KR20190124019A - Apparatus and method for pickling strip - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a pickling device and a pickling method capable of easily and efficiently removing an inner oxide layer. The pickling device can comprise: a pickling tank for accommodating a pickling solution and being immersed in the pickling solution as a strip proceeds; a brush part installed downstream of the pickling tank to selectively brush the strip; and a heating part installed upstream of the pickling tank to selectively heat the strip.

Description

산세장치 및 산세방법 {APPARATUS AND METHOD FOR PICKLING STRIP}Pickling Device and Pickling Method {APPARATUS AND METHOD FOR PICKLING STRIP}

본 발명은 내부 산화층의 깊이를 예측하고 이 내부 산화층을 제거할 수 있는 산세장치 및 산세방법에 관한 것이다. The present invention relates to a pickling apparatus and a pickling method capable of predicting the depth of the internal oxide layer and removing the internal oxide layer.

예컨대, AHSS(Advanced High Strength Steel)강 등과 같은 고합금 및 고강도 강의 표면 내부에는 합금의 첨가원소에 의해 생성된 미세 석출 산화물(Si 산화물 또는 Mn 산화물)이 Fe 스케일(Scale)의 생성위치(표피에서 10㎛ 이내)의 바로 아래(10 ~ 30㎛)에 생성된다. 본 명세서에서는 이들 산화물을 내부 산화층이라 칭한다. For example, inside the surface of high alloy and high strength steel, such as AHSS (Advanced High Strength Steel) steel, fine precipitated oxide (Si oxide or Mn oxide) produced by the addition element of the alloy is formed at the position where Fe scale is formed (in the epidermis). Just below (10-30 μm). In the present specification, these oxides are referred to as internal oxide layers.

이러한 내부 산화층은 산소 확산이 빠른 입계(Grain Boundary)를 따라 생성되며, 입자 내에도 생성될 수 있다. 발생 메커니즘은 산소 친화력이 Fe보다 큰 합금의 원소가 첨가되면 산소가 합금 속으로 고용 및 침투하여 가장 친화력이 높은 합금의 첨가원소와 반응한 후 가장 안정한 산화물을 생성하게 되는 것이다. 예를 들면, 강판과 같은 스트립을 열간 압연한 후 권취한 다음에, 온도가 저하되어 Fe 스케일의 성장이 늦어지는 공랭 단계에서 내부 산화층이 주로 생성된다. This internal oxide layer is formed along the grain boundary (Grain Boundary) that the oxygen diffusion is fast, it can also be generated in the particles. The generation mechanism is that when an element of an alloy having an oxygen affinity greater than Fe is added, oxygen is dissolved and penetrated into the alloy to react with the addition element of the alloy having the highest affinity, thereby producing the most stable oxide. For example, an internal oxide layer is mainly produced in the air cooling step in which the temperature is lowered and the growth of Fe scale is slowed after hot rolling of a strip such as a steel sheet.

내부 산화층을 제거하기 위해 산세장치가 사용될 수 있는데, 이 산세장치는 통상 강판과 같은 스트립이 진행하면서, 예를 들어 염산 등과 같은 산세용액이 수용된 적어도 하나의 산세탱크에 침지되어 산세용액과의 화학반응을 통해 스케일뿐 아니라 내부 산화층이 제거되도록 되어 있다. A pickling device can be used to remove the internal oxide layer, which is usually chemically reacted with a pickling solution by immersing in at least one pickling tank containing pickling solution, such as hydrochloric acid, while a strip, such as steel sheet, is in progress. Through this, not only the scale but also the internal oxide layer is removed.

특히, 내부 산화층을 제거하기 위해서는, 계면에 산세용액이 충분히 침투할 수 있도록 스트립이 진행하는 산세속도를 현저히 낮추어 산세탱크 내 체류시간을 길게 하는 방법과, 산세용액으로 염산이 아닌 혼산을 사용하는 방법이 대표적으로 이용된다. Particularly, in order to remove the internal oxide layer, a method of lengthening the residence time in the pickling tank by significantly lowering the pickling speed of the strip so that the pickling solution can sufficiently penetrate the interface, and using a mixed acid instead of hydrochloric acid as the pickling solution This is used representatively.

하지만, 산세속도를 낮추어 산세탱크 내 체류시간을 길게 하면 제조라인의 생산성이 떨어지고, 혼산을 사용하면 비용이 상승함과 더불어 환경오염에 취약한 문제점이 있다. However, if the pickling rate is lowered to increase the residence time in the pickling tank, the productivity of the manufacturing line is reduced, and if the mixed acid is used, the cost is increased and the environment is vulnerable to environmental pollution.

