KR20190113429A - Target of X-ray tube, X-ray tube with the same, and method for fabricating the X-ray target - Google Patents

Target of X-ray tube, X-ray tube with the same, and method for fabricating the X-ray target Download PDF

Info

Publication number
KR20190113429A
KR20190113429A KR1020180036106A KR20180036106A KR20190113429A KR 20190113429 A KR20190113429 A KR 20190113429A KR 1020180036106 A KR1020180036106 A KR 1020180036106A KR 20180036106 A KR20180036106 A KR 20180036106A KR 20190113429 A KR20190113429 A KR 20190113429A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ray tube
base layer
target
tube target
layer
Prior art date
Application number
KR1020180036106A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102030813B1 (en
Inventor
채영훈
Original Assignee
경북대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 경북대학교 산학협력단 filed Critical 경북대학교 산학협력단
Priority to KR1020180036106A priority Critical patent/KR102030813B1/en
Publication of KR20190113429A publication Critical patent/KR20190113429A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102030813B1 publication Critical patent/KR102030813B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/04Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/08Anodes; Anti cathodes
    • H01J35/10Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/04Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/08Anodes; Anti cathodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00X-ray tubes
    • H01J2235/08Targets (anodes) and X-ray converters
    • H01J2235/081Target material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00X-ray tubes
    • H01J2235/08Targets (anodes) and X-ray converters
    • H01J2235/086Target geometry

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)

Abstract

Disclosed are a target of an X-ray tube in which electrons collide to emit X-rays, an X-ray tube having the target, and a manufacturing method of the X-ray tube. The disclosed target of the X-ray tube comprises: a base layer made of metal including molybdenum and having a plurality of bond reinforcing grooves formed on one surface thereof; and an electron collision layer formed by spraying and hardening metal including tungsten on one surface of the base layer. Each of the bond reinforcing grooves has an inclined side so that a width thereof becomes wider as the width deepens on one surface of the base layer and extends from one surface of the base layer to be longer in width and depth. The electron collision layer has a surface penetration unit in which a plurality of bonded reinforcing grooves are filled with the sprayed metal and hardened, and a surface lamination unit laminated on one surface of the base layer and formed integrally with the surface penetration unit.

Description

엑스선관 타겟, 이를 구비한 엑스선관, 및 상기 엑스선관 타겟의 제조 방법{Target of X-ray tube, X-ray tube with the same, and method for fabricating the X-ray target}Target of X-ray tube, X-ray tube with the same, and method for fabricating the X-ray target}

본 발명은 엑스선관에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전자 충돌에 의해 엑스선(X-ray)을 방출하는 엑스선관 타겟과, 이를 구비한 엑스선관과, 상기 엑스선관 타겟의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to an X-ray tube, and more particularly, to an X-ray tube target for emitting X-rays by electron collision, an X-ray tube having the same, and a method of manufacturing the X-ray tube target.

전자가 고속으로 타겟(target)에 충돌하면 엑스선(X-ray)이 방출되는데, 엑스선관(X-ray tube)이 이러한 원리를 이용하여 의도적으로 엑스선을 방출시키는데 사용된다. 엑스선관을 내부에 포함하는 것으로, 방출되는 엑스선을 이용하여 예컨대, 인체 내부를 관찰하는 의료용 영상 기기로 사용되는 장치를 엑스선관 장치라고 한다. When electrons strike the target at high speed, X-rays are emitted. An X-ray tube is used to intentionally emit X-rays using this principle. An X-ray tube is included therein, and a device used as a medical imaging apparatus for observing the inside of a human body using X-rays emitted, for example, is called an X-ray tube apparatus.

엑스선관은 양극(anode), 즉 타겟(target)과 음극(cathode)의 전위차에 의해 전자가 가속되어 타겟에 충돌하며, 이때 엑스선이 방출된다. 엑스선관 타겟은 내열성이 큰 몰리브덴(Mo) 또는 몰리브덴 합금으로 된 베이스층(base layer)와, 상기 베이스층 위에 적층된, 텅스텐(W) 또는 텅스텐 합금으로 된 전자 충돌층을 구비한다. 상기 베이스층 아래에는 방열을 촉진하기 위하여 흑연(graphite)로 된 방열층이 더 부착될 수도 있다. In the X-ray tube, electrons are accelerated to the target by the potential difference between an anode, that is, a target and a cathode, and X-rays are emitted. The X-ray tube target has a base layer made of molybdenum (Mo) or molybdenum alloy having high heat resistance, and an electron collision layer made of tungsten (W) or tungsten alloy, laminated on the base layer. A heat dissipation layer made of graphite may be further attached below the base layer to promote heat dissipation.

엑스선관 타겟의 상기 베이스층과 전자 충돌층은 분말야금(powder metallurgy) 방법에 의해 일체로 형성되었다. 그리고, 상기 분말야금에 의해 형성된 엑스선관 타겟은 조직을 치밀하게 하고 강성을 강화하기 위하여 단조 가공이 수행된다. 따라서, 엑스선관 타겟 제조에 소요되는 시간이 오래 걸려 생산성이 저하되고, 분말야금용 장치와 단조 가공 장치를 모두 구비하여야 하므로 제조 비용이 상승한다. 또한, 엑스선 방출 작업이 반복되어 전자 충돌층이 부분적으로 마모 내지 식각되면 엑스선관 타겟을 폐기하게 되므로 자원이 낭비되고, 엑스선관의 유지 관리 비용도 증대된다. The base layer and the electron collision layer of the X-ray tube target were integrally formed by a powder metallurgy method. In addition, the X-ray tube target formed by the powder metallurgy is subjected to a forging process to densify the structure and enhance the rigidity. Therefore, the time required for manufacturing the X-ray tube target is long, the productivity is lowered, and the manufacturing cost increases because both the apparatus for powder metallurgy and the forging processing apparatus must be provided. In addition, if the electron collision layer is partially worn or etched by repeating the X-ray emission operation, the X-ray tube target is discarded, and thus resources are wasted and maintenance costs of the X-ray tube are increased.

대한민국 등록특허공보 제10-1434821호Republic of Korea Patent Publication No. 10-1434821

본 발명은, 품질과 제조 생산성이 향상되고 제조 비용이 절감되는 엑스선관 타겟과, 상기 엑스선관 타겟의 제조 방법과, 상기 엑스선관 타겟을 구비한 엑스선관을 제공한다. The present invention provides an X-ray tube target having improved quality and manufacturing productivity and a reduced manufacturing cost, a method of manufacturing the X-ray tube target, and an X-ray tube having the X-ray tube target.

