡시실란, 헥사데실트리에톡시실란, 헵타데실트리메톡시실란, 헵타데실트리에톡시실란, 옥타데실트리메톡시실란, 옥타데실트리에톡시실란 등을 들 수 있고, 옥틸트리메톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 데실트리메톡시실란, 데실트리에톡시실란, 도데실트리메톡시실란, 도데실트리에톡시실란, 부타데실트리메톡시실란, 부타데실트리에톡시실란, 헥사데실트리메톡시실란, 헥사데실트리에톡시실란, 옥타데실트리메톡시실란, 옥타데실트리에톡시실란이 바람직하다.As a silane compound (A), specifically, hexyl trimethoxysilane, hexyl triethoxysilane, heptyl trimethoxysilane, heptyl triethoxysilane, octyl trimethoxysilane, octyl triethoxysilane, nonyltrimeth Methoxysilane, nonyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, undecyltrimethoxysilane, undecyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, tri Decyltrimethoxysilane, tridecyltriethoxysilane, butadidecyltrimethoxysilane, butadidecyltriethoxysilane, pentadecyltrimethoxysilane, pentadecyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyl Triethoxysilane, heptadecyl trimethoxysilane, heptadecyl triethoxysilane, an octadecyl trimethoxysilane, an octadecyl triethoxysilane, etc. are mentioned, octyl trimethoxysilane, octyl triethoxysilane, Decyltrimethoxysilane, Siltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, butadidecyltrimethoxysilane, butadidecyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxysilane, octadecyl Trimethoxysilane and octadecyl triethoxysilane are preferable.
실란 화합물 (A)의 함유량은, 조성물 100 질량부 중, 바람직하게는 0.01 질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량부 이상, 더 바람직하게는 0.2 질량부 이상이고, 바람직하게는 10 질량부 이하, 보다 바람직하게는 5 질량부 이하, 더 바람직하게는 3 질량부 이하이다.Content of a silane compound (A) is in 100 mass parts of compositions, Preferably it is 0.01 mass part or more, More preferably, it is 0.1 mass part or more, More preferably, it is 0.2 mass part or more, Preferably it is 10 mass parts or less, More preferably, it is 5 mass parts or less, More preferably, it is 3 mass parts or less.
상기 실란 화합물 (B)를 나타내는 식 (2)에 있어서, R2는 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기인 것이 보다 바람직하고, 직쇄상 알킬기인 것이 더 바람직하다. R2로 나타내어지는 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기 및 프로필기 등을 들 수 있다.In Formula (2) which shows the said silane compound (B), it is preferable that R <2> is a saturated hydrocarbon group, It is more preferable that it is a linear or branched alkyl group, It is more preferable that it is a linear alkyl group. As a hydrocarbon group represented by R <2> , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc. are mentioned.
식 (2)에 있어서, X2로 나타내어지는 가수분해성 기로서는, X1로 나타내어지는 가수분해성 기와 마찬가지의 기를 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1∼6의 알콕시기, 시아노기, 아세톡시기, 염소 원자 및 이소시아네이토기 등을 들 수 있고, 알콕시기 중의 알킬기는 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기인 것이 보다 바람직하다. X2로서는, 탄소수 1∼6(보다 바람직하게는 1∼4)의 알콕시기 또는 이소시아네이토기가 바람직하고, 탄소수 1∼6(보다 바람직하게는 1∼4)의 알콕시기가 보다 바람직하고, 모든 X2가 탄소수 1∼6(보다 바람직하게는 1∼4)의 알콕시기인 것이 더 바람직하다. 3개의 X2는 동일해도 되고 달라도 되고, 동일한 것이 바람직하다.In the formula (2), examples of the hydrolyzable group represented by X 2 include the same groups as the hydrolyzable group represented by X 1 , preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, cyano group, acetoxy group, A chlorine atom, an isocyanato group, etc. are mentioned, It is more preferable that the alkyl group in an alkoxy group is a linear or branched alkyl group. As X 2 , an alkoxy group or isocyanato group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4) is preferable, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (more preferably 1 to 4) is more preferable, and all It is further more preferable that X <2> is a C1-C6 (more preferably 1-4) alkoxy group. Three X <2> may be same or different, and the same thing is preferable.
식 (2)에 있어서, n은 0인 것이 바람직하다.In Formula (2), it is preferable that n is zero.
실란 화합물 (B)로서는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라부톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 메틸트리부톡시실란 등을 들 수 있고, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란이 바람직하다.As the silane compound (B), tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, etc. And tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are preferable.
실란 화합물 (B)의 함유량은, 실란 화합물 (A) 1 몰에 대하여, 통상 1 몰 이상, 바람직하게는 2 몰 이상, 보다 바람직하게는 5 몰 이상, 더 바람직하게는 10 몰 이상이고, 통상 100 몰 이하이고, 바람직하게는 60 몰 이하, 보다 바람직하게는 40 몰 이하, 더 바람직하게는 30 몰 이하이다.Content of a silane compound (B) is 1 mol or more normally with respect to 1 mol of silane compounds (A), Preferably it is 2 mol or more, More preferably, it is 5 mol or more, More preferably, it is 10 mol or more, Usually 100 It is mol or less, Preferably it is 60 mol or less, More preferably, it is 40 mol or less, More preferably, it is 30 mol or less.
실란 화합물 (A) 및 실란 화합물 (B)의 합계의 함유율은, 조성물 100 질량% 중, 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 3 질량% 이상, 더 바람직하게 5 질량% 이상이고, 바람직하게는 50 질량% 이하, 보다 바람직하게는 40 질량% 이하, 더 바람직하게는 25 질량% 이하이다.The content rate of the sum total of a silane compound (A) and a silane compound (B) is in 100 mass% of compositions, Preferably it is 1 mass% or more, More preferably, it is 3 mass% or more, More preferably, it is 5 mass% or more, Preferably Preferably it is 50 mass% or less, More preferably, it is 40 mass% or less, More preferably, it is 25 mass% or less.
실란 화합물 (A)는 1종만을 이용해도 되고 복수를 병용해도 된다. 실란 화합물 (B)는 1종만을 이용해도 되고, 복수를 병용해도 된다.Only 1 type may be used for a silane compound (A), or it may use plurality together. Only 1 type may be used for a silane compound (B), and it may use plurality together.
상기 거칠기 조정제 (C)는, 본 발명의 조성물로부터 경화물로서 형성되는 막의 표면 거칠기를 조정하는 작용을 갖는 것이면 된다.The roughness regulator (C) may have a function of adjusting the surface roughness of the film formed from the composition of the present invention as a cured product.