(특허문헌 1) KR 1696108 B1 (Patent Document 1) KR 1696108 B1

이에 본 발명은 내부 산화층을 용이하고 효율적으로 제거할 수 있는 산세장치 및 산세방법을 제공하는 데에 그 주된 목적이 있다. Accordingly, the present invention has a main object to provide a pickling device and a pickling method capable of easily and efficiently removing the internal oxide layer.

본 발명에 따른 산세장치는, 산세용액을 수용하고, 스트립이 진행되면서 상기 산세용액에 침지되게 하는 산세탱크; 상기 산세탱크의 하류에 설치되어, 선택적으로 상기 스트립을 브러싱(Brushing)하는 브러시부; 및 상기 산세탱크의 상류에 설치되어, 선택적으로 상기 스트립을 가열하는 가열부를 포함하는 것을 특징으로 한다. Pickling apparatus according to the present invention, the pickling tank for accommodating the pickling solution, so that the strip is immersed in the pickling solution; A brush portion installed downstream of the pickling tank, for selectively brushing the strip; And a heating unit installed upstream of the pickling tank and selectively heating the strip.

또한, 본 발명에 따른 산세방법은, 스트립과 관련되고 이전 공정에서 취득된 데이터를 활용하여 내부 산화층의 깊이를 예측하는 단계; 및 예측된 상기 내부 산화층의 깊이에 따라 작동모드를 결정하는 단계; 및 결정된 상기 작동모드를 이행하는 단계를 포함하고, 예측된 상기 내부 산화층의 깊이가 제1범위에 있을 때, 제1작동모드가 결정되고, 상기 제1작동모드는 상기 스트립을 산세용액에 침지시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, the pickling method according to the present invention comprises the steps of: predicting the depth of the internal oxide layer using data associated with the strip and obtained in a previous process; Determining an operating mode according to the predicted depth of the inner oxide layer; And implementing the determined operating mode, wherein when the predicted depth of the internal oxide layer is in a first range, a first operating mode is determined, the first operating mode immersing the strip in a pickling solution. Characterized in that it comprises a step.

이상과 같이 본 발명에 의하면, 산세 후 미세 석출 산화물의 잔류에 의한 결함의 발생을 저감시켜 제품의 품질을 향상시킬 수 있는 효과를 얻게 된다.According to the present invention as described above, it is possible to reduce the occurrence of defects due to the residual of the fine precipitated oxide after pickling, thereby obtaining the effect of improving the quality of the product.

또한, 본 발명에 의하면, 산세속도를 낮추거나 혼산을 사용할 필요가 없어, 생산성을 향상되고 환경오염을 방지할 수 있는 효과도 있다. In addition, according to the present invention, there is no need to lower the pickling rate or use mixed acid, thereby improving productivity and preventing environmental pollution.

도 1은 본 발명에 따른 산세장치를 개략적으로 도시한 구성도이다.
도 2는 본 발명에 따른 산세방법을 예시적으로 나타낸 흐름도이다. 1 is a configuration diagram schematically showing a pickling apparatus according to the present invention.
2 is a flowchart illustrating a pickling method according to the present invention.

이하, 본 발명이 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명된다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail through exemplary drawings. In adding reference numerals to the elements of each drawing, it should be noted that the same elements are denoted by the same reference numerals as much as possible even if displayed on different drawings. In addition, in describing the present invention, when it is determined that the detailed description of the related well-known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

도 1은 본 발명에 따른 산세장치를 개략적으로 도시한 구성도이다. 이에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 산세장치는, 산세용액(1)을 수용하고, 스트립(2)이 진행되면서 산세용액에 침지되게 하는 산세탱크(10); 이 산세탱크의 하류에 설치되어, 선택적으로 스트립을 브러싱하는 브러시부(20); 및 산세탱크의 상류에 설치되어, 선택적으로 스트립을 가열하는 가열부(30)를 포함하고 있다. 1 is a configuration diagram schematically showing a pickling apparatus according to the present invention. As shown in the drawing, the pickling apparatus according to the present invention includes: a pickling tank 10 which accommodates pickling solution 1 and is immersed in the pickling solution as the strip 2 proceeds; A brush portion 20 installed downstream of the pickling tank and selectively brushing the strip; And a heating section 30 provided upstream of the pickling tank, which selectively heats the strip.

