KR20190052930A - Drying Apparatus and method - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a moisture evaporation apparatus and a method thereof and, more specifically, to a moisture evaporation apparatus and a method thereof, heating only a region of an object to be welded to evaporate moisture attached on a surface using a vacuum chamber and laser. To this end, the present invention provides the apparatus for evaporating the moisture attached on the surface of the object, comprising: the vacuum chamber holding the object; a laser beam oscillator oscillating a laser beam to heat the surface of the object; a laser scan unit reflecting the laser beam oscillated by the laser beam oscillator to determine a position to which the laser beam is projected; and a control unit controlling operation of the laser beam oscillator and the laser scan unit, wherein the vacuum chamber includes a laser beam permeation window through which the laser beam reflected by the laser scan unit is permeated, and the control unit controls the laser beam oscillator and the laser scan unit to get the laser beam to be projected on a preset region of the surface of the object such that the moisture attached on the preset region is evaporated and the preset regions correspond to the region, to be welded, among the surface of the object.

Description

수분 증발 장치 및 그 방법{Drying Apparatus and method}[0001] Drying Apparatus and Method [0002]

본 발명은 대상물에 대한 수분 증발 장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 진공챔버와 레이저를 이용하여 대상물의 용접할 영역만을 가열하여 표면에 부착된 수분을 증발 시키는 장치 및 그 방법에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to an apparatus and a method for evaporating moisture attached to a surface by heating only a region to be welded by using a vacuum chamber and a laser .

금속의 레이저 용접을 할 때에는 금속 내부 기공의 형성이 품질 불량 문제의 원인이 되는 경우가 많다. 특히, 알루미늄 합금의 레이저 용접을 할 때에는 용접영역 내부에 발생하는 기공이 더욱 문제가 된다.In the case of laser welding of metal, formation of the inner pores of the metal often causes a problem of quality defects. Particularly, when performing laser welding of an aluminum alloy, pores generated in the welding region become more problematic.

한편, 용접된 금속에 균일하게 형성된 기공은 이음부의 강도에 큰 영향을 주지 않으나, 기공이 국부적으로 집중된 경우 또는 기공의 크기가 큰 경우에는 이음부의 강도에 큰 영향을 미쳐 용접영역 내부의 기공을 관리하는 것은 매우 중요한 과제이다. 이러한 기공 발생의 주 원인은 용접시 발생하는 수소이며, 특히 수소의 발생은 알루미늄 합금의 용접시에 큰 영향을 미친다. 기공은 알루미늄 합금이 고온 용융상태일 때의 수소 용해도에 비해 알루미늄 합금이 응고할 때의 수소 용해도가 현저히 낮아서 이 때 발생하는 수소가스가 표면으로 부유하지 못하고 알루미늄 합금 내부 또는 표면에 잔류하면서 발생한다.On the other hand, the pores uniformly formed on the welded metal do not greatly affect the strength of the joint, but when the pores are locally concentrated or the pore size is large, the strength of the joints is greatly influenced, Is a very important task. The main cause of this pore generation is hydrogen generated during welding, and especially the generation of hydrogen has a great influence on the welding of aluminum alloy. The pores are generated when the aluminum alloy solidifies at a temperature lower than the solubility of hydrogen when the aluminum alloy is in a high-temperature molten state, and hydrogen gas generated at that time is not suspended on the surface and remains in the aluminum alloy or on the surface.

알루미늄 합금이 용융될 때 용해되는 수소의 발생원은 다양하겠으나 그 중에서 모재에서 용해된 수소, 표면에 부착된 수분, 산화막에 부착된 수분, 보호가스 중의 수분, 공기 중에서 침투하는 수분 등이 주요 발생원이다.Hydrogen dissolved when the aluminum alloy melts may be varied. Of these, hydrogen dissolved in the base material, water adhering to the surface, moisture adhering to the oxide film, moisture in the protective gas, and moisture penetrating in the air are main sources.

이러한 수소 발생원 중 표면에 부착된 수분을 제거하기 위해서 여러 가지 방법이 있는데 금속 표면을 걸레로 닦거나 드라이기로 말리게 되면 수분이 완전히 제거가 되지 않을 뿐만 아니라 시간 또한 오래 걸린다. 또한, 금속을 직접 가열하는 방법을 사용하더라도 금속 표면을 약 250°C 이상의 고온을 장시간 유지해야 되므로 효율성이 매우 떨어진다.There are various methods to remove the moisture adhering to the surface of the hydrogen generating source. When the surface of the metal is wiped off or dried by the dryer, the water is not completely removed and the time is also long. In addition, even if the method of directly heating the metal is used, the metal surface is required to be maintained at a high temperature of about 250 ° C or more for a long period of time, and thus the efficiency is very low.

그런데 가열하는 방법 중에서도 금속을 진공 내로 투입하고 200℃ 이상으로 가열하면 보다 짧은 시간 내에 수분을 효과적으로 제거할 수 있다. Among the methods of heating, when metal is put into a vacuum and heated to 200 ° C or higher, moisture can be effectively removed in a shorter time.

이를 구현하기 위해 진공 챔버 내에 용접하려는 대상물을 넣고 진공챔버 전체를 가열할 수 있다. 그러나 이러한 방법은 용접하지 않는 영역에 부착된 수분도 제거하므로 불필요한 에너지가 소비되어 시간적, 비용적 부담이 매우 크다.To accomplish this, the object to be welded may be placed in the vacuum chamber and the entire vacuum chamber may be heated. However, this method also removes the moisture adhering to the non-welded area, so that unnecessary energy is consumed and the time and cost burden is very large.

따라서 용접영역만을 가열하여 대상물의 용접영역만을 가열하는 수분 증발 장치 및 그 방법의 개발이 요구되고 있는 실정이다.Therefore, it is required to develop a water evaporation apparatus and method for heating only a welding region of an object by heating only a welding region.

대한민국 특허 공개번호 제 10-2004-0106119 호(공개일 2004년 12월 17일)Korean Patent Publication No. 10-2004-0106119 (published on December 17, 2004)

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서,수분 증발 장치 및 그 방법을 사용자에게 제공하는데 그 목적이 있다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a water evaporation apparatus and a method thereof.

구체적으로, 대상물의 용접영역에 부착된 수분을 효율적으로 제거하는데 그 목적이 있다.Specifically, the object of the present invention is to efficiently remove water adhering to a welding area of an object.

