KR20190055878A - Bright enhancing film and preparing method of the same - Google Patents

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KR20190055878A
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류민영
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Abstract

The present invention relates to a brightness improving film and a manufacturing method thereof. The brightness improving film includes: a base film; an YAG-based fluorescent layer coating the upper part of the base film; and a low-refraction layer coating the lower part of the base film or the upper part of the YAG-based fluorescent layer. The manufacturing method thereof includes: a step of making an YAG-based fluorescent coating solution by evenly spreading fluorescent substances over a polymer matrix, and forming the YAG-based fluorescent layer by coating the upper part of the base film with the YAG-based fluorescent coating solution, and then, hardening the layer with ultraviolet rays; and a step of forming the low-refraction layer by coating the upper part of the YAG-based fluorescent layer or the lower part of the base film with a low-refraction coating solution containing a urethane acrylate oligomer and hollow nano-silica, and then, hardening the layer with ultraviolet rays. Therefore, the brightness improving film is provided with improved brightness, color reproductivity, and physical properties.

Description

휘도 향상 필름과 그 제조방법{Bright enhancing film and preparing method of the same}Brightening Enhancing Film and Preparation Method Thereof

본 발명은 휘도 향상 필름과 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 휘도와, 색재현율 및 물리적 특성이 개선될 수 있도록 한 휘도 향상 필름과 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a brightness enhancement film and a method of manufacturing the brightness enhancement film, and more particularly, to a brightness enhancement film and a method of manufacturing the same that can improve brightness, color reproducibility and physical properties.

최근 디스플레이 시장은 대면적, 고해상도 경쟁에서 색감 경쟁으로 진화하고 있으며, 이로 인해 우수한 색감을 구현할 수 있는 디스플레이의 제조에 대한 관심이 높아지고 있다.Recently, the display market is evolving from a large-size and high-resolution competition to a color competition, and attention is focused on manufacturing a display capable of realizing excellent color.

차세대 디스플레이로 각광받고 있는 OLED(Organic Light-emitting Diode, 유기발광다이오드)는 색재현율을 NTSC 기준 100%까지 달성할 수 있지만 현재 사용되고 있는 LCD의 경우에는 70% 수준의 색재현율을 나타내고 있어 개선이 필요한 상황이다.OLED (Organic Light-Emitting Diode), which is widely regarded as the next generation display, can achieve the color recall rate up to 100% of NTSC. However, currently used LCD shows 70% color reproduction rate It is a situation.

이에, LCD의 색재현율을 향상시키기 위해 양자점(Quantum Dot)을 이용한 방법이 적용되고 있지만 수분과 산소에 취약한 양자점의 고유 특성으로 인해 배리어 필름을 통한 밀봉 과정이 반드시 수반되어야 하는 문제점이 있다.Accordingly, although a method using a quantum dot is applied to improve the color gamut of an LCD, there is a problem that a sealing process through a barrier film must be accompanied by inherent characteristics of quantum dots susceptible to moisture and oxygen.

한편, LCD에서는 콘트라스트(contrast)를 증가시키기 위해 휘도 향상 필름을 적용하고 있다. 휘도 향상 필름은 차광 테이프를 이용하여 BLU(Back Light Unit)에 부착될 수 있다. 이러한 휘도 향상 필름으로는 반사형 편광 필름이 사용되는데, 반사형 편광 필름은 고굴절률층과 저굴절률층이 교대로 반복 적층된 필름으로 상업적으로는 3M사의 DBEF(Dual Brightness Enhancement Film, 이중 휘도 향상 필름) 등이 사용되고 있다.On the other hand, in the LCD, a luminance enhancement film is applied in order to increase the contrast. The brightness enhancement film can be attached to a back light unit (BLU) using a light shielding tape. The reflection type polarizing film is a film in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately repeatedly laminated, and commercially available is a dual brightness enhancement film (DBEF) ) Are used.

그러나 DBEF를 사용하기 위해서는 로열티를 지불해야 하기 때문에 국내 관련 업체들은 DBEF를 대체할 수 있는 휘도 향상 필름의 국산화에 연구, 개발을 집중하고 있는 상황이다.However, since royalty is required to use DBEF, Korean affiliates are concentrating their research and development on localization of luminance enhancement film that can replace DBEF.

따라서 DBEF를 사용하지 않고도 LCD의 휘도를 향상시킬 수 있는 필름을 개발한다면 국내 디스플레이 시장의 활성화에 기여할 수 있을 것으로 기대된다.Therefore, if a film that can improve the luminance of LCD without using DBEF is developed, it is expected to contribute to the activation of the domestic display market.

본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, DBEF를 대체하기 위해 휘도, 색재현율 및 물리적 특성을 향상시킬 수 있도록 한 휘도 향상 필름과 그 제조방법을 제공하는 데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a brightness enhancement film and a manufacturing method thereof that can improve brightness, color reproduction rate, and physical characteristics to replace DBEF.

전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 수단으로서,As means for solving the above-mentioned technical problem,

본 발명은 기재필름과; 상기 기재필름의 상부에 코팅되는 YAG계 형광체층; 및 상기 YAG계 형광체층의 상부 또는 상기 기재필름의 하부에 코팅되는 저굴절층;을 포함하는 휘도 향상 필름을 제공한다.The present invention relates to a film comprising: a base film; A YAG-base phosphor layer coated on the base film; And a low refraction layer coated on the upper side of the YAG-base phosphor layer or the lower side of the base film.

