KR20190108214A - flexible metal clad laminate - Google Patents

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KR20190108214A
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Abstract

The present invention relates to a soft metal foil clad laminate and, more specifically, to a soft metal foil clad laminate for a cross section, which has excellent adhesion to prepreg.

Description

연성금속박적층체{flexible metal clad laminate}Flexible metal clad laminate

본 발명은 연성금속박적층체에 관한 발명이다. 보다 구체적으로, 프리프레그와의 접착력이 우수한 단면용 연성금속박적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible metal laminate. More specifically, the present invention relates to a flexible metal laminate for cross section having excellent adhesion to prepreg.

연성금속박적층체(Flexilble Metal Clad Laminate, FPCB)는 스마트폰과 같은 전자 기기의 회로를 구성하는 FPCB 제품의 기본 원자재로 사용되고 있다.Flexible Metal Clad Laminate (FPCB) is used as a basic raw material for FPCB products that make up the circuit of electronic devices such as smartphones.

최근에 전자기기의 발전과 복잡한 기능의 요구에 따라 연성인쇄회로기판(Flexible Printed Cicruit Board)의 고속전송, 저중량화, 박판화, 소형화가 날로 진행되고 있다. 이러한 요구에 맞추어 연성인쇄회로기판의 가공 측면에서는 미세 패턴화가 진행되고 있다.Recently, in accordance with the development of electronic devices and the demand for complex functions, high-speed transmission, low weight, thinness, and miniaturization of flexible printed circuit boards are progressing day by day. In order to meet these demands, fine patterning is progressing in terms of processing flexible printed circuit boards.

인쇄회로기판 등의 전자기기의 기판은 에폭시수지 함침 유리기재 등과 같은 프리프레그를 동박 및 폴리이미드층이 적층된 연성금속박적층체에 가열, 가압하여 동박 적층판을 제조한 후, 이를 에칭하여 회로망을 형성하고 여기에 반도체장치 등의 소자를 탑재하여 제조된다.Substrates of electronic devices such as printed circuit boards are prepared by heating and pressing prepregs, such as epoxy resin-impregnated glass substrates, onto flexible metal foil laminates in which copper foils and polyimide layers are laminated to produce copper foil laminates, and etching them to form a network. And a device such as a semiconductor device is mounted thereon.

이와 같은 기판은 폴리이미드층과 프리프레그 간의 접착성을 향상시키기 위하여, 폴리이미드층의 표면에 상압 플라즈마 또는 감압 플라즈마 등의 표면처리를 진행하는 것이 일반적이었다. 그러나 이러한 표면처리 공정, 특히 감압 플라즈마를 처리하는 경우에는 수율이 감소되고 생산성이 저하되는 문제가 있다.In order to improve the adhesion between the polyimide layer and the prepreg, such a substrate has generally been subjected to surface treatment such as atmospheric pressure plasma or reduced pressure plasma. However, there is a problem in that the yield is reduced and the productivity is lowered when treating such a surface treatment process, especially a reduced pressure plasma.

또한, 폴리이미드층 제조 시 에폭시 첨가제를 포함함으로써 프리프레그와의 접착력을 개선하고자 하는 연구가 있으나 이는 폴리이미드 경화온도인 고온에서 열처리 시 분해가 되어 실제 상업라인을 오염시킬 가능성이 있으므로 적용에 어려움이 있다.In addition, there is a study to improve the adhesive strength with prepreg by including an epoxy additive in the production of polyimide layer, but it is difficult to apply because it may decompose during heat treatment at a high temperature of polyimide curing temperature and contaminate the actual commercial line. have.

본 발명은 에폭시 첨가제를 포함하지 않고, 폴리이미드층의 표면처리 없이도 프리프레그와의 접착력이 우수한 연성금속박적층체를 제공하는데 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a ductile metal laminate having excellent adhesion to a prepreg without containing an epoxy additive and without surface treatment of a polyimide layer.

더욱 구체적으로 프리프레그와의 접착력이 상온에서 0.8 kgf/cm 이상인 연성금속박적층체를 제공하는데 목적이 있다.More specifically, an object of the present invention is to provide a soft metal laminate having an adhesive strength with prepreg of 0.8 kgf / cm or more at room temperature.

또한 본 발명은 플렉시블 금속 적층판이면서, 단면용 연성금속박적층체를 제공하고자 한다.In addition, the present invention is to provide a flexible metal laminate for the cross-section while being a flexible metal laminate.

본 발명의 일 양태는 금속박의 일면에 적어도 한층 이상의 폴리이미드 층을 포함하는 폴리이미드 적층체가 적층된 연성금속박적층체에 있어서, One aspect of the present invention is a flexible metal foil laminate in which a polyimide laminate including at least one or more layers of polyimide layers is laminated on one surface of a metal foil,

상기 폴리이미드 적층체의 최외층은 하기 화학식 1로 표시되는 단위구조의 질량이 최외층에 사용된 전체 단량체 질량 중 30 내지 40 중량%인 것인 연성금속박적층체이다. The outermost layer of the polyimide laminate is a flexible metal foil laminate in which the mass of the unit structure represented by the following Chemical Formula 1 is 30 to 40% by weight of the total monomer mass used in the outermost layer.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

본 발명의 연성금속박적층체는 프리프레그와 대면되는 폴리이미드층에 별도의 표면처리를 하지 않고도 접착력이 상온에서 0.8 kgf/cm 이상인 연성금속박적층체를 제공할 수 있다.The flexible metal laminate of the present invention can provide a flexible metal laminate having an adhesive force of 0.8 kgf / cm or more at room temperature without a separate surface treatment on the polyimide layer facing the prepreg.

또한, 에폭시 등의 첨가제를 포함하지 않으므로 생산성이 향상될 수 있다.In addition, productivity may be improved since additives such as epoxy are not included.

이하 첨부된 도면들을 포함한 구체예 또는 실시예를 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 구체예 또는 실시예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 하나의 참조일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 여러 형태로 구현될 수 있다. DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying examples or embodiments. However, the following specific examples or examples are only one reference for describing the present invention in detail, but the present invention is not limited thereto and may be implemented in various forms.

또한 달리 정의되지 않는 한, 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당업자 중 하나에 의해 일반적으로 이해되는 의미와 동일한 의미를 갖는다. 본 발명에서 설명에 사용되는 용어는 단지 특정 구체예를 효과적으로 기술하기 위함이고 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다. Also, unless defined otherwise, all technical and scientific terms have the same meanings as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. The terms used in the description in the present invention are only for effectively describing specific embodiments and are not intended to limit the present invention.

또한 명세서 및 첨부된 특허청구범위에서 사용되는 단수 형태는 문맥에서 특별한 지시가 없는 한 복수 형태도 포함하는 것으로 의도할 수 있다. Also, the singular forms used in the specification and the appended claims may be intended to include the plural forms as well, unless the context clearly indicates otherwise.