상기 거칠기 조정제 (C)로서는, 예를 들면, 고분자 입자 및 금속 입자나 금속 산화물 입자 등의 무기입자를 들 수 있고, 상기 거칠기 조정제 (C)를 균일하게 분산시키는 관점에서는, 바람직하게는 무기입자이고, 보다 바람직하게는 금속 산화물 입자이다. 금속 산화물 입자로서는, 구체적으로는, 이산화규소, 산화티탄, 산화망간, 산화이트륨(III), 산화지르코늄, 산화알루미늄, 산화아연, 산화인듐(III), 산화주석(II), 산화주석(IV), 3산화안티몬 등의 단독 금속 산화물; 산화인듐주석이나 주석-안티몬계 산화물(특히 안티몬 도프 산화주석) 등의 복합 금속 산화물; 등의 입자를 들 수 있고, 이산화규소, 산화주석(IV) 및 주석-안티몬계 산화물(특히 안티몬 도프 산화주석)의 입자가 바람직하다. 막 외관의 관점에서, 산화주석(IV)나 주석-안티몬계 산화물(특히 안티몬 도프 산화주석)의 입자가 보다 바람직하다.Examples of the roughness regulator (C) include polymer particles and inorganic particles such as metal particles and metal oxide particles. From the viewpoint of uniformly dispersing the roughness regulator (C), the inorganic particles are preferably inorganic particles. More preferably, they are metal oxide particle. Specific examples of the metal oxide particles include silicon dioxide, titanium oxide, manganese oxide, yttrium oxide (III), zirconium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, indium oxide (III), tin oxide (II), and tin oxide (IV). Single metal oxides such as antimony trioxide; Complex metal oxides such as indium tin oxide and tin-antimony oxide (especially antimony-doped tin oxide); And particles of silicon dioxide, tin oxide (IV) and tin-antimony-based oxides (particularly antimony-doped tin oxide) are preferable. From the viewpoint of the film appearance, particles of tin oxide (IV) or tin-antimony oxide (particularly antimony-doped tin oxide) are more preferable.
상기 거칠기 조정제 (C)는 입자인 것이 바람직하다. 거칠기 조정제 (C)의 메디안 직경은, 바람직하게는 500 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 100 ㎚ 이하, 더 바람직하게는 50 ㎚ 이하이고, 예를 들면, 10 ㎚ 이상, 나아가서는 15 ㎚ 이상이어도 된다. 거칠기 조정제 (C)의 입자 직경이 작을수록, 얻어지는 막의 투명성을 유지할 수 있고, 입자 직경이 일정 이상 크면, 조성물의 안정성이 개선되는 경향이 있다.It is preferable that the said roughness regulator (C) is particle | grains. The median diameter of the roughness adjusting agent (C) is preferably 500 nm or less, more preferably 100 nm or less, still more preferably 50 nm or less, for example, 10 nm or more, or even 15 nm or more. The smaller the particle diameter of the roughness adjusting agent (C), the more the transparency of the resulting film can be maintained, and when the particle diameter is large or larger, the stability of the composition tends to be improved.
상기 거칠기 조정제 (C)의 25℃의 물에 대한 용해성은, 바람직하게는 0∼100 ㎎/100 mL, 보다 바람직하게는 0∼10 ㎎/100 mL, 더 바람직하게는 0∼5 ㎎/100 mL이다.The solubility of the roughness regulator (C) in water at 25 ° C. is preferably 0 to 100 mg / 100 mL, more preferably 0 to 10 mg / 100 mL, still more preferably 0 to 5 mg / 100 mL. to be.
상기 거칠기 조정제 (C)의 밀도는, 바람직하게는 3 g/㎤ 이상, 보다 바람직하게는 4 g/㎤ 이상, 더 바람직하게는 5 g/㎤ 이상이고, 바람직하게는 8 g/㎤ 이하, 보다 바람직하게는 7.5 g/㎤ 이하이다.The density of the roughness adjusting agent (C) is preferably 3 g / cm 3 or more, more preferably 4 g / cm 3 or more, more preferably 5 g / cm 3 or more, preferably 8 g / cm 3 or less Preferably it is 7.5 g / cm <3> or less.
상기 거칠기 조정제 (C)의 표면저항값은 바람직하게는 1014 Ω/sq 이하, 보다 바람직하게는 1012 Ω/sq 이하, 더 바람직하게는 1010 Ω/sq 이하이고, 예를 들면, 102 Ω/sq 이상, 나아가서는 103 Ω/sq 이상이어도 된다.The surface resistance value of the roughness adjusting agent (C) is preferably 10 14 Ω / sq or less, more preferably 10 12 Ω / sq or less, still more preferably 10 10 Ω / sq or less, for example, 10 2 Ω / sq or more, further 10 3 Ω / sq or more.
거칠기 조정제 (C)는 1종만을 이용해도 되고 복수를 병용해도 된다.Only 1 type may be used for a roughness regulator (C), and it may use multiple together.
본 발명의 조성물은, 추가로 용매 (D)를 포함하는 것이 바람직하다. 용매로서는 알콜계 용매, 에테르계 용매, 케톤계 용매, 에스테르계 용매, 아미드계 용매 등의 친수성 유기용매를 들 수 있다. 이들 용매는 1종만을 이용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.It is preferable that the composition of this invention contains a solvent (D) further. Examples of the solvent include hydrophilic organic solvents such as alcohol solvents, ether solvents, ketone solvents, ester solvents, and amide solvents. These solvent may use only 1 type or may use 2 or more types together.
알콜계 용매로서는 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 부탄올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜 등을 들 수 있고, 에테르계 용매로서는 디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 디옥산 등을 들 수 있고, 케톤계 용제로서는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등을 들 수 있고, 에스테르계 용제로서는 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등을 들 수 있고, 아미드계 용제로서는 디메틸포름아미드 등을 들 수 있다. 그 중에서도 알콜계 용매, 케톤계 용매를 이용하는 것이 바람직하다.Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, and the like. Dietherethane, tetrahydrofuran, dioxane, and the like are mentioned as the ether solvent. Examples of the ketone solvents include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Examples of the ester solvents include ethyl acetate and butyl acetate. Examples of the amide solvents include dimethylformamide and the like. . Especially, it is preferable to use an alcohol solvent and a ketone solvent.
용매는, 후술하는 기재의 재질에 맞추어 조정할 수 있고, 예를 들면, 기재에 유기계 재료를 이용하는 경우는 케톤계 용매를 이용하는 것이 바람직하고, 기재에 무기계 재료를 이용하는 경우는 알콜계 용매를 이용하는 것이 바람직하다.The solvent can be adjusted to the material of the substrate to be described later. For example, it is preferable to use a ketone solvent when the organic material is used for the substrate, and to use an alcohol solvent when the inorganic material is used for the substrate. Do.
본 발명의 조성물은, 실란 화합물 (A) 및 실란 화합물 (B)의 가수분해·중축합용의 촉매 (E)를 포함하고 있어도 되고, 포함하고 있지 않아도 된다. 상기 촉매 (E)로서는 염산, 질산, 아세트산 등의 산성 화합물, 암모니아, 아민 등의 염기성 화합물, 알루미늄에틸아세토아세테이트 화합물 등의 유기금속 화합물 등을 이용할 수 있다.The composition of this invention may or may not contain the catalyst (E) for hydrolysis and polycondensation of a silane compound (A) and a silane compound (B). As said catalyst (E), acidic compounds, such as hydrochloric acid, nitric acid, and acetic acid, basic compounds, such as ammonia and an amine, organometallic compounds, such as an aluminum ethyl acetoacetate compound, etc. can be used.
촉매 (E)를 포함하는 경우, 촉매 (E)의 함유량은, 실란 화합물 (A) 및 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.001 질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.005 질량부 이상, 더 바람직하게는 0.01 질량부 이상이고, 바람직하게는 3 질량부 이하, 보다 바람직하게는 1 질량부 이하, 더 바람직하게는 0.1 질량부 이하이다.In the case of containing the catalyst (E), the content of the catalyst (E) is preferably 0.001 parts by mass or more, and more preferably 0.005 mass based on 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B). Or more, more preferably 0.01 mass part or more, preferably 3 mass parts or less, more preferably 1 mass part or less, and still more preferably 0.1 mass part or less.
