KR20190084520A - High selectivity composition for removing liquid crystal alignment agent - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a liquid crystal alignment film removing composition and, more specifically, to a liquid crystal alignment film removing composition which effectively removes impurities and a defective photo-alignment film generated during UV alignment in a manufacturing process of the liquid crystal alignment film from a substrate surface in a short time by using a removing composition comprising a specific solvent such as aminoethylpiperazine, and can be used as a photo-alignment film re-work composition.

Description

고선택비 액정 배향막 제거 조성물{HIGH SELECTIVITY COMPOSITION FOR REMOVING LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT AGENT}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a high selectivity liquid crystal alignment film removing composition,

본 발명은 액정 배향제를 이용하여 형성된 액정 배향막의 제조 공정에서 액정 배향막의 UV배향시 발생하는 노광의 불량으로 인해 광배향막이 잘못 형성되었을 경우, 기판으로부터 불량 광배향막과 불순물을 단시간 내에 쉽게 제거할 수 있는 액정 배향막 제거 조성물에 관한 것이다.Disclosed is a method for manufacturing a liquid crystal alignment film using a liquid crystal aligning agent, which can easily remove a defective photo alignment layer and impurities from the substrate in a short period of time when the photo alignment layer is erroneously formed due to poor exposure caused by UV alignment of the liquid crystal alignment layer To a liquid crystal alignment film removing composition.

액정표시소자에 있어서, 액정 배향막은 액정을 일정한 방향으로 배향시키는 역할을 담당하고 있다. 구체적으로, 액정 배향막은 액정 분자의 배열에 방향자(director) 역할을 하여 전기장(electric field)에 의해 액정이 움직여서 화상을 형성할 때, 적당한 방향을 잡도록 해준다. 일반적으로 액정표시소자에서 균일한 휘도(brightness)와 높은 명암비(contrast ratio)를 얻기 위해서는 액정을 균일하게 배향하는 것이 필수적이다.In a liquid crystal display element, a liquid crystal alignment film plays a role of aligning the liquid crystal in a certain direction. Specifically, the liquid crystal alignment layer acts as a director for the arrangement of liquid crystal molecules, and when the liquid crystal moves due to the electric field to form an image, the liquid crystal alignment film makes a proper orientation. In general, it is essential to uniformly orient the liquid crystal in order to obtain a uniform brightness and a high contrast ratio in a liquid crystal display device.

액정을 배향시키는 통상적인 방법으로, 유리 등의 기판에 폴리이미드와 같은 고분자 막을 도포하고, 이 표면을 나일론이나 폴리에스테르 같은 섬유를 이용해 일정한 방향으로 문지르는 러빙(rubbing) 방법이 이용되었다. 그러나 러빙 방법은 섬유질과 고분자막이 마찰될 때 미세한 먼지나 정전기(electrical discharge: ESD)가 발생할 수 있어, 액정 패널 제조 시 심각한 문제점을 야기시킬 수 있다.A rubbing method of applying a polymer film such as polyimide to a substrate such as glass and rubbing the surface with a fiber such as nylon or polyester in a predetermined direction has been used. However, the rubbing method may cause fine dust or electrical discharge (ESD) when the fiber and the polymer film are rubbed, which can cause serious problems in manufacturing the liquid crystal panel.

상기 마찰에 의한 러빙 방법의 문제점을 해결하기 위하여, 최근에는 UV배향 공정이 사용되고 있다. 상기 UV배향 공정은 광 조사에 의해 고분자 막에 이방성(비등방성, anisotropy)을 유도하고, 이를 이용하여 액정을 배열하는 광 배향법이다. 상기 UV배향 공정은 배향균일도 개선과 프리틸트각 특성 (~0도)으로 인해 CR 및 시야각을 개선할 수 있다.In order to solve the problem of the rubbing method due to the friction, recently, a UV alignment process has been used. The UV alignment process is an optical alignment method in which anisotropy (anisotropy) is induced in a polymer film by light irradiation and liquid crystals are aligned using the anisotropy. The UV alignment process can improve the CR and the viewing angle due to the improvement of the alignment uniformity and the pretilt angle characteristic (~ 0 degree).

상기 광배향막은 최근에 개발된 제품으로써, 노광을 잘못하게 되면, 배향막 제거가 필요하다. 그러나, 광배향막의 특징상 노광시 가교결합이 더 심하게 되어 제거가 힘들어진다. 또한, 상기 광배향막이 제거되지 않으면, 글라스를 버리는 문제점이 있어 비용 손실이 심하다. The photo alignment layer is a recently developed product. When the exposure is wrong, it is necessary to remove the alignment layer. However, due to the characteristics of the photo alignment layer, the cross-linking becomes more severe during the exposure and the removal becomes difficult. In addition, if the photo alignment layer is not removed, there is a problem of discarding the glass, which is costly.

이에, 종래에는 주로 UV배향 공정 후, 노광이 잘못되었을 때 일반적인 제거용 조성물 또는 스트리퍼를 사용하였다. 그러나, 기존에 사용하는 스트리퍼나, 세정액 처리시 광배향막이 녹지 않고 장시간 침지(dipping)를 해야만 배향막이 제거되는 문제가 있다.Conventionally, a general removal composition or stripper was used when the exposure was wrong, mainly after the UV alignment process. However, there is a problem in that the alignment film is removed only when a conventional stripper or a photo-alignment film is not dissolved during the cleaning liquid treatment and is dipped for a long time.

따라서, UV배향 공정 후 불량 액정 배향막을 단시간 내에 제거할 수 있으며, 글라스를 버려야 하는 비용 손실을 줄일 수 있는 새로운 광배향막 제거 조성물이 필요하다.Accordingly, there is a need for a new photo alignment film removing composition capable of removing a defective liquid crystal alignment film in a short time after the UV alignment process and reducing cost loss to throw away the glass.

본 발명은 UV 광배향법에 의해 얻어지는 액정 배향막의 제조공정에서 노광이 잘못된 불량 광배향막과 불순물을 단 시간 내에 쉽게 제거함으로써, 불량 액정 배향막이 형성된 기판을 폐기해야 했던 문제를 해결하여 비용손실을 방지하고 공정이 단순하여 액정 배향막 제조 공정의 작업 시간에 큰 영향을 주지 않아 경제적인 액정 배향막 제거 조성물을 제공하는 것이다.The present invention solves the problem that a substrate on which a defective liquid crystal alignment film is formed must be discarded by easily removing defective photo-alignment films and impurities that are not exposed in a short time in the process of manufacturing a liquid crystal alignment film obtained by the UV photo alignment method, Which is economical because the process is simple and does not greatly affect the operation time of the liquid crystal alignment film production process, thereby providing a liquid crystal alignment film removal composition.

또한, 본 발명은 상기 액정 배향막 제거 조성물을 이용하는 액정 배향막의 부산물 제거 방법을 제공하는 것이다.The present invention also provides a method for removing by-products of a liquid crystal alignment film using the liquid crystal alignment film-removing composition.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 25중량% 이상의 아미노에틸피페라진을 포함하며,According to one embodiment of the present invention, there is provided a pharmaceutical composition comprising 25% or more aminoethylpiperazine,

폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체를 포함하는 액정 배향막의 제조 공정에서, 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체에 대한 UV 배향 시 발생하는 불순물 및 불량 광배향막을 제거하는데 사용되는 액정 배향막 제거 조성물을 제공한다.There is provided a composition for removing a liquid crystal alignment film used for removing impurities and a bad photo alignment layer which are generated during UV alignment of a polyimide or polyimide precursor in a process for producing a liquid crystal alignment film comprising a precursor of polyimide or polyimide.

상기 불순물은 240nm 컷트 필터(Cut filter), 240 내지 313nm 밴드 패스 필터(band path filter), 또는 Deep UV 공정을 사용하여 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체를 UV배향하는 단계에서 발생된 것이다.The impurity is generated in the step of UV-aligning the precursor of polyimide or polyimide using a 240 nm cut filter, a 240 to 313 nm band path filter, or a Deep UV process.

그리고, 본 발명에 따른 액정 배향막 제거 조성물의 사용에 의해, 상기 폴리이미드 또는 폴리이미드의 불순물 및 불량 광배향막은 적어도 3분 이내에 기판으로부터 제거될 수 있다.By using the composition for removing a liquid crystal alignment film according to the present invention, the impurities of the polyimide or polyimide and the defective photo alignment layer can be removed from the substrate within at least 3 minutes.

또한, 본 발명에서 상기 액정 배향막 제거 조성물은 테트라메틸암모늄 하이드록사이드를 더 포함할 수 있다.In addition, the liquid crystal alignment film removing composition of the present invention may further include tetramethylammonium hydroxide.

이러한 상기 액정 배향막 제거 조성물은 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물, 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매, 및 물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상;을 더 포함할 수 있다.Such a liquid crystal alignment film-removing composition may comprise at least one selected from the group consisting of an alkylene glycol compound having a viscosity of 10 cP or less and a boiling point of at least 150 ° C, a polar solvent having a viscosity of 5 cP or less and a boiling point of 100 ° C or more, and water; As shown in FIG.

바람직하게, 상기 액정 배향막 제거 조성물은 a) 아미노에틸피페라진 100 중량%;Preferably, the liquid crystal alignment film removing composition comprises: a) 100% by weight of aminoethyl piperazine;

b) 아미노에틸피페라진 70 내지 90 중량% 및 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 내지 30 중량%;b) from 70 to 90% by weight of aminoethylpiperazine and from 10 to 30% by weight of tetramethylammonium hydroxide;

c) 아미노에틸피페라진 30 내지 90 중량%, 및 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물, 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매, 및 물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 성분 70 내지 10 중량%; 또는c) an alkylene glycol compound having a viscosity of 10 cP or less and a boiling point of at least 150 ° C, a polar solvent having a viscosity of 5 cP or less and a boiling point of 100 ° C or more, and water From 70 to 10% by weight of at least one component selected from or

d) 아미노에틸피페라진 30 내지 70 중량%, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 내지 20 중량%, 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물, 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매, 및 물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상 10 내지 30 중량%;를 포함할 수 있다.d) an alkylene glycol-based compound having 30 to 70% by weight of aminoethylpiperazine, 10 to 20% by weight of tetramethylammonium hydroxide, a viscosity of 10 cP or lower and a boiling point of at least 150 ° C, A polar solvent at least 100 ° C, and water; and 10 to 30% by weight of at least one selected from the group consisting of water.

그리고, 상기 알킬렌글리콜계 화합물은 디에틸렌글리콜 터부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The alkylene glycol compound may be at least one selected from the group consisting of diethylene glycol t-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether , Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate.

상기 극성 용매는 에틸 락테이트, 부틸락테이트, 이소프로필 락테이트, 하이드록실 에시드 에스테르, N-메틸피롤리돈, N-에틸피롤리돈, N-메틸포름아마이드, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 디메틸설폭사이드, 디메틸아세트아마이드, 디메틸포름아마이드, 및 테트라메틸렌설폰으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The polar solvent is selected from the group consisting of ethyl lactate, butyl lactate, isopropyl lactate, hydroxyl acid ester, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N-methylformamide, At least one member selected from the group consisting of imidazolidinone, dimethylsulfoxide, dimethylacetamide, dimethylformamide, and tetramethylenesulfone.