본 발명의 일 양태는 금속박의 일면에 적어도 한층 이상의 폴리이미드 층을 포함하는 폴리이미드 적층체가 적층된 연성금속박적층체에 있어서,One aspect of the present invention is a flexible metal foil laminate in which a polyimide laminate including at least one or more layers of polyimide layers is laminated on one surface of a metal foil,

상기 폴리이미드 적층체의 최외층은 하기 화학식 1로 표시되는 단위구조의 질량이 최외층에 사용된 전체 단량체 질량 중 30 내지 40 중량%인 것인 연성금속박적층체이다.The outermost layer of the polyimide laminate is a flexible metal foil laminate in which the mass of the unit structure represented by the following Chemical Formula 1 is 30 to 40% by weight of the total monomer mass used in the outermost layer.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

본 발명의 일 양태에서, 상기 최외층은 하기 화학식 2로 표시되는 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드 및 하기 화학식 3으로 표시되는 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로부터 유도되는 폴리이미드를 포함하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the outermost layer is 4,4'-bisphenol A dianhydride represented by the following formula (2) and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl represented by the following formula (3) ] Can be polyimide derived from any one or a mixture thereof selected from propane.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00003
Figure pat00003

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00004
Figure pat00004

본 발명의 일 양태에서, 상기 최외층은 산무수물 단량체 중 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드를 10 내지 60 몰% 포함하고, 디아민 단량체 중 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판을 75 내지 100 몰% 포함하는 것일 수 있다.In one aspect of the invention, the outermost layer comprises 10 to 60 mol% of 4,4'-bisphenol A dianhydride in the acid anhydride monomer, and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy in the diamine monomer C) phenyl] propane may be included in an amount of 75 to 100 mol%.

본 발명의 일 양태에서, 상기 최외층은 상온에서 프리프레그와의 접착력이 0.8 kgf/cm 이상인 것일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the outermost layer may be that the adhesive force with the prepreg at room temperature of 0.8 kgf / cm or more.

본 발명의 일 양태에서, 상기 연성금속박적층체는 굴곡성이 250회 이상인 것일 수 있다. In one aspect of the present invention, the flexible metal laminate may be one having a flexibility of 250 or more times.

이하는 본 발명의 각 구성에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, each configuration of the present invention will be described in more detail.

본 발명의 일 양태에서 상기 연성금속박적층체는 폴리이미드 층을 적어도 한층 이상, 더욱 구체적으로 한층 내지 3층을 포함하는 것일 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기 폴리이미드 층 중 최외층에 상기 화학식 1로 표시되는 구조를 포함함으로써 프리프레그와의 접착력을 향상시키면서도 굴곡성이 우수한 연성금속박적층체를 제공할 수 있다.In one aspect of the present invention, the flexible metal laminate may include at least one or more layers, more specifically, one to three layers of a polyimide layer, but is not limited thereto. In addition, by including the structure represented by the formula (1) in the outermost layer of the polyimide layer can provide a flexible metal foil laminate excellent in flexibility while improving the adhesion to the prepreg.

더욱 구체적으로, 본 발명의 연성금속박적층체의 제 1 양태는 금속박과 이의 일면에 적층된 제 1 폴리이미드 층을 포함하는 것일 수 있다. 이때 상기 제 1 폴리이미드 층은 하기 화학식 1로 표시되는 단위구조를 포함하는 것일 수 있다. 또한, 상기 제 1 폴리이미드 층 상에 프리프레그를 적층하는 것일 수 있다.More specifically, the first embodiment of the flexible metal laminate of the present invention may include a metal foil and a first polyimide layer laminated on one surface thereof. In this case, the first polyimide layer may include a unit structure represented by Formula 1 below. In addition, the prepreg may be laminated on the first polyimide layer.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00005
Figure pat00005

더욱 구체적으로 상기 제 1 폴리이미드 층은 산무수물과 디아민으로부터 유도되는 폴리이미드를 포함하고, 상기 최외층은 하기 화학식 2로 표시되는 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드 및 하기 화학식 3으로 표시되는 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로부터 유도되는 폴리이미드를 포함하는 것일 수 있다. 즉, 산무수물로 하기 화학식 2의 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드를 포함하거나, 디아민으로 하기 화학식 3의 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판을 포함하거나, 이들을 모두 포함하는 것일 수 있다.More specifically, the first polyimide layer includes a polyimide derived from an acid anhydride and diamine, and the outermost layer is represented by 4,4'-bisphenol A dianhydride represented by the following Chemical Formula 2 and the following Chemical Formula 3. It may comprise a polyimide derived from any one or a mixture thereof selected from 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane. That is, the acid anhydride includes 4,4'-bisphenol A dianhydride of formula (2), or diamine includes 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane of formula (3) , May include all of them.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00006
Figure pat00006

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00007
Figure pat00007

본 발명의 연성금속박적층체의 제 2 양태는 금속박과 이의 일면에 제 1 폴리이미드 층 및 제 2 폴리이미드 층이 순차적으로 적층된 폴리이미드 적층체를 포함하는 것일 수 있다. 이때 상기 제 2 폴리이미드 층은 상기 화학식 1로 표시되는 단위구조를 포함하는 것일 수 있다. 또한, 상기 제 1 폴리이미드 층은 통상적으로 해당 분야에서 사용되는 폴리이미드 층이라면 제한되지 않고 사용되는 것일 수 있다. 또한, 상기 제 2 폴리이미드 층 상에 프리프레그를 적층하는 것일 수 있다.The second aspect of the flexible metal foil laminate of the present invention may include a metal foil and a polyimide laminate in which a first polyimide layer and a second polyimide layer are sequentially stacked on one surface thereof. In this case, the second polyimide layer may include a unit structure represented by Chemical Formula 1. In addition, the first polyimide layer may be used without limitation as long as it is a polyimide layer that is typically used in the art. In addition, the prepreg may be laminated on the second polyimide layer.

본 발명의 연성금속박적층체의 제 3 양태는 금속박과 이의 일면에 제 1 폴리이미드 층, 제 2 폴리이미드 층 및 제 3 폴리이미드 층이 순차적으로 적층된 폴리이미드 적층체를 포함하는 것일 수 있다. 이때 상기 제 3 폴리이미드 층은 상기 화학식 1로 표시되는 단위구조를 포함하는 것일 수 있다. 또한, 상기 제 1 폴리이미드 층 및 제 2 폴리이미드 층은 통상적으로 해당 분야에서 사용되는 폴리이미드 층이라면 제한되지 않고 사용되는 것일 수 있다. 또한, 상기 제 3 폴리이미드 층 상에 프리프레그를 적층하는 것일 수 있다.The third aspect of the flexible metal foil laminate of the present invention may include a metal foil and a polyimide laminate in which a first polyimide layer, a second polyimide layer, and a third polyimide layer are sequentially stacked on one surface thereof. In this case, the third polyimide layer may include a unit structure represented by Chemical Formula 1. In addition, the first polyimide layer and the second polyimide layer may be used without limitation as long as they are typically polyimide layers used in the art. In addition, the prepreg may be laminated on the third polyimide layer.

