KR20190044031A - Heating apparatus for manufacturing component - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 부품 제조용 히팅장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로는 열전도성 비금속 재질의 핫바 플레이트를 구비하는 부품 제조용 히팅장치에 관한 것이다.The present invention relates to a heating apparatus for manufacturing parts. And more particularly, to a heating device for manufacturing parts having a hot-bar plate made of a thermally conductive non-metallic material.
기술이 고도화 및 집적화되면서 부품, 예컨대 전자부품의 소형화 및 집적화가 빠르게 이루어지고 있다. 이러한 부품들, 예컨대 전자부품들의 소형화와 집적화를 이루는데 중요한 요소 중의 하나가 솔더링 기술이다. 솔더링은 전자부품 기판을 적층시켜 솔더볼을 용융시켜 상하층을 전기적으로 연결시키는 작업이다. 전자부품 기판들 간의 솔더링을 통해 소형화되는 전자부품의 집적화를 이루고 있다.As technology becomes more sophisticated and integrated, parts, for example, electronic parts, are getting smaller and integrated quickly. One of the important factors in achieving miniaturization and integration of these components, such as electronic components, is soldering technology. Soldering is a process of laminating electronic component substrates to melt solder balls and electrically connect the upper and lower layers. And integration of electronic components that are downsized through soldering between electronic component substrates is achieved.
이러한 솔더링 작업 시 전자부품 기판 일측에 열을 가하여 솔더볼을 용융시켜 상하층을 접합시킨다. 이때, 전자부품 기판, 즉 피가열체에 열을 가하고 경우에 따라 열과 함께 압착력을 가하는 장치가 히팅 장치이다. 이러한 히팅 장치로서 가열 및 냉각 주기를 조절하여 펄스 히팅 방식으로 가열하는 펄스 히터 등이 있다.In this soldering operation, heat is applied to one side of the electronic component substrate to melt the solder balls to bond the upper and lower layers. At this time, the heating device is a device for applying heat to the electronic component substrate, that is, the heating target, and applying a pressing force together with heat in some cases. As such a heating device, there is a pulse heater which heats by a pulse heating method by adjusting a heating and cooling cycle.
히팅장치의 첨단부에는 피가열체인 예컨대 전자부품 기판에 접하는 플레이트를 통상 핫바(Hot Bar) 플레이트라고 한다. 이러한 핫바 플레이트는 열전도도가 우수한 재질을 사용하여 가열 및 냉각이 신속하게 이루어질 수 있도록 하고 있다.In the tip portion of the heating device, a plate which is in contact with an object to be heated, such as an electronic component substrate, is generally called a hot bar plate. Such a hot bar plate is made of a material having a high thermal conductivity so that heating and cooling can be performed quickly.
종래에 사용되는 세라믹 재질의 핫바 플레이트는 상대적으로 낮은 열전도도와 전원 오프 후의 잔열이 남는 문제가 있고, 특히 펄스 히터에 사용되는 경우 잔열에 의해 펄스 히팅 주기를 단축시키는데 한계가 있다.The conventional ceramic hot bar plate has a problem of a relatively low thermal conductivity and residual heat remaining after power-off. Particularly, when used in a pulse heater, there is a limit in shortening the pulse heating period due to residual heat.
또한, 도선 등을 이용한 금속 또는 비금속의 저항 발열체를 이용하는 핫바 플레이트의 경우에도 저항 발열체의 특성상 전원 오프 후에 잔열이 남는 문제가 있고, 특히 펄스 히터에 저항 발열체가 적용되는 경우 펄스 히팅 주기를 단축시키는데 한계가 있다.Further, even in the case of a hot-bar plate using a metal or non-metal resistance heating element using a wire or the like, due to the characteristics of the resistance heating element, there is a problem that residual heat remains after the power is turned off. In particular, when a resistance heating element is applied to the pulse heater, .
부품 제조용 히팅장치에 사용되는 핫바 플레이트에서 열전도 특성의 향상과 함께 전원 오프 후 잔열이 빨리 제거되도록 하는 것이 제품 생산성 향상을 위해 요구된다.It is required to improve the thermal conductivity in the hot bar plate used in the heating device for parts manufacturing and to improve the productivity of the product so that the residual heat is quickly removed after the power is turned off.
본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위한 것으로, 열전도도가 매우 우수한 비금속 재질로 이루어지고 도선 연결방식이 아닌 빔에 의해 가열되는 핫바 플레이트를 구비하는 부품 제조용 히팅장치를 제안하고자 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a heating device for manufacturing parts having a hot bar plate which is made of a non-metallic material having a very high thermal conductivity and heated by a beam,
전술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 하나의 모습에 따라, 빔을 방출하는 빔 소스; 열전도성 비금속 재질로 이루어지고, 빔 소스에서 방출된 빔을 받아 가열되어 접촉된 피가열체를 가열하는 핫바(Hot Bar) 플레이트; 및 빔 소스에서의 빔의 방출을 제어하는 제어유닛을 포함하여 이루어지는 부품 제조용 히팅장치가 제안된다.According to one aspect of the present invention, there is provided a beam source for emitting a beam; A hot bar plate made of a thermally conductive nonmetallic material and heated by the beam emitted from the beam source to heat the object to be heated; And a control unit for controlling the emission of the beam from the beam source.
이때, 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는, 핫바 플레이트 내부를 관통하고 핫바 플레이트를 냉각시키기 위한 냉각유체를 순환시키는 냉각홀을 더 포함하고, 제어유닛은 냉각홀에서의 냉각유체의 순환을 제어할 수 있다.At this time, in one example, the heating device for manufacturing parts further includes a cooling hole for circulating a cooling fluid for passing through the inside of the hot bar plate and for cooling the hot bar plate, and the control unit controls the circulation of the cooling fluid in the cooling hole can do.
이때, 또 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는, 핫바 플레이트 내부를 거쳐 상면으로 노출되게 형성되고 피가열체를 흡착시키는 압력을 제공하는 흡착홀을 더 포함할수 있다.At this time, in another example, the heating device for manufacturing a part may further include a suction hole formed to be exposed to the upper surface via the inside of the hot bar plate and to provide a pressure for sucking the heating target.
또한, 이때, 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는, 챔버를 형성하고 핫바 플레이트의 후방으로 빔이 조사되도록 개구를 구비하고 개구 상에 핫바 플레이트를 지지하는 챔버 하우징을 더 포함하고, 냉각홀은 핫바 플레이트 내부에 형성된 핫바 냉각구간 및 핫바 냉각구간에 연결되고 챔버 하우징의 상부 측을 관통하는 하우징 냉각구간으로 이루어지고, 흡착홀은 핫바 플레이트 내부를 관통하여 핫바 플레이트의 상면으로 노출된 핫바 흡착홀 및 핫바 흡착홀과 연결되게 챔버 하우징의 상부 측을 관통하는 하우징 연결구간으로 이루어진다.It is further contemplated that, in one example, the heating device for manufacturing a component further comprises a chamber housing defining a chamber and having an opening for irradiating a beam backward of the hot bar plate and supporting the hot bar plate on the opening, A hot bar cooling section formed in the hot bar plate and a housing cooling section connected to the hot bar cooling section and penetrating the upper side of the chamber housing, wherein the suction holes penetrate the hot bar plate and are exposed to the upper surface of the hot bar plate, And a housing connecting section penetrating the upper side of the chamber housing to be connected to the hot bar adsorption hole.
또한, 하나의 예에서, 핫바 플레이트는, 챔버 하우징에 의해 지지되고 후면에서 빔을 받아 가열되고 내부에서 핫바 냉각구간 및 핫바 흡착홀이 지나는 베이스부 및 베이스부 상에서 돌출 형성되고 피가열체와 접촉하여 피가열체를 가열하고 상면에서 노출되는 핫바 흡착홀에 의해 관통되는 돌출부를 구비하고, 베이스부 및 돌출부 간에 그리고 베이스부 및 돌출부 각각의 내부에 적층 계면이 없이 베이스부와 돌출부가 일체로 형성된다.Further, in one example, the hot bar plate is supported by the chamber housing and heated by receiving the beam from the rear surface, and protrudes from the base portion and the base portion through which the hot bar cooling section and the hot bar adsorption hole pass, And a base portion and a protrusion are formed integrally with each other between the base portion and the protruding portion and without the laminated interface between the base portion and the protruding portion.
게다가, 이때, 또 하나의 예에서, 핫바 냉각구간은 베이스부 내에서 적어도 하나의 폐루프를 형성하는 내부 냉각부 및 베이스부의 양단 부위에서 내부 냉각부의 양단에 연결되고 챔버 하우징에 접하는 베이스부의 표면으로 관통하며 챔버 하우징의 상부 측을 관통하는 하우징 냉각구간과 연통되는 제1 내부 연결부를 포함하여 이루어지고, 핫바 흡착홀은 베이스부 내부로부터 돌출부의 상면으로 노출되는 노출 흡착홀, 베이스부 내부에서 노출 흡착홀과 연결되며 폐루프에 의한 영역 내에 폐루프를 형성하는 일부 구간과 나란하게 형성된 내부홀 구간, 및 베이스부의 양단 부위 중 적어도 하나에서 내부홀 구간의 일단과 연결되고 챔버 하우징에 접하는 베이스부의 표면으로 관통하며 하우징 연결구간과 연통되는 제2 내부 연결부를 포함하여 이루어질 수 있다.In another example, at this time, in another example, the hot bar cooling section includes an inner cooling section forming at least one closed loop in the base section and a surface of the base section connected to both ends of the inner cooling section at both ends of the base section and in contact with the chamber housing And a first internal connection portion communicating with the housing cooling section passing through the upper side of the chamber housing. The hot bar suction hole includes an exposure absorption hole exposed from the inside of the base portion to the upper surface of the projection, An inner hole section connected to the hole and formed in parallel with a section forming a closed loop in the region by the closed loop, and a surface of the base portion connected to one end of the inner hole section in at least one of the opposite end portions of the base section and in contact with the chamber housing And a second internal connection portion communicating with the housing connection portion There.
