KR20190082514A - Pressure sensitive adhsive composition - Google Patents

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KR20190082514A KR1020180000203A KR20180000203A KR20190082514A KR 20190082514 A KR20190082514 A KR 20190082514A KR 1020180000203 A KR1020180000203 A KR 1020180000203A KR 20180000203 A KR20180000203 A KR 20180000203A KR 20190082514 A KR20190082514 A KR 20190082514A
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Abstract

The present invention relates to an adhesive composition. A protective film comprising the composition is that the balance of low speed peeling force and high speed peeling force is excellent, and antistatic properties are improved. In addition, the composition provides excellent stain resistance and compression resistance to the protective film. The adhesive composition comprises: a block copolymer including a first block and a second block; and a cross-linking agent.

Description

점착제 조성물{PRESSURE SENSITIVE ADHSIVE COMPOSITION}[0001] PRESSURE SENSITIVE ADHSIVE COMPOSITION [0002]

본 출원은, 점착제 조성물 및 이를 포함하는 보호 필름에 관한 것이다.The present application relates to a pressure-sensitive adhesive composition and a protective film containing the pressure-sensitive adhesive composition.

보호 필름은 편광판과 같은 광학 소자, 가전 제품 또는 기타 플라스틱 부품 등에 먼지와 같은 이물이 부착되는 것을 방지하기 위하여, 또는 이들 표면이 손상되는 것을 방지하기 위하여 사용될 수 있다. 피착제로부터 제거되는 경우를 고려하여, 이러한 보호필름에는 적절한 박리력이나 대전방지 특성이 요구된다.The protective film can be used to prevent foreign matter such as dust from adhering to optical elements such as polarizing plates, household appliances or other plastic parts, or to prevent these surfaces from being damaged. Considering the case where the protective film is removed from the adherend, such a protective film is required to have an appropriate peeling force and antistatic property.

예를 들어, 제품의 사용이나 다른 제품의 조립을 위하여 보호 필름을 빠른 속도로 박리할 때에는, 보호필름의 박리력(이하, 「고속 박리력」이라 칭한다.)이 상대적으로 낮을 것이 요구된다. 반면, 느린 속도로 박리할 때의 박리력(이하, 「저속 박리력」이라 칭한다.)은 상대적으로 높아야, 피착제에 대한 적절한 보호가 이루어질 수 있다.For example, when a protective film is peeled at a high speed for use of a product or for assembling another product, it is required that the peeling force of the protective film (hereinafter, referred to as "high peeling force") be relatively low. On the other hand, the peeling force (hereinafter referred to as " low-speed peeling force ") at the time of peeling at a slow rate must be relatively high so that adequate protection against the peeling agent can be achieved.

또한, 주로 보호 필름의 박리 시에 발생하는 정전기에 의하여 먼지 등의 이물이 흡입되는 경우에는, 피착 부품의 정전 파괴 또는 오작동 등이 유발될 수 있다. 상기와 같은 정전기 문제는, 컴퓨터나 액정 TV 또는 휴대용 모바일 기기와 같이, 그 부속품이 집적화된 전자제품에 있어 더욱 부각된다.In addition, when foreign matter such as dust is sucked mainly by static electricity generated at the time of peeling off the protective film, electrostatic destruction or malfunction of the adhered parts may be caused. Such a static electricity problem becomes more prominent in electronic products in which the accessories are integrated, such as a computer, a liquid crystal TV, or a portable mobile device.

나아가, 피착제를 보호하는 보호필름 본연의 기능을 충실히 수행하기 위해서는, 보호필름이 부착되어 있는 동안 피착제에 가해질 수 있는 외력 또는 외압에 대한 저항성도 우수해야 한다.Furthermore, in order to faithfully carry out the function of the protective film for protecting the adherend, it is necessary to exert an excellent resistance against external force or external pressure which can be applied to the adherend while the protective film is attached.

본 출원의 일 목적은 내오염성, 내눌림성, 정전기 방지 특성이 우수하고, 적절한 저속 박리력과 고속 박리력을 제공할 수 있는 보호필름용 점착제 조성물을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive composition for a protective film which is excellent in stain resistance, pressure resistance and anti-static property, and which can provide an appropriate low-speed peeling force and high-speed peeling force.

본 출원의 상기 목적 및 기타 그 밖의 목적은 하기 상세히 설명되는 본 출원에 의해 모두 해결될 수 있다.The above and other objects of the present application can be all solved by the present application, which is described in detail below.

본 출원에 관한 일례에서, 본 출원은 점착제 조성물에 관한 것이다. 상기 점착제 조성물은 가교성 블록 공중합체 및 가교제를 포함할 수 있다. 본 출원에서 용어 「블록 공중합체」는, 서로 상이한 단량체들로부터 중합되고, 유리전이온도가 서로 상이한 블록을 2 이상 포함하는 공중합체를 지칭할 수 있다.In one example of the present application, the present application relates to a pressure-sensitive adhesive composition. The pressure-sensitive adhesive composition may include a cross-linkable block copolymer and a cross-linking agent. The term " block copolymer " in the present application may refer to a copolymer that is polymerized from mutually different monomers and contains two or more blocks having different glass transition temperatures from each other.

상기 블록 공중합체는, 유리전이온도가 30 ℃ 이상인 제1 블록 및 유리전이온도가 -10 ℃ 이하인 제2 블록을 포함할 수 있다. 본 출원에서, 블록 공중합체를 구성하는 「블록의 유리전이온도」는, 하기 실시예에서 설명되는 방법에 따라 산출되는 유리전이온도를 의미할 수 있다.The block copolymer may include a first block having a glass transition temperature of 30 ° C or higher and a second block having a glass transition temperature of -10 ° C or lower. In the present application, the "glass transition temperature of the block" constituting the block copolymer may mean the glass transition temperature calculated according to the method described in the following examples.

하나의 예시에서, 상기 제1 블록의 유리전이온도는 30 ℃ 이상, 40 ℃ 이상, 50 ℃ 이상, 60 ℃ 이상, 70 ℃ 이상, 75 ℃ 이상 또는 80 ℃ 이상 일 수 있다. 상기 제1 블록 유리전이온도의 상한은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들면, 150 ℃ 이하, 140 ℃ 이하, 130 ℃ 이하, 120 ℃ 이하 또는 110 ℃ 이하일 수 있다. 유리전이온도가 상대적으로 높은 제 1 블록은, 블록 공중합체에서 상대적으로 딱딱한(rigid) 특성을 갖는 하드 세그먼트를 형성할 수 있다. 상기 제 1 블록은 상온에서 유리(glass)상으로 존재할 수 있으며, 블록 공중합체를 포함하는 점착제에 응집력을 부여할 수 있다.In one example, the glass transition temperature of the first block may be at least 30 占 폚, at least 40 占 폚, at least 50 占 폚, at least 60 占 폚, at least 70 占 폚, at least 75 占 폚, or at least 80 占 폚. The upper limit of the first block glass transition temperature is not particularly limited, but may be, for example, 150 ° C or lower, 140 ° C or lower, 130 ° C or lower, 120 ° C or 110 ° C or lower. The first block having a relatively high glass transition temperature can form a hard segment having a relatively rigid property in the block copolymer. The first block may be in the form of glass at room temperature and may impart cohesive force to the pressure sensitive adhesive containing the block copolymer.

하나의 예시에서, 상기 제2 블록의 유리전이온도는 -10 ℃ 이하, -20 ℃ 이하, -30 ℃ 이하, 또는 -35 ℃ 이하일 수 있다. 상기 제2 블록 유리전이온도의 하한은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들면, -80 ℃ 이상, -70 ℃ 이상, 또는 -60 ℃ 이상일 수 있다. 상대적으로 유리전이온도가 낮은 제 2 블록은 블록 공중합체에서 상대적으로 부드러운(soft) 특성을 갖는 소프트 세그먼트를 형성할 수 있다. 상기 제 2 블록은 상온에서 분자 흐름성을 가질 수 있으며, 상기 블록 공중합체를 포함하는 점착제에 응력 완화성을 부여할 수 있다.In one example, the glass transition temperature of the second block may be below -10 占 폚, below -20 占 폚, below -30 占 폚, or below -35 占 폚. The lower limit of the second block glass transition temperature is not particularly limited, but may be, for example, -80 占 폚 or higher, -70 占 폚 or higher, or -60 占 폚 or higher. The second block having a relatively low glass transition temperature can form a soft segment having a relatively soft characteristic in the block copolymer. The second block may have molecular flow properties at room temperature, and stress relaxation property may be imparted to the pressure sensitive adhesive containing the block copolymer.

상기 설명된 유리전이 온도 범위를 만족하는 제1 및 제2 블록 모두를 포함하는 공중합체는, 점착제 내에서 미세한 상분리 구조를 형성할 수 있다. 상기 블록 공중합체는 온도 변화에 따라서 적절한 응집력과 응력 완화성을 나타내기 때문에, 보호필름에 사용될 경우 보호필름과 관련된 제반물성이 우수하게 구현될 수 있다.The copolymer including both of the first and second blocks satisfying the above-described glass transition temperature range can form a fine phase separation structure in the pressure sensitive adhesive. Since the block copolymer exhibits appropriate cohesive force and stress relaxation property according to a change in temperature, it can be realized excellent physical properties related to a protective film when used in a protective film.

하나의 예시에서, 상기 블록 공중합체는, 제1 블록 및 제2 블록을 포함하는 디블록 공중합체 또는 트리블록 공중합체일 수 있다.In one example, the block copolymer may be a diblock copolymer or a triblock copolymer comprising a first block and a second block.

하나의 예시에서, 상기 블록 공중합체는 가교성 관능기를 갖는 가교성 공중합체일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제 1 블록 및/또는 제 2 블록은, 가교성 관능기를 갖는 공중합성 화합물 유래의 중합 단위를 포함할 수 있다.In one example, the block copolymer may be a crosslinkable copolymer having a crosslinkable functional group. More specifically, the first block and / or the second block may comprise a polymerization unit derived from a copolymerizable compound having a crosslinkable functional group.

상기 가교성 관능기로는, 예를 들어, 히드록시기, 카복실기, 에폭시기, 또는 이소시아네이트기를 예로 들 수 있다. 이와 같은 가교성 관능기를 제1 블록 및/또는 제 2 블록에 제공할 수 있다면, 가교성 관능기를 갖는 가교성 공중합체의 구체적인 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 히드록시 알킬 (메타)아크릴레이트 또는 히드록시 알킬렌글리콜 (메타)아크릴레이트 등과 같은 히드록시기 함유 단량체; 또는 (메타)아크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시 아세트산, 3-(메타)아크릴로일옥시 프로필산, 4-(메타)아크릴로일옥시 부틸산, 아크릴산 이중체, 이타콘산, 말레산 및 말레산 무수물 등의 카복실기 함유 단량체; 등이 단독으로 또는 2종 이상 혼합되어 사용될 수 있다. 상기 가교성 관능기를 갖는 가교성 공중합체는 하기 설명되는 가교제와 반응하여, 점착제에 가교구조를 형성할 수 있다.Examples of the crosslinkable functional group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, and an isocyanate group. As long as such a crosslinkable functional group can be provided in the first block and / or the second block, the specific kind of the crosslinkable copolymer having a crosslinkable functional group is not particularly limited. For example, hydroxyl group-containing monomers such as hydroxyalkyl (meth) acrylate or hydroxyalkylene glycol (meth) acrylate and the like; (Meth) acryloyloxypropionic acid, 4- (meth) acryloyloxybutyric acid, acrylic acid double, itaconic acid, maleic acid (meth) acrylate, And carboxyl group-containing monomers such as maleic anhydride; May be used singly or in combination of two or more. The crosslinkable copolymer having a crosslinkable functional group can react with a crosslinking agent described below to form a crosslinked structure in the pressure-sensitive adhesive.

상기 제1 블록은 양쪽성 이온 관능기를 포함할 수 있다. 본 출원에서 양쪽성 이온 관능기가 제1 블록에 포함된다는 것은, 양이온성 관능기 및 음이온성 관능기 모두를 포함하는 소정의 화합물이 제1 블록 형성을 위한 중합반응에 참여하고, 그에 따라 양이온성 관능기 및/또는 음이온성 관능기가 제1 블록의 어느 측쇄 또는 주쇄에 도입되어 있는 것을 의미할 수 있다. The first block may contain an amphoteric ionic functional group. The inclusion of an amphoteric ionic functional group in the first block in the present application means that any compound containing both a cationic functional group and an anionic functional group participates in a polymerization reaction for the formation of the first block so that the cationic functional group and / Or an anionic functional group is introduced into either side chain or main chain of the first block.