상기 제 1 양태 내지 제 3 양태는 본 발명의 연성금속박적층체의 구체적인 양태를 설명하기 위한 것일 뿐, 이에 제한되는 것은 아니다.The first to third embodiments are not limited to the specific embodiments of the flexible metal laminate of the present invention.

본 발명의 일 양태에 따른 연성금속박적층체는 최외층의 폴리이미드 층에 상기 화학식 1로 표시되는 비스페놀 A 구조를 포함함으로써, 별도의 표면처리 또는 에폭시 등의 첨가제를 포함하지 않고도 프리프레그와의 접착력이 우수하면서 동시에 굴곡성이 우수한 효과를 발현할 수 있다. 그러나, 본 발명의 일 양태에 따른 연성금속박적층체의 최외층에 표면처리를 수행하는 것을 배제하는 것은 아니다. 상기 표면처리는 플라즈마 등의 표면처리를 포함하는 것일 수 있다.The flexible metal laminate according to an aspect of the present invention includes a bisphenol A structure represented by Formula 1 in the polyimide layer of the outermost layer, and thus does not include an additive such as an additional surface treatment or epoxy, and thus adhesive strength with the prepreg. It is possible to express an excellent effect while being excellent in flexibility. However, the surface treatment of the outermost layer of the flexible metal laminate according to one embodiment of the present invention is not excluded. The surface treatment may include surface treatment such as plasma.

보다 구체적으로 상기 최외층은 상온에서 프리프레그와의 접착력이 0.8 kgf/cm이상, 더욱 구체적으로 0.8 내지 1.5 kgf/cm인 것일 수 있다. 상기 상온은 제한되는 것은 아니나 구체적으로 예를 들면, 10 내지 40 ℃인 것일 수 있다. 접착력이 상기 범위에서 인쇄회로기판에 적용이 가능하므로 바람직하다. 더욱 구체적으로 상기 접착력 평가 시, 상기 프리프레그는 두산전자의 DS-7402를 이용하여 측정될 수 있다.More specifically, the outermost layer may be 0.8 kgf / cm or more, more specifically 0.8 to 1.5 kgf / cm adhesive strength with the prepreg at room temperature. The room temperature is not limited but specifically, for example, may be 10 to 40 ℃. Since the adhesive force is applicable to the printed circuit board in the above range is preferable. More specifically, when evaluating the adhesion, the prepreg can be measured using the DS-7402 of Doosan Electronics.

상기 화학식 1로 표시되는 비스페놀 A 구조를 포함하기 위해서는 최외층에 사용되는 산무수물 및 디아민 중 적어도 어느 하나 이상은 비스페놀 A 구조를 포함하는 단량체라면 제한되지 않고 사용될 수 있다. In order to include the bisphenol A structure represented by Formula 1, at least any one or more of the acid anhydride and diamine used in the outermost layer may be used without limitation as long as it is a monomer containing a bisphenol A structure.

더욱 구체적으로 산무수물로 하기 화학식 2로 표시되는 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드를 포함하거나, 디아민으로 하기 화학식 3으로 표시되는 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판을 포함하거나, 또는 이 둘을 모두 포함하는 것일 수 있다.More specifically, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl containing 4,4'-bisphenol A dianhydride represented by the following Chemical Formula 2 as an acid anhydride, or represented by the following Chemical Formula 3 as a diamine: ] Propane, or both.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00008
Figure pat00008

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00009
Figure pat00009

본 발명의 일 양태에서, 상기 최외층은 상기 화학식 1로 표시되는 단위구조를 30 내지 40 중량%로 포함하는 것일 수 있다. 상기 범위에서 프리프레그와의 접착력이 우수하며, 굴곡성이 우수하므로 바람직하다. 30 중량% 미만인 경우는 프리프레그 접착력이 낮아지며, 40 중량% 초과인 경우는 굴곡성이 저하될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the outermost layer may include 30 to 40% by weight of the unit structure represented by the formula (1). It is preferable because it is excellent in adhesive strength with the prepreg in the above range and excellent in bendability. If it is less than 30% by weight prepreg adhesion is low, if it is more than 40% by weight may be reduced in flexibility.

더욱 구체적으로, 상기 최외층은 산무수물 단량체 중 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드를 10 내지 60 몰% 포함하고, 디아민 단량체 중 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판을 75 내지 100 몰% 포함하는 것일 수 있으며, 이 둘을 동시에 포함하는 것이 더욱 접착성이 우수하므로 바람직하다. More specifically, the outermost layer contains 10 to 60 mol% of 4,4'-bisphenol A dianhydride in the acid anhydride monomer, and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl in the diamine monomer. ] May contain 75 to 100 mol% propane, it is preferable to include both at the same time because it is more excellent adhesion.

본 발명의 일 양태에서, 상기 최외층은 산무수물로 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드 이외에 통상적으로 사용하는 산무수물을 함께 사용하는 것일 수 있다. 이때 상기 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드를 산무수물 단량체 중 10 내지 60 몰%로 사용하는 것일 수 있다. 더욱 구체적으로 20 내지 50 몰%를 사용하는 것일 수 있으며, 나머지 몰%는 폴리이미드 제조 시 사용되는 통상의 산무수물을 혼합하여 사용하는 것일 수 있다. 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드의 함량을 상기 범위로 사용함으로써 프리프레그와의 접착력을 발휘하는 효과가 우수하면서 굴곡성이 우수한 물성을 동시에 발현할 수 있으므로 바람직하다. In one embodiment of the present invention, the outermost layer may be to use an acid anhydride commonly used in addition to 4,4'-bisphenol A dianhydride as the acid anhydride. In this case, the 4,4'-bisphenol A dianhydride may be used in 10 to 60 mol% of the acid anhydride monomer. More specifically, 20 to 50 mole% may be used, and the remaining mole% may be used by mixing a common acid anhydride used in the production of polyimide. By using the content of 4,4'-bisphenol A dianhydride in the above range, it is preferable because it is excellent in the effect of exerting the adhesive force with the prepreg and at the same time can express the physical properties excellent in flexibility.