본 발명의 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 산화방지제, 방청제, 자외선흡수제, 광안정제, 곰팡이방지제, 항균제, 생물 부착 방지제, 소취제(消臭劑), 안료, 난연제, 대전방지제 등, 각종 첨가제 등의 기타의 성분을 함유하고 있어도 된다.The composition of the present invention is an antioxidant, a rust preventive agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antifungal agent, an antibacterial agent, a biofouling agent, a deodorant, a pigment, a flame retardant, and an antistatic agent within a range that does not impair the effects of the present invention. Other components, such as various additives, may be contained.
본 발명의 조성물은, 실란 화합물 (A), 실란 화합물 (B) 및 거칠기 조정제 (C) 및 필요에 따라서 이용하는 용매 (D), 촉매 (E) 및 기타의 성분을 혼합함으로써 제조할 수 있다. 혼합 순서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 실란 화합물 (A), 실란 화합물 (B) 및 필요에 따라서 이용하는 용매 (D)를 혼합하고, 이어서, 필요에 따라서 이용하는 촉매 (E)와 혼합한 후, 거칠기 조정제 (C)를 혼합해도 된다. 이와 같은 순서로 혼합함으로써, 조성물의 겔화를 방지할 수 있다.The composition of this invention can be manufactured by mixing a silane compound (A), a silane compound (B), and a roughness regulator (C), and the solvent (D), catalyst (E), and other components used as needed. Although the mixing order is not specifically limited, For example, after mixing a silane compound (A), a silane compound (B), and the solvent (D) used as needed, and then mixing with the catalyst (E) used as needed You may mix roughness modifier (C). By mixing in such an order, gelation of the composition can be prevented.
상기 거칠기 조정제 (C)는, 미리 용매 (D)의 일부에 분산시켜, 거칠기 조정제 (C) 함유액으로 하고 나서, 실란 화합물 (A), 실란 화합물 (B) 등과 혼합해도 된다. 거칠기 조정제 (C)를 미리 분산시키는 경우, 분산 용매와, 조성물 조제시에 이용하는 용매는, 동일해도 되고 달라도 된다. 거칠기 조정제 (C)를, 미리 용매 (D)의 일부에 분산시키는 경우, 거칠기 조정제 (C)의 함유율은, 당해 분산액 100 질량% 중, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상이고, 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 30 질량% 이하이다.The roughness regulator (C) may be previously dispersed in a part of the solvent (D) to form a roughness regulator (C) -containing liquid, and then mixed with the silane compound (A), the silane compound (B), or the like. When dispersing a roughness adjuster (C) beforehand, a dispersion solvent and the solvent used at the time of composition preparation may be same or different. In the case where the roughness regulator (C) is previously dispersed in a part of the solvent (D), the content rate of the roughness regulator (C) is preferably 100% by mass or more, more preferably 15% by mass in 100% by mass of the dispersion. It is above, Preferably it is 40 mass% or less, More preferably, it is 30 mass% or less.
본 발명의 조성물의 경화물인 막도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.The film which is a hardened | cured material of the composition of this invention is also included in the technical scope of this invention.
상기 막 표면의 산술평균 높이 Sa는, 바람직하게는 0.90 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.8 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 0.1 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 0.04 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.05 ㎛ 이상이다.Arithmetic mean height Sa of the said film surface becomes like this. Preferably it is 0.90 micrometer or less, More preferably, it is 0.8 micrometer or less, More preferably, it is 0.1 micrometer or less, Preferably it is 0.04 micrometer or more, More preferably, it is 0.05 micrometer or more.
상기 막의 표면 거칠기는, ISO25178에 준거하여 산출할 수 있다. 상기 막의 표면 거칠기의 산출의 기초가 되는 화상은, 예를 들면, 광학 현미경(특히, 공(共)초점 레이저 현미경)에 의해 취득할 수 있다.The surface roughness of the film can be calculated based on ISO25178. The image used as the basis of the calculation of the surface roughness of the film can be obtained by, for example, an optical microscope (especially, a confocal laser microscope).
상기 막에 대한 물의 접촉각은, 바람직하게는 90° 이상, 보다 바람직하게는 95° 이상, 더 바람직하게는 100° 이상이고, 120° 이하여도 되고, 115° 이하여도 된다.The contact angle of water with respect to the said membrane becomes like this. Preferably it is 90 degrees or more, More preferably, it is 95 degrees or more, More preferably, it is 100 degrees or more, 120 degrees or less, 115 degrees or less may be sufficient.
상기 막의 표면저항값은, 바람직하게는 250×1013 Ω/sq 이하, 보다 바람직하게는 200×1013 Ω/sq 이하, 더 바람직하게는 170×1013 Ω/sq 이하, 특히 바람직하게는 7.5×1013 Ω/sq 이하이고, 1012 Ω/sq 이상이어도 되고, 1013 Ω/sq 이상이어도 된다.The surface resistance value of the film is preferably 250 × 10 13 Ω / sq or less, more preferably 200 × 10 13 Ω / sq or less, still more preferably 170 × 10 13 Ω / sq or less, particularly preferably 7.5 10 13 Ω / sq or less, 10 12 Ω / sq or more, or 10 13 Ω / sq or more.
상기 막의 두께는, 바람직하게는 10 ㎚ 이상, 보다 바람직하게는 20 ㎚ 이상, 더 바람직하게는 50 ㎚ 이상이고, 바람직하게는 500 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 300 ㎚ 이하, 더 바람직하게는 200 ㎚ 이하이다.The thickness of the film is preferably at least 10 nm, more preferably at least 20 nm, even more preferably at least 50 nm, preferably at most 500 nm, more preferably at most 300 nm, even more preferably at 200 nm. It is as follows.
본 발명의 경화막의 다른 형태는, 표면저항값이 7.5×1013 Ω/sq 이하이고, 또한 막 표면의 산술평균 높이 Sa가 0.04 ㎛ 이상이 되는 발수막이다.Another form of the cured film of this invention is a water-repellent film whose surface resistance value is 7.5x10 <13> ( ohm) / sq or less, and whose arithmetic mean height Sa of a film surface becomes 0.04 micrometer or more.
상기 발수막의 표면저항값은, 바람직하게는 5.0×1013 Ω/sq 이하, 보다 바람직하게는 4.0×1013 Ω/sq 이하이고, 1012 Ω/sq 이상이어도 되고, 1013 Ω/sq 이상이어도 된다.The surface resistance value of the water repellent film is preferably 5.0 × 10 13 Ω / sq or less, more preferably 4.0 × 10 13 Ω / sq or less, 10 12 Ω / sq or more, or 10 13 Ω / sq or more. do.
상기 발수막의 산술평균 높이 Sa는, 바람직하게는 0.9 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.8 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 0.1 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 0.04 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.05 ㎛ 이상이다.The arithmetic mean height Sa of the said water repellent membrane becomes like this. Preferably it is 0.9 micrometer or less, More preferably, it is 0.8 micrometer or less, More preferably, it is 0.1 micrometer or less, Preferably it is 0.04 micrometer or more, More preferably, it is 0.05 micrometer or more.
상기 발수막에 대한 물의 접촉각은, 바람직하게는 90° 이상, 보다 바람직하게는 95° 이상, 더 바람직하게는 100° 이상이고, 120° 이하여도 되고, 115° 이하여도 된다.The contact angle of water with respect to the said water repellent film becomes like this. Preferably it is 90 degrees or more, More preferably, it is 95 degrees or more, More preferably, it is 100 degrees or more, 120 degrees or less, 115 degrees or less may be sufficient.