도 2는 본 발명에 따른 산세방법을 예시적으로 나타낸 흐름도이다. 이에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 산세방법은, 스트립(2)과 관련되고 이전 공정에서 취득된 데이터(3)를 활용하여 내부 산화층의 깊이를 예측하는 단계; 예측된 내부 산화층의 깊이에 따라 작동모드를 결정하는 단계; 및 결정된 작동모드를 이행하는 단계를 포함하고, 예측된 내부 산화층의 깊이가 제1범위에 있을 때, 제1작동모드가 결정되고, 이 제1작동모드는 스트립을 산세용액(1)에 침지시키는 단계를 포함하고 있다. 2 is a flowchart illustrating a pickling method according to the present invention. As shown therein, the pickling method according to the present invention comprises the steps of predicting the depth of the internal oxide layer by utilizing the data 3 associated with the strip 2 and obtained in a previous process; Determining an operating mode according to the predicted depth of the internal oxide layer; And implementing the determined operating mode, wherein when the predicted depth of the internal oxide layer is in the first range, the first operating mode is determined, the first operating mode immersing the strip in the pickling solution 1. It includes steps.

산세탱크(10)는 그 내부에 공간이 형성되어 산세용액(1)이 수용되어 있다. 스트립(2)이 이동방향으로 진행하면서 산세탱크를 통과하고 산세용액에 침지되어 표면에 형성된 스케일과 내부 산화층이 제거될 수 있다. The pickling tank 10 has a space formed therein to accommodate the pickling solution 1. The strip 2 passes through the pickling tank while being moved in the moving direction and is immersed in the pickling solution to remove the scale and the internal oxide layer formed on the surface.

이때, 산세탱크(10)의 양끝에는 스퀴즈롤(11)이 장착되어 스트립(2)이 소정의 텐션을 유지하면서 이동할 수 있다. 또, 스퀴즈롤은 산세 후 스트립의 표면에 잔존하는 산세용액(1)을 스퀴즈(Squeeze)함으로써 산세용액이 산세탱크의 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있다.At this time, the squeeze roll 11 is mounted at both ends of the pickling tank 10 so that the strip 2 can move while maintaining a predetermined tension. In addition, the squeeze roll can prevent the pickling solution from flowing out of the pickling tank by squeezing the pickling solution 1 remaining on the surface of the strip after pickling.

산세탱크(10)의 바닥에는 스트립(2)의 이동방향을 따라 복수개의 스키드(Skid; 미도시)가 배치되거나, 바닥에 인접하여 적어도 하나의 지지롤(12)이 구비될 수 있다. 스키드는, 스트립이 자중에 의해 처짐으로써 산세탱크의 바닥과 접촉하는 것을 방지한다. 한편으로, 지지롤(12)은, 스트립이 산세탱크 내 산세용액(1)에 적어도 소정의 깊이로 침지되어 원활히 이동할 수 있게 해준다. At the bottom of the pickling tank 10, a plurality of skids (not shown) may be disposed along the moving direction of the strip 2, or at least one support roll 12 may be provided adjacent to the bottom. The skid prevents the strip from sagging by its own weight and making contact with the bottom of the pickling tank. On the other hand, the support roll 12 allows the strip to be immersed in at least a predetermined depth in the pickling solution 1 in the pickling tank so that it can move smoothly.

산세용액(1)으로는 황산 용액이나 염산 용액 등을 사용할 수 있다. 또, 이 산세용액에는 산세로 생기는 부식 작용을 억제하기 위한 억제제(Inhibitor)가 첨가될 수 있다. 스트립의 종류, 즉 강종에 따라 산세탱크(10) 내 산세용액의 농도, 온도 및 억제제의 투입량 등은 제어될 수 있다. As the pickling solution 1, a sulfuric acid solution, a hydrochloric acid solution, or the like can be used. In addition, an inhibitor may be added to the pickling solution to suppress the corrosive action caused by the pickling. Depending on the type of strip, that is, the type of steel, the concentration of pickling solution in the pickling tank 10, the temperature and the amount of inhibitor added may be controlled.