또한, 진공상태로 대상물의 용접영역을 가열함으로써 보다 빠르게 수분을 제거하여 용접시 수소 발생을 줄이는데 그 목적이 있다.Further, the object of the present invention is to reduce the generation of hydrogen during welding by removing moisture more rapidly by heating the welding region of the object in a vacuum state.

또한, 대상물 전체를 가열하는 것이 아닌 용접영역만을 가열하여 불필요한 에너지 소비를 줄이는데 그 목적이 있다.The object of the present invention is to reduce unnecessary energy consumption by heating only the welding area, not heating the entire object.

또한, 대상물의 일부만을 감싸는 진공챔버를 사용하여 진공상태를 만들어야 하는 부피가 작아 시간과 비용을 줄일 수 있는 수분 증발 장치를 사용자에게 제공하는데 그 목적이 있다.It is also an object of the present invention to provide a water evaporation device that can reduce time and cost by using a vacuum chamber that encloses only a part of an object to make a vacuum state.

한편, 본 발명에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description of the present invention are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the precise form disclosed. It can be understood.

상술한 과제를 실현하기 위한 일실시예로서, 대상물의 표면에 부착된 수분을 증발시키는 장치에 있어서, 대상물이 수용되는 진공 챔버; 대상물의 표면을 가열하는 레이저 빔을 발진하는 레이저 빔 발진기; 레이저 빔 발진기에서 발진된 레이저 빔을 반사하여 상기 레이저 빔이 조사되는 위치를 결정하는 레이저 스캔 유닛; 및 레이저 빔 발진기 및 레이저 스캔 유닛의 동작을 제어하는 제어부;를 포함하고, 진공 챔버는 레이저 스캔 유닛에서 반사된 상기 레이저 빔이 투과되는 레이저 빔 투과창을 더 포함하며, 제어부는 레이저 빔이 상기 대상물의 표면 중 기 설정된 영역에 조사되도록 상기 레이저 빔 발진기 및 상기 레이저 스캔 유닛을 제어하여 상기 기 설정된 영역에 부착된 수분을 증발시키고, 기 설정된 영역은 대상물의 표면 중 용접될 영역에 해당하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 장치가 제공된다.As one embodiment for realizing the above-described object, there is provided an apparatus for evaporating moisture attached to a surface of an object, comprising: a vacuum chamber in which an object is accommodated; A laser beam oscillator for oscillating a laser beam for heating a surface of an object; A laser scanning unit which reflects a laser beam emitted from a laser beam oscillator and determines a position where the laser beam is irradiated; And a control unit for controlling operation of the laser beam oscillator and the laser scanning unit, wherein the vacuum chamber further comprises a laser beam transmission window through which the laser beam reflected by the laser scanning unit is transmitted, And the laser beam oscillator and the laser scanning unit are controlled so as to irradiate the laser beam oscillator and the laser scanning unit to a predetermined region of the surface of the substrate, Is provided.

또한, 레이저 빔 발진기는 다이오드 레이저 빔 발진기, 고체 레이저 빔 발진기, 액체 레이저 빔 발진기, 기체 레이저 빔 발진기 및 파이버 레이저 빔 발진기중 어느 하나를 포함할 수 있다. In addition, the laser beam oscillator may include any one of a diode laser beam oscillator, a solid laser beam oscillator, a liquid laser beam oscillator, a gas laser beam oscillator, and a fiber laser beam oscillator.

또한, 레이저 스캔 유닛은 갈바노미터 스캐너, 폴리곤미러 스캐너 및 XY 테이블중 하나를 포함한다. The laser scanning unit also includes one of a galvanometer scanner, a polygon mirror scanner, and an XY table.

또한, 제어부는 레이저 빔 단면의 크기 및 모양 중 적어도 하나가 기 설정된 영역에 대응하여 결정되도록 레이저 빔 발진기를 제어하도록 구성된다. Further, the control unit is configured to control the laser beam oscillator so that at least one of the size and shape of the laser beam cross section is determined corresponding to the predetermined area.

또한, 진공 챔버는 상기 대상물의 일부만을 수용하고, 수용된 대상물의 일부는 대상물 표면의 기 설정된 영역을 포함할 수 있다. Further, the vacuum chamber may receive only a part of the object, and a part of the object to be accommodated may include a predetermined area of the object surface.

또한, 진공 챔버는, 회전자에 연결된 판이 회전함으로써 내부 공기를 외부로 배출하여 진공챔버 내부를 진공으로 만드는 베인 펌프; 및 전자 코일의 전자기력을 사용해 밸브를 개폐시켜 상기 진공 챔버 내의 통기 여부를 결정하는 솔레노이드 밸브;를 더 포함할 수 있다. Also, the vacuum chamber includes a vane pump for rotating the plate connected to the rotor to discharge the internal air to the outside to make the inside of the vacuum chamber vacuum; And a solenoid valve for opening and closing the valve by using the electromagnetic force of the electromagnetic coil to determine whether to allow the vacuum chamber to be vented.

상기와 같은 본 발명의 목적은, 또 다른 카테고리로서, 대상물의 표면에 부착된 수분을 증발시키는 방법에 있어서, 대상물을 진공 챔버에 수용시키는 제 1 단계; 진공 챔버의 내부를 진공 상태로 만드는 제 2 단계; 레이저 빔 발진기를 이용하여 레이저 빔을 발진시키는 제 3 단계; 및 발진된 레이저 빔을 반사하여 대상물의 표면에 조사하는 레이저 스캔 유닛을 이용하여 대상물의 표면 중 기 설정된 영역에 상기 레이저 빔을 조사함으로써 기 설정된 영역에 부착된 수분을 증발시키는 제 4 단계;를 포함하고, 기 설정된 영역은 상기 대상물의 표면 중 용접될 영역에 해당하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 방법에 의해 달성될 수 있다. Another object of the present invention is to provide a method of evaporating moisture attached to a surface of an object, the method comprising: a first step of receiving an object in a vacuum chamber; A second step of bringing the inside of the vacuum chamber into a vacuum state; A third step of oscillating the laser beam using a laser beam oscillator; And a fourth step of evaporating moisture adhered to a predetermined area by irradiating the laser beam to a predetermined area of the surface of the object using a laser scanning unit that reflects the oscillated laser beam and irradiates the surface of the object with the laser beam And the predetermined region corresponds to a region to be welded on the surface of the object.