이 경우, 상기 저굴절층은 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 포함하고, 상기 우레탄 아크릴레이트 올리고머는 불소계 폴리올을 주쇄로 가질 수 있다.In this case, the low refraction layer includes a urethane acrylate oligomer, and the urethane acrylate oligomer may have a fluorinated polyol as a main chain.

이 경우, 상기 우레탄 아크릴레이트 올리고머는 상기 저굴절층에 대해 10~20wt% 포함될 수 있다.In this case, the urethane acrylate oligomer may be contained in an amount of 10 to 20 wt% with respect to the low refractive layer.

이 경우, 상기 저굴절층은 중공나노실리카를 포함할 수 있다.In this case, the low refraction layer may include hollow nanosilica.

이 경우, 상기 중공나노실리카는 상기 저굴절층에 대해 30~70wt% 포함될 수 있다.In this case, the hollow nanosilica may be contained in an amount of 30 to 70 wt% with respect to the low refractive index layer.

이 경우, 상기 저굴절층의 코팅 두께는 70~120nm일 수 있다.In this case, the coating thickness of the low refraction layer may be 70 to 120 nm.

이 경우, 상기 저굴절층의 굴절율은 1.32~1.42일 수 있다.In this case, the refractive index of the low refractive index layer may be 1.32 to 1.42.

또한, 본 발명은 (a) 고분자 매트릭스에 YAG계 형광체를 균일하게 분산시켜 YAG계 형광체 코팅액을 제조하고, 기재필름의 상부에 상기 YAG계 형광체 코팅액을 코팅하여 YAG계 형광체층을 형성한 후 자외선을 조사하여 경화시키는 단계; 및 (b) 상기 YAG계 형광체층의 상부 또는 상기 기재필름의 하부에 우레탄 아크릴레이트 올리고머 및 중공나노실리카를 포함하는 저굴절 코팅액을 코팅하여 저굴절층을 형성한 후 자외선을 조사하여 경화시키는 단계;를 포함하는 휘도 향상 필름의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method for producing a YAG-based phosphor, comprising the steps of: (a) preparing a YAG-based phosphor coating solution by uniformly dispersing a YAG-based phosphor in a polymer matrix, coating the YAG- Irradiation and curing; And (b) coating a low refraction coating liquid containing a urethane acrylate oligomer and hollow nanosilica on the upper side of the YAG-base phosphor layer or the lower side of the base film to form a low refraction layer, and then curing the ultraviolet ray; The present invention also provides a method for producing a brightness enhancement film.

본 발명에 따르면, 기재필름의 상부에 YAG계 형광체를 코팅함으로써 LCD에 적용시 휘도를 향상시켜 우수한 밝기를 구현할 수 있다.According to the present invention, when the YAG-base phosphor is coated on the upper surface of the base film, it is possible to improve the brightness when applied to an LCD, thereby realizing excellent brightness.

또한, YAG계 형광체층의 상부나 기재필름의 하부, 또는 YAG계 형광체층의 상부와 기재필름의 하부에 저굴절층을 추가적으로 코팅함으로써 휘도를 더욱 향상시킬 수 있다.Further, the brightness can be further improved by further coating a lower refraction layer on the upper portion of the YAG-base phosphor layer, the lower portion of the base film, the upper portion of the YAG-base phosphor layer and the lower portion of the base film.

뿐만 아니라, YAG계 형광체를 고분자 매트릭스에 분산시켜 기재필름에 코팅함으로써 연필경도, 부착력, Curl, 내굴곡성 등과 같은 물리적 특성을 확보할 수 있다.In addition, physical properties such as pencil hardness, adhesive force, curl, flex resistance and the like can be secured by dispersing the YAG-base phosphor in a polymer matrix and coating the base film.

아울러, 양자점 필름 대비 우수한 내구성을 나타내고, 배리어 필름이 필요하지 않아 상대적으로 얇은 두께의 필름 제조가 가능하다.In addition, it exhibits excellent durability as compared with the quantum dot film, and it is possible to manufacture a film having a relatively thin thickness because a barrier film is not required.

도 1은 본 발명에 따른 휘도 향상 필름의 적층 구조도,
도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 휘도 향상 필름의 변형예를 나타낸 적층 구조도.
1 is a laminated structure of a brightness enhancement film according to the present invention,
FIGS. 2 and 3 are laminated structure views showing a modified example of the brightness enhancement film shown in FIG. 1. FIG.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 휘도 향상 필름의 적층 구조도이고, 도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 휘도 향상 필름의 변형예를 나타낸 적층 구조도이다.FIG. 1 is a laminated structure of a brightness enhancement film according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 are laminated structure views showing a modified example of the brightness enhancement film shown in FIG.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 휘도 향상 필름(100)은 기재필름(110)과, YAG(Yttrium aluminum garnet)계 형광체층(120) 및 저굴절층(130)을 포함한다.1 to 3, the brightness enhancement film 100 according to the present invention includes a base film 110, a YAG (yttrium aluminum garnet) phosphor layer 120, and a low refractive index layer 130.