한편, 본 발명에 따른 산세장치는, 산세탱크(10) 내 산세용액(1)의 농도, 온도 및 억제제의 투입량, 스트립의 침지소요시간 등과 같은 산세조건을 제어함은 물론, 스트립(2)과 관련되고 이전 공정에서 취득된 데이터(3)를 활용하여 내부 산화층의 깊이를 예측하고, 예측된 내부 산화층의 깊이에 따라 산세장치의 작동모드를 결정하여 그 작동을 제어하는 제어부(40)를 더 포함할 수 있다. On the other hand, the pickling apparatus according to the present invention, as well as controlling the pickling conditions such as the concentration of pickling solution (1) in the pickling tank (10), the temperature and the amount of inhibitor, the immersion time of the strip, the strip (2) and The control unit 40 further includes a control unit 40 for predicting the depth of the internal oxide layer by using the data (3) related and acquired in the previous process, and determining the operation mode of the pickling device according to the predicted depth of the internal oxide layer to control the operation. can do.

이러한 제어부(40)는, 취득된 데이터(3)를 활용하여 내부 산화층의 깊이에 대한 예측값을 산출하는 연산부(41); 이 연산부의 예측값에 따라 산세장치의 작동모드를 선택하는 선택부(42); 및 선택된 작동모드에 요구되는 브러시부(20) 또는 가열부(30)에 그 작동을 제어하는 신호(4)를 유선 또는 무선으로 출력하는 출력부(43)를 포함할 수 있다. The control unit 40 includes an operation unit 41 that calculates a predicted value for the depth of the internal oxide layer by using the acquired data 3; A selecting unit 42 for selecting an operation mode of the pickling apparatus in accordance with the predicted value of the calculating unit; And an output unit 43 for outputting a signal 4 for controlling the operation to the brush unit 20 or the heating unit 30 required for the selected operation mode by wire or wirelessly.

이전 공정에서 취득된 데이터(3)는, 예를 들어 열간압연 공정에서 수집된 데이터 중 내부 산화층의 생성과 관련된 Si, Mn 등의 산소 친화력이 높은 첨가원소의 함량, 권취 온도, 권취 후 냉각시간, 스트립의 두께 및 폭 등이다. The data (3) obtained in the previous process includes, for example, the content of additional elements having high oxygen affinity such as Si and Mn related to the generation of the internal oxide layer among the data collected in the hot rolling process, the coiling temperature, the cooling time after the coiling, Thickness and width of the strip.

스트립(2)의 종류, 즉 강종의 Si, Mn의 함량이 높을수록 강종의 내부 산화층의 깊이가 깊어진다. The type of the strip 2, that is, the higher the content of Si and Mn of the steel grade, the deeper the depth of the internal oxide layer of the steel grade.

또한, 권취 온도가 600도 이상인 경우에 내부 산화층의 깊이가 깊어진다. In addition, when the coiling temperature is 600 degrees or more, the depth of the internal oxide layer becomes deep.

권취 후 냉각시간이 길수록, 그리고 스트립의 두께가 두껍고 폭이 넓을수록 스트립의 표면에서 내부 산화층의 깊이가 깊어진다. The longer the cooling time after winding, and the thicker and wider the strip, the deeper the depth of the internal oxide layer at the surface of the strip.

더욱이, 스트립(2)을 열간 압연한 후 권취한 코일 상태에서, 하나의 코일 내에서도 내부 산화층의 깊이는 상이할 수 있다. 권취된 코일 중 대기에 노출되지 않아 냉각시간이 길어진 코일의 내권부에서는 산소가 입계에 침투되는 시간이 길어져 내부 산화층의 생성 깊이가 깊어진다. Moreover, in the coiled state after the hot rolling of the strip 2, the depth of the internal oxide layer may be different even in one coil. In the inner coil portion of the coil, in which the cooling time is long because the coil is not exposed to the atmosphere, the time for oxygen to penetrate into the grain boundary becomes long, thereby increasing the depth of generation of the internal oxide layer.

연산부(41)에서는 수학식 1과 같은 회귀식에다 취득된 데이터를 적용하여 내부 산화층의 깊이에 대한 예측값이 산출되도록 할 수 있다.The calculation unit 41 may apply the acquired data to a regression equation such as Equation 1 to calculate a prediction value for the depth of the internal oxide layer.

Figure pat00001
Figure pat00001

여기서, F는 내부 산화층 깊이이고, x는 Si의 함량, y는 Mn의 함량, z는 권취 온도, t는 권취 후 냉각 시간, u는 스트립의 두께, v는 스트립의 폭을 나타낸다. 필요에 따라, Si의 함량(x)만 또는 Mn의 함량(y)만 회귀식에 적용될 수도 있다. Where F is the internal oxide layer depth, x is the content of Si, y is the content of Mn, z is the winding temperature, t is the cooling time after winding, u is the thickness of the strip, and v is the width of the strip. If necessary, only the content x of Si or the content y of Mn may be applied to the regression equation.