이와 관련하여, 상기 제1 블록은 (메타)아크릴산 에스테르 유래의 중합단위, 및 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물 유래의 중합단위를 포함할 수 있다. 본 출원에서, 「중합단위」란, 하나 인상인 소정의 단량체가 중합되어 형성된 수지, 중합체 또는 중합 반응물의 주쇄나 측쇄 등에 상기 소정의 단량체가 중합되어 포함되어 있는 상태를 의미할 수 있다.In this connection, the first block may contain a polymerization unit derived from a (meth) acrylic acid ester and a polymerization unit derived from a polymerizable compound having an amphoteric functional group. In the present application, the term " polymerization unit " may mean a state in which the above-mentioned predetermined monomer is polymerized in the main chain or side chain of the resin, polymer or polymerization reaction product formed by polymerization of a predetermined monomer as a single impression.

하나의 예시에서, 상기 제 1 블록 형성에 사용되는 (메타)아크릴산 에스테르로는, 예를 들어, 알킬 (메타) 아크릴레이트가 사용될 수 있다. 응집력, 유리전이온도 및 점착성 조절 등을 고려하여, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트가 사용될 수 있다. 상기 알킬기는 직쇄형, 분지쇄형 또는 고리형일 수 있다. 이러한 단량체의 예로는 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, n-프로필 (메타)아크릴레이트, 이소프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, sec-부틸 (메타)아크릴레이트, 펜틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-에틸부틸 (메타)아크릴레이트, n-옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소보르닐 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소노닐 (메타)아크릴레이트 및 라우릴 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이들 중 하나 이상의 단량체가 제1 블록 형성시 사용될 수 있다. 특별히 제한되지는 않으나, 상대적으로 높은 제1 블록의 유리전이온도를 고려하여, 알킬 메타크릴레이트가 사용되는 것이 바람직하다. 이 경우, 보호필름의 점착제층에 포함된 제1 블록을 통해 보호필름의 표면 보호 기재에 대한 부착력을 확보하는데 유리할 수 있다. In one example, as the (meth) acrylic acid ester used in forming the first block, for example, alkyl (meth) acrylate may be used. An alkyl (meth) acrylate having an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms, 1 to 16 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms or 1 to 4 carbon atoms may be used in consideration of cohesion, glass transition temperature and tackiness have. The alkyl group may be linear, branched or cyclic. Examples of such monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, pentyl (Meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate and lauryl (meth) acrylate. One or more of these monomers may be used in the first block formation have. Although not particularly limited, it is preferable to use alkyl methacrylate in consideration of the relatively high glass transition temperature of the first block. In this case, it may be advantageous to secure the adhesive force of the protective film to the surface protective substrate through the first block included in the adhesive layer of the protective film.

하나의 예시에서, 상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물은, 탄소간 불포화 이중결합을 가질 수 있다. 상기 탄소간 불포화 이중결합을 통해, 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물이 (메타)아크릴산 에스테르 단량체와 함께 중합될 수 있고, 그 결과 양쪽성 이온 관능기를 포함하는 제1 블록이 제공될 수 있다. 예를 들어서, 상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물은, (메타)아크릴로일기 또는 비닐기를 포함할 수 있고, 상기 (메타)아크릴로일기에는 탄소, 산소, 황 또는 질소 등이 연결될 수 있다. 블록 공중합체 제조를 위한 원활한 반응을 고려하면, 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물이 비닐기를 포함하는 경우가 더 바람직할 수 있다.In one example, the polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group may have a carbon-carbon unsaturated double bond. Through the carbon-carbon unsaturated double bond, the polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group can be polymerized together with the (meth) acrylic acid ester monomer, so that a first block containing an amphoteric functional group can be provided. For example, the polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group may include a (meth) acryloyl group or a vinyl group, and the (meth) acryloyl group may be connected with carbon, oxygen, sulfur, nitrogen or the like . In consideration of a smooth reaction for preparing a block copolymer, it may be more preferable that the polymerizable compound having an amphoteric functional group includes a vinyl group.

상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물은 양이온성 관능기 및 음이온성 관능기를 모두 포함할 수 있다.The polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group may include both a cationic functional group and an anionic functional group.

상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물이 갖는 양이온성 관능기의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 피리디늄 양이온, 피페리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 피롤린 골격을 갖는 양이온, 피롤 골격을 갖는 양이온, 이미다졸륨 양이온, 테트라히드로피리미디늄 양이온, 디히드로피리미디늄 양이온, 피라졸륨 양이온, 피라졸리늄 양이온, 테트라알킬암모늄 양이온, 트리알킬술포늄 양이온, 또는 테트라알킬포스포늄 양이온이 등이 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물에 포함되는 양이온성 관능기일 수 있다. 상기 제1 블록은, 상기 나열된 양이온 중 하나 이상을 포함하도록 구성될 수 있다.The kind of the cationic functional group of the polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group is not particularly limited. For example, there can be mentioned a pyridinium cation, a piperidinium cation, a pyrrolidinium cation, a cation having a pyrrolene skeleton, a cation having a pyrrole skeleton, an imidazolium cation, a tetrahydropyrimidinium cation, a dihydropyrimidinium cation, A pyrazolium cation, a pyrazolinium cation, a tetraalkylammonium cation, a trialkylsulfonium cation, or a tetraalkylphosphonium cation or the like may be a cationic functional group contained in a polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group. The first block may be configured to include one or more of the listed cations.

상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물이 갖는 음이온성 관능기의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, F-, Cl-, Br-, I-, NO3 -, (CN)2N-, BF4 -, ClO4 -, OH-, CO3 2-, NO3 -, CF3SO3 -, SO4-, PF6 -, (CF3)2PF4 -, (CF3)3PF3 -, (CF3)4PF2 -, (CF3)5PF-, CH3(C6H4)SO3 -, CF3SO3 -, CF3SO2 -, CF3COO-, C3F7COO-, CF3SO3 -, C4F9SO3 -, (CF3SO3)2N-, CF3SO2)2N-, RSO3 - (여기서, R은 탄소수 1-9의 알킬기 또는 페닐기), RCOO- (여기서, R은 탄소수 1-9의 알킬기 또는 페닐기), (CF3)6P-, (CF2CF2SO3 -)2, (C2F5SO2)2N-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, CF3CF2(CF3)2CO-, (CF3SO2)2CH-, (SF5)3C-, (CF3SO2)3C-, CF3(CF2)7SO3 -, C6H5COO-, CH3COO-, B(C6H5)4-, 또는 P(C2F5)3F3 - 등이 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물에 포함되는 음이온성 관능기일 수 있다. 상기 제1 블록은, 상기 나열된 음이온 중 하나 이상을 포함하도록 구성될 수 있다.The kind of the anionic functional group of the polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group is not particularly limited. For example, F -, Cl -, Br -, I -, NO 3 -, (CN) 2 N -, BF 4 -, ClO 4 -, OH -, CO 3 2-, NO 3 -, CF 3 SO 3 -, SO 4-, PF 6 -, (CF 3) 2 PF 4 -, (CF 3) 3 PF 3 -, (CF 3) 4 PF 2 -, (CF 3) 5 PF -, CH 3 (C 6 H 4) SO 3 -, CF 3 SO 3 -, CF 3 SO 2 -, CF 3 COO -, C 3 F 7 COO -, CF 3 SO 3 -, C 4 F 9 SO 3 -, (CF 3 SO 3 ) 2 N - , CF 3 SO 2 ) 2 N - , RSO 3 - (wherein R is an alkyl group having 1-9 carbon atoms or a phenyl group), RCOO - (CF 3) 6 P -, (CF 2 CF 2 SO 3 -) 2, (C 2 F 5 SO 2) 2 N -, (CF 3 SO 2) (CF 3 CO) N -, CF 3 CF 2 ( CF 3) 2 CO -, ( CF 3 SO 2) 2 CH -, (SF 5) 3 C -, (CF 3 SO 2) 3 C -, CF 3 (CF 2) 7 SO 3 -, C 6 H 5 COO -, CH 3 COO -, B (C 6 H 5) 4-, or P (C 2 F 5) 3 F 3 - and the like may be anionic functional group contained in the polymerizable compound having a functional group zwitterions . The first block may be configured to include one or more of the listed anions.

상기와 같은 관능기, 즉 탄소간 불포화 이중결합, 양이온성 관능기 및 음이온성 관능기를 포함한다면, 상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물 내에서 양이성 관능기 또는 음이온성 관능기와 직접 또는 간접적으로 결합되어 있는 다른 관능기나 원소의 종류는 특별히 제한되지 않는다.If it contains the above-mentioned functional groups, i.e., a carbon-carbon unsaturated double bond, a cationic functional group and an anionic functional group, it is preferable that the functional group is directly or indirectly bonded to the amphoteric functional group or the anionic functional group in the polymerizable compound having the amphoteric functional group The kind of the other functional group or element is not particularly limited.

하나의 예시에서, 상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물은 하기 화학식 1 및 2 중 어느 하나로 표시되는 화합물일 수 있다. 하기 화학식 1 및 2에서 X+는 상기나열된 양이온성 관능기 중 어느 하나이고, Y-는 상기 나열된 음이온성 관능기 중 어느 하나이다.In one example, the polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group may be a compound represented by any one of the following general formulas (1) and (2). In the general formulas (1) and (2), X + is any one of the listed cationic functional groups, and Y - is any of the anionic functional groups listed above.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에서, R1은 수소 또는 알킬기이고, R2는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이다.In the above formula (1), R 1 is hydrogen or an alkyl group, and R 2 is an alkylene group or an alkylidene group.

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 2에서, R3는 수소 또는 알킬기이고, A는 방향족 2가 라디칼이고, L은 단일결합, 알킬렌기 또는 알킬리덴기이다.In Formula 2, R 3 is hydrogen or an alkyl group, A is an aromatic divalent radical, and L is a single bond, an alkylene group or an alkylidene group.

본 출원에서 용어 알킬기는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄상, 분지쇄상 또는 고리상의 알킬기를 의미할 수 있고, 상기 알킬기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환되어 있을 수 있다.The term alkyl group in the present application means a straight, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 16 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms or 1 to 4 carbon atoms, unless otherwise specified And the alkyl group may be optionally substituted by one or more substituents.

본 출원에서 용어 알킬렌기 또는 알킬리덴기는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄상, 분지쇄상 또는 고리상의 알킬렌기 또는 알킬리덴기를 의미할 수 있다. 상기 알킬렌기 또는 알킬리덴기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환되어 있을 수 있다.Unless otherwise specified, the alkylene group or alkylidene group in the present application is a straight, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 16 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms, ≪ / RTI > or an alkylidene group. The alkylene or alkylidene group may be optionally substituted by one or more substituents.

상기 알킬기 등에 임의적으로 치환되어 있을 수 있는 치환기로는, 염소 또는 불소 등의 할로겐, 할로알킬기, 글리시딜기, 글리시딜알킬기, 글리시독시알킬기 또는 지환식 에폭시기 등의 에폭시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 티올기, 알킬기, 알콕시기 또는 아릴기 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Examples of the substituent which may optionally be substituted in the alkyl group and the like include an epoxy group such as a halogen such as chlorine or fluorine, a haloalkyl group, a glycidyl group, a glycidyl alkyl group, a glycidoxyalkyl group or an alicyclic epoxy group, An isocyanate group, a thiol group, an alkyl group, an alkoxy group or an aryl group, but the present invention is not limited thereto.

상기 화학식 2와 관련하여, 방향족 2가 라디칼은 특별히 달리 규정하지 않는 한, 벤젠, 벤젠을 포함하는 화합물 또는 상기 중 어느 하나의 유도체로부터 유래된 2가 잔기를 의미할 수 있다. 상기에서 벤젠을 포함하는 화합물로는, 2개 이상의 벤젠 고리가 2개의 탄소 원자를 공유하면서 축합되거나, 적절한 링커에 의해 연결되어 있는 구조를 가지는 화합물을 의미할 수 있다. 방향족 2가 라디칼은, 예를 들면, 6개 내지 25개, 6개 내지 20개, 6개 내지 15개 또는 6개 내지 12개의 탄소 원자를 포함할 수 있다. 바람직한 예시에서, 화학식 2의 A는 아릴렌기일 수 있다.In connection with the above formula (2), an aromatic divalent radical may mean a divalent moiety derived from a compound containing benzene, benzene or any one of the above unless otherwise specified. The benzene-containing compound as described above may mean a compound having two or more benzene rings which are condensed while sharing two carbon atoms or are linked by an appropriate linker. An aromatic divalent radical may comprise, for example, 6 to 25, 6 to 20, 6 to 15 or 6 to 12 carbon atoms. In a preferred example, A in formula (2) may be an arylene group.

또한, 상기 화학식 2와 관련하여, L은 단일결합, 알킬렌기 또는 알킬리덴기이다. L이 단일결합이라고 하는 것은, 해당 부위에 원자가 존재하지 않는 경우를 의미한다. 예를 들어, 화학식 2에서 방향족 2가 라디칼인 A는 양이온성 관능기 또는 음이온성 관능기와 직접 연결되어 있을 수 있다.Further, in relation to Formula 2, L is a single bond, an alkylene group or an alkylidene group. When L is a single bond, it means that there is no atom at the site. For example, A, an aromatic divalent radical in formula (2), may be directly connected to a cationic functional group or an anionic functional group.

