KR20190121663A - Plasma-based Beauty Equipment - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 플라즈마 미용기기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플라즈마 제트를 분사하여 피부 미용에 사용될 수 있는 플라즈마 미용기기에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma beauty device, and more particularly, to a plasma beauty device that can be used for skin care by spraying a plasma jet.
플라즈마란 원자나 분자로 된 기체가 에너지를 받아 전기적으로 중성인 이온화된 기체를 말한다. 특히 저온 플라즈마 기술은 반도체 제조, 금속 및 세라믹 박막제조, 물질합성과 표면처리 등 다양한 활용성을 가지고 있는데 대기압(대기압)과 저압 플라즈마로 구분할 수 있다. Plasma is an ionized gas that is electrically neutral when a gas of atoms or molecules receives energy. In particular, low-temperature plasma technology has various applications such as semiconductor manufacturing, metal and ceramic thin film manufacturing, material synthesis and surface treatment, which can be classified into atmospheric pressure (atmospheric pressure) and low pressure plasma.
대기압 플라즈마의 발생은 대기압 하에서 여러 가지 방법의 전기방전을 이용하되, 전자 에너지의 세기가 이온 및 중성입자 등의 에너지 보다 높게 유지되는 비평형 상태로 유지됨으로 다양한 플라즈마 화학반응 및 표면처리의 응용에 적합하다. Atmospheric pressure plasma is generated using various methods of electric discharge under atmospheric pressure, but is maintained in an unbalanced state where the intensity of electron energy is maintained higher than that of ions and neutral particles, etc. Do.
대기압 플라즈마를 구현하는 방법으로는 유전체 장벽 방전(dielectric barrier discharge), 코로나 방전(corona discharge), 마이크로웨이브 방전(microwave discharge), 아크방전(arc discharge)등이 있다. 이중에 유전체 장벽 방전은 대기압에서 아주 큰 비평형 조건에서 동작하고, 고 출력 방전을 할 수 있으며 복잡한 펄스전력 공급기가 없어도 되기 때문에 산업체에서 널리 이용되고 있는데, 오존 발생, 이산화탄소 레이저, 자외선광원, 오염물질 처리 등에 널리 응용되고 있다. Methods of implementing the atmospheric pressure plasma include a dielectric barrier discharge, a corona discharge, a microwave discharge, an arc discharge, and the like. Dielectric barrier discharges are widely used in industry because they operate at very large unbalanced conditions at atmospheric pressure, have high output discharges, and do not require complex pulsed power supplies. It is widely applied to treatment.
최근 들어 저온 대기압 플라즈마를 이용하여 주위의 재료에는 영향을 최소화하며 미생물의 효과적인 살균법으로 연구되고 있다. Recently, the use of low temperature atmospheric plasma minimizes the influence on the surrounding materials and has been studied as an effective sterilization method of microorganisms.
기존의 살균법에 효율적으로 대체하고자 하는 차세대 살균법으로 대기압 플라즈마가 제시된 바 있다.Atmospheric pressure plasma has been proposed as a next-generation sterilization method to efficiently replace the conventional sterilization method.
미생물 살균과 같은 표면처리를 위한 대기압 플라즈마 장치는 평행한 두 평판 전극 사이에 피 처리물을 삽입하고 그 내부에서 플라즈마를 발생시켜 대상물을 처리하는 대향형 방식과 플라즈마 반응기 내부에서 형성된 플라즈마 및 기체 활성종들을 불꽃의 형태로 발생기 외부로 분출시켜 대상물을 처리하는 분사식 방식을 들 수 있다. Atmospheric pressure plasma apparatus for surface treatment, such as microbial sterilization, is an opposing method of treating an object by inserting a workpiece between two parallel plate electrodes and generating a plasma therein, and plasma and gaseous active species formed inside a plasma reactor. And spraying them outside the generator in the form of a flame to treat the object.
여기서, 피처리물의 국부소독 및 살균을 위해 분사식 방식을 이용한 대기압 플라즈마 반응기에 관하여 현재 다양한 연구가 개발되고 있다.Here, various researches are currently being developed regarding an atmospheric pressure plasma reactor using a spray method for local disinfection and sterilization of a target.