또한, 레이저 스캔 유닛은 갈바노미터 스캐너, 폴리곤미러 스캐너 및 XY 테이블중 하나를 포함한다. The laser scanning unit also includes one of a galvanometer scanner, a polygon mirror scanner, and an XY table.

또한, 레이저 빔 단면의 크기 및 모양 중 적어도 하나가 상기 기 설정된 영역에 대응하여 결정되도록 발진시킬 수 있다. It is also possible to oscillate so that at least one of the size and shape of the cross section of the laser beam is determined corresponding to the predetermined area.

또한, 진공 챔버는, 회전자에 연결된 판이 회전함으로써 내부 공기를 외부로 배출하여 상기 진공챔버 내부를 진공으로 만드는 베인 펌프; 및 전자 코일의 전자기력을 사용해 밸브를 개폐시켜 상기 진공 챔버의 통기여부를 결정하는 진공 솔레노이드 밸브;를 포함한다. The vacuum chamber includes a vane pump for discharging internal air to the outside by rotating the plate connected to the rotor to make the inside of the vacuum chamber vacuum; And a vacuum solenoid valve for opening and closing the valve by using the electromagnetic force of the electromagnetic coil to determine whether the vacuum chamber is ventilated.

본 발명은 대상물에 대한 수분 증발 장치 및 그 방법을 사용자에게 제공할 수 있다. 구체적으로, 대상물의 용접영역에 부착된 수분을 효율적으로 제거하는데 그 목적이 있다.The present invention can provide a user with a water evaporation apparatus and method for an object. Specifically, the object of the present invention is to efficiently remove water adhering to a welding area of an object.

또한, 진공상태로 대상물의 용접영역을 가열함으로써 보다 빠르게 수분을 제거하여 용접시 수소 발생을 줄일 수 있다.Further, by heating the welding region of the object in a vacuum state, moisture can be removed more quickly, thereby reducing hydrogen generation during welding.

또한, 대상물 전체를 가열하는 것이 아닌 용접영역만을 가열하여 불필요한 에너지 소비를 줄일 수 있다.In addition, unnecessary energy consumption can be reduced by heating only the welding area, not heating the entire object.

또한, 대상물의 일부만을 감싸는 진공챔버를 사용하여 진공상태를 만들어야 하는 부피가 작아 시간과 비용을 줄일 수 있는 수분 증발 장치를 사용자에게 제공할 수 있다.In addition, it is possible to provide the user with a water evaporation device which can reduce the time and cost by using a vacuum chamber that encloses only a part of the object, so that a vacuum state is required.

한편, 본 발명에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.It should be understood, however, that the effects obtained by the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and other effects not mentioned may be clearly understood by those skilled in the art to which the present invention belongs It will be possible.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 일 실시례를 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술적 사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석 되어서는 아니 된다.
도 1은 진공 챔버에 대상물을 넣고 가열시켜 대상물에 부착된 수분을 증발시키는 종래의 실시례를 나타낸다.
도 2는 본 발명의 일 실시례에 따른 갈바노미터 스캐너를 사용하는 수분 증발 장치를 나타낸다.
도 3은 본 발명의 일 실시례에 따른 폴리곤미러 스캐너를 사용하는 수분 증발 장치를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 일 실시례에 따른 대상물의 일부만을 수용하는 진공 챔버를 사용하는 수분 증발 장치를 나타낸다.
도 5는 본 발명의 일 실시례에 따라 대상물에 부착된 수분을 증발시키는 방법을 나타내는 순서도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are incorporated in and constitute a part of the specification, illustrate a preferred embodiment of the invention and, together with the description, serve to provide a further understanding of the technical idea of the invention, It should not be construed as limited.
Fig. 1 shows a conventional embodiment in which an object is placed in a vacuum chamber and heated to evaporate water adhering to the object.
Figure 2 shows a water vaporization device using a galvanometer scanner according to one embodiment of the present invention.
Figure 3 shows a water vaporization device using a polygon mirror scanner in accordance with one embodiment of the present invention.
Figure 4 shows a water vaporization device using a vacuum chamber to receive only a portion of an object in accordance with one embodiment of the present invention.
Figure 5 is a flow chart illustrating a method for evaporating moisture attached to an object in accordance with one embodiment of the present invention.

대상물을 용접할 때 발생하는 수소기공을 줄이기 위해 대상물에 부착된 수분을 제거해야 한다. In order to reduce the hydrogen porosity that occurs when welding the object, the moisture attached to the object must be removed.

도 1은 진공 챔버에 대상물을 넣고 가열시켜 대상물에 부착된 수분을 증발시키는 종래의 실시례를 나타내는 것으로서, 종래에는 이러한 수분을 제거하기 위해 도 1과 같이 진공 챔버 내에 대상물을 넣고 진공 챔버 전체를 가열하는 방식을 사용하였다. 그러나 이 방식은 시간이 오래 걸리고 진공 챔버 전체를 가열하기 때문에 가열에 소요되는 비용 또한 문제가 되었다. 따라서 용접시 문제가 되는 부분인 대상물의 용접 영역만을 가열하여 그 영역에 부착된 수분만을 제거함으로써 시간적, 비용적으로 효율적인 수분 증발 장치를 제안하고자 한다.FIG. 1 shows a conventional embodiment in which an object is placed in a vacuum chamber and heated to evaporate water adhered to the object. Conventionally, in order to remove such moisture, an object is placed in a vacuum chamber as shown in FIG. 1, . However, since this method takes a long time and heats the entire vacuum chamber, the heating cost is also a problem. Therefore, we propose a time-and cost-efficient water evaporation system by heating only the welding area of the object, which is a problem in welding, and removing only the water attached to the area.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시례에 대해서 설명한다. 또한, 이하에 설명하는 일실시례는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 내용을 부당하게 한정하지 않으며, 본 실시 형태에서 설명되는 구성 전체가 본 발명의 해결 수단으로서 필수적이라고는 할 수 없다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the embodiment described below does not unduly limit the contents of the present invention described in the claims, and the entire configuration described in this embodiment is not necessarily essential as the solution means of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시례에 따른 갈바노미터 스캐너를 사용하는 수분 증발 장치를 나타낸다. 도 2를 참조하면 수분 증발 장치는 진공 챔버(100), 레이저 빔 발진기(200), 레이저 스캔 유닛(300) 및 제어부(500) 등을 포함할 수 있다.Figure 2 shows a water vaporization device using a galvanometer scanner according to one embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the water evaporation apparatus may include a vacuum chamber 100, a laser beam oscillator 200, a laser scanning unit 300, a controller 500, and the like.