게다가, 하우징 냉각구간은 제1 내부 연결부와 연결되는 하우징 연결부, 하우징 연결부에 연결되며 챔버 하우징의 개구 주위를 따라 챔버 하우징 내에 형성된 하우징 냉각부 및 하우징 냉각부와 챔버 하우징의 외부를 연결하는 외부 연결부를 포함하여 이루어질 수 있다.In addition, the housing cooling section includes a housing connection part connected to the first internal connection part, a housing cooling part connected to the housing connection part and formed around the opening of the chamber housing, and an external connection part connecting the outside of the chamber housing with the housing cooling part .
또한, 하나의 예에서, 챔버 하우징의 개구는 핫바 플레이트의 길이방향을 따라 길게 형성되고, 개구 부위의 폭방향 단면 구조는 챔버 내측에서 핫바 플레이트를 지지하는 상측으로 가면서 하측보다 폭이 좁아지는 구조일 수 있다.Further, in one example, the opening of the chamber housing is formed long along the longitudinal direction of the hot bar plate, and the cross-sectional structure in the width direction of the opening part is narrower in width than the lower side .
또 하나의 예에서, 열전도성 비금속 재질은 다이아몬드, CBN(Cubic Boron Nitride) 또는 BN(Boron Nitride) 재질일 수 있다.In another example, the thermally conductive base metal material may be diamond, CBN (Cubic Boron Nitride), or BN (Boron Nitride) material.
또한, 부품 제조용 히팅장치는 핫바 플레이트의 온도를 감지하는 온도센서를 더 포함하고, 제어유닛은 미리 설정된 정보와 온도센서에서 감지된 결과에 따라 빔 소스에서의 빔 방출을 제어할 수 있다.Further, the heating device for manufacturing parts further includes a temperature sensor for sensing the temperature of the hot bar plate, and the control unit can control the beam emission at the beam source according to the preset information and the result sensed by the temperature sensor.
이때, 또 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는, 빔 소스에서 방출되는 빔이 설정된 빔폭으로 핫바 플레이트로 제공되도록 하는 빔폭 설정유닛을 더 포함할 수 있다.At this time, in another example, the heating apparatus for manufacturing a part may further include a beam width setting unit for allowing the beam emitted from the beam source to be provided to the hot bar plate at a predetermined beam width.
또한, 이때, 하나의 예에서, 빔폭 설정유닛은 빔이 핫바 플레이트의 길이방향을 따라 미리 설정된 형상으로 핫바 플레이트로 제공되도록 하는 자계 렌즈일 수 있다.Also, at this time, in one example, the beam-width setting unit may be a magnetic-field lens that causes the beam to be provided to the hot bar plate in a predetermined shape along the longitudinal direction of the hot bar plate.
또 하나의 예에서, 빔 소스는 빔을 생성시켜 방출하는 빔 생성부 및 빔 생성부에서 방출되는 빔을 가속시키되 빔이 설정 영역으로 고르게 조사되게 하는 그리드부를 포함할 수 있다.In another example, the beam source may include a beam generating unit for generating and emitting a beam, and a grid unit for accelerating the beam emitted from the beam generating unit so that the beam is uniformly irradiated onto the setting area.
또한, 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는 펄스 히팅 방식이다.Further, in one example, the heating device for manufacturing parts is a pulse heating type.
또한, 하나의 예에서, 빔은 전자빔, 이온빔 또는 레이저빔일 수 있다.Further, in one example, the beam may be an electron beam, an ion beam, or a laser beam.
또 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는 전자부품의 솔더링에 사용되는 것을 특징으로 한다.In another example, the heating device for manufacturing parts is characterized in that it is used for soldering of electronic parts.
본 발명의 하나의 실시 예에 따라, 열전도도가 우수한 비금속 재질의 핫바 플레이트를 구비함으로써 열전도 특성 향상과 함께 가열 및 냉각 속도를 단축시킬 수 있다. 가열 및 냉각 속도의 단축에 따라 본 발명의 하나의 예에 따른 부품 제조용 히팅장치를 사용하여 제품 생산성을 향상시킬 수 있다.According to one embodiment of the present invention, a hot-bar plate made of a nonmetallic material having excellent thermal conductivity can be provided, thereby improving the thermal conductivity and shortening the heating and cooling rate. The product productivity can be improved by using the heating device for manufacturing parts according to one example of the present invention in accordance with the shortening of the heating and cooling rate.
또한, 본 발명의 하나의 실시예에 따라 빔을 받아 가열되는 열전도도가 우수한 비금속 재질의 핫바 플레이트를 구비함으로써 작업시 빠른 온도제어가 가능해진다. 게다가, 정밀한 온도제어도 가능해진다.In addition, according to one embodiment of the present invention, since the hot bar plate made of a non-metallic material having excellent thermal conductivity heated by receiving the beam is provided, rapid temperature control during operation can be achieved. In addition, precise temperature control becomes possible.
본 발명의 다양한 실시예에 따라 직접적으로 언급되지 않은 다양한 효과들이 본 발명의 실시예들에 따른 다양한 구성들로부터 당해 기술분야에서 통상의 지식을 지닌 자에 의해 도출될 수 있음은 자명하다.It is apparent that various effects not directly referred to in accordance with various embodiments of the present invention can be derived by those of ordinary skill in the art from the various configurations according to the embodiments of the present invention.
도 1a 및 1b는 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2a 및 2b는 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치의 냉각홀과 흡착홀을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3a 및 3b는 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치에서 핫바 냉각구간의 모습을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치에서 챔버 하우징의 개구 부위를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.1A and 1B are schematic views of a heating apparatus for manufacturing parts according to one embodiment of the present invention, respectively.
Figs. 2A and 2B are schematic views showing a cooling hole and a suction hole, respectively, of a heating device for manufacturing parts according to one embodiment of the present invention. Fig.
3A and 3B are views schematically showing a hot bar cooling section in a heating apparatus for manufacturing parts according to an embodiment of the present invention, respectively.
4 is a view schematically showing an opening portion of a chamber housing in a heating apparatus for manufacturing parts according to one embodiment of the present invention.
5 is a view schematically showing a heating apparatus for manufacturing parts according to another embodiment of the present invention.
6 is a view schematically showing a heating apparatus for manufacturing parts according to another embodiment of the present invention.
전술한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시 예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명될 것이다. 본 설명에 있어서, 동일부호는 동일한 구성을 의미하고, 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 이해를 도모하기 위하여 부차적인 설명은 생략될 수도 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a block diagram showing the configuration of a first embodiment of the present invention; Fig. In the description, the same reference numerals denote the same components, and a detailed description may be omitted for the sake of understanding of the present invention to those skilled in the art.
본 명세서에서 하나의 구성요소가 다른 구성요소와 연결, 결합 또는 배치 관계가 설명되어 있는 경우에는 '직접'이라는 한정이 없는 이상, '직접 연결, 결합 또는 배치'되는 형태뿐만 아니라 그들 사이에 또 다른 구성요소가 개재됨으로써 연결, 결합 또는 배치되는 형태로도 존재할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 방향 및/또는 위치를 나타내는 용어로 설명되고 있는 경우 그러한 용어는 기준으로부터 정해지는 상대적 개념이고, 이때 기준은 본 명세서에서 직접 설명되거나 또는 직접 설명되지 않더라도 방향 및/또는 위치를 나타내는 구성과 관련 구성의 관계로부터 충분히 이해될 수 있다.As used herein, unless an element is described as being connected, coupled, or arranged with another element, it is understood that there is no need for any other form of " direct connection, But may also be in the form of being connected, bonded or disposed by intervening components. Also, where described in terms of direction and / or position in the present description, such terms are relative concepts as determined from the bases, wherein the bases may be described directly or not, Can be fully understood from the relationship between the configuration and the related configuration.
본 명세서에 비록 단수적 표현이 기재되어 있는 경우에는, 발명의 개념에 반하거나 명백히 다르거나 모순되게 해석되지 않는 이상 복수의 구성 전체를 대표하는 개념으로 사용될 수 있음에 유의하여야 한다. 본 명세서에서 '포함하는', '갖는', '구비하는', '포함하여 이루어지는' 등의 기재는 하나 또는 그 이상의 다른 구성요소 또는 그들의 조합의 존재 또는 부가 가능성이 있는 것으로 이해되어야 한다.It should be noted that, although a singular expression is used in this specification, it can be used as a concept representing a plurality of constitutions as long as it is contrary to the concept of the invention or is not interpreted as being obviously different or contradictory. It is to be understood that the phrases "including", "having", "having", "comprising", etc. in this specification are intended to be additionally or interchangeable with one or more other elements or combinations thereof.