종래 피처리물 살균을 위한 대기압 플라즈마 제트 방식에 사용되는 방전기체는 일반적으로 헬륨가스를 주원료로 사용해왔다. Conventional discharge gas used in the atmospheric plasma jet method for sterilizing the workpiece has been generally used helium gas as the main raw material.
이는 헬륨가스를 이용한 대기압 방전은 낮은 방전전압을 갖으며 산소와 같은 전자친화력이 강한 가스를 포함하더라도 안정한 글로우 방전을 유지할 수 있기 때문이다. This is because atmospheric pressure discharge using helium gas has a low discharge voltage and can maintain a stable glow discharge even if it contains a gas having a strong electron affinity such as oxygen.
한편 종래 기술은 플라즈마 출력세기를 제어하기 어려운 단점이 있었다. Meanwhile, the related art has a disadvantage in that it is difficult to control the plasma output strength.
본 발명은 종래 기술의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 플라즈마의 출력을 감지하고, 출력세기를 조절함으로써 고온화상을 방지할 수 있도록 한 플라즈마 미용기기를 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention has been made to solve the problems of the prior art, it is an object of the present invention to provide a plasma beauty device that can prevent the high-temperature image by sensing the output of the plasma, and adjust the output intensity.
상기한 본 발명의 목적은, 내부에 통로가 형성되고 개구부를 갖는 제1관체와, 상기 제1관체의 내부에 결합되고 내부에 중공부를 가지며 제1관체의 내벽과 이격되어 형성되는 제2관체로 구성된 본체; 본체의 내부에 가스를 주입하는 가스공급부; 본체의 내부에 형성되는 제2전극과 외부에 형성되는 제1전극; 제1전극과 제2전극 사이에 고주파를 인가하는 고주파 발생부; 고주파 발생부를 이용하여 플라즈마 발생시 고주파 신호를 검출하여 출력량을 표시하고 제어하는 검출부;를 포함하는 플라즈마 미용기기에 의해 달성될 수 있다. The object of the present invention described above is a first tube body having a passage therein and having an opening, and a second tube body coupled to the inside of the first tube body and having a hollow portion therein and spaced apart from an inner wall of the first tube body. Configured body; A gas supply unit for injecting gas into the body; A second electrode formed inside the main body and a first electrode formed outside; A high frequency generator for applying a high frequency between the first electrode and the second electrode; It can be achieved by the plasma cosmetic device including a; detecting unit for displaying and controlling the output amount by detecting a high frequency signal during plasma generation using a high frequency generator.
상기 검출부는 상기 본체의 내부에 형성되며 개구부에 근접되도록 형성되는 광센서와, 상기 광센서와 연동되는 광검출회로를 포함하는 것을 특징으로 한다. The detection unit may include an optical sensor formed inside the main body and adjacent to the opening, and an optical detection circuit interoperating with the optical sensor.
상기 고주파 발생부는 RF 유도코일인 것을 특징으로 한다. The high frequency generator is characterized in that the RF induction coil.
상기 제2관체의 끝단은 상기 제1관체의 끝단보다 짧게 형성되는 것을 특징으로 한다.The end of the second tube is characterized in that it is formed shorter than the end of the first tube.
본 발명에 따르면, 플라즈마의 출력을 감지하고, 출력세기를 조절함으로써 고온화상을 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, by detecting the output of the plasma, by adjusting the output strength there is an effect that can prevent a high-temperature image.
도 1은 제1실시예에 따른 플라즈마 미용기기를 나타낸 도면,
도 2는 제2실시예에 따른 플라즈마 미용기기를 나타낸 도면.1 is a view showing a plasma beauty device according to a first embodiment,
2 is a view showing a plasma beauty device according to a second embodiment.