본 발명은, 엑스선이 방출되도록 전자가 충돌하는 것으로, 몰리브덴(Mo)을 포함하는 금속으로 이루어지며, 일 표면에 복수의 결합 강화 홈(groove)이 형성된 베이스층(base layer), 및 상기 베이스층의 일 표면에 텅스텐(W)을 포함하는 금속이 용사(溶射)되고 경화되어서 형성된 전자 충돌층을 구비하고, 상기 복수의 결합 강화 홈은 각각, 상기 베이스층의 일 표면에서 깊어질수록 폭이 커지게 측면이 경사지고, 상기 결합 강화 홈의 폭 및 깊이보다 길이가 더 길어지도록 상기 베이스층의 일 표면에서 연장되며, 상기 전자 충돌층은, 상기 복수의 결합 강화 홈에 상기 용사된 금속이 채워지고 경화된 표면 침투부, 및 상기 베이스층의 일 표면 상에 적층되며 상기 표면 침투부와 일체로 형성된 표면 적층부를 구비하는 엑스선관 타겟을 제공한다.According to the present invention, electrons collide to emit X-rays, and are formed of a metal including molybdenum (Mo), and a base layer having a plurality of bond reinforcing grooves formed on one surface thereof, and the base layer. A tungsten (W) -containing metal is sprayed and hardened on one surface of the electron collision layer, and the plurality of bond reinforcing grooves are each wider as they are deeper on one surface of the base layer. The fork side is inclined and extends from one surface of the base layer to be longer in length than the width and depth of the bond reinforcing groove, wherein the electron collision layer is filled with the sprayed metal in the plurality of bond reinforcing grooves. An X-ray tube target having a cured surface penetrating portion and a surface stacking portion laminated on one surface of the base layer and integrally formed with the surface penetrating portion is provided.

상기 전자 충돌층을 구성하는 금속 성분에는 3 내지 10wt%의 라듐(Ra)이 포함될 수 있다. The metal component constituting the electron collision layer may include 3 to 10 wt% of radium (Ra).

상기 결합 강화 홈의 깊이는 0.8 내지 3.0mm 이고, 상기 결합 강화 홈의 측면과 바닥면이 교차하여 이루는 각도는 30 내지 60° 일 수 있다. The depth of the coupling reinforcement groove is 0.8 to 3.0mm, the angle formed by the side and the bottom surface of the coupling reinforcement groove may be 30 to 60 °.

상기 결합 강화 홈의 바닥면의 폭은 7 내지 15mm 일 수 있다.The width of the bottom surface of the coupling reinforcement groove may be 7 to 15mm.

상기 복수의 결합 강화 홈은 상기 베이스층의 일 표면에서 동심원을 이루며 배열될 수 있다. The plurality of bonding reinforcement grooves may be arranged concentrically on one surface of the base layer.

또한 본 발명은, 내부 공간이 진공 상태인 진공 튜브(vacuum tube), 상기 진공 튜브 내부로 전자(electron)를 투사하는 음극(cathode), 및 상기 진공 튜브 내부에 배치되고, 상기 음극에서 투사된 전자(electron)가 충돌하여 엑스선(X-ray)이 방출되는 것으로서, 상기한 본 발명의 엑스선관 타겟을 구비하는 엑스선관을 제공한다. In addition, the present invention is a vacuum tube (vacuum tube) in which the internal space is a vacuum state, a cathode for projecting electrons (electron) into the vacuum tube, and the electrons disposed inside the vacuum tube, the electrons projected from the cathode Provided is an X-ray tube having an X-ray tube target of the present invention as described above, wherein electrons collide with each other to emit X-rays.

또한 본 발명은, 상기한 본 발명의 엑스선관 타겟을 제조하는 방법으로서, 몰리브덴(Mo)을 포함하는 금속으로 된 모재(母材)를 기계 가공하여 상기 복수의 결합 강화 홈이 없는 베이스층을 형성하는 베이스층 형성 단계, 상기 베이스층의 일 표면을 기계 가공하여 상기 복수의 결합 강화 홈을 형성하는 결합 강화 홈 가공 단계, 및 텅스텐(W)을 포함하는 금속의 분말을 상기 베이스층의 일 표면에 용사(溶射)하고 냉각하여 상기 표면 침투부 및 표면 적층부를 구비한 전자 충돌층을 형성하는 용사 단계를 구비하는 엑스선관 타겟의 제조 방법을 제공한다. In addition, the present invention is a method of manufacturing the X-ray tube target of the present invention described above, by machining a base material made of a metal containing molybdenum (Mo) to form a base layer free of the plurality of bonding reinforcement grooves A base layer forming step, a bond reinforcing groove processing step of forming a plurality of bond reinforcing grooves by machining one surface of the base layer, and a powder of metal including tungsten (W) on one surface of the base layer. Provided is a method for producing an X-ray tube target having a thermal spraying step of thermal spraying and cooling to form an electron collision layer having the surface penetrating portion and the surface stacking portion.

상기 용사 단계는, 상기 금속 분말을 플라즈마(plasma)에 실어, 상기 금속 분말을 녹이면서 상기 베이스층의 일 표면에 분사하는 플라즈마 용사 단계를 구비할 수 있다. The spraying step may include a plasma spraying step of spraying the metal powder on a plasma and spraying the metal powder onto one surface of the base layer while melting the metal powder.

상기 결합 강화 홈 가공 단계는, 엔드밀(end mill)을 절삭 공구로 사용하여 상기 베이스층의 일 표면에 상기 복수의 결합 강화 홈을 절삭 형성하는 단계를 구비할 수 있다. The bonding reinforcing groove machining step may include cutting and forming the plurality of bonding reinforcing grooves on one surface of the base layer by using an end mill as a cutting tool.

상기 베이스층 형성 단계는 상기 모재를 단조(鍛造) 가공하는 단계를 구비할 수 있다. The base layer forming step may include a step of forging the base material.

상기 용사 단계에 투입되는 금속 분말의 성분에는 3 내지 10wt%의 라듐(Ra)이 포함될 수 있다. Components of the metal powder injected in the thermal spraying step may include 3 to 10 wt% of radium (Ra).

본 발명의 엑스선관 타겟은 가공된 베이스층과 용사 코팅된 전자 충돌층을 구비한다. 이때 베이스층은 대량 생산된 것을 구매하여 사용할 수 있으므로, 분말야금 후 단조 가공을 하여 형성되는 종래의 엑스선관 타겟보다 제조 비용이 절감되고, 제조 시간이 단축되어 생산성이 향상된다. The X-ray tube target of the present invention includes a processed base layer and a spray-coated electron collision layer. In this case, since the base layer can be purchased and used in mass production, manufacturing cost is reduced and manufacturing time is reduced and productivity is improved compared to the conventional X-ray tube target formed by forging after powder metallurgy.

또한, 본 발명의 엑스선관 타겟은 베이스층에 형성된 결합 강화 홈에 채워지게 형성된 표면 침투층으로 인해 전자 충돌층과 베이스층이 후크(hook)에 체결된 것처럼 연계되어서, 전자 충돌층이 베이스층에서 분리되지 않아 품질 신뢰성 및 내구성이 향상된다.In addition, the X-ray tube target of the present invention is linked as if the electron collision layer and the base layer are fastened to the hook due to the surface penetration layer formed to fill the bonding reinforcement groove formed in the base layer, so that the electron collision layer is connected to the base layer. Not separated for improved quality reliability and durability.