본 명세서에서 참조되는 도면들은 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 예시로써, 모양, 크기, 두께 등은 기술적 특징의 설명을 위해 과장되게 표현된 것일 수 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other features and advantages of the present invention will become more apparent by describing in detail exemplary embodiments thereof with reference to the attached drawings in which: FIG.
본 발명의 하나의 모습에 따른 부품 제조용 히팅장치를 도면을 참조하여 살펴본다. 이때, 각 도면에 도시된 동일한 도면부호는 동일 구성을 의미하고, 설명되는 도면에서 도시되지 않은 도면부호는 다른 도면에 도시된 동일한 도면부호와 동일 구성을 지시하는 것으로 이해되어야 할 것이다.A heating device for manufacturing a part according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same reference numerals denote the same components, and reference numerals which are not shown in the drawings denote the same components as those in the other drawings.
도 1a 및 1b는 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 2a 및 2b는 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치의 냉각홀과 흡착홀을 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 3a 및 3b는 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치에서 핫바 냉각구간의 모습을 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 4는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치에서 챔버 하우징의 개구 부위를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 5는 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 6은 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 부품 제조용 히팅장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.FIGS. 1A and 1B are schematic views of a heating apparatus for manufacturing parts according to one embodiment of the present invention, and FIGS. 2A and 2B respectively show a cooling hole of a heating apparatus for manufacturing parts according to one embodiment of the present invention, 3A and 3B are diagrams schematically showing a hot bar cooling section in a heating apparatus for manufacturing parts according to one embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a view schematically showing one embodiment of the present invention FIG. 5 is a schematic view of a heating apparatus for manufacturing parts according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a schematic view of a heating apparatus for manufacturing parts according to another embodiment of the present invention. 1 schematically shows a heating device for manufacturing parts according to one embodiment.
도 1a, 1b, 5 및/또는 6을 참조하면, 하나의 예에 따른 부품 제조용 히팅장치는 빔 소스(10), 핫바(Hot Bar) 플레이트(30) 및 제어유닛(60)을 포함하여 이루어진다. 또한, 도 1a, 1b, 5 및/또는 6을 참조하면, 부품 제조용 히팅장치는 냉각홀(40)을 더 포함할 수 있다. 또한, 도 1a, 1b, 5 및/또는 6을 참조하면, 부품 제조용 히팅장치는 흡착홀(50)을 더 포함할 수 있다. 게다가, 도 1a, 1b, 5 및/또는 6을 참조하면, 부품 제조용 히팅장치는 챔버 하우징(20)을 더 포함할 수 있다. 또한, 도 5를 참조하면, 부품 제조용 히팅장치는 빔폭 설정유닛(70)을 더 포함할 수 있다. 도시되지 않았으나, 또 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는 온도센서를 더 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 1A, 1B, 5 and / or 6, a heating apparatus for manufacturing parts according to one example comprises a
하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는 부품제조, 예컨대 전자부품의 제조에 사용된다. 예를 들면, 하나의 예에 따른 부품 제조용 히팅장치는 전자부품의 솔더링에 사용될 수 있다. 이때, 히팅장치는 반도체 패키징용 히팅장치일 수 있다. 예컨대, 전자부품 기판의 솔더링 작업 시 부품 제조용 히팅장치의 핫바 플레이트(30)가 전자부품의 기판 상에 접촉되어 열을 전달하여 솔더링이 수행될 수 있다. 이때, 전자부품은 다층으로 집적된 IC 부품일 수 있다.In one example, a heating device for manufacturing parts is used for manufacturing parts, for example, for manufacturing electronic parts. For example, a heating device for manufacturing parts according to one example can be used for soldering electronic components. At this time, the heating device may be a heating device for semiconductor packaging. For example, in the soldering operation of the electronic component substrate, the
하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는 펄스 히팅 방식이거나 연속 히팅 방식일 수 있다. 펄스 히팅 방식에서는 펄스 주기, 즉 빔의 조사 주기를 제어하고, 연속 히팅 방식에서는 빔을 연속적으로 조사시켜 히팅시킬 수 있다.In one example, the heating device for manufacturing parts may be a pulse heating type or a continuous heating type. In the pulse heating system, the pulse period, that is, the irradiation period of the beam is controlled, and in the continuous heating system, the beam can be continuously irradiated and heated.
빔 소스(10)는 빔(1)을 방출한다. 핫바 플레이트(30)는 열전도성 비금속 재질로 이루어진다. 예컨대, 열전도성 비금속 재질은 다이아몬드, CBN(Cubic Boron Nitride) 또는 BN(Boron Nitride) 재질일 수 있다. 핫바 플레이트(30)는 빔 소스(10)에서 방출된 빔(1)을 받아 가열된다. 이때, 가열된 핫바 플레이트(30)는 접촉된 피가열체(100)를 가열한다. 다음, 흡착홀(50)은 핫바 플레이트(30) 내부를 거쳐 상면으로 노출되게 형성된다. 이때, 흡착홀(50)은 피가열체(100)를 흡착시키는 압력을 제공한다. 그리고, 제어유닛(60)은 빔 소스(10)에서의 빔(1)의 방출을 제어한다. The
예컨대, 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치가 냉각홀(40)을 더 포함하는 경우, 냉각홀(40)은 핫바 플레이트(30) 내부를 관통하고 핫바 플레이트(30)를 냉각시키기 위한 냉각유체를 순환시킨다. 이때, 제어유닛(60)은 냉각홀(40)에서의 냉각유체 순환을 제어할 수 있다.For example, in one example, if the heating device for manufacturing parts further includes a