이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 토대로 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
이에 앞서, 후술하는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 것으로서, 이는 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 개념과 당해 기술분야에서 통용 또는 통상적으로 인식되는 의미로 해석되어야 함을 명시한다.Prior to this, the following terms are defined in consideration of the functions in the present invention, which specifies that the concept should be construed as a concept consistent with the technical spirit of the present invention and commonly understood or commonly recognized in the art.
또한, 본 발명과 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.In addition, when it is determined that the detailed description of known functions or configurations related to the present invention may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.
여기서, 첨부된 도면들은 기술의 구성 및 작용에 대한 설명과 이해의 편의 및 명확성을 위해 일부분을 과장하거나 간략화하여 도시한 것으로서, 각 구성요소가 실제의 크기와 정확하게 일치하는 것은 아니다.Here, the accompanying drawings show an exaggerated or simplified part of the description and description for the convenience and clarity of the construction and operation of the technology, and each component does not exactly match the actual size.
첨부된 도면 중에서, 도 1은 제1실시예에 따른 플라즈마 미용기기를 나타낸 도면, 도 2는 제2실시예에 따른 플라즈마 미용기기를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a plasma beauty device according to a first embodiment, Figure 2 is a view showing a plasma beauty device according to a second embodiment.
도 1에 나타낸 바와 같이, 제1실시예에 따른 플라즈마 미용기기(A1)는,As shown in FIG. 1, the plasma beauty machine A1 according to the first embodiment may be
내부에 통로가 형성되고 개구부를 갖는 제1관체(21)와, 상기 제1관체(21)의 내부에 결합되고 내부에 중공부를 가지며 제1관체(21)의 내벽과 이격되어 형성되는 제2관체(22)로 구성된 본체(2);A first
상기 본체(2)의 내부에 가스를 주입하는 가스공급부(4); A gas supply
상기 본체(2)의 내부에 형성되는 제2전극(T2)과 외부에 형성되는 제1전극(T2);A second electrode T2 formed inside the
상기 제1전극(T2)과 제2전극(T2) 사이에 고주파를 인가하는 고주파 발생부(6);A high frequency generator (6) for applying a high frequency between the first electrode (T2) and the second electrode (T2);
상기 고주파 발생부(6)를 이용하여 플라즈마 발생시 고주파 신호를 검출하여 출력량을 표시하고 제어하는 검출부(8);A detector (8) for detecting and displaying an output quantity of a high frequency signal during plasma generation using the high frequency generator (6);
를 포함하여 구성된다. It is configured to include.
가스공급부(4)는 아르곤 가스를 공급하는 것이 바람직하다. 아르곤 가스를 활성기체로 하여 플라즈마 제트를 형성할 수 있다. The
물론 아르곤 가스에만 한정될 필요는 없고 산소, 질소가 선택될 수 있다. Of course, there is no need to be limited to argon gas only, and oxygen and nitrogen may be selected.
상기 검출부(8)는 RF 유도 코일전극을 이용하는 검출회로(5)이다.The
또는 검출부(8)는 본체(2)의 내부에 형성되며 개구부에 근접되도록 형성되는 광센서(82)와, 상기 광센서(82)와 연동되는 광검출회로(84)를 포함하여 구성된다. Alternatively, the
상기 고주파 발생부(6)는 RF 유도코일이다. The
따라서 제1전극(T2)과 제2전극(T2) 간에 고주파 100Khz~4MHz를 인가한다. 보다 구체적으로는 고주파 1.7MHz 65W 2kv~6kv를 인가한다. Therefore, a high frequency of 100KHz ~ 4MHz is applied between the first electrode T2 and the second electrode T2. More specifically, high frequency 1.7MHz 65W 2kv ~ 6kv is applied.
상압하에서 저온 플라즈마 제트를 형성하게 된다. The low temperature plasma jet is formed under normal pressure.
본체(2)에 형성된 제1전극(T2)과 제2전극(T2) 간의 고전위가 형성되고, 광센서(82)에서 이를 검출하여 광량을 측정한다. The high potential between the first electrode T2 and the second electrode T2 formed in the
플라즈마의 출력과 출력 파장을 감지하여 안전 범위를 벗어날 경우 플라즈마 발생 프로세스를 오프시켜 안전성을 향상시킬 수 있다. When the output and output wavelength of the plasma is sensed and the safety range is exceeded, the plasma generation process can be turned off to improve safety.