한편, 본 발명의 엑스선관 타겟은 전자 충돌층이 부분적으로 마모 내지 식각된 경우 베이스층의 표면에 텅스텐(W)을 포함하는 금속을 다시 용사하는 방법으로 용이하게 전자 충돌층을 재생할 수 있다. 따라서, 되면 엑스선관 타겟을 폐기하지 않게 되므로 자원 낭비가 억제되고, 엑스선관의 유지 관리 비용이 절감된다. Meanwhile, when the electron collision layer is partially worn or etched, the X-ray tube target of the present invention can easily regenerate the electron collision layer by spraying a metal containing tungsten (W) on the surface of the base layer again. Therefore, since the X-ray tube target is not discarded, waste of resources is suppressed and maintenance cost of the X-ray tube is reduced.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 엑스선관의 단면도이다.
도 2는 도 2의 A 부분을 확대 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 엑스선관 타겟의 베이스층을 도시한 평면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 엑스선관 타겟의 제조 과정 중 용사 단계를 설명하기 위한 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of an X-ray tube according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of part A of FIG. 2.
3 is a plan view illustrating a base layer of an X-ray tube target according to an exemplary embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view illustrating a spraying step during a manufacturing process of an X-ray tube target according to an exemplary embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 엑스선관 타겟, 이를 구비한 엑스선관, 및 상기 엑스선관 타겟의 제조 방법을 상세하게 설명한다. 본 명세서에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자 또는 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.Hereinafter, an X-ray tube target according to an embodiment of the present invention, an X-ray tube having the same, and a method of manufacturing the X-ray tube target will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Terminology used herein is a term used to properly express a preferred embodiment of the present invention, which may vary depending on the intention of a user or an operator or customs in the field to which the present invention belongs. Therefore, the definitions of the terms should be made based on the contents throughout the specification.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 엑스선관의 단면도이고, 도 2는 도 2의 A 부분을 확대 도시한 단면도이며, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 엑스선관 타겟의 베이스층을 도시한 평면도이다. 도 1 내지 도 3을 함께 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 엑스선관(10)은 예컨대, 전산화 단층 영상(CT; computed tomography) 촬영 기기와 같은 의료용 영상 기기에 포함되는 엑스선관 장치(미도시)의 내부에 삽입 장착되어 엑스선(X-ray)을 생성 방출하는 것으로, 진공 튜브(vacuum tube)(11), 음극(cathode)(16), 양극(anode)(30), 로터(rotor)(28), 및 스테이터(stator)(미도시)를 구비한다. 1 is a cross-sectional view of an X-ray tube according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of part A of FIG. 2, and FIG. 3 is a view showing a base layer of an X-ray tube target according to an embodiment of the present invention. Top view. 1 to 3 together, the X-ray tube 10 according to an embodiment of the present invention, for example, X-ray tube apparatus (not shown) included in a medical imaging device, such as computed tomography (CT) imaging device It is inserted into the inside and emits X-rays and emits X-rays. The vacuum tube 11, the cathode 16, the anode 30, and the rotor 28, and a stator (not shown).

진공 튜브(11)는 외형이 종(bell)과 유사하여 소위 벨캔(bellcan)으로 불리우기도 한다. 진공 튜브(11)는 상대적으로 직경이 큰 대직경부(13)와, 대직경부(13)에서 이어져 대직경부(13) 아래에 배치되며, 상기 대직경부(13)보다 직경이 작은 소직경부(14)을 구비한다. 진공 튜브(11)는 밀봉되고, 진공 튜브(11)의 내부 공간은 고진공 상태로 유지된다. The vacuum tube 11 is also called a bellcan because its appearance is similar to a bell. The vacuum tube 11 has a large diameter portion 13 having a relatively large diameter and a small diameter portion 14 which is connected to the large diameter portion 13 and is disposed below the large diameter portion 13 and smaller in diameter than the large diameter portion 13. It is provided. The vacuum tube 11 is sealed, and the inner space of the vacuum tube 11 is kept in a high vacuum state.

음극(16)은 진공 튜브(11)의 상측에 고정되며, 상기 양극(30)과의 사이에 대략 150V(volt)의 전위차를 형성한다. 음극(16)에서 생성된 전자(electron)는 상기 전위차에 의해 가속되어 상기 양극(30)으로 투사된다. 상기 양극(30)에 전자가 투사되어 충돌하므로, 상기 양극(30)을 엑스선관 타겟(target)이라고도 한다. The cathode 16 is fixed on the upper side of the vacuum tube 11, and forms a potential difference of approximately 150V (volt) between the anode 30. Electrons generated at the cathode 16 are accelerated by the potential difference and are projected onto the anode 30. Since electrons are projected and collided on the anode 30, the anode 30 is also called an X-ray tube target.

엑스선관 타겟(30)은 디스크(disk) 형태의 부재로서, 몰리브덴(Mo)을 포함하는 금속, 즉 순수 몰리브덴이나 몰리브덴을 주재료로 포함하는 몰리브덴 합금으로 이루어진 베이스층(base layer)(31)과, 베이스층(31)의 일 표면(33), 구체적으로, 상측면 외주부에 텅스텐(W)을 포함하는 금속, 즉 순수 텅스텐(W)이나 텅스텐을 주재료로 포함하는 텅스텐 합금이 적층된 전자 충돌층(40)을 구비한다. 상기 전자 충돌층(40)에 상기 음극(16)에서 고속 투사된 전자가 충돌하여 엑스선이 방출된다. 도 1에 도시되진 않았으나, 엑스선관 타겟(30)은 방열 촉진을 위하여 상기 베이스층(31) 아래에 흑연(graphite)이나 C-C 복합체(Carbon-Carbon composite)로 된 방열층을 더 구비할 수도 있다. The X-ray tube target 30 is a disk-shaped member, a base layer 31 made of a metal containing molybdenum (Mo), that is, a molybdenum alloy containing pure molybdenum or molybdenum as a main material, Electron impinging layer in which a metal including tungsten (W), that is, pure tungsten (W) or a tungsten alloy containing tungsten as a main material, is laminated on one surface 33 of the base layer 31, specifically, the upper peripheral portion ( 40). The electrons projected from the cathode 16 collide with the electron collision layer 40 to emit X-rays. Although not shown in FIG. 1, the X-ray tube target 30 may further include a heat dissipation layer made of graphite or C-C composite (carbon-carbon composite) under the base layer 31 to promote heat dissipation.