상기 산무수물은 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드 외에, 구체적으로 예를 들면, 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BPDA), 피로멜리틱 디언하이드라이드(PMDA), 4,4’-헥사플루오로이소프로필리덴 다이프탈릭 언하이드라이드(6FDA), 벤조페논테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BTDA), 4,4’-옥시디프탈릭 디언하이드라이드(ODPA) 및 비스디카르복시페녹시 디페닐설파이드 디언하이드라이드(BDSDA) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 산무수물을 더 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 더욱 좋게는 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BPDA), 벤조페논테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BTDA) 및 4,4’-옥시디프탈릭 디언하이드라이드(ODPA) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 산무수물을 더 포함하는 것일 수 있다. 피로멜리틱 디언하이드라이드(PMDA)를 포함하는 경우는 프리프레그에 대한 접착력을 오히려 저하시킬 수 있으므로 사용하지 않는 것이 바람직하나 이를 배제하는 것은 아니다.The acid anhydride is, in addition to 4,4'-bisphenol A dianhydride, specifically, for example, biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), 4,4'- Hexafluoroisopropylidene diphthalic anhydride (6FDA), benzophenonetetracarboxylic dione hydride (BTDA), 4,4'-oxydiphthalic dione hydride (ODPA) and bisdicarboxyphenoxy di It may further include any one or two or more acid anhydrides selected from phenyl sulfide dianhydride (BDSDA) and the like, but is not limited thereto. More preferably, any one or two selected from biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) and 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (ODPA) and the like. The acid anhydride may be further included. In the case of including pyromellitic dihydride (PMDA), the adhesion to the prepreg may be lowered, but it is preferable not to use it, but this is not excluded.

본 발명의 일 양태에서, 상기 디아민으로 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 이외에 통상적으로 사용하는 디아민을 함께 사용하는 것일 수 있다. 이때 상기 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판은 디아민 단량체 중 75 내지 100 몰%, 더욱 구체적으로 80 내지 100 몰%를 사용하는 것일 수 있다. 나머지 몰%는 폴리이미드 제조 시 사용되는 통상의 디아민을 혼합하여 사용하는 것일 수 있다. 상기 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판의 함량을 상기 범위로 사용함으로써 프리프레그와의 접착력을 발휘하는 효과가 우수하며, 굴곡성이 우수한 물성을 발현할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the diamine may be a combination of diamines commonly used in addition to 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane. In this case, the 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane may be 75 to 100 mol%, more specifically 80 to 100 mol% of the diamine monomer. The remaining mole% may be a mixture of conventional diamines used in preparing the polyimide. By using the content of the 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane in the above range, it is excellent in the effect of exhibiting the adhesive force with the prepreg, it is possible to express excellent physical properties.

상기 디아민은 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 이외에 구체적으로 예를 들면, m-톨리딘, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, p-페닐렌디아민(p-PDA) 및 4,4'-디아미노디페닐에테르(ODA) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 디아민을 더 포함하는 것일 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.The diamine is specifically, for example, m-tolidine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, p-phenyl in addition to 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane It may further include any one or two or more diamines selected from rendiamine (p-PDA) and 4,4'-diaminodiphenyl ether (ODA) and the like, but is not limited thereto.

본 발명의 일 양태에서, 상기 최외층의 폴리이미드 층은 구체적으로 예를 들면, 산무수물로 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BPDA) 40 내지 90 몰%와 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드 10 내지 60 몰%를 사용하는 것일 수 있다. 또한, 디아민으로 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 단독 또는 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 75 내지 95 몰% 및 p-페닐렌디아민(p-PDA) 5 내지 25 몰%를 사용하는 것일 수 있다.In one aspect of the invention, the outermost polyimide layer is specifically an acid anhydride, for example, 40 to 90 mol% of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 4,4'-bisphenol A dianone. It may be to use 10 to 60 mol% hydride. In addition, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane alone or as diamine, 75 to 95 mol% of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and p- It may be to use 5 to 25 mol% phenylenediamine (p-PDA).

본 발명의 일 양태에서 상기 폴리이미드 적층체의 최외층의 두께는 제한되는 것은 아니나 2 ~ 55 ㎛, 더욱 구체적으로 3 ~ 38㎛인 것일 수 있다. 상기 범위에서 연성금속박적층체의 전체 두께를 감소 시키면서도 프리프레그와의 접착성이 우수하고, 굴곡성이 우수한 물성을 발현할 수 있으므로 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the thickness of the outermost layer of the polyimide laminate is not limited, but may be 2 to 55 μm, more specifically 3 to 38 μm. In the above range, while reducing the overall thickness of the flexible metal laminate, it is preferable because it can exhibit excellent adhesion to the prepreg and excellent physical properties.

본 발명의 일 양태에서, 상기 폴리이미드 층이 두 층 이상 적층된 폴리이미드 적층체를 포함하는 경우, 최외층을 제외한 나머지 폴리이미드 층은 통상적으로 해당 분야에서 사용하는 폴리이미드 층이라면 제한되지 않고 사용될 수 있다. 더욱 구체적으로 예를 들면, 산무수물로 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BPDA), 피로멜리틱 디언하이드라이드(PMDA), 4,4’-헥사플루오로이소프로필리덴 다이프탈릭 언하이드라이드(6FDA), 벤조페논테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BTDA), 4,4’-옥시디프탈릭 디언하이드라이드(ODPA) 및 비스디카르복시페녹시 디페닐설파이드 디언하이드라이드(BDSDA) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 산무수물을 사용하는 것일 수 있다. 또한 디아민으로 m-톨리딘, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, p-페닐렌디아민(p-PDA) 및 4,4'-디아미노디페닐에테르(ODA) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 디아민을 사용하는 것일 수 있다. 상기 최외층을 제외한 나머지 폴리이미드 층의 두께는 각각 2 ~ 55 ㎛, 더욱 구체적으로 3 ~ 38 ㎛인 것일 수 있다. 상기 범위에서 연성금속박적층체의 전체 두께를 감소 시키면서도 프리프레그와의 접착성이 우수하고, 굴곡성이 우수한 물성을 발현할 수 있으므로 바람직하다.In one aspect of the present invention, when the polyimide layer includes a polyimide laminate in which two or more layers are laminated, the remaining polyimide layer except for the outermost layer may be used without limitation as long as it is a polyimide layer commonly used in the art. Can be. More specifically, for example, as an acid anhydride, biphenyltetracarboxylic dione hydride (BPDA), pyromellitic dione hydride (PMDA), 4,4'-hexafluoroisopropylidene diphthalic anhydride (6FDA), benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 4,4'- oxydiphthalic dianhydride (ODPA) and bisdicarboxyphenoxy diphenylsulfide dianhydride (BDSDA) It may be to use one or more acid anhydrides. In addition, any of diamine selected from m-tolidine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, p-phenylenediamine (p-PDA) and 4,4'-diaminodiphenyl ether (ODA) It may be to use one or more diamines. The thickness of the remaining polyimide layer except for the outermost layer may be 2 to 55 μm, more specifically 3 to 38 μm. In the above range, while reducing the overall thickness of the flexible metal laminate, it is preferable because it can exhibit excellent adhesion to the prepreg and excellent physical properties.