한편 다른 실시예(A2)에 따르면, 도 2에 나타낸 바와 같이, Meanwhile, according to another embodiment A2, as shown in FIG. 2,
내부의 제1관체(21)와 외부의 제2관체(22)로 구성된 본체(2);A
상기 제1관체(21)의 외부에 이격 배치된 2개의 외부 전극(T41,T42);Two external electrodes T41 and T42 spaced apart from the
상기 2개의 외부 전극(T41,T42) 간에 고주파를 인가하는 고주파 발생부(6);A high frequency generator (6) for applying a high frequency between the two external electrodes (T41, T42);
상기 본체(2)의 내부에 가스를 주입하는 가스공급부(4); A gas supply
상기 고주파 발생부(6)를 이용하여 플라즈마 발생시 고주파 신호를 검출하여 출력량을 표시하고 제어하는 검출부(8);A detector (8) for detecting and displaying an output amount of a high frequency signal during plasma generation using the high frequency generator (6);
를 포함하여 구성된다. It is configured to include.
본체(2)를 구성하는 제1관체(21) 및 제2관체(22)는 원형 유리관으로 이루어진다. 제1관체(21)는 외경 4mm, 제2관체는 외경 2mm 로 구성되어 이격 공간이 형성될 수 있다. The first
외부 전극(T41,T42)은 원형인 알루미늄 재질로 이루어지고, 제1관체(21)의 외측에 소정 간격으로 이격되게 형성된다. The external electrodes T41 and T42 are made of a circular aluminum material, and are formed to be spaced apart from each other at a predetermined interval on the outer side of the
가스공급부(4)는 아르곤 가스를 공급하게 되며, 고주파 발생부(6)는 RF 유도코일이다. The
상기 검출부(8)는 RF 유도 코일전극을 이용하는 검출회로(5)이다.The
또는 검출부(8)는 본체(2)의 내부에 형성되며 개구부에 근접되도록 형성되는 광센서(82)와, 상기 광센서(82)와 연동되는 광검출회로(84)를 포함하여 구성된다. Alternatively, the
따라서 고주파 발생부(6)에서 고주파 1.7MHz 65W 2kv~6kv를 인가한다. 상압하에서 저온 플라즈마 제트를 형성하게 된다. Therefore, the
본체(2)에 형성된 2개의 외부 전극(T41,T42) 간의 고전위가 형성되고, 광센서(82)에서 이를 검출하여 광량을 측정한다. A high potential between two external electrodes T41 and T42 formed in the
플라즈마의 출력과 출력 파장을 감지하여 안전 범위를 벗어날 경우 플라즈마 발생 프로세스를 오프시켜 안전성을 향상시킬 수 있다. When the output and output wavelength of the plasma are sensed and the safety range is exceeded, the plasma generation process can be turned off to improve safety.
상기 제2관체의 끝단은 상기 제1관체의 끝단보다 짧게 형성되는데, 플라즈마 방전에 의한 파티클이 전극에 부착되는 것을 막을 수 있다.The end of the second tube is formed shorter than the end of the first tube, it is possible to prevent the particles from being attached to the electrode by the plasma discharge.