또한, 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는 챔버 하우징(20)을 더 포함할 수 있고, 이때, 챔버 하우징(20)은 챔버를 형성하고, 개구를 구비하고 개구 상에서 핫바 플레이트(30)를 지지한다. 이때, 개구를 통해 핫바 플레이트(30)의 후방으로 빔(1)이 조사된다. In addition, in one example, the heating apparatus for manufacturing a component may further include a
또 하나의 예에 따른 부품 제조용 히팅장치는 빔폭 설정유닛(70)을 더 포함할 수 있다.The heating apparatus for manufacturing parts according to another example may further include a beam
이하에서, 부품 제조용 히팅장치의 각 구성들을 구체적으로 살펴본다. 기본적인 구성으로, 빔 소스(10), 핫바 플레이트(30) 및 제어유닛(60)을 살펴보고, 실시예에 따라 추가되는 구성으로 냉각홀(40), 흡착홀(50), 챔버 하우징(20), 빔폭 설정유닛(70) 등을 살펴볼 것이다. 다만, 순서 면에서 빔 소스(10), 핫바 플레이트(30), 냉각홀(40), 흡착홀(50), 제어유닛(60), 챔버 하우징(20), 빔폭 설정유닛(70) 및 기타 등의 순으로 살펴볼 것이다.Hereinafter, each configuration of the heating device for manufacturing parts will be described in detail. In the basic configuration, the
[빔 소스][Beam source]
도 1a, 1b, 5 및/또는 6을 참조하면, 빔 소스(10)는 핫바 플레이트(30)를 가열시킬 빔(1)을 방출한다. 예컨대, 빔(1)은 전자빔, 이온빔 또는 레이저빔일 수 있다. 핫바 플레이트(30)를 가열시키는 가열원으로서 빔 소스(10)는 실시예에 따라 전자빔 또는 이온빔이나 레이저빔을 방출할 수 있다. 전자빔(1)과 이온빔은 핫바 플레이트(30)에 빔 입자가 충돌하며 충돌열에 의해 핫바 플레이트(30)를 가열시키고, 레이저빔은 핫바 플레이트(30)에 조사되며 핫바 플레이트(30)를 가열시킨다.1A, 1B, 5 and / or 6, the
예컨대, 빔 소스(10)는 입자 빔의 경우 필라멘트 방식으로 열전자를 방출시키거나 플라즈마를 생성시켜 전자 또는 이온 입자를 방출시키거나 타겟에 레이저를 조사시켜 타겟으로부터 입자를 방출시킬 수 있다. 또는 플라즈마 입자를 타겟에 조사시켜 타겟으로부터 입자를 방출시킬 수도 있다. 또한, 빔 소스(10)에서 방출되는 빔이 레이저빔인 경우 직접 핫바 플레이트(30)로 조사될 수 있다.For example, the
입자 빔의 경우 핫바 플레이트(30)로의 충돌에 의해 핫바 플레이트(30)를 가열시키므로, 충돌열을 많이 발생시키기 위해 입자를 가속시키는 것이 중요하다. 이에 따라 하나의 예에서 입자 빔은 질량이 작고 가속이 용이한 전자빔일 수 있다.In the case of the particle beam, since the
예컨대, 빔 소스(10)에서 방출되는 빔(1)이 전자빔이나 이온빔인 경우, 빔 소스(10)는 다극관 구조, 예컨대 3극관이나 또는 4극관 구조일 수도 있다. 또는 실시예에 따라 빔 소스(10)는 단극관 구조일 수도 있다.For example, when the
또한, 하나의 예에서, 빔 소스(10)에서 빔(1)의 방출은 펄스 방식으로 이루어질 수 있고, 또는 연속 히팅 방식으로 이루어질 수도 있다. 펄스 히팅 방식인 경우 빔 소스(10)에서 방출되는 빔(1)의 방출 주기를 제어하며 가열과 냉각을 제어할 수 있다.Further, in one example, the emission of the
예컨대, 도 6을 참조하면, 하나의 예에서, 빔 소스(10)는 빔 생성부(11) 및 그리드부(13)를 포함할 수 있다. 빔 생성부(11)는 빔(1)을 생성시켜 방출한다. 그리드부(13)는 빔 생성부(11)에서 방출되는 빔(1), 예컨대 입자 빔을 가속시킨다. 이때, 입자 빔은 전자빔일 수 있다. 이때, 그리드부(13)는 빔(1)이 설정 영역으로 고르게 조사되게 한다.For example, referring to FIG. 6, in one example, the
예컨대, 그리드부(13)는 빔(1)이 통과할 수 있는 메쉬 타입이나 홀타입으로 이루어질 수 있다. 예컨대 메쉬 타입이나 홀타입으로 형성된 그리드부(13)에 의해 빔 소스(10)에서 방출된 빔(1)이 핫바 플레이트(30) 후방면 설정 영역에 고르게, 즉 실질적으로 균일하게 조사되도록 할 수 있다. 즉, 그리드부(13)는 예컨대 메쉬나 홀을 통과하는 빔(1)이 특정 영역에 집중되지 않도록 메쉬나 홀이 배치되게 형성될 수 있다.For example, the
그리드부(13)는 전극으로 사용되어 빔(1), 예컨대 입자빔을 가속시키는데 이용될 수 있다. 예컨대, 그리드부(13)는 전자빔(1)을 가속시키기 위한 양극일 수 있다. The
예컨대, 도 1a, 1b, 5 및/또는 6을 참조하면, 빔 소스(10)는 챔버 하우징(20)에 의해 지지되며 챔버 하우징(20)과 함께 챔버를 형성할 수 있고, 또는 도시되지 않았으나, 챔버 하우징(20) 내에 형성될 수도 있다.1a, 1b, 5 and / or 6, the
본 발명의 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는 빔(1)에 의해 핫바 플레이트(30)가 가열되는 방식이므로 핫바 플레이트(30)에서의 빠른 가열과 빠른 냉각이 수행될 수 있다. 즉, 저항 발열체 방식 등과 달리 빔(1)이 핫바 플레이트(30)로 조사 내지 충돌되어 핫바 플레이트(30)를 가열하므로, 전원 온오프 제어에 의한 빔(1)의 방출을 통해 펄스 히팅이 원활하게 이루어질 수 있다. 이에 따라, 빔(1)으로 가열하는 경우 펄스 히팅 주기를 종래의 저항 발열체 등의 방식보다 짧게 할 수 있어, 부품 제조용 히팅장치를 이용한 제품 생산성을 향상시킬 수 있다.In one example of the present invention, since the heating device for manufacturing parts is a method in which the
또한, 본 발명의 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치는 빔(1)에 의해 핫바 플레이트(30)가 가열되는 방식이므로 핫바 플레이트(30)에서의 빠른 온도제어가 가능하다. 나아가, 핫바 플레이트(30)에서의 정밀한 온도제어도 가능해진다.Also, in one example of the present invention, the heating device for manufacturing parts is a method in which the
[[ 핫바Hot bar 플레이트] plate]
다음으로, 도 1a, 1b, 2a, 2b, 4, 5 및/또는 6을 참조하여, 핫바 플레이트(30)를 살펴본다. 핫바 플레이트(30)는 빔 소스(10)에서 방출된 빔(1)을 받아 가열된다. 이때, 핫바 플레이트(30)는 접촉된 피가열체(100)로 열을 전달하며 피가열체(100)를 가열한다. 본 발명의 예에서, 핫바 플레이트(30)는 빔(1)에 의해 가열되는 방식이므로 핫바 플레이트(30)에서의 빠른 가열과 빠른 냉각이 수행될 수 있다. 빔(1) 사용 시 빔 소스(10)에서의 전원 오프로 빔(1) 방출이 바로 중단되므로 핫바 플레이트(30)를 가열시키는 가열원이 바로 사라지게 되어 급속한 냉각을 수행할 수 있다. 종래의 저항 발열체 방식 등의 핫바 플레이트(30)는 전원 오프 시에도 저항 발열체 상에 잔열이 남아 급속한 냉각을 수행하기 어려웠으나, 본 발명에서와 같이 빔(1), 예컨대 전자빔을 사용함으로써 전원 오프 동작만으로 핫바 플레이트(30)를 가열시키는 저항 발열체에서와 같은 잔열을 원천적으로 없앨 수 있다. 즉, 저항 발열체 방식 등과 달리 핫바 플레이트(30)를 가열시키는 가열원이 빔(1)으로 핫바 플레이트(30)로 조사 내지 충돌됨으로써 전원 온오프 제어를 통한 가열 및 냉각이 원할하게 이루어질 수 있다. 예컨대 빔(1) 조사 주기를 제어함으로써 펄스 히팅이 원활하게 이루어질 수 있다. 이에 따라, 빔(1)으로 가열하는 경우 펄스 히팅 주기를 종래의 저항 발열체 등의 방식보다 짧게 할 수 있어, 부품 제조용 히팅장치를 이용한 제품 생산성을 향상시킬 수 있다.Next, the
본 명세서에서 핫바 플레이트(30)는 피가열체(100)의 가열원으로서 피가열체(100)에 접촉하여 피가열체(100)로 열을 전달하는 부품 내지 기기를 의미한다. 핫바 플레이트(30)는 바(bar)형 구조로 피가열체(100)와 접촉되는 첨단면이 평평하다. 이때, 피가열체(100)와 접촉되는 접촉면, 즉 핫바 플레이트(30)의 첨단면은 폭이 좁고 길이가 긴 형상의 팁(tip)형 구조이거나 폭이 상대적으로 넓은 형상일 수 있다.In the present specification, the
핫바 플레이트(30)에 접촉되어 가열되는 피가열체(100)의 예로는 예컨대 전자부품 기판일 수 있다. 예컨대, 전자부품 기판의 솔더링 작업 시 핫바 플레이트(30)가 기판 상에 접촉되어 열을 전달하여 솔더링이 수행될 수 있다. 집적기술의 발전에 따라 다층으로 집적된 IC 부품이 많이 제조되는데, 이때, IC 부품의 적층을 위한 솔더링 작업 시 핫바 플레이트(30)가 접촉되어 열을 전달하여 솔더링이 수행될 수 있다.An example of the
본 발명의 예에서, 핫바 플레이트(30)는 열전도성 비금속 재질로 이루어진다. 핫바 플레이트(30)가 열전도성이 우수한 재질로 이루어져 있어 높은 열전달율과 빠른 가열 및 냉각이 가능해진다. 이때, 하나의 예에서, 펄스 히팅 방식의 경우 가열 및 냉각을 반복하는 펄스 히팅의 주기를 짧게 할 수 있다. 종래의 펄스 히팅장치의 핫바 플레이트 재질보다 열전도 특성이 우수한 재질을 사용하여 본 발명의 예에서는 핫바 플레이트(30)가 빨리 가열되고 빨리 냉각될 수 있고, 높은 열전도도에 따라 종래보다 빠르고 균일한 피가열체(100)로의 열 전달을 수행할 수 있다.In the example of the present invention, the