상기 발수막의 두께는, 바람직하게는 10 ㎚ 이상, 보다 바람직하게는 20 ㎚ 이상, 더 바람직하게는 50 ㎚ 이상이고, 바람직하게는 500 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 300 ㎚ 이하, 더 바람직하게는 200 ㎚ 이하이다.The thickness of the water repellent film is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, even more preferably 50 nm or more, preferably 500 nm or less, more preferably 300 nm or less, even more preferably 200 It is nm or less.
상기 막은, 본 발명의 조성물과 기재를 접촉시켜, 실란 화합물 (A) 및 실란 화합물 (B)에 포함되는 가수분해성 기를 가수분해 및 중축합함으로써 형성할 수 있다.The said film can be formed by making a composition of this invention contact a base material, and hydrolyzing and polycondensing the hydrolysable group contained in a silane compound (A) and a silane compound (B).
본 발명의 조성물을 기재와 접촉시키는 방법으로서는, 조성물을 기재에 코팅하는 방법을 들 수 있다. 당해 코팅 방법으로서는 스핀 코팅법, 딥 코팅법, 스프레이 코팅법, 롤 코팅법, 바 코팅법, 핸드 코팅(천 등에 액을 스며들게 하여, 기재에 코팅하는 방법), 끼얹어 뿌리기(액을 스포이트 등을 이용하여 기재에 그대로 끼얹어, 도포하는 방법), 분무(분무를 이용하여 기재에 도포하는 방법), 또는 이들을 조합한 방법 등을 들 수 있다. 작업성의 관점에서, 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법, 핸드 코팅, 끼얹어 뿌리기, 분무 또는 이들을 조합한 방법이 바람직하다.As a method of bringing the composition of the present invention into contact with the substrate, a method of coating the composition on the substrate may be mentioned. As the coating method, a spin coating method, a dip coating method, a spray coating method, a roll coating method, a bar coating method, a hand coating (a method of coating a substrate by infiltrating a liquid to a cloth, etc.), or spraying (using a dropper, etc.) And the method of coating onto the substrate as it is, spraying (the method of applying to the substrate by spraying), or a combination thereof. From the viewpoint of workability, spin coating, spray coating, hand coating, spraying, spraying, or a combination thereof is preferred.
본 발명의 조성물을 기재와 접촉시킨 상태에서, 공기 중, 상온에서 정치(예를 들면, 10시간∼48시간)함으로써, 공기 중의 수분이 거두어 들여져, 가수분해성 기의 가수분해·중축합이 촉진되고, 기재 상에 피막을 형성할 수 있다. 얻어진 피막을 추가로 건조시키는 것도 바람직하다.In the state in which the composition of the present invention is in contact with the substrate, by standing in the air at room temperature (for example, 10 hours to 48 hours), moisture in the air is collected to promote hydrolysis and polycondensation of the hydrolyzable group. A film can be formed on a base material. It is also preferable to further dry the obtained film.
본 발명의 조성물을 기재와 접촉시킬 때, 작업성의 관점에서, 필요에 따라서 용매(희석 용매)로 희석해도 된다. 상기 희석 용매로서는, 상기 조성물에 포함되어 있어도 되는 용매와 마찬가지의 용매를 들 수 있고, 알콜계 용매, 케톤계 용매가 바람직하다. 기재가 유기계 재료인 경우는, 케톤계 용매를 이용하는 것이 바람직하고, 기재가 무기계 재료인 경우는, 알콜계 용매를 이용하는 것이 바람직하다. 희석 배율은, 바람직하게는 2∼50배, 보다 바람직하게는 3∼20배이다.When the composition of the present invention is brought into contact with a substrate, it may be diluted with a solvent (dilution solvent) as necessary from the viewpoint of workability. As said dilution solvent, the solvent similar to the solvent which may be contained in the said composition is mentioned, An alcoholic solvent and a ketone solvent are preferable. It is preferable to use a ketone solvent when the base material is an organic material, and to use an alcohol solvent when the base material is an inorganic material. Dilution magnification becomes like this. Preferably it is 2-50 times, More preferably, it is 3-20 times.
본 발명의 조성물을 접촉시키는 기재의 형상은, 평면, 곡면 중 어느 것이어도 되고, 다수의 면이 조합된 삼차원적 구조여도 된다. 또, 기재의 재질로서는 유기계 재료, 무기계 재료를 들 수 있다. 상기 유기계 재료로서는 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에스테르 수지, 스티렌 수지, 아크릴-스티렌 공중합 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리올레핀 수지 등의 열가소성 수지; 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르, 실리콘 수지, 우레탄 수지 등의 열경화성 수지; 등을 들 수 있고, 무기계 재료로서는 세라믹스; 유리; 철, 실리콘, 구리, 아연, 알루미늄 등의 금속; 상기 금속을 포함하는 합금; 등을 들 수 있다.The shape of the base material which contacts the composition of this invention may be a planar or curved surface, and the three-dimensional structure which many surfaces were combined may be sufficient. Moreover, organic materials and inorganic materials are mentioned as a material of a base material. Examples of the organic materials include thermoplastic resins such as acrylic resins, polycarbonate resins, polyester resins, styrene resins, acrylic-styrene copolymer resins, cellulose resins, and polyolefin resins; Thermosetting resins such as phenol resins, urea resins, melamine resins, epoxy resins, unsaturated polyesters, silicone resins and urethane resins; And the like, and examples of the inorganic material include ceramics; Glass; Metals such as iron, silicon, copper, zinc and aluminum; An alloy comprising the metal; Etc. can be mentioned.
상기 기재에는 미리 이(易)접착 처리를 실시해 두어도 된다. 이접착 처리로서는 코로나 처리, 플라즈마 처리, 자외선 처리 등의 친수화 처리를 들 수 있다. 또, 수지, 실란 커플링제, 테트라알콕시실란 등에 의한 프라이머 처리를 이용해도 된다. 또, 수지, 실란 커플링제, 테트라알콕시실란 등에 의한 프라이머 처리를 실시해도 되고, 폴리실라잔 등의 유리 피막을 기재에 미리 도포해 두어도 된다.The substrate may be subjected to easy adhesion treatment in advance. Examples of the easy adhesion treatment include hydrophilization treatments such as corona treatment, plasma treatment, and ultraviolet treatment. Moreover, you may use the primer process by resin, a silane coupling agent, tetraalkoxysilane, etc. Moreover, you may perform the primer process by resin, a silane coupling agent, tetraalkoxysilane, etc., and may apply | coat a glass film, such as polysilazane, to a base material beforehand.
본 발명의 조성물을 이용함으로써, 액적 미끄러짐성이 우수한 막을 제공할 수 있다. 당해 막은 표시 장치, 광학 소자, 건축 재료, 자동차 부품, 공장 설비 등에 유용하다.By using the composition of this invention, the film | membrane excellent in droplet slipperiness | lubricacy can be provided. The film is useful for a display device, an optical element, a building material, an automobile part, a factory facility, and the like.
실시예Example
이하에, 실시예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 원래 하기 실시예에 의해서 제한을 받는 것은 아니고, 전·후기의 취지에 적합할 수 있는 범위에서 적당히 변경을 가하여 실시하는 것도 물론 가능하며, 그들은 모두 본 발명의 기술적 범위에 포함된다. 이하에 있어서는, 특별히 언급이 없는 한, 「부(部)」는 「질량부」를, 「%」는 「질량%」를 의미한다.Although an Example is given to the following and this invention is demonstrated to it further more concretely, this invention is not restrict | limited by the following example originally, It is also possible to carry out by changing suitably in the range which may be suitable for the meaning of the previous and the later. Of course, they are possible and they are all included in the technical scope of the present invention. In the following, unless otherwise indicated, "part" means "mass part" and "%" means "mass%."