상기 액정 배향막은 폴리이미드 및 폴리이미드의 전구체로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 중합체를 함유한 액정 배향제를 기판 상에 코팅하고 소성하여 폴리이미드막을 형성하는 단계; 및 상기 폴리이미드 막이 형성된 기판에 편광된 방사선을 조사하여 UV 배향 공정을 진행하는 단계;를 포함하는 방법으로 얻어질 수 있다.Wherein the liquid crystal alignment layer is formed by coating a substrate with a liquid crystal aligning agent containing at least one polymer selected from the group consisting of a polyimide and a polyimide precursor, and firing the liquid crystal alignment layer to form a polyimide film; And irradiating the substrate on which the polyimide film is formed with polarized radiation to conduct a UV alignment process.

상기 폴리이미드 전구체는 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위 및 하기 화학식 2의 반복단위를 포함할 수 있다.The polyimide precursor may include a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

(상기 화학식 1 및 2에서,(In the above formulas (1) and (2)

X1 및 X2는 각각 독립적으로 탄소수 4 내지 20의 탄화수소에서 유래한 4가의 유기기이거나, 혹은 상기 4가의 유기기 중 하나 이상의 H가 할로겐으로 치환되거나 또는 하나 이상의 -CH2-가 산소 원자들이 직접 연결되지 않도록 -O-, -S-, -CO- 또는 -SO-로 대체된 4가의 유기기이고, X 1 and X 2 are each independently a tetravalent organic group derived from a hydrocarbon having 4 to 20 carbon atoms or at least one of the tetravalent organic groups is substituted with halogen or one or more -CH 2 - Is a tetravalent organic group substituted with -O-, -S-, -CO- or -SO- so as not to be directly connected,

R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, R 1 to R 4 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,

R5 내지 R7은 각각 독립적으로 할로겐, 시아노기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 알콕시기 또는 플루오로알킬기이고, R 5 to R 7 are each independently a halogen, a cyano group, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group or a fluoroalkyl group,

L1은 -O-, -O-CH2-O-, -O-CH2CH2-O- 또는 -O-CH2CH2CH2-O-이고, L 1 is -O-, -O-CH 2 -O-, -O-CH 2 CH 2 -O- or -O-CH 2 CH 2 CH 2 -O-,

p, q 및 r은 각각 독립적으로 0 내지 4 사이의 정수이고, p, q and r are each independently an integer of 0 to 4,

n은 1 또는 2의 정수이다.)and n is an integer of 1 or 2.)

또한, 본 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 액정 배향막 제거 조성물로 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체의 UV 배향시 발생하는 불순물 또는 불량 광배향막을 제거하는 단계를 포함하는, 액정 배향막의 부산물 제거 방법을 제공한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method for removing a by-product of a liquid crystal alignment film, comprising the step of removing an impurity or a bad photo alignment layer which occurs upon UV alignment of a polyimide or polyimide precursor with the liquid crystal alignment film removing composition to provide.

본 발명에서는 액정 배향막을 제조하는 과정 중 UV 배향시 노광이 잘못되었을 때 발생되는 불순물 및 불량 광배향막을 제거하는 단계에서, 아미노에틸피페라진 또는 아미노에틸피페라진과 테트라메틸암모늄 하이드록사이드와 같은 특정 용매를 함유한 조성물을 사용함으로써, 액정 배향막과 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 불순물을 기판으로부터 불순물을 빠른 시간 내에 쉽게 제거할 수 있다. 따라서, 본 발명은 액정 배향막의 공정성을 향상시키고 기존 불량 광배향막을 포함한 글라스를 폐기해야 하는 문제를 해결하여, 비용 절감도 구현할 수 있다. In the present invention, in the step of removing the impurities and the defective photo alignment layer which are generated when the exposure is wrong in the UV alignment during the process of manufacturing the liquid crystal alignment layer, By using a composition containing a solvent, impurities of the liquid crystal alignment film and the polyimide or polyimide precursor can be easily removed from the substrate in a short time. Therefore, the present invention solves the problem of improving the processability of a liquid crystal alignment film and disposing a glass including a conventional defective photo alignment film, thereby realizing cost reduction.

도 1은 본 발명의 실시예 1 및 기존 비교예 1의 배향막 제거용 조성물을 이용하여 기판으로부터 불량 광배향막을 제거한 후의 결과를 비교하여 나타낸 전자현미경 사진이다.FIG. 1 is an electron micrograph showing a result obtained by removing a defective photo alignment layer from a substrate using a composition for removing alignment layers of Example 1 of the present invention and Comparative Example 1. FIG.

이하에서 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail. The terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms and the inventor may appropriately define the concept of the term in order to best describe its invention It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

또한 본 발명의 명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.Also, " comprising "as used herein should be interpreted as specifying the presence of particular features, integers, steps, operations, elements and / or components, It does not exclude the presence or addition of an ingredient.

본 발명의 바람직한 일 구현예에 따르면, 25중량% 이상의 아미노에틸피페라진을 포함하며, 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체를 포함하는 액정 배향막의 제조 공정에서, 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체에 대한 UV 배향 시 발생하는 불순물 및 불량 광배향막을 제거하는데 사용되는 액정 배향막 제거 조성물이 제공된다.According to a preferred embodiment of the present invention, in a process for producing a liquid crystal alignment film comprising at least 25% by weight of aminoethylpiperazine and containing a precursor of polyimide or polyimide, the UV alignment of the precursor of polyimide or polyimide There is provided a composition for removing a liquid crystal alignment film used for removing an impurity and a bad photo alignment layer which are generated when the liquid crystal alignment film is removed.

일반적으로 액정 배향막은 폴리아믹산이나 폴리아믹산 에스터와 같은 폴리이미드 전구체 용액을 기판에 코팅한 후 열처리하여 폴리이미드로 전환시킨 후, 배향 처리하여 액정 배향막으로 사용된다. 이때, 배향막의 러빙 및 광배향막의 노광을 잘못하면 배향막을 제거한 후 다시 사용해야 한다.In general, a liquid crystal alignment layer is formed by coating a polyimide precursor solution such as a polyamic acid or a polyamic acid ester on a substrate, heat-treating the substrate, converting the polyimide into a polyimide, and aligning the liquid crystal alignment layer. At this time, if the rubbing of the alignment film and the exposure of the photo alignment film are wrong, the alignment film should be removed and then used again.

기존 러빙 배향막의 경우 스트리퍼 등으로 제거 가능하였지만, 광배향막은 러빙배향막과 달리 가교결합이 심하여 제거하기 힘들다. 따라서, 본 발명은 광배향막의 리워크를 할 수 있는 제품을 개발하기 위한 액정배향막 중에서 광배향막 제거 조성물을 제공하는 것이다.Conventional rubbing alignment films can be removed by strippers or the like, but the photo alignment films are difficult to remove due to excessive cross-linking, unlike the rubbing alignment films. Accordingly, the present invention provides a composition for removing a photo alignment layer in a liquid crystal alignment layer for developing a product capable of rewiring a photo alignment layer.

이에, 본 발명은 액정 배항막의 제조 과정에서 UV 배향 공정 후, 노광이 잘못되는 경우가 발생될 수 있는데, 본 발명은 특정 구조의 용매를 포함한 제거용 조성물을 사용함으로써, 효과적으로 불량 광배향막을 기판으로부터 제거할 수 있다.Accordingly, in the present invention, it is possible to cause a wrong exposure after the UV alignment process in the process of manufacturing the liquid crystal redistribution film. The present invention can effectively remove the defective photo alignment layer from the substrate Can be removed.

즉, 본 발명은 폴리이미드막, 또는 폴리이미드 전구체를 도포, 소성하여 얻어지는 폴리이미드막에 편광된 방사선을 조사한 후 노광이 잘못된 경우, 특정한 용매 처리시, 불량 광배향막이 기판으로부터 쉽게 제거되는 것을 확인하였다. 이러한 경우 기판에 형성된 폴리이미드막 또는 폴리미미드 전구체의 불순물도 함께 세정 및 제거될 수 있다.That is, the present invention confirms that a defective photo alignment layer can be easily removed from a substrate upon exposure to a certain solvent after irradiation with polarized radiation to a polyimide film obtained by applying and firing a polyimide film or a polyimide precursor Respectively. In this case, impurities of the polyimide film or the polyimide precursor formed on the substrate can also be cleaned and removed.

특히, 본 발명에 따르면, 하기 화학식 4의 아미노에틸피페라진(Aminoethylpiperazine)을 사용하거나, 상기 아미노에틸피페라진과 TMAH(tetramethylamomonium hydroxide)의 동시 존재시 5min 이내에 광배향막과 기타 불순물을 완전히 제거할 수 있음을 확인하였다.Particularly, according to the present invention, it is possible to completely remove a photo alignment layer and other impurities within 5 minutes when aminoethylpiperazine represented by the following formula (4) is used or when aminoethylpiperazine and tetramethylammonium hydroxide (TMAH) are present simultaneously Respectively.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00003
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또한 본 발명에서는 기존 불량 광배향막 제거용으로 사용되는 세정제나 스트리퍼를 사용하는 경우 보다, 단 시간 내에 광배향막과 불순물을 기판으로부터 쉽게 제거할 수 있다. 본 발명의 배향막 제거용 조성물을 이용하는 경우, 제거 대상은 상술한 바대로 러빙 배향막이 아니라 불량 광배향막이다. 또한, 본 발명의 특정 용매를 함유한 조성물은, 불량 광배향막 표면만 단순 세정하거나 일부의 불량 고분자막을 제거하는 것이 아니라, 기판 위에 형성된 불량 폴리이미드막 또는 이의 전구체로 이루어진 고분자를 단 시간에 모두 녹일 수 있어서, 기판으로부터 불량 광배향막과 불순물들을 완전히 제거할 수 있다. 따라서, 본 발명은 불량 기판 폐기 문제를 해결할 수 있고, 액정배향막 제조시의 작업성을 개선할 수 있다. Further, in the present invention, the photo alignment layer and impurities can be easily removed from the substrate in a shorter time than in the case of using a cleaning agent or a stripper used for removing a defective photo alignment layer. When the composition for removing an alignment film of the present invention is used, the object to be removed is not a rubbing alignment film but a defective photo alignment film as described above. In addition, the composition containing the specific solvent of the present invention can be used not only for cleaning the surface of the defective photo alignment layer or for removing a part of the defective polymer film, but for dissolving the defective polyimide film formed on the substrate or the polymer comprising the precursor thereof in a short time So that it is possible to completely remove the defective photo alignment layer and impurities from the substrate. Therefore, the present invention can solve the problem of scrapping the defective substrate, and improve the workability in manufacturing the liquid crystal alignment film.

이러한 본 발명의 방법에 대해 보다 구체적으로 설명한다.The method of the present invention will be described in more detail.

본 발명에서는 액정 배향막의 제조공정에서 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 UV배향 공정에서 발생된 불량 광배향막과 불순물을 기판 표면으로부터 특정 용매를 함유한 조성물로 제거하는 것을 특징으로 한다.The present invention is characterized in that the defective photo alignment layer and impurities generated in the UV alignment process of the polyimide or polyimide precursor in the process of manufacturing the liquid crystal alignment layer are removed from the substrate surface with a composition containing a specific solvent.