선택부(42)는 연산부(41)에서 산출된 예측값의 크기에 따라 산세장치가 이행하게 될, 예컨대 3가지의 작동모드 중 하나를 선택하여 결정할 수 있다. The selector 42 may select and determine, for example, one of three operating modes to be performed by the pickling apparatus according to the magnitude of the predicted value calculated by the calculator 41.

예측된 내부 산화층의 깊이가 제1범위에 있을 때, 예를 들면 10㎛보다 작은 경우에, 스트립(2)을 산세탱크(10) 내 산세용액(1)에 침지시키도록 통과하는 단계만 포함하는 제1작동모드가 이행될 수 있다. When the predicted depth of the internal oxide layer is in the first range, for example less than 10 μm, only passing through the strip 2 to immerse the pickling solution 1 in the pickling tank 10. The first mode of operation can be implemented.

또한, 예측된 내부 산화층의 깊이가 제1범위에 있을 때, 예를 들면 10㎛ 이상이고 20㎛보다 작은 경우에, 스트립(2)을 산세탱크(10) 내 산세용액(1)에 침지시킨 다음, 브러시부(20)를 작동시켜 진행하는 스트립이 브러싱되게 하는 단계를 포함하는 제2작동모드가 이행될 수 있다. In addition, when the predicted depth of the internal oxide layer is in the first range, for example, when the thickness is 10 μm or more and smaller than 20 μm, the strip 2 is immersed in the pickling solution 1 in the pickling tank 10. The second operation mode may be implemented, which includes the step of operating the brush unit 20 to cause the advancing strip to be brushed.

브러시부(20)는 산세탱크(10)의 출구에 인접한 하류에 설치되어, 산세처리된 스트립(2)의 표면을 브러싱함으로써, 부가적으로 스트립의 표면을 세정할 수 있다. 이러한 브러시부는 스트립을 사이에 두고 위치된 적어도 한 쌍의 브러시롤(21)을 포함할 수 있다. The brush portion 20 is installed downstream of the outlet of the pickling tank 10 and can additionally clean the surface of the strip by brushing the surface of the pickled strip 2. This brush portion may comprise at least a pair of brush rolls 21 positioned with the strips in between.

이들 브러시롤(21)은 각각 스트립(2) 또는 반대쪽 브러시롤을 향해 이동(승강)할 수 있게 하는 액츄에이터(22)에 연결될 수 있다. 이 액츄에이터로는 작동로드를 갖춘 유체압 실린더 또는 전기식 액츄에이터 등이 채용될 수 있지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 이러한 액츄에이터에 따라, 한쪽 브러시롤과 스트립 또는 반대쪽 브러시롤 사이의 거리가 조절될 수 있다. These brush rolls 21 may each be connected to an actuator 22 which allows movement (elevation) towards the strip 2 or the opposite brush roll. As the actuator, a fluid pressure cylinder or an electric actuator with an operating rod may be employed, but the present invention is not necessarily limited thereto. With this actuator, the distance between one brush roll and the strip or the opposite brush roll can be adjusted.

더구나, 브러시롤(21)은 각각 그 회전력을 제공하는 모터(미도시)에 직접 또는 임의의 전동기구를 매개로 하여 간접적으로 연결될 수 있다. 이 모터는 정역회전이 가능하여, 브러시롤의 회전방향이 변경될 수 있다. In addition, the brush rolls 21 may be directly connected to a motor (not shown) that provides the rotational force, respectively, or directly or indirectly through any powertrain. This motor is capable of forward and reverse rotation, so that the rotation direction of the brush roll can be changed.

이러한 브러시롤(21)의 액츄에이터(22)와 모터의 작동은 제어부(40)에 의해 제어되어, 액츄에이터는 그 작동로드의 신축길이가 조정되며, 모터는 회전속도와 회전방향이 조정될 수 있다. The operation of the actuator 22 and the motor of the brush roll 21 is controlled by the controller 40 so that the actuator can adjust the stretching length of the operating rod, and the motor can adjust the rotation speed and the rotation direction.

선택적으로 브러시부(20)가 작동하는 경우에, 스트립(2)은 산세탱크(10) 내 산세용액(1)에 침지되어 그 표면이 세정됨과 더불어, 부가적으로 브러시롤(21)과 접촉하여 그 표면이 더욱 세정되게 됨으로써, 스케일과 내부 산화층이 효과적으로 제거될 수 있게 되는 것이다. Optionally, when the brush portion 20 is operated, the strip 2 is immersed in the pickling solution 1 in the pickling tank 10 to clean the surface thereof and additionally contact the brush roll 21. As the surface is further cleaned, the scale and internal oxide layer can be effectively removed.