본 발명에 있어서의 측정 방법은 이하와 같다.The measuring method in this invention is as follows.
〔외관 육안 평가〕[Appearance visual evaluation]
조도 1000 럭스의 환경에 있어서, 피막을 육안으로 관찰하여, 착색이나 이물의 유무(이하, 합쳐서 「오염」이라고 기재함)를 관능 평가로, 이하와 같이 평가하였다.In the environment of roughness 1000 lux, the film was visually observed, and the presence or absence of coloring or foreign matter (hereinafter collectively referred to as "contamination") was evaluated by sensory evaluation as follows.
◎: 오염을 확인할 수 없다◎: contamination cannot be confirmed
○: 주의 깊게 보면 오염을 확인할 수 있다○: If you look carefully you can see contamination
×: 용이하게 오염을 확인할 수 있다X: contamination can be easily confirmed
〔접촉각 평가〕[Contact angle evaluation]
접촉각 측정 장치(DM700, 교와계면과학사 제)를 이용하여, 액적법(해석 방법: θ/2법, 수적량: 3.0 μL)으로, 피막의 표면의 물의 접촉각을 측정하였다.The contact angle of the water of the surface of the film was measured by the droplet method (interpretation method: (theta) / 2 method, the amount of water: 3.0 microliters) using the contact angle measuring device (DM700, Kyogawa Interface Co., Ltd.).
〔활락(滑落) 속도〕(Slide speed)
20도로 기울인 기판 상에 50 μL의 수적을 적하하고, 초기 적하 위치로부터 1.5 cm 활락하는 시간을 측정하여, 활락 속도를 산출하였다. 또한, 2분 이내에 수적이 1.5 cm 이상 활락하지 않는 경우는 ×: 활락하지 않음,이라고 하였다.50 microliters of water drops were dripped on the board | substrate inclined at 20 degree | times, and the time to slide 1.5 cm from the initial dropping position was measured, and the slide speed was computed. In addition, when water droplets do not slide more than 1.5 cm within 2 minutes, it was said that it does not slide.
〔표면저항값 측정〕(Surface resistance measurement)
측정 시료를 평판 시료용 대경(大徑) 전극(동아DKK주식회사 제 SME-8310)에 설치하여, 10 V의 전압을 인가하고, 디지털 절연계(동아DKK주식회사 제 DSM-8103)로 4분 후의 저항값을 측정하고, 그 값을 기초로 표면저항값을 산출하였다.The measurement sample was placed in a large diameter electrode for flat plate (SME-8310 manufactured by Dong-A DKK Co., Ltd.), a voltage of 10 V was applied, and a resistance after 4 minutes with a digital insulator (DSM-8103 manufactured by Dong-A DKK Co., Ltd.). The value was measured and the surface resistance value was computed based on the value.
〔표면 거칠기의 측정〕[Measurement of Surface Roughness]
레이저 현미경(OLS4000, 올림푸스 제)을 이용하여, 얻어진 막의 표면을 확대 배율 20배로 관찰하였다. 산술평균 높이 Sa는 ISO25178에 준거하여 평가하였다. 산술평균 높이 Sa는 N=2의 평균값으로 하였다.The surface of the film | membrane obtained was observed at the magnification 20x using the laser microscope (OLS4000, Olympus make). Arithmetic mean height Sa was evaluated based on ISO25178. Arithmetic mean height Sa was made into the average value of N = 2.
실시예 1Example 1
실란 화합물 (A)로서 데실트리메톡시실란 0.29 g, 실란 화합물 (B)로서 오르토규산테트라에틸(테트라에톡시실란) 5.99 g을, 주 용제로서의 2-부탄온(간토화학주식회사 제) 12.07 g에 용해시키고, 실온에서 20분 교반하였다. 얻어진 용액에 촉매로서의 염산(0.01 mol/L 수용액) 8.32 g을 혼합하고, 실온에서 24시간 교반하여, 시료 용액을 제작하였다. 상기 시료 용액에 거칠기 조정제 (C) 함유액으로서 S-2000(메디안 직경 15∼20 ㎚의 산화주석으로 이루어지는 입자를 포함하는 20 질량% 메틸이소부틸케톤 분산액, 미쓰비시 머티리얼 전자화성 주식회사 제) 0.315 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 1.0 질량부)을 첨가하고, 30분간 초음파 처리에 의해 거칠기 조정제 (C)를 시료 용액 중에 분산시켜, 코팅 조성물을 얻었다. 얻어진 코팅 조성물을 2-부탄온에 의해 희석 배율 3배로 희석하여, 도포 용액을 얻었다. 기재로서 아크릴판(스미토모화학주식회사 제) 상에 분무에 의해 도포 용액을 약 700 μL 내뿜고, 스핀 코터(MIKASA사 제)에 의해, 회전수 300 rpm, 60 sec의 조건으로 제막한 후, 실온에서 건조시켜 코팅 피막을 얻었다.0.29 g of decyltrimethoxysilane as the silane compound (A) and 5.99 g of orthosilicate tetraethyl (tetraethoxysilane) as the silane compound (B) were used as 12.07 g of 2-butanone (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a main solvent. It was dissolved and stirred at room temperature for 20 minutes. To the obtained solution, 8.32 g of hydrochloric acid (0.01 mol / L aqueous solution) as a catalyst was mixed and stirred at room temperature for 24 hours to prepare a sample solution. 0.315 g of S-2000 (20 mass% methyl isobutyl ketone dispersion liquid containing the particle | grains which consist of tin oxide with a median diameter of 15-20 nm, the Mitsubishi Material Electronics Chemical Co., Ltd. make) in the said sample solution as a roughness adjuster (C) containing liquid ( As for the roughness regulator (C), 1.0 mass part) is added with respect to a total of 100 mass parts of a silane compound (A) and a silane compound (B), and a roughening agent (C) is disperse | distributed in a sample solution by ultrasonic treatment for 30 minutes. To obtain a coating composition. The obtained coating composition was diluted with 2-butanone by 3 times of dilution ratio, and the coating solution was obtained. After spraying about 700 microliters of coating solutions by spraying on an acryl plate (made by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) as a base material, it formed into a film by the spin coater (made by MIKASA) on conditions of rotation speed 300 rpm and 60 sec, and then dried at room temperature. To obtain a coating film.
실시예 2Example 2
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000의 첨가량을 1.57 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.The addition amount of S-2000 as the roughness regulator (C) -containing liquid was changed to 1.57 g (the roughness regulator (C) was 5 parts by mass based on 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)). A coating film was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.
실시예 3Example 3
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000의 첨가량을 3.14 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 10 질량부)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.3.14 g (roughness adjuster (C) is 10 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of a silane compound (A) and a silane compound (B)) by changing the addition amount of S-2000 as a roughness adjuster (C) containing liquid. A coating film was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.
실시예 4Example 4
코팅 조성물을 희석하지 않고 사용한 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.A coating film was prepared in the same manner as in Example 3 except that the coating composition was used without diluting.