이러한 본 발명의 제거용 조성물은 광배향막 리워크(re-work) 조성물로서, U노광을 진행하는 광배향막의 제조 공정에서 사용될 수 있다. 이때, 상기 불순물은 240nm 컷트 필터(Cut filter), 240 내지 313nm 밴드 패스 필터(band path filter), 또는 Deep UV 공정을 사용하여 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체를 UV배향하는 단계에서 발생된 것이다.Such a removal composition of the present invention can be used as a photo-alignment layer re-work composition in a manufacturing process of a photo alignment layer progressing U exposure. At this time, the impurity is generated in the step of UV-aligning the precursor of polyimide or polyimide using a 240 nm cut filter, a 240 to 313 nm band path filter, or a Deep UV process.

이러한 본 발명의 액정 배향막 제거 조성물은 아미노에틸피페라진을 주요 성분으로 포함하는 특징이 있다. 특히, 상기 아미노에틸피페라진은 말단부분에 포함된 -NH2부분이 아민 조성물 안에서 끊어져 NH2OH 물질을 형성하여 극성을 극대화함으로써, 불량 액정 배향막의 제거가 용이하다.The liquid crystal alignment film removing composition of the present invention is characterized by containing aminoethylpiperazine as a main component. Particularly, in the aminoethylpiperazine, the -NH 2 moiety contained in the terminal moiety is cleaved in the amine composition to form an NH 2 OH moiety to maximize the polarity, thereby facilitating the removal of the defective liquid crystal alignment film.

그리고, 상기 본 발명의 액정 배향막 제거 조성물은 조성물의 총 중량을 기준으로, 상기 아미노에틸피페라진을 적어도 25중량% 이상 포함하며, 바람직하게 30 중량% 이상 포함될 수 있고, 상기 성분만으로 포함하여 최대 100 중량%가 포함될 수 있다. 즉, 본 발명의 일 구현예에 따르면, 아미노에틸피페라진의 함량 100중량%, 70 내지 90 중량% 또는 30 내지 70중량%을 포함하는 액정 배향막 제거 조성물을 제공할 수 있다. 이때, 상기 아미노에틸피페라진의 함량이 25 중량% 이하일 경우, 박리액(즉, 액정 배향막 제거 조성물)의 life time이 줄어드는 문제가 있다.The liquid crystal alignment film-removing composition of the present invention may contain at least 25% by weight, preferably at least 30% by weight, of the aminoethylpiperazine, based on the total weight of the composition, Weight% can be included. That is, according to one embodiment of the present invention, it is possible to provide a composition for removing a liquid crystal alignment film comprising aminoethylpiperazine in an amount of 100% by weight, 70 to 90% by weight or 30 to 70% by weight. At this time, when the content of aminoethylpiperazine is 25 wt% or less, there is a problem that life time of the peeling liquid (i.e., composition for removing the liquid crystal alignment film) is reduced.

또한, 본 발명의 다른 구현예에 따르면, 액정 배향막 조성물은 상기 아미노에틸피페라진을 포함하는 구성에 추가적인 1종 이상의 다른 용매를 첨가한 2종 이상의 조성이 될 수 있다.Further, according to another embodiment of the present invention, the liquid crystal alignment film composition may have a composition of two or more kinds in which at least one other solvent is added to the composition containing aminoethylpiperazine.

바람직하게, 본 발명은 선택적으로 상기 액정 배향막 제거용 조성물에 테트라메틸암모늄 하이드록사이드를 더 포함함으로써, 상기 불순물 제거 시간을 더 단축시킬 수 있다.Preferably, the present invention further includes tetramethylammonium hydroxide in the liquid crystal alignment film-removing composition, thereby further reducing the impurity removal time.

또한 본 발명에서는 필요에 따라, 일정 비점을 갖는 알킬렌글리콜계 화합물이나 극성용매 등의 1종 이상의 부가 용매를 더 포함할 수 있고, 여기에 탈이온수도 추가 가능하다. 예를 들어, 상기 제거용 조성물에 탈이온수가 사용될 경우 전체 조성물의 총량을 기준으로 1 내지 70 중량%가 포함될 수도 있다.In the present invention, if necessary, it may further include at least one additional solvent such as an alkylene glycol-based compound having a certain boiling point or a polar solvent, and deionized water may be added thereto. For example, if deionized water is used in the removal composition, 1 to 70% by weight based on the total amount of the total composition may be included.

따라서, 본 발명의 액정 배향막 제거 조성물은Therefore, the liquid crystal alignment film removing composition of the present invention

1) 아미노에틸피페라진 100중량%로 이루어진 1성분의 조성1) Composition of one component consisting of 100% by weight of aminoethylpiperazine

2) 상기 1) 아미노에틸피레라진과 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 (TMAH)를 포함하는 2성분의 조성2) The composition of the two components comprising 1) aminoethylpyrazine and tetramethylammonium hydroxide (TMAH)

3) 상기 1) 또는 2) 조성에 1종 이상의 부가 용매(알킬렌글리콜게 화합물, 극성용매 및 물 중 선택된 1종 이상 포함)를 포함하는 조성이 될 수 있다.3) The composition may include one or more additional solvents (including at least one selected from an alkylene glycol compound, a polar solvent and water) in the 1) or 2) composition.

더 구체적으로, 본 발명의 액정 배향막 제거 조성물은, 아미노에틸피페라진 단독 또는 아미노에틸피페라진 및 테트라메틸암모늄 하이드록사이드를 포함하는 제거용 조성물에, 선택적으로 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물, 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매, 및 물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상;을 추가로 포함할 수 있다.More specifically, the composition for removing a liquid crystal alignment film of the present invention may be prepared by adding aminoethylpiperazine alone or aminoethylpiperazine and tetramethylammonium hydroxide to a removing composition, optionally having a viscosity of 10 cP or less and a boiling point of at least 150 ° C or more, a polar solvent having a viscosity of 5 cP or less and a boiling point of at least 100 ° C or more, and water.

이러한 경우, 바람직한 일 구현예에 따라, 상기 액정 배향막 제거 조성물은In this case, according to a preferred embodiment, the liquid crystal alignment film removing composition

a) 아미노에틸피페라진 100 중량%;a) 100% by weight of aminoethylpiperazine;

b) 아미노에틸피페라진 70 내지 90 중량% 및 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 내지 30 중량%;b) from 70 to 90% by weight of aminoethylpiperazine and from 10 to 30% by weight of tetramethylammonium hydroxide;

c) 아미노에틸피페라진 30 내지 90 중량%, 및 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물, 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매, 및 물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 성분 10 내지 70 중량%; 또는c) an alkylene glycol compound having a viscosity of 10 cP or less and a boiling point of at least 150 ° C, a polar solvent having a viscosity of 5 cP or less and a boiling point of 100 ° C or more, and water From 10 to 70% by weight of at least one component selected from or

d) 아미노에틸피페라진 30 내지 70 중량%, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 내지 20 중량%, 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물, 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매, 및 물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상 10 내지 30 중량%;를 포함할 수 있다.d) an alkylene glycol-based compound having 30 to 70% by weight of aminoethylpiperazine, 10 to 20% by weight of tetramethylammonium hydroxide, a viscosity of 10 cP or lower and a boiling point of at least 150 ° C, A polar solvent at least 100 ° C, and water; and 10 to 30% by weight of at least one selected from the group consisting of water.

그리고, 발명의 다른 구현예에 따라 c)경우, c)경우, 상기 액정 배향막 제거 조성물은, 아미노에틸피페라진 30 내지 90 중량%, 및 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물 및 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상 10 내지 70 중량%를 포함하는 조성일 수 있다.According to another embodiment of the invention, in case c), the liquid crystal alignment film removing composition comprises 30 to 90% by weight of aminoethylpiperazine and an alkylene glycol having a viscosity of 10 cP or lower and a boiling point of at least 150 & Based compound and a polar solvent having a viscosity of 5 cP or less and a boiling point of at least 100 ° C or higher.

또한 상기 c)경우, 상기 액정 배향막 제거 조성물은, 아미노에틸피페라진 30 내지 70 중량%, 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물 및 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상 10 내지 60 중량%, 및 물 10 내지 30 중량%를 포함하는 조성일 수 있다.In the above c), the liquid crystal alignment film-removing composition preferably contains 30 to 70% by weight of aminoethylpiperazine, an alkylene glycol compound having a viscosity of 10 cP or lower and a boiling point of at least 150 ° C, 10 to 60 wt% of at least one selected from the group consisting of polar solvents having a boiling point of 100 DEG C or higher, and 10 to 30 wt% of water.

발명의 또 다른 구현예에 따라, d)의 경우, 상기 액정 배향막 제거 조성물은, 아미노에틸피페라진 아미노에틸피페라진 30 내지 70 중량%, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 내지 20 중량%, 및 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물 및 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상 10 내지 30 중량%를 포함하는 조성일 수 있다.According to another embodiment of the invention, in the case of d), the liquid crystal alignment film removing composition comprises 30 to 70% by weight of aminoethylpiperazine aminoethylpiperazine, 10 to 20% by weight of tetramethylammonium hydroxide, 10 to 30 wt% of at least one selected from the group consisting of an alkylene glycol compound having a boiling point of at least 150 ° C and a polar solvent having a viscosity of 5 cP or less and a boiling point of at least 100 ° C or higher.

또한 상기 d)경우, 상기 액정 배향막 제거 조성물은, 아미노에틸피페라진 30 내지 70 중량%, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 내지 20 중량%, 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물 및 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상 10 내지 20 중량%, 및 물 10 내지 30 중량%를 포함하는 조성일 수 있다.In addition, in the case of d), the liquid crystal alignment film-removing composition preferably contains 30 to 70% by weight of aminoethylpiperazine, 10 to 20% by weight of tetramethylammonium hydroxide, an alkylene glycol having a viscosity of 10 cP or lower and a boiling point of at least 150 & Based compound and a polar solvent having a viscosity of 5 cP or less and a boiling point of at least 100 ° C, and 10 to 30% by weight of water.

상기 알킬렌글리콜계 화합물은 디에틸렌글리콜 터부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The alkylene glycol compound may be selected from the group consisting of diethylene glycol t-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, ethylene Glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate.

그리고, 상기 극성 용매는 에틸 락테이트, 부틸락테이트, 이소프로필 락테이트, 하이드록실 에시드 에스테르, N-메틸피롤리돈, N-에틸피롤리돈, N-메틸포름아마이드, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 디메틸설폭사이드, 디메틸아세트아마이드, 디메틸포름아마이드, 및 테트라메틸렌설폰으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.The polar solvent may be selected from the group consisting of ethyl lactate, butyl lactate, isopropyl lactate, hydroxyl acid ester, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N-methylformamide, And at least one member selected from the group consisting of 2-imidazolidinone, dimethylsulfoxide, dimethylacetamide, dimethylformamide, and tetramethylene sulfone.

또한, 본 발명에서 사용하는 탈이온수는 일반적인 이온교환수지 방법에 따라 얻어진 것을 사용할 수 있다. The deionized water to be used in the present invention may be those obtained by a general ion exchange resin method.