먼저, 진공 챔버(100)는 내부가 진공이 되는 공간을 말한다. 진공 챔버(100)는 레이저 투과창(110), 베인 펌프(120) 및 진공 솔레노이드 밸브(130) 등을 포함할 수 있다.First, the vacuum chamber 100 refers to a space in which the inside becomes a vacuum. The vacuum chamber 100 may include a laser transmission window 110, a vane pump 120, a vacuum solenoid valve 130, and the like.

레이저 투과창(110)은 대상물에 조사하는 레이저 빔이 외부에서 생성되기 때문에 이 레이저 빔을 진공 챔버(100) 내로 투과시키기 위한 구성이다.The laser transmission window 110 is configured to transmit the laser beam into the vacuum chamber 100 because a laser beam to be irradiated to an object is generated from the outside.

다음으로, 베인 펌프(Vane Pump)(120)는 진공 챔버(100) 내부를 진공으로 만들기 위한 펌프이다. 베인 펌프(120)는 로터리 펌프에 해당하며, 편심 펌프라고도 한다. 원통형 케이싱 안에 편심회전자가 있고 그 홈 속에 판상의 깃이 들어 있으며, 이 베인이 원심력 또는 스프링의 장력에 의해 벽에 밀착되어 회전하면서 유체를 입송하는 형식이다.Next, the vane pump 120 is a pump for making the inside of the vacuum chamber 100 to be evacuated. The vane pump 120 corresponds to a rotary pump and is also referred to as an eccentric pump. In the cylindrical casing, there is an eccentric rotor, a plate-like collar is contained in the groove, and the vane is rotated in close contact with the wall by the centrifugal force or the tension of the spring.

한편, 대상물의 용접부분에 부착된 수분을 진공 상태에서 증발 시키고 대상물을 진공 챔버(100)로부터 꺼낼 때에는 진공 챔버(100) 내부에 공기가 들어오도록 해야 한다. 이 때 공기가 통하는 통로에는 공기를 차단할 수 있는 구성이 필요한데 이를 위해 진공 챔버(100)에는 솔레노이드 밸브(130)가 사용될 수 있다. 솔레노이드 밸브(130)는 전자 코일의 전자기력을 사용해 밸브를 개폐시키는 장치로서, 도선을 나선형으로 감아서 전기를 통전시키면 자기장의 힘에 의해 밸브가 열리고 닫힌다.On the other hand, when moisture adhering to the welding portion of the object is evaporated in a vacuum state and the object is taken out of the vacuum chamber 100, air should be introduced into the vacuum chamber 100. In this case, a configuration in which air can be shut off is required in the passage through which the air passes. For this, a solenoid valve 130 may be used in the vacuum chamber 100. The solenoid valve 130 is a device that opens and closes a valve by using the electromagnetic force of an electromagnetic coil. When the electric wire is spirally wound and energized, the valve is opened and closed by the magnetic field force.

다음으로, 레이저 빔 발진기(200)는 대상물의 용접영역에 부착된 수분을 증발시키기 위한 레이저 빔을 발진하는 구성이다. 레이저 빔 발진기(200)는 레이저 가공에 사용되는 레이저 빔을 발진하는데, 레이저 빔 발진기(200)는 그 사용 매질에 따라 Nd:YAG 레이저와 같은 고체 레이저 발진기, 액체 레이저 발진기, CO2 레이저와 같은 기체 레이저 발진기 및 파이버 레이저 발진기 등으로 구분되고, 본 발명에서는 열원이 되는 어떠한 레이저 빔 발진기든지 사용될 수 있다. 예를 들어, 고체 레이저 빔 발진기는 결정 또는 유리 물질 중에 희토류나 천이 금속 이온을 도프한 것을 활성 매질로서 사용하는 광여기형(光?起形) 레이저이다. 매질로는 루비 레이저, 유리 레이저, YAG레이저 등이 사용될 수 있다.Next, the laser beam oscillator 200 is configured to oscillate a laser beam for evaporating water adhering to the welding area of the object. The laser beam oscillator 200 oscillates a laser beam used for laser processing. The laser beam oscillator 200 may be a solid laser oscillator such as an Nd: YAG laser, a liquid laser oscillator, a gas laser such as a CO2 laser A laser oscillator, and a fiber laser oscillator, and any laser beam oscillator serving as a heat source can be used in the present invention. For example, a solid laser beam oscillator is a photo-excitation type (light-induced) laser that uses crystal or glass material doped with rare earth or transition metal ions as an active medium. The medium may be a ruby laser, a glass laser, or a YAG laser.

또한, 액체 레이저 발진기는 레이저 매체(媒體)가 액체인 레이저 발진기를 말한다. 액체 레이저 매체를 넣은 용기의 양단부에 반사경을 달고 레이저 매체를 광조사(光照射)로 여기(勵起)시킨다. 또한, 기체 레이저 빔 발진기는 기체를 매질로 사용하여 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진기이다. 기체 매질로서 헬륨, 네온, 아르곤, 이산화탄소 등이 쓰인다. 매질이 기체이기 때문에 유리관 속에 매질을 가두어 넣고, 유리관 양쪽 끝에 붙인 전극에 의한 방전 에너지로써 펌핑을 한다. 현재 많이 사용되고 있는 것은 이산화탄소 레이저인데, 에너지 효율이 매우 높아서 수십 W에서 수십 kW까지의 출력을 낼 수가 있다.The liquid crystal oscillator refers to a laser oscillator in which the laser medium is liquid. A reflector is placed on both ends of a container containing a liquid laser medium, and the laser medium is excited by light irradiation. The gas laser beam oscillator is a laser oscillator that oscillates a laser beam using a gas as a medium. As the gas medium, helium, neon, argon and carbon dioxide are used. Because the medium is gas, the medium is confined in the glass tube and pumped by the discharge energy by the electrode attached to both ends of the glass tube. The carbon dioxide laser is widely used at present, but the energy efficiency is very high, so it can produce output ranging from several tens W to several tens of kW.