특별히 제한되지는 않으나, 예를 들어, 상기 화학식 1의 화합물 중 하나는 [2-(메타아크릴로일옥시)에틸]트리메틸암모늄 비스(트리플루오로메틸-설포닐)이미드일 수 있고, 화학식 2의 화합물 중 하나는 3-부틸-1-(4-비닐벤질)이미다졸륨 비스(트리플루오로메틸-설포닐)이미드일 수 있다.For example, one of the compounds of Formula 1 may be [2- (methacryloyloxy) ethyl] trimethylammonium bis (trifluoromethyl-sulfonyl) imide, One of the compounds may be 3-butyl-1- (4-vinylbenzyl) imidazolium bis (trifluoromethyl-sulfonyl) imide.

상기와 같이, 양쪽성 이온관능기가 제1 블록에 직접 도입되는 경우, 양쪽성 이온 관능기가 블록 공중합체 내에서 고르게 분포할 수 있고, 그에 따라 대전방지 기능을 개선할 수 있다.As described above, when the amphoteric ionic functional group is directly introduced into the first block, the amphoteric ionic functional groups can be uniformly distributed in the block copolymer, thereby improving the antistatic function.

하나의 예시에서, 상기와 같이 제1 블록이 그 블록 내에 양쪽성 이온 관능기를 포함하는 경우, 제2 블록은 상기와 같은 양쪽성 이온 관능기를 포함하지 않도록 구성될 수 있다. 유리전이온도가 상대적으로 높은 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물이 제2 블록 형성에 사용될 경우, 점착 특성이 저해될 수 있다.In one example, if the first block comprises an amphoteric ionic functionality in its block, the second block may be constructed so as not to include such an amphoteric ionic functionality. When a polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group having a relatively high glass transition temperature is used in the second block formation, the adhesion property may be inhibited.

하나의 예시에서, 상기 제1 블록은 (메타)아크릴산 에스테르 유래의 중합단위 80 내지 99.9 중량부, 및 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물 유래의 중합단위 0.01 내지 20 중량부를 포함할 수 있다. 상기 함량 범위를 만족하는 경우, 단량체간 적절한 반응성을 확보하고, 제1 블록에 대하여 적절한 유리전이온도를 부여할 수 있다.In one example, the first block may include 80 to 99.9 parts by weight of polymer units derived from (meth) acrylic acid ester and 0.01 to 20 parts by weight of polymerized units derived from a polymerizable compound having an amphoteric functional group. When the content range is satisfied, appropriate reactivity between the monomers can be ensured and an appropriate glass transition temperature can be given to the first block.

상기 제2 블록은 가교성 관능기를 포함한다. 가교성 관능기로는, 상기 설명된 것처럼, 히드록시기, 카복실기, 에폭시기, 또는 이소시아네이트기가 사용될 수 있다. The second block includes a crosslinkable functional group. As the crosslinkable functional group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, or an isocyanate group may be used, as described above.

이와 관련하여, 상기 제2 블록은 (메타)아크릴산 에스테르 유래의 중합단, 및 가교성 관능기를 갖는 공중합성 단량체 유래의 중합단위를 포함할 수 있다.In this regard, the second block may contain a polymerization unit derived from (meth) acrylic acid ester and a polymerization unit derived from a copolymerizable monomer having a crosslinkable functional group.

상기 범위의 유리전이온도를 만족할 수 있다면, 제2 블록 형성에 사용될 수 있는 (메타)아크릴산 에스테르의 단량체의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 제1 블록에서 설명된 단량체가 제2 블록 형성시에도 사용될 수 있다. 제2 블록의 유리전이온도를 고려할 때, 알킬 아크릴레이트가 사용되는 것이 바람직하다. 이 경우, 상기 블록 공중합체를 포함하는 점착층이 소정의 점착능을 발휘할 수 있게 하는데 유리하다.If the glass transition temperature in the above range can be satisfied, the kind of the (meth) acrylic acid ester monomer that can be used for forming the second block is not particularly limited. For example, the monomers described in the first block may also be used in forming the second block. Considering the glass transition temperature of the second block, alkyl acrylate is preferably used. In this case, it is advantageous that the adhesive layer containing the block copolymer can exhibit a predetermined adhesive property.

하나의 예시에서, 상기 제2 블록은 (메타)아크릴산 에스테르 유래의 중합단위 80 내지 99.9 중량부, 및 가교성 관능기를 갖는 공중합성 단량체 유래의 중합단위 0.1 내지 20 중량부를 포함할 수 있다. In one example, the second block may contain 80 to 99.9 parts by weight of a polymerization unit derived from (meth) acrylic acid ester and 0.1 to 20 parts by weight of a polymerization unit derived from a copolymerizable monomer having a crosslinkable functional group.

상기 가교성 관능기를 갖는 공중합성 단량체는, 예를 들어, 히드록시기, 카복실기, 에폭시기, 또는 이소시아네이트기를 포함할 수 있으며, 상기 관능기를 포함하는 경우에는 그 구체적인 화합물의 종류는 특별히 제한되지 않는다.The copolymerizable monomer having a crosslinkable functional group may include, for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, or an isocyanate group. When the functional monomer includes the functional group, the type of the specific compound is not particularly limited.

하나의 예시에서, 상기 가교성 관능기를 갖는 공중합성 단량체는 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물일 수 있다.In one example, the copolymerizable monomer having a crosslinkable functional group may be a compound represented by the following general formula (3).

[화학식 3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

단, 상기 화학식 3에서, R4는 수소 또는 알킬기이고, Q1 및 Q2는 각각 독립적으로 알킬렌기 또는 알킬리덴기이고, n은 0 내지 10 범위 내의 정수이다. 또한, 화학식 3에서 [-O-Q2-] 단위가 2개 이상 존재하는 경우, 각 [-O-Q2-] 단위 내의 Q2의 탄소수는 동일하거나 상이할 수 있다.In Formula 3, R 4 is hydrogen or an alkyl group, Q 1 and Q 2 are each independently an alkylene group or an alkylidene group, and n is an integer within a range of 0 to 10. When two or more [-OQ 2 -] units are present in the general formula (3), the carbon numbers of Q 2 in each [-OQ 2 -] unit may be the same or different.

상기 화학식 3의 화합물의 일례로는 히드록시알킬 아크릴레이트 또는 히드록시알킬렌글리콜아크릴레이트 일 수 있다. 보다 구체적으로, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메타)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트 또는 2-히드록시프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트 등이 예시될 수 있으나, 상기 나열된 화합물들에 특별히 제한되는 것은 아니다. An example of the compound of formula (3) may be hydroxyalkyl acrylate or hydroxyalkylene glycol acrylate. More specifically, it is preferable to use 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyleneglycol (meth) acrylate or 2-hydroxypropyleneglycol (meth) acrylate are exemplified, but the compounds listed above are not particularly limited.

상기와 같은 가교성 관능기를 제 2 블록에 포함시키면 온도 변화에 따라서 적절한 응집력과 응력 완화성을 나타낼 수 있고, 계면 밀착성 및 내눌림성이 우수한 점착제를 형성할 수 있다.When such a crosslinkable functional group is included in the second block, an appropriate pressure-sensitive adhesive exhibiting excellent cohesive strength and stress relaxation property in accordance with a change in temperature and excellent in interfacial adhesion and padding resistance can be formed.

하나의 예시에서, 상기 가교성 관능기는, 제 1 블록에는 포함되지 않고 제 2 블록에만 포함될 수 있다. 제1 블록 및 제2 블록 모두에 가교성 관능기를 포함할 경우 제1 블록 및 제2 블록 모두에 하드한 성질이 부여되어 점착제의 점착성이 저하될 수 있다.In one example, the crosslinkable functional group may be included only in the second block, not included in the first block. When both the first block and the second block include a crosslinkable functional group, hard properties are imparted to both the first block and the second block, so that the tackiness of the pressure-sensitive adhesive may be deteriorated.

하나의 예시에서, 상기 제2 블록은 가교성 관능기 및 방향족기를 동시에 포함할 수 있다. 이와 관련하여, 상기 제2 블록은 방향족기를 갖는 공중합성 단량체 유래의 중합단위를 더 포함할 수 있다. 방향족기를 갖는 공중합성 단량체, 즉, 제 2 블록에 방향족기를 제공할 수 있는 화합물은, 예를 들어, 탄소간 불포화 이중결합을 갖는 관능기 및 방향족기를 갖는 화합물일 수 있다. 탄소간 불포화 이중결합을 갖는 관능기는, 예를 들어, 비닐기 또는 (메타)아크릴로일기일 수 있다. 이때, 상기 (메타)아크릴로일기에는 탄소, 산소, 황 또는 질소 등이 연결될 수 있다.In one example, the second block may simultaneously contain a crosslinkable functional group and an aromatic group. In this regard, the second block may further comprise a polymerization unit derived from a copolymerizable monomer having an aromatic group. The copolymerizable monomer having an aromatic group, that is, the compound capable of providing an aromatic group in the second block may be, for example, a compound having an aromatic group and a functional group having a carbon-carbon unsaturated double bond. The functional group having a carbon-carbon unsaturated double bond may be, for example, a vinyl group or a (meth) acryloyl group. At this time, carbon, oxygen, sulfur, nitrogen or the like may be connected to the (meth) acryloyl group.

제2 블록에 방향족기를 도입할 수 있는 방향족기를 갖는 공중합성 단량체의 종류는, 예를 들어, 스티렌(styrene)이나 하기 화학식 4에 해당하는 화합물일 수 있다.The type of the copolymerizable monomer having an aromatic group capable of introducing an aromatic group into the second block may be, for example, styrene or a compound corresponding to the following formula (4).

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 화학식 4에서, R5는 수소 또는 알킬기이고, R6는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이고 m은 0 내지 5 사이의 정수이고, L2는 단일결합, 산소 원자 또는 황 원자이고, Ar은 아릴기이다. L2와 관련하여 단일결합이라함은, L2로 연결된 부분에 별도의 원자가 존재하지 않는 경우로서 R6와 Ar이 직접 연결되어 있는 경우를 의미한다.Wherein R5 is hydrogen or an alkyl group, R6 is an alkylene group or an alkylidene group, m is an integer of 0 to 5, L2 is a single bond, an oxygen atom or a sulfur atom, and Ar is an aryl group. With respect to L2, a single bond means a case in which there is no separate atom at a portion connected to L2, and R6 and Ar are directly connected to each other.

상기 화학식 4과 관련하여 아릴기란, 벤젠 또는 2개 이상의 벤젠이 축합되거나 결합되어 있는 구조를 포함하는 화합물 또는 그 유도체로부터 유래하는 1가 잔기를 의미한다. 상기 아릴기는, 예를 들면, 탄소수 6 내지 22, 탄소수 6 내지 16 또는 탄소수 6 내지 13의 아릴기일 수 있으며, 예를 들면, 페닐기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 벤질기, 벤질옥시기, 페녹시기, 톨릴기, 크실릴기(xylyl group), 페닐티오기, 나프틸기 또는 나프틸옥시기 등일 수 있다.The aryl group in relation to the formula (4) means a monovalent residue derived from a compound or a derivative thereof containing a structure in which benzene or two or more benzenes are condensed or bonded. The aryl group may be, for example, an aryl group having 6 to 22 carbon atoms, 6 to 16 carbon atoms, or 6 to 13 carbon atoms, such as a phenyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, a benzyl group, , A tolyl group, a xylyl group, a phenylthio group, a naphthyl group or a naphthyloxy group.

화학식 4의 화합물로는, 페녹시 에틸 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 2-페닐티오-1-에틸 (메타)아크릴레이트, 6-(4,6-디브로모-2-이소프로필 페녹시)-1-헥실 (메타)아크릴레이트, 6-(4,6-디브로모-2-sec-부틸 페녹시)-1-헥실 (메타) 아크레이트, 2,6-디브로모-4-노닐페닐 (메타)아크릴레이트, 2,6-디브로모-4-도데실 페닐 (메타)아크릴레이트, 2-(1-나프틸옥시)-1-에틸 (메타)아크릴레이트, 2-(2-나프틸옥시)-1-에틸 (메타)아크릴레이트, 6-(1-나프틸옥시)-1-헥실 (메타)아크릴레이트, 6-(2-나프틸옥시)-1-헥실 (메타)아크릴레이트, 8-(1-나프틸옥시)-1-옥틸 (메타)아크릴레이트 및 8-(2-나프틸옥시)-1-옥틸 (메타)아크릴레이트 등이 예시될 수 있다.Examples of the compound of Formula 4 include phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-phenylthio-1-ethyl (meth) acrylate, 6- (4,6- 2-sec-butylphenoxy) -1-hexyl (meth) acrylate, 2,6-dibromo Dodecylphenyl (meth) acrylate, 2- (1-naphthyloxy) -1-ethyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 6- (2-naphthyloxy) -1-ethyl (meth) acrylate, 6- (Meth) acrylate, 8- (1-naphthyloxy) -1-octyl (meth) acrylate and 8- (2-naphthyloxy) .