또한, 본 발명에 있어서, 불량 광배향막의 제거 공정은 액정 배향막이 형성된 기판을 상술한 제거용 조성물에 일정시간 동안 침지하거나, 또는 상기 제거용 조성물을 기판에 분무하는 방법에 따라 진행될 수 있다. 구체적으로, 상기 불량 광배향막의 제거 공정은 폴리이미드 또는 폴리이미드의 불순물 및 불량 광배향막이 형성된 기판을 약 30 내지 1000℃의 온도에서 3분 내지 60분 동안, 바람직하게 50 내지 70℃의 온도에서 3분 내지 5분 동안 침지하여 진행할 수 있다. 이러한 공정에 따라, 폴리이미드 또는 폴리이미드의 불순물 및 불량 광배향막은 1분 이내에 제거될 수 있다. 바람직하게, 상기 조성물이 아미노에틸피페라진과 테트라메틸암모늄 하이드록사이드를 포함할 경우, 상술한 불순물 및 불량 광배향막은 적어도 5분 이내에 모두 제거될 수 있다.Further, in the present invention, the step of removing the defective photo alignment layer may be performed according to a method of immersing the substrate on which the liquid crystal alignment layer is formed for a predetermined time, or spraying the removal composition onto the substrate. Specifically, the step of removing the defective photo-alignment layer is performed at a temperature of about 30 to 1000 占 폚 for 3 to 60 minutes, preferably 50 to 70 占 폚, at a temperature of about 30 to 1000 占 폚 for a substrate on which the impurities of polyimide or polyimide and the defective photo- And immersed for 3 to 5 minutes. According to this process, the impurities of the polyimide or the polyimide and the poor photo alignment layer can be removed within one minute. Preferably, when the composition comprises aminoethylpiperazine and tetramethylammonium hydroxide, the above-mentioned impurities and poor photo alignment layer can be all removed within at least 5 minutes.

한편, 본 발명에서 액정 배향막을 제조하는 방법은, UV배향시 발생하는 불순물 및 불량 광배향막을 상기 조성물로 제거하는 공정을 제외하면 본 발명이 속한 기술분야에 알려져 있는 다양한 방법을 통해 형성될 수 있다. In the meantime, the method of manufacturing a liquid crystal alignment layer in the present invention may be formed by various methods known in the art, except for the step of removing impurities and a bad photo alignment layer that occur during UV alignment with the composition .

비제한적인 예로, 상기 액정 배향막은 후술하는 액정 배향제를 기판 상에 도포 및 소성한 후, 광을 조사함으로써 형성될 수 있다. 이때, 상기 소성과 광 조사는 동시에 진행될 수 있고, 광 조사는 생략될 수도 있다.As a non-limiting example, the liquid crystal alignment film can be formed by applying and firing a liquid crystal aligning agent described later on a substrate, and then irradiating light. At this time, the firing and the light irradiation can proceed at the same time, and the light irradiation can be omitted.

예를 들어, 본 발명에서 상기 액정 배향막은 폴리이미드 및 폴리이미드의 전구체로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 중합체를 함유한 액정 배향제를 기판 상에 코팅하고 소성하여 폴리이미드막을 형성하는 단계; 및 상기 폴리이미드 막이 형성된 기판에 편광된 방사선을 조사하여 UV 배향 공정을 진행하는 단계;를 포함하는 방법으로 얻어질 수 있다. 이러한 과정에서 UV 배향에 의한 노광시 불량이 발생되면 상술한 조성물로 폴리이미드 또는 폴리이미드의 불순물 및 불량 광배향막을 기판으로 제거한다.For example, in the present invention, the liquid crystal alignment layer may be formed by coating a substrate with a liquid crystal aligning agent containing at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and polyimide precursors, and firing the liquid crystal aligning agent to form a polyimide film. And irradiating the substrate on which the polyimide film is formed with polarized radiation to conduct a UV alignment process. If defects occur during the exposure by UV alignment in this process, the impurities of the polyimide or the polyimide and the defective photo alignment layer are removed as the substrate by the above-described composition.

상기 UV 배향 공정을 통해 폴리이미드막의 표면에 배향이 이루어져 액정 배항막이 형성되는데, 배향막의 표면에는 UV 분해물이 소량 존재하게 되므로, 이러한 경우는 배향막의 고분자 표면에서의 불순물을 제거하기 위해 세정공정을 진행한다. 상기 세정 공정에 사용하는 조성물은 특별히 한정되지 않고 이 분야에 알려진 물질이 사용 가능하다. 그리고, 본 발명에서는 필요에 따라 UV 배향 전에 폴리이미드막의 세정 공정을 더 포함할 수 있고, 그 방법은 제한되지 않고 이 분야에 잘 알려진 방법이 사용될 수 있다.The liquid crystal alignment film is formed on the surface of the polyimide film through the UV alignment process. Since a small amount of UV decomposition substance exists on the surface of the alignment film, a cleaning process is performed in order to remove impurities from the polymer surface of the alignment film do. The composition used in the washing step is not particularly limited, and materials known in the art can be used. Further, in the present invention, if necessary, the polyimide film may further be subjected to a cleaning process before the UV alignment, and the method is not limited and a method well known in the art can be used.

또한, 상기 폴리이미드막을 형성하는 단계에서 소성공정은 소프트 또는 하드 베이킹 공정을 포함한다. 다만, 본 발명의 소성 공정은 일반적인 방법이 모두 사용 가능하므로, 크게 제한되지 않는다. 또한 필요에 따라서는 소프트 베이킹과 하드 베이킹 공정을 모두 수행할 수 있다.Further, in the step of forming the polyimide film, the baking process includes a soft or hard baking process. However, the firing process of the present invention is not limited to a large extent because all the general methods can be used. If necessary, both the soft baking and the hard baking process can be performed.

구체적으로, 액정 배향막을 형성하고자 하는 기판으로는 본 발명이 속한 기술분야에서 사용되는 다양한 기판이 모두 사용될 수 있고, 상기 도포 방법으로는 본 발명이 속한 기술분야에 알려진 다양한 방법이 모두 채용될 수 있다. 비제한적인 예로, 상기 액정 배향제는 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 잉크젯 등의 방법을 통해 도포될 수 있다. For example, various substrates used in the technical field of the present invention may be used as the substrate on which the liquid crystal alignment layer is to be formed, and various methods known to those skilled in the art may be employed as the application method . As a non-limiting example, the liquid crystal aligning agent may be applied by a method such as screen printing, offset printing, flexographic printing, ink jet, or the like.

이후, 앞서 제조한 도포막을 소성한다. 상기 소성은 핫 플레이트, 열풍 순환로, 적외선로 등의 가열 수단에 의해 약 50℃ 내지 300℃에서 실시할 수 있다. 또한 소프트 베이킹 공정을 진행할 경우는 약 70℃ 이내의 온도에서 100초 내지 5분간 진행할 수 있고, 하드 베이킹 공정을 진행할 경우에는 약 230℃ 이내의 온도에서 1000초 진행할 수 있다. Thereafter, the previously prepared coating film is baked. The firing can be performed at a temperature of about 50 캜 to 300 캜 by heating means such as a hot plate, a hot air circulation path, and an infrared ray furnace. The soft baking process may be performed at a temperature of about 70 ° C for 100 seconds to 5 minutes. When the hard baking process is performed, the soft baking process may be performed at a temperature of about 230 ° C for 1000 seconds.

이러한 소성 공정을 통해 상기 액정 배향제에 포함된 중합체 중 화학식 1 및 3으로 표시되는 반복 단위는 이미드화될 수 있다. 상기 중합체는 이미 이미드화된 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하여 기존 대비 현저하게 향상된 이미드 전환율을 나타낼 수 있다. Through such a baking step, the repeating units represented by formulas (1) and (3) in the polymer contained in the liquid crystal aligning agent can be imidized. The polymer can exhibit a remarkably improved imide conversion ratio as compared with the conventional polymer including the imidized repeating unit represented by the formula (2).

상기 소성 공정 후에는 원하는 배향 방향에 따라 앞서 제조한 소성된 막에 광을 조사하여 액정 배향성을 부여할 수 있다. 즉, 상기 폴리이미드 또는 그 전구체를 이용하여 얻어진 액정 배향막에 편광된 방사선이 조사됨에 따라, 배향막이 비등방적으로 반응함으로써 광배향이 이루어진다. 따라서, 상기 편광된 방사선을 조사하는 단계는, 액정 배향막에 150 내지 450nm 파장의 자외선 내지 가시광선을 조사하며, 수직 또는 경사 방향으로 직선 편광된 광이 배향막으로 조사될 수 있다. 상기 자외선 조사시 노광량은 약 0.25~1J/cm2일 수 있다.After the firing process, the fired film prepared above may be irradiated with light according to a desired orientation direction to impart liquid crystal alignability. That is, as polarized radiation is irradiated onto the liquid crystal alignment film obtained by using the polyimide or a precursor thereof, the alignment film reacts anisotropically to effect light distribution. Accordingly, the step of irradiating the polarized radiation may irradiate the liquid crystal alignment film with ultraviolet light or visible light having a wavelength of 150 to 450 nm, and linearly polarized light in the vertical or oblique direction may be irradiated to the alignment film. The amount of exposure upon ultraviolet irradiation may be about 0.25 to 1 J / cm < 2 >.

상기 세정 공정을 완료한 후 세정된 기판을 건조하는 단계는, 그 조건이 제한되지는 않지만, 약 230℃의 온도에서 1000초 동안 스핀 건조 또는 오븐 건조 공정을 진행할 수 있다.The step of drying the cleaned substrate after completion of the cleaning step is not limited to the conditions, but the spin drying or oven drying step may be performed at a temperature of about 230 캜 for 1000 seconds.

또한, Cell 합착 공정은 Dummyl Cell 합착 공정, IPC Cell 합착 공정을 포함할 수 있으며, 그 방법이 제한되지는 않는다.In addition, the cell laminating process may include a Dummyl Cell laminating process, an IPC cell laminating process, and the method is not limited.

본 발명에서, 상기 폴리이미드 막을 형성하는 단계에서 액정 배향제의 조성은 본 발명이 속한 기술분야에 알려져 있는 다양한 방법을 통해 제공될 수 있다.In the present invention, the composition of the liquid crystal aligning agent in the step of forming the polyimide film may be provided through various methods known in the technical field of the present invention.

비제한적인 예로, 상술한 중합체를 유기 용매에 용해 또는 분산시켜 액정 배향제를 제공할 수 있다.As a non-limiting example, the above-mentioned polymer may be dissolved or dispersed in an organic solvent to provide a liquid crystal aligning agent.

상기 유기 용매의 구체적인 예로는 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 2-피롤리돈, N-에틸피롤리돈, N-비닐피롤리돈, 디메틸술폭사이드, 테트라메틸우레아, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸술폭사이드, γ-부티로락톤, 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-에톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-부톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 1,3-디메틸-이미다졸리디논, 에틸아밀케톤, 메틸노닐케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 사이클로헥사논, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 디글라임 및 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용될 수도 있고, 혼합하여 사용될 수도 있다. Specific examples of the organic solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, 2- Dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfoxide, tetramethyl urea, pyridine, dimethyl sulfone, hexamethyl sulfoxide,? -Butyrolactone, 3-methoxy-N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide, 1,3-dimethyl- imidazolidinone, ethylamylketone, methylnonylketone, , Methyl isopropyl ketone, cyclohexanone, ethylene carbonate, propylene carbonate, diglyme and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone. These may be used alone or in combination.