또한, 파이버 레이저 빔 발진기는 광섬유 속에 능동 매질을 지닌 레이저 발진기이다. 여기 매질에 저준위의 희토류 할로겐화물을 첨가한 레이저 발진기이며, 넓은 범위에 걸쳐서 출력 조절이 가능하므로 광대역으로 레이저 빔을 조사할 수 있다.A fiber laser beam oscillator is a laser oscillator having an active medium in an optical fiber. It is a laser oscillator with a low-level rare-earth halide added to the medium, and its power can be controlled over a wide range, so that a laser beam can be irradiated in a wide band.

또한, 다이오드 레이저 빔 발진기는 반도체로 만들어지는 레이저 발진기이다. 다이오드 레이저 발진기의 특징은 소자 자체는 수백 ㎛각(角) 정도의 크기와 소형으로서 구동전력이 작아 가하는 전류에 의해 레이저광을 직접 변조할 수 있고, 반도체 재료의 선택 조합에 의하여 가시(可視)에서 적외에 미치는 발광파장을 얻게 되는 것 등이다.In addition, the diode laser beam oscillator is a laser oscillator made of semiconductor. The diode laser oscillator is characterized in that the device itself can be directly modulated by a current of a small size and a small driving power with a size of about several hundreds of micrometers (square) and can be directly modulated by visible light And the light emitting wavelengths exerted by the enemy are obtained.

다이오드 레이저 빔 발진기의 동작원리 특징은 유도방출의 과정이 전도대(傳導帶)와 가전자대(價電子帶) 혹은 불순물대간의 천이에 의하여 행해지고, 여기방법은 광여기, 전자 빔여기, 주입(注入)여기 등이 있고, 패브리ㆍ페로 공진기를 구성하는 반사경은 결정의 벽개면(壁開面)을 이용하여 구성될 수 있다.The operation principle of the diode laser beam oscillator is characterized in that the process of induced emission is performed by a transition between a conduction band and a valence band or an impurity band, and the excitation method includes a photo excitation, an electron beam excitation, And the reflector constituting the Fabry-Perot resonator can be constituted by using the cleaved surface of the crystal.

한편, 레이저 빔 발진기(200)가 발진하는 레이저 빔은 사각빔, 원형빔 및 라인 빔 등이 될 수 있으며, 이는 레이저 빔을 조사하려는 영역에 따라 달라질 수 있다.Meanwhile, the laser beam oscillated by the laser beam oscillator 200 may be a square beam, a circular beam, a line beam, or the like, depending on the region to be irradiated with the laser beam.

또한, 본 발명에서는 수분을 증발시키기 위한 열원으로서 레이저 빔 발진기(200)를 사용하지만, 열원으로서 레이저 빔 발진기(200) 뿐만 아니라 집광성이 좋은 LED(light emitting diode) 또한 사용될 수 있다.Also, in the present invention, a laser beam oscillator 200 is used as a heat source for evaporating moisture, but an LED (light emitting diode) having good light-condensing ability as well as a laser beam oscillator 200 can also be used as a heat source.

다음으로, 레이저 스캔 유닛(300)은 레이저 빔 발진기(200)에서 발진된 레이저 빔을 대상물에 조사하기 위해, 레이저 빔을 반사하여 조사 위치를 결정하는 구성이다.Next, the laser scanning unit 300 is configured to reflect the laser beam to determine the irradiation position in order to irradiate the laser beam emitted from the laser beam oscillator 200 to the object.

레이저 스캔 유닛(300)으로는 갈바노미터 스캐너(310)(Galvanometer Scanner), 폴리곤미러 스캐너(320)(Polygon Mirror Scanner) 및 XY 테이블(XY Table)(330) 등 레이저 빔의 조사 위치를 결정할 수 있는 어떠한 장치든지 사용될 수 있다.The laser scanning unit 300 can determine the irradiation position of the laser beam such as a galvanometer scanner 310, a polygon mirror scanner 320, and an XY table 330 Any device that has it can be used.

먼저, 갈바노미터 스캐너(310)는 대상물의 표면에 부착된 수분을 증발시키기 위해 레이저 빔 발진기(200)로부터 발진된 레이저 빔을 반사하여 대상물을 향해 조사할 수 있다. 또한, 갈바노미터 스캐너(310)는 레이저 빔의 조사 위치를 제어하기 위해 2 개의 갈바노미터를 사용할 수 있다. 2개의 갈바노미터 각각은 x좌표계를 제어하는 갈바노미터(311) 및 y좌표계를 제어하는 갈바노미터(312)로서 대상물에 레이저 빔을 조사할 수 있다.First, the galvanometer scanner 310 reflects a laser beam emitted from the laser beam oscillator 200 to evaporate water adhering to the surface of the object, and irradiate the object. Also, the galvanometer scanner 310 can use two galvanometers to control the irradiation position of the laser beam. Each of the two galvanometers is capable of irradiating the object with a laser beam as a galvanometer 311 for controlling the x-coordinate system and a galvanometer 312 for controlling the y-coordinate system.

다음으로, 도 3을 참조하여 폴리곤미러 스캐너에 대해 설명한다. 도 3은 본 발명의 일 실시례에 따른 폴리곤미러 스캐너를 사용하는 수분 증발 장치를 나타낸다. 도 3을 참조하면 폴리곤미러 스캐너(320)는 그 둘레면이 다각면으로 형성되어 고속으로 회전될 수 있으며, 그 회전에 따른 반사면의 각도 변화에 따라 레이저 빔 발진기에서 발진되는 레이버 빔을 반사하는 각도가 상이하게 되어 있을 수 있다. 이러한 폴리곤미러(321)에는 복수개의 반사면이 등 간격으로 배치되어 있으며, 상기 스핀들모터에 회전 가능하게 지지되어 있다. 스핀들모터는 정속으로 회전하도록 제어될 수 있다. 또한, 폴리곤미러 스캐너(320)에는 폴리곤 미러가 반사한 레이저 빔을 반사시켜 대상물에 조사하기 위해 반사경(322)이 더 포함될 수 있다.Next, the polygon mirror scanner will be described with reference to FIG. Figure 3 shows a water vaporization device using a polygon mirror scanner in accordance with one embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, the polygon mirror scanner 320 has a polygonal surface and can be rotated at a high speed. The polygon mirror scanner 320 reflects a laser beam oscillated in the laser beam oscillator in accordance with a change in angle of a reflecting surface The angles may be different. In the polygon mirror 321, a plurality of reflecting surfaces are arranged at equal intervals and supported rotatably by the spindle motor. The spindle motor can be controlled to rotate at a constant speed. The polygon mirror scanner 320 may further include a reflector 322 for reflecting the laser beam reflected by the polygon mirror and irradiating the object with the laser beam.