기재필름(110)은 PET, TAC, PC, Polyimide, Acryl 등과 같은 소재의 필름일 수 있으며, 특별히 제한되지 않는다.The base film 110 may be a film of a material such as PET, TAC, PC, Polyimide, Acryl, and the like, and is not particularly limited.

YAG계 형광체층(120)은 휘도를 향상시키기 위한 것으로 기재필름(110)의 일면, 여기서는 상부면에 코팅된다. 이 경우, YAG계 형광체층(120)을 이루는 YAG계 형광체(122)는 Y3Al5012:Ce3+(YAG:Ce), Tb3Al5012:Ce3+(TAG:Ce), Ca3(Sc,Mg)2Si3O12:Ce3+, Y3Mg2AlSi2O12:Ce3+ 중에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.The YAG-base phosphor layer 120 is formed on one surface of the base film 110, here the top surface, for the purpose of improving brightness. In this case, the YAG-base phosphor 122 constituting the YAG-base phosphor layer 120 is made of Y 3 Al 5 0 12 : Ce 3+ (YAG: Ce), Tb 3 Al 5 0 12 : Ce 3+ (TAG: Ce) , Ca 3 (Sc, Mg) 2 Si 3 O 12 : Ce 3+ , and Y 3 Mg 2 AlSi 2 O 12 : Ce 3+ .

이러한 YAG계 형광체층(120)은 휘도의 향상과 더불어 연필경도, 부착력, Curl, 내굴곡성 등의 물리적 특성까지 확보할 수 있도록 고분자 매트릭스(matrix)(121)에 YAG계 형광체(122)가 분산된 형태를 가질 수 있다.The YAG-base phosphor layer 120 is formed by dispersing a YAG-base phosphor 122 in a polymer matrix 121 so as to secure physical properties such as pencil hardness, adhesion, Curl, And the like.

이 경우, 고분자 매트릭스(121)는 단관능 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 단관능 모노머, 광개시제, 레벨링제, 소포제, 개시제 중에서 적의 선택하여 사용할 수 있다.In this case, the polymer matrix 121 may be selected from monofunctional urethane acrylate oligomers, monofunctional monomers, photoinitiators, leveling agents, antifoaming agents and initiators.

YAG계 형광체(122)는 YAG계 형광체(122)와 고분자 매트릭스(121)로 이루어지는 코팅액 100wt%에 대해 10~40wt%의 비율로 첨가된다. YAG계 형광체(122)의 함량이 10wt% 미만이면 요구되는 휘도 향상 효과를 나타낼 수 없고, 40wt% 초과이면 코팅이 어려울 뿐 아니라 색재현율이 저하되기 때문이다.The YAG-base phosphor 122 is added in a proportion of 10 to 40 wt% with respect to 100 wt% of the coating solution comprising the YAG-base phosphor 122 and the polymer matrix 121. If the content of the YAG-base phosphor 122 is less than 10 wt%, the desired brightness enhancement effect can not be exhibited. If the content is more than 40 wt%, the coating is difficult and the color reproduction rate is lowered.

또한, YAG계 형광체층(120)의 두께는 10~100㎛인 것이 바람직하다. 왜냐하면, 코팅 두께가 10㎛ 미만이면 YAG계 형광체(122)가 돌출되어 외관의 불량을 야기하고, 100㎛ 초과이면 코팅시 컬(Curl) 특성이 악화되어 고분자 매트릭스(121)로 적용 가능한 수지가 제한되기 때문이다.The thickness of the YAG-base phosphor layer 120 is preferably 10 to 100 占 퐉. If the coating thickness is less than 10 μm, the YAG-base phosphor 122 may protrude to cause defects in appearance. If the thickness exceeds 100 μm, curl characteristics may deteriorate during coating, and the resin applicable to the polymer matrix 121 may be limited .

저굴절층(low refractive layer)(130)은 휘도를 추가적으로 향상시키기 위한 것으로 YAG계 형광체층(120)의 상부(도 1 참조)나 기재필름(110)의 하부(도 2 참조), 또는 YAG계 형광체층(120)의 상부와 기재필름(110)의 하부 모두(도 3 참조)에 코팅될 수 있다.1) of the YAG-base phosphor layer 120, a lower portion (see FIG. 2) of the base film 110 (see FIG. 2), or a YAG-based phosphor layer (See FIG. 3) of the base film 110 and the upper portion of the phosphor layer 120, respectively.

저굴절층(130)의 형성을 위한 코팅 조액은 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 다관능 모노머, 단관능 모노머, 광개시제, 레벨링제, 분산제 및 중공나노실리카를 포함할 수 있다.The coating solution for forming the low refraction layer 130 may include a urethane acrylate oligomer, a polyfunctional monomer, a monofunctional monomer, a photoinitiator, a leveling agent, a dispersant, and hollow nanosilica.

이 경우, 우레탄 아크릴레이트 올리고머는 다음과 같은 구조를 가진다.In this case, the urethane acrylate oligomer has the following structure.

Figure pat00001
Figure pat00001

이 경우, R"에 나타난 x, y, z 및 n은 0 내지 50 사이의 정수이다.In this case, x, y, z, and n in R " are integers between 0 and 50.