또한, 상기 액정 배향제는 폴리이미드계 중합체 및 유기 용매 외에 다른 성분을 추가로 포함할 수 있다. 비제한적인 예로, 액정 배향제가 도포되었을 때, 막 두께의 균일성이나 표면 평활성을 향상시키거나, 혹은 액정 배향막과 기판의 밀착성을 향상시키거나, 혹은 액정 배향막의 유전율이나 도전성을 변화시키거나, 혹은 액정 배향막의 치밀성을 증가시킬 수 있는 첨가제가 추가로 포함될 수 있다. 이러한 첨가제로는 각종 용매, 계면 활성제, 실란계 화합물, 유전체 또는 가교성 화합물 등이 예시될 수 있다. The liquid crystal aligning agent may further include other components besides the polyimide-based polymer and the organic solvent. As a non-limiting example, when the liquid crystal aligning agent is applied, the uniformity of the film thickness and the surface smoothness are improved, the adhesion between the liquid crystal alignment film and the substrate is improved, the dielectric constant and the conductivity of the liquid crystal alignment film are changed, An additive capable of increasing the denseness of the liquid crystal alignment film may be further included. Examples of such additives include various solvents, surfactants, silane compounds, dielectrics, and crosslinking compounds.

또한, 상기 액정 배향제를 얻기 위해 사용하는 상기 폴리이미드나 그 전구체의 중합체 구조가 특별히 제한되지 않으며, 이 분야에 잘 알려진 폴리이미드계 고분자막을 형성할 수 있는 것이라면 모두 사용 가능하다.The polymer structure of the polyimide or its precursor used for obtaining the liquid crystal aligning agent is not particularly limited, and any structure capable of forming a polyimide-based polymer film well known in the art can be used.

예를 들어, 작용기를 갖는 방향족 디아민 화합물과 방향족 테트라카복실산무수물 등을 이용할 수 있다. 또한 폴리이미드막은 폴리아믹산의 반복단위를 포함하여 제조될 수 있다.For example, an aromatic diamine compound having a functional group and an aromatic tetracarboxylic acid anhydride can be used. The polyimide film may also be prepared by including repeating units of polyamic acid.

또한 본 발명에서 상기 폴리이미드 전구체의 바람직한 일례를 들면, 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위 및 하기 화학식 2의 반복단위를 포함할 수 있다.In the present invention, preferred examples of the polyimide precursor may include a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2).

또한, 상기 폴리이미드는 상기 폴리이미드 전구체의 반복 단위 중 적어도 일부가 이미드화된 중합체일 수 있다.Further, the polyimide may be a polymer in which at least a part of the repeating units of the polyimide precursor is imidized.

바람직하게, 폴리이미드 전구체에서 상기 화학식 1의 반복단위는 50 내지 95몰%의 함량으로 포함하고, 상기 화학식 2의 반복단위는 5 내지 50몰%의 함량으로 포함할 수 있다.Preferably, the polyimide precursor contains the repeating unit of Formula 1 in an amount of 50 to 95 mol%, and the repeating unit of Formula 2 may be contained in an amount of 5 to 50 mol%.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00004
Figure pat00004

[화학식 2](2)

Figure pat00005
Figure pat00005

(상기 화학식 1 및 2에서,(In the above formulas (1) and (2)

X1 및 X2는 각각 독립적으로 탄소수 4 내지 20의 탄화수소에서 유래한 4가의 유기기이거나, 혹은 상기 4가의 유기기 중 하나 이상의 H가 할로겐으로 치환되거나 또는 하나 이상의 -CH2-가 산소 원자들이 직접 연결되지 않도록 -O-, -S-, -CO- 또는 -SO-로 대체된 4가의 유기기이고, X 1 and X 2 are each independently a tetravalent organic group derived from a hydrocarbon having 4 to 20 carbon atoms or at least one of the tetravalent organic groups is substituted with halogen or one or more -CH 2 - Is a tetravalent organic group substituted with -O-, -S-, -CO- or -SO- so as not to be directly connected,

R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이고, R 1 to R 4 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,

R5 내지 R7은 각각 독립적으로 할로겐, 시아노기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 알콕시기 또는 플루오로알킬기이고, R 5 to R 7 are each independently a halogen, a cyano group, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group or a fluoroalkyl group,

L1은 -O-, -O-CH2-O-, -O-CH2CH2-O- 또는 -O-CH2CH2CH2-O-이고, L 1 is -O-, -O-CH 2 -O-, -O-CH 2 CH 2 -O- or -O-CH 2 CH 2 CH 2 -O-,

p, q 및 r은 각각 독립적으로 0 내지 4 사이의 정수이고, p, q and r are each independently an integer of 0 to 4,

n은 1 또는 2의 정수이다.)and n is an integer of 1 or 2.)

참고로, 본 명세서에서 특별한 제한이 없는 한 다음 용어는 하기와 같이 정의될 수 있다.For reference, the following terms can be defined as follows, unless otherwise specified.

탄소수 4 내지 20의 탄화수소는, 탄소수 4 내지 20의 알칸(alkane), 탄소수 4 내지 20의 알켄(alkene), 탄소수 4 내지 20의 알킨(alkyne), 탄소수 4 내지 20의 사이클로알칸(cycloalkane), 탄소수 4 내지 20의 사이클로알켄(cycloalkene), 탄소수 6 내지 20의 아렌(arene)이거나, 혹은 이들 중 1종 이상의 고리형 탄화수소가 2 이상의 원자를 공유하는 축합 고리(fused ring)이거나, 혹은 이들 중 1종 이상의 탄화수소가 화학적으로 결합된 탄화수소일 수 있다. 구체적으로, 탄소수 4 내지 20의 탄화수소로는 n-부탄, 사이클로부탄, 1-메틸사이클로부탄, 1,3-디메틸사이클로부탄, 1,2,3,4-테트라메틸사이클로부탄, 사이클로펜탄, 사이클로헥산, 사이클로헵탄, 사이클로옥탄, 사이클로헥센, 1-메틸-3-에틸사이클로헥센, 바이사이클로헥실, 벤젠, 바이페닐, 디페닐메탄, 2,2-디페닐프로판, 1-에틸-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌 또는 1,6-디페닐헥산 등을 예시할 수 있다.Examples of the hydrocarbon having 4 to 20 carbon atoms include alkane having 4 to 20 carbon atoms, alkene having 4 to 20 carbon atoms, alkyne having 4 to 20 carbon atoms, cycloalkane having 4 to 20 carbon atoms, Cycloalkene having 4 to 20 carbon atoms, arene having 6 to 20 carbon atoms, or at least one of the ring-shaped hydrocarbons is a fused ring sharing two or more atoms, or one of them Or more hydrocarbons may be chemically bonded hydrocarbons. Specific examples of the hydrocarbon having 4 to 20 carbon atoms include n-butane, cyclobutane, 1-methylcyclobutane, 1,3-dimethylcyclobutane, 1,2,3,4-tetramethylcyclobutane, cyclopentane, cyclohexane , Cycloheptane, cyclooctane, cyclohexene, 1-methyl-3-ethylcyclohexene, bicyclohexyl, benzene, biphenyl, diphenylmethane, 2,2- , 4-tetrahydronaphthalene, 1,6-diphenylhexane, and the like.

탄소수 1 내지 10의 알킬기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리형 알킬기일 수 있다. 구체적으로, 탄소수 1 내지 10의 알킬기는 탄소수 1 내지 10의 직쇄 알킬기; 탄소수 1 내지 5의 직쇄 알킬기; 탄소수 3 내지 10의 분지쇄 또는 고리형 알킬기; 또는 탄소수 3 내지 6의 분지쇄 또는 고리형 알킬기일 수 있다. 보다 구체적으로, 탄소수 1 내지 10의 알킬기로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, iso-펜틸기, neo-펜틸기 또는 사이클로헥실기 등을 예시할 수 있다. The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be a straight chain, branched chain or cyclic alkyl group. Specifically, the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferably a straight chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; A straight chain alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; Branched or cyclic alkyl group of 3 to 10 carbon atoms; Or a branched or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. More specifically, examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, , neo-pentyl group, cyclohexyl group and the like.

탄소수 1 내지 10의 알콕시기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리형 알콕시기일 수 있다. 구체적으로, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기는 탄소수 1 내지 10의 직쇄 알콕시기; 탄소수 1 내지 5의 직쇄 알콕시기; 탄소수 3 내지 10의 분지쇄 또는 고리형 알콕시기; 또는 탄소수 3 내지 6의 분지쇄 또는 고리형 알콕시기일 수 있다. 보다 구체적으로, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기로는 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜톡시기, iso-펜톡시기, neo-펜톡시기 또는 사이클로헥톡시기 등을 예시할 수 있다.The alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms may be a straight chain, branched chain or cyclic alkoxy group. Specifically, the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms is preferably a straight chain alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; A straight chain alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms; A branched or cyclic alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms; Or a branched or cyclic alkoxy group having 3 to 6 carbon atoms. More specifically, examples of the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms include a methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group or cycloheptoxy group.

탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기는 상기 탄소수 1 내지 10의 알킬기의 하나 이상의 수소가 불소로 치환된 것일 수 있다. The fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be one in which at least one hydrogen of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is substituted with fluorine.

탄소수 2 내지 10의 알케닐기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리형 알케닐기일 수 있다. 구체적으로, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기는 탄소수 2 내지 10의 직쇄 알케닐기, 탄소수 2 내지 5의 직쇄 알케닐기, 탄소수 3 내지 10의 분지쇄 알케닐기, 탄소수 3 내지 6의 분지쇄 알케닐기, 탄소수 5 내지 10의 고리형 알케닐기 또는 탄소수 6 내지 8의 고리형 알케닐기일 수 있다. 보다 구체적으로, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기로는 에테닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기 또는 사이클로헥세닐기 등을 예시할 수 있다. The alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms may be a straight chain, branched chain or cyclic alkenyl group. Specifically, the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms is preferably a straight chain alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a straight chain alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, a branched alkenyl group having 3 to 10 carbon atoms, a branched alkenyl group having 3 to 6 carbon atoms, A cyclic alkenyl group having 5 to 10 carbon atoms or a cyclic alkenyl group having 6 to 8 carbon atoms. More specifically, examples of the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms include an ethenyl group, a propenyl group, a butenyl group, a pentenyl group, and a cyclohexenyl group.

할로겐(halogen)은 불소(F), 염소(Cl), 브롬(Br) 또는 요오드(I)일 수 있다. The halogen may be fluorine (F), chlorine (Cl), bromine (Br) or iodine (I).

임의의 화합물에서 유래한 다가 유기기(multivalent organic group)는 임의의 화합물에 결합된 복수의 수소 원자가 제거된 형태의 잔기를 의미한다. 일 예로, 사이클로부탄에서 유래한 4가의 유기기는 사이클로부탄에 결합된 임의의 수소 원자 4개가 제거된 형태의 잔기를 의미한다. A multivalent organic group derived from any compound means a residue in which a plurality of hydrogen atoms bonded to any compound are removed. As an example, a tetravalent organic group derived from cyclobutane means a residue in which any four hydrogen atoms bonded to cyclobutane are removed.

본 명세서에서, 화학식 중

Figure pat00006
는 해당 부위의 수소가 제거된 형태의 잔기를 의미한다. 예를 들어,
Figure pat00007
는 사이클로부탄의 1, 2, 3 및 4번 탄소에 결합된 수소 원자 4개가 제거된 형태의 잔기, 즉 사이클로부탄에서 유래한 4가의 유기기 중 어느 하나를 의미한다. In the present specification,
Figure pat00006
Means a residue in which the hydrogen at the site is removed. E.g,
Figure pat00007
Means a residue of a form in which four hydrogen atoms bonded to carbons 1, 2, 3 and 4 of cyclobutane are removed, that is, a quaternary organic group derived from cyclobutane.