다음으로, XY테이블(330)은 레이저 빔 발진기(200)에서 발진된 레이저 빔이 대상물에 조사되도록 반사시키는 구성이다. XY테이블(330)은 상기 설명한 갈바노미터 스캐너(310)와 폴리곤미러 스캐너(320)와 달리 반사각을 제어하지 않고 XY테이블 자체가 X축 및 Y축으로 움직이며 대상물에 레이저 빔이 조사되도록 할 수 있다.Next, the XY table 330 is configured to reflect the laser beam emitted from the laser beam oscillator 200 so that the laser beam is irradiated on the object. Unlike the galvanometer scanner 310 and the polygon mirror scanner 320 described above, the XY table 330 can move the XY table itself in the X and Y axes without controlling the angle of reflection, have.

다음으로, 도 4를 참조하여 대상물의 일부만을 수용하는 진공 챔버(100)를 이용하는 수분 증발 장치에 대해 설명한다. 도 4는 본 발명의 일 실시례에 따른 대상물의 일부만을 수용하는 진공 챔버를 사용하는 수분 증발 장치를 나타낸다. 도 4를 참조하면 진공 챔버(400)가 대상물의 일부만을 감싸는 구조의 수분 증발 장치가 구현될 수 있다. 즉, 대상물의 용접부위를 포함하는 부분만 진공 챔버(400)에 들어가는 것이다.Next, with reference to FIG. 4, a water evaporation apparatus using a vacuum chamber 100 that accommodates only a part of an object will be described. Figure 4 shows a water vaporization device using a vacuum chamber to receive only a portion of an object in accordance with one embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, a water evaporation apparatus having a structure in which a vacuum chamber 400 surrounds only a part of an object can be realized. That is, only the portion including the welded portion of the object enters the vacuum chamber 400.

이와 같이 대상물의 일부만이 수용되는 진공 챔버(400)의 부피는 대상물 전체를 감싸는 진공 챔버(100)의 부피보다 작으므로, 진공 챔버(400) 내부를 진공 상태로 빠르게 만들 수 있으며, 이에 사용되는 에너지 작아 효율적인 수분 증발을 할 수 있다. Since the volume of the vacuum chamber 400 in which only a part of the object is accommodated is smaller than the volume of the vacuum chamber 100 surrounding the entire object, the inside of the vacuum chamber 400 can be rapidly made into a vacuum state, So that efficient water evaporation can be achieved.

다음으로, 제어부(500)는 본 발명의 수분 증발 장치의 전반적인 동작을 제어하는 구성이다. 제어부(500)는 진공 챔버(100, 400) 내부가 진공상태가 되도록 진공 펌프를 제어할 수 있고, 공기가 통하도록 밸브를 제어할 수도 있다. 또한, 제어부(500)는 대상물의 레이저 빔을 조사하려는 영역에 대응하여 레이저 빔 단면의 크기 및 모양이 결정되도록 레이저 빔 발진기(200)을 제어할 수 있다. 예를 들어, 레이저 빔을 조사하려는 영역이 넓다면 단면적이 넓은 레이저 빔을 발진시키도록 레이저 빔 발진기(200)를 제어할 수 있고, 조사하려는 영역이 좁다면 단면적이 좁은 레이저 빔을 발진시키도록 제어할 수 있다. Next, the control unit 500 controls the overall operation of the water evaporation apparatus of the present invention. The control unit 500 may control the vacuum pump so that the inside of the vacuum chamber 100 or 400 is in a vacuum state, and may control the valve to allow air to pass therethrough. In addition, the controller 500 may control the laser beam oscillator 200 such that the size and shape of the cross section of the laser beam are determined corresponding to the area of the object to be irradiated with the laser beam. For example, if the area to be irradiated with the laser beam is wide, the laser beam oscillator 200 can be controlled to oscillate the laser beam having a large cross-sectional area. If the area to be irradiated is narrow, can do.

또한, 제어부(500)는 레이저 스캔 유닛(300)을 제어하여 레이저 빔이 조사되는 위치를 제어할 수 있다. 예를 들어, 레이저 스캔 유닛(300)으로서 갈바노미터 스캐너(310)가 사용된다면 갈바노미터 스캐너(300)의 X축 제어 갈바노미터(311)와 Y축 제어 갈바노미터(312)를 제어하여 대상물의 표면 중 수분을 증발시키려는 영역에만 레이저 빔이 조사되도록 할 수 있다. In addition, the control unit 500 controls the laser scanning unit 300 to control the position where the laser beam is irradiated. For example, if a galvanometer scanner 310 is used as the laser scanning unit 300, the X-axis control galvanometer 311 and the Y-axis control galvanometer 312 of the galvanometer scanner 300 may be controlled So that the laser beam can be irradiated to only the area of the surface of the object where moisture is to be evaporated.

이하에서는 도 5를 참조하여 전술한 구성들을 기초로 대상물에 대한 수분 증발 방법에 대해 구체적으로 설명한다.Hereinafter, a method of evaporating water for an object will be described in detail with reference to FIG.

도 5는 본 발명의 일 실시례에 따라 대상물에 부착된 수분을 증발시키는 방법을 나타내는 순서도이다. 먼저, 대상물을 진공 챔버(100)에 투입한다(S100). 이 때 진공 챔버(100)에는 레이저 빔이 투과되기 위한 창이 설치되어야 한다. Figure 5 is a flow chart illustrating a method for evaporating moisture attached to an object in accordance with one embodiment of the present invention. First, the object is put into the vacuum chamber 100 (S100). At this time, a window for transmitting a laser beam must be installed in the vacuum chamber 100.