엑스선관 타겟(30)의 중심을 상하 방향으로 관통하는 관통공(32)에 끼워지고 고정 캡(cap)(27)에 의해 엑스선관 타겟(30)에 고정된 타겟 연결 샤프트(23)는, 엑스선관 타겟(30)을 상하 방향으로 연장된 가상의 회전 축선(RC)을 중심으로 회전 가능하게 지지한다. 진공 튜브(11)의 소직경부(14) 내측에 배치된 원통 형상의 로터(28)는 상기 타겟 연결 샤프트(23)에 고정 결합된다. 상기 로터(28)의 내측에서 상기 회전 축선(RC)을 따라 연장된 내부 샤프트(25)의 상단은 상기 타겟 연결 샤프트(23)에 고정 결합된다. 샤프트 지지체(17)는 진공 튜브(11)의 하단이 밀봉되도록 상기 진공 튜브(11)의 하단에 고정 결합되고, 상측 베어링(bearing)(21)과 하측 베어링(22)이 상기 내부 샤프트(25)와 샤프트 지지체(17) 사이에 개재된다. 이와 같은 구성으로, 서로 고정 결합된 내부 샤프트(25), 로터(28), 타겟 연결 샤프트(23), 및 엑스선관 타겟(30)은 진공 튜브(11) 내부에서 샤프트 지지체(17)에 회전 축선(RC)을 중심으로 고속 회전 가능하게 지지된다. The target connecting shaft 23 fitted into the through hole 32 penetrating the center of the X-ray tube target 30 in the vertical direction and fixed to the X-ray tube target 30 by the fixing cap 27 is X The ship tube target 30 is rotatably supported about the virtual rotation axis RC extended in the up-down direction. The cylindrical rotor 28 disposed inside the small diameter portion 14 of the vacuum tube 11 is fixedly coupled to the target connecting shaft 23. An upper end of the inner shaft 25 extending along the rotational axis RC inside the rotor 28 is fixedly coupled to the target connecting shaft 23. The shaft support 17 is fixedly coupled to the lower end of the vacuum tube 11 so that the lower end of the vacuum tube 11 is sealed, and the upper bearing 21 and the lower bearing 22 are the inner shaft 25. And is interposed between the shaft support 17. In such a configuration, the inner shaft 25, the rotor 28, the target connecting shaft 23, and the X-ray tube target 30 fixedly coupled to each other have an axis of rotation on the shaft support 17 inside the vacuum tube 11. It is supported so that it may rotate at high speed about RC.

상기 스테이터(미도시)는 진공 튜브(11)의 소직경부(14) 바깥에서 로터(28)를 에워싸도록 권선된 코일(coil)(미도시)을 구비한다. 상기 코일에 전류가 인가되면 전자기력이 발생하고, 이 전자기력에 의해 상기 로터(28) 및 이에 고정 결합된 내부 샤프트(25), 타겟 연결 샤프트(23), 및 엑스선관 타겟(30)이 회전 축선(RC)을 기준으로 회전하게 된다. The stator (not shown) has a coil (not shown) wound around the rotor 28 outside the small diameter portion 14 of the vacuum tube 11. When a current is applied to the coil, an electromagnetic force is generated, and the rotor 28 and the inner shaft 25 fixedly coupled thereto, the target connecting shaft 23, and the X-ray tube target 30 are rotated by the electromagnetic force. It will rotate based on RC).

엑스선관 타겟(30)의 전자 충돌층(40)은 베이스층(31)의 상측면 외주부(33)에 텅스텐(W)을 포함하는 금속이 용사(溶射)되고 경화되어 형성된다. 상기 용사 코팅(coating) 작업에서 전자 충돌층(40)과 베이스층(31) 간의 결합력을 높이기 위하여, 전자 충돌층(40)을 구성하는 금속에는 3 내지 10wt%의 라듐(Ra)이 포함될 수 있다. The electron collision layer 40 of the X-ray tube target 30 is formed by spraying and hardening a metal containing tungsten (W) on the upper outer peripheral portion 33 of the base layer 31. In order to increase the bonding force between the electron collision layer 40 and the base layer 31 in the spray coating (coating), the metal constituting the electron collision layer 40 may include 3 to 10wt% of radium (Ra). .

전자 충돌층(40)과 베이스층(31) 간의 결합력이 강화되도록, 베이스층(31)의 상측면 외주부(33)에는 복수의 결합 강화 홈(35)이 형성되고, 전자 충돌층(40)은 상기 복수의 결합 강화 홈(35)에 상기 텅스텐(W)을 포함하는 금속이 용사되어 채워지고 경화된 표면 침투부(41), 및 상기 베이스층(31)의 상측면 외주부(33)에 적층되며 상기 표면 침투부(41)와 일체로 형성된 표면 적층부(43)를 구비한다. 도 2에서 일점쇄선은 표면 침투부(41)와 표면 적층부(43)를 구분하는 가상선으로서, 실제의 엑스선관 타겟(30)에서는 표면 침투부(41)와 표면 적층부(43)가 도 2에 도시된 것처럼 일직선으로 명확하게 구분되지 않을 수 있다. In order to enhance the bonding force between the electron collision layer 40 and the base layer 31, a plurality of bonding reinforcement grooves 35 are formed in the upper outer peripheral portion 33 of the base layer 31, and the electron collision layer 40 is formed. The metal including the tungsten (W) is sprayed and filled into the plurality of bond reinforcing grooves 35 and laminated on the hardened surface penetrating portion 41 and the upper outer peripheral portion 33 of the base layer 31. And a surface stacking portion 43 formed integrally with the surface penetrating portion 41. In FIG. 2, the dashed-dotted line is an imaginary line separating the surface penetrating portion 41 and the surface stacking portion 43. In the actual X-ray tube target 30, the surface penetrating portion 41 and the surface stacking portion 43 are shown in FIG. 2. It may not be clearly distinguished in a straight line as shown in 2.

베이스층(31)에 형성된 복수의 결합 강화 홈(35)은 각각, 상기 상측면 외주부(33)에서 깊어질수록 결합 강화 홈(35)의 폭이 커지게 측면(37)이 경사진다. 또한, 각각의 결합 강화 홈(35)은, 자신의 폭 및 깊이(DP)보다 길이가 더 길어지도록 상기 상측면 외주부(33)에서 연장된다. 결합 강화 홈(35)의 깊이(DP)는 0.8 내지 3.0mm 이고, 결합 강화 홈(35)의 측면(37)와 바닥면(36)이 교차하여 이루는 각도(AN)는 30 내지 60° 이다. 또한, 결합 강화 홈(35)의 바닥면(36)의 폭(WD)은 7 내지 15mm 이다. Each side of the plurality of coupling reinforcing grooves 35 formed in the base layer 31 is inclined so that the width of the coupling reinforcing grooves 35 increases as the upper side outer peripheral portion 33 deepens. In addition, each engaging reinforcement groove 35 extends from the upper peripheral portion 33 so that its length is longer than its width and depth DP. The depth DP of the engagement reinforcement groove 35 is 0.8 to 3.0 mm, and the angle AN at which the side 37 and the bottom surface 36 of the engagement reinforcement groove 35 intersect is 30 to 60 °. In addition, the width WD of the bottom surface 36 of the coupling reinforcement groove 35 is 7 to 15 mm.