실시예 5Example 5
실란 화합물 (A)로서 데실트리메톡시실란 0.29 g, 실란 화합물 (B)로서 오르토규산테트라에틸(테트라에톡시실란) 5.99 g을, 주 용제로서의 2-프로판올(간토화학주식회사 제) 11.7 g에 용해시키고, 실온에서 20분 교반하였다. 얻어진 용액에 촉매로서의 염산(0.01 mol/L 수용액) 8.32 g을 혼합하고, 실온에서 24시간 교반하여, 시료 용액을 제작하였다. 상기 시료 용액에 거칠기 조정제 (C) 함유액으로서 S-2000(메디안 직경 15∼20 ㎚의 산화주석으로 이루어지는 입자를 포함하는 20 질량% 메틸이소부틸케톤 분산액, 미쓰비시 머티리얼 전자화성 주식회사 제) 0.314 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 1.0 질량부)을 첨가하고, 30분간 초음파 처리에 의해 거칠기 조정제 (C)를 시료 용액 중에 분산시키고, 2-프로판올에 의해 희석 배율 3배로 희석하여, 도포 용액을 얻었다. 기재로서, 조사 속도 800 ㎜/sec, 갭 10 ㎜, 조사 횟수 1회의 조건으로, 대기압 플라즈마 장치(후지기계사 제)에 의해 기재 표면을 활성화시킨 유리 기판(Corning사 제 「EAGLE XG」)을 사용하였다. 그 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.0.29 g of decyltrimethoxysilane as a silane compound (A) and 5.99 g of ortho silicate tetraethyl (tetraethoxysilane) as a silane compound (B) are dissolved in 11.7 g of 2-propanol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a main solvent. And stirred at room temperature for 20 minutes. To the obtained solution, 8.32 g of hydrochloric acid (0.01 mol / L aqueous solution) as a catalyst was mixed and stirred at room temperature for 24 hours to prepare a sample solution. 0.314 g of S-2000 (20 mass% methyl isobutyl ketone dispersion containing Mitsubishi Material Electron Co., Ltd. containing the particle | grains which consist of tin oxide of median diameter 15-20 nm, manufactured by Mitsubishi Material Electronics Chemical Co., Ltd.) as a roughness adjuster (C) containing liquid in the said sample solution As for the roughness regulator (C), 1.0 mass part) is added with respect to a total of 100 mass parts of a silane compound (A) and a silane compound (B), and a roughening agent (C) is disperse | distributed in a sample solution by ultrasonic treatment for 30 minutes. The mixture was diluted with 3-propanol to 3 times the dilution ratio to obtain a coating solution. As a base material, the glass substrate ("EAGLE XG" made by Corning Corporation) which activated the surface of a base material by the atmospheric pressure plasma apparatus (made by Fuji Machine Co., Ltd.) on condition of an irradiation speed of 800 mm / sec, a gap of 10 mm, and the number of irradiation times is used. It was. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the coating film.
실시예 6Example 6
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000의 첨가량을 3.14 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 10 질량부)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.3.14 g (roughness adjuster (C) is 10 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of a silane compound (A) and a silane compound (B)) by changing the addition amount of S-2000 as a roughness adjuster (C) containing liquid. A coating film was produced in the same manner as in Example 5 except for the above.
실시예 7Example 7
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000의 첨가량을 4.71 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 15 질량부)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.The addition amount of S-2000 as a roughness adjuster (C) containing liquid was changed into 4.71 g (roughness adjuster (C) is 15 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of a silane compound (A) and a silane compound (B)). A coating film was produced in the same manner as in Example 5 except for the above.
실시예 8Example 8
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000의 첨가량을 6.28 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 20 질량부)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.6.28 g (roughness adjuster (C) is 20 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of a silane compound (A) and a silane compound (B)) by changing the addition amount of S-2000 as a roughness adjuster (C) containing liquid. A coating film was produced in the same manner as in Example 5 except for the above.
실시예 9Example 9
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서, S-2000을 0.314 g 이용하는 대신에, T-1(메디안 직경 100 ㎚의 주석-안티몬계 산화물로 이루어지는 입자를 포함하는 20 질량% 3-메톡시-3-메틸-1-부탄올 분산액, 미쓰비시 머티리얼 전자화성 주식회사 제)을 1.57 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부) 이용한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.Instead of using 0.314 g of S-2000 as the roughness adjusting agent (C) -containing liquid, 20 mass% 3-methoxy-3-methyl containing particles composed of T-1 (tin-antimony-based oxide having a median diameter of 100 nm) 1.57 g of the 1-butanol dispersion liquid and the Mitsubishi Material Electrochemical Co., Ltd. product (roughness regulator (C) were used 5 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of a silane compound (A) and a silane compound (B)) except that In the same manner as in Example 5, a coating film was produced.
실시예 10Example 10
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서 S-2000을 0.314 g 이용하는 대신에, 거칠기 조정제 (C)로서 SiO2 분말(아도마파인 SO-E1, 메디안 직경 250 ㎚, 주식회사 아도마텍스 제)을 0.31 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부) 이용한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.Instead of using 0.314 g of S-2000 as the roughness adjusting agent (C) -containing liquid, 0.31 g of SiO 2 powder (Sadomapine SO-E1, median diameter 250 nm, manufactured by Adomattex Co., Ltd.) as the roughness adjusting agent (C) A roughness adjusting agent (C) was produced in the same manner as in Example 5 except that 5 parts by mass was used based on 100 parts by mass of the total of the silane compound (A) and the silane compound (B).
실시예 11Example 11
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서 S-2000을 0.314 g 이용하는 대신에, 거칠기 조정제 (C)로서 SiO2 분말(아도마파인 SO-E2, 메디안 직경 500 ㎚, 주식회사 아도마텍스 제)을 0.31 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부) 이용한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.Instead of using 0.314 g of S-2000 as the roughness adjusting agent (C) -containing liquid, 0.31 g of SiO 2 powder (amorphine SO-E2, median diameter 500 nm, manufactured by Adomattex Co., Ltd.) as the roughness adjusting agent (C) A roughness adjusting agent (C) was produced in the same manner as in Example 5 except that 5 parts by mass was used based on 100 parts by mass of the total of the silane compound (A) and the silane compound (B).
실시예 12Example 12
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000의 첨가량을 1.57 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.The addition amount of S-2000 as the roughness regulator (C) -containing liquid was changed to 1.57 g (the roughness regulator (C) was 5 parts by mass based on 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)). A coating film was produced in the same manner as in Example 5 except for the above.
실시예 13Example 13
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000의 첨가량을 1.57 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부)으로 변경하고, 2-프로판올에 의한 희석 배율을 7배로 한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.Change the addition amount of S-2000 as the roughness regulator (C) -containing liquid to 1.57 g (the roughness regulator (C) is 5 parts by mass based on 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)) And a coating film were produced in the same manner as in Example 5 except that the dilution ratio with 2-propanol was increased to 7 times.
실시예 14Example 14
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000의 첨가량을 1.57 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부)으로 변경하고, 2-프로판올에 의한 희석 배율을 10배로 한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.Change the addition amount of S-2000 as the roughness regulator (C) -containing liquid to 1.57 g (the roughness regulator (C) is 5 parts by mass based on 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)) , Except that the dilution ratio by 2-propanol was increased to 10 times, a coating film was prepared in the same manner as in Example 5.
실시예 15Example 15
거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000의 첨가량을 1.57 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부)으로 변경하고, 2-프로판올에 의한 희석 배율을 20배로 한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.Change the addition amount of S-2000 as the roughness regulator (C) -containing liquid to 1.57 g (the roughness regulator (C) is 5 parts by mass based on 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)) , Except that the dilution ratio by 2-propanol was increased to 20 times, a coating film was prepared in the same manner as in Example 5.