상기와 같이, 제 2 블록에 방향족기가 포함되는 경우, 상기 방향족기는 제 1 블록에는 포함되지 않고, 제 2 블록에만 포함될 수 있다.As described above, when the aromatic group is included in the second block, the aromatic group is not included in the first block but may be included only in the second block.

상기와 같이 제2 블록이 가교성 관능기 및 방향족기를 도시에 포함하는 경우, 상기 제2 블록은 (메타)아크릴산 에스테르 유래의 중합단위 80 내지 95 중량부 가교성 관능기를 갖는 공중합성 단량체 유래의 중합단위 0.5 내지 10 중량부, 및 방향족기를 갖는 공중합성 단량체의 유래의 중합단위 1 내지 15 중량부를 포함할 수 있다.As described above, when the second block includes a crosslinkable functional group and an aromatic group, the second block contains 80 to 95 parts by weight of a polymerization unit derived from a (meth) acrylic acid ester and a polymerization unit derived from a copolymerizable monomer having a crosslinkable functional group 0.5 to 10 parts by weight, and 1 to 15 parts by weight of a polymerization unit derived from a copolymerizable monomer having an aromatic group.

하나의 예시에서, 상기 블록 공중합체는, 제1 블록 대비 제2 블록을 과량 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 블록 공중합체는 제2 블록을 50 중량부 이상, 60 중량부 이상, 또는 70 중량부 이상 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 블록 공중합체는 제1 블록 5 중량부 내지 50 중량부 및 제 2 블록 50 중량부 내지 95 중량부를 포함할 수 있다. 상기 함량 범위를 만족하는 경우, 제1 블록 형성 후 이어지는 제2 블록 형성 반응이 적절히 이루어질 수 있으며, 그에 따라 제1 블록 및 제2 블록을 포함하며, 점착 특성이 우수한 점착제를 구현할 수 있다. In one example, the block copolymer may comprise an excess of the second block relative to the first block. For example, the block copolymer may include at least 50 parts by weight, at least 60 parts by weight, or at least 70 parts by weight of the second block. More specifically, the block copolymer may include 5 parts by weight to 50 parts by weight of the first block and 50 parts by weight to 95 parts by weight of the second block. If the content range is satisfied, the second block formation reaction succeeding to the formation of the first block may be appropriately performed, thereby providing a pressure sensitive adhesive containing the first block and the second block and having excellent adhesive properties.

상기 구성을 만족하는 블록 공중합체는 100,000 내지 1,000,000 범위의 중량평균분자량(Mw)을 가질 수 있다. 분자량이 상기 범위 미만일 경우 점착 특성이 저하되고, 분자량이 상기 범위를 초과할 경우에는 부착성이 너무 강해져서 사용 후 박리되는 보호 필름으로서의 기능을 수행하기 어려워진다.The block copolymer satisfying the above structure may have a weight average molecular weight (Mw) in the range of 100,000 to 1,000,000. When the molecular weight is less than the above range, the adhesive property is deteriorated. When the molecular weight exceeds the above range, the adhesive property becomes too strong and it becomes difficult to perform the function as a protective film which is peeled off after use.

하나의 예시에서, 상기 블록 공중합체는 2.0 내지 4.5 범위의 분자량 분포(PDI)(Mw/Mn)를 가질 수 있다. 구체적으로, 블록 공중합체의 분자량 분포는 2.0 이상, 2.5 이상, 또는 3.0 이상일 수 있고, 4.5 이하, 4.0 이하, 또는 3.5 이하일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 보호필름용 점착층에 요구되는 적절한 물성이 확보될 수 있다.In one example, the block copolymer may have a molecular weight distribution (PDI) (Mw / Mn) ranging from 2.0 to 4.5. Specifically, the molecular weight distribution of the block copolymer may be 2.0 or more, 2.5 or more, or 3.0 or more, 4.5 or less, 4.0 or less, or 3.5 or less. When the above range is satisfied, appropriate physical properties required for the adhesive layer for a protective film can be secured.

상기 블록 공중합체를 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 공지된 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, LRP(Living Radical Polymerization) 방식으로 상기 블록 중합체를 중합할 있다. 구체적으로, 유기 희토류 금속 복합체를 중합 개시제로 사용하거나, 유기 알칼리 금속 화합물을 중합 개시제로 사용하여 알칼리 금속 또는 알칼리토금속의 염 등의 무기산염의 존재 하에 합성하는 음이온 중합법, 유기 알칼리 금속 화합물을 중합 개시제로 사용하여 유기 알루미늄 화합물의 존재 하에 합성하는 음이온 중합법, 중합 제어제로서 원자 이동 라디칼 중합제를 이용하는 원자이동 라디칼 중합법(ATRP), 중합 제어제로서 원자이동 라디칼 중합제를 이용하되 전자를 발생시키는 유기 또는 무기 환원제 하에서 중합을 수행하는 ARGET(Activators Regenerated by Electron Transfer), 원자이동 라디칼 중합법(ATRP), ICAR(Initiators for continuous activator regeneration), 원자이동 라디칼 중합법(ATRP), 무기 환원제 가역 부가-개열 연쇄 이동제를 이용하는 가역 부가-개열 연쇄 이동에 의한 중합법(RAFT), 또는 유기 텔루륨 화합물을 개시제로서 이용하는 방법 등이 사용될 수 있으며, 상기 방법 중에서 적절한 방법이 선택되어 상기 블록 공중합체가 제조될 수 있다.The method for producing the block copolymer is not particularly limited, and a known method can be used. For example, the block polymer can be polymerized by an LRP (Living Radical Polymerization) method. Specifically, an anionic polymerization method in which an organic rare earth metal complex is used as a polymerization initiator, or an organic alkali metal compound is used as a polymerization initiator in the presence of an inorganic acid salt such as a salt of an alkali metal or an alkaline earth metal, (ATRP) using an atom transfer radical polymerization agent as a polymerization initiator, and an atom transfer radical polymerization agent as a polymerization initiator, in which an electron is introduced (ATRP), Initiators for Continuous Activator Regeneration (ICAR), Atom Transfer Radical Polymerization (ATRP), Inorganic Reducing Agent Reversible A reversible addition-cleavage chain using an addition-cleavage chain transfer agent Polymerization (RAFT), or organic Tel can be used such as a method of using the tellurium compound as an initiator by, a suitable method is selected from among the method may be that the block copolymer produced.

본 출원의 점착제 조성물은, 상기 블록 공중합체의 가교성 관능기와 반응하여 화학적 가교구조를 형성할 수 있는 1 종 이상의 가교제를 포함할 수 있다. 가교제의 비제한적인 일례로는, 이소시아네이트 가교제, 에폭시 가교제, 아지리딘 가교제 또는 금속 킬레이트 가교제를 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present application may contain at least one crosslinking agent capable of reacting with the crosslinkable functional group of the block copolymer to form a chemical crosslinking structure. Non-limiting examples of crosslinking agents include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, and metal chelate crosslinking agents.

하나의 예시에서, 상기 가교성 관능기가 히드록시기인 경우, 이소시아네이트 가교제가 사용될 수 있다. 구체적으로, 상기 블록공중합체의 가교성 관능기와 반응할 수 있는 관능기를 적어도 2개 가지는 이소시아네이트 가교제가 사용될 수 있다. 이러한 이소시아네이트 가교제로는, 예를 들어, 톨리렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소보론 디이소시아네이트, 테트라메틸크실렌 디이소시아네이트 또는 나프탈렌 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트 화합물; 또는 상기 디이소시아네이트 화합물을 폴리올과 반응시킨 화합물;을 사용할 수 있다. 상기 폴리올로는 트리메틸롤 프로판 등이 사용될 수 있다. In one example, when the crosslinkable functional group is a hydroxy group, an isocyanate crosslinking agent may be used. Specifically, an isocyanate crosslinking agent having at least two functional groups capable of reacting with the crosslinkable functional group of the block copolymer may be used. Such isocyanate crosslinking agents include, for example, diisocyanate compounds such as tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isoboron diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate or naphthalene diisocyanate; Or a compound obtained by reacting the diisocyanate compound with a polyol. As the polyol, trimethylolpropane and the like may be used.

하나의 예시에서, 상기 점착제 조성물은 블록 공중합체 100 중량부 대비 0.01 중량부 내지 10 중량부 함량의 가교제를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 가교제 함량의 하한은 0.1 중량부 이상 또는 1 중량부 이상일 수 있고, 그 상한은 10 중량부 또는 5 중량부 이하일 수 있다. 상기 가교제의 함량 범위에서 블록 공중합체의 가교도가 적절히 조절될 수 있다.In one example, the pressure-sensitive adhesive composition may include 0.01 to 10 parts by weight of a crosslinking agent based on 100 parts by weight of the block copolymer. More specifically, the lower limit of the crosslinking agent content may be 0.1 parts by weight or more, or 1 part by weight or more, and the upper limit may be 10 parts by weight or 5 parts by weight or less. The crosslinking degree of the block copolymer can be appropriately controlled in the range of the content of the crosslinking agent.

본 출원의 점착제 조성물은 대전방지제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 대전방지제로는, 예를 들면, 이온성 화합물이 사용될 수 있다. 이온성 화합물로는 유기염 또는 무기염 등이 예시될 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present application may further comprise an antistatic agent. As the antistatic agent, for example, an ionic compound may be used. As the ionic compound, an organic salt or an inorganic salt can be exemplified.

무기염으로는, 예를 들면, 양이온으로서 금속 이온을 포함하는 금속염이 사용될 수 있다. 금속염은, 예를 들면, 알칼리 금속 양이온 또는 알칼리 토금속 양이온을 포함할 수 있다. 양이온으로는, 리튬 이온(Li+), 나트륨 이온(Na+), 칼륨 이온(K+), 루비듐 이온(Rb+), 세슘 이온(Cs+), 베릴륨 이온(Be2 +), 마그네슘 이온(Mg2 +), 칼슘 이온(Ca2+), 스트론튬 이온(Sr2 +) 및 바륨 이온(Ba2 +) 등의 일종 또는 이종 이상이 예시될 수 있다.As the inorganic salt, for example, a metal salt containing a metal ion as a cation may be used. The metal salt may include, for example, an alkali metal cation or an alkaline earth metal cation. Cations, the lithium ions (Li +), sodium ion (Na +), potassium ion (K +), rubidium ions (Rb +), cesium ion (Cs +), beryllium ion (Be 2 +), magnesium ion ( Mg 2 +), there is a calcium ion (Ca 2+), strontium ion (a kind or two kinds or more, such as Sr 2 +) and barium ion (Ba + 2) can be exemplified.

유기염으로는, 예를 들면, 유기 양이온을 포함하는 이온성 화합물을 사용할 수 있다. 유기 양이온으로는, 오늄 양이온이 예시될 수 있다. 본 명세서에서 용어 오늄 양이온은, 적어도 일부의 전하가 질소(N), 인(P) 및/또는 황(S)과 같은 원자에 편재되어 있는 구조를 포함하는 양(+)으로 하전된 이온을 의미할 수 있다. 오늄 양이온은 고리형 또는 비고리형 화합물일 수 있고, 고리형인 경우에 방향족 또는 비방향족 화합물일 수 있다. 오늄 양이온은 상기 질소, 인 및/또는 황 이외에 산소 또는 탄소 원자 등과 같은 다른 원자를 추가로 포함할 수 있다. 오늄 양이온은 임의적으로 할로겐, 알킬기 또는 아릴기 등과 같은 치환체에 의해 치환되어 있을 수 있다. 예를 들어, 상기 비고리형 화합물은 하나 또는 네 개 이상의 치환체를 포함할 수 있으며, 상기 치환체는, 고리형 또는 비고리형 치환체, 방향족 또는 비방향족 치환체일 수 있다.As the organic salt, for example, an ionic compound containing an organic cation can be used. As the organic cation, an onium cation can be exemplified. The term onium cation as used herein refers to a positive charged ion comprising a structure in which at least some of the charge is localized to atoms such as nitrogen (N), phosphorus (P) and / or sulfur (S) can do. The onium cation may be a cyclic or non-cyclic compound, and when cyclic, it may be an aromatic or non-aromatic compound. The onium cation may further comprise other atoms such as oxygen or carbon atoms in addition to the nitrogen, phosphorus and / or sulfur. The onium cation may optionally be substituted by a substituent such as a halogen, an alkyl group or an aryl group. For example, the acyclic compound may include one or more substituents, which may be cyclic or acyclic substituents, aromatic or nonaromatic substituents.