도 2에서는 결합 강화 홈(35)의 측면(37)과 바닥면(36)이 교차하는 바닥면 양 단 모서리(36e)의 단면과, 상기 베이스층(31)의 표면(33), 즉 상측면과 상기 측면(37)이 교차하는 모서리의 단면이 마치, 쐐기(wedge)와 같이 뾰족한 예각으로 도시되어 있으나, 실제의 엑스선관 타겟(30)에서는 상기 모서리들의 단면이 약간 뭉툭한 곡선 형태일 수 있다. In FIG. 2, a cross-section of both bottom edges 36e at which the side 37 and the bottom 36 of the coupling reinforcing groove 35 intersect, and the surface 33 of the base layer 31, ie, the top side Although the cross section of the edge where the side surface 37 crosses is illustrated as a sharp acute angle like a wedge, in actual X-ray tube target 30, the cross section of the edges may have a slightly blunt curved shape.

도 3에 도시된 바와 같이, 복수의 결합 강화 홈(35)은 상기 상측면 외주면(33)에서 베이스층(31)의 회전 중심, 즉 회전 축선(RC)을 중심으로 동심원을 이루며 배열된다. 다만, 본 발명의 엑스선관 타겟에서 복수의 결합 강화 홈의 평면 형상은 도 3에 도시된 것처럼 동심원 형상에 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 상기 회전 축선(RC)을 중심으로 방사 방향(radial direction)으로 연장된 직선 형상이거나, 상기 회전 축선(RC)을 중심으로 한 나선(helical curve) 형상일 수도 있다. As shown in FIG. 3, the plurality of coupling reinforcement grooves 35 are arranged concentrically about the rotation center of the base layer 31, that is, the rotation axis RC, on the upper circumferential outer circumferential surface 33. However, the planar shape of the plurality of coupling reinforcement grooves in the X-ray tube target of the present invention is not limited to the concentric shape as shown in FIG. 3, for example, in a radial direction about the rotation axis RC. ) Or a helical curve around the rotation axis RC.

베이스층과 전자 충돌층 간 경계면이 매끄러운 엑스선관 타겟과 비교하여, 도 1 및 도 2에 도시된 엑스선관 타겟(30)은, 전자 충돌층(40)과 베이스층(31)의 경계면에서 접촉 결합되는 표면적이 확대되므로 베이스층(31)과 전자 충돌층(40) 간의 결합력이 강화된다. 부연하면, 복수의 결합 강화 홈(35)에 채워져 경화되어서, 전자 충돌층(40)의 표면 침투부(41)가 마치 후크(hook)처럼 결합 강화 홈(35)에서 빠져 나오지 못하게 서로 간섭되어서, 베이스층(31)과 전자 충돌층(40) 간의 결합력이 더욱 강화된다.Compared to the X-ray tube target having a smooth interface between the base layer and the electron collision layer, the X-ray tube target 30 shown in FIGS. 1 and 2 has contact bonding at the interface between the electron collision layer 40 and the base layer 31. Since the surface area is enlarged, the bonding force between the base layer 31 and the electron collision layer 40 is enhanced. In other words, the plurality of bonding reinforcement grooves 35 are filled and cured so that the surface penetrating portion 41 of the electron collision layer 40 interferes with each other such that they do not exit from the bonding reinforcement grooves 35 as if they are hooks. The bonding force between the base layer 31 and the electron collision layer 40 is further enhanced.

이하에서, 상기 엑스선관 타겟(30)의 제조 방법을 더욱 상세하게 설명한다. 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 엑스선관 타겟의 제조 과정 중 용사 단계를 설명하기 위한 단면도이다. 도 2 및 도 3을 함께 참조하면, 상기 엑스선관 타겟(30)의 제조 방법은, 베이스층 형성 단계와, 결합 강화 홈 가공 단계와, 용사 단계를 구비한다. 상기 베이스층 형성 단계는, 몰리브덴(Mo)을 포함하는 금속, 즉 순수 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금으로 된 모재(母材)를 기계 가공하여 복수의 결합 강화 홈(35)이 없는 베이스층(31)을 형성하는 단계이다. 상기 기계 가공에는, 모재를 타격하여 베이스층(31)의 형태와 유사한 디스크(disk) 형태로 변형함과 동시에 강성을 강화하는 단조(鍛造) 가공 단계가 포함될 수 있다. 상기 단조 가공된 모재는 대량 생산된 기성품을 구매할 수 있고, 엑스선관 타겟(30)의 제조자는 상기 단조 가공된 모재를 예컨대, 절삭, 그라인딩(grinding)과 같은 마무리 기계 가공을 하여 베이스층(31)으로 제조할 수 있다. Hereinafter, a method of manufacturing the X-ray tube target 30 will be described in more detail. 4 is a cross-sectional view illustrating a spraying step during a manufacturing process of an X-ray tube target according to an exemplary embodiment of the present invention. 2 and 3 together, the method for manufacturing the X-ray tube target 30 includes a base layer forming step, a bonding strengthening groove processing step, and a thermal spraying step. The base layer forming step may be performed by machining a base metal made of molybdenum (Mo), that is, a pure molybdenum or molybdenum alloy, to form a base layer 31 without a plurality of bond reinforcing grooves 35. It's a step. The machining may include a forging process that strikes the base material to deform into a disk shape similar to that of the base layer 31 and at the same time strengthens the rigidity. The forged base material can purchase a mass-produced ready-made product, and the manufacturer of the X-ray tube target 30 performs the finishing process such as cutting and grinding the forged base material, for example, the base layer 31. It can be prepared by.

상기 결합 가공 홈 가공 단계는, 상기 베이스층(31)의 일 표면(33), 즉 상측면 외주부를 기계 가공하여 복수의 결합 강화 홈(35)을 형성하는 단계이다. 상기 복수의 결합 강화 홈(35)은, 엔드밀(end mill)(미도시)을 절삭 공구로 사용하여 베이스층(31)의 상측면 외주부(33)에 복수의 결합 강화 홈(35)을 절삭 가공하여 형성될 수 있다. 상기 결합 강화 홈(35)의 구체적인 형상에 대해서는 상술한 바 있으므로 중복된 설명은 생략한다. 한편, 상기 복수의 결합 강화 홈(35)은 반드시 엔드밀을 이용한 절삭 가공에 의해서만 형성될 수 있는 것은 아니며, 예를 들어, 포토레지스트 도포 단계, 마스킹 단계, 현상 단계, 및 식각 단계를 포함하는 포토리소그래피 공정을 통해서도 형성될 수 있다. The joining groove machining step is a step of forming a plurality of joining reinforcement grooves 35 by machining one surface 33 of the base layer 31, that is, the outer peripheral portion of the upper side. The plurality of joining reinforcement grooves 35 cut the plurality of joining reinforcement grooves 35 in the outer peripheral portion 33 of the upper side of the base layer 31 using an end mill (not shown) as a cutting tool. It can be formed by processing. Since the specific shape of the coupling reinforcement groove 35 has been described above, a redundant description thereof will be omitted. Meanwhile, the plurality of coupling reinforcement grooves 35 may not be formed only by cutting using an end mill. For example, a photo may include a photoresist coating step, a masking step, a developing step, and an etching step. It may also be formed through a lithography process.