실시예 16Example 16
실란 화합물 (A)로서 데실트리메톡시실란을 0.29 g 이용하는 대신에 0.79 g 이용하고, 실란 화합물 (B)로서 오르토규산테트라에틸(테트라에톡시실란)을 5.99 g 이용하는 대신에 1.25 g 이용하고, 주 용제로서 2-프로판올(간토화학주식회사 제)을 11.7 g 이용하는 대신에 4.25 g 이용하고, 촉매로서의 염산(0.01 mol/L 수용액)을 8.32 g 이용하는 대신에 2.34 g 이용하고, 거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000을 0.314 g 이용하는 대신에 0.51 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부) 이용한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.0.79 g is used instead of 0.29 g of decyltrimethoxysilane as the silane compound (A), and 1.25 g is used instead of 5.99 g of orthosilicate tetraethyl (tetraethoxysilane) as the silane compound (B). Instead of using 11.7 g of 2-propanol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a solvent, 4.25 g was used, and 2.34 g of hydrochloric acid (0.01 mol / L aqueous solution) was used instead of 8.32 g, and the roughness adjusting agent (C) -containing liquid was used. Example 5 except that 0.51 g (roughness adjusting agent (C) was used 5 parts by mass based on 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)) instead of using 0.314 g of S-2000 as In the same manner as above, a coating film was produced.
실시예 17Example 17
실란 화합물 (A)로서 데실트리메톡시실란을 0.29 g 이용하는 대신에 0.15 g 이용하고, 실란 화합물 (B)로서 오르토규산테트라에틸(테트라에톡시실란)을 5.99 g 이용하는 대신에 1.92 g 이용하고, 주 용제로서 2-프로판올(간토화학주식회사 제)을 11.7 g 이용하는 대신에 3.94 g 이용하고, 촉매로서의 염산(0.01 mol/L 수용액)을 8.32 g 이용하는 대신에 2.74 g 이용하고, 거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000을 0.314 g 이용하는 대신에 0.52 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부) 이용한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.0.15 g is used instead of 0.29 g of decyltrimethoxysilane as the silane compound (A), and 1.92 g is used instead of 5.99 g of orthosilicate tetraethyl (tetraethoxysilane) as the silane compound (B). Instead of using 11.7 g of 2-propanol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a solvent, 2.94 g of hydrochloric acid (0.01 mol / L aqueous solution) is used instead of 8.32 g, and the roughness adjusting agent (C) -containing liquid is used. Example 5 except that 0.52 g (roughness adjusting agent (C) was used 5 parts by mass based on 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)) instead of using 0.314 g of S-2000 as In the same manner as above, a coating film was produced.
실시예 18Example 18
실란 화합물 (A)로서 데실트리메톡시실란을 0.29 g 이용하는 대신에 0.06 g 이용하고, 실란 화합물 (B)로서 오르토규산테트라에틸(테트라에톡시실란)을 5.99 g 이용하는 대신에 2.02 g 이용하고, 주 용제로서 2-프로판올(간토화학주식회사 제)을 11.7 g 이용하는 대신에 3.89 g 이용하고, 촉매로서의 염산(0.01 mol/L 수용액)을 8.32 g 이용하는 대신에 2.80 g 이용하고, 거칠기 조정제 (C) 함유액으로서의 S-2000을 0.314 g 이용하는 대신에 0.52 g(거칠기 조정제 (C)는, 실란 화합물 (A)와 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 5 질량부) 이용한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.0.06 g is used instead of 0.29 g of decyltrimethoxysilane as the silane compound (A), and 2.02 g is used instead of 5.99 g of orthosilicate tetraethyl (tetraethoxysilane) as the silane compound (B). Instead of using 11.7 g of 2-propanol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a solvent, 3.89 g is used, and 2.80 g of hydrochloric acid (0.01 mol / L aqueous solution) is used instead of 8.32 g, and the roughness adjusting agent (C) -containing liquid Example 5 except that 0.52 g (roughness adjusting agent (C) was used 5 parts by mass based on 100 parts by mass in total of the silane compound (A) and the silane compound (B)) instead of using 0.314 g of S-2000 as In the same manner as above, a coating film was produced.
비교예 1Comparative Example 1
거칠기 조정제 (C)를 첨가하지 않은 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.Except not adding a roughness modifier (C), it carried out similarly to Example 1, and produced the coating film.
비교예 2Comparative Example 2
거칠기 조정제 (C)를 첨가하지 않은 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 하여, 코팅 피막을 제작하였다.Except not adding a roughness modifier (C), it carried out similarly to Example 5, and produced the coating film.
실시예 1∼18, 비교예 1∼2의 코팅 피막에 대하여, 외관 육안, 접촉각, 표면저항값, 활락 속도, 표면 거칠기의 평가 결과를 표 1에 나타낸다. 단, 표면저항값 및 활락 속도의 향상 배율은, 기판으로서 아크릴 기판을 이용한 경우는 비교예 1의 수치를 기준값으로 하고, 기판으로서 유리 기판을 이용한 경우는 비교예 2의 수치를 기준값으로 하여, 각 실시예에 있어서의 표면저항값으로 대응하는 기준값을 나눈 값, 또는 각 실시예에 있어서의 활락 속도의 값을 대응하는 기준값으로 나눈 값을 나타낸다.Table 1 shows the evaluation results of the visual appearance, contact angle, surface resistance value, slide speed, and surface roughness of the coating films of Examples 1 to 18 and Comparative Examples 1 and 2. However, the improvement ratio of the surface resistance value and the slide speed is based on the numerical value of Comparative Example 1 when the acrylic substrate is used as the substrate and the numerical value of Comparative Example 2 when the glass substrate is the reference value, respectively. The value obtained by dividing the corresponding reference value by the surface resistance value in the examples, or the value obtained by dividing the value of the slide speed in each example by the corresponding reference value.
[표 1]TABLE 1
산업상의 이용 가능성Industrial availability
본 발명의 조성물을 이용함으로써, 액적 미끄러짐성이 우수한 막을 제공할 수 있다. 당해 막은 표시 장치, 광학 소자, 건축 재료, 자동차 부품, 공장 설비 등에 유용하다.By using the composition of this invention, the film | membrane excellent in droplet slipperiness | lubricacy can be provided. The film is useful for a display device, an optical element, a building material, an automobile part, a factory facility and the like.
Claims (8)
상기 거칠기 조정제 (C)의 함유량이, 상기 실란 화합물 (A) 및 상기 실란 화합물 (B)의 합계 100 질량부에 대하여, 1 질량부 이상 20 질량부 이하인 조성물.
[화학식 1]
[식 (1) 중,
R1은 탄소수 6 이상의 탄화수소기를 나타내고, 당해 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다.
X1은 가수분해성 기를 나타낸다.]
[화학식 2]
[식 (2) 중,
R2는 탄소수 1∼5의 탄화수소기를 나타낸다.
X2는 가수분해성 기를 나타낸다.
n은 0 또는 1의 정수를 나타낸다.]The silane compound (A) represented by Formula (1), the silane compound (B) represented by Formula (2), and a roughness modifier (C) are included,
The content of the said roughness regulator (C) is 1 mass part or more and 20 mass parts or less with respect to a total of 100 mass parts of the said silane compound (A) and the said silane compound (B).
[Formula 1]
In formula (1),
R 1 represents a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms, and -CH 2 -included in the hydrocarbon group may be substituted with -O-.
X 1 represents a hydrolyzable group.]
[Formula 2]
In formula (2),
R <2> represents a C1-C5 hydrocarbon group.