오늄 양이온으로는, 예를 들면, N-에틸-N,N-디메틸-N-프로필암모늄, N,N,N-트리메틸-N-프로필암모늄, N-메틸-N,N,N-트리부틸암모늄, N-에틸-N,N,N-트리부틸암모늄, N-메틸-N,N,N-트리헥실암모늄, N-에틸-N,N,N-트리헥실암모늄, N-메틸-N,N,N-트리옥틸암모늄 또는 N-에틸-N,N,N-트리옥틸암모늄 등과 같은 4급 암모늄 이온, 포스포늄(phosphonium), 피리디늄(pyridinium), 이미다졸륨(imidazolium), 피롤리디늄(pyrolidinium) 또는 피페리디늄(piperidinium) 등이 예시될 수 있다.Examples of the onium cation include N, N-dimethyl N-propylammonium, N, N, N-trimethyl-N-propylammonium, N-methyl- , N-ethyl-N, N, N-tributylammonium, N-methyl-N, N, N-trihexylammonium, , N-trioctylammonium or N-ethyl-N, N, N-trioctylammonium and the like, phosphonium, pyrolidinium) or piperidinium, and the like.

무기염 또는 유기염 등의 이온성 화합물에 포함되는 음이온으로는 PF6 -, AsF-, NO2-, 플루오라이드(F-), 클로라이드(Cl-), 브로마이드(Br-), 요오다이드(I-), 퍼클로레이트(ClO4 -), 히드록시드(OH-), 카보네이트(CO3 2-), 니트레이트(NO3 -), 트리플루오로메탄설포네이트(CF3SO3 -), 설포네이트(SO4 -), 헥사플루오로포스페이트(PF6 -), 메틸벤젠설포네이트(CH3(C6H4)SO3 -), p-톨루엔설포네이트(CH3C6H4SO3 -), 테트라보레이트(B4O7 2 -), 카복시벤젠설포네이트(COOH(C6H4)SO3 -), 플로로메탄설포네이트(CF3SO2 -), 벤조네이트(C6H5COO-), 아세테이트(CH3COO-), 트리플로로아세테이트(CF3COO-), 테트라플루오로보레이트(BF4 -), 테트라벤질보레이트(B(C6H5)4 -) 또는 트리스펜타플루오로에틸 트리플루오로포스페이트(P(C2F5)3F3 -) 등이 예시될 수 있다.Examples of anions included in the ionic compounds such as inorganic salts and organic salts include PF 6 - , AsF - , NO 2 - , fluoride (F - ), chloride (Cl - ), bromide (Br - ), iodide - ), perchlorate (ClO 4 - ), hydroxide (OH - ), carbonate (CO 3 2- ), nitrate (NO 3 - ), trifluoromethanesulfonate (CF 3 SO 3 - (SO 4 -), phosphate (PF 6 -) hexafluoropropane, methyl benzene sulfonate (CH 3 (C 6 H 4 ) SO 3 -), p- toluenesulfonate (CH 3 C 6 H 4 SO 3 -) , tetraborate (B 4 O 7 2 -) , carboxymethyl sulfonate (COOH (C 6 H 4) SO 3 -), sulfonate to flow (CF 3 SO 2 -), benzo carbonate (C 6 H 5 COO -), acetate (CH 3 COO -), a triple acetate (CF 3 COO -), borates (BF 4 tetrafluoro-), tetra-benzyl borate (B (C 6 H 5) 4 -) or tris-pentafluoropropane (P (C 2 F 5 ) 3 F 3 - ) and the like can be exemplified have.

다른 예시에서 음이온으로는 하기 화학식 5로 표시되는 음이온 또는 비스플루오로술포닐이미드 등이 사용될 수도 있다.In another example, the anion may be an anion or bifluorosulfonylimide represented by the following formula (5), or the like.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

[D(GOmRf)n]- [D (GO m R f ) n ] -

화학식 5에서 D는 질소 원자 또는 탄소 원자이고, G는 탄소 원자 또는 황 원자이며, Rf는 퍼플루오로알킬기이고, m은 1 또는 2이며, n은 2 또는 3이다.D is a nitrogen atom or a carbon atom, G is a carbon atom or a sulfur atom, R f is a perfluoroalkyl group, m is 1 or 2, and n is 2 or 3.

화학식 5에서 G가 탄소인 경우 m은 1이고, G가 황인 경우 m은 2이며, D가 질소인 경우 n은 2이고, D가 탄소인 경우 n은 3일 수 있다.In Formula 5, m is 1 when G is carbon, m is 2 when G is sulfur, n is 2 when D is nitrogen, and n can be 3 when D is carbon.

화학식 5의 음이온 또는 비스(플루오로술포닐)이미드는, 퍼플루오로알킬기(Rf) 또는 플루오르기로 인해 높은 전기 음성도를 나타내고, 또한 특유의 공명 구조를 포함하여, 양이온과의 약한 결합을 형성하는 동시에 소수성을 가진다. 따라서, 이온성 화합물이 중합체 등의 조성물의 타성분과 우수한 상용성을 나타내면서, 소량으로도 높은 대전 방지성을 부여할 수 있다.The anion or bis (fluorosulfonyl) imide of formula (5) exhibits high electronegativity due to the perfluoroalkyl group (R f ) or the fluorine group, and also includes a unique resonance structure to form a weak bond with the cation And at the same time has hydrophobicity. Therefore, the ionic compound exhibits excellent compatibility with other components of the composition such as a polymer, and can give a high antistatic property even in a small amount.

화학식 5의 Rf는, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 퍼플루오로알킬기일 수 있고, 이 경우 퍼플루오로알킬기는 직쇄형, 분지쇄형 또는 고리형 구조를 가질 수 있다. 화학식 5의 음이온은, 설포닐메티드계, 설포닐이미드계, 카보닐메티드계 또는 카보닐이미드계 음이온일 수 있고, 구체적으로는 트리스트리플루오로메탄설포닐메티드, 비스트리플루오로메탄설포닐이미드, 비스퍼플루오로부탄설포닐이미드, 비스펜타플루오로에탄설포닐이미드, 트리스트리플루오로메탄카보닐메티드, 비스퍼플루오로부탄카보닐이미드 또는 비스펜타플루오로에탄카보닐이미드 등의 일종 또는 이종 이상의 혼합일 수 있다.R f in formula (5) may be a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms, wherein the perfluoroalkyl group may be linear, branched or cyclic Structure. The anion of formula (5) may be a sulfonylimide-based, sulfonylimide-based, carbonylimide-based or carbonylimide-based anion, and specifically includes tris trifluoromethanesulfonylmethide, bistrifluoromethanesulfonyl A perfluorobutanesulfonylimide, bispentafluoroethanesulfonylimide, tris trifluoromethanecarbonylmide, bis perfluorobutanecarbonylimide or bispentafluoroethanecarbonyl, bispentafluoroethanesulfonylimide, bis Imide, etc., or a mixture of two or more species.

대전 방지제의 비율은 목적하는 대전방지성 등을 고려하여 조절될 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 조성물은, 블록 공중합체 100 중량부 대비, 0.1 중량부 내지 10 중량부 범위로 포함될 수 있다. 구체적으로, 상기 대전방지제 함량의 상한은 블록 공중합체 100 중량부 대비, 5 중량부 이하, 3 중량부 이하, 1 중량부 이하일 수 있다.The ratio of the antistatic agent can be adjusted in consideration of the desired antistatic property and the like. In one example, the composition may be included in the range of 0.1 to 10 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the block copolymer. Specifically, the upper limit of the antistatic agent content may be 5 parts by weight or less, 3 parts by weight or less, and 1 part by weight or less, based on 100 parts by weight of the block copolymer.

그 밖에 상기 점착제 조성물은, 에폭시 수지, 경화제, 자외선 안정제, 산화 방지제, 조색제, 보강제, 충진제, 소포제, 계면 활성제, 또는 가소제 등과 같은 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 첨가제의 구체적인 종류나 함량은 특별히 제한되지 않는다.The pressure-sensitive adhesive composition may further include an additive such as an epoxy resin, a curing agent, a UV stabilizer, an antioxidant, a colorant, a reinforcing agent, a filler, a defoamer, a surfactant or a plasticizer. The specific kind or content of the additive is not particularly limited.

본 출원에 관한 일례에서, 본 출원은 점착 시트에 대한 것이다. 상기 점착 시트는, 예를 들면, 보호 필름, 구체적으로는 광학 소자용 보호 필름일 수 있다.In one example of this application, the present application is directed to a pressure sensitive adhesive sheet. The adhesive sheet may be, for example, a protective film, specifically a protective film for an optical element.

상기 점착 시트는, 편광판, 편광자, 위상차필름, 시야각 보상 필름, 휘도 향상 필름 등의 광학 소자용 보호 필름으로 사용될 수 있다. 본 출원에서 용어 편광자와 편광판은 서로 구별되는 대상을 지칭한다. 즉, 편광자는 편광 기능을 나타내는 필름, 시트 또는 소자 그 자체를 지칭하고, 편광판은 상기 편광자와 함께 다른 요소를 포함하는 광학 소자를 의미한다. 편광자와 함께 광학 소자에 포함될 수 있는 다른 요소로는, 편광자 보호 필름 또는 위상차층 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The pressure-sensitive adhesive sheet can be used as a protective film for an optical element such as a polarizing plate, a polarizer, a retardation film, a viewing angle compensating film, and a luminance improving film. In the present application, the term polarizer and polarizer plate refer to objects that are distinguished from each other. That is, the polarizer refers to a film, sheet or device itself exhibiting a polarization function, and the polarizer refers to an optical element including other elements together with the polarizer. Other elements that can be included in the optical element together with the polarizer include, but are not limited to, a polarizer protective film or a retardation layer.

상기 점착 시트는, 예를 들면, 표면 보호용 기재 필름과 그 기재 필름의 일측에 존재하는 점착제층을 포함할 수 있다. 상기 점착제층은, 예를 들면, 상기 점착제 조성물로서, 가교된 점착제 조성물, 즉 가교 구조가 구현된 점착제 조성물을 포함할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive sheet may include, for example, a surface protecting base film and a pressure-sensitive adhesive layer present on one side of the base film. The pressure-sensitive adhesive layer may include, for example, a pressure-sensitive adhesive composition that is crosslinked, that is, a pressure-sensitive adhesive composition having a crosslinked structure, as the pressure-sensitive adhesive composition.

상기 점착제 조성물은 가교 구조가 구현된 후에 상대적으로 높은 저속 박리력과 상대적으로 낮은 고속 박리력을 나타내면서 양 박리력의 밸런스가 우수하고, 내구신뢰성, 작업성, 투명성, 내눌림성 및 대전 방지성이 탁월하다. 이에 따라, 상기 보호 필름은 각종 광학 장치 또는 부품이나 디스플레이 장치 또는 부품, 예를 들면, LCD 등에 사용되는 편광판, 위상차판, 광학보상필름, 반사시트 및 휘도향상필름 등의 광학 소자의 표면을 보호하기 위한 표면 보호 필름으로 효과적으로 사용될 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition exhibits a relatively high low-rate peel force and a relatively low high-rate peel-off force after the crosslinked structure is implemented, and is excellent in the balance of the peel force and is excellent in endurance reliability, workability, transparency, Excellent. Thus, the protective film is used for protecting the surface of an optical element such as a polarizing plate, a retardation plate, an optical compensation film, a reflection sheet and a brightness enhancement film used for various optical devices or parts, display devices or parts such as LCD Can be effectively used as a surface-protective film for a light-emitting device.

표면 보호용 기재 필름으로는 이 분야에서 공지되어 있는 일반적인 필름 또는 시트가 사용될 수 있다. 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리테트라플루오르에틸렌 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리(염화 비닐) 필름 또는 폴리이미드 필름과 같은 플라스틱 필름을 들 수 있다. 이러한 필름은 단층으로 구성되거나, 2층 이상이 적층되어 있을 수도 있으며, 경우에 따라서는 방오층 또는 대전방지층 등의 기능성층을 추가로 포함할 수도 있다. 또한 기재 밀착성 향상의 관점에서 상기 기재의 일면 또는 양면에 프라이머 처리와 같은 표면 처리를 수행할 수도 있다.As the surface protective base film, a general film or sheet known in this field can be used. For example, a polyester film such as polyethylene terephthalate or polybutylene terephthalate, a polytetrafluoroethylene film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polybutene film, a polybutadiene film, a poly (vinyl chloride) film or a polyimide film And the like. Such a film may be composed of a single layer, or two or more layers may be laminated, and in some cases, a functional layer such as an antifouling layer or an antistatic layer may further be included. From the viewpoint of improving the adhesion of the substrate, a surface treatment such as a primer treatment may be performed on one surface or both surfaces of the substrate.

기재 필름의 두께는 용도에 따라 적절히 선택되는 것으로 특별히 한정되지 않으며, 통상적으로 5 ㎛ 내지 500 ㎛ 또는 10 ㎛ 내지 100 ㎛의 두께로 형성할 수 있다.The thickness of the base film may be suitably selected depending on the application and is not particularly limited, and may be generally formed to a thickness of 5 to 500 탆 or 10 to 100 탆.