즉, 우레탄 아크릴레이트 올리고머는 불소계 폴리올(polyol)을 주쇄로 가지며, 저굴절층(130)에 대해 10~20% 포함된다. 불소계 폴리올의 함량이 10wt% 미만이면 저굴절층(130)의 굴절률이 높아져 광손실이 발생하고, 20wt%을 초과하면 모노머의 함량이 줄어들어 가교밀도가 떨어지므로 물리적 특성(표면 경도 등)을 확보하기 어렵다. 또한, 다관능 모노머와 단관능 모노머는 PETA(Pentaerythritol triacrylate)와 ACMO(Acryloyl morpholine)로 이루어질 수 있으며, 20~30wt%의 비율로 포함된다. 아울러, 광개시제, 레벨링제, 분산제는 1~5wt% 포함될 수 있다.That is, the urethane acrylate oligomer has a fluorinated polyol as a main chain and is contained in an amount of 10 to 20% with respect to the low refractive layer 130. When the content of the fluorinated polyol is less than 10 wt%, the refractive index of the low refractive layer 130 is increased to cause optical loss. When the content of the fluorinated polyol is more than 20 wt%, the monomer content is decreased to decrease the crosslink density, it's difficult. Also, the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer may be composed of PETA (pentaerythritol triacrylate) and ACMO (acryloyl morpholine), and they are contained in a proportion of 20 to 30 wt%. The photoinitiator, leveling agent and dispersant may be contained in an amount of 1 to 5 wt%.

한편, 중공나노실리카는 일본 일휘촉매사의 중공나노실리카를 이용할 수 있으며, 저굴절층(130)에 대해 30~70wt% 포함되는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 중공나노실리카의 함량이 30wt% 미만이면 반사율이 2.5% 이상 높아져 투과광 손실이 발생하고, 70% 초과이면 중공나노실리카 입자의 분산 문제가 발생하여 외관이 고르지 못하게 된다.On the other hand, hollow nanosilica can be hollow nanosilica manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., and it is preferable that 30 to 70 wt% of the hollow nanosilica is included in the low refractive index layer 130. If the content of the hollow nanosilica is less than 30 wt%, the reflectance increases by 2.5% or more to cause transmission light loss. If the content of the hollow nanosilica is more than 70%, the dispersion of the hollow nanosilica particles occurs and the appearance becomes uneven.

이상에서 설명한 저굴절층(130)의 코팅은 bar coating, slot-die coating, Micro Gravure coating 등의 방식을 사용할 수 있다.The low refraction layer 130 may be coated by bar coating, slot-die coating, micro gravure coating, or the like.

저굴절층(130)의 두께는 70~120nm가 바람직하다. 저굴절층(130)의 두께가 70nm 미만이거나 120nm 초과이면 반사율이 높아져 투과광 손실에 의한 휘도 저하 현상이 발생할 수 있다.The thickness of the low refractive layer 130 is preferably 70 to 120 nm. When the thickness of the low refraction layer 130 is less than 70 nm or exceeds 120 nm, the reflectance increases and a phenomenon of brightness decrease due to transmission light loss may occur.

또한, 저굴절층(130)의 굴절율은 1.32~1.42인 것이 바람직하고, 1.34~1.38인 것이 휘도 향상에 더욱 바람직하다.The refractive index of the low refractive index layer 130 is preferably 1.32 to 1.42, and more preferably 1.34 to 1.38 in terms of luminance improvement.

한편, 휘도 향상 필름(100)은 백코팅층(Back coating layer)(도면 미도시)을 더 포함할 수 있다. 백코팅층은 백코팅층에 포함된 입자에 의해 휘도 향상 필름(100)의 이면에 요철을 부여함으로써 다른 광학시트와의 블로킹을 방지하여 작업성을 향상시키고, 공정상 마찰로 인해 발생하는 정전기를 방지하는 기능을 한다.Meanwhile, the brightness enhancement film 100 may further include a back coating layer (not shown). The back coating layer is formed by the particles included in the back coating layer to provide irregularities on the back surface of the brightness enhancement film 100 to prevent blocking with other optical sheets to improve workability and to prevent static electricity Function.

본 발명에서 백코팅은 bar coating, slot-die coating 등의 방식을 사용할 수 있으며, 백코팅층에 사용되는 코팅 조액은 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 단관능 모노머, 광개시제, 레벨링제, 분산제 및 PMMA 입자를 포함할 수 있다.In the present invention, the back coating may be a bar coating method or a slot-die coating method. The coating solution used for the back coating layer may include a urethane acrylate oligomer, a monofunctional monomer, a photoinitiator, a leveling agent, .

이 경우, PMMA 입자는 백코팅층 전체에 대해 0.1~5wt% 포함되는 것이 바람직하다. PMMA 입자의 함량이 0.1wt% 미만이면 휘도 향상 필름의 이면에 충분한 요철을 형성하지 못하고, 5wt% 초과이면 높은 헤이즈로 인한 투과광 손실이 발생하게 되므로 PMMA 입자의 함량을 조절하여 백코팅층의 헤이즈를 1~20%로 조절하는 것이 바람직하다.In this case, the PMMA particles are preferably contained in an amount of 0.1 to 5 wt% with respect to the entire back coating layer. When the content of PMMA particles is less than 0.1 wt%, sufficient irregularities can not be formed on the back surface of the brightness enhancement film. If the content of PMMA particles is more than 5 wt%, transmitted light loss due to high haze occurs. Therefore, the haze of the back coating layer is adjusted to 1 To 20%.