한편, 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 안에서 예시되지 않은 여러 가지 변형과 응용이 가능함은 물론 구성요소의 치환 및 균등한 타실시 예로 변경할 수 있으므로 본 발명의 특징에 대한 변형과 응용에 관계된 내용은 본 발명의 범위 내에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.On the other hand, the present invention is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, various modifications and applications that are not illustrated within the scope not departing from the technical spirit of the present invention, as well as the substitution of components and equivalent threading As the examples may be changed, the contents related to the modification and application of the features of the present invention should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
2 : 본체 4 : 가스공급부
5 : 검출회로 6 : 고주파 발생부
8 : 검출부 21 : 제1관체
22 : 제2관체 82 : 광센서
84 : 광검출회로2: main body 4: gas supply unit
5: detection circuit 6: high frequency generator
8
22: second body 82: light sensor
84: photodetector circuit
Claims (6)
상기 본체의 내부에 가스를 주입하는 가스공급부;
상기 본체의 내부에 형성되는 제2전극과 외부에 형성되는 제1전극;
상기 제1전극과 제2전극 사이에 고주파를 인가하는 고주파 발생부;
상기 고주파 발생부를 이용하여 플라즈마 발생시 고주파 신호를 검출하여 출력량을 표시하고 제어하는 검출부;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 미용기기. A main body formed of a first tube formed with a passage therein and having an opening, and a second tube coupled to the inside of the first tube and having a hollow therein and spaced apart from an inner wall of the first tube;
A gas supply unit for injecting gas into the body;
A second electrode formed inside the main body and a first electrode formed outside;
A high frequency generator for applying a high frequency between the first electrode and the second electrode;
A detection unit for displaying and controlling an output amount by detecting a high frequency signal during plasma generation using the high frequency generator;
Plasma beauty device comprising a.
상기 제1관체의 외부에 이격 배치된 복수의 외부 전극;
상기 복수의 외부 전극 간에 고주파를 인가하는 고주파 발생부;
상기 본체의 내부에 가스를 주입하는 가스공급부;
상기 고주파 발생부를 이용하여 플라즈마 발생시 고주파 신호를 검출하여 출력량을 표시하고 제어하는 검출부;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 미용기기. A main body formed of a first tube formed with a passage therein and having an opening, and a second tube coupled to the inside of the first tube and having a hollow therein and spaced apart from an inner wall of the first tube;
A plurality of external electrodes spaced apart from the outside of the first tube;
A high frequency generator for applying a high frequency between the plurality of external electrodes;
A gas supply unit for injecting gas into the body;
A detection unit for displaying and controlling an output amount by detecting a high frequency signal during plasma generation using the high frequency generator;
Plasma beauty device comprising a.
상기 검출부는
상기 본체의 내부에 형성되며 개구부에 근접되도록 형성되는 광센서와, 상기 광센서와 연동되는 광검출회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 미용기기. The method according to claim 1 or 2,
The detection unit
And a light sensor formed inside the main body and formed to be close to the opening, and a photodetector circuit interlocked with the light sensor.
상기 검출부는 RF 유도 코일전극을 이용하는 검출회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 미용기기. The method according to claim 1 or 2,
And the detector comprises a detection circuit using an RF induction coil electrode.
상기 고주파 발생부는 RF 유도코일인 것을 특징으로 하는 플라즈마 미용기기.
The method according to claim 1 or 2,
The high frequency generator is a plasma beauty device, characterized in that the RF induction coil.
상기 제2관체의 끝단은 상기 제1관체의 끝단보다 짧게 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 미용기기.
The method according to claim 1 or 2,
Plasma beauty device, characterized in that the end of the second tube is formed shorter than the end of the first tube.
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KR20080021869A (en) | 2006-09-05 | 2008-03-10 | 엄환섭 | Decontamination apparatus and method of biological and chemical warfare agents (bcw) by low temperature argon plasma-jet at atmospheric-pressure |
KR101607299B1 (en) * | 2015-12-08 | 2016-04-11 | 배동호 | Hyperthermia medical apparatus using high frequency electromagnetic wave |
KR101716698B1 (en) * | 2016-04-15 | 2017-03-15 | 안선희 | Portable Plasma skin care Apparatus |
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- 2018-04-18 KR KR1020180045279A patent/KR102479754B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20080021869A (en) | 2006-09-05 | 2008-03-10 | 엄환섭 | Decontamination apparatus and method of biological and chemical warfare agents (bcw) by low temperature argon plasma-jet at atmospheric-pressure |
KR101607299B1 (en) * | 2015-12-08 | 2016-04-11 | 배동호 | Hyperthermia medical apparatus using high frequency electromagnetic wave |
KR101716698B1 (en) * | 2016-04-15 | 2017-03-15 | 안선희 | Portable Plasma skin care Apparatus |
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