도 2 내지 도 4를 함께 참조하면, 상기 용사 단계는 텅스텐(W)을 포함하는 금속, 즉 순수 텅스텐(W) 또는 텅스텐 합금의 분말을 베이스층(31)의 상측면 외주부(33)에 용사(溶射)하고 냉각하여 상기 표면 침투부(41) 및 표면 적층부(43)를 구비한 전자 충돌층을 형성하는 단계이다. 상기 용사 단계는 상기 텅스텐을 포함하는 금속의 분말을 플라즈마(plasma)에 실어, 상기 금속의 분말을 녹이면서 베이스층(31)의 상측면 외주부(33)에 분사하는 플라즈마 용사 단계를 구비할 수 있다. 상기 플라즈마 용사 단계는 플라즈마 용사 토치(torch)(60)를 이용하여 수행될 수 있다.Referring to FIGS. 2 to 4, the spraying step includes spraying a metal including tungsten (W), that is, a powder of pure tungsten (W) or a tungsten alloy on the outer peripheral portion 33 of the upper side of the base layer 31. V) and cooling to form an electron collision layer having the surface penetrating portion 41 and the surface stacking portion 43. The spraying step may include a plasma spraying step in which the powder of the metal including the tungsten is loaded into a plasma, and sprayed onto the upper outer peripheral portion 33 of the base layer 31 while melting the powder of the metal. . The plasma spraying step may be performed using a plasma spray torch 60.

플라즈마 용사 토치(60)는 중앙부에 핀(pin) 형태로 돌출된 음극 전극(cathode)(61)과, 음극 전극(61) 주변을 감싸며 음극 전극(61)의 전방에 노즐 개구(64)가 형성된 양극 전극(anode)(62)을 구비한다. 아르곤, 수소, 질소, 헬륨과 같은 불활성 가스가 음극 전극(61) 주변의 불활성 가스 공급부(67)를 통해 공급되어 음극 전극(61)과 양극 전극(62) 사이에서 플라즈마화되고, 노즐 개구(64)를 통해 상기 토치(60)의 전방으로 플라즈마 제트(plasma jet)가 분사된다. 상기 토치(60)의 과열을 방지하기 위해 양극 전극(62)의 주변부로는 냉각수 공급부(68)를 통해 냉각수가 공급된다.  The plasma spray torch 60 has a cathode 61 protruding in the form of a pin in a central portion thereof, and a nozzle opening 64 formed in front of the cathode electrode 61 while surrounding the cathode electrode 61. An anode electrode 62 is provided. An inert gas such as argon, hydrogen, nitrogen, and helium is supplied through the inert gas supply portion 67 around the cathode electrode 61 to plasmalize between the cathode electrode 61 and the anode electrode 62, and the nozzle opening 64. A plasma jet is sprayed to the front of the torch 60 through (). In order to prevent overheating of the torch 60, the coolant is supplied to the peripheral portion of the anode electrode 62 through the coolant supply unit 68.

상기 토치(60) 전면의 분말 투입부(66)를 통해 텅스텐을 포함하는 금속의 분말이 투입되면 상기 플라즈마 제트에 의해 용융되고, 상기 용융된 금속은 상기 플라즈마 제트에 실려 상기 토치(60)의 전방에 배치된 베이스층(31)의 상측면(32) 외주부에 코팅(coating)되고 냉각되면서 전자 충돌층(40)이 형성된다. 바람직한 실시예에서, 상기 텅스텐 (W)을 포함하는 금속은 텅스텐 합금이고, 그 성분에는 3 내지 10wt%의 라듐(Ra)이 포함될 수 있다. 상기 라듐(Ra)은 용사된 텅스텐 합금이 베이스층(31)의 상측면 외주부(33)에 부착되는 부착력을 향상시켜 베이스층(31)과 전자 충돌층(40) 간의 결합력을 높여준다. 용사되어 상기 결합 강화 홈(35)에 채워져 경화된 금속은 상기 표면 침투부(41)가 되고, 그 위에 적층되어 경화된 금속은 상기 표면 적층부(43)가 되며, 상기 표면 침투부(41)와 표면 적층부(43)는 일체로 합쳐져 경화된다. When a powder of metal including tungsten is introduced through the powder input part 66 on the front side of the torch 60, the molten metal is melted by the plasma jet, and the molten metal is loaded on the plasma jet to the front of the torch 60. The electron collision layer 40 is formed by coating and cooling the outer circumference of the upper surface 32 of the base layer 31 disposed therein. In a preferred embodiment, the metal containing tungsten (W) is a tungsten alloy, the component of which may include 3 to 10wt% of radium (Ra). The radium Ra increases the adhesion between the sprayed tungsten alloy and the upper peripheral portion 33 of the base layer 31, thereby increasing the bonding force between the base layer 31 and the electron collision layer 40. The metal that has been thermally sprayed and filled in the bond reinforcing groove 35 becomes the surface penetrating portion 41, and the metal that is laminated and cured onto the surface laminating portion 43 becomes the surface penetrating portion 41. And surface laminated portion 43 are united together and cured.

이상에서 설명한 엑스선관 타겟(30)은 베이스층(31)과, 그 일 표면에 용사 코팅된 전자 충돌층(40)을 구비한다. 이때 베이스층(31)은 대량 생산된 것을 구매하여 사용할 수 있으므로, 분말야금 후 단조 가공을 하여 형성되는 종래의 엑스선관 타겟보다 제조 비용이 절감되고 제조 시간이 단축되어 생산성이 향상된다. 또한, 분말야금 장치나 단조 가공 장치를 필요로 하지 않으므로, 엑스선관 타겟 제조를 위한 초기 투자 비용을 줄일 수 있다. The X-ray tube target 30 described above includes a base layer 31 and an electron collision layer 40 spray-coated on one surface thereof. In this case, since the base layer 31 can be purchased and used in mass production, manufacturing cost is reduced and manufacturing time is shortened compared to the conventional X-ray tube target formed by forging after powder metallurgy, thereby improving productivity. In addition, since no powder metallurgy equipment or forging apparatus is required, the initial investment cost for manufacturing the X-ray tube target can be reduced.