예를 들어, 브러시롤(21)들 사이의 거리가 좁을수록, 그리고 브러시롤의 회전방향이 스트립의 이동방향에 대해 역방향일수록 스케일과 내부 산화층이 보다 확실하게 제거되고, 스트립의 표면 품질이 향상될 수 있다. For example, the narrower the distance between the brush rolls 21 and the rotational direction of the brush roll in the reverse direction to the moving direction of the strip, the more reliably the scale and the internal oxide layer are removed, and the surface quality of the strip is improved. Can be.

여기서, 브러시부(20)가 작동하는 경우에 스트립(2)이 진행하는 속도는 느려지지 않고 일정하게 유지된다. Here, the speed at which the strip 2 proceeds in the case where the brush part 20 is operated is kept constant without slowing down.

한편, 예측된 내부 산화층의 깊이가 제3범위에 있을 때, 예를 들면 20㎛ 이상인 경우에, 스트립(2)을 산세탱크(10) 내 산세용액(1)에 침지시키기 전에 가열부(30)를 작동시켜 진행하는 스트립을 가열할 수 있다. 그 후에, 스트립을 산세탱크 내 산세용액에 침지시킨 다음, 브러시부(30)를 작동시켜 진행하는 스트립이 브러싱되게 하는 제3작동모드가 이행될 수 있다. On the other hand, when the predicted depth of the internal oxide layer is in the third range, for example, 20 µm or more, the heating part 30 before the strip 2 is immersed in the pickling solution 1 in the pickling tank 10. The running strip can be heated by operating. Thereafter, a third operation mode may be implemented in which the strip is immersed in the pickling solution in the pickling tank, and then the brush portion 30 is operated to cause the advancing strip to be brushed.

가열부(30)는 산세탱크(10)의 입구에 인접한 상류에 설치되어, 산세처리될 스트립(2)을 가열함으로써, 스트립의 온도 상승으로 인해 후속의 산세탱크를 통과할 때 산세반응을 촉진시켜 산세효율이 향상될 수 있게 하는 것이다. 이러한 가열부는 스트립을 가열하는 가열수단으로서, 적어도 하나의 히터(31) 또는 버너를 포함할 수 있다. The heating unit 30 is installed upstream of the inlet of the pickling tank 10 to heat the strip 2 to be pickled, thereby promoting pickling reaction when passing through a subsequent pickling tank due to the temperature rise of the strip. Pickling efficiency can be improved. The heating unit may include at least one heater 31 or a burner as heating means for heating the strip.

히터(31)는 저항가열 또는 유도가열을 이용하는 전기식 히터가 사용될 수 있으며, 인가되는 전류를 조절함으로써 스트립(2)의 온도를 제어할 수 있다. 버너로는 가스버너 등이 사용될 수 있는데, 이 경우에는 연료의 양을 조절함으로써 스트립(2)의 온도를 제어할 수 있다. 하지만, 가열수단은 반드시 이들에 한정되지 않으며, 다른 임의의 가열수단이 채용되어도 무방하다. The heater 31 may be an electric heater using resistance heating or induction heating, and may control the temperature of the strip 2 by adjusting the applied current. As a burner, a gas burner or the like can be used. In this case, the temperature of the strip 2 can be controlled by adjusting the amount of fuel. However, the heating means is not necessarily limited to these, and any other heating means may be employed.

이러한 히터(31) 또는 버너의 작동은 제어부(40)에 의해 제어되어, 스트립의 가열 정도, 즉 그 온도가 조정될 수 있다. The operation of such a heater 31 or burner is controlled by the control unit 40 so that the degree of heating of the strip, ie its temperature, can be adjusted.

선택적으로 가열부(30)가 작동하는 경우에, 소정의 온도로 가열된 스트립(2)이 산세탱크(10) 내 산세용액(1)에 침지되면 산세반응이 촉진되어 스트립의 표면이 더욱 효율적으로 세정됨과 더불어, 부가적으로 브러시롤(21)과 접촉하여 그 표면이 더욱 세정되게 됨으로써, 스케일과 내부 산화층이 훨씬 효과적으로 제거될 수 있게 되는 것이다. In the case where the heating unit 30 is selectively operated, when the strip 2 heated to a predetermined temperature is immersed in the pickling solution 1 in the pickling tank 10, the pickling reaction is promoted, so that the surface of the strip is more efficiently. In addition to being cleaned, the surface is further cleaned in contact with the brush roll 21, so that the scale and the internal oxide layer can be removed more effectively.