이때, 핫바 플레이트(30)의 재질은 열전도성이 우수한 이종 재질로 코팅된 것이 아니라 일체가 하나의 재질로 이루어질 수 있다.At this time, the material of the
열전도성이 우수한 비금속 재질로서 다이아몬드나 CBN(Cubic Boron Nitride), BN(Boron Nitride) 등이 사용될 수 있다. 다이아몬드, CBN, BN은 열전도율이 뛰어날 뿐만 아니라 CVD가 가능하다. 따라서, CVD를 통해 열전도성이 매우 우수한 재질로 핫바 플레이트(30)를 일체로 제조할 수 있다. 또한, 다이아몬드 재질은 CVD 방식을 이용한 CVD 합성 다이아몬드 뿐만 아니라 다결정 다이아몬드(PCD, Poly Crystalline Diamond)일 수 있다.Diamond, CBN (Cubic Boron Nitride), BN (Boron Nitride) and the like can be used as a non-metallic material having excellent thermal conductivity. Diamond, CBN and BN are not only excellent in thermal conductivity, but also capable of CVD. Therefore, the
다이아몬드 재질을 사용하는 경우를 예를 들어 살펴보면, 다이아몬드 재질은 열전도도가 매우 우수하다. 금속 중 열전도도가 우수한 은이나 구리보다 다이아몬드의 열전도도가 매우 높다. 열전도도가 매우 우수한 다이아몬드 재질의 핫바 플레이트(30)를 사용하므로, 높은 열전달율과 빠른 가열 및 냉각이 가능해진다. 이에 따라, 가열 및 냉각을 반복하는 펄스 히팅의 주기를 짧게 할 수 있다. 종래의 펄스 히팅장치에 사용되는 세라믹 재질보다 다이아몬드 재질이 열전도 특성이 매우 우수하다. 따라서, 종래 펄스 히팅장치의 세라믹 재질의 핫바 플레이트보다 본 발명에 따른 다이아몬드 재질의 핫바 플레이트(30)가 빨리 가열되고 빨리 냉각될 수 있다. 또한, 다이아몬드 재질의 높은 열전도도에 따라 종래의 세라믹 재질의 핫바 플레이트보다 빠르고 균일한 피가열체(100)로의 열 전달을 수행할 수 있다.For example, diamond materials have a very high thermal conductivity. The thermal conductivity of diamond is much higher than that of silver or copper, which has excellent thermal conductivity among metals. Since the
핫바 플레이트(30)의 다이아몬드 재질은 종래에서와 같이 단순히 열전도도가 우수한 금속 또는 비금속 상에 코팅된 것이 아니고, 빠른 가열뿐만 아니라 신속한 냉각이 이루어질 수 있도록 핫바 플레이트(30)의 표면과 내부 모두 다이아몬드 재질로 이루어진다. 종래와 같이, 내부의 금속 또는 다른 재질 비금속 재료의 표면에 다이아몬드 피막을 형성한 경우 이종 재질간의 열전도도의 차이에 따라 가열과 냉각 속도가 차이가 나고 특히 내부 재질의 냉각속도 지연에 따른 잔열에 의한 문제가 생길 수 있다. 반면, 본 발명의 하나의 예에서와 같이 핫바 플레이트(30)의 표면과 내부 모두 다이아몬드 재질로 이루어지는 경우 표면과 내부 간에 이종재질에 의한 가열 및 냉각 속도 차이를 없앨 수 있고, 또한 종래와 같은 이종 내부 재질의 냉각속도 지연에 따른 잔열 문제를 극복할 수 있다.The diamond material of the
핫바 플레이트(30)의 다이아몬드 재질은 합성 다이아몬드 재질, 예컨대 CVD 합성 다이아몬드 또는 PCD(다결정 다이아몬드)일 수 있다. 합성 다이아몬드 재질도 천연 다이아몬드와 실질적으로 동일한 열전도도를 얻을 수 있다. 예컨대, 반도체 공정에 사용되는 화학기상증착인 CVD 증착을 통해 합성 다이아몬드 재질의 핫바 플레이트(30)를 제조할 수 있다.The diamond material of the
열전도성이 우수한 비금속 재질을 이용한 핫바 플레이트 제조과정의 예를 간단히 살펴본다. 이때, CVD 증착을 통한 합성 다이아몬드 재질의 핫바 플레이트 제조과정을 살펴본다. 다이아몬드 뿐만 아니라 CBN, BN도 CVD가 가능하므로 유사한 방식으로 핫바 플레이트 제조가 가능해진다. An example of a process for manufacturing a hot bar plate using a non-metallic material having excellent thermal conductivity will be briefly described. At this time, a process of manufacturing a hot-bar plate of a synthetic diamond material by CVD deposition will be described. CBN and BN as well as diamonds can be CVD, making it possible to manufacture hot bar plates in a similar manner.
먼저, 합성 다이아몬드 재질의 베이스 플레이트를 준비하고, 레이저 가공 또는 에칭 가공 등의 방법으로 베이스 플레이트의 상측이 개방되게 수용홈을 가공한다. CVD 증착으로 수용홈이 가공된 베이스플 레이트를 준비할 수도 있다. 이때, 수용홈은 후술되는 핫바 냉각구간(41)과 핫바 흡착홀(51)을 형성하기 위한 홈이다.First, a base plate made of a synthetic diamond material is prepared, and the receiving groove is processed such that the upper side of the base plate is opened by laser processing, etching, or the like. A base plate on which a receiving groove is machined by CVD deposition may also be prepared. At this time, the receiving groove is a groove for forming the hot
베이스 플레이트와 동일한 재질이고 단면상 일측이 개방된 홈 구조로 이루어진 홈 틀(예컨대, CVD 방식으로 제조)을 준비하고, 준비된 홈 틀의 개방측이 수용홈의 바닥을 향하도록 홈 틀을 수용홈에 삽입한다. 홈 틀의 개방측이 수용홈의 바닥을 향하도록 삽입되어 핫바 냉각구간(41)과 핫바 흡착홀(51)이 형성될 수 있다.(For example, a CVD method) made of the same material as that of the base plate and having an open side in one side is prepared, and the groove is inserted into the receiving groove such that the open side of the prepared groove is directed to the bottom of the receiving groove do. The open side of the grooved frame is inserted so as to face the bottom of the receiving groove so that the hot
다음으로, 홈 틀이 삽입된 베이스 플레이트를 예컨대 CVD 증착 성장시켜, 핫바 냉각구간(41)과 핫바 흡착홀(51)이 내부에 구비되고 핫바 흡착홀(51)은 또한 상면으로 관통하여 노출되는 핫바 플레이트(30)를 형성한다.Next, the base plate having the grooved frame inserted therein is subjected to, for example, CVD vapor deposition to grow a hot
도 2a 및/또는 2b를 참조하면, 하나의 예에서, 핫바 플레이트(30)는 베이스부(30a) 및 돌출부(30b)를 포함하고 있다. 이때, 베이스부(30a)와 돌출부(30b)는 열전도성 비금속 재질, 예컨대 다이아몬드, CBN 또는 BN 재질로 일체로 형성된다. 하나의 예에서, 베이스부(30a)와 돌출부(30b)는 다이아몬드, CBN 또는 BN 재질일 수 있다. 하나의 예에서, 베이스부(30a)와 돌출부(30b)는 합성 다이아몬드 재질일 수 있다.Referring to Figures 2a and / or 2b, in one example, the
베이스부(30a)는 후술되는 챔버 하우징(20)에 의해 지지된다. 이때, 베이스부(30a)는 후면에서 빔 소스(10)로부터 방출된 빔(1)을 받아 가열된다. 베이스부(30a)의 내부에서 핫바 냉각구간(41) 및 핫바 흡착홀(51)이 지난다. 예컨대, 핫바 냉각구간(41)의 입구와 출구는 후술되는 챔버 하우징(20)과의 접촉면 상에 형성될 수 있다. 예컨대, 핫바 냉각구간(41)의 입구와 출구는 베이스부(30a)의 후면 또는 측면에 형성될 수 있다. 핫바 냉각구간(41)에 대한 설명은 후술된다.The
돌출부(30b)는 베이스부(30a) 상에서 돌출 형성된다. 돌출부(30b)는 피가열체(100)와 접촉하여 피가열체(100)를 가열한다. 돌출부(30b)의 상면, 즉 첨단면이 피가열체(100)와 접하는 접촉면이다. 이때, 돌출부(30b)는 폭이 좁고 길이가 길게 형성된 팁(tip) 형상이거나 폭이 상대적으로 넓은 플레이트 형상일 수 있다. 돌출부(30b)가 팁 형상인 경우에도 피가열체(100)와 접촉하는 첨단면은 평평하다.The projecting