점착 시트에 포함되는 점착제층의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 2 ㎛ 내지 100 ㎛ 또는 5 ㎛ 내지 50 ㎛일 수 있다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer included in the pressure-sensitive adhesive sheet is not particularly limited, and may be, for example, 2 m to 100 m or 5 m to 50 m.

점착제층을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 바 코터 등의 통상의 수단으로 점착제 조성물 또는 이로부터 제조된 코팅액을 기재 필름 등에 도포한 후 경화시키는 방법이 사용될 수 있다. 또는, 점착제 조성물 또는 코팅액을 일단 박리성 기재의 표면에 도포하고 경화시키고, 다시 기재 필름에 전사시키는 방법을 사용하여 점착제층을 형성할 수 있다.The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and for example, a method in which a pressure-sensitive adhesive composition or a coating solution prepared therefrom is applied to a base film or the like by a conventional means such as a bar coater and then cured can be used. Alternatively, the pressure-sensitive adhesive layer can be formed by applying the pressure-sensitive adhesive composition or coating liquid to the surface of the peelable base material once, curing it, and transferring it to the base film again.

점착제층의 형성 과정은 점착제 조성물 또는 코팅액 내부의 휘발 성분 또는 반응 잔류물과 같은 기포 유발 성분을 충분히 제거한 후, 수행하는 것이 바람직하다. 이에 따라 점착제의 가교 밀도 또는 분자량 등이 지나치게 낮아 탄성률이 떨어지고, 고온 상태에서 유리판 및 점착제층 사이에 존재하는 기포들이 커져 내부에서 산란체를 형성하는 문제점 등을 방지할 수 있다.The process of forming the pressure-sensitive adhesive layer is preferably performed after sufficiently removing the bubble-inducing component such as the volatile component or the reaction residue in the pressure-sensitive adhesive composition or the coating liquid. Accordingly, the crosslinking density or the molecular weight of the pressure-sensitive adhesive is too low to lower the elastic modulus, and bubbles existing between the glass plate and the pressure-sensitive adhesive layer at high temperature are increased to form scattering bodies therein.

또한, 상기 과정에서 점착제 조성물을 경화시키는 방법 역시 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 조성물 내에 포함된 중합체 및 가교제가 반응할 수 있도록 적절한 숙성 공정을 거치거나, 내부에 광개시제 등의 활성화를 유도할 수 있는 광조사, 예를 들면 자외선 조사 등을 통하여 수행할 수 있다.Also, the method of curing the pressure-sensitive adhesive composition in the above process is not particularly limited. For example, the polymer and the crosslinking agent contained in the composition may be subjected to an appropriate aging process to react them, or the activation of a photoinitiator For example, ultraviolet irradiation or the like.

점착제층은, 예를 들면, 겔 함량이 80% 내지 99% 정도일 수 있다. 겔 함량은 예를 들면, 하기 수식 1로 계산될 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer may have, for example, a gel content of about 80% to about 99%. The gel content can be calculated, for example, by the following equation (1).

[수식 1][Equation 1]

겔(gel) 함량 = B/A × 100Gel content = B / A x 100

수식 1에서, A는 상기 점착제의 질량을 나타내고, B는 상기 점착제를 에틸 아세테이트에 상온에서 48 시간 동안 침적한 후에 회수한 불용해분의 건조 질량을 나타낸다.In the formula 1, A represents the mass of the pressure-sensitive adhesive, and B represents the dry mass of the insoluble fractions recovered after immersing the pressure-sensitive adhesive in ethyl acetate at room temperature for 48 hours.

상기 구성을 갖는 본 출원의 보호 필름은 적절한 박리력을 가질 수 있다. 예를 들어, 본 출원의 일례에 따르면, 점착제층을 매개로 유리 기판에 보호필름을 부착한 후, 180° 각도 및 0.3 m/min 속도로 박리할 경우의 저속 박리력(low peel strength)이 7 내지 9 gf/inch 인 보호필름이 제공될 수 있다. 또한, 본 출원의 일례에 따르면, 점착제층을 매개로 유리 기판에 보호필름을 부착한 후, 180° 각도 및 30 m/min 속도로 박리할 경우의 고속 박리력(high peel strength)이 70 내지 85 gf/inch 인 보호필름이 제공될 수 있다. 상기와 같이, 적절히 높은 저속 발리력과 적절히 낮은 고속 박리력을 갖는 경우, 표면 보호 필름으로서의 기능을 충실히 수행할 수 있다. 하나의 예시에서, 저속 박리력에 대한 고속 박리력의 비율(H/L: high peel strength/low peel strength)은 9 내지 10일 수 있다.The protective film of the present application having the above configuration can have an appropriate peeling force. For example, according to one example of the present application, when a protective film is attached to a glass substrate via a pressure-sensitive adhesive layer and a low peel strength is peeled at a 180 degree angle and at a rate of 0.3 m / min is 7 RTI ID = 0.0 > g / inch. ≪ / RTI > According to an embodiment of the present application, a high peel strength in the case of peeling at 180 degrees and at a rate of 30 m / min after attaching a protective film to a glass substrate via a pressure-sensitive adhesive layer is 70 to 85 gf / inch < / RTI > may be provided. As described above, in the case of having a suitably high low vulcanizing force and a suitably low high releasing force, the function as the surface protective film can be faithfully performed. In one example, the high peel strength / low peel strength ratio (H / L) to the low peel strength may be 9 to 10.

본 출원은 저속 박리력 및 고속 박리력의 밸런스가 우수하고, 대전방지성이 개선된 표면보호 필름용 점착제 조성물을 제공할 수 있다. 또한, 본 출원의 일례에 따라 제조된 조성물로부터 형성된 점착층을 포함하는 보호 필름은 내오염성뿐 아니라 내눌림성과 같은 내구성이 우수하다.The present application can provide a pressure-sensitive adhesive composition for a surface protective film having an excellent balance of low-speed peeling force and high-speed peeling force and having improved antistatic properties. In addition, the protective film comprising the pressure-sensitive adhesive layer formed from the composition produced according to one example of the present application has excellent durability as well as resistance to stain.

이하, 실시예를 통해 본 출원을 상세히 설명한다. 그러나, 본 출원의 보호범위가 하기 설명되는 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present application will be described in detail by way of examples. However, the scope of protection of the present application is not limited by the embodiments described below.

<측정방법><Measurement method>

분자량Molecular Weight

수평균분자량(Mn), 중량평균분자량(Mw) 및 분자량분포(Mw/Mn)는 GPC(gel permeation chromatography)를 사용하여 이하의 조건으로 측정하였다. 검량선의 제작에는 Agilent system의 표준 폴리스티렌을 사용한 측정 결과를 환산하였다.The number average molecular weight (Mn), the weight average molecular weight (Mw) and the molecular weight distribution (Mw / Mn) were measured by GPC (gel permeation chromatography) under the following conditions. For the calibration curve, the measurement results using standard polystyrene of the Agilent system were converted.

<측정조건><Measurement Conditions>

측정기: Agilent GPC(Agilent 1200 series, U.S.)Measuring instrument: Agilent GPC (Agilent 1200 series, U.S.)

컬럼: PL Mixed B 2개 연결Column: Two PL Mixed B connections

컬럼온도: 40°CColumn temperature: 40 ° C

용리액: THF(tetrahydrofuran)Eluent: THF (tetrahydrofuran)

유속: 1.0mL/minFlow rate: 1.0 mL / min

농도: ~1mg/mL (100μL injection)Concentration: ~ 1 mg / mL (100 μL injection)

유리전이온도Glass transition temperature

블록 공중합체, 또는 블록 공중합체를 형성하는 각 블록의 유리전이 온도(Tg)는 하기 수식에 따라서 산출하였다.The glass transition temperature (T g ) of each block forming the block copolymer or block copolymer was calculated according to the following equation.

<수식><Formula>

1/Tg=∑Wn/Tn1 / Tg =? Wn / Tn

상기 수식에서 Wn은 블록 공중합체 또는 상기 공중합체 각 블록에 적용된 단량체의 중량 분율이고, Tn은 각 단량체가 단독 중합체를 형성하였을 경우의 유리전이온도를 나타낸다. 즉, 수식 A에서 우변은 사용된 단량체의 중량 분율을 그 단량체가 단독 중합체를 형성하였을 경우에 나타내는 유리전이온도로 나눈 수치(Wn/Tn)를 단량체별로 모두 계산한 후에 계산된 수치를 합산한 결과이다.In the above formula, Wn is the weight fraction of the block copolymer or the monomer applied to each block of the copolymer, and Tn is the glass transition temperature when each monomer forms a homopolymer. That is, in the formula (A), the value obtained by dividing the weight fraction of the used monomers by the glass transition temperature (Wn / Tn) obtained when the monomers are formed into the homopolymer is calculated for each monomer to be.

박리력Peel force

저속박리력: 실시예 및 비교예에서 제조된 점착 시트를, 눈부심 방지층(anti-glare layer)이 형성된 편광판의 상기 눈부심 방지층 (상품명: ARI, LG화학) 상에 JIS Z 0237에 따라 2kg의 롤러로 부착하였다. 그 후, 23°C의 온도 및 65%의 상대 습도에서 24시간 동안 보관한 후에 가로의 길이가 25 mm이고, 세로의 길이가 120 mm가 되도록 재단하여 시편을 제조하였다. 그 후, 시편을 유리 기판에 고정하고, 인장 시험기(Texture analyzer, 모델명: TA XT Plus)를 이용하여 점착 시트를 가로 방향으로 눈부심 방지층으로부터 박리하면서 박리력을 측정하였다. 박리 각도는 180°이고, 박리 속도는 0.3 m/min로 하였다. 박리력은 2개의 동일한 시편에 대하여 측정한 후에 그 평균값을 사용하였다. Low peeling force : The pressure-sensitive adhesive sheet produced in Examples and Comparative Examples was coated on the anti-glare layer (trade name: ARI, LG Chemical) of a polarizing plate on which an anti-glare layer was formed according to JIS Z 0237 Respectively. Thereafter, the sample was stored at a temperature of 23 ° C and a relative humidity of 65% for 24 hours, and then cut to a length of 25 mm and a length of 120 mm. Thereafter, the specimen was fixed on a glass substrate, and the peeling force was measured while peeling the adhesive sheet in the transverse direction from the antiglare layer using a tensile tester (Texture analyzer, model name: TA XT Plus). The peeling angle was 180 占 and the peeling speed was 0.3 m / min. The peel force was measured for two identical specimens and the mean value was used.

고속 박리력 : 가로의 길이가 25 mm이고, 세로의 길이가 250 mm가 되도록 재단된 시편을 제조한 것과, 30 m/min의 박리 속도로 점착 시트를 박리한 것을 제외하고, 저속박리력과 동일한 방법으로 박리력을 측정하였다. High-speed peeling force : A specimen cut to a length of 25 mm and a length of 250 mm, and a peel-off adhesive sheet at a peeling speed of 30 m / min, The peel force was measured.

박리 대전압(ESD)Peeling Voltage (ESD)

보호필름, 즉 실시예 및 비교예에서 제조된 점착 시트가 부착된 편광판을 약 220 mm 및 세로 약 250 mm의 크기로 재단하고, 시편을 제조하였다. 사용하였다. 항온/항습 조건에서 편광판을 유리판 위에 부착한 후, 인장 시험기로 약 180 °의 박리 각도 및 40 m/min의 박리 속도로 박리하면서 박리 대전압을 측정하였다. 상기 박리 대전압은 박리시 시트로부터 4cm 이격된 거리에서 정전기 전위 측정기인 KSD-200을 사용하여 측정하였다. 박리 대전압은 2개의 동일한 시편에 대하여 측정한 후에 그 평균값을 사용하였다.Protective films, that is, the polarizing plates with the pressure-sensitive adhesive sheets prepared in Examples and Comparative Examples were cut to a size of about 220 mm and about 250 mm, and specimens were prepared. Respectively. The polarizing plate was attached to the glass plate under constant temperature / humidity conditions, and then the peeling electrification voltage was measured with a tensile tester at a peeling angle of about 180 DEG and a peeling rate of 40 m / min. The peeling electrification voltage was measured using a electrostatic potential meter, KSD-200, at a distance of 4 cm from the sheet upon peeling. The peeling electromotive force was measured for two identical specimens and the mean value was used.