또한, 본 명세서에서 폴리이미드 전구체는 적절한 조건 하에서 폴리이미드를 제공할 수 있는 폴리아믹산 혹은 폴리아믹산의 에스테르를 의미할 수 있다.In addition, the polyimide precursor herein may also refer to an ester of a polyamic acid or polyamic acid that can provide a polyimide under suitable conditions.

보다 구체적으로 설명하면, 상기 화학식 1의 반복단위는 직쇄 형태의 디아민을 테트라카복실산 혹은 이의 무수물과 반응시켜 생성된 반복단위일 수 있다. 상기 일 구현예에 따른 폴리이미드 전구체는 상기 화학식 1과 같이 직쇄 형태의 디아민으로부터 유래한 반복단위를 포함하여 액정 배향성 및 신뢰성이 현저하게 개선된 액정 배향막을 제공할 수 있다. More specifically, the repeating unit represented by Formula 1 may be a repeating unit formed by reacting a linear diamine with a tetracarboxylic acid or an anhydride thereof. The polyimide precursor according to one embodiment of the present invention can provide a liquid crystal alignment layer including a repeating unit derived from a linear diamine as shown in Formula 1, thereby remarkably improving liquid crystal alignability and reliability.

또한, 상기 화학식 1의 반복단위는 직쇄 형태의 디아민으로부터 유래한 2가 유기기를 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 화학식 1의 반복단위에서 2개의 아미노기는 각각 벤젠의 1번 및 4번 위치(예를 들면, 화학식 1-1) 혹은 1번 및 3번 위치(예를 들면, 화학식 1-2)에 결합되거나, 또는 바이페닐의 3번 및 3'번 위치(예를 들면, 화학식 1-3), 4번 및 4'번 위치(예를 들면, 화학식 1-4) 혹은 3번 및 4'번 위치(예를 들면, 화학식 1-5)에 결합될 수 있다. 이러한 화학식 1의 반복단위의 구체적인 예는 하기 화학식 1-1 내지 1-5와 같은 구조일 수 있다. The repeating unit of the above formula (1) may include a divalent organic group derived from a linear diamine. Accordingly, the two amino groups in the repeating unit of the above formula (1) are respectively substituted at positions 1 and 4 (for example, formula 1-1) or positions 1 and 3 (for example, formula 1-2) , Or positions 3 and 3 of the biphenyl (e.g., formula 1-3), positions 4 and 4 '(e.g., formula 1-4) Position (e. G., Formula 1-5). Specific examples of the repeating unit of the formula (1) may be the same as those of the following formulas (1-1) to (1-5).

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00008
Figure pat00008

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure pat00009
Figure pat00009

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure pat00010
Figure pat00010

[화학식 1-4][Formula 1-4]

Figure pat00011
Figure pat00011

[화학식 1-5][Formula 1-5]

Figure pat00012
Figure pat00012

상기 화학식 1-1 내지 1-5에서 X1, R1, R2, R5 및 p의 정의는 화학식 1의 정의와 같다.The definitions of X 1 , R 1 , R 2 , R 5 and p in the above formulas 1-1 to 1-5 are as defined in the formula (1).

상기 화학식 1의 반복단위가 상기 화학식 1-1 및 1-4 중 하나 이상의 반복단위일 경우, 보다 안정적인 액정 배향성을 구현할 수 있는 폴리이미드 전구체를 제공할 수 있다. When the repeating unit represented by the formula (1) is at least one of the repeating units of the formulas (1-1) and (1-4), a polyimide precursor capable of realizing a more stable liquid crystal aligning property can be provided.

한편, 상기 화학식 2의 반복단위는 적은 노광량의 광 조사로도 상기 일 구현예에 따른 폴리이미드 전구체로부터 제조된 폴리이미드에 액정 배향성을 부여할 수 있다. 이에 따라, 상기 화학식 1의 반복단위에 의한 배향 안정성 및 신뢰성을 원하지 않는 부반응 없이 구현할 수 있다. 즉, 상기 화학식 1 및 화학식 2의 반복단위에 의해, 러빙 배향막과 같은 우수한 배향 안정성을 구현하면서도 광 배향막의 우수한 제반 물성을 갖는 액정 배향막을 제공할 수 있다. On the other hand, the repeating unit of formula (2) may impart a liquid crystal aligning property to the polyimide prepared from the polyimide precursor according to one embodiment of the present invention even in the case of light irradiation with a small exposure dose. Accordingly, the orientation stability and reliability of the repeating unit of Formula 1 can be realized without undesired side reactions. That is, it is possible to provide a liquid crystal alignment layer having excellent physical properties of a photo alignment layer while realizing excellent alignment stability as the rubbing alignment layer, by the repeating units of the formulas (1) and (2).

이와 같이 우수한 배향 안정성 및 신뢰성을 구현하면서 광 배향막의 우수한 제반 물성을 구현하기 위해, 상기 일 구현예에 따른 폴리이미드 전구체는 전체 반복단위에 대해 상기 화학식 1의 반복단위를 50 내지 95몰%의 함량으로 포함하고, 상기 화학식 2의 반복단위를 5 내지 50몰%의 함량으로 포함할 수 있다. In order to realize excellent physical properties of the photo alignment layer while realizing such excellent orientation stability and reliability, the polyimide precursor according to one embodiment has a repeating unit represented by the formula (1) in an amount of 50 to 95 mol% And the repeating unit represented by the formula (2) may be contained in an amount of 5 to 50 mol%.

상기 일 구현예에 따른 폴리이미드 전구체는 본 발명이 속하는 기술분야에 알려진 테트라카복실산 혹은 이의 무수물로부터 제조될 수 있으므로, 상기 화학식 1 및 화학식 2의 반복단위에서, X1 및 X2는 상술한 바와 같이 다양한 4가의 유기기일 수 있다. Since the polyimide precursor according to one embodiment can be prepared from a tetracarboxylic acid or an anhydride thereof known in the art, X 1 and X 2 in the repeating units of the above formulas (1) and (2) And may be various tetravalent organic groups.

일 예로, 상기 X1 및 X2는 각각 독립적으로 하기 화학식 3에 기재된 4가의 유기기일 수 있다. For example, X 1 and X 2 may each independently be a tetravalent organic group represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

Figure pat00013
Figure pat00013

상기 화학식 3에서, In Formula 3,

R8 내지 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, R 8 to R 11 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,

L2는 -O-, -S-, -CO-, -SO-, -C(CF3)2- 또는 -COO-CH2CH2-OCO-이다. L 2 is -O-, -S-, -CO-, -SO-, -C (CF 3 ) 2 - or -COO-CH 2 CH 2 -OCO-.

상기 X1 및 X2의 적어도 일부는 상기 화학식 3 중에서 하기 화학식 3-1로 표시되는 4가의 유기기일 수 있다. At least a part of X 1 and X 2 may be a tetravalent organic group represented by the following general formula (3-1) in the general formula (3).

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure pat00014
Figure pat00014

상기 화학식 3-1에서, R8 내지 R11의 정의는 화학식 3의 정의와 같다.In the above formula (3-1), the definitions of R 8 to R 11 are as defined in formula (3).

상기와 같이, X1이 화학식 3-1의 4가 유기기인 화학식 1의 반복단위 혹은 X2가 화학식 3-1의 4가 유기기인 화학식 2의 반복단위는 광 조사에 의해 쉽게 분해되어 우수한 액정 배향성을 용이하게 구현할 수 있다. 이러한 효과를 보다 효과적으로 담보하기 위해, X1이 상기 화학식 3-1의 4가 유기기인 화학식 1의 반복단위와 X2가 상기 화학식 3-1의 4가 유기기인 화학식 2의 반복단위의 합은 전체 반복단위에 대해 60 내지 100몰%로 조절될 수 있다. As described above, the repeating unit of formula (1) wherein X 1 is a tetravalent organic group of formula (3-1) or the repeating unit of formula ( 2) wherein X 2 is a tetravalent organic group of formula (3-1) is easily decomposed by light irradiation, Can be easily implemented. In order to more effectively ensure this effect, the sum of the repeating unit of formula (1) wherein X 1 is a tetravalent organic group of the above formula (3-1) and the repeating unit of the formula ( 2 ) wherein X 2 is a tetravalent organic group of the above formula Can be adjusted to 60 to 100 mol% based on the repeating units.

상기 일 구현예에 따른 폴리이미드 전구체는 폴리아믹산이거나 혹은 폴리아믹산 에스테르일 수 있다. 상기 폴리이미드 전구체가 폴리아믹산인 경우 상기 화학식 1 및 2의 반복단위에서 R1 내지 R4는 수소일 수 있으며, 폴리아믹산 에스테르인 경우, R1 내지 R4의 적어도 일부는 탄소수 1 내지 10의 알킬기일 수 있다. The polyimide precursor according to one embodiment may be a polyamic acid or a polyamic acid ester. In the case where the polyimide precursor is a polyamic acid, R 1 to R 4 in the repeating units of the formulas (1) and (2) may be hydrogen. In the case of polyamic acid ester, at least a part of R 1 to R 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms Lt; / RTI >

한편, 상기 화학식 1 및 2의 반복단위에서 디아민 유래의 페닐렌 그룹은 R5, R6 또는 R7으로 치환될 수 있다. 그리고, 상기 페닐렌 그룹 중 R5, R6 또는 R7으로 치환되지 않은 탄소에는 수소가 결합되어 있을 수 있다. 복수의 화학식 1로 표시되는 반복단위에서 각각의 R5는 서로 동일하거나 상이할 수 있으며, 마찬가지로 복수의 화학식 2로 표시되는 반복단위에서 각각의 R6 및 R7는 서로 동일하거나 상이할 수 있다. On the other hand, in the repeating units of the above formulas (1) and (2), the diamine-derived phenylene group may be substituted with R 5 , R 6 or R 7 . In the phenylene group, a carbon atom not substituted by R 5 , R 6 or R 7 may be bonded to hydrogen. In each of the plurality of repeating units represented by the general formula (1), each R 5 may be the same or different, and similarly, in the plurality of repeating units represented by the general formula (2), each of R 6 and R 7 may be the same or different from each other.

상기 일 구현예에 따른 폴리이미드 전구체는 원하는 물성에 따라 적절한 중합도를 갖도록 제조될 수 있다. 일 예로, 상기 폴리이미드 전구체는 1,000 내지 200,000g/mol의 중량평균분자량을 가지도록 제조될 수 있다. 이러한 범위 내에서 양호한 제반 물성을 나타내는 액정 배향막을 제공할 수 있다. The polyimide precursor according to one embodiment may be prepared to have an appropriate degree of polymerization according to desired properties. In one example, the polyimide precursor may be prepared to have a weight average molecular weight of 1,000 to 200,000 g / mol. It is possible to provide a liquid crystal alignment film exhibiting good physical properties within such a range.

한편, 본 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 액정 배향막 제거 조성물로 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체의 UV 배향시 발생하는 불순물 또는 불량 광배향막을 제거하는 단계를 포함하는, 액정 배향막의 부산물 제거 방법이 제공될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method for removing a by-product of a liquid crystal alignment layer, which comprises removing an impurity or a bad photo alignment layer which occurs upon UV alignment of a polyimide or polyimide precursor with the liquid crystal alignment film removing composition Can be provided.