여기서, 가열부(30)가 작동하는 경우에도 스트립(2)이 진행하는 속도는 느려지지 않고 일정하게 유지된다. Here, even when the heating part 30 is operated, the speed at which the strip 2 proceeds is kept constant without slowing down.

이에 따라, 본 발명에 따른 산세장치 및 산세방법은 예측된 내부 산화층의 깊이에 따라 작동모드가 선택되고 그 작동이 능동적으로 제어되게 됨으로써, 스케일뿐 아니라 내부 산화층이 효과적으로 제거될 수 있다. Accordingly, in the pickling apparatus and the pickling method according to the present invention, the operation mode is selected according to the predicted depth of the internal oxide layer and the operation is actively controlled, so that the internal oxide layer as well as the scale can be effectively removed.

이상과 같이 본 발명에 의하면, 산세 후 미세 석출 산화물의 잔류에 의한 결함의 발생을 저감시켜 제품의 품질을 향상시킬 수 있는 효과를 얻게 된다.According to the present invention as described above, it is possible to reduce the occurrence of defects due to the residual of the fine precipitated oxide after pickling, thereby obtaining the effect of improving the quality of the product.

또한, 본 발명에 의하면, 산세속도를 낮추거나 혼산을 사용할 필요가 없어, 생산성을 향상되고 환경오염을 방지할 수 있는 효과도 있다. In addition, according to the present invention, there is no need to lower the pickling rate or use mixed acid, thereby improving productivity and preventing environmental pollution.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 명세서 및 도면에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the specification and the drawings are not intended to limit the technical spirit of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

1: 산세용액 2: 스트립
10: 산세탱크 20: 브러시부
30: 가열부 40: 제어부1: pickling solution 2: strip
10: pickling tank 20: brush portion
30: heating part 40: control part

Claims (14)