오염성Contamination 평가 evaluation

실시예 및 비교예에서 제조된 점착 시트를 가로의 길이가 150 mm이고, 세로의 길이가 250 mm가 되도록 재단하고, 눈부심 방지 필름(상품명: ARI, LG화학) 상에 JIS Z0237에 따라 2kg의 롤러로 부착한다. 그 후, 눈부심 방지 필름에서 점착 시트가 부착되지 않은 면에 흑색 점착 필름을 부착하고, 상온에서 24시간 동안 보관하였다. 이어서, 점착 시트를 박리하고, 60°C의 온도 및 90%의 상대 습도에서 1시간 방치 후, Xenon HID 램프(Polarion)를 비추어 눈부심 방지 필름에 형성된 오염물의 유무를 육안으로 확인하고, 하기의 기준에 따라 평가하였다.The pressure-sensitive adhesive sheets prepared in Examples and Comparative Examples were cut so as to have a length of 150 mm and a length of 250 mm. On the anti-glare film (trade name: ARI, LG Chemical) Respectively. Thereafter, a black adhesive film was adhered to the surface of the anti-glare film on which the adhesive sheet was not adhered, and was stored at room temperature for 24 hours. Subsequently, the pressure-sensitive adhesive sheet was peeled off and left for 1 hour at a temperature of 60 ° C and a relative humidity of 90%. Then, a Xenon HID lamp (Polarion) was irradiated to visually confirm the presence or absence of contaminants formed on the anti- .

<평가 기준><Evaluation Criteria>

A: 오염물이 관찰되지 않은 경우A: If no contaminants are observed

B: 오염물이 관찰된 경우B: Contamination is observed.

내눌림성Impact resistance (Steel ball drop test)(Steel ball drop test)

실시예 및 비교예에서 제조된 점착 시트를 5 cm X 5 cm 크기로 재단하고, 상기 시료를 내눌림성 측정기(Texture Analyzer, 모델명: TA XT Plus) 위에 위치시킨 후, 상기 측정기 키트에 포함된 볼을 이용하여 10 mm/min 조건으로 하중을 1000 gf, 1500 gf, 및 2000 gf로 변화해 가며 시편을 눌렀을 때, 보호필름의 눌림 현상을 측정하였다. 이때, 눌림 시간은 30초 였다. 보호필름을 육안 및 광학현미경으로 관찰하고, 하기 기준에 따라 내눌림성을 평가하였다. 내눌림성이 우수한 경우 일정 이하의 힘에서는 곧바로 회복이 되어 흔적이 남지 않으며, 일정 이상의 힘에서는 점착제층에 크랙이 발생할 수 있다.The pressure sensitive adhesive sheet prepared in Examples and Comparative Examples was cut to a size of 5 cm x 5 cm and the sample was placed on a Texture Analyzer (model name: TA XT Plus). Then, The pressing force of the protective film was measured when the test piece was pressed at a load of 10 g / min under the conditions of 1000 gf, 1500 gf, and 2000 gf. At this time, the pressing time was 30 seconds. The protective film was observed with the naked eye and an optical microscope, and the puncture resistance was evaluated according to the following criteria. In the case where the pressure resistance is excellent, the pressure is restored immediately after the pressure is lower than a certain level, leaving no trace, and cracks may be generated in the pressure-sensitive adhesive layer at a certain force.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

O: 눌림 현상 없음O: No pressing

△: 눌림 1시간 후 복원△: restored after 1 hour of pressing

X: 눌림 1시간 후 미복원(파괴)X: Not restored (destroyed) after 1 hour of pressing.

<공중합체의 &Lt; Copolymer 제조예Manufacturing example >>

제조예Manufacturing example 1: 블록 공중합체(A)의 제조 1: Preparation of block copolymer (A)

EBiB(ethyl 2-bromoisobutyrate) 0.32g, 메틸메타크릴레이트(MMA: methyl methacrylate) 97.24g 및 부틸 메타크릴레이트(BMA: butyl methacrylate) 18.32g, 3-부틸-1-(4-비닐벤질)이미다졸륨 비스트리플루오로메틸설포닐이미드(VBIC-Tf2N) 6.11g을 에틸 아세테이트(EAc) 47.1g에 혼합하였다. 상기 혼합물이 담긴 플라스크를 고무마개로 밀봉하고, 약 25°C에서 약 30분 동안 질소 퍼징 및 교반을 하고, 버블링을 통해 용존 산소를 제거하였다. 그 후, CuBr2 0.02g, TPMA(tris(2-pyridylmethyl)amine) 0.05g 및 V-65 (2,2'-azobis(2,4-dimethyl valeronitrile)) 0.13g을 산소가 제거된 상기 혼합물에 투입하고, 약 67°C의 반응조에 담구어서 반응을 개시시켰다(제1 고분자 블록의 중합). 메타크릴산에스테르 단량체의 전환율이 약 70% 정도인 시점에서 미리 질소로 버블링하여 둔 부틸 아크릴레이트(BA) 607.9 g, 페녹시에틸아크릴레이트(PEA) 69.1 g, 히드록시부틸 아크릴레이트(HBA) 13.8 g, 및 에틸 아세테이트(EAc) 363.3 g의 혼합물을 질소의 존재 하에서 투입하였다. 그 후, 반응 플라스크에 CuBr2 0.02 g, TPMA 0.05 g 및 V-65 0.2 g을 넣고, 사슬 연장 반응(chain extension reaction)을 수행하였다(제2 고분자 블록의 중합). 아크릴산 에스테르 단량체의 전환율이 80% 이상에 도달하면 상기 반응 혼합물을 산소에 노출시키고, 적절한 용매에 희석하여 반응을 종결시킴으로써, 하기 표 1과 같은 구성의 블록 공중합체를 제조하였다(상기 과정에서 V-65는 반감기를 고려하여 반응 종료 시점까지 적절하게 분할하여 투입하였다.).0.32 g of EBiB (ethyl 2-bromoisobutyrate), 97.24 g of methyl methacrylate (MMA: methyl methacrylate), 18.32 g of butyl methacrylate (BMA: butyl methacrylate) 6.11 g of zolium bistrifluoromethylsulfonylimide (VBIC-Tf2N) were mixed in 47.1 g of ethyl acetate (EAc). The flask containing the mixture was sealed with a rubber bum, nitrogen purged and stirred at about 25 ° C for about 30 minutes, and dissolved oxygen was removed through bubbling. Thereafter, 0.02 g of CuBr 2 , 0.05 g of TPMA (tris (2-pyridylmethyl) amine) and 0.13 g of V-65 (2,2'-azobis (2,4-dimethyl valeronitrile) And the reaction was started by immersing in a reaction tank at about 67 ° C (polymerization of the first polymer block). 607.9 g of butyl acrylate (BA) previously bubbled with nitrogen, 69.1 g of phenoxyethylacrylate (PEA), 69.1 g of hydroxybutyl acrylate (HBA), and 10.0 g of methyl methacrylate 13.8 g, and ethyl acetate (EAc) (363.3 g) was added in the presence of nitrogen. Then, 0.02 g of CuBr2, 0.05 g of TPMA and 0.2 g of V-65 were added to the reaction flask, and a chain extension reaction was carried out (polymerization of the second polymer block). When the conversion of the acrylic acid ester monomer reached 80% or more, the reaction mixture was exposed to oxygen and diluted with an appropriate solvent to terminate the reaction, thereby preparing a block copolymer having the structure shown in Table 1 below (V- 65 was appropriately divided and added until the end of reaction in consideration of half-life).

제조예Manufacturing example 2 내지 5: 블록 공중합체 A2 내지 A5의 제조 2 to 5: Preparation of block copolymers A2 to A5

하기와 같이 종류를 하기 표 1 과 같이 조절한 것을 제외하고는 제조예 1의 경우와 동일하게 블록 공중합체를 제조하였다.A block copolymer was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the kind was adjusted as shown in Table 1 below.

[표 1][Table 1]

Figure pat00005
Figure pat00005

제조예Manufacturing example 6: 랜덤 공중합체 B1의 제조 6: Preparation of random copolymer B1

질소 가스가 환류되고, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 설치한 1L 반응기에 2-에틸헥실아크릴레이트(2-ethylhexyl acrylate) 98.1 중량부, 4-히드록시부틸 아크릴레이트(4-hydroxybutyl acrylate) 1.9 중량부을 투입하고, 분자량 조절제로서 n-도데실 메르캅탄을 300 ppm의 양으로 첨가한 후 용제로서 에틸 아세테이트 150 중량부를 투입하였다. 이어서 산소 제거를 위해서 질소 가스를 약 60분간 퍼징하고, 온도를 60°C로 유지한 상태에서 반응 개시제인 V-59(2,2’-azobis(2-methylbutyronitrile)) 0.03 중량부를 투입하고, 약 6.5 시간 동안 반응시켜서, 하기 표 2와 같은 구성의 랜덤 공중합체를 제조하였다. 제조된 랜덤 공중합체(B1)의 중량평균분자량(Mw)은 약 380,000이었으며, 분자량 분포(PDI)는 약 6.7이었다.To a 1 L reactor equipped with a cooling device for regulating the temperature of the reflux of nitrogen gas, 98.1 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 1.9 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate And n-dodecyl mercaptan as a molecular weight regulator was added in an amount of 300 ppm, and then 150 parts by weight of ethyl acetate was added as a solvent. Next, nitrogen gas was purged for about 60 minutes to remove oxygen, and 0.03 part by weight of V-59 (2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile)), which is a reaction initiator, was added while keeping the temperature at 60 ° C. And reacted for 6.5 hours to prepare a random copolymer having the structure shown in Table 2 below. The weight average molecular weight (Mw) of the prepared random copolymer (B1) was about 380,000 and the molecular weight distribution (PDI) was about 6.7.

제조예Manufacturing example 7: 랜덤 공중합체 B2의 제조 7: Preparation of random copolymer B2

질소 가스가 환류되고, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 설치한 1L 반응기에 2-에틸헥실아크릴레이트(2-ethylhexyl acrylate) 93.1 중량부, 4-히드록시부틸 아크릴레이트(4-hydroxybutyl acrylate) 1.9 중량부, 3-부틸-1-(4-비닐벤질)이미다졸륨 비스트리플루오로메틸설포닐이미드(VBIC-Tf2N) 5 중량부를 투입하고, 분자량 조절제로서 n-도데실 메르캅탄을 300 ppm의 양으로 첨가한 후 용제로서 에틸 아세테이트 150 중량부를 투입하였다. 이어서 산소 제거를 위해서 질소 가스를 약 60분간 퍼징하고, 온도를 60°C로 유지한 상태에서 반응 개시제인 V-59(2,2’-azobis(2-methylbutyronitrile)) 0.03 중량부를 투입하고, 약 6.5 시간 동안 반응시켜서, 하기 표 2와 같은 구성의 랜덤 공중합체를 제조하였다. 제조된 랜덤 공중합체(B1)의 중량평균분자량(Mw)은 약 400,000이었으며, 분자량 분포(PDI)는 약 7.3이었다.To a 1 L reactor equipped with a cooling device for regulating the temperature of the refluxed nitrogen gas, 93.1 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 1.9 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate , 5 parts by weight of 3-butyl-1- (4-vinylbenzyl) imidazolium bistrifluoromethylsulfonylimide (VBIC-Tf2N) was added, and 300 parts by weight of n-dodecylmercaptan And 150 parts by weight of ethyl acetate was added as a solvent. Next, nitrogen gas was purged for about 60 minutes to remove oxygen, and 0.03 part by weight of V-59 (2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile)), which is a reaction initiator, was added while keeping the temperature at 60 ° C. And reacted for 6.5 hours to prepare a random copolymer having the structure shown in Table 2 below. The weight average molecular weight (Mw) of the prepared random copolymer (B1) was about 400,000 and the molecular weight distribution (PDI) was about 7.3.

[표 2][Table 2]

Figure pat00006
Figure pat00006

실시예Example  And 비교예Comparative Example

실시예Example 1. One.

점착제 조성물의 제조: 제조예 1에서 제조된 블록 공중합체 A1 100 중량부에 대하여, 다관능성 가교제(Coronate L, 일본 NPU제) 4.5 중량부 및 대전방지성 이온화합물인 리튬비스트리플루오로메탄설포닐이미드(LiTFSI) 0.5 중량부를 균일하게 배합하고, 코팅성을 고려하여 적정 농도로 희석하였다. 각 성분간 함량은 표 3과 같다. Preparation of pressure-sensitive adhesive composition: 4.5 parts by weight of a multifunctional crosslinking agent (Coronate L, manufactured by NPU, Japan) and 100 parts by weight of an antistatic ionic compound lithium bistrifluoromethanesulfonyl 0.5 parts by weight of imide (LiTFSI) were uniformly blended and diluted to a proper concentration in consideration of coating properties. The content of each component is shown in Table 3.

점착 시트(보호필름)의 제조: 제조된 점착제 조성물을 PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름 (두께: 38um)의 일면에 코팅 및 건조하여, 두께가 약 20 ㎛인 균일한 코팅층(점착층)을 형성하였다. 이어서, 약 90 ℃에서 3분 정도 유지시켜 상기 코팅층에 가교 반응을 유도하여 점착 시트를 제조하였다. 시트 관련 물성 측정 결과는 표 4와 같다. Production of pressure-sensitive adhesive sheet (protective film) The pressure-sensitive adhesive composition thus prepared was coated on one side of a PET (poly (ethylene terephthalate)) film (thickness: 38 μm) and dried to form a uniform coating layer (adhesive layer) having a thickness of about 20 μm. Subsequently, the adhesive layer was maintained at about 90 DEG C for about 3 minutes to induce a crosslinking reaction on the coating layer to produce a pressure-sensitive adhesive sheet. Table 4 shows the measurement results of the sheet-related properties.