따라서, 본 발명은 기존보다 단시간 내에 효과적으로 UV 배향시 발생하는 불순물 또는 불량 광배향막을 제거할 수 있으므로, 공정성과 경제성을 향상시키고, 액정 배향막의 성능도 우수하게 유지할 수 있다.Therefore, the present invention can remove impurities or poor photo alignment layers that occur during UV alignment in a shorter time than in the prior art, thereby improving the processability and economy and maintaining the performance of the liquid crystal alignment layer.

이하 발명의 구체적인 실시예를 통해 발명의 작용, 효과를 보다 구체적으로 설명하기로 한다. 다만, 이는 발명의 예시로서 제시된 것으로 이에 의해 발명의 권리범위가 어떠한 의미로든 한정되는 것은 아니다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects, features and advantages of the present invention will be more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. However, this is provided as an example of the invention, and the scope of the invention is not limited thereto in any sense.

<< 실시예Example 1> 1>

아미노에틸피페라진 30 중량%, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 중량% 및 DMSO 60 중량%를 혼합하여 광배향막 제거용 조성물을 제조하였다.30% by weight of aminoethylpiperazine, 10% by weight of tetramethylammonium hydroxide and 60% by weight of DMSO were mixed to prepare a composition for removing a photo alignment layer.

<< 실시예Example 2> 2>

아미노에틸피페라진 80 중량%, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 중량% 및 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르 (BDG) 10 중량%를 혼합하여 광배향막 제거용 조성물을 제조하였다.80% by weight of aminoethylpiperazine, 10% by weight of tetramethylammonium hydroxide and 10% by weight of diethylene glycol monobutyl ether (BDG) were mixed to prepare a composition for removing a photo alignment layer.

<< 실시예Example 3> 3>

아미노에틸피페라진 100 중량%를 광배향막 제거용 조성물로 사용하였다.100% by weight of aminoethylpiperazine was used as a composition for removing a photo alignment film.

<< 실시예Example 4> 4>

아미노에틸피페라진 40 중량%, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 20 중량% 및 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르 (BDG) 20 중량%, 탈이온수 20 중량%를 혼합하여 광배향막 제거용 조성물을 제조하였다. 40% by weight of aminoethylpiperazine, 20% by weight of tetramethylammonium hydroxide, 20% by weight of diethylene glycol monobutyl ether (BDG) and 20% by weight of deionized water were mixed to prepare a composition for removing a photo alignment layer.

<< 실시예Example 5> 5>

아미노에틸피페라진 50 중량%, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 중량% 및 NMP 30 중량%, 탈이온수 10 중량%를 혼합하여 광배향막 제거용 조성물을 제조하였다. 50% by weight of aminoethylpiperazine, 10% by weight of tetramethylammonium hydroxide, 30% by weight of NMP and 10% by weight of deionized water were mixed to prepare a composition for removing a photo alignment layer.

<< 비교예Comparative Example 1> 1>

테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 중량% 및 DMSO 90중량%를 혼합하여 광배향막 제거용 조성물을 제조하였다.10% by weight of tetramethylammonium hydroxide and 90% by weight of DMSO were mixed to prepare a composition for removing a photo alignment layer.

<< 비교예Comparative Example 2> 2>

테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 중량% 및 DMSO 40 중량%, NMP 50 중량%를 혼합하여 광배향막 제거용 조성물을 제조하였다.10% by weight of tetramethylammonium hydroxide, 40% by weight of DMSO and 50% by weight of NMP were mixed to prepare a composition for removing a photo alignment layer.

<< 실험예Experimental Example >>

액정 Liquid crystal 배향제Orientation agent  And 액정셀의The liquid crystal cell 제조 Produce

(1) 액정 배향제의 제조(1) Preparation of liquid crystal aligning agent

폴리이미드 중합체 (Mw: 23000~27000)를 NMP와 n-부톡시에탄올의 중량비율이 8:2인 혼합용매에 고형분 5 중량%의 비율로 녹였다. 그리고, 얻어진 용액을 폴리(테트라플루오렌에틸렌) 재질의 기공 사이즈가 0.2㎛인 필터로 가압 여과하여 액정 배향제를 제조하였다.The polyimide polymer (Mw: 23000 to 27000) was dissolved in a mixed solvent of NMP and n-butoxyethanol in a weight ratio of 8: 2 at a ratio of 5% by weight of solids. Then, the solution thus obtained was pressure-filtered through a filter having a pore size of poly (tetrafluorene ethylene) of 0.2 占 퐉 to prepare a liquid crystal aligning agent.

(2) 액정셀의 제조(2) Production of liquid crystal cell

상기에서 제조한 액정 배향제를 이용하여 하기와 같은 방법으로 액정셀을 제조하였다.Using the liquid crystal aligning agent prepared above, a liquid crystal cell was prepared as follows.

2.5cm X 2.7cm의 크기를 갖는 사각형 유리기판 상에 두께 60nm, 전극 폭 3㎛ 그리고 전극 간 간격이 6㎛인 빗살 모양의 IPS (in-plane switching) 모드형 ITO 전극 패턴이 형성되어 있는 기판(하판)과 전극 패턴이 없는 유리 기판(상판)에 각각 스핀 코팅 방식을 이용하여 액정 배향제를 도포하였다. A substrate having a comb-shaped IPS (in-plane switching) mode ITO electrode pattern having a thickness of 60 nm, an electrode width of 3 mu m and an inter-electrode gap of 6 mu m is formed on a rectangular glass substrate having a size of 2.5 cm x 2.7 cm And a glass substrate (upper plate) having no electrode pattern were coated with a liquid crystal aligning agent by a spin coating method.

이어서, 액정 배향제가 도포된 기판을 약 70℃의 핫플레이트 위에 두어 1000초간 건조한 후, 약 230℃의 오븐에서 1000초간 하드 베이킹하여 막 두께 0.1㎛의 폴리이미드 도막을 얻었다.Subsequently, the substrate coated with the liquid crystal aligning agent was placed on a hot plate at about 70 占 폚 for 1000 seconds to be dried, and then hard baked in an oven at about 230 占 폚 for 1000 seconds to obtain a polyimide coating film having a thickness of 0.1 占 퐉.

이렇게 얻어진 도막을 배향하기 위해, 상/하판 각각의 도막에 선 편광자가 부착된 노광기를 이용하여 254nm의 자외선을 0.25~1J/cm2의 노광량으로 조사하였다. In order to orient the thus obtained coating film, ultraviolet rays of 254 nm were irradiated at an exposure amount of 0.25 to 1 J / cm 2 using an exposure machine having a linear polarizer attached to each coating film of the upper and lower plates.

이때, 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체의 UV 배향시 발생하는 불순물 및 불량 광배향막(노광 불량이 발생된 배향막)에 대해, 상기 비교예 및 실시예의 광배향막용 조성물에 불량 액정배향막이 형성된 기판을 침지하여 기판 세정 및 배향막 제거 공정을 진행하였다(Strip 조건 70℃, 10분). 상기 공정이 완료되면 70℃의 오븐에서 60초간 건조하였다.At this time, a substrate on which a defective liquid crystal alignment layer was formed on the composition for a photo alignment layer of the above Comparative Examples and Examples was impregnated with impurities generated during UV alignment of the polyimide or polyimide precursor and the defective photo alignment layer And the substrate was cleaned and the alignment film removing process was performed (strip condition: 70 ° C, 10 minutes). When the above process was completed, it was dried in an oven at 70 DEG C for 60 seconds.

이후, 3㎛ 크기의 볼 스페이서가 함침된 실링제(sealing agent)를 이용해서, 액정 주입구를 제외한 상기 기판의 상판의 가장자리에 도포하였다. 그리고, 상판 및 하판에 형성된 배향막이 서로 마주 보며 배향 방향이 서로 나란하도록 정열시킨 후, 상하판을 합착하고 실링제를 경화함으로써 빈 셀을 제조하였다. 그리고, 상기 빈 셀에 액정을 주입하여 IPS 모드의 액정셀을 제조하였다. Thereafter, a sealing agent impregnated with a ball spacer having a size of 3 mu m was applied to the edge of the upper plate of the substrate except the liquid crystal injection hole. Then, the alignment films formed on the upper plate and the lower plate face each other and aligned so that their alignment directions are aligned with each other. Then, the upper and lower plates are bonded together and the sealing agent is cured to manufacture empty cells. Then, liquid crystals were injected into the empty cells to prepare IPS mode liquid crystal cells.

<액정 배향막의 제거 상태 확인><Confirmation of removal state of liquid crystal alignment film>

상기 비교예 1 및 실시예 1의 광배향막 조성물을 사용한 후, 기판으로부터 불량 광배향막이 제거되었는지 확인하였고, 그 결과를 도 1에 나타내었다.After using the photo alignment layer compositions of Comparative Example 1 and Example 1, it was confirmed whether or not the photo-alignment layer was removed from the substrate. The results are shown in Fig.

도 1에서 보면, 기존 방법은 TMAH와 DMSO의 조성으로만 이루어져 기판으로부터 광배향막이 제거되지 않고 불순물로 남아 있음을 알 수 있다. 반면, 실시예 1은 기판으로부터 배향막이 완전이 제거되었음을 확인하였다.Referring to FIG. 1, it can be seen that the conventional method consists only of the composition of TMAH and DMSO, and the photo-alignment layer is not removed from the substrate but remains as an impurity. On the other hand, Example 1 confirmed that the alignment layer was completely removed from the substrate.

<액정 배향막의 특성 평가>&Lt; Evaluation of characteristics of liquid crystal alignment film &

각 실시예 및 비교예에서 사용된 액정배향막 제거용 조성물을 이용하여 다음의 방법으로 이방성, 막 균일도, 블랙 레벨, AC 잔상 변동율을 측정하였다.Film anisotropy, film uniformity, black level, and after-image residual ratio were measured by the following method using the compositions for removing liquid crystal alignment films used in each of the Examples and Comparative Examples.

또한, 배향막을 제거후 다시 배향공정을 진행시 비교예와 실시예간의 배향막 특성 비교 결과를 표 1에 나타내었다.In addition, when the alignment process is performed again after removing the alignment film, the comparison result of the alignment film characteristics between the comparative example and the example Table 1 shows the results.

(1) 이방성 평가 (1) Anisotropy evaluation

AxoStep 방법으로 액정 배항막의 이방성을 평가하였다.The anisotropy of the liquid crystal focusing film was evaluated by the AxoStep method.

(평가기준)(Evaluation standard)

1: 세정 후 이방성 값이 10% 이상 감소1: Reduced anisotropy value by more than 10% after cleaning

2: 세정 후 이방성 값이 10% 이내 감소2: Reduced anisotropy value within 10% after cleaning

3: 세정 전과 비교하여 이방성 값이 동일한 수준3: Anisotropy value is the same level as before cleaning

4: 세정 후 이방성 값이 10% 이내 상승4: Anisotropy value increased within 10% after cleaning

5: 세정 후 이방성 값이 10% 이상 상승5: Anisotropy value increased more than 10% after cleaning

(2) 막균일도 평가 (2) Evaluation of film uniformity

AFM 방법으로 액정 배항막의 막균일도를 평가하였다.The film uniformity of the liquid crystal focusing film was evaluated by the AFM method.