돌출부(30b)의 상면에서 핫바 흡착홀(51)이 노출된다. 핫바 흡착홀(51)은 베이스부(30a)의 내부와 돌출부(30b)를 관통하여 형성되며 돌출부(30b)의 상면에 노출된다. 핫바 흡착홀(51)에 대한 설명은 후술된다.The hot
이때, 베이스부(30a) 및 돌출부(30b) 간에 그리고 베이스부(30a) 및 돌출부(30b) 각각의 내부에 적층 계면이 없이 베이스부(30a)와 돌출부(30b)가 일체로 형성된다. 즉, 핫바 플레이트(30)는 열전도도가 우수한 비금속 재질, 예컨대 다이아몬드 재질로 이루어지고, 적층계면 또는/및 접착 계면 없이 일체로 형성된다. 이때, 핫바 플레이트(30)는 CVD 증착을 통해 적층 또는/및 접착 계면 없이 일체로 형성될 수 있다. 만일, 접착 계면이 존재하는 경우 접착계면 상의 접착제의 열전도도가 예컨대 다이아몬드 재질보다 매우 낮으므로, 접착 계면의 상하부 간에 열전달이 원활하게 이루어지지 못하게 되고, 핫바 플레이트(30)가 열전도도가 우수한 비금속 재질, 예컨대 다이아몬드 재질의 열전도도 특성을 최대한 발휘시키기 어렵다.At this time, the
[[ 냉각홀]Cooling hole]
다음으로, 도 1a, 1b, 5 및/또는 6을 참조하면, 부품 제조용 히팅장치는 냉각홀(40)을 더 포함할 수 있다. 이때, 도 1a, 1b, 2a, 2b, 3a, 3b, 5 및/또는 6을 참조하여, 냉각홀(40)을 살펴본다. 냉각홀(40)은 핫바 플레이트(30) 내부를 관통하고 핫바 플레이트(30)를 냉각시키기 위한 냉각유체를 순환시킨다. 냉각 방식은 수냉이나 공냉 방식일 수 있으며, 냉각 유체로는 냉동 작업에 사용되는 냉매 유체나 혹은 액화질소를 사용할 수 있다. 예컨대, 히트펌프 방식으로 냉매를 순환시켜 핫바 플레이트(30)를 냉각시킬 수도 있다. 냉각홀(40)을 통해 가열된 핫바 플레이트(30)를 냉각시키기 위한 냉각 유체가 순환된다. 냉각 방식은 수냉 및/또는 공냉 방식일 수 있다. 액체질소를 냉각 유체로 사용할 수도 있다. 또한, 냉동기기나 냉동작업 등에 사용되는 냉매가 냉각 유체로 사용될 수 있다. 냉각홀(40)에 의해 핫바 플레이트(30)는 신속하게 냉각된다.Next, referring to Figs. 1A, 1B, 5 and / or 6, the heating device for manufacturing parts may further include a
예컨대, 도 2a 및/또는 2b를 참조하면, 하나의 예에서, 냉각홀(40)은 핫바 냉각구간(41) 및 하우징 냉각구간(43)으로 이루어진다. 핫바 냉각구간(41)은 핫바 플레이트(30) 내부에 형성된다. 핫바 플레이트(30) 내부에 형성되는 핫바 냉각구간(41)을 통해 냉각유체가 흐르며 가열된 핫바 플레이트(30)가 신속하게 냉각된다. 핫바 냉각구간(41)의 입구와 출구는 핫바 플레이트(30)를 지지하는 챔버 하우징(20)과의 접촉면 상에 형성될 수 있다. 예컨대, 핫바 냉각구간(41)은 핫바 플레이트(30)의 후면의 양단부위 또는 측면 양단 부위에 형성된 2개의 홀이 쌍을 이루어 입구와 출구를 형성하며 핫바 플레이트(30)의 내부를 관통할 수 있다.For example, referring to Figs. 2A and / or 2B, in one example, the
도 2a, 2b, 3a 및/또는 3b를 참조하면, 또 하나의 예에서, 핫바 냉각구간(41)은 내부 냉각부(41b) 및 제1 내부 연결부(41a)를 포함하여 이루어질 수 있다. 내부 냉각부(41b)는 핫바 플레이트(30)의 베이스부(30a) 내에서 적어도 하나의 폐루프를 형성한다. 이때, 베이스부(30a)의 양단 부위에서 내부 냉각부(41b)는 제1 내부 연결부(41a)에 연결될 수 있다. 제1 내부 연결부(41a)는 핫바 플레이트(30)의 베이스부(30a)의 양단 부위에서 내부 냉각부(41b)의 양단에 연결된다. 또한, 제1 내부 연결부(41a)는 챔버 하우징(20)에 접하는 베이스부(30a)의 표면으로 관통하며 챔버 하우징(20)의 상부 측을 관통하는 하우징 냉각구간(43)과 연통된다.Referring to FIGS. 2A, 2B, 3A and / or 3B, in another example, the hot
한편, 하우징 냉각구간(43)은 핫바 냉각구간(41)에 연결되고 후술되는 챔버 하우징(20)의 상부 측을 관통한다. 하우징 냉각구간(43)을 통해 냉각유체가 흐르며 핫바 플레이트(30)를 지지하는 챔버 하우징(20)의 결합 부위로 전달된 열을 냉각시킬 수 있다.On the other hand, the
이때, 도 2a, 2b 및/또는 4를 참조하면, 하나의 예에서, 하우징 냉각구간(43)은 하우징 연결부(43a), 하우징 냉각부(43b) 및 외부 연결부(43c)를 포함하여 이루어질 수 있다. 하우징 연결부(43a)는 제1 내부 연결부(41a)와 연결된다. 하우징 냉각부(43b)는 하우징 연결부(43a)에 연결되며 챔버 하우징(20)의 개구 주위를 따라 챔버 하우징(20) 내에 형성된다. 외부 연결부(43c)는 하우징 냉각부(43b)와 챔버 하우징(20)의 외부를 연결한다. 외부에는 냉각유체 순환펌프(도시되지 않음)가 연결되어 제어유닛(60)의 제어에 따라 냉각유체를 외부 연결부(43c)를 통해 냉각홀(40)로 유입시키고 또한 순환된 냉각 유체를 외부 연결부(43c)를 통해 냉각홀(40)에서 내보낸다.2A, 2B, and 4, the
[[ 흡착홀Absorption hole ]]
다음으로, 도 1a, 1b, 2a, 2b, 3a, 3b, 5 및/또는 6을 참조하여, 흡착홀(50)을 살펴본다. 흡착홀(50)은 핫바 플레이트(30) 내부를 거쳐 상면으로 노출되게 형성된다. 이때, 흡착홀(50)은 피가열체(100)를 흡착시키는 압력을 제공한다. 흡착홀(50)은 피가열체(100)를 흡착시키기 위한 것으로 흡착홀(50)을 통해 실질적 진공 상태나 외부 압력보다 낮은 압력을 유지시킴으로써 피가열체(100)를 흡착시킬 수 있다. 예컨대, 흡착홀(50)을 통한 피가열체(100)의 흡착은 피가열체(100)를 고정시키는 역할을 수행할 수 있다. 게다가, 하나의 예에서, 흡착홀(50)은 흡착된 피가열체(100)를 탈착시키는 압력을 제공할 수도 있다. 예컨대, 탈착시키는 압력은 작업실 내의 압력과 실질적으로 동일하게 흡착홀(50) 내의 압력을 유지할 수 있다.Next, the adsorption holes 50 will be described with reference to Figs. 1A, 1B, 2A, 2B, 3A, 3B, 5 and / or 6. The suction holes 50 are formed through the inside of the
도 2를 참조하면, 하나의 예에서, 흡착홀(50)은 핫바 흡착홀(51) 및 하우징 연결구간(53)으로 이루어진다. 핫바 흡착홀(51)은 핫바 플레이트(30) 내부를 관통하여 핫바 플레이트(30)의 상면으로 노출된다. 하우징 연결구간(53)은 핫바 흡착홀(51)과 연결되게 후술되는 챔버 하우징(20)의 상부 측을 관통한다.Referring to FIG. 2, in one example, the
핫바 흡착홀(51)은 핫바 냉각구간(41)과 마찬가지로 핫바 플레이트(30) 내부를 관통하나, 핫바 냉각구간(41)과 달리 핫바 플레이트(30)의 피가열체 접촉면 상으로 연결되어 노출된다. 이때, 핫바 흡착홀(51)을 통해 피가열체(100)를 실질적으로 진공 또는 주변보다 낮은 압력을 유지시켜 흡착하고, 핫바 흡착홀(51)의 압력을 주변 압력과 실질적으로 동일하게 변화시켜 흡착되어 있던 피가열체(100)를 접촉면으로부터 이탈 내지 탈락 가능하게 할 수 있다. Like the hot
핫바 플레이트(30)의 피가열체 접촉면에서 핫바 흡착홀(51)은 적어도 하나 이상, 예컨대 다수로 노출되고, 핫바 플레이트(30) 내부에서 하나로 연결되거나 또는 피가열체 접촉면에 노출된 다수의 핫바 흡착홀(51)이 2 이상의 내부 통로로 연결될 수도 있다. 또한, 핫바 흡착홀(51)의 입구와 출구는 핫바 플레이트(30)가 부품 제조용 히팅장치의 챔버 하우징(20)에 의해 지지되는 접촉지지면 상에 형성될 수 있다. 예컨대, 핫바 흡착홀(51)은 핫바 플레이트(30)의 후면 또는 측면에 입구와 출구가 형성될 수 있다.At least one or more, for example, a plurality of hot bar adsorption holes 51 are exposed from the contact surface of the
예컨대, 도 2a 및/또는 2b를 참조하면, 하나의 예에서, 핫바 흡착홀(51)은 제2 내부 연결부(51a), 내부홀 구간(51b) 및 노출 흡착홀(51c)을 포함하여 이루어질 수 있다. 노출 흡착홀(51c)은 베이스부(30a) 내부로부터 돌출부(30b)의 상면으로 노출된다. 예컨대, 노출 흡착홀(51c)은 내부홀 구간(51b)에서 핫바 플레이트(30)의 상면, 구체적으로 돌출부(30b)의 상면으로 수직하게 형성되어 노출될 수 있다. 예컨대, 돌출부(30b) 상면, 즉 첨단면에 노출된 노출 흡착홀(51c)이 2 이상인 경우, 다수의 노출 흡착홀(51c)은 베이스부(30a) 내부에 형성된 하나의 내부홀 구간(51b)과 연통되거나 또는 다수의 내부홀 구간(51b)과 별도로 연통될 수도 있다. For example, referring to FIGS. 2A and / or 2B, in one example, the hot
예컨대, 도시되지 않았으나, 돌출부(30b) 상면에 노출되는 핫바 흡착홀(51)의 노출 흡착홀(51c)은 돌출부(30b) 상면 상에 형성된 하나의 흡착홈의 바닥에 적어도 하나 이상 형성될 수 있다. 즉, 적어도 하나 이상의 노출 흡착홀(51c)이 돌출부(30b) 상면에 형성된 하나의 흡착홈(도시되지 않음)에 연결되어 흡착홈에 의해, 즉 흡착홈에서의 실질적 진공 상태 또는 주변보다 낮은 압력 유지를 통해 피가열체(100)를 흡착할 수 있다.For example, although not shown, at least one or more exposure adsorption holes 51b of the hot bar adsorption holes 51 exposed on the upper surface of the