산세용액을 수용하고, 스트립이 진행되면서 상기 산세용액에 침지되게 하는 산세탱크;
상기 산세탱크의 하류에 설치되어, 선택적으로 상기 스트립을 브러싱하는 브러시부; 및
상기 산세탱크의 상류에 설치되어, 선택적으로 상기 스트립을 가열하는 가열부
를 포함하는 산세장치.
A pickling tank for accommodating pickling solution and being immersed in the pickling solution as the strip proceeds;
A brush unit installed downstream of the pickling tank and selectively brushing the strip; And
Heating unit installed upstream of the pickling tank, and selectively heating the strip
Pickling device comprising a.
제1항에 있어서,
상기 스트립과 관련되고 이전 공정에서 취득된 데이터를 활용하여 내부 산화층의 깊이를 예측하고, 예측된 상기 내부 산화층의 깊이에 따라 산세장치의 작동모드를 결정하여 상기 산세장치의 작동을 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 산세장치.
The method of claim 1,
A control unit for controlling the operation of the pickling device by estimating the depth of the internal oxide layer using the data related to the strip and obtained in a previous process, and determining the operation mode of the pickling device according to the predicted depth of the internal oxide layer. Pickling apparatus comprising a.
제2항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 취득된 데이터를 활용하여 상기 내부 산화층의 깊이에 대한 예측값을 산출하는 연산부;
상기 연산부의 예측값에 따라 상기 산세장치의 작동모드를 선택하는 선택부; 및
선택된 작동모드에 요구되는 상기 브러시부 또는 상기 가열부에, 작동을 제어하는 신호를 출력하는 출력부
를 포함하는 것을 특징으로 하는 산세장치.
The method of claim 2,
The control unit,
A calculator configured to calculate a predicted value of the depth of the internal oxide layer by using the acquired data;
A selection unit which selects an operation mode of the pickling device according to the predicted value of the calculation unit; And
An output unit for outputting a signal for controlling the operation to the brush unit or the heating unit required for the selected operation mode
Pickling apparatus comprising a.
제2항에 있어서,
상기 브러시부는, 상기 스트립을 사이에 두고 위치된 적어도 한 쌍의 브러시롤을 포함하는 것을 특징으로 하는 산세장치.
The method of claim 2,
The brush unit, pickling device, characterized in that it comprises at least a pair of brush rolls positioned with the strips therebetween.
제4항에 있어서,
상기 브러시롤은 스트립 또는 반대쪽 브러시롤을 향해 이동하게 하는 액츄에이터에 연결되고,
상기 액츄에이터는 작동로드의 신축길이가 상기 제어부에 의해 제어되는 것을 특징으로 하는 산세장치.
The method of claim 4, wherein
The brush roll is connected to an actuator for moving toward the strip or the opposite brush roll,
The actuator is a pickling device, characterized in that the expansion length of the operating rod is controlled by the control unit.
제5항에 있어서,
상기 브러시롤은 회전력을 제공하는 모터에 연결되고,
상기 모터는 회전속도와 회전방향이 상기 제어부에 의해 제어되는 것을 특징으로 하는 산세장치.
The method of claim 5,
The brush roll is connected to a motor providing a rotational force,
Pickling device, characterized in that the motor is controlled by the controller the rotational speed and rotational direction.
제2항에 있어서,
상기 가열부는 스트립을 가열하는 적어도 하나의 히터 또는 버너를 포함하고,
상기 히터 또는 버너의 작동은 상기 제어부에 의해 제어되는 것을 특징으로 하는 산세장치.
The method of claim 2,
The heating unit includes at least one heater or burner for heating the strip,
Pickling device, characterized in that the operation of the heater or burner is controlled by the control unit.
스트립과 관련되고 이전 공정에서 취득된 데이터를 활용하여 내부 산화층의 깊이를 예측하는 단계; 및
예측된 상기 내부 산화층의 깊이에 따라 작동모드를 결정하는 단계; 및
결정된 상기 작동모드를 이행하는 단계
를 포함하고,
예측된 상기 내부 산화층의 깊이가 제1범위에 있을 때, 제1작동모드가 결정되고,
상기 제1작동모드는 상기 스트립을 산세용액에 침지시키는 단계를 포함하는 산세방법.
Predicting the depth of the internal oxide layer using data associated with the strip and obtained in a previous process; And
Determining an operating mode according to the predicted depth of the inner oxide layer; And
Implementing the determined operating mode
Including,
When the predicted depth of the internal oxide layer is in the first range, a first mode of operation is determined,
And the first mode of operation comprises immersing the strip in a pickling solution.
제8항에 있어서,
예측된 상기 내부 산화층의 깊이가 제2범위에 있을 때, 제2작동모드가 결정되고,
상기 제2작동모드는,
상기 스트립을 산세용액에 침지시키는 단계; 및
상기 스트립을 브러싱하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 산세방법.
The method of claim 8,
When the predicted depth of the internal oxide layer is in the second range, a second mode of operation is determined,
The second operation mode is,
Immersing the strip in a pickling solution; And
Brushing the strip
Pickling method comprising a.
제9항에 있어서,
예측된 상기 내부 산화층의 깊이가 제3범위에 있을 때, 제3작동모드가 결정되고,
상기 제3작동모드는,
상기 스트립을 가열하는 단계;
상기 스트립을 산세용액에 침지시키는 단계; 및
상기 스트립을 브러싱하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 산세방법.
The method of claim 9,
When the predicted depth of the internal oxide layer is in the third range, a third mode of operation is determined,
The third operation mode,
Heating the strip;
Immersing the strip in a pickling solution; And
Brushing the strip
Pickling method comprising a.
제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 스트립이 진행하는 속도는 일정한 것을 특징으로 하는 산세방법.
The method according to any one of claims 8 to 10,
Pickling method characterized in that the speed of the strip is constant.
제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 취득된 데이터는, 상기 내부 산화층의 생성과 관련된 첨가원소의 함량, 권취 온도, 권취 후 냉각시간, 스트립의 두께 및 폭인 것을 특징으로 하는 산세방법.
The method according to any one of claims 8 to 10,
The obtained data is a pickling method, characterized in that the content of the additive element associated with the generation of the internal oxide layer, the winding temperature, the cooling time after the winding, the thickness and width of the strip.
제12항에 있어서,
상기 첨가원소는 Si, Mn 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 산세방법.
The method of claim 12,
The addition element is a pickling method, characterized in that at least one of Si, Mn.
제10항에 있어서,
상기 제1범위는, 예측된 상기 내부 산화층의 깊이가 10㎛보다 작은 범위이고,
상기 제2범위는 10㎛ 이상이고 20㎛보다 작은 범위이며,
상기 제3범위는 20㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 산세방법.The method of claim 10,
The first range is a range in which the predicted depth of the internal oxide layer is less than 10 μm,
The second range is at least 10 μm and less than 20 μm,
Pickling method characterized in that the third range is 20㎛ or more.
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