(평가기준)(Evaluation standard)

1: 세정 후 표면거칠기 값이 10% 이상 증가1: Surface roughness value increased by more than 10% after cleaning

2: 세정 후 표면거칠기 값이 10% 이내 증가2: Surface roughness value increased by 10% after cleaning

3: 세정 전과 비교하여 표면 거칠기 값이 동일한 수준3: The surface roughness value is the same level as before cleaning

4: 세정 후 표면거칠기 값이 10% 이내 감소4: Reduced surface roughness value within 10% after cleaning

5: 세정 후 표면거칠기 값이 10% 이상 감소5: Reduced surface roughness value by more than 10% after cleaning

(3) Black level 평가 (3) Black level evaluation

PR-880 방법으로 액정 배항막의 Black level을 평가하였다.Black level of liquid crystal focusing film was evaluated by PR-880 method.

(평가기준)(Evaluation standard)

1: 세정 후 블랙 값이 10% 이상 감소 1: Reduction of black value by more than 10% after cleaning

2: 세정 후 블랙 값이 10% 이내 증가2: Increase of black value within 10% after cleaning

3: 세정 전과 비교하여 블랙 값이 동일한 수준3: Black value is the same level as before cleaning

(4) AC잔상 변동율 평가 (4) Evaluation of fluctuation rate of AC residual image

60도, 24시간, AC 12V 전압을 인가 후, PR-800 방법으로 액정 배항막의 AC잔상 변동율을 평가하였다.After applying a voltage of AC 12 V for 60 seconds, 24 hours, the AC after-image variation ratio of the liquid crystal focusing film was evaluated by the PR-800 method.

(평가기준)(Evaluation standard)

1: 세정 후 AC 잔상 변동율 변화가 100% 이상의 수준1: Level of fluctuation of AC residual after cleaning is more than 100%

2: 세정 후 AC 잔상 변동율 변화가 30% 이상의 수준2: Level of change of AC afterglow after cleaning is more than 30%

3: 세정 전과 비교하여 AC 잔상 변동율이 동일한 수준 (20% 변동율)3: Compared with before cleaning, the afterglow change rate at the same level (20% change rate)

4: 세정 후 AC 잔상 변동율 변화가 10% 이내의 수준4: Level of fluctuation of AC residual after cleaning is less than 10%

5: 세정 후 AC 잔상 변동율 변화가 5% 이내의 수준5: Level of fluctuation of AC residual after cleaning is less than 5%

Test SampleTest Sample 이방성 평가Anisotropic evaluation 막균일도Film uniformity Black levelBlack level AC 잔상AC afterimage 비교예1Comparative Example 1 1One 1One 1One 22 비교예2Comparative Example 2 22 22 1One 33 실시예1Example 1 33 33 33 44 실시예2Example 2 33 33 33 44 실시예3Example 3 44 33 33 55 실시예4Example 4 44 33 33 55 실시예5Example 5 55 33 22 55

표 1에서 보면, 비교예 1 및 2는 이방성, 막 균일도, 블랙 레벨, AC 잔상 변동율 결과가 본원에 비해 불량함을 확인할 수 있다.As can be seen from Table 1, in Comparative Examples 1 and 2, the results of anisotropy, film uniformity, black level and AC afterglow fluctuation ratio are inferior to the present invention.

그러나, 본 발명의 실시예 1 내지 5의 경우, 아미노에틸피페라진의 사용에 의해 전반적으로 이방성, 막 균일도, 블랙 레벨, AC 잔상 변동율 결과가 우수하고, 특히 AC 잔상 변동율의 효과가 향상되었다.However, in the case of Examples 1 to 5 of the present invention, the use of aminoethylpiperazine provided excellent anisotropy, film uniformity, black level and AC afterglow variation rate, and the effect of AC residual phase variation was particularly improved.

Claims (11)

25중량% 이상의 아미노에틸피페라진을 포함하며,
폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체를 포함하는 액정 배향막의 제조 공정에서, 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체에 대한 UV 배향 시 발생하는 불순물 및 불량 광배향막을 제거하는데 사용되는 액정 배향막 제거 조성물.
At least 25% by weight aminoethylpiperazine,
A liquid crystal alignment film removing composition used for removing impurities and poor photo alignment layers which are generated during UV alignment of polyimide or polyimide precursors in a process for producing a liquid crystal alignment film comprising a precursor of polyimide or polyimide.
제1항에 있어서, 상기 불순물은 240nm 컷트 필터(Cut filter), 240 내지 313nm 밴드 패스 필터(band path filter), 또는 Deep UV 공정을 사용하여 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체를 UV배향하는 단계에서 발생되는 액정 배향막 제거 조성물.
The method of claim 1, wherein the impurity is generated in a step of UV-aligning a precursor of polyimide or polyimide using a 240 nm cut filter, a 240 to 313 nm band path filter, or a Deep UV process Wherein the liquid crystal alignment film is a liquid crystal alignment film.
제1항에 있어서, 상기 폴리이미드 또는 폴리이미드의 불순물 및 불량 광배향막은 적어도 3분 이내에 기판으로부터 제거되는 액정 배향막 제거 조성물.
The liquid crystal alignment film removing composition according to claim 1, wherein the impurities of the polyimide or polyimide and the defective photo alignment layer are removed from the substrate within at least 3 minutes.
제1항에 있어서,
상기 제거용 조성물은 테트라메틸암모늄 하이드록사이드를 더 포함하는 액정 배향막 제거 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the removing composition further comprises tetramethylammonium hydroxide.
제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 액정 배향막 제거 조성물은
점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물, 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매, 및 물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상;을 더 포함하는, 액정 배향막 제거 조성물.
The liquid crystal alignment film removing composition according to claim 1 or 4,
An alkylene glycol compound having a viscosity of 10 cP or lower and a boiling point of at least 150 ° C, a polar solvent having a viscosity of 5 cP or lower and a boiling point of 100 ° C or higher, and water. Removal composition.
제5항에 있어서, 상기 액정 배향막 제거 조성물은
a) 아미노에틸피페라진 100 중량%;
b) 아미노에틸피페라진 70 내지 90 중량% 및 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 내지 30 중량%;
c) 아미노에틸피페라진 30 내지 90 중량%, 및 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물, 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매, 및 물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 성분 10 내지 70 중량%; 또는
d) 아미노에틸피페라진 30 내지 70 중량%, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 10 내지 20 중량%, 점도가 10 cP 이하이고 비점이 적어도 150℃ 이상인 알킬렌글리콜계 화합물, 점도가 5 cP 이하이고 비점이 적어도 100℃ 이상인 극성 용매, 및 물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상 10 내지 30 중량%;
를 포함하는 액정 배향막 제거 조성물.
6. The liquid crystal alignment film removing composition according to claim 5,
a) 100% by weight of aminoethylpiperazine;
b) from 70 to 90% by weight of aminoethylpiperazine and from 10 to 30% by weight of tetramethylammonium hydroxide;
c) an alkylene glycol compound having a viscosity of 10 cP or less and a boiling point of at least 150 ° C, a polar solvent having a viscosity of 5 cP or less and a boiling point of 100 ° C or more, and water From 10 to 70% by weight of at least one component selected from or
d) an alkylene glycol-based compound having 30 to 70% by weight of aminoethylpiperazine, 10 to 20% by weight of tetramethylammonium hydroxide, a viscosity of 10 cP or lower and a boiling point of at least 150 ° C, A polar solvent having a temperature of at least 100 캜, and water; and 10 to 30% by weight of at least one selected from the group consisting of water;
Wherein the liquid crystal alignment film removing composition is a liquid crystal alignment film.
제5항에 있어서, 상기 알킬렌글리콜계 화합물은 디에틸렌글라이콜 터부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 액정 배향막 제거 조성물.
6. The method of claim 5, wherein the alkylene glycol compound is selected from the group consisting of diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, Wherein the composition is at least one selected from the group consisting of dipropylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate.
제5항에 있어서, 상기 극성 용매는 에틸 락테이트, 부틸락테이트, 이소프로필 락테이트, 하이드록실 에시드 에스테르, N-메틸피롤리돈, N-에틸피롤리돈, N-메틸포름아마이드, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 디메틸설폭사이드, 디메틸아세트아마이드, 디메틸포름아마이드, 및 테트라메틸렌설폰으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 액정 배향막 제거 조성물.
6. The method of claim 5, wherein the polar solvent is selected from the group consisting of ethyl lactate, butyl lactate, isopropyl lactate, hydroxyl acid ester, N-methyl pyrrolidone, N-ethyl pyrrolidone, Wherein the composition is at least one selected from the group consisting of 3-dimethyl-2-imidazolidinone, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide, dimethylformamide, and tetramethylene sulfone.
제1항에 있어서, 상기 액정 배향막은
폴리이미드 및 폴리이미드의 전구체로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 중합체를 함유한 액정 배향제를 기판 상에 코팅하고 소성하여 폴리이미드막을 형성하는 단계; 및 상기 폴리이미드 막이 형성된 기판에 편광된 방사선을 조사하여 UV 배향 공정을 진행하는 단계;를 포함하는 방법으로 얻어지는, 액정 배향막 제거 조성물.
The liquid crystal display according to claim 1, wherein the liquid crystal alignment layer
Coating and laminating a liquid crystal aligning agent containing at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and polyimide precursors on a substrate to form a polyimide film; And irradiating the substrate on which the polyimide film is formed with polarized radiation to perform a UV alignment process.
제9항에 있어서, 상기 폴리이미드 전구체는 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위 및 하기 화학식 2의 반복단위를 포함하는 액정 배향막 제거 조성물.
[화학식 1]
Figure pat00015

[화학식 2]
Figure pat00016

(상기 화학식 1 및 2에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 탄소수 4 내지 20의 탄화수소에서 유래한 4가의 유기기이거나, 혹은 상기 4가의 유기기 중 하나 이상의 H가 할로겐으로 치환되거나 또는 하나 이상의 -CH2-가 산소 원자들이 직접 연결되지 않도록 -O-, -S-, -CO- 또는 -SO-로 대체된 4가의 유기기이고,
R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고,
R5 내지 R7은 각각 독립적으로 할로겐, 시아노기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 알콕시기 또는 플루오로알킬기이고,
L1은 -O-, -O-CH2-O-, -O-CH2CH2-O- 또는 -O-CH2CH2CH2-O-이고,
p, q 및 r은 각각 독립적으로 0 내지 4 사이의 정수이고,
n은 1 또는 2의 정수이다.)
The composition according to claim 9, wherein the polyimide precursor comprises a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2).
[Chemical Formula 1]
Figure pat00015

(2)
Figure pat00016

(In the above formulas (1) and (2)
X 1 and X 2 are each independently a tetravalent organic group derived from a hydrocarbon having 4 to 20 carbon atoms or at least one of the tetravalent organic groups is substituted with halogen or one or more -CH 2 - Is a tetravalent organic group substituted with -O-, -S-, -CO- or -SO- so as not to be directly connected,
R 1 to R 4 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
R 5 to R 7 are each independently a halogen, a cyano group, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group or a fluoroalkyl group,
L 1 is -O-, -O-CH 2 -O-, -O-CH 2 CH 2 -O- or -O-CH 2 CH 2 CH 2 -O-,
p, q and r are each independently an integer of 0 to 4,
and n is an integer of 1 or 2.)
제1항의 액정 배향막 제거 조성물로 폴리이미드 또는 폴리이미드의 전구체의 UV 배향시 발생하는 불순물 또는 불량 광배향막을 제거하는 단계를 포함하는, 액정 배향막의 부산물 제거 방법.A method for removing a by-product of a liquid crystal alignment film, comprising the step of removing an impurity or a defective photo alignment layer that occurs upon UV alignment of a polyimide or polyimide precursor with the liquid crystal alignment film removing composition of claim 1.
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