이러한 백코팅층에는 필요에 따라 대전방지제(Anti-static)가 첨가제로 추가될 수 있다. 대전방지제를 첨가함에 따라 표면 저항 조절이 가능하며, 대전방지제는 백코팅층 전체 대비 0.01~3wt% 포함되는 것이 바람직하다. 대전방지제의 함량이 0.01wt% 미만이면 정전기 방지를 위한 표면 저항이 부족하고, 3wt% 초과이면 필요 이상의 과량을 첨가하는 결과를 초래하므로 대전방지제를 0.01~3wt% 첨가하여 표면 저항이 1010~1012 Ohm/□ 범위가 되도록 조절하는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 표면 저항이 1010~1012 Ohm/□ 인 경우 필름의 동적 상태에서의 장해 방지가 가능하고, 대전 후 대전 현상이 즉시 감쇠하는 효과가 있기 때문이다.An antistatic agent may be added to the back coat layer as an additive if necessary. The surface resistance can be controlled by adding an antistatic agent, and the antistatic agent is preferably contained in an amount of 0.01 to 3 wt% with respect to the whole of the back coat layer. When the content of the antistatic agent is less than 0.01wt%, and a lack of surface resistance for antistatic, 3wt% excess if it results in the addition of excess amount more than necessary to the antistatic agent 0.01 ~ 3wt% surface resistance of 10 10 to 10 by the addition 12 Ohm / < / RTI >< / RTI > This is because, when the surface resistance is 10 10 to 10 12 Ohm / square, it is possible to prevent the film from being damaged in the dynamic state, and there is an effect that the charging phenomenon immediately after charging immediately attenuates.

백코팅층의 두께는 1~10㎛가 바람직하다. 백코팅층의 두께가 1㎛ 미만이면 휘도 향상 필름(100)의 이면에 충분한 요철이 형성되지 않아 블로킹 방지가 어렵고, 10㎛ 초과이면 높은 헤이즈(haze)로 인한 투과광 손실 문제가 발생한다.The thickness of the back coating layer is preferably 1 to 10 mu m. If the thickness of the back coating layer is less than 1 mu m, sufficient irregularities are not formed on the back surface of the brightness enhancement film 100 to prevent blocking, and if it is more than 10 mu m, there is a problem of transmission light loss due to high haze.

이상으로 본 발명에 따른 휘도 향상 필름에 대해 설명하였다. 이하에서는 본 발명에 따른 휘도 향상 필름의 제조방법에 대해 설명한다.The brightness enhancement film according to the present invention has been described above. Hereinafter, a method for manufacturing a brightness enhancement film according to the present invention will be described.

먼저, 단관능 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 단관능 모노머, 광개시제, 레벨링제, 소포제, 개시제 중에서 선택되는 고분자 매트릭스(121)에 YAG계 형광체(122)를 코팅액 기준 10~40wt%로 균일하게 분산시켜 코팅액을 제조하고, 제조된 코팅액을 기재필름(110)의 상부에 10~100㎛ 두께로 코팅한 후 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 YAG계 형광체층(120)을 형성한다.First, a YAG fluorescent material 122 is uniformly dispersed in a polymer matrix 121 selected from a monofunctional urethane acrylate oligomer, a monofunctional monomer, a photoinitiator, a leveling agent, a defoaming agent, and an initiator at a concentration of 10 to 40 wt% The coating solution thus prepared is coated on the base film 110 to a thickness of 10 to 100 μm, and then irradiated with ultraviolet rays to cure the YAG-based phosphor layer 120.

이후, 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 다관능 모노머, 단관능 모노머, 광개시제, 레벨링제, 분산제 및 중공나노실리카를 포함하는 코팅 조액을 YAG계 형광체층(120)의 상부나 기재필름(110)의 하부, 또는 YAG계 형광체층(120)의 상부와 기재필름(110)의 하부에 코팅하고, 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 저굴절층(130)을 형성하면 휘도 향상 필름(100)이 완성된다.Thereafter, a coating solution containing a urethane acrylate oligomer, a polyfunctional monomer, a monofunctional monomer, a photoinitiator, a leveling agent, a dispersant, and hollow nanosilica is coated on the upper surface of the YAG-base phosphor layer 120, The brightness enhancement film 100 is completed by coating the upper portion of the YAG-base phosphor layer 120 and the lower portion of the base film 110 and forming the low refractive layer 130 by irradiating ultraviolet rays to cure.

이 경우, YAG계 형광체층(120)과 저굴절층(130)의 코팅 방법으로는 Bar Coating, Spin Coating, Slot-die Coating을 이용할 수 있으나 Slot-die Coating법으로 코팅하는 것이 바람직하다. 또한, 코팅 후 자외선 조사는 메탈할로겐 램프, 수은고압 램프, 무전극 램프를 이용할 수 있으나 질소 분위기에서 무전극 램프로 조사하는 것이 바람직하다. 아울러, 경화시간은 1~10초인 것이 바람직하다.In this case, as a coating method of the YAG-base phosphor layer 120 and the low refractive index layer 130, a bar coating, a spin coating and a slot-die coating may be used, but it is preferable to coat the YAG-base phosphor layer 120 and the low refractive layer 130 by a slot-die coating method. In addition, a metal halide lamp, a mercury high-pressure lamp, and a non-electrode lamp can be used for ultraviolet ray irradiation after coating, but it is preferable to irradiate with a non-electrode lamp in a nitrogen atmosphere. The curing time is preferably 1 to 10 seconds.