또한, 상기 엑스선관 타겟(30)은 베이스층(31)에 형성된 결합 강화 홈(35)에 채워지게 형성된 표면 침투층(41)으로 인해 전자 충돌층(40)과 베이스층(31)이 후크(hook)에 체결된 것처럼 연계되어서, 전자 충돌층(40)이 베이스층(31)에서 분리되지 않아 품질 신뢰성 및 내구성이 향상된다. In addition, the X-ray tube target 30 has an electron collision layer 40 and the base layer 31 hooked due to the surface penetration layer 41 formed to fill the coupling reinforcement groove 35 formed in the base layer 31. As it is coupled to the hook, the electron collision layer 40 is not separated from the base layer 31, thereby improving quality reliability and durability.

한편, 본 발명의 엑스선관 타겟(30)은 전자 충돌층(40)이 부분적으로 마모 내지 식각된 경우에 베이스층(31)의 표면에 텅스텐(W)을 포함하는 금속을 다시 용사하는 방법으로 용이하게 전자 충돌층(40)을 재생할 수 있다. 따라서, 엑스선관 타겟(30)을 폐기하지 않게 되므로 자원 낭비가 억제되고, 엑스선관의 유지 관리 비용이 절감된다. On the other hand, the X-ray tube target 30 of the present invention is easy by spraying a metal containing tungsten (W) on the surface of the base layer 31 when the electron collision layer 40 is partially worn or etched. The electron collision layer 40 can be reproduced easily. Therefore, since the X-ray tube target 30 is not discarded, waste of resources is suppressed and maintenance cost of the X-ray tube is reduced.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다. Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

10: 엑스선관 11: 진공 튜브
16: 음극 28: 로터(rotor)
30: 엑스선관 타겟 31: 베이스층
35: 결합 강화 홈 40: 전자 충돌층
10: X-ray tube 11: vacuum tube
16: cathode 28: rotor
30: X-ray tube target 31: base layer
35: bonding strengthening groove 40: electron collision layer

Claims (11)

엑스선이 방출되도록 전자가 충돌하는 것으로,
몰리브덴(Mo)을 포함하는 금속으로 이루어지며, 일 표면에 복수의 결합 강화 홈(groove)이 형성된 베이스층(base layer); 및, 상기 베이스층의 일 표면에 텅스텐(W)을 포함하는 금속이 용사(溶射)되고 경화되어서 형성된 전자 충돌층;을 구비하고,
상기 복수의 결합 강화 홈은 각각, 상기 베이스층의 일 표면에서 깊어질수록 폭이 커지게 측면이 경사지고, 상기 결합 강화 홈의 폭 및 깊이보다 길이가 더 길어지도록 상기 베이스층의 일 표면에서 연장되며,
상기 전자 충돌층은, 상기 복수의 결합 강화 홈에 상기 용사된 금속이 채워지고 경화된 표면 침투부, 및 상기 베이스층의 일 표면 상에 적층되며 상기 표면 침투부와 일체로 형성된 표면 적층부를 구비하는 것을 특징으로 하는 엑스선관 타겟.
Electrons collide to emit X-rays,
A base layer made of a metal including molybdenum (Mo) and having a plurality of bond reinforcing grooves formed on one surface thereof; And an electron collision layer formed by spraying and hardening a metal including tungsten (W) on one surface of the base layer.
Each of the plurality of bonding reinforcement grooves is inclined to the side thereof to become wider as it is deeper on one surface of the base layer, and extends from one surface of the base layer to be longer than the width and depth of the coupling reinforcement groove. ,
The electron collision layer includes a surface penetrating portion filled with the sprayed metal in the plurality of bond reinforcing grooves, and a surface stacking portion laminated on one surface of the base layer and integrally formed with the surface penetrating portion. X-ray tube target, characterized in that.
제1 항에 있어서,
상기 전자 충돌층을 구성하는 금속 성분에는 3 내지 10wt%의 라듐(Ra)이 포함된 것을 특징으로 하는 엑스선관 타겟.
The method of claim 1,
The metal component constituting the electron collision layer X-ray tube target, characterized in that it contains 3 to 10wt% of radium (Ra).
제1 항에 있어서,
상기 결합 강화 홈의 깊이는 0.8 내지 3.0mm 이고,
상기 결합 강화 홈의 측면과 바닥면이 교차하여 이루는 각도는 30 내지 60° 인 것을 특징으로 하는 엑스선관 타겟.
The method of claim 1,
The depth of the coupling reinforcement groove is 0.8 to 3.0mm,
X-ray tube target, characterized in that the angle between the side and the bottom surface of the coupling reinforcement groove is 30 to 60 °.
제3 항에 있어서,
상기 결합 강화 홈의 바닥면의 폭은 7 내지 15mm 인 것을 특징으로 하는 엑스선관 타겟.
The method of claim 3, wherein
X-ray tube target, characterized in that the width of the bottom surface of the coupling reinforced groove is 7 to 15mm.
제1 항에 있어서,
상기 복수의 결합 강화 홈은 상기 베이스층의 일 표면에서 동심원을 이루며 배열된 것을 특징으로 하는 엑스선관 타겟.
The method of claim 1,
The plurality of bonding reinforcement grooves are arranged in a concentric manner on one surface of the base layer X-ray tube target.
내부 공간이 진공 상태인 진공 튜브(vacuum tube);
상기 진공 튜브 내부로 전자(electron)를 투사하는 음극(cathode); 및,
상기 진공 튜브 내부에 배치되고, 상기 음극에서 투사된 전자(electron)가 충돌하여 엑스선(X-ray)이 방출되는 엑스선관 타겟;을 구비하고,
상기 엑스선관 타겟은 제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항의 엑스선관 타겟인 것을 특징으로 하는 엑스선관.
A vacuum tube in which the internal space is in a vacuum state;
A cathode for projecting electrons into the vacuum tube; And,
And an X-ray tube target disposed inside the vacuum tube and emitting X-rays due to collision of electrons projected from the cathode.
The X-ray tube target is an X-ray tube, characterized in that the X-ray tube target of any one of claims 1 to 5.
제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항의 엑스선관 타겟을 제조하는 방법으로서,
몰리브덴(Mo)을 포함하는 금속으로 된 모재(母材)를 기계 가공하여 상기 복수의 결합 강화 홈이 없는 베이스층을 형성하는 베이스층 형성 단계;
상기 베이스층의 일 표면을 기계 가공하여 상기 복수의 결합 강화 홈을 형성하는 결합 강화 홈 가공 단계; 및,
텅스텐(W)을 포함하는 금속의 분말을 상기 베이스층의 일 표면에 용사(溶射)하고 냉각하여 상기 표면 침투부 및 표면 적층부를 구비한 전자 충돌층을 형성하는 용사 단계;를 구비하는 것을 특징으로 하는 엑스선관 타겟의 제조 방법.
A method of manufacturing the X-ray tube target of any one of claims 1 to 5,
A base layer forming step of forming a base layer free of the plurality of bond reinforcing grooves by machining a base metal made of molybdenum (Mo);
A bond reinforcing groove machining step of machining one surface of the base layer to form the plurality of bond reinforcing grooves; And,
And a thermal spraying step of thermally spraying and cooling the metal powder including tungsten (W) on one surface of the base layer to form an electron collision layer having the surface penetrating portion and the surface stacking portion. Method for producing an X-ray tube target.
제7 항에 있어서,
상기 용사 단계는, 상기 금속 분말을 플라즈마(plasma)에 실어, 상기 금속 분말을 녹이면서 상기 베이스층의 일 표면에 분사하는 플라즈마 용사 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 엑스선관 타겟의 제조 방법.
The method of claim 7, wherein
The spraying step, the method of manufacturing an X-ray tube target, characterized in that the plasma spraying step of spraying the metal powder on the plasma (plasma), while melting the metal powder on one surface of the base layer.
제7 항에 있어서,
상기 결합 강화 홈 가공 단계는, 엔드밀(end mill)을 절삭 공구로 사용하여 상기 베이스층의 일 표면에 상기 복수의 결합 강화 홈을 절삭 형성하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 엑스선관 타겟 제조 방법.
The method of claim 7, wherein
The bonding reinforcing groove processing step, the end mill (end mill) using a cutting tool comprising the step of forming the plurality of bonding reinforcing grooves on one surface of the base layer, characterized in that it comprises a step .
제7 항에 있어서,
상기 베이스층 형성 단계는 상기 모재를 단조(鍛造) 가공하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 엑스선관 타겟의 제조 방법.
The method of claim 7, wherein
The base layer forming step includes the step of forging the base material manufacturing method of the X-ray tube target.
제7 항에 있어서,
상기 용사 단계에 투입되는 금속 분말의 성분에는 3 내지 10wt%의 라듐(Ra)이 포함된 것을 특징으로 하는 엑스선관 타겟의 제조 방법.
The method of claim 7, wherein
The method of manufacturing an X-ray tube target, characterized in that 3 to 10wt% of radium (Ra) is included in the component of the metal powder to be injected in the spraying step.
KR1020180036106A 2018-03-28 2018-03-28 Target of X-ray tube, X-ray tube with the same, and method for fabricating the X-ray target KR102030813B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180036106A KR102030813B1 (en) 2018-03-28 2018-03-28 Target of X-ray tube, X-ray tube with the same, and method for fabricating the X-ray target