다음으로, 내부홀 구간(51b)은 베이스부(30a) 내부에서 노출 흡착홀(51c)과 연결되며 내부 냉각부(41b)의 폐루프에 의한 영역 내에 폐루프를 형성하는 일부 구간과 나란하게 형성된다. The
계속하여, 제2 내부 연결부(51a)는 베이스부(30a)의 양단 부위 중 적어도 하나에서 내부홀 구간(51b)의 일단과 연결되며 챔버 하우징(20)에 접하는 베이스부(30a)의 표면으로 관통한다. 또한, 제2 내부 연결부(51a)는 챔버 하우징(20)에 접하는 베이스부(30a)의 표면에서 챔버 하우징(20)의 상부 측을 관통하는 하우징 연결구간(53)과 연통된다. 예컨대, 제2 내부 연결부(51a)는 내부 냉각부(41b)의 폐루프의 영역 내에서 챔버 하우징(20)에 접하는 베이스부(30a)의 하부 표면으로 수직하게 형성될 수 있다.The second
[제어유닛][Control unit]
계속하여, 도 1a를 참조하면, 제어유닛(60)은 빔 소스(10)에서의 빔(1)의 방출을 제어한다. 또한, 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치가 냉각홀(40)을 구비하는 경우, 제어유닛(60)은 냉각홀(40)에서의 냉각유체의 순환을 제어할 수 있다. 제어유닛(60)은 또한 흡착홀(50)의 압력을 제어할 수 있다. Subsequently, referring to Fig. 1A, the
제어유닛(60)에 의한 빔 방출 제어는 빔 소스(10)에 인가되는 전원을 온오프시켜 빔 방출을 제어할 수 있다. 실시예에 따라, 전원의 세기를 조절하여 빔 방출량을 제어할 수도 있다.The beam emission control by the
제어유닛(60)의 냉각유체 순환 제어는 도시되지 않았으나 냉각홀(40)의 외부 연결부(43c)를 통해 연결된 냉각유체 순환펌프에 대한 제어를 통해 이루어질 수 있다. 또한, 제어유닛(60)의 흡착홀(5)의 압력 제어는 도시되지 않았으나 흡착홀(50)의 하우징 연결구간(53)을 통해 외부에서 연결된 진공펌프에 대한 제어를 통해 이루어질 수 있다.The cooling fluid circulation control of the
예컨대, 하나의 예에서, 부품 제조용 히팅장치가 핫바 플레이트(30)의 온도를 감지하는 온도센서(도시되지 않음)를 더 포함하는 경우, 제어유닛(60)은 미리 설정된 정보와 온도센서에서 감지된 결과에 따라 빔 소스(10)에서의 빔 방출을 제어할 수 있다. 예컨대, 하나의 예에서, 제어유닛(60)은 온도센서의 감지결과에 따라 빔 방출 및 냉각홀(40)에서의 냉각유체 순환을 제어할 수 있다. 미리 설정된 정보라 함은 제어유닛(60)에 의한 제어를 수행하기 위한 조건 또는/및 파라미터 정보로, 예컨대, 기준 온도값 또는 기준 온도범위값에 대한 제어 출력값을 나타내는 정보일 수 있다. 이때, 기준 온도값 또는 기준 온도범위값에 대한 것 뿐만 아니라 기준 압력에 대한 것들도 미리 설정된 정보에 포함될 수 있다. 제어 정보로서 미리 설정된 정보는 부품 제조용 히팅장치의 제조 시 세팅되거나 당해 기술분야에서 시험을 통해 세팅 입력하거나 기타 사용자의 조작을 통해 설정 입력될 수도 있다.For example, in one example, when the heating device for manufacturing parts further includes a temperature sensor (not shown) that senses the temperature of the
[[ 챔버chamber 하우징] housing]
도 1a, 1b, 5 및/또는 6을 참조하면, 하나의 예에 따른 부품 제조용 히팅장치는 챔버 하우징(20)을 더 포함할 수 있다. 이때, 챔버 하우징(20)은 챔버를 형성한다. 챔버 하우징(20)은 핫바 플레이트(30)의 후방으로 빔(1)이 조사되도록 개구를 구비한다. 챔버 하우징(20)은 개구 상에서 핫바 플레이트(30)를 지지한다.Referring to FIGS. 1A, 1B, 5 and / or 6, a heating device for manufacturing a component according to one example may further include a
챔버 하우징(20)에 의해 형성된 챔버에 빔 소스(10)가 구비되거나, 도 1a, 1b, 5 및/또는 6에 도시된 바와 같이 챔버 하우징(20)과 빔 소스(10)의 일부가 함께 챔버를 형성할 수도 있다. 도 5를 참조하면, 하나의 예에서, 챔버 하우징(20)에 의해 형성된 챔버 내에 빔폭 설정유닛(70)이 구비될 수 있다.A
예컨대, 도 4를 참조하면, 하나의 예에서, 챔버 하우징(20)의 개구는 핫바 플레이트(30)의 길이방향을 따라 길게 형성된다. 이때, 개구 부위의 폭방향 단면 구조는 챔버 내측에서 핫바 플레이트(30)를 지지하는 상측으로 가면서 하측보다 폭이 좁아지는 구조일 수 있다.For example, referring to FIG. 4, in one example, the opening of the
[[ 빔폭Beam width 설정유닛 및 기타] Setting unit and others]
다음으로, 도 5를 참조하면, 하나의 예에 따른 부품 제조용 히팅장치는 빔폭 설정유닛(70)을 더 포함할 수 있다. 빔폭 설정유닛(70)은 빔 소스(10)에서 방출되는 빔(1)이 설정된 빔폭으로 핫바 플레이트(30)로 제공되도록 한다. 예컨대, 빔폭 설정유닛(70)은 슬릿이나 직사각형 구조의 홀을 구비하여 빔(1)을 통과시킴으로써 빔폭을 설정할 수 있고, 이에 한정되지 않는다. 또한, 도시되지 않았으나, 빔폭 설정유닛(70)은 조리개를 구비하여 슬릿의 폭을 조절할 수 있다. 또는, 자기장 공간에서 빔(1)이 힘을 받는 경우, 빔폭 설정유닛(70)으로서 자계 렌즈를 이용하여 자기장 공간을 형성하여 빔폭을 조절할 수도 있다.Next, referring to FIG. 5, a heating apparatus for manufacturing a part according to one example may further include a beam
하나의 예에서, 빔폭 설정유닛(70)은 빔(1)이 핫바 플레이트(30)의 길이방향을 따라 미리 설정된 형상으로 핫바 플레이트로 제공되도록 하는 자계 렌즈일 수 있다. 예컨대, 자계 렌즈는 빔(1)이 핫바 플레이트(30)의 길이방향을 따라 좁고 길게 퍼지도록 할 수 있다.In one example, the beam
다음으로, 도시되지 않았으나, 부품 제조용 히팅장치는 온도센서를 더 포함할 수 있다. 온도센서는 핫바 플레이트(30)의 온도를 감지한다. Next, although not shown, the heating apparatus for manufacturing parts may further include a temperature sensor. The temperature sensor senses the temperature of the hot bar plate (30).
이때, 제어유닛(60)은 미리 설정된 정보와 온도센서에서 감지된 결과에 따라 빔 소스(10)에서의 빔 방출 및 냉각홀(40)에서의 냉각유체 순환을 제어한다.At this time, the
이상에서, 전술한 실시예 및 첨부된 도면들은 본 발명의 범주를 제한하는 것이 아니라 본 발명에 대한 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자의 이해를 돕기 위해 예시적으로 설명된 것이다. 또한, 전술한 구성들의 다양한 조합에 따른 실시예들이 앞선 구체적인 설명들로부터 당업자에게 자명하게 구현될 수 있다. 따라서, 본 발명의 다양한 실시예는 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 범위는 특허청구범위에 기재된 발명에 따라 해석되어야 하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의한 다양한 변경, 대안, 균등물들을 포함하고 있다.The foregoing embodiments and accompanying drawings are not intended to limit the scope of the present invention but to illustrate the present invention in order to facilitate understanding of the present invention by those skilled in the art. Embodiments in accordance with various combinations of the above-described configurations can also be implemented by those skilled in the art from the foregoing detailed description. Accordingly, various embodiments of the present invention may be embodied in various forms without departing from the essential characteristics thereof, and the scope of the present invention should be construed in accordance with the invention as set forth in the appended claims. Alternatives, and equivalents by those skilled in the art.