실시예Example 2 내지 4 및  2 to 4 and 비교예Comparative Example 1 내지 3 1 to 3

하기 표 3과 같이, 성분 및 그 비율을 서로 다르게 조절한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일하게 점착제 조성물 및 점착 시트를 제조하였다.A pressure-sensitive adhesive composition and a pressure-sensitive adhesive sheet were prepared in the same manner as in Example 1, except that components and ratios thereof were adjusted differently as shown in Table 3 below.

[표 3][Table 3]

Figure pat00007
Figure pat00007

[표 4][Table 4]

Figure pat00008
Figure pat00008

상기 표를 통해 확인할 수 있듯이, 본 출원의 일례에 따른 블록 공중합체를 포함하는 실시예 보호 필름의 경우, 적정한 저속 박리력과 고속 박리력을 가지며, 박리 대전압이 낮은 것을 확인할 수 있다. 또한, 본 출원은, 소정 외력에 대한 내눌림성도 강하기 때문에 보호대상인 피착물의 스크래치 발생이나 크랙 발생을 억제할 수 있고, 첨가제 유래의 물질로부터 피착물의 오염을 방지할 수 있는 보호필름을 제공할 수 있다.As can be seen from the above table, in the case of the protective film of Example of the present invention including the block copolymer according to one example of the present application, it can be confirmed that the film has an appropriate low-speed peeling force and a high-speed peeling force and a low peeling electrification voltage. In addition, the present application can provide a protective film capable of suppressing the generation of scratches and cracks in the adherend to be protected, and preventing contamination of the adherend from a substance derived from the additive, because the adherend is strongly pressed against a predetermined external force .

Claims (20)

유리전이온도가 30 ℃ 이상이고, 양쪽성 이온 관능기를 포함하는 제 1 블록; 및 유리전이온도가 - 10 ℃ 이하이며, 가교성 관능기를 포함하는 제 2 블록을 갖는 블록 공중합체; 및
가교제;
를 포함하는 점착제 조성물.
A first block having a glass transition temperature of 30 DEG C or higher and containing an amphoteric ionic functional group; And a second block having a glass transition temperature of -10 占 폚 or lower and comprising a crosslinkable functional group; And
A crosslinking agent;
&Lt; / RTI &gt;
제1항에 있어서, 상기 제1 블록은 (메타)아크릴산 에스테르 유래의 중합단위, 및 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물 유래의 중합단위를 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the first block comprises a polymerization unit derived from a (meth) acrylic acid ester and a polymerization unit derived from a polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group. 제2항에 있어서, 상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물은 탄소간 불포화 이중결합을 갖는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 2, wherein the polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group has a carbon-carbon unsaturated double bond. 제3항에 있어서, 상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물은 양이온성 관능기 및 음이온성 관능기를 모두 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 3, wherein the polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group includes both a cationic functional group and an anionic functional group. 제4항에 있어서, 상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물은 피리디늄 양이온, 피페리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 피롤린 골격을 갖는 양이온, 피롤 골격을 갖는 양이온, 이미다졸륨 양이온, 테트라히드로피리미디늄 양이온, 디히드로피리미디늄 양이온, 피라졸륨 양이온, 피라졸리늄 양이온, 테트라알킬암모늄 양이온, 트리알킬술포늄 양이온, 또는 테트라알킬포스포늄 양이온을 양이온성 관능기로서 포함하는 점착제 조성물.The polymerizable composition according to claim 4, wherein the polymerizable compound having an amphoteric functional group is at least one selected from the group consisting of a pyridinium cation, a piperidinium cation, a pyrrolidinium cation, a pyrroline skeleton having a pyrrole skeleton, an imidazolium cation, A pressure-sensitive adhesive composition comprising a hydropyrimidinium cation, a dihydropyrimidinium cation, a pyrazolium cation, a pyrazolinium cation, a tetraalkylammonium cation, a trialkylsulfonium cation, or a tetraalkylphosphonium cation as a cationic functional group. 제5항에 있어서, 상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물은 F-, Cl-, Br-, I-, NO3 -, (CN)2N-, BF4 -, ClO4 -, OH-, CO3 2-, NO3 -, CF3SO3 -, SO4-, PF6 -, (CF3)2PF4 -, (CF3)3PF3 -, (CF3)4PF2 -, (CF3)5PF-, CH3(C6H4)SO3 -, CF3SO3 -, CF3SO2 -, CF3COO-, C3F7COO-, CF3SO3 -, C4F9SO3 -, (CF3SO3)2N-, CF3SO2)2N-, RSO3 - (여기서, R은 탄소수 1-9의 알킬기 또는 페닐기), RCOO- (여기서, R은 탄소수 1-9의 알킬기 또는 페닐기), (CF3)6P-, (CF2CF2SO3 -)2, (C2F5SO2)2N-, (CF3SO2)(CF3CO)N-, CF3CF2(CF3)2CO-, (CF3SO2)2CH-, (SF5)3C-, (CF3SO2)3C-, CF3(CF2)7SO3 -, C6H5COO-, CH3COO-, B(C6H5)4-, 또는 P(C2F5)3F3 -을 음이온성 관능기로서 포함하는 점착제 조성물.The method of claim 5, wherein the polymerizable compound having the amphoteric ion functional groups are F -, Cl -, Br - , I -, NO 3 -, (CN) 2 N -, BF 4 -, ClO 4 -, OH - , CO 3 2-, NO 3 - , CF 3 SO 3 -, SO 4-, PF 6 -, (CF 3) 2 PF 4 -, (CF 3) 3 PF 3 -, (CF 3) 4 PF 2 - , (CF 3) 5 PF - , CH 3 (C 6 H 4) SO 3 -, CF 3 SO 3 -, CF 3 SO 2 -, CF 3 COO -, C 3 F 7 COO -, CF 3 SO 3 - , C 4 F 9 SO 3 - , (CF 3 SO 3) 2 N -, CF 3 SO 2) 2 N -, RSO 3 - ( where, R is an alkyl group having a carbon number of 1-9 or a phenyl group), RCOO - (where , R is an alkyl group or a phenyl group having a carbon number of 1-9), (CF 3) 6 P -, (CF 2 CF 2 SO 3 -) 2, (C 2 F 5 SO 2) 2 N -, (CF 3 SO 2) (CF 3 CO) N -, CF 3 CF 2 (CF 3) 2 CO -, (CF 3 SO 2) 2 CH -, (SF 5) 3 C -, (CF 3 SO 2) 3 C -, CF 3 (CF 2) 7 SO 3 - , C 6 H 5 COO -, CH 3 COO -, B (C 6 H 5) 4-, or P (C 2 F 5) 3 F 3 - a containing an anionic functional group Sensitive adhesive composition. 제6항에 있어서, 상기 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물은 하기 화학식 1 및 2 중 어느 하나로 표시되는 화합물인 점착제 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00009

상기 화학식 1에서, R1은 수소 또는 알킬기이고, R2는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이고, X+는 양이온성 관능기이고, Y-는 음이온성 관능기이다.
[화학식 2]
Figure pat00010

상기 화학식 2에서, R3는 수소 또는 알킬기이고, A는 방향족 2가 라디칼이고, L은 단일결합 또는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이고, X+는 양이온성 관능기이고, Y-는 음이온성 관능기이다.
The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 6, wherein the polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group is a compound represented by any one of the following formulas (1) and (2)
[Chemical Formula 1]
Figure pat00009

In the above formula (1), R 1 is hydrogen or an alkyl group, R 2 is an alkylene group or an alkylidene group, X + is a cationic functional group, and Y - is an anionic functional group.
(2)
Figure pat00010

In Formula 2, R3 is hydrogen or an alkyl group, A is an aromatic divalent radical, L is a single bond or an alkylene group or an alkylidene group, X + is a cationic functional group, Y - is an anionic functional group.
제3항에 있어서, 상기 제1 블록은, (메타)아크릴산 에스테르 유래의 중합단위 80 내지 99.9 중량부; 및 양쪽성 이온 관능기를 갖는 중합성 화합물 유래의 중합단위 0.01 내지 20 중량부를 포함하는 점착제 조성물.The method of claim 3, wherein the first block comprises 80 to 99.9 parts by weight of a polymerization unit derived from (meth) acrylic acid ester; And 0.01 to 20 parts by weight of polymerized units derived from a polymerizable compound having an amphoteric ionic functional group. 제1항에 있어서, 상기 제2 블록은 (메타)아크릴산 에스테르 유래의 중합단위 80 내지 99.9 중량부, 및 가교성 관능기를 갖는 공중합성 단량체 유래의 중합단위 0.01 내지 20 중량부를 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the second block comprises 80 to 99.9 parts by weight of a polymerization unit derived from (meth) acrylic acid ester and 0.01 to 20 parts by weight of a polymerization unit derived from a copolymerizable monomer having a crosslinkable functional group. 제1항에 있어서, 상기 가교성 관능기는 가교성 관능기는 히드록시기, 카르복실기, 에폭시기, 또는 이소시아네이트기인 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the crosslinkable functional group is a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, or an isocyanate group. 제1항에 있어서, 상기 제2 블록은 방향족기를 더 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the second block further comprises an aromatic group. 제11항에 있어서, 상기 제2 블록은 (메타)아크릴산 에스테르 유래의 중합단위 80 내지 95 중량부 가교성 관능기를 갖는 공중합성 단량체 유래의 중합단위 0.5 내지 10 중량부, 및 방향족기를 갖는 공중합성 단량체의 유래의 중합단위 1 내지 15 중량부를 포함하는 점착제 조성물.12. The composition according to claim 11, wherein the second block is a copolymer comprising 80 to 95 parts by weight of a polymerization unit derived from (meth) acrylic acid ester, 0.5 to 10 parts by weight of a polymerization unit derived from a copolymerizable monomer having a crosslinkable functional group, And 1 to 15 parts by weight of a polymerization unit derived from the monomer (A). 제12항에 있어서, 방향족기를 갖는 공중합성 단량체는 스티렌 또는 하기 화학식 4로 표시되는 점착제 조성물:
[화학식 4]
Figure pat00011

상기 화학식 4에서, R5는 수소 또는 알킬기이고, R6는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이고 m은 0 내지 5 사이의 정수이고, L2는 단일결합, 산소 원자 또는 황 원자이고, Ar은 아릴기이다.
13. The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 12, wherein the copolymerizable monomer having an aromatic group is styrene or a pressure-
[Chemical Formula 4]
Figure pat00011

Wherein R5 is hydrogen or an alkyl group, R6 is an alkylene group or an alkylidene group, m is an integer of 0 to 5, L2 is a single bond, an oxygen atom or a sulfur atom, and Ar is an aryl group.
제1항에 있어서, 상기 블록 공중합체는 제1 블록 5 중량부 내지 40 중량부 및 제 2 블록 60 중량부 내지 95 중량부를 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the block copolymer comprises 5 parts by weight to 40 parts by weight of the first block and 60 parts by weight to 95 parts by weight of the second block. 제1항에 있어서, 상기 블록 공중합체는 100,000 내지 1,000,000 범위의 중량평균분자량(Mw)을 갖는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the block copolymer has a weight average molecular weight (Mw) in the range of 100,000 to 1,000,000. 제15항에 있어서, 상기 블록 공중합체는 2.0 내지 4.0 범위의 분자량 분포(Mw/Mn)를 갖는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 15, wherein the block copolymer has a molecular weight distribution (Mw / Mn) in the range of 2.0 to 4.0. 제1항에 있어서, 상기 블록 공중합체는 디블록 공중합체 또는 트리블록 공중합체인 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the block copolymer is a diblock copolymer or a triblock copolymer. 제1항에 있어서, 상기 블록 공중합체 100 중량부 대비 0.01 내지 10 중량부의 가교제를 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, which comprises 0.01 to 10 parts by weight of a crosslinking agent based on 100 parts by weight of the block copolymer. 제1항에 있어서, 상기 블록 공중합체 100 중량부 대비 0.01 내지 10 중량부의 대전방지제를 더 포함하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, further comprising 0.01 to 10 parts by weight of an antistatic agent relative to 100 parts by weight of the block copolymer. 표면 보호용 기재 필름; 및 상기 표면 보호용 기재 필름의 일면에 형성되고, 가교된 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항의 점착제 조성물을 포함하는 점착제층을 갖는 보호 필름.A surface protective base film; And a pressure-sensitive adhesive layer formed on one surface of the surface-protecting base film and comprising the pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 16 crosslinked.
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