이상으로 본 발명에 따른 휘도 향상 필름의 제조방법에 대해 설명하였다. 이하에서는 본 발명의 실시예에 대해 설명한다. 본 발명은 아래의 실시예에 의해 보다 명확하게 이해될 수 있으나, 이는 본 발명의 예시를 위한 것에 불과하고 본 발명의 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.The method for manufacturing the brightness enhancement film according to the present invention has been described above. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. The present invention can be understood more clearly by the following examples, which are merely illustrative of the present invention and are not intended to limit the scope of the present invention.

실시예 1Example 1

교반기가 부착된 반응기에 우레탄 (메타)아크릴레이트(한국, 엔티스사 Ebecryl 1290) 400g(40wt%)을 투입하고, 반응성 모노머 희석제인 이소보닐 아크릴레이트 400g(40wt%)과 2-히드록시에틸 아크릴레이트 50g(5wt%)을 투입한 후 레벨링제인 BYK사의 BYK307 10g (1wt%), 형광체 분산제인 BASF사의 FA-4420 10g(1wt%), 소포제인 BYK사의 BYK085 10g(1wt%)을 차례대로 투입한 다음 광개시제인 BASF사의 Irgacure 184 20g(2wt%)을 첨가하고, YAG 형광체 100g(10wt%)을 첨가하여 상온에서 30분 동안 400rpm으로 교반함으로써 점도 1,000cps의 투명한 액체 조성물을 얻었다. 이후, 제조된 코팅액을 PET필름의 일면에 Bar Coater로 50㎛ 두께로 코팅한 다음 무전극 램프를 이용하여 약 5초 동안 자외선을 조사하였다. 이 경우, 조사된 자외선의 광량은 1000mj 이하로 하였다. 마지막으로, 제조된 형광체 코팅 PET 필름의 상부에 일본 JSR사 저굴절 코팅액 TU2359를 Slot Die Coater를 이용하여 100nm 두께로 단면 및 양면 코팅을 실시한 다음, 무전극 램프를 이용하여 약 5초 동안 자외선을 조사하였다. 이 경우, 조사된 자외선의 광량은 1000mJ 이하로 하였다.400 g (40 wt%) of urethane (meth) acrylate (Ebecryl 1290, Korea) was added to a reactor equipped with a stirrer, and 400 g (40 wt%) of isobonyl acrylate as a reactive monomer diluent and 2-hydroxyethyl acrylate 10 g (1 wt%) of BYK307, a leveling agent, 10 g (1 wt%) of BYK307, 10 g (1 wt%) of FA-4420, a fluorescent dispersant BASF, and 10 g 20 g (2 wt%) of Irgacure 184, a photoinitiator manufactured by BASF, was added, 100 g (10 wt%) of YAG phosphor was added and stirred at 400 rpm for 30 minutes at room temperature to obtain a transparent liquid composition having a viscosity of 1,000 cps. Thereafter, the prepared coating solution was coated on one side of the PET film with a Bar Coater to a thickness of 50 μm, and irradiated with ultraviolet rays for about 5 seconds using a non-electrode lamp. In this case, the amount of irradiated ultraviolet light was set to 1000 mj or less. Lastly, on the top of the prepared phosphor-coated PET film, a 100 nm thick single-sided and double-sided coating was performed using a Slot Die Coater of JSR Corporation, a low refraction coating liquid TU2359, and then irradiated with ultraviolet rays for about 5 seconds using a non- Respectively. In this case, the amount of irradiated ultraviolet light was set to 1000 mJ or less.

실시예 2Example 2

교반기가 부착된 반응기에 우레탄 (메타)아크릴레이트(한국, 엔티스사 Ebecryl 1290) 400g(40wt%)을 투입하고, 반응성 모노머 희석제인 이소보닐 아크릴레이트 400g(40wt%)과 2-히드록시에틸 아크릴레이트 50g(5wt%)를 투입한 후 레벨링제인 BYK사의 BYK307 10g(1wt%), 형광체 분산제인 BASF사의 FA-4420 10g(1wt%), 소포제인 BYK사의 BYK085 10g(1wt%)을 차례대로 투입한 다음 광개시제인 BASF사의 Irgacure 184 20g(2wt%)을 첨가하고, YAG 형광체 200g(20wt%)을 첨가하여 상온에서 30분 동안 400rpm으로 교반함으로써 점도 1,000cps의 투명한 액체 조성물을 얻었다. 이후, 제조된 코팅액을 PET필름의 일면에 Bar Coater로 50㎛ 두께로 코팅한 다음 무전극 램프를 이용하여 약 5초 동안 자외선을 조사하였다. 이 경우, 조사된 자외선의 광량은 1000mj이하로 하였다. 마지막으로, 제조된 형광체 코팅 PET 필름의 상부에 일본 JSR사 저굴절 코팅액 TU2359를 Slot Die Coater를 이용하여 100nm 두께로 단면 및 양면 코팅을 실시한 다음, 무전극 램프를 이용하여 약 5초 동안 자외선을 조사하였다. 이 경우, 조사된 자외선의 광량은 1000mJ 이하로 하였다.400 g (40 wt%) of urethane (meth) acrylate (Ebecryl 1290, Korea) was added to a reactor equipped with a stirrer, and 400 g (40 wt%) of isobonyl acrylate as a reactive monomer diluent and 2-hydroxyethyl acrylate 10 g (1 wt%) of BYK307, a leveling agent, 10 g (1 wt%) of BYK307, 10 g (1 wt%) of FA-4420 of a fluorescent dispersant BASF, and 10 g 20 g (2 wt%) of Irgacure 184, a photoinitiator manufactured by BASF, was added, 200 g (20 wt%) of YAG fluorescent material was added and stirred at 400 rpm for 30 minutes at room temperature to obtain a transparent liquid composition having a viscosity of 1,000 cps. Thereafter, the prepared coating solution was coated on one side of the PET film with a Bar Coater to a thickness of 50 μm, and irradiated with ultraviolet rays for about 5 seconds using a non-electrode lamp. In this case, the amount of irradiated ultraviolet light was set to 1000 mj or less. Lastly, on the top of the prepared phosphor-coated PET film, a 100 nm thick single-sided and double-sided coating was performed using a Slot Die Coater of JSR Corporation, a low refraction coating liquid TU2359, and then irradiated with ultraviolet rays for about 5 seconds using a non- Respectively. In this case, the amount of irradiated ultraviolet light was set to 1000 mJ or less.

실시예 3Example 3

교반기가 부착된 반응기에 우레탄 (메타)아크릴레이트(한국, 엔티스사 Ebecryl 1290) 400g(40wt%)을 투입하고, 반응성 모노머 희석제인 이소보닐 아크릴레이트 400g(40wt%)과 2-히드록시에틸 아크릴레이트 50g(5wt%)을 투입한 후 레벨링제인 BYK사의 BYK307 10g (1wt%), 형광체 분산제인 BASF사의 FA-4420 10g(1wt%), 소포제인 BYK사의 BYK085 10g(1wt%)을 차례대로 투입한 다음 광개시제인 BASF사의 Irgacure 184 20g(2wt%)을 첨가하고, YAG 형광체 300g(30wt%)을 첨가하여 상온에서 30분 동안 400rpm으로 교반함으로써 점도 1,000cps의 투명한 액체 조성물을 얻었다. 이후, 제조된 코팅액을 PET필름의 일면에 Bar Coater로 50㎛ 두께로 코팅한 다음 무전극 램프를 이용하여 약 5초 동안 자외선을 조사하였다. 이 경우, 조사된 자외선의 광량은 1000mj이하로 하였다. 마지막으로, 제조된 형광체 코팅 PET 필름의 상부에 일본 JSR사 저굴절 코팅액 TU2359를 Slot Die Coater를 이용하여 100nm 두께로 단면 및 양면 코팅을 실시한 다음, 무전극 램프를 이용하여 약 5초 동안 자외선을 조사하였다. 이 경우, 조사된 자외선의 광량은 1000mJ 이하로 하였다.400 g (40 wt%) of urethane (meth) acrylate (Ebecryl 1290, Korea) was added to a reactor equipped with a stirrer, and 400 g (40 wt%) of isobonyl acrylate as a reactive monomer diluent and 2-hydroxyethyl acrylate 10 g (1 wt%) of BYK307, a leveling agent, 10 g (1 wt%) of BYK307, 10 g (1 wt%) of FA-4420, a fluorescent dispersant BASF, and 10 g 20 g (2 wt%) of Irgacure 184, a photoinitiator manufactured by BASF, was added, 300 g (30 wt%) of YAG phosphor was added and stirred at 400 rpm for 30 minutes at room temperature to obtain a transparent liquid composition having a viscosity of 1,000 cps. Thereafter, the prepared coating solution was coated on one side of the PET film with a Bar Coater to a thickness of 50 μm, and irradiated with ultraviolet rays for about 5 seconds using a non-electrode lamp. In this case, the amount of irradiated ultraviolet light was set to 1000 mj or less. Lastly, on the top of the prepared phosphor-coated PET film, a 100 nm thick single-sided and double-sided coating was performed using a Slot Die Coater of JSR Corporation, a low refraction coating liquid TU2359, and then irradiated with ultraviolet rays for about 5 seconds using a non- Respectively. In this case, the amount of irradiated ultraviolet light was set to 1000 mJ or less.

비교예 1Comparative Example 1

저굴절층을 코팅하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 휘도 향상 필름을 제조하였다.A brightness enhancement film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the low refractive layer was not coated.

비교예 2Comparative Example 2

저굴절층을 코팅하지 않은 것을 제외하고는 실시예 3과 동일하게 휘도 향상 필름을 제조하였다.A brightness enhancement film was produced in the same manner as in Example 3, except that the low refractive layer was not coated.

실험예Experimental Example

실시예와 비교예에 따라 제조된 휘도 향상 필름을 A4 사이즈로 재단하여 LCD를 제작한 후 휘도 측정 장치(일본 Topcon 사 BM-7 FAST 색차 휘도계)를 통해 휘도 향상 필름의 정면 휘도 및 색재현율을 측정하였으며, 그 결과를 하기의 [표 1]에 나타내었다. 이 경우, LCD는 반사판과, 광원(Blue LED)과, 휘도 향상 필름과, 프리즘 및 액정표시패널을 순차적으로 배치하여 구성하였다. 참고적으로, 본 발명에서 휘도 향상 필름에 저굴절층을 형성하지 않은 경우의 실험 데이터는 본 출원인이 선출원한 특허출원 제10-2017-0150062호에 구체적으로 개시되어 있다.The brightness enhancement film prepared according to Examples and Comparative Examples was cut into A4 size to produce an LCD. The front brightness and color reproduction rate of the brightness enhancement film were measured through a luminance measuring apparatus (Topcon BM-7 FAST color difference luminance meter, Japan) And the results are shown in Table 1 below. In this case, the LCD is constituted by sequentially arranging a reflective plate, a light source (Blue LED), a brightness enhancement film, a prism, and a liquid crystal display panel. For reference, the experimental data in the case where the low refractive index layer is not formed on the brightness enhancement film in the present invention is specifically disclosed in Patent Application No. 10-2017-0150062 filed by the present applicant.

구분division 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 저굴절층 코팅Low refraction layer coating 단면section 양면both sides 단면section 양면both sides 단면section 양면both sides -- -- 색재현율(%)Color recall (%) 81.381.3 81.381.3 82.682.6 82.682.6 82.282.2 82.282.2 81.381.3 82.682.6 휘도(nit)Brightness (nit) 441441 452452 492492 504504 523523 536536 430430 480480

100 : 휘도 향상 필름 110 : 기재필름
120 : YAG계 형광체층 121 : 고분자 매트릭스
122 : YAG계 형광체 130 : 저굴절층
100: brightness enhancement film 110: substrate film
120: YAG-base phosphor layer 121: polymer matrix
122: YAG-base phosphor 130: low refractive layer

Claims (8)

기재필름과;
상기 기재필름의 상부에 코팅되는 YAG계 형광체층; 및
상기 YAG계 형광체층의 상부 또는 상기 기재필름의 하부에 코팅되는 저굴절층;
을 포함하는 휘도 향상 필름.
A base film;
A YAG-base phosphor layer coated on the base film; And
A low refraction layer coated on an upper portion of the YAG-base phosphor layer or a lower portion of the base film;
.
제 1 항에 있어서,
상기 저굴절층은 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 포함하고, 상기 우레탄 아크릴레이트 올리고머는 불소계 폴리올을 주쇄로 가지는 것을 특징으로 하는 휘도 향상 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the low refraction layer comprises a urethane acrylate oligomer, and the urethane acrylate oligomer has a fluorinated polyol as a main chain.
제 2 항에 있어서,
상기 우레탄 아크릴레이트 올리고머는 상기 저굴절층에 대해 10~20wt% 포함되는 것을 특징으로 하는 휘도 향상 필름.
3. The method of claim 2,
Wherein the urethane acrylate oligomer is contained in an amount of 10 to 20 wt% with respect to the low refraction layer.
제 1 항에 있어서,
상기 저굴절층은 중공나노실리카를 포함하는 것을 특징으로 하는 휘도 향상 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the low refraction layer comprises hollow nanosilica.
제 4 항에 있어서,
상기 중공나노실리카는 상기 저굴절층에 대해 30~70wt% 포함되는 것을 특징으로 하는 휘도 향상 필름.
5. The method of claim 4,
Wherein the hollow nanosilica is contained in an amount of 30 to 70 wt% with respect to the low refractive index layer.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 저굴절층의 코팅 두께는 70~120nm인 것을 특징으로 하는 휘도 향상 필름.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the low refraction layer has a coating thickness of 70 to 120 nm.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 저굴절층의 굴절율은 1.32~1.42인 것을 특징으로 하는 휘도 향상 필름.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the low refraction layer has a refractive index of 1.32 to 1.42.
(a) 고분자 매트릭스에 YAG계 형광체를 균일하게 분산시켜 YAG계 형광체 코팅액을 제조하고, 기재필름의 상부에 상기 YAG계 형광체 코팅액을 코팅하여 YAG계 형광체층을 형성한 후 자외선을 조사하여 경화시키는 단계; 및
(b) 상기 YAG계 형광체층의 상부 또는 상기 기재필름의 하부에 우레탄 아크릴레이트 올리고머 및 중공나노실리카를 포함하는 저굴절 코팅액을 코팅하여 저굴절층을 형성한 후 자외선을 조사하여 경화시키는 단계;
를 포함하는 휘도 향상 필름의 제조방법.
(a) preparing a YAG-based phosphor coating liquid by uniformly dispersing a YAG-base phosphor in a polymer matrix, coating the YAG-based phosphor coating liquid on a base film to form a YAG-based phosphor layer, ; And
(b) coating a low refraction coating liquid containing urethane acrylate oligomer and hollow nanosilica on the upper side of the YAG-base phosphor layer or the lower side of the base film to form a low refraction layer and curing the ultraviolet ray;
Wherein the brightness enhancement film is formed by a method comprising the steps of:
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