다음으로, 진공 챔버(100) 내의 공간을 진공상태로 만든다(S200). 진공상태를 만들 때에는 베인 펌프(120)가 사용될 수 있다. 또한, 진공 상태에서 대상물의 수분을 증발시키고 대상물을 꺼낼 때에는 내부에 공기가 주입되는데, 이 때 진공 솔레노이드 밸브(130)가 사용될 수 있다. Next, the space in the vacuum chamber 100 is evacuated (S200). A vane pump 120 may be used to create a vacuum state. In addition, when moisture of the object is evaporated in the vacuum state and the object is taken out, air is injected into the interior of the object. At this time, the vacuum solenoid valve 130 may be used.

다음으로, 레이저 빔 발진기(200)를 이용하여 레이저 빔을 발진시킨다(S300). 레이저 빔 발진기(200)로는 고체, 액체, 기체, 파이버 및 다이오드 레이저 빔 발진기(200)가 사용될 수 있다. 또한, 레이저 빔으로는 사각빔, 원형빔 및 라인빔 등 필요에 따라 어떠한 종류의 레이저 빔이든지 사용될 수 있다. Next, the laser beam oscillator 200 is used to oscillate the laser beam (S300). As the laser beam oscillator 200, solid, liquid, gas, fiber and diode laser beam oscillators 200 may be used. In addition, any type of laser beam can be used as the laser beam, such as a square beam, a circular beam, and a line beam.

다음으로, 레이저 스캔 유닛(300)을 이용하여 대상물의 용접할 영역에 레이저를 조사시킨다(S400). 레이저 빔 발진기(200)에서 발진된 레이저 빔을 대상물의 용접영역의 조사시키기 위해 그 조사 위치를 결정하는 레이저 스캔 유닛(300)으로는 갈바노미터 미러(310), 폴리곤미러 스캐너(320)가 사용될 수 있고 XY 테이블(330) 등으로 구동될 수 있다.Next, the laser is irradiated to the area to be welded of the object using the laser scanning unit 300 (S400). The galvanometer mirror 310 and the polygon mirror scanner 320 are used as the laser scanning unit 300 for determining the irradiation position of the laser beam oscillated by the laser beam oscillator 200 in order to irradiate the welding area of the object And can be driven by an XY table 330 or the like.

다음으로, 대상물을 진공 챔버(100)에서 빼낸다(S500). 대상물의 용접영역에 부착된 수분이 증발되고 나면 진공 챔버(100)에서 대상물을 빼내면 된다. 빼낸 대상물의 용접영역에 부착된 수분이 증발하였으므로 용접을 하면 되고, 수소 발생이 현저히 줄어들 것이다.Next, the object is taken out of the vacuum chamber 100 (S500). After moisture adhering to the welding area of the object is evaporated, the object can be removed from the vacuum chamber 100. Since the moisture adhered to the welding area of the object to be extracted has evaporated, the welding can be performed, and hydrogen generation will be significantly reduced.

상기와 같이 설명된 대상물에 대한 수분 증발 장치 및 그 방법은 상기 설명된 실시예들의 구성과 방법이 한정되게 적용될 수 있는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다. It is to be understood that the above-described embodiments of the water evaporation apparatus and method for evaporating water according to the above-described embodiments are not limited to the configuration and method of the embodiments described above, but the embodiments can be applied to all or some of the embodiments May be selectively combined.

상기와 같이 설명한 발명은 대상물에 대한 수분 증발 장치 및 그 방법을 사용자에게 제공할 수 있다. 구체적으로, 대상물의 용접영역에 부착된 수분을 효율적으로 제거하는데 그 목적이 있다. 또한, 진공상태로 대상물의 용접영역을 가열함으로써 보다 빠르게 수분을 제거하여 용접시 수소 발생을 줄일 수 있다. 또한, 대상물 전체를 가열하는 것이 아닌 용접영역만을 가열하여 불필요한 에너지 소비를 줄일 수 있다. 또한, 대상물의 일부만을 감싸는 진공챔버를 사용하여 진공상태를 만들어야 하는 부피가 작아 시간과 비용을 줄일 수 있는 수분 증방 장치를 사용자에게 제공할 수 있다.The above-described invention can provide a user with a water evaporation apparatus and method for an object. Specifically, the object of the present invention is to efficiently remove water adhering to a welding area of an object. Further, by heating the welding region of the object in a vacuum state, moisture can be removed more quickly, thereby reducing hydrogen generation during welding. In addition, unnecessary energy consumption can be reduced by heating only the welding area, not heating the entire object. In addition, it is possible to provide the user with a water leveling device which can reduce the time and cost by using a vacuum chamber that encloses only a part of the object, so that a vacuum state is required.

한편, 본 발명에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.It should be understood, however, that the effects obtained by the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and other effects not mentioned may be clearly understood by those skilled in the art to which the present invention belongs It will be possible.

100 : 진공챔버
110 : 레이저 투과창
120 : 베인 펌프
130 : 솔레노이드 밸브
200 : 레이저 빔 발진기
300 : 레이저 스캔 유닛
310 : 갈바노미터 스캐너
311 : X축 제어 갈바노미터
312 : Y축 제어 갈바노미터
320 : 폴리곤미러 스캐너
321 : 폴리곤미러
322 : 반사경
330 : XY 테이블
400 : 대상물의 일부만 수용하는 진공챔버
410 : 레이저 투과창
100: Vacuum chamber
110: laser transmission window
120: Vane pump
130: Solenoid valve
200: laser beam oscillator
300: laser scanning unit
310: Galvanometer Scanner
311: X-axis control galvanometer
312: Y-axis control galvanometer
320: polygon mirror scanner
321: polygon mirror
322: reflector
330: XY table
400: Vacuum chamber containing only a part of the object
410: laser transmission window

Claims (10)