X 2 represents a hydrolyzable group.
n represents an integer of 0 or 1.]
상기 거칠기 조정제 (C)가, 메디안 직경이 10 ㎚ 이상 500 ㎚ 이하인 금속 산화물 입자인 조성물.The method of claim 1,
The roughness adjusting agent (C) is a metal oxide particle having a median diameter of 10 nm or more and 500 nm or less.
상기 실란 화합물 (A)와 상기 실란 화합물 (B)의 몰비 (B/A)가, 2 이상 100 이하인 조성물.The method according to claim 1 or 2,
The composition in which the molar ratio (B / A) of the said silane compound (A) and the said silane compound (B) is 2 or more and 100 or less.
상기 실란 화합물 (A)와 상기 실란 화합물 (B)의 합계의 함유율이, 조성물 100 질량% 중, 1 질량% 이상 50 질량% 이하인 조성물.The method according to any one of claims 1 to 3,
The composition of the sum total of the said silane compound (A) and the said silane compound (B) is 1 mass% or more and 50 mass% or less in 100 mass% of compositions.
ISO25178에 준거하여 산출한 표면의 산술평균 높이 Sa가, 0.04 ㎛ 이상 0.90 ㎛ 이하인 막.The method of claim 5,
The film whose arithmetic mean height Sa of the surface computed based on ISO25178 is 0.04 micrometer or more and 0.90 micrometer or less.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017070989 | 2017-03-31 | ||
JPJP-P-2017-070989 | 2017-03-31 | ||
PCT/JP2018/011696 WO2018180982A1 (en) | 2017-03-31 | 2018-03-23 | Composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190131111A true KR20190131111A (en) | 2019-11-25 |
Family
ID=63675971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197032093A KR20190131111A (en) | 2017-03-31 | 2018-03-23 | Composition |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018172646A (en) |
KR (1) | KR20190131111A (en) |
CN (1) | CN110461911B (en) |
TW (1) | TW201837121A (en) |
WO (1) | WO2018180982A1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020137902A1 (en) * | 2018-12-28 | 2020-07-02 | ダイキン工業株式会社 | Water repellent composition |
JP2021128337A (en) * | 2020-02-17 | 2021-09-02 | 住友化学株式会社 | Laminate and flexible display device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07330378A (en) | 1994-06-01 | 1995-12-19 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Water repellent film |
JPH08304605A (en) | 1995-05-12 | 1996-11-22 | Sekisui Chem Co Ltd | Production of laminated body |
WO2016068103A1 (en) | 2014-10-31 | 2016-05-06 | 住友化学株式会社 | Water-repellant/oil-repellant coating composition |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11197515A (en) * | 1998-01-07 | 1999-07-27 | Sekisui Chem Co Ltd | Functional material having photocatalytic activity |
JP2003013007A (en) * | 2001-06-29 | 2003-01-15 | Nippon Unicar Co Ltd | Coating composition and building material using the same |
WO2004052639A1 (en) * | 2002-12-10 | 2004-06-24 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Article having coating film thereon, method for manufacture thereof, and applying material for forming coating film |
JP2009191130A (en) * | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Wacker Asahikasei Silicone Co Ltd | Coating agent composition for automotive hard surface |
WO2010044402A1 (en) * | 2008-10-17 | 2010-04-22 | 日立化成工業株式会社 | Film having low refractive index and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for film having low refractive index, substrate having microparticle-laminated thin film, and method for producing the same, and optical member |
WO2010074264A1 (en) * | 2008-12-26 | 2010-07-01 | 日産化学工業株式会社 | Liquid crystal aligning agent for inkjet coating, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element |
JP5570007B2 (en) * | 2009-02-06 | 2014-08-13 | 日本曹達株式会社 | Organic inorganic composite |
JP2010259971A (en) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Snt Co | Composite material having fingerprint adhesion-resistant coating film |
US9028603B2 (en) * | 2011-06-09 | 2015-05-12 | The Research Foundation Of State University Of New York | Anti-fouling coating compositions and methods for preventing the fouling of surfaces |
JP5950399B2 (en) * | 2011-09-14 | 2016-07-13 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | Organic-inorganic transparent hybrid film and production method thereof |
CN102632031A (en) * | 2012-04-16 | 2012-08-15 | 浙江大学 | Method for preparing superhydrophobic surface |
CN102942584B (en) * | 2012-08-07 | 2015-11-04 | 鹤山市顺鑫实业有限公司 | Oligomer compound, hydrophobic composition and its preparation method and application |
JP2014079920A (en) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Asahi Glass Co Ltd | Article and production method of the same |
KR102602313B1 (en) * | 2015-04-30 | 2023-11-14 | 린텍 가부시키가이샤 | Antifouling composition, antifouling sheet, and method for producing the antifouling sheet |
JP2016210670A (en) * | 2015-05-11 | 2016-12-15 | 株式会社九州ハイテック | Maintenance free type stone material tile and coating agent therefor and manufacturing method of the tile |
KR102479607B1 (en) * | 2016-06-29 | 2022-12-20 | 린텍 가부시키가이샤 | Antifouling composition solution and manufacturing method thereof |
-
2018
- 2018-03-16 JP JP2018050113A patent/JP2018172646A/en active Pending
- 2018-03-23 CN CN201880021727.4A patent/CN110461911B/en not_active Expired - Fee Related
- 2018-03-23 KR KR1020197032093A patent/KR20190131111A/en not_active Application Discontinuation
- 2018-03-23 WO PCT/JP2018/011696 patent/WO2018180982A1/en active Application Filing
- 2018-03-27 TW TW107110445A patent/TW201837121A/en unknown
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07330378A (en) | 1994-06-01 | 1995-12-19 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Water repellent film |
JPH08304605A (en) | 1995-05-12 | 1996-11-22 | Sekisui Chem Co Ltd | Production of laminated body |
WO2016068103A1 (en) | 2014-10-31 | 2016-05-06 | 住友化学株式会社 | Water-repellant/oil-repellant coating composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018172646A (en) | 2018-11-08 |
CN110461911B (en) | 2022-02-25 |
TW201837121A (en) | 2018-10-16 |
WO2018180982A1 (en) | 2018-10-04 |
CN110461911A (en) | 2019-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10113067B2 (en) | Transparent hydrophobic coating materials with improved durability and methods of making same | |
CN110475836B (en) | Composition comprising a metal oxide and a metal oxide | |
CN111918926B (en) | Mixed composition | |
US11203674B2 (en) | Transparent film | |
JP7082534B2 (en) | Composition | |
WO2007099784A1 (en) | Coating composition, hardened film and resin laminate | |
US10988634B2 (en) | Mixed composition | |
KR20190131111A (en) | Composition | |
JP6690968B2 (en) | Method for manufacturing transparent conductive substrate and lateral electric field type liquid crystal display panel with built-in touch panel function | |
JP6470860B1 (en) | Coating composition, conductive film and liquid crystal display panel | |
TW202110962A (en) | Mixture compositions, film, and vehicle glass | |
JP5337360B2 (en) | Coating composition, cured film and resin laminate | |
JPWO2007119805A1 (en) | Coating liquid for coating formation containing phosphoric ester compound and antireflection film | |
CN114746478A (en) | Curable composition | |
CN111918927A (en) | Mixed composition | |
US20230399472A1 (en) | Mixed composition | |
JP2024083938A (en) | Modified rosary-like silica, curable composition, cured film, and laminate | |
KR20240144109A (en) | Thermosetting resin composition | |
JP2022156230A (en) | laminate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |