KR20190048569A - Organic Light Emitting Display Device - Google Patents

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KR20190048569A
KR20190048569A KR1020170143643A KR20170143643A KR20190048569A KR 20190048569 A KR20190048569 A KR 20190048569A KR 1020170143643 A KR1020170143643 A KR 1020170143643A KR 20170143643 A KR20170143643 A KR 20170143643A KR 20190048569 A KR20190048569 A KR 20190048569A
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박후인
정일기
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

According to the present invention, the present invention relates to an organic light emitting display device comprising: first to fourth pixels provided on a substrate and including a capacitor region; a first data line transferring a data signal to the first and second pixels; a second data line transferring the data signal to the third and fourth pixels; a first scan line transferring a scan signal to the second and third pixels; and a second scan line transferring the scan signal to the first and fourth pixels. The first and second data lines include a data line hole formed for supplying data voltage to each pixel. The first and second scan lines are located between the data line hole and the capacitor region. Therefore, the present invention can optimize an aperture ratio to extend a lifetime and save a drive IC to reduce manufacturing costs.

Description

유기 발광 표시 장치{Organic Light Emitting Display Device}[0001] The present invention relates to an organic light emitting display device,

본 출원은 유기 발광 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting display.

유기 발광 표시 장치는 전자(electron)를 주입하는 음극(cathode)과 정공(hole)을 주입하는 양극(anode) 사이에 발광층이 형성된 구조를 가지며, 음극에서 발생된 전자 및 양극에서 발생된 정공이 발광층 내로 주입되면 주입된 전자 및 정공이 결합하여 엑시톤(exciton)이 생성되고, 생성된 엑시톤이 여기상태(excited state)에서 기저상태(ground state)로 떨어지면서 발광을 하는 원리를 이용한 표시 장치이다. The OLED display has a structure in which a light emitting layer is formed between a cathode for injecting electrons and an anode for injecting holes, and electrons generated in the cathode and holes generated in the anode are injected into the light- Injected electrons and holes combine to form an exciton, and the generated exciton emits light while falling from an excited state to a ground state.

이와 같은 유기 발광 표시 장치는 스위칭 소자로서 트랜지스터를 구비하고 있는데, 트랜지스터는 게이트 전극이 액티브층 아래에 위치하는 보텀 게이트(Bottom Gate) 구조와 게이트 전극이 액티브층 위에 위치하는 탑 게이트(Top Gate) 구조로 구분된다.The organic light emitting display includes a bottom gate structure in which a gate electrode is located below an active layer, a top gate structure in which a gate electrode is located on an active layer, Respectively.

이러한 유기 발광 표시 장치는 스캔 라인들을 구동하기 위한 스캔 구동부와 데이터 라인들을 구동하기 위한 데이터 구동부를 포함하며, 유기 발광 표시 장치가 대형화 및 고해상도화 될수록 요구되는 드라이브 IC의 갯수는 증가하고 있다.The OLED display includes a scan driver for driving the scan lines and a data driver for driving the data lines. As the OLED display becomes larger and higher in resolution, the number of drive ICs required increases.

그런데, 드라이브 IC는 타 소자에 비해 상대적으로 매우 고가이기 때문에, 최근에는 유기 발광 표시 장치의 생산단가를 낮추기 위하여 드라이브 IC 갯수를 줄이기 위한 여러 방법들이 연구 개발되고 있으며, 이중 하나로써 기존 대비 스캔 라인들의 갯수는 2배로 늘리는 대신 데이터 라인들의 갯수를 1/2배로 줄여 필요로 하는 드라이브 IC의 갯수를 반으로 줄이면서도 기존과 동일 해상도를 구현하는 DRD(Double Rate Driving) 구동방식이 제안되었다.In recent years, various methods for reducing the number of drive ICs have been researched and developed in order to lower the production cost of organic light emitting display devices. A DRD (Double Rate Driving) driving method has been proposed which reduces the number of data lines by half, reducing the number of drive ICs required by half, while realizing the same resolution as the conventional one.

이상 설명한 배경기술의 내용은 본 출원의 발명자가 본 출원의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 출원의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 출원의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.The contents of the background art described above are technical information acquired by the inventor of the present application for the purpose of deriving the present application or acquired in the process of deriving the present application, There is no number.

본 출원은 DRD 구동방식의 유기 발광 표시 장치에서 개구율을 최적화하는 유기 발광 표시 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.The present invention provides an organic light emitting diode (OLED) display device that optimizes an aperture ratio in an organic light emitting display device of a DRD driving type.

전술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는, 기판 상에 마련되고 커패시터 영역을 포함하는 제 1 내지 제 4 화소, 제 1 및 제 2 화소에 데이터 신호를 전달하는 제 1 데이터 라인, 제 3 및 제 4 화소에 데이터 신호를 전달하는 제 2 데이터 라인, 제 2 및 제 3 화소에 스캔 신호를 전달하는 제 1 스캔 라인, 제 1 및 제 4 화소에 스캔 신호를 전달하는 제 2 스캔 라인을 포함하고, 제 1 및 제 2 데이터 라인은 각 화소에 데이터 전압을 공급하기 위하여 형성된 데이터 라인 홀을 포함하고, 제 1 및 제 2 스캔 라인은 데이터 라인 홀과 커패시터 영역 사이에 위치한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an OLED display device including first to fourth pixels provided on a substrate and including a capacitor region, first data for transmitting a data signal to first and second pixels, A first scan line for transferring a scan signal to the second and third pixels, a second scan line for transferring a scan signal to the first and fourth pixels, Wherein the first and second data lines include a data line hole formed to supply a data voltage to each pixel, and the first and second scan lines are located between the data line hole and the capacitor region.

본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는 개구율을 최적화하는 DRD 구동방식에 의하여, 수명을 연장할 수 있고, 드라이브 IC를 절감하여 제조 단가를 낮출 수 있다.The organic light emitting display according to the present application can extend the life span by the DRD driving method that optimizes the aperture ratio, and can reduce the manufacturing cost by saving the drive IC.

위에서 언급된 본 출원의 효과 외에도, 본 출원의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 출원이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.In addition to the effects of the present application discussed above, other features and advantages of the present application will be set forth below, or may be apparent to those skilled in the art to which the present application belongs from such description and description.

도 1은 본 출원의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 2는 도 1의 A 부분으로, 제 1 화소 및 제 2 화소를 구체적으로 도시한 평면도이다.
도 3은 도 2의 I-I'에 따른 단면도이다.
도 4는 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 회로도이다.
1 is a schematic plan view of an OLED display according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing the first pixel and the second pixel in detail in part A of FIG.
3 is a cross-sectional view taken along line I-I 'of Fig.
4 is a circuit diagram of an OLED display according to an example of the present application.

본 출원의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 일 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 출원은 이하에서 개시되는 일 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 출원의 일 예들은 본 출원의 개시가 완전하도록 하며, 본 출원이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 출원은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Brief Description of the Drawings The advantages and features of the present application, and how to accomplish them, will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. It should be understood, however, that this application is not limited to the examples disclosed herein, but may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the specific embodiments set forth herein, To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and this application is only defined by the scope of the claims.

본 출원의 일 예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 출원이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 출원을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 출원의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like described in the drawings for describing an example of the present application are illustrative, and thus the present application is not limited thereto. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In the description of the present application, a detailed description of known related arts will be omitted if it is determined that the gist of the present application may be unnecessarily obscured.

본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. Where the terms "comprises," "having," "consisting of," and the like are used in this specification, other portions may be added as long as "only" is not used. Unless the context clearly dictates otherwise, including the plural unless the context clearly dictates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is not used, one or more other portions may be located between the two portions.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if the temporal relationship is described by 'after', 'after', 'after', 'before', etc., May not be continuous unless they are not used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 출원의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.The first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the scope of the present application.

"제1 수평 축 방향", "제2 수평 축 방향" 및 "수직 축 방향"은 서로 간의 관계가 수직으로 이루어진 기하학적인 관계만으로 해석되어서는 아니 되며, 본 출원의 구성이 기능적으로 작용할 수 있는 범위 내에서보다 넓은 방향성을 가지는 것을 의미할 수 있다. The terms " first horizontal axis direction ", " second horizontal axis direction ", and " vertical axis direction " should not be interpreted solely by the geometric relationship in which the relationship between them is vertical, It may mean having a wider directionality in the inside.

"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제 1 항목, 제 2 항목 또는 제 3 항목 각각 뿐만 아니라 제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미할 수 있다. It should be understood that the term " at least one " includes all possible combinations from one or more related items. For example, the meaning of " at least one of the first item, the second item and the third item " means not only the first item, the second item or the third item, but also the second item and the second item among the first item, May refer to any combination of items that may be presented from more than one.

본 출원의 여러 예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each of the features of the various embodiments of the present application may be combined or combined with each other partially or entirely, technically various interlocking and driving are possible, and the examples may be independently performed with respect to each other, .

이하에서는 본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치의 바람직한 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다Hereinafter, preferred embodiments of the organic light emitting display according to the present application will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In adding reference numerals to the constituent elements of the drawings, the same constituent elements may have the same sign as possible even if they are displayed on different drawings

도 1은 본 출원의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 평면도이다.1 is a schematic plan view of an OLED display according to an embodiment of the present invention.

도 1은 제 1 화소(P1), 제 2 화소(P2), 제 3 화소(P3) 및 제 4 화소(P4)로 이루어진 단위 화소(UP)를 도시한 것이다.FIG. 1 shows a unit pixel UP composed of a first pixel P1, a second pixel P2, a third pixel P3 and a fourth pixel P4.

도 1을 참조하면, 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치는 제 1 및 제 2 데이터 라인(DL1, Dl2), 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2), 제 1 및 제 2 전원 라인(VDD1, VDD2), 센싱 라인(SEL), 레퍼런스 라인(Ref), 차광막(LS), 및 제 1 내지 제 4 구동부를 포함한다. Referring to FIG. 1, an OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention includes first and second data lines DL1 and D12, first and second scan lines SCL1 and SCL2, Lines VDD1 and VDD2, a sensing line SEL, a reference line Ref, a light blocking film LS, and first to fourth driving units.

여기서 상기 제 1 화소(P1)는 제 1 전원 라인(VDD1)과 제 1 데이터 라인(DL1) 사이에 위치하고, 상기 제 2 화소(P2)는 제 1 데이터 라인(DL1)과 레퍼런스 라인(Ref) 사이에 위치하고, 상기 제 3 화소(P3)는 레퍼런스 라인(Ref)과 제 2 데이터 라인(DL2) 사이에 위치하고, 상기 제 4 화소(P4)는 제 2 데이터 라인(DL2)과 제 2 전원 라인(VDD2) 사이에 위치한다. The first pixel P1 is located between the first power line VDD1 and the first data line DL1 and the second pixel P2 is located between the first data line DL1 and the reference line Ref. The third pixel P3 is located between the reference line Ref and the second data line DL2 and the fourth pixel P4 is located between the second data line DL2 and the second power line VDD2 .

일 예에 따른 제1 화소(P1), 제2 화소(P2), 제3 화소(P3) 및 제4 화소(P4)는 각각 적색, 백색, 청색, 및 녹색을 발광하는 화소로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. 이하 각각의 구성에 대해서 상세히 설명하기로 한다.The first pixel P1, the second pixel P2, the third pixel P3, and the fourth pixel P4 may be pixels that emit red, white, blue, and green, respectively, But the present invention is not limited thereto. Hereinafter, each configuration will be described in detail.

상기 제 1 데이터 라인(DL1), 및 제 2 데이터 라인(DL2)은 기판 상에서 제 2 방향, 예로서 세로 방향으로 배열되어 있다. 제 1 데이터 라인(DL1)은 제 1 화소(P1) 및 제 2 화소(P2)에 데이터 신호를 전달한다. 제 2 데이터 라인(DL2)은 제 3 화소(P3) 및 제 4 화소(P4)에 데이터 신호를 전달한다. 구체적으로 제 1 데이터 라인(DL1)은 제 1 화소(P1) 및 제 2 화소(P2)에 구비되는 스위칭 트랜지스터(Tsw)와 연결되고, 제 2 데이터 라인(DL2)은 제 3 화소(P3) 및 제 4 화소(P4)에 구비되는 스위칭 트랜지스터(Tsw)와 연결된다. 이러한 제 1 데이터 라인(DL1) 및 제 2 데이터 라인(DL2)은 데이터 라인 홀(DH)을 포함한다.The first data line DL1 and the second data line DL2 are arranged on a substrate in a second direction, for example, a longitudinal direction. The first data line DL1 transfers data signals to the first pixel P1 and the second pixel P2. The second data line DL2 transfers the data signal to the third pixel P3 and the fourth pixel P4. Specifically, the first data line DL1 is connected to the switching transistor Tsw provided in the first pixel P1 and the second pixel P2, the second data line DL2 is connected to the third pixel P3, And is connected to the switching transistor Tsw provided in the fourth pixel P4. The first data line DL1 and the second data line DL2 include a data line hole DH.

상기 데이터 라인 홀(DH)은 각 화소에 데이터 전압을 공급하기 위하여 제 1 데이터 라인(DL1) 및 제 2 데이터 라인(DL2)에 형성된 컨택홀로 정의할 수 있다. 제 1 데이터 라인(DL1)은 제 1 화소(P1) 및 제 2 화소(P2)에 데이터 신호를 공급하는 것으로 데이터 라인 홀(DH)을 통해 제 1 화소(P1) 및 제 2 화소(P2)에 구비되는 스위칭 트랜지스터(Tsw)와 연결되고, 제 2 데이터 라인(DL2)은 제 3 화소(P3) 및 제 4 화소(P4)에 데이터 신호를 공급하는 것으로 데이터 라인 홀(DH)을 통하여 제 3 화소(P3) 및 제 4 화소(P4)에 구비되는 스위칭 트랜지스터(Tsw)와 연결된다.The data line hole DH may be defined as a contact hole formed in the first data line DL1 and the second data line DL2 to supply a data voltage to each pixel. The first data line DL1 supplies data signals to the first pixel P1 and the second pixel P2 and supplies data signals to the first pixel P1 and the second pixel P2 through the data line hole DH. And the second data line DL2 supplies a data signal to the third pixel P3 and the fourth pixel P4 and is connected to the third pixel P3 through the data line hole DH. And the switching transistor Tsw included in the third pixel P3 and the fourth pixel P4.

본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는 동일한 극성의 데이터 전압을 2개의 화소에 공급할 수 있다. 즉, 하나의 데이터 라인을 통해 2개의 화소를 제어할 수 있으므로, 드라이브 IC의 개수를 줄일 수 있고, 제조 비용을 줄일 수 있다.The organic light emitting display according to the present application can supply the data voltages of the same polarity to the two pixels. That is, since two pixels can be controlled through one data line, the number of drive ICs can be reduced, and manufacturing cost can be reduced.

상기 제 1 스캔 라인(SCL1), 및 제 2 스캔 라인(SCL2)은 기판 상에서 제1 방향, 예로서 가로 방향으로 배열되어 있다. 제 1 스캔 라인(SCL1)은 제 2 화소(P2) 및 제 3 화소(P3)에 스캔 신호를 전달한다. 제 2 스캔 라인(SCL2)은 제 1 화소(P1) 및 제 4 화소(P4)에 스캔 신호를 전달한다. 구체적으로 제 1 스캔 라인(SCL1)은 제 2 화소(P2) 및 제 3 화소(P3)에 구비되는 스위칭 트랜지스터(Tsw)와 연결되고, 제 2 스캔 라인(SCL2)은 제 1 화소(P1) 및 제 4 화소(P4)에 구비되는 스위칭 트랜지스터(Tsw)와 연결된다. The first scan line SCL1 and the second scan line SCL2 are arranged in a first direction, for example, a horizontal direction on the substrate. The first scan line SCL1 transfers a scan signal to the second pixel P2 and the third pixel P3. The second scan line SCL2 transfers the scan signals to the first pixel P1 and the fourth pixel P4. Specifically, the first scan line SCL1 is connected to the switching transistor Tsw included in the second pixel P2 and the third pixel P3, the second scan line SCL2 is connected to the first pixel P1, And is connected to the switching transistor Tsw provided in the fourth pixel P4.

본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는 동일한 극성의 데이터 전압을 2개의 화소에 공급하는 DRD(Double rate driving) 구조를 가지므로, 하나의 단위 화소(UP)는 2개의 스캔 라인을 구비한다. 즉, 하나의 데이터 라인이 2개의 화소에 데이터 신호를 공급하므로, 각 화소마다 스위칭 트랜지스터(Tsw)를 턴 온/오프 하기 위하여 스캔 라인을 2개 구비하여야 한다. 이처럼 DRD 구조에서 스캔 라인을 2개 구비함에 따라 각 화소의 스위칭 트랜지스터(Tsw)를 개별적으로 턴 온/오프 할 수 있다.The organic light emitting display according to the present application has a double rate driving (DRD) structure for supplying data voltages of the same polarity to two pixels, so that one unit pixel UP includes two scan lines. That is, since one data line supplies data signals to two pixels, two scan lines must be provided to turn on / off the switching transistor Tsw for each pixel. In the DRD structure, since two scan lines are provided, the switching transistors Tsw of each pixel can be individually turned on / off.

예를 들어, 제 1 기간에 제 1 스캔 라인(SCL1) 및 제 1 데이터 라인(DL1)에 하이 신호를 인가하고, 제 2 스캔 라인(SCL2) 및 제 2 데이터 라인(DL2)에 로우 신호를 인가한다. 이 때, 제 2 화소(P2)의 스위칭 트랜지스터(Tsw)가 턴-온 된다. 이와 달리 제 2 기간에 제 2 스캔 라인(SCL2) 및 제 1 데이터 라인(DL1)에 하이 신호를 인가하고, 제 1 스캔 라인(SCL1) 및 제 2 데이터 라인(DL2)에 로우 신호를 인가한다. 이 때, 제 1 화소(P1)의 스위칭 트랜지스터(Tsw)가 턴-온 된다.For example, when a high signal is applied to the first scan line SCL1 and the first data line DL1 in the first period and a low signal is applied to the second scan line SCL2 and the second data line DL2 do. At this time, the switching transistor Tsw of the second pixel P2 is turned on. A high signal is applied to the second scan line SCL2 and the first data line DL1 in the second period and a low signal is applied to the first scan line SCL1 and the second data line DL2. At this time, the switching transistor Tsw of the first pixel P1 is turned on.

이와 같이 본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는 데이터 라인을 공유하는 DRD 방식에 의해 화소를 구동하고, 2개의 스캔 라인을 구비함으로써 각 화소를 개별적으로 조절할 수 있다.As described above, the OLED display according to the present invention drives pixels by a DRD scheme sharing a data line, and has two scan lines, so that each pixel can be individually adjusted.

상기 제 1 전원 라인(VDD1) 및 제 2 전원 라인(VDD2)은 기판 상에서 제 2 방향, 예로서 세로 방향으로 배열되어 있다. 제 1 전원 라인(VDD1)과 제 2 전원 라인(VDD2) 사이에는 제 1 및 제 2 데이터 라인(DL1, DL2), 및 레퍼런스 라인(Ref)이 배열되어 있다. 도시하지는 않았지만, 제1 전원 라인(VDD1)의 좌측 및 제2 전원 라인(VDD2)의 우측에는 각각 이웃하는 단위 화소의 데이터 라인이 배열된다. The first power supply line VDD1 and the second power supply line VDD2 are arranged on a substrate in a second direction, for example, a longitudinal direction. First and second data lines DL1 and DL2 and a reference line Ref are arranged between the first power supply line VDD1 and the second power supply line VDD2. Data lines of neighboring unit pixels are arranged on the left side of the first power supply line VDD1 and on the right side of the second power supply line VDD2, though not shown.

일 예에 따른 제 1 전원 라인(VDD1)은 제 1 화소(P1) 및 제 2 화소(P2)에 구동 전원을 공급한다. 구체적으로 제 1 전원 라인(VDD1)은 제 1 화소(P1) 및 제 2 화소(P2)에 구비되는 구동 트랜지스터(Tdr)와 각각 연결되고, 제 2 전원 라인(VDD2)은 제 3 화소(P3) 및 제 4 화소(P4)에 구비되는 구동 트랜지스터(Tdr)와 각각 연결된다.The first power supply line VDD1 according to an example supplies driving power to the first pixel P1 and the second pixel P2. Specifically, the first power supply line VDD1 is connected to the driving transistor Tdr included in the first pixel P1 and the second pixel P2, the second power supply line VDD2 is coupled to the third pixel P3, And the driving transistor Tdr included in the fourth pixel P4.

상기 센싱 라인(SEL)은 제 1 내지 제 4 화소(P1, P2, P3, P4)에 구비되는 센싱 트랜지스터(Tse)와 각각 연결된다. 센싱 라인(SEL)은 센싱 신호를 생성하여 센싱 트랜지스터(Tse)에 공급한다. 센싱 트랜지스터(Tse)는 센싱 신호에 응답하여 구동 트랜지스터(Tdr)의 전류를 레퍼런스 라인(Ref)으로 공급한다. The sensing line SEL is connected to the sensing transistor Tse provided in the first to fourth pixels P1, P2, P3 and P4, respectively. The sensing line SEL generates a sensing signal and supplies it to the sensing transistor Tse. The sensing transistor Tse responds to the sensing signal and supplies the current of the driving transistor Tdr to the reference line Ref.

상기 레퍼런스 라인(Ref)은 기판 상에서 제 2 방향, 예로서 세로 방향으로 배열되어 있다. 레퍼런스 라인(Ref)은 제 2 데이터 라인(DL2)과 제 3 데이터 라인(DL3) 사이에 배열되어 있다. The reference lines Ref are arranged on a substrate in a second direction, for example, a longitudinal direction. The reference line Ref is arranged between the second data line DL2 and the third data line DL3.

일 예에 따른 레퍼런스 라인(Ref)은 제 1 내지 제 4 화소(P1, P2, P3, P4) 내에 구비되는 센싱 트랜지스터(Tse)와 각각 연결된다. 레퍼런스 라인(Ref)은 센싱 라인(SEL) 및 센싱 트랜지스터(Tse)에 의해 구동 트랜지스터(Tdr)의 전류를 공급 받을 수 있다.The reference line Ref according to an example is connected to the sensing transistor Tse provided in the first to fourth pixels P1, P2, P3 and P4, respectively. The reference line Ref can be supplied with the current of the driving transistor Tdr by the sensing line SEL and the sensing transistor Tse.

본 출원에 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치는, 센싱 라인(SEL), 레퍼런스 라인(Ref), 센싱 트랜지스터(Tse)를 통해 발생한 센싱 결과를 기반으로 보상 전압을 생성하는 보상 회로를 별도로 구비할 수 있다. 따라서 구동 트랜지스터(Tdr)의 열화에 의한 신뢰성 저하를 방지할 수 있고, 구동 트랜지스터(Tdr)의 수명 연장의 효과를 가진다.The organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention may have a compensation circuit for generating a compensation voltage based on sensing results generated through a sensing line SEL, a reference line Ref, and a sensing transistor Tse have. Therefore, reliability deterioration due to deterioration of the driving transistor Tdr can be prevented, and the lifetime of the driving transistor Tdr is extended.

상기 차광막(LS)은 제 1 내지 제 4 화소(P1, P2, P3, P4)에 구비되는 구동 트랜지스터(Tdr) 및 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 영역을 덮도록 형성됨으로써, 구동 트랜지스터(Tdr)의 액티브층 및 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 액티브층 내로 외부광이 입사되는 것을 방지하는 역할을 한다. 차광막(LS)은 반드시 도시된 패턴으로 형성될 필요는 없으며, 상기 구동 트랜지스터(Tdr)의 액티브층 및 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 액티브층을 가릴 수 있다면 다양하게 변경될 수 있다.The light-shielding film LS is formed to cover the regions of the driving transistor Tdr and the switching transistor Tsw provided in the first to fourth pixels P1, P2, P3 and P4, Layer and the active layer of the switching transistor Tsw. The light shielding film LS is not necessarily formed in the illustrated pattern, and may be variously changed if it can cover the active layer of the driving transistor Tdr and the active layer of the switching transistor Tsw.

일 예에 따른 차광막(LS)은 제 1 화소(P1), 제 2 화소(P2), 제 3 화소(P3) 및 제 4 화소(P4) 각각에 별도로 패턴 형성된다. 즉, 제 1 화소(P1)에 패턴 형성된 차광막(LS), 제 2 화소(P2)에 패턴 형성된 차광막(LS), 제 3 화소(P3)에 패턴 형성된 차광막(LS), 및 제 4 화소(P4)에 패턴 형성된 차광막(LS)은 서로 전기적으로 절연되어 있다. 이는 차광막(LS)이 제 1 화소(P1), 제 2 화소(P2), 제 3 화소(P3), 및 제 4 화소(P4)에 형성된 구동 트랜지스터(Tdr)와 각각 연결되기 때문이다. 따라서 하나의 화소의 구동 트랜지스터(Tdr)가 동작할 때 차광막(LS)에 전하가 충전되고 충전된 전하가 다른 화소의 구동 트랜지스터(Tdr)에 영향을 끼치는 데이터 섞임의 문제를 방지할 수 있다.The light-shielding film LS according to an exemplary embodiment is separately pattern-formed on each of the first pixel P1, the second pixel P2, the third pixel P3, and the fourth pixel P4. That is, the light blocking film LS formed by patterning the first pixel P1, the light blocking film LS formed by patterning the second pixel P2, the light blocking film LS formed by patterning the third pixel P3, and the fourth pixel P4 Are electrically insulated from each other. This is because the light blocking film LS is connected to the driving transistor Tdr formed in the first pixel P1, the second pixel P2, the third pixel P3, and the fourth pixel P4, respectively. Therefore, it is possible to prevent the data mixing phenomenon in which charge is charged in the light-shielding film LS when the driving transistor Tdr of one pixel operates and the charged charge affects the driving transistor Tdr of the other pixel.

일 예에 따른 차광막(LS)은 기판과 구동 트랜지스터(Tdr)의 액티브층 사이의 제 1 층에 형성되고 도전성 물질로 이루어진다. 상기 제 1 층은 차광막(LS)이 형성되는 층으로 정의할 수 있고 구체적인 구조는 후술하기로 한다. 차광막(LS)은 도전성 물질로 이루어지므로 차광막(LS)과 동일한 물질을 배선으로 활용할 수 있다. 따라서 차광막(LS)을 형성하여 외부광을 차단하는 역할을 할 수 있고, 차광막(LS)과 동일한 물질을 기판의 제 2 방향, 예로서 세로 방향으로 배열하여 배선으로 활용될 수 있다. 즉, 제 1 및 제 2 데이터 라인(DL1, DL2), 제 1 및 제 2 전원 라인(VDD1, VDD2), 레퍼런스 라인(Ref)은 차광막(LS)과 동일한 물질로 형성되고, 제 1 층에 마련된다. 마찬가지로 제 1 및 제 2 데이터 라인(DL1, DL2), 제 1 및 제 2 전원 라인(VDD1, VDD2), 레퍼런스 라인(Ref) 각각은 별도로 패턴 형성된다.The light-blocking film LS according to an example is formed in the first layer between the substrate and the active layer of the driving transistor Tdr and is made of a conductive material. The first layer may be defined as a layer on which the light blocking film LS is formed, and a specific structure thereof will be described later. Since the light-shielding film LS is made of a conductive material, the same material as the light-shielding film LS can be used as the wiring. Therefore, the light shielding film LS may be formed to shield the external light, and the same material as the light shielding film LS may be arranged in the second direction of the substrate, for example, in the longitudinal direction. That is, the first and second data lines DL1 and DL2, the first and second power supply lines VDD1 and VDD2, and the reference line Ref are formed of the same material as the light-shielding film LS, do. Similarly, the first and second data lines DL1 and DL2, the first and second power supply lines VDD1 and VDD2, and the reference line Ref are separately pattern-formed.

이와 같이 제 1 및 제 2 데이터 라인(DL1, DL2), 제 1 및 제 2 전원 라인(VDD1, VDD2), 레퍼런스 라인(Ref)을 제 1 층에 형성함으로써, 유기 발광 표시 장치의 개구율을 확보할 수 있다. 이에 대한 자세한 구성은 후술하기로 한다.By forming the first and second data lines DL1 and DL2, the first and second power supply lines VDD1 and VDD2 and the reference line Ref in the first layer as described above, the aperture ratio of the organic light emitting display device can be secured . The detailed configuration will be described later.

상기 제 1 내지 제 4 구동부 각각은 구동 트랜지스터(Tdr), 스위칭 트랜지스터(Tsw), 센싱 트랜지스터(Tse), 스토리지 커패시터(Cst)를 포함한다. 이에 대한 구체적인 구성에 대하여는 후술하기로 한다.Each of the first to fourth driving units includes a driving transistor Tdr, a switching transistor Tsw, a sensing transistor Tse, and a storage capacitor Cst. A specific configuration for this will be described later.

도 2는 도 1에서 A 부분의 확대도로, 제 1 화소 및 제 2 화소를 구체적으로 도시한 평면도이다. 도 1에서 제 3 화소(P3)와 제 4 화소(P4)는 제 1 화소(P1) 및 제 2 화소(P2)의 모습과 대칭이므로 중복 설명은 생략하기로 한다. 2 is a plan view specifically showing the first pixel and the second pixel on the enlarged view of the portion A in Fig. In FIG. 1, the third pixel P3 and the fourth pixel P4 are symmetrical with respect to the first pixel P1 and the second pixel P2, and thus a duplicate description thereof will be omitted.

도 2를 참조하면, 제 1 방향으로 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2)이 형성되어 있고, 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2)과 교차하면서 제 2 방향으로 제 1 전원 라인(VDD1), 제 1 데이터 라인(DL1), 및 레퍼런스 라인(Ref)이 배열되어 있다. 제 1 화소(P1)는 제 1 전원 라인(VDD1)과 제 1 데이터 라인(DL1) 사이에 형성되고, 제 2 화소(P2)는 제 1 데이터 라인(DL1)과 레퍼런스 라인(Ref) 사이에 형성된다. Referring to FIG. 2, first and second scan lines SCL1 and SCL2 are formed in a first direction and intersect the first and second scan lines SCL1 and SCL2. (VDD1), a first data line DL1, and a reference line Ref are arranged. The first pixel P1 is formed between the first power supply line VDD1 and the first data line DL1 and the second pixel P2 is formed between the first data line DL1 and the reference line Ref do.

상기 제 1 화소(P1)에는 제 1 구동부, 및 차광막(LS)이 형성되어 있다. 제 1 구동부는 구동 트랜지스터(Tdr), 스위칭 트랜지스터(Tsw), 센싱 트랜지스터(Tse), 스토리지 커패시터(Cst)를 포함한다.A first driver and a light blocking film LS are formed on the first pixel P1. The first driver includes a driving transistor Tdr, a switching transistor Tsw, a sensing transistor Tse, and a storage capacitor Cst.

상기 구동 트랜지스터(Tdr)는 제 1 게이트 전극(G1), 제 1 소스 전극(S1), 제 1 드레인 전극(D1), 및 제 1 액티브층(A1)을 포함하여 이루어진다. The driving transistor Tdr includes a first gate electrode G1, a first source electrode S1, a first drain electrode D1, and a first active layer A1.

상기 제 1 게이트 전극(G1)은 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 제 2 드레인 전극(D2)과 제 1 컨택홀(CH1)을 통하여 연결되어 있다. The first gate electrode G1 is connected to the second drain electrode D2 of the switching transistor Tsw through the first contact hole CH1.

상기 제 1 소스 전극(S1)은 제 1 전원 라인(VDD1)과 제 2 컨택홀(CH2)을 통하여 연결되어 있다.The first source electrode S1 is connected to the first power line VDD1 through a second contact hole CH2.

상기 제 1 드레인 전극(D1)은 제 1 소스 전극(S1)과 마주하고 있다. 도시하지는 않았지만, 제 1 드레인 전극(D1)은 유기 발광 소자의 제 1 전극(애노드 전극)과 연결된다.The first drain electrode D1 faces the first source electrode S1. Although not shown, the first drain electrode D1 is connected to the first electrode (anode electrode) of the organic light emitting element.

상기 제 1 액티브층(A1)은 상기 제 1 소스 전극(S1) 및 상기 제 1 드레인 전극(D1)과 제 3 컨택홀(CH3) 및 제 4 컨택홀(CH4)을 통하여 각각 연결되어 전자 이동 채널로 기능한다. The first active layer A1 is connected to the first source electrode S1 and the first drain electrode D1 through a third contact hole CH3 and a fourth contact hole CH4, .

상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)는 제 2 게이트 전극(G2), 제 2 소스 전극(S2), 제 2 드레인 전극(D2), 및 제 2 액티브층(A2)을 포함하여 이루어진다. The switching transistor Tsw includes a second gate electrode G2, a second source electrode S2, a second drain electrode D2, and a second active layer A2.

상기 제 2 게이트 전극(G2)은 제 2 스캔 라인(SCL2)과 제 5 컨택홀(CH5)을 통하여 연결되어 있다. The second gate electrode G2 is connected to the second scan line SCL2 through a fifth contact hole CH5.

상기 제 2 소스 전극(S2)은 제 1 데이터 라인(DL1)과 제 6 컨택홀(CH6)을 통하여 연결되어 있다. 여기서 제 6 컨택홀(CH6)은 데이터 라인 홀(DH)로 볼 수 있다. 제 6 컨택홀(CH6)은 데이터 라인 홀(DH)과 동일한 홀에 해당하며 편의상 도면 부호를 나누어 부여한 것이다.상기 제 2 드레인 전극(D2)은 제 2 소스 전극(S2)과 마주하고 있다. 제 2 드레인 전극(D2)은 전술한 바와 같이 구동 트랜지스터(Tdr)의 제 1 게이트 전극(G1)과 제 1 컨택홀(CH1)을 통하여 연결되어 있다.The second source electrode S2 is connected to the first data line DL1 through a sixth contact hole CH6. Here, the sixth contact hole CH6 can be viewed as a data line hole DH. The sixth contact hole CH6 corresponds to the same hole as the data line hole DH and is provided with reference numerals for convenience. The second drain electrode D2 faces the second source electrode S2. The second drain electrode D2 is connected to the first gate electrode G1 of the driving transistor Tdr through the first contact hole CH1 as described above.

상기 제 2 액티브층(A2)은 제 2 소스 전극(S2) 및 제 2 드레인 전극(D2)과 제 7 컨택홀(CH7) 및 제 8 컨택홀(CH8)을 통하여 각각 연결되어 전자 이동 채널로 기능한다. 이와 같은 제 2 액티브층(A2)은 상대적으로 넓은 면적을 가지도록 형성됨으로써 스토리지 커패시터(Cst)의 용량을 향상시킬 수 있다. The second active layer A2 is connected to the second source electrode S2 and the second drain electrode D2 through a seventh contact hole CH7 and an eighth contact hole CH8, do. The second active layer A2 is formed to have a relatively large area, thereby improving the capacity of the storage capacitor Cst.

상기 센싱 트랜지스터(Tse)는 제 3 게이트 전극(G3), 제 3 소스 전극(S3), 제 3 드레인 전극(D3), 및 제 3 액티브층(A3)을 포함하여 이루어진다. The sensing transistor Tse includes a third gate electrode G3, a third source electrode S3, a third drain electrode D3, and a third active layer A3.

상기 제 3 게이트 전극(G3)은 센싱 라인(SEL)과 제 9 컨택홀(CH9)을 통하여 연결되어 있다.The third gate electrode G3 is connected to the sensing line SEL through a ninth contact hole CH9.

상기 제 3 소스 전극(S3)은 제 1 드레인 전극(D1)과 연결되어 있다. 제 3 소스 전극(S3)은 제 1 드레인 전극(D1)과 같은 층에 형성되어 있으므로, 별도의 컨택홀 없이 연결할 수 있다.The third source electrode S3 is connected to the first drain electrode D1. Since the third source electrode S3 is formed on the same layer as the first drain electrode D1, the third source electrode S3 can be connected without a separate contact hole.

상기 제 3 드레인 전극(D3)은 레퍼런스 라인(Ref)과 제 10 컨택홀(CH10)을 통하여 연결되어 있다. The third drain electrode D3 is connected to the reference line Ref through a tenth contact hole CH10.

상기 제 3 액티브층(A3)은 제 3 소스 전극(S3) 및 제 3 드레인 전극(D3)과 제 11 컨택홀(CH11) 및 제 12 컨택홀(CH12)을 통하여 각각 연결되어 전자 이동 채널로 기능한다.The third active layer A3 is connected to the third source electrode S3 and the third drain electrode D3 through the eleventh contact hole CH11 and the twelfth contact hole CH12 to function as an electron transfer channel do.

상기 차광막(LS)은 구동 트랜지스터(Tdr)의 제 1 액티브층(A1) 및 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 제 2 액티브층(A2)을 가릴 수 있도록 형성된다. The light-shielding film LS is formed so as to cover the first active layer A1 of the driving transistor Tdr and the second active layer A2 of the switching transistor Tsw.

일 예에 따른 차광막(LS)은 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 제 2 액티브층(A2) 및 구동 트랜지스터(Tdr)의 드레인 전극(D1)과 중첩되는 영역이 존재한다. 이때의 중첩되는 영역을 커패시터 영역(CA)으로 정의한다. 상기 커패시터 영역(CA)은 스토리지 커패시터(Cst)가 마련되는 영역에 해당한다. The light-shielding film LS according to an example has a region overlapping the second active layer A2 of the switching transistor Tsw and the drain electrode D1 of the driving transistor Tdr. The overlapping region at this time is defined as the capacitor region CA. The capacitor region CA corresponds to a region where the storage capacitor Cst is provided.

상기 스토리지 커패시터(Cst)는 커패시터 영역(CA)에 마련된다. 스토리지 커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(Tdr)에 공급되는 데이터 전압을 한 프레임 동안 유지시키는 것으로서, 구동 박막 트랜지스터(Tdr)의 게이트 전극(G1) 및 드레인 전극(D1)에 연결된다.The storage capacitor Cst is provided in the capacitor region CA. The storage capacitor Cst holds the data voltage supplied to the driving transistor Tdr for one frame and is connected to the gate electrode G1 and the drain electrode D1 of the driving thin film transistor Tdr.

상기 제 2 화소(P2)에는 제 2 구동부, 및 차광막(LS)이 형성되어 있다. 제 2 구동부는 구동 트랜지스터(Tdr), 스위칭 트랜지스터(Tsw), 센싱 트랜지스터(Tse), 스토리지 커패시터(Cst)를 포함한다. 여기서 제 2 화소(P2)에 포함된 세부 구성은 제 1 화소(P1)에 포함된 세부 구성과 동일하고 배치에만 차이에 있어 동일한 도면 부호를 부여하였다. 이하, 전술한 제 1 화소(P1)에서와 중복 설명은 생략하고, 달라진 구조에 대하여만 서술하기로 한다.A second driver and a light blocking film LS are formed on the second pixel P2. The second driver includes a driving transistor Tdr, a switching transistor Tsw, a sensing transistor Tse, and a storage capacitor Cst. Here, the detailed configuration included in the second pixel P2 is the same as the detailed configuration included in the first pixel P1, and the same reference numerals are given to only the differences in configuration. Hereinafter, the redundant description of the first pixel P1 will be omitted, and only the modified structure will be described.

상기 구동 트랜지스터(Tdr)는 제 1 게이트 전극(G1), 제 1 소스 전극(S1), 제 1 드레인 전극(D1), 및 제 1 액티브층(A1)을 포함하여 이루어진다. 여기서 제 1 소스 전극(S1), 제 1 드레인 전극(D1)의 중복 설명은 생략한다.The driving transistor Tdr includes a first gate electrode G1, a first source electrode S1, a first drain electrode D1, and a first active layer A1. Here, the overlapping description of the first source electrode S1 and the first drain electrode D1 is omitted.

상기 제 1 게이트 전극(G1)은 스위칭 트랜지스터(Tsw)의 제 2 드레인 전극(D2)과 제 13 컨택홀(CH13)을 통하여 연결되어 있다.The first gate electrode G1 is connected to the second drain electrode D2 of the switching transistor Tsw through the thirteenth contact hole CH13.

상기 제 1 액티브층(A1)은 상기 제 1 소스 전극(S1) 및 상기 제 1 드레인 전극(D1)과 제 14 컨택홀(CH14) 및 제 15 컨택홀(CH15)을 통하여 각각 연결되어 전자 이동 채널로 기능한다. The first active layer A1 is connected to the first source electrode S1 and the first drain electrode D1 through the fourteenth contact hole CH14 and the fifteenth contact hole CH15, .

상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)는 제 2 게이트 전극(G2), 제 2 소스 전극(S2), 제 2 드레인 전극(D2), 및 제 2 액티브층(A2)을 포함하여 이루어진다. 여기서 제 2 소스 전극(S2)의 중복 설명은 생략한다. The switching transistor Tsw includes a second gate electrode G2, a second source electrode S2, a second drain electrode D2, and a second active layer A2. Here, the overlapping description of the second source electrode S2 is omitted.

상기 제 2 게이트 전극(G2)은 제 1 스캔 라인(SCL1)과 제 16 컨택홀(CH16)을 통하여 연결되어 있다. The second gate electrode G2 is connected to the first scan line SCL1 through the sixteenth contact hole CH16.

상기 제 2 드레인 전극(D2)은 제 2 소스 전극(S2)과 마주하고 있다. 제 2 드레인 전극(D2)은 전술한 바와 같이 구동 트랜지스터(Tdr)의 제 1 게이트 전극(G1)과 제 13 컨택홀(CH13)을 통하여 연결되어 있다.The second drain electrode D2 faces the second source electrode S2. The second drain electrode D2 is connected to the first gate electrode G1 of the driving transistor Tdr through the thirteenth contact hole CH13 as described above.

상기 제 2 액티브층(A2)은 제 2 소스 전극(S2) 및 제 2 드레인 전극(D2)과 제 17 컨택홀(CH17) 및 제 18 컨택홀(CH18)을 통하여 각각 연결되어 전자 이동 채널로 기능한다. 이와 같은 제 2 액티브층(A2)은 상대적으로 넓은 면적을 가지도록 형성됨으로써 스토리지 커패시터(Cst)의 용량을 향상시킬 수 있다. The second active layer A2 is connected to the second source electrode S2 and the second drain electrode D2 through the seventeenth contact hole CH17 and the eighteenth contact hole CH18, do. The second active layer A2 is formed to have a relatively large area, thereby improving the capacity of the storage capacitor Cst.

상기 센싱 트랜지스터(Tse)는 제 3 게이트 전극(G3), 제 3 소스 전극(S3), 제 3 드레인 전극(D3), 및 제 3 액티브층(A3)을 포함하여 이루어진다. 여기서 제 3 소스 전극(S3)의 중복 설명은 생략한다.The sensing transistor Tse includes a third gate electrode G3, a third source electrode S3, a third drain electrode D3, and a third active layer A3. Here, the overlapping description of the third source electrode S3 is omitted.

상기 제 3 게이트 전극(G3)은 센싱 라인(SEL)과 제 19 컨택홀(CH19)을 통하여 연결되어 있다.The third gate electrode G3 is connected to the sensing line SEL through a 19th contact hole CH19.

상기 제 3 드레인 전극(D3)은 레퍼런스 라인(Ref)과 제 20 컨택홀(CH20)을 통하여 연결되어 있다.The third drain electrode D3 is connected to the reference line Ref through a twentieth contact hole CH20.

상기 제 3 액티브층(A3)은 제 3 소스 전극(S3) 및 제 3 드레인 전극(D3)과 제 21 컨택홀(CH21) 및 제 22 컨택홀(CH22)을 통하여 각각 연결되어 전자 이동 채널로 기능한다.The third active layer A3 is connected to the third source electrode S3 and the third drain electrode D3 through the twenty-first contact hole CH21 and the twenty-second contact hole CH22, do.

여기서 제 1 내지 제 3 소스 전극(S1, S2, S3), 제 1 내지 제 3 데이터 전극(D1, D2, D3)은 모두 제 3 층에 형성되고 동일한 물질로 형성된다. 이와 달리 제 1 내지 제 3 게이트 전극(G1, G2, G3)은 제 2 층에 형성된다. 상기 제 2 층은 게이트 전극이 형성되는 층으로 정의할 수 있고, 상기 제 3 층은 소스 및 데이터 전극이 형성되는 층으로 정의할 수 있다. 이에 대한 구체적인 구조는 후술하기로 한다.Here, the first to third source electrodes S1, S2, and S3, and the first to third data electrodes D1, D2, and D3 are formed in the third layer and formed of the same material. Alternatively, the first to third gate electrodes G1, G2 and G3 are formed in the second layer. The second layer may be defined as a layer in which a gate electrode is formed, and the third layer may be defined as a layer in which a source and a data electrode are formed. A specific structure for this will be described later.

또한, 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2), 센싱 라인(SEL)도 제 3 층에 형성된다. 즉, 본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는, 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2), 센싱 라인(SEL), 제 1 내지 제 3 소스 전극(S1, S2, S3), 제 1 내지 제 3 데이터 전극(D1, D2, D3)을 같은 층에 동일한 물질로 형성한다. 따라서 소스 전극 및 드레인 전극이 액티브층을 통하여 연결될 때 스캔 라인 또는 센싱 라인을 지나게 되어도 별도의 채널을 형성하지 않는다.Also, the first and second scan lines SCL1 and SCL2 and the sensing line SEL are formed in the third layer. That is, the organic light emitting diode display according to the present invention includes the first and second scan lines SCL1 and SCL2, the sensing line SEL, the first to third source electrodes S1, S2 and S3, The three data electrodes D1, D2 and D3 are formed of the same material in the same layer. Therefore, when the source electrode and the drain electrode are connected through the active layer, they do not form a separate channel even if they pass through the scan line or the sensing line.

이때, 제 2 층에 형성된 게이트 전극을 컨택홀을 통하여 스캔 라인 또는 센싱 라인과 연결하게 되면, 컨택홀을 통하여 게이트 전극이 연결된 부분에서 별도의 채널을 형성할 수 있다.At this time, if the gate electrode formed in the second layer is connected to the scan line or the sensing line through the contact hole, a separate channel can be formed at a portion where the gate electrode is connected through the contact hole.

구체적으로, 제 1 화소(P1)에서, 제 2 게이트 전극(G2)은 제 2 스캔 라인(SCL2)과 제 3 컨택홀(CH3)을 통하여 연결되며 제 2 액티브층(A2)은 제 2 스캔 라인(SCL2)과 중첩되어 연결된 제 2 게이트 전극(G2)과 채널을 형성하고, 제 2 화소(P2)에서, 제 2 게이트 전극(G2)은 제 1 스캔 라인(SCL1)과 제 8 컨택홀(CH8)을 통하여 연결되며 제 2 액티브층(A2)은 제 1 스캔 라인(SCL1)과 중첩되어 연결된 제 2 게이트 전극(G2)과 채널을 형성한다. 따라서 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2)을 이웃하도록 나란하게 배치하여도, 제 1 화소(P1)에서는 제 2 스캔 라인(SCL2)을 지날 때만 채널을 형성하고, 제 2 화소(P2)에서는 제 1 스캔 라인(SCL1)을 지날 때만 채널을 형성한다.Specifically, in the first pixel P1, the second gate electrode G2 is connected to the second scan line SCL2 through the third contact hole CH3, and the second active layer A2 is connected to the second scan line SC2 through the third contact hole CH3. The second gate electrode G2 of the second pixel P2 forms a channel with the first scan line SCL1 and the eighth contact hole CH8 And the second active layer A2 overlaps the first scan line SCL1 to form a channel with the second gate electrode G2 connected to the first scan line SCL1. Therefore, even if the first and second scan lines SCL1 and SCL2 are arranged so as to be adjacent to each other, the first pixel P1 forms a channel only when passing the second scan line SCL2, The channel is formed only when it passes the first scan line SCL1.

종래에는 소스/드레인 전극층에 데이터 라인, 전원 라인, 레퍼런스 라인을 형성하고 게이트 전극층에 스캔 라인을 형성하였기에, 2개의 스캔 라인을 지나면서 2개의 채널을 형성하는 문제가 있었고, 이를 해결하기 위하여 별도의 브릿지를 형성하여야 했다. 다만, 스캔 라인 사이에 컨택홀을 마련하고 브릿지를 형성하려면 스캔 라인끼리의 간격을 벌려야 하고, 벌어진 간격만큼 화소 회로가 차지하는 면적이 증가하여 개구율이 감소하는 문제가 있다. 여기서 개구율이 감소하면 전류의 밀도가 증가하게 되고, 전류의 밀도는 유기 발광 표시 장치의 수명에 영향을 주는 중요한 요소로, 전류의 밀도가 증가할수록 유기 발광 표시 장치의 수명이 감소하는 문제가 있다.Conventionally, since a data line, a power supply line, and a reference line are formed in the source / drain electrode layer and a scan line is formed in the gate electrode layer, there is a problem that two channels are formed while passing through two scan lines. The bridge had to be formed. However, in order to provide a contact hole between the scan lines and bridge formation, the scan lines must be spaced apart from each other, and the area occupied by the pixel circuits increases by a predetermined gap, thereby reducing the aperture ratio. Here, as the aperture ratio decreases, the density of the current increases, and the density of the current is an important factor that affects the lifetime of the organic light emitting display. As the density of the current increases, the lifetime of the organic light emitting display decreases.

예를 들어, 제 1 데이터 라인(DL1)에서 제 1 화소(P1)로 데이터 신호를 공급하기 위한 데이터 라인 홀(DH) 또는 제 1 데이터 라인(DL1)에서 제 2 화소(P2)로 데이터 신호를 공급하기 위한 데이터 라인 홀(DH)을 제 1 스캔 라인(SCL1)과 제 2 스캔 라인(SCL2) 사이에 위치하도록 형성해야 하므로, 제 1 스캔 라인(SCL1)과 제 2 스캔 라인(SCL2) 사이에 데이터 라인 홀(DH)이 형성되어 벌어진 간격만큼 개구율이 감소할 수 있다.For example, a data line hole DH for supplying a data signal from the first data line DL1 to the first pixel P1 or a data line DL for supplying a data signal from the first data line DL1 to the second pixel P2 Since the data line hole DH for supplying data is formed between the first scan line SCL1 and the second scan line SCL2 so as to be positioned between the first scan line SCL1 and the second scan line SCL2, The data line holes DH may be formed and the aperture ratio may be reduced by the gap that is opened.

이와 달리, 본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는, 차광막(LS)이 형성되는 제 1 층에 제 1 및 제 2 전원 라인(VDD1, VDD2), 제 1 및 제 2 데이터 라인(DL1, DL2), 레퍼런스 라인(Ref)을 형성하므로, 소스 전극 및 드레인 전극이 형성되는 제 3 층에 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2), 센싱 라인(SEL)을 형성할 수 있고, 제 2 층에 형성된 게이트 전극을 컨택홀을 통하여 스캔 라인 또는 센싱 라인과 연결시킬 수 있으므로, 별도의 브릿지 없이 하나의 채널을 형성하도록 할 수 있고 개구율이 감소되는 것을 방지할 수 있다. Alternatively, the organic light emitting display according to the present invention may include first and second power supply lines VDD1 and VDD2, first and second data lines DL1 and DL2, Since the reference line Ref is formed, the first and second scan lines SCL1 and SCL2 and the sensing line SEL can be formed in the third layer in which the source electrode and the drain electrode are formed, Since the gate electrode can be connected to the scan line or the sensing line through the contact hole, one channel can be formed without a separate bridge, and the aperture ratio can be prevented from being reduced.

여기서, 제 1 데이터 라인(DL1)에서 제 1 화소(P1) 및 제 2 화소(P2)에 데이터 신호를 공급하기 위한 데이터 라인 홀(DH)을 동일한 위치에 형성하고, 제 1 스캔 라인(SCL1) 및 제 2 스캔 라인(SCL2)이 데이터 라인 홀(DH)과 커패시터 영역(CA) 사이에 위치하도록 형성하므로, 제 1 스캔 라인(SCL1)과 제 2 스캔 라인(SCL2)을 인접하게 형성할 수 있고, 제 1 스캔 라인(SCL1)과 제 2 스캔 라인(SCL2) 사이에 간격을 줄일 수 있으므로 개구율이 감소하지 않는다.A data line hole DH for supplying a data signal to the first pixel P1 and the second pixel P2 in the first data line DL1 is formed at the same position, And the second scan line SCL2 are positioned between the data line hole DH and the capacitor area CA so that the first scan line SCL1 and the second scan line SCL2 can be formed adjacent to each other , The interval between the first scan line (SCL1) and the second scan line (SCL2) can be reduced, so that the aperture ratio does not decrease.

마찬가지로, 제 2 데이터 라인(DL2)에서 제 3 화소(P3) 및 제 4 화소(P4)에 데이터 신호를 공급하기 위한 데이터 라인 홀(DH)을 동일한 위치에 형성하고, 제 1 스캔 라인(SCL1) 및 제 2 스캔 라인(SCL2)이 데이터 라인 홀(DH)과 커패시터 영역(CA) 사이에 위치하도록 형성하므로, 제 1 스캔 라인(SCL1)과 제 2 스캔 라인(SCL2)을 인접하게 형성할 수 있고, 제 1 스캔 라인(SCL1)과 제 2 스캔 라인(SCL2) 사이에 간격을 줄일 수 있으므로 개구율이 감소하지 않는다.Similarly, a data line hole DH for supplying a data signal to the third pixel P3 and the fourth pixel P4 in the second data line DL2 is formed at the same position, and the first scan line SCL1, And the second scan line SCL2 are positioned between the data line hole DH and the capacitor area CA so that the first scan line SCL1 and the second scan line SCL2 can be formed adjacent to each other , The interval between the first scan line (SCL1) and the second scan line (SCL2) can be reduced, so that the aperture ratio does not decrease.

따라서 본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는 DRD 구조를 가지므로 드라이브 IC의 개수를 줄여 제조 비용을 줄일 수 있고, DRD 구조에서 개구율을 최적화한 구조로 수명을 연장할 수 있다.Therefore, the organic light emitting diode display according to the present invention has a DRD structure, which can reduce the number of drive ICs and reduce the manufacturing cost, and the lifetime can be extended by a structure in which the aperture ratio is optimized in the DRD structure.

도 3은 도 2의 I-I'에 따른 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along line I-I 'of Fig.

도 3을 참조하면, 본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는, 기판(100), 차광막(LS), 제 1 전원 라인(VDD1), 버퍼층(110), 구동 트랜지스터(Tdr), 게이트 절연막(120), 제 1 스캔 라인(SCL1), 제 2 스캔 라인(SCL2), 층간 절연막(130), 평탄화층(140), 제 1 전극(E1)을 포함한다.3, the OLED display according to the present application includes a substrate 100, a light-shielding film LS, a first power line VDD1, a buffer layer 110, a driving transistor Tdr, a gate insulating layer 120, A first scan line SCL1, a second scan line SCL2, an interlayer insulating layer 130, a planarization layer 140, and a first electrode E1.

상기 기판(100)은 박막 트랜지스터 어레이 기판으로서, 유리 또는 플라스틱 재질로 이루어질 수 있다. 기판(100)의 일면 상에는 스캔 라인들, 데이터 라인들 및 화소들이 형성된다.The substrate 100 is a thin film transistor array substrate, and may be made of glass or plastic. On one side of the substrate 100, scan lines, data lines and pixels are formed.

상기 차광막(LS)은 기판(100) 상에 형성된다. 차광막(LS)은 구동 트랜지스터(Tdr)의 액티브층(A1)으로 입사하는 외광을 차단하는 역할을 하고 금속성 재료로 형성될 수 있다. 전술한 바와 같이, 차광막(LS)은 제 1 층에 형성된다. 여기서 제 1 층은 기판(100)과 버퍼층(110) 사이에 위치하는 층으로 볼 수 있다.The light-shielding film LS is formed on the substrate 100. The light shielding film LS serves to shield external light incident on the active layer A1 of the driving transistor Tdr and may be formed of a metallic material. As described above, the light blocking film LS is formed in the first layer. Where the first layer can be seen as a layer located between the substrate 100 and the buffer layer 110.

상기 제 1 전원 라인(VDD1)은 기판(100) 상에 형성된다. 제 1 전원 라인(VDD1)은 차광막(LS)과 동일한 물질로 형성되고, 차광막(LS)과 함께 제 1 층에 형성된다.The first power supply line VDD1 is formed on the substrate 100. [ The first power supply line VDD1 is formed of the same material as the light-shielding film LS and is formed on the first layer together with the light-shielding film LS.

상기 버퍼층(110)은 차광막(LS) 및 제 1 전원 라인(VDD1)을 덮도록 기판(100) 상에 마련된다. 버퍼층(110)은 화소 내부로 수분이 침투하는 것을 방지하는 기능을 한다. 이러한 버퍼층(110)은 무기절연물질 예를 들어, SiO2(silicon dioxide), SiNx(silicon nitride), 또는 이들의 다중층으로 이루어 질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The buffer layer 110 is provided on the substrate 100 so as to cover the light-shielding film LS and the first power source line VDD1. The buffer layer 110 functions to prevent moisture from penetrating into the pixel. The buffer layer 110 may be formed of an inorganic insulating material, for example, silicon dioxide (SiNx), silicon nitride (SiNx), or a multilayer thereof, but is not limited thereto.

상기 구동 트랜지스터(Tdr)는 버퍼층(110) 상에 마련된다. 구동 트랜지스터(Tdr)는 유기 발광 소자로 흐르는 전류 량을 제어한다. 이러한 구동 트랜지스터(Tdr)는 제 1 액티브층(A1), 제 1 게이트 전극(G1), 제 1 드레인 전극(D1), 제 1 소스 전극(S1)을 포함한다.The driving transistor Tdr is provided on the buffer layer 110. The driving transistor Tdr controls the amount of current flowing to the organic light emitting element. The driving transistor Tdr includes a first active layer A1, a first gate electrode G1, a first drain electrode D1, and a first source electrode S1.

상기 제 1 액티브층(A1)은 버퍼층(110) 상에 마련된다. 제 1 액티브층(A1)은 비정질 실리콘(amorphous silicon), 다결정 실리콘(polycrystalline silicon), 산화물(oxide) 및 유기물(organic material) 중 어느 하나로 이루어진 반도체 물질로 구성될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The first active layer (A1) is provided on the buffer layer (110). The first active layer A1 may be composed of a semiconductor material composed of any one of amorphous silicon, polycrystalline silicon, oxide and organic material, but is not limited thereto.

상기 제 1 게이트 전극(G1)은 반도체 절연층 상에 형성된다. 이러한 제 1 게이트 전극(G1)은 게이트 절연층(120)에 의해 덮인다. 전술한 바와 같이, 제 1 게이트 전극(G1)은 제 2 층에 형성된다. 여기서 제 2 층은 반도체 절연층과 게이트 절연층(120) 사이에 위치하는 층으로 볼 수 있다.The first gate electrode G1 is formed on the semiconductor insulating layer. The first gate electrode G1 is covered by the gate insulating layer 120. [ As described above, the first gate electrode G1 is formed in the second layer. Here, the second layer can be regarded as a layer located between the semiconductor insulating layer and the gate insulating layer 120.

상기 제 1 소스 전극(S1)은 제 1 액티브층(A1)의 일측과 컨택홀을 통하여 연결된다. 제 1 소스 전극(S1)은 컨택홀을 통해 제 1 층에 형성된 제 1 전원 라인(VDD1)과 연결될 수 있다. The first source electrode S1 is connected to one side of the first active layer A1 through a contact hole. The first source electrode S1 may be connected to the first power line VDD1 formed in the first layer through the contact hole.

상기 제 1 드레인 전극(D1)은 제 1 액티브층(A1)의 타측과 컨택홀을 통하여 연결되고 제 1 소스 전극(S1)과 이격되도록 형성된다.The first drain electrode D1 is connected to the other side of the first active layer A1 through a contact hole and is spaced apart from the first source electrode S1.

전술한 바와 같이, 제 1 소스 전극(S1)과 제 1 드레인 전극(D1)은 제 3 층에 형성된다. 여기서 제 3 층은 게이트 절연층(120)과 층간 절연층(130) 사이에 위치하는 층으로 볼 수 있다.As described above, the first source electrode S1 and the first drain electrode D1 are formed in the third layer. Here, the third layer can be regarded as a layer positioned between the gate insulating layer 120 and the interlayer insulating layer 130.

상기 게이트 절연층(120)은 제 1 게이트 전극(G1)을 덮도록 형성된다. 게이트 절연층(120)은 구동 트랜지스터(Tdr)를 외부로부터 절연시키고 공정 중 화학물질, 수분 및 공기로부터 보호한다. 게이트 절연층(120)은 일반적으로 전성 및 연성 특성이 낮은 무기물로 형성되거나 실리콘(Si)을 포함하는 무기물로 형성된다.The gate insulating layer 120 is formed to cover the first gate electrode G1. The gate insulating layer 120 isolates the driving transistor Tdr from the outside and protects it from chemicals, moisture and air during the process. The gate insulating layer 120 is generally formed of an inorganic material having low electrical and ductile characteristics or an inorganic material containing silicon (Si).

상기 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2)은 게이트 절연층(120) 상에 형성된다. 이러한 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2)은 제 3 층에 마련되고 제 1 소스 전극(S1) 및 제 1 드레인 전극(D1)과 같은 물질로 동시에 형성된다.The first and second scan lines SCL1 and SCL2 are formed on the gate insulating layer 120. [ The first and second scan lines SCL1 and SCL2 are formed in the third layer and formed of the same material as the first source electrode S1 and the first drain electrode D1.

상기 층간 절연층(130)은 제 1 소스 전극(S1), 제 1 드레인 전극(D1), 제 1 스캔 라인(SCL1), 및 제 2 스캔 라인(SCL2) 상에 형성된다. 이러한 층간 절연층(130)은 구동 트랜지스터(Tdr)를 외부로부터 절연시키고 공정 중 화학물질, 수분 및 공기로부터 보호한다. 층간 절연층(130)은 일반적으로 전성 및 연성 특성이 낮은 무기물로 형성되거나 실리콘(Si)을 포함하는 무기물로 형성된다.The interlayer insulating layer 130 is formed on the first source electrode S1, the first drain electrode D1, the first scan line SCL1, and the second scan line SCL2. This interlayer insulating layer 130 isolates the driving transistor Tdr from the outside and protects it from chemicals, moisture and air during the process. The interlayer insulating layer 130 is generally formed of an inorganic material having low electrical and ductile characteristics or an inorganic material containing silicon (Si).

상기 평탄화층(140)은 구동 트랜지스터(Tdr)를 덮도록 기판(100) 상에 마련된다. 평탄화층(140)은 구동 트랜지스터(Tdr)를 보호하면서 구동 트랜지스터(Tdr) 상에 평탄면을 제공한다. 이러한 평탄화층(140)은 포토 아크릴(photo acryl) 또는 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene)과 같은 유기 물질로 이루어질 수 있으나, 공정의 편의를 위해 포토 아크릴 물질로 이루어지는 것이 바람직하다.The planarization layer 140 is provided on the substrate 100 so as to cover the driving transistor Tdr. The planarization layer 140 protects the driving transistor Tdr and provides a flat surface on the driving transistor Tdr. The planarization layer 140 may be formed of an organic material such as photo acryl or benzocyclobutene. However, the planarization layer 140 is preferably made of a photo-acrylic material for convenience of processing.

상기 제 1 전극(E1)은 애노드 전극으로서, 평탄화층(140) 상에 패턴 형태로 마련된다. 제 1 전극(E1)은 평탄화층(140)에 마련된 컨택홀을 통하여 구동 트랜지스터(Tdr)의 드레인 전극(D1)과 전기적으로 연결됨으로써 구동 트랜지스터(Tdr)로부터 출력되는 데이터 전류를 수신한다. 이러한 제 1 전극(E1)은 반사율이 높은 금속 재질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo) 또는 마그네슘(Mg) 등의 재질을 포함하거나, 이들의 합금을 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The first electrode E1 is an anode electrode and is provided on the planarization layer 140 in the form of a pattern. The first electrode E1 is electrically connected to the drain electrode D1 of the driving transistor Tdr through a contact hole provided in the planarization layer 140 to receive a data current output from the driving transistor Tdr. The first electrode E1 may be made of a metal having a high reflectance and may be made of a material such as gold (Au), silver (Ag), aluminum (Al), molybdenum (Mo), or magnesium (Mg) Or alloys thereof, but are not limited thereto.

본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는, 차광막(LS)과 제 1 전원 라인(VDD1)을 동일한 제 1 층에 형성하고, 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2)과 제 1 소스 전극(S1) 및 제 1 드레인 전극(D1)을 동일한 제 3 층에 형성한다. 도시되지는 않았지만, 제 2 전원 라인(VDD2), 레퍼런스 라인(Ref), 제 1 데이터 라인(DL1), 제 2 데이터 라인(DL2)은 제 1 층에 형성되므로 기판(100)과 버퍼층(110) 사이에 위치하는 것으로 볼 수 있다. 마찬가지로 센싱 라인(SEL)은 제 3 층에 형성되므로 게이트 절연층(120)과 층간 절연층(130) 사이에 위치하는 것으로 볼 수 있다. 또한, 스위칭 트랜지스터의 게이트 전극은 제 1 게이트 전극(G1)과 마찬가지로 제 2 층에 형성되어 점핑된 구조이므로, 전술한 바와 같이 개구율의 감소 없이 하나의 채널을 형성할 수 있다. The organic light emitting display according to the present application is characterized in that the light shielding film LS and the first power supply line VDD1 are formed in the same first layer and the first and second scan lines SCL1 and SCL2 and the first source electrode S1 And the first drain electrode D1 are formed in the same third layer. Although not shown, since the second power supply line VDD2, the reference line Ref, the first data line DL1, and the second data line DL2 are formed in the first layer, the substrate 100 and the buffer layer 110 are formed, As shown in FIG. Since the sensing line SEL is formed in the third layer, it can be seen that the sensing line SEL is located between the gate insulating layer 120 and the interlayer insulating layer 130. In addition, since the gate electrode of the switching transistor is formed in the second layer and jumped like the first gate electrode G1, one channel can be formed without decreasing the aperture ratio as described above.

도 4는 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 회로도로서, 이는 전술한 도 1에 따른 유기 발광 표시 장치를 구성하는 각각의 화소(P1, P2, P3, P4)의 회로도이다. FIG. 4 is a circuit diagram of an OLED display according to an embodiment of the present application, which is a circuit diagram of each of the pixels P1, P2, P3, and P4 constituting the OLED display of FIG.

도 4를 참조하면, 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치는 제 1 및 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2), 제 1 및 제 2 데이터 라인(DL1, DL2), 제 1 및 제 2 전원 라인(VDD1, VDD2), 레퍼런스 라인(Ref), 구동 트랜지스터(Tdr), 스위칭 트랜지스터(Tsw), 센싱 트랜지스터(Tse), 스토리지 커패시터(Cst), 유기 발광 소자(OLED)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention includes first and second scan lines SCL1 and SCL2, first and second data lines DL1 and DL2, And includes a plurality of lines VDD1 and VDD2, a reference line Ref, a driving transistor Tdr, a switching transistor Tsw, a sensing transistor Tse, a storage capacitor Cst and an organic light emitting diode OLED.