대상물의 표면에 부착된 수분을 증발시키는 장치에 있어서,
상기 대상물이 수용되는 진공 챔버;
상기 대상물의 표면을 가열하는 레이저 빔을 발진하는 레이저 빔 발진기;
상기 레이저 빔 발진기에서 발진된 레이저 빔을 반사하여 상기 레이저 빔이 조사되는 위치를 결정하는 레이저 스캔 유닛; 및
상기 레이저 빔 발진기 및 상기 레이저 스캔 유닛의 동작을 제어하는 제어부;를 포함하고,
상기 진공 챔버는 상기 레이저 스캔 유닛에서 반사된 상기 레이저 빔이 투과되는 레이저 빔 투과창을 더 포함하며,
상기 제어부는 상기 레이저 빔이 상기 대상물의 표면 중 기 설정된 영역에 조사되도록 상기 레이저 빔 발진기 및 상기 레이저 스캔 유닛을 제어하여 상기 기 설정된 영역에 부착된 수분을 증발시키고,
상기 기 설정된 영역은 상기 대상물의 표면 중 용접될 영역에 해당하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 장치.
An apparatus for evaporating water attached to a surface of an object,
A vacuum chamber in which the object is accommodated;
A laser beam oscillator for oscillating a laser beam for heating the surface of the object;
A laser scanning unit for reflecting a laser beam emitted from the laser beam oscillator and determining a position to which the laser beam is irradiated; And
And a control unit for controlling operations of the laser beam oscillator and the laser scanning unit,
Wherein the vacuum chamber further comprises a laser beam transmission window through which the laser beam reflected by the laser scanning unit is transmitted,
Wherein the controller controls the laser beam oscillator and the laser scanning unit so that the laser beam is irradiated on a predetermined area of the surface of the object to evaporate moisture adhered to the predetermined area,
Wherein the predetermined region corresponds to an area to be welded on the surface of the object.
제 1항에 있어서,
상기 레이저 빔 발진기는 다이오드 레이저 빔 발진기, 고체 레이저 빔 발진기, 액체 레이저 빔 발진기, 기체 레이저 빔 발진기 및 파이버 레이저 빔 발진기중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the laser beam oscillator comprises any one of a diode laser beam oscillator, a solid laser beam oscillator, a liquid laser beam oscillator, a gas laser beam oscillator and a fiber laser beam oscillator.
제 1항에 있어서,
상기 레이저 스캔 유닛은 갈바노미터 스캐너, 폴리곤미러 스캐너 및 XY 테이블중 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 장치.
The method according to claim 1,
Characterized in that the laser scanning unit comprises one of a galvanometer scanner, a polygon mirror scanner and an XY table.
제 1 항에 있어서,
상기 제어부는 상기 레이저 빔 단면의 크기 및 모양 중 적어도 하나가 상기 기 설정된 영역에 대응하여 결정되도록 상기 레이저 빔 발진기를 제어하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the controller controls the laser beam oscillator so that at least one of a size and a shape of the cross section of the laser beam is determined corresponding to the predetermined area.
제 1 항에 있어서,
상기 진공 챔버는 상기 대상물의 일부만을 수용하고,
상기 수용된 대상물의 일부는 상기 대상물 표면의 기 설정된 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 장치.
The method according to claim 1,
The vacuum chamber accommodates only a part of the object,
Wherein a part of the accommodated object includes a predetermined area of the object surface.
제 1 항에 있어서,
상기 진공 챔버는,
회전자에 연결된 판이 회전함으로써 내부 공기를 외부로 배출하여 상기 진공챔버 내부를 진공으로 만드는 베인 펌프; 및
전자 코일의 전자기력을 사용해 밸브를 개폐시켜 상기 진공 챔버 내의 통기 여부를 결정하는 솔레노이드 밸브;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 장치.
The method according to claim 1,
The vacuum chamber includes:
A vane pump for discharging internal air to the outside by rotating the plate connected to the rotor to make the inside of the vacuum chamber vacuum; And
And a solenoid valve for opening / closing the valve by using the electromagnetic force of the electromagnetic coil to determine whether or not to allow the vacuum chamber to be ventilated.
대상물의 표면에 부착된 수분을 증발시키는 방법에 있어서,
상기 대상물을 진공 챔버에 수용시키는 제 1 단계;
상기 진공 챔버의 내부를 진공 상태로 만드는 제 2 단계;
레이저 빔 발진기를 이용하여 레이저 빔을 발진시키는 제 3 단계; 및
상기 발진된 레이저 빔을 반사하여 상기 대상물의 표면에 조사하는 레이저 스캔 유닛을 이용하여 상기 대상물의 표면 중 기 설정된 영역에 상기 레이저 빔을 조사함으로써 상기 기 설정된 영역에 부착된 수분을 증발시키는 제 4 단계;를 포함하고,
상기 기 설정된 영역은 상기 대상물의 표면 중 용접될 영역에 해당하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 방법.
A method for evaporating moisture attached to a surface of an object,
A first step of receiving the object in a vacuum chamber;
A second step of bringing the inside of the vacuum chamber into a vacuum state;
A third step of oscillating the laser beam using a laser beam oscillator; And
A fourth step of evaporating moisture adhered to the predetermined area by irradiating the laser beam to a predetermined area of the surface of the object using a laser scanning unit that reflects the oscillated laser beam and irradiates the surface of the object with the laser beam, Lt; / RTI >
Wherein the predetermined area corresponds to an area to be welded on the surface of the object.
제 7항에 있어서,
상기 레이저 스캔 유닛은 갈바노미터 스캐너, 폴리곤미러 스캐너 및 XY 테이블중 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the laser scanning unit comprises one of a galvanometer scanner, a polygon mirror scanner and an XY table.
제 7항에 있어서,
상기 레이저 빔 단면의 크기 및 모양 중 적어도 하나가 상기 기 설정된 영역에 대응하여 결정되도록 발진시키는 것을 특징으로 하는 수분 증발 방법.
8. The method of claim 7,
Wherein at least one of a size and a shape of the cross section of the laser beam is determined so as to correspond to the predetermined area.
제 7항에 있어서,
상기 진공 챔버는,
회전자에 연결된 판이 회전함으로써 내부 공기를 외부로 배출하여 상기 진공챔버 내부를 진공으로 만드는 베인 펌프; 및
전자 코일의 전자기력을 사용해 밸브를 개폐시켜 상기 진공 챔버의 통기여부를 결정하는 진공 솔레노이드 밸브;를 포함하는 것을 특징으로 하는 수분 증발 방법.
8. The method of claim 7,
The vacuum chamber includes:
A vane pump for discharging internal air to the outside by rotating the plate connected to the rotor to make the inside of the vacuum chamber vacuum; And
And a vacuum solenoid valve for opening and closing the valve by using an electromagnetic force of the electromagnetic coil to determine whether the vacuum chamber is ventilated.
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