1: 빔 또는 전자빔
10: 빔 소스
11: 빔 생성부
13: 그리드부
20: 챔버 하우징
30: 핫바 플레이트
30a: 베이스부
30b: 돌출부
40: 냉각홀
41: 핫바 냉각구간
41a: 제1 내부 연결부
41b: 내부 냉각부
43: 하우징 냉각구간
43a: 하우징 연결부
43b: 하우징 냉각부
43c: 외부 연결부
50: 흡착홀
51: 핫바 흡착홀
51a: 제2 내부 연결부
51b: 내부홀 구간
51c: 노출 흡착홀
53: 하우징 연결구간
60: 제어유닛
70: 빔폭 설정유닛
100: 피가열체1: beam or electron beam 10: beam source
11: beam generating unit 13: grid unit
20: chamber housing 30: hot bar plate
30a:
40: cooling hole 41: hot bar cooling section
41a: first inner connecting
43:
43b:
50: suction hole 51: hot bar suction hole
51a: second inner connecting
51c: Exposure absorption hole 53: Housing connection section
60: control unit 70: beam width setting unit
100:
Claims (11)
열전도성 비금속 재질로 이루어지고, 상기 빔 소스에서 방출된 상기 빔을 받아 가열되어 접촉된 피가열체를 가열하는 핫바 플레이트;
상기 빔 소스에서의 상기 빔의 방출을 제어하는 제어유닛;
상기 핫바 플레이트 내부를 관통하고 상기 핫바 플레이트를 냉각시키기 위한 냉각유체를 순환시키는 냉각홀;
상기 핫바 플레이트 내부를 거쳐 상면으로 노출되게 형성되고 상기 피가열체를 흡착시키는 압력을 제공하는 흡착홀; 및
챔버를 형성하고 상기 핫바 플레이트의 후방으로 상기 빔이 조사되도록 개구를 구비하고 상기 개구 상에 상기 핫바 플레이트를 지지하는 챔버 하우징을 포함하여 이루어지고,
제어유닛은 상기 냉각홀에서의 냉각유체 순환을 제어하고,
상기 냉각홀은 상기 핫바 플레이트 내부에 형성된 핫바 냉각구간 및 상기 핫바 냉각구간에 연결되고 상기 챔버 하우징의 상부 측을 관통하는 하우징 냉각구간으로 이루어지고,
상기 흡착홀은 상기 핫바 플레이트 내부를 관통하여 상기 핫바 플레이트의 상면으로 노출된 핫바 흡착홀 및 상기 핫바 흡착홀과 연결되게 상기 챔버 하우징의 상부 측을 관통하는 하우징 연결구간으로 이루어지고,
상기 열전도성 비금속 재질은 다이아몬드, CBN(Cubic Boron Nitride) 또는 BN(Boron Nitride) 재질이고,
상기 핫바 플레이트는, 상기 챔버 하우징에 의해 지지되고 후면에서 상기 빔을 받아 가열되고 내부에서 상기 핫바 냉각구간 및 상기 핫바 흡착홀이 지나는 베이스부 및 상기 베이스부 상에서 돌출 형성되고 상기 피가열체와 접촉하여 상기 피가열체를 가열하고 상면에서 노출되는 상기 핫바 흡착홀에 의해 관통되는 돌출부를 구비하고,
상기 베이스부 및 상기 돌출부 간에 그리고 상기 베이스부 및 상기 돌출부 각각의 내부에 적층 계면이 없이 상기 베이스부와 상기 돌출부가 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.
A beam source for emitting a beam;
A hot bar plate made of a thermally conductive nonmetal material for heating the heated object to be heated by receiving the beam emitted from the beam source;
A control unit for controlling the emission of the beam at the beam source;
A cooling hole passing through the inside of the hot bar plate and circulating a cooling fluid for cooling the hot bar plate;
A suction hole formed to be exposed through the inside of the hot bar plate and exposed to an upper surface thereof and providing a pressure for sucking the target to be heated; And
And a chamber housing having an opening for forming a chamber and irradiating the beam to the rear of the hot bar plate and supporting the hot bar plate on the opening,
The control unit controls the cooling fluid circulation in the cooling holes,
Wherein the cooling hole comprises a hot bar cooling section formed in the hot bar plate and a housing cooling section connected to the hot bar cooling section and penetrating the upper side of the chamber housing,
The suction hole includes a hot bar adsorption hole penetrating the inside of the hot bar plate and exposed to the upper surface of the hot bar plate and a housing connection section penetrating the upper side of the chamber housing to be connected to the hot bar adsorption hole,
The thermally conductive nonmetal material may be diamond, CBN (Cubic Boron Nitride) or BN (Boron Nitride)
The hot bar plate is supported by the chamber housing and is heated by receiving the beam from the rear surface, and is provided with a base portion through which the hot bar cooling section and the hot bar adsorption hole pass, and a base portion projecting from the base portion, And a protruding portion which is heated by the heated body and penetrated by the hot bar adsorption hole exposed on the upper surface,
Wherein the base portion and the protruding portion are integrally formed between the base portion and the protruding portion and without a laminated interface between the base portion and the protruding portion.
상기 핫바 냉각구간은 상기 베이스부 내에서 적어도 하나의 폐루프를 형성하는 내부 냉각부 및 상기 베이스부의 양단 부위에서 상기 내부 냉각부의 양단에 연결되고 상기 챔버 하우징에 접하는 상기 베이스부의 표면으로 관통하며 상기 챔버 하우징의 상부 측을 관통하는 상기 하우징 냉각구간과 연통되는 제1 내부 연결부를 포함하여 이루어지고,
상기 핫바 흡착홀은 상기 베이스부 내부로부터 상기 돌출부의 상면으로 노출되는 노출 흡착홀, 상기 베이스부 내부에서 상기 노출 흡착홀과 연결되며 상기 폐루프에 의한 영역 내에 상기 폐루프를 형성하는 일부 구간과 나란하게 형성된 내부홀 구간, 및 상기 베이스부의 양단 부위 중 적어도 하나에서 상기 내부홀 구간의 일단과 연결되고 상기 챔버 하우징에 접하는 상기 베이스부의 표면으로 관통하며 상기 하우징 연결구간과 연통되는 제2 내부 연결부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.
In claim 1,
Wherein the hot bar cooling section includes an inner cooling section forming at least one closed loop in the base section and a cooling section penetrating through both ends of the base section to both ends of the inner cooling section and passing through the surface of the base section in contact with the chamber housing, And a first internal connection portion communicating with the housing cooling section passing through the upper side of the housing,
The hot bar adsorption hole may include an exposure absorption hole exposed from the inside of the base portion to the upper surface of the protrusion, a portion connected to the exposure adsorption hole in the base portion and forming the closed loop in the region by the closed loop And a second internal connection portion connected to one end of the inner hole section at at least one of both end portions of the base section and communicating with the housing connection section through the surface of the base section in contact with the chamber housing And a heating device for heating the component.
상기 하우징 냉각구간은 상기 제1 내부 연결부와 연결되는 하우징 연결부, 상기 하우징 연결부에 연결되며 상기 챔버 하우징의 개구 주위를 따라 상기 챔버 하우징 내에 형성된 하우징 냉각부 및 상기 하우징 냉각부와 상기 챔버 하우징의 외부를 연결하는 외부 연결부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.
In claim 2,
The housing cooling section includes a housing connection part connected to the first internal connection part, a housing cooling part connected to the housing connection part and formed in the chamber housing along the periphery of the opening of the chamber housing, And an external connection part for connecting the external connection part.
상기 챔버 하우징의 개구는 상기 핫바 플레이트의 길이방향을 따라 길게 형성되고,
상기 개구 부위의 폭방향 단면 구조는 상기 챔버 내측에서 상기 핫바 플레이트를 지지하는 상측으로 가면서 하측보다 폭이 좁아지는 구조인 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein an opening of the chamber housing is elongated along the longitudinal direction of the hot bar plate,
Wherein the widthwise cross-sectional structure of the opening portion has a structure that is narrower in width than the lower side from the inside of the chamber toward the upper side supporting the hot bar plate.
상기 부품 제조용 히팅장치는 상기 핫바 플레이트의 온도를 감지하는 온도센서를 더 포함하고,
상기 제어유닛은 미리 설정된 정보와 상기 온도센서에서 감지된 결과에 따라 상기 빔 소스에서의 빔 방출을 제어하는 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The heating device for manufacturing parts further comprises a temperature sensor for sensing the temperature of the hot bar plate,
Wherein the control unit controls beam emission in the beam source according to preset information and a result sensed by the temperature sensor.
상기 부품 제조용 히팅장치는, 상기 빔 소스에서 방출되는 상기 빔이 설정된 빔폭으로 상기 핫바 플레이트로 제공되도록 하는 빔폭 설정유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.
In claim 5,
Wherein the heating device for manufacturing a part further comprises a beam width setting unit for allowing the beam emitted from the beam source to be provided to the hot bar plate at a set beam width.
상기 빔폭 설정유닛은 상기 빔이 상기 핫바 플레이트의 길이방향을 따라 미리 설정된 형상으로 상기 핫바 플레이트로 제공되도록 하는 자계 렌즈인 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.
In claim 6,
Wherein the beam width setting unit is a magnetic lens for providing the beam to the hot bar plate in a predetermined shape along the longitudinal direction of the hot bar plate.
상기 빔 소스는 상기 빔을 생성시켜 방출하는 빔 생성부 및 상기 빔 생성부에서 방출되는 상기 빔을 가속시키되 상기 빔이 설정 영역으로 고르게 조사되게 하는 그리드부를 포함하는 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.
In claim 5,
Wherein the beam source includes a beam generator for generating and emitting the beam, and a grid for accelerating the beam emitted from the beam generator, the beam being uniformly irradiated to the setting area.
상기 부품 제조용 히팅장치는 펄스 히팅 방식인 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the heating device for manufacturing parts is a pulse heating method.
상기 빔은 전자빔, 이온빔 또는 레이저빔인 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the beam is an electron beam, an ion beam, or a laser beam.
상기 부품 제조용 히팅장치는 전자부품의 솔더링에 사용되는 것을 특징으로 하는 부품 제조용 히팅장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the heating device for manufacturing parts is used for soldering electronic parts.
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