본 발명의 일 양태에서, 상기 금속박은 통상적으로 해당분야에서 사용되는 것이라면 제한되지 않으며, 구체적으로 예를 들면, 동박 또는 알루미늄박인 것일 수 있다. 본 발명의 일 양태에서, 상기 금속박의 두께는 제한되는 것은 아니나 2 내지 105 ㎛인 것일 수 있고, 더욱 구체적으로 6 내지 105㎛인 것일 수 있다. 상기 금속박은 전해박, 압연박 등인 것일 수 있으나 사용용도에 따라 다양하게 적용될 수 있다. In one aspect of the present invention, the metal foil is not limited as long as it is commonly used in the art, specifically, for example, may be copper foil or aluminum foil. In one embodiment of the present invention, the thickness of the metal foil is not limited but may be 2 to 105 μm, and more specifically 6 to 105 μm. The metal foil may be an electrolytic foil, a rolled foil, or the like, but may be variously applied depending on the intended use.

본 발명의 일 양태에서, 상기 연성금속박 적층체는 굴곡성이 250회 이상인 것일 수 있다. 상기 굴곡성은 Japanese Industrial Standard (JIS) C 6471 를 이용하여 Resistance to folding를 측정한다. 패턴형성은 line/space= 1mm/1mm로 형성하고, 굴곡반경은 0.38mm로 측정하며, 전기적으로 단락이 일어날 때까지의 횟수를 측정한다. 굴곡성의 횟수가 높을수록 연성회로기판으로써의 유연성이 확보되어 접거나 구부리거나 하는 실제 사용환경에서 우수한 특성을 발현할 수 있다. 또한, 굴곡성이 250회 이상인 범위에서 프리프레그와 접착 시에도 박리가 되지 않고 유연성이 확보될 수 있어 바람직하다.In one aspect of the present invention, the flexible metal foil laminate may be one having a flexibility of 250 or more times. The flexibility is measured by Resistance to folding using Japanese Industrial Standard (JIS) C 6471. The pattern is formed by line / space = 1mm / 1mm, the radius of curvature is measured by 0.38mm, and the number of times until an electrical short circuit occurs. The higher the number of bends, the more flexible the flexible circuit board is, so that the excellent characteristics can be expressed in the actual use environment such as folding or bending. In addition, it is preferable that the flexibility can be ensured without peeling even when the prepreg and the adhesion in the range of bendability 250 times or more.

본 발명의 일 양태에서, 프리프레그는 유리섬유 기재에 투명 폴리이미드 수지 또는 에폭시 수지가 함침된 것일 수 있다. In one aspect of the invention, the prepreg may be a glass fiber substrate impregnated with a transparent polyimide resin or an epoxy resin.

상기 프리프레그에 포함되는 유리 섬유는, 당 업계에 알려진 통상적인 물질을 제한 없이 사용할 수 있다. 이의 비제한적인 예로는 E 유리 섬유, C 유리 섬유, A 유리 섬유, S 유리 섬유, D 유리 섬유, NE 유리 섬유, T 유리섬유, 석영 유리 섬유 등이 있다. 이들 중 한 종류의 유리섬유를 선택하여 사용할 수 있다.The glass fiber included in the prepreg can use any conventional material known in the art without limitation. Non-limiting examples thereof include E glass fiber, C glass fiber, A glass fiber, S glass fiber, D glass fiber, NE glass fiber, T glass fiber, quartz glass fiber and the like. One type of glass fiber can be selected and used.

상기 유리 섬유에 함침되는 에폭시수지의 함침량은 특별히 한정되지 않으며, 제조되는 프리프레그의 물성 및 두께를 고려하여 적절히 조절할 수 있다. 유리 섬유 내에 양호한 에폭시 수지층을 형성시키기 위해서, 프리프레그 100 중량부를 기준으로, 40~60 중량부의 에폭시 수지 조성물을 함침시킬 수 있다. 일례로, 에폭시 수지와 유리 섬유의 사용 비율은 40~60 : 60~40 중량비 일 수 있다.The impregnation amount of the epoxy resin impregnated in the glass fiber is not particularly limited, and can be appropriately adjusted in consideration of the physical properties and thickness of the prepreg to be produced. In order to form a favorable epoxy resin layer in glass fiber, 40-60 weight part of epoxy resin compositions can be impregnated based on 100 weight part of prepregs. In one example, the use ratio of the epoxy resin and the glass fiber may be 40 to 60: 60 to 40 weight ratio.

본 발명의 일 양태에서, 프리프레그를 제조하는 방법은 당 업계에 알려진 통상적인 방법을 제한 없이 사용할 수 있으며, 일례로, 투명한 특성의 에폭시 수지를 유리 섬유에 함침시킨 후 건조하여 제조될 수 있다.In one aspect of the present invention, the method for producing the prepreg can be used without limitation conventional methods known in the art, for example, it can be prepared by impregnating the glass fiber with an epoxy resin of a transparent property and then drying.

상기 프리프레그는 다양한 분야에 사용될 수 있으며, 특히, 내열성 및 내구성이 요구되는 고내열 및 반도체용 및 디스플레이용 투명 기판의 재료로서 유용하게 사용될 수 있다.The prepreg may be used in various fields, and particularly, may be usefully used as a material for high heat resistance and transparent substrates for semiconductors and displays that require heat resistance and durability.

이하는 본 발명의 일 양태에 따른 연성금속박적층체를 제조하는 방법에 대하여 설명한다.The following describes a method of manufacturing the flexible metal laminate according to one aspect of the present invention.

본 발명의 일 양태에 따른 상기 연성금속박적층체의 제조방법의 제 1 양태는 The first aspect of the method for producing the flexible metal laminate according to one aspect of the present invention

(a) 금속박 일면에 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 적어도 한층 이상이 적층된 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계; 및(a) coating and drying a polyimide precursor composition on one surface of the metal foil to form a polyimide precursor layer having at least one layer laminated thereon; And

(b) 상기 적층된 폴리이미드 전구체층을 이미드화하는 단계;(b) imidating the stacked polyimide precursor layers;

를 포함하는 것일 수 있다.It may be to include.

본 발명의 다른 양태에 따른 연성금속박적층체를 제조하는 방법은 Method for producing a flexible metal laminate according to another aspect of the present invention

ⅰ)기판상에 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 적어도 한층 이상이 적층된 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계;Iii) applying and drying the polyimide precursor composition on the substrate to form a polyimide precursor layer having at least one layer laminated thereon;

ⅱ) 상기 적층된 폴리이미드 전구체층을 이미드화하는 단계 및Ii) imidating the laminated polyimide precursor layer; and

ⅲ) 상기 이미드화된 적층체 상에 금속박을 적층 후 가열압착하는 단계;를 포함하는 것일 수 있다.Iii) laminating a metal foil on the imidized laminate and then heating and compressing it.

본 발명의 일 양태에서 상기 폴리이미드 전구체층이 두층 이상 적층된 폴리이미드 적층체인 경우, 각각의 폴리이미드층은 서로 동일 또는 상이한 조성인 것일 수 있다.In one aspect of the present invention, when the polyimide precursor layer is a polyimide laminate in which two or more layers are laminated, each polyimide layer may be the same or different in composition.