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180036106A KR102030813B1 (en) 2018-03-28 2018-03-28 Target of X-ray tube, X-ray tube with the same, and method for fabricating the X-ray target

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190113429A true KR20190113429A (en) 2019-10-08
KR102030813B1 KR102030813B1 (en) 2019-10-10

Family

ID=68206202

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180036106A KR102030813B1 (en) 2018-03-28 2018-03-28 Target of X-ray tube, X-ray tube with the same, and method for fabricating the X-ray target

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102030813B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11227739B2 (en) 2018-09-26 2022-01-18 Siemens Healthcare Gmbh X-ray anode, x-ray emitter and method for producing an x-ray anode

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05205675A (en) * 1991-09-16 1993-08-13 General Electric Co <Ge> Anode of x-ray tube and method for stabilization of performance of x-ray tube
WO2010005001A1 (en) * 2008-07-09 2010-01-14 株式会社 東芝 Target for x-ray tube, x-ray tube using the same, x-ray inspection system, and method for producing target for x-ray tube
JP2010537366A (en) * 2007-08-16 2010-12-02 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ Hybrid design of anode disk structure for rotary anode type high power x-ray tube configuration
JP2010541172A (en) * 2007-10-02 2010-12-24 ライス,ハンス−ヘニング X-ray rotating anode plate and manufacturing method thereof
KR101434821B1 (en) 2013-04-10 2014-08-26 주식회사엑스엘 Rotary anode type x-ray tube having non-evaporable getter

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05205675A (en) * 1991-09-16 1993-08-13 General Electric Co <Ge> Anode of x-ray tube and method for stabilization of performance of x-ray tube
JP2010537366A (en) * 2007-08-16 2010-12-02 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ Hybrid design of anode disk structure for rotary anode type high power x-ray tube configuration
JP2010541172A (en) * 2007-10-02 2010-12-24 ライス,ハンス−ヘニング X-ray rotating anode plate and manufacturing method thereof
WO2010005001A1 (en) * 2008-07-09 2010-01-14 株式会社 東芝 Target for x-ray tube, x-ray tube using the same, x-ray inspection system, and method for producing target for x-ray tube
KR101434821B1 (en) 2013-04-10 2014-08-26 주식회사엑스엘 Rotary anode type x-ray tube having non-evaporable getter

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11227739B2 (en) 2018-09-26 2022-01-18 Siemens Healthcare Gmbh X-ray anode, x-ray emitter and method for producing an x-ray anode
US11670476B2 (en) 2018-09-26 2023-06-06 Siemens Healthcare Gmbh X-ray anode, x-ray emitter and method for producing an x-ray anode

Also Published As

Publication number Publication date
KR102030813B1 (en) 2019-10-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101902010B1 (en) Target of X-ray tube, X-ray tube with the same, and method for fabricating the X-ray target
US6707883B1 (en) X-ray tube targets made with high-strength oxide-dispersion strengthened molybdenum alloy
US20110305324A1 (en) X-ray target and method of making same
US6400800B1 (en) Two-step brazed x-ray target assembly
US10622182B2 (en) X-ray anode
KR102030813B1 (en) Target of X-ray tube, X-ray tube with the same, and method for fabricating the X-ray target
US20100246773A1 (en) Interface for liquid metal bearing and method of making same
US20130070902A1 (en) Interface for liquid metal bearing and method of making same
US7720200B2 (en) Apparatus for x-ray generation and method of making same
JP4950973B2 (en) Opening shield with heat-resistant material
KR102248748B1 (en) Jig for fabricating target of X-ray tube, and method for fabricating target of X-ray tube using the same
US7286643B2 (en) X-ray tube target balancing features
KR20220119952A (en) Method for fabricating Target of X-ray tube
US6157702A (en) X-ray tube targets with reduced heat transfer
US20120057681A1 (en) X-ray target manufactured using electroforming process
US5349626A (en) X-ray tube anode target
KR102615714B1 (en) Method for fabricating Target of X-ray tube
JP2014216290A (en) X-ray tube and anode target
US20060157458A1 (en) Methods for attaching x-ray tube components
KR101759090B1 (en) Rotating anode type X-ray tube
JP5646876B2 (en) Rotating anode X-ray tube and X-ray tube apparatus having the same
JPS58123645A (en) Rotary anode
KR102615715B1 (en) Method for repairing track of X-ray tube target
JPH0294344A (en) Rotary anode target for x-ray tube and its manufacture
JP2697381B2 (en) Rotating anode X-ray tube

Legal Events

Date Code Title Description
GRNT Written decision to grant