상기 구동 트랜지스터(Tdr)는 스위칭 박막 트랜지스터(Tsw)로부터 공급되는 데이터 전압에 따라 스위칭되어 제 1 또는 제 2 전원 라인(VDD1, VDD2)에서 공급되는 전원으로부터 데이터 전류를 생성하여 유기 발광 소자(OLED)에 공급한다. The driving transistor Tdr is switched in accordance with a data voltage supplied from the switching thin film transistor Tsw to generate a data current from a power source supplied from the first or second power source line VDD1 or VDD2, .

상기 스위칭 트랜지스터(Tsw)는 제 1 또는 제 2 스캔 라인(SCL1, SCL2)에 공급되는 게이트 신호에 따라 스위칭되어 제 1 또는 제 2 데이터 라인(DL1, DL2)으로부터 공급되는 데이터 전압을 구동 박막 트랜지스터(Tdr)에 공급한다. The switching transistor Tsw is switched according to a gate signal supplied to the first or second scan lines SCL1 and SCL2 to apply a data voltage supplied from the first or second data line DL1 or DL2 to the driving thin film transistor Tdr.

상기 센싱 트랜지스터(Tse)는 화질 저하의 원인이 되는 구동 트랜지스터(Tdr)의 문턱 전압 편차를 센싱하기 위한 것으로서, 이와 같은 문턱 전압 편차의 센싱은 센싱 모드에서 수행한다. 센싱 트랜지스터(Tse)는 센싱 라인(SEL)에서 공급되는 센싱 제어 신호에 응답하여 구동 트랜지스터(Tdr)의 전류를 레퍼런스 라인(Ref)으로 공급한다.The sensing transistor Tse senses a threshold voltage deviation of the driving transistor Tdr that causes a deterioration in image quality. The sensing of the threshold voltage deviation is performed in the sensing mode. The sensing transistor Tse supplies the current of the driving transistor Tdr to the reference line Ref in response to a sensing control signal supplied from the sensing line SEL.

상기 스토리지 커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(Tdr)에 공급되는 데이터 전압을 한 프레임 동안 유지시키는 것으로서, 구동 트랜지스터(Tdr)의 게이트 단자 및 드레인 단자에 각각 연결된다. The storage capacitor Cst holds a data voltage supplied to the driving transistor Tdr for one frame, and is connected to the gate terminal and the drain terminal of the driving transistor Tdr, respectively.

상기 유기 발광 소자(OLED)는 구동 트랜지스터(Tdr)에서 공급되는 데이터 전류에 따라 소정의 광을 발광한다. 상기 유기 발광 소자(OLED)는 구동 트랜지스터(Tdr)의 드레인 전극에 연결된 제 1 전극(애노드 전극), 및 상기 제 1 전극 위에 차례로 형성된 유기 발광층과 제 2 전극(캐소드 전극)을 포함하여 이루어진다. 유기 발광 소자(OLED)의 제 2 전극은 저전원 라인(VSS)과 연결된다. The organic light emitting diode OLED emits a predetermined light according to a data current supplied from the driving transistor Tdr. The organic light emitting diode OLED includes a first electrode (anode electrode) connected to a drain electrode of the driving transistor Tdr, and an organic light emitting layer and a second electrode (cathode electrode) sequentially formed on the first electrode. And the second electrode of the organic light emitting diode OLED is connected to the low power line VSS.

이상에서 설명한 본 출원은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 출원의 기술적 사항을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 출원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 본 출원의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 출원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of. Therefore, the scope of the present application is to be defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present application.

100: 기판 110: 버퍼층
120: 게이트 절연층 130: 층간 절연층
140: 평탄화층
100: substrate 110: buffer layer
120: gate insulating layer 130: interlayer insulating layer
140: planarization layer

Claims (8)

기판 상에 마련되고 커패시터 영역을 포함하는 제 1 내지 제 4 화소;
상기 제 1 및 제 2 화소에 데이터 신호를 전달하는 제 1 데이터 라인;
상기 제 3 및 제 4 화소에 데이터 신호를 전달하는 제 2 데이터 라인;
상기 제 2 및 제 3 화소에 스캔 신호를 전달하는 제 1 스캔 라인; 및
상기 제 1 및 제 4 화소에 스캔 신호를 전달하는 제 2 스캔 라인을 포함하고,
상기 제 1 및 제 2 데이터 라인은 각 화소에 데이터 신호를 공급하기 위하여 형성된 데이터 라인 홀을 포함하고,
상기 제 1 및 제 2 스캔 라인은 상기 데이터 라인 홀과 상기 커패시터 영역 사이에 위치하는, 유기 발광 표시 장치.
First to fourth pixels provided on the substrate and including a capacitor region;
A first data line for transmitting a data signal to the first and second pixels;
A second data line for transmitting a data signal to the third and fourth pixels;
A first scan line for transmitting a scan signal to the second and third pixels; And
And a second scan line for transmitting a scan signal to the first and fourth pixels,
Wherein the first and second data lines include data line holes formed to supply data signals to respective pixels,
And the first and second scan lines are located between the data line hole and the capacitor region.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 데이터 라인 좌측에 위치하여 상기 제 1 및 제 2 화소에 구동 전원을 공급하는 제 1 전원 라인;
상기 제 2 데이터 라인 우측에 위치하여 상기 제 3 및 제 4 화소에 구동 전원을 공급하는 제 2 전원 라인; 및
상기 제 1 데이터 라인과 상기 제 2 데이터 라인 사이에 위치하여 제 1 내지 제 4 화소의 열화를 감지하는 레퍼런스 라인을 더 포함하는, 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 1,
A first power line located on the left side of the first data line and supplying driving power to the first and second pixels;
A second power line located on the right side of the second data line and supplying driving power to the third and fourth pixels; And
And a reference line disposed between the first data line and the second data line to sense deterioration of the first through fourth pixels.
제 2 항에 있어서,
상기 제 1 내지 제 4 화소 각각에 마련되는 제 1 내지 제 4 구동부를 더 포함하고,
상기 제 1 내지 제 4 구동부 각각은,
상기 제 1 또는 제 2 전원 라인에 접속되는 제 1 소스 전극, 유기 발광 소자와 접속되는 제 1 드레인 전극, 상기 제 1 또는 제 2 데이터 라인으로부터 신호를 인가받는 1 게이트 전극을 포함하며 상기 유기 발광 소자를 발광 시키는 구동 트랜지스터;
상기 제 1 또는 제 2 데이터 라인에 접속되는 제 2 소스 전극, 상기 제 1 게이트 전극에 접속되는 제 2 드레인 전극, 상기 제 1 또는 제 2 스캔 라인에 접속되는 제 2 게이트 전극을 포함하며 상기 유기 발광 소자의 발광을 제어하는 스위칭 트랜지스터;
상기 커패시터 영역에 마련되고 제 1 또는 제 2 데이터 라인으로부터의 신호를 저장하는 스토리지 커패시터; 및
상기 스토리지 커패시터에 접속되는 제 3 소스 전극, 상기 레퍼런스 라인에 접속되는 제 3 드레인 전극, 센싱 라인에 접속되는 제 3 게이트 전극을 포함하며 상기 센싱 라인으로부터의 신호에 따라 상기 유기 발광 소자의 문턱 전압을 감지할 수 있도록 제어하는 센싱 트렌지스터를 포함하는, 유기 발광 표시 장치.
3. The method of claim 2,
Further comprising first through fourth drivers provided in the first through fourth pixels, respectively,
Wherein each of the first to fourth drive units comprises:
A first source electrode connected to the first or second power source line, a first drain electrode connected to the organic light emitting element, and a first gate electrode receiving a signal from the first or second data line, A driving transistor for emitting light;
A second source electrode connected to the first or second data line, a second drain electrode connected to the first gate electrode, and a second gate electrode connected to the first or second scan line, A switching transistor for controlling light emission of the device;
A storage capacitor provided in the capacitor region and storing a signal from the first or second data line; And
A third source electrode connected to the storage capacitor, a third drain electrode connected to the reference line, and a third gate electrode connected to the sensing line, wherein a threshold voltage of the organic light emitting device is adjusted according to a signal from the sensing line And a sensing transistor for controlling the sensing transistor.
제 3 항에 있어서,
상기 구동 트랜지스터의 액티브층 및 상기 스위칭 트랜지스터의 액티브층을 외부광으로부터 보호하기 위해 제 1 층에 마련되는 차광막을 더 포함하고,
상기 제 1 및 제 2 전원 라인, 상기 제 1 및 제 2 데이터 라인, 및 상기 레퍼런스 라인은 상기 제 1 층에 마련되는, 유기 발광 표시 장치.
The method of claim 3,
Further comprising a light shielding film provided on the first layer for protecting the active layer of the driving transistor and the active layer of the switching transistor from external light,
Wherein the first and second power supply lines, the first and second data lines, and the reference line are provided in the first layer.
제 4 항에 있어서,
상기 제 1 층과 다른 층인 제 2 층을 더 포함하고,
상기 제 1 내지 제 3 게이트 전극은 상기 제 2 층에 마련되는, 유기 발광 표시 장치.
5. The method of claim 4,
Further comprising a second layer which is a layer different from the first layer,
And the first to third gate electrodes are provided in the second layer.
제 5 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 층과 다른 층인 제 3 층을 더 포함하고,
상기 제 1 내지 제 3 소스 전극, 상기 제 1 내지 제 3 드레인 전극은 상기 제 3 층에 마련되는, 유기 발광 표시 장치.
6. The method of claim 5,
Further comprising a third layer which is a layer different from the first and second layers,
And the first to third source electrodes and the first to third drain electrodes are provided in the third layer.
제 6 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 스캔 라인, 및 상기 센싱 라인은 상기 제 3 층에 마련되는, 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 6,
The first and second scan lines, and the sensing line are provided in the third layer.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 내지 제 4 화소는 모여서 단위 화소를 이루는, 유기 발광 표시 장치.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Wherein the first to fourth pixels are grouped together to form a unit pixel.
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