본 발명의 일 양태에서 상기 폴리이미드 전구체 조성물 중 최외층에 도포되는 폴리이미드 전구체 조성물은 하기 화학식 2로 표시되는 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드 및 하기 화학식 3으로 표시되는 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물을 포함하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the polyimide precursor composition to be applied to the outermost layer of the polyimide precursor composition is 4,4'-bisphenol A dianhydride represented by the formula (2) and 2,2-bis represented by the formula (3) It may include any one selected from [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane or a mixture thereof.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00010
Figure pat00010

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00011
Figure pat00011

더욱 구체적으로 앞서 설명한 함량으로 포함하는 것일 수 있다.More specifically, it may be included in the content described above.

또한, 상기 전구체 조성물은 유기용매를 포함하는 것일 수 있다. 상기 유기 용매는 그 종류가 크게 제한되지 않으며, 구체적인 예를 들어, 디메틸아세트아미드(DMAc), N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸포름설폭사이드(DMSO), 아세톤, 디에틸아세테이트 및 m-크레졸 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물일 수 있다. 바람직하게는 디메틸아세트아미드나 N-메틸-2-피롤리돈을 사용하는 것일 수 있다. 또한, 상기 유기용매의 함량은 단량체들로부터 유도되는 공중합물인 열가소성 폴리아믹산의 분자량을 고려하여 적절하게 선택할 수 있으며, 전체 조성물 중 80 내지 97중량%일 수 있다. 바람직하게는 85 내지 95중량%인 것이 더욱 바람직하다. 즉 고형분의 함량이 3 내지 20중량%, 바람직하게는 5 내지 15중량%인 것이 더욱 바람직하다.In addition, the precursor composition may be one containing an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited in kind, and specific examples thereof include dimethylacetamide (DMAc), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), and dimethylformsulfoxide (DMSO). ), Acetone, diethyl acetate, m-cresol and the like. Preferably dimethylacetamide or N-methyl-2-pyrrolidone may be used. In addition, the content of the organic solvent may be appropriately selected in consideration of the molecular weight of the thermoplastic polyamic acid is a copolymer derived from the monomers, it may be 80 to 97% by weight of the total composition. More preferably, it is 85 to 95 weight%. That is, the content of solids is more preferably 3 to 20% by weight, preferably 5 to 15% by weight.

본 발명의 일 양태에서, 상기 도포방법은 나이프 코팅(knife coating), 롤 코팅(roll coating), 다이 코팅(die coating), 커튼 코팅(curtain coating) 및 캐스팅 코팅(casting coating)등에서 선택되는 방법을 통하여 수행될 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.In one aspect of the present invention, the coating method may be selected from knife coating, roll coating, die coating, curtain coating, casting coating, and the like. It may be carried out through, but is not limited thereto.

본 발명의 일 양태에서, 상기 건조는 구체적인 예를 들어, 100 내지 200 ℃에서 1분 내지 2시간, 바람직하게는 100 내지 150 ℃에서 1분 내지 1시간 동안 열처리하여 건조시킬 수 있다. 또한, 건조는 별도의 건조오븐에서 실시할 수 있으며, 이에 반드시 제한되는 것은 아니다.In one aspect of the invention, the drying may be dried by heat treatment for 1 minute to 2 hours, preferably 1 minute to 1 hour at 100 to 200 ℃, for example, 100 to 200 ℃ specific. In addition, the drying may be carried out in a separate drying oven, but is not necessarily limited thereto.

본 발명의 일 양태에서, 상기 이미드화는 공지의 이미드화법, 예를 들어, 열 이미드화법, 화학 이미드화법, 열 이미드화법과 화학 이미드화법을 병행하는 방법 등을 통하여 경화시킬 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 열 이미드화 이전에 탈수제 및 이미드화 촉매를 추가하여 화학 이미드화를 실시하는 것일 수 있다. 상기 탈수제는 통상적으로 사용되는 것이라면 제한되지 않으나, 구체적으로 예를 들면, 아세트산 무수물(acetic anhydride), 프탈산 무수물(phthalic anhydride) 및 말레산 무수물(maleic anhydride) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 상기 이미드화 촉매는 통상적으로 사용되는 것이라면 제한되지 않으나, 구체적으로 예를 들면, 피리딘(pyridine), 이소퀴놀린(isoquinoline) 및 β-퀴놀린(β-quinoline) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용할 수 있으며, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. In one aspect of the present invention, the imidation can be cured through a known imidization method, for example, thermal imidization method, chemical imidization method, thermal imidization method and chemical imidization method in combination. However, it is not limited thereto. In addition, prior to thermal imidization, a dehydrating agent and an imidization catalyst may be added to perform chemical imidization. The dehydrating agent is not limited as long as it is conventionally used, and specifically, for example, one or a mixture of two or more selected from acetic anhydride, phthalic anhydride, maleic anhydride and the like may be used. Can be. The imidation catalyst is not limited as long as it is conventionally used, and specifically, for example, pyridine, isoquinoline, β-quinoline, and any one or two or more mixtures selected from the like may be used. May be, but is not necessarily limited thereto.

상기 열이미드화법은 단계적으로 열처리를 실시하는 것일 수 있다. 바람직하게는 80 내지 100 ℃, 더욱 구체적으로 90 내지 100 ℃에서 1분 내지 2시간 동안 1차 열처리, 100 내지 200 ℃, 더욱 구체적으로 150 내지 200 ℃에서 1분 내지 2시간 동안 2차 열처리, 250 내지 300 ℃, 더욱 구체적으로 280 내지 300 ℃에서 1분 내지 2시간 동안 3차 열처리하는 단계적인 열처리를 실시하는 것일 수 있다. 이때, 단계적인 열처리는 각 단계 이동 시 바람직하게는 1 내지 20 ℃/min의 범위에서 승온시키는 것일 수 있다. 상기와 같이 단계적으로 열처리 하지 않고 한번에 열처리를 하는 경우는 건조되지 못한 용매가 필름 내에 트랩되어 고온 열처리 시에도 증발하지 못하고 잔류하는 문제가 발생할 수 있으므로, 다단으로 열처리 함으로써 용매의 건조 및 이미드화 반응을 실시하는 것일 수 있다.The thermal imidization method may be to perform a heat treatment step by step. Preferably the first heat treatment at 80 to 100 ℃, more specifically at 90 to 100 ℃ for 1 minute to 2 hours, the second heat treatment at 100 to 200 ℃, more specifically at 150 to 200 ℃ for 1 minute to 2 hours, 250 To 300 ° C, more specifically, may be to perform a stepped heat treatment of the third heat treatment for 1 minute to 2 hours at 280 to 300 ℃. At this time, the stepped heat treatment may be to increase the temperature in the range of preferably 1 to 20 ℃ / min during each step movement. When heat treatment is performed at once without heat treatment step by step as described above, the solvent that is not dried may be trapped in the film and may not be evaporated even at high temperature heat treatment. Therefore, the solvent may be dried and imidized by heat treatment in multiple stages. It may be to practice.

본 발명의 일 양태에서, 상기 가열압착은 구체적인 예를 들어, 열 프레스, 진공 프레스, 라미네이터, 진공 라미네이터, 열롤 라미네이터 및 진공 열롤 라미네이터 등에서 선택되는 어느 하나 이상의 장치에 의해, 수행할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one aspect of the present invention, the hot pressing may be performed by any one or more devices selected from, for example, a heat press, a vacuum press, a laminator, a vacuum laminator, a thermal roll laminator, a vacuum thermal roll laminator, and the like, but is not limited thereto. It doesn't happen.

또한, 본 발명은 상술한 본 발명의 일 양태에 따른 연성금속박적층체를 포함하는 연성인쇄회로기판을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a flexible printed circuit board comprising a flexible metal laminate according to an aspect of the present invention described above.

이하 실시예 및 비교예를 바탕으로 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 실시예 및 비교예는 본 발명을 더욱 상세히 설명하기 위한 하나의 예시일 뿐, 본 발명이 하기 실시예 및 비교예에 의해 제한되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, the following Examples and Comparative Examples are only examples for explaining the present invention in more detail, the present invention is not limited by the following Examples and Comparative Examples.

이하 물성은 다음과 같이 측정하였다. Hereinafter, physical properties were measured as follows.

1)접착력1) adhesion

폴리이미드계 수지와 금속박간의 접착력(Peel Strength) 측정을 위하여 JIS(Japanese Industrial Standard) C 6471에 준하여 시편을 제작한다. 프리프레그를 가운데 두고 측정하고자 하는 폴리이미드층을 양쪽에 두고 진공프레스를 실시하여 시편을 제작한다. 시편 제작 후 폴리이미드층을 만능시험기계에 물려 180˚ 껍질벗김접착력을 측정하였다. 프리프레그는 두산전자의 DS-7402BS의 60㎛ 두께의 프리프레그를 사용하였으며, 프레스 조건은 최고온도 170℃에서 80분 유지되는 조건으로 성형하였다.In order to measure the peel strength between the polyimide resin and the metal foil, a specimen is manufactured according to JIS (Japanese Industrial Standard) C 6471. A specimen is prepared by vacuum pressing the polyimide layer to be measured at both sides with the prepreg in the center. After fabrication of the specimen, the polyimide layer was bitten by a universal testing machine and the peel strength of 180˚ was measured. The prepreg was a 60 μm thick prepreg of Doosan's DS-7402BS, and the press condition was molded under the condition that the maximum temperature was maintained at 170 ° C. for 80 minutes.

2) 굴곡성2) Flexibility

JIS C 6471 를 이용하여 Resistance to folding를 측정하였다. 패턴형성은 line/space= 1mm/1mm로 형성하고, 굴곡반경은 0.38mm로 측정하며, 전기적으로 단락이 일어날 때까지의 횟수를 측정하였다.Resistance to folding was measured using JIS C 6471. The pattern was formed by line / space = 1mm / 1mm, the bending radius was measured by 0.38mm, and the number of times until an electrical short circuit occurred was measured.

[제조예 1 내지 9][Production Examples 1 to 9]

질소 분위기 하 반응기에 N,N-디메틸아세트아마이드(DMAc)에 하기 표 1에 기재된 성분 및 함량비로 방향족디아민을 넣고 충분히 교반시킨 다음, 방향족 디무수물을 넣고 용해될 때까지 24시간 동안 교반하여 용해 및 반응시켜 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 제조하였다. 이때 각 단량체의 함량은 하기 표 1과 같은 몰%로 투입하였으며, 고형분 함량이 10 중량%가 되도록 조절하였고, 반응기의 온도는 30℃로 유지하였다.In a nitrogen atmosphere, an aromatic diamine was added to N, N-dimethylacetamide (DMAc) at a component and content ratio shown in Table 1 below, followed by sufficient stirring, followed by stirring for 24 hours until dissolution of an aromatic dianhydride, and dissolving and The reaction was carried out to prepare a thermoplastic polyimide precursor composition. At this time, the content of each monomer was added to the mol% as shown in Table 1, the solid content was adjusted to 10% by weight, the temperature of the reactor was maintained at 30 ℃.

하기 표 1에 기재된 약어는 다음과 같다.The abbreviations described in Table 1 below are as follows.

BPDA : 비페닐-테트라카르복실산 디언하이드라이드BPDA: Biphenyl-Tetracarboxylic Dionhydride

BTDA : 3,3',4,4'-벤조페논 테트라카르복실릭 언하이드라이드BTDA: 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic anhydride

BPADA : 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드BPADA: 4,4'-bisphenol A Dionhydride

PDA : p-페닐렌 디아민PDA: p-phenylene diamine

ODA : 4,4'-디아미노디페닐에테르ODA: 4,4'-diaminodiphenyl ether

BAPP : 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판BAPP: 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane

BPA : 하기 화학식 1로 표시되는 비스페놀 A 구조BPA: Bisphenol A structure represented by the following formula (1)

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00012
Figure pat00012

Figure pat00013
Figure pat00013

[실시예 1 내지 4][Examples 1 to 4]

12㎛ 두께의 압연 동박(JX사의 BHY-82F-HA-V2) 상에 제조예 1에서 제조된 폴리이미드 전구체 조성물을 도포한 후, 140℃에서 20분간 건조하여 제 1 폴리이미드 층을 형성하였다.The polyimide precursor composition prepared in Preparation Example 1 was applied onto a rolled copper foil (BHY-82F-HA-V2 manufactured by JX) having a thickness of 12 μm, and then dried at 140 ° C. for 20 minutes to form a first polyimide layer.

상기 제 1 폴리이미드 층 상에 제조예 2에서 제조된 폴리이미드 전구체 조성물을 도포한 후, 140℃에서 20분간 건조하여 제 2 폴리이미드 층을 형성하였다.After applying the polyimide precursor composition prepared in Preparation Example 2 on the first polyimide layer, and dried for 20 minutes at 140 ℃ to form a second polyimide layer.

상기 제 2 폴리이미드 층 상에 하기 표 2에 기재된 폴리이미드 전구체 조성물을 도포한 후 140℃에서 20분간 건조하여 제 3 폴리이미드 층을 형성하였다.After applying the polyimide precursor composition shown in Table 2 on the second polyimide layer and dried for 20 minutes at 140 ℃ to form a third polyimide layer.

이 후, 롤투롤 적외선 경화기에서 승온속도 2℃/min으로 상온에서 380℃까지 승온시켜 경화 하여 제 1 폴리이미드 층 3 ㎛/ 제 2 폴리이미드 층 19 ㎛/ 제 3 폴리이미드 층 3 ㎛로 적층된 총 두께가 25㎛인 연성금속박적층체를 제조하였다. 제조된 연성금속박적층체의 굴곡성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.Subsequently, in a roll-to-roll infrared curing machine, the temperature was raised to 380 ° C. at a temperature increase rate of 2 ° C./min, and cured by laminating the first polyimide layer 3 μm / second polyimide layer 19 μm / third polyimide layer 3 μm. A flexible metal laminate having a total thickness of 25 μm was prepared. It was shown in Table 2 to measure the flexibility of the produced flexible metal laminate.

상기 이미드화된 적층체의 제 3 폴리이미드 층 상에 60㎛ 두께의 에폭시계 프리프레그(두산전자의 DS-7402)를 적층시킨 후, 고온 라미네이터를 이용하여 접착시켜 프리프레그가 적층된 연성금속박적층체를 제조하였으며, 프리프레그와 제 3 폴리이미드 층 간의 접착력을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.A 60 μm-thick epoxy prepreg (DS-7402 of Doosan Electronics) was laminated on the third polyimide layer of the imidized laminate, and then bonded using a high temperature laminator to form a flexible metal foil laminate on which the prepreg was laminated. A sieve was prepared and the adhesion between the prepreg and the third polyimide layer was measured and is shown in Table 2 below.

[비교예 1 내지 3] [Comparative Examples 1 to 3]

상기 실시예 1에서 제 3 폴리이미드 층을 형성하기 위한 조성물을 하기 표 2와 같이 변경하여 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 연성금속박적층체를 제조하였다. A soft metal laminate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition for forming the third polyimide layer was changed as in Table 2 below.

제조된 연성금속박적층체의 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.The physical properties of the produced flexible metal laminates are measured and shown in Table 2 below.

제1폴리이미드 층First polyimide layer 제2폴리이미드층Second polyimide layer 제3폴리이미드층Third polyimide layer 접착력
(kgf/cm)
Adhesion
(kgf / cm)
굴곡성
(횟수)
Flexibility
(Count)
실시예 1Example 1 제조예1Preparation Example 1 제조예2Preparation Example 2 제조예3Preparation Example 3 1.11.1 312312 실시예 2Example 2 제조예1Preparation Example 1 제조예2Preparation Example 2 제조예4Preparation Example 4 1.31.3 269269 실시예 3Example 3 제조예1Preparation Example 1 제조예2Preparation Example 2 제조예5Preparation Example 5 0.90.9 377377 실시예 4Example 4 제조예1Preparation Example 1 제조예2Preparation Example 2 제조예6Preparation Example 6 0.80.8 362362 비교예 1Comparative Example 1 제조예1Preparation Example 1 제조예2Preparation Example 2 제조예7Preparation Example 7 0.30.3 270270 비교예 2Comparative Example 2 제조예1Preparation Example 1 제조예2Preparation Example 2 제조예8Preparation Example 8 0.40.4 264264 비교예 3Comparative Example 3 제조예1Preparation Example 1 제조예2Preparation Example 2 제조예9Preparation Example 9 1.31.3 160160

상기 표 2에서 보는 바와 같이, 최외층인 제3폴리이미드 층에 BPADA 및 BAPP를 포함하고, 그 함량이 30 내지 40 중량%인 실시예 1 내지 실시예 4에서 프리프레그와의 접착력이 0.8 kgf/cm이상이면서, 굴곡성이 250 이상을 모두 만족함을 확인하였다.As shown in Table 2 above, the third polyimide layer, which is the outermost layer, contains BPADA and BAPP, and the adhesion to the prepreg is 0.8 kgf / in Examples 1 to 4, wherein the content is 30 to 40 wt%. It was confirmed that the flexural property satisfies all 250 or more while being more than cm.

또한 BPADA의 함량이 증가하는 경우 굴곡성이 다소 감소되므로 적정량을 사용하는 것이 필요함을 알 수 있었다.In addition, it was found that it is necessary to use an appropriate amount because the flexibility is slightly reduced when the content of BPADA increases.

또한 비교예 1 및 2에서 보는 바와 같이 BPA구조를 30 중량% 미만으로 포함하는 경우는 접착력이 매우 낮음을 확인하였다. 또한, 비교예 3과 같이 BPA구조를 40 중량% 를 초과하는 경우는 접착력은 높아지나 굴곡성이 매우 낮아짐을 확인하였다. In addition, as shown in Comparative Examples 1 and 2 it was confirmed that the adhesive strength is very low when it contains less than 30% by weight BPA structure. In addition, when the BPA structure exceeds 40% by weight as in Comparative Example 3, it was confirmed that the adhesive strength is high but the flexibility is very low.

Claims (5)

금속박의 일면에 적어도 한층 이상의 폴리이미드 층을 포함하는 폴리이미드 적층체가 적층된 연성금속박적층체에 있어서,
상기 폴리이미드 적층체의 최외층은 하기 화학식 1로 표시되는 단위구조의 질량이 최외층에 사용된 전체 단량체 질량 중 30 내지 40 중량%인 것인 연성금속박적층체.
[화학식 1]
Figure pat00014
In a flexible metal foil laminate in which a polyimide laminate including at least one or more polyimide layers is laminated on one surface of a metal foil,
The outermost layer of the polyimide laminate is a flexible metal foil laminate in which the mass of the unit structure represented by the following formula (1) is 30 to 40% by weight of the total monomer mass used in the outermost layer.
[Formula 1]
Figure pat00014
제 1항에 있어서,
상기 최외층은 하기 화학식 2로 표시되는 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드 및 하기 화학식 3으로 표시되는 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로부터 유도되는 폴리이미드를 포함하는 것인 연성금속박적층체.
[화학식 2]
Figure pat00015

[화학식 3]
Figure pat00016
The method of claim 1,
The outermost layer is any one selected from 4,4'-bisphenol A dianhydride represented by the following formula (2) and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane represented by the following formula (3) Or a polyimide derived from a mixture thereof.
[Formula 2]
Figure pat00015

[Formula 3]
Figure pat00016
제 2항에 있어서,
상기 최외층은 디언하이드라이드 단량체 중 4,4'-비스페놀 A 디언하이드라이드를 10 내지 60 몰% 포함하고, 디아민 단량체 중 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판을 75 내지 100 몰% 포함하는 연성금속박적층체.
The method of claim 2,
The outermost layer comprises 10 to 60 mol% of 4,4'-bisphenol A dianhydride in the dianhydride monomer, and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane in the diamine monomer. A flexible metal laminate comprising 75 to 100 mol%.
제 1항에 있어서,
상기 최외층은 상온에서 프리프레그와의 접착력이 0.8 kgf/cm 이상인 연성금속박적층체.
The method of claim 1,
The outermost layer is a flexible metal laminate having an adhesive strength of 0.8 kgf / cm or more with the prepreg at room temperature.
제 1항에 있어서,
상기 연성금속박적층체는 굴곡성이 250회 이상인 연성금속박적층체.
The method of claim 1,
The flexible metal laminate is a flexible metal laminate having a flexibility of more than 250 times.
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